CN118003227B - 一种陶瓷抛光设备 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种陶瓷抛光设备，涉及陶瓷制备设备技术领域，包括上料机构、抛光装置、转移机构以及气密检测装置；抛光装置设置在上料机构的一侧，抛光装置包括旋转机构和抛光机，抛光机设置在旋转机构的一侧，旋转机构用于承载从上料机构上移送的陶瓷，抛光机用于对旋转机构上的陶瓷进行抛光处理；气密检测装置与转移机构抵接，气密检测装置包括水槽、传送机构、观察装置和吸附传递机构，传送机构设置在水槽内，传送机构与转移机构抵接，观察装置设置在水槽上并与水槽内壁固定连接，吸附传递机构设置在水槽远离转移机构的一端；本发明的陶瓷抛光设备能够在抛光完成后及时对陶瓷进行气密性检测，有效防止因气体或液体泄漏而导致的意外事故。

Description

一种陶瓷抛光设备

技术领域

本发明涉及陶瓷制备设备技术领域，具体涉及一种陶瓷抛光设备。

背景技术

陶瓷制品在许多领域都有广泛的应用，如化工、医疗、航空航天等，这些领域对陶瓷制品的性能要求极高，抛光后的陶瓷制品需要在密封环境中工作，抛光机也称为研磨机，常常用作机械式研磨、抛光及打蜡，其工作原理是：电动机带动安装在抛光机上的海绵或羊毛抛光盘高速旋转，由于抛光盘和抛光剂共同作用并与待抛表面进行摩擦，进而可达到去除漆面污染、氧化层、浅痕的目的，在陶瓷的制造过程中，抛光是加工环节中十分重要的加工工序，可以填充陶瓷表面的毛孔、划痕以及表面缺陷，显著改善陶瓷表面的光洁度和平滑度，有助于陶瓷的后续加工，还能提升产品的整体外观质量。

现有公开号为CN111515840A的中国发明专利公开了一种基于节能环保陶瓷抛光设备，其具体公开了包括车床主体以及设置在所述车床主体中的抛光空间，所述抛光空间下端壁中连通设置升降空间，所述升降空间中可滑动地设置有有操作台，所述抛光空间左侧设置有电机腔，在抛光过程中通过转动扇叶吹去空气中的大颗粒物，防止其对抛光效果的影响，提高最终陶瓷成品的质量，通过冷凝块以及回流管道的配合使用对蒸气进行冷凝回流，完成对水资源的循环利用，节约了原料，降低后期运行成本；又如公开号为CN107717705A的中国发明专利公开了一种陶瓷设备用的抛光装置，包括抛光机主机、减振器、水管、水槽、电机箱、废料槽、载物台、抛光杆、急停按钮、控制面板、报警灯，抛光机主机底部与电机箱顶部相焊接，减振器底部与电机箱顶部相连接，水管嵌入安装于废料槽底部，水槽右侧与电机箱左侧相焊接，将陶瓷放在载物台上，通过控制面板控制抛光机主机，使载物台和抛光杆开始工作，抛光机主机装有抛光杆重量过重，工作时还会抖动，抛光机主机向下压上铁件受到力，把力传给减振弹簧，减振弹簧就会把力反弹上去，下铁块起到支撑作用，抛光机主机重量太重，工作时减少抖动，使长时间工作的抛光机主机不容易损坏。

但是，在上述现有技术方案中，在抛光完成后需要人工进行清洗的同时并没有及时对陶瓷进行气密性检测，在对陶瓷进行抛光的过程中可能会出现微小的裂纹或缺陷，导致陶瓷水分渗透以及对陶瓷的气密性产生影响，如果陶瓷的气密性不佳，就可能导致气体渗透或泄漏，从而影响其在密封环境中工作使用甚至存在潜在的风险。

发明内容

基于此，为解决在抛光完成后需要人工进行清洗的同时并没有及时对陶瓷进行气密性检测，从而影响其在密封环境中工作使用甚至存在潜在的风险，本发明的目的在于提供一种陶瓷抛光设备，其具体技术方案如下:

一种陶瓷抛光设备，包括上料机构、抛光装置、转移机构以及气密检测装置；所述抛光装置设置在所述上料机构的一侧，所述抛光装置包括旋转机构和抛光机，所述抛光机设置在所述旋转机构的一侧，所述旋转机构用于承载从所述上料机构上移送的陶瓷，所述抛光机用于对所述旋转机构上的陶瓷进行抛光处理；所述转移机构设置在所述抛光装置远离所述上料机构的一侧；所述气密检测装置与所述转移机构抵接，所述气密检测装置包括水槽、传送机构、观察装置和吸附传递机构，所述传送机构设置在所述水槽内，所述传送机构与所述转移机构抵接，所述观察装置设置在所述水槽上并与所述水槽内壁固定连接，所述吸附传递机构设置在所述水槽远离所述转移机构的一端，所述水槽外设置有处理控制装置，所述观察装置和所述吸附传递机构分别与所述处理控制装置电性连接。

进一步地，所述观察装置包括定位架、移动组件、伸缩组件、旋转组件和监测装置，所述定位架与所述水槽的两侧连接，所述移动组件与所述定位架连接，所述移动组件、所述伸缩组件、所述旋转组件从上到下依次设置，所述监测装置与所述旋转组件连接，所述移动组件、伸缩组件、旋转组件和监测装置分别与所述处理控制装置电性连接。

进一步地，所述监测装置包括封闭圆筒和进水圆筒，所述进水圆筒与所述封闭圆筒的前部连接，所述封闭圆筒内部从靠近所述进水圆筒的一端往远离所述进水圆筒的一端的方向上依次设置有防水透明板、变焦透镜和数字摄像装置，所述数字摄像装置与所述处理控制装置电性连接，所述进水圆筒上设置有进水口和出水口，所述进水口上设置有堵头，所述堵头上设置有目标镜片，当所述堵头封住进水口时，所述目标镜片竖直插入至所述进水圆筒内部。

进一步地，所述进水圆筒远离所述封闭圆筒的一端设置有防水光源，所述防水光源的发光面位于所述进水圆筒的一侧，对所述进水圆筒进行照明。

进一步地，所述观察装置和所述吸附传递机构之间设置有阻挡结构，所述阻挡结构与所述水槽的内壁连接，所述阻挡结构设置在所述传送机构的上方，所述阻挡结构包括转动轴、连接体和阻挡杆，所述转动轴与所述水槽转动连接，所述连接体套设在所述转动轴上，所述阻挡杆设置在所述连接体上，所述阻挡杆在所述连接体的周向均匀固定连接有四组，每组所述阻挡杆沿所述连接体的长度方向设有多个，所述阻挡杆绕所述转动轴转动时能够伸至所述水槽内，所述阻挡杆远离所述连接体的一端朝逆时针方向弯曲设置。

进一步地，所述吸附传递机构包括吸附结构、不合格品放置盒和合格品输送轨，所述吸附结构与所述水槽远离所述所述转移机构的一端连接，所述不合格品放置盒设置在所述吸附结构和所述观察装置之间并与所述水槽固定连接，所述合格品输送轨设置在所述吸附结构远离所述不合格品放置盒的一侧，所述吸附结构与所述处理控制装置电性连接。

进一步地，所述吸附结构包括基座、转盘和吸附控制装置，所述基座上设置有第一驱动机构，所述转盘通过所述第一驱动机构实现圆周转动，所述转盘上设置有第一支撑臂，所述第一支撑臂竖向安装有第二支撑臂，所述第二支撑臂与所述第一支撑臂活动连接，所述第二支撑臂上设置有第二驱动机构，所述第二驱动机构控制所述第二支撑臂在第一支撑臂上进行上下运动，所述第二支撑臂远离所述第一支撑臂的一端连有第三支撑臂，所述第三支撑臂上设置有视觉定位器，所述第三支撑臂远离所述第二支撑臂的一端连接有第四支撑臂，所述第四支撑臂远离所述第三支撑臂的一端连接有夹持吸盘，所述第四支撑臂上设置有第三驱动机构，所述第三驱动机构控制所述夹持吸盘吸附，所述吸附控制装置与分别所述第一驱动机构、第二驱动机构和第三驱动机构电性连接。

进一步地，所述旋转机构包括旋转轮盘和转动电机，所述旋转轮盘与所述转动电机活动连接，所述旋转轮盘上设置有多个陶瓷放置位，用于承载从所述上料机构上移送的陶瓷。

进一步地，所述抛光机包括移动结构、抛光架、抛光轮、旋转轴和抛光电机，所述抛光架与所述移动结构连接，所述旋转轴和所述抛光电机分别设置在所述抛光架上，所述抛光电机通过皮带与所述旋转轴的一端连接，所述抛光轮与所述旋转轴远离所述抛光电机的一端连接，所述抛光轮竖直设置于所述旋转机构的上方。

进一步地，所述移动结构包括X轴平移结构、Y轴平移结构和Z轴平移结构，所述Y轴平移结构设置在所述X轴平移结构上，所述Z轴平移结构设置在所述Y轴平移结构上，所述抛光架设置于所述Z轴平移结构上。

相比现有技术，本发明的有益效果在于：本发明的陶瓷抛光设备通过设置上料机构，能够将待抛光的陶瓷准确地放置到旋转机构上，通过设置抛光装置，抛光装置包括旋转机构和抛光机，能够确保陶瓷得到均匀、精细的抛光处理，通过设置转移机构，能够将抛光后的陶瓷及时转移到气密检测装置上进行气密性检测，通过设置气密检测装置，能够及时对抛光后的陶瓷进行气密性检测，气密检测装置包括水槽、传送机构、观察装置和吸附传递机构，水槽外设置有处理控制装置，观察装置可以精确观察陶瓷在水槽中的状态，从而判断其气密性是否合格，吸附传递机构在处理控制装置的指导下，能够准确地将合格的陶瓷产品和不合格的陶瓷产品分开，分别进行后续处理，提高了产品分类的准确性和效率，本发明的陶瓷抛光设备能够确保陶瓷制品在高精度技术领域仍能保持良好的密封性能，从而确保其正常功能的发挥，有效防止因气体或液体泄漏而导致的意外事故。

附图说明

从以下结合附图的描述可以进一步理解本发明，图中的部件不一定按比例绘制，而是将重点放在示出实施例的原理上，在不同的视图中，相同的附图标记指定对应的部分。

图1是本发明一实施例所述的陶瓷抛光设备的结构示意图；

图2是本发明一实施例所述的上料吸持结构的结构示意图；

图3是本发明一实施例所述的旋转机构的结构示意图；

图4是本发明一实施例所述的抛光机的结构示意图；

图5是本发明一实施例所述的转移吸持结构的结构示意图；

图6是本发明一实施例所述的传送机构的顶视图；

图7是本发明一实施例所述的观察装置的结构示意图；

图8是本发明一实施例所述的监测装置的内部结构示意图；

图9是本发明一实施例所述的吸附结构的结构示意图；

图10是本发明一实施例所述的阻挡结构的结构示意图。

附图标记说明：

1、上料机构；11、上料传送带；12、上料吸持结构；121、上料运输组件；122、上料气缸；123、上料吸盘；2、抛光装置；21、旋转机构；211、旋转轮盘；212、转动电机；213、陶瓷放置位；22、抛光机；221、移动结构；2211、X轴平移结构；2212、Y轴平移结构；2213、Z轴平移结构；222、抛光架；223、抛光轮；224、旋转轴；225、抛光电机；226、皮带；3、转移机构；31、转移传送带；32、转移吸持结构；321、转移运输组件；322、转移气缸；323、转移吸盘；4、气密检测装置；41、水槽；411、溢水口；42、传送机构；421、水平传送组件；422、倾斜传送组件；423、阻挡件；43、观察装置；431、定位架；432、移动组件；4321、发动机；4322、丝杆；4323、活动块；433、伸缩组件；4331、伸缩壳；4332、伸缩杆；434、旋转组件；4341、旋转件；4344、旋转电机；435、监测装置；4350、防水光源；4351、封闭圆筒；4352、进水圆筒；4353、防水透明板；4354、变焦透镜；4355、数字摄像装置；4356、进水口；4357、出水口；4358、堵头；4359、目标镜片；44、吸附传递机构；441、吸附结构；4411、基座；4412、转盘；44121、第一驱动机构；4413、第一支撑臂；4414、第二支撑臂；44141、第二驱动机构；4415、第三支撑臂；44151、视觉定位器；4416、第四支撑臂；4417、夹持吸盘；44171、第三驱动机构；442、不合格品放置盒；443、合格品输送轨；45、处理控制装置；46、阻挡结构；461、转动轴；462、连接体；463、阻挡杆；47、蓄水池。

具体实施方式

为了使得本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合其实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用以解释本发明，并不限定本发明的吸附范围。

需要说明的是，当元件被称为“ 固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“ 连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“ 垂直的”、“ 水平的”、“左”、“ 右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“ 及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

本发明中所述“ 第一”、“ 第二”不代表具体的数量及顺序，仅仅是用于名称的区分。

如图1所示，本发明一实施例中的一种陶瓷抛光设备，包括上料机构1、抛光装置2、转移机构3以及气密检测装置4；抛光装置2设置在上料机构1的一侧，抛光装置2包括旋转机构21和抛光机22，抛光机22设置在旋转机构21的一侧，旋转机构21用于承载从上料机构1上移送的陶瓷，抛光机22用于对旋转机构21上的陶瓷进行抛光处理；转移机构3设置在抛光装置2远离上料机构1的一侧；气密检测装置4与转移机构3抵接，气密检测装置4包括水槽41、传送机构42、观察装置43和吸附传递机构44，传送机构42设置在水槽41内，传送机构42与转移机构3抵接，观察装置43设置在水槽41上并与水槽41内壁固定连接，吸附传递机构44设置在水槽41远离转移机构3的一端，水槽41外设置有处理控制装置45，观察装置43和吸附传递机构44分别与处理控制装置45电性连接，通过设置上料机构1，能够将待抛光的陶瓷准确地放置到旋转机构21上，通过设置抛光装置2，抛光装置2包括旋转机构21和抛光机22，能够确保陶瓷得到均匀、精细的抛光处理，通过设置转移机构3，能够将抛光后的陶瓷及时转移到气密检测装置4上进行气密性检测，通过设置气密检测装置4，能够及时对抛光后的陶瓷进行气密性检测，气密检测装置4包括水槽41、传送机构42、观察装置43和吸附传递机构44，水槽41外设置有处理控制装置45，观察装置43可以精确观察陶瓷在水槽41中的状态，从而判断其气密性是否合格，吸附传递机构44在处理控制装置45的指导下，能够准确地将合格的陶瓷产品和不合格的陶瓷产品分开，分别进行后续处理，提高了产品分类的准确性和效率。

具体而言，在本实施例中，上料机构1包括上料传送带11和上料吸持结构12，上料吸持结构12用于吸附上料传送带11上输送的待抛光陶瓷，请参阅图2，上料吸持结构12包括上料运输组件121、上料气缸122和上料吸盘123，上料气缸122设置在运输组件上，能够在运输组件上前后滑动，上料吸盘123与上料气缸122的底部连接。

请参阅图3，作为本发明的优选实施例，其还可具有以下附加技术特征：旋转机构21包括旋转轮盘211和转动电机212，旋转轮盘211与转动电机212活动连接，旋转轮盘211上设置有多个陶瓷放置位213，用于承载从上料机构1上移送的陶瓷，在本实施例中，陶瓷放置位213设置有四个，旋转轮盘211的转动，便于上料吸持结构12、抛光机22和转移机构3对陶瓷的工作，可以对陶瓷进行精确、均匀的抛光处理，保证抛光质量的稳定性和一致性。

请参阅图4，作为本发明的优选实施例，其还可具有以下附加技术特征：抛光机22包括移动结构221、抛光架222、抛光轮223、旋转轴224和抛光电机225，抛光架222与移动结构221连接，旋转轴224和抛光电机225分别设置在抛光架222上，抛光电机225通过皮带226与旋转轴224的一端连接，抛光轮223与旋转轴224远离抛光电机225的一端连接，抛光轮223竖直设置于旋转机构21的上方，此外，在其他实施例中，抛光轮223上还可以设有与抛光轮223形状配合的抽风罩，抽风罩上设有与抽风机连接的抽风口，在抛光时，抽风机进行抽风作业，将抛光产生的粉尘通过抽风罩进行收集。

作为本发明的优选实施例，其还可具有以下附加技术特征：移动结构221包括X轴平移结构2211、Y轴平移结构2212和Z轴平移结构2213，Y轴平移结构2212设置在X轴平移结构2211上，Z轴平移结构2213设置在Y轴平移结构2212上，抛光架222设置于Z轴平移结构2213上，能够使抛光架222带动抛光轮223在在X、Y、Z三个方向上进行位置的调节，适用于对不同部位的陶瓷进行抛光处理。

具体而言，在本实施例中，转移机构3包括转移传送带31和转移吸持结构32，转移吸持结构32用于吸附旋转轮盘211上抛光完成的陶瓷，将陶瓷吸附到转移传送带31上，令陶瓷进入气密检测装置4中进行及时的气密性检查，请参阅图5，转移吸持结构32包括转移运输组件321、转移气缸322和转移吸盘323，转移气缸322设置在转移运输组件321上，能够在转移运输组件321上前后滑动，转移吸盘323与转移气缸322的底部连接，在本实施例中，倾斜传送组件422的起始端与转移传送带31抵接，此外，转移吸持结构32和上料吸持结构12对称设置。

请参阅图6，具体而言，在本实施例中，传送机构42包括水平传送组件421和倾斜传送组件422，水平传送组件421设置在水槽41内，倾斜传送组件422倾斜设置在水槽41靠近抛光装置2的一端，水平传送组件421设置的高度低于倾斜传送组件422的起始端，倾斜传送组件422上沿宽度方向设置有若干个倒L形的阻挡件423，各阻挡件423垂直设置在倾斜传送组件422上，用于抵住陶瓷，防止陶瓷迅速滑落，倾斜传送组件422与水槽41的水平面的角度呈20°-30°，避免倾斜角度过高令陶瓷在传送过程中直接掉落到水槽41内，倾斜传送组件422的起始端设置与转移机构3抵接，保证陶瓷能够顺利落入水槽41内。

请参阅图7，作为本发明的优选实施例，其还可具有以下附加技术特征：观察装置43包括定位架431、移动组件432、伸缩组件433、旋转组件434和监测装置435，定位架431与水槽41的两侧连接，移动组件432与定位架431连接，移动组件432、伸缩组件433、旋转组件434从上到下依次设置，监测装置435与旋转组件434连接，移动组件432、伸缩组件433、旋转组件434和监测装置435分别与处理控制装置45电性连接，通过设置移动组件432，其能够带动监测装置435进行水平移动，通过设置伸缩组件433，伸缩组件433设置在移动组件432的下方，其能够相对移动组件432进行纵向运动，从而使得监测装置435能够进行纵向运动，进而监测装置435的位置，通过设置旋转组件434，旋转组件434设置在伸缩组件433的下方，旋转组件434能够相对于伸缩组件433进行360°全方位旋转，通过移动组件432、伸缩组件433和旋转组件434三者的共同配合，无需设置过多的监测装置435，便能保证监测装置435能观察到陶瓷的具体情况，能够及时观察陶瓷冒出气泡的情况，提高了工作效率。

具体地，在本实施例中，移动组件432包括发动机4321、丝杆4322和活动块4323，发动机4321设置在定位架431的侧边，丝杆4322设置在定位架431内并与发动机4321连接，活动块4323在丝杆4322上活动连接，伸缩组件433与活动块4323连接，在发动机4321的带动下，活动块4323能够在丝杆4322上水平移动，从而使得监测装置435进行水平运动；伸缩组件433包括伸缩壳4331和伸缩杆4332，伸缩杆4332设置在伸缩壳4331内，伸缩壳4331固定设置在活动块4323的下方，伸缩杆4332的一端与旋转组件434连接，伸缩壳4331为中空腔体，能够有效保护伸缩杆4332，进一步延长伸缩杆4332的使用寿命，通过伸缩杆4332能够实现监测装置435的纵向运动；旋转组件434包括旋转件4341和旋转电机4344，旋转电机4344与伸缩组件433连接，在本实施例中，旋转电机4344与伸缩杆4332连接，旋转电机4344与旋转件4341连接，旋转电机4344能够带动旋转件4341进行转动，监测装置435设置在旋转件4341上，通过旋转电机4344令监测装置435实现360°全方位旋转，保证监测装置435能观察到陶瓷的具体情况，能够及时观察陶瓷冒出气泡的情况。

具体地，在本实施例中，水槽41的一侧设置有蓄水池47，蓄水池47与水槽41连通，水槽41靠近蓄水池47的一侧设置有若干个溢水口411，各溢水口411与蓄水池47对应设置，当陶瓷不断落入水槽41时，由于陶瓷的重量可能导致水槽41内的水位不断上升，此时溢水口411的设置能够将溢出的水全部排进蓄水池47内，蓄水池47与水槽41通过水管连通，水管上设置有抽水泵，能够将蓄水池47内的水重新排进水槽41内，达到节水的效果，同时，在本实施例中，蓄水池47内设置有过滤结构，陶瓷在经过水槽41检测气密性的同时也对陶瓷表面进行了清洗，从溢水口411排出的水可能存在杂质或灰尘，利用过滤结构将蓄水池47的水进行过滤后重新排净水槽41内，进而能够有效保证水槽41内水体的洁净度，此外，在本实施例中，水槽41的底部设置有排水阀，用于定期更换水槽41内的水，同时溢水口411的数量与形状可因不同的需要进行不同的设计。

请参阅图8，作为本发明的优选实施例，其还可具有以下附加技术特征：监测装置435包括封闭圆筒4351和进水圆筒4352，进水圆筒4352与封闭圆筒4351的前部连接，封闭圆筒4351内部从靠近进水圆筒4352的一端往远离进水圆筒4352的一端的方向上依次设置有防水透明板4353、变焦透镜4354和数字摄像装置4355，数字摄像装置4355与处理控制装置45电性连接，防水透明板4353用于分隔进水圆筒4352和封闭圆筒4351，以确保封闭圆筒4351内变焦透镜4354和数字摄像装置4355的防水，进水圆筒4352的设置大大降低水中气泡的随机运动，以便能被变焦透镜4354和数字摄像装置4355稳定地捕捉成像，进水圆筒4352上设置有进水口4356和出水口4357，进水口4356上设置有堵头4358，用于观测时封闭进水口4356，堵头4358上设置有目标镜片4359，当堵头4358封住进水口4356时，目标镜片4359竖直插入至进水圆筒4352内部，目标镜片4359是用于使水中微小的气泡吸附在其上，测试水中微小气泡的尺寸和形状，数字摄像装置4355需要记录产生气泡的数量、大小、产生速度以及持续时间等，具体地，进水圆筒4352远离封闭圆筒4351的一端设置有防水光源4350，防水光源4350的发光面位于进水圆筒4352的一侧，对进水圆筒4352进行照明，在本实施例中，防水光源4350设置为LED灯或日光灯，监测装置435在使用时，水进入进水圆筒4352内，通过防水光源4350的透射后，通过变焦透镜4354放大，送至数字摄像装置4355，再将图像数字信号传输到处理控制装置45，由图像处理软件自动分析结果，比如自动测量气泡的个体参数，包括面积、周长、长轴、短轴、X投影长度等，并自动统计气泡的最大值、最小值、平均值等整体参数，根据这些信息，结合陶瓷的结构和工艺特点，判断其气密性是否合格。

请参阅图9，作为本发明的优选实施例，其还可具有以下附加技术特征：吸附结构441包括基座4411、转盘4412和吸附控制装置（未在图上示出），基座4411上设置有第一驱动机构44121，转盘4412通过第一驱动机构44121实现圆周转动，转盘4412上设置有第一支撑臂4413，第一支撑臂4413竖向安装有第二支撑臂4414，第二支撑臂4414与第一支撑臂4413活动连接，第二支撑臂4414上设置有第二驱动机构44141，第二驱动机构44141控制第二支撑臂4414在第一支撑臂4413上进行上下运动，第二支撑臂4414远离第一支撑臂4413的一端连有第三支撑臂4415，第三支撑臂4415上设置有视觉定位器44151，用于定位陶瓷的位置，第三支撑臂4415远离第二支撑臂4414的一端连接有第四支撑臂4416，第四支撑臂4416远离第三支撑臂4415的一端连接有夹持吸盘4417，第四支撑臂4416上设置有第三驱动机构44171，第三驱动机构44171控制夹持吸盘4417吸附，吸附控制装置与分别第一驱动机构44121、第二驱动机构44141和第三驱动机构44171电性连接，吸附控制装置采用PLC（Programmable Logic Controller）编程控制装置，PLC编程是一种预先设定的程序，可以自动进行陶瓷取送，而且在陶瓷变化或临时需要对吸附结构441进行新的分配任务时，可进行改动或重新设计其新部件，而对于位置改变时，只要重新编程即可投产使用，实现智能化，当观察装置43观察到陶瓷出现大量气泡时，将信号传送到处理控制装置45，处理控制装置45将信号发送给吸附控制装置，吸附控制装置控制第二驱动机构44141工作，带动第二支撑臂4414往下移动，通过第三支撑臂4415上的视觉定位器44151判断与陶瓷的距离，当吸附距离到达预设距离时，此时吸附控制装置控制第三驱动机构44171控制夹持吸盘4417吸取陶瓷，待吸取成功后，吸附控制装置控制第一驱动机构44121工作，带动转盘4412转动，将陶瓷顺利移动到指定位置上。

请参阅图10，作为本发明的优选实施例，其还可具有以下附加技术特征：观察装置43和吸附传递机构44之间设置有阻挡结构46，在对陶瓷的气密性检测完成后，用于减慢陶瓷前进的时间，从而增加陶瓷浸泡清洗的时间，能够对抛光后的陶瓷及时进行清洗，阻挡结构46与水槽41的内壁连接，阻挡结构46设置在传送机构42的上方，阻挡结构46包括转动轴461、连接体462和阻挡杆463，转动轴461与水槽41转动连接，连接体462套设在转动轴461上，阻挡杆463设置在连接体462上，陶瓷在水平传送组件421上移动的过程中，被阻挡杆463阻挡，进而减慢了陶瓷的移动速度，令陶瓷尽可能延长在水槽41内的时间，通过水平传送组件421的运作，陶瓷能够推动阻挡杆463，阻挡杆463绕着转动轴461转动，阻挡杆463在连接体462的周向均匀固定连接有四组，每组阻挡杆463沿连接体462的长度方向设有多个，通过多个阻挡杆463来共同抵抗陶瓷的冲击力，进一步减慢陶瓷的移动速度，阻挡杆463绕转动轴461转动时能够伸至水槽41内，阻挡杆463远离连接体462的一端朝逆时针方向弯曲设置，弯曲设置的阻挡杆463可以吸收陶瓷一部分冲击能量，会增加冲击力的传递时间，进而进一步减慢了陶瓷的移动速度，由于陶瓷在跟随水平传送组件421移动的过程中，是将阻挡杆463往顺时针方向推动，此时阻挡杆463远离转动体的一端朝逆时针方向弯曲设置，能够增加陶瓷与阻挡杆463的接触面积，进一步增加冲击力的传递时间，减慢了陶瓷的移动速度，能提高阻挡杆463的强度，用来舒缓在冲击过程中所承受的力，不易断裂，此外，在本实施例中，阻挡杆463为无棱角的圆杆，保证阻挡杆463不会对陶瓷产生损害，同时，阻挡杆463采用软性材料制作而成。

作为本发明的优选实施例，其还可具有以下附加技术特征：吸附传递机构44包括吸附结构441、不合格品放置盒442和合格品输送轨443，吸附结构441与水槽41远离转移机构3的一端连接，不合格品放置盒442设置在吸附结构441和观察装置43之间并与水槽41固定连接，合格品输送轨443设置在吸附结构441远离不合格品放置盒442的一侧，吸附结构441与处理控制装置45电性连接，处理控制装置45将监测装置435传输的图像信息分析处理后将结果反馈到吸附结构441上，吸附结构441将不合格的陶瓷吸附转移到不合格放置盒上，将合格的陶瓷吸附转移到合格品输送轨443上，等待进行下一工序。

本实施例的陶瓷抛光设备的工作流程如下：首先，陶瓷产品通过上料机构1进行上料，上料机构1包括上料传送带11和上料吸持结构12，它们协同工作将待抛光的陶瓷吸附并输送到陶瓷放置位213上，然后，抛光机22开始对陶瓷进行抛光处理，抛光电机225通过皮带226驱动旋转轴224和抛光轮223高速旋转，对陶瓷表面进行均匀、精细的抛光，移动结构221则负责调整抛光轮223的位置，确保对陶瓷的各个部分都能进行有效的抛光，抛光完成后，陶瓷产品被转移机构3传送到气密检测装置4内，陶瓷在水槽41中进行气密性检测，观察装置43对陶瓷的状态进行观察和记录，并将信息传输到处理控制装置45，处理控制装置45根据观察结果控制吸附传递机构44动作，将合格的陶瓷和不合格的陶瓷分别转移到不同的位置，合格的陶瓷产品继续进行下一工序，而不合格的陶瓷产品则会被收集起来进行进一步的处理或分析。

本实施例的陶瓷抛光设备的结构设计合理，使用便捷，对于其他有类似使用要求的设备，同样也可采用此种结构来实现，在本实施例中，该陶瓷抛光设备能够确保陶瓷制品在高精度技术领域仍能保持良好的密封性能，从而确保其正常功能的发挥，有效防止因气体或液体泄漏而导致的意外事故。

在上述实施例的描述中，大于、小于、超过等理解为不包括本数，若干、多个的含义是一个以上，以上、以下、以内等理解为包括本数。如果有描述到第一、第二只是用于区分技术特征为目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或隐含指明所指示的技术特征的数量或者隐含指明所指示的技术特征的先后关系。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾关系，都应当认为是本说明书所记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (4)

1.一种陶瓷抛光设备，其特征在于，包括：

上料机构；

抛光装置，所述抛光装置设置在所述上料机构的一侧，所述抛光装置包括旋转机构和抛光机，所述抛光机设置在所述旋转机构的一侧，所述旋转机构用于承载从所述上料机构上移送的陶瓷，所述抛光机用于对所述旋转机构上的陶瓷进行抛光处理；

转移机构，所述转移机构设置在所述抛光装置远离上料机构的一侧；

气密检测装置，所述气密检测装置与所述转移机构抵接，所述气密检测装置包括水槽、传送机构、观察装置和吸附传递机构，所述传送机构设置在所述水槽内，所述传送机构与所述转移机构抵接，所述观察装置设置在所述水槽上并与所述水槽内壁固定连接，所述吸附传递机构设置在所述水槽远离所述转移机构的一端，所述水槽外设置有处理控制装置，所述观察装置和所述吸附传递机构分别与所述处理控制装置电性连接；

所述观察装置包括定位架、移动组件、伸缩组件、旋转组件和监测装置，所述定位架与所述水槽的两侧连接，所述移动组件与所述定位架连接，所述移动组件、所述伸缩组件、所述旋转组件从上到下依次设置，所述监测装置与所述旋转组件连接，所述移动组件、伸缩组件、旋转组件和监测装置分别与所述处理控制装置电性连接；

所述监测装置包括封闭圆筒和进水圆筒，所述进水圆筒与所述封闭圆筒的前部连接，所述封闭圆筒内部从靠近所述进水圆筒的一端往远离所述进水圆筒的一端的方向上依次设置有防水透明板、变焦透镜和数字摄像装置，所述数字摄像装置与所述处理控制装置电性连接，所述进水圆筒上设置有进水口和出水口，所述进水口上设置有堵头，所述堵头上设置有目标镜片，当所述堵头封住进水口时，所述目标镜片竖直插入至所述进水圆筒内部；

所述进水圆筒远离所述封闭圆筒的一端设置有防水光源，所述防水光源的发光面位于所述进水圆筒的一侧，对所述进水圆筒进行照明；

所述观察装置和所述吸附传递机构之间设置有阻挡结构，所述阻挡结构与所述水槽的内壁连接，所述阻挡结构设置在所述传送机构的上方，所述阻挡结构包括转动轴、连接体和阻挡杆，所述转动轴与所述水槽转动连接，所述连接体套设在所述转动轴上，所述阻挡杆设置在所述连接体上，所述阻挡杆在所述连接体的周向均匀固定连接有四组，每组所述阻挡杆沿所述连接体的长度方向设有多个，所述阻挡杆绕所述转动轴转动时能够伸至所述水槽内，所述阻挡杆远离所述连接体的一端朝逆时针方向弯曲设置；

所述吸附传递机构包括吸附结构、不合格品放置盒和合格品输送轨，所述吸附结构与所述水槽远离所述转移机构的一端连接，所述不合格品放置盒设置在所述吸附结构和所述观察装置之间并与所述水槽固定连接，所述合格品输送轨设置在所述吸附结构远离所述不合格品放置盒的一侧，所述吸附结构与所述处理控制装置电性连接；

所述吸附结构包括基座、转盘和吸附控制装置，所述基座上设置有第一驱动机构，所述转盘通过所述第一驱动机构实现圆周转动，所述转盘上设置有第一支撑臂，所述第一支撑臂竖向安装有第二支撑臂，所述第二支撑臂与所述第一支撑臂活动连接，所述第二支撑臂上设置有第二驱动机构，所述第二驱动机构控制所述第二支撑臂在第一支撑臂上进行上下运动，所述第二支撑臂远离所述第一支撑臂的一端连有第三支撑臂，所述第三支撑臂上设置有视觉定位器，所述第三支撑臂远离所述第二支撑臂的一端连接有第四支撑臂，所述第四支撑臂远离所述第三支撑臂的一端连接有夹持吸盘，所述第四支撑臂上设置有第三驱动机构，所述第三驱动机构控制所述夹持吸盘吸附，所述吸附控制装置与分别所述第一驱动机构、第二驱动机构和第三驱动机构电性连接。

2.根据权利要求1所述的陶瓷抛光设备，其特征在于，所述旋转机构包括旋转轮盘和转动电机，所述旋转轮盘上设置有多个陶瓷放置位，用于承载从所述上料机构上移送的陶瓷。

3.根据权利要求1所述的陶瓷抛光设备，其特征在于，所述抛光机包括移动结构、抛光架、抛光轮、旋转轴和抛光电机，所述抛光架与所述移动结构连接，所述旋转轴和所述抛光电机分别设置在所述抛光架上，所述抛光电机通过皮带与所述旋转轴的一端连接，所述抛光轮与所述旋转轴远离所述抛光电机的一端连接，所述抛光轮竖直设置于所述旋转机构的上方。

4.根据权利要求3所述的陶瓷抛光设备，其特征在于，所述移动结构包括X轴平移结构、Y轴平移结构和Z轴平移结构，所述Y轴平移结构设置在所述X轴平移结构上，所述Z轴平移结构设置在所述Y轴平移结构上，所述抛光架设置于所述Z轴平移结构上。