JP4564084B2 - 搬送システム - Google Patents

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Description

本発明は、基板等の搬送対象物を搬送するシステムに関する。
薄型ディスプレイの製造において使用されるガラス基板に代表される基板は一般に収納カセットの各スロットに一枚ずつ基板が収納され、一つの収納カセットには複数枚の基板が収納される。そして、その基板の処理時には一枚ずつ収納カセットから基板が取り出されて基板処理装置へ搬送され、処理後には基板処理装置から再び収納カセットへ搬入される。この種の設備の場合、収納カセットと処理装置との間で基板を搬送する搬送システムが必要となる。
ここで、ローラコンベアやベルトコンベア等により基板を搬送する設備においては、基板に対する各ローラ或いはベルトの接触状態が必ずしも均一ではないため、搬送途中において徐々に基板が傾いてしまう場合がある。特に搬送方向と直交する方向に長い幅の基板を搬送する場合は、搬送姿勢の変化(搬送方向に対する基板の傾き)が大きくなる。このように搬送姿勢が変化した状態で搬送を行うと、収納カセットや処理装置に基板を搬入或いは搬出する場合に、基板の搬送が円滑に行われない場合がある。このため、基板の搬送姿勢を修正するために基板の位置決めが必要となる。また、近年では、複数種類のサイズの基板を、同じ搬送システム上で搬送することが要求されている。このため、基板の位置決めは異なるサイズの基板に対応したものであることが必要とされる。
特許文献1及び2は、位置決め用の突起を設けたベルトコンベアを一対並設し、一方のベルトコンベアの突起が基板の前辺に、他方のベルトコンベアの突起が基板の後辺に、それぞれ当接するようにし、各突起で基板を狭持しつつ搬送するシステムが開示されている。
特開平8−26437号公報 特開平11−59847号公報
しかし、特許文献1及び2のシステムでは、ベルトコンベアが基板の搬送と、突起の移動とを兼ねている。このため、一対のベルトコンベアが1つの基板を搬送する間、一対のベルトコンベアがその基板の搬送に専有され、後続の別の基板を連続的に搬送できない。
従って、本発明の目的は、サイズの異なる搬送対象物の位置決めをし、かつ、複数の搬送対象物を連続的に搬送可能な搬送システムを提供することにある。
本発明によれば、水平な搬送軌道上で予め定めた搬送方向に搬送対象物を搬送する搬送手段と、前記搬送方向と直交する水平方向に互いに離間した複数の第1位置決め部にそれぞれ設けられ、前記搬送軌道上に位置して前記搬送対象物の前記水平方向の一方側部に当接する第1当接位置と、前記搬送軌道上に位置しない第1待機位置と、の間で移動可能に設けられた第1当接部材と、前記水平方向に互いに離間した複数の第2位置決め部にそれぞれ設けられ、前記搬送軌道上に位置して前記搬送対象物の前記水平方向の他方側部に当接する第2当接位置と、前記搬送軌道上に位置しない第2待機位置と、の間で移動可能に設けられた第2当接部材と、前記搬送手段が搬送する前記搬送対象物のサイズに応じて、前記複数の第1位置決め部のうち、前記第1当接部材を前記第1当接位置に移動させる前記第1位置決め部、及び、前記複数の第2位置決め部のうち、前記第2当接部材を前記第2当接位置に移動させる前記第2位置決め部、を選択する選択手段と、前記選択手段が選択した前記第1位置決め部に設けた前記第1当接部材を前記第1当接位置に移動させる第1移動手段と、前記選択手段が選択した前記第2位置決め部に設けた前記第2当接部材を前記第2当接位置に移動させる第2移動手段と、全ての前記第1当接部材を前記水平方向に移動する第3移動手段と、を備えたことを特徴とする搬送システムが提供される。
本発明の搬送システムでは、搬送対象物のサイズに応じて、前記第1当接部材を前記第1当接位置に移動させる前記第1位置決め部、及び、前記第2当接部材を前記第2当接位置に移動させる前記第2位置決め部、を選択し、それぞれ前記第1当接位置、前記第2当接位置へ移動させる。その後、前記第1当接部材を前記水平方向に移動することで、前記搬送対象物の位置決めがなされる。
搬送対象物のサイズに応じて前記第1当接部材を前記第1当接位置に移動させる前記第1位置決め部、及び、前記第2当接部材を前記第2当接位置に移動させる前記第2位置決め部、を選択することでサイズの異なる搬送対象物の位置決めを行うことができる。また、前記搬送手段により搬送対象物を搬送し、前記当接位置と前記待機位置との間の前記第1及び第2当接部材の移動及び前記第1当接部材の前記水平方向の移動は、前記第1乃至第3移動手段で行うことで、前記搬送手段によって、複数の搬送対象物を連続的に搬送することができる。
本発明においては、前記水平方向に延設され、全ての前記第1当接部材を支持する支持部材を備え、前記第3移動手段は、前記支持部材を前記水平方向に移動するようにしてもよい。
また、本発明においては、前記第3移動手段は、前記支持部材と連結された連結部と、前記連結部を前記水平方向にスライドする駆動手段と、を備えてもよい。
また、本発明においては、前記第1及び第2待機位置が、前記搬送軌道よりも下方の位置であり、前記搬送手段は、前記搬送方向に互いに離間した複数の搬送装置を備え、互いに隣接する前記搬送装置間の隙間のうち、第1の隙間に前記第1当接部材が、前記第1の隙間とは異なる第2の隙間に前記第2当接部材が、それぞれ配置されてもよい。
また、本発明においては、前記搬送装置は、前記水平方向に配列された複数の搬送ユニットを備えてもよい。
また、本発明においては、前記第1及び第2待機位置が、前記搬送軌道よりも下方の位置であり、前記第1移動手段は、前記水平方向に延設され、各々の前記第1位置決め部毎に、1又は複数の前記第1当接部材が径方向に突出して設けられた第1支持軸と、前記第1支持軸をその軸心回りに回転させ、前記第1当接部材を前記第1当接位置と前記第1待機位置との間で移動させる第1駆動手段と、を備え、前記第2移動手段は、前記水平方向に延設され、各々の前記第2位置決め部毎に、1又は複数の前記第2当接部材が径方向に突出して設けられた第2支持軸と、前記第2支持軸をその軸心回りに回転させ、前記第2当接部材を前記第2当接位置と前記第2待機位置との間で移動させる第2駆動手段と、を備え、前記第1当接部材は、前記第1支持軸の回転角度により、前記第1当接部材が前記第1当接位置となる前記第1位置決め部が異なるように前記第1支持軸に設けられ、前記第2当接部材は、前記第2支持軸の回転角度により、前記第2当接部材が前記第2当接位置となる前記第2位置決め部が異なるように前記第2支持軸に設けられてもよい。
また、本発明においては、前記第1及び第2待機位置が、前記搬送軌道よりも下方の位置であり、前記第1移動手段は、各々の前記第1位置決め部毎に設けられ、前記第1当接部材を前記第1当接位置と前記第1待機位置との間で昇降する第1昇降手段であり、前記第2移動手段は、各々の前記第2位置決め部毎に設けられ、前記第2当接部材を前記第2当接位置と前記第2待機位置との間で昇降する第2昇降手段であってもよい。
また、本発明においては、前記第2位置決め部が前記搬送方向に離間して2列設定され、前記第1位置決め部が前記2列の前記第2位置決め部の間に設定されてもよい。
また、本発明においては、前記搬送対象物が基板であり、前記第1位置決め部と、前記第2位置決め部と、の配置の組合せが、前記搬送手段が搬送可能な最大の幅を有する第1の基板を位置決めする場合に対応した配置の組合せと、
前記第1の基板よりも幅が狭い第2の基板を前記水平方向に複数並べて位置決めする場合に対応した配置の組合せと、を含んでもよい。
また、本発明においては、前記第1位置決め部と、前記第2位置決め部と、の配置の組合せが、更に、前記第2の基板よりも幅が狭い第3の基板を前記水平方向に複数並べて位置決めする場合に対応した配置の組合せと、前記第2の基板と前記第3の基板とを前記水平方向に並べてそれぞれ位置決めする場合に対応した配置の組合せと、を含んでもよい。
また、本発明においては、前記搬送対象物が基板であり、前記搬送手段の前記搬送方向の一方端部側に配置され、前記基板を処理する処理装置と、前記搬送手段の前記搬送方向の他方端部側に配置され、前記基板を収納する収納カセットと、前記搬送手段と連続し、かつ、前記収納カセットの下部に配置され、前記収納カセットと前記搬送手段との間で前記基板を搬送するコンベアと、を備えてもよい。
また、本発明においては、前記搬送対象物が基板であり、前記搬送手段の前記搬送方向の一方端部側に配置され、前記基板を処理する処理装置と、前記搬送手段の前記搬送方向の他方端部側に配置され、前記基板を収納する第1収納カセットと、前記基板を収納する第2収納カセットと、前記搬送手段と連続し、かつ、前記第1収納カセットの下部に配置され、前記第1収納カセットと前記搬送手段との間で前記基板を搬送する第1コンベアと、少なくとも前記第2収納カセットの下部に配置された第2コンベアと、前記第1及び第2当接部材、及び、前記第1乃至第3移動手段と共に、前記搬送手段の一部を、前記第2コンベアと連続する位置に移動する第4移動手段と、を備えてもよい。
また、本発明においては、前記第2収納カセットが、前記第1収納カセットに対して、前記搬送方向と直交する方向に配置され、前記第4移動手段は、前記搬送手段の前記一部を前記搬送方向と直交する方向に移動するようにしてもよい。
また、本発明においては、前記搬送対象物が基板であり、前記搬送手段の前記搬送方向の一方端部側に配置され、前記基板を処理する処理装置と、前記搬送手段の前記搬送方向の他方端部側に配置され、前記基板を収納する第1収納カセットと、前記第1収納カセットに対して、前記搬送方向と直交する方向に配置され、前記基板を収納する第2収納カセットと、前記搬送手段と連続し、かつ、前記第1収納カセットの下部に配置され、前記第1収納カセットと前記搬送手段との間で前記基板を搬送する第1コンベアと、少なくとも前記第2収納カセットの下部に配置された第2コンベアと、前記搬送手段の第1部分を、前記搬送方向と直交する方向に、前記第2コンベアと連続する位置に移動する第4移動手段と、前記搬送手段の前記第1部分と前記搬送方向に連続した、前記搬送手段の第2の部分を、前記搬送方向と直交する方向に、移動する第5移動手段と、を備え、前記第1部分及び前記第2部分にそれぞれ、前記第1及び第2当接部材、及び、前記第1乃至第3移動手段が設けられ、前記第4及び第5移動手段は、それぞれ、前記第1部分及び前記第2部分と共に、前記第1及び第2当接部材、及び、前記第1乃至第3移動手段を移動するようにしてもよい。
以上述べた通り、本発明によれば、サイズの異なる搬送対象物の位置決めをし、かつ、複数の搬送対象物を連続的に搬送可能な搬送システムを提供することができる。
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。
<第1実施形態>
<全体構成>
図1は本発明の一実施形態に係る搬送システムAのレイアウトを示す平面図、図2は搬送システムAの側面図である。なお、各図において、矢印X、Yは相互に直交する水平方向、矢印Zは上下方向(鉛直方向)を示す。本実施形態の場合、搬送システムAは、後述する3種類のガラス基板W1乃至W3(総称する場合はガラス基板Wという。)を、収納カセット10と不図示の処理装置との間で搬送する。処理装置は、例えば、ガラス基板Wの洗浄、乾燥、その他の処理を行う。なお、本実施形態ではガラス基板を搬送対象物とするが、液晶基板、PDP基板等の他の基板、ダンボール等、各種の板状物或いはその他の物の搬送に本発明は適用可能である。
搬送システムAは、主搬送装置100と、主搬送装置100に連続して配置された移載コンベア200と、移載コンベア200上で収納カセット10を昇降する一対の昇降装置20と、主搬送装置100に設けられた位置決め装置140と、主搬送装置100に連続して配置されたコンベア30と、を備える。
本実施形態の場合、ガラス基板Wの搬送方向はX方向であり、搬送方向に直交する方向はY方向である。不図示の処理装置は、主搬送装置100の+X側に配置され、コンベア30は、主搬送装置100と不図示の処理装置との間に介在して、これらの間でガラス基板Wの搬送を行う。収納カセット10は、主搬送装置100の−X側に配置され、移載コンベア200及び一対の昇降装置20は、収納カセット10から主搬送装置100へのガラス基板Wの搬出、及び、主搬送装置100から収納カセット10へのガラス基板Wの搬入を行う。
<主搬送装置100>
主搬送装置100は、X方向に互いに離間した複数の搬送装置110を備える。本実施形態の場合、搬送装置110はX方向に8つ配置されている。図3は搬送装置110の斜視図である。搬送装置110は、Y方向に配列された合計4つのローラコンベアユニット120及び130を備える。本実施形態の場合、ローラコンベアユニット120がY方向両端部にそれぞれ1つ、ローラコンベアユニット130が2つのローラコンベアユニット120の間に2つ配置されている。
このように、主搬送装置100は、複数のローラコンベアユニット120及び130をマトリックス状に配置して構成されている。本実施形態では、主搬送装置100をローラコンベアとしているが、ベルトコンベア等、他の形式のコンベアを用いてもよい。
ローラコンベアユニット120は、ガラス基板Wが載置される複数のローラ121と、ローラ121の駆動装置を内蔵した駆動ボックス122と、ローラ121上のガラス基板Wを検出するセンサ123と、を備える。センサ123はローラコンベアユニット120のX方向の両端部に1つずつ配置されている。ローラ121は、Y方向に延びた軸を回転軸とし、その回転軸を中心に回転し、ガラス基板WをX方向に搬送する。
ローラコンベアユニット130は、ガラス基板Wが載置される複数のローラ131と、ローラ131の駆動装置を内蔵した駆動ボックス132と、ローラ131上のガラス基板Wを検出するセンサ133と、を備える。センサ133はローラコンベアユニット120のX方向の両端部に1つずつ配置されている。ローラ131は、Y方向に延びた軸を回転軸とし、その回転軸を中心に回転し、ガラス基板WをX方向に搬送する。
ローラコンベアユニット130のY方向の幅は、ローラコンベアユニット120のY方向の幅の約半分である。各ローラコンベアユニット120及び各ローラコンベアユニット130はそれぞれ独立して駆動可能である。
ローラコンベアユニット120及び130は、ローラ121、131の数が異なる2種類のユニットが用いられている。図1に示すように、位置決め装置140の近傍においては、5列のローラ121、131を有するものと、3列のローラ121、131を有するものがあり、その他は4列のローラ121、131を有している。しかしながら、ローラの列数は全て同じとしてもよい。
また、コンベア30近傍の搬送装置110には図1及び図3に示すように、ガラス基板Wを検出するセンサ111が配設されている。これらは処理装置(不図示)から主搬送装置100へ搬出されるガラス基板Wの種類を判別するために用いられる。
図4(A)乃至(D)は、主搬送装置100によるガラス基板W1乃至W3の搬送態様の例を示す図である。主搬送装置100は、サイズの異なるガラス基板W1乃至W3を搬送することを想定している。
ガラス基板W1は最もサイズが大きなガラス基板であり、主搬送装置100により搬送可能な最大の幅(Y方向の幅)を有しており、図4(A)に示すように一枚ずつ搬送される。ガラス基板W2は、ガラス基板W1よりもY方向の幅が狭く、ガラス基板W1のY方向の幅の半分よりも若干短い幅を有している。ガラス基板W2は図4(B)に示すように、Y方向に2枚並べて同時に搬送可能である。
ガラス基板W3は、ガラス基板W2よりもX方向及びY方向の双方の幅が狭く、ガラス基板W2のX方向及びY方向の各幅の半分よりも若干短い各幅を有している。ガラス基板W3は図4(C)に示すように、Y方向に4枚並べて同時に搬送可能である。
また、主搬送装置100は、サイズの異なるガラス基板WをY方向に並べて同時に搬送することも可能であり、図4(D)の例では、ガラス基板W2を1枚、ガラス基板W3をY方向に2枚、X方向に2枚並べて同時に搬送する態様を示している。
<移載コンベア200及びコンベア30>
移載コンベア200は、本実施形態の場合、主搬送装置100と同様の構成であり、マトリックス状に配置された合計40個のローラコンベアユニット120及び130を備える。ローラコンベアユニット120及び130のローラの列数は3列としている。また、コンベア30は単一のローラコンベアユニットである。なお、移載コンベア200及びコンベア30は、ベルトコンベア等、他の形式のコンベアを用いてもよい。
本実施形態の場合、主搬送装置100、移載コンベア200及びコンベア30の各ローラ上端が、図2に示すように同一水平面上に位置しており、ガラス基板Wを水平に搬送する搬送軌道を規定する。
また、主搬送装置100、移載コンベア200及びコンベア30の搬送箇所のY方向の幅は、本実施形態における最もサイズが大きなガラス基板W1のY方向の幅より若干広く形成される。
<収納カセット10>
図5は収納カセット10の斜視図である。収納カセット10はガラス基板WをZ方向に多段に収納可能なカセットである。なお、図5はガラス基板Wが未収納の状態を示している。本実施形態の場合、収納カセット10は複数の柱部材11と、梁部材12と、により略直方体形状のフレーム体をなしており、一対の昇降装置20に支持されて移載コンベア200の上方に位置している。柱部材11の配設間隔及び梁部材12の配設間隔は、移載コンベア200を構成する各ローラコンベアユニット120及び130が収納カセット10の下方から収納カセット10内に進入できるように設定される。
柱部材11は、X方向に複数配設されると共に、Y方向に離間して同数並設されている。Y方向に離間した一対の柱部材11間には、Z方向に並べて、かつ、所定のピッチでワイヤ13が張設されている。各ワイヤ13の上下間のスペースは、ガラス基板Wを収納するスロットを形成し、ガラス基板Wは略水平姿勢でワイヤ13上に載置される。そして、Z方向に並んだワイヤ13の数だけ、スロットが形成される。本実施形態ではスロットをワイヤにより形成したが、他の方式ももちろん採用可能である。
本実施形態の場合、収納カセット10は、一つのスロットに複数のガラス基板Wを収納可能な大きさを有している。図6(A)乃至(D)は、収納カセット10へのガラス基板W1乃至W3の収納態様の例を示す図である。図6(A)は、ガラス基板W1をX方向に2枚並べて収納した態様を示す。図6(B)はガラス基板W2をX方向に2枚、Y方向に2枚、合計で4枚並べて収納した態様を示す。図6(C)はガラス基板W3をX方向に4枚、Y方向に4枚、合計で16枚並べて収納した態様を示す。図6(D)はガラス基板W1乃至W3を混在させて並べて収納した態様を示し、−X側に1枚のガラス基板W1、+X側で+Y側に1枚のガラス基板W2、+X側で−Y側に4枚のガラス基板W3を収納した態様を示す。
<昇降装置20>
図7は一対の昇降装置20の斜視図、図8は昇降装置20の分解斜視図である。本実施形態では、昇降装置20により収納カセット10をZ方向に昇降することで、収納カセット10と移載コンベア200とをZ方向に相対的に移動する。しかし、移載コンベア200をZ方向に昇降する構成としてもよく、この場合、主搬送装置100も昇降する構成とすることになる。
本実施形態の場合、昇降装置20は収納カセット10を挟むように収納カセット10の互いに対向するY方向の両側部にそれぞれ配設され、収納カセット10を片持ち支持する。
昇降装置20は、収納カセット10の底部の梁部材12が載置されるビーム部材21を備え、各昇降装置20の各ビーム部材21が同期的にZ方向に移動することで収納カセット10が昇降される。昇降装置20はZ方向に延びる支柱22を備え、支柱22の内側表面にはZ方向に延びる一対のレール部材23及びラック24が固定されている。各昇降装置20間には、支柱22の上端に梁部材20aが架設されている。
ビーム部材21は支持板25の一側面にブラケット25aを介して固定されて支持される。支持板25の他側面にはレール部材23に沿って移動可能な4つのスライド部材26が固定され、ビーム部材21及び支持板25はレール部材23の案内により上下に移動する。駆動ユニット27はモータ27aと減速機27bとから構成されており、支持板28の一側面に固定されて支持されている。減速機27bの出力軸は支持板28を貫通して支持板28の他側面に配設されたピニオン29aに接続されている。
支持板25と支持板28とは所定の間隔を置いて相互に固定され、支持板25と支持板28との空隙にはピニオン29b乃至29dが配設されている。ピニオン29b乃至29dは支持板25と支持板28との間で回転可能に軸支され、ピニオン29b及びピニオン29cは、ピニオン29aの回転に従動して回転する。ピニオン29dはピニオン29cの回転に従動して回転する。ピニオン29b乃至29dは相互に同じ仕様のピニオンであり、2つのピニオン29b及び29dは各ラック24と噛み合っている。
しかして、駆動ユニット27を駆動するとピニオン29aが回転し、その駆動力により、駆動ユニット27、支持板25及び28、スライド部材26、及び、ビーム部材21が一体となって上方又は下方へ移動することになり、ビーム部材21上に載置された収納カセット10を昇降することができる。各昇降装置20には、互いのビーム部材21の昇降高さのずれを検出するセンサ21aがビーム部材21の端部に設けられている。
センサ21aは例えば発光部と受光部とを備えた光センサであり、図7に示すように相互に光をY方向に照射してこれを受光したか否かを判定する。受光した場合は互いのビーム部材21の昇降高さのずれがないことになり、受光しない場合は昇降高さにずれがあることになる。昇降高さのずれがセンサ21aで検出されると、モータ27aの制御によりずれが解消されるよう制御される。
図9(A)乃至(E)は、基板Wを収納カセット10から搬出する場合の、昇降装置20及び移載コンベア200の動作説明図である。ガラス基板Wの搬出は、ガラス基板Wが収納されたスロットのうち、最下方のスロットに収納されたガラス基板Wから順番に行う。
まず、図9(A)に示すように、移載コンベア200の上方に収納カセット10が位置した状態から、昇降装置20により収納カセット10を降下させ、図9(B)に示すように、移載コンベア200上に、搬送対象のガラス基板Wを載置する。このとき、移載コンベア200は収納カセット10内に下方から進入し、搬送対象のガラス基板Wは収納カセット10のワイヤ13から浮いた状態となり、移載コンベア200のみによって支持された状態となる。続いて移載コンベア200を駆動して、図9(C)に示すように、搬送対象のガラス基板Wを収納カセット10から搬出する。
搬出が完了すると、図9(D)に示すように、昇降装置20により収納カセット10を降下させ、移載コンベア200上に、次のスロットのガラス基板Wを載置する。続いて移載コンベア200を駆動して、図9(E)に示すように、搬送対象のガラス基板Wを収納カセット10から搬出する。以下、同様に、収納カセット10の降下と移載コンベア200の駆動とを繰り返し(図9の下図)、下方側から順番にガラス基板Wを搬出することになる。
ガラス基板Wを収納カセット10へ搬入する場合は、上述した搬出時の動作と概ね逆の動作となる。ガラス基板Wの搬入は、ガラス基板Wが収納されていないスロットのうち、最上方のスロットから順番に行う。ガラス基板Wの搬出、搬入に際して、移載コンベア200の各ローラコンベアユニット120及び130は、ガラス基板Wのサイズ及び位置に応じて選択的に駆動される。
<位置決め装置140>
図10は位置決め装置140の斜視図である。位置決め装置140は、2つの位置決めユニット150と、1つの位置決めユニット160と、を備える。
位置決めユニット150は、Y方向に延びる支持軸151と、支持軸151の一方端部を支持する軸受部材153と、支持軸151の他方端部を支持する軸受部材154と、を備える。支持軸151は、その軸心回りに回転自在に軸受部材153、154に支持されている。
軸受部材154は、モータ155を支持するベース部を備えており、モータ155の出力軸は支持軸151に連結されている。モータ155は、例えば、ステッピングモータやサーボモータである。サーボモータを採用した場合、出力軸の回転角度を検出するエンコーダが併用される。モータ155を回転駆動することで、支持軸151はその軸心回りに回転する。なお、本実施形態では、各位置決めユニット150にそれぞれモータ155を設けたが、モータ155を1つとし、その駆動力を各支持軸151に伝達する伝達機構を設けた構成でもよい。この場合、駆動源としてのモータ155の数を減らすことができる。
支持軸151には、複数の当接部材152が固定されている。当接部材152は、Y方向に離間した複数の位置決め部Pb1乃至Pb4毎にそれぞれ1以上配設されている。本実施形態の場合、位置決め部Pb1には2つの当接部材152が、位置決め部Pb2には3つの当接部材152が、位置決め部Pb3には1つの当接部材152が、位置決め部Pb4には4つの当接部材152が、それぞれ設けられている。各当接部材152は支持軸151の径方向に突出して設けられている。
位置決めユニット160は、Y方向に延びる支持軸161と、支持軸161の一方端部を支持する軸受部材163と、支持軸161の他方端部を支持する軸受部材164と、を備える。支持軸161は、その軸心回りに回転自在に軸受部材163、164に支持されている。
軸受部材164は、モータ165を支持するベース部を備えており、モータ165の出力軸は支持軸161に連結されている。モータ165は、例えば、ステッピングモータやサーボモータである。サーボモータを採用した場合、出力軸の回転角度を検出するエンコーダが併用される。モータ165を回転駆動することで、支持軸161はその軸心回りに回転する。
支持軸161には、複数の当接部材162が固定されている。当接部材162は、Y方向に離間した複数の位置決め部Pa1乃至Pa4毎にそれぞれ1以上配設されている。本実施形態の場合、位置決め部Pa1には4つの当接部材162が、位置決め部Pa2には2つの当接部材162が、位置決め部Pa3には3つの当接部材162が、位置決め部Pa4には1つの当接部材162が、それぞれ設けられている。各当接部材162は支持軸161の径方向に突出して設けられている。
軸受部材163は、支持台166上でY方向にスライド自在に支持されている。また、軸受部材164も支持台166上でY方向にスライド自在に支持されている。軸受部材164の側方には駆動ユニット167が並設されている。駆動ユニット167は、本実施形態の場合、エアシリンダであり、連結部材168が固定された、Y方向に移動する可動部を有している。連結部材168は、軸受部材164に固定されており、軸受部材164を介して支持軸161に連結されている。
しかして、駆動ユニット167の駆動により、支持軸161、全ての当接部材162、軸受部材163及び164が一体的にY方向に移動する。
<位置決め装置140による位置決め動作>
<当接位置と待機位置との間の移動>
位置決めユニット150及び位置決めユニット160の各当接部材152、162は、支持軸151、161の回転により、ガラス基板Wの搬送軌道上に位置し、ガラス基板Wの一方側部に当接する当接位置と、ガラス基板Wの搬送軌道上に位置しない待機位置との間で移動する。
図11(A)及び(B)は当接部材162の移動態様の説明図である。同図及び図1に示すように、本実施形態の場合、支持軸161及び当接部材162は、搬送装置110間の隙間に配設されている。支持軸161及び当接部材162を搬送装置110間の隙間に配設することにより、空きの空間を利用して位置決め装置140のコンパクト化を図れる。図11(A)及び(B)は、3つの当接部材162が配設された位置決め部(Pa3)での動作を示している。
図11(A)は、いずれの当接部材162も、ローラコンベアユニット120(及び130)の上端により規定される搬送軌道TR上に位置しておらず、搬送軌道TRよりも下方の待機位置に位置している状態を示している。この場合、ガラス基板Wに当接部材162が当接することはない。図11(B)は支持軸161を回転することにより、3つの当接部材162のうちの1つが搬送軌道TR上に位置した当接位置に位置している場合を示している。この場合、ガラス基板Wに当接部材162が当接可能な状態となっている。なお、本実施形態の場合、待機位置は、ガラス基板Wの搬送軌道TRの下方であるが、上方としてもよい。
位置決めユニット150についても同様であり、図1に示すように、支持軸151及び当接部材152は、支持軸161及び当接部材162が配設された搬送装置110間の隙間とは異なる隙間に配設されている。そして、支持軸151の回転により当接部材152が当接位置と待機位置との間で移動する。支持軸151及び当接部材152を搬送装置110間の隙間に配設することにより、空きの空間を利用して位置決め装置140のコンパクト化を図れる。
<位置決め動作>
ガラス基板Wの位置決めは、当接位置に位置している当接部材152及び当接部材162を、ガラス基板WのY方向の各側部を当接させて行う。図12(A)及び(B)は位置決め装置140による位置決め動作の説明図である。
図12(A)は、当接部材152及び当接部材162がガラス基板Wに当接前の状態を示す。当接部材162は当接部材152から距離D1だけ離れた初期位置に位置している。距離D1は、ガラス基板Wの幅(Y方向の幅)DWよりも大きい。
図12(A)の状態にて駆動ユニット167を駆動させ、当接部材162を当接部材152に近づく方向(図中では右方向)に移動させ、図12(B)に示すように位置決め位置に位置させる。当接部材152と当接部材162との距離D2(<D1)は、ガラス基板Wの幅DWに略一致している。これにより、ガラス基板WのY方向の両側部が当接部材152、162によってガイドされ、位置決めされることになる。位置決め後には、再び駆動ユニット167を駆動して図12(A)のように当接部材162が当接部材152から距離D1だけ離れた初期位置に戻すことになる。駆動ユニット167は、距離D1と距離D2の差分だけ当接部材162を移動させることになる。
なお、距離D2は、ガラス基板Wの幅DWよりも僅かに大きくすることが望ましい。距離D2をガラス基板Wの幅DWにぴったり一致させると、当接部材152と当接部材162とによりガラス基板Wが狭持されて、その狭持力によりガラス基板Wが破損する虞があるためである。ガラス基板Wの破損を防止するためには、当接部材152、162の表面に、ゴム等の緩衝部材を設けるか、或いは、当接部材152、162と支持軸151、162との間にスプリング等の緩衝手段を介在させて、一定の荷重が作用した場合に当接部材152、162が微小変位するようにしてもよく、これらの構成の場合、距離D2をガラス基板Wの幅DWに略一致させることができる。
また、本実施形態では、位置決めユニット160のみに駆動ユニット167を設けて当接部材162のみをY方向に移動可能としたが、位置決めユニット150にも駆動ユニットを設けて当接部材152もY方向に移動可能に構成してもよい。或いは、駆動ユニット167と位置決めユニット150との間にリンク機構を介在させて、当接部材152もY方向に移動可能に構成してもよい。
<位置決め部の選択>
本実施形態では、主搬送装置100が搬送するガラス基板Wのサイズに応じて、当接部材152、162を当接位置に移動させる位置決め部Pb1乃至Pb4及びPa1乃至Pa4を選択することで、各ガラス基板W1乃至W3の位置決めを行うことができる。図13は各位置決め部Pa1乃至Pa4及びPb1乃至Pb4の説明図である。図13において、位置決め部Pa1乃至Pa4は当接部材162が初期位置から位置決め位置に移動した後の場合を示している。
まず、図13に示すように、各位置決めユニット150、160、150は、搬送方向(X方向)に離間して配置されており、位置決めユニット160は2つの位置決めユニット150の間に配置されている。つまり、位置決め部Pb1乃至Pb4は、搬送方向(X方向)に離間して2列設定され、位置決め部Pa1乃至Pa4は、この2列の位置決め部Pb1乃至Pb4の間に設定されている。位置決め部Pa1乃至Pa4は、主搬送装置100の+Y方向側寄りに配置され、位置決め部Pb1乃至Pb4は、主搬送装置100の−Y方向側寄りに配置されている。
これにより、ガラス基板WのY方向の一方側部に1つの当接部材162を、他方の側部は2つの当接部材152を、それぞれ当接させることで、合計3箇所でガラス基板Wの位置決めを行う。そして、位置決め部Pa1乃至Pa4と位置決め部Pb1乃至Pb4の配置の組合せは、各ガラス基板W1乃至W3をそれぞれ位置決めする場合に対応して設定されている。
具体的には、まず、位置決め部Pa1の位置は、主搬送コンベア100の+Y方向の端部近傍に設定されており、位置決め部Pa1の位置を基準として、他の位置決め部Pa2乃至Pa4の位置が、各ガラス基板W1乃至W3の幅に応じて、その各一方端が位置すべき位置に設定されている。また、位置決め部Pb4の位置は、主搬送コンベア100の−Y方向の端部近傍に設定されており、位置決め部Pb4の位置を基準として、他の位置決め部Pb1乃至Pb3の位置が、各ガラス基板W1乃至W3の幅に応じて、その各他方端が位置すべき位置に設定されている。このため、位置決め部Pa1乃至Pa4は、全体的に+Y側に位置しており、位置決め部Pb1乃至Pb4は、全体的に−Y側に位置している。
そして、図13に示すように、ガラス基板W1を位置決めする場合に対応して、位置決め部Pa1、Pb4、の位置が設定されている。また、ガラス基板W2を位置決めする場合に対応して、位置決め部Pa1、Pb2、及び、位置決め部Pa3、Pb4、の位置がそれぞれ設定されている。更に、ガラス基板W3を位置決めする場合に対応して、位置決め部Pa1、Pb1、Pa2と位置決め部Pb2、Pa3、Pb3、及び、位置決め部Pa4、Pb4、の位置がそれぞれ設定されている。
しかして、主搬送装置100が搬送するガラス基板Wのサイズに応じて、当接部材152、162を当接位置に移動させる位置決め部Pb1乃至Pb4及びPa1乃至Pa4を選択することで、各ガラス基板W1乃至W3の位置決めを行うことができる。
本実施形態の場合、各当接部材152は、支持軸151の軸心回りで0度、90度、180度、270度のいずれかの位置に設けられている。同様に、各当接部材162は、支持軸161の軸心回りで0度、90度、180度、270度のいずれかの位置に設けられている。そして、支持軸151、161の回転角度により、当接部材152、162が当接位置に位置している位置決め部Pb1乃至Pb4及びPa1乃至Pa4が異なるように、各当接部材152、162が支持軸151、161に設けられている。つまり、支持軸151、161の回転角度により、当接部材152、162を当接位置に移動させる位置決め部Pb1乃至Pb4及びPa1乃至Pa4を任意に選択できるようにしている。
図14は位置決め装置140の動作パターンの例を示す図であり、支持軸151、161の回転角度と各位置決め部Pb1乃至Pb4及びPa1乃至Pa4における当接部材152、162の位置(当接位置か待機位置か)、並びに、位置決め対象とするガラス基板Wのサイズ等を示す図である。
図14において、回転角度は、支持軸151、161の回転角度(時計回り)であり、当接部材の位置とは、支持軸151、161の回転角度が0度、90度、180度、270度の場合において、当接部材152、162が当接位置にあるか待機位置にあるかを示している。位置決め部Pa1及びPb4においては、当接部材162、152が90度毎に4つ設けられているため、常時いずれかの当接部材162、152が当接位置に位置していることになる。
パターン1(回転角度:0度)の場合、全ての位置決め部Pa1乃至Pa4及びPb1乃至Pb4において、当接部材162及び152が当接位置に位置しており、同時搬送される4枚のガラス基板W3を位置決めすることができる。当接部材162は共通の支持軸161に支持されており、同時に初期位置と位置決め位置との間を移動することから、4枚のガラス基板W3を同時に位置決めすることができる。なお、ガラス基板W3を4枚同時ではなく、単枚搬送する場合や、2枚同時搬送する場合においても、このパターン1を選択することで、その位置決めをすることができる。
パターン2(回転角度:90度)の場合、位置決め部Pa4及びPb3においては、当接部材162及び152が待機位置に位置しており、その他の位置決め部においては当接位置に位置している。パターン2は、同時搬送される、1枚のガラス基板W2と、2枚のガラス基板W3と、を同時に位置決めすることができる(但し、本実施形態においては、ガラス基板W2が−Y側に位置している場合。)。
パターン3(回転角度:180度)の場合、位置決め部Pa1及びPb4のみ、当接部材162及び152が当接位置に位置しており、その他の位置決め部においては待機位置に位置している。パターン3は、1枚のガラス基板W1を位置決めすることができる。
パターン4(回転角度:270度)の場合、位置決め部Pa1、Pa3及びPb2、Pb4においては、当接部材162及び152が当接位置に位置しており、その他の位置決め部においては待機位置に位置している。パターン4は、同時搬送される2枚のガラス基板W2を同時に位置決めすることができる。なお、ガラス基板W2を2枚同時ではなく、単枚搬送する場合においても、このパターン4を選択することで、その位置決めをすることができる。
<搬送例>
図15(A)及び(B)並びに図16(A)及び(B)は搬送システムAの動作説明図であり、処理装置(不図示)から搬出されるガラス基板Wを途中で位置決めして収納カセット10へ搬入する例を示す。
図15(A)は、不図示の処理装置から2枚のガラス基板W2(第1群のガラス基板ともいう。)がY方向に並べられて同時に搬出された態様を示す。ガラス基板W2は搬送方向(X方向)に対して傾いて搬出されている。搬送システムAは、まず、コンベア30及び主搬送装置100を駆動して、第1群のガラス基板を−X方向に搬送する。その際、第1群のガラス基板のサイズ、位置を特定する。
ガラス基板Wのサイズ、位置の特定は、本実施形態の場合、センサ111の検出結果に基づいて行う。センサ111は、Y方向に3つ配置されており、全てのセンサ111がガラス基板を検出した場合は、ガラス基板W1の単枚搬送と判断する。中央のセンサ111のみがガラス基板を検出しない場合は、ガラス基板W2の2枚同時搬送と特定する。いずれのセンサ111もガラス基板を検出しない場合は、ガラス基板W3の4枚同時搬送と特定する。更に、中央のセンサ111と、残り2つのセンサ111のうち、一方のセンサ111とがガラス基板を検出した場合は、ガラス基板W2を1枚、ガラス基板W3を2枚、同時搬送であると特定する。センサ111によるガラス基板Wの検出は、ローラコンベアユニット120、130に設けたセンサ123、133の検出結果に基づいたタイミングで行うことができる。
ガラス基板Wのサイズ、位置の特定は、センサ111に代えて、例えば、処理装置から、搬出するガラス基板Wのサイズ及び位置の情報を取得することで、特定してもよい。
ガラス基板のサイズ、位置を特定すると、位置決め装置140の動作パターンを選択する。図15(A)の例の場合、ガラス基板W2の2枚同時搬送であるので、図14のパターン4を選択することになる。位置決め装置140は、選択したパターン4の回転角度に支持軸151、161、151を回転させる。
図15(B)は、第1群のガラス基板が位置決め装置140の近傍の位置決め位置まで搬送されて搬送を一時停止し、位置決め装置140によって位置決めがなされた状態を示す。位置決め装置140は、駆動ユニット167の駆動により当接部材162を初期位置から位置決め位置へ移動させることにより、2枚のガラス基板W2の位置決めを同時に行う。位置決めが終了すると、駆動ユニット167の駆動により当接部材162を初期位置に戻し、主搬送装置100及び移載コンベア200を駆動して、第1群のガラス基板を収納カセット10へ搬入する。
また、図15(B)の状態では、不図示の処理装置から次のガラス基板W2及び2枚のガラス基板W3(第2群のガラス基板ともいう。)が搬出されている。搬送システムAは、コンベア30及び主搬送装置100を駆動して、これらを−X方向に搬送する。その際、第2群のガラス基板のサイズ、位置を特定し、位置決め装置140の動作パターンを選択する。第1群のガラス基板が位置決め装置140を通過すると、次に選択した動作パターンの回転角度に支持軸151、161、151を回転させる。第2群のガラス基板の場合、1枚のガラス基板W2及び2枚のガラス基板W3の同時搬送であるので、図14のパターン2を選択することになる。
図16(A)は、第1群のガラス基板は収納カセット10へ搬入途中、第2群のガラス基板が位置決め装置140の近傍の位置決め位置まで搬送されて搬送を一時停止し、位置決め装置140によって位置決めがなされた状態、及び、不図示の処理装置から第3群のガラス基板として、2枚のガラス基板W3が搬出された状態、を示す。
また、図16(B)は、第1群のガラス基板は収納カセット10へ搬入完了、第2群のガラス基板が収納カセット10へ搬入途中、第3群のガラス基板が位置決め装置140の近傍の位置決め位置まで搬送されて搬送を一時停止し、位置決め装置140によって位置決めがなされた状態、及び、不図示の処理装置から第4群のガラス基板として、1枚のガラス基板W1が搬出された状態、を示す。
このように本実施形態では、ガラス基板Wのサイズに応じて当接部材152、162を当接位置に移動させる位置決め部Pb1乃至Pb4及びPa1乃至Pa4を選択することでサイズの異なるガラス基板Wの位置決めを行うことができる。しかも、複数の当接部材162を同時に移動させることで、Y方向に並べて同時搬送される複数のガラス基板Wを同時に位置決めすることができ、更に、Y方向に並べて同時搬送される複数のガラス基板Wが異なるサイズであっても同時に位置決めできる。
また、主搬送装置100によりガラス基板Wを搬送し、当接部材152、162の待機位置−当接位置間の移動及び当接部材162の初期位置−位置決め位置間の移動は、支持軸151、161の回転、駆動ユニット167により行うことで、主搬送装置100によって、複数のガラス基板Wを連続的に搬送することができ、ガラス基板Wの位置決め中、主搬送装置100が位置決め対象のガラス基板Wに専有されることがなく、ガラス基板Wの搬送効率を向上できる。
なお、本実施形態では、ガラス基板WのY方向の一方側部に1つの当接部材162を、他方の側部は2つの当接部材152を、それぞれ当接させることで、合計3箇所でガラス基板Wの位置決めを行うことにしたが、当接部材152、162のX方向の幅が十分に長い場合、それぞれ1つずつ、合計2箇所でガラス基板Wの位置決めを行うことも可能である。また、本実施形態では、方形のガラス基板Wを対象としたが、円形等、他のガラス基板Wの位置決めも可能である。更に、位置決め装置140をX方向に複数並設することで、X方向及びY方向の双方に並べられた複数のガラス基板の位置決めを略同時に行うことも可能である。
<制御装置>
図17は搬送システムAの制御装置40の構成を示すブロック図である。制御装置40は搬送システムAの全体の制御を司るCPU41と、CPU41のワークエリアを提供すると共に、可変データ等が記憶されるRAM42と、制御プログラムや、図14に示した動作パターンのデータ等の固定的なデータが記憶されるROM43と、を備える。RAM42、ROM43は他の記憶手段を採用可能である。
入力インターフェース(I/F)44は、CPU41と各種のセンサ(例えば、センサ111、123、133、21a等)とのインターフェースであり、入力I/F44を介してCPU201は各種のセンサの検出結果を取得する。出力インターフェース(I/F)45は、CPU201と各種のモータ(例えば、モータ27a、155、165、駆動ボックス122、132内のモータ等)や、制御弁(例えば、駆動ユニット167へのエアの供給切替えを行う制御弁)とのインターフェースであり、出力I/F45を介してCPU41はこれらを制御する。
通信インターフェース(I/F)46は、搬送システムAを含む基板処理設備全体を制御するホストコンピュータ50とCPU41とのインターフェースであり、CPU41はホストコンピュータ50からの指令に応じて搬送システムAを制御することになる。
図18は、CPU41が実行する搬送システムAの制御例を示すフローチャートである。同図の処理は、不図示の処理装置から収納カセット10へガラス基板Wを搬送する際の処理を示し、不図示の処理装置からホストコンピュータ50を介してガラス基板Wの搬出指示を受信したことを契機として実行される。
S1では、不図示の処理装置から搬出されるガラス基板Wを規定位置まで搬送するよう、コンベア30と主搬送装置100とを駆動する。規定位置とは、ガラス基板Wが、センサ111を通過した、予め定めた位置である。また、規定位置に達したか否かはセンサ123、133の検出結果に基づき判断する。
S2では、搬出されたガラス基板Wのサイズ及び位置を特定する。この特定は、センサ111の検出結果に基づくが、上記の通り、不図示の処理装置から、搬出するガラス基板Wのサイズ及び位置の情報をホストコンピュータ50を介して取得することで、特定してもよい。
S3では、S2で特定したガラス基板Wのサイズ及び位置に基づいて、位置決め装置140の動作パターンを選択する。つまり、当接部材152、162を当接位置に移動させる位置決め部Pb1乃至Pb4及びPa1乃至Pa4を選択する。
S4では、搬出された各ガラス基板Wに固有の識別番号を付し、そのサイズ及びこれから収納する収納カセット10内のスロット及びスロット上の位置を設定し、設定したデータを基板データとしてRAM42に保存する。この基板データは、収納カセット10へのガラス基板Wの収納後に収納カセット10自体の識別情報と共にホストコンピュータ50へ提供され、ホストコンピュータ50上で管理される。
S5では、主搬送装置100を駆動し、S1で規定位置まで搬送したガラス基板Wを位置決め装置140近傍の位置決め位置まで搬送して、搬送を一時停止する。また、S3で選択した動作パターンの回転角度に支持軸151、161、161を回転させる。
S6では、駆動ユニット167を駆動して、当接部材162を初期位置から位置決め位置へ移動させ、ガラス基板Wの位置決めを行う。位置決め後、当接部材162を初期位置に戻す。
S7では、主搬送装置100及び移載コンベア200を駆動し、S4で設定したスロット内の位置までガラス基板Wを収納カセット10へ搬入する。以上により一単位の処理が終了する。S1乃至S7の処理は、ホストコンピュータ50からガラス基板Wの搬出指示を受信する毎に、並列的に実行することで、複数のガラス基板Wを連続的に搬送しながらその位置決め動作を行える。
なお、収納カセット10からガラス基板Wを搬出し、不図示の処理装置へ搬送する場合も搬送方向が逆になるだけで、同様の手順によりガラス基板Wを搬送することができる。その際、ガラス基板Wのサイズ、位置の情報はホストコンピュータ50から取得するようにすることができる。
<第2実施形態>
上記第1実施形態では、支持軸151、161、151の回転により、当接部材152、162を待機位置−当接位置間で移動したが、当接部材152、162を昇降することで、待機位置−当接位置間で移動する構成としてもよい。
図19は、位置決め装置140に代わる、本実施形態の位置決め装置140'の斜視図である。以下、位置決め装置140と異なる構成について説明する。位置決め装置140'は、位置決めユニット150に代わる位置決めユニット150'と、位置決めユニット160に代わる位置決めユニット160'と、を備える。各位置決め部Pa1乃至Pa4及び各位置決め部Pb1乃至Pb4の位置の設定は、上記第1実施形態と同様である。
位置決めユニット150'は、Y方向に延びる支持材301と、支持材301の各端部を支持する一対の支持台303を備える。支持材301には、複数の昇降ユニット305と支持部材306とが固定されている。昇降ユニット305は、本実施形態の場合、エアシリンダであり、当接部材152を上方の当接位置と、下方の待機位置との間で昇降する。位置決め部Pb4の当接部材152については、昇降ユニット305を介さずに、支持部材306によって支持材301に支持されており、常時当接位置に位置している。各当接部材152は、Y方向に離間した複数の位置決め部Pb1乃至Pb4毎にそれぞれ1つ配設されている。
位置決めユニット160'は、Y方向に延びる支持材302と、支持材302の各端部を支持する一対の支持台304を備える。支持材302には、位置決めユニット150'と同様の、複数の昇降ユニット305と支持部材306とが固定されており、位置決め部Pa1の当接部材162については、昇降ユニット305を介さずに、支持部材306によって支持材302に支持されており、常時当接位置に位置している。各当接部材162は、Y方向に離間した複数の位置決め部Pa1乃至Pa4毎にそれぞれ1つ配設されている。
各支持台304は、各支持台166上でY方向にスライド自在に支持されている。一方の支持台304の側方には駆動ユニット167が並設されており、連結部材168は、支持台304に固定されている。しかして、駆動ユニット167の駆動により、支持材302、支持台304、全ての昇降ユニット305及び支持部材306が一体的にY方向に移動し、当接部材162が初期位置と位置決め位置との間で移動する。
本実施形態においても、主搬送装置100が搬送するガラス基板Wのサイズに応じて、当接部材152、162を当接位置に移動させる位置決め部Pb1乃至Pb4及びPa1乃至Pa4を選択し、各ガラス基板W1乃至W3の位置決めを行うことができる。ただし、当接部材152、162の待機位置と当接位置との間の移動は、昇降ユニット305の駆動による昇降で行うことが第1実施形態と異なる。なお、位置決め部Pa1及びPb4については、その当接部材162、152が常時当接位置に位置しているため、常に選択された状態となっている。
本実施形態の位置決め装置140'も、上記第1実施形態の位置決め装置140と同様の効果を奏するが、位置決め装置140'の方が、当接部材152、162を当接位置に移動させる位置決め部Pb1乃至Pb4及びPa1乃至Pa4の組合せのバリエーションが位置決め装置140よりも豊富であり、同時に位置決めが可能な、各ガラス基板W1乃至W3の搬送態様が豊富になる。
なお、上記第1実施形態及び本実施形態においては、当接部材162の初期位置と位置決め位置との間の移動を、共通の駆動ユニット167により行っているが、各当接部材162毎に駆動ユニット167を設けて同期的に駆動することで、複数のガラス基板Wを同時に位置決めするようにしてもよい。
<第3実施形態>
上記第1実施形態では、不図示の1つの処理装置と、1つの収納カセット10との間でガラス基板Wを搬送する構成としたが、1つの処理装置と、複数の収納カセット10との間でガラス基板Wを搬送するようにしてもよい。
図20は、本発明の他の実施形態に係る搬送システムBのレイアウトを示す平面図である。以下、搬送システムAと同じ構成については同じ符号を付して説明を省略し、異なる構成について説明する。
<収納カセット10の配置>
搬送システムBは、2つの収納カセット10と、一つの処理装置(不図示)との間で、ガラス基板Wを搬送する。なお、3以上の収納カセット10と、一つの処理装置との間で、ガラス基板Wを搬送するように構成することもできる。
2つの収納カセット10は、Y方向に離間して配置されており、これらの収納カセット10の配置方向はY方向である。2つの収納カセット10は、それらのガラス基板Wの搬入出部が+X方向を向くように配置されている。各収納カセット10には、一対の昇降装置20及び移載コンベア200が、それぞれ配置されている。
<コンベア移動ユニット>
本実施形態の主搬送装置100は、その一部がY方向に移動可能になっている。移動可能な部分は、位置決め装置140近傍の合計16個のローラコンベアユニット120及び130である。これらはコンベア移動ユニット400により移動する。以下、コンベア移動ユニット400により移動する主搬送装置100の一部を、可動搬送装置といい、移動しない部分を固定搬送装置という。
図21は、コンベア移動ユニット400の分解斜視図である。コンベア移動ユニット400は、可動搬送装置及び位置決め装置140が搭載される支持板402を備える。支持板402の下面には、一対のレール部材405上を摺動する複数のスライド部材402bが設けられている。一対のレール部材405は、X方向に離間させて平行に設けられ、それぞれY方向に延びている。支持板402は、スライド部材402bがレール部材405に案内されることにより、Y方向に移動可能である。
一対のレール部材405間にはY方向に離間して複数の梁部材406が架設されており、これらの梁部材406により、一方のレール部材405に固定されているラック407が下方から支持されると共に一方のレール部材405に固定されている。ラック407はY方向に延びており、その側面に歯型407bを有しており、その上面には、支持板402のY方向の位置を検出するためのマーク帯407aを有している。
支持板402には、開口部402aが設けられている。開口部402aにはモータ403が挿入される。モータ403には取付板403aが設けられており、取付板403aを介してモータ403が支持板402に固定される。モータ403の出力軸には、ラック407の歯型407bと噛合するピニオン403bが取り付けられている。また、取付板403aの下面にはマーク帯407a上の個々のマークを検出するセンサ404が設けられている。センサ404は例えば光センサである。
このようなラック−ピニオン機構を有するコンベア移動ユニット400は、モータ403を駆動することにより、支持板402がレール部材405上を移動し、主搬送装置100の一部及び位置決め装置140をY方向に移動することができる。また、センサ404がマーク帯407a上のマークを検出することで、可動搬送装置及び位置決め装置140のY方向の位置を特定することができる。
なお、本実施形態では、ラック−ピニオン機構を用いたが、ベルト伝動機構、リニアモータ、ボールナット−ボールネジ機構等、他の機構も採用可能である。また、センサ404とマーク帯407aの組み合わせ以外に、他の位置検出手段(例えばモータ403の回転量を検出するエンコーダ)を用いることで、可動搬送装置及び位置決め装置140のY方向の位置を特定することもできる。
<動作例>
図22乃至図24は搬送システムBの動作説明図である。図22は、主搬送装置100の可動搬送装置が固定搬送装置と連続し、+Y側の移載コンベア200と連続している状態を示す。この場合の搬送システムBの動作は、上記第1実施形態の搬送システムAと同様である。
図23及び図24は、処理装置(不図示)と−Y側の収納カセット10との間でガラス基板W(ここではガラス基板W1)を搬送する場合、特に、処理装置から収納カセット10へガラス基板Wを搬送する場合を示す。まず、図23に示すように、主搬送装置100の可動搬送装置が固定搬送装置と連続した状態で、可動搬送装置上にガラス基板W1を搬送する。続いて、図24に示すようにコンベア移動ユニット400によって、可動搬送装置を−Y方向に移動させ、−Y側の移載コンベア200と連続する位置まで移動させる。このとき、位置決めユニット140は可動搬送装置に設けられているため、可動搬送装置の移動中に、ガラス基板W1の位置決めを行うことが可能である。
その後、可動搬送装置と移載コンベア200とを駆動することで、−Y側の収納カセット10にガラス基板W1を搬入する。収納カセット10から処理装置へガラス基板Wを搬送する場合は、この逆の手順となる。
このように搬送システムBでは、2つの収納カセット10と処理装置との間でガラス基板Wを搬送することができる。このため、例えば、一方の収納カセット10を別の収納カセットと交換する場合であっても、搬送システムB全体の稼動は停止させる必要がなく、他方の収納カセット10と処理装置との間でガラス基板Wを搬送することができ、システム全体の稼働率を向上できる。
また、処理装置を介在せずに、2つの収納カセット10間でガラス基板Wを搬送することも可能である。これは、収納カセット10間でガラス基板Wの入れ替え等を行う場合に便利である。
なお、本実施形態では、2組の収納カセット10、一対の昇降装置20及び移載コンベア200をY方向に並設しているが、これらの組がX方向にずれていてもよい。例えば、−Y側の収納カセット10、一対の昇降装置20及び移載コンベア200の組が、図22に示す位置よりも−X側にずれていてもよい。この場合、移載コンベア200をX方向に延長し、可動搬送装置が図24の位置に移動した際に、可動搬送装置と連続するようにすればよい。
また、本実施形態では、2つの収納カセット10は、それらのガラス基板Wの搬入出部が+X方向を向くように配置されているが、別々の方向を向いていてもよい。この場合、収納カセット10の方向に応じて一対の昇降装置20及び移載コンベア200を配置することになる。また、コンベア移動ユニット400は、可動搬送装置をY方向に移動させるものに限定されず、可動搬送装置を移載コンベア200と連続するよう、例えば、円弧軌道上を移動させるものであってもよい。
<第4実施形態>
上記第3実施形態では、可動搬送装置を1つとしたが2つとし、コンベア移動ユニット400を各可動搬送装置に設けることもできる。図25は、本発明の他の実施形態に係る搬送システムCのレイアウトを示す平面図である。以下、搬送システムBと同じ構成については同じ符号を付して説明を省略し、異なる構成について説明する。
搬送システムCの主搬送装置100は、X方向に連続して並設した2つの可動搬送装置を備えており、また、各可動搬送装置用に、コンベア移動ユニット400をX方向に並設して2つ設けている。位置決め装置140は、各可動搬送装置にそれぞれ設けられており、各コンベア移動ユニット400は、可動搬送装置と位置決め装置140とを移動する。
<動作例>
図26乃至図29は搬送システムCの動作説明図である。図26は、主搬送装置100の2つの可動搬送装置が互いに連続すると共に固定搬送装置と連続し、更に、+Y側の移載コンベア200と連続している状態を示す。この場合の搬送システムCの動作は、上記第1実施形態の搬送システムAと同様である。但し、位置決め装置140を2つ有しているので、同時に位置決め可能なガラス基板Wの枚数を増やすことができる。
図27は、図26の状態から、ガラス基板W1を搭載した−X側の可動搬送装置を−Y側の移載コンベア200と連続する位置まで移動させた状態を示す。また、図27は、処理装置(不図示)から、新たなガラス基板W1が+X側の可動搬送装置上に搬送した状態を示す。
図28は、図27の状態から、−X側の可動搬送装置及びこれと連続する移載コンベア200が、ガラス基板W1を収納カセット10へ搬入し、ガラス基板W1を搭載した+X側の可動搬送装置を−X側の可動搬送装置と連続する位置まで移動させた状態を示す。この状態から、+X側の可動搬送装置上のガラス基板W1を、2つの可動搬送装置及び移載コンベア200によって、収納カセット10へ搬入することができる。また、+X側の可動搬送装置から−X側の可動搬送装置へガラス基板W1の搬送が完了すると、+X側の可動搬送装置は、+Y側へ移動を開始し、固定搬送装置から搬送されるガラス基板W1の受け取り準備を行うことができる。
このように、本実施形態では、ガラス基板Wを連続的に収納カセット10へ効率よく搬入できるという利点がある。例えば、上記搬送システムBでは、−Y側の収納カセット10へ2枚のガラス基板W1を搬送する場合、可動搬送装置をY方向に2往復させる必要がある。一方、本実施形態の搬送システムCでは、各可動搬送装置をY方向に1往復することで、−Y側の収納カセット10へ2枚のガラス基板W1を搬送することができ、搬送時間を短縮できる。
また、本実施形態の搬送システムCでは、ガラス基板W1よりも大きいサイズのガラス基板Wを搬送することもできる。図29は、ガラス基板W1とY方向の幅が同じで、X方向の長さが略2倍のガラス基板W0を搬送する場合を示している。
ガラス基板W0は、連続した2つの可動搬送装置上に跨って載置されている。ガラス基板W0の位置決めは、2つの位置決め装置140により同時に行うことができる。また、ガラス基板W0のY方向の移動は、2つの可動搬送装置が連続した状態で、各コンベア移動ユニット400を同期的に駆動することで、行うことができる。
本発明の一実施形態に係る搬送システムAのレイアウトを示す平面図である。 搬送システムAの側面図である。 搬送装置110の斜視図である。 (A)乃至(D)は、主搬送装置100によるガラス基板W1乃至W3の搬送態様の例を示す図である。 収納カセット10の斜視図である。 (A)乃至(D)は、収納カセット10へのガラス基板W1乃至W3の収納態様の例を示す図である。 一対の昇降装置20の斜視図である。 昇降装置20の分解斜視図である。 (A)乃至(E)は、基板Wを収納カセット10から搬出する場合の、昇降装置20及び移載コンベア200の動作説明図である。 位置決め装置140の斜視図である。 (A)及び(B)は当接部材162の移動態様の説明図である。 (A)及び(B)は位置決め装置140による位置決め動作の説明図である。 各位置決め部Pa1乃至Pa4及びPb1乃至Pb4の説明図である。 位置決め装置140の動作パターンの例を示す図である。 (A)及び(B)は搬送システムAの動作説明図である。 (A)及び(B)は搬送システムAの動作説明図である。 搬送システムAの制御装置40の構成を示すブロック図である。 CPU41が実行する搬送システムAの制御例を示すフローチャートである。 位置決め装置140'の斜視図である。 本発明の他の実施形態に係る搬送システムBのレイアウトを示す平面図である。 コンベア移動ユニット400の分解斜視図である。 搬送システムBの動作説明図である。 搬送システムBの動作説明図である。 搬送システムBの動作説明図である。 本発明の他の実施形態に係る搬送システムCのレイアウトを示す平面図である。 搬送システムCの動作説明図である。 搬送システムCの動作説明図である。 搬送システムCの動作説明図である。 搬送システムCの動作説明図である。
符号の説明
A、B、C 搬送システム
140、140' 位置決め装置

Claims (9)

  1. 水平な搬送軌道上で予め定めた搬送方向に搬送対象物を搬送する搬送手段と、
    前記搬送方向と直交する水平方向に互いに離間した複数の第1位置決め部にそれぞれ設けられ、前記搬送軌道上に位置して前記搬送対象物の前記水平方向の一方側部に当接する第1当接位置と、前記搬送軌道上に位置しない第1待機位置と、の間で移動可能に設けられた第1当接部材と、
    前記水平方向に互いに離間した複数の第2位置決め部にそれぞれ設けられ、前記搬送軌道上に位置して前記搬送対象物の前記水平方向の他方側部に当接する第2当接位置と、前記搬送軌道上に位置しない第2待機位置と、の間で移動可能に設けられた第2当接部材と、
    前記搬送手段が搬送する前記搬送対象物のサイズに応じて、前記複数の第1位置決め部のうち、前記第1当接部材を前記第1当接位置に移動させる前記第1位置決め部、及び、前記複数の第2位置決め部のうち、前記第2当接部材を前記第2当接位置に移動させる前記第2位置決め部、を選択する選択手段と、
    前記選択手段が選択した前記第1位置決め部に設けた前記第1当接部材を前記第1当接位置に移動させる第1移動手段と、
    前記選択手段が選択した前記第2位置決め部に設けた前記第2当接部材を前記第2当接位置に移動させる第2移動手段と、
    全ての前記第1当接部材を前記水平方向に移動する第3移動手段と、
    を備えたことを特徴とする搬送システム。
  2. 前記水平方向に延設され、全ての前記第1当接部材を支持する支持部材を備え、
    前記第3移動手段は、
    前記支持部材を前記水平方向に移動することを特徴とする請求項1に記載の搬送システム。
  3. 前記第3移動手段は、
    前記支持部材と連結された連結部と、前記連結部を前記水平方向にスライドする駆動手段と、を備えたことを特徴とする請求項2に記載の搬送システム。
  4. 前記第1及び第2待機位置が、前記搬送軌道よりも下方の位置であり、
    前記搬送手段は、前記搬送方向に互いに離間した複数の搬送装置を備え、
    互いに隣接する前記搬送装置間の隙間のうち、第1の隙間に前記第1当接部材が、前記第1の隙間とは異なる第2の隙間に前記第2当接部材が、それぞれ配置されたことを特徴とする請求項1に記載の搬送システム。
  5. 前記第1及び第2待機位置が、前記搬送軌道よりも下方の位置であり、
    前記第1移動手段は、
    前記水平方向に延設され、各々の前記第1位置決め部毎に、1又は複数の前記第1当接部材が径方向に突出して設けられた第1支持軸と、
    前記第1支持軸をその軸心回りに回転させ、前記第1当接部材を前記第1当接位置と前記第1待機位置との間で移動させる第1駆動手段と、を備え、
    前記第2移動手段は、
    前記水平方向に延設され、各々の前記第2位置決め部毎に、1又は複数の前記第2当接部材が径方向に突出して設けられた第2支持軸と、
    前記第2支持軸をその軸心回りに回転させ、前記第2当接部材を前記第2当接位置と前記第2待機位置との間で移動させる第2駆動手段と、を備え、
    前記第1当接部材は、
    前記第1支持軸の回転角度により、前記第1当接部材が前記第1当接位置となる前記第1位置決め部が異なるように前記第1支持軸に設けられ、
    前記第2当接部材は、
    前記第2支持軸の回転角度により、前記第2当接部材が前記第2当接位置となる前記第2位置決め部が異なるように前記第2支持軸に設けられたことを特徴とする請求項1に記載の搬送システム。
  6. 前記第1及び第2待機位置が、前記搬送軌道よりも下方の位置であり、
    前記第1移動手段は、各々の前記第1位置決め部毎に設けられ、前記第1当接部材を前記第1当接位置と前記第1待機位置との間で昇降する第1昇降手段であり、
    前記第2移動手段は、各々の前記第2位置決め部毎に設けられ、前記第2当接部材を前記第2当接位置と前記第2待機位置との間で昇降する第2昇降手段であることを特徴とする請求項1に記載の搬送システム。
  7. 前記第2位置決め部が前記搬送方向に離間して2列設定され、
    前記第1位置決め部が前記2列の前記第2位置決め部の間に設定されたことを特徴とする請求項1に記載の搬送システム。
  8. 前記搬送対象物が基板であり、
    前記搬送手段の前記搬送方向の一方端部側に配置され、前記基板を処理する処理装置と、
    前記搬送手段の前記搬送方向の他方端部側に配置され、前記基板を収納する第1収納カセットと、
    前記基板を収納する第2収納カセットと、
    前記搬送手段と連続し、かつ、前記第1収納カセットの下部に配置され、前記第1収納カセットと前記搬送手段との間で前記基板を搬送する第1コンベアと、
    少なくとも前記第2収納カセットの下部に配置された第2コンベアと、
    前記第1及び第2当接部材、及び、前記第1乃至第3移動手段と共に、前記搬送手段の一部を、前記第2コンベアと連続する位置に移動する第4移動手段と、
    を備えたことを特徴とする請求項1に記載の搬送システム。
  9. 前記搬送対象物が基板であり、
    前記搬送手段の前記搬送方向の一方端部側に配置され、前記基板を処理する処理装置と、
    前記搬送手段の前記搬送方向の他方端部側に配置され、前記基板を収納する第1収納カセットと、
    前記第1収納カセットに対して、前記搬送方向と直交する方向に配置され、前記基板を収納する第2収納カセットと、
    前記搬送手段と連続し、かつ、前記第1収納カセットの下部に配置され、前記第1収納カセットと前記搬送手段との間で前記基板を搬送する第1コンベアと、
    少なくとも前記第2収納カセットの下部に配置された第2コンベアと、
    前記搬送手段の第1部分を、前記搬送方向と直交する方向に、前記第2コンベアと連続する位置に移動する第4移動手段と、
    前記搬送手段の前記第1部分と前記搬送方向に連続した、前記搬送手段の第2の部分を、前記搬送方向と直交する方向に、移動する第5移動手段と、
    を備え、
    前記第1部分及び前記第2部分にそれぞれ、前記第1及び第2当接部材、及び、前記第1乃至第3移動手段が設けられ、
    前記第4及び第5移動手段は、それぞれ、前記第1部分及び前記第2部分と共に、前記第1及び第2当接部材、及び、前記第1乃至第3移動手段を移動することを特徴とする請求項1に記載の搬送システム。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102795469B (zh) * 2012-08-31 2017-04-19 深圳烟草工业有限责任公司 烟包调头装置
JP5926403B2 (ja) 2012-12-25 2016-05-25 平田機工株式会社 搬送システム
JP6634882B2 (ja) * 2016-02-26 2020-01-22 株式会社リコー シート昇降機構、シート昇降機構を備える装置、シート分離供給装置及びシート回収装置
CN111792348B (zh) * 2020-05-22 2022-02-15 广东明和智能设备有限公司 一种平移机构及其定位方法
CN111994633B (zh) * 2020-08-17 2022-07-01 华辉玻璃(中国)有限公司 自动理片排板缓存系统
CN216511427U (zh) * 2020-11-19 2022-05-13 洛阳兰迪玻璃机器股份有限公司 玻璃下片系统、钢化玻璃生产线
CN112896894B (zh) * 2021-02-09 2022-10-21 深圳市海柔创新科技有限公司 货物运输方法、装置、流利货架、仓储系统及存储介质

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5941893B2 (ja) * 1978-05-12 1984-10-11 セントラル硝子株式会社 板状体の整列装置
JPS60118532A (ja) * 1983-11-30 1985-06-26 C Uyemura & Co Ltd 板状ワ−ク供給装置
JPH1111631A (ja) 1997-06-24 1999-01-19 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板搬送装置
JP2003327320A (ja) * 2002-05-14 2003-11-19 Japan Storage Battery Co Ltd 搬送装置
JP2004196482A (ja) * 2002-12-18 2004-07-15 Maruyasu Kikai Kk ローラコンベア
JP4629731B2 (ja) * 2005-06-22 2011-02-09 平田機工株式会社 ワーク搬送システム
JP4690414B2 (ja) * 2005-09-02 2011-06-01 平田機工株式会社 ワーク搬入出システム及び搬送装置
CN100529865C (zh) * 2005-09-21 2009-08-19 共和纸业株式会社 托盘和使用该托盘的薄型显示装置用基板的装运方法
JP4796128B2 (ja) * 2006-03-14 2011-10-19 平田機工株式会社 移載ロボット

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