CN102161027B - 狭缝喷嘴清扫装置以及涂覆装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种在抑制颗粒的产生的同时、自动且有效率地清扫狭缝喷嘴的狭缝内部的狭缝喷嘴清扫装置以及涂覆装置。狭缝喷嘴清扫装置(70)包括：喷嘴清扫单元(56)、用于使整个启动加注处理部在基板输送方向(X方向)上移动的X方向移动部(54)以及用于在壳体(44)中使喷嘴清扫单元在喷嘴长度方向(Y方向)移动的Y方向移动部(60)。喷嘴清扫单元(56)包括：能够自外部向狭缝喷嘴(32)的狭缝(32a)内插入或者从狭缝(32a)内拔出的薄板状的刮板(74)、用于保持该刮板的保持部(76)、用于使刮板与保持部(76)一体地在狭缝喷嘴的喷出方向上移动的升降机构(78)以及用于使刮板旋转的旋转机构(82)。

Description

狭缝喷嘴清扫装置以及涂覆装置
技术领域
本发明涉及非旋涂方式的涂覆装置，尤其是涉及在非旋涂法的涂覆处理中所采用的、用于对狭缝喷嘴的狭缝内部进行清扫的狭缝喷嘴清扫装置。
背景技术
在LCD等平板显示器(FPD)的制造工艺中的光刻工序中，如下的一种非旋涂涂覆法被广泛采用：使具有狭缝形状的喷出口的长条形的狭缝喷嘴相对于玻璃基板等被处理基板相对移动，并在基板上涂覆处理液或者药液等涂覆液、例如抗蚀液。
在典型的非旋涂涂覆法中，一边自狭缝喷嘴相对于固定并载置在工作台上的基板呈带状喷出抗蚀液，一边使狭缝喷嘴沿与喷嘴长度方向正交的水平一方向移动。这样，使自狭缝喷嘴的喷出口溢出到基板上的抗蚀液向喷嘴后方平坦地延伸，从而在基板的一表面上形成抗蚀液涂覆膜(例如专利文献1)。
作为另一代表性的非旋涂涂覆法，多采用在工作台上以保持使基板飘浮于空中的状态而沿水平一方向(工作台长度方向)输送基板的上浮输送方式。在该方式中，通过使设置在上浮工作台的上方的长条型的狭缝喷嘴朝向通过其正下方的基板呈带状喷出抗蚀液，而在基板输送方向上自基板的前端部朝基板的后端部，在基板的一表面上形成抗蚀液涂覆膜(例如专利文献2)。
专利文献1：日本特开平10-156255号公报
专利文献2：日本特开2005-236092号公报
在上述那样的、在非旋涂涂覆法的涂覆处理中所采用的狭缝喷嘴中，由于供抗蚀液喷出的狭缝的间隙非常窄(通常为100μm以下)，因此，在狭缝内容易堆积由抗蚀液于抗蚀液供给管或者狭缝喷嘴内凝胶化而形成的固化物，若在狭缝内的某处堆积有抗蚀液固化物，则在该处，抗蚀液的流出(即向基板的供给)会存在欠缺，导致在抗蚀液涂覆膜上产生沿涂覆扫描方向笔直延伸的条状的涂覆不均。
以往，为了防止抗蚀液固化物堆积在狭缝喷嘴的狭缝内，而人工进行将附着在狭缝喷嘴的狭缝内壁上的抗蚀液固化物去除的清扫作业。更加详细而言，将由金属或者树脂构成的薄板材自外部(喷嘴喷出口侧)插入狭缝喷嘴的狭缝内，且在狭缝内使薄板材沿喷嘴长度方向滑动从而将固化物刮出。但是，该种狭缝喷嘴的狭缝间隙如上述那样，通常为100μm以下的极细的间隙，要将薄板材插入该间隙中进行清扫是非常麻烦且费事的作业，因而成为使抗蚀液涂覆装置的维护性或者运转率下降的主要原因。此外，由于清扫作业效率不高、耗时长，因此还导致在作业中散乱在周围的颗粒较多。
发明内容
本发明是为了解决上述那样的以往技术的问题点而做成的，目的在于提供如下一种狭缝喷嘴清扫装置和非旋涂方式的涂覆装置：在抑制颗粒的产生的同时，自动且有效率地对用于非旋涂涂覆法的涂覆处理中的狭缝喷嘴的狭缝内部进行清扫，且通过改善对狭缝喷嘴的维护功能来力图提高涂覆膜的品质、成品率以及运转率。
为了达成上述目的，本发明的第1技术方案的狭缝喷嘴清扫装置是用于对在涂覆处理中所采用的长条型狭缝喷嘴的狭缝内部进行清扫的狭缝喷嘴清扫装置，其中，包括：薄板状的刮出构件，其能够自外部向上述狭缝喷嘴的狭缝内插入或自上述狭缝喷嘴的狭缝内拔出；清扫机构，其用于保持上述刮出构件，以将上述刮出构件插入到上述狭缝喷嘴的狭缝内而在上述狭缝内刮出固化物的方式，使上述刮出构件沿规定的方向移动，并自上述狭缝将上述刮出构件拔出
在上述结构的狭缝喷嘴清扫装置中，通过使与狭缝喷嘴的狭缝内清扫或者清洗相关的主要作业、即刮出构件相对于狭缝喷嘴的插拔作业和刮出作业全部自动化、定型化，能够实现提高作业效率、抑制颗粒的产生、大幅度缩短所需时间。
本发明的第2技术方案的狭缝喷嘴清扫装置是用于对在涂覆处理中所采用的长条型狭缝喷嘴的狭缝内部进行清扫的狭缝喷嘴清扫装置，其中，包括：薄板状的刮出构件，其能够自外部向上述狭缝喷嘴的狭缝内插入或自上述狭缝喷嘴的狭缝内拔出；清扫机构，其用于保持上述刮出构件，在上述狭缝内使上述刮出构件沿规定的方向移动以便将固化物刮出。
在上述结构的狭缝喷嘴清扫装置中，通过将作为与狭缝喷嘴的狭缝内清扫或清洗相关的主要作业之一的、狭缝喷嘴内的刮出作业自动化、定型化，能够实现提高作业效率、抑制颗粒的产生、缩短所需时间。
本发明的涂覆装置包括：狭缝喷嘴，其用于在涂覆处理中相对于被处理基板呈带状将涂覆液喷出；涂覆液供给部，其用于在涂覆处理中将涂覆液供给到上述狭缝喷嘴；基板支承部，其用于支承上述被处理基板；扫描机构，其在涂覆处理中在上述狭缝喷嘴与上述基板之间沿一水平的方向相对移动，以使上述狭缝喷嘴在上述基板上进行涂覆扫描；狭缝喷嘴清扫装置，其用于在涂覆处理的间隔期间对上述狭缝喷嘴的狭缝内进行清扫。
上述结构的涂覆装置通过具有本发明的上述狭缝喷嘴清扫装置，能够改善对狭缝喷嘴的维护功能，从而能够提高抗蚀液涂覆膜的质量、成品率以及运转率。
根据本发明的狭缝喷嘴清扫装置或涂覆装置，利用上述那样的结构和作业，能够在抑制颗粒的产生的同时，自动且有效率地对用于非旋涂涂覆法的涂覆处理中的狭缝喷嘴的狭缝内部进行清扫。另外，能够通过改善对狭缝喷嘴的维护功能来力图提高涂覆膜的品质、成品率以及运转率。
附图说明
图1是表示能够应用本发明的狭缝喷嘴清扫装置的抗蚀液涂覆装置的一结构例的立体图。
图2是表示包括在上述涂覆装置中的喷嘴再生部的结构的局部剖主视图。
图3是表示组装入上述喷嘴再生部中的喷嘴清扫/清洗部的结构的立体图。
图4是表示本实施方式中的狭缝喷嘴清扫装置的结构的局部剖侧视图。
图5是表示包含在上述狭缝喷嘴清扫装置中的刮板和保持部的结构的剖视图。
图6是表示包含在上述狭缝喷嘴清扫装置中的刮板和保持部内的结构的局部剖侧视图。
图7是表示刮板发生了变形时的保持部内的各部的状态的局部剖主视图。
图8是用模块形式来表示上述抗蚀液涂覆装置的主要结构的图。
图9是表示上述狭缝喷嘴清扫装置的整体动作的顺序的流程图。
图10是阶段性地表示本实施方式中的狭缝喷嘴清扫处理中的刮板插入动作的图。
图11是表示上述刮板插入动作的顺序的流程图。
图12是阶段性地表示在上述刮板插入动作未能顺利地进行的情况下的对应处理的动作的图。
图13是表示本实施方式中的狭缝喷嘴清扫处理中的刮出动作的顺序的流程图。
图14是表示上述刮出动作的状态的分解立体图。
图15A是表示上述刮出动作中的1行程的动作的一例的图。
图15B是表示在上述刮出动作中产生了钩挂的情况下的恢复动作的一例的图。
图16表示在上述狭缝喷嘴清扫装置中采用了加速度传感器的位移判断部的作用的图。
图17是表示采用了上述加速度传感器的位移判断部的作用的各部分的波形图。
图18是表示在上述狭缝喷嘴清扫装置中优选的刮板形状的图。
图19是表示在上述狭缝喷嘴清扫装置中的完全非接触式的引导部的结构例的剖视图。
图20是用模块形式来表示上述抗蚀液涂覆装置的第2实施方式的主要结构的图。
图21是表示包含在上述狭缝喷嘴清扫装置中的刮板和保持部的第2实施方式的结构的剖视图。
图22是表示包含在上述狭缝喷嘴清扫装置中的刮板和保持部的第2实施方式的结构的局部剖视图。
图23是表示刮板的另一实施方式的图。
具体实施方式
下面，参照附图来说明本发明的优选实施方式。
图1表示能够应用本发明的狭缝喷嘴清扫装置的抗蚀液涂覆装置的一结构例。
该非旋涂涂覆装置具有：利用气体的压力来使被处理基板、例如FPD用的玻璃基板G飘浮在空中的上浮工作台10、用于在上浮工作台10上沿上浮工作台长度方向(X方向)输送飘浮在空中的基板G的基板输送机构20、用于向在上浮工作台10上被输送的基板G的上表面供给抗蚀液的狭缝喷嘴32、用于在涂覆处理的间隔期间使狭缝喷嘴32再生的喷嘴再生部42。
在上浮工作台10的上表面设有用于向上方喷射出规定的气体(例如空气)的许多个气体喷射孔12，利用自这些气体喷射孔12喷射出的气体的压力而使基板G自工作台上表面上浮到一定的高度。
基板输送机构20具有隔着上浮工作台10而沿X方向延伸的一对导轨22A、22B、能够沿上述导轨22A、22B往返移动的一对滑块24、以及在上浮工作台10上以可装拆地保持基板G的两侧端部的方式而设在滑块24上的吸附盘等基板保持构件(未图示)，通过利用直行移动机构(未图示)使滑块24沿输送方向(X方向)移动，而在上浮工作台10上进行基板G的上浮输送。
狭缝喷嘴32沿与输送方向(X方向)正交的水平方向(Y方向)横穿上浮工作台10的上方，且自狭缝状的喷出口而将抗蚀液R以带状喷出到通过狭缝喷嘴32的正下方的基板G的上表面(被处理面)。另外，狭缝喷嘴32构成为：能够利用包括例如滚珠丝杠机构、引导构件等的喷嘴升降机构26，而能够以与用于支承该喷嘴的喷嘴支承构件28一体地沿铅垂方向(Z方向)移动的方式升降，另外，狭缝喷嘴32经由抗蚀液供给管30而与由抗蚀液容器、送液泵等构成的抗蚀液供给部120(图8)相连接。
与狭缝喷嘴32相邻地在上浮工作台10的上方设有喷嘴再生部42。该喷嘴再生部42的详细情况参照图2和图3并后述。
在此，对该抗蚀液涂覆装置中的抗蚀液涂覆动作进行说明。首先，利用前一级的单元、例如热处理单元(未图示)借助分类机构(未图示)将基板G搬入到设定在上浮工作台10的前端侧的搬入区域中，在此待机的滑块24保持并接收基板G。在上浮工作台10上，基板G受到自气体喷射孔12喷射出的气体(例如高压空气)的压力而以大致水平的姿势来保持上浮状态。
这样，在使基板G以水平姿势沿输送方向(X方向)以一定速度移动的同时，使狭缝喷嘴32朝正下方的基板G，以规定的压力或者流量呈带状将抗蚀液喷出，从而自基板G的前端侧朝后端侧形成膜厚均匀的抗蚀液涂覆膜。
若基板G的后端通过狭缝32的下方，则在基板的一表面上形成抗蚀液涂覆膜。接着，基板G之后也由滑块24上浮输送到上浮工作台10上，并自设定在上浮工作台10的后端上的搬出区域借助分类机构(未图示)而运送到后一级的单元(未图示)中。
如图2所示，在喷嘴再生部42的1个壳体44中并列设置有：作为下一次涂覆处理的预先准备而使少量的抗蚀液喷出到狭缝喷嘴32中并卷绕到启动加注辊46上的启动加注处理部48、从防止干燥的目的出发而将狭缝喷嘴32的喷出口保持在溶剂蒸气的气氛中的喷嘴槽50、以及用于清扫或者清洗狭缝喷嘴32的内部和外部(特别是狭缝喷出口附近)的喷嘴清扫/清洗部52。
完成了一次(一张基板)涂覆处理的狭缝喷嘴32首先利用喷嘴清扫/清洗部52来进行清洗处理，接着在喷嘴槽50内待机，在下一次涂覆处理开始之前利用启动加注处理部48来进行启动加注处理。
要使狭缝喷嘴32到达喷嘴再生部42内的各部(48、50、52)，只要利用由例如滚珠丝杠机构构成的X方向移动部54使整个喷嘴再生部42、即壳体44在基板输送方向(X方向)上移动，并且利用喷嘴升降机构26(图1)使狭缝喷嘴32在铅垂方向(Z方向)上移动即可。
如图3所示，喷嘴清扫/清洗部52具有各自独立的喷嘴清扫单元56和喷嘴清洗单元58，且能够利用共用的Y方向移动部60使上述单元56、58沿狭缝喷嘴32的长度方向(Y方向)一体地移动。Y方向移动部60由例如齿条和小齿轮机构构成，具有在Y方向上延伸的齿条62和Y方向滑架64，该Y方向滑架64内置有用于在该齿条62上滚动的齿轮(未图示)。
喷嘴清洗单元58在上表面开口的、截面呈コ字形的清洗头65上搭载有分别朝狭缝喷嘴32的下端部至喷出口喷出清洗液(例如稀释剂)和干燥用的气体(例如N2气体)的清洗喷嘴66和气体喷嘴(未图示)，并且将碰到狭缝喷嘴32而落下的清洗液收集到排出口68中并使其向下降落，或者利用真空来进行回收。
该实施方式的狭缝喷嘴清扫装置70由下述部分构成：组装入上述启动加注处理部42中的喷嘴清扫单元56、用于使整个启动加注处理部42(壳体44)在基板输送方向(X方向)上移动的X方向移动部54以及用于在壳体44中使整个喷嘴清扫单元56在喷嘴长度方向(Y方向)移动的Y方向移动部60。
如图4所示，喷嘴清扫单元56包括：与Y方向移动部60的Y方向滑架64一体地结合的、截面呈コ字形的支承体或者主框架72、能够自外部(喷出口侧)向狭缝喷嘴32的狭缝32a内插入或自狭缝喷嘴32的狭缝32a内拔出的薄板状的刮板(刮出构件)74、用于保持该刮板74的基端部的保持部76、用于使刮板74与保持部76一体地在铅垂方向、即狭缝喷嘴32的喷出方向上移动的升降机构78以及用于使刮板74绕设于保持部76上的枢轴80旋转的旋转机构82。
更加详细而言，升降机构78具有固定在主框架72的底部上的升降驱动部84和截面呈L形的升降框架88，该升降框架88与该升降驱动部84的升降驱动轴84a相结合，并且以能够沿着安装在主框架72的内侧面上的铅垂的导轨86升降移动的方式与导轨86相配合。升降驱动部84也可以采用汽缸，但从响应速度、位置精度上考虑，优选用伺服电机和旋转/直行变换机构来构成即可。
旋转机构82包括：借助支承构件而水平地安装在升降框架88上的电动机90、将该电动机90的输出轴和保持部76连结起来的旋转驱动轴92、以及在用于在升降支承体88上支承旋转驱动轴92的轴承94。该旋转驱动轴92用于形成上述枢轴80。
如图5和图6所示，保持部76在形成有用于供刮板74通过的上表面开口的框体94内设有：用于保持刮板74的基端部的上部支承块96；固定在框体94的底面上，且借助螺旋弹簧或者橡胶等弹性构件98来支承上部支承块96和刮板74的下部支承块100。
上部支承块96利用螺栓102将自两侧以三明治状夹着刮板74的一对半分割块96a、96b紧固，从而夹持固定刮板74。在该实施例中，在可动块96与框体94的内壁之间设置螺旋弹簧104，该螺旋弹簧104用于提高刮板74的相对于旋转方向的外力的弹性抗力。
刮板74在未受到外力时，以相对于保持部76垂直地站立的状态(基准姿势)被保持部76支承。但是，在施加了外力时，尤其是向刮板74的上部至中间部施加了具有与刮板74的板面平行的横向成分的外力F时，如图7所示，刮板74和上部支承块96以枢轴80为旋转中心并克服螺旋弹簧98、104的力而沿旋转方向位移(倾斜)。
在该实施方式中，为了判断刮板74相对于保持部76的位移，尤其是判断上述那样的旋转位移是否超过了一定的基准值，而包括光学式的第1位移判断部106和采用了加速传感器的第2位移判断部108。
第1位移判断部106具有与刮板74正对面相对地安装在保持部76上的投光部110和自该投光部110看来在刮板74的后方或背面侧安装在保持部76上的受光部112。投光部110具有发光元件、例如发光二极管，受光部112具有光电转换元件、例如光电二极管，且优选能够使用光纤式的光学传感器。
在与刮板74的投光部110和受光部112面对的部位附近形成有开口74a。在刮板74以基准姿势直立时(图6)，投光部110和受光部112借助开口74a而呈相对状态。这时，自投光部110发射或投射的光束LB通过刮板74的开口74a而到达受光部112，且由受光部112输出的电气信号表示光束LB被接收这一情况。
刮板74受到外力而旋转位移，若该位移量超过基准值(图7)，则由投光部110投射出的光束LB自刮板74的开口74a偏离并投射到刮板74的板面上，从而无法到达受光部112。这时，受光部112输出用于表示未接收到光束LB的电气信号。另外，能够根据开口74a的横向尺寸来调节上述旋转位移的基准值。
第2位移判断部108在上部支承块96和下部支承块100上分别安装有加速度传感器114、116。上述加速度传感器114、116的作用参照图10并后述。
再次参照图4，在主框架72的上部板状水平支承部上，在保持部76的正上位置处形成有用于使刮板74以可升降的方式贯通的狭缝开口72a，并且在狭缝开口72a上安装有块状的引导部118。该引导部118在与主框架72的狭缝开口72a重合的位置上具有宽度朝着上方的狭缝喷嘴32的喷出口而变窄的狭缝状的空洞部118a。
在该喷嘴清扫单元56中，在清扫狭缝喷嘴32的狭缝32a内时，如图4所示，引导部118以使引导部118的上表面与狭缝喷嘴32的喷出口附近或者唇式下端部相卡合的方式被定位。在该状态下，刮板74自下方穿过引导部118的狭缝状空洞部118a而插入到狭缝喷嘴32的喷出口的内部深处或者狭缝32a内。
狭缝喷嘴32由沿喷嘴长度方向平行地延伸的前唇部33A和后唇部33B构成，利用螺栓(未图示)使上述唇33A、33B以夹着垫片35的方式对接并一体接合。在狭缝喷嘴32内的中心部形成有与狭缝32a的上端相连接的缓冲部或者歧管部32b。在狭缝喷嘴32的上表面上，在喷嘴长度方向的中心部上设有抗蚀液导入口32c，该抗蚀液导入口32c与歧管部32b由歧管导入通路32d连结。在抗蚀液导入口32c上连接有来自抗蚀液供给部120(图8)的抗蚀液供给管30。
图8用模块图来表示该实施方式的抗蚀液涂覆装置中的狭缝喷嘴32周围的主要结构。主控制部122统括控制该抗蚀液涂覆装置内的整体。上述上浮工作台(18、28、18)、基板输送机构(20、30、20)、喷嘴升降机构26、狭缝喷嘴清扫装置70、抗蚀液供给部120等全都在主控制部122的控制下动作。
狭缝喷嘴清扫装置70作为局部控制器而具有喷嘴清扫控制部124。喷嘴清扫控制部124与主控制部122交换控制信号，根据来自主控制部122的指令来控制狭缝喷嘴70内的各部、尤其是上述X方向移动机构54、Y方向移动机构60、升降机构78、旋转机构80的动作。第1和第2位移判断部106、108的输出信号被传递到喷嘴清扫控制部124中。
在抗蚀液供给管30的途中设有切换阀126。该切换阀126还与来自清洗液供给部128的清洗液供给管130相连接，从而能够使狭缝喷嘴32在用于供给来自抗蚀液供给部120的抗蚀液的位置和用于供给来自清洗液供给部128的清洗液(稀释剂)的位置之间切换。
在狭缝喷嘴32的长度方向的两端设有与歧管32b相连通的出口32e。在上述出口32e上连接有通往排放槽(未图示)的排液管132。在排液管132的途中设有开闭阀134。
接着，参照图9～图17来说明狭缝喷嘴清扫装置70的作用。狭缝喷嘴70的动作全都在主控制部122和喷嘴清扫控制部124的控制下进行。
图9表示狭缝喷嘴清扫装置70中的狭缝喷嘴清扫处理的整体动作。也可以定期地例如以1批或数批为单位，在抗蚀液涂覆处理的间隔期间实施该狭缝喷嘴清扫处理。
在最初的初始化(步骤S1)中，将残留在狭缝喷嘴32内的抗蚀液置换为清洗液(稀释剂)。在该液体置换中，自清洗液供给部128经由清洗液供给管130、切换阀126以及抗蚀液供给管30而将清洗液送入到狭缝喷嘴32内，且自狭缝喷嘴32的出口32e经由排液管132和打开状态的开闭阀134而向排放槽排出大多数抗蚀液。另外，抗蚀液的一部分自狭缝喷嘴32的喷出口喷出。
在初始化(步骤S1)中，还如图10的(a)所示，进行刮板74和保持部76相对于狭缝喷嘴32的对位(定位)。在该对位中，不仅采用狭缝喷嘴清扫装置70侧的移动机构54、60、78、80，还采用喷嘴升降机构26。
接着进行将刮板74插入到狭缝喷嘴32的狭缝32a内的动作(步骤S2)。在优选的一实施例中，该刮板插入动作如图10所示那样分为第1刮板旋转移动(b)、刮板上升移动(c)以及第2刮板旋转移动(d)3个阶段来进行。
图11表示该刮板插入动作的顺序。第1刮板旋转移动(b)按照步骤S10～S14的顺序进行，刮板升降移动(c)按照步骤S15～S18的顺序进行，第2刮板旋转移动(d)按照步骤S19～S23的顺序进行。
在第1刮板旋转移动(b)中，执行使刮板74与保持部76一体地仅以规定行程(旋转角)旋转移动的动作(步骤S12)。在该旋转移动动作顺利地进行的情况下，由于基本不会发生动作中的刮板74的变形、即刮板74相对于保持部76的相对旋转位移，或者即使有位移也非常小，因此，利用位移判断部106、108得出无实质位移(无钩挂)的判断结果(步骤S13)，这时，转移到接下来的刮板升降移动(c)。
但是，在刮板74的顶端部在狭缝喷嘴32的喷出口附近与碰到某物而无法进入到狭缝喷嘴32中的情况下，刮板74会发生变形(相对于保持部76相对旋转位移)，若该变形量超过基准值，则由位移判断部106、108得出有实质位移(有钩挂)的判断结果(步骤S13)。这时，如图12所示那样使刮板74和保持部76返回到旋转动作之前的原来位置(步骤S14)，且再次尝试旋转移动的动作(步骤S14)。此外，在该再次尝试的次数达到了设定次数(is)的情况下，在该阶段中中止此次的狭缝喷嘴清扫处理，并通过蜂鸣器、显示器发出不可清扫的警报(步骤S10→S11→S15→S16)。
刮板升降移动(c)是使刮板74与保持部76一体地仅以规定行程(距离)上升移动的动作(步骤S18)。在该动作中，在刮板74的顶端部与狭缝喷嘴32内的固化物或者异物钩挂时，与上述相同地由位移判断部106、108得出有实质位移(有钩挂)的判断结果(步骤S19)。此外，在再次尝试(步骤S20)的次数达到了设定次数(js)的情况下，在该阶段中中止此次的狭缝喷嘴清扫处理，并发出不可清扫的警报(步骤S16→S17→S21→S6)。
第2刮板旋转移动(d)为了在狭缝喷嘴32内将刮板74的姿势设置为初始状态例如直立姿势而使刮板74与保持部76一体地仅以规定行程(旋转角)旋转移动(步骤S24)。在该旋转动作中，在刮板74的顶端部与狭缝喷嘴32内的固化物或者异物钩挂时，也与上述相同地由位移判断部106、108得出有实质位移(有钩挂)的判断结果(步骤S25)。此外，在再次尝试(步骤S26)的次数达到了设定次数(ms)的情况下，在该阶段中中止此次的狭缝喷嘴清扫处理，并发出不可清扫的警报(步骤S22→S23→S27→S6)。
另外，在第1和第2刮板旋转移动(b)、(d)中主要采用旋转机构80，在刮板升降移动(c)中主要采用采用升降机构78。在所有情况下，均优选将刮板74的顶端插入至到达狭缝喷嘴32内的歧管32b的下端附近。
上述那样的3阶段的刮板插入动作(a)、(b)、(c)仅为一例，在本发明的刮板插入动作中可以进行各种变形。例如，也可以不使用旋转机构80，而进行将升降移动和Y方向移动相组合而成的刮板插入动作、仅有升降移动的刮板插入动作。
在上述那样的刮板插入动作首尾良好地完成时，接着为了在狭缝喷嘴32内刮出抗蚀液固化物及其他异物，而进行沿规定的方向驱动刮板74的动作(步骤S3)。图13表示该刮出动作的顺序。如图14所示，该刮出动作将使刮板74与保持部76一体地沿喷嘴长度方向(Y方向)移动的动作作为基本动作，且将一定周期的旋转动作或者升降动作等与该基本动作相组合，从而自喷嘴一端部侧的终点至喷嘴另一端部的终点反复进行1行程或者间距的刮板驱动(步骤S30→S31→S32→S33→S30→··)另外，在开始刮出动作之前，利用喷嘴升降机构38使狭缝喷嘴32稍许上升，并使引导部118自狭缝喷嘴32离开。
在刮出动作的途中，在狭缝喷嘴32内，在刮板74钩挂到固化物及其他异物而发生较大的变形时，利用位移判断部106、108得出有实质位移(有钩挂)的判断结果(步骤S31)，因此，例如，如图15A和图15B所示，利用使刮板74卷回到1行程(1间距)前的原来位置那样的相反动作使刮板74后退(步骤S36)，然后再次尝试或者再开始(步骤S30)。在该情况下，若再次尝试或者后退(步骤S26)的次数达到了设定次数(ns)，则在该阶段中也中止此次的狭缝喷嘴清扫处理，并发出不可清扫的警报(步骤S34→S35→S37→S6)。
在此，图16和图17说明了第2位移判断部108的作用。在图16中，比较器140用于比较两加速度传感器114、116的输出，并输出用于表示该差分E的信号。判断电路输出用于表示来自比较器140的差分E与规定的基准值TH之间的大小关系的判断信号MS。即，在E＜TH时，输出L电平的MS，在E＞TH时，输出H电平的MS。该判断信号MS被传递到喷嘴清扫控制部124(图8)。
在例如上述那样的刮出动作中，刮板74和保持部76以图17的(a)所示的梯形波形的速度特性V沿Y方向移动。这时，向安装在上部支承块96上的加速度传感器114施加与施加到刮板74上的加速度相同的加速度，向安装在下部支承块100上的加速度传感器116施加与施加到保持部76的框体94上的加速度相同的加速度。
因此，若在刮出动作中未在刮板74产生钩挂，则刮板74不会发生实质性的变形或位移，两加速度传感器114、116的输出波形大致相同，差分E大致为零，判断信号MS为L电平。
但是，若在刮出动作中，刮板74钩挂了固化物或者异物而产生变形，则加速度传感器114的输出中出现负的加速度成分G，差分E变为零而消失。在该差分E达到超过基准值TH那样大时，判断信号MS为H电平(有钩挂)。
在上述那样的刮出动作首尾良好地完成时，接着进行自狭缝喷嘴32将刮板74拔出的动作(步骤S4)。在该拔出动作中，利用升降机构78使刮板74与保持部76一体地下降。
在刮出动作结束后，将图8的切换阀126切换到清洗液供给部128侧，从而将清洗液供给到狭缝喷嘴32。同时，打开开闭阀134，通过使清洗液的大部分以狭缝喷嘴32的抗蚀液导入口32c→抗蚀液导入通路32d→歧管部32b→出口32e→排液管132的路线流动来将刮刮落的粘结物排出到排放槽中。如此，通过在进行刮出动作的同时将清洗液排出到排放槽中，能够提高粘结物的排出性能。
在结束了拔出动作后，作为后处理，进行将狭缝喷嘴32内的清洗液置换为抗蚀液的动作(步骤S5)。在该液体置换中，切换阀126被切换到抗蚀液供给部120侧，自抗蚀液供给部120将抗蚀液送入到狭缝喷嘴32内，自狭缝喷嘴32的出口32e经由排液管132和打开状态的开闭阀134而将大多数清洗液排出到排放槽中。另外，清洗液的一部分自喷嘴喷出口喷出。
在该实施方式中所采用的刮板74的材质优选为具有适度的硬度和弹性的材质，最好能够使用例如铜或者树脂。另外，刮板74的形状是任意的，也可以例如图18所示那样为用于刮落(日文：こそげ落し)的、边部倾斜的刮板形状(74B、74C)、带锯齿的刮板形状(74A)等。
另外，也可以使刮板插入动作(步骤S2)中所用的引导部118如图18所示那样以完全非接触式的方式变形。该完全非接触式的引导部118利用借助旋转轴146和螺旋弹簧148而可弹性位移地设在主框架72上的一对弯曲板150来形成狭缝状的空洞部150，该空洞部150的宽度朝着狭缝喷嘴32的喷出口变窄，以便一边引导刮板74的顶端部一边使刮板74通过。
在刮板插入动作(步骤S2)的再次尝试中，在使刮板74返回原来位置时(步骤S14)，也可以在X方向上微调刮板74和保持部76的位置。
另外，在刮板插入动作(步骤S2)中，也可以采用照相机(未图示)。即，也可以用照相机来拍摄刮板74在被插入到狭缝喷嘴32的喷出口时的顶端部周围的情况，从而一边监控或者解析图像，一边首尾良好地推行刮板插入动作。
如上所述，该实施方式的狭缝喷嘴清扫装置70完全不需要人工的作业，并且将狭缝喷嘴32的狭缝内的清扫或者清洗作业自动化、定型化，从而实现了提高作业效率、抑制颗粒产生、大幅度缩短所需时间。
另外，该实施方式的抗蚀液涂覆装置通过具有狭缝喷嘴清扫装置70，能够改善对狭缝喷嘴32的维护功能，从而能够提高抗蚀液涂覆膜的品质、成品率以及运转率。
另外，作为上述实施方式的一变形例，也可以用人工来代替狭缝喷嘴清扫装置70的一部分功能。尤其是能够利用人工来进行将刮板74插入到狭缝喷嘴32中的作业和自狭缝喷嘴32将刮板74拔出的作业，在该情况下，只要将狭缝喷嘴清扫装置70专门化为刮出功能即可，从而实现装置结构的简单化。
另外，在上述实施方式中，为了判断刮板74相对于保持部76的位移是否超过一定的基准值而同时采用光学式的第1位移判断部106和采用了加速度传感器的第2位移判断部108。但是，也可以使用或搭载任意一方的位移判断部而省略另一方的位移判断部。
接下来，说明本发明的第2实施方式。其中，对与前述实施方式相同之处，说明从略。图20用模块图来表示第2实施方式的狭缝喷嘴32周围的主要结构。
在狭缝喷嘴32的长度方向两端分别设有与歧管32b相连通的出口32e1和出口32e2。在出口32e1上连接有通往排放槽(未图示)的排液管160，在出口32e2上连接有通往排放槽(未图示)的排液管161。在排液管160的途中设有切换阀162，在排液管161的途中设有切换阀163。切换阀162还与来自清洗液供给部128的清洗液供给管164相连接，通过对切换阀162进行切换，能够切换为：使出口32e1与排放槽相连接，或者使清洗液供给部128与出口32e1相连接。另外，切换阀163还与来自清洗液供给部128的清洗液供给管165相连接，通过对切换阀163进行切换，能够切换为：使出口32e2与排放槽相连接，或者使清洗液供给部128与出口32e2相连接。另外，利用主控制部122能够控制切换阀162、163的切换。
接下来说明本实施方式的动作。例如，首先，将刮板74插入到狭缝32a中，这时，在图20中的狭缝喷嘴的左端位置上，将刮板74插入到狭缝32a中。
接着，在使刮板74朝狭缝喷嘴32的右端如前述的实施方式那样移动的同时，对切换阀162进行切换而使清洗液供给部128与出口32e1相连接，另外，对切换阀163进行切换而使排放槽与出口32e2相连接。因此，在刮板74自狭缝32a的左端朝右端移动的同时，清洗液在歧管32b内自左向右流动。若刮板74移动，则狭缝32a内的固化后的抗蚀液被上推到歧管32b内，且随着清洗液的流动而自歧管32b内被去除。
如果刮板74到达了狭缝32a的右端，则刮板74停止，在规定的时间内，使清洗液在歧管32b内自左朝右持续流动。接着，在使刮板74在狭缝32a中朝左移动的同时，对切换阀163进行切换而使清洗液供给部128与出口32e2相连接，另外，对切换阀162进行切换而使出口32e1与排放槽相连接。因此，在刮板74自狭缝32a的右端朝左端移动的同时，清洗液在歧管32b内自右朝左流动。
如此，由于在与刮板74的移动方向相同的方向上使清洗液在歧管32b内流动，因此，能够高效率地去除抗蚀液的固化物。
接下来，说明本发明的第3实施方式。对于与已述的实施方式相同之处，说明从略。如图21、22所示，在第3实施方式中，代替弹性构件98而采用多个负荷传感器170。所谓负荷传感器是用于将力的大小转变为电气信号的变换器，采用应变仪作为检测元件。
由于采用了负荷传感器170，因而能够计量出作用在各个负荷传感器170上的力，由于不再需要前述实施方式中的第1位移判断部106，减少了零件数量，因而提高了装置的可靠性。
接下来，说明刮板74的其他形状。如图23所示，刮板74D的形状最好是顶端呈梯形形状。这是因为在使刮板74水平移动时，狭缝32a内的抗蚀液固化物H会与上述梯形形状的倾斜部相接触，从而能够对固化物H施加朝上的力F，且能够将固化物H上推至歧管32b。
另外，刮板74的材料最好是硬度比狭缝喷嘴32低的金属材质，由于不会损伤狭缝喷嘴32且具有刚性，因此适合用于清扫。
本发明并不限定为用于上述实施方式中那样的基板上浮方式或者非旋涂方式的涂覆处理中的狭缝喷嘴，也能以用于任意的涂覆处理或者液体处理中的狭缝喷嘴为对象。
作为本发明中的涂覆液，除抗蚀液之外，可以是例如层间绝缘材料、电介质材料、布线材料等涂覆液，也可以是各种药液、显像液、冲洗液等。本发明中的被处理基板并不限定于LCD基板，也可以是其他的平板显示器用基板、半导体晶圆、CD基板、光掩模、印刷电路板等。

Claims (17)

1.一种狭缝喷嘴清扫装置，其用于对在涂覆处理中所采用的长条型狭缝喷嘴的狭缝内部进行清扫，其中，
包括：薄板状的刮出构件，其能够自外部向上述狭缝喷嘴的狭缝内插入或从上述狭缝喷嘴的狭缝内拔出；
清扫机构，其用于保持上述刮出构件，在上述狭缝喷嘴的狭缝内，使上述刮出构件沿规定的方向移动，以便在上述狭缝内刮出固化物，
其中，上述清扫机构包括：
用于保持上述刮出构件的基端部的保持部；
用于使上述刮出构件与上述保持部一体地在上述狭缝喷嘴的喷出方向上移动的第1移动机构；
用于使上述刮出构件与上述保持部一体地在上述狭缝喷嘴的长度方向上移动的第2移动机构；以及
用于使上述刮出构件绕设于上述保持部上的枢轴转动的第3移动机构，上述枢轴沿与上述狭缝喷嘴的长度方向以及上述狭缝喷嘴的喷出方向均正交的方向上延伸，
采用上述第1移动机构、上述第2移动机构以及上述第3移动机构来进行在上述狭缝喷嘴的狭缝内的刮出动作，
采用上述第1移动机构来进行自上述狭缝喷嘴的狭缝将上述刮出构件拔出的动作。
2.根据权利要求1所述的狭缝喷嘴清扫装置，其中，
采用上述第1移动机构来进行将上述刮出构件插入到上述狭缝喷嘴的狭缝内的动作。
3.根据权利要求2所述的狭缝喷嘴清扫装置，其中，
上述清扫机构也在将上述刮出构件插入到上述狭缝喷嘴的狭缝内的动作中采用上述第2移动机构。
4.根据权利要求2或3所述的狭缝喷嘴清扫装置，其中，
上述清扫机构也在将上述刮出构件插入到上述狭缝喷嘴的狭缝内的动作中采用上述第3移动机构。
5.根据权利要求2或3所述的狭缝喷嘴清扫装置，其中，
上述清扫机构还具有用于使上述刮出构件与上述保持部一体地在与上述狭缝喷嘴的长度方向正交的水平的一方向上移动的第4移动机构，
上述清扫机构也在将上述刮出构件插入到上述狭缝喷嘴的狭缝内的动作中采用上述第4移动机构。
6.根据权利要求2或3所述的狭缝喷嘴清扫装置，其中，
上述清扫机构具有用于在将上述刮出构件插入到上述狭缝喷嘴的狭缝内时向上述狭缝内引导上述刮出构件的顶端部的引导部。
7.根据权利要求6所述的狭缝喷嘴清扫装置，其中，
上述引导部为了一边引导上述刮出构件的顶端部一边使上述刮出构件的顶端部通过而具有宽度朝着狭缝喷嘴的喷出口而变窄的狭缝状的空洞部，
上述引导部与上述狭缝喷嘴抵接而被定位。
8.根据权利要求6所述的狭缝喷嘴清扫装置，其中，
上述引导部为了一边引导上述刮出构件的顶端部一边使上述刮出构件的顶端部通过而具有宽度朝着狭缝喷嘴的喷出口而变窄的狭缝状的空洞部，
上述引导部相对于上述狭缝喷嘴以非接触的方式被定位。
9.根据权利要求2或3所述的狭缝喷嘴清扫装置，其中，
上述保持部具有能够使上述刮出构件弹性位移的弹性构件。
10.根据权利要求9所述的狭缝喷嘴清扫装置，其中，
上述清扫机构具有用于检测上述刮出构件相对于上述保持部的相对位移且判断该位移量是否超过了基准值的位移判断部。
11.根据权利要求10所述的狭缝喷嘴清扫装置，其中，
上述清扫机构在将上述刮出构件插入到上述狭缝喷嘴的狭缝内时，根据由上述位移判断部所得出的判断结果来确认上述刮出构件的插入情况，或者再次尝试上述刮出构件的插入。
12.根据权利要求10所述的狭缝喷嘴清扫装置，其中，
上述清扫机构在进行上述狭缝喷嘴的狭缝内的刮出动作时，根据由上述位移判断部所得出的判断结果来监视上述刮出动作是否正常地进行。
13.根据权利要求12所述的狭缝喷嘴清扫装置，其中，
上述清扫机构在上述刮出构件每次沿上述狭缝喷嘴的长度方向移动一定距离时都会监视上述刮出动作是否正常地进行。
14.根据权利要求13所述的狭缝喷嘴清扫装置，其中，
上述清扫机构在上述刮出动作无法正常地进行时，使上述刮出构件向相反方向返回一定距离，然后再次开始上述刮出动作。
15.根据权利要求10所述的狭缝喷嘴清扫装置，其中，
上述位移判断部包括：
投光部，其以朝上述刮出构件或者其附近投射光束的方式设在上述保持部上；
受光部，其以在由上述投光部发出的光束穿过被形成于上述刮出构件上的规定的孔或者通过上述刮出构件附近时接收该光束并进行光电变换的方式设在上述保持部上；
上述位移判断部根据上述受光部的输出来判断上述位移量是否超过了基准值。
16.根据权利要求10所述的狭缝喷嘴清扫装置，其中，
上述位移判断部包括：
相对于上述刮出构件的位移独立并安装在上述保持部上的第1加速度传感器；
以与上述刮出构件的位移相对应地位移的方式安装在上述保持部上的第2加速度传感器；
上述位移判断部获取上述第1加速度传感器的输出信号与上述第2加速度传感器的输出信号之间的差分，根据该差分是否大于基准值来判断上述位移量是否超过了基准值。
17.一种涂覆装置，其中，
包括：
狭缝喷嘴，其用于在涂覆处理中相对于被处理基板将涂覆液呈带状喷出；
涂覆液供给部，其用于在涂覆处理中将涂覆液供给到上述狭缝喷嘴；
基板支承部，其用于支承上述被处理基板；
扫描机构，其在涂覆处理中在上述狭缝喷嘴与上述被处理基板之间沿水平的一方向相对移动，以使上述狭缝喷嘴在上述被处理基板上进行涂覆扫描；
权利要求1～16中任意一项所述的狭缝喷嘴清扫装置，其用于在涂覆处理的间隔期间对上述狭缝喷嘴的狭缝内进行清扫。
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