JP6845077B2 - 塗布装置、塗布方法およびノズル - Google Patents

Description

この発明は、液晶表示装置用ガラス基板、半導体基板、ＰＤＰ用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、カラーフィルター用基板、記録ディスク用基板、太陽電池用基板、電子ペーパー用基板等の精密電子装置用基板、矩形ガラス基板、フィルム液晶用フレキシブル基板、有機ＥＬ用基板（以下、単に「基板」と称する）に対してノズルの先端部に設けられた吐出口から塗布液を吐出して塗布する塗布装置、塗布方法およびノズルに関するものである。

従来、基板に対して塗布液を塗布するために、例えば特許文献１に記載されているように塗布液を吐出口から吐出するノズルが一般に用いられている。このようなノズルでは、吐出口が設けられた先端部の側面に付着し、乾燥して硬化した塗布液等の付着物が落下して基板を汚す場合があった。そこで、例えば特許文献２に記載されている塗布液の除去技術が用いられている。特許文献２に記載のスリットコータ（塗布装置）では、ノズルによる塗布の開始前にノズル清掃処理が実行される。このノズル清掃処理では、拭き取りヘッドに設けられたノズル当接部材をノズルの先端部に当接させるまま拭き取りヘッドをノズルに対して相対移動させることで、ノズルの先端部の側面に付着した塗布液を除去する。

特許第５３４６６４３号公報 特許第５７６６９９０号公報 特開２０１３−１８４０８５号公報

ところで、上記スリットコータでは、ノズルの先端部に設けられる吐出口の幅は基板上に塗布すべき塗布領域のサイズに合わせて設定されている。そして、塗布開始時には、吐出口が基板の塗布領域の直上に近接するようにノズルが配置された後で、塗布液が吐出口から吐出される。このとき、ノズルの先端部のうち吐出口に隣接する部位も基板と近接している。このため、基板に着液した塗布液の一部が毛細管現象により塗布領域の外側に広がり、基板側面もしくは裏面まで塗布液が達してしまうことがある。このような液こぼれ現象により、スリットコータが汚染されてしまうことがあった。

そこで、例えば特許文献３に記載されているように吐出口に隣接する部位をノズルの吐出口の位置よりもノズル本体側（基板と対向する方向と反対側）に切り取り、切欠部や段差部などを設けるという対策が考えられている。しかしながら、ノズルによる塗布の開始前に、拭き取りヘッドを吐出口の延長線上の外側からノズルの先端部に移動させてノズル当接部材を当接させ、さらに先端部に沿って摺動させる必要がある。このとき、拭き取りヘッドに設けられたノズル当接部材が切欠部や段差部などに接触し、ノズル当接部材やノズルが激しく摩耗したり、破損したりする可能性がある。その結果、ノズルやノズル当接部材の交換周期が短くなり、このことがランニングコストやメンテナンス性を低下させる主要因のひとつとなってしまう。

この発明は上記課題に鑑みなされたものであり、ノズル清掃処理におけるノズルやノズル当接部材の摩耗および破損を抑制しつつ当該ノズルにより塗布液を適正範囲に塗布することができる塗布技術ならびにノズルを提供することを目的とする。

この発明の第１の態様は、塗布装置であって、ノズル本体部の先端部に設けられたスリット状の吐出口から塗布液を吐出するノズルと、先端部に当接可能な凹部を有するノズル当接部材と、ノズルに対してノズル当接部材を吐出口の延設方向の一方側から他方側に相対的に移動させる駆動部とを備え、先端部は、吐出口が形成された吐出口形成部と、
吐出口形成部の一方側端部から延設方向の一方側かつ塗布液が吐出される方向の反対側に延びる傾斜部とを有し、駆動部は、ノズル当接部材の凹部を傾斜部に当接させるとともにノズル当接部材を傾斜部に沿って吐出口形成部に相対的に移動させた後で、凹部を吐出口形成部に当接させながらノズル当接部材を相対的に移動させ、先端部は、吐出口形成部の他方側で塗布液が吐出される方向の反対側に延びる段差部を有することを特徴としている。

また、この発明の第２の態様は、塗布方法であって、ノズル本体部の先端部に設けられたスリット状の吐出口から塗布液を吐出して塗布する塗布工程と、ノズル当接部材を先端部に当接させながら吐出口の延設方向の一方側から他方側に相対的に移動させてノズル当接部材により先端部を清掃する清掃工程とを備え、塗布工程は、吐出口が形成された吐出口形成部と、
吐出口形成部の一方側から延設方向の一方側かつ塗布液が吐出される方向の反対側に延びる傾斜部と、吐出口形成部の他方側で塗布液が吐出される方向の反対側に延びる段差部と、が先端部に設けられたノズルを用いて行われ、清掃工程は、ノズル当接部材の凹部を傾斜部に当接させるとともにノズル当接部材を傾斜部に沿って吐出口形成部に相対的に移動させた後で、凹部を吐出口形成部に当接させながらノズル当接部材を相対的に移動させて行われることを特徴としている。

さらに、この発明の第３の態様は、ノズル本体部の先端部に設けられたスリット状の吐出口から塗布液を吐出した後で、吐出口の延設方向の一方側から他方側に相対的に移動するノズル当接部材により先端部に付着した塗布液が掻き取られるノズルであって、先端部は、吐出口が形成された吐出口形成部と、
吐出口形成部の一方側端部から延設方向の一方側かつ塗布液が吐出される方向の反対側に延びる傾斜部と、吐出口形成部の他方側で塗布液が吐出される方向の反対側に延びる段差部と、を有し、傾斜部が延設方向に沿って相対的に移動するノズル当接部材と当接して吐出口形成部に案内することを特徴としている。

このように構成された発明では、吐出口形成部に設けられた吐出口の延設方向において吐出口形成部の一方側に傾斜部が設けられている。この傾斜部は、延設方向の一方側かつ塗布液の吐出方向の反対側に延び、吐出口形成部の一方側端部での毛細管現象による塗布液の広がりを防止する。しかも、傾斜部はノズル当接部材と当接しながらノズル当接部材を吐出口形成部に円滑に案内する。

以上のように、吐出口形成部の一方側、つまりノズル当接部材によりノズル清掃を開始する側に傾斜部を設けているので、ノズル清掃処理におけるノズルやノズル当接部材の摩耗および破損を抑制することができるとともに、吐出口形成部の一方側端部での塗布液の広がりを抑え、塗布液を適正範囲に塗布することが可能となっている。

本発明にかかる塗布装置の一実施形態の全体構成を模式的に示す図である。 ノズルの斜め下方から見た斜視図である。 ノズルクリーナの構成を示す斜視図である。 図３Ａに示すノズルクリーナの部分拡大斜視図である。 ノズルクリーナのスプレッダを示す斜視図である。 ノズルクリーナによるノズル清掃処理の一例を示すフローチャートである。 図５のフローチャートに従って実行される動作を模式的に示す正面図である。 清掃方向の下流側から見たときのノズルのリップ部とスクレーパとの位置関係を模式的に示す図である。

図１は本発明にかかる塗布装置の一実施形態の全体構成を模式的に示す図である。この塗布装置１は、図１の左手側から右手側に向けて水平姿勢で搬送される基板Ｗの上面Ｗｆに塗布液を塗布するスリットコータである。なお、以下の各図において装置各部の配置関係を明確にするために、基板Ｗの搬送方向を「Ｘ方向」とし、図１の左手側から右手側に向かう水平方向を「＋Ｘ方向」と称し、逆方向を「−Ｘ方向」と称する。また、Ｘ方向と直交する水平方向Ｙのうち、装置の正面側を「−Ｙ方向」と称するとともに、装置の背面側を「＋Ｙ方向」と称する。さらに、鉛直方向Ｚにおける上方向および下方向をそれぞれ「＋Ｚ方向」および「−Ｚ方向」と称する。

まず図１を用いてこの塗布装置１の構成および動作の概要を説明し、その後でメンテナンスユニットのより詳細な構造について説明する。なお、塗布装置１の基本的な構成や動作原理は、本願出願人が先に開示した特許文献１に記載されたものと共通している。そこで、本明細書では、塗布装置１の各構成のうちこれらの公知文献に記載のものと同様の構成を適用可能なもの、およびこれらの文献の記載から構造を容易に理解することのできるものについては詳しい説明を省略し、本実施形態の特徴的な部分を主に説明することとする。

塗布装置１では、基板Ｗの搬送方向Ｄｔ（＋Ｘ方向）に沿って、入力コンベア１００、入力移載部２、浮上ステージ部３、出力移載部４、出力コンベア１１０がこの順に近接して配置されており、以下に詳述するように、これらにより略水平方向に延びる基板Ｗの搬送経路が形成されている。なお、以下の説明において基板Ｗの搬送方向Ｄｔと関連付けて位置関係を示すとき、「基板Ｗの搬送方向Ｄｔにおける上流側」を単に「上流側」と、また「基板Ｗの搬送方向Ｄｔにおける下流側」を単に「下流側」と略することがある。この例では、ある基準位置から見て相対的に（−Ｘ）側が「上流側」、（＋Ｘ）側が「下流側」に相当する。

処理対象である基板Ｗは図１の左手側から入力コンベア１００に搬入される。入力コンベア１００は、コロコンベア１０１と、これを回転駆動する回転駆動機構１０２とを備えており、コロコンベア１０１の回転により基板Ｗは水平姿勢で下流側、つまり（＋Ｘ）方向に搬送される。入力移載部２は、コロコンベア２１と、これを回転駆動する機能および昇降させる機能を有する回転・昇降駆動機構２２とを備えている。コロコンベア２１が回転することで、基板Ｗはさらに（＋Ｘ）方向に搬送される。また、コロコンベア２１が昇降することで基板Ｗの鉛直方向位置が変更される。このように構成された入力移載部２により、基板Ｗは入力コンベア１００から浮上ステージ部３に移載される。

浮上ステージ部３は、基板の搬送方向Ｄｔに沿って３分割された平板状のステージを備える。すなわち、浮上ステージ部３は入口浮上ステージ３１、塗布ステージ３２および出口浮上ステージ３３を備えており、これらの各ステージの上面は互いに同一平面の一部をなしている。入口浮上ステージ３１および出口浮上ステージ３３のそれぞれの上面には浮上制御機構３５から供給される圧縮空気を噴出する噴出孔がマトリクス状に多数設けられており、噴出される気流から付与される浮力により基板Ｗが浮上する。こうして基板Ｗの下面Ｗｂがステージ上面から離間した状態で水平姿勢に支持される。基板Ｗの下面Ｗｂとステージ上面との距離、つまり浮上量は、例えば１０マイクロメートルないし５００マイクロメートルとすることができる。

一方、塗布ステージ３２の上面では、圧縮空気を噴出する噴出孔と、基板Ｗの下面Ｗｂとステージ上面との間の空気を吸引する吸引孔とが交互に配置されている。浮上制御機構３５が噴出孔からの圧縮空気の噴出量と吸引孔からの吸引量とを制御することにより、基板Ｗの下面Ｗｂと塗布ステージ３２の上面との距離が精密に制御される。これにより、塗布ステージ３２の上方を通過する基板Ｗの上面Ｗｆの鉛直方向位置が規定値に制御される。浮上ステージ部３の具体的構成としては、例えば特許第５３４６６４３号（特許文献１）に記載のものを適用可能である。なお、塗布ステージ３２での浮上量については後で詳述するセンサ６１、６２による検出結果に基づいて制御ユニット９により算出され、また気流制御によって高精度に調整可能となっている。

なお、入口浮上ステージ３１には、図には現れていないリフトピンが配設されており、浮上ステージ部３にはこのリフトピンを昇降させるリフトピン駆動機構３４が設けられている。

入力移載部２を介して浮上ステージ部３に搬入される基板Ｗは、コロコンベア２１の回転により（＋Ｘ）方向への推進力を付与されて、入口浮上ステージ３１上に搬送される。入口浮上ステージ３１、塗布ステージ３２および出口浮上ステージ３３は基板Ｗを浮上状態に支持するが、基板Ｗを水平方向に移動させる機能を有していない。浮上ステージ部３における基板Ｗの搬送は、入口浮上ステージ３１、塗布ステージ３２および出口浮上ステージ３３の下方に配置された基板搬送部５により行われる。

基板搬送部５は、基板Ｗの下面周縁部に部分的に当接することで基板Ｗを下方から支持するチャック機構５１と、チャック機構５１上端の吸着部材に設けられた吸着パッド（図示省略）に負圧を与えて基板Ｗを吸着保持させる機能およびチャック機構５１をＸ方向に往復走行させる機能を有する吸着・走行制御機構５２とを備えている。チャック機構５１が基板Ｗを保持した状態では、基板Ｗの下面Ｗｂは浮上ステージ部３の各ステージの上面よりも高い位置に位置している。したがって、基板Ｗは、チャック機構５１により周縁部を吸着保持されつつ、浮上ステージ部３から付与される浮力により全体として水平姿勢を維持する。なお、チャック機構５１により基板Ｗの下面Ｗｂを部分的に保持した段階で基板Ｗの上面の鉛直方向位置を検出するために板厚測定用のセンサ６１がコロコンベア２１の近傍に配置されている。このセンサ６１の直下位置に基板Ｗを保持していない状態のチャック（図示省略）が位置することで、センサ６１は吸着部材の上面、つまり吸着面の鉛直方向位置を検出可能となっている。

入力移載部２から浮上ステージ部３に搬入された基板Ｗをチャック機構５１が保持し、この状態でチャック機構５１が（＋Ｘ）方向に移動することで、基板Ｗが入口浮上ステージ３１の上方から塗布ステージ３２の上方を経由して出口浮上ステージ３３の上方へ搬送される。搬送された基板Ｗは、出口浮上ステージ３３の（＋Ｘ）側に配置された出力移載部４に受け渡される。

出力移載部４は、コロコンベア４１と、これを回転駆動する機能および昇降させる機能を有する回転・昇降駆動機構４２とを備えている。コロコンベア４１が回転することで、基板Ｗに（＋Ｘ）方向への推進力が付与され、基板Ｗは搬送方向Ｄｔに沿ってさらに搬送される。また、コロコンベア４１が昇降することで基板Ｗの鉛直方向位置が変更される。コロコンベア４１の昇降により実現される作用については後述する。出力移載部４により、基板Ｗは出口浮上ステージ３３の上方から出力コンベア１１０に移載される。

出力コンベア１１０は、コロコンベア１１１と、これを回転駆動する回転駆動機構１１２とを備えており、コロコンベア１１１の回転により基板Ｗはさらに（＋Ｘ）方向に搬送され、最終的に塗布装置１外へと払い出される。なお、入力コンベア１００および出力コンベア１１０は塗布装置１の構成の一部として設けられてもよいが、塗布装置１とは別体のものであってもよい。また例えば、塗布装置１の上流側に設けられる別ユニットの基板払い出し機構が入力コンベア１００として用いられてもよい。また、塗布装置１の下流側に設けられる別ユニットの基板受け入れ機構が出力コンベア１１０として用いられてもよい。

このようにして搬送される基板Ｗの搬送経路上に、基板Ｗの上面Ｗｆに塗布液を塗布するための塗布機構７が配置される。塗布機構７はスリットノズルであるノズル７１を有している。ノズル７１には、図示しない塗布液供給部から塗布液が供給され、ノズル下部に下向きに開口する吐出口から塗布液が吐出される。

ノズル７１は、位置決め機構７９によりＸ方向およびＺ方向に移動位置決め可能となっている。位置決め機構７９により、ノズル７１が塗布ステージ３２の上方の塗布位置（点線で示される位置）に位置決めされる。塗布位置に位置決めされたノズルから塗布液が吐出されて、塗布ステージ３２との間を搬送されてくる基板Ｗに塗布される。こうして基板Ｗへの塗布液の塗布が行われる。

ノズル７１に対しメンテナンスを行うためのメンテナンスユニット８が設けられている。メンテナンスユニット８は、バット８ａ内に設けられた、洗浄液貯留槽８ｂと、ノズルクリーナ８ｃと、洗浄液貯留槽８ｂおよびノズルクリーナ８ｃの動作を制御するメンテナンス制御機構８ｄとを備えている。

ノズル７１がノズルクリーナ８ｃの上方位置（ノズル清掃位置）にある状態では、ノズルクリーナ８ｃによりノズル７１の吐出口の周囲に付着した塗布液が除去される。このように塗布位置へ移動させる前のノズル７１に対して清掃処理を行わせることにより、塗布位置での塗布液の吐出をその初期段階から安定させることができる。なお、ノズル７１およびノズルクリーナ８ｃの詳しい構成、ならびにノズルクリーナ８ｃによるノズル７１のノズル清掃処理については後で詳述する。

また、位置決め機構７９は、ノズル７１をノズル下端が洗浄液貯留槽８ｂ内に貯留される洗浄液に接液する位置（待機位置）に位置決めすることが可能である。ノズル７１を用いた塗布処理が実行されないときには、ノズル７１はこの待機位置に位置決めされる。なお、上記洗浄液に超音波を付与してノズル下端を洗浄する構成としてもよい。

この他、塗布装置１には、装置各部の動作を制御するための制御ユニット９が設けられている。制御ユニット９は所定の制御プログラムや各種データを記憶する記憶手段、この制御プログラムを実行することで装置各部に所定の動作を実行させるＣＰＵなどの演算手段、ユーザや外部装置との情報交換を担うインターフェース手段などを備えている。本実施形態では、後述するように演算手段が装置各部を制御して上記ノズル清掃処理を実行する。

図２はノズルの斜め下方から見た斜視図である。なお、同面においては清掃対象となるノズル７１の吐出口７１１の近傍の構成を明確にするためにノズル先端の寸法を実際とは異ならせて示している。この点については後で説明する図３Ａや図３Ｂなどにおいても同様である。

このノズル７１はＹ方向に延びる長尺スリット状の開口部である吐出口７１１を有している。吐出口７１１はＹ方向においてノズル７１の全長より短い吐出口範囲７１Ｒで開口し、吐出口形成部７２の主要構成となっている。一方、ノズル７１のＹ方向の両端では吐出口７１１が開口せず、吐出口形成部７２の（＋Ｙ）側で傾斜部７３が設けられるとともに、（−Ｙ）側で段差部７４が設けられている。

このノズル７１は浮上ステージ部３により浮上されながらＸ方向に搬送される基板Ｗの上面Ｗｆに向けて吐出口７１１から鉛直下方、つまり（−Ｚ）方向に塗布液を吐出可能な構成を有する。具体的には、ノズル７１は、図示を省略するノズル支持体によって固定支持されるノズル本体部７５と、ノズル本体部７５より下方に突出するリップ部７６とを有している。そして、ノズル７１に対して塗布液が図外の供給機構から圧送されると、ノズル本体部７５の内部に形成される内部流路を経由して吐出口７１１に送液され、吐出口７１１から（−Ｚ）方向に吐出される。

リップ部７６は、その長手方向であるＹ方向からの側面視において先細りの凸形状を有し、その先端（下端）に設けられた先端面７６１と、先端面７６１の（＋Ｘ）側に形成されるリップ側面７６２ａと、（−Ｘ）側に形成されるリップ側面７６２ｂとを有している。以下の説明では、リップ側面７６２ａとリップ側面７６２ｂとを区別しないときは、単にリップ側面７６２と呼ぶ。また、リップ部７６には、上記した吐出口形成部７２、傾斜部７３および段差部７４が設けられている。

吐出口形成部７２では、上記先端面７６１の中央部で平坦状の先端面７２１が鉛直下方（−Ｚ方向）に向けて設けられ、当該先端面７２１に吐出口範囲７１Ｒの吐出口７１１が設けられている。

また、傾斜部７３は、吐出口形成部７２の（＋Ｙ）側端部Ｐ２から吐出口７１１の延設方向Ｙの（＋Ｙ）側かつ塗布液の吐出方向の反対側、つまり（＋Ｚ）側に延設されている。より詳しくは、リップ部７６の（＋Ｙ）側端部を斜め上方から切り欠き、鉛直下方から見たときに傾斜部７３が略三角形状（あるいは台形形状）を呈するように設けられている。このため、傾斜部７３ののうち鉛直下方を臨む傾斜面７３１のＸ方向寸法は吐出口７１１に近づくにつれて狭くなり、吐出口形成部７２の先端面７２１と接続する位置で先端面７２１のＸ方向寸法と一致する。

一方、吐出口形成部７２を挟んで傾斜部７３の反対側では、段差部７４が吐出口形成部７２の（−Ｙ）側端部Ｐ３から（＋Ｚ）側に延びて設けられている。つまり、段差部７４の表面７４１は吐出口形成部７２の先端面７２１を（−Ｙ）方向に延長させた仮想水平面よりも（＋Ｚ）方向に後退され、表面７４１と先端面７２１との間に段差が形成されている。

なお、図２中の符号Ｐ１は次に説明するノズルクリーナ８ｃのスクレーパがノズル清掃動作において最初に当接する傾斜面接触位置であり、符号Ｐ２はノズルクリーナ８ｃによる吐出口形成部７２のノズル清掃動作が開始される清掃開始位置、つまり吐出口７１１の（＋Ｙ）側端部の位置を示し、符号Ｐ３はノズルクリーナ８ｃによる吐出口形成部７２の吐出口終端位置、つまり吐出口７１１の（−Ｙ）側端部の位置を示している。

図３Ａはノズルクリーナの構成を示す斜視図であり、図３Ｂは図３Ａに示すノズルクリーナの部分拡大斜視図である。また、図４はノズルクリーナのスプレッダを示す斜視図である。ノズルクリーナ８ｃは、ノズル７１のリップ部７６に沿った清掃方向Ｄｃへノズル清掃部材８１を伴って移動することでリップ部７６に付着する付着物を除去する除去ユニット８ｃ１と、除去ユニット８ｃ１を清掃方向Ｄｃに駆動する駆動ユニット８ｃ２とを備えている。ここで、清掃方向Ｄｃは吐出口７１１の延設方向Ｙと平行で（＋Ｙ）側から（−Ｙ）側に向かう方向を意味しており、駆動ユニット８ｃ２は除去ユニット８ｃ１をＹ方向へ往復移動させることが可能となっている。なお、除去ユニット８ｃ１による除去対象となる付着物としては、ノズル７１のリップ部７６に付着しうる種々の物質が挙げられ、例えば塗布液の溶質が乾燥・固化したものがある。例えば塗布液がカラーフィルター用のフォトレジストである場合には、塗布液に含まれる顔料が付着物としてノズル７１のリップ部７６に付着する。

また図示を省略しているが、ノズルクリーナ８ｃは上記した除去ユニット８ｃ１および駆動ユニット８ｃ２以外に、洗浄部およびリンス液供給部を備えている。洗浄部は、ノズル清掃部材８１を密閉することで形成した密閉空間の内部でノズル清掃部材８１を洗浄するものである。つまり、洗浄部は、ノズル７１のリップ部７６に付着する付着物を拭き取って除去したノズル清掃部材８１に対して、上記密閉空間内で洗浄液を供給することでノズル清掃部材８１に付着する上記付着物を洗い流す。この洗浄部としては、例えば特開２０１４−１７６８１２号公報に記載されたものを用いることができる。また、リンス液供給部は、その先端が除去ユニット８ｃ１に取り付けられた可撓性のリンス液供給管を介して除去ユニット８ｃ１にリンス液を供給する機能を有している。

除去ユニット８ｃ１は主として、ノズル７１のリップ部７６に対応する凹部（本実施形態では略Ｖ字型のＶ字溝）を有するノズル清掃部材８１と、ノズル清掃部材８１を支持する支持部８２とを有する。なお、図３Ａでは、ノズル７１の清掃方向Ｄｃの上流側端部よりさらに清掃方向Ｄｃの上流側の位置に除去ユニット８ｃ１が位置するときの、ノズル７１および除去ユニット８ｃ１の構成が示されている。

除去ユニット８ｃ１は、スプレッダ８１Ａおよびスクレーパ８１Ｂの２種類のノズル清掃部材８１を有する。これらノズル清掃部材８１のうち、スプレッダ８１Ａはリンス液をノズル７１のリップ部７６に塗り広げるリンス液供給機能を担い、スクレーパ８１Ｂはスプレッダ８１Ａの清掃方向Ｄｃの上流側でノズル７１のリップ部７６からリンス液を除去する液切り機能を担う。これによって、ノズル７１のリップ部７６の付着物をリンス液とともに除去することができる。つまり、乾燥して固化した塗布液等の付着物がリップ側面７６２に付着している場合、スプレッダ８１Ａにより塗り広げられたリンス液が付着物をある程度溶解し、この溶解物（付着物）を含むリンス液がスクレーパ８１Ｂによって除去される。このようにノズル清掃部材８１は、スプレッダ８１Ａおよびスクレーパ８１Ｂを用いて、ノズル７１のリップ部７６から付着物を除去するノズル清掃処理を実行する。これらスプレッダ８１Ａおよびスクレーパ８１Ｂはリンス液を供給する液供給孔８１０の有無を除いて共通する外形を有する。そのため、図４ではスプレッダ８１Ａの外形が２種類のノズル清掃部材８１を代表して示されている。

図４に示すように、ノズル清掃部材８１は支持部８２により支持可能な本体８１１で構成されている。スクレーパ８１Ｂの本体８１１は例えば９００〜４０００ＭＰａ（メガパスカル）の弾性率を有する弾性体で形成されており、スプレッダ８１Ａの本体８１１はスクレーパ８１Ｂの本体８１１より硬い硬質体で形成されている。そして、本体８１１の中央部が支持部８２に支持される被支持部８１２となっている。本体８１１は、被支持部８１２から延設された延設部８１３を有し、この延設部８１３の先端に、略Ｖ字型の溝であるＶ字溝８１４が形成されている。Ｖ字溝８１４は、ノズル７１のリップ部７６に対応した形状をしており、リップ側面７６２ａに応じた傾斜を持った内側面８１５ａと、リップ側面７６２ｂに応じた傾斜を持った内側面８１５ｂとを有する。そして、スプレッダ８１Ａの各内側面８１５ａ、８１５ｂには、リンス液供給部のリンス液供給管が取り付けられた液供給孔８１０が形成されており、リンス液供給管を介して供給されたリンス液が液供給孔８１０から吐出される。一方、スクレーパ８１Ｂの各内側面８１５ａ、８１５ｂには液供給孔８１０が形成されていない。なお、以下において、内側面８１５ａ、８１５ｂを区別しないときには単に内側面８１５と称する。

このように構成された各ノズル清掃部材８１は図３Ａや図３Ｂに示すように２本の締結金具、例えばボルト８４によって支持部８２に着脱自在に固定される。つまり、支持部８２は、Ｚ方向に昇降可能な昇降部８２１と、昇降部８２１の上面にＺ方向へ立設されてＸ方向に並ぶ２本の柱部８２２Ａ、８２２Ｂとを有する。そして、柱部８２２Ａ、８２２Ｂのうち、清掃方向Ｄｃの下流側の柱部８２２Ａの上端に対してスプレッダ８１Ａが締結され、清掃方向Ｄｃの上流側の柱部８２２Ｂの上端に対してスクレーパ８１Ｂが締結されている。より具体的には、各ノズル清掃部材８１の被支持部８１２は、対応する柱部８２２Ａ、８２２Ｂの上端部に係合可能な形状に仕上げられている。そして、各ノズル清掃部材８１は、それぞれのＶ字溝８１４をスリットノズル２側に向けつつ、Ｘ方向に延設されるスリットノズル２に対して所定の傾斜角度で傾いた状態で、柱部８２２Ａ、８２２Ｂの上端部に締結される。なお、柱部８２２Ｂの上端は柱部８２２Ａの上端よりも高く、スクレーパ８１Ｂはスプレッダ８１Ａよりも高い位置に支持される。

支持部８２は、このように各ノズル清掃部材８１が固定された昇降部８２１の下方にベース部８２３を有する。そして、昇降部８２１はベース部８２３によって昇降可能に支持されている。つまり、支持部８２では、ベース部８２３の上面からＺ方向に立設されたガイドレール８２４と、ベース部８２３と昇降部８２１との間に設けられた付勢部材８２５（例えば、圧縮バネ）とが設けられている。そして、ガイドレール８２４が昇降部８２１の移動をＺ方向に案内しつつ、付勢部材８２５がベース部８２３に対して昇降部８２１を上方へ付勢する。そのため、昇降部８２１に固定された各ノズル清掃部材８１は、付勢部材８２５の付勢力により上方へ付勢される。

また、支持部８２のベース部８２３は、駆動ユニット８ｃ２に取り付けられている。この駆動ユニット８ｃ２は、Ｙ方向においてノズル７１の両外側に配置された一対のローラ８５１、８５１と、ローラ８５１、８５１に掛け渡された無端ベルト８５２とを有し、無端ベルト８５２の上面に支持部８２のベース部８２３が取り付けられている。このように構成された駆動ユニット８ｃ２は、ローラ８５１、８５１を回転させて無端ベルト８５２の上面をＹ方向へ駆動して、支持部８２に伴って各ノズル清掃部材８１をＹ方向へ移動させる。

そして、以上のように構成されたノズルクリーナ８ｃは、上記したノズル清掃位置に相当する傾斜面接触位置Ｐ１に位置するノズル７１のリップ部７６に各ノズル清掃部材８１を下方から近接させると、ノズル清掃部材８１のうちスクレーパ８１Ｂのみがノズル７１の傾斜面７３１に当接し、付勢部材８２５により押し付けられる。つまり、スクレーパ８１ＢのＶ字溝８１４がノズル７１と当接する。このときのＶ字溝８１４とノズル７１との当接状態をコントロールするために、本実施形態では、スクレーパ８１Ｂに対応して開口調整部８６が設けられている。

開口調整部８６は、図３Ｂに示すように、昇降部８２１上でＶ字溝８１４の幅方向Ｘと平行に延設されたベースプレート８６１と、スクレーパ８１Ｂの（＋Ｘ）側および（−Ｘ）側に配置される押圧部材８６２、８６３と、押圧部材８６２、８６３をベースプレート８６１に固定する締結部材８６４、８６４とを備えている。ベースプレート８６１は昇降部８２１に固定されている。そして、ベースプレート８６１に対して押圧部材８６２、８６３が幅方向Ｘに移動自在となっている。押圧部材８６２の上端部には、スクレーパ８１Ｂに向けて突起部位８６２ａが設けられている。このため、ユーザやオペレータが押圧部材８６２をベースプレート８６１に沿って（−Ｘ）方向にスライドさせることで、突起部位８６２ａがスクレーパ８１Ｂの一部を押圧する。

より詳しくは、スクレーパ８１Ｂでは、Ｖ字溝８１４の形成により延設部８１３に幅方向Ｘに２つのショルダ部位８１６ａ、８１６ｂが形成されている。これらのうち（＋Ｘ）側に位置するショルダ部位８１６ａに対いて突起部位８６２ａが（−Ｘ）方向に押圧力（応力）を加える。これにより、ショルダ部位８１６ａが（−Ｘ）側に変形し、Ｖ字溝８１４を構成する内側面８１５ａの傾斜が変更される。また、押圧部材８６３の上端部にも、押圧部材８６２と同様に、スクレーパ８１Ｂに向けて突起部位８６３ａが設けられている。このため、ユーザらが押圧部材８６３をベースプレート８６１に沿って（＋Ｘ）方向にスライドさせることで、（−Ｘ）側に位置するショルダ部位８１６ｂに対いて突起部位８６３ａが（＋Ｘ）方向に押圧力（応力）を加える。これにより、ショルダ部位８１６ｂが（＋Ｘ）側に変形し、Ｖ字溝８１４を構成する内側面８１５ｂの傾斜が変更される。こうして、Ｖ字溝８１４の開口形状が変更される。そして、当該開口形状が所望形状となった時点で、ボルトなどの締結部材８６４、８６４により押圧部材８６２、８６３をベースプレート８６１に固定する。ここでは、（＋Ｘ）側および（−Ｘ）側の両方向から開口調整を行っているが、一方からのみ調整してもよい。なお、開口形状を変更させる理由および変更態様については、後で詳述する。

上記したようにノズル７１のリップ部７６からスプレッダ８１Ａを離間しつつスクレーパ８１ＢのＶ字溝８１４をノズル７１のリップ部７６に押し付けた状態で、各ノズル清掃部材８１を清掃方向Ｄｃに移動させることで、ノズル７１のリップ部７６を清掃する。

図５はノズルクリーナによるノズル清掃処理の一例を示すフローチャートである。図６は図５のフローチャートに従って実行される動作を模式的に示す正面図である。塗布装置１では、制御ユニット９の記憶手段に記憶されている制御プログラムにしたがって演算手段が装置各部を以下のように制御することによってノズル清掃部材８１によるノズル７１の清掃動作が実行される。

ステップＳ１０１では、駆動ユニット８ｃ２による駆動を受けて、除去ユニット８ｃ１が傾斜面接触位置Ｐ１に移動する。これにより傾斜面接触位置Ｐ１に位置決めされたノズル７１の傾斜部７３の下方に除去ユニット８ｃ１が位置し、スプレッダ８１Ａおよびスクレーパ８１Ｂは傾斜部７３の傾斜面７３１に下方から対向する（図６の「Ｓ１０１」の欄）。この時点では、清掃方向Ｄｃにおいてスプレッダ８１Ａおよびスクレーパ８１Ｂはいずれも吐出口７１１を有する吐出口形成部７２よりも上流側に位置している。また、ステップＳ１０１においては、ノズル７１の傾斜部７３と、スプレッダ８１Ａおよびスクレーパ８１ＢとはＺ方向に離間している。

こうして傾斜面接触位置Ｐ１への除去ユニット８ｃ１の移動が完了すると、図６の「Ｓ１０２」の欄に示すように、ノズル７１は吐出口７１１から所定量の塗布液Ｌａを吐出する（ステップＳ１０２）。ここでの塗布液Ｌａの吐出は、吐出口７１１に部分的に入り込んでいるエアや洗浄液を排出することを主目的のひとつとして実行している。したがって、図６では誇張されているが、塗布液Ｌａは吐出口７１１から下方に僅かに出る程度に吐出される。

次のステップＳ１０３では、図６の「Ｓ１０３」の欄中の矢印で示すように、上方位置より低い下方位置へノズル７１が下降する。詳しくは、ノズル７１が下降を開始するとノズル７１の傾斜部７３とスクレーパ８１Ｂとの間の間隔が減少し、傾斜部７３においてリップ側面７６２とスクレーパ８１Ｂの内側面８１５とが接触する。ノズル７１はさらに下降し、付勢部材８２５の付勢力に抗してスクレーパ８１Ｂを下方へ押し下げる。また、スプレッダ８１Ａは、その両内側面８１５の間に入り込んだリップ側面７６２と各内側面８１５との間に一定の間隔を保ったまま、スクレーパ８１Ｂとともに下方へ移動する。こうして、傾斜部７３においてスクレーパ８１Ｂの内側面８１５が付勢部材８２５の付勢力によりリップ側面７６２に押し付けられるとともに、スプレッダ８１Ａの内側面８１５とリップ側面７６２との間には一定の間隔が確保される。なお、スクレーパ８１Ｂはリップ側面７６２に当接するが、スプレッダ８１Ａおよびスクレーパ８１Ｂのそれぞれと傾斜部７３の傾斜面７３１との間には間隔が形成され、スプレッダ８１Ａおよびスクレーパ８１Ｂのそれぞれは傾斜面７３１の幅方向における中央部に接触しない。ただし、ステップＳ１０３の実行によってスクレーパ８１Ｂの内側面８１５がリップ側面７６２に当接するのであれば、スクレーパ８１Ｂが傾斜面７３１の中央部に当接するように構成しても構わない。

上述のように、スプレッダ８１Ａおよびスクレーパ８１Ｂは共通する外形を有し、また、スクレーパ８１Ｂはスプレッダ８１Ａよりも高い位置に支持される。その結果、スクレーパ８１Ｂの内側面８１５はリップ側面７６２に押し付けられて当接する一方、スプレッダ８１Ａの内側面８１５はリップ側面７６２に一定の間隔を空けて対向した状態となる。このようにスプレッダ８１Ａおよびスクレーパ８１Ｂを共通する外形とすることにより（特にＶ字溝８１４を同じ形状とすることにより）、上記間隔を確実に形成することができる。なお、スプレッダ８１ＡのＶ字溝８１４を、スクレーパ８１ＢのＶ字溝８１４より大きくすることにより、上記間隔を確保しても良い。

こうしてノズル７１の下降が完了すると、スプレッダ８１Ａの液供給孔８１０からリンス液Ｌｂが吐出され、ノズル７１の傾斜部７３とスプレッダ８１Ａとの間へのリンス液の供給が開始される（ステップＳ１０４）。本実施形態では、塗布液Ｌａの吐出のみならず、リンス液Ｌｂを吐出しているが、その理由はスクレーパ８１Ｂの高速移動に対応するためである。つまり、スクレーパ８１Ｂによるノズル清掃時の潤滑液として塗布液Ｌａを利用することは可能であるが、その際のスクレーパ８１Ｂの移動速度が高くなると、塗布液のみでは十分な潤滑作用を得ることが難しくなることがある。そこで、本実施形態では、スクレーパ８１Ｂの移動速度を高めてノズル清掃処理に要する時間の短縮化を図るために、ノズル清掃処理時に潤滑剤として塗布液Ｌａとリンス液Ｌｂとを併用している。ただし、リンス液Ｌｂの吐出量は一定以下に抑えられている。より具体的には、ノズル清掃処理後の吐出口７１１に対し、リンス液と塗布液の混合液（塗布処理に影響を与えない程度でリンス液で薄められた塗布液）または、塗布液のみが残存するように、リンス液Ｌｂの単位時間あたりの供給量（吐出量）を調整するのが好適である。なお、リンス液Ｌｂとしては種々の液体を利用でき、例えば塗布液を組成する溶媒であっても良い。この場合、溶媒であるリンス液に溶質を溶かした溶液が塗布液となる。

続いて、駆動ユニット８ｃ２が清掃方向Ｄｃへ除去ユニット８ｃ１を駆動することで、スプレッダ８１Ａおよびスクレーパ８１Ｂを清掃方向Ｄｃへ移動させる部材移動動作を開始する（ステップＳ１０５）。この部材移動動作の初期段階では、傾斜面７３１に沿ってスクレーパ８１Ｂは付勢部材８２５の付勢力に抗して徐々に押し下げられながらスプレッダ８１Ａとともに吐出口形成部７２に向かって移動する。こうして吐出口形成部７２に移動した際にもスプレッダ８１Ａおよびスクレーパ８１Ｂは傾斜面７３１と同様の位置関係を有している。つまり、スプレッダ８１Ａおよびスクレーパ８１Ｂのそれぞれは、リップ側面７６２に当接する位置関係であるため、スプレッダ８１Ａおよびスクレーパ８１Ｂのそれぞれと吐出口形成部７２の先端面７２１との間には間隔が形成される一方、スプレッダ８１Ａおよびスクレーパ８１Ｂのそれぞれは先端面７２１に接触しない。ただし、スクレーパ８１Ｂの内側面８１５がリップ側面７６２に当接するのであれば、スクレーパ８１Ｂが先端面７２１に当接するように構成しても構わない。

こうしてスプレッダ８１Ａおよびスクレーパ８１Ｂが傾斜面接触位置Ｐ１から清掃開始位置Ｐ２に移動した後も部材移動動作は継続され、清掃開始位置Ｐ２で吐出口形成部７２の清掃動作が開始される。さらに、図６の「Ｓ１０４−Ｓ１０５」の欄に示すように、清掃開始位置Ｐ２から清掃方向Ｄｃに移動している間も液供給孔８１０からのリンス液Ｌｂの供給が継続されている。したがって、吐出口形成部７２においても、スプレッダ８１Ａは液供給孔８１０から供給されたリンス液Ｌｂをリップ側面７６２に広げつつ清掃方向Ｄｃへ移動する。その結果、清掃方向Ｄｃにおけるスプレッダ８１Ａとスクレーパ８１Ｂとの間では、リップ側面７６２にリンス液Ｌｂが塗り広げられている。

また、部材移動動作において、その内側面８１５で当接しながら清掃方向Ｄｃに移動するスクレーパ８１Ｂは、スプレッダ８１Ａにより広げられたリンス液Ｌｂをリップ側面７６２から除去する。この際、スプレッダ８１Ａより広げられたリンス液Ｌｂがスクレーパ８１Ｂの内側面８１５とリップ側面７６２との間の僅かな隙間に毛細管現象により入り込む。こうして、リンス液Ｌｂがスクレーパ８１Ｂの内側面８１５とノズル７１のリップ側面７６２との間を満たして、これらの間に生じる摩擦力を緩和する。また、スクレーパ８１Ｂは、リンス液Ｌｂの除去と並行して、ノズル７１の吐出口７１１から下方に突出した塗布液Ｌａを掻き取って、吐出口７１１を満たす塗布液Ｌａの下部を清掃方向Ｄｃに沿って均す。このような一連の動作は、吐出口７１１の（−Ｙ）側端部の位置である吐出口終端位置Ｐ３まで実行されるが、さらに段差部７４を通過する間も、吐出口形成部７２と同様にしてノズル清掃処理が継続される。

そして、除去ユニット８ｃ１が段差通過位置Ｐ４に到達して、スプレッダ８１Ａおよびスクレーパ８１Ｂがノズル７１よりも清掃方向Ｄｃの下流側に移動すると、駆動ユニット８ｃ２が除去ユニット８ｃ１を停止させる（ステップＳ１０６）。また、液供給孔８１０からのリンス液の供給が停止する（ステップＳ１０７）。

なお、こうしてノズル７１のノズル清掃処理が完了すると、位置決め機構７９がノズル７１を塗布ステージ３２の上方の塗布位置（点線で示される位置）に移動させる。そして、塗布位置に位置決めされたノズルから塗布液が吐出されて、塗布ステージ３２との間を搬送されてくる基板Ｗに塗布される（塗布工程）。

以上のように構成された第１実施形態では、吐出口形成部７２の（＋Ｙ）側に傾斜部７３が設けられるとともに（−Ｙ）側に段差部７４が設けられている。このため、吐出口７１１の延設方向Ｙにおける吐出口形成部７２の両端部において毛細管現象による塗布液の広がりを防止することができ、塗布液を適正範囲に塗布することができる。しかも、傾斜面接触位置Ｐ１でスクレーパ８１Ｂがノズル７１に当接した後、傾斜部７３は当接状態を維持したままスクレーパ８１Ｂを吐出口形成部７２に案内してノズル清掃を行っている。このため、スクレーパ８１Ｂによるノズル７１の摩耗や破損を効果的に抑制することができる。その結果、ノズル７１やスクレーパ８１Ｂの長寿命化が可能となり、ランニングコストやメンテナンス性を向上させることができる。

ところで、上記したノズル清掃処理を繰り返して行っている間にノズル清掃部材８１は摩耗する。特に、スクレーパ８１ＢのＶ字溝８１４がノズル７１のリップ部７６（＝傾斜部７３、吐出口形成部７２および段差部７４）と当接しながら摺動するため、スプレッダ８１Ａに比べて摩耗し易い。しかも、上記特許文献２に記載の装置と同様に、Ｖ字溝８１４がノズル７１のリップ部７６にフィットするようにスクレーパ８１Ｂが構成された場合、局部的な摩耗が進行してノズル清掃能力が低下することがある。そこで、本実施形態では、スクレーパ８１Ｂの内側面８１５がリップ側面７６２に押し付けられるまでのＶ字溝８１４の開口形状を次のように調整している。

図７は清掃方向の下流側から見たときのノズルのリップ部とスクレーパとの位置関係を模式的に示す図である。同図中の（ａ−１）ないし（ａ−４）欄にはＶ字溝８１４をノズル７１のリップ部７６にフィットさせる例（以下「比較例」という）が図示される一方、（ｂ−１）ないし（ｂ−４）欄には上記実施形態が図示されている。なお、同図中の（ａ−１）および（ｂ−１）欄には、ノズル７１のリップ部７６とスクレーパ８１ＢとがＺ方向に離間している状態が図示されている。同欄中の１点鎖線はノズル７１とスクレーパ８１Ｂとの近接方向、つまりＺ方向と平行な仮想線であり、符号θａ１、θｂ１は近接方向Ｚに対するリップ側面７６２の傾斜角を示し、符号θａ２、θｂ２は近接方向Ｚに対するＶ字溝８１４の内側面８１５の傾斜角を示している。

また、（ａ−２）および（ｂ−２）欄にはノズル７１のリップ部にスクレーパ８１Ｂが接触した状態でのスクレーパ８１Ｂに印加されると推測される応力が実線矢印で図示され、（ａ−３）および（ｂ−３）欄にはノズル７１のリップ部７６にスクレーパ８１Ｂが押し付けられた状態でのスクレーパ８１Ｂに印加されると推測される応力が実線矢印で図示されている。これらの実線矢印の長さは応力の大きさを示している。さらに、（ａ−４）および（ｂ−４）欄にはノズル清掃処理を繰り返して行った後のスクレーパ８１ＢのＶ字溝８１４の形状が模式的に示されている。

ここでは、まず比較例について説明する。比較例では、傾斜角θａ１、θａ２が同じであり、ノズル７１のリップ側面７６２とＶ字溝８１４の内側面８１５とが平行となるように構成されている。このため、ノズル７１を下降させてリップ側面７６２をスクレーパ８１Ｂの内側面８１５に接触させると、（ａ−２）欄に示すように比較的広い範囲で力が均等に印加される。そして、ノズル７１をさらに下降させることで、付勢部材８２５の付勢力に抗してスクレーパ８１Ｂを弾性変形させながら下方へ押し下げることになるが、このとき、（ａ−３）欄中の点線で描かれた丸印で示すようにスクレーパ８１Ｂの内側面８１５に印加される力はノズル７１の先端、つまりリップ部７６の先端角部に集中する。ノズル清掃処理においては、この状態でノズル７１に対してスクレーパ８１Ｂが摺動するため、（ａ−４）欄に示すように、ノズル７１の先端と接する部分が大きく摩耗して摩耗部位８１６が発生し、Ｖ字溝８１４の開口形状が変化してしまう。その結果、十分な液切り性能が得られないことがある。また、摩耗箇所が吐出口７１１に近いために、摩耗粉が吐出口７１１に入ってしまい、塗布処理中において基板Ｗに塗布された塗布液に混入する可能性がある。

そこで、本実施形態では、図７の（ｂ−１）欄に示すように、開口調整部８６によりＶ字溝８１４を構成する内側面８１５の傾斜角θｂ２がノズル７１のリップ側面７６２の傾斜角θｂ１よりも小さくなるように傾斜角調整を行い、ノズル７１のリップ側面７６２とＶ字溝８１４の内側面８１５とを非平行状態に調整している。こうしてＶ字溝８１４の開口形状を変更させたまま、ノズル７１を下降させてリップ側面７６２をスクレーパ８１Ｂの内側面８１５に接触させると、（ｂ−２）欄に示すように、当該接触はＶ字溝８１４の開口側の端部のみとなる。この段階では、リップ側面７６２へのスクレーパ８１Ｂの押し付けは作用しておらず、この状態で内側面８１５のうちＶ字溝８１４の開口側の端部でノズル７１のリップ部７６が係止されている。そして、ノズル７１をさらに下降させることで、付勢部材８２５の付勢力に抗してスクレーパ８１Ｂを弾性変形しながら下方へ押し下げることになるが、このとき、スクレーパ８１Ｂの内側面８１５に印加される力が及ぶ範囲、つまり内側面８１５によるリップ部７６の押圧範囲は徐々に広がり、リップ部７６の先端角部に集中することなく、分散される。本実施形態では、この状態でノズル７１に対してスクレーパ８１Ｂが摺動してノズル清掃処理を実行するため、摩耗量は少なく、（ｂ−４）欄に示すように、摩耗部位８１６は比較例に比べて小さく、Ｖ字溝８１４の変化が抑制される。その結果、液切り性能の低下を抑え、スクレーパ８１Ｂの寿命を長くすることができる。また、摩耗粉の発生を効果的に抑えることができ、塗布処理を良好に行うことができる。

また、ノズル７１やスクレーパ８１ＢのＶ字溝８１４の仕様変更が発生した場合にも柔軟に対応することができる。つまり、開口調整部８６を有さない塗布装置１（図７の「比較例」の欄を参照）では、変更後の仕様に対応した開口形状を有するスクレーパ８１Ｂを再製作する必要があり、仕様変更に対して迅速に対応することが難しい。特に、スクレーパ８１Ｂを成型品で提供する場合にはバリやパーティングラインの課題を解消するために、新たなスクレーパ８１Ｂの提供に時間がかかることが多い。また、ノズル清掃処理を繰り返している間に、摩耗によってＶ字溝８１４の開口形状が変形して所望のノズル清掃効果が得られず、スクレーパ８１Ｂの新品交換が必要となることもある。これに対し、開口調整部８６を有する塗布装置１（図７の「実施形態」の欄を参照）では、吐出口７１１の延設方向Ｙと交差する方向（本実施形態では、Ｘ方向）からスクレーパ８１Ｂに応力を加えることでＶ字溝８１４の開口形状を調整可能となっている。その結果、ノズルの仕様変更に柔軟に対応することができるとともに、ノズル当接部材の消耗に応じた開口形状の調整によりノズル当接部材の長寿命化を図ることができ、高い汎用性が得られる。

以上のように上記実施形態では、駆動ユニット８ｃ２が本発明の「駆動部」の一例に相当している。また、リップ部７６が本発明の「ノズル本体部の先端部」の一例に相当し、吐出口形成部７２の（＋Ｙ）側端部が本発明の「吐出口形成部の一方側端部」の一例に相当している。また、また、スクレーパ８１Ｂが本発明の「ノズル当接部材」の一例に相当し、スクレーパ８１ＢのＶ字溝８１４が本発明の「凹部」の一例に相当している。また、Ｙ方向が本発明の「吐出口の延設方向」に相当し、（＋Ｙ）側および（−Ｙ）側がそれぞれ本発明の「延設方向の一方側」および「延設方向の他方側」に相当し、（＋Ｚ）方向および（−Ｚ）方向がそれぞれ本発明の「塗布液が吐出される方向の反対側」および「塗布液が吐出される方向」に相当している。さらに、図５に示すノズル清掃処理が本発明の「清掃工程」の一例に相当し、ノズル清掃処理後のノズル７１を用いて基板Ｗに塗布液を塗布する塗布処理が本発明の「塗布工程」の一例に相当している。

なお、本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。例えば上記実施形態では、スクレーパ８１Ｂよりも清掃方向Ｄｃの下流側（図３Ａの左手側）にスプレッダ８１Ａを設けているが、スプレッダの個数は「１」に限定されず、複数であってもよい。また、本発明については、スプレッダを装備しない塗布装置や塗布方法にも適用可能である。

また、上記実施形態ではノズル７１のリップ部７６に広げる液体としてリンス液Ｌｂが用いられていたが、塗布液Ｌａをリップ部７６に広げ、これをスクレーパ８１Ｂが液切りしてノズル清掃処理を行うように構成してもよい。

また、上記実施形態では、スクレーパ８１Ｂの高速移動時の潤滑剤として塗布液とリンス液を併用しているが、移動速度に応じて塗布液のみを潤滑剤として用いてもよい。

また、上記実施形態では、ノズル７１の吐出口７１１から塗布液Ｌａを吐出するステップＳ１０２が設けられていた。しかしながら、このステップＳ１０２は省略しても構わない。

また、上記実施形態ではスプレッダ８１Ａおよびスクレーパ８１Ｂを一体的に清掃方向Ｄｃに移動させていた。しかしながら、スプレッダ８１Ａおよびスクレーパ８１Ｂをそれぞれ個別に清掃方向Ｄｃに移動させても良い。

また、スプレッダ８１Ａおよびスクレーパ８１Ｂが同一の外形を有することは必須ではなく、複数のスプレッダを設ける場合に、それらのスプレッダが同一の外形を有することも必須ではない。

また、上記実施形態では、塗布液が吐出される方向Ｚの下流側（鉛直下方側）から見た傾斜部７３の形状が略三角形あるいは台形形状となるように傾斜面７３１が設けられているが、傾斜面７３１の形状はこれに限定されるものではない。例えば吐出口形成部７２の（＋Ｙ）側端部から（＋Ｙ）側に向かって広がる形状に仕上げ、傾斜面接触位置Ｐ１で当接したスクレーパ８１ＢのＶ字溝８１４を吐出口形成部７２に連続的に案内してもよい。また、上記実施形態では、傾斜面７３１を平面状に設けているが、湾曲状に設けてもよい。

また、上記実施形態では、吐出口形成部７２の（−Ｙ）側に段差部７４が設けられ、これによって毛細管現象による（−Ｙ）側への塗布液の広がりを防止しているが、段差部７４の形状については任意である。ただし、塗布膜の膜厚均一性を考慮すると、段差を極力小さくするのが好適である。

また、上記実施形態では、除去ユニット８ｃ１を延設方向Ｙの（＋Ｙ）側から（−Ｙ）側に移動させているが、除去ユニット８ｃ１を固定してノズル７１を延設方向Ｙに移動させたり、除去ユニット８ｃ１とともにノズル７１を延設方向Ｙに移動させたりしてもよい。要は、本発明はノズル７１に対してスクレーパ８１Ｂを延設方向Ｙの（＋Ｙ）側から（−Ｙ）側に相対的に移動させてノズル清掃処理を行う塗布技術全般に適用することができる。

また、上記実施形態では、基板Ｗの下面に気体を吹き付けて基板Ｗを塗布ステージ３２から浮上させた状態で当該基板Ｗを搬送する塗布装置１に対して本発明を適用しているが、その他の方式で基板を搬送する塗布装置に対しても本発明を適用することができる。また、板をステージに固定した状態で塗布する塗布装置にも本発明を適用することができる。

さらに、上記実施形態では、開口調整部８６を設けてスクレーパ８１ＢのＶ字溝８１４の開口形状を調整しているが、開口調整部８６を設けていない塗布装置や塗布方法にも本発明を適用することができる。また、図７の「比較例」の欄に示すようにリップ側面７６２の傾斜角θａ１とＶ字溝８１４の内側面８１５の傾斜角θａ２とが一致するスクレーパ８１Ｂを用いてノズル清掃処理を行う塗布装置にも本発明を適用することができる。

この発明は、ノズルの先端部に設けられた吐出口から塗布液を吐出して塗布する塗布装置、塗布方法およびノズル全般に適用することができる。

１…塗布装置
８…メンテナンスユニット
８ｃ…ノズルクリーナ
８ｃ１…除去ユニット
８ｃ２…駆動ユニット（駆動部）
７１…ノズル
７１Ｒ…吐出口範囲
７２…吐出口形成部
７３…傾斜部
７４…段差部
７５…ノズル本体部
７６…リップ部（ノズル本体部の先端部）
８１Ｂ…スクレーパ（ノズル当接部材）
７３１…（傾斜部の）傾斜面
７６２…リップ側面
８１４…Ｖ字溝（凹部）
８１５，８１５ａ，８１５ｂ…内側面
Ｐ１…傾斜面接触位置
Ｐ２…清掃開始位置
Ｐ３…吐出口終端位置
Ｗ…基板
Ｘ…幅方向
Ｙ…延設方向
Ｚ…近接方向
θａ１、θｂ１…（近接方向Ｚに対するリップ側面７６２の）傾斜角
θａ２，θｂ２…（近接方向Ｚに対するＶ字溝８１４の内側面８１５の）傾斜角

Claims (5)

1. ノズル本体部の先端部に設けられたスリット状の吐出口から塗布液を吐出するノズルと、
   前記先端部に当接可能な凹部を有するノズル当接部材と、
   前記ノズルに対して前記ノズル当接部材を前記吐出口の延設方向の一方側から他方側に相対的に移動させる駆動部とを備え、
   前記先端部は、前記吐出口が形成された吐出口形成部と、
   前記吐出口形成部の一方側端部から前記延設方向の一方側かつ前記塗布液が吐出される方向の反対側に延びる傾斜部とを有し、
   前記駆動部は、前記ノズル当接部材の前記凹部を前記傾斜部に当接させるとともに前記ノズル当接部材を前記傾斜部に沿って前記吐出口形成部に相対的に移動させた後で、前記凹部を前記吐出口形成部に当接させながら前記ノズル当接部材を相対的に移動させ、
   前記先端部は、前記吐出口形成部の他方側で前記塗布液が吐出される方向の反対側に延びる段差部を有する
   ことを特徴とする塗布装置。
2. 請求項１に記載の塗布装置であって、
   前記傾斜部は、前記塗布液が吐出される方向の下流側から見て前記吐出口形成部の前記一方側端部から前記延設方向の一方側に向かって広がる形状を有する塗布装置。
3. 請求項２に記載の塗布装置であって、
   前記塗布液が吐出される方向の下流側から見た前記傾斜部の形状は略三角形である塗布装置。
4. ノズル本体部の先端部に設けられたスリット状の吐出口から塗布液を吐出して塗布する塗布工程と、
   ノズル当接部材を前記先端部に当接させながら前記吐出口の延設方向の一方側から他方側に相対的に移動させて前記ノズル当接部材により前記先端部を清掃する清掃工程とを備え、
   前記塗布工程は、前記吐出口が形成された吐出口形成部と、
   前記吐出口形成部の一方側から前記延設方向の一方側かつ前記塗布液が吐出される方向の反対側に延びる傾斜部と、前記吐出口形成部の他方側で前記塗布液が吐出される方向の反対側に延びる段差部と、が前記先端部に設けられたノズルを用いて行われ、
   前記清掃工程は、前記ノズル当接部材の凹部を前記傾斜部に当接させるとともに前記ノズル当接部材を前記傾斜部に沿って前記吐出口形成部に相対的に移動させた後で、前記凹部を前記吐出口形成部に当接させながら前記ノズル当接部材を相対的に移動させて行われる
   ことを特徴とする塗布方法。
5. ノズル本体部の先端部に設けられたスリット状の吐出口から塗布液を吐出した後で、前記吐出口の延設方向の一方側から他方側に相対的に移動するノズル当接部材により前記先端部に付着した塗布液が掻き取られるノズルであって、
   前記先端部は、前記吐出口が形成された吐出口形成部と、
   前記吐出口形成部の一方側端部から前記延設方向の一方側かつ前記塗布液が吐出される方向の反対側に延びる傾斜部と、前記吐出口形成部の他方側で前記塗布液が吐出される方向の反対側に延びる段差部と、を有し、
   前記傾斜部が前記延設方向に沿って相対的に移動する前記ノズル当接部材と当接して前記吐出口形成部に案内することを特徴とするノズル。

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