CN102070993A - 光学薄膜用粘合剂组合物、光学薄膜用粘合剂层 - Google Patents

光学薄膜用粘合剂组合物、光学薄膜用粘合剂层 Download PDF

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Abstract

本发明涉及光学薄膜用粘合剂组合物、光学薄膜用粘合剂层。本发明的光学薄膜用粘合剂组合物的特征在于，含有重均分子量Mw为160万以上且Mw/数均分子量Mn满足1.8以上且10以下的(甲基)丙烯酸系聚合物(A)，作为单体单元，所述聚合物(A)含有67～96.99重量％(甲基)丙烯酸烷基酯(a1)、1～20重量％(甲基)丙烯酸苄酯(a2)、2～10重量％含羧基的单体(a3)和0.01～3重量％含羟基的单体(a4)。

Description

光学薄膜用粘合剂组合物、光学薄膜用粘合剂层
技术领域
本发明涉及粘接状态下耐久性优异的光学薄膜用粘合剂组合物以及由该粘合剂组合物在光学薄膜的至少一个面上形成了粘合剂层的粘合型光学薄膜。本发明还涉及使用了上述粘合型光学薄膜的液晶显示装置、有机EL显示装置、PDP等图像显示装置。作为上述光学薄膜，可以使用偏振片、相位差板、光学补偿薄膜、增光膜以及由它们层叠而成的材料。
背景技术
由于液晶显示装置等的图像形成方式，在液晶单元的两侧配置偏光元件是必不可少的，一般贴合有偏振片。另外，液晶面板上除了偏振片以外还使用用于提高显示器的显示质量的各种光学元件。例如，可以使用用于防止着色的相位差板、用于改善液晶显示器的视场角的视场角扩大薄膜以及用于提高显示器的对比度的增光膜等。这些薄膜统称为光学薄膜。
在将上述光学薄膜等光学部件贴合于液晶单元上时，通常使用粘合剂。另外，在光学薄膜与液晶单元的粘接或光学薄膜之间的粘接中，为了减低光的损失，各材料通常使用粘合剂密接。在这种情况下，粘合剂由于具有不需要用于固着光学薄膜的干燥工序等优点，因此，通常使用在光学薄膜的单面预先设成粘合剂层的粘合型光学薄膜。
作为对上述粘合剂所要求的必要特性，要求上述粘合剂具有下述性质：在光学薄膜上形成粘合剂层之后能够不发生粘合剂污染或欠缺等地进行加工的加工性，此外对于通常作为环境促进试验进行的加热和加湿等的耐久试验，不会发生由粘合剂引起的剥离、浮起等不利。
另外，要求光学薄膜用粘合剂在耐久性的基础上还改善由周边部的空白区域(blank area)引起的显示不匀(周边不匀、边角不匀)等。作为形成所述光学薄膜用粘合剂的基础聚合物即(甲基)丙烯酸系聚合物的单体，提出了除了使用(甲基)丙烯酸烷基酯(a1)以外还使用含芳香环的(甲基)丙烯酸系单体(a2)、进一步使用含羧基的单体(a3)、含羟基的单体(a4)等含官能团的单体(专利文献1、专利文献2、专利文献3、专利文献4)。然而，对于耐久性和由周边部空白区域引起的显示不匀(周边不匀、边角不匀)，专利文献1至4中记载的以(甲基)丙烯酸系聚合物为基础聚合物的光学薄膜用粘合剂要求更高的性能，专利文献1至4不能完全满足这些性能。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2005-053976号公报
专利文献2：日本特开2007-138056号公报
专利文献3：日本特表2007-169329号公报
专利文献4：日本特开2008-170949号公报
发明内容
发明要解决的问题
本发明的目的是提供能够形成粘合剂层的光学薄膜用粘合剂组合物，所述粘合剂层在贴合了光学薄膜的状态下能够满足不发生剥离、浮起等的耐久性，且可以改善由周边部的空白区域引起的显示不匀。
另外，本发明的目的是提供具有由上述光学薄膜用粘合剂组合物形成的粘合剂层的粘合型光学薄膜以及使用了上述粘合型光学薄膜的图像显示装置。
用于解决问题的方案
本发明人等为了解决上述问题反复深入研究，结果发现了下述光学薄膜用粘合剂组合物，从而完成了本发明。
即，本发明涉及一种光学薄膜用粘合剂组合物，其特征在于，其含有(甲基)丙烯酸系聚合物(A)，作为单体单元，所述聚合物(A)含有67～96.99重量％(甲基)丙烯酸烷基酯(a1)、1～20重量％(甲基)丙烯酸苄酯(a2)、2～10重量％含羧基的单体(a3)和0.01～3重量％含羟基的单体(a4)，所述聚合物(A)的重均分子量Mw为160万以上且重均分子量Mw/数均分子量Mn满足1.8以上且10以下。
上述光学薄膜用粘合剂组合物中，含羟基的单体(a4)优选含有(甲基)丙烯酸4-羟丁酯。
上述光学薄膜用粘合剂组合物优选还含有交联剂(B)。交联剂(B)优选选自异氰酸酯系交联剂、环氧系交联剂和过氧化物系交联剂中的至少任意一种。
上述光学薄膜用粘合剂组合物优选还含有含甲硅烷基(silyl group)的化合物(C)。
另外，本发明涉及一种光学薄膜用粘合剂层，其特征在于，其由上述光学薄膜用粘合剂组合物形成。
另外，本发明涉及一种粘合型光学薄膜，其特征在于，在光学薄膜的至少单面上形成有上述光学薄膜用粘合剂层。设置粘合剂层的光学薄膜优选是三醋酸纤维素系树脂、(甲基)丙烯酸系树脂或降冰片烯系树脂。该粘合型光学薄膜可以在光学薄膜与光学薄膜用粘合剂层之间具有底涂层。
另外，本发明涉及一种图像显示装置，其特征在于，其使用至少一张上述粘合型光学薄膜。
发明的效果
本发明的光学薄膜用粘合剂组合物中，作为基础聚合物的(甲基)丙烯酸系聚合物(A)以规定量的单体单元的比例含有(甲基)丙烯酸苄酯(a2)、含羧基的单体(a3)和含羟基的单体(a4)(尤其是(甲基)丙烯酸4-羟丁酯)，而且设定为特定的重均分子量和分子量分布，具有由含有该特定组成的(甲基)丙烯酸系聚合物(A)的光学薄膜用粘合剂组合物获得的粘合剂层的粘合型光学薄膜对于各种光学薄膜(例如三醋酸纤维素系树脂、(甲基)丙烯酸系树脂或降冰片烯系树脂)而言具有良好的耐久性，在贴合于液晶单元等的状态下，可以抑制剥离、浮起等的发生。
另外，在将使用粘合型偏振片等粘合型光学薄膜的液晶显示装置等图像显示装置置于加热、加湿条件下时，在液晶面板等的周边部有时会产生称之为周边不匀、边角不匀的由于空白区域引起的显示不匀，引起显示不良，但本发明的粘合剂光学薄膜的粘合剂层由于使用了上述光学薄膜用粘合剂组合物，因此可以抑制显示屏幕的周边部分的显示不匀。
具体实施方式
本发明的光学薄膜用粘合剂组合物含有(甲基)丙烯酸系聚合物(A)作为基础聚合物。作为单体单元，(甲基)丙烯酸系聚合物(A)含有67～96.99重量％(甲基)丙烯酸烷基酯、1～20重量％(甲基)丙烯酸苄酯(a2)、2～10重量％含羧基的单体(a3)和0.01～3重量％含羟基的单体(a4)。另外，(甲基)丙烯酸酯是指丙烯酸酯和/或甲基丙烯酸酯，本发明的“(甲基)”具有同样的意义。
作为构成(甲基)丙烯酸系聚合物(A)的主骨架的(甲基)丙烯酸烷基酯(a1)，可列举出直链或支链状的烷基碳数为1～18的(甲基)丙烯酸烷基酯。例如，作为上述烷基，可列举出甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、异丁基、戊基、己基、环己基、庚基、2-乙基己基、异辛基、壬基、癸基、异癸基、十二烷基、异肉豆蔻基、月桂基、十三烷基、十五烷基、十六烷基、十七烷基、十八烷基等。这些可以单独或组合使用。这些烷基的平均碳数优选为3～9。
(甲基)丙烯酸系聚合物(A)中使用(甲基)丙烯酸苄酯(a2)。(甲基)丙烯酸苄酯(a2)具有苯环结构，该结构通过与含羧基的单体(a3)、含羟基的单体(a4)一起以规定量使用，可以满足耐久性，而且可以改善由于周边部的空白区域所引起的显示不匀。
含羧基的单体(a3)是在其结构中含有羧基、且含有(甲基)丙烯酰基、乙烯基等聚合性不饱和双键的化合物。作为含羧基的单体(a3)的具体例子，例如可列举出(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧基乙酯、(甲基)丙烯酸羧基戊酯、衣康酸、马来酸、富马酸、巴豆酸等。在上述含羧基的单体(a3)中，从共聚性、价格和粘合特性的观点来看，丙烯酸是优选的。
含羟基的单体(a4)是在其结构中含有羟基、且含有(甲基)丙烯酰基、乙烯基等聚合性不饱和双键的化合物。作为含羟基的单体(a4)的具体例子，例如可列举出(甲基)丙烯酸2-羟乙酯、(甲基)丙烯酸3-羟丙酯、(甲基)丙烯酸4-羟丁酯、(甲基)丙烯酸6-羟己酯、(甲基)丙烯酸8-羟辛酯、(甲基)丙烯酸10-羟癸酯、(甲基)丙烯酸12-羟基月桂酯、甲基丙烯酸4-羟甲基环己酯等。在上述含羟基的单体(a4)中，从耐久性的观点来看，(甲基)丙烯酸2-羟乙酯、(甲基)丙烯酸4-羟丁酯是优选的，(甲基)丙烯酸4-羟丁酯是特别优选的。
这些共聚单体在粘合剂组合物含有交联剂时作为与交联剂反应的反应点。含羧基的单体(a3)、含羟基的单体(a4)由于与分子间交联剂的反应性充分，且由于所得粘合剂层的凝聚性、耐热性提高而优选使用。另外，含羧基的单体(a3)从兼顾耐久性和再加工性的观点来看是优选的，含羟基的单体(a4)从再加工性的观点来看是优选的。
(甲基)丙烯酸系聚合物(A)含有用相对于全部构成单体(100重量％)的重量比率表示的规定量的上述各单体作为单体单元。(甲基)丙烯酸烷基酯(a1)的重量比率可以作为除了(甲基)丙烯酸烷基酯(a1)以外的单体的剩余部分来设定，具体地为67～96.99重量％，优选为71～89.99重量％，进一步优选为77.5～85.97重量％。从确保粘接性的观点来看，优选将(甲基)丙烯酸烷基酯(a1)的重量比率设定在上述范围内。
(甲基)丙烯酸苄酯(a2)的重量比率为1～20重量％，优选为7～18重量％，进一步优选为10～16重量％。(甲基)丙烯酸苄酯(a2)的重量比率超过20重量％或低于1重量％时，不能充分抑制显示屏幕的周边部分的显示不匀。
含羧基的单体(a3)的重量比率是2～10重量％，优选为3～10重量％，进一步优选为4～6重量％。含羧基的单体(a3)的重量比率低于2重量％时，不能满足耐久性。另一方面，超过10重量％时，不能满足再加工性。
含羟基的单体(a4)的重量比率为0.01～3重量％，优选为0.01～1重量％，进一步优选为0.03～0.5重量％。含羟基的单体(a4)的重量比率低于0.01重量％时，不能满足耐久性；另一方面，超过3重量％时，不能满足耐久性。
上述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)中，虽然除了上述单体单元以外，不必须含有其他单体单元，但出于改善粘接性、耐热性的目的，可以通过共聚引入一种以上的具有(甲基)丙烯酰基或乙烯基等含不饱和双键的聚合性官能团的共聚单体。
作为这种共聚单体的具体例子，可列举出马来酸酐、衣康酸酐等含酸酐基团的单体；丙烯酸的己内酯加成物；烯丙基磺酸、2-(甲基)丙烯酰胺-2-甲基丙磺酸、(甲基)丙烯酰胺丙磺酸、(甲基)丙烯酸磺丙酯等含磺酸基的单体；丙烯酰基磷酸2-羟乙酯等含磷酸基的单体等。
另外，作为以改性为目的的单体的例子，可列举出(甲基)丙烯酰胺、N，N-二甲基(甲基)丙烯酰胺、N-丁基(甲基)丙烯酰胺、N-羟甲基(甲基)丙烯酰胺、N-羟甲基丙烷(甲基)丙烯酰胺等(N-取代)酰胺系单体；(甲基)丙烯酸氨基乙酯、(甲基)丙烯酸N，N-二甲基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸叔丁基氨基乙酯等(甲基)丙烯酸烷基氨基烷基酯系单体；(甲基)丙烯酸甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧基乙酯等(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯系单体；N-(甲基)丙烯酰氧基亚甲基丁二酰亚胺、N-(甲基)丙烯酰基-6-氧六亚甲基丁二酰亚胺、N-(甲基)丙烯酰基-8-氧八亚甲基丁二酰亚胺、N-丙烯酰基吗啉等丁二酰亚胺系单体；N-环己基马来酰亚胺、N-异丙基马来酰亚胺、N-月桂基马来酰亚胺、N-苯基马来酰亚胺等马来酰亚胺系单体；N-甲基衣康酰亚胺、N-乙基衣康酰亚胺、N-丁基衣康酰亚胺、N-辛基衣康酰亚胺、N-2-乙基己基衣康酰亚胺、N-环己基衣康酰亚胺、N-月桂基衣康酰亚胺等衣康酰亚胺系单体等。另外，在上述改性单体中，(甲基)丙烯酸烷基氨基烷基酯系单体等含氨基的单体具有强烈的臭气，难以处理，在制造上是不优选的。另外，在与过氧化物并用时，特别难以处理，优选不使用。本发明中，含氨基的单体的改性效果通过使用比通常更高比例的含羧基的单体(a3)来获得该效果。
作为改性单体，还可以使用乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、N-乙烯基己内酰胺等乙烯基系单体；丙烯腈、甲基丙烯腈等氰基丙烯酸酯系单体；(甲基)丙烯酸缩水甘油酯等含环氧基的丙烯酸系单体；(甲基)丙烯酸聚乙二醇酯、(甲基)丙烯酸聚丙二醇酯、(甲基)丙烯酸甲氧基乙二醇酯、(甲基)丙烯酸甲氧基聚丙二醇酯等二醇系丙烯酸酯单体；(甲基)丙烯酸四氢糠酯、含氟(甲基)丙烯酸酯、硅酮(甲基)丙烯酸酯、丙烯酸2-甲氧基乙酯等丙烯酸酯系单体等。此外，还可列举出异戊二烯、丁二烯、异丁烯、乙烯基醚等。
此外，作为除了上述单体以外的可共聚的单体，可列举出含硅原子的硅烷系单体等。作为硅烷系单体，例如可列举出3-丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、4-乙烯基丁基三甲氧基硅烷、4-乙烯基丁基三乙氧基硅烷、8-乙烯基辛基三甲氧基硅烷、8-乙烯基辛基三乙氧基硅烷、10-甲基丙烯酰氧基癸基三甲氧基硅烷、10-丙烯酰氧基癸基三甲氧基硅烷、10-甲基丙烯酰氧基癸基三乙氧基硅烷、10-丙烯酰氧基癸基三乙氧基硅烷等。
另外，作为共聚单体，还可以使用三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四甘醇二(甲基)丙烯酸酯、1，6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、双酚A二缩水甘油醚二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己内酯改性的二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸与多元醇的酯化物等具有两个以上(甲基)丙烯酰基、乙烯基等不饱和双键的多官能性单体；在聚酯、环氧、聚氨酯等骨架上加成两个以上作为与单体成分相同的官能团的(甲基)丙烯酰基、乙烯基等不饱和双键得到的聚酯(甲基)丙烯酸酯、环氧(甲基)丙烯酸酯、聚氨酯(甲基)丙烯酸酯等。
按上述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)的全部构成单体(100重量％)的重量比率计，(甲基)丙烯酸系聚合物(A)中的上述共聚单体的比例优选为0～10％左右，更优选为0～7％左右，进一步优选为0～5％左右。
本发明的(甲基)丙烯酸系聚合物(A)通常使用重均分子量160万以上的聚合物。考虑到耐久性、尤其是考虑到耐热性，优选使用重均分子量170万～300万的聚合物。重均分子量更优选为180万～280万，进一步优选为190万～250万。重均分子量小于160万时，从耐热性的观点来看是不优选的。另外，重均分子量大于300万时，从耐久性降低的观点来看是不优选的。另外，表示分子量分布的重均分子量(Mw)/数均分子量(Mn)是1.8以上且10以下，优选为2～7，进一步优选为2～5。分子量分布(Mw/Mn)超过10时，从耐久性的观点来看是不优选的。另外，重均分子量、分子量分布(Mw/Mn)根据GPC(凝胶渗透色谱法)来测定，是由根据聚苯乙烯换算所计算的值来求出的。
这种(甲基)丙烯酸系聚合物(A)的制备可以适当选择溶液聚合、本体聚合、乳液聚合、各种自由基聚合等公知的制备方法。另外，所得(甲基)丙烯酸系聚合物(A)可以是无规共聚物、嵌段共聚物、接枝共聚物等的任一种。
另外，在溶液聚合中，作为聚合溶剂，例如可以使用乙酸乙酯、甲苯等。作为具体的溶液聚合例子，在氮气等惰性气体气流下添加聚合引发剂，通常在50～70℃左右、5～30小时左右的反应条件下进行反应。
对自由基聚合所用的聚合引发剂、链转移剂、乳化剂等没有特定限制，可以适当选择和使用。另外，(甲基)丙烯酸系聚合物(A)的重均分子量可以通过包括聚合引发剂、链转移剂的用量、单体浓度等在内的反应条件来控制，根据它们的种类，适当调整其用量。
作为聚合引发剂，例如可列举出2，2’-偶氮双异丁腈、2，2’-偶氮双(2-脒基丙烷)二盐酸盐、2，2’-偶氮双[2-(5-甲基-2-咪唑啉-2-基)丙烷]二盐酸盐、2，2’-偶氮双(2-甲基丙脒)二硫酸盐、2，2’-偶氮双(N，N’-二亚甲基异丁脒)、2，2’-偶氮双[N-(2-羧基乙基)-2-甲基丙脒]水合物(和光纯药社制造，VA-057)等偶氮系引发剂；过硫酸钾、过硫酸铵等过硫酸盐；过氧化二碳酸二(2-乙基己基)酯、过氧化二碳酸二(4-叔丁基环己基)酯、过氧化二碳酸二仲丁酯、过氧化新癸酸叔丁酯、过氧化新戊酸叔己酯、过氧化新戊酸叔丁酯、过氧化二月桂酰、过氧化二正辛酰、过氧化-2-乙基己酸1，1，3，3-四甲基丁酯、过氧化二(4-甲基苯甲酰)、过氧化二苯甲酰、过氧化异丁酸叔丁酯、1，1-二(过氧化叔己基)环己烷、叔丁基氢过氧化物、过氧化氢等过氧化物系引发剂；过硫酸盐与亚硫酸氢钠的组合、过氧化物与抗坏血酸钠的组合等过氧化物与还原剂组合的氧化还原系引发剂等，但不限于这些。
上述聚合引发剂可以单独使用，也可以混合两种以上使用，相对于100重量份单体，其总体含量优选为0.005～1重量份左右，更优选为0.02～0.5重量份左右。
另外，例如在使用2，2’-偶氮双异丁腈作为聚合引发剂来制造上述重均分子量的(甲基)丙烯酸系聚合物(A)时，相对于总量为100重量份的单体成分，聚合引发剂的用量优选为0.06～0.2重量份左右，进一步优选为0.08～0.175重量份左右。
作为链转移剂，例如可列举出月桂基硫醇、缩水甘油基硫醇、巯基乙酸(mercaptoacetic acid)、2-巯基乙醇、巯基乙酸(thioglycollic acid)、巯基乙酸2-乙基己酯、2，3-二巯基-1-丙醇等。链转移剂可以单独使用或混合两种以上使用，相对于总量为100重量份的单体成分，总体含量为0.1重量份左右以下。
另外，作为乳液聚合时使用的乳化剂，例如，可列举出月桂基硫酸钠、月桂基硫酸铵、十二烷基苯磺酸钠、聚氧乙烯烷基醚硫酸铵、聚氧乙烯烷基苯基醚硫酸钠等阴离子系乳化剂，聚氧乙烯烷基醚、聚氧乙烯烷基苯基醚、聚氧乙烯脂肪酸酯、聚氧乙烯-聚氧丙烯嵌段聚合物等非离子系乳化剂等。这些乳化剂可以单独使用或者组合二种以上使用。
此外，作为反应性乳化剂，即作为引入了丙烯基、烯丙基醚基等自由基聚合性官能团的乳化剂，具体地说，例如有Aqualon HS-10、HS-20、KH-10、BC-05、BC-10、BC-20(以上均为第一工业制药社制造)、ADEKA REAS OAP SE10N(旭电化工社制造)等。反应性乳化剂由于在聚合后引入到聚合物链中，因而耐水性变好，因此是优选的。相对于总量为100重量份的单体成分，乳化剂的用量为0.3～5重量份，从聚合稳定性、机械稳定性来看，0.5～1重量份是更优选的。
此外，本发明的粘合剂组合物中可以含有交联剂(B)。作为交联剂(B)，可以使用有机系交联剂、多官能性金属螯合物。作为有机系交联剂，可列举出异氰酸酯系交联剂、过氧化物系交联剂、环氧系交联剂、亚胺系交联剂等。多官能性金属螯合物是多价金属与有机化合物共价键合或配位键合的螯合物。作为多价金属原子，可列举出Al、Cr、Zr、Co、Cu、Fe、Ni、V、Zn、In、Ca、Mg、Mn、Y、Ce、Sr、Ba、Mo、La、Sn、Ti等。作为共价键合或配位键合的有机化合物中的原子，可列举出氧原子等。作为有机化合物，可列举出烷基酯、醇化合物、羧酸化合物、醚化合物、酮化合物等。
作为交联剂(B)，优选使用选自异氰酸酯系交联剂、环氧系交联剂和过氧化物系交联剂中的一种。
与异氰酸酯系交联剂相关的化合物是指1分子中具有2个以上的异氰酸酯基的化合物。例如，可列举出甲苯二异氰酸酯、氯亚苯基二异氰酸酯、四亚甲基二异氰酸酯、苯二亚甲基二异氰酸酯、二苯甲烷二异氰酸酯、氢化二苯甲烷二异氰酸酯等异氰酸酯单体以及将这些异氰酸酯单体与三羟甲基丙烷等加成而获得的异氰酸酯化合物或异氰脲酸酯化合物、缩二脲型化合物，以及与聚醚多元醇、聚酯多元醇、丙烯酸多元醇、聚丁二烯多元醇、聚异戊二烯多元醇等加成反应而获得的聚氨酯预聚物型的异氰酸酯等。特别优选是多异氰酸酯化合物，例如选自由六亚甲基二异氰酸酯、氢化苯二亚甲基二异氰酸酯和异佛尔酮二异氰酸酯组成的组中的一种或源于此的多异氰酸酯化合物。在这里，选自由六亚甲基二异氰酸酯、氢化苯二亚甲基二异氰酸酯和异佛尔酮二异氰酸酯组成的组中的一种或源于此的多异氰酸酯化合物包括六亚甲基二异氰酸酯、氢化苯二亚甲基二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯、多元醇改性六亚甲基二异氰酸酯、多元醇改性氢化苯二亚甲基二异氰酸酯、三聚体型氢化苯二亚甲基二异氰酸酯以及多元醇改性异佛尔酮二异氰酸酯等。由于所例示的多异氰酸酯化合物与羟基的反应迅速进行，特别是聚合物中所含有的酸、碱像催化剂那样起作用，因而促进了交联的速度，是优选的。
另外，环氧系交联剂是指1分子中具有2个以上环氧基(缩水甘油基)的化合物。作为环氧系交联剂，例如可列举出乙二醇二缩水甘油醚、丙二醇二缩水甘油醚、对苯二甲酸二缩水甘油酯、螺环乙二醇(spiroglycol)二缩水甘油醚、二缩水甘油基氨基甲基环己烷、四缩水甘油基苯二甲胺、聚缩水甘油基间苯二甲胺等。
作为过氧化物，只要是通过加热或光照射产生自由基活性种，从而使粘合剂组合物的基础聚合物进行交联的过氧化物，就可以适当使用，考虑到操作性、稳定性，优选使用1分钟半衰期温度为80℃～160℃的过氧化物，更优选使用1分钟半衰期温度为90℃～140℃的过氧化物。
作为可使用的过氧化物，例如可列举出过氧化二碳酸二(2-乙基己酯)(1分钟半衰期温度：90.6℃)、过氧化二碳酸二(4-叔丁基环己酯)(1分钟半衰期温度：92.1℃)、过氧化二碳酸二仲丁酯(1分钟半衰期温度：92.4℃)、过氧化新癸酸叔丁酯(1分钟半衰期温度：103.5℃)、过氧化新戊酸叔己酯(1分钟半衰期温度：109.1℃)、过氧化新戊酸叔丁酯(1分钟半衰期温度：110.3℃)、过氧化二月桂酰(1分钟半衰期温度：116.4℃)、过氧化二正辛酰(1分钟半衰期温度：117.4℃)、过氧-2-乙基己酸1，1，3，3-四甲基丁酯(1分钟半衰期温度：124.3℃)、过氧化二(4-甲基苯甲酰)(1分钟半衰期温度：128.2℃)、过氧化二苯甲酰(1分钟半衰期温度：130.0℃)、过氧化异丁酸叔丁酯(1分钟半衰期温度：136.1℃)、1，1-二(过氧化叔己基)环己烷(1分钟半衰期温度：149.2℃)等。其中，尤其因为交联反应效率优异，优选使用过氧化二碳酸二(4-叔丁基环己酯)(1分钟半衰期温度：92.1℃)、过氧化二月桂酰(1分钟半衰期温度：116.4℃)、过氧化二苯甲酰(1分钟半衰期温度：130.0℃)等。
另外，过氧化物的半衰期是表示过氧化物分解速度的指标，是指过氧化物残留量达到一半所用的时间。关于用于以任意时间获得半衰期的分解温度和在任意温度下的半衰期时间，在制造商商品目录等中有记载，例如，在日本油脂株式会社的“有机过氧化物商品目录第9版(2003年5月)”等中有记载。
相对于100重量份(甲基)丙烯酸系聚合物(A)，交联剂(B)的用量优选为0.01～20重量份，进一步优选为0.03～10重量份。其中，交联剂(B)低于0.01重量份时，存在粘合剂的内聚力不足的倾向，加热时有可能产生发泡；另一方面，多于20重量份时，耐湿性不充分，可靠性试验等中容易产生剥离。
在这些交联剂(B)当中，从涂布液的适用期、粘合特性、耐久性、交联稳定性的观点来看，异氰酸酯系交联剂、过氧化物系交联剂、环氧系交联剂是优选的。尤其，从容易取得粘合特性、耐久性、交联稳定性的平衡的观点来看，优选组合使用异氰酸酯系交联剂与过氧化物系交联剂。
上述异氰酸酯系交联剂可以单独使用一种，还可以混合两种以上使用。相对于100重量份上述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)，其总体含量优选为，含有0.01～2重量份上述多异氰酸酯化合物交联剂，更优选含有0.02～2重量份，进一步优选含有0.05～1.5重量份。考虑到在内聚力、耐久性试验中阻止剥离等，可以以适当的量含有。
上述过氧化物系交联剂可以单独使用一种，还可以混合两种以上使用；相对于100重量份的上述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)，上述过氧化物的总体含量为0.01～2重量份，优选含有0.04～1.5重量份，更优选含有0.05～1重量份。为了调整加工性、再加工性、交联稳定性、剥离性等，可以在该范围内适宜选择。
另外，作为反应处理后残留的过氧化物分解量的测定方法，例如可以通过HPLC(高效液相色谱法)测定。
更具体地说，例如，每次取出约0.2g的反应处理后的粘合剂组合物，浸渍在10ml乙酸乙酯中，用振荡机在25℃和120rpm下振荡提取3小时，然后在室温下静置3天。接着，添加10ml乙腈，在25℃、120rpm下振荡30分钟，将约10μl的用膜滤器(0.45μm)过滤所获得的提取液注入HPLC，进行分析，可以作为反应处理后的过氧化物量。
上述环氧系交联剂可以单独使用一种，另外可以将两种以上混合使用，相对于100重量份上述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)，上述环氧系交联剂的总体含量为0.01～2重量份，优选含有0.04～1.5重量份，更优选含有0.05～1重量份。为了调整加工性、再加工性、交联稳定性、剥离性等，可以在该范围内适当选择。
此外，本发明的粘合剂组合物中可以含有含甲硅烷基的化合物(C)。通过使用含甲硅烷基的化合物(C)，可以提高耐久性、再加工性。
作为含甲硅烷基的化合物(C)，可列举出硅烷偶联剂(C1)。作为硅烷偶联剂(C1)的具体例子，例如可列举出3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、2-(3，4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷等含环氧基的硅烷偶联剂；3-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-三乙氧基甲硅烷基-N-(1，3-二甲基亚丁基)丙胺、N-苯基-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷等含氨基的硅烷偶联剂；3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷等含(甲基)丙烯酰基的硅烷偶联剂；3-异氰酸酯基丙基三乙氧基硅烷等含异氰酸酯基的硅烷偶联剂等。
上述硅烷偶联剂(C1)可以单独使用一种，也可以混合两种以上使用，相对于100重量份上述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)，所述硅烷偶联剂(C1)的总体含量优选为0.001～5重量份，更优选为0.01～1重量份，进一步优选为0.02～1重量份，还更优选为0.05～0.6重量份。其量为提高耐久性、适度保持对液晶单元等光学部件的粘接力的量。
另外，作为含甲硅烷基的化合物(C)，可列举出具有聚醚骨架且在至少一个末端具有下述通式(1)：-SiRaM3-a所示的反应性甲硅烷基的聚醚化合物(C2)，式中，R是可以具有取代基的、碳数1～20的一价有机基团，M是羟基或水解性基团，a是1～3的整数。其中，R存在多个时，多个R可以彼此相同或不同，M存在多个时，多个M可以彼此相同或不同。聚醚化合物(C2)从再加工性提高效果良好的观点来看是特别优选的。
由于满足再加工性，在将粘合型光学薄膜贴合于液晶单元上时，即使在贴合位置弄错或者异物进入贴合面的情况下，也能容易地从液晶面板上剥离光学薄膜。另外，将粘合型光学薄膜贴合到液晶面板等上之后，即使由于经由各种工序等而经过了长时间或者在高温下保存，对液晶单元等的粘接力也没有增大，可以容易地从液晶面板等剥离粘合型光学薄膜，不会损伤、污染液晶单元，可以再利用。尤其，在大型液晶单元中，粘合型光学薄膜的剥离是困难的，而根据本发明，能够容易地从大型液晶单元上剥离粘合型光学薄膜。
上述聚醚化合物(C2)中，每一分子在末端具有至少一个上述反应性甲硅烷基。在聚醚化合物(C2)为直链状化合物的情况下，末端具有一个或两个上述反应性甲硅烷基，末端具有两个是优选的。在聚醚化合物(C2)为支链状的化合物的情况下，末端包括主链末端，此外也包括侧链末端，这些末端具有至少一个上述反应性甲硅烷基，但根据末端的数目，上述反应性甲硅烷基优选为2个以上，更优选为3个以上。
具有反应性甲硅烷基的聚醚化合物(C2)优选的是，在至少一部分分子末端上具有上述反应性甲硅烷基、而且其分子中具有至少一个、优选1.1～5个、更优选为1.1～3个反应性甲硅烷基。
上述通式(1)所示的反应性甲硅烷基中的R是可以具有取代基的、碳数1～20的一价有机基团。R优选是直链或支链的碳数1～8的烷基、碳数1～8的氟烷基或苯基，更优选是碳数1～6的烷基，特别优选是甲基。R在同一分子中存在多个时，多个R可以是相同的，也可以是不同的。M是羟基或水解性基团。水解性基团是直接连接于硅原子、通过水解反应和/或缩合反应生成硅氧烷键的基团。作为水解性基团，例如可列举出卤素原子、烷氧基、酰氧基(acyloxy)、链烯氧基(alkenyloxy)、氨基甲酰基、氨基、氨氧基(aminooxy)、酮肟基(ketoximate)等。在水解性基团具有碳原子时，其碳数优选为6以下，更优选为4以下。尤其，碳数4以下的烷氧基或链烯氧基是优选的，甲氧基或乙氧基是特别优选的。在同一分子中存在多个M时，多个M可以是相同的，也可以是不同的。
上述通式(1)所示的反应性甲硅烷基优选是下述通式(2)所示的烷氧基甲硅烷基：
式中，R1、R2和R3是碳数1～6的一价烃基，在同一分子中可以是相同或不同的。
作为上述通式(2)中所示的烷氧基甲硅烷基中的R1、R2和R3，例如可列举出直链或支链的碳数1～6的烷基、直链或支链的碳数2～6的链烯基、碳数5～6的环烷基、苯基等。作为式中的-OR1、-OR2和-OR3的具体例子，例如可列举出甲氧基、乙氧基、丙氧基、丙烯氧基、苯氧基等。其中，甲氧基、乙氧基是优选的，甲氧基是特别优选的。
上述聚醚化合物(C2)所具有的聚醚骨架优选具有碳数1～10的直链或支链的氧亚烷基(oxyalkylene group)的重复结构单元。氧亚烷基的结构单元优选为碳数2～6，进一步优选为3。另外，氧亚烷基的重复结构单元可以是一种氧亚烷基的重复结构单元，也可以是两种以上的氧亚烷基的嵌段单元或无规单元的重复结构单元。作为氧亚烷基，例如可列举出氧亚乙基、氧亚丙基、氧亚丁基等。这些氧亚烷基当中，从材料制造的容易程度、材料稳定性等观点来看，优选具有氧亚丙基(尤其-CH2CH(CH3)O-)的结构单元。
上述聚醚化合物(C2)中，除了上述反应性甲硅烷基以外，主链优选基本上由聚醚骨架构成。在这里，主链基本上由聚氧亚烷基链构成是指，可以含有少量其他化学结构。作为其他化学结构，是指可以含有例如在制备聚醚骨架的氧亚烷基重复结构单元时的引发剂的化学结构和与反应性甲硅烷基连接的连接基等。聚醚骨架的氧亚烷基重复结构单元优选是聚醚化合物(C2)的总重量的50重量％以上，进一步优选为80重量％以上。
作为上述聚醚化合物(C2)，可列举出通式(3)所示的化合物：
通式(3)：RaM3-aSi-X-Y-(AO)n-Z
式中，R是可以具有取代基、碳数1～20的一价有机基团，M是羟基或水解性基团，a是1～3的整数。其中，R存在多个时，多个R可以是相同或不同的，M存在多个时，多个M可以是相同或不同的。AO表示直链或支链的碳数1～10的氧亚烷基，n是1～1700，表示氧亚烷基的平均加成摩尔数。X表示碳数1～20的直链或支链的亚烷基。Y是醚键、酯键、氨基甲酸酯键或碳酸酯键。
Z表示氢原子、一价的碳数1～10的烃基、或通式(3A)或通式(3B)所示的基团：
通式(3A)：-Y1-X-SiRaM3-a
式中，R、M、X与上述相同。Y1表示单键、-CO-键、-CONH-键或-COO-键；
通式(3B)：-Q{-(OA)n-Y-X-SiRaM3-a}m
式中，R、M、X、Y与上述相同。OA与上述AO相同，n与上述相同。Q是2价以上的碳数1～10的烃基，m与该烃基的价数相同。
上述通式(3)中的X是碳数1～20的直链或支链的亚烷基，优选碳数为2～10，更优选为3。
上述通式(3)中的Y是与聚醚骨架中的氧亚烷基的末端的羟基反应而形成的连接基，优选是醚键或氨基甲酸酯键，进一步优选是氨基甲酸酯键。
上述Z对应于在通式(3)所示的化合物的制造中作为氧亚烷基聚合物的引发剂的具有羟基的羟基化合物。上述通式(3)中，在单个末端具有一个反应性甲硅烷基的情况下，另一个末端的Z是氢或一价的碳数1～10的烃基。Z为氢原子的情况是，作为上述羟基化合物使用与氧亚烷基聚合物同样的构成单元的情况，Z为一价的碳数1～10的烃基的情况是，作为上述羟基化合物使用具有一个羟基的羟基化合物的情况。
另一方面，在上述通式(3)的末端具有多个反应性甲硅烷基的情况对应于Z为通式(3A)或(3B)的情况。Z为通式(3A)的情况是，作为上述羟基化合物使用与氧亚烷聚合物同样的构成单元的情况，Z为通式(3B)的情况是作为上述羟基化合物使用与氧亚烷基聚合物的构成单元不同、且具有两个羟基的羟基化合物的情况。另外，Z为通式(3A)时，Y1与Y一样，是与聚醚骨架中的氧亚烷基的末端的羟基反应而形成的连接基。
上述通式(3)所示的聚醚化合物(C2)中，从再加工性的观点来看，通式(4)、通式(5)、通式(6)所示的化合物是优选的：
通式(4)：Zo-A2-O-(A1O)n-Z1
式中，A1O是碳数2～6的氧亚烷基，n是1～1700，表示A1O的平均加成摩尔数。Z1是氢原子或-A2-Zo。A2是碳数2～6的亚烷基；
通式(5)：Zo-A2-NHCOO-(A1O)n-Z2
式中，A1O是碳数2～6的氧亚烷基，n是1～1700，表示A1O的平均加成摩尔数。Z2是氢原子或-CONH-A2-Zo。A2是碳数2～6的亚烷基；
通式(6)：Z3-O-(A1O)n-CH{-CH2-(A1O)n-Z3}2
式中，A1O是碳数2～6的氧亚烷基，n是1～1700，表示A1O的平均加成摩尔数。Z3是氢原子或-A2-Zo，至少一个Z3是-A2-Zo。A2是碳数2～6的亚烷基。Zo均为上述通式(3)所示的烷氧基甲硅烷基。A1O的氧亚烷基可以是直链或支链的任何一种，氧亚丙基是特别优选的。A2的亚烷基可以是直链或支链的任何一种，尤其优选是亚丙基。
另外，作为上述通式(5)所示的化合物，可优选使用下述通式(5A)所示的化合物：
Figure BSA00000291897600201
式中，R1、R2和R3是碳数1～6的一价烃基，在同一分子中可以是相同或不同的。n是1～1700，表示氧亚丙基的平均加成摩尔数。
Z21表示氢原子或通式(5B)所示的三烷氧基甲硅烷基：
式中，R1、R2和R3与上述相同。
从再加工性的观点来看，聚醚化合物(C2)的数均分子量优选为300～100000。上述数均分子量的下限优选为500以上，更优选为1000以上，进一步优选为2000以上，进一步优选为3000以上，进一步优选为4000以上，进一步优选为5000以上；另一方面，上限优选为50000以下，更优选为40000以下，进一步优选为30000以下，进一步优选为20000以下，进一步优选为10000以下。上述数均分子量可以采用上述上限值或下限值，设定优选的范围。上述通式(3)、(4)、(5)或(6)所示的聚醚化合物(C2)中的n是聚醚骨架的氧亚烷基的平均加成摩尔数，上述聚醚化合物(C2)优选是数均分子量控制在上述范围内的化合物。在聚醚化合物(C2)的数均分子量为1000以上的情况下，上述n通常为10～1700。
另外，聚合物的Mw(重均分子量)/Mn(数均分子量)优选为3.0以下，更优选为1.6以下，特别优选为1.5以下。为了获得Mw/Mn小的具有反应性甲硅烷基的聚醚化合物(C2)，特别优选使用如下获得的氧亚烷基聚合物：通过尤其使用下述复合金属氰化物配合物作为催化剂，在引发剂的存在下，使环状醚聚合来获得的氧亚烷基聚合物，特别优选将这种原料氧亚烷基聚合物的末端改性而形成反应性甲硅烷基的方法。
上述通式(3)、(4)、(5)或(6)所示的聚醚化合物(C2)例如可以如下制备：通过使用分子末端具有官能团的氧亚烷基聚合物作为原料，经由亚烷基等有机基团将反应性甲硅烷基键合于其分子末端来制备。作为用作原料的氧亚烷基聚合物，在催化剂和引发剂的存在下将环状醚开环聚合反应而获得的羟基末端的聚合物是优选的。
作为上述引发剂，可以使用每一分子具有一个以上活性氢原子的化合物，例如每一分子具有一个以上羟基的羟基化合物等。作为引发剂，例如，可列举出乙二醇、丙二醇、二丙二醇、丁二醇、己二醇、氢化双酚A、新戊二醇、聚丁二烯二醇、二甘醇、三甘醇、聚乙二醇、烯丙醇、甲基烯丙醇、甘油、三羟甲基甲烷、三羟甲基丙烷、季戊四醇等以及这些化合物的环氧烷加成物等含羟基的化合物等。引发剂可以使用仅一种，也可以组合两种以上使用。
在引发剂的存在下将环状醚开环聚合时，可以使用聚合催化剂。作为聚合催化剂，例如可以列举出氢氧化钾、甲醇钾等钾化合物以及氢氧化铯等铯化合物等碱金属化合物；复合金属氰化物配合物；金属卟啉配合物；以及具有P＝N键的化合物等。
上述通式(3)、(4)、(5)或(6)所示的聚醚化合物(C2)中的聚氧亚烷基链优选由碳数2～6的环氧烷的开环聚合所形成的氧亚烷基的聚合单元构成，更优选由选自由环氧乙烷、环氧丙烷和环氧丁烷组成的组中的一种以上的环氧烷的开环聚合所形成的氧亚烷基的重复结构单元构成，特别优选由环氧丙烷的开环聚合所形成的氧亚烷基的重复结构单元构成。聚氧亚烷基链由两种以上的氧亚烷基的重复结构单元构成时，两种以上的氧亚烷基的重复结构单元的排列方式可以是嵌段状，也可以是无规状的。
另外，上述通式(5)所示的聚醚化合物(C2)例如可以如下获得：通过具有聚氧亚烷基链和羟基的聚合物与通式(1)所示的具有反应性甲硅烷基和异氰酸酯基的化合物发生的氨基甲酸酯化反应来获得。此外，还可以使用以下方法：利用具有不饱和基团的氧亚烷基聚合物，例如以烯丙醇为引发剂、将环氧烷聚合而获得的烯丙基末端聚氧亚丙基单醇，通过氢化硅烷或巯基硅烷对不饱和基团的加成反应，将通式(1)所示的反应性甲硅烷基引入到分子末端。
对将通式(1)所示的反应性甲硅烷基引入到在引发剂存在下将环状醚开环聚合而获得的羟基末端的氧亚烷基聚合物(亦称为原料氧亚烷基聚合物)的末端基团上的方法没有特别限制，通常，进一步经由有机基团使反应性甲硅烷基连接于上述末端基团上的下述(a)～(c)的方法是优选的。
(a)在具有羟基的原料氧亚烷基聚合物的末端上引入不饱和基团，然后使反应性甲硅烷基连接于该不饱和基团的方法。作为该方法，进一步可以列举出以下两种方法(a-1)和(a-2)。(a-1)采用在铂化合物等催化剂的存在下使氢化硅烷化合物与上述不饱和基团反应的、所谓的氢化硅烷化(hydrosilylation)反应的方法。(a-2)使巯基硅烷化合物与不饱和基团反应的方法。作为巯基硅烷化合物，例如可列举出3-巯基丙基三甲氧基硅烷、3-巯基丙基三乙氧基硅烷、3-巯基丙基三异丙烯氧基硅烷、3-巯基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-巯基丙基二甲基单甲氧基硅烷、3-巯基丙基甲基二乙氧基硅烷等。
在使不饱和基团与巯基反应时，可以使用用作自由基聚合引发剂的自由基产生剂等化合物，也可以根据需要，不使用自由基聚合引发剂，通过辐射线、热来进行反应。作为自由基聚合引发剂，例如可列举出过氧化物系、偶氮系和氧化还原系的聚合引发剂以及金属化合物催化剂等，具体地说，可列举出2，2’-偶氮双异丁腈、2，2’-偶氮双-2-甲基丁腈、过氧化苯甲酰、叔烷基过氧酯、过氧化乙酰、过氧化二碳酸二异丙酯等。在使用自由基聚合引发剂使不饱和基团与巯基反应时，虽然根据上述聚合引发剂的分解温度(半衰期温度)而不同，但优选一般在20～200℃、优选50～150℃的反应温度下进行几小时～几十小时的反应。
作为将不饱和基团引入到原料氧亚烷基聚合物的末端上的方法，可列举出下述方法：使兼有可通过醚键、酯键、氨基甲酸酯键或碳酸酯键等与原料氧亚烷基聚合物的末端羟基连接的官能团和不饱和基团的反应剂与原料氧亚烷基聚合物反应的方法。另外，还可以使用如下方法：在引发剂的存在下将环状醚聚合时，通过使烯丙基缩水甘油醚等含不饱和基团的环氧化合物共聚，从而将不饱和基团引入到原料氧亚烷基聚合物的至少一部分末端上的方法。优选在60～120℃的温度下进行，一般用几小时以内的反应时间可以充分地进行氢化硅烷化反应。
(b)使末端具有羟基的原料氧亚烷基聚合物与具有反应性甲硅烷基的异氰酸酯基硅烷化合物反应的方法。作为该化合物，可列举出1-异氰酸酯基甲基三甲氧基硅烷、1-异氰酸酯基甲基三乙氧基硅烷、1-异氰酸酯基丙基三甲氧基硅烷、1-异氰酸酯基丙基三乙氧基硅烷、3-异氰酸酯基丙基三甲氧基硅烷、3-异氰酸酯基丙基三乙氧基硅烷、1-异氰酸酯基甲基甲基二甲氧基硅烷、1-异氰酸酯基甲基二甲基单甲氧基硅烷、1-异氰酸酯基甲基甲基二乙氧基硅烷、1-异氰酸酯基丙基甲基二甲氧基硅烷、1-异氰酸酯基丙基二甲基单甲氧基硅烷、1-异氰酸酯基丙基甲基二乙氧基硅烷、3-异氰酸酯基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-异氰酸酯基丙基二甲基单甲氧基硅烷、3-异氰酸酯基丙基甲基二乙氧基硅烷等异氰酸酯基硅烷系化合物。其中，3-异氰酸酯基丙基三甲氧基硅烷、1-异氰酸酯基甲基甲基二甲氧基硅烷是更优选的，3-异氰酸酯基丙基三甲氧基硅烷是特别优选的。
优选以异氰酸酯基硅烷系化合物的异氰酸酯基(NCO)相对于原料氧亚烷基聚合物的羟基(OH)以摩尔比计NCO/OH＝0.80～1.05进行反应。该方法由于制造工序少而可以大幅缩短工序时间，没有制造工序途中副产的杂质，也不需要精制等繁琐的操作。进一步优选的NCO基与OH基的比率是NCO/OH(摩尔比)＝0.85～1.00。NCO比率少时，会发生残留的OH基团与反应性甲硅烷基的反应等，贮藏稳定性不优选。在这种情况下，优选的是，使其与异氰酸酯基硅烷化合物或单异氰酸酯化合物重新反应，消耗过剩的OH基团，调整至规定的硅烷化率。
在使原料氧亚烷基聚合物的羟基与上述异氰酸酯基硅烷化合物反应时，可以使用公知的氨基甲酸酯化反应催化剂。根据是否使用氨基甲酸酯化反应催化剂和其用量，反应温度和到反应结束所需的反应时间不同，但优选的是，在通常20～200℃，优选50～150℃的温度下进行几小时反应。
(c)在异氰酸酯基过剩的条件下使多异氰酸酯化合物与在分子末端具有羟基的氧亚烷基聚合物反应，制备至少一部分末端上具有异氰酸酯基的氧亚烷基聚合物，进一步使具有官能团的硅化合物与上述异氰酸酯基反应的方法。该硅化合物的官能团是选自羟基、羧基、巯基、伯氨基和仲氨基组成的组中的含活性氢的基团。作为该硅化合物，可列举出N-苯基-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-苯基-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-氨基丙基甲基二乙氧基硅烷等氨基硅烷系化合物；以及3-巯基丙基三甲氧基硅烷、3-巯基丙基甲基二甲氧基硅烷等巯基硅烷系化合物。在使原料氧亚烷基聚合物的羟基和上述异氰酸酯基与具有官能团的硅化合物反应时，可以使用公知的氨基甲酸酯化反应催化剂。根据是否使用氨基甲酸酯化反应催化剂和其用量，反应温度和到反应结束所需的反应时间不同，但优选的是，通常在20～200℃，优选50～150℃的温度下进行几小时反应。
作为聚醚化合物(C2)的具体例子，例如可列举出KanekaCorporation制造的MS polymer S203、S303、S810；SILYLEST250、SET280；SAT10、SAT200、SAT220、SAT350、SAT400、旭硝子社制造的EXCESTAR S2410、EXCESTAR S2420或EXCESTAR S3430等。
上述聚醚化合物(C2)可以单独使用一种，也可以混合两种以上使用，相对于100重量份上述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)，上述聚醚化合物(C2)的总体含量优选为0.001～20重量份。从能够提高再加工性的观点来看，聚醚化合物(C2)优选为0.01重量份以上，进一步优选为0.02重量份以上，进一步优选为0.1重量份以上，进一步优选为0.5重量份以上。另一方面，聚醚化合物(C2)多于20重量份时，耐湿性不充分，在可靠性试验等中容易产生剥离。聚醚化合物(C2)优选为10重量份以下，进一步优选为5重量份以下，还进一步优选为3重量份以下。
此外，本发明的粘合剂组合物中可以含有其他公知的添加剂，例如根据应用的用途可以适当添加着色剂、颜料等粉体、染料、表面活性剂、增塑剂、粘合性赋予剂、表面润滑剂、流平剂、软化剂、抗氧化剂、抗老化剂、光稳定剂、紫外线吸收剂、阻聚剂、无机或有机填充剂、金属粉末、颗粒状物、箔状物等。另外，在可控制的范围内，可以采用添加还原剂的氧化还原体系。
通过上述粘合剂组合物形成粘合剂层，在形成粘合剂层时，优选调整交联剂总体的添加量，并充分考虑交联处理温度或交联处理时间的影响。
根据所使用的交联剂，可以对交联处理温度、交联处理进行调整。交联处理温度优选为170℃以下。
另外，所述交联处理可以在粘合剂层的干燥工序时的温度下进行，也可以在干燥工序后另外设置交联处理工序。
另外，关于交联处理时间，可以考虑生产率、操作性来设定，通常为0.2～20分钟左右，优选为0.5～10分钟左右。
本发明的粘合型光学薄膜等粘合型光学部件是在光学薄膜的至少单面上通过上述粘合剂形成有粘合剂层的光学部件。
作为形成粘合剂层的方法，例如通过如下方法等来制作：在剥离处理过的隔片等上涂布上述粘合剂组合物，干燥除去聚合溶剂等，形成粘合剂层，然后转印到光学薄膜上的方法；或者在光学薄膜上涂布上述粘合剂组合物，干燥除去聚合溶剂等，在光学薄膜上形成粘合剂层的方法。另外，在粘合剂涂布时，也可以适宜地新添加除了聚合溶剂以外的一种以上的溶剂。
作为剥离处理过的隔片，优选使用硅酮剥离衬垫。在这种衬垫上涂布本发明的粘合剂组合物并干燥，从而形成粘合剂层的工序中，作为使粘合剂干燥的方法，根据目的，可适宜地采用适当的方法。优选使用加热干燥上述涂布膜的方法。加热干燥温度优选为40℃～200℃，进一步优选为50℃～180℃，特别优选为70℃～170℃。通过将加热温度设定为上述范围，可以获得具有优异粘合特性的粘合剂。
干燥时间可以适宜地采用适当时间。上述干燥时间优选为5秒～20分钟，进一步优选为5秒～10分钟，特别优选为10秒～5分钟。
另外，可以在光学薄膜的表面上设置底涂层，然后形成粘合剂层，或者在光学薄膜的表面上进行电晕放电处理、等离子处理等各种粘接改进处理，然后设置底涂层，此后形成粘合剂层，或者在光学薄膜的表面上进行电晕放电处理、等离子处理等各种粘接改进处理，然后在其上直接设置粘合剂层。另外，也可以在粘合剂层的表面进行粘接改进处理。
形成底涂层的材料理想地是对于粘合剂层和光学薄膜(例如在偏振片中为透明保护薄膜)的任何一种均显示了良好的密接性、形成内聚力优异的膜的材料。显示这种性质的材料可以使用各种聚合物类、金属氧化物的溶胶、硅溶胶等。在这些当中，特别优选使用聚合物类。
作为上述聚合物类，可列举出聚氨酯系树脂、聚酯系树脂、分子中含有氨基的聚合物类。聚合物类的使用形式可以是溶剂可溶型、水分散型、水溶解型的任何一种。例如，可列举出水溶性聚氨酯、水溶性聚酯、水溶性聚酰胺等或水分散性树脂(乙烯-乙酸乙烯酯系乳液、(甲基)丙烯酸系乳液等)。另外，水分散型可以使用用乳化剂将聚氨酯、聚酯、聚酰胺等各种树脂乳液化而形成的材料，或者将水分散性亲水基团的阴离子基团、阳离子基团或非离子基团引入到上述树脂中而作为自乳化物的材料等。另外，可以使用离子高分子配合物。
在粘合剂层中包含例如异氰酸酯系化合物的情况下，所述聚合物类优选具有与异氰酸酯系化合物具有反应性的官能团。作为上述聚合物类，分子中含有氨基的聚合物类是优选的。尤其优选使用在末端具有伯氨基的聚合物，通过与异氰酸酯系化合物反应而牢固地密接。
作为分子中含有氨基的聚合物类，可列举出聚乙烯亚胺系、聚烯丙基胺系、聚乙烯胺系、聚乙烯吡啶系、聚乙烯吡咯烷系、丙烯酸二甲基氨基乙酯等含氨基的单体的聚合物等。在这些当中，聚乙烯亚胺系是优选的。作为聚乙烯亚胺系材料，只要具有聚乙烯亚胺结构即可，例如可列举出聚乙烯亚胺、聚丙烯酸酯的乙烯亚胺加成物和/或聚丙烯酸酯的聚乙烯亚胺加成物。
对聚乙烯亚胺没有特别限制，可以使用各种聚乙烯亚胺。对聚乙烯亚胺的重均分子量没有特别限制，通常是100～100万左右。例如，作为聚乙烯亚胺的市售产品的例子，可列举出株式会社日本触媒公司制造的EPOMIN SP系列(SP-003、SP006、SP012、SP018、SP103、SP110、SP200等)、EPOMIN P-1000等。在这些当中，EPOMIN P-1000是优选的。
聚丙烯酸酯的乙烯亚胺加成物和/或聚丙烯酸酯的聚乙烯亚胺加成物的聚丙烯酸酯是根据常法将后述的构成丙烯酸系粘合剂的基础聚合物(丙烯酸系聚合物)的(甲基)丙烯酸烷基酯及其共聚单体进行乳液聚合而获得的。作为共聚单体，可以使用具有用于使乙烯亚胺等反应的羧基等官能团的单体。具有羧基等官能团的单体的使用比例根据反应的乙烯亚胺等的比例来适宜地调整。另外，作为共聚单体，优选使用苯乙烯系单体。另外，通过使另外合成的聚乙烯亚胺与丙烯酸酯中的羧基等反应，还可以形成接枝有聚乙烯亚胺的加成物。例如，作为市售产品的例子，可列举出株式会社日本触媒公司制造的POLYMENT NK-380。
另外，可以使用丙烯酸系聚合物乳液的乙烯亚胺加成物和/或聚乙烯亚胺加成物等。例如，作为市售商品的例子，可列举出株式会社日本触媒公司制造的POLYMENT SK-1000。
另外，在形成底涂层时，在含氨基的聚合物类的基础上，混合与含氨基的聚合物类反应的化合物，进行交联，可以提高底涂层的强度。作为与含氨基的聚合物类反应的化合物，可列举出环氧化合物等。
在设置底涂层的情况下，在上述光学薄膜上形成底涂层之后，形成粘合剂层。例如，使用涂布法、浸涂法、喷涂法等施涂法，涂布诸如聚乙烯亚胺水溶液之类的底涂溶液并干燥，形成底涂层。底涂层的厚度优选为10～5000nm左右，进一步优选在50～500nm的范围内。底涂层的厚度较薄时，没有作为整体的性质，变得不能显示充分的强度，有可能不能获得充分的密接性。另外，过厚时，有可能导致光学特性降低。
另外，为了对上述底涂层赋予导电性，还可以添加导电性聚合物。对导电性聚合物没有特定限制，可以使用各种导电性聚合物。具体地说，可列举出聚苯胺、聚噻吩、聚乙烯亚胺、烯丙基胺系化合物等。优选使用聚苯胺和/或聚噻吩。
作为粘合剂层的形成方法，使用各种方法，具体地说，例如可列举出辊涂法、辊舔式涂布法、凹版涂布法、逆向涂布法、辊刷法、喷涂法、浸渍辊涂法、绕线棒刮涂法、气刀式涂布法、幕涂法、模唇涂布法(lip coat)、利用模头涂布机等的挤出涂布法等方法。
对粘合剂层的厚度没有特别限制，例如是1～100μm左右，优选为2～50μm，更优选为2～40μm，进一步优选为5～35μm。
在上述粘合剂层露出的情况下，实际使用之前可以用剥离处理的片材(隔片)保护粘合剂层。
作为隔片的构成材料，例如可列举出聚乙烯、聚丙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚酯薄膜等塑料薄膜，纸、布、无纺布等多孔材料，网状物、发泡片材、金属箔、以及这些材料的层叠体等适当的薄片体等，而从表面平滑性优异的观点来看，优选使用塑料薄膜。
对该塑料薄膜没有特别限制，只要是可保护上述粘合剂层的薄膜即可，例如可列举出聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、聚丁烯薄膜、聚丁二烯薄膜、聚甲基戊烯薄膜、聚氯乙烯薄膜、氯乙烯共聚物薄膜、聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜、聚对苯二甲酸丁二醇酯薄膜、聚氨酯薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物薄膜等。
上述隔片的厚度通常为5～200μm，优选为5～100μm左右。根据需要，可以对所述隔片进行基于硅酮系、氟系、长链烷基系或脂肪酸酰胺系脱模剂、硅石粉等的脱模和防污处理，或者涂布型、混入型、蒸镀型等抗静电处理。尤其，通过在上述隔片的表面上适当地进行硅酮处理、长链烷基处理、氟处理等剥离处理，可以进一步提高从所述粘合剂层的剥离性。
另外，在上述粘合型光学薄膜的制作时使用的、剥离处理过的片材，可以直接用作粘合型光学薄膜的隔片，从而可以在工序方面简化。
作为光学薄膜，采用用于形成液晶显示装置等图像显示装置的光学薄膜，对其种类没有特别限制。例如，作为光学薄膜，可列举出偏振片。偏振片一般使用在起偏振器的一面或两面具有透明保护薄膜的偏振片。作为光学薄膜，例如可以使用作为透明保护薄膜的三醋酸纤维素系树脂、(甲基)丙烯酸系树脂或降冰片烯系树脂等，对于这些各种材料，本发明的粘合型光学薄膜显示了良好的耐久性。
对起偏振器没有特别限制，可以使用各种起偏振器。作为起偏振器，例如可列举出在聚乙烯醇系薄膜、部分甲缩醛化聚乙烯醇系薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化薄膜等亲水性高分子薄膜上吸附了碘、二色性染料等二色性物质而后单向拉伸的材料；聚乙烯醇的脱水处理物、聚氯乙烯的脱盐酸处理物等聚烯烃系取向薄膜等。在这些当中，优选的是由聚乙烯醇系薄膜与碘等二色性物质构成的起偏振器。对这些起偏振器的厚度没有特别限制，通常为5～80μm左右。
用碘染色聚乙烯醇系薄膜并单向拉伸得到的起偏振器例如可以通过将聚乙烯醇浸渍在碘的水溶液中进行染色，并拉伸至原长度的3～7倍来制作。根据需要，还可以在可含有硼酸、硫酸锌、氯化锌等的碘化钾等的水溶液中浸渍。此外，根据需要，可以在染色前将聚乙烯醇系薄膜浸渍在水中，进行水洗。通过将聚乙烯醇系薄膜水洗，可以洗去聚乙烯醇系薄膜表面的污渍、防粘连剂，此外通过使聚乙烯醇系薄膜溶胀，也具有可有效防止染色不匀等不均匀的效果。拉伸可以在用碘染色之后进行，也可以在染色的同时进行拉伸，另外也可以在拉伸之后用碘染色。也可以在硼酸、碘化钾等的水溶液、水浴中进行拉伸。
作为构成透明保护薄膜的材料，例如可以使用透明性、机械强度、热稳定性、水分阻断性、各向同性等优异的热塑性树脂。作为这种热塑性树脂的具体例子，可列举出三醋酸纤维素等纤维素树脂、聚酯树脂、聚醚砜树脂、聚砜树脂、聚碳酸酯、聚酰胺树脂、聚酰亚胺树脂、聚烯烃树脂、(甲基)丙烯酸树脂、环状聚烯烃树脂(降冰片烯系树脂)、聚芳酯树脂、聚苯乙烯树脂、聚乙烯醇树脂以及它们的混合物。另外，在起偏振器的一侧，通过粘合剂层贴合透明保护薄膜，在另一侧，作为透明保护薄膜，可以使用(甲基)丙烯酸系、氨基甲酸酯系、丙烯酸氨基甲酸酯系、环氧系、硅酮系等的热固化性树脂或紫外线固化型树脂。透明保护薄膜中可以含有一种以上的任意适当的添加剂。作为添加剂，例如可列举出紫外线吸收剂、抗氧化剂、润滑剂、增塑剂、脱模剂、防着色剂、阻燃剂、成核剂、抗静电剂、颜料、着色剂等。透明保护薄膜中的上述热塑性树脂的含量优选为50～100重量％，更优选为50～99重量％，进一步优选为60～98重量％，特别优选为70～97重量％。在透明保护薄膜中的上述热塑性树脂的含量为50重量％以下时，有可能不能充分表现热塑性树脂固有的高透明性等。
另外，作为光学薄膜，例如可列举出反射板、半透射板、相位差板(包括1/2或1/4等波长板)、视场角补偿薄膜、增光膜等用于形成液晶显示装置等的、构成光学层的薄膜。它们可以单独作为光学薄膜使用，此外，可以在实际使用时在上述偏振片上层叠一层或两层以上来使用。
在偏振片上层叠上述光学层而成的光学薄膜也可以在液晶显示装置等的制造过程中以依次各自层叠的方式来形成，但预先层叠形成光学薄膜的方法具有品质的稳定性、组装作业等优良且可改善液晶显示装置等的制造工序的优点。层叠可以使用粘合层等适当的粘接手段。在将上述偏振片与其他光学层粘接时，它们的光学轴可以根据目的相位差特性等来形成适当的配置角度。
本发明的粘合型光学薄膜可以优选用于形成液晶显示装置等各种图像显示装置等。液晶显示装置的形成可以按照现有方法进行。即，通常，液晶显示装置可通过适当地组装液晶单元等显示面板和粘合型光学薄膜以及视需要而定的照明系统等构成部件并装入驱动电路等来形成，在本发明中，除了使用本发明的粘合型光学薄膜的这一点以外，没有特别限定，可以根据现有方法来形成。对于液晶单元来说，例如可以使用TN型、STN型、π型、VA型、IPS型等任意类型的液晶单元。
可以形成在液晶单元等显示面板的单侧或双侧配置有粘合型光学薄膜的液晶显示装置、在照明系统中使用了背光灯或反射板的装置等适宜的液晶显示装置。在该情况下，本发明的光学薄膜可以在液晶单元等显示面板的单侧或双侧上设置。在两侧设置光学薄膜的情况下，它们可以是相同的，也可以是不同的。此外，在液晶显示装置形成时，可以在适当位置上配制一层或两层以上的例如漫射板、防眩层、防反射膜、保护板、棱镜阵列、透镜阵列片、光漫射板、背光灯等适当的部件。
实施例
以下通过实施例来具体地说明本发明，但本发明不受这些实施例的限制。另外，各例中的份和％均为重量基准。以下没有特别规定的室温放置条件全部为23℃、65％RH。
(甲基)丙烯酸系聚合物(A)的重均分子量、Mw/Mn的 测定
(甲基)丙烯酸系聚合物(A)的重均分子量(Mw)通过GPC(凝胶渗透色谱法)测定。关于Mw/Mn，同样地测定。
·分析装置：TOSOH CORPORATION制造，HLC-8120GPC
·柱：TOSOH CORPORATION制造，G7000HXL+GMHXL+GMHXL
·柱尺寸：各7.8mmφ×30cm，合计90cm
·柱温度：40℃
·流量：0.8ml/min
·注入量：100μl
·洗脱剂：四氢呋喃
·检测器：差示折射计(RI)
·标准试料：聚苯乙烯
聚醚化合物(C2)的数均分子量的测定
聚醚化合物(C2)的数均分子量通过GPC(凝胶渗透色谱法)测定。
·分析装置：TOSOH CORPORATION制造，HLC-8120GPC
·柱：TSKgel，SuperHZM-H/HZ4000/HZ2000
·柱尺寸：6.0mm内径×150mm
·柱温度：40℃
·流量：0.6ml/min
·注入量：20μl
·洗脱剂：四氢呋喃
·检测器：差示折射计(RI)
·标准试料：聚苯乙烯
偏振片的制作
在速度比不同的辊间，将厚度80μm的聚乙烯醇薄膜在30℃、0.3％浓度的碘溶液中染色1分钟，并拉伸至3倍。此后，在60℃的含有4％浓度的硼酸、10％浓度的碘化钾的水溶液中，浸渍0.5分钟，并拉伸至总拉伸倍率为6倍。接着，通过在30℃的含有1.5％浓度的碘化钾的水溶液中浸渍10秒钟，进行洗涤，然后在50℃下干燥4分钟，获得起偏振器。通过聚乙烯醇系粘接剂，将皂化处理过的厚度80μm的三醋酸纤维素薄膜贴合于该起偏振器的两面上，制作偏振片。另外，使用厚度30μm的丙烯酸系薄膜(内酯改性丙烯酸系树脂薄膜)或厚度60μm的降冰片烯系薄膜(ZEONOR FILM ZB12，日本Zeon Corporation制造)代替厚度80μm的三醋酸纤维素薄膜，与上述同样地制作偏振片。实施例中，使用这样获得的、透明保护薄膜不同的三种偏振片。
实施例1
丙烯酸系聚合物(A)的制备
在设有搅拌叶片、温度计、氮气导入管、冷却器的四颈烧瓶中，将74.9份丙烯酸丁酯、20份丙烯酸苄酯、5份丙烯酸、0.1份丙烯酸4-羟丁酯和0.1份的作为聚合引发剂的2，2’-偶氮双异丁腈与100份乙酸乙酯一起加入(单体浓度50％)，一边缓慢搅拌，一边导入氮气，在氮气置换之后，将烧瓶内的液温保持在55℃左右，进行8小时聚合反应，制备了重均分子量(Mw)204万、Mw/Mn＝3.2的丙烯酸系聚合物的溶液。
粘合剂组合物的制备
将0.45份异氰酸酯交联剂(日本聚氨酯工业株式会社制造的CORONATE L，三羟甲基丙烷的甲苯二异氰酸酯加合物)、0.1份过氧化苯甲酰(日本油脂社制造，NYPER BMT)和0.1份硅烷偶联剂(信越化学工业(株)制造的KBM403)配合到固体分100份的上述获得的丙烯酸系聚合物溶液中，制备丙烯酸系粘合剂组合物的溶液(固体分11％)。
粘合剂层的形成
接着，将上述丙烯酸系粘合剂溶液涂布于实施了硅酮处理后的、厚度38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)薄膜(MITSUBISHI POLYESTER FILM CORPORATION制造，MRF38)的一个面上，使得干燥后的粘合剂层的厚度为23μm，在155℃下干燥处理1分钟，形成粘合剂层。
带粘合剂层的偏振片的制作
在上述三种偏振片的形成有粘合剂层的透明保护薄膜侧，分别用绕线棒涂布底涂剂形成底涂层(厚度100nm)。底涂剂使用将含有噻吩系聚合物的溶液(Nagase ChemteX Corporation制造，商品名“Denatron P 521-AC”)用水与异丙醇的混合溶液稀释、配制得到的固体分浓度为0.6重量％的材料。接着，将形成了上述粘合剂层的实施过硅酮处理的PET薄膜分别转印到底涂层上，制作三种带粘合剂层的偏振片。
实施例2～28和比较例1～9
在实施例1中，除了如表1所示地改变用于制备丙烯酸系聚合物(A)的单体的种类、其使用比例、聚合物性状(重均分子量Mw/Mn)、交联剂(B)的种类或其用量、含甲硅烷基的化合物(C)的种类或其用量(或不使用)以外，与实施例1同样地(然而，在制备丙烯酸系聚合物(A)时，如表1所示改变单体的浓度、聚合时间的反应条件)制备丙烯酸系聚合物的溶液，且制备丙烯酸系粘合剂组合物的溶液。另外，使用该丙烯酸系粘合剂组合物的溶液，制作带粘合剂层的偏振片。
对于上述实施例和比较例中获得的三种带粘合剂层的偏振片(样品)进行以下评价。评价结果在表1中示出。
边角不匀
准备2张切割成纵420mm×横320mm的尺寸的样品，使用层压机将该样品贴合到厚度0.07mm的无碱玻璃的两面上，使其形成交叉棱镜(crossed nicols)状态。接着，在50℃、5个大气压下进行15分钟高压釜处理，形成二次样品(初始)。接着，将二次样品在90℃的条件下进行24小时处理(加热后)。将初始和加热后的二次样品置于1万坎德拉(candela)的背光灯上，根据下述基准目测评价漏光。
◎：没有发生边角不匀，实用上没有问题。
○：虽然发生少许边角不匀，但由于没有出现在显示区域，因而实用上没有问题。
△：发生了边角不匀，但由于在显示区域只出现少许，实用上没有问题。
×：发生了边角不匀，在显示区域大量出现，实用上存在问题。
耐久性
形成37英寸尺寸的样品，使用层压机贴合到厚度0.7mm的无碱玻璃(Corning Incorporated制造，1737)上。接着，在50℃、0.5MPa下进行15分钟高压釜处理，使上述样品完全地密接到无碱玻璃上。根据下述标准，对实施过所述处理的样品分别进行80℃下500小时(加热试验1)、100℃下50小时(加热试验2)的处理，之后，在60℃/90％RH的环境下进行500小时处理(加湿试验)，然后按每次循环1小时进行300次85℃与-45℃的环境的循环(热冲击试验)，然后目测评价偏振片与玻璃之间的外观。
◎：完全没有发泡、剥落、浮起等外观上的变化。
○：端部有轻微剥落或发泡，但实用上没有问题。
△：端部有剥落或发泡，若不是特殊用途则实用上没有问题。
×：端部具有显著剥落，实用上存在问题。
再加工性
将样品裁断为宽度25mm×长度100mm，使用层压机贴合到厚度0.7mm的无碱玻璃板(Corning Incorporated制造，1737)上。接着，在50℃、5个大气压下进行15分钟高压釜处理，使之完全密接(初始)。此后，在60℃干燥条件下进行48小时加热处理(加热后)。测定所述样品的粘接力。
粘接力通过用拉伸试验机(Autograph SHIMAZU AG-110KN)测定在剥离角度90°、剥离速度300mm/min下剥离样品时的粘接力(N/25mm，测定时80m长)来求出。测定以1次/0.5s的间隔取样，以其平均值为测定值。
表1
Figure BSA00000291897600391
表1中，用于制备丙烯酸系聚合物(A)的单体的简写表示如下：
BA：丙烯酸丁酯
BzA：丙烯酸苄酯
AA：丙烯酸
HBA：丙烯酸4-羟丁酯
HEA：丙烯酸2-羟乙酯。
交联剂(B)中的“异氰酸酯系”表示异氰酸酯系交联剂(日本聚氨酯工业株式会社制造的CORONATE L，三羟甲基丙烷的甲苯二异氰酸酯的加成物)，
“过氧化物系”表示过氧化苯甲酰(日本油脂社制造，NYPER BMT)，
“环氧系”表示环氧系交联剂(三菱瓦斯化学(株)制造的TETRAD C，二缩水甘油基氨基甲基环己烷。
含甲硅烷基的化合物(C)中的“硅烷偶联剂(C1)”表示信越化学工业(株)制造的KBM403。
“聚醚化合物(C2)”表示Kaneka Corporation制造的SilylSAT 10。另外，Silyl SAT10是通式(4)所示的化合物，A2是-C3H6-，Z1是-C3H6-Zo，反应性甲硅烷基(Zo-)是R1、R2和R3均为甲基的二甲氧基甲基甲硅烷基，数均分子量为5000。

Claims (10)

1.一种光学薄膜用粘合剂组合物，其特征在于，其含有重均分子量Mw为160万以上且重均分子量Mw/数均分子量Mn满足1.8以上且10以下的(甲基)丙烯酸系聚合物(A)，作为单体单元，所述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)含有67～96.99重量％(甲基)丙烯酸烷基酯(a1)、1～20重量％(甲基)丙烯酸苄酯(a2)、2～10重量％含羧基的单体(a3)和0.01～3重量％含羟基的单体(a4)。
2.根据权利要求1所述的光学薄膜用粘合剂组合物，其特征在于，含羟基的单体(a4)含有(甲基)丙烯酸4-羟丁酯。
3.根据权利要求1或2所述的光学薄膜用粘合剂组合物，其特征在于，其还含有交联剂(B)。
4.根据权利要求3所述的光学薄膜用粘合剂组合物，其特征在于，交联剂(B)选自异氰酸酯系交联剂、环氧系交联剂和过氧化物系交联剂中的至少任意一种。
5.根据权利要求1～4的任一项所述的光学薄膜用粘合剂组合物，其特征在于，其还含有含甲硅烷基的化合物(C)。
6.一种光学薄膜用粘合剂层，其特征在于，其由权利要求1～5的任一项所述的光学薄膜用粘合剂组合物形成。
7.一种粘合型光学薄膜，其特征在于，在光学薄膜的至少单面上形成有权利要求6所述的光学薄膜用粘合剂层。
8.根据权利要求7所述的粘合型光学薄膜，其特征在于，设置粘合剂层的光学薄膜是三醋酸纤维素系树脂、(甲基)丙烯酸系树脂或降冰片烯系树脂。
9.根据权利要求7或8所述的粘合型光学薄膜，其特征在于，在光学薄膜与光学薄膜用粘合剂层之间具有底涂层。
10.一种图像显示装置，其特征在于，其使用了至少一片权利要求7～9的任一项所述的粘合型光学薄膜。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104620142A (zh) * 2012-09-13 2015-05-13 日东电工株式会社 光学构件、偏振板组及液晶显示装置
CN105358649A (zh) * 2013-06-28 2016-02-24 日东电工株式会社 丙烯酸系粘合剂组合物、粘合剂层的制造方法、带粘合剂层的偏振膜和丙烯酸系粘合剂组合物的交联促进方法
CN106947033A (zh) * 2011-10-21 2017-07-14 日本化药株式会社 紫外线固化型树脂组合物、固化物及物品
CN108203482A (zh) * 2018-01-02 2018-06-26 珠海光宇电池有限公司 负极粘结剂及其制备方法和负极极片的制备方法
US10883022B2 (en) 2013-06-28 2021-01-05 Nitto Denko Corporation Pressure-sensitive adhesive composition for optical film, pressure-sensitive adhesive layer for optical film, pressure-sensitive adhesive layer-attached optical film, liquid crystal display device, and laminate

Families Citing this family (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5841055B2 (ja) * 2010-08-10 2016-01-06 株式会社カネカ 硬化性組成物
KR101309824B1 (ko) * 2011-06-03 2013-09-23 제일모직주식회사 점착제 조성물 및 이를 이용한 광학부재와 표면 보호 필름
JP2013032500A (ja) * 2011-06-30 2013-02-14 Nitto Denko Corp 粘着剤組成物、粘着剤層、および粘着シート
JP5860673B2 (ja) * 2011-11-07 2016-02-16 日東電工株式会社 粘着剤組成物、粘着剤層、粘着剤層付偏光板および画像形成装置
JP6195707B2 (ja) * 2011-11-24 2017-09-13 日東電工株式会社 粘着剤組成物、粘着剤層、粘着剤層付偏光フィルムおよび画像形成装置
JP5875106B2 (ja) * 2011-11-24 2016-03-02 日東電工株式会社 粘着剤組成物、粘着剤層、粘着剤層付偏光板および画像形成装置
CN104024363B (zh) * 2011-12-28 2016-08-31 综研化学株式会社 光学部件用粘结剂组合物、粘结片、光学部件及显示器
JP5951323B2 (ja) * 2012-04-04 2016-07-13 日東電工株式会社 光学フィルム用粘着剤組成物、光学フィルム用粘着剤層、粘着剤層付光学フィルムおよび画像表示装置
CN103042790A (zh) * 2012-12-20 2013-04-17 斯迪克新型材料（江苏）有限公司 具有防雾防刮性能的汽车窗贴保护膜
WO2014178674A1 (ko) * 2013-05-02 2014-11-06 주식회사 엘지화학 멀티 블록 공중합체
CN103302775B (zh) * 2013-05-31 2015-10-07 苏州市景荣科技有限公司 一种pu鞋材复合型脱模剂
CN105431500B (zh) * 2013-07-19 2018-01-02 综研化学株式会社 光学构件用粘接剂组合物、粘接片和叠层体
WO2015030080A1 (ja) * 2013-08-29 2015-03-05 日本カーバイド工業株式会社 偏光板用粘着剤組成物、粘着剤付偏光板、及び表示装置
JP6287061B2 (ja) * 2013-10-25 2018-03-07 凸版印刷株式会社 ガスバリア性包装材料前駆体の製造方法
JP6251548B2 (ja) 2013-11-15 2017-12-20 日東電工株式会社 光学フィルム用水分散型粘着剤組成物、粘着剤層、粘着型光学フィルム、及び、画像表示装置
JP6349802B2 (ja) * 2014-03-13 2018-07-04 Dic株式会社 粘着剤組成物
USD761797S1 (en) 2014-11-07 2016-07-19 Samsung Electronics Co., Ltd. Monitor
KR101815355B1 (ko) * 2014-12-16 2018-01-04 주식회사 엘지화학 점착제 조성물
JP6213609B2 (ja) * 2016-04-27 2017-10-18 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 粘着剤、粘着シートおよびディスプレイ
JP2018024756A (ja) * 2016-08-09 2018-02-15 三星エスディアイ株式会社Samsung SDI Co., Ltd. 光学フィルム用粘着剤組成物、ならびにこれを用いた粘着剤層、光学部材、および画像表示装置
JP6998134B2 (ja) * 2016-08-09 2022-01-18 三星エスディアイ株式会社 光学フィルム用粘着剤組成物、粘着剤層およびその製造方法、光学部材、ならびに画像表示装置
JP6770850B2 (ja) * 2016-08-09 2020-10-21 三星エスディアイ株式会社ＳＡＭＳＵＮＧ ＳＤＩ Ｃｏ．， ＬＴＤ． 光学フィルム用粘着剤組成物、ならびにこれを用いた粘着剤層、光学部材、および画像表示装置
KR102144643B1 (ko) * 2016-08-19 2020-08-13 후지필름 가부시키가이샤 피도금층 형성용 조성물, 피도금층, 피도금층 부착 기판, 도전성 필름, 터치 패널 센서, 터치 패널
TWI735687B (zh) 2016-11-04 2021-08-11 日商三菱化學股份有限公司 偏光板用黏著劑組成物、偏光板用黏著劑及附設黏著劑層之偏光板
JP7040968B2 (ja) * 2018-03-19 2022-03-23 日東電工株式会社 粘着シートおよび磁気ディスク装置
USD922342S1 (en) 2018-10-05 2021-06-15 Samsung Electronics Co., Ltd. Television receiver
USD906992S1 (en) 2018-12-13 2021-01-05 Samsung Electronics Co., Ltd. Television receiver
JP7078685B2 (ja) * 2020-10-05 2022-05-31 藤森工業株式会社 光学フィルム用粘着剤層
JP7078686B2 (ja) * 2020-10-08 2022-05-31 藤森工業株式会社 光学フィルム用粘着剤層
USD977474S1 (en) 2020-12-18 2023-02-07 Huawei Technologies Co., Ltd. Display device

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1800288A (zh) * 2004-12-02 2006-07-12 日东电工株式会社 光学薄膜用粘合剂及其制造方法、及其应用
CN101206277A (zh) * 2006-12-15 2008-06-25 日东电工株式会社 粘合型光学薄膜以及图像显示装置
CN101508875A (zh) * 2008-02-15 2009-08-19 日东电工株式会社 光学薄膜用粘合剂组合物、粘合型光学薄膜以及图像显示装置

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5971377A (ja) * 1982-10-15 1984-04-23 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd 粘着剤組成物
JPH0230354B2 (ja) * 1982-12-28 1990-07-05 Kanzaki Paper Mfg Co Ltd Kanatsusetsuchakuzaisoseibutsu
US20020050783A1 (en) * 2000-06-01 2002-05-02 Tadahiko Kubota Electromagnetic-wave-shielding film, production method thereof and image display device using the same
JP2002341141A (ja) * 2001-05-15 2002-11-27 Nitto Denko Corp 粘着型光学フィルムおよび液晶表示装置
JP4521520B2 (ja) * 2003-08-06 2010-08-11 綜研化学株式会社 低極性フィルム用粘着剤
WO2006009250A1 (ja) * 2004-07-22 2006-01-26 Soken Chemical & Engineering Co., Ltd. 偏光板用粘着剤組成物および偏光板
JP3874200B2 (ja) * 2004-11-22 2007-01-31 日東電工株式会社 光学補償層付偏光板、液晶パネル、液晶表示装置および光学補償層付偏光板の製造方法
JP3997270B2 (ja) * 2005-11-21 2007-10-24 綜研化学株式会社 光学フィルム用粘着剤組成物および粘着シート、ならびにこれを用いた光学部材
DE602006017579D1 (de) * 2005-11-21 2010-11-25 Soken Kagaku Kk Klebstoff für optischen film sowie von dem klebstoff gebrauch machendes klebevlies und optisches glied
JP2007169329A (ja) * 2005-12-19 2007-07-05 Saiden Chemical Industry Co Ltd 光学用粘着剤組成物および粘着シート
KR100932888B1 (ko) * 2006-07-21 2009-12-21 주식회사 엘지화학 광학 보상된 아크릴계 점착제 조성물, 이를 포함하는편광판 및 액정표시소자
US8372492B2 (en) * 2006-12-15 2013-02-12 Nitto Denko Corporation Pressure-sensitive adhesive optical film and image display
KR101492629B1 (ko) * 2007-06-28 2015-02-12 린텍 가부시키가이샤 점접착제 조성물, 점접착 시트 및 반도체장치의 제조방법
KR101109441B1 (ko) * 2007-10-22 2012-02-09 닛토덴코 가부시키가이샤 광학 필름용 점착제 조성물, 광학 필름용 점착제층, 그 제조 방법, 점착형 광학 필름 및 화상 표시 장치
KR101019064B1 (ko) * 2008-01-14 2011-03-07 주식회사 엘지화학 아크릴계 점착제 조성물
JP5379410B2 (ja) * 2008-03-14 2013-12-25 日東電工株式会社 光学フィルム用粘着剤組成物、粘着型光学フィルムおよび画像表示装置
CN102119349B (zh) * 2008-08-11 2014-07-09 住友化学株式会社 带粘合剂光学膜和使用其的光学层叠体
JP5322280B2 (ja) * 2009-03-27 2013-10-23 サイデン化学株式会社 光学用粘着剤組成物
JP2010100857A (ja) * 2009-12-14 2010-05-06 Soken Chem & Eng Co Ltd ガラス基板貼り付け用光学機能粘着フィルム

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1800288A (zh) * 2004-12-02 2006-07-12 日东电工株式会社 光学薄膜用粘合剂及其制造方法、及其应用
CN101206277A (zh) * 2006-12-15 2008-06-25 日东电工株式会社 粘合型光学薄膜以及图像显示装置
CN101508875A (zh) * 2008-02-15 2009-08-19 日东电工株式会社 光学薄膜用粘合剂组合物、粘合型光学薄膜以及图像显示装置

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106947033A (zh) * 2011-10-21 2017-07-14 日本化药株式会社 紫外线固化型树脂组合物、固化物及物品
CN104620142A (zh) * 2012-09-13 2015-05-13 日东电工株式会社 光学构件、偏振板组及液晶显示装置
CN105358649A (zh) * 2013-06-28 2016-02-24 日东电工株式会社 丙烯酸系粘合剂组合物、粘合剂层的制造方法、带粘合剂层的偏振膜和丙烯酸系粘合剂组合物的交联促进方法
CN105358649B (zh) * 2013-06-28 2019-11-22 日东电工株式会社 丙烯酸系粘合剂组合物、粘合剂层的制造方法、带粘合剂层的偏振膜和丙烯酸系粘合剂组合物的交联促进方法
US10883022B2 (en) 2013-06-28 2021-01-05 Nitto Denko Corporation Pressure-sensitive adhesive composition for optical film, pressure-sensitive adhesive layer for optical film, pressure-sensitive adhesive layer-attached optical film, liquid crystal display device, and laminate
CN108203482A (zh) * 2018-01-02 2018-06-26 珠海光宇电池有限公司 负极粘结剂及其制备方法和负极极片的制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR20110056213A (ko) 2011-05-26
JP2011105918A (ja) 2011-06-02
CN104531011A (zh) 2015-04-22
KR101140124B1 (ko) 2012-04-30
TWI367244B (zh) 2012-07-01
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