CN108855778A - 涂敷装置、涂敷方法和喷嘴 - Google Patents

Abstract

一种涂敷技术和喷嘴，能够抑制喷嘴清扫处理中的喷嘴和喷嘴抵接构件的摩耗和破损且利用喷嘴在适当范围内涂敷涂敷液。涂敷装置具备：喷嘴，从设置于喷嘴主体部的顶端部的狭缝状的喷出口喷出涂敷液；喷嘴抵接构件，具有能够与顶端部抵接的凹部；驱动部，使喷嘴抵接构件相对于喷嘴从喷出口的延伸方向的一侧向另一侧相对地移动。顶端部具有：喷出口形成部，形成有喷出口；以及倾斜部，从喷出口形成部的一侧端部向延伸方向的一侧且向与喷出涂敷液的方向相反的一侧延伸。驱动部在使喷嘴抵接构件的凹部与倾斜部抵接且使喷嘴抵接构件沿着倾斜部相对地移动到喷出口形成部后，一边使凹部与喷出口形成部抵接一边使喷嘴抵接构件相对于喷出口形成部移动。

Description

涂敷装置、涂敷方法和喷嘴

技术领域

本发明涉及从设置于喷嘴的顶端部的排出口喷出涂敷液来涂敷基板的涂敷装置、涂敷方法和喷嘴。其中，上述基板包括：液晶显示装置用玻璃基板、半导体基板、等离子显示器(PDP：Plasma Display Panel)用玻璃基板、光掩模用玻璃基板、滤色片用基板、存储盘用基板、太阳能电池用基板、电子纸用基板等精密电子装置用基板、矩形玻璃基板、薄膜液晶用柔性基板、有机电致发光(EL：Electro Luminescence)用基板(以下简称为“基板”)。

背景技术

以往，为了向基板涂敷涂敷液，通常使用例如专利第5346643号公报中记载那样从喷出口喷出涂敷液的喷嘴。在这样的喷嘴中，存在附着在设置有喷出口的顶端部的侧面上的涂敷液等附着物干燥硬化而落在基板上导致污染基板的情况。因此，使用例如日本专利第5766990号公报所记载的涂敷液的去除技术。日本专利第5766990号公报所记载的狭缝式涂敷机(涂敷装置)中，在通过喷嘴开始涂敷前执行喷嘴清扫处理。在该喷嘴清扫处理中，通过在使设置于擦拭头的喷嘴抵接构件与喷嘴的顶端部抵接的状态下使擦拭头相对喷嘴移动，去除附着于喷嘴的顶端部的侧面的涂敷液。

但是，在上述狭缝式涂敷机中，设置于喷嘴的顶端部的喷出口的宽度根据应向基板上涂敷的涂敷区域的尺寸来设定。并且，在涂敷开始时，以喷出口接近基板的涂敷区域的正上方的方式配置喷嘴后，从喷出口喷出涂敷液。此时，与喷嘴的顶端部中的喷出口相邻的部位也接近基板。因此，有时着落到基板的涂敷液的一部分通过毛细管现象向涂敷区域的外侧扩展，从而涂敷液到达基板侧面或背面。有时根据这样的液体溢出现象，狭缝式涂敷机受到污染。

因此，想到如日本特开2013-184085号公报所记载的那样，在比喷嘴的喷出口的位置更靠喷嘴主体侧(与基板相对的方向的相反侧)切除与喷出口相邻的部位，设置缺口部或台阶部等的对策。但是，在喷嘴开始涂敷前，有必要使擦拭头从喷出口的延长线上的外侧移动到喷嘴的顶端部，使喷嘴抵接构件抵接，进而沿着顶端部滑动。此时，设置于擦拭头的喷嘴抵接构件与缺口部或台阶部等接触，从而有可能喷嘴抵接构件或喷嘴严重摩耗或破损。结果，喷嘴或喷嘴抵接构件的更换周期变短，这成为运行成本上升和维护性降低的主要原因之一。

发明内容

本发明是鉴于上述问题而提出的，其目的在于，提供涂敷技术和喷嘴，能够抑制喷嘴清扫处理中的喷嘴和喷嘴抵接构件的摩耗和破损且通过该喷嘴在适当范围内涂敷涂敷液。

本发明的第一方式是一种涂敷装置，其特征在于，具备：喷嘴，从设置于喷嘴主体部的顶端部的狭缝状的喷出口喷出涂敷液；喷嘴抵接构件，具有能够与顶端部抵接的凹部；以及驱动部，使喷嘴抵接构件相对于喷嘴从喷出口的延伸方向的一侧向另一侧移动。顶端部具有：喷出口形成部，形成有喷出口；以及倾斜部，从喷出口形成部的一侧的端部向延伸方向的一侧且向喷出涂敷液的方向的相反侧延伸。驱动部在使喷嘴抵接构件的凹部与倾斜部抵接且使喷嘴抵接构件沿着倾斜部相对地移动到喷出口形成部后，一边使凹部与喷出口形成部抵接，一边使喷嘴抵接构件相对于喷出口形成部移动。

另外，本发明的第二方式是涂敷方法，其特征在于，涂敷工序，从设置于喷嘴主体部的顶端部的狭缝状的喷出口喷出涂敷液进行涂敷；以及清扫工序，使喷嘴抵接构件一边与顶端部抵接一边从喷出口的延伸方向的一侧向另一侧相对地移动，通过喷嘴抵接构件清扫顶端部。使用喷嘴进行涂敷工序，喷嘴在顶端部设置有喷出口形成部以及倾斜部，喷出口形成部形成有喷出口，倾斜部从喷出口形成部的一侧向延伸方向的一侧且向喷出涂敷液的方向的相反侧延伸；清扫工序如下进行，即，在使喷嘴抵接构件的凹部与倾斜部抵接且使喷嘴抵接构件沿着倾斜部相对地移动到喷出口形成部后，一边使凹部与喷出口形成部抵接，一边使喷嘴抵接构件相对于喷出口形成部移动。

而且，本发明的第三方式是一种喷嘴，其特征在于，在喷嘴从设置于喷嘴主体部的顶端部的狭缝状的喷出口喷出涂敷液后，通过从喷出口的延伸方向的一侧向另一侧相对地移动的喷嘴抵接构件来刮除附着于顶端部的涂敷液。顶端部具有：喷出口形成部，形成有喷出口；以及倾斜部，从喷出口形成部的一侧的端部向延伸方向的一侧且向喷出涂敷液的方向的相反侧延伸。倾斜部与沿着延伸方向相对地移动的喷嘴抵接构件抵接并将喷嘴抵接构件引导至喷出口形成部。

在这样构成的发明中，在设置于喷出口形成部的喷出口的延伸方向中的喷出口形成部的一侧设置有倾斜部。该倾斜部向延伸方向的一侧且向与涂敷液的喷出方向相反的一侧延伸，防止在喷出口形成部的一侧端部因毛细管现象而造成的涂敷液扩散。而且，倾斜部一边与喷嘴抵接构件抵接一边将喷嘴抵接构件顺利地引导至喷出口形成部。

如上所述，由于在喷出口形成部的一侧即喷嘴抵接构件开始喷嘴清扫的一侧设置有倾斜部，因此能够抑制喷嘴清扫处理中的喷嘴和喷嘴抵接构件的摩耗和破损，并且抑制在喷出口形成部的一侧端部的涂敷液扩散，从而能够在适当范围内涂敷涂敷液。

附图说明

图1是示意性表示本发明的涂敷装置的一实施方式的整体结构的图。

图2是从斜下方观察喷嘴的立体图。

图3A是表示喷嘴清洁器的结构的立体图。

图3B是图3A所示的喷嘴清洁器的局部放大立体图。

图4是表示喷嘴清洁器的喷洒器(spreader)的立体图。

图5是表示通过喷嘴清洁器进行喷嘴清扫处理的一例的流程图。

图6是示意性表示根据图5的流程图执行的动作的主视图。

图7是示意性表示从清扫方向的下游侧观察时的喷嘴的唇部和刮除器(scraper)的位置关系的图。

其中，附图标记说明如下：

1…涂敷装置

8…维护单元

8c…喷嘴清洁器

8c1…去除单元

8c2…驱动单元(驱动部)

71…喷嘴

71R…喷出口范围

72…喷出口形成部

73…倾斜部

74…台阶部

75…喷嘴主体部

76…唇部(喷嘴主体部的顶端部)

81B…刮除器(喷嘴抵接构件)

731…(倾斜部的)倾斜面

762…唇侧面

814…V字槽(凹部)

815、815a、815b…内侧面

P1…倾斜面接触位置

P2…清扫开始位置

P3…喷出口末端位置

W…基板

X…宽度方向

Y…延伸方向

Z…接近方向

θa1、θb1…(相对于接近方向Z的唇侧面762的)倾斜角

θa2、θb2…(相对于接近方向Z的V字槽814的内侧面815的)倾斜角

具体实施方式

图1是示意性表示本发明的涂敷装置的一实施方式的整体结构的图。该涂敷装置1是向从图1的左手侧向右手侧以水平姿势被搬运的基板W的上表面Wf涂敷涂敷液的狭缝式涂敷机。另外，为了明确装置各部的配置关系，在以下的各图中，将基板W的搬运方向设为“X方向”，将从图1的左手侧向右手侧的水平方向称为“+X方向”，将相反的方向称为“-X方向”。另外，将与X方向正交的水平方向Y中的、装置的正面侧称为“-Y方向”，装置的背面侧称为“+Y方向”。而且，将铅垂方向Z中的上方向和下方向分别称为“+Z方向”和“-Z方向”。

首先，使用图1简要说明该涂敷装置1的结构和动作，之后说明维护单元的更详细的结构。另外，涂敷装置1的基本的结构和动作原理与本发明的申请人事先公开的专利第5346643号公报所记载的内容共通。因此，在本说明书中，对涂敷装置1的各结构中能够应用与这些公知文献所记载的结构相同的结构和从这些文献记载结构能够容易理解的结构省略详细的说明，主要说明本实施方式的特征性部分。

在涂敷装置1中，沿着基板W的搬运方向Dt(+X方向)依次接近地配置有输入传送机100、输入移载部2、悬浮载物台部3、输出移载部4、输出传送机110，如在以下详述的那样，由这些形成沿着大致水平方向延伸的基板W的搬运路径。另外，在以下的说明中，与基板W的搬运方向Dt关联地来表示位置关系时，将“基板W的搬运方向Dt中的上游侧”简称为“上游侧”，另外将“基板W的搬运方向Dt中的下游侧”简称为“下游侧”。该例子中，从某个基准位置观察，相对的来说，(-X)侧相当于“上游侧”，(+X)侧相当于“下游侧”。

从图1的左手侧搬入向传送机100搬入作为处理对象的基板W。输入传送机100具备辊传送机101和用于旋转驱动辊传送机101的旋转驱动机构102，通过辊传送机101的旋转以水平姿势向下游侧即(+X)方向搬运基板W。输入移载部2具备：辊传送机21；以及旋转升降驱动机构22，具有旋转驱动辊传送机的功能和使辊传送机升降的功能。通过辊传送机21旋转，进一步向(+X)方向搬运基板W。另外，通过使辊传送机21升降来改变基板W的铅垂方向位置。通过这样构成的输入移载部2，从输入传送机100向悬浮载物台部3移载基板W。

悬浮载物台部3具备沿着基板的搬运方向Dt被划分为三部分的平板状的载物台。即，悬浮载物台部3具备入口悬浮载物台31、涂敷载物台32和出口悬浮载物台33，这些各个载物台的上表面彼此构成同一平面的一部分。在入口悬浮载物台31和出口悬浮载物台33各自的上表面矩阵状地设置有多个喷出从悬浮控制机构35供给的压缩空气的喷出孔，基板W借助喷出的气流赋予的浮力悬浮。这样，基板W以其下表面Wb从载物台上表面离开的状态被支撑为水平姿势。基板W的下表面Wb与载物台上表面之间的距离即悬浮量可以设为例如10微米至500微米。

另一方面，在涂敷载物台32的上表面交替地配置有：喷出孔，喷出压缩空气；以及吸引孔，吸引基板W的下表面Wb与载物台上表面之间的空气。悬浮控制机构35控制来自喷出孔的压缩空气的喷出量和来自吸引孔的吸引量，由此来精密地控制基板W的下表面Wb与涂敷载物台32的上表面之间的距离。由此，将经过涂敷载物台32的上方的基板W的上表面Wf的铅垂方向位置控制为规定值。作为悬浮载物台部3的具体的结构，能够应用例如专利第5346643所记载的结构。另外，基于后面详述的传感器61、62的检测结果，通过控制单元9算出涂敷载物台32中的悬浮量，另外能够通过气流控制来高精度地调整涂敷载物台32中的悬浮量。

另外，在入口悬浮载物台31配设有未图示的升降销，在悬浮载物台部3设置有使该升降销升降的升降销驱动机构34。

经由输入移载部2向悬浮载物台部3搬入的基板W，借助辊传送机21的旋转被施加朝向(+X)方向的推进力，从而被搬运到入口悬浮载物台31上。入口悬浮载物台31、涂敷载物台32和出口悬浮载物台33将基板W支撑为悬浮状态，但是不具有将基板W向水平方向移动的功能。悬浮载物台部3中的基板W的搬运通过配置于入口悬浮载物台31、涂敷载物台32和出口悬浮载物台33的下方的基板搬运部5来进行。

基板搬运部5具备：卡盘机构51，通过与基板W的下表面周缘部局部地抵接来从下方支撑基板W；以及吸附行进控制机构52，具有向设置于卡盘机构51上端的吸附构件的吸附垫(省略图示)提供负压来吸附并保持基板W的功能以及使卡盘机构51沿着X方向往复行进的功能。在卡盘机构51保持基板W的状态下，基板W的下表面Wb位于比悬浮载物台部3的各个载物台的上表面高的位置。因此，基板W一边由卡盘机构51吸附保持周缘部，一边借助从悬浮载物台部3施加的浮力整体维持水平姿势。另外，在由卡盘机构51局部地保持基板W的下表面Wb的阶段，为了检测基板W的上表面的铅垂方向位置，将板厚测量用的传感器61配置于辊传送机21的附近。由于处于未保持基板W的状态的卡盘(省略图示)位于该传感器61的正下方位置，因此传感器61能够检测吸附构件的上表面即吸附面的铅垂方向位置。

卡盘机构51保持从输入移载部2向悬浮载物台部3搬入的基板W，在该状态下卡盘机构51向(+X)方向移动，由此，基板W被从入口悬浮载物台31的上方经由涂敷载物台32的上方向出口悬浮载物台33的上方搬运。将被搬运的基板W移交至配置于出口悬浮载物台33的(+X)侧的输出移载部4。

输出移载部4具备：辊传送机41；以及旋转升降驱动机构42，具有旋转驱动辊传送机41的功能和使辊传送机41升降的功能。通过辊传送机41旋转，向基板W赋予朝向(+X)方向的推进力，沿着搬运方向Dt进一步搬运基板W。另外，通过使辊传送机41升降来变更基板W的铅垂方向位置。对通过辊传送机41的升降来实现的功能在后面详述。通过输出移载部4从出口悬浮载物台33的上方向输出传送机110移载基板W。

输出传送机110具备辊传送机111和用于旋转驱动辊传送机111的旋转驱动机构112，通过辊传送机111的旋转进一步向(+X)方向搬运基板W，最终向涂敷装置1外送出基板W。另外，可以将输入传送机100和输出传送机110作为涂敷装置1的结构的一部分设置，也可以独立于涂敷装置1地设置。另外，例如也可以将设置于涂敷装置1的上游侧的独立单元的基板送出机构用作输入传送机100。另外，也可以将设置于涂敷装置1的下游侧的独立单元的基板接收机构用作输出传送机110。

在这样搬运的基板W的搬运路径上，配置用于向基板W的上表面Wf涂敷涂敷液的涂敷机构7。涂敷机构7具有作为狭缝喷嘴的喷嘴71。从未图示的涂敷液供给部向喷嘴71供给涂敷液，从在喷嘴下部向下开口的喷出口喷出涂敷液。

喷嘴71通过定位机构79能够在X方向和Z方向上移动定位。通过定位机构79，喷嘴71定位于涂敷载物台32的上方的涂敷位置(用点线表示的位置)。从定位于涂敷位置的喷嘴喷出涂敷液，向在涂敷载物台32之间搬运的基板W涂敷。这样进行对基板W的涂敷液的涂敷。

设置有用于对喷嘴71进行维护的维护单元8。维护单元8具备：设置在槽8a内的清洗液贮留槽8b与喷嘴清洁器(cleaner)8c，以及控制清洗液贮留槽8b和喷嘴清洁器8c的动作的维护控制机构8d。

在喷嘴71位于喷嘴清洁器8c的上方位置(喷嘴清扫位置)的状态下，通过喷嘴清洁器8c去除附着于喷嘴71的喷出口的周围的涂敷液。通过这样对向涂敷位置移动前的喷嘴71进行清扫处理，能够使在涂敷位置的涂敷液的喷出从其初始阶段开始稳定。另外，对喷嘴71和喷嘴清洁器8c的详细的结构以及通过喷嘴清洁器8c对喷嘴71的喷嘴清扫处理在后面进行详述。

另外，定位机构79能够将喷嘴71定位于喷嘴下端与贮留在清洗液贮留槽8b内的清洗液接触的位置(待机位置)。在不执行使用喷嘴71的涂敷处理时，喷嘴71定位于该待机位置。另外，也可以设置为向上述清洗液施加超声波来清洗喷嘴下端的结构。

此外，在涂敷装置1设置有用于控制装置各部的动作的控制单元9。控制单元9具备存储规定的控制程序和各种数据的存储单元、通过执行该控制程序使装置各部执行规定的动作的CPU等运算单元、承担用户和外部装置之间的信息交换的接口单元等。在本实施方式中，如下所述，运算单元对装置各部进行控制来执行上述喷嘴清扫处理。

图2是从斜下方观察喷嘴的立体图。另外，为了明确成为清扫对象的喷嘴71的喷出口711的附近的结构，图2中将喷嘴顶端的尺寸表示为与实际不同的尺寸。关于这一点，对后面说明的图3A和图3B等也是相同的。

该喷嘴71具有沿着Y方向延伸的作为长狭缝状的开口部的喷出口711。喷出口711在Y方向上在比喷嘴71的全长短的喷出口范围71R内开口，成为喷出口形成部72的主要结构。另一方面，在喷嘴71的Y方向的两端喷出口711没有开口，在喷出口形成部72的(+Y)侧设置有倾斜部73，并且在(-Y)侧设置有台阶部74。

该喷嘴71具有能够从喷出口711朝向一边利用悬浮载物台部3悬浮一边沿着X方向搬运的基板W的上表面Wf向铅垂方向下方即(-Z)方向喷出涂敷液的结构。具体来说，喷嘴71具有：喷嘴主体部75，由省略图示的喷嘴支撑体固定支撑；以及唇部76，从喷嘴主体部75向下方突出。并且，若从未图示的供给机构向喷嘴71压送涂敷液，则经由在喷嘴主体部75的内部形成的内部流路向喷出口711送液，从喷出口711向(-Z)方向喷出涂敷液。

在从作为长度方向的Y方向观察的侧视图中，唇部76具有顶端变细的凸形形状，具有设置于顶端(下端)的顶端面761、形成于顶端面761的(+X)侧的唇侧面762a和形成于(-X)侧的唇侧面762b。在以下的说明中，在不区分唇侧面762a和唇侧面762b时，简称为唇侧面762。另外，在唇部76设置有上述的喷出口形成部72、倾斜部73和台阶部74。

在喷出口形成部72中，在上述顶端面761的中央部朝向铅垂方向下方(-Z方向)设置平坦状的顶端面721，在该顶端面721设置有喷出口范围71R的喷出口711。

另外，倾斜部73从喷出口形成部72的(+Y)侧端部P2向喷出口711的延伸方向Y的(+Y)侧以及向与涂敷液的喷出方向相反的一侧即(+Z)侧延伸设置。更详细地，从斜上方切除唇部76的(+Y)侧端部，从铅垂方向下方观察时倾斜部73呈大致三角形(或者梯形)。因此，倾斜部73中的面向铅垂方向下方的倾斜面731的X方向尺寸随着靠近喷出口711而变窄，在与喷出口形成部72的顶端面721连接的位置与顶端面721的X方向尺寸一致。

另一方面，在隔着喷出口形成部72的与倾斜部73相反的一侧，从喷出口形成部72的(-Y)侧端部P3向(+Z)侧延伸设置有台阶部74。即，台阶部74的表面741比将喷出口形成部72的顶端面721向(-Y)方向延长的假想水平面更向(+Z)方向后退，在表面741和顶端面721之间形成有台阶。

另外，图2中的附图标记P1是以下说明的喷嘴清洁器8c的刮除器(scraper)在喷嘴清扫动作中最初抵接的倾斜面接触位置，附图标记P2表示喷嘴清洁器8c对喷出口形成部72的喷嘴开始进行清扫动作的清扫开始位置即喷出口711的(+Y)侧端部的位置，附图标记P3表示喷嘴清洁器8c对喷出口形成部72的喷出口末端位置即喷出口711的(-Y)侧端部的位置。

图3A是表示喷嘴清洁器的结构的立体图，图3B是图3A所示的喷嘴清洁器的局部放大立体图。另外，图4是表示喷嘴清洁器的喷洒器的立体图。喷嘴清洁器8c具备：去除单元8c1，通过喷嘴清扫构件81在沿着喷嘴71的唇部76的清扫方向Dc上移动，来去除附着于唇部76的附着物；驱动单元8c2，用于沿着清扫方向Dc驱动去除单元8c1。此处，清扫方向Dc是指与喷出口711的延伸方向Y平行且从(+Y)侧向(-Y)侧的方向，驱动单元8c2能够使去除单元8c1在Y方向上往复移动。另外，作为去除单元8c1的去除对象的附着物，可以列举可能附着于喷嘴71的唇部76的各种物质，例如涂敷液的溶质干燥并固化的物质。例如在涂敷液是滤色片用光致抗蚀剂的情况下，涂敷液中所含的颜料作为附着物附着于喷嘴71的唇部76。

另外，虽然省略了图示，但是喷嘴清洁器8c除了上述的去除单元8c1和驱动单元8c2之外，具备清洗部和冲洗液供给部。清洗部是在通过密闭喷嘴清扫构件81从而形成的密闭空间的内部清洗喷嘴清扫构件81的部分。即，清洗部通过在上述密闭空间内向擦拭去除了附着于喷嘴71的唇部76的附着物的喷嘴清扫构件81供给清洗液，来冲掉附着于喷嘴清扫构件81的上述附着物。作为该清洗部，可以使用例如日本特开2014-176812号公报所记载的清洗部。另外，冲洗液供给部具有经由顶端安装于去除单元8c1的可挠性的冲洗液供给管向去除单元8c1供给冲洗液的功能。

去除单元8c1主要具有：喷嘴清扫构件81，具有与喷嘴71的唇部76对应的凹部(在本实施方式中是大致V字形的V字槽)；以及支撑部82，支撑喷嘴清扫构件81。另外，在图3A中，表示了去除单元8c1位于比喷嘴71的清扫方向Dc的上游侧端部更靠清扫方向Dc的上游侧的位置时的、喷嘴71和去除单元8c1的结构。

去除单元8c1具有喷洒器81A和刮除器81B这两种喷嘴清扫构件81。这些喷嘴清扫构件81中，喷洒器81A发挥将冲洗液涂遍喷嘴71的唇部76的冲洗液供给功能，刮除器81B发挥在喷洒器81A的清扫方向Dc的上游侧从喷嘴71的唇部76去除冲洗液的除液功能。由此，能够与冲洗液一同去除喷嘴71的唇部76的附着物。即，在干燥并固化的涂敷液等附着物附着于唇侧面762的情况下，由喷洒器81A涂遍的冲洗液使附着物一定程度溶解，利用刮除器81B去除包含该溶解物(附着物)的冲洗液。这样，喷嘴清扫构件81使用喷洒器81A和刮除器81B，执行从喷嘴71的唇部76去除附着物的喷嘴清扫处理。这些喷洒器81A和刮除器81B除了在有无供给冲洗液的液体供给孔810这一点外具有相同的外形。因此，在图4中，喷洒器81A的外形代表两种喷嘴清扫构件81。

如图4所示，喷嘴清扫构件81由能被支撑部82支撑的主体811构成。刮除器81B的主体811由具有例如900～4000MPa(兆帕)的弹性模量的弹性体形成，喷洒器81A的主体811由比刮除器81B的主体811硬的硬质体形成。并且，主体811的中央部成为被支撑部82支撑的被支撑部812。主体811具有从被支撑部812延伸设置的延设部813，在该延设部813的顶端形成有大致V字形的槽即V字槽814。V字槽814形成为与喷嘴71的唇部76相应的形状。V字槽814具有：内侧面815a，具有与唇侧面762a相适应的倾斜；以及内侧面815b，具有与唇侧面762b相适应的倾斜。并且，在喷洒器81A的各个内侧面815a、815b形成有安装了冲洗液供给部的冲洗液供给管的液体供给孔810，经由冲洗液供给管供给的冲洗液从液体供给孔810喷出。另一方面，在刮除器81B的各个内侧面815a、815b没有形成液体供给孔810。需要说明的是，在以下无需区分内侧面815a、815b时统称为内侧面815。

如图3A和图3B所示，这样构成的各个喷嘴清扫构件81利用两个紧固构件例如螺栓84装卸自如地固定于支撑部82。即，支撑部82具有：升降部821，能够在Z方向上升降；以及两个在升降部821的上表面沿Z方向立设并沿X方向排列柱部822A、822B。并且，喷洒器81A被紧固到柱部822A、822B中的清扫方向Dc的下游侧的柱部822A的上端，刮除器81B被紧固到清扫方向Dc的上游侧的柱部822B的上端。更具体地，各个喷嘴清扫构件81的被支撑部812被做成能够与对应的柱部822A、822B的上端部卡合的形状。并且，各个喷嘴清扫构件81将各自的V字槽814朝向喷嘴71侧，并以相对于沿Y方向延伸设置的喷嘴71以规定的倾斜角度倾斜的状态紧固于柱部822A、822B的上端部。需要说明的是，柱部822B的上端比柱部822A的上端高，从而刮除器81B被支撑于比喷洒器81A高的位置。

支撑部82在这样固定有各个喷嘴清扫构件81的升降部821的下方具有底座部823。并且，升降部821由底座部823可升降地支撑。即，在支撑部82设有：导轨824，从底座部823的上表面沿Z方向立设；以及施力构件825(例如，压缩弹簧)，设置在底座部823与升降部821之间。并且，导轨824引导升降部821沿Z方向移动，并且施力构件825相对于底座部823向上方对升降部821施力。因此，固定于升降部821的各个喷嘴清扫构件81借助施力构件825施加的力向上方推动。

另外，支撑部82的底座部823安装于驱动单元8c2。该驱动单元8c2具有：一对辊851、851，在Y方向上配置于喷嘴71的两个外侧；以及无端传送带852，架设在辊851、851上。在无端传送带852的上表面安装有支撑部82的底座部823。这样构成的驱动单元8c2通过旋转辊851、851来向Y方向驱动无端传送带852的上表面，从而使各喷嘴清扫构件81随着支撑部82沿Y方向移动。

并且，若如上所述构成的喷嘴清洁器8c使各个喷嘴清扫构件81从下方接近位于与上述的喷嘴清扫位置相当的倾斜面接触位置P1的喷嘴71的唇部76，则仅喷嘴清扫构件81中的刮除器81B抵接于喷嘴71的倾斜面731，并被施力构件825按压。即，刮除器81B的V字槽814与喷嘴71抵接。在本实施方式中，为了控制此时的V字槽814与喷嘴71之间的抵接状态，与刮除器81B对应地设置有开口调整部86。

如图3B所示，开口调整部86具备：基座板861，在升降部821上与V字槽814的宽度方向X平行地延伸设置；按压构件862、863，配置于刮除器81B的(+X)侧和(-X)侧；以及紧固构件864、864，将按压构件862、863固定于基座板861。基座板861固定于升降部821。并且，按压构件862、863相对基座板861在宽度方向X上移动自如。在按压构件862的上端部朝向刮除器81B设置有突起部位862a。因此，用户或操作者通过使按压构件862沿着基座板861向(-X)方向滑动，使突起部位862a按压刮除器81B的一部分。

更详细地，在刮除器81B中，通过V字槽814的形成在延设部813的宽度方向X上形成有两个肩部位816a、816b。其中，突起部位862a对位于(+X)侧的肩部位816a向(-X)方向施加按压力(应力)。由此，肩部位816a向(-X)侧变形，从而使构成V字槽814的内侧面815a的倾斜改变。另外，在按压构件863的上端部也与按压构件862相同地，朝向刮除器81B设置有突起部位863a。因此，用户们通过使按压构件863沿着基座板861向(+X)方向滑动，使突起部位863a对位于(-X)侧的肩部位816b向(+X)方向施加按压力(应力)。由此，肩部位816b向(+X)侧变形，从而使构成V字槽814的内侧面815b的倾斜改变。这样，使V字槽814的开口形状改变。并且，在该开口形状变成期望形状的时刻，利用螺栓等紧固构件864、864将按压构件862、863固定于基座板861。此处，从(+X)侧和(-X)侧的两个方向进行了开口调整，但是可以仅从一个方向进行调整。另外，对使开口形状改变的理由和改变方式在后面进行详述。

如上所述，通过在使喷洒器81A从喷嘴71的唇部76离开且将刮除器81B的V字槽814按压于喷嘴71的唇部76的状态下，使各个喷嘴清扫构件81在清扫方向Dc移动，对喷嘴71的唇部76进行清扫。

图5是表示由喷嘴清洁器进行喷嘴清扫处理的一例的流程图。图6是示意性表示根据图5的流程图执行的动作的主视图。在涂敷装置1中，运算单元通过存储于控制单元9的存储单元的控制程序以下面方式控制装置各部来执行由喷嘴清扫构件81进行的喷嘴71的清扫动作。

在步骤S101中，受到驱动单元8c2的驱动，去除单元8c1移动至倾斜面接触位置P1。由此去除单元8c1位于定位在倾斜面接触位置P1的喷嘴71的倾斜部73的下方，喷洒器81A和刮除器81B从下方与倾斜部73的倾斜面731相对(图6的“S101”栏)。该时刻，在清扫方向Dc上喷洒器81A和刮除器81B均位于比具有喷出口711的喷出口形成部72更靠上游侧的位置。另外，在步骤S101中，喷嘴71的倾斜部73在Z方向上与喷洒器81A和刮除器81B隔开。

这样，若去除单元8c1到倾斜面接触位置P1的移动完成，则如图6的“S102”栏所示，喷嘴71从喷出口711喷出规定量的涂敷液La(步骤S102)。此处的涂敷液La的喷出以排出局部进入到喷出口711的空气和清洗液作为主要目的之一来执行。因此，虽然在图6中夸张地表示，但是仅以从喷出口711向下方稍微喷出的程度喷出涂敷液La。

在接下的步骤S103中，如图6的“S103”栏所示，喷嘴71下降到比上方位置低的下方位置。更详细地，若喷嘴71开始下降，则喷嘴71的倾斜部73与刮除器81B之间的间隔减小，在倾斜部73中，唇侧面762与刮除器81B的内侧面815接触。喷嘴71进一步下降，以抵抗施力构件825所施加的力的方式向下方推压刮除器81B。另外，在保持进入到喷洒器81A的两个内侧面815之间的唇侧面762与各内侧面815之间的恒定间隔的情况下，喷洒器81A与刮除器81B一同向下方移动。这样，在倾斜部73中，刮除器81B的内侧面815借助施力构件825施加的力被按压于唇侧面762，且喷洒器81A的内侧面815与唇侧面762之间确保恒定的间隔。另外，虽然刮除器81B与唇侧面762抵接，但是喷洒器81A和刮除器81B各自与倾斜部73的倾斜面731之间形成间隔，喷洒器81A和刮除器81B各自不与倾斜面731的宽度方向中的中央部接触。但是，如果通过步骤S103的执行使刮除器81B的内侧面815与唇侧面762抵接，则也可以构成为刮除器81B与倾斜面731的中央部抵接。

如上所述，喷洒器81A和刮除器81B具有相同的外形，而且，刮除器81B被支撑于比喷洒器81A高的位置。结果，成为如下状态：刮除器81B的内侧面815按压并抵接于唇侧面762，而喷洒器81A的内侧面815与唇侧面762隔开一定的间隔地相对。这样，通过将喷洒器81A和刮除器81B设置成相同的外形(特别是通过将V字槽814设置为相同的形状)，能够可靠地形成上述间隔。需要说明的是，也可以通过将喷洒器81A的V字槽814设置成大于刮除器81B的V字槽814来确保上述间隔。

若这样的喷嘴71的下降完成，则从喷洒器81A的液体供给孔810喷出冲洗液Lb，开始向喷嘴71的倾斜部73与喷洒器81A之间供给冲洗液(步骤S104)。在本实施方式中，不仅喷出涂敷液La，还喷出冲洗液Lb，其理由在于为了应对刮除器81B的高速移动。即，虽然能够将涂敷液La用作由刮除器81B进行喷嘴清扫时的润滑液，但是若此时的刮除器81B的移动速度变高，则仅通过涂敷液很难获得充分的润滑作用。因此，在本实施方式中，为了提高刮除器81B的移动速度以缩短喷嘴清扫处理所需的时间，在喷嘴清扫处理时将涂敷液La和冲洗液Lb兼用做润滑剂。但是，将冲洗液Lb的喷出量抑制为恒定以下。更具体来说，优选，对喷嘴清扫处理后的喷出口711，以仅残留冲洗液和涂敷液的混合液(被冲洗液稀释的涂敷液为不对涂敷处理带来影响的程度)或者涂敷液的方式，调整冲洗液Lb的单位时间的供给量(喷出量)。另外，能够将各种液体作为冲洗液Lb，例如可以是组成涂敷液的溶剂。该情况下，在作为溶剂的冲洗液中溶解有溶质的溶液成为涂敷液。

接着，驱动单元8c2在清扫方向Dc驱动去除单元8c1，从而开始使喷洒器81A和刮除器81B向清扫方向Dc移动的构件移动动作(步骤S105)。在该构件移动动作的初始阶段中，刮除器81B一边沿着倾斜面731抵抗施力构件825所施加的力而逐渐地被按下，一边与喷洒器81A一同向喷出口形成部72移动。在这样移动到喷出口形成部72时，喷洒器81A和刮除器81B与倾斜面731具有相同的位置关系。即，由于喷洒器81A和刮除器81B各自处于与唇侧面762抵接的位置关系，因此喷洒器81A和刮除器81B各自与喷出口形成部72的顶端面721之间形成间隔，但喷洒器81A和刮除器81B各自不与顶端面721接触。但是，如果刮除器81B的内侧面815与唇侧面762抵接，则也可以构成为刮除器81B与顶端面721抵接。

这样在喷洒器81A和刮除器81B从倾斜面接触位置P1移动到清扫开始位置P2后继续构件移动动作，在清扫开始位置P2开始对喷出口形成部72的清扫动作。而且，如图6的“S104-S105”栏所示，在从清扫开始位置P2向清扫方向Dc移动的期间也继续从液体供给孔810供给冲洗液Lb。因此，在喷出口形成部72中，喷洒器81A一边将从液体供给孔810供给的冲洗液Lb扩散到唇侧面762一边向清扫方向Dc移动。结果，在清扫方向Dc上的喷洒器81A与刮除器81B之间，对唇侧面762涂遍冲洗液Lb。

另外，在构件移动动作中，一边用内侧面815抵接一边向清扫方向Dc移动的刮除器81B，从唇侧面762去除由喷洒器81A扩散的冲洗液Lb。此时，由喷洒器81A扩散的冲洗液Lb通过毛细管现象进入刮除器81B的内侧面815与唇侧面762之间的微小的间隙。这样，冲洗液Lb充满刮除器81B的内侧面815与喷嘴71的唇侧面762之间，从而缓和它们之间产生的摩擦力。另外，刮除器81B与冲洗液Lb的去除并行地刮除从喷嘴71的喷出口711向下方突出的涂敷液La，使充满喷出口711的涂敷液La的下部沿着清扫方向Dc均匀。这样的一系列的动作一直执行到作为喷出口711的(-Y)侧端部的位置的喷出口末端位置P3，而且在通过台阶部74的期间，也与在喷出口形成部72相同地继续喷嘴清扫处理。

并且，若去除单元8c1到达台阶通过位置P4，喷洒器81A和刮除器81B移动到比喷嘴71更靠清扫方向Dc的下游侧，则驱动单元8c2使去除单元8c1停止(步骤S106)。另外，停止从液体供给孔810供给冲洗液(步骤S107)。

另外，若这样的喷嘴71的喷嘴清扫处理完成，则定位机构79使喷嘴71移动到涂敷载物台32的上方的涂敷位置(用点线表示的位置)。然后，从定位于涂敷位置的喷嘴喷出涂敷液，向在涂敷载物台32之间搬运的基板W涂敷涂敷液(涂敷工序)。

在如上所述那样构成的第一实施方式中，在喷出口形成部72的(+Y)侧设置倾斜部73并在(-Y)侧设置台阶部74。因此，能够防止涂敷液在喷出口711的延伸方向Y中的喷出口形成部72的两端部通过毛细管现象扩散，从而能够在适当范围涂敷涂敷液。而且，刮除器81B在倾斜面接触位置P1与喷嘴71抵接后，在维持倾斜部73抵接状态的情况下将刮除器81B向喷出口形成部72引导来进行喷嘴清扫。因此，能够有效地抑制刮除器81B导致的喷嘴71的摩耗和破损。结果，能够延长喷嘴71和刮除器81B的寿命，从而降低运行成本和提高维护性。

但是，喷嘴清扫构件81在反复进行上述的喷嘴清扫处理的期间会产生摩耗。特别地，由于刮除器81B的V字槽814一边与喷嘴71的唇部76(包括倾斜部73、喷出口形成部72和台阶部74)抵接一边滑动，因此与喷洒器81A相比容易摩耗。而且，与上述日本专利第5766990号公报记载的装置相同地，在以使V字槽814与喷嘴71的唇部76配合的方式构成刮除器81B的情况下，有时因产生局部的摩耗而导致喷嘴清扫能力降低。因此，在本实施方式中，以下面方式调整V字槽814的开口形状，直到刮除器81B的内侧面815按压于唇侧面762。

图7是示意性表示从清扫方向的下游侧观察时的喷嘴的唇部与刮除器之间的位置关系的图。在图7中的(a-1)至(a-4)栏图示了使V字槽814与喷嘴71的唇部76配合的例子(以下称为“比较例”)，且在(b-1)至(b-4)栏中图示了上述实施方式。另外，在图7中的(a-1)和(b-1)栏图示了喷嘴71的唇部76与刮除器81B在Z方向上离开的状态。同栏中的一点划线是喷嘴71与刮除器81B之间的接近方向即与Z方向平行的假想线，附图标记θa1、θb1表示唇侧面762相对于接近方向Z的倾斜角，附图标记θa2、θb2表示V字槽814的内侧面815相对于接近方向Z的倾斜角。

另外，在(a-2)和(b-2)栏用实线箭头图示了在刮除器81B与喷嘴71的唇部接触的状态下向刮除器81B施加的推定的应力。在(a-3)和(b-3)栏用实线箭头图示了在刮除器81B按压于喷嘴71的唇部76的状态下向刮除器81B施加的推定的应力。这些实线箭头的长度表示了应力的大小。而且，在(a-4)和(b-4)栏示意性表示了反复进行喷嘴清扫处理后的刮除器81B的V字槽814的形状。

此处，首先说明比较例。在比较例中，倾斜角θa1、θa2相同，喷嘴71的唇侧面762与V字槽814的内侧面815平行。因此，若使喷嘴71下降使唇侧面762与刮除器81B的内侧面815接触，则如(a-2)栏所示力被均等地施加在比较宽的范围内。然后，通过使喷嘴71进一步下降，一边抵抗施力构件825施加的力使刮除器81B弹性变形一边向下方按压刮除器81B，此时，如(a-3)栏中用点线绘制的圆圈所示，向刮除器81B的内侧面815施加的力集中于喷嘴71的顶端即唇部76的顶端角部。在喷嘴清扫处理中，由于在该状态下刮除器81B相对喷嘴71滑动，因此如(a-4)栏所示，因与喷嘴71的顶端接触的部分发生较大的摩耗而产生摩耗部位816，导致V字槽814的开口形状变化。结果，不能得到充分的除液性能。另外，由于摩耗部位接近喷出口711，因此导致摩耗粉进入喷出口711，从而有可能在涂敷处理中混入向基板W涂敷的涂敷液中。

因此，在本实施方式中，如图7的(b-1)栏所示，利用开口调整部86以构成V字槽814的内侧面815的倾斜角θb2比喷嘴71的唇侧面762的倾斜角θb1小的方式进行倾斜角调整，将喷嘴71的唇侧面762和V字槽814的内侧面815调整为非平行状态。若在这样使V字槽814的开口形状改变的状态下，使喷嘴71下降以使唇侧面762与刮除器81B的内侧面815接触，则如(b-2)栏所示，该接触仅在V字槽814的开口侧的端部产生。在该阶段中，刮除器81B对唇侧面762的按压不发挥作用，该状态下，在内侧面815中的V字槽814的开口侧的端部卡止喷嘴71的唇部76。然后，通过使喷嘴71进一步下降，一边抵抗施力构件825施加的力使刮除器81B弹性变形一边向下方按压刮除器81B，此时，对刮除器81B的内侧面815施加的力的范围即通过内侧面815对唇部76的按压范围逐渐地扩大，该力不集中于唇部76的顶端角部而是分散的。在本实施方式中，由于在该状态下刮除器81B相对于喷嘴71滑动地执行喷嘴清扫处理，因此摩耗量小，如(b-4)栏所示，与比较例相比摩耗部位816小，从而抑制V字槽814变化。结果，能够抑制除液性能的降低，延长刮除器81B的寿命。另外，能够有效地抑制产生摩耗粉，能够良好地进行涂敷处理。

另外，在发生喷嘴71或刮除器81B的V字槽814的规格变更的情况下，也能够灵活地应对。即，在不具有开口调整部86的涂敷装置1(参照图7的“比较例”栏)中，由于需要重新制作具有与变更后的规格对应的开口形状的刮除器81B，因此很难迅速地应对规格变更。特别地，在以成型品提供刮除器81B的情况下为了解决毛刺、分型线(Parting Line)的问题，通常提供新的刮除器81B需要时间。另外，在重复喷嘴清扫处理的期间，有时因摩耗导致V字槽814的开口形状变形而不能得到期望的喷嘴清扫效果，需要更换新的刮除器81B。对此，在具有开口调整部86的涂敷装置1(参照图7的“实施方式”栏)中，能够通过从与喷出口711的延伸方向Y交叉的方向(在本实施方式中为X方向)向刮除器81B施加应力来调整V字槽814的开口形状。结果，能够灵活地应对喷嘴的规格变更，并且能够通过随着喷嘴抵接构件的消耗而进行的开口形状的调整来实现喷嘴抵接构件的长寿命化，获得高的通用性。

在如上所述的上述实施方式中，驱动单元8c2相当于本发明的“驱动部”的一例。另外，唇部76相当于本发明的“喷嘴主体部的顶端部”的一例，喷出口形成部72的(+Y)侧端部相当于本发明的“喷出口形成部的一侧端部”的一例。另外，刮除器81B相当于本发明的“喷嘴抵接构件”的一例，刮除器81B的V字槽814相当于本发明的“凹部”的一例。另外，Y方向相当于本发明的“喷出口的延伸方向”，(+Y)侧和(-Y)侧分别相当于本发明的“延伸方向的一侧”和“延伸方向的另一侧”，(+Z)方向和(-Z)方向分别本发明的“与喷出涂敷液的方向相反的一侧”和“喷出涂敷液的方向”。而且，图5所示的喷嘴清扫处理相当于本发明的“清扫工序”的一例，喷嘴清扫处理后的使用喷嘴71向基板W涂敷涂敷液的涂敷处理相当于本发明的“涂敷工序”的一例。

另外，本发明并不局限于上述的实施方式，在不脱离其宗旨的情况下能够进行上述方式以外的各种变更。例如，在上述实施方式中，在比刮除器81B更靠清扫方向Dc的下游侧(图3A的左手侧)设置有喷洒器81A，但是喷洒器的数量并不局限于“1”，可以是多个。另外，对于本发明，能够应用于不装备喷洒器的涂敷装置和涂敷方法。

另外，在上述实施方式中，使用冲洗液Lb作为向喷嘴71的唇部76扩散的液体，但是也可以向唇部76扩散涂敷液La，通过刮除器81B去除涂敷液La来进行喷嘴清扫处理。

另外，在上述实施方式中，并用涂敷液和冲洗液作为刮除器81B高速移动时的润滑剂，但是也可以根据移动速度仅使用涂敷液作为润滑剂。

另外，在上述实施方式中，设置有从喷嘴71的喷出口711喷出涂敷液La的步骤S102。但是，也可以省略该步骤S102。

另外，在上述实施方式中，一体地向清扫方向Dc移动喷洒器81A和刮除器81B。但是，也可以分别单独地向清扫方向Dc移动喷洒器81A和刮除器81B。

另外，喷洒器81A和刮除器81B具有相同的外形不是必须的，在设置多个喷洒器的情况下，这些喷洒器具有相同的外形也不是必须的。

另外，在上述实施方式中，以从喷出涂敷液的方向Z的下游侧(铅垂方向下方侧)观察的倾斜部73的形状呈大致三角形或梯形的方式设置有倾斜面731，但是倾斜面731的形状并不局限于此。例如，也可以做成从喷出口形成部72的(+Y)侧的端部向(+Y)侧扩展的形状，将在倾斜面接触位置P1抵接的刮除器81B的V字槽814向喷出口形成部72连续地引导。另外，在上述实施方式中，将倾斜面731设置为平面状，但是也可以设置为弯曲状。

另外，在上述实施方式中，在喷出口形成部72的(-Y)侧设置台阶部74，防止涂敷液通过毛细管现象向(-Y)侧扩散，台阶部74的形状可以是任意形状。但是，若考虑涂敷膜的膜厚均匀性，则优选尽量减小台阶。

另外，在上述实施方式中，使去除单元8c1从延伸方向Y的(+Y)侧向(-Y)侧移动，但是可以将去除单元8c1固定使喷嘴71向延伸方向Y移动，或者使喷嘴71与去除单元8c1一同向延伸方向Y移动。总之，本发明能够应用于使刮除器81B相对于喷嘴71从延伸方向Y的(+Y)侧向(-Y)侧相对移动来进行喷嘴清扫处理的所有涂敷技术。

另外，在上述实施方式中，将本发明应用于在向基板W的下表面喷吹气体使基板W从涂敷载物台32悬浮的状态下搬运该基板W的涂敷装置1，但是也可将本发明应用于以其他方式搬运基板的涂敷装置。另外，也可将本发明应用于在将板固定于载物台的状态下进行涂敷的涂敷装置。

而且，在上述实施方式中，设置开口调整部86来调整刮除器81B的V字槽814的开口形状，但是本发明也可应用于没有设置开口调整部86的涂敷装置和涂敷方法。另外，本发明也可应用于使用图7的“比较例”栏所示的唇侧面762的倾斜角θa1和V字槽814的内侧面815的倾斜角θa2一致的刮除器81B来进行喷嘴清扫处理的涂敷装置。

本发明能够应用于从设置于喷嘴的顶端部的喷出口喷出涂敷液来进行涂敷的所有涂敷装置、涂敷方法和喷嘴。

Claims (7)

1.一种涂敷装置，其特征在于，具备：

喷嘴，从设置于喷嘴主体部的顶端部的狭缝状的喷出口喷出涂敷液；

喷嘴抵接构件，具有能够与所述顶端部抵接的凹部；以及

驱动部，使所述喷嘴抵接构件相对于所述喷嘴从所述喷出口的延伸方向的一侧向另一侧移动，

所述顶端部具有：喷出口形成部，形成有所述喷出口；以及倾斜部，从所述喷出口形成部的一侧的端部向所述延伸方向的一侧且向喷出所述涂敷液的方向的相反侧延伸，

所述驱动部在使所述喷嘴抵接构件的所述凹部与所述倾斜部抵接且使所述喷嘴抵接构件沿着所述倾斜部相对地移动到所述喷出口形成部后，一边使所述凹部与所述喷出口形成部抵接，一边使所述喷嘴抵接构件相对于所述喷出口形成部移动。

2.根据权利要求1所述的涂敷装置，其特征在于，

所述顶端部具有台阶部，所述台阶部在所述喷出口形成部的另一侧向喷出所述涂敷液的方向的相反侧延伸。

3.根据权利要求1或2所述的涂敷装置，其特征在于，

从喷出所述涂敷液的方向的下游侧观察时，所述倾斜部具有从所述喷出口形成部的一侧的端部向所述延伸方向的一侧扩展的形状。

4.根据权利要求3所述的涂敷装置，其特征在于，

从喷出所述涂敷液的方向的下游侧观察时的所述倾斜部的形状是大致三角形。

5.一种涂敷方法，其特征在于，具备：

涂敷工序，从设置于喷嘴主体部的顶端部的狭缝状的喷出口喷出涂敷液进行涂敷；以及

清扫工序，使喷嘴抵接构件一边与所述顶端部抵接一边从所述喷出口的延伸方向的一侧向另一侧相对地移动，通过所述喷嘴抵接构件清扫所述顶端部，

使用喷嘴进行所述涂敷工序，所述喷嘴在所述顶端部设置有喷出口形成部以及倾斜部，所述喷出口形成部形成有所述喷出口，所述倾斜部从所述喷出口形成部的一侧向所述延伸方向的一侧且向喷出所述涂敷液的方向的相反侧延伸，

所述清扫工序如下进行，即，在使所述喷嘴抵接构件的凹部与所述倾斜部抵接且使所述喷嘴抵接构件沿着所述倾斜部相对地移动到所述喷出口形成部后，一边使所述凹部与所述喷出口形成部抵接，一边使所述喷嘴抵接构件相对于所述喷出口形成部移动。

6.一种喷嘴，其特征在于，

在所述喷嘴从设置于喷嘴主体部的顶端部的狭缝状的喷出口喷出涂敷液后，通过从所述喷出口的延伸方向的一侧向另一侧相对地移动的喷嘴抵接构件来刮除附着于所述顶端部的涂敷液，

所述顶端部具有：喷出口形成部，形成有所述喷出口；以及倾斜部，从所述喷出口形成部的一侧的端部向所述延伸方向的一侧且向喷出所述涂敷液的方向的相反侧延伸，

所述倾斜部与沿着所述延伸方向相对地移动的所述喷嘴抵接构件抵接并将所述喷嘴抵接构件引导至所述喷出口形成部。

7.根据权利要求6所述的喷嘴，其特征在于，

所述顶端部具有台阶部，所述台阶部在所述喷出口形成部的另一侧向喷出所述涂敷液的方向的相反侧延伸。