CN101203445A - 工件输送系统 - Google Patents

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Abstract

本发明的目的是提供一种工件输送系统，所述工件输送系统，在输送的过程中，基板等不会倾斜，可以在定位的状态下输送工件。在本发明的工件输送系统中，第一及第二接触部分别与工件的对向的两端缘接触，可以进行工件的定位，同时，在定位的状态下输送工件。从而，在输送过程中，工件不会倾斜，可以在定位的状态下输送工件。

Description

工件输送系统
技术领域
本发明涉及输送玻璃基板等工件的技术。
背景技术
对于以在薄型显示器的制造中使用的薄板状的玻璃基板为代表的基板，一般地，将多个基板容纳在基板容纳盒中。并且，在对其进行处理时，将其一个个地从基板容纳盒取出，输送到基板处理装置，在处理之后，从基板处理装置再次输送到基板容纳盒。在这种设备的情况下，需要在基板容纳盒与处理装置之间一个个地输送基板的输送装置。作为输送基板的输送装置，例如，提出有如特开2004-284772号公报中记载的那样的采用辊式输送机的装置。
这里，在现有技术的输送装置中，在基板容纳盒与处理装置之间输送基板时，在输送的途中，有时基板会倾斜。当在基板倾斜的状态下到达处理装置或者基板容纳盒时，有时不能顺滑地从输送装置向处理装置或者基板容纳盒移载基板。
发明内容
本发明的目的是，在输送的途中，工件不会倾斜、在定位的状态下输送工件。
根据本发明，提供一种工件输送系统，其特征在于，所述系统包括：第一及第二载置构件，被方形工件跨越并载置于所述第一及第二载置构件；第一移动机构，所述第一移动机构使前述第一载置构件在第一直线轨道上移动；第二移动机构，所述第二移动机构使前述第二载置构件在与前述第一直线轨道平行的第二直线轨道上移动；控制机构，所述控制机构分别独立控制前述第一及第二移动机构；第一接触部，所述第一接触部利用前述第一移动机构在前述第一直线轨道上与前述第一载置构件一起移动，与前述工件的端缘接触并限定该端缘的位置；第二接触部，所述第二接触部利用前述第二移动机构在前述第二直线轨道上与前述第二载置构件一起移动，与前述工件的端缘接触并限定该端缘的位置；前述控制机构施行下面所述的控制：初始控制，所述初始控制控制前述第一及第二移动机构，以便使得前述第一及第二接触部处于相互分离开比前述工件的宽度大的初始位置；定位控制，当在位于前述初始位置处的前述第一及第二接触部之间、将前述工件载置到前述第一及第二载置构件上的情况下，所述定位控制控制前述第一及第二移动机构中的至少一个，以便使前述第一及第二接触部之间的距离变成前述工件的宽度；输送控制，在所述定位控制之后，所述输送控制控制前述第一及第二移动机构，使得前述第一和第二载置构件及前述第一及第二接触部沿同一个方向等速行进。
根据这种工件输送系统，可以使前述第一及第二接触部在前述工件的对向的两个端缘分别接触，进行前述工件的定位，同时，可以在定位的状态下输送工件。从而，在输送的途中，工件不会倾斜，可以在定位的状态下输送工件。
另外，根据本发明，提供一种工件输送系统，该工件输送系统配备有以带的行进方向相互平行地方式配置的第一及第二带式输送机，将方形的工件以跨在前述第一及第二带式输送机的各个带上的方式进行载置并进行输送，其特征在于，所述工件输送系统包括：控制机构，所述控制机构分别独立地控制前述第一及第二带式输送机；接触部，所述接触部分别设置在前述第一及第二带式输送机的各个带上，与前述工件的端缘接触，限定该端缘的位置；前述控制机构施行下述控制：初始控制，所述初始控制驱动前述第一及第二带式输送机，以便使前述第一及第二带式输送机各自的前述接触部位于相互分离开比前述工件的宽度大初始位置，；定位控制，在将工件载置于位于前述初始位置的前述接触部之间的各个带上的情况下，所述定位控制驱动前述第一及第二带式输送机中的至少一个，使得前述接触部之间的距离变成前述工件的宽度，以及输送控制，在所述定位控制之后，所述输送控制驱动前述第一及第二带式输送机，使得各个带在相同的方向等速行进。
根据这种工件输送系统，前述接触部分别与前述工件的对向的两端缘接触，可以进行前述工件的定位，同时，可以在定位的状态下输送工件。从而，在输送的途中，工件不会倾斜，可以在定位的状态下输送工件。
附图说明
图1是根据本发明的一种实施形式的基板输送系统A的平面图。
图2是基板输送系统A的正视图。
图3-1是基板容纳盒100的外观图，图3-2是表示基板容纳盒100的内部结构的图示。
图4-1是表示升降单元20面对基板容纳盒100侧的结构的局部剖视图，图4-2至图4-4是表示利用升降单元20和移载单元30进行的基板输送动作的动作说明图。
图5-1及图5-2是移载单元40的动作说明图。
图6-1是带式输送机11的简略侧视图，图6-2是带式输送机12的简略侧视图，图6-3是带11c的设置有接触部14a和突起部15a的部位的放大图，图6-4是沿着图1的I-I线的剖视图，图6-5是沿着图1的II-II线的剖视图。
图7-1是表示利用具有张力调整机构的轴承轴支承从动带轮11b的例子的结构图，图7-2是沿着图7-1的III-III线的剖视图，图7-3是控制基板输送系统A的控制部70的框图。
图8是基板输送系统A的动作说明图。
图9是基板输送系统A的动作说明图。
图10是基板输送系统A的动作说明图。
图11是基板输送系统A的动作说明图。
图12是基板输送系统A的动作说明图。
图13是基板输送系统A的动作说明图。
图14是基板输送系统A的动作说明图。
图15是表示本发明的另外一种实施形式的图示。
图16是表示本发明的另外一种实施形式的图示。
图17是表示根据本发明的另外一种实施形式的基板输送系统B的平面图。
图18是表示移动单元2113、2123附近的结构的透视图。
图19是表示根据本发明的另外一种实施形式的基板输送系统C的平面图。
图20是表示移动单元3113、3123附近的结构的透视图。
图21是表示根据本发明的另外一种实施形式的基板输送系统D的平面图。
图22是表示移动单元4113、4123附近的结构的透视图。
图23是表示根据本发明的另外一种实施形式的基板输送系统E的平面图。
图24是表示移动单元5113、5123附近的结构的透视图。
图25是沿着图24的IV-IV线的剖视图(端面图)。
具体实施方式
<第一种实施形式>
<系统概况>
图1是根据本发明的一种实施形式的基板输送系统A平面图，图2是基板输送系统A的正视图。在本实施形式中，对于在输送玻璃基板等基板的系统中应用本发明的例子进行说明，但是，本发明也适用于基板之外的工件的输送。基板输送系统A包括：两个带式输送单元10，所述两个带式输送单元10分别配备有第一带式输送机11和第二带式输送机12；四个升降单元20，所述四个升降单元20配置在带式输送单元10的侧方，分别升降基板容纳盒100a及100b(下面，总称为基板容纳盒100)；两个固定式移载单元30，所述两个固定式移载单元30配置在升降单元20之间；两个升降式移载单元40，所述升降式移载单元40配置在移载单元30的侧方。在图中，X、Y表示相互正交的水平方向，Z表示铅直方向。
基板输送系统A是一种从配置在第一带式输送机11和第二带式输送机12的侧方(+X方向)、容纳多个基板的基板容纳盒100a，向配置在第一带式输送机11和第二带式输送机12的侧方(-Y方向)、对基板进行处理的处理装置110输送基板的系统。另外，所述基板输送系统是一种将完成了由处理装置110进行的处理的基板从处理装置110向配置在第一带式输送机11和第二带式输送机12的侧方(+X方向)、容纳多个基板的基板容纳盒100b输送的系统。另外，图1及图2是表示基板容纳盒100内未容纳基板的情况。
<基板容纳盒>
图3-1是基板容纳盒100的外观图。基板容纳盒100是能够容纳多个方形的基板的盒，配备有由沿铅直方向延伸的多个构件101和沿水平方向延伸的多个构件102及103构成的长方体形状的框体。如图3-2所示，在对向的构件101之间张紧设置有线材104，被容纳的基板以载置在该线材104上的状态被容纳。在本实施形式中，线材104沿着铅直方向以规定的间距配置，沿铅直方向形成多层容纳各基板的槽。通过使用线材104，可以减小被容纳的基板之间的间隔，可以提高基板容纳盒100的容纳效率。
<升降单元>
参照图1，对于一个基板容纳盒100，设置一对升降单元20，一对升降单元20以夹着基板容纳盒100在Y方向上分离且相互对向的方式配置。下面，参照图2及图4-1，对升降单元20的结构进行说明。图4-1是表示升降单元20面对基板容纳盒100侧的结构的局部剖视图。
各个升降单元20包括：沿X方向分离的一对支柱21、架设在支柱21之间的多个梁22。在支柱21的基板容纳盒100侧的侧面设有导轨构件23。在导轨构件23上可滑动地安装有滑动构件24，滑动构件24被导轨构件23导向，上下移动。在滑动构件24之间架设有支承构件25(图4-1，局部剖视图)，搭载基板容纳盒100的载置板26固定于该支承构件25上。基板容纳盒100从Y方向的两侧载置到一对升降单元20的载置板26上。
带有减速机构的马达27被支承在上方的梁22上，其输出轴连接到沿Z方向延伸的滚珠丝杠29的上端部。滚珠丝杠29的上下端部分别可旋转地支承于上下轴支承部28，通过马达27的旋转，滚珠丝杠29旋转。滚珠螺母29a螺纹安装在滚珠丝杠29上，滚珠螺母29a经由连接构件29b连接到支承构件25上。然后，通过滚珠丝杠29的正转、反转，滚珠螺母29a沿着滚珠丝杠29上下移动，滚珠螺母29a、连接构件29b、支承构件25、滑动构架24、载置板26及基板容纳盒100成一整体地上下升降。
<移载单元30>
参照图1及图2，移载单元30是用于在带式输送单元10与基板容纳盒100之间移载基板用的单元，在本实施形式中，由多个(这里为5个)辊式输送机31、支承各个辊式输送机31的支承构件32、竖立设置支承构件32的基底构件33构成。在本实施形式的情况下，各个辊式输送机31配备有一系列的辊。辊式输送机31，将利用马达等图中未示出的驱动机构旋转驱动的辊的旋转轴心沿Y方向设定，将载置于辊上的基板向X方向输送。图4-2至图4-3是表示由升降单元20和移载单元30进行的基板输送动作的动作说明图。
各个辊式输送机31及支承构件32配置在由升降单元20升降的基板容纳盒100的下方，在X方向上隔开规定间隔地配置，以便不与基板容纳盒100的构件103干扰。在将容纳在基板容纳盒100内的基板向带式输送单元10输送的情况下，从最下方的基板输送，如图4-3所示，利用升降单元20使基板容纳盒100下降，最下方的基板停止在载置于各个辊式输送机31上的位置处。通过旋转驱动辊式输送机31的辊，将基板向带式输送单元10输送。
在输送下一个基板的情况下，如图4-4所示，升降单元20再次使基板容纳盒100下降大致一层的程度，最下方的基板停止在载置于各个辊式输送机31上的位置处。通过旋转驱动辊式输送机31的辊，将基板向带式输送单元10输送。以后，同样地，辊式输送机31依次进入基板容纳盒100内，输送基板容纳盒100内的基板。在从带式输送单元10向基板容纳盒100输送基板的情况下，进行大致相反的动作。基板容纳盒100与带式输送单元10之间的基板的移载，在连接各个辊式输送机31的各个辊的顶点的线L的高度的位置(称为移载高度)进行。
<移载单元40>
参照图1及图2，移载单元40是用于和移载单元30一起在带式输送单元10和基板容纳盒100之间移载基板的单元。另外，配置在处理装置110侧的移载单元40，在带式输送单元10与处理装置110之间也进行基板的移载。各个移载单元40，在本实施形式中，包括：多个(这里为3个)辊式输送机41、支承各个辊式输送机41的支承构件42a、竖立设置有支承构件42a的基底构件42b。在本实施形式的情况下，各个辊式输送机41配备有两列辊。辊式输送机41，将由马达等图中未示出的驱动机构旋转驱动的辊的旋转轴心设定在Y方向上，将载置在辊上的基板沿X方向输送。
各个辊式输送机41及支承构件42a，以不与后面描述的带式输送单元10的带相干扰的方式，在X方向上隔开规定间隔地配置，另外，中央的辊式输送机41配置在带式输送单元10之间。移载单元40具有升降各个辊式输送机41的升降功能。图5-1及图5-2是移载单元40的动作说明图。
移载单元40配备有经由可自由伸缩的支承构件44支承基底构件42b的基底构件43。各个辊式输送机41能够和支承构件42a及基底构件42b一起相对于基底构件43升降。在基底构件43上，包括：板状凸轮45a、固定在板状凸轮45a的旋转轴上的小齿轮45b、与小齿轮45b啮合的齿条45c、对齿条45c的移动进行导向的导向构件45d、使齿条45c移动的气缸45e。
齿条45c以其长度方向朝向X方向的方式配置，另外，气缸45e沿X方向伸缩。通过气缸45e的伸缩，齿条45c被导向构件45d导向，在X方向上移动。通过齿条45c的移动，小齿轮45b旋转，板状凸轮45a也旋转，在基底构件43上设置有避免与板状凸轮45a干扰的孔43a。在基底构件42b的下面设置有与板状凸轮45a的周面接触的辊42c，通过改变辊42c接触的板状凸轮45a的周面上的位置与板状凸轮45a的旋转轴心的距离，辊式输送机41升降。
于是，在移载单元40与移载单元30之间移载基板的情况下，如图5-1所示，移载单元40处于辊式输送机41上升到连接各个辊的顶点的线通过表示上述移载高度的线L的位置时的位置处(下面，称为上升位置)。另一方面，如后面所述，在从移载单元40向带式输送单元10移载基板的情况下，通过伸长气缸45e引起的板状凸轮45a的旋转，如图5-2所示，辊式输送机41下降到连接各个辊的顶点的线通过处于表示上述移载高度的线L的下方的线L’的位置(下面，将该位置称为下降位置)。在从图5-2返回到图5-1的状态的情况下，使气45e收缩。另外，在本实施形式中采用这种升降机构，但是，不言而喻，也可以采用其它的升降机构。
<带式输送单元>
下面，参照图1、图2和图6-1及图6-2，说明带式输送单元10的结构。图6-1是带式输送机11的简略侧视图，图6-2是带式输送机12的简略侧视图。如上面所述，带式输送单元10由第一带式输送机11和第二带式输送机12构成，在本实施形式的情况下，在X方向上分离开地平行设置两个带式输送单元10。
第一带式输送机11配备有：驱动带轮11a、从动带轮11b、卷绕在驱动带轮11a和从动带轮11b上的环形带11c，例如，是采用同步齿形带作为带11c的带式输送机。
驱动带轮11a和从动带轮11b在Y方向分离地配置，将带11c的行进方向设定在Y方向。驱动带轮11a连接到轴支承在轴承11d上的驱动轴11e上。在本实施形式的情况下，两个带式输送单元10的第一个带式输送机11同步驱动。因此，将各个驱动带轮11a连接到共同的驱动轴11e上。驱动轴11e的端部连接到带有减速器的马达13a的输出轴上，借助马达13a的旋转驱动，两个驱动带轮11a同步旋转。从动带轮11b，其旋转轴被轴支承到轴承11f上，进行自由旋转。从动带轮11b的旋转轴在第二带式输送机12的上下带12c之间通过。
另外，从动带轮11b(以及后面描述的从动带轮12b)也可以由具有张力调整机构的轴承进行轴支承。图7-1是表示利用具有张力调整机构的轴承轴支承从动带轮11b的例子的结构图，图7-2是沿着图7-1的III-III线的剖视图。从动带轮11b由轴承部61悬臂式地轴支承。轴承部61被沿Y方向延伸的导向构件62可在Y方向上移动地支承。端部板63a及63b固定于导向构件62的两端部，轴体64可围绕其轴心旋转地安装于端部板63a、63b之间。
轴体64贯通轴承部61，同时，也贯通可以沿Y方向移动地支承在导向构件62上的移动板65。在轴体64的一部分周面上刻制有螺纹64a，移动板65设置有与该螺纹配合的螺纹孔(图中未示出)。轴体64和轴承部61活动配合。在移动板65与轴承部61之间装填有螺旋弹簧66，平时总是以使两者分离的方式对两者加载。从而，当转动轴体64时，移动板65沿Y方向移动。当将移动板65移动到轴承部61侧时，可以使带11c更加张紧，但是，由于在移动板65与轴承部61之间装填有螺旋弹簧66，所以可以抑制过度张紧。
在带11c中，在于上方行进的带11c上，设置有与基板端缘接触、限定该端缘的位置的接触部14a和多个突起部15a。图6-3是表示带11c的设置有接触部14a和突起部15a的部位的放大图。在本实施形式的情况下，接触部14a形成大致的长方体状，突出在带11c上。接触部14a限定基板的-Y侧的端缘的位置。突起部15a设置在带11c上的载置基本的部位上，在本实施形式的情况下，在Y方向上并列地配置多个。该突起部15a起着载置基板的载置构件的作用。
突起部15a，其上表面呈弯曲形，尽可能地缩小与所载置的基板的接触面积。另外，优选地，突起部15a的上表面是平滑的。连接各个突起部15a的顶点的线在上述线L’和线L之间通过，另外，对带式输送单元10的高度方向的位置定位，使接触部14a的上表面处于比上述线L(移载高度)低的位置。
突起部15a及接触部14a，通过带11c的行进，在Y方向的直线轨道上移动。即，第一带式输送机11起着使突起部15a及接触部14a在Y方向的直线轨道上移动的移动机构的作用。
第二带式输送机12的结构和第一带式输送机11的结构一样。即，第二带式输送机12包括：驱动带轮12a、从动带轮12b、卷绕到驱动带轮12a和从动带轮12b上的环形带12c。驱动带轮12a和从动带轮12b在Y方向分离地配置，将带12c的行进方向设定在Y方向。即，第一带式输送机11和第二带式输送机12以各个带11c、12c的行进方向相互平行的方式配置。另外，第一带式输送机11和第二带式输送机12在Y方向上相对错开地配置，并且，第一带式输送机11的驱动带轮11a及从动带轮11b的位置、和第二带式输送机12的驱动带轮12a及从动带轮12b的位置在Y方向上反转。
驱动带轮12a连接到轴支承在轴承12d上的驱动轴12e上。和第一带式输送机11的情况一样，两个带式输送单元10的各个驱动带轮12a连接到共同的驱动轴12e上。驱动轴12e的端部连接到带有减速器的马达13b的输出轴上，通过马达13b的旋转驱动，两个驱动带轮12a同步旋转。借助这种结构，在多个第一带式输送机11和多个第二带式输送机12上，对于每一种带式输送机分别各设置一个驱动源(马达13a、13b)就足够了。从动带轮12b，其旋转轴支承在轴承12f上，自由旋转。从动带轮12b的旋转轴在第一带式输送机11的上下带11c之间通过。在带12c中，在上方行进的带12c上，与第一带式输送机11同样，设置有与基板的端缘接触、限定该端缘的位置的接触部14b、和多个突起部15b，它们与图6-3所示的接触部14a、突起部15a一样。接触部14b限定基板的+Y侧的端缘的位置。
突起部15b及接触部14b，通过带12c的行进，在和突起部15a及接触部14a移动的直线轨道平行的Y方向的直线轨道上移动。即，第二带式输送机12起着使突起部15b及接触部14b在Y方向的直线轨道上移动的移动机构的作用。
<辅助单元>
如图1及图6-1和图6-2所示，在本实施形式中，在带式输送单元10的Y方向的大致中间部位配置有辅助单元50。辅助单元50包括支承部51、和辅助轴52。图6-4是沿着图1的线I-I的剖视图，图6-5是沿着图1的线II-II的剖视图。支承部51是表面平滑的板，经由腿部51a支承在台53上。支承部51配置在带11c、12c中在上方行进的部分之下，通过载置该部分，支承带11c、12c。对于该支承部51，代替表面平滑的板，也可以采用轴体等。辅助轴52是起张紧辊作用的轴体，经由轴承部52a支承在台53上。辅助轴52配置在带11c、12c中在下方行进的部分之下，通过将其向上方推压，在带11c、12c上产生一定的张力。
<控制部>
图7-3是控制基板输送系统A的控制部70的框图。控制部70包括CPU71、RAM72、ROM73。在ROM73中储存基板输送系统A的控制程序等。RAM72、ROM73也可以采用其它的储存装置。在CPU71上连接有输入接口(I/F)74，在输I/F74上连接有各种传感器。作为传感器，例如，可以列举出检测各个马达13a、13b、27的旋转角或者旋转量、由辊式输送机输送的基板的输送量的传感器。CPU71经由输入I/F74取得各种传感器的检测结果。
在CPU71上连接有输出I/F75，在输出I/F75上连接有马达、控制阀。马达例如是各个马达13a、13b、27以及上述辊式输送机的驱动马达等。控制阀是切换对气缸45e的空气供应、方向的阀。CPU71，例如，根据连接到输I/F74上的各种传感器的检测结果，向连接到输出I/F75上的各个动作执行机构输出控制命令，使基板输送系统A动作。另外，不言而喻，第一带式输送机11和第二带式输送机12分别被控制部70独立地进行控制。在CPU71上连接有通信I/F78，进行与主计算机80的数据通信。主计算机80进行对基板输送系统A的各种设定、动作命令等。
<基板输送系统的动作>
其次，参照图8至图14，说明通过由控制部70控制的基板输送系统A的动作的例子。这里，对于从基板容纳盒100a向处理装置110一个个输送基板、另外从处理装置110向基板容纳盒100b输送处理完毕的基板的情况进行说明。
首先，驱动第一及第二带式输送机11、12、使带11c、12c行进、使第一带式输送机11的接触部14a和第二输送机12的接触部14b位于相互分离开比基板的宽度更宽的位置(初始位置)上(初始控制)。图8表示接触部14a、14b位于初始位置的状态。图中，P1表示接触部14a向基板上接触的接触面的Y方向的位置，P2表示接触部14b向基板上接触的接触面的Y方向的位置。P1和P2分离距离d1的程度，距离d1＞基板的Y方向的宽度。
接着，利用升降单元20使基板容纳盒100a下降，最下方的基板停止在载置于移载单元30的各个辊式输送机31上的位置。通过旋转驱动辊式输送机31的辊，使基板向-X方向移动，向带式输送单元10移动(图9)。使基板容纳盒100a侧的移载单元40预先使辊式输送机41位于上升位置，辊式输送机41的辊也旋转驱动。借此，基板从辊式输送机31向辊式输送机41移动，将基板移动到带式输送单元10上。
当基板向带式输送单元10移动时，停止基板容纳盒100a侧的辊式输送机31及41的辊的旋转驱动，使辊式输送机41下降到下降位置。借此，将基板载置到带式输送单元10的带11c、12c上。基板移动到跨越于两个带式输送单元10的各个带11c、12c上的位置，在该跨越状态下进行输送。在本实施形式中，由于在带11c、12c上设置有突起部15a、15b，所以，跨越于突起部15a、15b上地载置基板。
其次，驱动第一及第二带式输送机11、12，使带11c、12c相互向相反方向行进，位于初始位置的接触部14a和接触部14b之间的距离达到基板的宽度(定位控制)。借此，将基板定位。图10是表示将基板定位的状态。接触部14和接触部14b从初始位置移动，P1与P2的距离从d1向d2变化。距离d2基板的Y方向的宽度。通过使带11c、12c相互向相反方向行进，接触部14a与基板的-Y侧的端缘接触，接触部14b与基板的+Y侧的端缘接触，另外，基板在突起部15a、 15b上滑动。基板被接触部14a和14b缓和地夹持，进行在Y方向上的定位。
其次，驱动第一及第二带式输送机11、12，使带11c、12c在相同方向(+Y方向)等速行进(输送控制)。借此，将基板向+Y方向输送。图11是表示基板被输送的状态的图示。通过使带11c、12c向相同方向(+Y)等速行进，在被接触部14a和14b夹持定位的状态下输送基板。由于基板的自身重量，向带11c、12c上作用朝向下方的负荷，但是，被支承部51支承，防止带11c、12c向下方挠曲，可以稳定地输送基板。
其次，在基板输送开始的前后，使处理装置110侧的移载单元40的辊式输送机41位于下降位置。如图12所示，当基板到达处理装置110侧的移载单元40上时，停止第一及第二带式输送机11、12的驱动，停止基板的输送。然后，使处理装置110侧的移载单元40的辊式输送机41向上升位置上升，将基板从带式输送单元10向辊式输送机41输送。移载后，旋转驱动辊式输送机41的辊，使基板向-X方向移动，将基板向处理装置110移载(图13)。通过以上步骤，一个单位的基板的输送完毕。另外，在向处理装置110上移载基板时，如图13所示，也可以并行地开始将下一个基板从基板容纳盒100a向带式输送单元10的移载动作。在图13中，带式输送机11、12也被驱动，接触部14a、14b移动，以便返回到初始位置。
其次，对于从处理装置110向基板容纳盒100b输送处理完毕的基板的情况进行说明。首先，使处理装置110侧的移载单元40的辊式输送机41位于上升位置。另外，利用升降单元20，使基板容纳盒100b下降，使基板容纳盒100b内容纳基板的层与移载单元30的移载高度相一致。接着，旋转驱动处理装置110侧的移载单元30及40的辊式输送机30及40的辊，使基板在能够向+X方向输送的状态下待机。当从处理装置110排出处理完毕的基板时，如图14所示，按照输送移载单元40移载单元30输送基板并容纳到基板容纳盒100b内。在从处理装置110向基板容纳盒100b输送处理完毕的基板的期间内，如图14所示，将基板从基板纳盒100a向带式输送单元10移载，可以准备向处理装置110的输送。
<基板输送系统的优点>
根据本实施形式的基板输送系统A，接触部14a、14b分别与基板的对向的两端缘接触，可以进行带11c、12c的行进方向(Y方向)的基板的定位，同时，可以在定位的状态下输送基板。从而，在输送的途中，基板不会倾斜，可以在定位的状态下输送基板。
在进行上述定位控制时，基板在带11c、12c上滑动，但是，在本实施形式中，由于在载置基板的部位设置有多个突起部15a、15b，将基板载置到突起部15a、15b上，所以，带11c、12c与基板几乎不接触，可以减轻两者的摩擦，防止损伤基板。
另外，在上述实施形式中，通过在和带式输送单元10的带11c、12c的行进方向正交的方向上设置移载基板的移载单元30、40，可以采用沿着带式输送单元10的长度方向在其侧方配置基板容纳盒100和处理装置110的布局。
进而，由于能够升降辊式输送机41，在使辊式输送机41处于上升位置以输送基板时，接触部14a、14b不会与基板干扰。从而，在某一基板的输送过程中，可以将来自于基板容纳盒100或者处理装置110的其它基板配置到带式输送单元10上，准备基板的移载，可以提高输送效率。
<第二种实施形式>
在上述实施形式中，在进行定位控制时，驱动第一及第二带式输送机11、12，使带11c、12c相互向相反的方向行进，处于初始位置的接触部14a和接触部14b之间的距离达到基板的宽度。即，通过将接触部14a和接触部14b两者向相反的方向移动，进行基板的定位，不过，如果将其中的一个向其中的另一个靠近地移动，也可以进行基板的定位。
从而，通过驱动第一及第二带式输送机11、12中的至少一个，以使接触部14a或者14b中的一个向另一个靠近的方式进行控制，可以进行基板的定位。进而，在定位控制中，也可以使接触部14a及14b以不同的速度向相同的方向移动。例如，使接触部14a和接触部14b从初始位置在基板的输送方向(Y方向)上移动，但是，令接触部14a的移动速度与输送控制时的移动速度相同，接触部14b的速度比输送控制时的移动速度慢，逐渐使接触部14b的移动速度增加到输送控制时的移动速度。从而，利用接触部14a与接触部14b的移动速度差缩小两者的距离，不久，两者与基板的两端缘接触。利用这种方式，可以一面进行基板的输送一面进行基板的定位。
另外，在上述实施形式中，跨越四个带11c、12c载置一个基板，进行输送，但是，通过随着基板的大小调整带的宽度，也可以用两个带11c、12c输送一个基板。即，如果最低有一个带式输送单元10的话，也可以实施上述实施形式的各种控制。
与此相反，也可以采用使用四个以上的带的结构。图15是表示使用四个带式输送单元10的例子的图示。通过独立地同步驱动各两个带式输送单10，可以并行地输送两个基板。另外，通过全部同步地驱动四个带式输送单元10，如图16所示，可以输送与图15的基板大小不同(更大)的基板。即，具有以下的优点：通过适当地设定在初始控制及定位控制等中的接触部14a、14b之间的距离，可以在同一个系统中输送不同大小的基板。
<第三种实施形式>
在上述实施形式中，作为使突起部15a、15b及接触部14a、14b移动的移动机构，使用带式输送机11、12，但是，也可以使用其它种类的移动机构。下面，参照图17至图25对于采用其它种类的移动机构的例子进行说明。另外，在所述各个图中，对于和上述基板输送系统A同样的结构，赋予相同的标号，省略其说明。另外，虽然没有特别加以说明，但上述第一种实施形式及第二种实施形式中的控制内容、装置的布局等，也可以应用于第三种实施形式的结构例。
<采用滚珠丝杠的例子1>
图17是根据本发明的另外的实施形式的基板输送系统B的平面图。基板输送系统B采用配备有滚珠丝杠机构的驱动单元210，以代替带式输送单元10。
两个驱动单元210分别由第一滚珠丝杠机构211和第二滚珠丝杠机构212构成。第一滚珠丝杠机构211包括：沿Y方向延伸的直线状的丝杠轴2111及导向构件2112、和被导向构件2112导向而沿着丝杠轴2111移动的移动单元2113。丝杠轴2111在其两端部附近由轴承2111a可自由旋转地支承。
第二滚珠丝杠机构212相对于第一滚珠丝杠机构211沿X方向分离地配置，与第一滚珠丝杠机构211具有同样的结构。即，第二滚珠丝杠机构212包括：沿Y方向延伸的直线状的丝杠轴2121及导向构件2122、和被导向构件2122导向而沿着丝杠轴2121移动的移动单元2123。丝杠轴2121在其两个端部附近由轴承2121a可自由旋转地支承。
在各个丝杠轴2111、2121的一端分别安装有锥齿轮221。锥齿轮221与被马达223a、223b旋转驱动的锥齿轮222啮合，通过马达223a、223b的正转、反转，各个丝杠轴2111、2121正转、反转。在两个驱动单元210中，各个滚珠丝杠机构211被马达223a同步控制，各个滚珠丝杠机构212被马达223b同步控制。另外，不言而喻，滚珠丝杠机构211和滚珠丝杠机构212分别被独立地控制。
图18是表示移动单元2113、2123附近的结构的透视图。移动单元2123包括：在上面设置有上述突起部15b及接触部14b的支承板2123a、固定在支承板2123a的两端部下面的一对支承块2123b。支承块2123b具有螺纹配合到丝杠轴2121上的滚珠螺母，由丝杠轴2121贯通。另外，在支承块2123b的下面形成与导向构件2122啮合的槽。
于是，当丝杠轴2121旋转时，移动单元2123根据丝杠轴2121的旋转方向向+Y方向或者-Y方向移动，可以使突起部15a及接触部14a在沿着Y方向的直线轨道上移动。
移动单元2113的结构与移动单元2123相同，包括：在上面设置有上述突起部15a及接触部14a的支承板2113a、固定在支承板2113a的两端部下面的一对支承块2113b。支承块2113b具有与丝杠轴2111螺纹配合的滚珠螺母，由丝杠轴2111贯通。另外，在支承块2123b的下面形成与导向构件2122啮合的槽。
于是，当丝杠轴2111旋转时，移动单元2113根据丝杠轴2111的旋转方向向+Y方向或者-Y方向移动，可以使突起部15a及接触部14a在与突起部15b及接触部14b移动的直线轨道相平行的沿着Y方向的直线轨道上移动。
在这样构成的基板输送系统B中，可以进行和基板输送系统A一样的基板输送控制。
<采用滚珠丝杠机构的例子2>
图19是根据本发明的另外一种实施形式的基板输送系统C的平面图。基板输送系统C采用配备有滚珠丝杠机构的驱动单元310，以代替带式输送单元10。驱动单元310采用和驱动单元210不同形式的滚珠丝杠机构。
两个驱动单元310分别由第一滚珠丝杠机构311及第二滚珠丝杠机构312构成。第一滚珠丝杠机构311包括：沿Y方向延伸的直线状的丝杠轴3111及导向构件3112、被导向构件3112导向而沿着丝杠轴3111移动的移动单元3113。丝杠轴3111在其两端部附近由轴承3111a固定。即，在本例中，丝杠轴3111不旋转。
第二滚珠丝杠机构312相对于第一滚珠丝杠机构311沿X方向分离地配置，具有和第一滚珠丝杠机构311同样的结构。即，第二滚珠丝杠机构312包括：沿Y方向延伸的直线状的丝杠轴3121和导向构件3122、被导向构件3122导向而沿着丝杠轴3121移动的移动单元3123。丝杠轴3121在其两端部附近由轴承3121a固定。
图20是表示移动单元3113、3123附近的结构的透视图。移动单元3123包括：在上面设置有上述突起部15b及接触部14b的支承板3123a、固定在支承板3123a的两端部下面的一对支承块3123b。
支承块3123b由马达31231和滑动部31232构成。马达31231的输出轴31231a形成圆筒状，在其内部具有螺纹配合到丝杠轴3121上的滚珠螺母，由丝杠轴3121贯通。另外，滑动部31232固定于马达31231的下面，形成啮合到导向构件3122上的槽。
于是，一对支承块3123b的各个马达31231被相互同步控制。当输出轴31231a旋转时，移动单元3123根据输出轴31231a的旋转方向向+Y方向或者-Y方向移动，可以使突起部15b及接触部14b在沿着Y方向的直线轨道上移动。
移动单元3113的结构与移动单元3123相同，包括：上面设置有上述突起部15a及接触部14a的支承板3113a、固定在支承板3113a两端部的下面的一对支承块3113b。
支承块3113b由马达31131和滑动部31132构成。马达31131的输出轴31131a形成圆筒状，在其内部具有螺纹配合到丝杠轴3111上的滚珠螺母，由丝杠轴3111贯通。另外，滑动部31132固定到马达31131的下面，形成啮合到导向构件3112上的槽。
于是，一对支承块3113b的各个马达31131被相互同步控制。当输出轴31131a旋转时，移动单元3113根据输出轴31131a的旋转方向向+Y方向或者-Y方向移动，可以使突起部15a及接触部14a在与突起部15a及接触部14b移动的直线轨道平行的沿Y方向的直线轨道上移动。
在由这样的结构构成的基板输送系统C中，可以和基板输送系统A进行同样的基板的输送控制。
<采用齿条-小齿轮机构的例子>
图21是根据本发明的另外一种实施形式的基板输送系统D的平面图。基板输送系统D采用配备有齿条-小齿轮机构的驱动单元410，以代替带式输送单元10。
两个驱动单元410分别由第一齿条-小齿轮机构411和第二齿条-小齿轮机构412构成。第一齿条-小齿轮机构411包括：在Y方向上延伸的直线状的齿条4111及导向构件4112、被导向构件4112导向而沿着齿条4111移动的移动单元4113。
第二齿条-小齿轮机构412，相对于第一齿条-小齿轮机构411沿X方向分离地配置，具有和第一齿条-小齿轮机构411同样的结构。即，第二齿条-小齿轮机构412包括：沿着Y方向延伸的直线状齿条4121及导向构件4122、被导向构件4122导向而沿着齿条4121移动的移动单元4123。
图22是表示移动单元4113、4123附近的结构的透视图。移动单元4123包括：在上面设置有上述突起部15b及接触部14b的支承板4123a、固定在支承板4123a的两端部的下面的一对支承块4123b。支承块4123b配备有马达，其输出轴(沿-X方向延伸)上安装有小齿轮4123b’。另外，在支承块4123b的下面形成有与导向构件4122啮合的槽。
于是，一对支承块4123b的各个马达被相互同步地控制。当通过这些马达的驱动而使小齿轮4123b，旋转时，移动单元4123根据小齿轮4123b’的旋转方向向+Y方向或者-Y方向移动，可以使突起部15b及接触部14b在沿着Y方向的直线轨道上移动。
移动单元4113的结构与移动单元4123相同，包括：在上面设置有上述突起部15a及接触部14a的支承板4113a、固定在支承板4113a的两端部的下面的一对支承块4113b。支承块4113b配备有马达，在其输出轴(沿着+X方向延伸)上安装有小齿轮(图中未示出)。另外，在支承块4113b的下面形成有与导向构件4112啮合的槽。
于是，一对支承块4113b的各个马达被相互同步地控制。当通过这些马达的驱动，图中未示出的小齿轮旋转时，移动单元4113根据该小齿轮的旋转方向向+Y方向或者-Y方向移动，可以使突起部15a及接触部14a在平行于突起部15b及接触部14b移动的直线轨道的沿着Y方向的直线轨道上移动。
在由这样的结构构成的基板输送系统D中，也可以进行和基板输送系统A同样的基板的输送控制。
<采用线性马达的例子>
图23是根据本发明的另外一种实施形式的基板输送系统E的平面图。基板输送系统E采用配备线性马达的驱动单元510，以代替带式输送单元10。
两个驱动单元510分别由第一线性马达511、第二线性马达512构成。第一线性马达511配备有沿Y方向延伸的直线状的定子单元5111、沿着定子单元5111移动的移动单元5113。
第二线性马达512相对于第一线性马达511沿着X方向分离地配置，与第一线性马达511具有同样的结构。即，第二线性马达512包括：沿Y方向延伸的直线状的定子单元5121、沿着定子单元5121移动的移动单元5123。
在第一线性马达511和第二线性马达512之间，配置导向构件513。导向构件513对移动单元5113、5123的移动进行导向。
图24是表示移动单元5113、5123附近的结构的透视图。图25是沿着图24的IV-IV线的剖视图(端面图)。移动单元5123包括：在上面设置有上述突起部15b及接触部14b的支承板5123a、固定在支承板5123a的下面的磁轭5123b。磁轭5123b的截面呈コ字形，在其左右的侧壁的内面，沿磁轭5123b的长度方向(Y方向)分别排列配置多个永磁体5123b’。另外，在磁轭5123b的左右侧壁中，在其中的一个侧壁的外面设置有滑动部5123b”，所述滑动部5123b”与形成在导向构件513的侧面上的槽啮合。
定子单元5121的截面形成倒T字形，在其上方延伸的部分位于插入到磁轭5123b内的位置，另外，电枢线圈5121a内置于所述在上方延伸的部分中。沿定子单元5121的长度方向(Y方向)排列配置多个电枢线圈5121a。
于是，通过依次切换定子单元5121的多个电枢线圈5121a的激磁，根据其切换形式，移动单元5123向+Y方向或者-Y方向移动，可以使突起部15b及接触部14b在沿着Y方向的直线轨道上移动。
移动单元5113的结构与移动单元5123相同，包括：在上面设置有上述突起部15a及接触部14a的支承板5113a、固定在支承板5113a的下面的磁轭5113b。磁轭5113b的截面形成コ字形，在其左右的侧壁的内面，沿磁轭5113b的长度方向(Y方向)分别排列配置多个永磁体5113b’。另外，在磁轭5113b的左右侧壁中，在其中的一个侧壁的外面设置滑动部5113b”，所述滑动部5113b”与形成在导向构件513的侧面上的槽啮合。
定子单元5111，其截面呈倒T字形，在其上方延伸的部分位于插入到磁轭5113b内的位置上，另外，电枢线圈5111a内置于所述在上方延伸的部分中。在定子单元5111的长度方向(Y方向)上排列配置多个电枢线圈5111a。
于是，通过依次切换定子单元5111的多个电枢线圈5111a的激磁，根据其切换形式，移动单元5113向+Y方向或者-Y方向移动，可以使突起部15a及接触部14a在与突起部15b及接触部14b移动的直线轨道平行的沿着Y方向的直线轨道上移动。
在这样构成的基板输送系统E中，也可以进行和基板输送系统A一样的基板的输送控制。

Claims (11)

1.一种工件输送系统，其特征在于，包括：
第一及第二载置构件，将方形工件跨越载置在所述第一及第二载置构件上；
第一移动机构，所述第一移动机构使前述第一载置构件在第一直线轨道上移动；
第二移动机构，所述第二移动机构使前述第二载置构件在与前述第一直线轨道平行的第二直线轨道上移动；
控制机构，所述控制机构分别独立地控制前述第一及第二移动机构；
第一接触部，所述第一接触部利用前述第一移动机构在前述第一直线轨道上与前述第一载置构件一起移动，并且与前述工件的端缘接触、限定该端缘的位置；
第二接触部，所述第二接触部利用前述第二移动机构在前述第二直线轨道上与前述第二载置构件一起移动，并且与前述工件的端缘接触、限定该端缘的位置；
前述控制机构施行下述控制：
初始控制，所述初始控制控制前述第一及第二移动机构，以便使得前述第一及第二接触部位于相互分离开比前述工件的宽度大的初始位置；
定位控制，当在位于前述初始位置的前述第一及第二接触部之间，将前述工件载置到前述第一及第二载置构件上的情况下，所述定位控制控制前述第一及第二移动机构中的至少一个，以便使前述第一及第二接触部之间的距离变成前述工件的宽度；
输送控制，在前述定位控制后，所述输送控制控制前述第一及第二移动机构，以便使前述第一和第二载置构件及前述第一及第二接触部沿同一方向等速行进。
2.如权利要求1所述的工件输送系统，其特征在于，前述第一及第二移动机构配备有带式输送机。
3.如权利要求1所述的工件输送系统，其特征在于，前述第一及第二移动机构配备有滚珠丝杠机构。
4.如权利要求1所述的工件输送系统，其特征在于，前述第一及第二移动机构配备有齿条-小齿轮机构。
5.如权利要求1所述的工件输送系统，其特征在于，前述第一及第二移动机构配备有线性马达。
6.一种工件输送系统，配备有以带的行进方向相互平行的方式配置的第一及第二带式输送机，以将方形的工件跨越在前述第一及前述第二带式输送机的各个带上的方式进行载置、输送，其特征在于，所述工件输送系统包括：
控制机构，所述控制机构分别独立地控制前述第一及第二带式输送机；
接触部，所述接触部分别设置在前述第一及第二带式输送机的各个带上，与前述工件的端缘接触，限定该端缘的位置；
前述控制机构施行以下的控制：
初始控制，所述初始控制驱动前述第一及第二带式输送机，以便使前述第一及第二带式输送机的各自的前述接触部位于相互分离开比前述工件的宽度大的初始位置；
定位控制，所述定位控制，在将前述工件载置到位于前述初始位置的前述接触部之间的各个带上的情况下，驱动前述第一及第二带式输送机中的至少一个，使得前述接触部之间的距离变成前述工件的宽度；
输送控制，在前述定位控制之后，所述输送控制驱动前述第一及第二带式输送机，使得各个带在相同的方向等速行进。
7.如权利要求6所述的工件输送系统，其特征在于，在前述第一及第二带式输送机的各个带上的载置前述工件的部位上，分别设置有多个突起部。
8.如权利要求6所述的工件输送系统，其特征在于，在前述第一及第二带式输送机的各个带之下设置有支承该带的支承部。
9.如权利要求6所述的工件输送系统，其特征在于，
分别以带的行进方向相互平行的方式配置多个前述第一及第二带式输送机，
设置连接多个前述第一带式输送机的各个驱动带轮的驱动轴、以及连接多个前述第二带式输送机的各个驱动带轮的驱动轴。
10.如权利要求6所述的工件输送系统，其特征在于，
前述工件是基板，
前述工件输送系统是在基板容纳盒与处理装置之间输送前述基板的系统，其中，所述基板容纳盒配置在前述第一及第二带式输送机的侧方，容纳多个前述基板，所述处理装置配置在前述第一及第二带式输送机的侧方，对前述基板进行处理，
该工件输送系统包括：
第一移载机构，所述第一移载机构从前述基板容纳盒向前述第一及第二带式输送机的各个带上移载前述基板，
第二移载机构，所述第二移载机构从前述第一及第二带式输送机的各个带上向前述处理装置移载前述基板。
11.如权利要求10所述的工件输送系统，其特征在于，
分别以带的行进方向相互平行的方式配置多个前述第一及第二带式输送机，
前述第一及第二移载机构分别配备有辊式输送机，所述辊式输送机可升降地配置在前述带式输送机之间，沿着与前述带的行进方向正交的方向输送前述基板。
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