KR101746742B1 - 세정유닛의 이물질 제거가 가능한 유리기판용 세정장치 - Google Patents

세정유닛의 이물질 제거가 가능한 유리기판용 세정장치 Download PDF

Info

Publication number
KR101746742B1
KR101746742B1 KR1020160157129A KR20160157129A KR101746742B1 KR 101746742 B1 KR101746742 B1 KR 101746742B1 KR 1020160157129 A KR1020160157129 A KR 1020160157129A KR 20160157129 A KR20160157129 A KR 20160157129A KR 101746742 B1 KR101746742 B1 KR 101746742B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
cleaning
brush
glass substrate
cleaning unit
unit
Prior art date
Application number
KR1020160157129A
Other languages
English (en)
Inventor
임석규
Original Assignee
주식회사 마루엠
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 마루엠 filed Critical 주식회사 마루엠
Priority to KR1020160157129A priority Critical patent/KR101746742B1/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101746742B1 publication Critical patent/KR101746742B1/ko

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02041Cleaning
    • H01L21/02096Cleaning only mechanical cleaning
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02041Cleaning
    • H01L21/02043Cleaning before device manufacture, i.e. Begin-Of-Line process
    • H01L21/02052Wet cleaning only
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02041Cleaning
    • H01L21/02057Cleaning during device manufacture
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/6704Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
    • H01L21/67046Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly scrubbing means, e.g. brushes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/6704Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
    • H01L21/67051Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly spraying means, e.g. nozzles

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Cleaning In General (AREA)

Abstract

본 발명은 세정유닛의 이물질 제거가 가능한 유리기판용 세정장치에 관한 것으로서, 유리기판을 일방향으로 이동시키는 이송유닛과, 상기 이송유닛의 일단 상부에 형성되어 상기 이송유닛에 의해 이송되는 상기 유리기판에 세정액을 분사하는 분사유닛과, 상기 이송유닛의 중단 상부에 다수개로 형성되며 브러시가 상기 유리기판에 밀착되어 회전하면서 상기 유리기판에 묻은 이물질을 제거하는 세정유닛과, 상기 세정유닛에 결합되며 상기 브러시를 세척하여 상기 브러시에 묻은 이물질을 상기 브러시로부터 이탈시키는 세척유닛을 포함하는 것을 특징으로 한다.

Description

세정유닛의 이물질 제거가 가능한 유리기판용 세정장치{A cleaning device for a glass substrate capable of removing foreign substances from a cleaning unit}
본 발명은 세정유닛의 이물질 제거가 가능한 유리기판용 세정장치에 관한 것으로, 유리기판을 세정하면서 융에 흡착되는 이물질을 제거할 수 있어 장치를 정지시키지 않고 연속적으로 가동할 수 있는 세정유닛의 이물질 제거가 가능한 유리기판용 세정장치에 관한 것이다.
일반적으로 액정표시장치(LCD) 또는 플라즈마표시장치(PDP)와 같은 평판표시장치에 사용되는 기판을 제조하는 공정에는 소정의 표면처리가 완료된 기판으로부터 각종 유기성 오염물질 또는 무기성 오염물질을 제거하는 세정 공정이요구되며, 이러한 세정공정은 세정 장치에 의해 이루어지고 있다.
특히 최근에는 유기발광 다이오드(OLED)를 이용한 액정표시장치에서는 종래의 액정표시장치에 비해 더 많은 세정력을 요구하고 있다.
이러한 세정 공정은 메인 공정에 투입되기 전, 또는 메인 공정 중의 기판 표면으로부터 각종 오염물질을 제거함으로써, 불량이 발생하지 않도록 하는 것을 목적으로 하고 있다.
한국특허 등록번호 제10-1080859호는 세정장비의 브러시 제어장치 및 방법에 관한 것으로서 기판, 기판의 적어도 일 표면과 물리적으로 접촉하여 기판을 세정하는 롤 타입의 브러시, 브러시와 관통 삽입되도록 결합된 회전축, 회전축과 고정부재에 의해 결합되어 브러시를 평행하게 유지시키는 한 쌍의 수직프레임, 수직프레임을 구동시켜 브러시의 높낮이를 조절하는 높이조절부, 고정부재의 적어도 일측에 결합되어 회전축을 회전시키는 구동모터, 구동모터의 전류값을 측정하는 전류측정부, 및 전류측정부의 전류값으로부터 기판과 브러시의 이상 접촉여부를 검출하고 기판과 브러시가 최적접촉환경을 유지하도록 브러시를 제어하는 제어부를 포함하며 구동모터의 전류값을 측정하여 브러시의 높낮이를 조절함으로써 피처리물에 대한 적정 접촉량을 제어하여 균일한 세정력을 유지할 수 있도록 하는 것을 특징으로 하고 있다.
그러나 상기와 같은 종래 기술의 경우 유리기판에서 제거된 오염 입자들이 브러시에 의해 유리기판으로 재부착 되어 전달됨으로써, 세정 효율을 떨어뜨리는 문제점이 있었다.
이에 따라, 세정공정간 브러시 자체 세정하는 방법이 시도가 되고 있으나, 세정액에 의한 유리기판의 세정과 고속으로 회전하는 브러시에 의한 유리기판 세정이 동시에 진행된다면 공기 중으로 떠다니게 되는 오염물들이 다시 유리기판에 안착되는 문제점이 발생되고 있다.
또한, 브러시에 묻은 오염물을 세정 또는 교체하기 위해 설비를 정지시키는 경우 재가동 까지 유리기판을 세정할 수 없기 때문에 생산성이 떨어지는 문제점이 있었다.
한국특허 등록번호 제10-1080859호
상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은 회전하는 브러시를 이용하여 유리기판에 존재하는 이물질을 제거하고, 브러시를 세척함으로써 유리기판으로부터 브러시에 흡착된 이물질을 제거할 수 있는 세정유닛의 이물질 제거가 가능한 유리기판용 세정장치를 제공하는 것이다.
또한 본 발명의 다른 목적은 브러시를 세척할 때 브러시로부터 이탈된 이물질이 세정된 유리기판으로 전달되는 현상을 차단할 수 있는 세정유닛의 이물질 제거가 가능한 유리기판용 세정장치를 제공하는 것이다.
또한 본 발명의 다른 목적은 브러시를 세척할 때 장치를 정지시키지 않고 세척할 수 있도록 함으로써 생산성이 저하되는 현상을 방지하는 세정유닛의 이물질 제거가 가능한 유리기판용 세정장치를 제공하는 것이다.
상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 세정유닛의 이물질 제거가 가능한 유리기판용 세정장치는 유리기판을 일방향으로 이동시키는 이송유닛과, 상기 이송유닛의 일단 상부에 형성되어 상기 이송유닛에 의해 이송되는 상기 유리기판에 세정액을 분사하는 분사유닛과, 상기 이송유닛의 중단 상부에 다수개로 형성되며 브러시가 상기 유리기판에 밀착되어 회전하면서 상기 유리기판에 묻은 이물질을 제거하는 세정유닛과, 상기 세정유닛에 결합되며 상기 브러시를 세척하여 상기 브러시에 묻은 이물질을 상기 브러시로부터 이탈시키는 세척유닛을 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한 본 발명의 세정유닛의 이물질 제거가 가능한 유리기판용 세정장치의 상기 세정유닛은 상기 이송유닛 방면으로 하강하여 유리기판을 세정하거나 상기 이송유닛 상부 방면으로 상승하여 상기 세척유닛에 의해 상기 브러시가 세척되는 것을 특징으로 한다.
또한 본 발명의 세정유닛의 이물질 제거가 가능한 유리기판용 세정장치의 상기 세정유닛은 둘 이상으로 이루어져 있으며 세척을 위해 하나 이상의 세정유닛이 상승되면 미리 세척된 세정유닛이 하강하여 상기 유리기판을 세정함으로써 세척시간에 관계없이 상기 유리기판을 세정할 수 있는 것을 특징으로 하는
또한 본 발명의 세정유닛의 이물질 제거가 가능한 유리기판용 세정장치의 상기 세척유닛은 상기 세정유닛에 형성된 두 개의 회전하는 브러시 사이에 형성되며 상기 브러시의 외주면과 접촉되어 상기 브러시에 부착된 이물질을 이탈시키기 위해 표면에 엠보싱이 형성된 세척플레이트와, 상기 세척플레이트의 상부에 형성되며 상기 브러시를 세척할 때는 상기 세척플레이트를 상기 브러시 사이로 하강시켜 세척하고 세척 후에는 상기 브러시의 이물질이 이탈되지 않도록 상승시키는 실린더와, 상기 세정유닛을 세척할 때 상기 브러시로부터 이탈되는 이물질이 상기 유리기판로 떨어지지 않도록 상기 브러시를 감싸는 단면이 반원형으로 된 커버로 이루어지는 것을 특징으로 한다.
또한 본 발명의 세정유닛의 이물질 제거가 가능한 유리기판용 세정장치의 상기 커버는 상기 세정유닛이 하강할 때는 상기 브러시가 상기 유리기판에 밀착되도록 상기 브러시의 상부로 회전되고, 상기 세정유닛이 상승할 때는 상기 브러시의 하부에 이물질이 떨어지지 않도록 상기 브러시의 하부 방향으로 회전되는 것을 특징으로 한다.
또한 본 발명의 세정유닛의 이물질 제거가 가능한 유리기판용 세정장치의 상기 세척유닛은 상기 커버에 형성되며 상기 브러시를 세척할 때 상기 브러시에서 이탈된 이물질이 비산되지 않도록 상기 브러시에 세척액을 공급하는 공급관과, 상기 커버에 형성되어 상기 브러시를 세척한 후 이물질이 함유된 오염된 세척액을 배출하는 배출관을 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한 본 발명의 세정유닛의 이물질 제거가 가능한 유리기판용 세정장치의 상기 세정유닛은 두 개의 원통이 수평으로 배치되어 있으며 회전모터에 의해 서로 다른 방향으로 회전할 수 있도록 구성되는 롤러와, 상기 롤러의 외주면에 부착되어 상기 유리기판에 형성된 이물질을 흡착할 수 있도록 이루어진 흡착재로 이루어진 브러시와, 상기 브러시를 세척하거나 유리기판을 세정할 수 있도록 볼스크루와 승강모터를 이용하여 상기 롤러를 승강시키는 승강장치로 이루어지는 것을 특징으로 한다.
상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 세정유닛의 이물질 제거가 가능한 유리기판용 세정장치에 의하면 회전하는 브러시를 이용하여 유리기판에 존재하는 이물질을 제거하고, 브러시를 세척함으로써 유리기판으로부터 브러시에 흡착된 이물질을 제거할 수 있는 효과가 있다.
또한 본 발명에 따른 세정유닛의 이물질 제거가 가능한 유리기판용 세정장치에 의하면 브러시를 세척할 때 브러시로부터 이탈된 이물질이 세정된 유리기판으로 전달되는 현상을 차단할 수 있는 효과가 있다.
또한 본 발명에 따른 세정유닛의 이물질 제거가 가능한 유리기판용 세정장치에 의하면 브러시를 세척할 때 장치를 정지시키지 않고 세척할 수 있도록 함으로써 생산성이 저하되는 현상을 방지하는 효과가 있다.
도 1은 본 발명에 따른 세정유닛의 이물질 제거가 가능한 유리기판용 세정장치의 전체적인 구성을 나타낸 측단면도.
도 2는 본 발명에 따른 세정유닛의 이물질 제거가 가능한 유리기판용 세정장치의 세정유닛을 나타낸 사시도.
도 3은 본 발명에 따른 세정유닛의 이물질 제거가 가능한 유리기판용 세정장치의 세정유닛이 작동되는 모습을 나타낸 도면.
도 4는 본 발명에 따른 세정유닛의 이물질 제거가 가능한 유리기판용 세정장치의 세척유닛이 작동되는 모습을 나타낸 도면.
본 발명의 구체적 특징 및 이점들은 이하에서 첨부도면을 참조하여 상세히 설명한다. 이에 앞서 본 발명에 관련된 기능 및 그 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 구체적인 설명을 생략하기로 한다.
본 발명은 세정유닛의 이물질 제거가 가능한 유리기판용 세정장치에 관한 것으로, 유리기판을 세정하면서 융에 흡착되는 이물질을 제거할 수 있어 장치를 정지시키지 않고 연속적으로 가동할 수 있는 세정유닛의 이물질 제거가 가능한 유리기판용 세정장치에 관한 것이다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시 예를 첨부한 도면을 참고로 상세하게 설명하기로 한다.
도 1은 본 발명에 따른 세정유닛(300)의 이물질 제거가 가능한 유리기판용 세정장치의 전체적인 구성을 나타낸 측단면도이다.
도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 세정유닛(300)의 이물질 제거가 가능한 유리기판용 세정장치는 유리기판을 일방향으로 이동시키는 이송유닛(100)과, 이송유닛(100)의 일단 상부에 형성되어 이송유닛(100)에 의해 이송되는 유리기판에 세정액을 분사하는 분사유닛(200)과, 이송유닛(100)의 중단 상부에 다수개로 형성되며 브러시(310)가 유리기판에 밀착되어 회전하면서 유리기판에 묻은 이물질을 제거하는 세정유닛(300)과, 세정유닛(300)에 결합되며 브러시(310)를 세척하여 브러시(310)에 묻은 이물질을 브러시(310)로부터 이탈시키는 세척유닛(400)을 포함하는 것을 특징으로 한다.
이송유닛(100)은 세정장치의 일측에서 타측까지 형성된 컨베이어로 구성되어 있으며 분사유닛(200)과 세정유닛(300)에 의해 유리기판에 묻은 이물질을 제거할 수 있도록 일측에 적재되거나 공급된 유리기판을 세정장치의 타측방향으로 이송시키게 된다.
분사유닛(200)은 이송유닛(100)의 일단 상부에 형성되어 있으며 이송유닛(100)에 의해 이송되는 유리기판의 이물질이 쉽게 제거될 수 있도록 유리기판의 상부면에 세정액을 분사시키는 다수 개의 분사노즐(210)이 형성되어 있다.
세정유닛(300)은 수평으로 배치되어 회전되는 둘 이상의 브러시(310)가 이송유닛(100)에 의해 이송되는 유리기판의 상부면에 밀착되어 이물질을 유리기판으로부터 이탈시킨 후 흡착시킴으로써 유리기판을 세정할 수 있게 된다.
또한 세정유닛(300)은 이송유닛(100) 방면으로 하강하여 유리기판을 세정하거나 이송유닛(100) 상부 방면으로 상승하여 세척유닛(400)에 의해 브러시(310)가 세척되는 것을 특징으로 한다.
세정유닛(300)은 도 2에 도시된 승강장치(320)에 의해 이송유닛(100)을 향해 하강하거나 상승할 수 있도록 구성되며 도 2의 승강장치(320)에 의해 이송유닛(100)을 향해 세정유닛(300)이 하강하게 되면 브러시(310)가 유리기판의 상부면에 밀착되어 회전함으로써 유리기판의 이물질을 제거할 수 있게 된다.
이때 도 2의 승강장치(320)는 세정유닛(300)의 높이를 조절함으로써 브러시(310)가 유리기판에 밀착되는 압력을 조절할 수 있게 되며, 보다 바람직하게는 브러시(310)에 가해지는 압력을 측정하는 센서를 구비함으로써, 브러시(310)에 가해지는 압력을 자동으로 측정한 후 도 2의 승강장치(320)가 설정된 압력이 유지되도록 높이를 조절하게 할 수도 있다.
또한 세정유닛(300)의 브러시(310)가 유리기판의 이물질을 제거하여 표면에 이물질이 흡착된 상태인 경우 유리기판의 이물질을 제거하지 못하고 브러시(310)에 흡착된 이물질이 유리기판에 다시 재 부착될 수 있기 때문에 도 2의 승강장치(320)는 브러시(310)가 설정된 시간동안 유리기판을 세정하면 세정유닛(300)을 상승시켜 세척유닛(400)에 의해 브러시(310)에 흡착된 이물질을 세척시키게 된다.
또한 세정유닛(300)은 둘 이상으로 이루어져 있으며 세척을 위해 하나 이상의 세정유닛(300)이 상승되면 미리 세척된 세정유닛(300)이 하강하여 유리기판을 세정함으로써 세척시간에 관계없이 유리기판을 세정할 수 있는 것을 특징으로 한다.
세정유닛(300)의 브러시(310)를 세척하기 위해 도 2의 승강장치(320)에 의해 이송유닛(100)의 상부 방면으로 상승하게 되어 세척하는 동안 이송유닛(100)에 의해 이송되는 유리기판을 세정할 수 없으므로 세정장치가 정지시켜야 하며 이로 인해 생산성이 감소되는 문제점이 발생하게 된다.
이를 해결하기 위해 세정유닛(300)은 둘 이상으로 형성되고 각각의 세정유닛(300)은 이송유닛(100)의 길이 방향을 따라 차례대로 배치시킨 후 하나의 세정유닛(300)이 상승하여 브러시(310)를 세척할 때 다른 세정유닛(300)은 하강하여 유리기판의 이물질을 제거하도록 구성된다.
즉, 세정유닛(300)이 다수개로 형성되어 있기 때문에 각각의 세정유닛(300)이 서로 번갈아가며 유리기판에 밀착되어 이물질을 제거할 수 있게 되며 어느 하나의 세정유닛(300)이 상승할 때에도 다른 세정유닛(300)이 하강함으로써 세정장치를 정지시키지 않고도 세정유닛(300)의 브러시(310)를 세척할 수 있게 된다.
세척유닛(400)은 세정유닛(300)에 형성된 브러시(310)의 표면에 흡착된 이물질을 이탈시키기 위해 세정유닛(300)에 결합되어 있으며, 세정유닛(300)이 상승하게 되면 두 개의 브러시(310) 사이에 세척플레이트(410)가 하강하여 브러시(310)의 외주면에 밀착하게 되고 브러시(310)가 회전되면서 발생된 압력에 의해 브러시(310)의 외주면에 흡착된 이물질이 이탈되게 된다.
이때 브러시(310)에 묻은 이물질이 유리기판로 떨어지지 않도록 브러시(310)의 하부를 감싸는 단면이 반원형으로 된 커버(430)가 형성되며, 커버(430)는 세정유닛(300)이 하강할 때는 브러시(310)가 유리기판에 밀착되도록 브러시(310)의 상부로 회전되고, 세정유닛(300)이 상승할 때는 브러시(310)의 하부에 이물질이 떨어지지 않도록 브러시(310)의 하부 방향으로 회전되는 것을 특징으로 한다.
세정유닛(300)이 이송유닛(100)의 상부 방면으로 상승한 후 세척유닛(400)에 의해 브러시(310)에 흡착된 이물질을 제거하는 경우 제거된 이물질이 공기 중으로 비산되거나 하부에 이송되는 유리기판으로 떨어질 수 있는 문제점이 있다.
이를 해결하기 위해 세정유닛(300)에는 단면이 반원형으로 구성되는 커버(430)가 형성되어 브러시(310)의 주위를 감싸도록 구성되며, 커버(430)는 세정유닛(300)이 상승되면 브러시(310) 하부로 떨어지는 이물질을 막을 수 있도록 개구된 면이 상부를 향하도록 회전되고 세정유닛(300)이 하강하면 브러시(310)가 유리기판에 밀착될 수 있도록 개구된 면이 하부를 향하도록 회전되게 된다.
즉, 회전에 의해 커버(430)의 개구된 부위가 상부로 향하여 커버(430)의 하부로 이탈되어 낙하하는 이물질을 받칠 수 있어 세척유닛(400)이 브러시(310)를 세척할 때 이물질이 비산되지 않도록 방지할 수 있게 된다.
또한 세정유닛(300)이 하강하여 브러시(310)가 유리기판에 밀착되는 경우 커버(430)의 개구된 부위가 하부를 향하도록 커버(430)가 회전됨으로써 브러시(310)가 유리기판을 세정할 수 있게 된다.
도 2는 본 발명에 따른 세정유닛(300)의 이물질 제거가 가능한 유리기판용 세정장치의 세정유닛(300)을 나타낸 사시도이다.
도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 세정유닛(300)의 이물질 제거가 가능한 유리기판용 세정장치의 세정유닛(300)은 도 1의 브러시(310)를 세척하거나 유리기판을 세정할 수 있도록 볼스크루(322)와 승강모터(도시되지 않음)를 이용하여 롤러(311)를 승강시키는 승강장치(320)를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
세정유닛(300)은 승강장치(320)에 의해 도 1의 이송유닛(100) 방면으로 하강하여 유리기판을 세정하거나 도 1의 이송유닛(100) 상부 방면으로 상승하여 도 1의 브러시(310)에 흡착된 이물질을 세척할 수 있도록 승강되게 된다.
승강장치(320)는 각종 장치가 결합될 수 있도록 판상형으로 이루어진 이송판(321)과, 이송판(321)에 형성되어 이송판(321)이 회전되지 않고 수직으로 이동할 수 있도록 지지하는 가이드(323)와, 회전력을 공급받으면 제자리에서 회전하여 이송판(321)을 승강시키는 볼스크루(322)와, 볼스크루(322)에 회전력을 공급하는 승강모터(도시되지 않음)로 이루어진다.
가이드(323)는 이송판(321)을 관통하도록 구성되어 있으며, 이송판(321)의 각 모서리 부근에 위치하여 이송판(321)이 수평방면으로 회전되지 않도록 지지하게 된다.
볼스크루(322)는 일측과 타측에 각각 형성된 가이드(323) 사이에 이송판(321)을 관통하여 삽입되고 이송판(321)에는 볼스크루(322)의 나사산에 결합되어 있어 볼스크루(322)가 회전하면 볼스크루(322)의 나사산을 따라 승강하도록 구성되게 된다.
볼스크루(322)에 회전력을 전달하는 승강모터(도시되지 않음)는 일측과 타측에 각각 형성된 볼스크루(322)에 동일한 회전력을 전달할 수 있도록 체인(도시되지 않음) 또는 벨트(도시되지 않음)로 두 볼스크루(322)가 동시에 회전하도록 구성되는 것이 바람직하다.
승강모터(도시되지 않음)가 회전하게 되면 볼스크루(322)는 제자리에서 회전하게 되고 이송판(321)은 볼스크루(322)의 나사산을 따라 상승하여 도 1의 브러시(310)를 세척유닛(400)에 의해 세척하거나 도 1의 이송유닛(100)을 향해 하강하여 도 1의 브러시(310)가 유리기판을 세정하도록 승강시킬 수 있게 된다.
또한 이송판(321)의 상부에는 커버(430)를 회전시키기 위한 구동모터(440)가 형성되어 있으며 이송판(321)이 상승하는 경우 구동모터(440)에 의해 커버(430)가 회전하여 커버(430)의 개구된 부위가 상부를 향하도록 하여 도 1의 브러시(310) 하부에 떨어지는 이물질을 받아내도록 구성되게 된다.
도 3은 본 발명에 따른 세정유닛(300)의 이물질 제거가 가능한 유리기판용 세정장치의 세정유닛(300)이 작동되는 모습을 나타낸 도면이고, 도 4는 본 발명에 따른 세정유닛(300)의 이물질 제거가 가능한 유리기판용 세정장치의 세척유닛(400)이 작동되는 모습을 나타낸 도면이다.
도 3 내지 도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명에 다른 세정유닛(300)의 이물질 제거가 가능한 유리기판용 세정장치의 세정유닛(300)은 두 개의 원통이 수평으로 배치되어 있으며 회전모터(313)에 의해 서로 다른 방향으로 회전할 수 있도록 구성되는 롤러(311)와, 롤러(311)의 외주면에 부착되어 유리기판에 형성된 이물질을 흡착할 수 있도록 이루어진 흡착재(312)로 이루어진 브러시(310)를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
브러시(310)는 도 2의 승강장치(320)에 의해 승강되는 이송판(321)의 하부에 형성된 고정판(330)에 결합되어 있으며 회전모터(313)를 통해 회전되는 롤러(311)와, 롤러(311)의 외주면에 부착되어 유리기판의 이물질을 흡착하여 제거하는 흡착재(312)로 구성되어 있다.
세정장치의 브러시(310)가 도 2의 승강장치(320)에 의해 유리기판에 밀착되게 되면 고정판(330)의 상부에 형성된 회전모터(313)가 롤러(311)를 회전시키게 되며 흡착재(312)는 유리기판과 밀착되어 이물질을 흡착하게 된다.
이때 흡착재(312)의 재질은 융 또는 면사로 이루어진 재질로 이루어지는 것이 바람직하며 롤러(311)의 외주면에 탈부착이 가능하도록 구성되어 흡착재(312)가 손상되는 경우 흡착재(312)만 교체하여 사용할 수 있도록 하는 것이 바람직하다.
또한 브러시(310)는 둘 이상으로 형성시켜 하나의 브러시(310)가 이물질의 대부분을 흡착한 후 나머지 브러시(310)가 남은 이물질을 흡착함으로써 세정력을 높일 수 있게 되고 각각의 브러시(310)에는 회전모터(313)가 각각 형성되어 이물질이 유리기판에서 이탈되기 용이하도록 서로 회전되는 방향을 달리 하여 이물질을 흡착시킬 수 있게 된다.
세척유닛(400)은 세정유닛(300)에 형성된 두 개의 회전하는 브러시(310) 사이에 형성되며 브러시(310)의 외주면과 접촉되어 브러시(310)에 부착된 이물질을 이탈시키기 위해 표면에 엠보싱이 형성된 세척플레이트(410)와, 세척플레이트(410)의 상부에 형성되며 브러시(310)를 세척할 때는 세척플레이트(410)를 브러시(310) 사이로 하강시켜 세척하고 세척 후에는 브러시(310)의 이물질이 이탈되지 않도록 상승시키는 실린더(420)와, 세정유닛(300)을 세척할 때 브러시(310)로부터 이탈되는 이물질이 유리기판로 떨어지지 않도록 브러시(310)를 감싸는 단면이 반원형으로 된 커버(430)로 이루어지는 것을 특징으로 한다.
도 3-B와 같이, 브러시(310)가 유리기판에 밀착되는 경우 커버(430)의 개구된 부위는 하부면을 향하도록 구동모터(440)에 의해 회전되어 브러시(310)가 커버(430)로부터 돌출되는 것이 바람직하다.
커버(430)는 이송판(321)의 양측 하부로 돌출되는 지지판(324)에 결합된 연결축(442)에 구속된 후 구동모터(440)의 회전력을 전달하는 구동벨트(441)에 의해 연결축(442)을 기준으로 회전되도록 구성되어 있다.
이때 연결축(442)은 고정판(330)과 연결되어 있기 때문에 연결축(442)이 회전되면 고정판(330)에 결합된 브러시(310)도 회전하게 되므로 연결축(442)은 회전되지 않고 고정되어야 하며, 커버(430)에 별도의 베어링(도시되지 않음)을 결합된 후 구동벨트(441)가 베어링을 회전시킴으로써 연결축(442)은 회전시키지 않고 커버(430)만 회전시킬 수 있게 할 수 있다.
세척플레이트(410)는 고정판(330)의 중앙을 관통하여 브러시(310) 사이로 실린더(420)에 의해 상승 또는 하강할 수 있으며, 역삼각형 형상으로 구성되고 경사면에는 내측으로 삽입되거나 외측으로 돌출된 엠보싱이 형성되게 된다.
세척플레이트(410)는 실린더(420)에 의해 승하강하는 연결대(421)와 결합되어 있어 브러시(310)가 유리기판에 밀착할 때는 실린더(420)에 의해 상승되어 브러시(310)의 흡착재(312)로부터 이격되게 된다.
도 4-A와 같이, 도 2의 승강장치(320)에 의해 세정유닛(300)이 상승하게 되면 세척유닛(400)의 구동모터(440)가 커버(430)를 회전시켜 개구된 부위가 이송판(321) 방향을 향하도록 회전시키게 되어 브러시(310)의 하부와 그 주위에는 커버(430)가 받쳐주는 형상이 된다.
또한 도 4-B와 같이 고정판(330)이 커버(430)의 개구된 부위를 막아 이물질이 비산되더라도 커버(430)의 개구된 부위를 통해 외부로 배출되지 않도록 방지할 수 있게 된다.
세척플레이트(410)는 실린더(420)의 동작에 의해 브러시(310) 사이로 하강하여 흡착재(312)의 외주면에 밀착하게 되고 회전모터(313)에 의해 브러시(310)가 회전하게 되면 세척플레이트(410)의 경사면에 형성된 내측으로 파여지거나 외측으로 돌출된 엠보싱에 의해 이물질이 가압되어 커버(430)로 낙하하게 된다.
이때 세척유닛(400)은 커버(430)에 형성되며 브러시(310)를 세척할 때 브러시(310)에서 이탈된 이물질이 비산되지 않도록 브러시(310)에 세척액을 공급하는 공급관(도시되지 않음)과, 커버(430)에 형성되어 브러시(310)를 세척한 후 이물질이 함유된 오염된 세척액을 배출하는 배출관(도시되지 않음)을 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
세척플레이트(410)가 브러시(310) 사이로 하강한 후 브러시(310)가 회전하게 되면 흡착재(312)에 가해진 가압력에 의해 흡착된 이물질이 커버(430)로 떨어져 나가게 되는데, 이때 미세한 이물질의 경우 공기 중으로 비산될 수 있으므로 이를 방지하기 위해 커버(430)에는 브러시(310)를 세척하기 위한 공급관(도시되지 않음)과 배출관(도시되지 않음)이 더 구비되게 된다.
공급관(도시되지 않음)에서 공급되는 세척액은 커버(430)의 하부를 채우거나 브러시(310)로 분사되어 미세한 이물질이 공기 중으로 비산되지 않도록 방지하게 되며 회전되는 브러시(310)가 세척플레이트(410)의 엠보싱에 의해 가압되면서 이물질만 배출하는 것이 아닌 흡착재(312)를 세척액에 의해 화학적, 물리적으로 세척할 수도 있게 된다.
이때 브러시(310)는 회전모터(313)에 의해 고속으로 회전됨으로써 흡착재(312)가 세척플레이트(410)에 타격되는 효과를 발생할 수 있어 세척력을 높일 수 있게 된다.
브러시(310)를 세척하면서 이물질이 함유된 세척액은 배출관(도시되지 않음)을 통해 외부로 배출할 수 있게 되며 이때 커버(430) 내부에는 세척액이 배출관(도시되지 않음)으로 흐를 수 있도록 경사지도록 형성되는 것이 바람직하다.
또한 공급관(도시되지 않음)은 고압의 공기를 공급하는 링브로워 또는 압축기를 이용하여 세척액을 공급하고 세척액이 배출되고 나면 고압의 공기만 공급시켜 커버(430) 내부에 잔류하는 세척액을 배출관(도시되지 않음)으로 이송시켜 배출하고 브러시(310)에 건조시키거나 세척액을 커버(430)로 비산시켜 세척액을 제거할 수 있게 된다.
이때, 회전모터(313)을 통해 브러시(310)를 고속으로 회전시킴으로써 브러시(310)의 흡착재(312)에 잔류하는 세척액을 원심력을 통해 커버(430) 방면으로 털어내 건조시킬 수 있으며, 공급관(도시되지 않음)을 통해 공급되는 고압의 공기와 더불어 빠른 속도로 브러시(310)를 건조시킬 수 있게 된다.
상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 세정유닛의 이물질 제거가 가능한 유리기판용 세정장치에 의하면 회전하는 브러시를 이용하여 유리기판에 존재하는 이물질을 제거하고, 브러시를 세척함으로써 유리기판으로부터 브러시에 흡착된 이물질을 제거할 수 있고, 브러시를 세척할 때 브러시로부터 이탈된 이물질이 세정된 유리기판으로 전달되는 현상을 차단할 수 있으며, 브러시를 세척할 때 장치를 정지시키지 않고 세척할 수 있도록 함으로써 생산성이 저하되는 현상을 방지하는 효과가 있다.
이상과 같이 본 발명은, 바람직한 실시 예를 중심으로 설명하였지만 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명의 특허청구범위에 기재된 기술적 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 또는 변형하여 실시할 수 있다. 따라서 본 발명의 범주는 이러한 많은 변형의 예들을 포함하도록 기술된 청구범위에 의해서 해석되어야 한다.
100 : 이송유닛 200 : 분사유닛
210 : 분사노즐 300 : 세정유닛
310 : 브러시 311 : 롤러
312 : 흡착재 313 : 회전모터
320 : 승강장치 321 : 이송판
322 : 볼스크루 323 : 가이드
324 : 지지판 330 : 고정판
400 : 세척유닛 410 : 세척플레이트
420 : 실린더 421 : 연결대
430 : 커버 440 : 구동모터
441 : 구동벨트 442 : 연결축

Claims (7)

  1. 유리기판을 일방향으로 이동시키는 이송유닛과;
    상기 이송유닛의 일단 상부에 형성되어 상기 이송유닛에 의해 이송되는 상기 유리기판에 세정액을 분사하는 분사유닛과;
    상기 이송유닛의 중단 상부에 다수개로 형성되며 브러시가 상기 유리기판에 밀착되어 회전하면서 상기 유리기판에 묻은 이물질을 제거하는 세정유닛과;
    상기 세정유닛에 결합되며 상기 브러시를 세척하여 상기 브러시에 묻은 이물질을 상기 브러시로부터 이탈시키는 세척유닛;을 포함하며,
    상기 세척유닛은
    상기 세정유닛에 형성된 두 개의 회전하는 브러시 사이에 형성되며 상기 브러시의 외주면과 접촉되어 상기 브러시에 부착된 이물질을 이탈시키기 위해 표면에 엠보싱이 형성된 세척플레이트와;
    상기 세척플레이트의 상부에 형성되며 상기 브러시를 세척할 때는 상기 세척플레이트를 상기 브러시 사이로 하강시켜 세척하고 세척 후에는 상기 브러시의 이물질이 이탈되지 않도록 상승시키는 실린더와;
    상기 세정유닛을 세척할 때 상기 브러시로부터 이탈되는 이물질이 상기 유리기판로 떨어지지 않도록 상기 브러시를 감싸는 단면이 반원형으로 된 커버;로 이루어지는 것을 특징으로 하는
    세정유닛의 이물질 제거가 가능한 유리기판용 세정장치.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 세정유닛은 상기 이송유닛 방면으로 하강하여 유리기판을 세정하거나 상기 이송유닛 상부 방면으로 상승하여 상기 세척유닛에 의해 상기 브러시가 세척되는 것을 특징으로 하는
    세정유닛의 이물질 제거가 가능한 유리기판용 세정장치.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 세정유닛은 둘 이상으로 이루어져 있으며 세척을 위해 하나 이상의 세정유닛이 상승되면 미리 세척된 세정유닛이 하강하여 상기 유리기판을 세정함으로써 세척시간에 관계없이 상기 유리기판을 세정할 수 있는 것을 특징으로 하는
    세정유닛의 이물질 제거가 가능한 유리기판용 세정장치.
  4. 삭제
  5. 제 1항에 있어서,
    상기 커버는 상기 세정유닛이 하강할 때는 상기 브러시가 상기 유리기판에 밀착되도록 상기 브러시의 상부로 회전되고, 상기 세정유닛이 상승할 때는 상기 브러시의 하부에 이물질이 떨어지지 않도록 상기 브러시의 하부 방향으로 회전되는 것을 특징으로 하는
    세정유닛의 이물질 제거가 가능한 유리기판용 세정장치.
  6. 제 1항에 있어서,
    상기 세척유닛은
    상기 커버에 형성되며 상기 브러시를 세척할 때 상기 브러시에서 이탈된 이물질이 비산되지 않도록 상기 브러시에 세척액을 공급하는 공급관과;
    상기 커버에 형성되어 상기 브러시를 세척한 후 이물질이 함유된 오염된 세척액을 배출하는 배출관;을 더 포함하는 것을 특징으로 하는
    세정유닛의 이물질 제거가 가능한 유리기판용 세정장치.
  7. 제 1항에 있어서,
    상기 세정유닛은
    두 개의 원통이 수평으로 배치되어 있으며 회전모터에 의해 서로 다른 방향으로 회전할 수 있도록 구성되는 롤러와, 상기 롤러의 외주면에 부착되어 상기 유리기판에 형성된 이물질을 흡착할 수 있도록 이루어진 흡착재로 이루어진 브러시와;
    상기 브러시를 세척하거나 유리기판을 세정할 수 있도록 볼스크루와 승강모터를 이용하여 상기 롤러를 승강시키는 승강장치;로 이루어지는 것을 특징으로 하는
    세정유닛의 이물질 제거가 가능한 유리기판용 세정장치.
KR1020160157129A 2016-11-24 2016-11-24 세정유닛의 이물질 제거가 가능한 유리기판용 세정장치 KR101746742B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020160157129A KR101746742B1 (ko) 2016-11-24 2016-11-24 세정유닛의 이물질 제거가 가능한 유리기판용 세정장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020160157129A KR101746742B1 (ko) 2016-11-24 2016-11-24 세정유닛의 이물질 제거가 가능한 유리기판용 세정장치

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR101746742B1 true KR101746742B1 (ko) 2017-06-13

Family

ID=59218972

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020160157129A KR101746742B1 (ko) 2016-11-24 2016-11-24 세정유닛의 이물질 제거가 가능한 유리기판용 세정장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101746742B1 (ko)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108015024A (zh) * 2017-12-01 2018-05-11 浙江德尔威工程机械设备有限公司 一种玻璃清洗装置
KR20190012774A (ko) 2017-07-28 2019-02-11 명지대학교 산학협력단 미세 버블을 이용한 세정 시스템 및 방법
KR102037685B1 (ko) * 2019-07-09 2019-10-29 (주)에이티에스 무정지 패널 클린장치

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190012774A (ko) 2017-07-28 2019-02-11 명지대학교 산학협력단 미세 버블을 이용한 세정 시스템 및 방법
CN108015024A (zh) * 2017-12-01 2018-05-11 浙江德尔威工程机械设备有限公司 一种玻璃清洗装置
KR102037685B1 (ko) * 2019-07-09 2019-10-29 (주)에이티에스 무정지 패널 클린장치

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101746742B1 (ko) 세정유닛의 이물질 제거가 가능한 유리기판용 세정장치
CN109773628A (zh) 处理基板的表面的装置及方法
KR101004439B1 (ko) 글라스 기판 세정 유닛 및 이를 갖는 글라스 기판 세정 시스템
JP6162568B2 (ja) 研削装置及びウエーハの搬出方法
JP2007052300A (ja) マスク基板用の洗浄装置及びそれを用いたマスク基板の洗浄方法
CN105319871B (zh) 一种半导体基板的显影装置和方法
JP2007053154A (ja) マスク基板用の洗浄装置及びそれを用いたマスク基板の洗浄方法
KR101206923B1 (ko) 매엽식 웨이퍼 세정 장치
KR20130103376A (ko) 액 처리 장치
JP7202231B2 (ja) 洗浄ヘッド、センタブラシ、外周ブラシ、基板洗浄装置および基板洗浄方法
KR101004438B1 (ko) 글라스 기판 세정 시스템
TW202221784A (zh) 基板清洗裝置及基板清洗方法
JP7291068B2 (ja) 基板洗浄装置および基板洗浄方法
JP5894490B2 (ja) 研削装置
KR20120122572A (ko) 매엽식 세정 및 건조 장치, 매엽식 세정 및 건조 방법
JP7460475B2 (ja) 加工装置
KR101022782B1 (ko) 글라스 기판 세정 유닛 및 이를 갖는 글라스 기판 세정 시스템
KR101631144B1 (ko) 정전척 플립장치
KR20170115636A (ko) 스크라이빙 장치
JPH01281190A (ja) 液晶板用ガラス板清掃装置
KR101004437B1 (ko) 글라스 기판 세정 유닛 및 이를 갖는 글라스 기판 세정 시스템
JP2009156696A (ja) Icハンドラ、及びicハンドラの検査ソケットクリーニング方法
CN118003227B (zh) 一种陶瓷抛光设备
US20240100577A1 (en) Cleaning apparatus
KR20180029120A (ko) 기판 처리 장치

Legal Events

Date Code Title Description
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant