JP2001201847A - ペリクル容器 - Google Patents
ペリクル容器Info
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/66—Containers specially adapted for masks, mask blanks or pellicles; Preparation thereof
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
- G03F1/64—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof characterised by the frames, e.g. structure or material, including bonding means therefor
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ペリクル容器に収容されたペリクルが、ペリ
クル容器に収容中に、露光光の透過率を低下させること
の少ない、改良されたペリクル容器を提供する。 【解決手段】 ペリクル容器の材質もしくは合成樹脂製
のペリクル容器本体８の内側および／または外側の表面
のうち少なくともペリクル６を収納するペリクル容器の
内側表面に形成される層１０の材質を無機物とする。該
無機物が金属、ガラス、セラミックスから選ばれた一種
または二種以上であることが好ましい。
クル容器に収容中に、露光光の透過率を低下させること
の少ない、改良されたペリクル容器を提供する。 【解決手段】 ペリクル容器の材質もしくは合成樹脂製
のペリクル容器本体８の内側および／または外側の表面
のうち少なくともペリクル６を収納するペリクル容器の
内側表面に形成される層１０の材質を無機物とする。該
無機物が金属、ガラス、セラミックスから選ばれた一種
または二種以上であることが好ましい。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、リソグラフィー用
ペリクル、特にはＬＳＩ、超ＬＳＩなどの半導体装置あ
るいは液晶表示板を製造する際のゴミよけとして使用さ
れるリソグラフィー用ペリクルを収納するペリクル容器
に関する。
ペリクル、特にはＬＳＩ、超ＬＳＩなどの半導体装置あ
るいは液晶表示板を製造する際のゴミよけとして使用さ
れるリソグラフィー用ペリクルを収納するペリクル容器
に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＬＳＩ、超ＬＳＩなどの半導体装置ある
いは液晶表示板などの製造においては、半導体装置用あ
るいは液晶用原板に光を照射してパターニングをする工
程がある。この場合、光照射に用いる露光原版にゴミが
付着しないように、ペリクルをマスク（以下、露光原版
と露光原版の支持基板とを合わせて、マスクという）に
貼付する方法が行われている。マスクにペリクルを貼付
することにより、ゴミは、マスクの表面には直接付着せ
ず、ペリクル膜上に付着するため、リソグラフィー時
に、焦点をマスクのパターン上に合わせておけば、ペリ
クル上のゴミは焦点ずれとなり、転写に無関係となる利
点がある。
いは液晶表示板などの製造においては、半導体装置用あ
るいは液晶用原板に光を照射してパターニングをする工
程がある。この場合、光照射に用いる露光原版にゴミが
付着しないように、ペリクルをマスク（以下、露光原版
と露光原版の支持基板とを合わせて、マスクという）に
貼付する方法が行われている。マスクにペリクルを貼付
することにより、ゴミは、マスクの表面には直接付着せ
ず、ペリクル膜上に付着するため、リソグラフィー時
に、焦点をマスクのパターン上に合わせておけば、ペリ
クル上のゴミは焦点ずれとなり、転写に無関係となる利
点がある。
【０００３】ペリクルは、一般に、図１に示すように、
ペリクル膜１とフレーム３、ペリクル膜１をフレーム３
に接着するメンブレン接着剤２、ペリクルをマスクに接
着するレチクル接着剤４からなっている。ペリクル膜に
は、光を良く通過させるニトロセルロース、酢酸セルロ
ース、もしくはフッ素ポリマーなどからなる透明な薄膜
が用いられ、ペリクル膜１とフレーム３との接着は、ア
ルミニウム、ステンレス、ポリエチレン等からなるペリ
クル枠（フレーム３）の上部にペリクル膜１の良溶媒を
塗布し、風乾して接着する（特開昭５８−２１９０２３
号公報）か、アクリル樹脂やエポキシ樹脂もしくはフッ
素ポリマーなどの接着剤で接着する（米国特許第４８６
１４０２号明細書、特公昭６３−２７７０７号公報、特
開平７−１６８３４５号公報）ことが行われている。
ペリクル膜１とフレーム３、ペリクル膜１をフレーム３
に接着するメンブレン接着剤２、ペリクルをマスクに接
着するレチクル接着剤４からなっている。ペリクル膜に
は、光を良く通過させるニトロセルロース、酢酸セルロ
ース、もしくはフッ素ポリマーなどからなる透明な薄膜
が用いられ、ペリクル膜１とフレーム３との接着は、ア
ルミニウム、ステンレス、ポリエチレン等からなるペリ
クル枠（フレーム３）の上部にペリクル膜１の良溶媒を
塗布し、風乾して接着する（特開昭５８−２１９０２３
号公報）か、アクリル樹脂やエポキシ樹脂もしくはフッ
素ポリマーなどの接着剤で接着する（米国特許第４８６
１４０２号明細書、特公昭６３−２７７０７号公報、特
開平７−１６８３４５号公報）ことが行われている。
【０００４】ペリクル膜１として、ガラス厚板等の厚板
をペリクル膜（板）として用いる場合もある。ペリクル
は、フレーム３の下部にポリブテン樹脂、ポリ酢酸ビニ
ル樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂等からなるレチ
クル接着剤４（粘着剤）層を設け、該粘着剤４層を保護
する離型剤５層（セパレータ）をその上に設けておくの
が一般的である。本明細書では、離型剤５層まで含め
て、仮に「ペリクル６」と称することとする。ペリクル
は、露光装置にかける前にあらかじめマスクに貼り付け
られる。このマスクへの貼付は、ペリクル６の離型剤５
層を剥離し、ペリクルをマスクに荷重をかけて押しつけ
ることにより行われる。
をペリクル膜（板）として用いる場合もある。ペリクル
は、フレーム３の下部にポリブテン樹脂、ポリ酢酸ビニ
ル樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂等からなるレチ
クル接着剤４（粘着剤）層を設け、該粘着剤４層を保護
する離型剤５層（セパレータ）をその上に設けておくの
が一般的である。本明細書では、離型剤５層まで含め
て、仮に「ペリクル６」と称することとする。ペリクル
は、露光装置にかける前にあらかじめマスクに貼り付け
られる。このマスクへの貼付は、ペリクル６の離型剤５
層を剥離し、ペリクルをマスクに荷重をかけて押しつけ
ることにより行われる。
【０００５】ペリクル６は、通常、マスクに貼付される
まで、ペリクル容器に収容されて保管される。近年、リ
ソグラフィーの解像度は次第に高くなってきており、そ
の高解像度を実現するために、徐々に波長の短い光が光
源として用いられるようになってきている。具体的には
紫外光［ｇ線（４３６ｎｍ）、Ｉ線（３６５ｎｍ）］か
ら現在は遠紫外光［ＫｒＦエキシマレーザー（２４８ｎ
ｍ）］と移行しており、近い将来には真空紫外光［Ａｒ
Ｆエキシマレーザー（１９３ｎｍ）］が使用されるよう
になり、更にはより高い解像度を実現するためＦ2エキ
シマレーザー（１５８ｎｍ）が使用される可能性が高
い。
まで、ペリクル容器に収容されて保管される。近年、リ
ソグラフィーの解像度は次第に高くなってきており、そ
の高解像度を実現するために、徐々に波長の短い光が光
源として用いられるようになってきている。具体的には
紫外光［ｇ線（４３６ｎｍ）、Ｉ線（３６５ｎｍ）］か
ら現在は遠紫外光［ＫｒＦエキシマレーザー（２４８ｎ
ｍ）］と移行しており、近い将来には真空紫外光［Ａｒ
Ｆエキシマレーザー（１９３ｎｍ）］が使用されるよう
になり、更にはより高い解像度を実現するためＦ2エキ
シマレーザー（１５８ｎｍ）が使用される可能性が高
い。
【０００６】これらの短波長域では、ペリクル膜１上に
吸着した空気中の炭化水素、水分等が透過率の低下を招
き、更にはこれらの吸着物がレーザー照射時に反応開始
点となり、ペリクル膜１の劣化を加速させるといった不
具合が生じる。これらの不純物は、ペリクル６製造後、
特に長時間保存されるペリクル容器内で吸着する可能性
が高い。つまり、ペリクル６を収納する容器は、一般
に、樹脂でできており、この樹脂から有機ガスが発生す
る。ペリクル６の保存中、あるいは輸送中に、この発生
した有機ガスがペリクル膜１表面に吸着し、前述の不具
合を生じさせると考えられる。
吸着した空気中の炭化水素、水分等が透過率の低下を招
き、更にはこれらの吸着物がレーザー照射時に反応開始
点となり、ペリクル膜１の劣化を加速させるといった不
具合が生じる。これらの不純物は、ペリクル６製造後、
特に長時間保存されるペリクル容器内で吸着する可能性
が高い。つまり、ペリクル６を収納する容器は、一般
に、樹脂でできており、この樹脂から有機ガスが発生す
る。ペリクル６の保存中、あるいは輸送中に、この発生
した有機ガスがペリクル膜１表面に吸着し、前述の不具
合を生じさせると考えられる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】したがって、従来の上
記問題点に鑑み、本発明の課題は、ペリクル容器に収容
されたペリクルが、ペリクル容器に収容中に、露光光の
透過率を低下させることの少ない、改良されたペリクル
容器を提供することにある。
記問題点に鑑み、本発明の課題は、ペリクル容器に収容
されたペリクルが、ペリクル容器に収容中に、露光光の
透過率を低下させることの少ない、改良されたペリクル
容器を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記課題を達成するため
に、本発明のペリクル容器は、ペリクル容器の材質もし
くはペリクル容器の内側および／または外側の表面のう
ち少なくともペリクルを収納する容器の内側表面の材質
を無機物とする。該無機物が金属、ガラス、セラミック
スから選ばれた一種または二種以上であることが好まし
い。
に、本発明のペリクル容器は、ペリクル容器の材質もし
くはペリクル容器の内側および／または外側の表面のう
ち少なくともペリクルを収納する容器の内側表面の材質
を無機物とする。該無機物が金属、ガラス、セラミック
スから選ばれた一種または二種以上であることが好まし
い。
【０００９】
【発明の実施の形態】本発明者が鋭意検討した結果、上
記課題は、少なくともペリクル６を収納するペリクル容
器７（図２）の内側表面の材質を無機物にすることによ
り、解決できることを見出した。すなわち、ペリクル６
を収容するペリクル容器７の材質を、従来用いられてき
た合成樹脂に替えて、無機物を用いるか、主体は従来用
いられてきた合成樹脂のままとする場合であっても、そ
のペリクル容器７の内側および外側の両表面もしくは内
側表面に無機物からなる層を設けるのである。それらの
無機物としては、金属、ガラス、セラミックスが使用可
能である。これらの材料の一種を用い、またはこれらの
材料の一種の中で異なる材質の二種以上ないしこれらの
材料の二種以上を組み合わせて用い、もしくはこれらの
材料の一種の中で異なる材質の二種以上ないしこれらの
材料の二種以上を重ね合わせたものを用いるができる。
記課題は、少なくともペリクル６を収納するペリクル容
器７（図２）の内側表面の材質を無機物にすることによ
り、解決できることを見出した。すなわち、ペリクル６
を収容するペリクル容器７の材質を、従来用いられてき
た合成樹脂に替えて、無機物を用いるか、主体は従来用
いられてきた合成樹脂のままとする場合であっても、そ
のペリクル容器７の内側および外側の両表面もしくは内
側表面に無機物からなる層を設けるのである。それらの
無機物としては、金属、ガラス、セラミックスが使用可
能である。これらの材料の一種を用い、またはこれらの
材料の一種の中で異なる材質の二種以上ないしこれらの
材料の二種以上を組み合わせて用い、もしくはこれらの
材料の一種の中で異なる材質の二種以上ないしこれらの
材料の二種以上を重ね合わせたものを用いるができる。
【００１０】ペリクル６を収納するペリクル容器７の材
質を無機物にすることで、ペリクル容器７からの有機ガ
スの発生がなくなり、ペリクル容器７から発生した有機
ガスがペリクル膜１に吸着される、といった不具合を避
けることができる。また、従来のペリクル容器７と同様
にペリクル容器を合成樹脂製とする場合には、ペリクル
容器の内側および／または外側の表面のうちの、少なく
ともペリクルが収納される容器内側の表面に無機物から
なる層を設けることによっても、ペリクル容器から発生
する有機ガスが、ペリクル容器内部へ拡散することを避
けることができ、ひいては保存中のペリクル膜１への不
純物ガスの吸着を抑制することが可能となる。本発明の
ペリクル容器７を構成する無機物としては、金属、ガラ
ス、セラミックスが適用可能であるが、このうち、金属
としては、例えば、アルミニウム、ステンレス、銅、鉄
等が使用可能である。また、金属の表面には各種処理が
可能であり、例えば、アルミニウム表面にはアルマイト
加工を施すことができる。
質を無機物にすることで、ペリクル容器７からの有機ガ
スの発生がなくなり、ペリクル容器７から発生した有機
ガスがペリクル膜１に吸着される、といった不具合を避
けることができる。また、従来のペリクル容器７と同様
にペリクル容器を合成樹脂製とする場合には、ペリクル
容器の内側および／または外側の表面のうちの、少なく
ともペリクルが収納される容器内側の表面に無機物から
なる層を設けることによっても、ペリクル容器から発生
する有機ガスが、ペリクル容器内部へ拡散することを避
けることができ、ひいては保存中のペリクル膜１への不
純物ガスの吸着を抑制することが可能となる。本発明の
ペリクル容器７を構成する無機物としては、金属、ガラ
ス、セラミックスが適用可能であるが、このうち、金属
としては、例えば、アルミニウム、ステンレス、銅、鉄
等が使用可能である。また、金属の表面には各種処理が
可能であり、例えば、アルミニウム表面にはアルマイト
加工を施すことができる。
【００１１】ガラスとしては、石英ガラス、青板ガラス
等が、また、セラミックスとしては、窒化珪素、炭化珪
素、ジルコニア、アルミナ、窒化ホウ素等が、使用可能
である。一方、本発明のペリクル容器として従来型の合
成樹脂を主体としたものとする場合に、そのペリクル容
器本体８（図３）の表面に設ける無機物からなる層（外
側表面膜９、内側表面膜１０、図３参照）の材質として
は、様々なものが使用可能であるが、上記のペリクル容
器７を構成可能なものとして挙げた無機物の中から選択
することが可能である。ペリクル容器本体８の表面に無
機物層（外側表面膜９、内側表面膜１０）を設ける手段
としては、真空蒸着、薄膜貼り付け等の方法が適用可能
である。無機物層（外側表面膜９、内側表面膜１０）の
膜厚としては、設ける手段にもよるが、０．１μｍ以上
とすることが望ましい。膜圧が、０．１μｍに満たない
と、無機物層にクラックが入りやすくなり、有機ガスの
発生を完全に押さえることが出来なくなる。
等が、また、セラミックスとしては、窒化珪素、炭化珪
素、ジルコニア、アルミナ、窒化ホウ素等が、使用可能
である。一方、本発明のペリクル容器として従来型の合
成樹脂を主体としたものとする場合に、そのペリクル容
器本体８（図３）の表面に設ける無機物からなる層（外
側表面膜９、内側表面膜１０、図３参照）の材質として
は、様々なものが使用可能であるが、上記のペリクル容
器７を構成可能なものとして挙げた無機物の中から選択
することが可能である。ペリクル容器本体８の表面に無
機物層（外側表面膜９、内側表面膜１０）を設ける手段
としては、真空蒸着、薄膜貼り付け等の方法が適用可能
である。無機物層（外側表面膜９、内側表面膜１０）の
膜厚としては、設ける手段にもよるが、０．１μｍ以上
とすることが望ましい。膜圧が、０．１μｍに満たない
と、無機物層にクラックが入りやすくなり、有機ガスの
発生を完全に押さえることが出来なくなる。
【００１２】
【実施例】以下、図面に基づいて本発明の実施例と比較
例を示す。はじめに、実施例・比較例に用いたペリクル
６Ａおよびペリクル６Ｂを作製した。アルミニウム製の
フレーム３の上下端面にメンブレン接着剤２（シリコー
ン樹脂）およびレクチル接着剤４（シリコーン樹脂：厚
さ０．５ｍｍ）を設けた。上端面に厚み１ｍｍのガラス
板からなるペリクル膜１を貼り付けることでペリクル６
Ａを完成させた。また、上端面に厚み０．５μｍのフッ
素樹脂からなるペリクル膜１を貼り付けることでペリク
ル６Ｂを完成させた。このペリクル６Ａおよびペリクル
６Ｂの、フッ素エキシマレーザー（波長１５８ｎｍ）に
対する透過率は８０％および９０％であった。この方法
で作製したペリクルを種々のペリクル容器に保管し、透
過率の比較を試みた。
例を示す。はじめに、実施例・比較例に用いたペリクル
６Ａおよびペリクル６Ｂを作製した。アルミニウム製の
フレーム３の上下端面にメンブレン接着剤２（シリコー
ン樹脂）およびレクチル接着剤４（シリコーン樹脂：厚
さ０．５ｍｍ）を設けた。上端面に厚み１ｍｍのガラス
板からなるペリクル膜１を貼り付けることでペリクル６
Ａを完成させた。また、上端面に厚み０．５μｍのフッ
素樹脂からなるペリクル膜１を貼り付けることでペリク
ル６Ｂを完成させた。このペリクル６Ａおよびペリクル
６Ｂの、フッ素エキシマレーザー（波長１５８ｎｍ）に
対する透過率は８０％および９０％であった。この方法
で作製したペリクルを種々のペリクル容器に保管し、透
過率の比較を試みた。
【００１３】［実施例１］先に作製したペリクル６Ａお
よびペリクル６Ｂを、アルミニウム製のペリクル容器７
（図２）に１ヶ月保存した後、再度フッ素エキシマレー
ザーの波長に対する透過率を測定したところ、それぞれ
８０％および９０％の透過率の値を示し、保存中の透過
率低下は観察されなかった。
よびペリクル６Ｂを、アルミニウム製のペリクル容器７
（図２）に１ヶ月保存した後、再度フッ素エキシマレー
ザーの波長に対する透過率を測定したところ、それぞれ
８０％および９０％の透過率の値を示し、保存中の透過
率低下は観察されなかった。
【００１４】［実施例２］先に作製したペリクル６Ａお
よびペリクル６Ｂを、石英ガラス製のペリクル容器７
（図２）に１ヶ月保存した後、再度フッ素エキシマレー
ザーの波長に対する透過率を測定したところ、それぞれ
８０％および９０％の透過率の値を示し、保存中の透過
率低下は観察されなかった。
よびペリクル６Ｂを、石英ガラス製のペリクル容器７
（図２）に１ヶ月保存した後、再度フッ素エキシマレー
ザーの波長に対する透過率を測定したところ、それぞれ
８０％および９０％の透過率の値を示し、保存中の透過
率低下は観察されなかった。
【００１５】［実施例３］先に作製したペリクル６Ａお
よびペリクル６Ｂを、ＡＢＳ樹脂製のペリクル容器本体
８の表面にアルミニウム層（真空蒸着法による厚さ０．
１μｍの層）である外側表面膜９、内側表面膜１０を備
えたペリクル容器（図３）に１ヶ月保存した後、再度透
過率を測定したところ、それぞれ８０％および９０％の
透過率の値を示し、保存中の透過率低下は観察されなか
った。
よびペリクル６Ｂを、ＡＢＳ樹脂製のペリクル容器本体
８の表面にアルミニウム層（真空蒸着法による厚さ０．
１μｍの層）である外側表面膜９、内側表面膜１０を備
えたペリクル容器（図３）に１ヶ月保存した後、再度透
過率を測定したところ、それぞれ８０％および９０％の
透過率の値を示し、保存中の透過率低下は観察されなか
った。
【００１６】［実施例４］先に作製したペリクル６Ａお
よびペリクル６Ｂを、ＡＢＳ樹脂製のペリクル容器本体
の内側の表面にアルミニウム層（真空蒸着法による厚さ
１．０μｍの層）である内側表面膜１０を備えたペリク
ル容器（図４）に１ヶ月保存した後、再度透過率を測定
したところ、それぞれ８０％および９０％の透過率の値
を示し、保存中の透過率低下は観察されなかった。
よびペリクル６Ｂを、ＡＢＳ樹脂製のペリクル容器本体
の内側の表面にアルミニウム層（真空蒸着法による厚さ
１．０μｍの層）である内側表面膜１０を備えたペリク
ル容器（図４）に１ヶ月保存した後、再度透過率を測定
したところ、それぞれ８０％および９０％の透過率の値
を示し、保存中の透過率低下は観察されなかった。
【００１７】［実施例５］先に作製したペリクル６Ａお
よびペリクル６Ｂを、ＡＢＳ樹脂製のペリクル容器本体
８の表面にアルミニウム層（真空蒸着法による厚さ０．
５μｍの層）／窒化ホウ素層（化学蒸着法による厚さ
０．５μｍの層）の２層からなる外側表面膜９、内側表
面膜１０を備えたペリクル容器（図３）に１ヶ月保存し
た後、再度透過率を測定したところ、それぞれ８０％お
よび９０％の透過率の値を示し、保存中の透過率低下は
観察されなかった。
よびペリクル６Ｂを、ＡＢＳ樹脂製のペリクル容器本体
８の表面にアルミニウム層（真空蒸着法による厚さ０．
５μｍの層）／窒化ホウ素層（化学蒸着法による厚さ
０．５μｍの層）の２層からなる外側表面膜９、内側表
面膜１０を備えたペリクル容器（図３）に１ヶ月保存し
た後、再度透過率を測定したところ、それぞれ８０％お
よび９０％の透過率の値を示し、保存中の透過率低下は
観察されなかった。
【００１８】［比較例］先に作製したペリクル６Ａおよ
びペリクル６Ｂを、ＰＭＭＡ樹脂製のペリクル容器（図
２）に１ヶ月保存した後、再度透過率を測定したとこ
ろ、それぞれ４７％および５０％の透過率の値を示し、
従来のペリクル容器７でのペリクル６Ａおよびペリクル
６Ｂの保存中に透過率が低下したことが観察された。
びペリクル６Ｂを、ＰＭＭＡ樹脂製のペリクル容器（図
２）に１ヶ月保存した後、再度透過率を測定したとこ
ろ、それぞれ４７％および５０％の透過率の値を示し、
従来のペリクル容器７でのペリクル６Ａおよびペリクル
６Ｂの保存中に透過率が低下したことが観察された。
【００１９】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
リソグラフィーに用いられるペリクルを収納するペリク
ル容器において、容器の材質を金属、ガラスもしくはセ
ラミックスとし、あるいは、合成樹脂製のペリクル容器
本体の少なくとも内側表面に金属膜、セラミックス膜を
備えることにより、ペリクルをペリクル容器に長期間保
管後も、透過率の低下が認められない。
リソグラフィーに用いられるペリクルを収納するペリク
ル容器において、容器の材質を金属、ガラスもしくはセ
ラミックスとし、あるいは、合成樹脂製のペリクル容器
本体の少なくとも内側表面に金属膜、セラミックス膜を
備えることにより、ペリクルをペリクル容器に長期間保
管後も、透過率の低下が認められない。
【図１】 ペリクルの構造を示す説明図である。
【図２】 本発明の実施例１、実施例２および比較例の
態様を示す説明図である。
態様を示す説明図である。
【図３】 本発明の実施例３および実施例５の態様を示
す説明図である。
す説明図である。
【図４】 本発明の実施例４の態様を示す説明図であ
る。
る。
１：ペリクル膜 ２：メンブレン接着剤 ３：フレーム ４：レチクル接着剤（粘着剤） ５：離型剤 ６：ペリクル ７：ペリクル容器 ８：ペリクル容器本体 ９：外側表面膜 １０：内側表面膜
Claims (4)
- 【請求項１】 リソグラフィーに用いられるペリクルを
収納するペリクル容器において、ペリクル容器の材質が
無機物であることを特徴とするペリクル容器。 - 【請求項２】 ペリクル容器を構成する無機物が金属、
ガラス、セラミックスから選ばれた一種又は二種以上で
あることを特徴とする請求項１に記載のペリクル容器。 - 【請求項３】 リソグラフィーに用いられるペリクルを
収納するペリクル容器において、合成樹脂製のペリクル
容器本体の内側および／または外側の表面のうちの、少
なくともペリクルが収納されるペリクル容器内側の表面
に無機物からなる層を設けたことを特徴とするペリクル
容器。 - 【請求項４】 ペリクル容器の表面に形成される層を構
成する無機物が金属、ガラス、セラミックスから選ばれ
た一種又は二種以上であることを特徴とする請求項３に
記載のペリクル容器。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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