KR101988116B1 - 미세 버블을 이용한 세정 시스템 및 방법 - Google Patents

미세 버블을 이용한 세정 시스템 및 방법 Download PDF

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Abstract

버블을 이용한 세정 시스템 및 방법이 개시된다. 상기 세정 시스템은 물이 채워진 챔버 및 상기 챔버 내에서 물에 담가진 세정 장치를 포함한다. 여기서, 상기 세정 장치는 적어도 하나의 채널을 가지고, 세정시 상기 채널 내에는 버블이 형성되며, 상기 버블의 진동에 의해 세정 대상물 상의 파티클이 제거된다.

Description

미세 버블을 이용한 세정 시스템 및 방법{CLEANING SYSTEM AND METHOD USING MICROBUBBLES}
본 발명은 미세 버블을 이용한 세정 시스템 및 방법에 관한 것이다.
최근, 반도체 소자의 미세화가 진행됨에 따라 수율과 신뢰성 향상을 위한 공정 중 기판(웨이퍼) 상에 발생하는 금속 불순물과 같은 파티클, 특히 나노 파티클을 제거하는 세정 기술의 중요성이 대두되고 있다.
파티클 세정을 위한 기존 기술로는, 파티클 크기에 따라 브러쉬 세정, 초음파 세정 또는 APM(Amonum Peroxide Mixture)을 통한 전기 화학적 방법이 사용되었다.
그러나, 이러한 기술들은 브러쉬나 초음파에 의해 기판(실리콘) 상의 구조물을 손상시키거나, APM이 클리닝 과정 중 실리콘을 식각시켜 패턴을 손상시키고 환경 오염 문제를 일으킬 수 있다.
따라서, 기판 표면 상의 패턴 또는 구조의 손상없이 나노 파티클을 효율적으로 제거할 수 있는 기술이 요구된다.
KR 10-1746742 B
본 발명은 버블을 이용한 세정 시스템 및 방법을 제공하는 것이다.
상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 세정 시스템은 물이 채워진 챔버; 및 상기 챔버 내에서 물에 담가진 세정 장치를 포함한다. 여기서, 상기 세정 장치는 적어도 하나의 채널을 가지고, 세정시 상기 채널 내에는 버블이 형성되며, 상기 버블의 진동에 의해 세정 대상물 상의 파티클이 제거된다.
본 발명의 일 실시예에 따른 세정 장치는 바디; 및 상기 바디 상에 형성된 적어도 하나의 채널을 포함한다. 여기서, 세정시 상기 세정 장치는 물 속에 담가지고, 상기 채널 내에는 진동체가 존재되며, 상기 진동체의 진동에 의해 세정 대상물 상의 파티클이 제거된다.
본 발명의 일 실시예에 따른 세정 방법은 적어도 하나의 채널을 가지는 세정 장치의 채널 내에 버블을 형성하는 단계; 및 상기 버블을 진동시켜 유동장 또는 압력장을 발생시키는 단계를 포함한다. 여기서, 상기 발생된 유동장 또는 압력장에 의해 세정 대상물의 파티클이 제거된다.
본 발명에 따른 세정 시스템은 버블의 진동을 이용하여 기판의 나노 파티클을 제거한다. 따라서, 상기 세정 시스템은 기판의 패턴 또는 구조물을 손상시키지도 않고 환경 오염 문제를 일으키지 않으면서 효율적으로 나노 파티클을 제거할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 세정 방법을 도시한 도면이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 세정 방법의 개념을 도시한 도면이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 미세 버블이 발생시키는 미세 유동장을 도시한 도면이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 세정에 따른 기판의 변화를 도시한 도면이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 세정 장치를 도시한 도면이다.
도 6은 A-A' 라인을 따라 절취한 세정 장치를 도시한 도면이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 마이크로 패널의 다양한 형상들을 도시한 도면이다.
도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 세정 시스템을 도시한 도면이다.
본 명세서에서 사용되는 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, "구성된다" 또는 "포함한다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 여러 구성 요소들, 또는 여러 단계들을 반드시 모두 포함하는 것으로 해석되지 않아야 하며, 그 중 일부 구성 요소들 또는 일부 단계들은 포함되지 않을 수도 있고, 또는 추가적인 구성 요소 또는 단계들을 더 포함할 수 있는 것으로 해석되어야 한다. 또한, 명세서에 기재된 "...부", "모듈" 등의 용어는 적어도 하나의 기능이나 동작을 처리하는 단위를 의미하며, 이는 하드웨어 또는 소프트웨어로 구현되거나 하드웨어와 소프트웨어의 결합으로 구현될 수 있다.
본 발명은 세정 장치 및 방법에 관한 것으로서, 진동체, 특히 미세 버블을 이용하여 세정 대상물, 예를 들어 기판(예를 들어, 실리콘 기판) 표면의 파티클, 특히 초미세입자(나노 파티클)를 제거할 수 있다. 즉, 본 발명의 세정 방법은 화학적인 방법이 아닌 물리적인 방법이다.
기존 기술로서, 나노 파티클을 제거하기 위하여 전기 화학적 방법이 사용되었으나, 이러한 전기 화학적 방법은 클리닝 과정 중 실리콘을 식각시켜 패턴을 손상시키거나 환경 오염을 유발하는 문제점이 있었다.
반면에, 본 발명의 세정 방법은 화학 성분의 사용없이 미세 버블의 진동을 이용하여 기판을 세정하므로, 나노 파티클을 효율적으로 제거하면서도 상기 기판 상의 패턴을 손상시키거나 환경 오염 문제를 발생시키지 않을 수 있다.
이하, 본 발명의 다양한 실시예들을 첨부된 도면을 참조하여 상술하겠다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 세정 방법을 도시한 도면이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 세정 방법의 개념을 도시한 도면이며, 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 미세 버블이 발생시키는 미세 유동장을 도시한 도면이고, 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 세정에 따른 기판의 변화를 도시한 도면이다.
도 1을 참조하면, 본 실시예의 세정 시스템은 물이 채워져 있는 챔버(수조, 100), 세정 장치(102) 및 음파 발생기(106)를 포함한다.
세정 장치(102)는 챔버(100) 내에서 물에 담가지며, 도 1에 도시된 바와 같이 적어도 하나의 마이크로 채널(110)을 포함한다.
도 1은 세정 방법을 개념적으로 도시한 도면이며, 세정 장치(102)는 실질적으로는 챔버(100) 내에 고정적으로 설치된다. 예를 들어, 세정 장치(102)의 일측면이 챔버(100)의 내부면에 접촉하여 고정될 수 있다. 물론, 세정 장치(102)가 챔버(100) 내부에 고정되는 한, 세정 장치(102)의 고정 방법은 특별한 제한이 없다.
한편, 세정 장치(102)는 도 1에 도시된 바와 같이 세정 대상물인 기판(104)과 마주보도록 배열되며, 그 결과 마이크로 채널(110) 내의 버블(112)이 기판(104)과 마주보게 된다.
일 실시예에 따르면, 마이크로 채널(110) 내에는 진동체, 바람직하게는 마이크로 버블(112)이 형성된다. 이러한 버블(112)을 형성하기 위하여, 마이크로 채널(110)의 내부는 소수성막(Hydrophobic layer)이 코팅될 수 있다. 이렇게 소수성막을 코팅하면, 채널(110)의 내부가 침수되지 않아서 채널(110)과 동일한 형태로 미세 버블(112)이 채널(110) 내에 안정적으로 형성될 수 있다.
음파 발생기(106)는 챔버(100)의 외부에 위치하며, 소정 주파수의 음파를 발생시킬 수 있다. 예를 들어, 음파 발생기(106)는 피에조액츄에이터(Piezoactuator)일 수 있다.
음파 발생기(106)가 오프되어 있을 때는 마이크로 채널(110) 내의 버블(112)이 진동하지 않지만, 음파 발생기(106)가 온되면 마이크로 채널(110) 내의 버블(112)이 수축 및 팽창을 반복하며, 즉 진동하게 된다. 이 경우, 도 1의 우측 도면에 보이는 바와 같이, 버블(112)에 의한 유동장 및 압력장에 의해 기판(104) 표면의 파티클이 제거될 수 있다.
도 2를 참조하여 구체적으로 살펴보면, 버블(112)의 팽창은 버블 주변의 유체를 밀어내는데 이때 밀려나는 유동은 채널 입구부 전방을 향해 분사되는 단방향성의 제트형태를 띈다. 반면에, 버블(112)의 수축은 버블 주변의 유체를 잡아당기는데 이때 발생하는 유동은 채널 입구부 전방위의 유체를 균일하게 채널 안쪽으로 빨아들인다. 이 같은 상이한 유체의 움직임은 채널입구의 형상에 의해서 발생하며 일상생활에서 입술을 동그랗게 말은 후 들숨과 날숨을 쉬어보는 것으로 쉽게 확인할 수 있다. 이러한 팽창 및 수축은 빠르고 주기적으로 발생하며, 그 결과 두 유동의 운동량이 합쳐져 결국엔 전방으로 분사되는 제트유동이 주된 유동으로 남는다. 전방으로 강하게 분사되는 제트유동은 유동이 전달하는 운동량을 통해 기판(104) 표면의 미세 파티클을 제거할 수 있다.
이러한 버블(112)로 인한 유동장 및 압력장은 도 3에서 시각적으로 확인될 수 있다. 도 3은 이러한 유동장 및 압력장을 확인하기 위하여 형광 파티클을 이용하였다.
한편, 위에서는 버블(112)을 진동시키기 위한 수단으로 음파 발생기(106)가 사용되었으나, 버블(112)을 진동시키는 한 버블(112)의 구동 수단은 제한이 없다.
정리하면, 본 발명의 세정 시스템은 세정 장치(102)의 마이크로 채널들(110) 내에 미세 버블(112)을 형성하고, 그런 후 음파를 이용하여 미세 버블(112)을 진동시켜서 기판(104) 표면의 미세 파티클을 제거할 수 있다.
본 발명의 기판 세정 시스템을 이용하여 미세 파티클을 제거한 결과는 도 4에서 보여진다. 도 4에서 확인하는 바와 같이, 기판(104) 표면의 파티클이 미세 버블(112)에 의한 유동장 및 압력장에 의해 깨끗하게 제거될 수 있다.
이하, 세정 장치(102)의 다양한 구조들을 살펴보겠다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 세정 장치를 도시한 도면이고, 도 6은 A-A' 라인을 따라 절취한 세정 장치를 도시한 도면이며, 도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 마이크로 패널의 다양한 형상들을 도시한 도면이다.
도 5를 참조하면, 본 실시예의 세정 장치(102)는 바디(500) 및 마이크로 채널들(110)을 포함할 수 있다.
마이크로 채널들(110)은 바디(500) 상에 형성되며, 일정한 규칙을 가지고 배열될 수 있다. 예를 들어, 마이크로 채널들(110) 사이의 가로 방향에서의 간격들이 일정할 수 있고 세로 방향에서의 간격들이 일정할 수 있다.
또한, 마이크로 채널들(110)의 사이즈 또한 모두 동일할 수 있다. 다만, 세정 효율을 고려하여 마이크로 채널들(110) 중 일부의 사이즈가 다를 수도 있다.
일 실시예에 따르면, 마이크로 채널(110)은 홀일 수 있으며, 도 6에 도시된 바와 같이 채널 벽(600) 상에 소수성막(602)이 코팅된 구조를 가질 수 있다. 여기서, 채널 벽(600)은 바디(500)에 해당한다.
다만, 마이크로 채널(110)은 홀이지만, 실제 세정시에는 마이크로 채널(110)의 일측이 챔버(100)의 내부면에 의해 막히도록 세정 장치(102)가 챔버(100)의 내부면에 접촉하여 고정될 수 있으며, 그 결과 버블(112)은 막히지 않은 방향(개구 방향)으로 진동하게 된다. 물론, 마이크로 채널(110)의 막히지 않은 방향에 기판(104)이 배열된다.
다른 실시예에 따르면, 마이크로 채널(110)은 일측이 막힌 홈일 수도 있다.
즉, 마이크로 채널(110)은 홀 또는 홈일 수 있다.
마이크로 채널(110)이 홀일 경우, 마이크로 채널(110)은 도 7의 (A)에 도시된 바와 같이 원통형 형상을 가지거나 도 7의 (B)에 도시된 바와 같이 사다리꼴(단면) 형상을 가질 수 있다. 사다리꼴 형상의 경우, 폭이 넓은 밑변이 챔버(100)의 내부면에 막히고, 폭이 좁은 윗변이 개방된 구조를 가질 수 있다.
마이크로 채널(110)이 홈인 경우, 마이크로 채널(110)은 도 7의 (C)에 도시된 바와 같이 원통형 형상을 가지거나 도 7의 (D)에 도시된 바와 같이 사다리꼴(단면) 형상을 가질 수 있다. 사다리꼴 형상의 경우, 홈의 개방 부분의 폭은 바닥의 폭보다 좁을 수 있다.
즉, 마이크로 채널(110)은 다양한 형상을 가질 수 있다. 다만, 마이크로 채널들(110)이 모두 동일한 형상을 가질 수도 있고, 일부는 다른 형상을 가질 수도 있다.
위의 세정 장치(102)는 하나의 기판(104)을 세정할 수 있는 구조를 가졌으나, 이하 복수의 기판들을 세정할 수 있는 구조를 상술하겠다.
도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 세정 시스템을 도시한 도면이다.
도 8을 참조하면, 세정 장치(800)의 마이크로 채널들(810)에는 버블(812)이 형성되되, 마이크로 채널들(810)은 양측이 개방된 홀이다.
이 경우, 세정 장치(800)의 양측에 기판들(802 및 804)이 배열될 수 있다. 결과적으로, 세정 장치(800)는 한번에 2개의 기판들(802 및 804)을 세정할 수 있다.
즉, 본 발명의 세정 시스템은 적어도 하나의 기판을 세정할 수 있다.
위에서는, 하나 또는 2개의 기판들을 세정하는 시스템을 언급하였으나, 세정 장치(800)의 면들 중 3개 이상의 면들에 개구를 형성하여 3개 이상의 기판들을 세정할 수도 있다.
또한, 세정 장치가 위에서는 직육면체 형상이었으나, 팔면체 등 다양한 형상을 가질 수도 있다.
한편, 전술된 실시예의 구성 요소는 프로세스적인 관점에서 용이하게 파악될 수 있다. 즉, 각각의 구성 요소는 각각의 프로세스로 파악될 수 있다. 또한 전술된 실시예의 프로세스는 장치의 구성 요소 관점에서 용이하게 파악될 수 있다.
상기한 본 발명의 실시예는 예시의 목적을 위해 개시된 것이고, 본 발명에 대한 통상의 지식을 가지는 당업자라면 본 발명의 사상과 범위 안에서 다양한 수정, 변경, 부가가 가능할 것이며, 이러한 수정, 변경 및 부가는 하기의 특허청구범위에 속하는 것으로 보아야 할 것이다.
100 : 챔버 102, 800 : 세정 장치
104, 802, 804 : 기판 106 : 음파 발생기
110, 810 : 마이크로 채널 112, 812 : 버블

Claims (12)

  1. 삭제
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 삭제
  6. 세정 장치에 있어서,
    바디; 및
    상기 바디 상에 형성된 적어도 하나의 채널을 포함하며,
    세정시 상기 세정 장치는 물 속에 담가지고, 상기 채널 내에는 진동체가 존재되며, 상기 진동체의 진동에 의해 세정 대상물 상의 파티클이 제거되고,
    상기 채널은 홀이며, 세정시 상기 홀의 일 종단이 챔버의 내부면에 의해 막히고 다른 종단만이 개방되되,
    상기 세정 대상물은 상기 개방된 종단과 마주보는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
  7. 제6항에 있어서, 상기 채널은 마이크로 채널이고, 상기 진동체는 마이크로 버블이며, 상기 파티클은 나노 파티클이고, 상기 채널 내부에는 소수성막이 코팅되어 있는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
  8. 제7항에 있어서, 상기 버블의 진동에 따라 유동장 및 압력장이 발생하며, 상기 발생된 유동장 및 압력장에 의해 상기 세정 대상물의 파티클이 제거되는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
  9. 삭제
  10. 삭제
  11. 제6항에 있어서, 상기 홀은 원통형 형상 또는 사다리꼴 형상을 가지되,
    사디리꼴 형상인 경우, 세정시 넓은 폭을 가지는 밑변이 상기 챔버의 내부면에 의해 막히는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
  12. 삭제
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