TWI672347B - 光學薄膜用黏著劑組成物、光學薄膜用黏著劑層、附黏著劑層之光學薄膜以及影像顯示裝置 - Google Patents

光學薄膜用黏著劑組成物、光學薄膜用黏著劑層、附黏著劑層之光學薄膜以及影像顯示裝置 Download PDF

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TWI672347B
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木村智之
山本悟士
藤田昌邦
外山雄祐
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日商日東電工股份有限公司
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Abstract

一種光學薄膜用黏著劑組成物，其含有(甲基)丙烯酸系聚合物(A)及交聯劑(B)，該(甲基)丙烯酸系聚合物(A)以單體單元計，含有(甲基)丙烯酸烷基酯(a1)70重量%以上、含芳香環的(甲基)丙烯酸酯(a2)3~25重量%、含醯胺基單體(a3)0.1~8重量%、含羧基單體(a4)0.01~2重量%、及含羥基單體(a5)0.01~3重量%，並滿足重量平均分子量(Mw)為100萬~250萬而且Mw/數量平均分子量(Mn)為1.8以上且10以下；又，相對於前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，含有交聯劑(B)0.01~3重量份。該黏著劑組成物滿足對玻璃及透明導電層不產生發泡及剝落、或加濕白濁之耐久性，且能抑制漏光所導致之顯示不均，可形成耐金屬腐蝕性亦優異之黏著劑層。

Description

光學薄膜用黏著劑組成物、光學薄膜用黏著劑層、附黏著劑層之光學薄膜以及影像顯示裝置 發明領域
本發明是關於一種光學薄膜用黏著劑組成物及附黏著劑層之光學薄膜，該附黏著劑層之光學薄膜是利用該黏著劑組成物在光學薄膜之至少單面上形成有黏著劑層者。進一步而言，本發明是關於使用了前述附黏著劑層之光學薄膜的液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置、PDP等影像顯示裝置。作為前述光學薄膜，可使用偏光薄膜、相位差薄膜、光學補償薄膜、亮度強化薄膜，進一步可使用將該等積層而得者。
發明背景
液晶顯示裝置等，由其影像形成方式看來，在液晶胞元的兩側配置偏光元件是不可或缺的，一般而言是貼附有偏光薄膜。又，在液晶面板上除了偏光薄膜，為了提高顯示器的顯示品質還使用了各式各樣的光學元件。例如，用作著色防止的相位差薄膜、用於改善液晶顯示器之視角的視角擴大薄膜、或進一步使用用於提高顯示器之對比的亮度強化薄膜等。該等薄膜被總稱為光學薄膜。
在將前述光學薄膜等的光學構件貼附於液晶胞元時，通常會使用黏著劑。又，光學薄膜與液晶胞元或光學薄膜間的接著，通常為了減低光的損失，該等材料會用黏著劑使其密著。在此情況，因為具有能使光學薄膜固著卻又不需要乾燥步驟等優點，一般使用附黏著劑層之光學薄膜，其為黏著劑在光學薄膜的單側預先以黏著劑層的形式設置而成的光學薄膜。在附黏著劑層之光學薄膜的黏著劑層上，通常，黏貼有離型薄膜。
就前述黏著劑層所要求之必要特性而言，會要求將附黏著劑層之光學薄膜貼合於液晶面板之玻璃基板時的耐久性，例如，要求在作為環境促進試驗通常進行之利用加熱及加濕等的耐久試驗中，不產生起因於黏著劑層之剝落及浮起等的瑕疵。
又，光學薄膜(例如偏光板)會因加熱處理而有收縮的傾向。因偏光板的收縮，形成黏著劑層的基底聚合物將配向而產生相位差，這將會形成因漏光而顯示不均的問題。因此，對前述黏著劑層要求抑制顯示不均。
目前提案有形成前述附黏著劑層之光學薄膜之黏著劑層的各種黏著劑組成物(例如，專利文獻1至3)。
另一方面，製造液晶顯示裝置時，在將前述附黏著劑層之偏光薄膜黏貼到液晶胞元時，從附黏著劑層之偏光薄膜的黏著劑層將離型薄膜剝離，但會因該離型薄膜之剝離而產生靜電。如此所產生的靜電會對液晶顯示裝置內部之液晶的配向造成影響，而導致不良的產生。又，在使 用液晶顯示裝置時有時會產生因靜電而造成之顯示不均。靜電的產生，雖可藉由例如在偏光薄膜的外面形成抗靜電層來抑制，但為了要在靜電產生之根本的位置抑制其產生，賦予黏著劑層抗靜電機能是有效的。
作為對黏著劑層賦予抗靜電機能的手段，提案有例如在形成黏著劑層的黏著劑中摻混離子性化合物(專利文獻4至5)。在專利文獻4中記載有含咪唑陽離子與無機陰離子的離子性固體，在專利文獻5中記載有由含有4級氮原子之碳數6~50的陽離子與含有氟原子的陰離子所構成之鎓鹽等之在常溫下為液體的有機溶融鹽，將其等摻混用於偏光薄膜之丙烯酸系黏著劑。
先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本專利特開2012-158702號公報
專利文獻2：日本專利特開2009-215528號公報
專利文獻3：日本專利特開2009-242767號公報
專利文獻4：日本專利特開2009-251281公報
專利文獻5：國際公開2007/034533號手冊
在使用液晶顯示裝置時會有因靜電而發生顯示不均的情況，因此有時會在液晶面板的玻璃基板上形成透明導電層(例如，含有氧化錫之氧化銦：ITO層)。再者前述 透明導電層，除了是因靜電造成之顯示不均的對策以外，在將液晶顯示裝置利用於觸控面板的情況下，可作為將液晶胞元內的驅動電場與觸控面板切離之遮蔽電極來發揮機能。在該構成之液晶顯示裝置中，附黏著劑層之光學薄膜的黏著劑層是直接被貼合於前述ITO層。因此，對於前述黏著劑層，不僅是與玻璃基板之間，其對ITO層之密著性也受到要求。相較於一般的玻璃板，ITO層與黏著劑層之密著性較差，耐久性也常成問題。已知在已將前述附黏著劑層之光學薄膜貼合於玻璃基板的狀態下，置於60℃ 95%RH等的高溫高濕條件下後，顯示其回到常溫時黏著劑層會產生白濁的現象(加濕白濁)。若產生加濕白濁，則會成為顯示器之可視性低下的原因。
又，前述黏著劑層是直接接觸液晶面板之ITO層及佈線電線的銅等金屬。因此，依據前述黏著劑層的組成，會有腐蝕ITO層及金屬的疑慮。又，若發生腐蝕，會有ITO層及佈線電線之電阻值提高的問題。
在專利文獻1中，提出一種黏著劑組成物，其係相對於含有含芳香環單體與含醯胺基單體之丙烯酸系聚合物100重量份，摻混了4~20重量份異氰酸酯系交聯劑。然而，在專利文獻1中，形成丙烯酸系聚合物的單體，因不含含羥基單體之故，丙烯酸系聚合物與異氰酸酯系交聯劑無法直接反應而會相分離，黏著劑會有易產生白濁的傾向而不宜。又，專利文獻1之黏著劑組成物，因交聯劑的比例高之故，在耐久性試驗中有易產生剝落的傾向。
又，在專利文獻2、3中，提出一種(甲基)丙烯酸系聚合物，其含有含芳香環的(甲基)丙烯酸酯及含胺基的(甲基)丙烯酸酯；還提出一種含交聯劑之黏著劑組成物。然而，由專利文獻2、3之黏著劑組成物所形成的黏著劑層，對ITO層之密著性差，無法滿足耐久性。再者，在專利文獻2之比較例中，揭示了使用含醯胺基單體來取代含胺基的(甲基)丙烯酸酯，但如專利文獻2、3各自之表2的結果所示，在使用了含醯胺基單體時無法滿足耐久性。
另一方面，如專利文獻4、5之記載，在形成黏著劑層的黏著劑中，可藉由摻混離子性化合物來賦予抗靜電機能。進一步，由於液晶顯示裝置被預設在各種溫濕度環境下使用，故要求一種即便溫度及濕度發生變化表面電阻值也不會變化、可賦予長期穩定之抗靜電機能的黏著劑。近年，經與觸控面板積層之液晶顯示裝置、及在液晶面板之玻璃基板上直接將ITO層等感應電極成膜而成之所謂on-cell觸控面板型的液晶顯示裝置逐漸增加。這種情況下，發現了黏著劑層之表面電阻若過低則會發生觸控面板的感度降低的問題。為了同時處理靜電不均之防止與觸控面板之感度降低，必須將表面電阻控制在較以往都狹窄的範圍內，所以要求更勝以往之較穩定之抗靜電機能。
在專利文獻4中，提案藉由含有咪唑陽離子、無機陰離子與離子性固體的丙烯酸系黏著劑，形成賦予長期穩定之抗靜電機能的黏著劑層。然而，在專利文獻4的黏著劑層中，對ITO層之在加濕條件下的密著性並不充足。又， 在專利文獻5中，提出一種含有在常溫下為液體之有機溶融鹽的丙烯酸系黏著劑。然而，專利文獻5中記載的丙烯酸系黏著劑，有機溶融鹽的分散性差，由該黏著劑所形成之黏著劑層的抗靜電機能的穩定性並不充足。
本發明之目的在於提供一種光學薄膜用黏著劑組成物，其可形成具下述特性之黏著劑層：無論對玻璃及透明導電層任一者，都能滿足不產生發泡及剝落、或加濕白濁之耐久性，且能抑制漏光導致之顯示不均，更且，在耐金屬腐蝕性上亦優異。
又，本發明之目的並在於提供一種光學薄膜用黏著劑組成物，其可形成具下述特性之黏著劑層：無論對玻璃及透明導電層任一者，都能滿足不產生發泡及剝落、或加濕白濁之耐久性，且能抑制漏光導致之顯示不均，更且，在耐金屬腐蝕性上亦優異，並能賦予穩定的抗靜電機能。
再者本發明之目的更在於提供一種附黏著劑層之光學薄膜，其具有利用前述光學薄膜用黏著劑組成物所形成之黏著劑層；並進一步提供一種影像顯示裝置，其使用了前述附黏著劑層之光學薄膜。
本發明人等為了解決前述課題而反覆致力檢討的結果，找出下述光學薄膜用黏著劑組成物，而完成了本發明。
亦即本發明是有關於一種光學薄膜用黏著劑組成物，其特徵在於含有下述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)及交 聯劑(B)；該(甲基)丙烯酸系聚合物(A)以單體單元計，含有(甲基)丙烯酸烷基酯(a1)70重量%以上、含芳香環的(甲基)丙烯酸酯(a2)3~25重量%、含醯胺基單體(a3)0.1~8重量%、含羧基單體(a4)0.01~2重量%、及含羥基單體(a5)0.01~3重量%，並滿足重量平均分子量(Mw)為100萬~250萬而且Mw/數量平均分子量(Mn)在1.8以上且10以下；又，相對於前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份含有該交聯劑(B)0.01~3重量份。
在前述光學薄膜用黏著劑組成物中，前述含醯胺基單體(a3)宜為含N-乙烯基的內醯胺系單體。
在前述光學薄膜用黏著劑組成物中，前述含羥基單體(a5)宜為(甲基)丙烯酸4-羥丁酯。
前述交聯劑(B)宜含有選自異氰酸酯系化合物及過氧化物之至少1種。前述異氰酸酯系化合物宜含有脂肪族聚異氰酸酯系化合物。
前述光學薄膜用黏著劑組成物可進一步含有矽烷耦合劑(C)。作為前述矽烷耦合劑(C)，宜為1分子內具有2個以上烷氧矽基者。再者作為前述矽烷耦合劑(C)，以分子內具有環氧基者為佳。相對於前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，宜含有前述矽烷耦合劑(C)0.001~5重量份。
前述光學薄膜用黏著劑組成物可進一步含有離 子性化合物(D)。前述離子性化合物(D)宜為鹼金屬鹽及/或有機陽離子-陰離子鹽。又，前述離子性化合物(D)宜含有含氟基陰離子。相對於前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，宜含有前述離子性化合物(D)0.05~10重量份。
前述光學薄膜用黏著劑組成物可進一步含有具反應性矽基之聚醚化合物(E)。相對於前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，宜含有前述具有反應性矽基的聚醚化合物(E)0.001~10重量份。
再者本發明是有關於一種光學薄膜用黏著劑層，其特徵在於是利用前述光學薄膜用黏著劑組成物所形成。
再者本發明是有關於一種附黏著劑層之光學薄膜，其特徵在於在光學薄膜之至少單側形成有前述光學薄膜用黏著劑層。
再者本發明是有關於一種影像顯示裝置，其特徵在於使用了至少1片前述附黏著劑層之光學薄膜。
本發明之光學薄膜用黏著劑組成物含有(甲基)丙烯酸系聚合物(A)，其係以預定量之單體單元比例含有含芳香環的(甲基)丙烯酸酯(a2)、含醯胺基單體(a3)、含羧基單體(a4)、及含羥基單體(a5)作為基底聚合物，且具有特定之重量平均分子量與分子量分布。具有得自該含有特定組成(甲基)丙烯酸系聚合物(A)及預定量交聯劑(B)的光學薄膜用黏著劑組成物之黏著劑層的附黏著劑層之光學薄膜， 無論對玻璃及透明導電層(ITO層等)任一者皆不產生加濕白濁耐久性良好，且能抑制在黏貼於液晶胞元等之狀態下發生剝落及浮起等。
一般而言，對ITO層等透明導電層的耐久性，也易受到ITO層之組成的影響，相較於高錫比率之結晶性ITO層，可以看到低錫比率之非晶性ITO層的耐久性有變差的傾向。自光學薄膜用黏著劑組成物所獲得之黏著劑層，可實現即便對非晶性ITO層也穩定之耐久性。又，具有本發明之黏著劑層的附黏著劑層之光學薄膜，對透明導電層之耐金屬腐蝕性亦優異。
又，使用了附黏著劑層之偏光板等附黏著劑層之光學薄膜的液晶顯示裝置等影像顯示裝置，在加熱或加濕條件下時，有時在液晶面板等的周邊部會因周邊不均或隅角不均等(空白)而產生顯示不均，引起顯示不良，但本發明之黏著劑光學薄膜的黏著劑層，因使用上述光學薄膜用黏著劑組成物，故可抑制顯示畫面周邊部分的漏光所造成之顯示不均。
又，在本發明之光學薄膜用黏著劑組成物中，可藉由摻混離子性化合物(D)來賦予抗靜電機能。本發明之光學薄膜用黏著劑組成物因含有前述該特定組成之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)及預定量之交聯劑(B)，故在摻混了離子性化合物(D)的情況下，可形成能賦予穩定的抗靜電機能之黏著劑層。又，本發明之光學薄膜用黏著劑組成物具有良好的再加工性，但藉由摻混具有反應性矽基之聚醚化合物 (E)，可更加提高其再加工性。
用於實施發明之形態
本發明之光學薄膜用黏著劑組成物含有(甲基)丙烯酸系聚合物(A)作為基底聚合物。(甲基)丙烯酸系聚合物(A)通常以單體單元形式，含有(甲基)丙烯酸烷基酯作為主成分。再者，(甲基)丙烯酸酯是指丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯，與本發明之(甲基)為相同的表示。
作為構成(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之主骨架的(甲基)丙烯酸烷基酯，可例示如直鏈狀或支鏈狀之烷基的碳數為1~18的化合物。例如，作為前述烷基，可例示如甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、戊基、己基、環己基、庚基、2-乙基己基、異辛基、壬基、癸基、異癸基、十二基、異十四基、月桂基、十三基、十五基、十六基、十七基、十八基等。該等可單獨或組合使用。該等烷基的平均碳數宜為3~9。
在(甲基)丙烯酸系聚合物(A)中使用含芳香環的(甲基)丙烯酸酯(a2)。含芳香環的(甲基)丙烯酸酯(a2)是在其結構中含有芳香環結構，且含有(甲基)丙烯醯基的化合物。作為芳香環，可舉如苯環、萘環或聯苯環。含芳香環的(甲基)丙烯酸酯(a2)可滿足耐久性(特別是對透明導電層的耐久性)，且能改善周邊部之空白所造成之顯示不均。
作為含芳香環的(甲基)丙烯酸酯(a2)的具體例，例如，(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸鄰苯基苯酚酯(甲基)丙烯酸苯氧酯、(甲基)丙烯酸苯氧乙 酯、(甲基)丙烯酸苯氧丙酯、(甲基)丙烯酸苯氧基二乙二醇酯、環氧乙烷改質壬基苯酚(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改質甲酚(甲基)丙烯酸酯、苯酚環氧乙烷改質(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸2-羥-3-苯氧丙酯、(甲基)丙烯酸甲氧苄酯、(甲基)丙烯酸氯苄酯、(甲基)丙烯酸甲苯酯(cresyl(meth)acrylate)、聚(甲基)丙烯酸苯乙烯酯等具苯環者；羥乙基化丙烯酸β-萘酚酯、(甲基)丙烯酸2-萘乙酯、丙烯酸2-萘氧乙酯、(甲基)丙烯酸2-(4-甲氧基-1-萘氧)乙基酯等具萘環者；(甲基)丙烯酸聯苯酯等具聯苯環者。
作為前述含芳香環的(甲基)丙烯酸酯(a2)，從黏著特性及耐久性的點看來，以(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸苯氧乙酯為佳，特別以(甲基)丙烯酸苯氧乙酯為佳。
含醯胺基單體(a3)是其結構中含有醯胺基，且含有(甲基)丙烯醯基、乙烯基等之聚合性不飽和雙鍵的化合物。作為含醯胺基單體(a3)的具體例，可舉如(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N-異丙基丙烯醯胺、N-甲基(甲基)丙烯醯胺、N-丁基(甲基)丙烯醯胺、N-己基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基-N-丙烷(甲基)丙烯醯胺、胺甲基(甲基)丙烯醯胺、胺乙基(甲基)丙烯醯胺、巰甲基(甲基)丙烯醯胺、巰乙基(甲基)丙烯醯胺等之丙烯醯胺系單體；N-(甲基)丙烯醯嗎啉、N-(甲基)丙烯醯哌啶、N-(甲基)丙烯醯咯啶等之N-丙烯醯雜環單體；N-乙烯吡咯啶酮、N-乙烯基-ε-己內醯胺等之含N-乙烯基的內醯胺系單體等。含醯胺基單體(a3) 因滿足耐久性而為佳，在含醯胺基單體(a3)之中，特別是含N-乙烯基的內醯胺系單體因可滿足對透明導電層之耐久性而為佳。
含羧基單體(a4)是其結構中含有羧基，且含有(甲基)丙烯醯基、乙烯基等聚合性不飽和雙鍵的化合物。作為含羧基單體(a4)之具體例，可舉例如(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧乙酯、(甲基)丙烯酸羧戊酯、伊康酸、順丁烯二酸、延胡索酸、巴豆酸等。前述含羧基單體(a4)中，從共聚合性、價格及黏著特性的觀點看來以丙烯酸為佳。
含羥基單體(a5)是在其結構中含有羥基，且含有(甲基)丙烯醯基、乙烯基等聚合性不飽和雙鍵的化合物。作為含羥基單體(a5)的具體例，可舉例如(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸3-羥丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥己酯、(甲基)丙烯酸8-羥辛酯、(甲基)丙烯酸10-羥癸酯、(甲基)丙烯酸12-羥月桂酯等之(甲基)丙烯酸羥烷基酯或丙烯酸(4-羥甲基環己基)-甲酯等。在前述含羥基單體(a5)中，從耐久性的點看來，以(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯為佳，特別是以(甲基)丙烯酸4-羥丁酯為佳。
該等共聚合單體，在黏著劑組成物含交聯劑之情況，形成與交聯劑的反應點。含羧基單體(a4)、含羥基單體(a5)因與分子間交聯劑之反應性豐富之故，適合用於提高所獲得之黏著劑層的凝集性及耐熱性。再者含羧基單體(a4)在可使耐久性與再加工性兩立的點上有優勢，含羥基單體 (a5)則是在再加工性的點上有優勢。
(甲基)丙烯酸系聚合物(A)，以單體單元計，在總構成單體(100重量%)之重量比率中以預定量含有前述各單體。(甲基)丙烯酸烷基酯(a1)之重量比率，可設定為(甲基)丙烯酸烷基酯(a1)以外之單體的殘餘部分，具體而言，為70重量%以上。(甲基)丙烯酸烷基酯(a1)之重量比率，可在70~96.88重量%之範圍內調整。將(甲基)丙烯酸烷基酯(a1)之重量比率設定在前述範圍內，因可確保接著性而為佳。
含芳香環的(甲基)丙烯酸酯(a2)的重量比率為3~25重量%，宜為8~22重量%，更宜為12~18重量%。含芳香環的(甲基)丙烯酸酯(a2)之重量比率未滿3重量%時，無法充分抑制顯示不均。另一方面，若超過25重量%反而無法充分抑制顯示不均，耐久性也會降低。
含醯胺基單體(a3)之重量比率為0.1~8重量%，宜為0.3~5重量%，更宜為0.3~4重量%，進一步宜為0.7~2.5重量%。含醯胺基單體(a3)之重量比率未滿1重量%時，特別是無法滿足對透明導電層之耐久性。另一方面，若超過8重量%則耐久性低下，再者從再加工性的點看來也不宜。
含羧基單體(a4)的重量比率為0.01~2重量%，宜為0.05~1.5重量%，更宜為0.1~1重量%，最宜為0.1~0.5重量%。含羧基單體(a4)之重量比率未滿0.01重量%時，無法滿足耐久性。另一方面，在超過2重量%的情況，會變得無法滿足耐金屬腐蝕性，又，從再加工性的點看來也不宜。
含羥基單體(a5)的重量比率為0.01~3重量%，宜 為0.1~2重量%，更宜為0.2~2重量%。含羥基單體(a5)之重量比率未滿0.01重量%時，黏著劑層變得交聯不足，而無法滿足耐久性及黏著特性。另一方面，在超過3重量%時，無法滿足耐久性。
在前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)中，除了前述單體單元之外，並沒有特別含有其他單體單元的必要，但以接著性及耐熱性之改善為目的時，可藉由共聚合來導入具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等之不飽和雙鍵之聚合性官能基的1種類以上之共聚合單體。
作為其等共聚合單體之具體例，可舉如順丁烯二酸酐、伊康酸酐等含酸酐基單體；丙烯酸之己內酯加成物；烯丙基磺酸、2-(甲基)丙烯醯胺-2-甲基丙烷磺酸、(甲基)丙烯醯胺丙烷磺酸、(甲基)丙烯酸磺基酯等含磺酸基單體；2-羥乙基丙烯醯基磷酸酯等含磷酸基單體等。
又，作為以改質為目的之單體例，亦可舉如(甲基)丙烯酸胺乙酯、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺乙酯、(甲基)丙烯酸三級丁基胺乙酯等(甲基)丙烯酸烷基胺基烷基酯；(甲基)丙烯酸甲氧乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧乙酯等(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯；N-(甲基)丙烯醯氧基亞甲基丁二醯亞胺及N-(甲基)丙烯醯-6-氧六亞甲基丁二醯亞胺、N-(甲基)丙烯醯-8-氧伸辛基丁二醯亞胺等丁二醯亞胺系單體；N-環己基馬來醯亞胺及N-異丙基馬來醯亞胺、N-月桂基馬來醯亞胺及N-苯基馬來醯亞胺等馬來醯亞胺系單體；N-甲基衣康醯亞胺、N-乙基衣康醯亞胺、N-丁基衣康醯亞胺、N-辛基衣 康醯亞胺、N-2-乙基己基衣康醯亞胺、N-環己基衣康醯亞胺、N-月桂基衣康醯亞胺等衣康醯亞胺系單體等。
作為改質單體亦可進一步使用：醋酸乙酯、丙酸乙烯酯等乙烯基系單體；丙烯腈、甲基丙烯腈等氰基丙烯酸酯系單體；(甲基)丙烯酸環氧丙酯等含環氧基的(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸聚乙二醇酯、(甲基)丙烯酸聚丙二醇酯、(甲基)丙烯酸甲氧基乙二醇酯、(甲基)丙烯酸甲氧基聚丙二醇酯等二醇系(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸四氫糠酯、氟(甲基)丙烯酸酯、矽氧(甲基)丙烯酸酯及丙烯酸2-甲氧乙酯等(甲基)丙烯酸酯單體等。進一步可舉如異戊二烯、丁二烯、異丁烯、乙烯基醚等。
作為上述以外的可共聚合之單體，可進一步舉如含有矽原子的矽烷系單體等。作為矽烷系單體，可舉例如，3-丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、4-乙烯基丁基三甲氧基矽烷、4-乙烯基丁基三乙氧基矽烷、8-乙烯基辛基三甲氧基矽烷、8-乙烯基辛基三乙氧基矽烷、10-氧癸基三甲氧基矽烷、10-丙烯醯氧癸基三甲氧基矽烷、10-甲基丙烯醯基氧癸基三乙氧基矽烷、10-丙烯醯氧癸基三乙氧基矽烷等。
又，作為共聚合單體，亦可使用：三丙二醇二(甲基丙烯醯基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A二環氧丙基醚二(甲基)丙烯酸酯、新戊基二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲 基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己內酯改質二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸與多元醇的酯化物等之具有2個以上(甲基)丙烯醯基、乙烯基等不飽和雙鍵的多官能性單體；或在聚酯、環氧、胺甲酸酯等之骨架加成有2個以上與單體成分相同官能基之(甲基)丙烯醯基、乙烯基等不飽和雙鍵的聚酯(甲基)丙烯酸酯、環氧(甲基)丙烯酸酯、胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯等。
(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之前述共聚合單體的比例，在前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之總構成單體(100重量%)的重量比率中，宜為0~10%左右，較宜為0~7%左右，更宜為0~5%左右。
本發明之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)通常是使用重量平均分子量為100萬~250萬者。若考慮到耐久性，特別是耐熱性，則宜為重量平均分子量為120萬~200萬者。重量平均分子量若較100萬小，則在耐熱性的點上不宜。又，重量平均分子量變得較250萬大時，黏著劑會有易變硬的傾向，而變得容易發生剝落。又，表示分子量分布之重量平均分子量(Mw)/數量平均分子量(Mn)為1.8以上且10以下，宜為1.8~7，更宜為1.8~5。分子量分布(Mw/Mn)超過10時，在耐久性的點上不宜。再者，重量平均分子量、分子量分布(Mw/Mn)是依照GPC(膠體層析)來測定，從利用聚苯乙烯換算所算出之值來求取。
如此(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之製造，可適宜地 選擇溶液聚合、塊狀聚合、乳化聚合、各種自由基聚合等公知的製造方法。又，所獲得之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)可為隨機共聚物、嵌段共聚物、接枝共聚物等任一者。
再者，在溶液聚合中，作為聚合溶媒，可使用例如，醋酸乙酯、甲苯等。作為具體的溶液聚合例，反應是在氮等惰性氣體氣流下，添加聚合起始劑，通常在50~70℃左右、5~30小時左右的反應條件下進行。
自由基聚合所使用之聚合起始劑、鏈轉移劑、乳化劑等並無特別限定而可適宜選擇使用。再者，(甲基)丙烯酸系聚合物(A)的重量平均分子量，可藉由聚合起始劑、鏈轉移劑的使用量、反應條件來控制，並視該等之種類調整其適宜的使用量。
作為聚合起始劑，可舉例如：2,2’-偶氮雙異丁腈、2,2’-偶氮雙(2-甲脒丙烷)二鹽酸鹽、2,2’-偶氮雙[2-(5-甲基-2-咪唑咻-2-基)丙烷]二鹽酸鹽、2,2’-偶氮雙(2-甲基丙酸脒)二硫酸鹽、2,2’-偶氮雙(N,N’-二亞甲基異丁基脒)、2,2’-偶氮雙[N-(2-羧乙基)-2-甲基丙酸脒]水合物(和光純藥公司製，VA-057)等偶氮系起始劑；過硫酸鉀、過硫酸銨等的過硫酸鹽；二(2-乙基己基)過氧二碳酸鹽、二(4-第三丁基環己基)過氧二碳酸鹽、二-第二丁基過氧二碳酸鹽、過氧新癸酸第三丁酯、過氧異丁酸第三己酯、過氧異丁酸第三丁酯、過氧化二月桂醯基、二-n-過氧化辛醯基、1,1,3,3-四甲基丁基過氧-2-乙基己酸酯、二(4-甲基苄醯基)過氧化物、二苄醯基過氧化物、第三丁基過氧異丁酸酯、1,1-二(第三己 基過氧)環己烷、第三丁基氫過氧化物、過氧化氫等之過氧化物系起始劑；過硫酸鹽與亞硫酸氫鈉的組合、過氧化物與抗壞血酸鈉的組合等將過氧化物與還原劑組合而得之氧化還原系起始劑等；但並非受該等所限定者。
前述聚合起始劑可單獨使用，亦可將2種以上混合使用；且整體含量宜相對於單體100重量份為0.005~1重量份左右，較宜為0.02~0.5重量份左右。
再者，作為聚合起始劑，例如在使用2,2’-偶氮雙異丁腈來製造前述重量平均分子量之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)時，聚合起始劑的使用量宜相對於單體成分之總量100重量份設為0.06~0.2重量份左右，更宜設為0.08~0.175重量份左右。
作為鏈轉移劑，可舉例如月桂硫醇、環氧丙硫醇、巰醋酸、2-巰乙醇、硫代二醇酸、硫代乙醇酸2-乙基己基、2,3-二巰-1-丙醇等。鏈轉移劑可單獨使用，亦可將2種以上混合使用，但整體含量相對於單體成分之總量100重量份，是在0.1重量份左右以下。
又，作為用於乳化聚合時的乳化劑，可舉例如，月桂基硫酸鈉、月桂基硫酸銨、十二基苯磺酸鈉、聚氧乙烯烷基醚硫酸銨、聚氧乙烯烷基苯基醚硫酸鈉等之陰離子系乳化劑、聚氧乙烯烷基醚、聚氧乙烯烷基苯基醚、聚氧乙烯脂肪酸酯、聚氧乙烯-聚氧丙烯嵌段聚合物等之非離子系乳化劑等。該等乳化劑可單獨使用亦可將2種以上併用。
進一步，作為反應性乳化劑，作為導入有丙烯 基、烯丙基醚基等之自由基聚合性官能基的乳化劑，具體而言，有例如Aqualon HS-10、HS-20、KH-10、BC-05、BC-10、BC-20(以上任一者皆第一工業製藥公司製)、Ade Gallia Soap SE10N(旭電化工公司製)等。由於反應性乳化劑在聚合後會被併入聚合物鏈之故，耐水性會變好而為佳。相對於單體成分之總量100重量份，乳化劑的使用量為0.3~5重量份，而從聚合穩定性及機械穩定性的點看來，較宜為0.5~1重量份。
本發明之黏著劑組成物，含有交聯劑(B)。作為交聯劑(B)，可使用有機系交聯劑及多官能性金屬螯合物。作為有機系交聯劑，可舉如異氰酸酯系交聯劑、過氧化物系交聯劑、環氧系交聯劑、亞胺系交聯劑等。多官能性金屬螯合物，是多價金屬與有機化合物共價鍵結或配位鍵結而得。作為多價金屬原子，可舉如Al、Cr、Zr、Co、Cu、Fe、Ni、V、Zn、In、Ca、Mg、Mn、Y、Ce、Sr、Ba、Mo、La、Sn、Ti等。作為共價鍵結或配位鍵結之有機化合物中的原子，可舉如氧原子等，作為有機化合物，可舉如烷基酯、醇化合物、碳氧化合物、醚化合物、酮化合物等。
作為交聯劑(B)，以異氰酸酯系交聯劑及/或過氧化物系交聯劑為佳。
作為異氰酸酯系交聯劑(B)，可使用具有至少2個異氰酸酯基之化合物。例如，一般會使用胺甲酸酯化反應所用之公知的脂肪族聚異氰酸酯、脂環族聚異氰酸酯、芳香族聚異氰酸酯等。
作為脂肪族聚異氰酸酯，可舉例如三亞甲基二異氰酸酯、四亞甲基二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯、五亞甲基二異氰酸酯、1,2-伸丙基二異氰酸酯、1,3-伸丁基二異氰酸酯、十二亞甲基二異氰酸酯、2,4,4-三甲基六亞甲基二異氰酸酯等。
作為脂環族異氰酸酯，可舉例如1,3-環戊烯二異氰酸酯、1,3-環己烷二異氰酸酯、1,4-環己烷二異氰酸酯、異佛酮二異氰酸酯、氫化二苯基甲烷二異氰酸酯、氫化苯二甲基二異氰酸酯、氫化甲伸苯基二異氰酸酯氫化四甲基苯二甲基二異氰酸酯等。
作為芳香族二異氰酸酯，可舉例如，伸苯基二異氰酸酯、2,4-甲伸苯基二異氰酸酯、2,6-甲伸苯基二異氰酸酯、2,2’-二苯基甲烷二異氰酸酯、4,4’-二苯基甲烷二異氰酸酯、4,4’-甲苯胺二異氰酸酯、4,4’-二苯基醚二異氰酸酯、4,4’-二苯基二異氰酸酯、1,5-萘二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯等。
又，作為異氰酸酯系交聯劑(B)，可列舉如上述二異氰酸酯的多聚體(2聚體、3聚體、5聚體等)、三羥甲基丙烷等與多元醇反應而得之胺甲酸酯改質體、脲改質體、雙脲改質體、脲甲酸鹽改質體、異三聚氰酸鹽改質體、碳二醯亞胺改質體等。
作為異氰酸酯系交聯劑(B)的市售品，可舉例如，商品名「Millionate MT」「Millionate MTL」「Millionate MR-200」「Millionate MR-400」「Coronate L」「Coronate HL」 「Coronate HX」[以上、日本聚胺甲酸酯工業公司製]；商品名「Takenate D-110N」「Takenate D-120N」「Takenate D-140N」「Takenate D-160N」「Takenate D-165N」「Takenate D-170HN」「Takenate D-178N」「Takenate 500」「Takenate 600」[以上，三井化學公司製]等。該等化合物可單獨使用，或將2種以上混合使用。
作為異氰酸酯系交聯劑(B)，宜為脂肪族聚異氰酸酯及其改質體之脂肪族聚異氰酸酯系化合物。脂肪族聚異氰酸酯系化合物，相較於其它的異氰酸酯系交聯劑，其交聯結構柔軟性佳，易緩和光學薄膜的膨張/收縮所伴隨的應力，在耐久性試驗就不易發生剝落。作為脂肪族聚異氰酸酯系化合物，特別是以六亞甲基二異氰酸酯及其改質體為佳。
作為過氧化物，只要是經加熱或光照射會產生自由基活性種而使黏著劑組成物之基底聚合物進行交聯者便能適宜使用，但考慮到作業性及穩定性，宜使用1分鐘半衰期溫度在80℃~160℃之過氧化物，且較宜使用在90℃~140℃之過氧化物。
作為可使用之過氧化物，可舉例如：二(2-乙基己基)過氧二碳酸鹽(1分鐘半衰期溫度：90.6℃)、二(4-第三丁基環己基)過氧二碳酸鹽(1分鐘半衰期溫度：92.1℃)、二-第二丁基過氧二碳酸鹽(1分鐘半衰期溫度：92.4℃)、過氧新癸酸第三丁酯(1分鐘半衰期溫度：103.5℃)、過氧異丁酸第三己酯(1分鐘半衰期溫度：109.1℃)、過氧異丁酸第三丁 酯(1分鐘半衰期溫度：110.3℃)、過氧化二月桂醯基(1分鐘半衰期溫度：116.4℃)、二-n-過氧化辛醯基(1分鐘半衰期溫度：117.4℃)、1,1,3,3-四甲基丁基過氧-2-乙基己酸酯(1分鐘半衰期溫度：124.3℃)、二(4-甲基苄醯基)過氧化物(1分鐘半衰期溫度：128.2℃)、二苄醯基過氧化物(1分鐘半衰期溫度：130.0℃)、第三丁基過氧異丁酸酯(1分鐘半衰期溫度：136.1℃)、1,1-二(第三己基過氧)環己烷(1分鐘半衰期溫度：149.2℃)等。其中尤其是從交聯反應效率優異的點看來，特宜使用二(4-第三丁基環己基)過氧二碳酸鹽(1分鐘半衰期溫度：92.1℃)、過氧化二月桂醯基(1分鐘半衰期溫度：116.4℃)、二苄醯基過氧化物(1分鐘半衰期溫度：130.0℃)等。
再者，過氧化物的半衰期，是指表示過氧化物之分解速度的指標，在說過氧化物之殘存量變成一半為止的時間。為了在任意的時間獲得半衰期的分解溫度，關於在任意溫度下之半衰期時間，將記載於製造商目錄等，例如，記載於日本油脂股份公司的「有機過氧化物目錄第9版(2003年5月)」等。
相對於(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，交聯劑(B)的使用量宜為0.01~3重量份，更宜為0.02~2重量份，進一步宜為0.03~1重量份。再者，交聯劑(B)未滿0.01重量份時，黏著劑層將變得交聯不足，而有無法滿足耐久性及黏著特性的疑慮，另一方面，若多於3重量份，發現黏著劑層將變得太硬而有耐久性降低的傾向。
上述異氰酸酯系交聯劑可單獨使用1種，亦可將2種以上混合使用，但整體含量宜相對於前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份含有前述異氰酸酯系交聯劑0.01~2重量份，較宜含有0.02~2重量份，更宜含有0.05~1.5重量份。可在考慮到阻止在凝集力、耐久性試驗之剝離後使其適宜含有。
前述過氧化物可單獨使用1種，亦可將2種以上混合使用，但整體含量方面，相對於前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，前述過氧化物為0.01~2重量份，而以含有0.04~1.5重量份為佳，以含有0.05~1重量份為較佳。為了調整加工性、再加工性、交聯穩定性、剝離性等，宜在此範圍內適宜地選擇。
再者，作為反應處理後殘存之過氧化物分解量的測定方法，可利用例如HPLC(高效液相層析法)來測定。
較具體而言，例如，每次取出0.2g反應處理後之黏著劑組成物，浸漬於醋酸乙酯10mL中，以振動機在25℃下、120rpm進行3小時振動萃取後，在室溫下靜置3天。接著，加入10mL乙腈，在25℃下、120rpm振動30分鐘，將利用膜過濾器(0.45μm)過濾所獲得之萃取液約10μL注入HPLC進行分析，可視為反應處理後的過氧化物量。
在本發明之黏著劑組成物中，可含有矽烷耦合劑(C)。藉由使用矽烷耦合劑(C)，可提高耐久性。作為矽烷耦合劑，具體而言，可舉例如，3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基 甲基二乙氧基矽烷、2-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷等之含環氧基的矽烷耦合劑、3-胺丙基三甲氧基矽烷、N-2-(胺乙基)-3-胺丙基甲基二甲氧基矽烷、3-三乙氧基矽烷-N-(1,3-二甲基亞丁基)丙基胺、N-苯基-γ-胺丙基三甲氧基矽烷等之含胺基的矽烷耦合劑、3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧丙基三乙氧基矽烷等之(甲基)丙烯基含有矽烷耦合劑、3-異氰酸酯丙基三乙氧基矽烷等含異氰酸酯基的矽烷耦合劑等。作為前述例示之矽烷耦合劑，以含環氧基的矽烷耦合劑為佳。
又，作為矽烷耦合劑(C)，可使用分子內有複數烷氧矽基的化合物。具體而言，可舉例如，信越化學公司製X-41-1053、X-41-1059A、X-41-1056、X-41-1805、X-41-1818、X-41-1810、X-40-2651等。該等分子內具有複數個烷氧矽基的矽烷耦合劑，不易揮發，且因為有複數個烷氧矽基所以在耐久性提高方面很有效而為佳。特別是，附黏著劑層之光學薄膜的黏附體，相較於玻璃而言，在烷氧矽基不易起反應之透明導電層(例如，ITO等)的情況，其耐久性亦佳。又，在分子內具有複數個烷氧矽基的矽烷耦合劑，宜為在分子內具有環氧基者，環氧基在分子內以含有複數個為更佳。在分子內具有複數個烷氧矽基，且具有環氧基的矽烷耦合劑即便在黏附體為透明導電層(例如，ITO等)的情況，亦有耐久性良好之傾向。作為在分子內具有複數個烷氧矽基，且具有環氧基的矽烷耦合劑之具體例，可舉如信越化學公司製X-41-1053、X-41-1059A、 X-41-1056，特別是以含環氧基量多之信越化學公司製X-41-1056為佳。
前述矽烷耦合劑(C)可單獨使用，亦可將2種以上混合使用，但整體含量上，相對於前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，前述矽烷耦合劑宜為0.001~5重量份，較宜為0.01~1重量份，更宜為0.02~1重量份，進一步更以0.05~0.6重量份為佳。此為提高耐久性並適度地保持對玻璃及透明導電層之接著力的量。
本發明之黏著劑組成物，可含有離子性化合物(D)。作為離子性化合物(D)，可適宜地使用鹼金屬鹽及/或有機陽離子-陰離子鹽。鹼金屬鹽可使用鹼金屬之有機鹽及無機鹽。再者，本發明中所稱「有機陽離子-陰離子鹽」，是指有機鹽，其陽離子部顯示是由有機物所構成者，陰離子部可為有機物，亦可為無機物。「有機陽離子-陰離子鹽」亦被稱為離子性液體、離子性固體。
<鹼金屬鹽>
作為構成鹼金屬鹽之陽離子部之鹼金屬離子，可舉如鋰、鈉、鉀之各離子。該等鹼金屬離子中尤其以鋰離子為佳。
鹼金屬鹽之陰離子部可由有機物所構成，亦可由無機物所構成。作為構成有機鹽之陰離子部，可使用例如CH3COO-、CF3COO-、CH3SO3 -、CF3SO3-、(CF3SO2)3C-、C4F9SO3 -、C3F7COO-、(CF3SO2)(CF3CO)N-、-O3S(CF2)3SO3 -、PF6 -、CO3 2-，或下述通式(1)至(4)所示者 (1)：(CnF2n+1SO2)2N-(惟，n為1~10之整數)、(2)：CF2(CmF2mSO2)2N-(惟，m為1~10之整數)、(3)：-O3S(CF2)1SO3 -(惟，1為1~10之整數)、(4)：(CpF2p+1SO2)N-(CqF2q+1SO2)(惟，p、q為1~10之整數)。特別是，含氟原子之陰離子部，因可獲得離子解離性良好的離子化合物而常被使用。作為構成無機鹽之陰離子部，可使用Cl-、Br-、I-、AlCl4 -、Al2Cl7 -、BF4 -、PF6 -、ClO4 -、NO3 -、AsF6 -、SbF6 -、NbF6 -、TaF6 -、(CN)2N-、等。作為陰離子部，宜為(CF3SO2)2N-、(C2F5SO2)2N-等之前述通式(1)所示之(全氟烷基磺醯基)醯亞胺，特別是宜為(CF3SO2)2N-所示之(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺。
作為鹼金屬之有機鹽，具體而言，可舉如醋酸鈉、藻酸鈉、木質磺酸鈉、甲苯磺酸鈉、LiCF3SO3、Li(CF3SO2)2N、Li(CF3SO2)2N、Li(C2F5SO2)2N、Li(C4F9SO2)2N、Li(CF3SO2)3C、KO3S(CF2)3SO3K、LiO3S(CF2)3SO3K等，該等之中，以LiCF3SO3、Li(CF3SO2)2N、Li(C2F5SO2)2N、Li(C4F9SO2)2N、Li(CF3SO2)3C等為佳，以Li(CF3SO2)2N、Li(C2F5SO2)2N、Li(C4F9SO2)2N等含氟鋰醯亞胺鹽為較佳，並以(全氟烷基磺醯基)醯亞胺鋰鹽為特佳。
又，作為鹼金屬之無機鹽，可舉如過氯酸鋰、碘化鋰。
<有機陽離子-陰離子鹽>
本發明所使用之有機陽離子-陰離子鹽，是由陽離子成分與 陰離子成分所構成，前述陽離子成分是由有機物所構成者。作為陽離子成分，具體而言可舉如吡啶陽離子、哌啶陽離子、吡咯啶陽離子、具二氫吡咯骨架的陽離子、具吡咯骨架的陽離子、咪唑陽離子、四氫嘧啶陽離子、二氫嘧啶陽離子、吡唑陽離子、吡唑啉陽離子、四烷基銨陽離子、三烷基鋶陽離子、四烷基鏻陽離子等。
作為陰離子成分，可使用例如，Cl-、Br-、I-、AlCl4 -、Al2Cl7 -、BF4 -、PF6 -、ClO4 -、NO3 -、CH3COO-、CF3COO-、CH3SO3 -、CF3SO3 -、(CF3SO2)3C-、AsF6 -、SbF6 -、NbF6 -、TaF6 -、(CN)2N-、C4F9SO3 -、C3F7COO-、((CF3SO2)(CF3CO)N-、-O3S(CF2)3SO3 -，或下述通式(1)至(4)所示者(1)：(CnF2n+1SO2)2N-(惟，n為1~10之整數)、(2)：CF2(CmF2mSO2)2N-(惟，m為1~10之整數)、(3)：-O3S(CF2)1SO3 -(惟，1為1~10之整數)、(4)：(CpF2p+1SO2)N-(CqF2q+1SO2)(惟，p、q為1~10之整數)。其中特別是，含有氟原子之陰離子成分，因可獲得離子解離性優良之離子化合物而常被使用。
作為有機陽離子-陰離子鹽之具體例，可適宜選擇由上述陽離子成分與陰離子成分組合而成之化合物來使用。
可舉例如，1-丁基吡啶鎓四氟硼酸鹽、1-丁基吡啶鎓六氟磷酸鹽、1-丁基-3-甲基吡啶鎓四氟硼酸鹽、1-丁基-3-甲基吡啶鎓三氟甲烷磺酸鹽、1-丁基-3-甲基吡啶鎓雙(三氟甲 烷磺醯基)醯亞胺、1-丁基-3-甲基吡啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1-己基吡啶鎓四氟硼酸鹽、2-甲基-1-二氫吡咯四氟硼酸鹽、1-乙基-2-苯基吲哚四氟硼酸鹽、1,2-二甲基吲哚四氟硼酸鹽、1-乙基咔唑四氟硼酸鹽、1-乙基-3-甲基咪唑鎓四氟硼酸鹽、1-乙基-3-甲基咪唑鎓乙酸鹽、1-乙基-3-甲基咪唑鎓三氟乙酸鹽、1-乙基-3-甲基咪唑鎓七氟丁酸鹽、1-乙基-3-甲基咪唑鎓三氟甲烷磺酸鹽、1-乙基-3-甲基咪唑鎓全氟丁烷磺酸鹽、1-乙基-3-甲基咪唑鎓二氰亞胺、1-乙基-3-甲基咪唑鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1-乙基-3-甲基咪唑鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1-乙基-3-甲基咪唑鎓參(三氟甲烷磺醯基)甲基金屬化物、1-丁基-3-甲基咪唑鎓四氟硼酸鹽、1-丁基-3-甲基咪唑鎓六氟磷酸鹽、1-丁基-3-甲基咪唑鎓三氟乙酸鹽、1-丁基-3-甲基咪唑鎓七氟丁酸鹽、1-丁基-3-甲基咪唑鎓三氟甲烷磺酸鹽、1-丁基-3-甲基咪唑鎓全氟丁烷磺酸鹽、1-丁基-3-甲基咪唑鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1-己基-3-甲基咪唑鎓溴化物、1-己基-3-甲基咪唑鎓氯化物、1-己基-3-甲基咪唑鎓四氟硼酸鹽、1-己基-3-甲基咪唑鎓六氟磷酸鹽、1-己基-3-甲基咪唑鎓三氟甲烷磺酸鹽、1-辛基-3-甲基咪唑鎓四氟硼酸鹽、1-辛基-3-甲基咪唑鎓六氟磷酸鹽、1-己基-2,3-二甲基咪唑鎓四氟硼酸鹽、1,2-二甲基-3-丙基咪唑鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1-甲基吡唑鎓四氟硼酸鹽、3-甲基吡唑鎓四氟硼酸鹽、四己基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、二烯丙基二甲基銨四氟硼酸鹽、二烯丙基二甲基銨三氟甲烷磺酸鹽、二烯丙基二甲基 銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、二烯丙基二甲基銨雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、N,N-二乙基-N-甲基-N-(2-甲氧基乙基)銨四氟硼酸鹽、N,N-二乙基-N-甲基-N-(2-甲氧基乙基)銨三氟甲烷磺酸鹽、N,N-二乙基-N-甲基-N-(2-甲氧基乙基)銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、N,N-二乙基-N-甲基-N-(2-甲氧基乙基)銨雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、環氧丙基三甲基銨三氟甲烷磺酸鹽、環氧丙基三甲基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、環氧丙基三甲基銨雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1-丁基吡啶鎓(三氟甲烷磺醯基)三氟乙醯醯胺、1-丁基-3-甲基吡啶鎓(三氟甲烷磺醯基)三氟乙醯醯胺、1-乙基-3-甲基咪唑鎓(三氟甲烷磺醯基)三氟乙醯醯胺、N,N-二乙基-N-甲基-N-(2-甲氧基乙基)銨(三氟甲烷磺醯基)三氟乙醯醯胺、二烯丙基二甲基銨(三氟甲烷磺醯基)三氟乙醯醯胺、環氧丙基三甲基銨(三氟甲烷磺醯基)三氟乙醯醯胺、N,N-二甲基-N-乙基-N-丙基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-乙基-N-丁基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-乙基-N-戊基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-乙基-N-己基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-乙基-N-庚基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-乙基-N-壬基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N,N-二丙基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丙基-N-丁基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丙基-N-戊基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丙基-N-己基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丙基-N- 庚基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丁基-N-己基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丁基-N-庚基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-戊基-N-己基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N,N-二己基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、三甲基庚基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、N,N-二乙基-N-甲基-N-丙基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、N,N-二乙基-N-甲基-N-戊基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、N,N-二乙基-N-甲基-N-庚基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、N,N-二乙基-N-丙基-N-戊基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、三乙基丙基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、三乙基戊基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、三乙基庚基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、N,N-二丙基-N-甲基-N-乙基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、N,N-二丙基-N-甲基-N-戊基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、N,N-二丙基-N-丁基-N-己基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、N,N-二丙基-N,N-二己基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、N,N-二丁基-N-甲基-N-戊基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、N,N-二丁基-N-甲基-N-己基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、三辛基甲基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、N-甲基-N-乙基-N-丙基-N-戊基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1-丁基-3甲基吡啶-1-基三氟甲烷磺酸鹽等。作為該等之市售品，可使用例如「CIL-314」(日本Carlit公司製)、「ILA2-1」(廣榮化學公司製)等。
又，可舉例如，四甲基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、三甲基乙基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、三甲基丁基銨雙 (三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、三甲基戊基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、三甲基庚基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、三甲基辛基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、四乙基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、三乙基丁基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、四丁基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、四己基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺等。
又，可舉例如，1-二甲基吡咯啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-乙基吡咯啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丙基吡咯啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丁基吡咯啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-戊基吡咯啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-己基吡咯啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-庚基吡咯啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丙基吡咯啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丁基吡咯啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-戊基吡咯啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-己基吡咯啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-庚基吡咯啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1,1-二丙基吡咯啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1-丙基-1-丁基吡咯啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1,1-二丁基吡咯啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1-丙基哌啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1-戊基哌啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1,1-二甲基哌啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-乙基哌啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丙基哌啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丁基哌啶 鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-戊基哌啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-己基哌啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-庚基哌啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丙基哌啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丁基哌啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-戊基哌啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-己基哌啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-庚基哌啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1,1-二丙基哌啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1-丙基-1-丁基哌啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1,1-二丁基哌啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1,1-二甲基吡咯啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-乙基吡咯啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丙基吡咯啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丁基吡咯啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-戊基吡咯啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-己基吡咯啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-庚基吡咯啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丙基吡咯啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丁基吡咯啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-戊基吡咯啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-己基吡咯啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-庚基吡咯啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1,1-二丙基吡咯啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1-丙基-1-丁基吡咯啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1,1-二丁基吡咯啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1-丙基哌啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1-戊基 哌啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1,1-二甲基哌啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-乙基哌啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丙基哌啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丁基哌啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-戊基哌啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-已基哌啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1庚基哌啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丙基哌啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-庚基哌啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺，1-乙基-1-戊基哌啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-己基哌啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-庚基哌啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1-丙基-1-丁基哌啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1,1-二丙基哌啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1,1-二丁基哌啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺等。
又，可舉如取代上述化合物的陽離子成分而使用了三甲基鋶陽離子、三乙基鋶陽離子、三丁基鋶陽離子、三己基鋶陽離子、二乙基甲基鋶陽離子、二丁基乙基鋶陽離子、二甲基癸基鋶陽離子、四甲基鏻陽離子、四乙基鏻陽離子、四丁基鏻陽離子、四己基鏻陽離子的化合物等。
又，可舉如取代上述之雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺而使用了雙(五氟磺醯基)醯亞胺、雙(七氟丙烷磺醯基)醯亞胺、雙(九氟丁烷磺醯基)醯亞胺、三氟甲烷磺醯基九氟丁烷磺醯基醯亞胺、七氟丙烷磺醯基三氟甲烷磺醯基醯亞胺、五氟乙烷磺醯基九氟丁烷磺醯基醯亞胺、環-六氟丙烷-1,3-雙(磺 醯基)醯亞胺陰離子等的化合物等。
又，作為離子性化合物(D)，除了前述的鹼金屬鹽、有機陽離子-陰離子鹽以外，可舉如氯化銨、氯化鋁、氯化銅、氯化亞鐵、氯化鐵、硫酸銨等的無機鹽。該等離子性化合物(D)可單獨或將複數種併用。
本發明之黏著劑組成物中離子性化合物(D)的比例，宜相對於(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份為0.05~10重量份。前述離子性化合物(D)未滿0.05重量份時，有時抗靜電性能的提高效果會不足。前述離子性化合物(D)宜為0.1重量份以上，更宜為0.5重量份以上。另一方面，前述離子性化合物(D)若較10重量份多，則有時耐久性會變得不足。前述離子性化合物(D)，宜為5重量份以下，較宜為3重量份以下，更宜為1重量份以下。前述離子性化合物(D)的比例，可採用前述上限值或下限值來設定較佳範圍。
在本發明之黏著劑組成物中，可摻混具有反應性矽基的聚醚化合物(E)。聚醚化合物(E)因可提高再加工性而為佳。聚醚化合物(E)可使用例如日本專利特開2010-275522號公報中所揭示者。
具有反應性矽基的聚醚化合物(E)，係具有聚醚骨架，且至少在1末端有下述通式(1)：-SiRaM3-a所示之反應性矽基(式中，R亦可具有取代基，是碳數1~20之1價的有機基，M為羥基或水解基，a為0~2之整數。惟，當R以複數存在時，複數個R彼此可為相同亦可不同，M以複數存在時，複數個M彼此可為相同亦可不同。)。
作為具有前述反應性矽基之聚醚化合物(E)，可舉如下列通式(2)所示之化合物：通式(2)：RaM3-aSi-X-Y-(AO)n-Z
(式中R亦可具有取代基，為碳數1~20之1價的有機基，M為羥基或水解基，a為0~2之整數。惟，R以複數存在時複數個R彼此可為相同亦可不同，M以複數存在時複數之M彼此可為相同亦可不同。AO表示直鏈或支鏈之碳數1~10之氧伸烷基，n為1~1700，表示氧伸烷基的平均加成莫耳數。X表示碳數1~20之直鏈或支鏈的伸烷基。Y表示醚鍵、酯鍵、胺甲酸酯鍵、或碳酸酯鍵。
Z為氫原子、1價之碳數1~10的烴基、及下列通式(2A)或通式(2B)所示之基：通式(2A)：-Y1-X-SiRaM3-a(式中R、M、X與前述相同。Y1表示單鍵、-CO-鍵、-CONH-鍵或-COO-鍵。)
通式(2B)：-Q{-(OA)n-Y-X-SiRaM3-a}m
(式中R、M、X、Y與前述相同。OA同於前述之AO，n與前述相同。Q為2價以上之碳數1~10的烴基，m與該烴基之價數相同。))。
作為具有反應性矽基之聚醚化合物(E)的具體例，可舉例如，Kanek公司製的MS聚合物S203、S303、S810；SILYL EST250、EST280；SAT10、SAT200、SAT220、SAT350、SAT400、旭硝子公司製的EXCESTAR S2410、S2420或S3430等。
本發明之黏著劑組成物中聚醚化合物(E)的比 例，宜相對於(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份為0.001~10重量份。前述聚醚化合物(E)未滿0.001重量份時，其再加工性之提高效果有時會不足。前述聚醚化合物(E)宜為0.01重量份以上，進一步宜為0.1重量份以上。另一方面，前述聚醚化合物(E)若較10重量份多，則在耐久性上不佳。前述聚醚化合物(E)宜在5重量份以下，更宜為2重量份以下。前述聚醚化合物(E)的比例，可採用前述上限值或下限值來設定較佳的範圍。
進一步在本發明之黏著劑組成物中，亦可含有其他的公知添加劑，例如，可視使用用途適宜地添加聚丙二醇等之聚烯烴二醇的聚醚化合物、著色劑、顏料等之粉體、染料、界面活性劑、塑化劑、增黏劑、表面潤滑劑、均染劑、軟化劑、抗氧化劑、老化防止劑、光穩定劑、紫外線吸收劑、聚合抑制劑、無機或有機的充填劑、金屬粉、粒子狀、箔狀物等。又，在可控制的範圍內，亦可採用添加了還原劑的氧化還原系統。相對於(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，該等添加劑宜以5重量份以下、進一步為3重量份以下、再進一步為1重量份以下之範圍來使用。
雖是利用前述黏著劑組成物來形成黏著劑層，但在形成黏著劑層時，宜調整交聯劑整體的添加量，並充分考慮交聯處理溫度及交聯處理時間之影響。
根據使用的交聯劑，可調整交聯處理溫度及交聯處理時間。交聯處理溫度宜為170℃以下。
又，該交聯處理可在黏著劑層之乾燥步驟時的溫度下進行，亦可在乾燥步驟後另外設置交聯處理步驟。
又，關於交聯處理時間，可考慮生產性及作業性來做設定，但通常為0.2~20分鐘左右，且以0.5~10分鐘左右為佳。
本發明之附黏著劑層之光學薄膜等的附黏著劑層之光學構件，是在光學薄膜之至少單面上利用前述黏著劑組成物形成有黏著劑層者。
作為形成黏著劑層之方法，可使用例如將前述黏著劑組成物塗布於經剝離處理後之分隔件等，將聚合溶劑等乾燥除去，形成黏著劑層後轉移至光學薄膜的方法，或在光學薄膜上塗布前述黏著劑組成物，將聚合溶劑等乾燥除去而將黏著劑層形成於光學薄膜上的方法等來製作。再者，在塗布黏著劑時，亦可適宜地添加聚合溶劑以外之一種以上的溶劑。
作為經剝離處理之分隔件，宜使用矽氧剝離襯墊。在該種襯墊上塗布本發明之接著劑組成物，使其乾燥而形成黏著劑層之步驟中，作為使黏著劑乾燥的方法，可視目的採用適宜、適切的方法。使用將上述塗布膜加熱乾燥的方法較好。加熱乾燥溫度宜為40℃~200℃，較宜為50℃~180℃，特宜為70℃~170℃。藉由將加熱溫度設定在上述的範圍，可獲得具有優異黏著特性的黏著劑。
乾燥時間可採用適宜、適切的時間。上述乾燥時間宜為5秒~20分鐘，較宜為5秒~10分鐘，特宜為10秒~5 分鐘。
又，在光學薄膜的表面，可形成定錨層，也可在施予電暈處理、電漿處理等各種易接著處理後形成黏著劑層。又，亦可在黏著劑層的表面進行易接著處理。
作為黏著劑層的形成方法，可使用各種方法。具體而言，可舉例如，輥塗布、接觸輥塗布、凹版塗布、逆塗布、輥刷、噴塗布、浸漬輥塗布、棒塗布、刮刀塗布、空氣刮刀塗布、簾塗布、唇塗布、利用模塗布機等的擠壓式塗布法等的方法。
黏著劑層的厚度並無特別限制，例如1~100μm左右。以2~50μm為佳，以2~40μm為較佳，以5~35μm為更佳。
在前述黏著劑層露出的情況，到供於實用為止亦可以經剝離處理之薄片(分隔件)來保護黏著劑層。
作為分隔件的構成材料，雖可舉例如聚乙烯、聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚酯薄膜等的塑膠薄膜、紙、布、不織布等之多孔質材料、網子、發泡薄片、金屬箔及該等積層體等之適宜的薄葉體等，但從表面平滑性優異的點看來，較偏好使用塑膠薄膜。
作為其塑膠薄膜，只要是可保護前述黏著劑層之薄膜便無特別限定，可舉例如，聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、聚丁烯薄膜、聚丁二烯薄膜、聚甲基戊烯薄膜、聚氯化乙烯基薄膜、氯化乙烯基共聚物薄膜、聚對苯二甲酸乙二酯薄膜、聚對苯二甲酸丁二酯薄膜、聚胺甲酸酯薄膜、 乙烯-醋酸乙酯共聚物薄膜等。
前述分隔件的厚度，通常為5~200μm，宜為5~100μm左右。在前述分隔件上，亦可使需要進行利用矽氧系、氟系、長鏈烷基系或者脂肪酸醯胺系之離型劑、矽石粉等之離型及防污處理，或進行塗布型、捏合型、蒸鍍型等之抗靜電處理。特別是，藉由在前述分隔件之表面適宜地進行矽氧處理、長鏈烷基處理、氟處理等之剝離處理，可更加提高從前述黏著劑層之剝離性。
再者，在上述之附黏著劑層之光學薄膜的製作中所使用之經剝離處理的薄片，可直接作為附黏著劑層之光學薄膜的分隔件使用，可在步驟面上簡略化。
作為光學薄膜，是使用在液晶顯示裝置等之影像顯示裝置的形成所使用者，其種類並無特別限制。例如，作為光學薄膜可舉如偏光薄膜。偏光薄膜一般是使用在偏光件之單面或兩面上有透明保護薄膜者。
偏光件並無特別限定，可使用各種偏光件。作為偏光件，可舉例如，在聚乙烯基醇系薄膜、部分二甲縮醛化聚乙烯基醇系薄膜、乙烯/醋酸乙酯共聚物系部分皂化薄膜等之親水性高分子薄膜上，令碘及雙色性染料之雙色性物質吸附而單軸延伸者，聚乙烯基醇之脫水處理物及聚氯化乙烯基之脫鹽酸處理物等多烯系配向薄膜等。該等之中尤其以由聚乙烯基醇系薄膜與碘等之雙色性物質所構成之偏光件為佳。該等偏光件的厚度雖無特別限制，但一般而言為80μm左右以下。
將聚乙烯基醇系薄膜以碘染色而單軸延伸之偏光件，例如，可藉由將聚乙烯基醇系薄膜浸漬於碘的水溶液來染色，並延伸為原長之3~7倍來作成。亦可視必要浸漬於亦可含有硼酸及硫酸鋅、氯化鋅等之碘化鉀等的水溶液中。亦可進一步視必要在染色前將聚乙烯基醇系薄膜浸漬於水中來水洗。藉由將聚乙烯基醇系薄膜水洗，除了可將聚乙烯基醇系薄膜表面之髒污及抗結塊劑洗淨，藉由使聚乙烯基醇系薄膜膨潤，還有防止染色不均等不均一之効果。延伸可在以碘染色後來進行，亦可在一邊染色時延伸，或者亦可先延伸再以碘來染色。亦可在硼酸及碘化鉀等之水溶液或水浴中延伸。
又，作為偏光件，可使用厚度在10μm以下之薄型的偏光件。從薄型化的觀點而言，以該厚度為1~7μm者為佳。這種薄型的偏光件，因較少厚度不均，且可視性優異，又尺寸變化之故，耐久性優異，進一步在作為偏光薄膜之厚度亦可謀求薄型化之點亦佳。
作為薄型之偏光件，代表性而言，可舉如日本專利特開昭51-069644號公報及日本專利特開2000-338329號公報、WO2010/100917號手冊、PCT/JP2010/001460之說明書，或日本專利特願2010-269002號說明書及特願2010-263692號說明書中所記載之薄型偏光膜。該等薄型偏光膜，可藉由包含將聚乙烯基醇系樹脂(以下，亦稱為PVA系樹脂)層與延伸用樹脂基材在積層體的狀態下延伸之步驟與染色步驟之製法來獲得。若為該製法，則即便PVA 系樹脂層變薄，亦可藉由利用延伸用樹脂基材來支持而在不因延伸而產生破斷等瑕疵的情況下進行延伸。
作為前述薄型偏光膜，就即便是在含有在積層體的狀態下延伸之步驟與染色步驟的製法中，亦能高倍率地延伸而提高偏光性能的點而言，宜為以在WO2010/100917號手冊、PCT/JP2010/001460之說明書、或特願2010-269002號說明書及特願2010-263692號說明書中所記載之包含在硼酸水溶液中延伸之步驟的製法所獲得者，特宜為以在特願2010-269002號說明書及特願2010-263692號說明書所記載之包含在硼酸水溶液中延伸前進行輔助性的空中延伸步驟之製法所獲得者。
作為構成透明保護薄膜的材料，可使用例如透明性、機械強度、熱穩定性、抗濕性、等向性等優異之熱可塑性樹脂。作為該種熱可塑性樹脂之具體例，可舉如三醋酸纖維素等之纖維素樹脂、聚酯樹脂、聚醚碸樹脂、聚碸樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚烯烴樹脂、(甲基)丙烯樹脂、環狀聚烯烴樹脂(降莰烯系樹脂)、聚芳香酯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚乙烯基醇樹脂及該等之混合物。再者，在偏光件的單側上，雖利用接著劑層來貼合透明保護薄膜，但在另一側上，可使用(甲基)丙烯酸系、胺甲酸酯系、壓克力胺甲酸酯系、環氧系、矽氧系等之熱硬化性樹脂或紫外線硬化型樹脂來作為透明保護薄膜。在透明保護薄膜中亦可含有1種類以上任意之適切的添加劑。作為添加劑，可舉例如，紫外線吸收劑、抗氧 化劑、潤滑劑、塑化劑、離型劑、著色防止劑、難燃劑、核劑、抗靜電劑、顏料、著色劑等。透明保護薄膜中之上述熱可塑性樹脂的含量宜為50~100重量%，較宜為50~99重量%，更宜為60~98重量%，特宜為70~97重量%。透明保護薄膜中之上述熱可塑性樹脂的含量在50重量%以下時，會有熱可塑性樹脂原具有之高透明性等無法充分表現之疑慮。
前述偏光件與透明保護薄膜之貼合所使用之接著劑若為在光學上透明的，則無特別限制，而可使用水系、溶劑系、熱熔系、自由基硬化型、陽離子硬化型之各種形態的接著劑，但以水系接著劑或自由基硬化型接著劑為佳。
又，作為光學薄膜，可舉例如反射板或反透過板、相位差薄膜(包含1/2及1/4等之波長板)、視覺補償薄膜、亮度強化薄膜等之液晶顯示裝置等的形成所使用之形成光學層者。該等可單獨作為光學薄膜使用以外，亦可在前述偏光薄膜上，在要實用時積層，而使用1層或2層以上。
在偏光薄膜上積層有前述光學層之光學薄膜，雖可以在液晶顯示裝置等之製造過程中依序個別地積層之方式來形成，但預先積層所製成之光學薄膜，在品質之穩定性及組裝作業等方面優異而有能改善液晶顯示裝置等之製造步驟的優點。積層時可使用黏著層等之適宜的接著手段。在前述偏光薄膜與其他光學層接著時，其等之光學軸 可視作為目的之相位差特性等來設成適宜的配置角度。
本發明之附黏著劑層之光學薄膜可適宜的用於液晶顯示裝置之各種影像顯示裝置的形成等。液晶顯示裝置之形成可依照習知方法來進行。即液晶顯示裝置一般而言，可藉由將液晶胞元等之顯示面板與附黏著劑層之光學薄膜及視必要之照明系統等的構成構件適宜地組合並插入驅動回路等來形成，而在本發明中除了利用本發明之附黏著劑層之光學薄膜以外並無特別限定，可依照習知之方法。即便是關於液晶胞元，也可使用例如TN型及STN型、π型、VA型、IPS型等任意的種類等。
可形成在液晶胞元等之顯示面板的單側或兩側配置了附黏著劑層之光學薄膜的液晶顯示裝置，或於照明系統使用了背光或者反射板而成者等適宜的液晶顯示裝置。其情況，利用本發明之附黏著劑層之光學薄膜可設置於液晶胞元等之顯示面板的單側或兩側。在兩側設置光學薄膜的情況，其等可為相同的，也可為不同的光學薄膜。進一步，在形成液晶顯示裝置時，可將例如擴散層、防眩層、反射防止膜、保護板、稜鏡陣列、透鏡陣列薄片、光擴散薄片、背光等之適宜的構件在適宜的位置配置1層或2層以上。
較佳實施例之詳細說明
以下依據實施例來具體地說明本發明，但本發明並不受該等實施例所限定。再者，各例中之份及%之任一者皆重量基準。以下未特別規定之室溫放置條件皆為23℃ 65%RH。
<(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之重量平均分子量的測定>
(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之重量平均分子量(Mw)是利用GPC(膠體層析)進行了測定。關於Mw/Mn，也同樣地進行了測定。
．分析裝置：Tosoh公司製、HLC-8120GPC
．管柱：Tosoh公司製、G7000HXL+GMHXL+GMHXL
．管柱尺寸：各7.8mmφ×30cm計90cm
．管柱溫度：40℃
．流量：0.8mL/min
．注入量：100μL
．溶離液：四氫呋喃
．檢出器：差示折射計(RI)
．標準試料：聚苯乙烯
<偏光薄膜的作成>
將厚度80μm之聚乙烯基醇薄膜，在速度比不同的輥間，在30℃、0.3%濃度之碘溶液中進行1分鐘染色，而延伸成了3倍。其後，在60℃，含4%濃度之硼酸、10%濃度之碘化鉀的水溶液中浸漬0.5分鐘而延伸至總延伸比6倍為止。接著，藉由在30℃含有1.5%濃度之碘化鉀之水溶液中 浸漬10秒來洗淨之後，在50℃下進行4分鐘乾燥，獲得了厚度30μm的偏光件。該偏光件的兩面上，將經皂化處理之厚度80μm的三醋酸纖維素薄膜利用聚乙烯基醇系接著劑貼合而作成了偏光薄膜。
實施例1
(丙烯酸系聚合物(A1)之調製)
在具備了攪拌葉片、溫度計、氮氣導入管、冷卻器的4口燒瓶中，放入了含有丙烯酸丁酯74.8份、丙烯酸苯氧乙酯23份、N-乙烯基-2-吡咯啶酮1.5份、丙烯酸0.3份、丙烯酸4-羥丁酯0.4份的單體混合物。進一步，相對於前述單體混合物(固體成分)100份，將作為聚合起始劑之2,2’-偶氮雙異丁腈0.1份與醋酸乙酯100份一起放入，一邊緩慢攪拌一邊導入氮氣進行氮取代後，將燒瓶內的液溫保持在55℃附近，進行8小時聚合反應，調製成重量平均分子量(Mw)160萬、Mw/Mn=3.7之丙烯酸系聚合物(A1)的溶液。
(黏著劑組成物的調製)
相對於製造例1所獲得之丙烯酸系聚合物(A1)溶液的固體成分100份，摻混異氰酸酯交聯劑(三井化學公司製之Takenate D160N，三羥甲基丙烷六亞甲基二異氰酸酯)0.1份、苄醯基過氧化物(日本油脂公司製的NYPER BMT)0.3份及γ-環氧丙氧基丙基甲氧基矽烷(信越化學工業公司製：KBM-403)0.2份，調製出丙烯酸系黏著劑組成物的溶液。
(附黏著劑層之偏光薄膜的製作)
接下來，將上述丙烯酸系黏著劑組成物的溶液，在經 矽氧系剝離劑處理過的聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(分隔薄膜：三菱化學聚酯薄膜(股)製，MRF38)的單面上，以乾燥後之黏著劑層的厚度成為23μm的方式塗布，在155℃下進行1分鐘乾燥，在分隔薄膜的表面形成了黏著劑層。接著，在上述過程所作成之偏光薄膜上，轉移在分隔薄膜上所形成之黏著劑層，製作出附黏著劑層之偏光薄膜。
實施例2~29、比較例1~13
在實施例1中，如表1所示，改變在丙烯酸系聚合物(A)之調製中所使用之單體的種類、其使用比例，並控制製造條件，調製出在表1中所記載之聚合物性狀(重量平均分子量，MW/Mn)之丙烯酸系聚合物的溶液。
又，相對於所獲得之各丙烯酸系聚合物的溶液，如表1所示，除了改變了交聯劑(B)之種類或其使用量、矽烷耦合劑(C)之種類或使用量(或不使用)以外，以與實施例1相同的方式，調製出丙烯酸系黏著劑組成物的溶液。又，使用該丙烯酸系黏著劑組成物的溶液，以與實施例1相同的方式，製作出附黏著劑層之偏光板。再者，在實施例24至26、28及比較例5中，調製出以表1所示比例摻混有離子性化合物(D)之丙烯酸系聚合物溶液，在實施例27中調製出以表1所示比例摻混有具有反應性矽基之聚醚化合物(E)的丙烯酸系聚合物溶液。
關於在上述實施例及比較例中所獲得之附黏著劑層之偏光薄膜，進行了以下的評價。將評價結果表示於表2。再者，表面電阻值之測定，僅就實施例24至26、28 及比較例5所獲得之附黏著劑層之偏光薄膜來進行。
<在玻璃的耐久性試驗>
將附黏著劑層之偏光薄膜裁切成37吋大小作為試樣。將該試樣使用貼合機貼附於厚度0.7mm之無鹼玻璃(康寧公司製，EG-XG)。接下來，以50℃、0.5MPa進行15分鐘高壓釜處理，使上述試樣完全的密著於無丙烯玻璃。對經施予該處理之試樣，在80℃、85℃、90℃(惟，90℃僅在實施例3、23、25、28、29與比較例4、5中)之各氣體環境下施予500小時處理後(加熱試驗)，又，在60℃/90%RH、60℃/95%RH之各氣體環境下施予500小時處理後(加濕試驗)，又，在85℃與-40℃之環境以1循環1小時的方式施行300循環後(熱震試驗)，依下述基準以目視來評價了偏光板與玻璃之間的外觀。
(評價基準)
◎：完全沒有發泡、剝落等外觀上的變化。
○：只有在端部有少許剝落或發泡，但在實用上沒有問題。
△：在端部雖有剝落或發泡，但只要不是特別的用途，在實用上沒有問題。
×：在端部有明顯的剝落，在實用上有問題。
<在ITO玻璃的耐久性試驗>
前述<在玻璃的耐久性試驗>中，是將在作為黏附體使用之無鹼玻璃上形成有結晶性ITO或非晶性ITO層者作為<在ITO玻璃的耐久性試驗>之黏附體。如前所述，除了改變黏附體，在ITO層上將試樣貼合以外，以與前述<在玻璃的 耐久性試驗>相同的順序來實施在ITO玻璃的耐久性試驗。ITO層是以濺鍍法來形成的。ITO的組成，結晶性ITO是Sn比率10重量%、非晶性ITO是Sn比率3重量%，在試樣之貼合前，各別實施140℃×60分之加熱步驟。再者，ITO的Sn比率，可由Sn原子的重量/(Sn原子的重量+In原子的重量)算出。
<耐金屬腐蝕性>
將附黏著劑層之偏光薄膜裁切成8mm×8mm者作為試樣。將薄膜表面上形成有ITO層之導電性薄膜(商品名：ELECRYSTA(P400L)，日東電工(股)製)裁切成15mm×15mm，並將該試樣貼合於該導電性薄膜上的中央部後，在50℃、5atm下進行15分鐘高壓釜處理後，作為耐腐蝕性的測定試樣。使用後述的測定裝置來測定所獲得之測定用試樣的電阻值，並將其設為「初期電阻值」。
其後，將測定用試樣在60℃/90%RH的環境中，投入500小時後，將測定出的電阻值設為「濕熱後的電阻值」。再者，上述的電阻值是使用Accent Optical Technologies公司製HL5500PC來進行測定的。從上述所測出之「初期電阻值」及「濕熱後的電阻值」，可依下式算出「電阻值變化」。
<顯示不均>
準備2枚已將附黏著劑層之偏光薄膜切成縱420mm×横320mm之尺寸所得者作為試樣。將該試樣以貼合機貼合於厚度0.07mm之無鹼玻璃板的兩面已形成正交尼寇稜鏡。接下來，在50℃、5atm下進行15分鐘的高壓釜處理作為二次試樣(初期)。接下來，將二次試樣在90℃的條件下進行了24小時的處理(加熱後)。將初期及加熱後之二次試樣置於1萬燭光的背光上，依下述的基準以目視來評價漏光。
(評價基準)
◎：未發生隅角不均，實用上沒有問題。
○：隅角不均雖少但有發生，但由於沒有表現在顯示領域所以實用上沒有問題。
△：發生隅角不均但在顯示領域僅少量表現，實用上沒有問題。
×：發生隅角不均且於顯示領域明顯表現，實用上有問題。
<導電性：表面電阻值(Ω/□)>
將附黏著劑層之偏光薄膜的分隔薄膜剝離後，測定了黏著劑表面之表面電阻值(初期)。又，將附黏著劑層之偏光薄膜投入60℃/95%RH的環境中500小時後，在40℃下使其乾燥1小時，並剝離分隔薄膜後，測定了黏著劑表面的表面電阻值(濕熱後)。測定是使用三菱化學ANALYTECH公司製的MCP-HT450來進行。
<加濕白濁>
將附黏著劑層之偏光薄膜裁切成50mm×50mm之尺寸並貼合於玻璃。進一步，將厚度25μm之PET薄膜(Diafoil T100-25B，三菱樹脂公司製)裁切成50mm×50mm的尺寸，貼合於偏光薄膜的上面，以之作為測定用試樣。將測定用試樣投入至60℃/95%RH之環境250小時後，在室溫下取出並測定了10分鐘後之霧度值。霧度值是使用村上色彩技術研究所公司製之霧度計HM150來測定。
<再加工性>
將附黏著劑層之偏光薄膜，裁切成縱120mm×横25mm來作為試樣。將該試樣用貼合機黏貼在厚度0.7mm之無鹼玻璃板(康寧公司製，EG-XG)上，接著在50℃、5atm下進行15分鐘高壓釜處理使其完全地密著後，測定了該試樣的接著力。接著力是將該試樣以拉力試驗機(Autograph SHIMAZU AG-1 1OKN)，測定剝離角度90°、剝離速度300mm/min撕下時的接著力(N/25mm，測定長80mm)來求得。測定是以1回/0.5s之間隔來取樣，並以其平均值作為測定值。
[表1]
在表1中，用於丙烯酸系聚合物(A)之調製的單體各表示如下。
BA：丙烯酸丁酯
PEA：丙烯酸苯氧乙酯
NVP：N-乙烯基-吡咯啶酮
NVC：N-乙烯基-ε-己內醯胺
AAM：丙烯醯胺
AA；丙烯酸
HBA：丙烯酸4-羥丁酯
HEA：丙烯酸2-羥乙酯
交聯劑(B)之「異氰酸酯系」的「D160N」是三井化學公司製的Takenate D160N(三羥甲基丙烷之六亞甲基二異氰酸的加成物)、「C/L」是日本聚胺甲酸酯工業公司製之Coronate L(三羥甲基丙烷之甲伸苯基二異氰酸酯的加成物)；「過氧化物系」表示苄醯基過氧化物(日本油脂公司製，NYPER BMT)；「矽烷耦合劑(C)」表示KBM403：信越化學工業(股)製的KBM403、X-41-1056：信越化學工業(股)製的X-41-1056；「離子性化合物(D)」表示Li-TFSI：三菱Material公司製的雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺鋰；EMP-TFSI：三菱Material公司製之1-乙基-1-甲基吡咯啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺。
「聚醚化合物(E)」表示Kaneka公司製的Silyl SAT10。
[表2]

Claims (18)

  1. 一種光學薄膜用黏著劑組成物，其特徵在於含有(甲基)丙烯酸系聚合物(A)及交聯劑(B)，該(甲基)丙烯酸系聚合物(A)以單體單元計，含有(甲基)丙烯酸烷基酯(a1)70重量%以上、含芳香環的(甲基)丙烯酸酯(a2)3至25重量%、含醯胺基單體(a3)0.7至4重量%(排除N-(烷氧基烷基)(甲基)丙烯醯胺系單體)，含羧基單體(a4)0.01至2重量%、及含羥基單體(a5)0.01至3重量%，並滿足重量平均分子量(Mw)為100萬至250萬而且Mw/數量平均分子量(Mn)在1.8以上且10以下；又，相對於前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，含有交聯劑(B)0.01至3重量份。
  2. 如請求項1之光學薄膜用黏著劑組成物，其中前述含醯胺基單體(a3)為含N-乙烯基的內醯胺系單體。
  3. 如請求項1之光學薄膜用黏著劑組成物，其中前述含羥基單體(a5)為(甲基)丙烯酸4-羥丁酯。
  4. 如請求項1之光學薄膜用黏著劑組成物，其中前述交聯劑(B)含有選自異氰酸酯系交聯劑及過氧化物系交聯劑之至少1種。
  5. 如請求項4之光學薄膜用黏著劑組成物，其中前述異氰酸酯系交聯劑含有脂肪族聚異氰酸酯系化合物。
  6. 如請求項1之光學薄膜用黏著劑組成物，其進一步含有矽烷耦合劑(C)。
  7. 如請求項6之光學薄膜用黏著劑組成物，其中前述矽烷耦合劑(C)在1分子內具有2個以上烷氧矽基。
  8. 如請求項6之光學薄膜用黏著劑組成物，其中前述矽烷耦合劑(C)在分子內具有環氧基。
  9. 如請求項6之光學薄膜用黏著劑組成物，其相對於前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，含有前述矽烷耦合劑(C)0.001至5重量份。
  10. 如請求項1之光學薄膜用黏著劑組成物，其進一步含有離子性化合物(D)。
  11. 如請求項10之光學薄膜用黏著劑組成物，其中前述離子性化合物(D)為鹼金屬鹽及/或有機陽離子-陰離子鹽。
  12. 如請求項11之光學薄膜用黏著劑組成物，其中前述離子性化合物(D)含有含氟基陰離子。
  13. 如請求項10之光學薄膜用黏著劑組成物，其相對於前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，含有前述離子性化合物(D)，0.05至10重量份。
  14. 如請求項1至13中任一項之光學薄膜用黏著劑組成物，其進一步含有具反應性矽基的聚醚化合物(E)。
  15. 如請求項14之光學薄膜用黏著劑組成物，其相對於前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，含有前述具反應性矽基之聚醚化合物(E)0.001至10重量份。
  16. 一種光學薄膜用黏著劑層，其特徵在於係利用請求項1 至15中任一項之光學薄膜用黏著劑組成物所形成。
  17. 一種附黏著劑層之光學薄膜，其特徵在於在光學薄膜的至少單側形成有如請求項16之光學薄膜用黏著劑層。
  18. 一種影像顯示裝置，其特徵在於使用了至少1片如請求項17之附黏著劑層之光學薄膜。
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