JP2007057624A - レチクル収納ケース - Google Patents

レチクル収納ケース Download PDF

Info

Publication number
JP2007057624A
JP2007057624A JP2005240517A JP2005240517A JP2007057624A JP 2007057624 A JP2007057624 A JP 2007057624A JP 2005240517 A JP2005240517 A JP 2005240517A JP 2005240517 A JP2005240517 A JP 2005240517A JP 2007057624 A JP2007057624 A JP 2007057624A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
reticle
storage case
lower plate
reticle storage
case
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2005240517A
Other languages
English (en)
Inventor
Morio Kuromasa
盛夫 黒政
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP2005240517A priority Critical patent/JP2007057624A/ja
Publication of JP2007057624A publication Critical patent/JP2007057624A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Packaging Frangible Articles (AREA)

Abstract

【課題】ケース内でのパーティクルの発生を抑制することができ、製品の品質および歩留の低下を抑えることができるレチクル収納ケースを提供する。
【解決手段】レチクル1を水平に保持するレチクル保持体2bを有する下皿2aと、レチクル1を上部から弾性的に押さえつける押圧体3bを有する上蓋3aとで構成し、レチクル保持体2bは金属のようなプラスチック樹脂よりも堅い材料で形成されており、その形状は丸みを帯びた上部凸型とする。
【選択図】図1

Description

本発明は、半導体集積回路などの製造工程でのフォトリソ工程においてフォトマスクとして用いるレチクルを、その運搬の際に収納するためのレチクル収納ケースに関するものである。
従来から、半導体集積回路などの製造工程において、ウエハ上にICパターンのような微細パターンを形成するフォトリソ工程では、ICパターンを露光装置によりウエハ上に投影露光するが、その際のフォトマスクとして広くレチクルが用いられている。
このようなレチクル上には、微細パターンとしてICパターンの原寸法に対して1〜10倍のパターンが形成され、そのレチクルをフォトマスクとしてステッパー等によりウエハ上に投影露光する。
そして、このようなレチクルを露光装置へ運搬してセットするためには、その運搬の際にレチクルを収納するためのレチクル収納ケースが用いられており、従来、レチクル等を収納する半導体装置用のレチクル収納ケースは、主にプラスチック樹脂によって形成されている。
しかし、上記のようなレチクル収納ケースに保管されているレチクルに対して、その表面にパーティクルが付着することが問題となっており、近年、さらに半導体集積回路装置の高集積化に伴って、レチクル表面に付着するパーティクルが原因で、製品の品質および歩留の低下等の問題が懸念されているが、これは、レチクル表面にパーティクルが付着すると、そのパーティクルパターンが集積回路を形成しようとする半導体ウエハ上へ転写され、ウエハ上のICパターンに欠陥が形成されてしまう危険性がある。
レチクルに付着するパーティクルの発生源の一つとして、レチクルを収納・搬送するためのレチクル収納ケースであることが判明しつつあり、パーティクル発生の推定原因としては、レチクル搬送時に、レチクルとレチクル収納ケース間で摩擦が生じ、その摩擦によりレチクル収納ケースからパーティクルを発生させていることが考えられる。
すなわち、レチクルは複数の露光装置にわたって使用されるため、人間やレチクル搬送用のロボットが装置間の繰り返し搬送を行っており、そのためレチクルとレチクル収納ケースの接触部分で摩擦が生じ、その摩擦により、レチクル収納ケースのレチクルとの接触部分からパーティクルを発生させていることが分かっている。
以上のような従来のレチクル収納ケースについて、図面を用いて以下に説明する。
図2は従来のレチクル収納ケースの構造を示す断面図である。図2において、1はレチクル、2aはレチクル1をガラス面が上に、パターン面が下向きになるように積載している下皿、3aは上蓋であり、下皿2aと組み合わせることにより、ケース内を密閉状態にして外部からのレチクル1への異物付着を防止している。
また、他の従来技術(例えば、特許文献1を参照)によると、レチクルへの異物付着防止のため、下皿のプラスチック樹脂にカーボン等を添加し導電性を持たせ、上蓋と静電気の帯電量に差を作り、発生したパーティクルは上蓋に静電吸着させることで、レチクルへの異物付着等の問題を解決している。
特開2001−253491号公報。
しかしながら上記のような従来のレチクル収納ケースでは、レチクルの収納および運搬時に、レチクルがケース内で動くため、レチクルとケースが直接接している下皿の保持部との摩擦は避けられず、レチクル収納ケースの材質が樹脂であるために、どうしても、レチクルと下皿の保持部との摩擦により、下皿の保持部からの削れが発生する。
このため、ケース内では、下皿の保持部からの削れによるパーティクルが発生し、製品の品質および歩留が著しく低下するという問題点を有していた。
本発明は、上記従来の問題点を解決するもので、ケース内でのパーティクルの発生を抑制することができ、製品の品質および歩留の低下を抑えることができるレチクル収納ケースを提供する。
上記の課題を解決するために、本発明の請求項1に記載のレチクル収納ケースは、ガラス材料からなるレチクルを収納するレチクル収納ケースであって、前記レチクルを水平に保持するレチクル保持体を有する下皿と、前記レチクルを上部から弾性的に押え付ける押圧体を有する上蓋とで構成したことを特徴とする。
また、本発明の請求項2に記載のレチクル収納ケースは、請求項1に記載のレチクル収納ケースであって、前記下皿と前記上蓋との接点にパッキンを有することを特徴とする。
また、本発明の請求項3に記載のレチクル収納ケースは、請求項1または請求項2に記載のレチクル収納ケースであって、前記レチクル保持体は、樹脂よりも硬度の大きい材料で形成したことを特徴とする。
また、本発明の請求項4に記載のレチクル収納ケースは、請求項3に記載のレチクル収納ケースであって、前記レチクル保持体は、形状が丸みを帯びた上部凸型であり、先端部のカーブは1mmR〜10mmRで形成したことを特徴とする。
また、本発明の請求項5に記載のレチクル収納ケースは、請求項2から請求項4のいずれかに記載のレチクル収納ケースであって、前記パッキンは、前記樹脂よりも硬度の小さい材料で形成したことを特徴とする。
以上により、ケース内でのレチクルの動きを無くし、レチクルとケースが直接接している下皿の保持部との摩擦を低減し、その摩擦による下皿の保持部からの削れの発生を抑えることができる。
以上のように本発明によれば、ケース内でのレチクルの動きを無くし、レチクルとケースが直接接している下皿の保持部との摩擦を低減し、その摩擦による下皿の保持部からの削れの発生を抑えることができる。
そのため、ケース内でのパーティクルの発生を抑制することができ、製品の品質および歩留の低下を抑えることができる。
以下、本発明の実施の形態を示すレチクル収納ケースについて、図面を参照しながら具体的に説明する。なおここでは、レチクル収納ケースに収納するレチクルとして、フォトマスク・レチクルを収納する場合を例に挙げて説明する。
図1は本実施の形態のレチクル収納ケースの構造を示す断面図である。図1において、1はレチクルまたはペリクル付レチクルである。レチクル1の材質は一般的に石英ガラスである。2aはレチクル1をガラス面が上に、パターン面が下向きになるように積載している下皿であり、2bはレチクル1を水平に保持するレチクル保持体である。3aは上蓋であり、下皿2aと組み合わせることにより、ケース内を密閉状態にしてレチクル1への外部からの異物付着を防止している。3bは上蓋3aとレチクル1を弾性的に押え付けるための押圧体であり、3cは上蓋3aと下皿2aの接点部の干渉を防止するためのパッキンである。
レチクル1と直接接しているレチクル保持体2bの材質は、例えば金属のようなプラスチック樹脂よりも硬度が大きく硬い材料、例えば、金属、合金、カーバイド、セラミック、石英ガラス等で形成されており、その形状は丸みの帯びた上部凸型とし、その先端部の曲率半径については、レチクル上パターンの領域に応じて、その面積が最大になった場合にレチクル保持体の接触部の面積が限られるが、それを考慮して、1mm〜10mmにしている。
このように、レチクル保持体2bの先端部に曲率を有するため、レチクル1とレチクル保持体2bとがある程度の圧力で接触してもレチクル1への損傷が無く、また、レチクル保持体2bの材質の硬度がプラスチック樹脂の硬度に比べて大きいので、レチクル1とレチクル保持体2bとの摩擦によるレチクル保持体2bの摩耗を抑え、ケース内でのパーティクルの発生を抑制することができる。
また、上蓋3aには、例えばシリコンゴム製の押圧体3bが備えられており、レチクル1が上蓋3aにより上部から押え付けられているにも係わらず、押圧体3bが緩衝材となってレチクル1と下皿2aの摩擦による摩耗を低減している。
さらに、上蓋3aと下皿2aの接点部には、その材質がプラスチック樹脂よりも硬度が小さく柔らかい材料、例えばシリコンゴムのような材料を、パッキン3cとして使用しているため、下皿2aと上蓋3aにおいて、それらの摩擦による摩耗が低減され、ケース内でのパーティクルの発生を抑制することができる。
以上により、製品の品質および歩留の低下を抑えることができる。
本発明のレチクル収納ケースは、ケース内でのパーティクルの発生を抑制することができ、製品の品質および歩留の低下を抑えることができるもので、レチクルへのパーティクル付着低減等に有用である。
本発明の実施の形態のレチクル収納ケースの構造を示す断面図 従来のレチクル収納ケースの構造を示す断面図
符号の説明
1 レチクル
2a 下皿
2b レチクル保持体
3a 上蓋
3b 押圧体
3c パッキン
4 上部支持体

Claims (5)

  1. ガラス材料からなるレチクルを収納するレチクル収納ケースであって、
    前記レチクルを水平に保持するレチクル保持体を有する下皿と、
    前記レチクルを上部から弾性的に押え付ける押圧体を有する上蓋とで構成した
    ことを特徴とするレチクル収納ケース。
  2. 請求項1に記載のレチクル収納ケースであって、
    前記下皿と前記上蓋との接点にパッキンを有する
    ことを特徴とするレチクル収納ケース。
  3. 請求項1または請求項2に記載のレチクル収納ケースであって、
    前記レチクル保持体は、
    樹脂よりも硬度の大きい材料で形成した
    ことを特徴とするレチクル収納ケース。
  4. 請求項3に記載のレチクル収納ケースであって、
    前記レチクル保持体は、
    形状が丸みを帯びた上部凸型であり、先端部のカーブは1mmR〜10mmRで形成した
    ことを特徴とするレチクル収納ケース。
  5. 請求項2から請求項4のいずれかに記載のレチクル収納ケースであって、
    前記パッキンは、
    前記樹脂よりも硬度の小さい材料で形成した
    ことを特徴とするレチクル収納ケース。
JP2005240517A 2005-08-23 2005-08-23 レチクル収納ケース Pending JP2007057624A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005240517A JP2007057624A (ja) 2005-08-23 2005-08-23 レチクル収納ケース

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005240517A JP2007057624A (ja) 2005-08-23 2005-08-23 レチクル収納ケース

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2007057624A true JP2007057624A (ja) 2007-03-08

Family

ID=37921221

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005240517A Pending JP2007057624A (ja) 2005-08-23 2005-08-23 レチクル収納ケース

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2007057624A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011014823A (ja) * 2009-07-06 2011-01-20 Dainichi Shoji Kk マスクケース
JP2011232388A (ja) * 2010-04-23 2011-11-17 Shin Etsu Chem Co Ltd ペリクル収納容器
JP2013239643A (ja) * 2012-05-16 2013-11-28 Shin Etsu Polymer Co Ltd 基板収納容器
WO2023129642A1 (en) * 2021-12-29 2023-07-06 Entegris, Inc. Inner reticle pod cover and baseplate shipper

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011014823A (ja) * 2009-07-06 2011-01-20 Dainichi Shoji Kk マスクケース
JP2011232388A (ja) * 2010-04-23 2011-11-17 Shin Etsu Chem Co Ltd ペリクル収納容器
KR101754835B1 (ko) * 2010-04-23 2017-07-06 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 펠리클 수납 용기
JP2013239643A (ja) * 2012-05-16 2013-11-28 Shin Etsu Polymer Co Ltd 基板収納容器
WO2023129642A1 (en) * 2021-12-29 2023-07-06 Entegris, Inc. Inner reticle pod cover and baseplate shipper

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5268142B2 (ja) マスクブランク収納ケース及びマスクブランクの収納方法、並びにマスクブランク収納体
KR102005649B1 (ko) 기판 유지 장치, 리소그래피 장치, 및 물품의 제조 방법
TWI378887B (en) Reticle pod and supporting components therebetween
JP2007057624A (ja) レチクル収納ケース
JP2005327758A (ja) 部品保持具
US20150261104A1 (en) Electrostatic chuck cleaner, cleaning method, and exposure apparatus
US7931146B2 (en) Photomask case structure
JP4286991B2 (ja) ケース
JP2009105295A (ja) ウェハ保持装置
KR101348873B1 (ko) 노광 제어 장치 및 노광 제어 방법
KR101918687B1 (ko) 펠리클
TWI686666B (zh) 基板容器
TWI503920B (zh) 半導體製程設備及其o形環
JP2008083166A (ja) ペリクルフレーム
JPH1138598A (ja) ペリクルと、その収納ケース
JP2010072420A (ja) フォトマスクケース
TWI665530B (zh) 微影成像裝置及物品的製造方法
JP2001048152A (ja) ケース
JP6704874B2 (ja) 基板収納容器、これを用いた基板の保管方法及び基板の搬送方法
JP7284261B2 (ja) ウエハ載置台及びその製法
JP2007123525A (ja) 液浸露光装置及び半導体装置の製造方法
JP2002002866A (ja) ケース
JP6589652B2 (ja) ケース及びパーティクル測定方法
JP2007199380A (ja) ブランクス収納ケース
KR200159981Y1 (ko) 매스크 보관케이스의 유동억제용 패드구조