CN102009034A - 涂敷膜的干燥方法及干燥装置 - Google Patents
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Abstract
本发明的目的在于提供一种通过在对刚涂敷后的涂敷膜面进行干燥时将支撑体的温度设定成低于涂敷膜面的温度,来排除在涂敷膜的初期干燥中对支撑体的影响,从而能够均一地干燥涂敷膜的干燥方法及装置。所述涂敷膜的干燥方法是一种向行进的长条状支撑体(12)涂敷含有有机溶剂的涂敷液而形成的涂敷膜的干燥方法,其特征在于,涂敷前的所述长条状支撑体(12)的温度Tb比该涂敷液的温度Tc低2℃以上,而且涂敷后的涂敷膜附近的风速为0.5m/s以下。
Description
本申请是申请号为200710154375.3、发明名称为“涂敷膜的干燥方法及干燥装置的分案申请。
”
技术领域
本发明涉及一种涂敷膜的干燥方法及装置,尤其涉及在光学补偿片等的制造中对向长条状支撑体涂敷含有有机溶剂的涂敷液而形成的长尺寸且宽度较宽的涂敷膜面进行干燥的干燥方法及装置。
背景技术
为了在液晶显示装置中改善视角特性,在一对偏振片与液晶单元之间设置作为相位差板的光学补偿片。在专利文献1中公开了长条状的光学补偿片的制造法,公开了在长条状的透明薄膜的表面涂敷含有取向膜形成用树脂的涂敷液后进行摩擦处理形成取向膜,在该取向膜上涂敷含有液晶性盘状化合物的涂敷液,干燥已涂敷的涂敷膜的方法。
在专利文献1中公开的含有液晶性盘状化合物的涂敷液的干燥方法是在该取向膜上涂敷含有液晶性盘状化合物的涂敷液后、直至正规的干燥装置中干燥之前,在室内空气调节条件下进行初期干燥,主要使涂敷液中的有机溶剂蒸发。
利用该方法制造的光学补偿片存在如下问题:在涂敷膜1面上进行干燥过程中,发生如图4所示的宽(broad)斑A(用细线表示)和尖(sharp)斑B(用粗线表示)两种斑(不均)A、B,在不同情况下降低制品的产品率。
对这两种斑A、B进行分析,结果发现宽斑A如图5所示含有液晶性盘状化合物的涂敷液膜2的层厚变薄。图5的符号3是长条状支撑体,4是取向膜层。另一方面,如图6所示,发现与他正常的取向方向7的取向部8相比,发生尖斑B的取向部5(深色部)的取向方向6发生偏离。
相对这样的初期干燥中发生的斑(不均)A、B,作为有效的对策而通常实施的方法,包括通过高浓度化涂敷液或者添加增稠剂来使涂敷液的粘度增加,这样,通过抑制干燥风引起刚涂敷后的涂敷膜面的流动来防止斑的发生的方法。作为另一个方法,包括通过使用高沸点溶媒,利用即使干燥风引起刚涂敷后的涂膜面的流动也会产生流平效果来防止斑的发生的方法。
但是,通过高浓度化涂敷液的浓度或添加增稠剂来增加涂敷液的粘度的方法存在由于高速涂敷而不能进行形成超薄层的涂敷膜的超薄层精密涂敷的缺点。另外,由于涂敷液粘度越增加而临界涂敷速度(能够稳定涂敷的涂敷速度的临界)降低,所以随着粘度增加而高速涂敷变得不可能,所以生产效率极端恶化。
另一方面,使用高沸点溶媒的方法导致干燥时间的增大及涂敷膜中残留的残留溶剂量的增大,由于耗费那么多干燥时间,所以生产效率恶化。
作为消除这些缺点的方法,在专利文献2中提出了提供一种在刚涂敷后设置干燥区域,来包围所述行进的长条状支撑体的要干燥的涂敷膜面,而且在所述干燥区域内发生从所述长条状支撑体宽度方向的一个端侧向另一个端侧流动的单向流的干燥风,这样,可以不用变更涂敷液的粘度等物理性能或溶媒的种类而可以均一地干燥涂敷膜的干燥方法及装置。
专利文献1:特开平9-73081号公报
专利文献2:特开2001-170547号公报
但是,在专利文献2中公开的方法,由于在风供给的另一端的回收侧干燥延迟,所以为了在干燥装置内使干燥结束,不得不加大干燥风的风速或温度,加快在风的回收侧的干燥,这样在风的供给侧的干燥变快,那么在涂敷膜可能会发生斑。
特别是涂敷膜的厚度比支撑体的厚度足够薄的情况下,刚涂敷后的涂敷膜变得容易受到支撑体的温度的影响,不能在风的供给侧缓慢进行干燥,从而难以进行涂敷膜的均一干燥。
发明内容
本发明正是鉴于上述情况而提出的,其目的在于提供一种在涂敷膜的初期干燥中能够均一地干燥涂敷膜的干燥方法及装置。
本发明之一提供一种涂敷膜的干燥方法,其是向行进的长条状支撑体涂敷含有有机溶剂的涂敷液而形成的涂敷膜的干燥方法,其特征在于,涂敷前的所述长条状支撑体的温度Tb比该涂敷液的温度Tc低2℃以上,而且涂敷后的涂敷膜附近的风速为0.5m/s以下。
本发明人等着眼于在对向行进的长条状支撑体涂敷含有有机溶剂的涂敷液而形成的涂敷膜进行干燥时,涂敷膜中的涂敷液的干燥速度如果变快则在涂敷膜发生干燥斑,发现通过使涂敷前的支撑体的温度低于涂敷膜的温度2℃以上,而且使涂敷后的涂敷膜附近的风速为0.5m/s以下,可以减缓涂敷膜的干燥时的干燥速度从而抑制干燥斑的出现。
利用本发明之一,由于将涂敷前的长条状支撑体的温度Tb设定成比涂敷膜的温度Tc低2℃以上,而且将涂敷后的涂敷膜附近的风速设定成0.5m/s以下,可以使涂敷膜缓慢地干燥,从而抑制涂敷膜中的干燥斑的发生。
利用本发明之一,由于涂敷后的涂敷膜附近的风速为0.5m/s以下,所以涂敷膜面对的风为微风,可以实现强度或方向不均一的风不与在含有很多有机溶剂从而涂敷液容易流动的状态下的涂敷膜面相接触。因而,可以没有干燥斑而均一地使涂敷膜干燥。
本发明之二的特征在于,在本发明之一中,通过用已对表面进行温度控制的辊支撑所述涂敷前的长条状支撑体,使所述温度Tb比所述温度Tc低2℃以上。
利用本发明之二,由于在将支撑体移送至涂敷机20之前,使支撑体与温度低于涂敷膜的温度的辊接触,可以使支撑体的温度成为低于涂敷膜的温度的温度,所以可以缓慢地干燥涂敷膜,可以抑制涂敷膜中的干燥斑的发生。
本发明之三的特征在于,在本发明之一或二中,在刚进行所述涂敷后,设置干燥区域来包围所述行进的长条状支撑体的要干燥的涂敷膜面,并且按照在所述涂敷膜附近为0.5m/s以下的方式在所述干燥区域产生从所述长条状支撑体宽度方向的一端侧向另一端侧流动的单向流的干燥风。
利用本发明之三,通过在涂敷后,优选在刚涂敷后设置干燥区域,来自干燥区域外的强度或方向不均一的风可以不与在含有很多有机溶剂从而涂敷液容易流动的状态下的涂敷膜面相接触,同时形成了从涂敷膜面蒸发掉的有机溶剂覆盖涂敷膜面的环境。在该干燥环境下,如果使从长条状支撑体宽度方向的一端向另一端流动的单向流的规则的干燥风产生,则可以在将涂敷膜面附近的有机溶剂浓度经常维持在一定的状态下进行涂敷膜的干燥,所以可以防止在干燥时发生上述两种斑,可以进行均一的干燥。
本发明之四的特征在于,在本发明之三中,将所述长条状支撑体的宽度方向的温度分布设为:在所述干燥风的供气侧低。
利用本发明之四,在干燥区域中,即使干燥风从支撑体的宽度方向的一端侧向另一端侧流动从而供气侧的温度上升,但由于预先使支撑体的宽度方向的温度分布在干燥风的供气侧低,所以不会出现支撑体的温度上升从而向涂敷膜供给热的状态。
本发明之五的特征在于,在本发明之一~四中,所述长条状支撑体具有对已预先涂敷的取向膜形成用树脂进行摩擦处理从而成为取向膜的层,同时所述涂敷液含有液晶性盘状化合物。
本发明之六提供一种涂敷膜的干燥装置,其是利用涂敷机向行进的长条状支撑体涂敷含有有机溶剂的涂敷液而形成的涂敷膜的干燥装置,其特征在于,具备:按照所述长条状支撑体的温度Tb比所述涂敷液的温度Tc低2℃以上的方式控制了表面的温度的辊;紧接着所述涂敷机之后设置的、形成包围所述行进的长条状支撑体的要干燥的涂敷膜面的干燥区域的干燥装置主体;和单向气流产生机构,其在所述干燥区域产生如下所述的干燥风,即:具有从所述长条状支撑体宽度方向的一端侧向另一端侧流动的单向流,并且在涂敷后的涂敷膜附近的风速为0.5m/s以下。
利用本发明及装置,可以抑制在刚涂敷后的初期干燥过程中发生干燥斑,可以进行均一的干燥。
另外,由于不需要变更涂敷液的粘度等物理性能或溶媒的种类,所以可以扩大能够使用的涂敷液的种类的范围或溶剂的种类的范围。
附图说明
图1是本发明的干燥装置的侧面图。
图2是本发明的干燥装置的俯视图。
图3是在光学补偿片的制造工序中插入本发明的干燥装置的工序图。
图4是在以往的干燥方式中发生的斑(不均)的产生状况图。
图5是说明宽斑(不均)的说明图。
图6是说明尖斑(不均)的说明图。
图中,10-干燥装置,12-连结板(web),14-干燥区域,14A~14G-分割区域,16-干燥装置主体,18-单向气流产生机构,18A~18G-吸入口,18H~18N-排气口,18P~18W-排气机构,20-涂敷机,22、24、26-支承辊(back up roll),28-隔板,32-整风板,A-宽斑,B-尖斑。
具体实施方式
以下利用附图对本发明的涂敷膜的干燥方法及装置的优选实施方式进行详细说明。
图1是本发明的涂敷膜的干燥装置的侧面图,另外图2是从上方观察图1的俯视图。
如图1及图2所示,本发明的涂敷膜的干燥装置10主要包括如下结构:形成干燥区域14的干燥装置主体16,行进的长条状支撑体12(以下称为“连结板(web)12”)通过该干燥区域14,且进行涂敷膜的干燥;向干燥区域14内产生从连结板12的宽度方向的一端侧向另一端侧流动的单向流的干燥风的单向气流产生机构18。该干燥装置10被紧接着(直後)向移动的连结板12涂敷含有有机溶剂的涂敷液的涂敷机20之后设置。
作为涂敷机20,例如可以使用具备拉丝锭(wire bar)20A的棒(bar)涂敷装置,在被多个支承辊22、24、26支撑、移动的连结板12的下面涂敷涂敷液从而涂敷膜。在此,在连结板12形成的涂敷膜的厚度优选为7μm以下。原因在于如果超过7μm,则不能在干燥装置主体16内结束涂敷膜的干燥。此外,更优选5μm以下。
支承辊22被构成为能够控制其表面温度。例如通过使水等液态介质在支承辊22的内部循环来控制表面温度。接着,可以通过控制该支承辊22的表面温度,来控制进入涂敷机20时的连结板12的温度Tb。此外,也可以利用支承辊22还有其上游侧设置的辊来控制涂敷前的连结板12的温度Tb。这种情况下,各辊的温度可以利用套辊(jacket roll)的液体控制其表面温度,也可以通过吹送已被各辊温度控制的风来控制其表面温度。在此,进入涂敷机20时的连结板12的温度Tb被控制成比涂敷液的温度Tc低2℃以上。即,涂敷液的温度Tc与连结板12的温度Tb的差ΔT(=Tc-Tb)被控制成2℃以上。更优选将ΔT控制成2℃以上20℃以下。在此,有时连结板12的温度在宽度方向存在不均,优选使最大的温度差为ΔT。此外,优选构成为也可以同样地温度控制支承辊24的表面温度。
接着,优选构成为支承辊22的表面温度可以在连结板12的宽度方向设置温度梯度。具体而言,优选将温度梯度设置成相对连结板12的宽度方向,从后述的单向气流产生机构18的吸气口侧向排气口侧温度变高。
此外,连结板12的温度可以利用被如上所述进行温度控制的支承辊22、24进行,但也可以通过将连结板12通过的室温控制在需要的值来控制表面温度。结果,可以使干燥装置的结构成为单纯的结构。
干燥装置主体16被紧接着设置于涂敷机20之后,形成为沿着移动的连结板12的涂敷膜面侧(连结板的下面侧)的长方形的箱体状,切除箱体的各边中的涂敷膜面侧的边(箱体的上边)。这样,形成包围移动的连结板12的要干燥的涂敷膜面的干燥区域(zone)14。干燥区域14通过用与连结板12的移动方向正交的多个隔板28、28…隔开干燥装置主体16,分割成多个分割区域14A、14B、14C、14D、14E、14F、14G(在本实施例中为7个分割区域)。这种情况下,分割干燥区域14的隔板28的上端与在连结板12形成的涂敷膜面之间的距离优选为0.5mm以上12mm以下的范围,更优选1mm以上10mm以下的范围。另外,在干燥区域14设置单向气流产生机构18(参照图2)。
单向气流产生机构18主要由在干燥装置主体16的双侧边的一侧形成的吸入口18A、18B、18C、18D、18E、18F、18G,在另一侧与吸入口18A~18G对向形成的排气口18H、18I、18J、18K、18L、18M、18N,和与排气口连接的排气机构18P、18Q、18R、18S、18T、18U、18W构成。这样,如果驱动排气机构18P~18W,从吸入口18A~18G向分割区域14A~14G吸入的气体从排气口18H~18N排气,所以在各分割区域14A~14G产生从连结板12的宽度方向的一端侧(吸入口侧)向另一端侧(排气口侧)单向流动的干燥风。该单向气流产生机构18可以利用排气机构18P~18W在每个分割区域14A~14G控制排气量。作为从吸入口18A~18G吸入的干燥风,优选温度·湿度已被空气调节的空气调节风。此外,从相对在连结板12上形成的涂敷膜进行微风干燥的观点出发,将排气机构18P~18W的驱动输出控制为从连结板12的宽度方向的一端侧(吸入口侧)向另一端侧(排气口侧)单向流动的干燥风的风速成为0.5m/s以下。原因在于如果干燥风的风速超过0.5m/s,则变得不能使涂敷膜面附近的有机溶媒浓度均等,所以不能使有机溶剂从涂敷膜面的各部分均等地蒸发。
此外,作为干燥风,可以使用设置有干燥装置12的例如空气调节室等空气调节风,但也可以从干燥装置主体16的吸入口18A~18G吸入含有与涂敷液中含有的有机溶剂相同的溶剂的风。或者,也可以从吸入口18A~18G吸入被排气机构18P~18W排气的干燥风的一部分。
另外,干燥装置主体16的宽度形成为大于连结板12的宽度,设置用整风板32对干燥区域14的两侧的开放部分加盖的整风(整風)部分。该整风部分保证从吸入口18A~18G到涂敷膜端的距离和从涂敷膜端到排气口18H~18N的距离,同时干燥风容易只从吸入口18A~18G吸入到干燥区域14内,在干燥区域14中不会制作急剧的干燥风的流动。作为该整风部分即整风板32的长度,吸入口侧及排气口侧均优选为50mm以上150mm以下的范围。
各分割区域14A~14G中,特别是离涂敷机最近的分割区域14A在刚向连结板12涂敷涂敷液之后,干燥区域14以外的新鲜的空气例如上述空气调节风难以进入干燥区域14是很重要的。为此,优选构成为与涂敷机20相邻配置分割区域14,或者除了上述整风板32以外,调节涂敷机20的拉丝锭20A的位置和支承辊24的位置,连结板12向分割区域14A的紧邻附近移动,正好用连结板12向分割区域14A的开口部加盖。
另外,为了不被所述空气调节风等风阻碍连结板12的稳定移动,而在干燥装置主体16的相反侧位置夹持连结板12地设置屏蔽板34。
接着对如上所述结构的干燥装置10的作用进行说明。
另外,以连结板12具有对已预先涂敷取向膜形成用树脂进行摩擦处理从而成为取向膜的层并且涂敷液为含有液晶性盘状化合物的有机溶剂性涂敷液为例进行说明。
在刚刚用涂敷机20的拉丝锭20A向被支承辊22、24、26支持移动的连结板12涂敷涂敷液之后,利用干燥装置10进行涂敷膜面的初期干燥。该初期干燥优选在刚涂敷后最晚5秒以内的涂敷之后开始利用干燥风的干燥。
在该初期干燥中,刚涂敷后的涂敷膜面处于充分含有有机溶剂的状态,特别是在刚涂敷以有机溶剂为溶媒的涂敷液后的初期干燥中,有机溶剂的蒸发分布(起伏)引起在涂敷膜面发生温度分布。因此发生表面张力的分布,在涂敷膜面内发生涂敷液的流动,干燥慢的部分的涂敷膜变薄,成为宽斑(不均)A。
另外,液晶性盘状(ディスコティック)化合物的取向方向由对取向膜形成用树脂进行摩擦处理决定,但在初期干燥中成为与摩擦方向不同的风向的风速快的情况、风发生合流的情况、发生风旋涡的情况等的风与涂敷膜面相接触,由此在涂敷膜面的一部分发生取向方向的偏离,这成为了尖斑(不均)B的原因。
因此,为了防止在初期干燥时涂敷膜面的斑(不均)A、B,从涂敷开始直至涂敷膜面中的涂膜液的流动停止为止的初期干燥期间,阻止来自外部的不均一的风与涂敷膜面相接触,同时将涂敷膜面附近的有机溶剂浓度经常保持为一定是很重要的。
这在更早发生初期干燥的供气侧更重要。因此,在本发明中,将涂敷前的支撑体温度控制成在刚向连结板12涂敷涂敷液之后不会使初期干燥过快地干。
在此,在本实施方式中,对控制涂敷前的连结板12的温度的意义进行详细说明。
涂敷液被涂敷于支撑体之后在蒸发下干燥时,涂敷膜由于被夺去汽化潜热,所以涂敷膜的温度降低。但是,连结板12的厚度与涂敷膜的厚度相比足够厚的情况下,从连结板12对涂敷膜供给热。因而,连结板12的温度越高,则涂敷液的蒸发越会快速地进行而急剧地干燥,以至于在涂敷膜发生干燥斑。特别是在本实施方式中,为了在有机溶剂的薄层涂敷时防止干燥风的紊乱引起的斑,将干燥风的风速抑制在0.5m/s以下,所以连结板12的热的影响较大。
因此,在本实施方式中,在将涂敷前的连结板12的温度控制成在刚向连结板12涂敷涂敷液之后不会使初期干燥快速地进行。即,预先使涂敷前的连结板12的温度低于涂敷膜的温度2℃以上。这样,涂敷液的蒸发由于缓慢地进行,所以可以防止急剧的干燥。
利用以上说明的本实施方式,即使在涂敷膜的厚度(5μm)薄于连结板12的厚度的情况下,由于涂敷前的连结板12的温度Tb被设定成低于涂敷液的温度Tc2℃以上而且涂敷后的涂敷膜附近的风速被设定成0.5m/s以下,所以涂敷液从涂敷膜的蒸发可以缓慢地进行,在干燥后的涂敷膜不会发生干燥斑,可以得到均一的涂敷膜。
作为在本发明中使用的连结板12,包括在通常宽0.3m以上5m以下、长45m以上10000m以下、厚5μm以上200μm以下的聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚-2,6萘二甲酸乙二醇酯、二醋酸纤维素、三醋酸纤维素、乙酸丙酸纤维素、聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯、聚碳酸酯、聚酰亚胺、聚酰胺等塑料薄膜,纸,涂敷或层叠了聚乙烯、聚丙烯、乙烯丁烯共聚物等碳原子数2~10的α-聚烯烃类的纸、铝、铜、锡等的金属箔等或者带状基材的表面形成有预备加工层的构件。进而还包括在所述连结板12中,在其表面涂敷光学补偿片涂敷液、磁性涂敷液、照相感光性涂敷液、表面保护、防静电干扰或者滑性用涂敷液等并干燥之后,剪裁成需要的长度及宽度的构件,作为其中的代表例,可以举出光学补偿片、各种胶卷、印相纸、磁带等。
作为涂敷液的涂敷方法,除了上述棒涂法以外,还可以使用帘涂法、挤压涂敷法、辊涂法、浸涂法、旋涂法、印刷涂敷法、喷涂法及滑(slide)涂法。特别优选使用棒涂法、挤压涂敷法、滑涂法。
另外,在本发明中,同时涂敷的涂敷液的涂敷层数不限于单层,根据需要也可以适用于同时多层涂敷方法。
[实施例]
图3是向光学补偿片的制造工序中插入了本发明的干燥装置10的图,对调节干燥装置10的排气机构18P~18W的排气量的情况下的效果与已制造的光学补偿片的斑(不均)的发生状况之间的关系进行研究。
对于干燥装置10的排气机构18P~18W的排气量,在各实施例及各比较例中,在分割区域14A~14G中流动的干燥风的风速如表1所示。
首先,对光学补偿片的制造工序进行说明,如图3所示,用输出机40输出的连结板12被多个导辊42、42…支撑,同时通过摩擦处理装置44、涂敷机20、然后进行初期干燥的本发明的干燥装置10、进行本干燥的干燥区域46、加热带48、紫外线灯50,再被卷绕机52卷绕。
作为连结板12,使用厚100μm的三醋酸纤维素(富士德克(フジタック),富士胶片(写真フィルム)(株)制)。接着,在每1m2连结板12的表面涂敷25ml长链烷基改性聚乙烯醇(MP-203,クレラ(克里拉)(株)制)的2重量%溶液,然后在60℃下干燥1分钟制造形成有取向膜用树脂层的连结板12,以18m/分钟输送移动,同时在树脂层表面进行摩擦处理,形成取向膜。在摩擦处理中的摩擦辊54的推压力,在取向膜树脂层的每1m2为98Pa(10kgf/cm2),同时旋转圆周速度为5.0m/秒。
接着,在摩擦处理取向膜用树脂层得到的取向膜上,作为涂敷液,使用含有在盘状化合物TE-8的(3)与TE-8的(5)的重量比为4∶1的混合物中相对所述混合物添加光聚合引发剂(Irgacure907,日本西巴盖伊基(チバガィギ一)(株)制造)1重量%的混合物的40重量%甲基乙基甲酮溶液的结晶性化合物的涂敷液。边使连结板12以18m/分钟移动,边在取向膜上,用拉丝锭20A涂敷该涂敷液,使每1m2连结板涂敷液量成为5ml。
在连结板12上形成的涂敷膜的厚度如表1所示,在实施例1及比较例1~3中为5μm,在实施例2~4中为7μm。
另外,涂敷前的连结板12的温度(Tb)与涂敷液的温度(Tc)设定成如表1所示的值,在各情况下,计算涂敷液的温度(Tc)与涂敷前的连结板12的温度(Tb)的温度差ΔT(=Tc-Tb),将其结果归纳于表1。其中,在实施例4中,连结板12的宽度方向的温度分布设定成在干燥风的供气侧为23℃、在中央及排气侧为25℃的温度梯度,所以ΔT在干燥风的供气侧为4.5℃,在中央及排气侧为2.5℃。
接着,在刚涂敷之后,在本发明的干燥装置10中,利用表1所示的温度的干燥风进行初期干燥。
另外,将干燥区域分割成7份的隔壁28的上端与涂敷膜面之间的间隔设定成5~9mm的范围。另外,使在本发明的干燥装置10中进行了初期干燥的连结板12通过被调节成100℃的干燥区域46及被调节成130℃的加热带48,形成向列相,然后连续输送该涂敷了取向膜及液晶性化合物的连结板12,同时利用紫外线灯50向液晶层照射紫外线。
另外,在表1的斑的发生状况中,×表示没有发生斑,○表示发生了斑。
[表1]
如表1所示,在实施例1~3中可知,即使在连结板12上形成膜厚5μm或7μm这样薄的涂敷膜的情况下,由于连结板12的温度Tb比涂敷液的温度Tc低2℃以上,所以在涂敷膜不会出现宽斑A或尖斑B,可以均一地干燥涂敷膜。
另外,如实施例4所示可知,在连结板12的宽度方向的温度分布上用套辊设置温度梯度的情况下,在涂敷膜不会出现宽斑A或尖斑B,可以均一地干燥涂敷膜。
另一方面,如比较例1~3所示可知,在连结板12的温度Tb与涂敷液的温度Tc的温度差不到2℃的情况下,在涂敷膜会出现宽斑A或尖斑B,不能均一地干燥涂敷膜。
这样可知,如果在刚涂敷后设置干燥装置10,以风速0.5m/s以下的微风干燥,同时使涂敷液的温度(Tc)与涂敷前的连结板(Tb)的温度差ΔT在2℃以上,由于在干燥后的涂敷膜上没有出现宽斑A及尖斑B,所以具有抑制在初期干燥过程中产生的斑(不均)的效果。
Claims (15)
1.一种涂敷膜的干燥方法,其是向行进的长条状支撑体涂敷含有有机溶剂的涂敷液而形成的涂敷膜的干燥方法,其特征在于,
使涂敷前的所述长条状支撑体的温度Tb比该涂敷液的温度Tc低2℃以上。
2.根据权利要求1所述的涂敷膜的干燥方法,其特征在于,
通过用对表面进行了温度控制的辊支撑所述涂敷前的长条状支撑体,使所述温度Tb比所述温度Tc低2℃以上。
3.根据权利要求1或2所述的涂敷膜的干燥方法,其特征在于,
在刚进行所述涂敷后,设置干燥区域来包围所述行进的长条状支撑体的要干燥的涂敷膜面,并且按照在所述涂敷膜附近为0.5m/s以下的方式在所述干燥区域产生从所述长条状支撑体宽度方向的一端侧向另一端侧流动的单向流的干燥风。
4.根据权利要求3所述的涂敷膜的干燥方法,其特征在于,
将所述长条状支撑体的宽度方向的温度分布设为:在所述干燥风的供气侧低。
5.根据权利要求1或2所述的涂敷膜的干燥方法,其特征在于,
所述长条状支撑体具有对已预先涂敷的取向膜形成用树脂进行摩擦处理从而成为取向膜的层,并且所述涂敷液含有液晶性盘状化合物。
6.根据权利要求3所述的涂敷膜的干燥方法,其特征在于,
所述长条状支撑体具有对已预先涂敷的取向膜形成用树脂进行摩擦处理从而成为取向膜的层,并且所述涂敷液含有液晶性盘状化合物。
7.根据权利要求4所述的涂敷膜的干燥方法,其特征在于,
所述长条状支撑体具有对已预先涂敷的取向膜形成用树脂进行摩擦处理从而成为取向膜的层,并且所述涂敷液含有液晶性盘状化合物。
8.一种涂敷膜的干燥装置,其是利用涂敷机向行进的长条状支撑体涂敷含有有机溶剂的涂敷液而形成的涂敷膜的干燥装置,其特征在于,具备:
按照所述长条状支撑体的温度Tb比所述涂敷液的温度Tc低2℃以上的方式控制了表面的温度的辊;
紧接着所述涂敷机之后设置的、形成包围所述行进的长条状支撑体的要干燥的涂敷膜面的干燥区域的干燥装置主体;和
单向气流产生机构,其在所述干燥区域内产生如下所述的干燥风,即:具有从所述长条状支撑体宽度方向的一端侧向另一端侧流动的单向流。
9.一种涂敷膜的制造方法,包括:
向行进的长条状支撑体涂敷含有有机溶剂的涂敷液的工序;
干燥所述涂敷膜形成涂敷膜的工序,其特征在于,
使涂敷前的所述长条状支撑体的温度Tb比该涂敷液的温度Tc低2℃以上。
10.根据权利要求9所述的涂敷膜的制造方法,其特征在于,
通过用对表面进行了温度控制的辊支撑所述涂敷前的长条状支撑体,使所述温度Tb比所述温度Tc低2℃以上。
11.根据权利要求9所述的涂敷膜的制造方法,其特征在于,
在刚进行所述涂敷工序后,设置干燥区域来包围所述行进的长条状支撑体的要干燥的涂敷膜面,并且按照在所述涂敷膜附近为0.5m/s以下的方式在所述干燥区域产生从所述长条状支撑体宽度方向的一端侧向另一端侧流动的单向流的干燥风。
12.根据权利要求10所述的涂敷膜的制造方法,其特征在于,
在刚进行所述涂敷工序后,设置干燥区域来包围所述行进的长条状支撑体的要干燥的涂敷膜面,并且按照在所述涂敷膜附近为0.5m/s以下的方式在所述干燥区域产生从所述长条状支撑体宽度方向的一端侧向另一端侧流动的单向流的干燥风。
13.根据权利要求11所述的涂敷膜的制造方法,其特征在于,
将所述长条状支撑体的宽度方向的温度分布设为:在所述干燥风的供气侧低。
14.根据权利要求12所述的涂敷膜的制造方法,其特征在于,
将所述长条状支撑体的宽度方向的温度分布设为:在所述干燥风的供气侧低。
15.根据权利要求9~14中任意一项所述的涂敷膜的制造方法,其特征在于,
所述长条状支撑体具有对已预先涂敷的取向膜形成用树脂进行摩擦处理从而成为取向膜的层,并且所述涂敷液含有液晶性盘状化合物。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006-261389 | 2006-09-26 | ||
JP2006261389A JP4901395B2 (ja) | 2006-09-26 | 2006-09-26 | 塗布膜の乾燥方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN2007101543753A Division CN101153934B (zh) | 2006-09-26 | 2007-09-26 | 涂敷膜的干燥方法及干燥装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN102009034A true CN102009034A (zh) | 2011-04-13 |
CN102009034B CN102009034B (zh) | 2014-06-18 |
Family
ID=39225312
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN2007101543753A Expired - Fee Related CN101153934B (zh) | 2006-09-26 | 2007-09-26 | 涂敷膜的干燥方法及干燥装置 |
CN201010528747.6A Expired - Fee Related CN102009034B (zh) | 2006-09-26 | 2007-09-26 | 涂敷膜的干燥方法及干燥装置 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN2007101543753A Expired - Fee Related CN101153934B (zh) | 2006-09-26 | 2007-09-26 | 涂敷膜的干燥方法及干燥装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8109010B2 (zh) |
JP (1) | JP4901395B2 (zh) |
KR (1) | KR101486324B1 (zh) |
CN (2) | CN101153934B (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103814266A (zh) * | 2011-08-01 | 2014-05-21 | Fmp技术有限责任公司液体测量及工程 | 干燥被施用于基底的流体膜的方法和装置 |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7722930B2 (en) * | 2007-01-10 | 2010-05-25 | Fujifilm Corporation | Method and apparatus for drying coated film |
CA2690763A1 (en) * | 2010-01-21 | 2011-07-21 | B3Cg Interconnect Inc. | Shielding device for wires located in light-emitting apparatuses |
CN102200372B (zh) * | 2010-03-26 | 2013-05-01 | 中国农业机械化科学研究院 | 一种微波真空冷冻干燥设备 |
JP2012172960A (ja) * | 2011-02-24 | 2012-09-10 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 乾燥装置および熱処理システム |
CN102513277A (zh) * | 2011-11-25 | 2012-06-27 | 深圳市浩能科技有限公司 | 防止基体卷曲的涂布机烘道 |
US20130320605A1 (en) * | 2012-05-31 | 2013-12-05 | Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co, Ltd. | Device for Manufacturing Alignment Film |
JP6115311B2 (ja) * | 2013-05-24 | 2017-04-19 | 住友金属鉱山株式会社 | 表面処理方法およびそれを用いた金属化樹脂フィルムの製造方法 |
DE202015106039U1 (de) * | 2015-11-10 | 2017-02-13 | Autefa Solutions Germany Gmbh | Behandlungseinrichtung |
JP6665555B2 (ja) * | 2016-01-28 | 2020-03-13 | 富士ゼロックス株式会社 | 乾燥装置 |
JP2018041535A (ja) * | 2016-09-05 | 2018-03-15 | 株式会社Screenホールディングス | 乾燥方法および乾燥装置ならびに電極製造方法および電極製造装置 |
CN112044698B (zh) * | 2020-09-29 | 2022-03-25 | 浙江荣晟环保纸业股份有限公司 | 用于瓦楞纸板的涂胶系统 |
CN114100962A (zh) * | 2021-10-29 | 2022-03-01 | 南京秉昱科技有限公司 | 基于物联网的柔性排线成膜机构及成膜方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4150992A (en) * | 1977-12-27 | 1979-04-24 | Quantor Corporation | High speed, low temperature and pressure diazo processing method |
CN1334187A (zh) * | 2000-07-24 | 2002-02-06 | 富士胶片株式会社 | 溶液制膜方法 |
CN1456857A (zh) * | 2003-06-05 | 2003-11-19 | 上海工程技术大学 | 智能型烘房风机回转供风系统 |
CN1457981A (zh) * | 2002-05-17 | 2003-11-26 | 长春一塑汽车内饰材料有限公司 | 一种塑料复合片材及其制造方法 |
CN1579732A (zh) * | 2003-08-05 | 2005-02-16 | 通用电气公司 | 用于对薄膜表面进行压花的方法和设备 |
Family Cites Families (125)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US1724645A (en) * | 1924-05-29 | 1929-08-13 | Benjamin B Salvaty | Method and means for treating sheet material |
US2413735A (en) * | 1942-04-02 | 1947-01-07 | Houdry Process Corp | Apparatus for preparation of contact masses |
US2648089A (en) * | 1950-06-17 | 1953-08-11 | Gen Precision Lab Inc | Air squeegee |
US2714257A (en) * | 1950-08-26 | 1955-08-02 | Reading Walter Jesse | Egg drying machine |
US2924273A (en) * | 1956-02-13 | 1960-02-09 | Chain Belt Co | Dehydrating apparatus |
US2928329A (en) * | 1956-11-09 | 1960-03-15 | David R Limbach | Photographic developing machine |
US3078589A (en) * | 1956-12-03 | 1963-02-26 | Xerox Corp | Xerographic fusing apparatus |
US3147090A (en) * | 1957-09-17 | 1964-09-01 | Eastman Kodak Co | Dryer for a film processing machine |
US2932864A (en) * | 1958-06-17 | 1960-04-19 | Mellen | Method of making and drying shell-type refractory molds |
US3059345A (en) * | 1958-07-07 | 1962-10-23 | Kaufman Hiram Joseph | Film drying cabinet |
US3071869A (en) * | 1958-10-16 | 1963-01-08 | Time Inc | Web drying apparatus |
US3203111A (en) * | 1959-06-04 | 1965-08-31 | Gen Foods Corp | Apparatus for producing dehydratable baby foods |
US3065098A (en) * | 1960-03-21 | 1962-11-20 | Eastman Kodak Co | Method for coating webs |
NL261714A (zh) * | 1960-06-14 | |||
US3213858A (en) * | 1960-07-29 | 1965-10-26 | American Mach & Foundry | Drum drying process |
US3330136A (en) * | 1966-03-07 | 1967-07-11 | Robert R Candor | Laundry machine with suction means for washing and drying |
US3216638A (en) * | 1962-10-23 | 1965-11-09 | Nat Distillers Chem Corp | Air cushion method and apparatus for supporting moving film sheets |
US3237314A (en) * | 1963-03-04 | 1966-03-01 | Hupp Corp | Process of drying one or more materials impregnated in or on a traveling carrier |
US3286369A (en) * | 1963-03-04 | 1966-11-22 | Hupp Corp | Drying apparatus |
US3358302A (en) * | 1965-09-20 | 1967-12-19 | Whirlpool Co | Laundry machine and method |
US3289315A (en) * | 1965-10-29 | 1966-12-06 | Hupp Corp | Drying rolls utilizing belts transparent to infrared radiation |
US3414982A (en) * | 1966-05-02 | 1968-12-10 | Beloit Corp | Food dehydrator |
US3393532A (en) * | 1966-10-20 | 1968-07-23 | Design Process Engineering Inc | Refrigerated conveyor system |
US3400465A (en) * | 1967-01-26 | 1968-09-10 | Ireland James D | Permeable bed drying process |
US3559301A (en) * | 1968-07-29 | 1971-02-02 | Egan Machinery Co | Air flotation system for conveying web materials |
US3590495A (en) * | 1969-05-02 | 1971-07-06 | Goodyear Tire & Rubber | Dryer or heater with shielding means |
US3643342A (en) * | 1969-05-02 | 1972-02-22 | Goodyear Tire & Rubber | Dryer or heater with shielding means |
US3757426A (en) * | 1969-07-07 | 1973-09-11 | R Candor | Liquid removing method |
US3698095A (en) * | 1970-10-20 | 1972-10-17 | Colgate Palmolive Co | Fiber conditioning article |
US3634947A (en) * | 1970-10-20 | 1972-01-18 | Colgate Palmolive Co | Coating apparatus |
US3686772A (en) * | 1970-10-29 | 1972-08-29 | Ppg Industries Inc | Apparatus for drying textile material |
US4146361A (en) * | 1972-09-07 | 1979-03-27 | Cirrito Anthony J | Apparatus for hot gas heat transfer particularly for paper drying |
US4063367A (en) * | 1975-09-29 | 1977-12-20 | Leon Talalay | Method of and apparatus for drying liquid from a liquid-solid composite and sealing the remaining solid material |
US4148575A (en) * | 1977-07-22 | 1979-04-10 | Rca Corporation | Thermal processor |
US4255037A (en) * | 1978-04-17 | 1981-03-10 | Quantor Corporation | High speed, low temperature and pressure diazo processing apparatus |
US5090898A (en) * | 1979-11-16 | 1992-02-25 | Smith Thomas M | Infra-red heating |
FI61739C (fi) * | 1980-07-01 | 1982-09-10 | Valmet Oy | Torkningsfoerfarande och anordning |
DE3045485A1 (de) * | 1980-12-03 | 1982-07-08 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Verfahren und vorrichtung zum thermischen fixieren von tonerbildern |
JPS57143727A (en) * | 1981-02-27 | 1982-09-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | Magnetic recording medium |
US4365423A (en) * | 1981-03-27 | 1982-12-28 | Eastman Kodak Company | Method and apparatus for drying coated sheet material |
US4462169A (en) * | 1982-02-19 | 1984-07-31 | W. R. Grace & Company | Web dryer solvent vapor control means |
JPS58145945A (ja) * | 1982-02-25 | 1983-08-31 | Fuji Photo Film Co Ltd | フイルム乾燥装置 |
JPS58215651A (ja) * | 1982-06-10 | 1983-12-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光材料乾燥方法 |
US4501072A (en) * | 1983-07-11 | 1985-02-26 | Amjo, Inc. | Dryer and printed material and the like |
JPS61293899A (ja) * | 1985-06-21 | 1986-12-24 | Asia Genshi Kk | 感熱性孔版原紙 |
JPS62215956A (ja) * | 1986-03-17 | 1987-09-22 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 乾燥効率を改善した自動現像処理装置 |
US4638571A (en) * | 1986-04-02 | 1987-01-27 | Cook William A | Radio frequency nozzle bar dryer |
JPS62242942A (ja) * | 1986-04-15 | 1987-10-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | 写真フイルム乾燥方法 |
JPS6349760A (ja) * | 1986-08-20 | 1988-03-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 写真フイルム乾燥装置 |
JPS63143552A (ja) * | 1986-12-06 | 1988-06-15 | Konica Corp | デイスクフイルムの乾燥方法及び装置 |
JPH0731391B2 (ja) * | 1987-03-23 | 1995-04-10 | 富士写真フイルム株式会社 | 写真フィルム処理装置 |
JPS63236043A (ja) * | 1987-03-25 | 1988-09-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 写真フイルム処理機の乾燥温度制御方法 |
US4872270A (en) * | 1988-03-09 | 1989-10-10 | Eastman Kodak Company | Drying process |
US4959976A (en) * | 1988-12-07 | 1990-10-02 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Refrigerator, dry air generating device for the same, and method for operating the device |
JPH02163637A (ja) * | 1988-12-16 | 1990-06-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | 液体化学分析装置 |
US5077570A (en) * | 1989-03-13 | 1991-12-31 | Schell Barry E | Photo processing work station |
US6090243A (en) * | 1989-07-24 | 2000-07-18 | Corbellini; Glauco | Process for preparing a web of paper fibers |
US5197202A (en) * | 1990-09-26 | 1993-03-30 | Ppg Industries, Inc. | Method and apparatus for drying and curing a coated strand |
US5052125A (en) * | 1990-09-26 | 1991-10-01 | Ppg Industries, Inc. | Method and apparatus for supporting strand |
US5201132A (en) * | 1991-04-26 | 1993-04-13 | Busch Co. | Strip cooling, heating or drying apparatus and associated method |
EP0540728B1 (en) * | 1991-05-21 | 1998-07-29 | Eastman Kodak Company | Apparatus and method for coating a continuous web |
DE4127602A1 (de) * | 1991-08-21 | 1993-02-25 | Hoechst Ag | Verfahren und vorrichtung zum beruehrungsfreien fuehren eines beschichteten materialbandes |
US5452524A (en) * | 1992-03-09 | 1995-09-26 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive material drying method and apparatus |
ATE168324T1 (de) * | 1993-04-30 | 1998-08-15 | Heidelberger Druckmasch Ag | Bahnkühlungsvorrichtung |
US5536158A (en) * | 1993-10-25 | 1996-07-16 | Eastman Kodak Company | Apparatus for drying solvent based film |
US5598643A (en) * | 1994-11-23 | 1997-02-04 | Kimberly-Clark Tissue Company | Capillary dewatering method and apparatus |
US5689900A (en) * | 1995-08-21 | 1997-11-25 | Toshiba Battery Co., Ltd. | Drying apparatus and drying method |
US5853801A (en) | 1995-09-04 | 1998-12-29 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Process for the preparation of continuous optical compensatory sheet |
JP3554619B2 (ja) * | 1995-09-06 | 2004-08-18 | 富士写真フイルム株式会社 | 長尺状光学補償シートの製造方法 |
US5659972A (en) * | 1995-10-06 | 1997-08-26 | Avery Dennison Corporation | Apparatus and method for drying or curing web materials and coatings |
US5619806A (en) * | 1996-02-26 | 1997-04-15 | Warren; David W. | Drying of fiber webs |
US5621983A (en) * | 1996-03-29 | 1997-04-22 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Apparatus and method for deckeling excess air when drying a coating on a substrate |
EP0890068A1 (en) * | 1996-03-29 | 1999-01-13 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Apparatus and method for drying a coating on a substrate employing multiple drying subzones |
US5713138A (en) * | 1996-08-23 | 1998-02-03 | Research, Incorporated | Coating dryer system |
USRE38412E1 (en) * | 1996-09-04 | 2004-02-03 | Imation Corp. | Coated substrate drying system with magnetic particle orientation |
US5813133A (en) * | 1996-09-04 | 1998-09-29 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Coated substrate drying system with magnetic particle orientation |
US5758237A (en) * | 1997-01-21 | 1998-05-26 | Xerox Corporation | System for enhancing vacuum efficiency, particularly for conditioning liquid images in a liquid developing material-based electrostatographic system |
US5906862A (en) * | 1997-04-02 | 1999-05-25 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Apparatus and method for drying a coating on a substrate |
US5942322A (en) * | 1997-09-11 | 1999-08-24 | The Procter & Gamble Company | Reduced surface energy limiting orifice drying medium process of making and process of making paper therewith |
US6021583A (en) * | 1997-09-18 | 2000-02-08 | The Procter & Gamble Company | Low wet pressure drop limiting orifice drying medium and process of making paper therewith |
US5912072A (en) * | 1997-09-18 | 1999-06-15 | The Procter & Gamble Company | Process of reducing wet pressure drop in a limiting orifice drying medium and a limiting orifice drying medium made thereby |
US5873014A (en) * | 1998-01-08 | 1999-02-16 | Xerox Corporation | System for purging contaminants from a vacuum assisted image conditioning roll |
US5978630A (en) * | 1998-01-08 | 1999-11-02 | Xerox Corporation | System for cleaning contaminants from a vacuum assisted image conditioning roll |
JPH11293583A (ja) * | 1998-04-10 | 1999-10-26 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 多孔質ウェブの連続乾燥装置 |
US6047151A (en) * | 1998-05-06 | 2000-04-04 | Imation Corp. | Drying system and method for an electrophotographic imaging system |
US6280573B1 (en) * | 1998-08-12 | 2001-08-28 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Leakage control system for treatment of moving webs |
US6298578B1 (en) * | 1999-08-24 | 2001-10-09 | Mark H. Frampton | Apparatus and method for drying a ground surface |
JP4191855B2 (ja) * | 1999-08-24 | 2008-12-03 | 新日本石油株式会社 | 横延伸不織布の製造方法及び横延伸装置 |
US6735883B1 (en) * | 1999-10-15 | 2004-05-18 | Megtec Systems, Inc. | Electrostatic assisted web cooling and remoistening device |
US6223449B1 (en) * | 1999-11-18 | 2001-05-01 | Johnson Research & Development Company, Inc. | Apparatus for extracting plasticizer |
JP4147370B2 (ja) * | 1999-12-17 | 2008-09-10 | 富士フイルム株式会社 | 塗布膜の乾燥方法及び装置 |
US6381870B1 (en) * | 2000-01-07 | 2002-05-07 | Milliken & Company | Bag for home dry cleaning process |
US6421932B2 (en) * | 2000-02-14 | 2002-07-23 | Hitachi Electronics Engineering Co., Ltd. | Method and apparatus for drying substrate plates |
JP2002036266A (ja) * | 2000-07-21 | 2002-02-05 | Konica Corp | フィルム製造方法、フィルムおよび偏光板用フィルム |
JP3535457B2 (ja) * | 2000-09-11 | 2004-06-07 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板の熱処理装置 |
US6553689B2 (en) * | 2000-09-24 | 2003-04-29 | 3M Innovative Properties Company | Vapor collection method and apparatus |
US7143528B2 (en) * | 2000-09-24 | 2006-12-05 | 3M Innovative Properties Company | Dry converting process and apparatus |
US7032324B2 (en) * | 2000-09-24 | 2006-04-25 | 3M Innovative Properties Company | Coating process and apparatus |
US20030230003A1 (en) * | 2000-09-24 | 2003-12-18 | 3M Innovative Properties Company | Vapor collection method and apparatus |
EP1215330B1 (en) * | 2000-12-14 | 2005-03-23 | Whirlpool Corporation | Appliance for cleaning and refreshing fabrics with a built-in working indicator |
US20030017310A1 (en) * | 2001-03-16 | 2003-01-23 | Steve Young | Apparatus and method for efficiently producing high quality laminating substrates using liquid laminates and a resulting laminated product thereof |
US6533217B2 (en) * | 2001-03-20 | 2003-03-18 | Faustel, Inc. | Web-processing apparatus |
US6780470B2 (en) * | 2001-07-18 | 2004-08-24 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of coating a web with a solution |
JP4121324B2 (ja) * | 2001-07-18 | 2008-07-23 | 富士フイルム株式会社 | 乾燥方法及び乾燥装置 |
US6564473B2 (en) * | 2001-10-22 | 2003-05-20 | The Procter & Gamble Company | High efficiency heat transfer using asymmetric impinging jet |
US7513062B2 (en) * | 2001-11-02 | 2009-04-07 | Applied Materials, Inc. | Single wafer dryer and drying methods |
CN101414548B (zh) * | 2001-11-02 | 2011-10-19 | 应用材料股份有限公司 | 单个晶片的干燥装置和干燥方法 |
GB0130431D0 (en) * | 2001-12-20 | 2002-02-06 | Voith Fabrics Heidenheim Gmbh | Permeable membrane |
US7150110B2 (en) * | 2002-01-24 | 2006-12-19 | Voith Paper Patent Gmbh | Method and an apparatus for manufacturing a fiber web provided with a three-dimensional surface structure |
DK1488180T3 (da) * | 2002-03-04 | 2014-11-03 | Relco Llc | Fremgangsmåde til tørring af vandige fluider med højt lactoseindhold |
US20050026455A1 (en) * | 2003-05-30 | 2005-02-03 | Satomi Hamada | Substrate processing apparatus and substrate processing method |
KR100725441B1 (ko) * | 2003-07-10 | 2007-06-07 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 피막 시트의 제조방법, 광학 기능층, 광학 보상판, 광학소자 및 화상 표시 장치 |
JP2005115357A (ja) * | 2003-09-17 | 2005-04-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版及びその製造方法 |
JP4319532B2 (ja) * | 2003-12-03 | 2009-08-26 | 富士フイルム株式会社 | 帯状体の加熱方法および帯状体加熱装置 |
JP2005199186A (ja) * | 2004-01-16 | 2005-07-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | 機能性フイルムの製造方法、および機能性フイルム |
US7503998B2 (en) * | 2004-06-18 | 2009-03-17 | Georgia-Pacific Consumer Products Lp | High solids fabric crepe process for producing absorbent sheet with in-fabric drying |
US7828547B2 (en) * | 2004-12-10 | 2010-11-09 | Kodak Graphic Communications | Method and apparatus for rapidly heating printing plates |
US7638780B2 (en) * | 2005-06-28 | 2009-12-29 | Eastman Kodak Company | UV cure equipment with combined light path |
US20070119069A1 (en) * | 2005-11-30 | 2007-05-31 | Youngtack Shim | Electromagnetically-shielded hair drying systems and methods |
JP2007271137A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-18 | Fujifilm Corp | 塗布膜の乾燥方法及び装置並びに光学フィルムの製造方法 |
JP4951301B2 (ja) * | 2006-09-25 | 2012-06-13 | 富士フイルム株式会社 | 光学フィルムの乾燥方法及び装置並びに光学フィルムの製造方法 |
JP2008137002A (ja) * | 2006-11-07 | 2008-06-19 | Fujifilm Corp | 塗布膜の乾燥方法及び装置、並びにそれを用いた光学フイルム |
US7727594B2 (en) * | 2007-01-19 | 2010-06-01 | Fujifilm Corporation | Method for drying coated film, and apparatus therefor |
FI20075783L (fi) * | 2007-11-05 | 2009-05-06 | Metso Paper Inc | Rainanmuodostuskone |
JP2009236355A (ja) * | 2008-03-26 | 2009-10-15 | Fujifilm Corp | 乾燥方法及び装置 |
-
2006
- 2006-09-26 JP JP2006261389A patent/JP4901395B2/ja active Active
-
2007
- 2007-09-20 KR KR20070095803A patent/KR101486324B1/ko active IP Right Grant
- 2007-09-26 CN CN2007101543753A patent/CN101153934B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2007-09-26 CN CN201010528747.6A patent/CN102009034B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2007-09-26 US US11/861,808 patent/US8109010B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4150992A (en) * | 1977-12-27 | 1979-04-24 | Quantor Corporation | High speed, low temperature and pressure diazo processing method |
CN1334187A (zh) * | 2000-07-24 | 2002-02-06 | 富士胶片株式会社 | 溶液制膜方法 |
CN1457981A (zh) * | 2002-05-17 | 2003-11-26 | 长春一塑汽车内饰材料有限公司 | 一种塑料复合片材及其制造方法 |
CN1456857A (zh) * | 2003-06-05 | 2003-11-19 | 上海工程技术大学 | 智能型烘房风机回转供风系统 |
CN1579732A (zh) * | 2003-08-05 | 2005-02-16 | 通用电气公司 | 用于对薄膜表面进行压花的方法和设备 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103814266A (zh) * | 2011-08-01 | 2014-05-21 | Fmp技术有限责任公司液体测量及工程 | 干燥被施用于基底的流体膜的方法和装置 |
CN103814266B (zh) * | 2011-08-01 | 2016-01-06 | Fmp技术有限责任公司液体测量及工程 | 干燥被施用于基底的流体膜的方法和装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR101486324B1 (ko) | 2015-01-26 |
US8109010B2 (en) | 2012-02-07 |
JP4901395B2 (ja) | 2012-03-21 |
CN101153934B (zh) | 2012-04-25 |
JP2008080213A (ja) | 2008-04-10 |
KR20080028290A (ko) | 2008-03-31 |
CN101153934A (zh) | 2008-04-02 |
CN102009034B (zh) | 2014-06-18 |
US20080075867A1 (en) | 2008-03-27 |
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C10 | Entry into substantive examination | ||
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C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
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|
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