CN210411380U - 基板处理装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种基板处理装置，能够缩短从喷嘴去除剩余的处理液所需的时间，并且能够一边抑制被去除的处理液的飞散一边回收处理液。回收从喷嘴去除的剩余的处理液的处理液回收部具有：容器，呈上方开放且具有比喷出口的长度方向的尺寸大的宽度的箱形，在第一喷嘴待机位置设置在喷出口及处理液去除部的下方；膜，呈在长度方向上具有比喷出口大的尺寸的带状，在与长度方向正交的宽度方向上，中央部与容器的内底面抵接并且两端部立起，从下方包围处理液去除部。

Description

基板处理装置

技术领域

本实用新型涉及一种从喷嘴向液晶显示装置用玻璃基板、半导体基板、 PDP用玻璃基板、光掩模用玻璃基板、滤色器用基板、记录光盘用基板、太阳能电池用基板、电子纸用基板等精密电子装置用基板、矩形玻璃基板、膜液晶用柔性基板、有机EL用基板(以下简称为“基板”)供给处理液来进行涂敷处理等的基板处理技术。

背景技术

为了向基板供给处理液，例如，如日本特开2017-209633号公报所记载的那样，通常使用具有狭缝状的喷出口的喷嘴。在这样的喷嘴中，处理液会附着在喷嘴的顶端部。若附着物干燥硬化后掉落至基板上，则会污染基板。因此，在日本特开2017-209633号公报所记载的装置中，在从喷嘴向基板供给处理液之前，利用喷嘴清扫构件来去除附着于喷嘴的顶端部的侧面的处理液。此外，在日本特开2017-209633号公报中，虽然没有具体记载对从喷嘴去除的处理液的回收，但以往，在喷嘴清扫构件的铅垂下方设置槽来回收由喷嘴清扫构件去除的处理液。

在此，若回收至槽的处理液固定附着于槽，则需要用很多时间来清扫槽，这是造成生产力降低的主要原因之一。因此，提出了在槽的上方以垂下状态配置具有挠性的片材的中央部的技术(例如，专利第6073188号)。在该现有技术中，从喷嘴去除的处理液被片材挡住，并被引导至槽的规定部位(排出口)而被回收。

在专利第6073188号所记载的装置中，由于以使具有挠性的片材的中央部垂下的状态收集处理液，因此，处理液在垂下的顶端部聚集而形成积液。另外，在从侧方观察片材的中央部时，其为朝向下方顶端越来越细的形状。因此，若从喷嘴去除的处理液朝向片材的中央部所形成的积液直接掉落，则会导致处理液的飞散。

另外，若垂下的片材的中央部起皱，则会产生收集的处理液在起皱部分滞留的问题，从而无法稳定地进行处理液的回收。

而且，虽然在专利第6073188号中没有公开相当于日本特开2017-209633 号公报的喷嘴清扫构件的擦拭构件的具体结构，但如上所述，片材的中央部朝向下方顶端越来越细。因此，为了避免喷嘴及擦拭构件(喷嘴清扫构件) 与片材的中央部之间的干扰，需要将喷嘴及擦拭构件定位于从片材的中央部向上方分离的位置。其结果，会产生如下问题：铅垂方向上的装置尺寸及喷嘴的移动距离变大，喷嘴清扫所需的节拍时间变长。

实用新型内容

本实用新型是鉴于上述问题而提出，其目的在于，提供一种能够缩短从喷嘴去除剩余的处理液所需的时间，并且能够一边抑制被去除的处理液的分散一边回收处理液的基板处理技术。

本实用新型的一个技术方案，一种基板处理装置，其特征在于，具有：喷嘴，具有狭缝状的喷出口，在与第一喷嘴待机位置分离的基板处理位置从所述喷出口向基板的上表面供给处理液；处理液去除部，在所述第一喷嘴待机位置，在使刮除器与所述喷嘴的顶端侧面抵接的状态下使所述刮除器沿所述喷出口的长度方向移动，从所述喷嘴去除剩余的所述处理液；以及处理液回收部，回收由所述处理液去除部去除的所述处理液，所述处理液回收部具有：容器，呈上方开放且具有比所述喷出口的所述长度方向的尺寸大的宽度的箱形，在所述第一喷嘴待机位置设置在所述喷出口及所述处理液去除部的下方；膜，呈在所述长度方向上具有比所述喷出口大的尺寸的带状，在与所述长度方向正交的宽度方向上，中央部与所述容器的内底面抵接并且两端部立起，从下方包围所述处理液去除部。

在这样构成的实用新型中，膜以从下方包围处理液去除部的方式配置，因此，能够将被处理液去除部去除的处理液收集在膜的中央部并回收至容器内。另外，由于膜的中央部与容器的内底面抵接，因此，能够防止膜的中央部的起皱。因此，能够防止被去除的剩余的处理液部分地滞留于膜。因此，能够有效地防止回收剩余的处理液时的处理液的飞散。另外，能够稳定地进行处理液的回收。

另外，关于膜的配置方式，包括如下技术特征。即，在膜的宽度方向(与喷出口的长度方向正交的方向)上，膜的中央部与容器的内底面抵接而从下方面状地覆盖处理液去除部，并且膜的两端部分别从膜的中央部立起而从侧方包围处理液去除部。这样一来，膜从下方包围处理液去除部，从而能够使喷嘴及处理液去除部接近膜。其结果，无需如专利第6073188号所记载的装置那样，为了避免喷嘴与膜的干扰，使喷嘴大幅度地移动，因此，能够缩短从喷嘴去除剩余的处理液所需的时间。

如上所述，根据本实用新型，通过以在宽度方向上使中央部与容器的内底面抵接并使两端部立起而下方包围处理液去除部的方式设置的膜，回收从喷嘴去除的处理液。因此，能够缩短从喷嘴去除剩余的处理液所需的时间，并且能够一边抑制被去除的处理液的飞散一边回收处理液。

附图说明

图1是示意性地表示本实用新型的基板处理装置的第一实施方式的整体结构的图。

图2是喷嘴的从斜下方观察的立体图。

图3是表示处理液回收部的外观的立体图。

图4是示意性地表示处理液回收部的结构的立体图。

图5是表示基板处理装置中的喷嘴清扫处理的一个例子的流程图。

图6是示意性地表示根据图5的流程图所执行的动作及涂敷动作的图。

图7是示意性地表示本实用新型的基板处理装置的第二实施方式的整体结构的图。

图8是示意性地表示本实用新型的基板处理装置的第三实施方式的整体结构的图。

附图标记的说明：

1 涂敷装置(基板处理装置)

8 维护单元

711 (喷嘴的)喷出口

71 喷嘴

71R 喷出口范围

79 定位机构

81 喷嘴净化器

82 涂敷液回收部

811 (处理液)去除部

812 驱动部

813 喷嘴清扫构件

813B 刮除器

821 容器

822 槽

822a 突起部位

823 排出口

824 膜支撑构件

824a (膜支撑构件的)上表面

825 膜

825a (膜的)中央部

825b 膜端部(膜的一个端部)

825c 膜端部(膜的另一个端部)

Pct 涂敷位置(基板处理位置)

Pnc 喷嘴清扫位置(第一喷嘴待机位置)

Ppd 预喷出位置(第二喷嘴待机位置)

S 基板

Sf 基板的表面(基板的上表面)

X 长度方向

Y 宽度方向

具体实施方式

图1是示意性地表示本实用新型的基板处理装置的第一实施方式即涂敷装置的整体结构的图。该涂敷装置1是向从图1的左侧向右侧以水平姿势搬运的基板S的表面Sf涂敷涂敷液的狭缝涂布机。此外，在以下各图中，为了明确装置各部的配置关系，将基板S的搬运方向设为“X方向”，将从图1的左侧朝向右侧的水平方向称为“+X方向”，将其反方向称为“-X方向”。另外，将与X方向正交的水平方向Y中的装置的正面侧称为“-Y方向”，并将装置的背面侧称为“+Y方向”。而且，将铅垂方向Z中的上方向及下方向分别称为“+Z方向”及“-Z方向”。

首先，利用图1说明该涂敷装置1的结构及动作的概要，然后，对具有本实用新型的技术特征的维护单元的详细结构及动作进行说明。在涂敷装置 1中，沿着基板S的搬运方向Dt(+X方向)依次相邻配置有输入输送器100、输入移载部2、浮起工作台部3、输出移载部4、输出输送器110，如下详述的那样，通过这些构件形成沿大致水平方向延伸的基板S的搬运路径。此外，在以下说明中，在与基板S的搬运方向Dt关联地表示位置关系时，有时会将“基板S的搬运方向Dt中的上游侧”仅简略为“上游侧”，并将“基板S 的搬运方向Dt中的下游侧”仅简略为“下游侧”。在该例子中，从某基准位置来观察，相对而言，(-X)侧相当于“上游侧”，(+X)侧相当于“下游侧”。

处理对象即基板S从图1的左侧搬入输入输送器100。输入输送器100 具有辊柱输送器101和使辊柱输送器101驱动旋转的旋转驱动机构102，通过辊柱输送器101的旋转，以水平姿势向下游侧即(+X)方向搬运基板S。输入移载部2具有辊柱输送器21和旋转及升降驱动机构22，该旋转及升降驱动机构22具有使辊柱输送器21旋转驱动的功能和使辊柱输送器21升降的功能。通过辊柱输送器21进行旋转，进一步向(+X)方向搬运基板S。另外，通过辊柱输送器21进行升降，变更基板S的铅垂方向位置。通过这样构成的输入移载部2，将基板S从输入输送器100移载至浮起工作台部3。

浮起工作台部3具有沿基板的搬运方向Dt分成三部分的平板状的工作台。即，浮起工作台部3具有入口浮起工作台31、涂敷工作台32及出口浮起工作台33，这些工作台的上表面彼此形成同一平面的一部分。在入口浮起工作台31及出口浮起工作台33彼此的上表面上，矩阵状地设置有喷出从浮起控制机构35供给的压缩空气的多个喷出孔，通过由喷出的气流所赋予的浮力，使基板S浮起。这样一来，在基板S的下表面Sb与工作台的上表面分离的状态下，将基板S支撑为水平姿势。基板S的下表面Sb与工作台的上表面之间的距离即浮起量能够设为例如10μm～500μm。

另一方面，在涂敷工作台32的上表面上交替地配置有喷出压缩空气的喷出孔和抽吸基板S的下表面Sb与工作台的上表面之间的空气的抽吸孔。通过浮起控制机构35控制来自喷出孔的压缩空气的喷出量和来自抽吸孔的抽吸量，能够精密地控制基板S的下表面Sb与涂敷工作台32的上表面之间的距离。由此，将通过涂敷工作台32的上方的基板S的表面Sf的铅垂方向位置控制为规定值。作为浮起工作台部3的具体结构，能够适用例如专利第5346643号所记载的结构。此外，关于涂敷工作台32的浮起量，通过控制单元9基于后面详述的传感器61、62的检测结果而计算出，另外，能够通过气流控制被高精度地调节。

此外，在入口浮起工作台31上设置有未图示的升降销，在浮起工作台部3上设置有使该升降销升降的升降销驱动机构34。

通过辊柱输送器21的旋转，经由输入移载部2搬入浮起工作台部3的基板S被施加向(+X)方向的推动力，并被搬运到入口浮起工作台31上。虽然入口浮起工作台31、涂敷工作台32及出口浮起工作台33将基板S支撑为浮起状态，但是并不具有使基板S沿水平方向移动的功能。浮起工作台部 3上的基板S的搬运由配置在入口浮起工作台31、涂敷工作台32及出口浮起工作台33的下方的基板搬运部5来进行。

基板搬运部5具有卡盘机构51和吸附及移动控制机构52，所述卡盘机构51通过与基板S的下表面周缘部部分地抵接而从下方支撑基板S，所述吸附及移动控制机构52具有对设置于卡盘机构51上端的吸附构件的吸附垫 (省略图示)施加负压来吸附保持基板S的功能和使卡盘机构51沿X方向往复移动的功能。在卡盘机构51保持基板S的状态下，基板S的下表面Sb 位于比浮起工作台部3的各个工作台的上表面更高的位置。因此，基板S通过卡盘机构51吸附保持周缘部，并通过由浮起工作台部3施加的浮力整体维持为水平姿势。此外，在通过卡盘机构51部分地保持基板S的下表面Sb 的阶段，为了检测基板S的上表面的铅垂方向位置，将板厚测定用传感器61 配置在辊柱输送器21的附近。未保持基板S的状态的卡盘(省略图示)位于该传感器61的正下方位置，从而传感器61能够检测吸附构件的上表面即吸附面的铅垂方向位置。

卡盘机构51保持从输入移载部2搬入浮起工作台部3的基板S，在该状态下，卡盘机构51向(+X)方向移动，从而将基板S从入口浮起工作台31 的上方经由涂敷工作台32的上方向出口浮起工作台33的上方搬运。被搬运的基板S被交接至配置于出口浮起工作台33的(+X)侧的输出移载部4。

输出移载部4具有辊柱输送器41和具有使该辊柱输送器41旋转驱动的功能和使该辊柱输送器41升降的功能的旋转及升降驱动机构42。通过辊柱输送器41进行旋转，对基板S施加向(+X)方向的推动力，沿着搬运方向Dt进一步搬运基板S。另外，通过辊柱输送器41进行升降，变更基板S的铅垂方向位置。关于通过辊柱输送器41的升降所实现的功能将在后面叙述。通过输出移载部4将基板S从出口浮起工作台33的上方移载至输出输送器 110。

输出输送器110具有辊柱输送器111和使辊柱输送器111旋转驱动的旋转驱动机构112，通过辊柱输送器111的旋转，进一步向(+X)方向搬运基板S，最终将基板S搬出至涂敷装置1外。此外，输入输送器100及输出输送器110既可以设置为涂敷装置1的一部分，也可以与涂敷装置1分别单独设置。另外，例如，设置在涂敷装置1的上游侧的其他单元的基板搬出机构也可以用作输入输送器100。另外，设置在涂敷装置1的下游侧的其他单元的基板接收机构也可以用作输出输送器110。

在这样被搬运的基板S的搬运路径上，配置有用于向基板S的表面Sf 涂敷涂敷液的涂敷机构7。涂敷机构7具有狭缝喷嘴即喷嘴71。从未图示的涂敷液供给部向喷嘴71供给涂敷液，从朝向喷嘴下部开口的喷出口喷出涂敷液。

喷嘴71能够通过定位机构79在X方向及Z方向上移动定位。通过定位机构79将喷嘴71定位于涂敷工作台32的上方的涂敷位置(由虚线所示位置，参照图6中附图标记Pct)。从定位在涂敷位置的喷嘴喷出涂敷液并向在该喷嘴与涂敷工作台32之间搬运来的基板S供给。这样一来，向基板S 涂敷涂敷液。

设置有用于对喷嘴71进行维护的维护单元8。维护单元8具有喷嘴净化器81、涂敷液回收部82和维护控制机构83，所述喷嘴净化器81从在与涂敷位置分离的喷嘴清扫位置(图6中的位置Pnc)进行待机的喷嘴71去除剩余的涂敷液，所述涂敷液回收部82对由喷嘴净化器81去除的涂敷液以及从喷嘴71预喷出的涂敷液进行回收，所述维护控制机构83控制喷嘴净化器81 的动作。

在喷嘴71位于喷嘴净化器81的上方位置(喷嘴清扫位置)的状态下，通过喷嘴净化器81去除附着于喷嘴71的喷出口的周围的涂敷液。另外，定位机构79还能够将喷嘴71定位于与喷嘴清扫位置相邻的预喷出位置(图6 中的位置Ppd)。在喷嘴71被定位于该预喷出位置的状态下执行预喷出处理。这样，对向涂敷位置移动前的喷嘴71执行包括喷嘴清扫处理及预喷出处理的涂敷前处理，从而能够使涂敷位置的涂敷液的喷出从其初始阶段稳定。

此外，在涂敷装置1上设置有用于控制装置各部的动作的控制单元9。控制单元9具有存储规定的控制程序、各种数据的存储机构、通过执行该控制程序使装置各部执行规定的动作的CPU等运算机构、以及与用户、外部装置进行信息交换的界面机构等。在本实施方式中，如后述那样，运算机构控制装置各部来执行涂敷前处理(＝预喷出处理+喷嘴清扫处理)。

图2是喷嘴的从斜下方观察的立体图。此外，在图2中，为了明确作为清扫对象的喷嘴71的喷出口711的附近的结构，以与实际尺寸不同的尺寸来表示喷嘴顶端的尺寸。关于这一点，在后面说明的图3、图4及图6等中也相同。

该喷嘴71具有沿Y方向延伸的长条狭缝状的开口部即喷出口711。喷出口711在Y方向上以喷出口范围71R进行开口，成为喷出口形成部72的主要结构。该喷嘴71具有如下结构：能够从喷出口711沿铅垂下方即(-Z) 方向朝向一边由浮起工作台部3浮起一边沿X方向搬运的基板S的表面Sf 喷出涂敷液。具体而言，喷嘴71具有被省略图示的喷嘴支撑体固定支撑的喷嘴主体部75和相比喷嘴主体部75更向下方突出的唇部76。

唇部76在从其长度方向即Y方向的侧面观察时具有顶端细的凸形状，该唇部76具有设置在其顶端(下端)的顶端面761、形成于顶端面761的(+X) 侧的唇侧面762a、以及形成于顶端面761的(-X)侧的唇侧面762b。在下面的说明中，在不区分唇侧面762a和唇侧面762b时，将它们简称为唇侧面 762。

若从未图示的供给机构向这样构成的喷嘴71压送涂敷液，则经由形成于喷嘴主体部75的内部的内部流路向喷出口711输送液体，并从喷出口711 向(-Z)方向喷出。这样，若一边从喷嘴71的喷出口711喷出涂敷液一边对基板S执行涂敷动作，则有时在喷嘴71的喷出口711的周围部分(唇部 76)附着有涂敷液。附着的涂敷液干燥后变为残渣，若置之不理，则将成为妨碍良好喷出、污染形成于基板S的膜的原因。因此，在涂敷装置1中，通过维护单元8来执行去除该附着物的喷嘴清扫处理。另外，通过维护单元8 执行上述预喷出处理。

图3是表示维护单元的外观的立体图。另外，图4是示意性地表示维护单元的内部结构的立体图。如图4所示，维护单元8具有从喷嘴71去除剩余涂敷液的喷嘴净化器81、以及回收由喷嘴净化器81去除的涂敷液的涂敷液回收部82。喷嘴净化器81具有与日本特开2017-209633号公报所记载的装置同样的结构。即，喷嘴净化器81具有去除部811和驱动部812，所述去除部811以能够沿着喷嘴71的唇部76自由往复移动的方式设置，去除附着于唇部76的附着物，所述驱动部812向清扫方向Dc驱动去除部811。其中，清扫方向Dc是与(+Y)方向平行的方向，驱动部812能够使去除部811在 Y方向上往复移动。

而且，喷嘴净化器81具有供给用于喷嘴71的唇部76的净化的冲洗液的冲洗液供给机构(省略图示)。该冲洗液供给机构经由其顶端安装于去除部811的挠性的冲洗液供给管向去除部811供给冲洗液。

去除部811主要具有喷嘴清扫构件813和支撑部814，所述喷嘴清扫构件813具有加工为能够与喷嘴71卡合的形状的倾斜面，所述支撑部814支撑喷嘴清扫构件813。此外，图4中示出了去除部811位于比喷嘴71的清扫方向Dc的上游侧端部更靠近清扫方向Dc的上游侧的位置时的喷嘴71及去除部811的结构。

去除部811具有喷液器813A及刮除器813B这两种喷嘴清扫构件813。所述喷嘴清扫构件813中的喷液器813A承担将冲洗液涂敷扩散于喷嘴71的唇部76的冲洗液供给功能，刮除器813B承担在喷液器813A的清扫方向Dc 的上游侧从喷嘴71的唇部76去除冲洗液的除液功能。由此，能够将喷嘴71 的唇部76的附着物与冲洗液一起去除。即，在干燥而固化的涂敷液等附着物附着于唇部76的倾斜面的情况下，由喷液器813A涂敷扩散的冲洗液在一定程度上溶解附着物，包含该溶解物(附着物)的冲洗液被刮除器813B去除。这样，喷嘴清扫构件813利用喷液器813A及刮除器813B，执行从喷嘴 71的唇部76去除附着物的喷嘴清扫处理。

如图4所示，喷液器813A及刮除器813B通过两个紧固金属件例如螺栓以能够自由装卸的方式固定于支撑部814。即，支撑部814具有能够在Z方向上升降的升降部815、在升降部815的上表面上沿Z方向立设且在X方向上排列的两个柱部816A、816B。并且，喷液器813A紧固于柱部816A、816B 中的清扫方向Dc的下游侧的柱部816A的上端，刮除器813B紧固于清扫方向Dc的上游侧的柱部816B的上端。

支撑部814在这样固定有各个喷嘴清扫构件813的升降部815的下方具有基座部817。并且，升降部815以能够升降的方式被基座部817支撑。即，在支撑部814设置有从基座部817的上表面沿Z方向立设的导轨818和设置在基座部817与升降部815之间的施力构件819(例如，压缩弹簧)。并且，导轨818沿Z方向引导升降部815的移动，并且，施力构件819相对于基座部817对升降部815向上方施力。因此，通过施力构件819的作用力，对固定于升降部815的各个喷嘴清扫构件813向上方施力。

另外，支撑部814的基座部817安装于驱动部812。该驱动部812具有根据来自维护控制机构83的动作指令使各个喷嘴清扫构件813沿Y方向移动的功能。通过使各个喷嘴清扫构件813从下方接近位于喷嘴清扫位置的喷嘴71的唇部76，并通过驱动部812使各个喷嘴清扫构件813沿Y方向移动，能够净化去除附着于喷嘴71的唇部76的剩余的涂敷液。

为了回收这样去除的剩余的涂敷液，在喷嘴清扫位置(图6中的附图标记Pnc)，在喷嘴71及去除部811的铅垂下方配置涂敷液回收部82。该涂敷液回收部82具有箱形的容器821。该容器821上方开放，并且具有比喷嘴71 的喷出口711的长度方向X的尺寸即喷出口范围71R(图2)大的宽度，并且具有以从下方侧覆盖去除部811的移动范围的方式配置的槽822。另外，在槽822的内底面，在角部设置有排出口823，并且与排出口823相邻地载置有膜支撑构件824。通过这样设置膜支撑构件824，膜支撑构件824的上表面824a作为容器821的内底面的一部分发挥作用。

槽822能够容纳从在喷嘴清扫位置待机的喷嘴71的喷出口711喷出的涂敷液、由去除部811去除的涂敷液及冲洗液等，被容纳的涂敷液等经由排出口823从槽822排出。但是，若直接用槽822收集涂敷液等，则这些涂敷液等会固定附着于槽822，从而需要清扫槽822。

因此，在涂敷液回收部82，在执行涂敷前处理(＝预喷出处理+喷嘴清扫处理)前，进行相当于本实用新型的“处理液回收准备工序”的作业，在维护单元8配置带状膜825。更详细地说，如图4所示，在设置有排出口823 的(-Y)方向侧区域之外，在容器821的内侧配置膜825，利用该膜825收集涂敷液等并向排出口823引导。更详细地说，膜825设置为，呈宽度大于喷出口范围71R(图2)的带状，从下方包围由驱动部812驱动的去除部811。在与喷出口711的长度方向X正交的宽度方向Y上，膜825的中央部825a 配置为与容器821的内底面(在本实施方式中，膜支撑构件824的上表面824a 相当于该内底面)相抵接，并覆盖去除部811的下表面。此外，通过在膜825 的中央部825a与膜支撑构件824的上表面824a之间设置双面胶带，或者，与膜支撑构件824的上表面824a的端部相对应地将磁铁等设置在膜825的中央部825a上，从而可以使膜825的中央部825a与膜支撑构件824的上表面824a紧贴。

另外，从中央部825a向(-X)方向延伸的膜端部825b与去除部811的 (-X)方向侧面相对地立起。并且，如图3所示，其顶端部与槽822的(-X) 方向侧的上缘部相结合，并且通过磁体板等卡止构件826固定。此外，在图 3中，为了明确卡止构件826的形状及配置位置等，标注了点。

另一方面，从中央部825a沿(+X)方向延伸的膜端部825c以随着向上方延伸而在(+X)方向上远离去除部811的(+X)方向侧面的方式立起。并且，如图3所示，其顶端部与槽822的(+X)方向侧的上缘部相结合，并通过磁体板等卡止构件826被固定。

从下方包围去除部811的膜825的中央部825a虽然与膜支撑构件824 的上表面824a抵接，但是，如图4所示，上表面824a被加工为朝向排出口 823倾斜。因此，如接下来说明的那样，在涂敷前处理中从喷嘴71去除的涂敷液等首先掉落至膜825的中央部825a并被挡住。然后，通过膜支撑构件 824的上表面824a的倾斜，使得涂敷液等在中央部825a上朝向排出口823 流动，并从排出口823排出。另外，如接下来说明的那样，在将喷嘴71定位于预喷出位置(图6中的附图标记Ppd)来进行预喷出处理时，从喷嘴71 的喷出口711喷出的涂敷液掉落至膜825的膜端部825c并被挡住。然后，通过膜端部825c的倾斜及膜支撑构件824的上表面824a的倾斜，涂敷液在膜825的膜端部825c及中央部825a上朝向排出口823流动，并从排出口823 排出。

图5是表示在图1所示基板处理装置中执行的涂敷前处理的流程图。另外，图6是示意性地表示在涂敷前处理中所执行的预喷出处理、喷嘴清扫处理及涂敷处理的图。在该涂敷装置1中，如图6中的(c)栏所示，在将喷嘴71定位于涂敷位置Pct的状态下来执行，但是，在执行该涂敷处理前，通过控制单元9控制装置各部，执行下面说明的涂敷前处理(步骤S101～ S110)。

在步骤S101中，如图6中的(a)栏所示，喷嘴71接受定位机构79的驱动而移动至预喷出位置Ppd。该预喷出位置Ppd被设定为膜825的膜端部 825c的铅垂上方。因此，被定位于预喷出位置Ppd的喷嘴71的喷出口711 与膜端部825c相对。以该相对状态，喷嘴71从喷出口711喷出规定量的涂敷液(步骤S102)。此为预喷出处理，其目的在于，在涂敷处理前使涂敷液充满喷出口711的整个区域。如图6中的(a)栏中的虚线所示，通过该预喷出处理从喷嘴71喷出的涂敷液掉落至膜端部825c并被挡住。然后，该涂敷液通过膜端部825c的倾斜及膜支撑构件824的上表面824a的倾斜，在膜 825的膜端部825c及中央部825a上朝向排出口823流动，并从排出口823 排出。

在预喷出处理结束后，执行相当于本实用新型的“处理液去除工序”的一个例子的喷嘴清扫工序(步骤S103～S109)。即，在步骤S103中，如图 1的实线所示，喷嘴71接受定位机构79的驱动而向喷嘴清扫位置Pnc移动。此外，如图4所示，去除部811接受驱动部812的驱动而向喷嘴71的(-Y) 方向侧移动来进行喷嘴清扫处理的准备，直至该喷嘴移动结束。因此，当喷嘴71被定位于喷嘴清扫位置Pnc时，喷嘴清扫构件813(＝喷液器813A+ 刮除器813B)位于在(-Y)方向上与喷嘴71的唇部76分离的位置。

在接下来的步骤S104中，去除部811接受驱动部812的驱动而向喷嘴清扫方向即(+Y)方向移动，位于喷嘴清扫方向上的喷嘴71的上游端部即 (-Y)方向端部。然后，喷嘴71接受定位机构79的驱动而下降至比预喷出处理时的高度位置低的位置(步骤S105)。此时，若喷嘴71开始下降，则喷嘴71的唇部76与刮除器813B之间的间隔变小，唇部76的唇侧面762a、762b与刮除器813B的倾斜面相接触。喷嘴71进一步下降，克服施力构件 819的作用力而向下方按压刮除器813B。另外，喷液器813A以进入其两倾斜面之间的唇部76的唇侧面762a、762b与喷液器813A的倾斜面之间保持恒定的间隔(省略图示)的状态，与刮除器813B一起向下方移动。这样一来，刮除器813B的倾斜面615通过施力构件819的作用力被推压至唇部76的唇侧面762a、762b，并且喷液器813A的倾斜面615与唇部76的唇侧面 762a、762b之间确保恒定的间隔。

这样一来，若喷嘴71的下降结束，则从冲洗液喷液器813A的液供给孔 (省略图示)喷出冲洗液，开始向喷嘴71的唇部76与喷液器813A之间供给冲洗液(步骤S106)。优选地，该冲洗液的每单位时间的供给量为将冲洗液的液面维持在唇部76的顶端面25的上方，并且在唇部76的唇侧面762a、 762b上附着冲洗液的程度。此外，作为冲洗液，能够使用各种液体，例如，可以是组成涂敷液的溶剂。在该情况下，在溶剂即冲洗液中溶解了溶质而成的溶液为涂敷液。

接下来，驱动部812向清扫方向(+Y)驱动去除部811，从而开始使喷液器813A及刮除器813B向清扫方向(+Y)移动的构件移动动作(步骤S107)。在该构件移动动作的执行过程中，持续供给来自液供给孔的冲洗液。因此，喷液器813A一边使从液供给孔供给的冲洗液在唇部76的唇侧面762a、762b 上扩散，一边向清扫方向(-X)移动。其结果，在清扫方向(+Y)上的喷液器813A与刮除器813B之间，冲洗液被涂敷扩散至唇部76的唇侧面762a、 762b。

另外，在构件移动动作中，以其倾斜面615抵接并向清扫方向(+Y)移动的刮除器813B将被喷液器813A扩散的冲洗液从唇部76的唇侧面762a、 762b去除。此时，被喷液器813A扩散的冲洗液通过毛细管现象进入刮除器 813B的倾斜面615与唇部76的唇侧面762a、762b之间的微小的间隙中。这样一来，冲洗液布满刮除器813B的倾斜面615与唇部76的唇侧面762a、762b 之间，缓和在它们之间产生的摩擦力。另外，与冲洗液的去除并行，刮除器813B刮取从喷嘴71的喷出口711向下方突出的涂敷液，沿清扫方向(+Y) 使充满喷出口711的涂敷液的下部平整。

如图6中的(b)栏所示，在这样执行对喷嘴71的喷嘴清扫处理期间，从喷嘴71去除供给至唇部76的冲洗液及附着在唇部76的剩余的涂敷液。并且，如图中虚线所示，被去除的涂敷液等首先掉落至膜825的中央部825a 而被挡住。然后，涂敷液等通过膜支撑构件824的上表面824a的倾斜，在中央部825a上朝向排出口823流动，并从排出口823排出。

然后，若去除部811到达清扫结束位置，喷液器813A及刮除器813B 移动至比喷嘴71更靠清扫方向(+Y)下游侧的位置，则驱动部812使去除部811停止(步骤S108)。另外，停止供给来自液供给孔610的冲洗液(步骤S109)，涂敷前处理结束。接下来，进行涂敷处理。

如上所述，根据本实施方式，使膜825的中央部825a与容器821的内底面(在本实施方式中为膜支撑构件824的上表面)相抵接，通过整个中央部825a挡住被去除部811去除的涂敷液等。这样一来，该涂敷液等在膜825 的中央部825a上立即朝向排出口823流动，并经由排出口823被回收。因此，能够有效地防止回收剩余的涂敷液等时涂敷液等的飞散。另外，能够稳定地进行涂敷液的回收。

另外，在本实施方式中，由于通过膜支撑构件824支撑膜825的中央部 825a整体，因此，能够有效抑制膜825的中央部825a的起皱，从而能够防止涂敷液等的滞留。其结果，能够提高涂敷液等的防飞散效果以及涂敷液等的稳定回收。

另外，在膜825的宽度方向Y上，膜825的中央部825a与容器821的内底面(在本实施方式中为膜支撑构件824的上表面)相抵接而从下方面状地覆盖去除部811，并且膜825的两个膜端部825b、825c分别从膜825的中央部825a立起而从侧方包围去除部811。这样一来，膜825从下方包围去除部811，因此，能够使喷嘴71及去除部811接近膜825。其结果，能够缩短从喷嘴去除剩余的处理液所需的时间。

而且，在本实施方式中，如图1及图6所示，膜825的(+X)方向侧的膜端部825c超过预喷出位置Ppd的正下方位置而向(+X)方向延伸设置，并且，形成朝向膜825的中央部825a下降的倾斜面。因此，在预喷出处理时，能够通过膜825的(+X)方向侧的膜端部825c挡住从喷嘴71喷出的涂敷液，使该涂敷液在膜825上朝向排出口823流动，并经由排出口823稳定地回收该涂敷液。

在如上所述的上述实施方式中，涂敷液相当于本实用新型的“处理液”的一个例子，去除部811相当于本实用新型的“处理液去除部”的一个例子，维护单元8相当于本实用新型的“处理液回收部”的一个例子。基板S的表面Sf相当于本实用新型的“基板的上表面”。另外，涂敷位置Pct、预喷出位置Ppd及喷嘴清扫位置Pnc分别相当于本实用新型的“基板处理位置”、“第二喷嘴待机位置”及“第一喷嘴待机位置”。另外，膜支撑构件824的上表面824a相当于本实用新型“倾斜部位”的一个例子。膜端部825b、825c 分别相当于本实用新型的“膜的一个端部”及“膜的另一个端部”。

此外，本实用新型并不限于上述实施方式，只要不脱离该主旨，能够进行上述实施方式以外的各种变更。例如，在上述实施方式中，使用膜825的膜端部825c执行预喷出处理，但是，在维护单元8执行预喷出处理并非必须内容，而是任意的。例如，如图7所示，可以使膜端部825c构成为，与膜端部825b同样，与去除部811的(+X)方向侧面相对地立起，在维护单元8仅执行喷嘴清扫处理。

另外，在上述实施方式中，在槽822的内部配置膜支撑构件824，使膜支撑构件824的上表面824a作为本实用新型的“容器的内底面”的一个例子发挥作用，但是，也可以以如下方式构成。如图8所示，可以设置使槽822 的内底面的一部分向上方突起的突起部位822a，将突起部位822a的上表面 822b加工为倾斜面，来作为本实用新型的“倾斜部位”发挥作用，以取代膜支撑构件824。

另外，在上述实施方式中，作为用于从喷嘴71去除涂敷液的喷嘴清扫构件813，使用喷液器813A及刮除器813B，但是，也可以仅使用刮除器813B。

此外，在上述实施方式中，向基板S的表面Sf供给涂敷液的涂敷装置1 适用本实用新型，但是，本实用新型的适用对象并不限于此，能够适用于从喷嘴的狭缝状喷出口向基板的上表面供给处理液来实施规定的处理的全部基板处理装置。

本实用新型能够适用从喷嘴向基板供给处理液而进行涂敷处理等的全部基板处理技术。

Claims (7)

1.一种基板处理装置，其特征在于，

具有：

喷嘴，具有狭缝状的喷出口，在与第一喷嘴待机位置分离的基板处理位置从所述喷出口向基板的上表面供给处理液；

处理液去除部，在所述第一喷嘴待机位置，在使刮除器与所述喷嘴的顶端侧面抵接的状态下使所述刮除器沿所述喷出口的长度方向移动，从所述喷嘴去除剩余的所述处理液；以及

处理液回收部，回收由所述处理液去除部去除的所述处理液，

所述处理液回收部具有：

容器，呈上方开放且具有比所述喷出口的所述长度方向的尺寸大的宽度的箱形，在所述第一喷嘴待机位置设置在所述喷出口及所述处理液去除部的下方；

膜，呈在所述长度方向上具有比所述喷出口大的尺寸的带状，在与所述长度方向正交的宽度方向上，中央部与所述容器的内底面抵接并且两端部立起，从下方包围所述处理液去除部。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

所述处理液回收部具有排出回收的所述处理液的排出口，

所述容器的内底面具有朝向所述排出口倾斜的倾斜部位，所述内底面以将流动至所述膜的中央部的所述处理液向所述排出口引导的方式支撑所述膜的中央部。

3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，

所述容器具有：

槽，上方开放；

膜支撑构件，以上表面成为所述倾斜部位的方式设置在所述槽的内部。

4.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，

在所述容器的底部设置有向上方突起的突起部位，所述突起部位的上表面被加工为倾斜面来作为所述倾斜部位发挥作用。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，

在所述宽度方向上，所述膜的所述中央部以覆盖所述处理液去除部的下表面的方式配置，

所述膜的一个端部与所述处理液去除部的一侧面相对地立起，所述膜的另一个端部以随着向上方延伸而远离所述处理液去除部的另一侧面的方式立起。

6.根据权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，

当所述喷嘴位于第二喷嘴待机位置时，所述膜的另一个端部位于所述喷出口的正下方，挡住从所述喷出口喷出的所述处理液，并将所述处理液向所述膜的所述中央部引导。

7.根据权利要求1～4中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，

在所述宽度方向上，所述膜的所述中央部以覆盖所述处理液去除部的下表面的方式配置，

所述膜的一个端部与所述处理液去除部的一侧面相对地立起，所述膜的另一个端部与所述处理液去除部的另一侧面相对地立起。

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