CN101947526A - 半导体工艺设备组件和部件的兆声精密清洁 - Google Patents

半导体工艺设备组件和部件的兆声精密清洁 Download PDF

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Abstract

提供使用各种兆声装置，结合选择性的化学制品以从在半导体、医学或其他任何处理环境中使用的处理设备的表面除去亚微米微粒污染物的方法和装置，其中该兆声装置包括兆声槽、扫描兆声板、兆声喷管和兆声扫描波束等。

Description

半导体工艺设备组件和部件的兆声精密清洁
本申请是申请号为200780047398.2，名称为“半导体工艺设备组件和部件的兆声精密清洁”，申请人为朗姆研究公司的中国专利申请的分案申请。
技术领域
[0001]本发明大体上有关于对处理和制造设备的精密清洁，尤其是，有关于使用兆声能量和选择性的清洁剂来清洁电子器件处理和制造设备以及其他类型的处理和制造设备等的装置和方法。
背景技术
在电子器件制造过程中，兆声清洁(megasonic cleaning)被广泛应用去除半导体晶片、磁性媒体等的微粒污染，以减轻微粒污染对晶片产量与器件可靠性的不利影响。然而，有关半导体晶片、磁性媒体和用于处理这些半导体晶片、磁性媒体的各部件、设备或者工具等之间的微粒和微量金属的交叉污染的担忧持续存在。
[0002]传统上，在电子器件制造过程中使用的对处理部件、设备和工具等的清洁是使用低频(小于75KHz)超声波精密清洁方法完成的。然而，随着半导体晶片等的临界尺寸的持续减小和沉积在处理部件、设备和工具等的表面的亚微米微粒(例如0.1μm-0.5μm)的数量的增长，低频超声波清洁技术不再能够从处理部件、设备、工具等中有效地清除亚微米微粒，这极大地影响了晶片生产线的产量和器件的产量等。
[0003]鉴于上述情况，需要提供一种施加兆声能量以有效地从半导体工艺设备元件等的表面去除亚微米微粒污染的途径。
发明内容
[0004]在一个实施方式中，本发明提供清洁处理元件的装置。该装置包含具有空腔的槽，该空腔由底部和一个或多个从该底部延伸的侧壁和面对该底部的开口限定。该槽被配置为在该空腔内容纳一定量的流体以浸泡该处理元件。该装置进一步包含板组件，其中该板组件能够在该处理元件的表面的上方移动并且产生与大体上垂直于该处理部件的该表面的方向有关的高频兆声能量。
[0005]在另一个实施方式中，本发明提供清洁处理元件的装置。该装置包含具有载体元件的处理室，其中该载体元件能够支撑该处理室内的该处理元件。该装置进一步包含流体供应组件，该流体供应组件能够向该处理元件的表面供应流体。该装置还包含波束组件，该波束组件能够产生高频兆声声波能量波束，其中该声波能量波束被应用于该处理元件的表面
[0006]在再一个实施方式中，本发明提供清洁处理元件的装置。该装置包含具有载体元件的处理室，其中该载体元件能够支撑该处理室内的该处理元件。该装置进一步包含喷管组件，该喷管组件能够向该处理元件供应超声能量化的流体。
[0007]从下面结合实施方式和以实施例的方式描绘本发明原理的附图进行的具体描述中，本发明的其他特征也会变得显而易见。
附图说明
[0008]通过下面的描述，并参考附图，可以更好的理解本发明及其进一步的优点，其中：
[0009]图1是描述在部件的表面施加兆声能量带来的围绕处理中的元件的选择性表面的静态流体边界内形成的微涌力的侧视图；
[0010]图2A是描绘，依照本发明的一个实施方式，包括扫描兆声板的兆声精密清洁装置的横断面视图；
[0011]图2B是描绘图2A所示的兆声精密清洁装置的一个替代实施方式的横断面视图；
[0012]图3A是描绘，依照本发明的一个实施方式，包括扫描兆声波束的兆声精密清洁装置的横断面视图；
[0013]图3B是描绘，依照本发明的一个替代实施方式，包括扫描兆声射线的兆声精密清洁装置的横断面视图；
[0014]图4是描绘，依照本发明的一个实施方式，包括兆声喷管的兆声精密清洁装置的横断面视图；以及
[0015]图5是描绘，依照本发明的一个实施方式，包括替代的兆声喷管的兆声精密清洁装置的横断面视图。
具体实施方式
[0016]本发明的实施方式提供了施加兆声能量以有效地从电子器件处理部件、元件、工具等或任何其它的虽然不是基板或晶片，但是可能遭受有机或无机的亚微米微粒污染的部件、元件、工具等中除去亚微米微粒污染的系统、装置和方法。尤其是，本发明的实施方式提供一种使用高频兆声能量(大约600kHz-2MHz)和选择性的清洁剂(例如化学品、流体等)结合各种清洁装置以从处理部件、元件、工具等的表面除去亚微米微粒的途径。
[0017]本发明的实施方式的精密清洁装置可以包括兆声槽、扫描兆声板、兆声喷管和兆声扫描波束，其可以用于提高待清洁的部件、元件、工具等表面上产生的微涌力(参见图1)，并可以用于清洁具有各种复杂结构、尺寸和关键元件的部件、元件、工具等。在本发明的实施方式中，可以选择性的选择各种类型的清洁剂以增强兆声清洁处理的性能，并与制造该部件、元件、工具等的材料的化学和物理特性兼容。而且，在本发明的实施方式中，可以选择性地施加(例如加热、再循环、按顺序地等)各种类型的清洁剂以进一步优化该兆声清洁处理。
[0018]在本文对本发明的实施方式的描述中，提供许多的具体细节，比如元件和/或方法的实施例，以提供对本发明的实施方式的彻底的了解。然而，相关领域的技术人员应当意识到，没有这些具体细节中的一个或多个，或者使用其他的装置、系统、组件、方法、元件、材料、部件等，本发明的实施方式仍然可以实现。在其它情况下，没有对熟知的结构、材料、或操作特别显示或者详细描述以避免模糊本发明的实施方式的各方面。本发明包括若干方面，下面对本发明进行了展示并结合附图和实施方式进行了描述。
[0019]在图1中，本发明的实施方式的清洁装置与空穴作用和微涌力有关，当空穴作用和微涌力与化学作用或其它任何作用相结合时，可以从处理元件等的表面除去污染物。空穴作用是向液体介质施加声波能量时溶解气体中产生的微气泡的快速形成和破裂。在破裂时，通过打破将亚微米微粒固着到部件等的表面的粘着力，气泡释放的能量有助于微粒的除去。如图1所示，当使用压电兆声传感器等施加到待清洁的处理元件112表面106的兆声能量104穿透围绕处理元件112的一个或多个表面的静态流体边界层(或弯液面)108时，微涌力102产生。该微涌力102产生抽吸作用110(也就是说，当能量被施加到该压电式传感器等时，由声波传播穿过静态流体边界层108所导致的流体运动)，该抽吸作用持续地将新的溶液传送到处理元件112的该一个或多个表面，同时从处理元件112的一个或多个表面除去污染物并耗尽老的化学物质。
[0020]在图2A中描述了依照本发明的一个实施方式的兆声精密清洁装置200。装置200包括兆声槽202，该兆声槽具有底部203和从底部203延伸的侧壁205，以形成空腔207。该槽202的该空腔207容纳清洁溶液或流体209，因为其可促进对处理元件208的兆声精密清洁的能力而将其选择性的选出。将处理元件208浸于该清洁溶液209中并由载体212支撑。然而，在本发明的实施方式中可以使用任何合适的工具来支撑在清洁溶液209中的处理元件208。此处所使用的清洁溶液和清洁化学物质是可以互换的。在本发明的一个实施方式中，清洁溶液209可以包括含水碱溶液(例如NH4OH+H2O2+H2O)、含水酸溶液(例如HCl+H2O2+H2O、HF+H2O2+H2O)、中性表面活性剂溶液、酸性表面活性剂溶液、碱性表面活性剂溶液、含水表面活性剂溶液或有机溶剂和水的混合物等等。含水酸溶液有助于从部件、元件、工具等表面除去微粒污染和微量金属。中性、酸性和碱性表面活性剂溶液可用于调整部件、元件、工具等上的表面化学物质以防止微粒重新沉积在该部件、元件、工具的表面上。含水表面活性剂溶液可用于润湿疏水性表面(比如Si、SiC和石墨)，以提高兆声的微涌。有机溶剂和水的混合物也被用于增强疏水性表面的湿润度。然而，重要的是，应当注意，本发明的实施方式使用的清洁溶液209可以是任何合适的清洁溶液、流体等，其中该清洁溶液、流体等是适于兆声清洁的，而且包括这样的特性：可提高微涌的进行以促进微粒的除去，同时可防止处理元件208表面上的微粒的再次沉积。在本发明的另一个实施方式中，该清洁溶液209可以使用原地过滤的方法进行再循环以增强微粒去除效率并防止微粒再次沉积到处理元件208的表面。在本发明的又一个实施方式中，可以使用清洁化学物质209的选择性的序列以优化该精密兆声清洁处理。例如，首先使用表面活性剂溶液或有机溶剂比如IPA(异丙醇)/DIW(去离子水)混合物，然后根据处理元件208的材料的化学性质使用酸性或碱性溶液。
[0021]仍旧参考图2A，依照本发明的一个实施方式，该装置200可以包括一个或多个耦合在该兆声槽202的底部203的兆声传感器210，以及一个或多个耦合在该兆声槽202的侧壁205的兆声传感器204。各兆声传感器210可以包括各自的传感器元件210a-210d和共振器元件210a′-210d′。同样地，各兆声传感器204可以包括各自的传感器元件204a-204d和共振器元件204a′-204d′。该兆声传感器204、210可以是任何的合适的市场上可买到的兆声传感器等。该装置200可以进一步包括扫描兆声板组件214，该扫描兆声板组件214包括兆声传感器206。该兆声传感器206可包括传感器元件206a和共振器元件206b。如图2A所示，依照一个实施方式，该兆声传感器206被浸于该清洁溶液209中。然而，在另一个实施方式中，该槽202可以提供干燥室(也就是说去除清洁溶液209)且该兆声传感器206可以被配置在该处理元件208上方且其包括高频兆声能量转移液体介质，该液体介质从该共振器元件206b流到处理元件208的暴露表面上。在一个实施方式中，该兆声板组件214能够在该处理元件208上方沿着位于槽202的开口附近的大概的水平面使用向前、向后、横向、斜角或环形等扫描运动移动，以使兆声能量最大限度地暴露于处理元件208的表面。在一个实施方式中，该兆声板组件214可以耦合支撑结构，该支撑结构位于槽202的开口附近。然而，可以使用任何其他合适的工具来支撑该兆声板组件214，以便该兆声板组件214能够在该处理元件208上方移动。在本发明的一个实施方式中，该一个或多个兆声传感器210、该一个或多个兆声传感器204和该扫描兆声板组件214可以被理想地定向或调整以在多个方向(包括垂直于该处理元件208表面的方向)共同并同时产生兆声(声波的)能量215，以在围绕该处理元件208的静态流体边界层216内形成微涌力。在本发明的一个实施方式中，该兆声传感器210和该兆声传感器204可以被配置为一个阵列列(未示)，从而相应传感器阵列中的单一传感器和/或传感器区域可以以不同的时间间隔通电从而最佳化清洁效率并节省能源。
[0022]图2B是图2A中所示的兆声精密清洁装置200的一个替代实施方式。如图2B所示，可以使用在该槽202的底部203耦合并在该空腔207内的第二扫描兆声板组件218代替图2A所示的该兆声传感器210。类似地，对于图2A所示的该扫描兆声板组件214，该第二扫描兆声板组件218包括兆声传感器220，该兆声传感器220包括传感器元件220a和共振器元件220b。在一个实施方式中，该兆声传感器220被配置以便该兆声传感器220被浸于该清洁溶液209。该第二扫描兆声板组件218能够在该处理元件208上方沿着位于槽202的底部203附近的大概的水平面使用向前、向后、横向、斜角或环形等扫描运动移动。在图2B的实施方式中，该一个或多个横向传感器204和该扫描兆声板组件214、218可以被理想地定向或调整以在多个方向(包括垂直于该处理元件表面的方向)共同并同时产生兆声(声波的)能量215，以在围绕该处理元件208的静态流体边界层内形成微涌力。类似于图2A所示的兆声传感器206，将图2B所示的相应的兆声传感器206、220浸于该清洁溶液209中。然而，在一个实施方式中，该槽202可以提供干燥室(也就是说去除清洁溶液209)且图2B所示的该兆声传感器206、220可以分别被配置在该处理元件208的上方和下方且其包括高频兆声能量转移液体介质，该液体介质从该共振器元件206b、220b流到处理元件208的暴露表面上。
[0023]而且，可以提供关于图2A和2B讨论的那些实施方式的替代实施方式。在本发明的一个实施方式中，类似于图2A和图2B所示的该扫描兆声板组件214、218的扫描兆声板组件(未示)可以在该兆声槽202的侧壁205耦合，以沿着位于各自的侧壁205附近的大概的垂直面移动。在本发明的一个实施方式中，类似于图2A和图2B所示的该扫描兆声板组件214、218的扫描兆声板组件(未示)，可被耦合于该槽202以沿着该槽202的该底部203、该侧壁205和罩(未示)移动，其中该扫描兆声板组件能够大体上扫描到处理元件208的全部表面。
[0024]在关于图2A和图2B讨论的那些实施方式的替代实施方式中，图2A和图2B中的该载体212可以被制造为运动组件，该运动组件可以在该槽空腔207中旋转该处理元件208。在一个实施方式中，该载体212的旋转运动可与图2A中的兆声传感器204、206、210中的一个或几个的结合结合起来使用，以清洁该处理元件208的表面。在一个实施方式中该载体212的旋转运动可与图2B中的兆声传感器204、206、220中的一个或几个的结合结合起来使用，以清洁该处理元件208的表面。
[0025]图3A描绘了，依照本发明的另一个实施方式，包括扫描兆声波束组件310的精密清洁装置300。该装置300还包括处理室302，其包括载体328，或者任何的其它的合适的支撑该处理元件318的工具。在本发明的一个实施方式中，该扫描兆声波束组件310包括兆声传感器部分310a和头部310b。该扫描兆声波束组件310可以延伸穿过该处理室302的开口312进入空腔308。在该兆声波束组件310的该兆声传感器部分310a产生并从该扫描兆声波束组件310的该头部310b放射的兆声(声波的)波束314放射并扫描处理元件318的暴露表面315、316，同时，从流体供应组件307的清洁源326提供的去离子水或清洁溶液320被从喷嘴322喷淋在该处理元件318的暴露表面315、316上。该流体供应组件307可包括将该喷嘴322耦合到该清洁源326的供应管线306。形成围绕该处理元件318的暴露表面315、316的静态流体边界324，来自波束314的兆声能量透过该静态流体边界移动并与流体320相互作用以形成微涌力，该微涌力持续地将新的去离子水或清洁溶液320传送到该处理元件318的暴露表面315、316，同时从该处理元件的暴露表面315、316等除去污染物。
[0026]图3B描绘了，依照本发明的另一个实施方式，包括扫描兆声波束组件332的精密清洁装置330。该装置330进一步包括处理室302，该处理室302包括载体328或任何其它支撑该处理元件318的合适的工具。在本发明的一个实施方式中，该扫描兆声波束组件332包括兆声传感器部分332a和头部332b。该扫描兆声波束组件332穿过该处理室302的开口312延伸入空腔308。在一个实施方式中，该兆声传感器部分332a包括通道334，其具有进口336和出口338，其中来自清洁剂源326的去离子水或清洁溶液320等从供应管线306中在该兆声传感器部分332a的进口336处进入该兆声波束组件332。该去离子水或清洁溶液320沿着通道334移动，在出口338流出该通道334并流入头部332b。在头部332b，在该兆声波束组件332的该兆声传感器部分332a产生并从该扫描兆声波束组件332的该头部332b放射的兆声(声波的)波束314放射并扫描处理元件318的暴露表面315、316，同时，从流体供应组件307的清洁源326提供的声波能量化的去离子水或清洁溶液320被从头部332b喷淋在该处理元件318的暴露表面315、316上。形成围绕该处理元件318的暴露表面315、316的静态流体边界324，来自波束314的兆声能量透过该静态流体边界移动并与流体320相互作用以形成微涌力，该微涌力持续地将新的去离子水或清洁溶液320传送到该处理元件318的暴露表面315、316，同时从该处理元件的暴露表面315、316等除去污染物。在一个实施方式中，如下面详述的，载体328能够旋转该处理元件318以便该处理元件318的全部表面都暴露于该波束314放射的兆声能量和该去离子水或清洁溶液320中。在一个实施方式中，首先应用该清洁溶液320，然后在施加兆声能量的同时应用去离子水。
[0027]参考图3A和3B，为了最佳化对该处理元件318的精密清洁，在本发明的一个实施方式中，该处理元件318可以在载体328上或通过载体328被手动或机械翻转，或旋转以便于从处理元件318的全部表面除去污染物。而且，在本发明的一个实施方式中，该扫描兆声波束组件310、332的头部310b、332b能够使用向前、向后、横向、斜角或环形等扫描运动以提供兆声能量对该处理元件318的表面的最大量的暴露。
[0028]况且，如上面图2所示，图3A和图3B的清洁溶液320可以包括含水碱溶液(例如NH4OH+H2O2+H2O)、含水酸溶液(例如HCl+H2O2+H2O、HF+H2O2+H2O)、中性表面活性剂溶液、酸性表面活性剂溶液、碱性的表面活性剂溶液、含水表面活性剂溶液或有机溶剂和水的混合物等。再次，重要的是，应当注意，然而，该清洁溶液可以是可以用作兆声清洁的任何合适的清洁溶液、流体等320。该清洁溶液320可以包括促进微涌进程以便于除去微粒并避免微粒在部件、工具、元件等318的表面上再次沉积的特性。在本发明的一个实施方式中，加热该清洁溶液或该去离子水320以增强微粒去除效率。同样地，可以使用原地过滤的手段使该去离子水或清洁溶液320再循环以增加微粒去除效率并防止微粒再次沉积到该处理元件318的表面315、316。以及，在本发明的又一个的实施方式中，使用类似于在上面的图2中讨论的选择性的顺序的清洁化学物质320来优化图3中的精密兆声清洁工艺。
[0029]图4描绘了，依照本发明的另一个实施方式，包括兆声喷管组件402的兆声精密清洁装置400。该装置400包括处理室404，该处理室404包括载体432或任何其它支撑该处理元件428的合适的工具。在一个实施方式中，如图4所示，该兆声喷管组件402可延伸穿过处理室404的开口412，或者该兆声喷管组件402可以被配置为直接位于该处理室404的边缘434上方。在一个实施方式中，该兆声喷管组件402包括主体部分402a和耦合于该主体部分402a的出口414的兆声传感器喷嘴部分402b。该主体部分402a包括具有进口418和该出口414的通路416，其中来自清洁剂源422的去离子水或清洁溶液等420从供应管线408在该主体部分402a的该进口418进入该兆声喷管组件402。该去离子水或清洁溶液420沿着通路416移动，在该出口414处流出该通路416，并流入该兆声传感器部分的喷嘴402b。该兆声传感器喷嘴部分402b能够产生声能，以便该去离子水或清洁溶液等420流过该兆声传感器喷嘴部分402b的通路406。流体420被声波能量化并从该兆声传感器喷嘴部分402b被喷淋到处理元件428的暴露表面424、426上。通过将该被声波能量化的流体420′从该兆声传感器喷嘴部分402b喷淋到处理元件428的暴露表面424、426上，围绕该处理元件428的暴露表面424、426的静电流体边界层430内的微涌力持续地将新的溶液传送到该处理元件428的表面424、426，同时从处理元件428的表面424、426上除去微粒污染物并耗尽老的化学物质。相对于本发明的其他实施方式，此处所述的该清洁溶液420可以是可被用于兆声清洁而且包括促进微涌进程以便于除去微粒并避免微粒在部件、工具、元件等318的表面上再次沉积的特性的任何合适的溶液。而且，该流体420可以被加热、再循环以及如图2-3所示的序列化。
[0030]仍然参考图4，为了优化该处理元件428的表面424、426的清洁效率，兆声传感器喷嘴部分402b可以是旋转式喷嘴，该旋转式喷嘴能够使用向前、向后、横向、斜角或环形的扫描运动来喷淋该声波能量化的流体420，以进一步优化该处理元件428的表面424、426的清洁效率，依照本发明的一个实施方式。在另一个实施方式中，该处理元件428可以在该载体432上或通过载体432被手动或机械翻转或者旋转，以便于使用上面刚刚描述过的精密清洁手段来从该处理元件428的前面未暴露的表面除去污染物等。
[0031]图5描绘了，依照本发明的另一个实施方式，包括替代的兆声喷管组件502的兆声精密清洁装置500。该装置500包括处理室504，该处理室504包括载体530或任何其它支撑该处理元件528的合适的工具。在一个实施方式中，如图5所示，该兆声喷管组件502可延伸穿过处理室504的开口512，或者该兆声喷管组件502可以被配置为位于该处理室504的面对底部503的开口。在图5实施方式中，该兆声喷管组件502包括兆声传感器主体部分502a和耦合于该兆声传感器主体部分502a的出口514的喷嘴部分502b。该兆声传感器的主体部分502a包括具有进口518和该出口514的通路516，其中该兆声传感器的主体部分502a能够产生声能并将该声能传播入该通路516，以便当来自清洁剂源522的清洁溶液等520通过供应管线508在该兆声传感器主体部分502a的进口518进入该兆声喷管组件502时，当该流体沿着通路516移动时被声波能量化，且该声波能量化的流体520’被从该喷嘴部分502b喷淋到处理元件528的暴露表面524、526上。
[0032]仍然参考图5，为了优化该处理元件528的表面524、526的清洁效率，该喷嘴部分502b可以是旋转式喷嘴，该旋转式喷嘴能够使用向前、向后、横向、斜角或环形的扫描运动来喷淋该声波能量化的流体420′，以进一步优化该处理元件528的表面524、526的清洁效率，依照本发明的一个实施方式。在另一个实施方式中，该处理元件528可以在该载体530上或通过载体530被手动或机械翻转或者旋转，以便于使用上面刚刚描述过的精密清洁手段来从该处理元件528的前面未暴露的表面除去污染物等。
[0033]鉴于以上的讨论，本发明的实施方式的该兆声清洁装置和方法的一个优点是在提供在半导体、医学或任何其它的处理环境中使用的工具、元件、部件等的精密清洁，以从该工具、元件、部件等的表面除去亚微米微粒污染物。这与传统系统相比具有优势，在传统系统中，例如，用于清洁工艺设备的低频超声能量在除去亚微米微粒污染物上是没有效率的。依照本发明的实施方式，可以使用不同的兆声装置来清洁具有各种结构、尺寸和临界表面形态的元件。例如，当工具、元件或部件等被打上小直径(例如小于1mm)的深(比如大于10mm)孔时，困在这些深孔内的亚微米微粒，类似于在等离子体干刻装置等装置中使用的硅电极的气孔，使用本发明的实施方式有效地除去，否则非常难以除去。而且，可以使用不同的化学物质来增强对工具、元件、部件等的兆声精密清洁，并根据在清洁的部件的化学及物理特性，使用不同的化学物质或溶液来提升该兆声精密清洁装置的性能。而且，化学物质的应用顺序也可以被用于优化对工具、元件、部件等的兆声精密清洁工艺。换句话说，在本发明的实施方式中使用的清洁机制将从兆声能量中产生的微涌力与化学作用结合起来，从而，精密兆声清洁的效率是这样确定的：微涌力产生抽吸作用并将新的化学物质传送到待清洁和漂洗的工具、元件、部件等的表面；污染物之间的化学作用，其中待清洁表面的表面zeta电位可以通过添加化学品以进行调整，从而在待清洁的表面和微粒或者薄膜污染物之间形成排斥力；以及从待清洁的表面上使用机械方法除去松散的微粒。而且，依照本发明的实施方式，酸性或碱性的清洁溶液可以结合兆声能量的应用被用于更加容易地从处理元件的表面除去金属杂质。
[0034]尽管为了更清楚的理解而对前述发明做了详细描述，然而，显然，可以在所附权利要求的范围内作出一定的更改和修改。相应地，所述的实施方式应当被认为是描述性的而非限制性的，且本发明不限于此处所给出的细节，而是可以在所附权利要求的范围和等同内作出修改。

Claims (6)

1.一种清洁处理元件的装置，包含：
具有载体元件的处理室，其中该载体元件能够支撑该处理室内的该处理元件；
流体供应组件，该流体供应组件能够向该处理元件的表面供应流体；以及
波束组件，该波束组件能够产生高频兆声声波能量波束，其中该高频兆声声波能量波束被应用于该处理元件的表面。
2.根据权利要求1所述的装置，其中该流体供应组件包括将喷嘴耦合于流体源的供应管线。
3.根据权利要求1所述的装置，其中该流体是去离子水。
4.根据权利要求1所述的装置，其中该流体是含水碱溶液、含水酸溶液、中性表面活性剂溶液、酸性表面活性剂溶液、碱性表面活性剂溶液、含水表面活性剂溶液或有机溶剂和水的混合物。
5.根据权利要求1所述的装置，其中该波束组件是扫描波束组件，该扫描波束组件能够使用扫描运动以对该处理元件的该表面施加该声波能量波束。
6.根据权利要求1所述的装置，其中该高频兆声声波能量是具有600KHz到2MHz的频率的能量。
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