CN114950810A - 喷嘴清洗装置、喷嘴清洗方法以及涂敷装置 - Google Patents

Abstract

本发明涉及喷嘴清洗装置、方法及涂敷装置，在使喷嘴抵接构件以与喷嘴的下端部保持抵接的状态在喷出口的延伸设置方向上相对于喷嘴移动来去除附着于喷嘴的处理液时，能抑制残留在喷嘴的处理液的量。在使喷嘴抵接构件相对于在下端部设置有突出部位和后退部位的喷嘴以与下端部保持抵接的状态在喷出口的延伸设置方向移动时，在下端部的一部分残留有处理液。残留位置是后退部位中的与突出部位相邻的边界位置，即突出量比突出部位的突出量连续或非连续地减少的位置。在本发明中，在喷嘴抵接构件通过边界位置时，即喷嘴抵接构件从突出部位向后退部位相对地移动时，相对移动速度比在突出部位移动时的第一移动速度减速。结果，处理液的残留量被大幅削减。

Description

喷嘴清洗装置、喷嘴清洗方法以及涂敷装置

技术领域

本发明涉及一种从设置于喷嘴的下端部的喷出口对液晶显示装置用玻璃基板、半导体基板、PDP用玻璃基板、光掩模用玻璃基板、彩色滤光片用基板、记录盘用基板、太阳能电池用基板、电子纸用基板等精密电子装置用基板、矩形玻璃基板、薄膜液晶用柔性基板、有机EL用基板(以下简称为“基板”)喷出涂敷液并进行涂敷的涂敷装置、通过喷嘴抵接构件去除并清洗附着于上述喷嘴的下端部的附着物的喷嘴清洗技术。

背景技术

以往，为了对基板涂敷处理液，使用例如在日本特开2018-187597号公报中记载那样的从狭缝状的喷出口喷出处理液的喷嘴。在该喷嘴中，有时附着于设置有喷出口的下端部并干燥而固化后的处理液等的附着物落下而污染基板。因此，在开始利用喷嘴进行涂敷之前，执行喷嘴清洗处理。该喷嘴清洗处理由喷嘴清洗装置来执行，该喷嘴清洗装置具有：喷嘴抵接构件，能够与喷嘴的下端部抵接；以及移动部，使喷嘴抵接构件相对于喷嘴在喷出口的延伸设置方向上相对移动。

在上述日本特开2018-187597号公报中记载的喷嘴清洗装置中，在使喷嘴抵接构件的凹部与喷嘴的下端部抵接的状态下，使喷嘴抵接构件在延伸设置方向上以恒定速度相对于喷嘴相对移动。由此，去除附着于喷嘴的下端部的侧面的处理液。但是，有时发生以下的问题。在日本特开2018-187597号公报中记载的喷嘴中，在喷嘴清洗处理中最先与喷嘴抵接构件抵接的部位为倾斜面，与此相对，最后与喷嘴抵接构件抵接的部位为台阶部。因此，通过喷嘴抵接构件从喷嘴刮下的处理液可能残留在台阶部。而且，当处理液的残留量变多时，在使用该喷嘴对下一个基板涂敷处理液时，残留的处理液可能会附着于基板。这是导致涂敷于基板的处理液的膜厚均匀性恶化的主要原因之一。另外，有时导致残留处理液附着于应该涂敷的区域之外。

这样的问题并不限于对在喷嘴抵接构件的相对移动方向上的终端侧设置有台阶部的喷嘴进行清洗的喷嘴清洗处理中。例如，在如后面说明的图2和图3所示的在上述相对移动方向(喷出口的延伸设置方向)上的喷嘴的下端中央部设置有切口部位的喷嘴、如后面说明的图7所示的在上述终端侧设置有倾斜部位的喷嘴等中，在使喷嘴抵接构件以恒定速度移动而进行喷嘴清洗处理时也可能产生上述问题。

发明内容

本发明是鉴于上述问题而完成的，目的在于提供一种喷嘴清洗装置、喷嘴清洗方法以及涂敷装置，在使喷嘴抵接构件以与喷嘴的下端部保持抵接的状态在喷嘴的喷出口的延伸设置方向上相对于喷嘴相对地移动来去除附着于喷嘴的处理液时，能够抑制残留于所述喷嘴的处理液的量。

本发明的第一方式是一种喷嘴清洗装置，对从设置于从喷嘴的主体部向下方突出的下端部的狭缝状的喷出口喷出处理液的喷嘴进行清洗，其特征在于，具有：喷嘴抵接构件，与喷嘴的下端部自由抵接；移动部，使喷嘴抵接构件以与喷嘴的下端部保持抵接的状态在喷出口的延伸设置方向上相对于喷嘴相对地移动；以及速度控制部，控制移动部对喷嘴抵接构件的移动速度；在下端部设置有：突出部位，从主体部向下方突出的突出量为恒定；以及后退部位，随着向延伸设置方向前进，突出量比突出部位的突出量连续地或非连续地减少而向主体侧后退，速度控制部在突出部位使喷嘴抵接构件以第一移动速度移动，另一方面，在喷嘴抵接构件从突出部位向后退部位移动时，使喷嘴抵接构件的移动速度从第一移动速度减速。

另外，本发明的第二方式是一种喷嘴清洗方法，对从设置于从喷嘴的主体部向下方突出的下端部的狭缝状的喷出口喷出处理液的喷嘴进行清洗，其特征在于，包括：第一工序，使喷嘴抵接构件与喷嘴的下端部抵接；以及第二工序，使喷嘴抵接构件以与下端部保持抵接的状态在喷出口的延伸设置方向上相对于喷嘴相对地移动，第二工序包括以下工序：在下端部中的从主体部向下方突出的突出量为恒定的突出部位，使喷嘴抵接构件以第一移动速度移动的工序；以及喷嘴抵接构件从突出部位向后退部位移动时，使喷嘴抵接构件的移动速度从第一移动速度减速的工序，其中，后退部位是随着向延伸设置方向前进，突出量比突出部位的突出量连续地或非连续地减少而向主体部侧后退的部位。

进而，本发明的第三方式是一种涂敷装置，其特征在于，具有：喷嘴，从设置于从喷嘴的主体部向下方突出的下端部的狭缝状的喷出口对基板喷出并供给处理液；以及上述喷嘴清洗装置。

在使喷嘴抵接构件与在喷嘴的下端部设置有突出部位和后退部位的喷嘴的下端部保持抵接的状态，使该喷嘴抵接构件相对于喷嘴在喷出口的延伸设置方向上相对地移动时，在喷嘴的下端部的一部分残留有处理液。该残留位置是后退部位中的与突出部位相邻的边界位置的附近，即，突出量比突出部位的突出量连续地或非连续地减少的位置的附近。特别是，如果像现有的装置那样以恒定的第一移动速度使喷嘴抵接构件相对地移动，则导致边界位置处的处理液的残留量变多。与此相对，在喷嘴抵接构件通过边界位置时，即，喷嘴抵接构件从突出部位向后退部位相对地移动时，若相对移动速度比第一移动速度减速，则处理液的残留量大幅地被削减。

发明效果

在使喷嘴抵接构件以与喷嘴的下端部保持抵接的状态在喷嘴的喷出口的延伸设置方向上相对于喷嘴相对地移动来去除附着于喷嘴的处理液时，能够抑制残留在喷嘴的处理液的量。

附图说明

图1是示意性地示出装备作为本发明的喷嘴清洗装置的第一实施方式的喷嘴清洁器的涂敷装置的整体结构的图。

图2是从喷嘴的斜下方观察时的立体图。

图3是表示喷嘴清洁器的结构的立体图。

图4是表示基于作为本发明的喷嘴清洗装置的第一实施方式的喷嘴清洁器的喷嘴清洗处理的一例的流程图。

图5是示意性地示出按照图4的流程图执行的动作的一部分的图。

图6是示意性地示出由本发明的喷嘴清洗装置的第二实施方式执行的动作的一部分的图。

图7是示意性地示出由本发明的喷嘴清洗装置的第三实施方式执行的动作的一部的图。

附图标记说明

1：涂敷装置

8：喷嘴清洗单元

8c：喷嘴清洁器(喷嘴清洗装置)

8c2：移动部

71a：喷出口

72：切口部位(后退部位)

74：台阶部位(后退部位)

75a，75b：突出部位

76：倾斜部位(后退部位)

81：喷嘴清洗构件

81B：刮板(喷嘴抵接构件)

92：运算部(速度控制部)

711：(喷嘴的)主体部

712：(喷嘴的)下端部

Dc：清洗方向(延伸设置方向)

P2、P3、P5：边界位置

V1：第一移动速度

W：基板

Y：延伸设置方向

具体实施方式

图1是示意性地示出装备作为本发明的喷嘴清洗装置的第一实施方式的喷嘴清洁器的涂敷装置的整体结构的图。该涂敷装置1是对从图1的左手侧朝向右手侧以水平姿势被搬送的基板W的上表面Wf上涂敷处理液的狭缝涂布机。需要说明的是，在以下的各图中，为了明确装置各部的配置关系，将基板W的搬送方向称为“X方向”，将从图1的左手侧朝向右手侧的水平方向称为“+X方向”，将反方向称为“-X方向”。另外，在与X方向正交的水平方向Y中，将装置的正面侧称为“-Y方向”并将装置的背面侧称为“+Y方向”。进而，将铅垂方向Z上的上方向以及下方向分别称为“+Z方向”以及“-Z方向”。

首先，使用图1对该涂敷装置1的结构以及动作的概要进行说明，之后对喷嘴清洁器的更详细的结构进行说明。需要说明的是，涂敷装置1的基本的结构、动作原理与本申请申请人在先公开的日本特开2018-187597号公报中记载的内容共通。因此，在本说明书中，省略了对涂敷装置1的各结构中能够应用与这些公知文献中记载的内容同样的结构的部分以及从这些文献的记载中容易理解结构的部分的详细说明，而以本实施方式的特征部分为主进行说明。

在涂敷装置1中，沿着基板W的搬送方向Dt(+X方向)依次接近地配置有输入输送机100、输入移载部2、浮起载物台部3、输出移载部4、输出输送机110，如以下详细说明那样，由它们形成在大致水平方向上延伸的基板W的搬送路径。需要说明的是，在以下的说明中，在与基板W的搬送方向Dt建立关联地表示位置关系时，有时将“基板W的搬送方向Dt的上游侧”简称为“上游侧”，并且将“基板W的搬送方向Dt的下游侧”简称为“下游侧”。在该例中，从某基准位置观察时，相对地，(-X)侧相当于“上游侧”，(+X)侧相当于“下游侧”。

作为处理对象的基板W从图1的左手侧被搬入至输入输送机100。输入输送机100具有辊柱式输送机101、以及对其进行旋转驱动的旋转驱动机构102，通过辊柱式输送机101的旋转使基板W以水平姿势向下游侧即(+X)方向搬送。输入移载部2具有辊柱式输送机21、以及具有对其进行旋转驱动的功能以及使其升降的功能的旋转及升降驱动机构22。通过使辊柱式输送机21旋转，基板W进一步地向(+X)方向搬送。另外，通过升降辊柱式输送机21而变更基板W的铅垂方向位置。通过这样地构成的输入移载部2，基板W从输入输送机100向浮起载物台部3移载。

浮起载物台部3具有沿着基板的搬送方向Dt被分割为三个部分的平板状的载物台。即，浮起载物台部3具有入口浮起载物台31、涂敷载物台32以及出口浮起载物台33，这些各个载物台的上表面彼此形成同一平面的一部分。在入口浮起载物台31以及出口浮起载物台33各自的上表面上呈矩阵状地设置有多个喷出孔，该喷出孔喷出从浮起控制机构35供给的压缩空气，通过从喷出的气流施加的浮力使基板W浮起。这样，基板W的下表面Wb以从载物台上表面离开的状态被支承为水平姿势。基板W的下表面Wb与载物台上表面的距离即浮起量能够设为例如10微米至500微米。

另一方面，在涂敷载物台32的上表面交替地配置有喷出压缩空气的喷出孔以及吸引基板W的下表面Wb与载物台上表面之间的空气的吸引孔。浮起控制机构35通过控制来自喷出孔的压缩空气的喷出量与来自吸引孔的吸引量，从而精密地控制基板W的下表面Wb与涂敷载物台32的上表面的距离。由此，将通过涂敷载物台32的上方的基板W的上表面Wf的铅垂方向位置控制为规定值。作为浮起载物台部3的具体结构，能够应用例如日本专利第5346643号中记载的结构。此外，关于在涂敷载物台32的浮起量，由控制单元9根据后面详细说明的传感器61、62的检测结果来计算，另外，通过气流控制能够高精度地调整。

需要说明的是，在入口浮起载物台31上配设有未图示的升降销，在浮起载物台部3上设置有使该升降销升降的升降销驱动机构34。

经由输入移载部2搬入到浮起载物台部3的基板W通过辊柱式输送机21的旋转而被赋予朝向(+X)方向的推进力，并搬送至入口浮起载物台31上。入口浮起载物台31、涂敷载物台32以及出口浮起载物台33将基板W支承为浮起状态，但不具有使基板W在水平方向上移动的功能。浮起载物台部3中的基板W的搬送通过配置于入口浮起载物台31、涂敷载物台32以及出口浮起载物台33的下方的基板搬送部5进行。

基板搬送部5具有：卡盘机构51，通过与基板W的下表面周缘部局部地抵接而从下方支承基板W；以及吸附及行走控制机构52，具有对设置于卡盘机构51上端的吸附构件的吸附垫(未图示)施加负压而吸附保持基板W的功能以及使卡盘机构51在X方向上往复行走的功能。在卡盘机构51保持基板W的状态下，基板W的下表面Wb位于比浮起载物台部3的各载物台的上表面高的位置。因此，基板W一边被卡盘机构51吸附保持周缘部，一边利用从浮起载物台部3施加的浮力整体保持水平姿势。此外，为了在利用卡盘机构51局部地保持基板W的下表面Wb的阶段内检测基板W的上表面的铅垂方向位置，将板厚测定用的传感器61配置在辊柱式输送机21的附近。通过在该传感器61的正下方位置配置未保持基板W的状态的卡盘(未图示)，从而传感器61能够检测吸附构件的上表面即吸附面的铅垂方向位置。

卡盘机构51保持从输入移载部2搬入到浮起载物台部3的基板W，在该状态下，通过使卡盘机构51向(+X)方向移动，基板W从入口浮起载物台31的上方经由涂敷载物台32的上方被搬送到出口浮起载物台33的上方。被搬送的基板W被交接到配置在出口浮起载物台33的(+X)侧的输出移载部4。

输出移载部4具备：辊柱式输送机41；旋转及升降驱动机构42，具有对辊柱式输送机41进行旋转驱动的功能以及使辊柱式输送机41升降的功能。通过辊柱式输送机41旋转，对基板W赋予向(+X)方向的推进力，基板W沿着搬送方向Dt进一步被搬送。另外，通过使辊柱式输送机41升降来改变基板W的铅垂方向位置。通过辊柱式输送机41的升降而实现的作用将在后面说明。通过输出移载部4，基板W从出口浮起载物台33的上方移载至输出输送机110。

输出输送机110具备辊柱式输送机111、以及对辊柱式输送机111进行旋转驱动的旋转驱动机构112，通过辊柱式输送机111的旋转，基板W进一步向(+X)方向被搬送，最终向涂敷装置1外交付。此外，输入输送机100以及输出输送机110可以作为涂敷装置1的结构的一部分而设置，但也可以是相对于涂敷装置1另外单独设置的构件。另外，例如，设置于涂敷装置1的上游侧的其他单元的基板交付机构也可以用作输入输送机100。另外，设置于涂敷装置1的下游侧的其他单元的基板接受机构也可以用作输出输送机110。

在这样被搬送的基板W的搬送路径上配置有用于向基板W的上表面Wf涂敷处理液的涂敷机构7。涂敷机构7具有作为狭缝喷嘴的喷嘴71。从未图示的处理液供给部向喷嘴71供给处理液，从在喷嘴下部向下开口的喷出口喷出处理液。

喷嘴71能够通过定位机构79在X方向以及Z方向上移动定位。通过定位机构79，将喷嘴71定位于涂敷载物台32的上方的涂敷位置(虚线所示的位置)。从定位在涂敷位置的喷嘴喷出处理液，并涂敷于在喷嘴与涂敷载物台32之间搬送的基板W上。这样，进行向基板W的处理液的涂敷。

设置有用于对喷嘴71实施喷嘴清洗处理的喷嘴清洗单元8。喷嘴清洗单元8具有设置于容器8a内的清洗液贮存槽8b及喷嘴清洁器8c、和控制清洗液贮存槽8b和喷嘴清洁器8c的动作的喷嘴清洗控制机构8d。

在喷嘴71位于喷嘴清洁器8c的上方位置(喷嘴清洗位置)的状态下，通过喷嘴清洁器8c去除附着于喷嘴71的喷出口的周围的处理液。通过这样对向涂敷位置移动前的喷嘴71进行喷嘴清洗处理，能够使在涂敷位置的处理液的喷出从初始阶段就稳定。此外，关于喷嘴71和喷嘴清洁器8c的详细的结构、以及喷嘴清洁器8c对喷嘴71的喷嘴清洗处理将在后面详细说明。

另外，定位机构79能够将喷嘴71定位于喷嘴下端与贮存于清洗液贮存槽8b内的清洗液接触的位置(待机位置)。在不使用喷嘴71执行涂敷处理时，喷嘴71被定位在该待机位置。此外，也可以采用对上述清洗液赋予超声波来清洗喷嘴下端的结构。

此外，在涂敷装置1上设置有用于控制装置各部的动作的控制单元9。控制单元9具备：存储部91，存储规定的控制程序、各种数据；CPU等运算部92，通过执行该控制程序，使装置各部执行规定的动作；以及接口部93，承担与用户、外部装置的信息交换等。在第一实施方式中，如后所述，运算部92控制装置各部，一边以适合于喷嘴清洗的第一速度模式(参照后面说明的图5)对喷嘴清洗构件81相对于喷嘴71的移动速度进行加减速控制，一边执行对喷嘴71的喷嘴清洗处理。即，运算部92作为本发明的“速度控制部”发挥功能。

图2是从喷嘴的斜下方观察时的立体图。需要说明的是，在该图中，为了明确作为清洗对象的喷嘴71的喷出口71a的附近的结构而使喷嘴顶端的尺寸与实际不同地示出。关于这一点，在后面说明的图3等中也是同样的。

该喷嘴71具有整体沿Y方向延伸的形状，具备由未图示的喷嘴支承体固定支承的主体部711和从主体部711向下方突出的下端部(有时也称为“唇部”)712。在该下端部712的下端沿Y方向延伸设置有长条狭缝状的作为开口部的喷出口71a。喷出口71a在Y方向上在比喷嘴71的全长短的喷出口范围内具有开口。另一方面，在喷嘴71的Y方向的中央部以及两端，喷出口71a不开口，在下端部712的中央部设置有切口部位72，在下端部712的(-Y)侧设置有倾斜部位73，并且在(+Y)侧设置有台阶部位74。因此，下端部712中的除了切口部位72、倾斜部位73以及台阶部位74的剩余的部位成为突出部位75a、75b，在各突出部位75a、75b的下端面设置有喷出口71a。即，在喷嘴71中，突出部位75a、75b从主体部711突出恒定的突出量。与此相对，切口部位72以及台阶部位74是随着向延伸设置方向Y前进，从主体部711突出的突出量比突出部位75a、75b的突出量非连续地减少而向主体部711侧后退的部位。即，这些部位72、74相当于本发明的“后退部位”的一例。另一方面，倾斜部位73随着向(+Y)方向前进，从主体部711突出的突出量比突出部位75a、75b的突出量连续地减少而向主体部711侧后退。

该喷嘴71具有从喷出口71a向铅垂下方即(-Z)方向朝向能够一边利用浮起载物台部3浮起一边沿X方向搬送的基板W的上表面Wf喷出处理液的结构。具体而言，当从图外的供给机构对喷嘴71压送处理液时，经由形成在主体部711的内部的内部流路向喷出口71a送液，并从喷出口71a向(-Z)方向喷出。

此外，图2中的附图标记P1～P5分别表示以下的位置，即，

位置P1：表示以下说明的喷嘴清洁器8c的刮板在喷嘴清洗动作中最初抵接的倾斜面抵接位置，

位置P2：表示倾斜部位73与突出部位75a的边界位置，并表示开始喷嘴清洁器8c对突出部位75a的喷嘴清洗动作的清洗开始位置，

位置P3：表示突出部位75a与切口部位72的边界位置，并表示结束喷嘴清洁器8c对突出部位75a的喷嘴清洗动作的清洗结束位置，

位置P4：表示切口部位72与突出部位75b的边界位置，并表示开始喷嘴清洁器8c对突出部位75b的喷嘴清洗动作的清洗开始位置，

位置P5：表示突出部位75b与台阶部位74的边界位置，并表示结束喷嘴清洁器8c对突出部位75a的喷嘴清洗动作的清洗结束位置。

图3是表示喷嘴清洁器的结构的立体图。喷嘴清洁器8c具备：去除单元8c1，随着喷嘴清洗构件81向沿着喷嘴71的下端部(唇部)712的清洗方向Dc移动，从而去除附着于下端部712的附着物；以及移动部8c2，使去除单元8c1在清洗方向Dc上移动。在此，清洗方向Dc是指与喷出口71a的延伸设置方向Y平行且从(-Y)侧朝向(+Y)侧的方向，移动部8c2能够使去除单元8c1在Y方向往复移动。此外，作为成为去除单元8c1的去除对象的处理液，可列举出能够附着于喷嘴71的下端部712的各种物质，例如有处理液的溶质干燥及固化后的物质。例如，在处理液是滤光片用光致抗蚀剂的情况下，处理液中含有的颜料作为处理液附着于喷嘴71的下端部712。

另外，虽然未图示，但喷嘴清洁器8c除了上述的去除单元8c1以及移动部8c2以外，还具有清洗部以及冲洗液供给部。清洗部在通过密闭喷嘴清洗构件81而形成的密闭空间的内部清洗喷嘴清洗构件81。即，清洗部通过在上述密闭空间内对擦拭并去除了附着于喷嘴71的下端部712的处理液的喷嘴清洗构件81供给清洗液，来冲洗掉附着于喷嘴清洗构件81的上述处理液。作为该清洗部，例如能够使用日本特开2014-176812号公报中记载的清洗部。另外，冲洗液供给部具有经由顶端安装于去除单元8c1的可挠性的冲洗液供给管而向去除单元8c1供给冲洗液的功能。

去除单元8c1主要具有：喷嘴清洗构件81，具有与喷嘴71的下端部712对应的凹部(在第一实施方式中为大致V字型的V字槽)；以及支承部82，对喷嘴清洗构件81进行支承。此外，在图3中示出了去除单元8c1位于比喷嘴71的清洗方向Dc的上游侧端部更靠清洗方向Dc的上游侧的位置时的喷嘴71以及去除单元8c1的结构。

去除单元8c1具有喷洒器(spreader)81A以及刮板81B这两种喷嘴清洗构件81。这些喷嘴清洗构件81中的喷洒器81A承担将冲洗液涂开在喷嘴71的下端部712的冲洗液供给功能。另一方面，刮板81B在喷洒器81A的清洗方向Dc的上游侧承担从喷嘴71的下端部712去除冲洗液的除液功能，这相当于本发明的“喷嘴抵接构件”的一例。由此，能够将喷嘴71的下端部712的处理液与冲洗液一起去除。即，在干燥并固化的处理液等的处理液附着于下端部712的情况下，由喷洒器81A涂开的冲洗液在一定程度上溶解处理液，由刮板81B去除包含该溶解物(处理液)的冲洗液。这样，喷嘴清洗构件81使用喷洒器81A以及刮板81B，执行从喷嘴71的下端部712去除处理液的喷嘴清洗处理。这些喷洒器81A以及刮板81B除了有无供给冲洗液的液体供给孔(未图示)以外，具有共通的外形。

喷嘴清洗构件81是能够由支承部82支承的板状构件，例如由具有900～4000MPa(兆帕)的弹性模量的弹性体形成。在本实施方式中，喷洒器81A由比刮板81B更硬的硬质体形成。而且，喷嘴清洗构件81的中央部被支承部82支承，并且在顶端形成有大致V字型的槽即V字槽811。V字槽811呈与喷嘴71的下端部712对应的形状。

如图3所示，这样构成的各喷嘴清洗构件81通过两根紧固件例如螺栓而装卸自如地固定于支承部82。即，支承部82具有在Z方向上能够升降的升降部821、以及在升降部821的上表面向Z方向竖立设置并在Y方向上排列的两根柱部822A、822B。而且，在柱部822A、822B中的、清洗方向Dc的下游侧的柱部822A的上端紧固有喷洒器81A，在清洗方向Dc的上游侧的柱部822B的上端紧固有刮板81B。各喷嘴清洗构件81在使各自的V字槽811朝向喷嘴71侧并相对于在Y方向上延伸设置的喷嘴71以规定的倾斜角度倾斜的状态下，紧固在柱部822A、822B的上端部。此外，柱部822B的上端比柱部822A的上端高，刮板81B被支承在比喷洒器81A高的位置。

支承部82在这样固定有各喷嘴清洗构件81的升降部821的下方具有基座部823。而且，升降部821被基座部823支承为能够升降。即，在支承部82中设置有从基座部823的上表面沿Z方向竖立设置的导轨824、以及设置于基座部823与升降部821之间的施力构件825(例如压缩弹簧)。而且，导轨824在Z方向上引导升降部821的移动，并且施力构件825相对于基座部823向上方对升降部821施力。因此，固定于升降部821的各喷嘴清洗构件81被施力构件825的作用力向上方施力。

另外，支承部82的基座部823安装于移动部8c2。该移动部8c2具有在Y方向上配置于喷嘴71的两外侧的一对辊851、851、以及架设于辊851、851的环形带852，在环形带852的上表面安装有支承部82的基座部823。这样构成的移动部8c2使辊851、851旋转而向Y方向驱动环形带852的上表面，使各喷嘴清洗构件81随着支承部82向Y方向移动。此外，移动部8c2的结构并不限定于此，例如能够使用滚珠丝杠方式、线性电机方式等移动部。

而且，就如以上那样构成的喷嘴清洁器8c而言，若使各喷嘴清洗构件81从下方接近位于与上述的喷嘴清洗位置相当的倾斜面抵接位置P1的喷嘴71的下端部712，则仅喷嘴清洗构件81中的刮板81B与喷嘴71的倾斜面731抵接，并被施力构件825按压。即，刮板81B的V字槽811与喷嘴71抵接。

图4是表示作为本发明的喷嘴清洗装置的第一实施方式的喷嘴清洁器的喷嘴清洗处理的一例的流程图。图5是示意性地表示按照图4的流程图执行的动作的一部分的图。在图5中，为了明确相当于本发明的“喷嘴抵接构件”的刮板81B的位置以及移动速度，省略了喷洒器81A的图示，并且将刮板81B的位置与表示喷嘴清洗构件81的第一速度模式的曲线图建立关联地图示。

在涂敷装置1中，运算部92根据控制单元9的存储部91中存储的控制程序而如下地控制装置各部，来执行喷嘴71的清洗动作。

步骤S1中，接受移动部8c2的驱动，去除单元8c1向倾斜面抵接位置P1移动。由此，去除单元8c1位于被定位在倾斜面抵接位置P1的喷嘴71的倾斜部位73的下方，喷洒器81A以及刮板81B从下方与倾斜部位73的倾斜面731对置。在该时刻，在清洗方向Dc上，喷洒器81A以及刮板81B均位于比具有喷出口71a的突出部位75a、75b靠上游侧的位置。另外，在步骤S1中，喷嘴71的倾斜部位73与喷洒器81A以及刮板81B在Z方向上分离。

这样，当去除单元8c1向倾斜面抵接位置P1的移动完成时，喷嘴71从喷出口71a喷出规定量的处理液(步骤S2)。此处的处理液的喷出是将部分地进入喷出口71a的空气、清洗液排出作为主要目的之一来执行的。因此，处理液以从喷出口71a向下方稍微流出的程度喷出。

在接下来的步骤S3中，喷嘴71向比上方位置低的下方位置下降。详细而言，若喷嘴71开始下降，则喷嘴71的倾斜部位73与刮板81B之间的间隔减少，在倾斜部位73，下端部712的唇侧面与刮板81B的凹部接触。喷嘴71进一步下降，克服施力构件825的作用力而将刮板81B向下方压下。另外，喷洒器81A在凹部与唇侧面之间保持一定的间隔的状态下，与刮板81B一起向下方移动。这样，在倾斜部位73，刮板81B的凹部通过施力构件825的作用力而被按压于唇侧面。即，刮板81B与喷嘴71的下端部712抵接(时刻T10)。此时，在喷洒器81A的凹部与唇侧面之间确保一定的间隔。

这样，当喷嘴71的下降完成时，从喷洒器81A的液体供给孔(未图示)喷出冲洗液，开始向喷嘴71的倾斜部位73与喷洒器81A之间供给冲洗液(步骤S4)。在第一实施方式中，不仅喷出处理液，而且喷出冲洗液，其理由是为了应对刮板81B的高速移动。即，虽然能够利用处理液作为利用刮板81B进行喷嘴清洗时的润滑液，但若此时的刮板81B的移动速度变高，则有时仅利用处理液难以得到充分的润滑作用。因此，在第一实施方式中，为了提高刮板81B的移动速度来实现喷嘴清洗处理所需的时间的缩短化，在喷嘴清洗处理时并用处理液和冲洗液作为润滑剂。其中，冲洗液的喷出量被抑制在一定以下。更具体而言，优选以在喷嘴清洗处理后的喷出口71a残留有冲洗液与处理液的混合液(以不对涂敷处理造成影响的程度利用冲洗液稀释后的处理液)或仅残留有处理液的方式，调整冲洗液的每单位时间的供给量(喷出量)。此外，作为冲洗液，能够利用各种液体，例如也可以是组成处理液的溶剂。在该情况下，在作为溶剂的冲洗液中溶解有溶质的溶液成为处理液。

接着，移动部8c2通过向清洗方向Dc驱动去除单元8c1，开始使喷洒器81A和刮板81B向清洗方向Dc移动的构件移动动作(步骤S5)。在该构件移动动作的初始阶段中，刮板81B沿着倾斜面731克服施力构件825的作用力而逐渐被压下，并且与喷洒器81A一起朝向突出部位75a、75b移动。这样，在移动到突出部位75a、75b时，喷洒器81A和刮板81B也具有与倾斜面731相同的位置关系。即，由于喷洒器81A以及刮板81B分别是与唇侧面抵接的位置关系，因此在喷洒器81A以及刮板81B各自与突出部位75a、75b的顶端面之间形成有间隔，另一方面，喷洒器81A以及刮板81B各自不与顶端面接触。但是，若刮板81B的凹部与唇侧面抵接，则也可以构成为刮板81B与上述顶端面抵接。

如下详细所述那样，刮板81B从倾斜面抵接位置P1以第一速度模式与喷洒器81A一起沿与Y方向平行的清洗方向Dc移动(步骤S5)。此外，在该移动开始后，在喷嘴清洗构件81(＝喷洒器81A+刮板81B)向清洗方向Dc移动的期间，也继续从液体供给孔供给冲洗液。

如图5所示，喷嘴清洗构件81的移动从时刻T10开始，其移动速度以恒定的加速度α11增速。然后，在时刻T11，喷嘴清洗构件81的移动速度达到预先设定的第一移动速度V1，刮板81B以该第一移动速度V1在倾斜部位73与突出部位75a的边界位置P2移动。然后，从时刻T11起停止加速，在刮板81B在突出部位75a移动的期间，即从时刻T11到时刻T12的期间，喷嘴清洗构件81的移动速度保持在第一移动速度V1。这样，突出部位75由以恒定的第一移动速度V1在清洗方向Dc上移动的喷嘴清洗构件81清洗。

在时刻T12，刮板81B到达突出部位75a与切口部位72的边界位置P3。在此，与现有技术同样地，如果以原样的第一移动速度V1使喷嘴清洗构件81移动到切口部位72，则在由切口部位72的(-Y)方向侧的内壁与内底面形成的拐角部分，由刮板81B刮取的处理液的一部分会大量残留。其结果是，产生已述的问题。

因此，在第一实施方式中，如图5的曲线图所示，从刮板81B从突出部位75a向切口部位72移动的时刻T12起，使喷嘴清洗构件81的移动速度从第一移动速度V1以减速度(负的加速度)α12减速。由此，能够大幅抑制残留于上述拐角部分的处理液的量(以下称为“残留量”)。

在第一实施方式中，在刮板81B通过了切口部位72之后，需要与突出部位75a同样地对突出部位75b进行清洗，因此在刮板81B在切口部位72移动的期间从减速切换为加速。更具体而言，运算部92的速度控制部进行控制，使得从时刻T13起，使喷嘴清洗构件81的移动速度以加速度α13增速，在刮板81B到达切口部位72与突出部位75b的边界位置P4的时刻(时刻T14)，使刮板81B的移动速度返回到原来的第一移动速度V1。

从该时刻T14起加速停止，在刮板81B在突出部位75b移动的期间，即从时刻T14到时刻T15的期间，喷嘴清洗构件81的移动速度保持在第一移动速度V1。这样，突出部位75b由以恒定的第一移动速度V1在清洗方向Dc上移动的喷嘴清洗构件81清洗。

在时刻T15，刮板81B到达突出部位75b与台阶部位74的边界位置P5。而且，在现有技术中，在图5的曲线图中，如点划线所示，刮板81B通过边界位置P5移动了一定距离之后，使刮板81B以从倾斜面抵接位置P1移动至边界位置P2时的相同程度的大小的减速度(负的加速度)减速并停止喷嘴清洗构件81的移动。因此，导致即使在台阶部位74，由刮板81B刮取后的处理液的一部分也大量残留。其结果是，产生已述的问题。

因此，在第一实施方式中，如图5的曲线图所示，从刮板81B从突出部位75b向台阶部位74移动的时刻T15起，使喷嘴清洗构件81的移动速度从第一移动速度V1以减速度(负的加速度)α14减速，在喷洒器81A以及刮板81B比喷嘴71更靠清洗方向Dc的下游侧的位置，使喷嘴清洗构件81的移动停止(步骤S6)。由此，能够大幅抑制台阶部位74处的处理液的残留量。另外，在喷嘴清洗构件81的移动停止的同时，停止从液体供给孔供给冲洗液(步骤S7)。

此外，当完成这样的喷嘴71的喷嘴清洗处理时，定位机构79使喷嘴71移动至涂敷载物台32的上方的涂敷位置(图1中虚线所示的位置)。然后，从定位在涂敷位置的喷嘴喷出处理液，涂敷在喷嘴与涂敷载物台32之间搬送来的基板W(涂敷工序)。

在如以上那样构成的第一实施方式中，运算部92的速度控制部进行控制，使得在刮板81B通过边界位置P3、P5时，刮板81B相对于喷嘴71的相对移动速度相比第一移动速度V1被减速。其结果是，能够大幅削减切口部位72以及台阶部位74处的处理液的残留量。

另外，使刮板81B从突出部位75a向切口部位72移动时的刮板81B的加速度α12的绝对值小于刮板81B从切口部位72向突出部位75b移动时的刮板81B的加速度α13的绝对值。即，刮板81B向上述拐角部分的移动速度缓慢地减速，能够提高刮板81B的追随性。其结果是，能够可靠地抑制在拐角部分的残留量。

但是，在上述实施方式中，刮板81B由弹性体构成。因此，响应在使刮板81B的凹部与喷嘴71抵接的状态下的刮板81B的相对移动，刮板81B挠曲。另外，刮板81B通过与下端部712的抵接的解除而恢复原来的形状。因此，也可以在考虑了刮板81B的弹性特性的基础上，将刮板81B的速度模式从第一速度模式变更(第二实施方式)。

图6是示意性地示出在本发明的喷嘴清洗装置的第二实施方式中执行的动作的一部分的图。该第二实施方式与第一实施方式显著不同的点是刮板81B通过位置P2、P3、P5时的移动速度，其他方面与第一实施方式相同。以下，以不同点为中心进行说明，对相同结构标注相同或相当的附图标记并省略说明。

在第二实施方式中，将从喷嘴清洗构件81的移动开始到达第一移动速度V1为止的加速度设定为比第一实施方式中的加速度α11小的加速度α21。另外，设定为在刮板81B稍微超过倾斜部位73与突出部位75a的边界位置P2的时刻到达第一移动速度V1(时刻T21)。因此，虽然由刮板81B对突出部位75a的清洗开始比第一实施方式延迟，但是刮板81B一边相对于倾斜面731滑动一边逐渐挠曲。这样，追随喷嘴清洗构件81的移动，刮板81B适应于喷嘴71的下端部712。其结果是，与第一实施方式相比，能够提高从边界位置P2的前后的下端部712刮取处理液的刮取性能。另外，通过将加速度α21(＜α11)抑制得较低，能够实现用于使移动部8c2的辊851、851旋转的马达的小型化。

另外，在时刻T21后，在使刮板81B挠曲的状态下执行对突出部位75a的喷嘴清洗处理，但从刮板81B到达突出部位75a与切口部位72的边界位置P3的跟前位置的时刻T22，开始喷嘴清洗构件81的减速。即，第二实施方式中的减速的开始早于第一实施方式。由此，能够得到如下的作用效果。刮板81B的变形量根据移动速度的变化以及抵接的部位而不同。特别是，在第一实施方式中，在以第一移动速度V1移动来的刮板81B到达边界位置P3的时刻急剧减速。另外，以边界位置P3为界，刮板81B的抵接对象从突出部位75a向切口部位72显著地变化。因此，在第一实施方式中，存在如下问题：刮板81B在刚进入切口部位72的清洗时显著地变形，难以追随切口部位72的形状而控制刮板81B的挠曲状态。与此相对，在第二实施方式中，由于在刮板81B即将到达边界位置P3之前的时刻T22开始刮板81B的减速，因此即使在刚进入切口部位72的清洗时，也能够使刮板81B的挠曲状态追随切口部位72的形状。其结果是，能够使切口部位72的清洗性能比第一实施方式提高。

进而，从刮板81B到达突出部位75b与台阶部位74的边界位置P5的跟前位置的时刻T25，开始喷嘴清洗构件81的减速。由此，能够起到与上述时刻T22的减速开始同样的作用效果，即，能够使刮板81B的挠曲状态追随台阶部位74的形状，与第一实施方式相比，能够提高台阶部位74的清洗性能。

如上所述，在第一实施方式以及第二实施方式中，切口部位72以及台阶部位74相当于本发明的“后退部位”的一例，该“后退部位”随着向清洗方向(延伸设置方向)Dc前进，从主体部711向下方突出的突出量比突出部位75a、75b的突出量非连续地减少，而向主体部711侧后退。

此外，本发明并不限定于上述的实施方式，只要不脱离主旨就能够进行上述以外的各种变更。例如，在上述第一实施方式以及第二实施方式中，对在清洗方向Dc上的下端部712的后端部设置有台阶部位74的喷嘴71进行了清洗，但本发明的应用并不限定于此。例如，如图7所示，能够将本发明应用于对设置有代替台阶部位74的倾斜部位76的喷嘴71进行清洗的喷嘴清洗装置(第三实施方式)。在此，倾斜部位76是指，具有随着向清洗方向Dc前进，从主体部711向下方突出的突出量比突出部位75a、75b的突出量连续地减少，而向主体部711侧后退的倾斜面761的部位。在该第三实施方式中，倾斜部位76相当于本发明的“后退部位”的一例。

另外，在上述实施方式中，将本发明应用于对在下端部712的中央部仅设置有一个切口部位72的喷嘴71进行清洗的喷嘴清洗装置，但切口部位72的个数并不限定于此，能够将本发明应用于对设置两个以上切口部位的喷嘴、不具有切口部位的喷嘴进行清洗的喷嘴清洗装置。

另外，在上述实施方式中，对除了刮板81B以外还装备有喷洒器81A的喷嘴清洗装置应用了本发明，但也能够将本发明应用于仅装备有刮板81B的喷嘴清洗装置。

本发明能够应用于利用喷嘴抵接构件将附着于喷嘴的下端部的处理液去除而对上述喷嘴进行清洗的任何喷嘴清洗技术以及装备有上述喷嘴清洗技术的任何涂敷装置。

Claims (7)

1.一种喷嘴清洗装置，对从设置于从喷嘴的主体部向下方突出的下端部的狭缝状的喷出口喷出处理液的喷嘴进行清洗，其特征在于，

具有：

喷嘴抵接构件，与所述喷嘴的下端部自由抵接；

移动部，使所述喷嘴抵接构件以与所述喷嘴的下端部保持抵接的状态在所述喷出口的延伸设置方向上相对于所述喷嘴相对地移动；以及

速度控制部，控制所述移动部对所述喷嘴抵接构件的移动速度；

在所述下端部设置有：突出部位，从所述主体部向下方突出的突出量为恒定；以及后退部位，随着向所述延伸设置方向前进，所述突出量比所述突出部位的所述突出量连续地或非连续地减少而向所述主体侧后退，

所述速度控制部在所述突出部位使所述喷嘴抵接构件以第一移动速度移动，另一方面，在所述喷嘴抵接构件从所述突出部位向所述后退部位移动时，使所述喷嘴抵接构件的移动速度从所述第一移动速度减速。

2.如权利要求1所述的喷嘴清洗装置，其特征在于，

所述喷嘴抵接构件具有弹性，通过与所述下端部抵接而挠曲，通过解除与所述下端部的抵接而恢复为原来的形状。

3.如权利要求2所述的喷嘴清洗装置，其特征在于，

所述速度控制部在所述喷嘴抵接构件从所述突出部位向所述后退部位移动之前，开始所述喷嘴抵接构件的减速。

4.如权利要求2或3所述的喷嘴清洗装置，其特征在于，

所述后退部位是在所述延伸设置方向上形成于所述喷嘴的所述下端部的中央部的切口部。

5.如权利要求4所述的喷嘴清洗装置，其特征在于，

所述速度控制部在所述喷嘴抵接构件从所述后退部位向所述突出部位移动时，使所述喷嘴抵接构件的移动速度增速至所述第一移动速度，

所述速度控制部使所述喷嘴抵接构件从所述突出部位向所述后退部位移动时的所述喷嘴抵接构件的加速度的绝对值小于所述喷嘴抵接构件从所述后退部位向所述突出部位移动时的所述喷嘴抵接构件的加速度的绝对值。

6.一种喷嘴清洗方法，对从设置于从喷嘴的主体部向下方突出的下端部的狭缝状的喷出口喷出处理液的喷嘴进行清洗，其特征在于，

包括：

第一工序，使喷嘴抵接构件与所述喷嘴的所述下端部抵接；以及

第二工序，使所述喷嘴抵接构件以与所述下端部保持抵接的状态在所述喷出口的延伸设置方向上相对于所述喷嘴相对地移动，

所述第二工序包括以下工序：

在所述下端部中的从所述主体部向下方突出的突出量为恒定的突出部位，使所述喷嘴抵接构件以第一移动速度移动的工序；以及

在所述喷嘴抵接构件从所述突出部位向后退部位移动时，使所述喷嘴抵接构件的移动速度从所述第一移动速度减速的工序，其中，所述后退部位是随着向所述延伸设置方向前进，所述突出量比所述突出部位的所述突出量连续地或非连续地减少而向所述主体部侧后退的部位。

7.一种涂敷装置，其特征在于，

具有：

喷嘴，从设置于从喷嘴的主体部向下方突出的下端部的狭缝状的喷出口对基板喷出并供给处理液；以及

权利要求1至5中任一项所述的喷嘴清洗装置。

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