TWI789337B - 光學薄膜用黏著劑組成物、光學薄膜用黏著劑層、附黏著劑層之光學薄膜及影像顯示裝置 - Google Patents

光學薄膜用黏著劑組成物、光學薄膜用黏著劑層、附黏著劑層之光學薄膜及影像顯示裝置 Download PDF

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Abstract

本發明之課題在於提供一種可形成黏著劑層的光學薄膜用黏著劑組成物，該黏著劑層對於玻璃及透明導電層可滿足不產生發泡、剝落或加濕白濁的耐久性並能抑制漏光導致之顯示不均。 解決手段上，本發明之光學薄膜用黏著劑組成物特徵在於含有(甲基)丙烯酸系聚合物(A)及相對於100重量份之前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)為0.01~3重量份之交聯劑(B)，該(甲基)丙烯酸系聚合物(A)含有(甲基)丙烯酸烷酯(a1)33重量%以上、含芳香環(甲基)丙烯酸酯(a2)3~25重量%、含N-乙烯基之內醯胺系單體(a3)5~35重量%及含羥基單體(a4)0.01~7重量%以作為單體單元。

Description

光學薄膜用黏著劑組成物、光學薄膜用黏著劑層、附黏著劑層之光學薄膜及影像顯示裝置
發明領域 本發明是關於一種光學薄膜用黏著劑組成物及附黏著劑層之光學薄膜，該附黏著劑層之光學薄膜是利用該黏著劑組成物在光學薄膜之至少單面上形成有黏著劑層者。進一步而言，本發明是關於使用了前述附黏著劑層之光學薄膜的液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置、PDP等影像顯示裝置。作為前述光學薄膜，可使用偏光薄膜、相位差薄膜、光學補償薄膜、增亮薄膜，進一步可使用其等積層而成之物。
發明背景 液晶顯示裝置等，由其影像形成方式看來，在液晶元件的兩側配置偏光元件是不可或缺的，一般而言是貼附偏光薄膜。又，在液晶面板上除了偏光薄膜外，為了提高顯示器的顯示品質有各式各樣的光學元件逐漸被使用。例如會使用用作抗著色的相位差薄膜、用於改善液晶顯示器視角的視角擴大薄膜、還有用於提高顯示器之對比的增亮薄膜等。該等薄膜統稱為光學薄膜。
在將前述光學薄膜等的光學構件貼附於液晶元件時，通常會使用黏著劑。又，光學薄膜與液晶元件或光學薄膜間的接著，通常為了減低光的損失，會用黏著劑讓該等材料密著。在此情況一般會使用附黏著劑層之光學薄膜，即在光學薄膜的單側預先以黏著劑層的形式設置黏著劑而成的光學薄膜，因其具有能使光學薄膜固著卻又不需要乾燥步驟等優點。在附黏著劑層之光學薄膜的黏著劑層上通常會貼附著離型薄膜。
前述黏著劑層需要的必備特性方面，係要求附黏著劑層之光學薄膜貼合在液晶面板之玻璃基板上時的耐久性，例如，要求在作為環境促進試驗通常進行之利用加熱及加濕等的耐久試驗中，不產生黏著劑層導致的剝落及浮起等缺陷。
又，光學薄膜(例如偏光板)會因加熱處理而有收縮的傾向。因偏光板的收縮，形成黏著劑層的基底聚合物會配向而產生相位差，這會演變成漏光所致之顯示不均的問題。因此，對前述黏著劑層係要求抑制顯示不均性。
目前已提出可形成前述附黏著劑層之光學薄膜之黏著劑層的各種黏著劑組成物(例如專利文獻1至3)。
另一方面，製造液晶顯示裝置時，在將前述附黏著劑層之偏光薄膜黏貼到液晶元件時，係將離型薄膜從附黏著劑層之偏光薄膜的黏著劑層剝離，但會因該離型薄膜的剝離而有靜電產生。如此所產生的靜電會對液晶顯示裝置內部之液晶的配向造成影響，而導致出現不良缺陷。此外，液晶顯示裝置使用時有時會發生靜電所引起之顯示不均。靜電的產生，雖可藉由例如在偏光薄膜的外面形成抗靜電層來抑制，但為了要在靜電產生之根本的位置抑制其產生，賦予黏著劑層抗靜電機能是有效的。
作為對黏著劑層賦予抗靜電機能的手段，已提出例如在形成黏著劑層的黏著劑中摻混離子性化合物(專利文獻4至5)。其係記載了在用於偏光薄膜之丙烯酸系黏著劑中摻混常溫下為液體的有機熔融鹽，於專利文獻4中為含有咪唑陽離子與無機陰離子的離子性固體，而在專利文獻5中則是由含有4級氮原子之碳數6~50的陽離子與含有氟原子的陰離子所構成之鎓鹽等。 先行技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本專利公開案第2012-158702號公報 專利文獻2：日本專利公開案第2009-215528號公報 專利文獻3：日本專利公開案第2009-242767號公報 專利文獻4：日本專利公開案第2009-251281公報 專利文獻5：國際公開案2007/034533號說明書
發明概要 發明欲解決之課題 在使用液晶顯示裝置時會有因靜電而發生顯示不均的情況，因此有時會在液晶面板的玻璃基板上形成透明導電層(例如，含有氧化錫之氧化銦：ITO層)。又，前述透明導電層除了作為因應靜電造成之顯示不均的對策以外，在將液晶顯示裝置利用在觸控面板的情況時，還可發揮作為將液晶元件內的驅動電場與觸控面板切離之遮蔽電極的機能。在所述構造的液晶顯示裝置中，附黏著劑層之光學薄膜的黏著劑層是直接貼合於前述ITO層。因此，對於前述黏著劑層，不僅只要求對玻璃基板具密著性，其對ITO層之密著性也受到要求。一般來說相較於玻璃板，ITO層與黏著劑層之間大多有密著性較差、耐久性成問題的狀況。已知將前述附黏著劑層之光學薄膜以貼合於玻璃基板的狀態置於60℃且95%RH等的高溫高濕條件下後，一旦回到常溫則黏著劑層會產生白濁的現象(加濕白濁)。若發生加濕白濁，就會成為顯示器之視辨性低下的原因。
又，前述黏著劑層是直接接觸液晶面板之ITO層及佈線電線的銅等金屬。因此，恐因前述黏著劑層的組成而腐蝕ITO層及金屬。又，若發生腐蝕，會有ITO層及佈線電線之電阻値升高的問題。
專利文獻1提出一種黏著劑組成物，其係相對於含有含芳香環單體與含醯胺基單體之丙烯酸系聚合物100重量份，摻混了4~20重量份異氰酸酯系交聯劑。然而，在專利文獻1中，形成丙烯酸系聚合物的單體因不含有含羥基單體之故，丙烯酸系聚合物與異氰酸酯系交聯劑無法直接反應而會相分離，黏著劑會有易產生白濁的傾向而不宜。又，專利文獻1之黏著劑組成物因交聯劑的比例高，故在耐久性試驗中有容易發生剝落的傾向。
又，專利文獻2和3提出一種(甲基)丙烯酸系聚合物，其含有含芳香環(甲基)丙烯酸酯及含胺基之(甲基)丙烯酸酯；還提出一種含交聯劑之黏著劑組成物。然而，由專利文獻2和3之黏著劑組成物形成的黏著劑層對ITO層之密著性差，無法滿足耐久性。再者，在專利文獻2之比較例中，揭示了使用含醯胺基單體來取代含胺基之(甲基)丙烯酸酯，但如專利文獻2、3各自之表2的結果所示，在使用了含醯胺基單體時無法滿足耐久性。
另一方面，如專利文獻4和5之記載，可藉由在用以形成黏著劑層的黏著劑中摻混離子性化合物來賦予抗靜電機能。進一步來說，由於液晶顯示裝置被預設在各種溫濕度環境下使用，故所需要的黏著劑是即便溫度及濕度發生變化表面電阻値也不會變化、並可賦予歷經長時間仍穩定的抗靜電機能者。近年來，與觸控面板積層的液晶顯示裝置以及在液晶面板之玻璃基板上直接成膜形成ITO層等感應電極而成之所謂on-cell觸控面板型液晶顯示裝置逐漸增加。這種情況下，發現了黏著劑層之表面電阻若過低則會發生觸控面板之感度降低的問題。為了同時避免靜電不均與觸控面板之感度降低，必須將表面電阻控制在較以往都要狹窄的範圍內，所以要求更勝以往之較穩定之抗靜電機能。
在專利文獻4中，提出了藉由含有咪唑陽離子、無機陰離子與離子性固體的丙烯酸系黏著劑來形成可賦予長期穩定之抗靜電機能的黏著劑層。然而，專利文獻4的黏著劑層在加濕條件下對ITO層之密著性並不充足。又，在專利文獻5中，提出一種含有常溫下為液體之有機熔融鹽的丙烯酸系黏著劑。然而，專利文獻5中記載的丙烯酸系黏著劑，其有機熔融鹽的分散性差，由該黏著劑形成之黏著劑層的抗靜電機能穩定性並不充足。
本發明之目的在於提供一種可形成黏著劑層的光學薄膜用黏著劑組成物，該黏著劑層無論對玻璃及透明導電層任一者，都能滿足不產生發泡及剝落或加濕白濁之耐久性，並能抑制漏光導致之顯示不均。
本發明之目的並在於提供一種可形成黏著劑層的光學薄膜用黏著劑組成物，該黏著劑層無論對玻璃及透明導電層任一者，都能滿足不產生發泡及剝落或加濕白濁之耐久性，並能抑制漏光導致之顯示不均，而且可賦予耐金屬腐蝕性及穩定的抗靜電機能。
又本發明之目的在於提供一種附黏著劑層之光學薄膜，其具有利用前述光學薄膜用黏著劑組成物所形成之黏著劑層；並進一步提供一種影像顯示裝置，其使用了前述附黏著劑層之光學薄膜。 用以解決課題之手段
本發明人等為了解決前述課題而反覆精心探究，結果發現了下述光學薄膜用黏著劑組成物，遂完成本發明。
即本發明是有關於一種光學薄膜用黏著劑組成物，特徵在於含有(甲基)丙烯酸系聚合物(A)及相對於100重量份之前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)為0.01~3重量份之交聯劑(B)，該(甲基)丙烯酸系聚合物(A)含有33重量%以上之(甲基)丙烯酸烷酯(a1)、3~25重量%之含芳香環(甲基)丙烯酸酯(a2)、5~35重量%之含N-乙烯基之內醯胺系單體(a3)及0.01~7重量%之含羥基單體(a4)以作為單體單元。
前述光學薄膜用黏著劑組成物中，前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)進一步可含有2重量%以下之含羧基單體(a5)作為單體單元。
在前述光學薄膜用黏著劑組成物中，前述含羥基單體(a4)宜為(甲基)丙烯酸-4-羥丁酯。
前述交聯劑(B)宜含有選自異氰酸酯系化合物及過氧化物中任意至少1種。前述異氰酸酯系化合物宜含有脂肪族聚異氰酸酯系化合物。
前述光學薄膜用黏著劑組成物可進一步含有矽烷耦合劑(C)。相對於100重量份之前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)，前述矽烷耦合劑(C)宜含0.001~5重量份。
前述光學薄膜用黏著劑組成物可進一步含有離子性化合物(D)。前述離子性化合物(D)宜為鹼金屬鹽及/或有機陽離子-陰離子鹽。又，前述離子性化合物(D)宜含有含氟基陰離子。相對於100重量份之前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)，前述離子性化合物(D)宜含0.05~10重量份。
再者本發明是有關於一種光學薄膜用黏著劑層，特徵在於其是利用前述光學薄膜用黏著劑組成物所形成。前述光學薄膜用黏著劑層之凝膠分率宜超過70重量%。
再者本發明是有關於一種附黏著劑層之光學薄膜，特徵在於其係於光學薄膜之至少單側形成有前述光學薄膜用黏著劑層。
再者本發明是有關於一種影像顯示裝置，特徵在於使用了至少1層前述附黏著劑層之光學薄膜。 發明效果
本發明之光學薄膜用黏著劑組成物係含有(甲基)丙烯酸系聚合物(A)作為基底聚合物，該(甲基)丙烯酸系聚合物(A)係以預定量之單體單元比率含有含芳香環(甲基)丙烯酸酯(a2)、含N-乙烯基之內醯胺系單體(a3)及含羥基單體(a4)。由含有該特定組成之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)及預定量交聯劑(B)的光學薄膜用黏著劑組成物所得之黏著劑層讓具有該黏著劑層的附黏著劑層之光學薄膜就算在加熱溫度為95℃之極嚴苛高溫條件的高溫耐久性試驗中，無論對玻璃及透明導電層(ITO層等)任一者皆不產生加濕白濁，耐久性良好，且能抑制在黏貼於液晶元件等之狀態下發生剝落及浮起等。尤其在前述黏著劑層的凝膠分率超過70重量%時，前述高溫耐久性良好。
一般而言，對ITO層等透明導電層的耐久性，也易受到ITO層之組成的影響，相較於高錫比率之結晶性ITO層，可以看到低錫比率之非晶性ITO層的耐久性有變差的傾向。得自光學薄膜用黏著劑組成物之黏著劑層可實現即便對非晶性ITO層也穩定之耐久性。又，具有本發明之黏著劑層的附黏著劑層之光學薄膜對透明導電層之耐金屬腐蝕性亦優異。在使用含羧基單體(a5)時亦可經由控制使用比率來滿足對透明導電層的耐金屬腐蝕性。
又，使用了附黏著劑層之偏光板等附黏著劑層之光學薄膜的液晶顯示裝置等影像顯示裝置，在加熱或加濕條件下時，有時在液晶面板等的周邊部會因周邊不均或角部不均等(泛白)而產生顯示不均，引起顯示不良，但本發明之黏著劑光學薄膜的黏著劑層因使用上述光學薄膜用黏著劑組成物，故可抑制顯示畫面周邊部分的漏光所造成之顯示不均。
又，藉由在本發明之光學薄膜用黏著劑組成物中摻混離子性化合物(D)，可賦予抗靜電機能。本發明之光學薄膜用黏著劑組成物因含有前述該特定組成之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)及預定量之交聯劑(B)，故在摻混了離子性化合物(D)的情況下，可形成能賦予穩定抗靜電機能的黏著劑層。
較佳實施例之詳細說明 本發明之光學薄膜用黏著劑組成物含有(甲基)丙烯酸系聚合物(A)作為基底聚合物。(甲基)丙烯酸系聚合物(A)通常含有單體單元之(甲基)丙烯酸烷酯作為主成分。再者，(甲基)丙烯酸酯是指丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯，本發明之(甲基)為相同意義。
作為構成(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之主骨架的(甲基)丙烯酸烷酯，可例示如直鏈狀或支鏈狀之烷基碳數為1~18之物。例如，作為前述烷基，可例示如甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、戊基、己基、環己基、庚基、2-乙基己基、異辛基、壬基、癸基、異癸基、十二基、異十四基、月桂基、十三基、十五基、十六基、十七基、十八基等。其等可單獨或組合使用。該等烷基的平均碳數宜為3~9。
在(甲基)丙烯酸系聚合物(A)中係使用含芳香環之(甲基)丙烯酸酯(a2)。含芳香環之(甲基)丙烯酸酯(a2)是在其結構中含有芳香環結構並含有(甲基)丙烯醯基的化合物。作為芳香環，可舉如苯環、萘環或聯苯環。含芳香環之(甲基)丙烯酸酯(a2)可滿足耐久性(特別是對透明導電層的耐久性)，且能改善周邊部之泛白所造成之顯示不均。
含芳香環之(甲基)丙烯酸酯(a2)的具體例可舉例如(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸苯酯、o-苯基酚(甲基)丙烯酸酯苯氧基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸苯氧乙酯、(甲基)丙烯酸苯氧丙酯、苯氧基二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、氧化乙烯改性壬基酚(甲基)丙烯酸酯、氧化乙烯改性甲酚(甲基)丙烯酸酯、酚乙烯氧化物改性(甲基)丙烯酸酯、2-羥基-3-苯氧基丙基(甲基)丙烯酸酯、甲氧基苄基(甲基)丙烯酸酯、氯苄基(甲基)丙烯酸酯、甲苯酚基(甲基)丙烯酸酯、聚苯乙烯基(甲基)丙烯酸酯等具有苯環之物；羥乙基化β-萘酚丙烯酸酯、2-萘基乙基(甲基)丙烯酸酯、2-萘氧基乙基丙烯酸酯、2-(4-甲氧基-1-萘氧基)乙基(甲基)丙烯酸酯等具有萘環之物；(甲基)丙烯酸聯苯酯等具有聯苯環之物。
作為前述含芳香環之(甲基)丙烯酸酯(a2)，從黏著特性及耐久性的點看來，以(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸苯氧乙酯為佳，尤以(甲基)丙烯酸苯氧乙酯為佳。
含N-乙烯基之內醯胺系單體(a3)，是含有內醯胺結構並在內醯胺結構中的氮上含有乙烯基等聚合性不飽和雙鍵的化合物。含N-乙烯基之內醯胺系單體(a3)的具體例可舉如N-乙基吡咯啶酮、N-乙基-ε-己內醯胺等。含N-乙烯基之內醯胺系單體(a3)在滿足高溫耐久性上是理想的，特別在滿足對透明導電層的高溫耐久性上尤為理想。
含羥基單體(a4)是在其結構中含有羥基並含有(甲基)丙烯醯基、乙烯基等聚合性不飽和雙鍵的化合物。作為含羥基單體(a4)的具體例，可舉例如(甲基)丙烯酸-2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸-3-羥丙酯、(甲基)丙烯酸-4-羥丁酯、(甲基)丙烯酸-6-羥己酯、(甲基)丙烯酸-8-羥辛酯、(甲基)丙烯酸-10-羥癸酯、(甲基)丙烯酸-12-羥月桂酯等(甲基)丙烯酸羥烷酯，或丙烯酸(4-羥甲基環己基)甲酯等。在前述含羥基單體(a4)中，從耐久性的點看來，以(甲基)丙烯酸-2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸-4-羥丁酯為佳，特別是以(甲基)丙烯酸-4-羥丁酯為佳。
含羥基單體(a4)在黏著劑組成物含有交聯劑的情形時，會成為與交聯劑的反應點。含羥基單體(a4)因與分子間交聯劑之反應性強之故，適合用於提高所得黏著劑層的凝集性及耐熱性。再者以重工性此點來看含羥基單體(a4)甚是理想。
(甲基)丙烯酸系聚合物(A)，在總構成單體(100重量%)之重量比率中含有預定量之作為單體單元的前述各單體。(甲基)丙烯酸烷酯(a1)之重量比率，可設定為(甲基)丙烯酸烷酯(a1)以外之單體的剩餘部分，具體而言為33重量%以上。(甲基)丙烯酸烷酯(a1)之重量比率，可在33~91.99重量%之範圍內調整。將(甲基)丙烯酸烷酯(a1)之重量比率設定在前述範圍內，在確保接著性上是理想的。
含芳香環之(甲基)丙烯酸酯(a2)的重量比率為3~25重量%，並以8~22重量%為佳，12~18重量%更佳。含芳香環之(甲基)丙烯酸酯(a2)的重量比率未滿3重量%時會無法充分抑制顯示不均。另一方面，一旦超過25重量%反而無法充分抑制顯示不均，耐久性也會降低。
含N-乙烯基之內醯胺系單體(a3)的重量比率為5~35重量%。前述重量比率，從對透明導電層的高溫耐久性觀點來看，係以8.5重量%以上為佳，進而以9重量%以上為佳，進而以10.5重量%以上為佳，進而以13重量%以上為佳。另一方面，前述重量比率一旦過高，對偏光薄膜等基材薄膜的錨定性就有降低的傾向，因此前述重量比率宜為30重量%以下，進而宜為25重量%以下。
含羥基單體(a4)之重量比率為0.01~7重量%，並宜為0.1~5重量%，進而宜為0.5~5重量%，進而宜為0.5~3重量%。含羥基單體(a4)之重量比率未滿0.01重量%時，黏著劑層會變得交聯不足，而無法滿足高溫耐久性及黏著特性。尤其在含N-乙烯基之內醯胺系單體(a3)的重量比率高的情形時，凝膠分率會有降低的傾向，而高溫試驗時變得容易發生加熱發泡現象。在使其受抑方面，宜將含羥基單體(a4)的重量比率設在0.5重量%以上。再者，含羥基單體(a4)的重量比率在其與含N-乙烯基之內醯胺系單體(a3)之重量比率的關係方面，前述重量比率之比值{(a4)/(a3)}係0.1以上為宜。另一方面，在超過7重量%時，無法滿足高溫耐久性。
在前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)中，除了前述單體單元之外，並沒有特別含有其他單體單元的必要，但以接著性及耐熱性之改善為目的時，可藉由共聚合來導入1種以上具有聚合性官能基的共聚合單體，該聚合性官能基具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等不飽和雙鍵。
前述共聚單體可舉如含羧基單體(a5)。含羧基單體(a5)是其構造中含有羧基，且含有(甲基)丙烯醯基、乙烯基等聚合性不飽和雙鍵的化合物。作為含羧基單體(a5)之具體例，可舉例如(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧乙酯、(甲基)丙烯酸羧戊酯、伊康酸、順丁烯二酸、延胡索酸、巴豆酸等。前述含羧基單體(a5)中，從共聚合性、價格及黏著特性的觀點看來以丙烯酸為佳。
在黏著劑組成物含有交聯劑的情形時，前述含羧基單體(a5)會與含羥基單體(a4)一起成為與交聯劑的反應點，而適合用於提高所得黏著劑層之凝集性及耐熱性。再者含羧基單體(a5)就兼顧高溫耐久性與再加工性此點而言是理想的。
(甲基)丙烯酸系聚合物(A)中前述含羧基單體(a5)的比率，在前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之總構成單體(100重量%)的重量比率中宜為2重量%以下。含羧基單體(a5)的重量比率在超過2重量%的情形時，就耐金屬腐蝕性此點而言並不適宜。再者從再加工性此點來看也不宜。前述含羧基單體(a5)的重量比率宜為0.01~2重量%，更宜為0.05~1.5重量%，更宜為0.1~1重量%，最宜為0.1~0.5重量%。
又，作為前述含羧基單體(a5)以外的共聚合單體具體例，可舉如順丁烯二酸酐、伊康酸酐等含酸酐基單體；丙烯酸之己內酯加成物；烯丙基磺酸、2-(甲基)丙烯醯胺-2-甲基丙磺酸、(甲基)丙烯醯胺丙磺酸、(甲基)丙烯酸磺基酯等含磺酸基單體；2-羥乙基丙烯醯基磷酸酯等含磷酸基單體等。
又，作為改質目的之單體例亦可舉如胺基乙基(甲基)丙烯酸酯、N,N-二甲基胺基乙基(甲基)丙烯酸酯、第三丁基胺基乙基(甲基)丙烯酸酯等烷基胺烷基(甲基)丙烯酸酯；甲氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、乙氧基乙基(甲基)丙烯酸酯等烷氧基烷基(甲基)丙烯酸酯；N-(甲基)丙烯醯氧基亞甲基琥珀醯亞胺或N-(甲基)丙烯醯基-6-氧基六亞甲基琥珀醯亞胺、N-(甲基)丙烯醯基-8-氧基八亞甲基琥珀醯亞胺等琥珀亞胺系單體；N-環己基馬來醯亞胺或N-異丙基馬來醯亞胺、N-月桂基馬來醯亞胺或N-苯基馬來醯亞胺等馬來亞胺系單體；N-甲基伊康醯亞胺、N-乙基伊康醯亞胺、N-丁基伊康醯亞胺、N-辛基伊康醯亞胺、N-2-乙基己基伊康醯亞胺、N-環己基伊康醯亞胺、N-月桂基伊康醯亞胺等伊康亞胺系單體等等。
再者作為改質單體亦可使用醋酸乙烯酯、丙酸乙烯酯等乙烯基系單體；丙烯腈，甲基丙烯腈等氰基丙烯酸酯系單體；環氧丙基(甲基)丙烯酸酯等含環氧基之(甲基)丙烯酸酯；聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯等二醇系(甲基)丙烯酸酯；四氫呋喃甲基(甲基)丙烯酸酯、氟化(甲基)丙烯酸酯、聚矽氧(甲基)丙烯酸酯或2-甲氧基乙基丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸酯單體等等。進一步可舉如異戊二烯、丁二烯、異丁烯、乙烯基醚等。
作為上述以外的可共聚合之單體，可進一步舉如含有矽原子的矽烷系單體等。作為矽烷系單體，可舉例如3-丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、4-乙烯基丁基三甲氧基矽烷、4-乙烯基丁基三乙氧基矽烷、8-乙烯基辛基三甲氧基矽烷、8-乙烯基辛基三乙氧基矽烷、10-氧癸基三甲氧基矽烷、10-丙烯醯氧癸基三甲氧基矽烷、10-甲基丙烯醯基氧癸基三乙氧基矽烷、10-丙烯醯氧癸基三乙氧基矽烷等。
又，作為共聚單體亦可使用三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A二環氧丙基醚二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己內酯改性二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸與多元醇的酯化物等具有2個以上(甲基)丙烯醯基、乙烯基等不飽和雙鍵的多官能性單體，或是在聚酯、環氧基、胺甲酸乙酯等骨架上加成了2個以上和單體成分相同官能基之(甲基)丙烯醯基、乙烯基等不飽和雙鍵而成的聚酯(甲基)丙烯酸酯、環氧基(甲基)丙烯酸酯、胺甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯等。
(甲基)丙烯酸系聚合物(A)中前述含羧基單體(a5)以外之共聚單體的比率，在前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)總構成單體(100重量%)的重量比率中，宜為0~10重量%左右，更宜為0~7重量%左右，更宜為0~5重量%左右。
本發明之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)通常重量平均分子量宜為100萬~250萬。若考慮到耐久性，特別是耐熱性，則重量平均分子量宜為120萬~200萬。重量平均分子量若小於100萬，則就耐熱性此點來看並不適宜。又，重量平均分子量一旦變得較250萬大時，黏著劑會有易於變硬的傾向，而變得容易發生剝落。又，表示分子量分布之重量平均分子量(Mw)/數量平均分子量(Mn)為1.8以上且10以下，又宜為1.8~7，更宜為1.8~5。分子量分布(Mw/Mn)超過10時，就耐久性此點而言並不適宜。此外，重量平均分子量、分子量分布(Mw/Mn)是依照GPC(凝膠滲透層析法)來測定，從利用聚苯乙烯換算所算出之值來求取。
如此之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)的製造，可適當選擇溶液聚合、塊狀聚合、乳化聚合、各種自由基聚合等公知的製造方法。又，所得(甲基)丙烯酸系聚合物(A)可為無規共聚物、嵌段共聚物、接枝共聚物等任一者。
此外，在溶液聚合中，作為聚合溶劑，可使用例如醋酸乙酯、甲苯等。作為具體的溶液聚合例，反應是在氮等惰性氣體氣流下添加聚合起始劑並於通常50~70℃左右、5~30小時左右的反應條件下進行。
自由基聚合所使用之聚合起始劑、鏈轉移劑、乳化劑等可無特別限定地適當選擇並使用。另外，(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之重量平均分子量可藉由聚合引發劑、鏈轉移劑的使用量及反應條件來控制，可因應其等之種類來適當調整其使用量。
作為聚合引發劑可舉例如：2, 2’-偶氮二異丁腈、2, 2’-偶氮二(2-甲脒基丙烷)二氫氯化物、2, 2’-偶氮二[2-(5-甲基-2-咪唑啉-2-基)丙烷]二氫氯化物、2, 2’-偶氮二(2-甲基丙脒)二硫酸鹽、2, 2’-偶氮二(N, N’-二亞甲基異丁基脒)、2, 2’-偶氮二[N-(2-羧乙基)-2-甲基丙脒]水合物(和光純藥公司製，VA-057)等之偶氮系引發劑；過硫酸鉀、過硫酸銨等之過硫酸鹽、二(2-乙基己基)過氧二碳酸酯、二(4-第三丁基環己基)過氧二碳酸酯、二第二丁基過氧二碳酸酯、第三丁基過氧新癸酸酯、第三己基過氧三甲基乙酸酯、第三丁基過氧三甲基乙酸酯、過氧化二月桂醯基、過氧化二正辛醯基、1, 1, 3, 3-四甲基丁基過氧基-2-乙基己酸酯、過氧化二(4-甲基苯甲醯基)、過氧化二苯甲醯基、第三丁基過氧基異丁酸酯、1, 1-二(第三己基過氧基)環己烷、第三丁基氫過氧化物、過氧化氫等之過氧化物系引發劑；過硫酸鹽與亞硫酸氫鈉的組合、過氧化物與抗壞血酸鈉的組合等將過氧化物與還原劑組合而得之氧化還原系起始劑等；但不受限於此。
前述聚合引發劑可單獨使用，亦可混合2種以上使用，但整體含量相對於100重量份之單體宜為0.005~1重量份左右，更宜為0.02~0.5重量份左右。
另舉例來說，使用諸如2,2’-偶氮二異丁腈作為聚合引發劑來製造前述重量平均分子量之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)時，聚合引發劑之使用量相對於100重量份之單體成分總量宜為0.06~0.2重量份左右，更宜0.08~0.175重量份左右。
作為鏈轉移劑，可舉例如月桂硫醇、環氧丙硫醇、巰醋酸、2-巰乙醇、硫代二醇酸、硫代乙醇酸-2-乙基己酯、2,3-二巰-1-丙醇等。鏈轉移劑可單獨使用亦可混合2種以上使用，但整體含量相對於100重量份之單體成分總量為0.1重量份左右以下。
又，作為用於乳化聚合時的乳化劑，可舉例如月桂基硫酸鈉、月桂基硫酸銨、十二基苯磺酸鈉、聚氧乙烯烷基醚硫酸銨、聚氧乙烯烷基苯基醚硫酸鈉等之陰離子系乳化劑、聚氧乙烯烷基醚、聚氧乙烯烷基苯基醚、聚氧乙烯脂肪酸酯、聚氧乙烯-聚氧丙烯嵌段聚合物等之非離子系乳化劑等。該等乳化劑可單獨使用亦可併用2種以上。
進一步就反應性乳化劑而言，導入有丙烯基、烯丙基醚基等自由基聚合性官能基之乳化劑可具體舉例如Aqualon HS-10、HS-20、KH-10、BC-05、BC-10、BC-20(以上皆為第一工業製藥公司製)、Adeka Reasoap SE10N(旭電化工公司製)等。由於反應性乳化劑會在聚合後被納入聚合物鏈中，故耐水性變佳而甚是理想。乳化劑之使用量相對於100重量份之單體成分總量為0.3~5重量份，從聚合安定性及機械安定性之觀點來看，0.5~1重量份更佳。
本發明之黏著劑組成物，含有交聯劑(B)。作為交聯劑(B)，可使用有機系交聯劑及多官能性金屬螯合物。有機系交聯劑可舉如異氰酸酯系交聯劑、過氧化物系交聯劑、環氧系交聯劑、亞胺系交聯劑等。多官能性金屬螯合物是多價金屬與有機化合物呈共價鍵結或配位鍵結之物。多價金屬原子可舉如Al、Cr、Zr、Co、Cu、Fe、Ni、V、Zn、In、Ca、Mg、Mn、Y、Ce、Sr、Ba、Mo、La、Sn、Ti等。有機化合物中進行共價鍵結或配位鍵結之原子可列舉如氧原子等，有機化合物則可列舉如烷酯類、醇類化合物、羧酸化合物、醚類化合物、酮類化合物等。
作為交聯劑(B)，以異氰酸酯系交聯劑及/或過氧化物系交聯劑為佳。
作為異氰酸酯系交聯劑(B)，可使用具有至少2個異氰酸酯基之化合物。例如，一般會使用胺甲酸酯化反應所用之公知的脂肪族聚異氰酸酯、脂環族聚異氰酸酯、芳香族聚異氰酸酯等。
作為脂肪族聚異氰酸酯，可舉例如三亞甲基二異氰酸酯、四亞甲基二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯、五亞甲基二異氰酸酯、1,2-伸丙基二異氰酸酯、1,3-伸丁基二異氰酸酯、十二亞甲基二異氰酸酯、2,4,4-三甲基六亞甲基二異氰酸酯等。
作為脂環族異氰酸酯，可舉例如1,3-環戊烯二異氰酸酯、1,3-環己烷二異氰酸酯、1,4-環己烷二異氰酸酯、異佛酮二異氰酸酯、氫化二苯基甲烷二異氰酸酯、氫化苯二甲基二異氰酸酯、氫化伸甲苯基二異氰酸酯氫化四甲基苯二甲基二異氰酸酯等。
作為芳香族二異氰酸酯，可舉例如伸苯基二異氰酸酯、2,4-伸甲苯基二異氰酸酯、2,6-伸甲苯基二異氰酸酯、2,2’-二苯基甲烷二異氰酸酯、4,4’-二苯基甲烷二異氰酸酯、4,4’-甲苯胺二異氰酸酯、4,4’-二苯基醚二異氰酸酯、4,4’-二苯基二異氰酸酯、1,5-萘二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯等。
又，作為異氰酸酯系交聯劑(B)，可列舉如上述二異氰酸酯的多聚物(2聚物、3聚物、5聚物等)、三羥甲基丙烷等與多元醇反應而得之胺甲酸酯改質物、脲改質物、雙脲改質物、脲甲酸鹽改質物、異三聚氰酸鹽改質物、碳二醯亞胺改質物等。
作為異氰酸酯系交聯劑(B)的市售品可舉例如商品名「Millionate MT」「Millionate MTL」「Millionate MR-200」「Millionate  MR-400」「CORONATE L」「CORONATE HL」「CORONATE HX」［以上為日本聚胺酯工業公司製］；商品名「Takenate D-110N」「Takenate D-120N」「Takenate D-140N」「Takenate D-160N」「Takenate D-165N」「Takenate D-170HN」「Takenate D-178N」「Takenate 500」「Takenate 600」［以上為三井化學公司製］；等等。該等化合物可單獨使用，或將2種以上混合使用。
作為異氰酸酯系交聯劑(B)，宜為脂肪族聚異氰酸酯及其改質物之脂肪族聚異氰酸酯系化合物。脂肪族聚異氰酸酯系化合物，相較於其它的異氰酸酯系交聯劑，其交聯構造柔軟性佳，易緩和光學薄膜的膨張/收縮所伴隨的應力，在耐久性試驗不易發生剝落。作為脂肪族聚異氰酸酯系化合物，尤以六亞甲基二異氰酸酯及其改質物為佳。
作為過氧化物，只要是經加熱或光照射會產生自由基活性種而使黏著劑組成物之基底聚合物進行交聯者即可適當使用，但考慮到作業性及穩定性，宜使用1分鐘半衰期溫度在80℃~160℃之過氧化物，且較宜使用在90℃~140℃之過氧化物。
可用的過氧化物可舉如：二(2-乙基己基)過氧二碳酸酯(1分鐘半衰期溫度：90.6℃)、二(4-第三丁基環己基)過氧二碳酸酯(1分鐘半衰期溫度：92.1℃)、過氧二碳酸二第二丁酯(1分鐘半衰期溫度：92.4℃)、過氧新癸酸第三丁酯(1分鐘半衰期溫度：103.5℃)、過氧異丁酸第三己酯(1分鐘半衰期溫度：109.1℃)、過氧異丁酸第三丁酯(1分鐘半衰期溫度：110.3℃)、二月桂醯基過氧化物(1分鐘半衰期溫度：116.4℃)、二正辛醯基過氧化物(1分鐘半衰期溫度：117.4℃)、1,1,3,3-四甲基丁基過氧-2-乙基己酸酯(1分鐘半衰期溫度：124.3℃)、二(4-甲基苄醯基)過氧化物(1分鐘半衰期溫度：128.2℃)、二苯甲醯過氧化物(1分鐘半衰期溫度：130.0℃)、第三丁基過氧異丁酸酯(1分鐘半衰期溫度：136.1℃)、1,1-二(第三己基過氧)環己烷(1分鐘半衰期溫度：149.2℃)等。其中，從交聯反應效率優異之觀點來看，尤以二(4-第三丁基環己基)過氧二碳酸酯(1分鐘半衰期溫度：92.1℃)、過氧化二月桂醯基(1分鐘半衰期溫度：116.4℃)、過氧化二苯甲醯基(1分鐘半衰期溫度：130.0℃)等適於使用。
此外，過氧化物之半衰期係表示過氧化物之分解速度的指標，意指過氧化物之殘存量變成一半為止的時間。有關用以在任意時間達半衰期的分解溫度、及在任意溫度下的半衰期時間等，係記載於製造商目錄等之中，例如記載於日本油脂股份公司的「有機過氧化物型錄第9版(2003年5月)」等。
相對於100重量份之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)，交聯劑(B)的使用量宜為0.01~3重量份，更宜為0.02~2重量份，進一步宜為0.03~1重量份。再者，交聯劑(B)未滿0.01重量份時，黏著劑層會變得交聯不足，而有無法滿足耐久性及黏著特性之虞，另一方面，若多於3重量份，黏著劑層就會變得太硬而可看到耐久性降低的傾向。
上述異氰酸酯系交聯劑可單獨使用1種，亦可將2種以上混合使用，但整體含量宜相對於前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份含有前述異氰酸酯系交聯劑0.01~2重量份，較宜含有 0.02~2重量份，更宜含有0.05~1.5重量份。可考量凝集力、防止耐久性試驗中的剝離等而適當含有。
前述過氧化物可單獨使用1種，亦可將2種以上混合使用，但整體含量是相對於100重量份之前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)，前述過氧化物為0.01~2重量份，並宜為含有0.04~1.5重量份，更宜為含有0.05~1重量份。為了調整加工性、再加工性、交聯穩定性、剝離性等，宜在此範圍內適當選擇。
此外，反應處理後殘存之過氧化物分解量之測定方法，舉例來說可利用HPLC(高速液體層析法)來進行測定。
更具體而言，例如，每次取出約0.2g的反應處理後黏著劑組成物，浸漬於醋酸乙酯10mL中，以振動機在25℃下、120rpm進行3小時振動萃取後，在室溫下靜置3天。接著，加入10mL乙腈，在25℃下以120rpm振動30分鐘，將利用膜過濾器(0.45μm)過濾所獲得之萃取液約10μL注入HPLC進行分析，可視為反應處理後之過氧化物量。
在本發明之黏著劑組成物中，可含有矽烷耦合劑(C)。藉由使用矽烷耦合劑(C)，可提高耐久性。作為矽烷耦合劑，具體而言，可舉例如：3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、2-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷等含環氧基之矽烷耦合劑；3-胺丙基三甲氧基矽烷、N-2-(胺乙基)-3-胺丙基甲基二甲氧基矽烷、3-三乙氧基矽烷-N-(1,3-二甲基亞丁基)丙基胺、N-苯基-γ-胺丙基三甲氧基矽烷等含胺基之矽烷耦合劑；3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧丙基三乙氧基矽烷等含(甲基)丙烯基之矽烷耦合劑；3-異氰酸酯丙基三乙氧基矽烷等含異氰酸酯基之矽烷耦合劑等。作為前述例示之矽烷耦合劑，以含環氧基的矽烷耦合劑為佳。
又，作為矽烷耦合劑(C)，可使用分子內有多個烷氧矽基的化合物。具體而言可舉例如信越化學公司製X-41-1053、X-41-1059A、X-41-1056、X-41-1805、X-41-1818、X-41-1810、X-40-2651等。該等分子內具有多個烷氧矽基的矽烷耦合劑由於不易揮發並有多個烷氧矽基所以在提升耐久性方面很有效果甚為理想。特別是，附黏著劑層之光學薄膜的被貼附物即便是與玻璃相比烷氧矽基較不易起反應的透明導電層(例如ITO等)時，其耐久性亦佳。又，在分子內具有多個烷氧矽基的矽烷耦合劑，宜為在分子內具有環氧基者，環氧基在分子內以含有多個為更佳。分子內有多個烷氧矽基並有環氧基的矽烷耦合劑，即便在被貼附物為透明導電層(例如，ITO等)的情況，亦有耐久性良好之傾向。分子內有多個烷氧矽基並有環氧基的矽烷耦合劑之具體例，可舉如信越化學公司製X-41-1053、X-41-1059A、X-41-1056，尤以環氧基含量高的信越化學公司製X-41-1056為佳。
前述矽烷耦合劑(C)可單獨使用，亦可將2種以上混合使用，但整體含量上，相對於100重量份之前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)，前述矽烷耦合劑宜為0.001~5重量份，較宜為0.01~1重量份，更宜為0.02~1重量份，進一步更以0.05~0.6重量份為佳。此為提高耐久性並適度地保持對玻璃及透明導電層之接著力的量。
本發明之黏著劑組成物，可含有離子性化合物(D)。離子性化合物(D)可適於使用鹼金屬鹽及/或有機陽離子-陰離子鹽。鹼金屬鹽可使用鹼金屬之有機鹽及無機鹽。另，本發明中所謂的「有機陽離子-陰離子鹽」係指：為有機鹽且其陽離子部分係由有機物所構成之物，陰離子部分可為有機物亦可為無機物。「有機陽離子-陰離子鹽」亦稱為離子性液體、離子性固體。
＜鹼金屬鹽＞ 構成鹼金屬鹽之陽離子部分的鹼金屬離子可列舉如鋰、鈉、鉀之各離子。該等鹼金屬離子之中以鋰離子為佳。
鹼金屬鹽之陰離子部分可以有機物構成，亦可以無機物構成。構成有機鹽之陰離子部分可使用例如CH3 COO－ 、CF3 COO－ 、CH3 SO3 － 、CF3 SO3 － 、(CF3 SO2 )3 C－ 、C4 F9 SO3 － 、C3 F7 COO－ 、(CF3 SO2 )(CF3 CO)N－ 、－ O3 S(CF2 )3 SO3 － 、PF6 － 、CO3 2 － 及以下述通式(1)至(4)表示者等等： (1)：(Cn F2n ＋1 SO2 )2 N－ (惟n為1~10的整數)， (2)：CF2 (Cm F2m SO2 )2 N－ (惟m為1~10的整數)， (3)：－ O3 S(CF2 )l SO3 － (惟l為1~10的整數)， (4)：(Cp F2p ＋1 SO2 )N－ (Cq F2q ＋1 SO2 )，(惟p、q為1~10的整數)。特別是含氟原子之陰離子部分由於可獲得離子解離性良好的離子化合物故適於使用。構成無機鹽之陰離子部分可用Cl－ 、Br－ 、I－- 、AlCl4 － 、Al2 Cl7 － 、BF4 － 、PF6 － 、ClO4 － 、NO3 － 、AsF6 － 、SbF6 － 、NbF6 － 、TaF6 － 、(CN)2 N－ 等。陰離子部分宜為(CF3 SO2 )2 N－ 、(C2 F5 SO2 )2 N－ 等前述通式(1)所示(全氟烷基磺醯基)亞胺基，尤以(CF3 SO2 )2 N－ 所示(三氟甲磺醯基)亞胺基為宜。
鹼金屬之有機鹽具體上可舉如醋酸鈉、海藻酸鈉、木質磺酸鈉、甲苯磺酸鈉、LiCF3 SO3 、Li(CF3 SO2 )2 N、Li(CF3 SO2 )2 N、Li(C2 F5 SO2 )2 N、Li(C4 F9 SO2 )2 N、Li(CF3 SO2 )3 C、KO3 S(CF2 )3 SO3 K、LiO3 S(CF2 )3 SO3 K等，其等之中以LiCF3 SO3 、Li(CF3 SO2 )2 N、Li(C2 F5 SO2 )2 N、Li(C4 F9 SO2 )2 N、Li(CF3 SO2 )3 C等為佳，而Li(CF3 SO2 )2 N、Li(C2 F5 SO2 )2 N、Li(C4 F9 SO2 )2 N等含氟之鋰醯亞胺鹽較佳，(全氟烷基磺醯基)醯亞胺鋰鹽尤佳。
此外，鹼金屬無機鹽可列舉如過氯酸鋰、碘化鋰。
＜有機陽離子-陰離子鹽＞ 本發明所用之有機陽離子-陰離子鹽係由陽離子成分與陰離子成分構成，且前述陽離子成分為有機物所構成之物。作為陽離子成分，具體而言可舉如吡啶陽離子、哌啶陽離子、吡咯啶陽離子、具二氫吡咯骨架的陽離子、具吡咯骨架的陽離子、咪唑陽離子、四氫嘧啶陽離子、二氫嘧啶陽離子、吡唑陽離子、吡唑啉陽離子、四烷基銨陽離子、三烷基鋶陽離子、四烷基鏻陽離子等。
作為陰離子成分可使用例如Cl－ 、Br－ 、I－ 、AlCl4 － 、Al2 Cl7 － 、BF4 － 、PF6 － 、ClO4 － 、NO3 － 、CH3 COO－ 、CF3 COO－ 、CH3 SO3 － 、CF3 SO3 － 、(CF3 SO2 )3 C－ 、AsF6 － 、SbF6 － 、NbF6 － 、TaF6 － 、(CN)2 N－ 、C4 F9 SO3 － 、C3 F7 COO－ 、((CF3 SO2 )(CF3 CO)N－ 、－ O3 S(CF2 )3 SO3 － 及下述一般式(1)至(4)所示者等： (1)：(Cn F2n ＋1 SO2 )2 N－ (惟n為1~10的整數)， (2)：CF2 (Cm F2m SO2 )2 N－ (惟m為1~10的整數)， (3)：－ O3 S(CF2 )l SO3 － (惟l為1~10的整數)， (4)：(Cp F2p ＋1 SO2 )N－ (Cq F2q ＋1 SO2 )，(惟p、q為1~10的整數)。其中特別是含氟原子之陰離子成分因可獲得離子解離性良好的離子化合物故適於使用。
就有機陽離子-陰離子鹽之具體例而言，可適當選擇使用由上述陽離子成分與陰離子成分組合而成之化合物。 可舉例如1-丁基吡啶鎓四氟硼酸鹽、1-丁基吡啶鎓六氟磷酸鹽、1-丁基-3-甲基吡啶鎓四氟硼酸鹽、1-丁基-3-甲基吡啶鎓三氟甲磺酸鹽、1-丁基-3-甲基吡啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-丁基-3-甲基吡啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-己基吡啶鎓四氟硼酸鹽、2-甲基-1-二氫吡咯四氟硼酸鹽、1-乙基-2-苯基吲哚四氟硼酸鹽、1,2-二甲基吲哚四氟硼酸鹽、1-乙基咔唑四氟硼酸鹽、1-乙基-3-甲基咪唑啶鎓四氟硼酸鹽、1-乙基-3-甲基咪唑啶鎓乙酸酯、1-乙基-3-甲基咪唑啶鎓三氟乙酸酯、1-乙基-3-甲基咪唑啶鎓七氟丁酸鹽、1-乙基-3-甲基咪唑啶鎓三氟甲磺酸鹽、1-乙基-3-甲基咪唑啶鎓全氟丁磺酸鹽、1-乙基-3-甲基咪唑啶鎓二氰醯胺、1-乙基-3-甲基咪唑啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-3-甲基咪唑啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-3-甲基咪唑啶鎓三(三氟甲磺醯基)甲基化物、1-丁基-3-甲基咪唑啶鎓四氟硼酸鹽、1-丁基-3-甲基咪唑啶鎓六氟磷酸鹽、1-丁基-3-甲基咪唑啶鎓三氟乙酸酯、1-丁基-3-甲基咪唑啶鎓七氟丁酸鹽、1-丁基-3-甲基咪唑啶鎓三氟甲磺酸鹽、1-丁基-3-甲基咪唑啶鎓全氟丁磺酸鹽、1-丁基-3-甲基咪唑啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、溴化1-己基-3-甲基咪唑啶鎓、氯化1-己基-3-甲基咪唑啶鎓、1-己基-3-甲基咪唑啶鎓四氟硼酸鹽、1-己基-3-甲基咪唑啶鎓六氟磷酸鹽、1-己基-3-甲基咪唑啶鎓三氟甲磺酸鹽、1-辛基-3-甲基咪唑啶鎓四氟硼酸鹽、1-辛基-3-甲基咪唑啶鎓六氟磷酸鹽、1-己基-2,3-二甲基咪唑啶鎓四氟硼酸鹽、1,2-二甲基-3-丙基咪唑啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基吡唑鎓四氟硼酸鹽、3-甲基吡唑鎓四氟硼酸鹽、四己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、二烯丙基二甲基銨四氟硼酸鹽、二烯丙基二甲基銨三氟甲磺酸鹽、二烯丙基二甲基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、二烯丙基二甲基銨雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、N,N-二乙基-N-甲基-N-(2-甲氧基乙基)銨四氟硼酸鹽、N,N-二乙基-N-甲基-N-(2-甲氧基乙基)銨三氟甲磺酸鹽、N,N-二乙基-N-甲基-N-(2-甲氧基乙基)銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二乙基-N-甲基-N-(2-甲氧基乙基)銨雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、環氧丙基三甲基銨三氟甲磺酸鹽、環氧丙基三甲基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、環氧丙基三甲基銨雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-丁基吡啶鎓(三氟甲磺醯基)三氟乙醯胺、1-丁基-3-甲基吡啶鎓(三氟甲磺醯基)三氟乙醯胺、1-乙基-3-甲基咪唑啶鎓(三氟甲磺醯基)三氟乙醯胺、N,N-二乙基-N-甲基-N-(2-甲氧基乙基)銨(三氟甲磺醯基)三氟乙醯胺、二烯丙基二甲基銨(三氟甲磺醯基)三氟乙醯胺、環氧丙基三甲基銨(三氟甲磺醯基)三氟乙醯胺、N,N-二甲基-N-乙基-N-丙基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-乙基-N-丁基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-乙基-N-戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-乙基-N-己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-乙基-N-庚基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-乙基-N-壬基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N,N-二丙基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丙基-N-丁基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丙基-N-戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丙基-N-己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丙基-N-庚基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丁基-N-己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丁基-N-庚基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-戊基-N-己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N,N-二己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三甲基庚基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二乙基-N-甲基-N-丙基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二乙基-N-甲基-N-戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二乙基-N-甲基-N-庚基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二乙基-N-丙基-N-戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三乙基丙基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三乙基戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三乙基庚基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二丙基-N-甲基-N-乙基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二丙基-N-甲基-N-戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二丙基-N-丁基-N-己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二丙基-N,N-二己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二丁基-N-甲基-N-戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二丁基-N-甲基-N-己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三辛基甲基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N-甲基-N-乙基-N-丙基-N-戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-丁基-3甲基吡啶-1-鎓三氟甲磺酸鹽等。作為該等之市售品、可使用例如「CIL-314」(日本Carlit公司製)、「ILA2-1」(廣榮化學公司製)等。 又，可舉例如，四甲基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三甲基乙基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三甲基丁基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三甲基戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三甲基庚基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三甲基辛基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、四乙基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三乙基丁基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、四丁基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、四己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺等。 又可舉例如1-二甲基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-乙基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丙基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丁基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-戊基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-己基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-庚基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丙基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丁基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-戊基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-己基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-庚基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1,1-二丙基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-丙基-1-丁基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1,1-二丁基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-丙基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-戊基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1,1-二甲基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-乙基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1―丙基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丁基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-戊基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-己基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-庚基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丙基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丁基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-戊基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-己基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1―乙基-1-庚基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1,1-二丙基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-丙基-1-丁基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1,1-二丁基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1,1-二甲基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-乙基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丙基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1―丁基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-戊基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-己基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1―庚基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丙基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丁基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-戊基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-己基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-庚基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1,1-二丙基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1―丙基-1-丁基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1,1-二丁基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-丙基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-戊基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1,1-二甲基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基‐1-乙基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丙基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丁基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-戊基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-己基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-庚基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丙基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-庚基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺,1-乙基-1-戊基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-己基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-庚基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-丙基-1-丁基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1,1-二丙基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1,1―二丁基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺等。 又，又可舉如使用了下述陽離子取代上述化合物中陽離子成分而成的化合物：三甲基鋶陽離子、三乙基鋶陽離子、三丁基鋶陽離子、三己基鋶陽離子、二乙基甲基鋶陽離子、二丁基乙基鋶陽離子、二甲基癸基鋶陽離子、四甲基鏻陽離子、四乙基鏻陽離子、四丁基鏻陽離子、四己基鏻陽離子的化合物等。 又，可舉如使用了下述陰離子來取代上述雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺而成的化合物：雙(五氟磺醯基)醯亞胺、雙(七氟丙磺醯基)醯亞胺、雙(九氟丁磺醯基)醯亞胺、三氟甲磺醯基九氟丁磺醯基醯亞胺、七氟丙磺醯基三氟甲磺醯基醯亞胺、五氟乙磺醯基九氟丁磺醯基醯亞胺、環-六氟丙烷-1,3-雙(磺醯基)醯亞胺陰離子等。
此外，離子性化合物(D)除了前述鹼金屬鹽、有機陽離子-陰離子鹽之外，尚可列舉如氯化銨、氯化鋁、氯化銅、氯化亞鐵、氯化鐵、硫酸銨等之無機鹽。該等離子性化合物(D)可單獨或併用多種。
本發明之黏著劑組成物中離子性化合物(D)的比例，宜相對於100重量份(甲基)丙烯酸系聚合物(A)為0.05~10重量份。前述離子性化合物(D)未滿0.05重量份時會有抗靜電性能提升效果不足的情況。前述離子性化合物(D)宜為0.1重量份以上，更宜為0.5重量份以上。另一方面，前述離子性化合物(D)若多於10重量份，會有耐久性變得不足的情況。前述離子性化合物(D)，宜為5重量份以下，較宜為3重量份以下，更宜為1重量份以下。前述離子性化合物(D)之比例可採用前述上限值或下限值來設定理想範圍。
在本發明之黏著劑組成物中，可摻混具有反應性矽基的聚醚化合物(E)。聚醚化合物(E)因可提高再加工性而為佳。聚醚化合物(E)可使用例如日本專利公開案第2010-275522號公報中所揭示者。
具有反應性矽基的聚醚化合物(E)，係具有聚醚骨架，且至少在1末端有下述通式(1)所示之反應性矽基：-SiRa M3 －a (式中R為可具有取代基之碳數1~20之1價有機基，M為羥基或水解基，a為0~2之整數。R存在多個時多個R彼此可為相同亦可不同，M存在多個時多個M彼此可為相同亦可不同。)。
作為具有前述反應性矽基之聚醚化合物(E)，可舉如下列所示之化合物： 通式(2)：Ra M3-a Si-X-Y-(AO)n -Z (式中R為可具有取代基之碳數1~20的1價有機基，M為羥基或水解基，a為0~2之整數。惟，R存在多個時多個R彼此可為相同亦可不同，M存在多個時多個M彼此可為相同亦可不同。AO表示直鏈或支鏈之碳數1~10之氧伸烷基，n為1~1700，表示氧伸烷基的平均加成莫耳數。X表示碳數1~20之直鏈或支鏈的伸烷基。Y表示醚鍵、酯鍵、胺甲酸酯鍵、或碳酸酯鍵。 Z為氫原子、1價之碳數1~10的烴基及下列通式(2A)或通式(2B)所示之基： 一般式(2A)：-Y1 -X-SiRa M3-a (式中R、M、X與前述相同。Y1 表示單鍵、-CO-鍵、-CONH-鍵或-COO-鍵。)，或者， 一般式(2B)：-Q｛-(OA)n -Y-X-SiRa M3-a ｝m (式中，R、M、X、Y與前述相同。OA同於前述之AO，n與前述相同。Q為2價以上之碳數1~10的烴基，m與該烴基之價數相同。)。)
作為具有反應性矽基之聚醚化合物(E)的具體例，可舉例如Kanek公司製的MS聚合物 S203、S303、S810；SILYL EST250、EST280；SAT10、SAT200、SAT220、SAT350、SAT400、旭硝子公司製的EXCESTAR S2410、S2420或S3430等。
本發明之黏著劑組成物中聚醚化合物(E)的比例，宜相對於100重量份之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)為0.001~10重量份。前述聚醚化合物(E)未滿0.001重量份時，其再加工性之提高效果有時會不足。前述聚醚化合物(E)宜為0.01重量份以上，進一步宜為0.1重量份以上。另一方面，前述聚醚化合物(E)若較10重量份多，則在耐久性上就會不佳。前述聚醚化合物(E)宜在5重量份以下，更宜為2重量份以下。前述聚醚化合物(E)的比例，可採用前述上限値或下限値來設定理想範圍。
再者在本發明之黏著劑組成物中，亦可含有其他的公知添加劑，例如，可視使用用途適當添加聚丙二醇等聚伸烷基二醇的聚醚化合物、著色劑、顔料等粉體、染料、界面活性劑、塑化劑、增黏劑、表面潤滑劑、均染劑、軟化劑、抗氧化劑、抗老化劑、光穩定劑、紫外線吸收劑、聚合抑制劑、無機或有機的充填劑、金屬粉、粒子狀、箔狀物等。此外，在可控制之範圍內，也可採用添加還原劑之氧化還原系統。該等添加劑宜以相對於100重量份之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)為5重量份以下的範圍來使用，進而為3重量份以下、進而為1重量份以下。
利用前述黏著劑組成物來形成黏著劑層，在形成黏著劑層時，宜調整交聯劑整體的添加量，並充分考慮交聯處理溫度及交聯處理時間之影響。
利用所使用的交聯劑，可調整交聯處理溫度及交聯處理時間。交聯處理溫度宜為170℃以下。
又，該交聯處理可在黏著劑層之乾燥步驟時的溫度下進行，亦可在乾燥步驟後另設交聯處理步驟來進行。
又，關於交聯處理時間，可考慮生產性及作業性來做設定，但通常為0.2~20分鐘左右，且以0.5~10分鐘左右為佳。
上述交聯係經控制以使前述黏著劑層的凝膠分率在通常50重量%以上，但從高溫耐久性的觀點來看，前述黏著劑層的凝膠分率宜控制在超過70重量%。前述凝膠分率係75重量%為佳，進而80重量%以上為佳。另一方面，凝膠分率一旦變得過高，耐久性試驗中就會容易發生剝落，所以凝膠分率係98重量%以下為佳，進而95重量%以下為佳。
本發明之附黏著劑層光學薄膜等附黏著劑層之光學構件，是在光學薄膜至少單面上利用前述黏著劑組成物形成有黏著劑層者。
就形成黏著劑層之方法而言，例如可藉由下述方法來製作：將前述黏著劑組成物塗佈於經剝離處理的分離件等上，乾燥去除聚合溶劑等而形成了黏著劑層後，轉印至光學薄膜的方法；或將前述黏著劑組成物塗佈於光學薄膜，乾燥去除聚合溶劑等而於光學薄膜上形成黏著劑層的方法等。此外，在塗佈黏著劑時，亦可適當增添聚合溶劑以外的一種以上溶劑。
經剝離處理之分離件，宜使用聚矽氧剝離襯材。於此種襯材上塗佈本發明之接著劑組成物並使其乾燥而形成黏著劑層的步驟中，作為使黏著劑乾燥之方法可視目的而採用適宜且適切的方法。理想的是採用將上述塗佈膜加熱乾燥的方法。加熱乾燥溫度宜為40℃~200℃，更佳為50℃~180℃，尤佳為70℃~170℃。可藉由將加熱溫度設成上述範圍，而獲得具有優異黏著特性的黏著劑。
乾燥時間可採用適宜且適切的時間。上述乾燥時間宜為5秒~20分，更佳為5秒~10分，尤佳為10秒~5分。
又，在光學薄膜的表面，可形成錨定層，也可在施予電暈處理、電漿處理等各種易接著處理後形成黏著劑層。又，亦可在黏著劑層的表面進行易接著處理。
黏著劑層之形成方法可使用各種方法。具體而言，可舉例如輥塗佈、接觸輥塗佈、凹版塗佈、逆塗佈、輥刷、噴塗佈、浸漬輥塗佈、棒塗佈、刮刀塗佈、空氣刮刀塗佈、簾塗佈、唇塗佈、利用模塗佈機等的擠壓式塗佈法等方法。
黏著劑層的厚度並無特別限制，例如1~100μm左右。宜為2~50μm，較佳為2~40μm，更佳為5~35μm。
前述黏著劑層露出時，在供實用前，亦可用經剝離處理之片材(分離件)來保護黏著劑層。
作為分離件的構成材料，可舉例如聚乙烯、聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚酯薄膜等塑膠薄膜，紙、布、不織布等多孔質材料、網子、發泡片材、金屬箔及其等之積層體等適當的薄片物等等，但從表面平滑性優良此點來看，適於使用塑膠薄膜。
就其塑膠薄膜方面，只要是能夠保護前述黏著劑層的薄膜即無特別限定，可舉例如聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、聚丁烯薄膜、聚丁二烯薄膜、聚甲基戊烯薄膜、聚氯乙烯薄膜、氯乙烯共聚物薄膜、聚對苯二甲酸乙二酯薄膜、聚對苯二甲酸丁二酯薄膜、聚胺甲酸乙酯薄膜、乙烯-醋酸乙烯酯共聚物薄膜等。
前述分離件的厚度一般為5~200μm，宜為5~100μm左右。在前述分離件上，亦可視需要利用矽氧系、氟系、長鏈烷基系或者脂肪酸醯胺系之離型劑、矽石粉等作離型及防污處理，或進行塗佈型、捏合型、蒸鍍型等抗靜電處理。尤其，藉由對前述分離件之表面適當實施聚矽氧處理、長鏈烷基處理、氟處理等剝離處理，可更為提高自前述黏著劑層之剝離性。
再者，在上述之附黏著劑層之光學薄膜的製作中所使用之經剝離處理的片材，可直接作為附黏著劑層之光學薄膜的分離件使用，而可工程面上簡略化。
作為光學薄膜，係使用可用於形成液晶顯示裝置等影像顯示裝置之物，其種類並無特別限制。例如，作為光學薄膜可舉如偏光薄膜。偏光薄膜一般使用的是在偏光件的單面或兩面具有透明保護薄膜者。
偏光件並無特別限定，可使用各種偏光件。作為偏光件，可舉如使聚乙烯醇系薄膜、部分縮甲醛化聚乙烯醇系薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化薄膜等親水性高分子薄膜吸附碘或二色性染料等二色性材料並加以單軸延伸者，以及聚乙烯醇之脫水處理物或聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等聚烯系配向薄膜等。其等之中尤其以由聚乙烯醇系薄膜與碘等雙色性物質所構成之偏光件為佳。該等偏光件的厚度雖無特別限制，但一般在80μm左右以下。
將聚乙烯醇系薄膜以碘染色並單軸延伸而成的偏光件，係例如可藉由將聚乙烯醇系薄膜浸漬於碘水溶液來染色並將其延伸成原長之3~7倍而製成。亦可視需要浸漬於可含有硼酸或硫酸鋅、氯化鋅等之碘化鉀等的水溶液中。進一步亦可視需要在染色前將聚乙烯醇系薄膜浸漬於水中進行水洗。藉由水洗聚乙烯醇系薄膜，可洗淨聚乙烯醇系薄膜表面的污垢及抗結塊劑，除此之外也有使聚乙烯醇系薄膜膨潤從而防止染色參差等不均的效果。延伸可於以碘染色後進行，亦可一邊染色並一邊延伸，又亦可於延伸後以碘染色。亦可在硼酸及碘化鉀等之水溶液中或水浴中進行延伸。
又，作為偏光件，可使用厚度在10μm以下之薄型的偏光件。從薄型化的觀點而言，以該厚度為1~7μm者為佳。這種薄型偏光件，厚度不均現象較少且視辨性優異，且尺寸變化較少故耐久性優異，而且作成偏光板的厚度亦能力求薄型化，就此等觀點來看係為優選。
作為薄型之偏光件，代表性而言，可舉如日本專利公開案特開昭51-069644號公報及日本專利公開案第2000-338329號公報、WO2010/100917號說明書、PCT/JP2010/001460說明書，或日本專利申請案第2010-269002號說明書及第2010-263692號說明書中所記載之薄型偏光膜。該等薄型偏光膜，可藉由包含下述步驟之製法來獲得：將聚乙烯醇系樹脂(以下亦稱為PVA系樹脂)層與延伸用樹脂基材以積層體的狀態進行延伸之步驟及進行染色之步驟。若為該製法，則即便PVA系樹脂層薄化，仍可藉由以延伸用樹脂基材支撐而能夠在無延伸所致破裂等缺陷的情況下進行延伸。
作為前述薄型偏光膜，在包含以積層體狀態進行延伸之步驟與染色步驟的製法中，就可高倍率延伸並可提升偏光性能此點而言，宜為如WO2010/100917說明書、PCT/JP2010/001460說明書、或日本專利申請案第2010-269002號說明書、日本專利申請案第2010-263692號說明書所記載般包括在硼酸水溶液中進行延伸之步驟的製法所得者，尤其宜為經由日本專利申請案第2010-269002號說明書、日本專利申請案第2010-263692號說明書所記載之包括在硼酸水溶液中延伸前進行輔助性空中延伸步驟的製法所獲得者。
作為構成透明保護薄膜的材料，可使用例如透明性、機械強度、熱穩定性、抗濕性、等向性等優異之熱可塑性樹脂。作為該種熱可塑性樹脂之具體例，可舉如三醋酸纖維素等纖維素樹脂、聚酯樹脂、聚醚碸樹脂、聚碸樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚烯烴樹脂、(甲基)丙烯酸樹脂、環狀聚烯烴樹脂(降莰烯系樹脂)、聚芳香酯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚乙烯醇樹脂及其等之混合物。此外，於偏光件的一側利用接著劑層貼合透明保護薄膜，在其另一側則可使用(甲基)丙烯酸系、胺甲酸酯系、丙烯酸胺甲酸酯系、環氧系、聚矽氧系等熱硬化性樹脂或紫外線硬化型樹脂來作為透明保護薄膜。在透明保護薄膜中亦可含有1種以上任意的適當添加劑。作為添加劑，可舉例如紫外線吸收劑、抗氧化劑、潤滑劑、塑化劑、離型劑、著色防止劑、難燃劑、核劑、抗靜電劑、顔料、著色劑等。在透明保護薄膜中，上述熱可塑性樹脂含量宜為50~100重量%，較佳為50~99重量%，更佳為60~98重量%，特佳為70~97重量%。透明保護薄膜中，上述熱可塑性樹脂含量在50重量%以下時，熱可塑性樹脂恐有無法充分展現其原本具有的高透明性等之虞。
前述偏光件與透明保護薄膜之貼合所使用的接著劑若為在光學上透明的就無特別限制，可使用水系、溶劑系、熱熔系、自由基硬化型、陽離子硬化型之各種形態的接著劑，但以水系接著劑或自由基硬化型接著劑為理想。
再者，光學薄膜可舉例如反射板或反射穿透板、相位差板(包含1/2或1/4等波長板)、光學補償薄膜、視覺補償薄膜及增亮薄膜等形成液晶顯示裝置等所使用並可成為光學層之物。其等除了可單獨用作光學薄膜之外，實際使用時可於前述偏光薄膜上積層1層或2層以上來使用。
在偏光薄膜上積層有前述光學層之光學薄膜亦可在液晶顯示裝置等之製造過程中以依序個別積層之方式來形成，不過預先積層而製成光學薄膜者在品質穩定性及組裝作業等方面優異，具有能提升液晶顯示裝置等之製程的優點。積層時可使用黏著層等適當的接著手段。在前述偏光薄膜與其他光學層接著時，其等之光學軸可因應目標相位差特性等來設成適當的配置角度。
本發明之附黏著劑層之光學薄膜可適於使用在形成液晶顯示裝置等各種影像顯示裝置等等。液晶顯示裝置的形成，可依據習知技藝來實施。即液晶顯示裝置一般而言係藉由將液晶元件等顯示面板與附黏著劑層之光學薄膜及因應需求的照明系統等構成零件適當組裝並安裝驅動電路等來形成，而在本發明中除了使用本發明之附黏著劑層之光學薄膜此點以外並無特別限定，可依習知為準。液晶元件亦可使用例如TN型及STN型、π型、VA型、IPS型等任意的種類等。
可形成在液晶元件等顯示面板的單側或兩側配置有附黏著劑層之光學薄膜的液晶顯示裝置，或是照明系統使用了背光或者反射板者等適當的液晶顯示裝置。此情形時，本發明之附黏著劑層之光學薄膜可設置在液晶元件等顯示面板的單側或兩側。在兩側設置光學薄膜時，其等可為相同亦可相異。再者，在形成液晶顯示裝置時，可將例如擴散層、防眩層、抗反射膜、保護板、稜鏡陣列、透鏡陣列片、光擴散片、背光等適宜的零件於適當位置配置1層或2層以上。 實施例
以下藉由實施例以具體說明本發明，但本發明並不受此等實施例所限定。此外，各例中的份及%均為重量基準。以下沒有特別規定的室溫放置條件皆為23℃65%RH。
＜(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之重量平均分子量的測定＞ (甲基)丙烯酸系聚合物(A)之重量平均分子量(Mw)是利用GPC(凝膠滲透層析法)來測定。Mw/Mn也同樣地進行了測定。 ・分析裝置：Tosoh(東曹)公司製，HLC-8120GPC ・管柱：Tosoh(東曹)公司製，G7000HXL ＋GMHXL ＋GMHXL ・管柱尺寸：各7.8mmφ×30cm　計90cm ・管柱溫度：40℃ ・流量：0.8mL／min ・注入量：100μL ・溶離液：四氫呋喃 ・檢測器：示差折射計(RI) ・標準試料：聚苯乙烯
＜偏光薄膜的製作＞ 使厚度80μm之聚乙烯醇薄膜在速度比相異之輥子間一邊於在30℃且0.3%濃度之碘溶液中染色1分鐘一邊延伸至3倍。之後，一邊於60℃且含4%濃度之硼酸、10%濃度之碘化鉀的水溶液中浸漬0.5分鐘，一邊延伸至總延伸倍率達6倍為止。接著，於30℃且含有1.5%濃度之碘化鉀之水溶液中浸漬10秒，藉此洗淨後，在50℃下進行4分鐘乾燥，獲得厚度30μm之偏光件。該於偏光件兩面上藉聚乙烯醇系接著劑貼合經皂化處理且厚度80μm的三醋酸纖維素薄膜，作成偏光薄膜。
實施例1 (丙烯酸系聚合物(A1)的調製) 在配有攪拌葉片、溫度計、氮氣導入管、冷卻器的4口燒瓶中投入單體混合物，其含有丙烯酸丁酯77份、丙烯酸苯氧乙酯16份、N-乙烯基-2-吡咯啶酮6份及丙烯酸-4-羥丁酯1份。其次，相對於前述單體混合物(固體成分)100份，將作為聚合起始劑之2,2’-偶氮雙異丁腈0.1份與醋酸乙酯100份一起投入，一邊緩慢攪拌一邊導入氮氣進行氮置換後，將燒瓶內的液溫保持在55℃附近，進行8小時聚合反應，調製成重量平均分子量(Mw)180萬且Mw/Mn=4.1之丙烯酸系聚合物(A1)的溶液。
(黏著劑組成物的調製) 相對於製造例1所得丙烯酸系聚合物(A1)溶液的固體成分100份，摻混異氰酸酯交聯劑(三井化學公司製Takenate D160N，三羥甲基丙烷六亞甲基二異氰酸酯)0.2份、過氧化苯甲醯(日本油脂公司製的NYPER BMT)0.2份及γ-環氧丙氧基丙基甲氧基矽烷(信越化學工業公司製：KBM-403)0.2份，調製丙烯酸系黏著劑組成物的溶液。
＜附黏著劑層之偏光薄膜的製作＞ 接著，將上述丙烯酸系黏著劑組成物的溶液，在經聚矽氧系剝離劑處理之聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(分離薄膜：三菱化學聚酯薄膜(股)製，MRF38)的單面上，以令乾燥後之黏著劑層的厚度成為23μm的方式塗佈，並於155℃下進行1分鐘乾燥，在分離薄膜的表面形成黏著劑層。接著，將形成在分離薄膜上的黏著劑層轉印至上述所作成之偏光薄膜上，製成附黏著劑層之偏光薄膜。
實施例2~15、比較例1~8 在實施例1中，如表1所示，改變在調製丙烯酸系聚合物(A)時所用單體的種類及其使用比例並控制製造條件，調製出表1所記載之聚合物性質(重量平均分子量，Mw/Mn)的丙烯酸系聚合物之溶液。
又，相對於所獲得之各丙烯酸系聚合物的溶液，如表1所示般改變交聯劑(B)之種類或其使用量、矽烷耦合劑(C)之使用量，除此之外以和實施例1相同的方式，調製丙烯酸系黏著劑組成物之溶液。又，以和實施例1相同的方式使用該丙烯酸系黏著劑組成物的溶液來製作附黏著劑層之偏光板。此外，實施例12至14及比較例4係調製出以表1所示比率摻混了離子性化合物(D)的丙烯酸系聚合物之溶液。
針對上述實施例及比較例所得附黏著劑層之偏光薄膜進行以下的評價。評價結果顯示於表1、表2。此外，表面電阻値之測定，僅就實施例12至14及比較例4所得之附黏著劑層之偏光薄膜進行。
＜凝膠分率的測定＞ 取約0.1g黏著劑層，將其包在已預先秤重之氟樹脂薄膜(TEMISH NTF-1122，日東電工(股)製)(重量：Wa)中，並以不使黏著劑滲出的方式綁住，作成測定試樣。測定試樣的重量(重量：Wb)，置入瓶中並加入40cc醋酸乙酯，放置7天。之後取出測定試樣，將該測定試樣於130℃下乾燥2小時。測試乾燥後的試樣重量(Wc)，以下式求出凝膠分率。 [數1]
Figure 02_image001
＜於玻璃之耐久性試驗＞ 將附黏著劑層之偏光薄膜裁切成37吋大小作為試樣。使用貼合機將該試樣貼附於厚度0.7mm之無鹼玻璃(康寧公司製，EG-XG)上。接著在50℃且0.5MPa下進行15分鐘高壓釜處理，使上述試樣完全密著於無鹼玻璃上。對經施予所述處理的試樣在95℃環境下施以500小時處理後(加熱試驗)，再於60℃／95%RH的環境下施以500小時處理後(加濕試驗)，再將85℃與-40℃的環境以1循環1小時施加300循環後(熱震試驗)，依下述基準利用目視評價偏光板與玻璃之間的外觀。(評價基準) ◎：完全沒有發泡、剝落等外觀上的變化。 〇：於端部略微有剝落或發泡，但在實用上沒有問題。 △：於端部有剝落或發泡，但在外框遮擋的範圍內，實用上沒有問題。 ×：於端部有明顯的剝落，實用上有問題。
＜於ITO玻璃之耐久性試驗＞ 就前述＜於玻璃之耐久性試驗＞中作為被貼附物而使用的無鹼玻璃，將其上形成有結晶性ITO或非晶性ITO層之物作為＜在ITO玻璃的耐久性試驗＞之被貼附物。除了如前述般改變被貼附物並在ITO層上貼合試樣以外，以和前述＜在玻璃的耐久性試驗＞相同的程序實施於ITO玻璃之耐久性試驗。ITO層是以濺鍍法形成。ITO的組成方面，結晶性ITO的Sn比率10重量%、非晶性ITO的Sn比率3重量%，在貼合試樣前各別實施140℃×60分之加熱步驟。此外，ITO的Sn比率係由Sn原子重量／(Sn原子重量＋In原子重量)算出。
＜耐金屬腐蝕性＞ 將附黏著劑層之偏光薄膜裁切成8mm×8mm者作為試樣。將薄膜表面上形成有ITO層之導電性薄膜(商品名：ELECRYSTA (P400L)，日東電工(股)製)裁切成15mm×15mm，並將該試樣貼合於該導電性薄膜上的中央部，然後在50℃、5atm下進行15分鐘高壓釜處理後，作為耐腐蝕性的測定試樣。使用後述的測定裝置來測定所得測定用試樣的電阻値，將其作為「初期電阻値」。 然後將測定用試樣投入60℃/90%RH的環境500小時後測定電阻値，將所測值作為「濕熱後的電阻値」。此外，上述電阻值是使用Accent Optical Technologies公司製HL5500PC進行測定。利用下式從如上述所測出之「初期電阻値」及「濕熱後的電阻値」算出「電阻値變化」。 [數2]
Figure 02_image003
＜顯示不均＞ 將附黏著劑層之偏光薄膜切成縱長420mm×寬320mm之尺寸，將其作為試樣並準備2片。將該試樣以貼合機貼合於厚度0.07mm之無鹼玻璃板的兩面以使其呈正交偏光。接著在50℃、5atm下進行15分鐘的高壓釜處理作為二次試樣(初期)。接著將二次試樣於90℃的條件下進行24小時的處理(加熱後)。將初期及加熱後之二次試樣置於1萬燭光的背光上，依下述基準以目視來評價漏光。 (評價基準) ◎：未發生角部不均，實用上沒有問題。 〇：僅略微發生角部不均，但由於沒有出現在顯示區域故實用上沒有問題。 △：發生角部不均但僅少許出現在顯示區域，實用上沒有問題。 ×：發生角部不均且明顯出現在顯示區域，實用上有問題。
＜導電性：表面電阻値(Ω/□)＞ 將附黏著劑層之偏光薄膜的分離薄膜剝離後，測定黏著劑表面之表面電阻値(初期)。再將附黏著劑層之偏光薄膜投入60℃/95%RH的環境中500小時後，在40℃下使其乾燥1小時並剝離分離薄膜，然後測定黏著劑表面的表面電阻値(濕熱後)。測定是使用三菱化學ANALYTECH公司製的MCP-HT450來進行。
＜加濕白濁＞ 將附黏著劑層之偏光薄膜裁切成50mm×50mm之尺寸並貼合於玻璃。再將厚度25μm之PET薄膜(Diafoil T100-25B，三菱樹脂公司製)裁切成50mm×50mm的尺寸，貼合於偏光薄膜的上面，作成測定用試樣。將測定用試樣投入至60℃/95%RH之環境250小時後，在室溫下取出並測定10分鐘後之霧度值。霧度值是使用村上色彩技術研究所公司製之霧度計HM150來測定。
【表1】
Figure 02_image005
表1中，調製丙烯酸系聚合物(A)時所用單體表示為BA：丁基丙烯酸酯、PEA：丙烯酸苯氧乙酯、NVP：N-乙基-吡咯啶酮、NVC：N-乙基-ε-己內醯胺、HBA：4-羥丁基丙烯酸酯、HEA：2-羥乙基丙烯酸酯、AA：丙烯酸。 交聯劑(B)中「異氰酸酯系」之「D160N」表示三井化學公司製的Takenate D160N(三羥甲基丙烷之六亞甲基二異氰酸加成物)、「C/L」表示日本聚胺甲酸酯工業公司製之Coronate L(三羥甲基丙烷之伸甲苯基二異氰酸酯加成物)； 「過氧化物系」表示過氧化苯甲醯(日本油脂公司製，NYPER BMT)； 「矽烷耦合劑(C)」表示KBM403，即信越化學工業(股)製的KBM403； 「離子性化合物(D)」則表示為： Li-TFSI：三菱Material公司製的雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺鋰； EMP-TFSI：三菱Material公司製之1-乙基-1-甲基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺)醯亞胺。
【表2】
Figure 02_image007
(無)

Claims (12)

  1. 一種光學薄膜用黏著劑層，特徵在於由含有(甲基)丙烯酸系聚合物(A)及相對於100重量份之前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)為0.01~3重量份之交聯劑(B)的光學薄膜用黏著劑組成物所形成，且凝膠分率超過70重量%；該(甲基)丙烯酸系聚合物(A)含有下述單體以作為單體單元：33重量%以上之(甲基)丙烯酸烷酯(a1)、3~25重量%之含芳香環(甲基)丙烯酸酯(a2)、5~35重量%之含N-乙烯基之內醯胺系單體(a3)、2重量%以下之含羧基單體(a5)，及0.01~7重量%之含羥基單體(a4)。
  2. 如請求項1之光學薄膜用黏著劑層，其中前述含羥基單體(a4)為(甲基)丙烯酸4-羥丁酯。
  3. 如請求項1之光學薄膜用黏著劑層，其中前述交聯劑(B)含有選自異氰酸酯系交聯劑及過氧化物系交聯劑中任意至少1種。
  4. 如請求項3之光學薄膜用黏著劑層，其中前述異氰酸酯系交聯劑含有脂肪族聚異氰酸酯系化合物。
  5. 如請求項1之光學薄膜用黏著劑層，其進一步含有矽烷耦合劑(C)。
  6. 如請求項5之光學薄膜用黏著劑層，其中前述矽烷耦合劑(C)係相對於100重量份之前述(甲基)丙烯 酸系聚合物(A)含有0.001~5重量份。
  7. 如請求項1至6中任一項之光學薄膜用黏著劑組成物，其進一步含有離子性化合物(D)。
  8. 如請求項7之光學薄膜用黏著劑層，其中前述離子性化合物(D)為鹼金屬鹽及/或有機陽離子-陰離子鹽。
  9. 如請求項7之光學薄膜用黏著劑層，其中前述離子性化合物(D)含有含氟基陰離子。
  10. 如請求項7之光學薄膜用黏著劑層，其中前述離子性化合物(D)係相對於100重量份之前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)含有0.05~10重量份。
  11. 一種附黏著劑層之光學薄膜，特徵在於光學薄膜之至少單側形成有如請求項1至10中任一項之光學薄膜用黏著劑層。
  12. 一種影像顯示裝置，特徵在於使用了至少1層如請求項11之附黏著劑層之光學薄膜。
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