CN101410185B - 研磨设备以及使用该研磨设备修复化学污染基体的方法 - Google Patents

Abstract

一种球磨设备的塔式队列，逐步向下方供料，从而尽管每个球磨设备尺寸小，但能够提供被机械化学净化的基体的充足输出量。小尺寸可实现需要时的拆除和/或替代。该塔能够向混合器供料以更好地形成末端物料的轮廓。

Description

研磨设备以及使用该研磨设备修复化学污染基体的方法

技术领域

本发明涉及研磨设备。

本发明的优选方式涉及一种研磨设备，其适于实施与所提供的固体物料和/或可选地一种或更多种反应剂和/或催化剂有关的机械化学或摩擦等离子体反应。本发明因而进一步扩展到生产设施、流程以及采用该设施和流程生产的产品。

背景技术

在我们的PCT说明书WO0183038、WO0183127和WO02072272(以参考的方式引入其全部内容)中，我们公开了用以减少如污染场地的基体(matrix)中卤化有机物含量的设备和方法。与这种污染场地修复有关的流程是部分固体流的卤化有机物含量的机械化学修正。

这里以参考的方式并入了上述PCT说明书的全部内容。也包括了上述说明书中参考的那些说明书本身。

以示例的方式参见在ZOZ有限公司的DE10261204A1中公开的采用石英和玻璃来降解环境毒素的研磨设备。

发明内容

本发明的一个目的，或可替换的目的，是通过优选地使研磨设备中的物料与碰撞元件(通常是磨球)之间的碰撞能量更高而实现更好的反应效果。

另一个或可替换的目的是仅输入能量使实质上水平布置的搅拌部件或组件的转动实现机械化学研磨。

再一个或可替换的目的是降低物料产出所需的能量。

通过采用装有(优选地单独安装以及牺牲的(sacrificial))搅拌器结构(搅拌器)的主轴来实现至少一个上述目的，所述搅拌器结构随主轴转动。该搅拌器可具有包括投掷在内的多种不同动作。该搅拌器也可适于使固体物料在平行于主轴转动轴的方向上逐渐移动，从而最大化或增加在研磨设备的进料口和出料口之间的停留时间。

我们也发现搅拌器上的磨损导致经常性的停机。搅拌器结构会比所有的由搅拌器搅拌的磨球(通常是钢球)或其它碰撞部件腐蚀的快。

如果希望将停机时间降到最低，则需要能够对研磨设备进行快速保养。设备的尺寸是一个因素，但是减小的尺寸会降低产出。

本发明的另一个或可替换的目的是优选地通过拆除并模块式更换或者拆除、保养然后重新安装以实现对研磨设备的快速保养。

我们已经确定在本发明的某些实施方式中，一组由单独的研磨设备组成的塔可实现研磨设备的快速更换，该塔优选地在重力作用下从一个设备到另一个设备进行供料。

本申请所具备的已知优点使本发明所述的研磨设备具有范围更大的应用以及能够用于更多种类的用途。

本发明的一个方面是研磨设备，包括或包含：

第一壳体，其限定具有进料口和出料口的第一腔室，具有可从第一腔室外部被驱动转动的至少实质上水平的主轴、具有位于第一腔室内与主轴一体或由主轴携带的搅拌器结构、以及具有禁闭在第一腔室内并可在第一腔室内通过主轴及其搅拌器结构的转动获得能量的碰撞体(“球”)，以及

第二壳体，其限定具有进料口和出料口的第二腔室，具有可从第二腔室外部被驱动转动的至少实质上水平的主轴、具有位于第二腔室内与主轴一体或由主轴携带的搅拌器结构、以及具有禁闭在第二腔室内并可在第二腔室内通过主轴及其搅拌器结构的转动获得能量的碰撞体(“球”)，第二腔室的进料口适于接收来自第一腔室出料口的物料。

优选地，还可包括第三壳体，其限定具有进料口和出料口的第三腔室，具有可从第三腔室外部被驱动转动的至少实质上水平的主轴、具有位于第三腔室内与主轴一体或由主轴携带的搅拌器结构、以及具有禁闭在第三腔室内并可在第三腔室内通过主轴及其搅拌器结构的转动获得能量的碰撞体(“球”)，第三腔室的进料口适于接收来自第二腔室出料口的物料。

可选地以及优选地，具有从第三腔室起菊花串链的一个或更多的壳体，每一个壳体均确定具有进料口和出料口的腔室，具有可从该腔室外部被驱动转动的至少实质上水平的主轴、具有位于该腔室内与主轴一体或由主轴携带的搅拌器结构、以及具有禁闭在该腔室内并可在该腔室内通过主轴及其搅拌器结构的转动获得能量的碰撞体(“球”)，

其中具有从出料口到进料口的物料供给，除了最后一个腔室的出料口。

优选地，所述腔室序列是支架支承的五个壳体序列。

优选地，具有紧靠的混料设备或旋转混合设备，并且最后一个腔室的出料口连续地向混料设备或旋转混合设备供料。

优选地，设置三个或更多所述壳体，每个壳体支承在组件上，在所述组件上，每根轴受到它的轴的驱动。

优选地，每个腔室在重力作用下通过各自的出料口排料，并在重力的作用下通过各自的进料口接收物料。

优选地，所述腔室是至少实质上水平对准的筒形腔室，靠近一端设置有顶部进料口，且靠近另一端设置有底部出料口。

优选地，在受支承的壳体组成的垛或塔中，进料口端和出料口端沿着该垛或塔向下交错布置。

优选地，每个壳体由支架支承，并且在每个垛中，壳体不一个一个地支承。

优选地，具有封闭(containment)结构以通过其进料口或进料口组对最顶部壳体进行单一或多重供料。

本发明的另一个方面涉及研磨设备，包括或包含：

若干容器，每个容器限定腔室且具有：进入腔室的进料口、离开腔室的出料口、可从该腔室外部被驱动转动的至少实质上水平的主轴、位于该腔室内与主轴一体或由主轴携带的搅拌器结构、以及禁闭在该腔室内并可在该腔室内通过搅拌器结构的转动获得能量的碰撞体(“球”)，

用于以一个叠在另一个上的方式支承若干容器的结构，

用于结构上的每个容器的每根轴的驱动装置(可以是完全成组的、完全不成组的或部分成组的)，以及

出料口和进料口之间的管道联通，使得较高腔室可向较低腔室卸料。

本发明的另一个方面涉及研磨设备，包括或包含

至少实质上水平的带有主轴的壳体的支承垛或塔，每个壳体限定腔室，具有进料口和出料口、具有位于该腔室内与主轴一体或由主轴携带的搅拌器结构、以及具有禁闭在该腔室内并可在该腔室内通过搅拌器结构的转动获得能量的碰撞体(“球”)，

进料口和出料口之间设置的管道，从而在腔室之间具有从出料口向进料口输送物料的通路；以及

主轴的驱动装置。

优选地，通向旋转混合装置或混料设备的最后出料口管道用以将研磨的物料与其它物料混合。

优选地，管道是依靠重力作用从腔室到腔室的级联布置。

优选地，进料口和出料口被设置以在每一交替腔室中沿着平行对准的壳体垛或塔向下使物料反向输送。

可选地，具有并列设置的垛。

优选地，并列设置的垛或塔的每一个能够在它的垛或塔的腔室之间向下输送。

优选地，所有腔室容置于封闭包围内。

优选地，至少一些带轴的壳体可从其支承物、通向相邻腔室管道和它们的驱动装置上拆除。

优选地，每个壳体与其相邻物不直接接触地支承。

本发明也涉及本发明所述设备的使用。

修复被有机和无机金属污染物污染的土壤的方法，所述方法包括以下步骤

(A)连续地

(I)对污染土壤或者其部分进行研磨，可选地使用机械化学反应剂，以净化至少部分所述有机污染物，并减小土壤或部分土壤的颗粒尺寸，以及

(II)将研磨的物料与一种或更多种金属稳定剂和水混合，以及

(B)允许或者使混合的物料凝固成块，以在所涉及的研磨物料的无机金属污染物的范围内提供合成混合物的增强防浸出性。

如上述我们的文献WO01/83127所公开的，研磨流程还涉及反应剂和产出量。该文献还公开了颗粒尺寸流动、以及采用球磨设备并结合反应剂对污染土壤流进行机械化学脱氟处理，所述反应剂包括铁砂、炼钢炉渣和/或尿素，以及可选的未过滤白醋。该参考文献也应作为现有技术。可在有和没有添加物料的情况下使用如石英在内的矿物。

所述混合可如我们的文献WO01/83127所公开的(即伴随来自土壤流动中的污染程度较低的土壤流)。如果土壤中包括金属污染物固定(fixing)泥浆是优选的(即，添加水的干式混合)。例如硅酸盐水泥∶干重占至少90％的研磨物料∶干重占达到10％。该比率会随着所包括的物料流而变化。对于混合物料也如此。任何能够从泥浆凝固的固定颗粒是适合的(例如石灰、骨粉等)。

优选地，供电(energisation)使得磨球的速度达每秒20米，并且超过每一搅动的部分至少每秒2米。

本发明的另一个方面涉及可插入球磨设备的立即可拆(ready togo)的垛或塔以与水平对准的带轴搅拌器结构(forms)(优选地在轴联结器的作用下)。这样的球磨设备将成为优选逐渐向下级联供料的球磨设备行列的一部分。

优选地，球磨设备包括作为碰撞体的磨球。

优选地，球磨设备具有容置磨球(或其它碰撞体)的壳体、以及穿过壳体置于可允许主轴转动的轴承上的可转动主轴，在该主轴上设置有与其一起转动的搅拌器结构(抛掷器)。

优选地，搅拌器结构具有用以键联接到主轴上的衬套。

优选地，主轴具有与驱动装置上的配对联轴器联结的联轴器。

优选地，壳体是具有端部的筒形件，所述端部具有所述轴承。

优选地，壳体上设置至少一个进料口和至少一个出料口。

优选地，研磨设备采用磨球而不是具有不同形状的研磨体(例如柱体)进行研磨。

优选地，磨球在使用前具有相同的初始尺寸。优选地，初始尺寸在5到40毫米的直径范围内(更优选地在8到25毫米之间，且最优选地从大约12毫米到大约20毫米)。

本发明的再一个方面涉及下述对象的组合，

前述的球磨设备，

塔或架中的安装结构以支持或支承壳体，并当和/或如果壳体固定在支架中时，允许主轴转动，以及

驱动装置的联轴器，用以与主轴接合，以在使用中通过转动所联结的主轴来驱动安装在支架上的球磨设备。

优选地，所述驱动装置能够被操作或设置成允许在两个方向的任一个方向上转动。

优选地，具有物料给料进料口，其可连接到来自上方的物料给料和/或向下方给料的物料出料。

优选地，具有进入壳体的气体给料。

优选地，研磨设备采用磨球而不是具有不同形状的研磨体(例如柱体)进行研磨。

优选地，磨球在使用前具有相同的初始尺寸。优选地，初始尺寸在5到40毫米的直径范围内(更优选地在8到25毫米，且最优选地从大约12毫米到大约20毫米)。

本发明的再一个方面涉及运转形式的前述组合。

优选地，组合包括立即安装备用的立即拆除的球磨设备。

在本发明的一个方面中在于(consist in)或者用于本发明所述的架或塔、或者用于从一个到另一个的级联供料，研磨设备包括或包含

主轴，具有驱动联轴器且携带有搅拌器结构(“搅拌器”)以与主轴一起转动，

筒体或其它腔室，其在主轴的部分长度上限定关于搅拌器的装置(“筒体”)，从而限定容纳或将容纳有通过搅拌获得能量的碰撞体的腔室，所述筒体具有用以进行物料流的进料口和出料口，

驱动装置，其具有与主轴上的联轴器联结的驱动联轴器，

带轴筒体用的支承装置，其使得驱动装置在主轴实质上水平时通过联结的联轴器至少带动主轴及其搅拌器绕着主轴轴线转动，以及

可选的碰撞体(例如，磨球、柱体(barrels)、针体(pins)和、或同类物集合(masses))。

筒体可随着主轴转动。优选地，筒体不同步于主轴(即，可选地主轴固定(例如通过绳索、带等)在至少对准主轴的支架上)的转动。

搅拌器是由主轴携带的静态形式并可在筒体内在各处抛掷碰撞体。

优选地，筒体内是隔板，从而所容纳的碰撞体不能进入所述出料口，但相对精细的物料可以。优选地，隔板是通过筒体和主轴中的一个或另一个固定的或携带的、或既固定又携带的屏障(screen)。

优选地，所述驱动装置能够被操作或设置成允许在两个方向的任一个方向上转动。

优选地，研磨设备采用磨球而不是具有不同形状的研磨体(例如柱体)进行研磨。

优选地，磨球在使用前具有相同的初始尺寸。优选地，初始尺寸在5到40毫米的直径范围内(更优选地在8到25毫米之间，且最优选地从大约12毫米到大约20毫米)。

在本发明的另一个方面中在于或者用于本发明所述的架或塔、或者用于从一个到另一个的级联供料，研磨设备包括或包含

具有驱动联轴器的主轴，

套在主轴上并随主轴转动的搅拌器结构(“搅拌器”)，

筒体或其它腔室，其在主轴的部分长度上限定关于搅拌器的装置(“筒体”)从而限定容纳有或将容纳有通过搅拌获得能量的碰撞体的腔室，所述筒体具有用以进行物料流的进料口和出料口，

驱动装置，其具有与主轴上的联轴器联结的驱动联轴器，

带轴筒体用的支承装置，其使得驱动装置在主轴实质上水平时通过联结的联轴器至少带动主轴及其搅拌器绕着主轴轴线转动，以及

可选的碰撞体(例如，磨球、柱体(barrels)、针体(pins)和/或同类物集合)。

优选地，搅拌器结构通过衬套套装，衬套具有对应于主轴上非圆截面部分的开口，以借此获得转动驱动。

筒体可随着主轴转动但这并非优选的。优选地，筒体不同步于主轴(即，可选地主轴固定(例如通过绳索、带等)在至少对准主轴的支架中)的转动。

优选地，所述驱动装置能够被操作或设置成允许在两个方向的任一个方向上转动。

搅拌器是由主轴携带的静态结构并可在筒体内在各处抛掷碰撞体。

优选地，在筒体内是隔板，从而所容纳的碰撞体不能进入所述出料口，但相对精细的物料可以。优选地，隔板通过筒体和主轴中的一个或另一个固定的或携带的、或者既固定又携带的屏障。

优选地，研磨设备采用磨球而不是具有不同形状的研磨体(例如柱体)进行研磨。

优选地，磨球在使用前具有相同的初始尺寸。优选地，初始尺寸在5到40毫米的直径范围内(更优选地在8到25毫米之间，且最优选地从大约12毫米到大约20毫米)。

在本发明的再一个方面中在于包括带有水平主轴的研磨设备、或者用于本发明所述的架或塔、或者用于从一个到另一个的级联供料，研磨设备包括或包含

主轴，带有驱动联轴器且携带有随主轴转动的搅拌器结构(搅拌器)，

筒体或其它腔室，其在主轴的部分长度上限定关于搅拌器的装置(“筒体”)从而限定容纳有或将容纳有通过搅拌获得能量的碰撞体的腔室，所述筒体具有用以进行物料流的进料口和出料口，

驱动装置，其具有与主轴上的联轴器联结的驱动联轴器，

带轴筒体的支承装置，使得驱动装置在主轴实质上水平时通过联结的联轴器至少带动主轴及其搅拌器绕着主轴轴线转动，以及

可选的碰撞体(例如，磨球、柱体(barrels)、针体(pins)和/或同类物集合)。

优选地，研磨设备采用磨球而不是具有不同形状的研磨体(例如柱体)进行研磨。

优选地，磨球在使用前具有相同的初始尺寸。优选地，初始尺寸在5到40毫米的直径范围内(更优选地在8到25毫米之间，且最优选地从大约12毫米到大约20毫米)。

在本发明的一个方面中在于或者用于本发明所述的架或塔、或者用于从一个到另一个的级联供料，研磨设备包括或包含

主轴，带有驱动联轴器且携带有随主轴转动的搅拌器结构(搅拌器)，

筒体或其它腔室，其在主轴的部分长度上限定关于搅拌器的装置(“筒体”)从而限定容纳有或将容纳有通过搅拌获得能量的碰撞体的腔室，所述筒体具有用以进行物料流的进料口和出料口，

驱动装置，其具有与主轴上的联轴器联结的驱动联轴器，

带轴筒体的支承装置，使得驱动装置在主轴实质上水平时通过联结的联轴器至少带动主轴及其搅拌器绕着主轴轴线转动，以及

可选的碰撞体(例如，磨球、柱体(barrels)、针体(pins)和/或同类物集合)。

优选地，研磨设备采用磨球而不是具有不同形状的研磨体(例如柱体)进行研磨。

优选地，磨球在使用前具有相同的初始尺寸。优选地，初始尺寸在5到40毫米的直径范围内(更优选地在8到25毫米之间，且最优选地从大约12毫米到大约20毫米)。

筒体可随着主轴转动但这并非优选的。优选地，筒体不同步于主轴(即，可选地主轴固定(例如通过绳索、带等)在至少对准主轴的支架中)的转动。

优选地，所述驱动装置被操作或设置成允许在两个方向的任一个方向上转动。

在本发明的另一个方面中在于或者用于本发明所述的架或塔、或者用于从一个到另一个的级联供料，研磨设备包括或包含

主轴，带有驱动联轴器且携带有随主轴转动的搅拌器结构(搅拌器)，

筒体或其它腔室，其在主轴的部分长度上限定关于搅拌器的装置(“筒体”)从而限定容纳有或将容纳有通过搅拌获得能量的碰撞体的腔室，所述筒体具有进料口以当适当地操作在主轴至少实质上水平时接收来自上方且向下方卸料的给料、以及出料口。

驱动装置，其具有与主轴上的联轴器联结的驱动联轴器，

带轴筒体的支承装置，使得驱动装置在主轴实质上水平时通过联结的联轴器至少带动主轴及其搅拌器绕着主轴轴线转动，以及

可选的碰撞体(例如，磨球、柱体(barrels)、针体(pins)和/或同类物集合)。

筒体可随着主轴转动。优选地，筒体不随主轴转动或不同步于主轴的转动(即，可选地，主轴固定(例如通过绳索、带等)在至少对准主轴的支架上)。

优选地，所述驱动装置能够被操作或设置成允许在两个方向的任一个方向上转动。

搅拌器是由主轴携带的静态形式，并可以在筒体内向各处抛掷碰撞体。

优选地，在筒体内是隔板，从而所容纳的碰撞体不能进入所述出料口，但相对精细的物料可以。优选地，隔板是通过筒体和主轴中的一个或另一个固定的或携带的、或者既固定有携带的屏障。

优选地，研磨设备采用磨球而不是具有不同形状的研磨体(例如柱体)进行研磨。

优选地，磨球在使用前具有相同的初始尺寸。优选地，初始尺寸在5到40毫米的直径范围内(更优选地在8到25毫米之间，且最优选地从大约12毫米到大约20毫米)。

本发明的另一个方面涉及下述对象的组合，

前述的球磨设备，

架或塔中的安装结构以支持或支承壳体，并当和/或如果壳体固定在支架中时，允许主轴转动，以及

驱动装置的联轴器，用以与主轴接合，以在使用中通过转动所联结的主轴来驱动安装在支架上的球磨设备。

优选地，所述驱动装置能够被操作或设置成允许在两个方向的一个或另一个方向上转动。

优选地，具有物料给料进料口，其可连接到来自上方的物料给料和/或向下方给料的物料出料。

优选地，具有进入壳体的气体给料。

本发明的再一个方面涉及运转的前述组合。

优选地，组合包括立即安装备用的立即拆除的球磨设备。

在本发明的一个方面中在于一组研磨设备，其中至少一个研磨设备向另一个研磨设备供料，研磨设备包括或包含

主轴，带有驱动联轴器且携带有随主轴转动的搅拌器结构(搅拌器)，

筒体或其它腔室，其在主轴的部分长度上限定关于搅拌器的装置(“筒体”)从而限定容纳有或将容纳有通过搅拌获得能量的碰撞体的腔室，所述筒体具有用以进行物料流的进料口和出料口，

可选的碰撞体(例如，磨球、柱体(barrels)、针体(pins)和/或同类物集合)。

筒体可随着主轴转动。优选地，筒体不随主轴转动或不同步于主轴的转动(即，可选地，主轴固定(例如通过绳索、带等)在至少对准主轴的支架中)。

优选地，所述驱动装置能够被操作或设置成允许在两个方向的任一个方向上转动。

优选地，研磨设备组或若干带轴腔室/筒体具有一个或更多：

-罩壳(例如用以隔绝噪声、粉尘等)

-支承架或塔

-通过主轴联轴器向每根轴的皮带驱动或挠性驱动

-筒体内或筒体旁(by the drum)的主轴的轴承支承

-可从主轴拆除的搅拌器(例如，优选地是铸造成形)

-主轴上的搅拌器的非圆形衬套以形成同步转动

-同类搅拌器沿着主轴关于旋转位置的交错排列

-主轴联轴器的补充联轴器，其不是必须能够与主轴及其联轴器拆除

-作为碰撞体的钢球

-进料口对准出料口的成对研磨设备，使得物料可沿较短路径流动(即，物料前后移动)

-每个研磨设备/带轴筒体的支架安装结构

-在两个方向的任一个方向上使主轴转动的驱动装置

优选地，研磨设备采用磨球而不是具有不同形状的研磨体(例如柱体)进行研磨。

优选地，磨球在使用前具有相同的初始尺寸。优选地，初始尺寸在5到40毫米的直径范围内(更优选地在8到25毫米之间，且最优选地从大约12毫米到大约20毫米)。

本发明的另一个方面涉及研磨设备，包括或包含

容纳碰撞体的若干带轴腔室，当转动时所述碰撞体能够通过每根轴上携带的搅拌器获得能量，每个腔室包括进料口和出料口，以及

使主轴转动的驱动装置，

其中，第一所述腔室的进料口可接受固体流，且其出料口能够向第二所述腔室的进料口排料，并且第二腔室的出料口可排料(I)以获得产出，或者(II)向第三所述腔室的进料口排料等。

筒体可随着主轴转动。优选地，筒体不随主轴转动或不同步于主轴的转动(即，可选地，主轴固定(例如通过绳索、带等)在至少对准主轴的支架中)。

优选地，所述驱动装置能够被操作或设置成允许在两个方向的任一个方向上转动。

优选地，若干带轴腔室/筒体具有一个或更多：

-罩壳(例如用以隔绝噪声、粉尘等)

-支承架或塔

-通过主轴联轴器向每根轴的皮带驱动或挠性驱动

-筒体内或筒体旁的主轴的轴承支承

-可从主轴拆除的搅拌器(例如，优选地是铸造成形)

-主轴上的搅拌器的非圆形衬套以形成同步转动

-同类搅拌器沿着主轴关于旋转位置的交错排列

-主轴联轴器的补充联轴器，其不是必须能够与主轴及其联轴器拆除

-作为碰撞体的钢球

-进料口对准出料口的成对研磨设备，使得物料可沿较短路径流动(即，物料前后移动)

-每个研磨设备/带轴筒体的支架安装结构

优选地，研磨设备采用磨球而不是具有不同形状的研磨体(例如柱体)进行研磨。

优选地，磨球在使用前具有相同的初始尺寸。优选地，初始尺寸在5到40毫米的直径范围内(更优选地在8到25毫米之间，且最优选地从大约12毫米到大约20毫米)。

本发明的另一个方面涉及下述对象的组合，

前述的球磨设备，

支持壳体的安装结构，以当和/或如果壳体固定在支架中时允许主轴转动，以及

驱动装置的联轴器，用以与主轴接合，以在使用中通过转动所联结的主轴来驱动安装在支架上的球磨设备。

优选地，所述驱动装置能够被操作或设置成允许在两个方向的任一个方向上转动。

优选地，具有物料给料进料口，其可连接到来自上方的物料给料和/或向下方给料的物料排料。

优选地，具有进入壳体的气体给料。

本发明的再一个方面涉及运转形式的前述组合。

优选地，组合包括立即安装备用的立即拆除的球磨设备。

本发明的另一个方面涉及研磨设备，包括或包含

容纳碰撞体的若干带轴腔室，当转动时所述碰撞体能够通过每根轴上携带的搅拌器获得能量，每个腔室包括进料口和出料口，以及

使主轴转动的成组或单独的驱动装置，

其中，第一所述腔室的进料口可接收固体流，且其出料口能够向第二所述腔室的进料口排料，并且第二腔室的出料口可排料(I)以获得产出，或者(II)向第三所述腔室的进料口排料。

优选地，成组的驱动装置是通过带或其它挠性传动来驱动每根轴。

筒体可随着主轴转动。优选地，筒体不随主轴转动或不同步于主轴的转动(即，可选地，主轴固定(例如通过绳索、带等)在至少对准主轴的支架中)。

优选地，所述驱动装置能够被操作或设置成允许在两个方向的任一个方向上转动。

优选地，每根轴可拆开以从输入每根轴的驱动装置上拆除(优选地与其腔室一起)。

优选地，带轴腔室/筒体组具有一个或更多：

-罩壳(例如用以隔绝噪声、粉尘等)

-支承架或塔

-通过主轴联轴器向每根轴的皮带驱动或挠性驱动

-筒体内或筒体旁的主轴的轴承支承

-可从主轴拆除的搅拌器(例如，优选地是铸造成形)

-主轴上的搅拌器的非圆形衬套以形成同步转动

-同类搅拌器沿着主轴关于旋转位置的交错排列

-主轴联轴器的补充联轴器，其不是必须能够与主轴及其联轴器拆除

-作为碰撞体的钢球

-进料口对准出料口的成对研磨设备，使得物料可沿较短路径流动(即，物料前后移动)

-每个研磨设备/带轴筒体的支架安装结构

优选地，研磨设备采用磨球而不是具有不同形状的研磨体(例如柱体)进行研磨。

优选地，磨球在使用前具有相同的初始尺寸。优选地，初始尺寸在5到40毫米的直径范围内(更优选地在8到25毫米之间，且最优选地从大约12毫米到大约20毫米)。

本发明的另一个方面涉及下述对象的组合，

前述的球磨设备，

支持壳体的安装结构，以当和/或如果壳体固定在支架中时允许主轴转动，以及

驱动装置的联轴器，用以与主轴接合，以在使用中通过转动所联结的主轴来驱动安装在支架上的球磨设备。

优选地，所述驱动装置能够被操作或设置成允许在两个方向的任一个方向上转动。

优选地，具有物料给料进料口，其可连接到来自上方的物料给料和/或向下方给料的物料排料。

优选地，具有进入壳体的气体给料。

本发明的再一个方面涉及运转的前述组合。

优选地，组合包括立即安装备用的立即拆除的球磨设备。

本发明的另一个方面涉及研磨设备，包括或包含：

容纳碰撞体的若干带轴腔室或筒体(“腔室”)，当转动时所述碰撞体能够通过每根轴上携带的搅拌器获得能量，每个腔室包括进料口和出料口，以及

通过驱动输入使每根主轴转动的驱动装置，

其中，第一所述腔室的进料口可接收固体流，且其出料口能够向第二所述腔室的进料口排料，并且第二腔室的出料口可排料(I)以获得产出，或者(II)向第三所述腔室的进料口排料。

并且其中，每根轴可拆开以从输入每根轴的驱动装置上拆除(优选地与其腔室一起)。

筒体可随着主轴转动。优选地，筒体不随主轴转动或不同步于主轴的转动(即，可选地，主轴固定(例如通过绳索、带等)在至少对准主轴的支架上)。

优选地，所述驱动装置能够被操作或设置成允许在两个方向的任一个方向上转动。

优选地，每根轴可拆开以从驱动每根轴的驱动装置上拆除(优选地与其腔室一起)。

优选地，研磨设备组或带轴腔室/筒体组具有一个或更多：

-罩壳(例如用以隔绝噪声、粉尘等)

-支承架或塔

-通过主轴联轴器向每根轴的皮带驱动或柔性驱动

-筒体内或筒体旁的主轴的轴承支承

-可从主轴拆除的搅拌器(例如，优选地是铸造成形)

-主轴上的搅拌器的非圆形衬套以形成同步转动

-同类搅拌器沿着主轴关于旋转位置的交错排列

-主轴联轴器的补充联轴器，其不是必须能够与主轴及其联轴器拆除

-作为碰撞体的钢球

-进料口对准出料口的成对研磨设备，使得物料可沿较短路径流动(即，物料前后移动)

-每个研磨设备/带轴筒体的支架安装结构

本发明的另一个方面涉及下述对象的组合，

前述的球磨设备，

支持壳体的安装结构，以当和/或如果壳体固定在支架中时允许主轴转动，以及

驱动装置的联轴器，用以与主轴接合，以在使用中通过转动所联结的主轴来驱动安装在支架上的球磨设备。

优选地，所述驱动装置能够被操作或设置成允许在两个方向的任一个方向上转动。

优选地，具有物料给料进料口，其可连接到来自上方的物料给料和/或向下方给料的物料排料。

优选地，具有进入壳体的气体给料。

本发明的另一个方面涉及运转的前述组合。

优选地，组合包括立即安装备用的立即拆除的球磨设备。

本发明的另一个方面涉及研磨设备，包括或包含

容纳碰撞体的若干带轴腔室，当转动时所述碰撞体能够通过每根轴上携带的搅拌器获得能量，每个腔室包括进料口和出料口，以及

通过驱动输入使主轴转动的驱动装置，

其中，第一所述腔室的进料口可接收固体流，且其出料口能够向第二所述腔室的进料口排料，并且第二腔室的出料口可排料(I)以获得产出，或者(II)向第三所述腔室的进料口排料。

并且其中，可通过从支架上拆除和/或从其驱动输入上拆开来更换作为单元的每个带轴腔室。

优选地，研磨设备组或若干带轴腔室/筒体具有一个或更多：

-罩壳(例如用以隔绝噪声、粉尘等)

-支承架或塔

-通过主轴联轴器向每根轴的皮带驱动或挠性驱动

-筒体内或筒体旁的主轴的轴承支承

-可从主轴拆除的搅拌器(例如，优选地是铸造成形)

-主轴上的搅拌器的非圆形衬套以形成同步转动

-同类搅拌器沿着主轴关于旋转位置的交错排列

-主轴联轴器的补充联轴器，其不是必须能够与主轴及其联轴器拆除

-作为碰撞体的钢球

-进料口对准出料口的成对研磨设备，使得物料可沿较短路径流动(即，物料前后移动)

-每个研磨设备/带轴筒体的支架安装结构

本发明的另一个方面涉及下述对象的组合，

前述的球磨设备，

支持壳体的安装结构，以当和/或如果壳体固定在支架中时允许主轴转动，以及

驱动装置的联轴器，用以与主轴接合，以在使用中通过转动所联结的主轴来驱动安装在支架上的球磨设备。

优选地，所述驱动装置能够被操作或设置成允许在两个方向的任一个方向上转动。

优选地，具有物料给料进料口，其可连接到来自上方的物料给料和/或向下方给料的物料排料。

优选地，具有进入壳体的气体给料。

本发明的再一个方面涉及运转形式的前述组合。

优选地，组合包括立即安装备用的立即拆除的球磨设备。

本发明的另一个方面涉及降低基体中或基体上的至少一种卤化有机物化合物水平的方法，其包括或涉及在前述的任何一个或更多方面的研磨设备中对含有至少一种卤化有机物化合物的基体进行研磨。

优选地，球磨设备的运行使得在球磨设备的混合物中产生至少实质上70℃的温度。

基体可以是被卤化有机物污染的泥土、土壤、粘土和/或石块颗粒的全部或者部分物料流。

优选地，基体在研磨前已被干燥。优选地，这样的干燥优选地低于60℃在干燥器中低于125℃。

优选地，基体在研磨前未被洗涤。

本发明的另一个方面涉及减少污染场地的卤化有机物的方法，其包括或涉及以下步骤：

-开掘受污染场地以从中获得污染介质；

-将至少部分的污染介质根据颗粒尺寸进行分流，以相对彼此形成，(a)较大颗粒尺寸流和(b)较小颗粒尺寸流，以重量比衡量，较大颗粒尺寸流比较小颗粒尺寸流含有较少的卤化有机物；

-采用本发明的任何方面的研磨设备对较小颗粒尺寸流进行机械化学研磨(可选地，添加适当的反应剂)，从而减少较小颗粒尺寸流中卤化有机物；

-将(I)从研磨过程中产生的研磨物料的生成混合物以及(II)至少部分从分流过程中产生的较大颗粒尺寸流(可选地在洗涤后)进行混合，从而获得颗粒尺寸大于研磨物料颗粒尺寸的混合物；以及

-或者(i)利用该混合物对开掘的场地进行至少部分恢复，或者(ii)在将该混合物置于其它地点之前、同时或者之后，利用其它填料对开掘的场地进行恢复。

污染较严重的较小颗粒尺寸流可具有10毫米或更小的平均颗粒尺寸。

较小颗粒尺寸流可通过对如粘土的介质进行筛选或识别获得。

优选地，研磨设备可研磨到亚微米尺寸级别。

在研磨前可以已经对至少污染较严重的较小颗粒尺寸流进行了干燥。优选地，干燥的对象是未洗涤的固体物料流。

在至少一些研磨过程中优选地使用反应剂。

适合的反应剂和研磨物料至少主要是如石英砂和土壤的固体。

优选地，研磨过程采用本发明所述的球磨设备。

混合物被优选地用在场地恢复中。

本发明的另一个方面包括化学污染基体的修复方法，所述方法包括以下步骤：

确保带有任何污染的基体至少实质上是干燥的，

在前述的任何类型的研磨设备中对至少实质上是干燥的基体和任何的污染物进行研磨，以及

从研磨设备中获取产出的固体物料流或者将其进行混合并允许至少部分固体物料流从泥浆形式凝固(atleast a partial set)。

优选地，对基体自身或其任何固体流不进行洗涤。

优选地，研磨涉及一种或更多中反应剂(例如石英砂)和可选地可认为是需要的任何催化剂。优选地，研磨设备涉及磨球，以及优选地，这些磨球是钢球，但它们还可以是任何适当的碰撞体。

优选地，研磨设备被禁闭以降低噪声水平(例如，置于如20英尺国际标准集装箱的运输容器中)。

可选地，可提供惰性气体或低含氧量气体以作为研磨设备的环境(例如通过灌入氮气)。

可选地，采用旋转干燥设备以确保基体的干燥度。

可选地，可收集来自该干燥设备的粉尘和/或气体。

优选地，可从任何获取阶段或研磨设备的排料中收集粉尘。

本发明更深的方面涉及如本发明之前所述的任何类型的研磨设备的使用。

本发明的另一个方面涉及土壤的修复流程，通过对土壤的实质上干燥的固体物料流或其分离部分进行研磨，以将土壤和/或任何添加的石英或同类材料中硅氧键错开(dilocate-Si-O-bonds)，从而实现和/或引起卤化有机物的破坏，使用的研磨设备是主轴水平布置的球磨设备，其中主轴具有或携带磨球搅拌器结构。

然后可将研磨物料(例如，如前述说明书所述的与超大颗粒尺寸物料)混合。

在本发明更远的方面在于修复基体的设施，所述设施包括本发明的任何方面的研磨设备。

本发明的更深的方面涉及前述流程或方法的固体排料。

在本发明的流程中，优选地磨球速度可达到每秒20米，并且超过每一搅动的部分至少2米/每秒。

优选地，在对研磨产出物进行搅拌或球化或混合修复前，产出物的颗粒尺寸小于1微米。

优选地，每个研磨设备包括：

具有至少一个端板的壳体，以限定腔室(优选地是至少实质上呈筒形的腔室，且筒体轴线至少实质上为水平)，

在腔室内可转动的主轴，该主轴被轴承安装在端板的筒体中并伸到端板之外，

在腔室内可随主轴转动的棒、叶片或其它搅拌器形式(搅拌器)，以及

由搅拌器搅拌的磨球(或其它碰撞体)，

(以及可选的主轴驱动装置)。

这样一种设置使得轴承及其润滑剂(i)可在腔室外密封，(ii)被保护在轴颈箱中，轴颈箱受一个或更多密封组件的保护以防止来自腔室的污染物，和/或(iii)具有低于腔室的运行温度。

优选地，具有壳体的两个端板，端板优选地实质上彼此平行。

优选地，例如通过将螺栓从法兰对法兰的安装件上拆下，可将端板的至少一个(如果不是两者)从壳体的筒体等上拆下。

优选地，轴承设置在端板的外侧并由固定在端板上的支承结构(在轴颈项组件中)支承。优选地，支承结构是部分骨架。

优选地，具有至少实质上类似的主轴安装结构，主轴的每个端部区域轴承支承在每个端板的外部或腔室的外部。

在本发明的不太理想的实施方式中，一个端板可焊接在筒体上或与筒体制成一体。

优选地，主轴的转动平行于或共轴于优选地至少实质上呈筒形的腔室的轴线。

优选地，具有从和/或端板的外侧对主轴的密封从而提供第一密封区域。

优选地，在第一密封区域的外侧且在所述轴承的内侧具有第二密封区域。优选地，第二密封区域包括主轴轴承的密封例如与轴承周围的密闭孔结合。

优选地，所述第二密封区域能保护轴承不受可通过所述第一密封区域的污染物的影响。

优选地，上盖连接到端板上从而使密封区域对区域进行密封和对端板进行轴承支承。

优选地，主轴的一个端部适于接收例如直接或间接地来自电机或其它机械驱动装置的驱动。

优选地，主轴具有以键连接其上的搅拌器。

优选地，键连接并不依靠键槽，而是依靠主轴上的非圆形或非转动的轮廓，搅拌器与该轮廓互补，例如优选地，所述轮廓可以是六角形或其它多面体轮廓，搅拌器与其匹配。

优选地，叶片被排列以使其关于主轴相对于相邻叶片交错。

优选地，所述壳体具有上方进料口。

优选地，所述上方进料口不在筒形腔室的圆周方向，但是如果需要可以如此布置。

优选地，具有精细物料的出料口。

优选地，出料口没有直接布置在进料口的下方，而是可以置于主轴轴线的中部或一端，或者还可以位于搅拌器的圆周方向。

优选地，出料口设置有舱门或其它的结构以将磨球容置在腔室内。

优选地，具有上方蒸汽排出口，并且优选地，该排出口向蒸汽处理和/收集装置排出。

优选地，进料口和出料口，或二者之一，设置有刀(knife)或其它阀体以控制它的开口。

优选地，所述搅拌器与(优选地筒形的)壳体之间具有间隙以在每个搅拌器的末端区域和腔室最近内部表面之间留出大约三个磨球的距离。

优选地，所述磨球由钢等金属制成(例如钢球)。

优选地，由壳体和/或主轴形成圆锥或其他结构从而为从所述进料口落入腔室中的物料供应提供方向性部件。

优选地，所述圆锥形状是截头圆锥形或其他形状，但是从腔室的一个端部区域指向进料口下方的主轴。

优选地，以下结合任何一幅或更多幅附图对该布置进行实质上地说明。

这里使用的术语“和/或”表示“和”或者“或”，或者同时包括二者。

这里使用的名词后的术语“(s)”，在适当场合表示该名词的单数或复数形式。

术语“菊花串链(daisy-chained)”、“级联(cascade)”、“球磨设备队列(procession of ball mills)”要广泛地理解。

附图说明

现在结合以下附图说明本发明的优选实施方式，其中：

图1是适于处理基体的设施的原理图，其中基体是污染土壤料堆，实线箭头表示了土壤流，

图1A是图1中的设施的工作流程图，

图2是根据本发明的一组带轴的腔室的立体图，其中每个腔室作为在优选的驱动装置组的驱动下并在噪声抑制封闭罩壳中运行的研磨设备(未示出磨球或其它的碰撞体)，

图3是土壤和反应剂给料料斗的放大视图，其中每个料斗具有向最顶部带轴腔室给料的单独的螺旋推运器，

图4是带轴腔室的特写视图，其示出了处于或邻近一端的顶部进料点以及处于另一端的出料口，从此处能够向下对反向设置但优选地直线设置的同类研磨设备部分的给料，以在各腔室交替时使物料流向反向，从而减少设施的物流流动距离，

图5是图2所示设备的立体图，其中示出了优选地与电机相连的驱动皮带轮，支承在塔式支架上的一组带轴腔室，

图6是图5所示的一组腔室的相邻部分的放大视图，

图7是本发明的设备的截面示意图(出于清晰表达的目的未示出磨球，当静止时磨球(具有例如前述说明书中提到的尺寸)至少在主轴周围)，

图8是安装在图7中的一种立即可拆(ready to go)的研磨设备，

图9示出了图8所示的设备被拆除后保留的支架和驱动联轴器，

图10示出了联轴器的截面(例如是在新西兰www.johnbrooks.co.nz/couplingshtm可获得的ATRA-FLEX^TM弹性联轴器)，

图11示出了研磨土壤的重金属稳定体系的流程图，其可将研磨的作用延伸至降低有机污染物。

图12是与电机接合的主轴的一个端部(与电机接合端)的特写视图，其示出了(如在我们2006年11月21日的申请号为551486的新西兰专利申请中那样)主轴的外侧，以及主轴上安装的位于腔室内的搅拌棒、搅拌器结构等，以及主轴上的迷宫式密封装置(称为第一密封组件)和由此向外(即进一步向左)从闭合孔或者通孔安装到主轴上的又一密封组件，在该闭合孔或者通孔的外侧(但在该孔内)设置主轴轴承，所述轴承和第二密封组件一起沿着转动轴线安装在所述孔中，并支撑抵靠在箱体的端板上。

图13示出了具有五个反应器(壳体、容器和/或腔室)的垂直设备组的塔，每个反应器由电机直接驱动，并且向装料的旋转混合装置进行级联(cascade)供料以与一些混合物料的给料混合，以及

图14示出了图13中的塔，其具有可同时封闭在封闭中的两个垂直设备组。

具体实施方式

在本发明的优选实施方式中，带轴腔室1由磨球和介质用的筒形容器5的端板2和3限定。所述端板穿过其中支承有主轴4。从一个(且优选地每个)端板可以看出(至少对于端板3)，优选地设置有用于主轴4的轴承支承5。

优选地在筒形包围5一端的顶部设置有可法兰连接的进料口6，并在另一端通过端板设置有排放口7。可替换地，能够从区域8中或邻近区域8设置指向下方的带法兰的出料口。

可以看出，很多交错叶片9被设置以当主轴4旋转时与其协调一致地旋转。这具有搅动磨球(未示出)的作用，磨球部分填充在腔室封闭区域中。

可选地，可设置通风口10(优选地带法兰)，例如以进行粉尘和/或气体环境控制。

图2示出了皮带的成组驱动或其它柔性驱动(也可分别独立地驱动)下的一组4个带轴腔室，如果需要，可以设置氮气或其它惰性气体供应源15以在每个腔中建立惰性气体环境。可替换地，可以是每根轴的直接驱动或对每根轴直接驱动(机械的、液压的和/或电气的)(例如通过爪形或其它连轴器对电机的轴驱动)。

在图3中可知，料斗11和12可通过螺旋推运器13、14分别送料给如图所示的带轴腔室6的最顶部的进料口。

研磨的或正在研磨的物料然后在从最低的带轴腔室16向混料设备17卸料之前经由较低的带轴腔室向下传送，物料在混料设备17中在给料水18的作用下，至少以某种程度混合。

在设备塔底部布置混料设备的目的是处理/加工土壤，所述土壤已受到一组搅拌磨球的带轴腔室的研磨作用以及所需反应剂的影响。

图5示出了图2中的布置，其中电机19驱动与每个被驱动皮带轮21连接的驱动皮带轮。

所述布置的特点是，能够通过在图5所示的塔结构26上安装由集装箱制成的隔音罩壳25，将噪声保持在比较低的水平并同时从罩壳25上提供排出口。

在图1中可知，料土料堆的流程优选地通过旋转干燥设备并从此处向上给料斗11供料，在该阶段，在最顶端带轴腔室6的入口处任何反应剂可以与其混合。

在本发明的优选形式中，主轴上每个碰撞/抛掷叶片以铸造或机械加工(例如带有六角形，矩形或八角形衬套)制成，使其以非转动的方式套装在主轴4上，使得如图4所示各叶片间的交错一直保持，不管转动的使用和方向。反向驱动可使碰撞叶片的寿命加倍。

研磨设施可以通过前述专利说明书中所述的任何方法或流程运行；可替换地，其可以是无反应剂研磨或者包含如石英的反应剂以及任何可选的催化剂。重要特征是监视产出量，以使得在需要使用反应剂的场合下，反应剂被用来确保能够产出希望的产量。

图7到9以特定的截面图首先示出了迭式设置中的组件，该组件包括在腔室或筒体30的导向部29之间用带(钢带28)绑在其上的支架27，以使其稳定，同时适当对准的主轴31通过其上的联轴器32联结到所述驱动装置34的皮带轮轴上的联轴器33上。主轴31优选地是六角形并置于每个碰撞/抛掷叶片35的六角形衬套内，同时其以轴承安装在板件38和39的36、37处。

图8示出了拆下的可拆除研磨单元(仅示出了其中的大量磨球中的一个磨球40)，而图9则示出了在从图7所示的组件中将图8所示部分拆下后保留的安装和驱动装置。

可以看到，如果需要，当皮带轮可被皮带驱动且其主轴上安装联轴器，且安装在筒体或腔室轴承上的联轴器与该联轴器对准，则皮带轮轴需要稳定地支承。

这样能够在任何维护期间在两个小时或更短的时间内使“立即拆下(ready to go)”更换部件被快速地装回。简单的支架/带绑定、接合、法兰的螺栓固定有益于驱动装置和物料流动路径。

优选地研磨后的物料的最终颗粒尺寸小于100微米，优选地极小于上述值，例如小于1微米。

图11示出了如这里同时提交的专利申请所述的修复流程中的优选的土壤修复流程。混合过程(例如在混凝土型混合装置或其它中)利用优选的亚微级研磨后颗粒尺寸以获得更好的稳定效果，从而防止这些金属污染物的浸出或置换，其中所述金属污染物颗粒具有亚微级研磨后颗粒尺寸。

图11所示流程图是优选的流程图，其中，从料堆41取出污染土壤，并作为进料输送至料斗42，进而到传送带43上。污染土壤被输送进旋转干燥设备或其它形式的干燥设备44中，然后穿过物料筛45的超大颗粒物料到达超大颗粒料堆46。非超大颗粒物料流分成两部分，分别是进入精料料仓47的精细物料和进入粗料料仓48的粗物料。

干燥设备44中的粉尘和蒸汽经过袋滤室49，并在排出气体处理50后排向大气。另外，在袋滤室还原的精细物料送至精料料斗47。

精细物料和粗物料流47和48分别与料斗51中的研磨反应剂一起给料至研磨设备52中，所述研磨设备52优选地是前述的“立即拆下”研磨设备的迭式设置(总称为“反应装置”)。该反应装置称为III系列MCD^TM反应装置。该装置将研磨的物料运送至混合设备53处，并在此处添加来自料斗给料的稳定剂54。然后混合设备53的产出物通过混料设备55(或任何适当的旋转混合设备)并产生处理后土壤料堆56。尚未研磨的超大颗粒料堆46的物料以及处理后土壤料堆56中的物料(通常小于10微米，甚至小于1微米)可以任何适当的混合方式(例如，混凝土搅拌装置等)混合，以形成再生土壤料堆等57。合适的混合制剂包括能从泥浆中定型的干燥制剂，例如硅酸盐水泥、石灰等。

本领域技术人员应当理解，通过选择料斗54中适当的稳定剂稳定现有形式但通常为不同形式的金属污染物的原理。该稳定方法物理地和/或以非溶解形式保持金属污染物以减少其浸出。

图12示出了本发明的可替换方式的主轴支承方式。在图12中，轴承60位于密封组件61外侧，所述密封组件61通过适当的密封圈、O型圈或其它部件将轴颈箱组件62密封在主轴63上。安装轴承60的轴颈箱组件62的“孔”提供了轴承的合适转动轴。可在轴颈项箱62的内部的轴承60外侧设置其它密封件或同类部件(密封组件64)。如图所示，可在其中安装端盖65。通过适当的螺栓连接将该端盖65固定在轴颈箱组件62上。轴颈箱组件62和端盖65固定在板件66上，所述板件66再固定在端板67上。优选地，部件68通过作为上盖组件一部分的法兰69固定在端板67上。然而，板件66优选地由在区域71焊接或连接在端板67上的部分骨架结构70整体支承。端板67优选地通过螺栓连接在带轴腔室1的法兰72上。

图13和14示出了图12中的反应器级联，从72A的进料口经由72B经由72C经由72D到72E的出料口，72E的出料口供料给旋转混合设备75或混料设备或者直接供料给旋转混合设备(可选地通过波动(surge)的方式而不是非连续储存的方式)。

电机78等通过可拆开的连接(例如卡爪、离合器等)直接驱动72A到72E中每个反应器的主轴。前述的挠性联轴节是优选的。

示出了第一进料口73和各腔室的最后或最底部的出料口。

每个反应器通过法兰76固定在塔架77的结构部件上。

本发明提供了现存流程的可替换方式。

在本说明书中引用了专利说明书、其它外部文献或者其它来源的信息，其目的是提供讨论本发明特征的基础。除非专门指明，对这些外部文献的引用不应理解为承认这些文件或信息来源是任何的层次上的现有技术或形成本领域内的公知技术的一部分。

Claims (24)

1.研磨设备，包括：

第一壳体，其限定具有进料口和出料口的第一腔室，具有能够从第一腔室外部被驱动转动的水平的主轴，具有位于第一腔室内与主轴一体或由主轴携带的搅拌器结构，以及具有禁闭在第一腔室内并能够在第一腔室内通过主轴及其搅拌器结构的转动获得能量的碰撞体，以及

第二壳体，其限定具有进料口和出料口的第二腔室，具有能够从第二腔室外部被驱动转动的水平的主轴，具有位于第二腔室内与主轴一体或由主轴携带的搅拌器结构，以及具有禁闭在第二腔室内并能够在第二腔室内通过主轴及其搅拌器结构的转动获得能量的碰撞体，第二腔室的进料口适于接收来自第一腔室的出料口的物料。

2.权利要求1所述的研磨设备，其中所述碰撞体为球。

3.权利要求1所述的研磨设备，其中，具有第三壳体，其限定具有进料口和出料口的第三腔室，具有能够从第三腔室外部被驱动转动的水平的主轴，具有位于第三腔室内与主轴一体或由主轴携带的搅拌器结构，以及具有禁闭在第三腔室内并能够在第三腔室内通过主轴及其搅拌器结构的转动获得能量的碰撞体，第三腔室的进料口适于接收来自第二腔室的出料口的物料。

4.权利要求3所述的研磨设备，其具有从第三腔室起菊花串链的一个或更多的壳体，每一个壳体均限定具有进料口和出料口的腔室，并具有能够从该腔室外部被驱动转动的水平的主轴、具有位于该腔室内与主轴一体或由主轴携带的搅拌器结构以及具有禁闭在该腔室内并能够在该腔室内通过主轴及其搅拌器结构的转动获得能量的碰撞体，

其中，具有从出料口到进料口的物料供给，除了最后一个腔室的出料口。

5.权利要求4所述的研磨设备，其中，具有紧靠的混料设备或旋转混合设备，并且最后一个腔室的出料口连续地向混料设备或旋转混合设备供料。

6.权利要求4所述的研磨设备，其中每个壳体支承在组件上，所述组件包括用于安装壳体的支架，并且所述研磨设备包括驱动装置，当每个壳体支承在所述组件上时每个壳体的每根轴受到所述驱动装置的轴的驱动。

7.权利要求6所述的研磨设备，其中，每个腔室在重力作用下通过它的出料口排料，并每个腔室在重力的作用下通过各自的进料口接收物料。

8.权利要求1所述的研磨设备，其中，所述腔室水平对准的筒形腔室，每一腔室靠近一端具有顶部进料口，靠近另一端具有底部出料口。

9.权利要求8所述的研磨设备，其中，受支承的壳体组成垛或塔，进料口端和出料口端沿着该垛或塔向下交错布置。

10.权利要求8所述的研磨设备，当在封闭结构中以允许通过其进料口或进料口组对最顶部壳体进行单一或多重供料。

11.研磨设备，包括：

若干容器，每个容器限定腔室且具有：进入腔室的进料口、离开腔室的出料口、能够从该腔室外部被驱动转动的至少实质上水平的主轴、位于该腔室内由主轴携带的搅拌器结构、以及禁闭在该腔室内并能够在该腔室内通过主轴和搅拌器结构的转动获得能量的碰撞体，

用于以一个叠在另一个上的方式支承所述若干容器的结构，

用于结构上的每个容器的每根轴的驱动装置，驱动装置为完全成组的、完全不成组的或部分成组的，以及

出料口和进料口之间的管道联通，从而使得较高腔室能够向较低腔室卸料。

12.权利要求11所述的研磨设备，其中所述碰撞体为球。

13.研磨物料的设施，包括：

至少实质上水平的带主轴的壳体的支承垛，每个壳体限定腔室，所述腔室具有：进料口和出料口、位于该腔室内与主轴一体或由主轴携带的搅拌器结构、以及可保留在该腔室内并能够在该腔室内通过搅拌器结构的转动获得能量的碰撞体，

进料口和出料口之间的管道，从而在腔室之间具有物料从出料口向进料口输送的通路；以及

主轴的驱动装置。

14.权利要求13所述的设施，其中所述碰撞体为球。

15.权利要求13的设施，其中，设置通向旋转混合装置或混料设备的最后出料口管道用以将研磨的物料与其它物料混合。

16.权利要求13所述的设施，其中，所述通路是依靠重力作用从腔室到腔室的级联布置。

17.权利要求16所述的设施，其中，进料口和出料口被设置以在每一交替腔室中沿着平行对准的壳体垛或塔向下使物料反向输送。

18.如权利要求16所述的设施，其中，具有并列设置的垛或塔。

19.如权利要求18所述的设施，其中，并列设置的垛的每一个能够在它的垛或塔的腔室之间向下输送。

20.如权利要求18所述的设施，其中，并列设置的垛或塔能够从一个垛或塔的至少一个腔室向另一个垛或塔的至少一个腔室输送。

21.如权利要求13所述的设施，其中，所有腔室容置于封闭包围内。

22.如权利要求13所述的设施，其中，至少一部分带轴的壳体能够从其支承物、通向相邻腔室管道和其驱动装置上拆除。

23.权利要求13所述的设施，其中，每个壳体与其相邻物不直接接触地支承。

24.修复化学污染基体的方法，所述方法包括以下步骤：

确保具有任何污染的基体至少实质上是干燥的，

在权利要求1到12中的任一项所述的研磨设备中或在权利要求13到23中的任一项所述的设施中对干燥的基体和任何的污染物进行研磨，以及

从研磨设备或从设施中获取产出的固体物料流或者将固体物料流进行混合并允许至少部分固体物料流从泥浆形式凝固。

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