WO2020100692A1 - 光透過性積層体、タッチセンサおよび画像表示装置 - Google Patents

光透過性積層体、タッチセンサおよび画像表示装置 Download PDF

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Abstract

光透過性フィルム１は、光透過性基材フィルム２と、光透過性導電層３とを厚み方向一方側に向かって順に備える。光透過性導電層３は、第１無機酸化物層４と、金属層５と、第２無機酸化物層とを厚み方向一方側に向かって順に備える。第２無機酸化物層６は、インジウムと亜鉛とを含有する第１領域３１と、亜鉛を含有しない第２領域３２とを厚み方向一方側に向かって順に有する。第１領域３１における、亜鉛のモル数が、インジウムのモル数より少ない。

Description

光透過性積層体、タッチセンサおよび画像表示装置
　本発明は、光透過性積層体、タッチセンサおよび画像表示装置に関する。
　従来、透明導電体フィルムは、タッチセンサなどの光学用途に用いられることが知られている。
　例えば、透明基板と、第１屈折率調整層群と、透明金属層と、第２屈折率調整層群とを順に有する透明導電体フィルムが提案されている（例えば、下記特許文献１参照。）。第１屈折率調整層群は、第１高屈折率層と、硫化防止層とを順に備える。第２屈折率調整層群は、第２高屈折率層と、第３高屈折率層とを順に備える。
　具体的には、特許文献１では、ポリエチレンテレフタレートからなる透明基板と、ＺｎＳＳｉＯ２からなる第１高屈折率層と、ＩＧＺＯからなる硫化防止層と、Ａｇからなる透明金属層と、ＩＧＺＯからなる第２高屈折率層と、ＩＴＯからなる第３高屈折率層とを順に備える透明導電体フィルムが開示されている。特許文献１の透明導電体フィルムでは、第１屈折率調整層群と、透明金属層と、第２屈折率調整層群とが、平面視において、いずれも同一の電極形状にパターンニングされている。
　特許文献１に記載の透明導電体フィルムでは、パターンニングされた透明金属層の端面におけるＡｇの腐食に起因する変色を、硫化防止層および第２高屈折率層に含有されるＺｎによって、抑制することができる。
特開２０１６－８１３１８号公報
　しかるに、透明導電体フィルムの電極には、高温高湿雰囲気下における抵抗の変化率が抑制されること、すなわち、優れた耐熱耐湿性が要求されている。
　しかし、特許文献１に記載の透明導電体フィルムでは、上記した要求を満足することができない。
　本発明は、金属層の変色を抑制できながら、光透過性導電層の耐熱耐湿性に優れる光透過性積層体、それを備えるタッチセンサおよび画像表示装置を提供する。
　本発明（１）は、光透過性部材と、光透過性導電層とを厚み方向一方側に向かって順に備え、前記光透過性導電層は、第１無機酸化物層と、金属層と、第２無機酸化物層とを厚み方向一方側に向かって順に備え、前記第２無機酸化物層は、インジウムと亜鉛とを含有する第１領域と、亜鉛を含有しない第２領域とを厚み方向一方側に向かって順に有し、前記第１領域における、亜鉛のモル数が、インジウムのモル数より少ない、光透過性積層体を含む。
　本発明（２）は、光透過性導電層と、転写用基材とを厚み方向一方側に向かって順に備え、前記光透過性導電層は、第１無機酸化物層と、金属層と、第２無機酸化物層とを厚み方向一方側に向かって順に備え、前記第２無機酸化物層は、インジウムと亜鉛とを含有する第１領域と、亜鉛を含有しない第２領域とを厚み方向一方側に向かって順に有し、前記第１領域における、亜鉛のモル数が、インジウムのモル数より少ない、光透過性積層体を含む。
　本発明（３）は、前記第１領域において、インジウム１００モルに対する亜鉛のモル数が、１０モル以上、３０モル以下である、（１）または（２）に記載の光透過性積層体を含む。
　本発明（４）は、前記第２領域の厚みの、前記第１領域の厚みに対する比が、０．３以上、５以下である、（１）～（３）のいずれか一項に記載の光透過性積層体を含む。
　本発明（５）は、前記第２領域は、インジウムとスズとを含有する、（１）～（４）のいずれか一項に記載の光透過性積層体を含む。
　本発明（６）は、前記第２領域は、インジウム－スズ酸化物を含有する、（１）～（５）のいずれか一項に記載の光透過性積層体を含む。
　本発明（７）は、前記第１領域は、インジウム－亜鉛酸化物を含有する、（１）～（６）のいずれか一項に記載の光透過性積層体を含む。
　本発明（８）は、前記第１無機酸化物層は、インジウムと亜鉛とを含有する、（１）～（７）のいずれか一項に記載の光透過性積層体を含む。
　本発明（９）は、前記第１無機酸化物層は、インジウム－亜鉛酸化物を含有する、（１）～（８）のいずれか一項に記載の光透過性積層体を含む。
　本発明（１０）は、前記金属層は、銀を含有する、（１）～（９）のいずれか一項に記載の光透過性積層体を含む。
　本発明（１１）は、前記光透過性導電層がパターンニングされている、（１）～（１０）のいずれか一項に記載の光透過性積層体を含む。
　本発明（１２）は、（１１）に記載の光透過性積層体を備える、タッチセンサを含む。
　本発明（１３）は、（１２）に記載のタッチセンサを備える、画像表示装置を含む。
　本発明の光透過性積層体では、金属層がパターンニングされて、その端面が露出して、金属層の材料が腐食する環境となっても、金属層に対応する第１領域に含有される亜鉛が、金属層の変色を抑制することができる。
　また、この光透過性積層体では、光透過性導電層が、インジウムと亜鉛とを含有する第１領域と、亜鉛を含有しない第２領域とを厚み方向一方側に向かって順に有し、第１領域における、亜鉛のモル数が、インジウムのモル数より少ない。
　そのため、第１領域に含まれる亜鉛と水との反応に起因する、光透過性導電層の抵抗の変化を、第２領域によって抑制することができる。
　その結果、この光透過性積層体では、金属層の変色を抑制できながら、光透過性導電層の耐熱耐湿性が優れる。
　本発明のタッチセンサおよび画像表示装置では、パターンニングされた金属層の変色を抑制できながら、パターンニングされた光透過性導電層の耐熱耐湿性が優れる。
図１は、本発明の光透過性積層体の一実施形態である光透過性フィルムの断面図を示す。 図２Ａ～図２Ｃは、図１に示す光透過性フィルムの光透過性導電層をパターニングして配線を形成する工程の断面図であり、図２Ａが、エッチングレジストを光透過性導電層に配置する工程、図２Ｂが、エッチングレジストから露出する光透過性導電層をエッチングしてパターンニングする工程、図２Ｃが、エッチングレジストを剥離して、第１感圧接着部材を介して光透過性保護部材を、光透過性フィルムに対して貼着する工程を示す。 図３は、図１に示す光透過性フィルムの変形例（保護層を備えない態様）の断面図を示す。 図４は、図１に示す光透過性フィルムの変形例（第１層および第２層の区画が不明瞭である態様）の断面図を示す。 図５Ａは、本発明の光透過性積層体の変形例の転写用基材付き光透過性導電層、および、保護層付き光透過性基材フィルムの断面図を示す。図５Ｂは、転写用基材付き光透過性導電層を、保護層付き光透過性基材フィルムに貼着する工程を示す。 図６Ａ～図６Ｅは、実施例の「配線の抵抗の変化」の評価を説明する平面図および断面図であって、図６Ａが、エッチングレジストを光透過性導電層に配置する平面図、図６Ｂが、エッチングレジストから露出する光透過性導電層をエッチングしてパターンニングし、エッチングレジストを剥離する平面図、図６Ｃが、第２感圧接着部材を配置する平面図、図６Ｄが、銀ペーストを配置する平面図、図６Ｅが、図６ＤのＸ－Ｘ線に沿う断面図を示す。
　　＜一実施形態＞
　本発明の光透過性積層体の一実施形態である光透過性フィルムを、図１を参照して説明する。
　図１に示すように、光透過性フィルム１は、厚み方向に対向する一方面および他方面を有しており、厚み方向に直交する面方向に延びる略フィルム（シート）形状を有する。
　光透過性フィルム１は、光透過性基材フィルム２と、保護層９と、光透過性導電層３とを厚み方向一方側に向かって順に備える。具体的には、光透過性フィルム１は、光透過性基材フィルム２と、その厚み方向一方面に配置される保護層９と、その厚み方向一方面に配置される光透過性導電層３とを備える。
　光透過性基材フィルム２は、透明基材フィルムであって、光透過性導電層３を保護層９を介して支持する。光透過性基材フィルム２は、厚み方向に対向する一方面および他方面を有しており、面方向に延びるフィルム形状を有する。
　光透過性基材フィルム２の材料は、光透過性（あるいは透明性）を有すれば、特に限定されない。光透過性基材フィルム２の材料としては、例えば、樹脂（ポリマーを含む）が挙げられる。樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル樹脂、例えば、ポリメタクリレートなどの（メタ）アクリル樹脂（アクリル樹脂および／またはメタクリル樹脂）、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）などのオレフィン樹脂、例えば、ポリカーボネート樹脂、例えば、ポリエーテルスルフォン樹脂、例えば、ポリアリレート樹脂、例えば、メラミン樹脂、例えば、ポリアミド樹脂、例えば、ポリイミド樹脂、例えば、セルロース樹脂、例えば、ポリスチレン樹脂、例えば、ノルボルネン樹脂などが挙げられる。これら樹脂は、単独使用または２種以上併用することができる。好ましくは、優れた機械特性を確保する観点から、ＰＥＴが挙げられる。また、好ましくは、優れた等方性を確保する観点から、ＣＯＰが挙げられる。
　光透過性基材フィルム２の全光線透過率（ＪＩＳ　Ｋ　７３７５－２００８）は、例えば、８０％以上、好ましくは、８５％以上である。
　光透過性基材フィルム２の厚みは、特に限定されず、例えば、２μｍ以上、好ましくは、２０μｍ以上であり、また、例えば、３００μｍ以下、好ましくは、２００μｍ以下である。光透過性基材フィルム２の厚みは、例えば、膜厚計を用いて測定される。
　保護層９は、光透過性保護層（あるいは透明保護層）であって、光透過性基材フィルム２の厚み方向一方面を保護する。具体的には、保護層９は、光透過性基材フィルム２の厚み方向一方面全面に配置されている。より具体的には、保護層９は、光透過性基材フィルム２の厚み方向一方面に接触している。保護層９は、面方向に延びるフィルム形状を有する。
　保護層９の材料は、光透過性（あるいは透明性）を有し、かつ、光透過性導電層３を保護できる材料であれば、特に限定されない。保護層９の材料として、例えば、樹脂が挙げられ、そのような樹脂としては、例えば、紫外線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂などの硬化性樹脂、例えば、熱可塑性樹脂などが挙げられ、好ましくは、硬化性樹脂が挙げられ、より好ましくは、紫外線硬化性樹脂が挙げられる。紫外線硬化性樹脂として、例えば、アクリル樹脂、シリコーン樹脂などが挙げられる。硬化性樹脂の性状は、好ましくは、硬化物（Ｃステージ状態）であって、保護層９を硬化樹脂層として構成する。
　保護層９の全光線透過率（ＪＩＳ　Ｋ　７３７５－２００８）は、例えば、８０％以上、好ましくは、８５％以上である。
　保護層９の厚みは、例えば、０．２μｍ以上、好ましくは、１μｍ以上であり、また、例えば、５０μｍ以下、好ましくは、１０μｍ以下である。保護層９の厚みの、光透過性基材フィルム２の厚みに対する比は、例えば、０．０１以上、好ましくは、０．０２以上であり、また、例えば、０．２以下、好ましくは、０．１以下である。保護層９の厚みは、透過型電子顕微鏡を用いた断面観察により測定される。後述する光透過性導電層３（金属層５、第１層７、第２層８のそれぞれ）の厚みは、保護層９と同様の方法により測定される。
　なお、保護層９および光透過性基材フィルム２は、それらを備える光透過性部材の一例としての保護層付光透過性基材フィルム１０を構成する。
　光透過性導電層３は、光透過性基材フィルム２の厚み方向一方側に保護層９を介して配置されている。具体的には、光透過性導電層３は、保護層９の厚み方向一方面全面に配置されている。より具体的には、光透過性導電層３は、保護層９の厚み方向一方面に接触している。光透過性導電層３は、面方向に延びるフィルム形状を有する。
　詳しくは、光透過性導電層３は、第１無機酸化物層４と、金属層５と、第２無機酸化物層６とを厚み方向一方側に向かって順に備える。
　第１無機酸化物層４は、光透過性導電層３の他方側部分に位置する。第１無機酸化物層４は、保護層９の厚み方向一方面全面に配置されている。より具体的には、第１無機酸化物層４は、保護層９の厚み方向一方面に接触している。第１無機酸化物層４は、面方向に延びるフィルム形状を有する。
　第１無機酸化物層４の材料は、無機酸化物であれば特に限定されず、例えば、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｓｂ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｚｒ、Ｍｇ、Ａｌ、Ａｕ、Ａｇ、Ｐｄ、Ｗからなる群より選択される少なくとも１種の金属を含む金属酸化物が挙げられ、好ましくは、上記群より選択される少なくとも２種の金属を含む金属酸化物が挙げられる。
　第１無機酸化物層４の材料として、光透過性導電層３の優れた光透過性（透明性）および導電性を確保しつつ、次に説明する金属層５の腐食に起因する変色を抑制する観点から、好ましくは、Ｉｎ（インジウム）およびＺｎ（亜鉛）を含む金属酸化物が挙げられ、より好ましくは、インジウム－亜鉛酸化物（ＩＺＯ）が挙げられる。ＩＺＯとしては、具体的には、酸化インジウムと酸化亜鉛との焼結体などが挙げられる。
　第１無機酸化物層４の材料が、ＩｎおよびＺｎを含む金属酸化物（具体的には、ＩＺＯ）である場合において、Ｚｎの、Ｉｎに対するモル比は、特に限定されず、好ましくは、後述する第１層７におけるモル比（インジウム１００モルに対する亜鉛のモル数が、例えば、２０モル以上、３０モル以下）と同様である。
　第１無機酸化物層４の厚みは、例えば、３ｎｍ以上、好ましくは、２０ｎｍ以上、より好ましくは、３０ｎｍ以上であり、また、例えば、１００ｎｍ以下、好ましくは、６０ｎｍ以下、より好ましくは、５０ｎｍ以下である。第１無機酸化物層４の厚みの、光透過性導電層３の厚みに対する割合（第１無機酸化物層４の厚み／光透過性導電層３の厚み）は、例えば、０．２以上、好ましくは、０．４以上であり、また、例えば、０．６以下、好ましくは、０．５以下である。
　金属層５は、第１無機酸化物層４および第２無機酸化物層６（具体的には、第１無機酸化物層４および第１層７、好ましくは、第１無機酸化物層４、第１層７および第２層８）とともに、光透過性導電層３に導電性を付与する導電層である。また、金属層５は、光透過性導電層３の比抵抗を低減する低比抵抗化層でもある。
　金属層５は、第１無機酸化物層４の厚み方向一方面全面に配置されている。具体的には、金属層５は、第１無機酸化物層４の厚み方向一方面に接触している。金属層５は、面方向に延びるフィルム形状を有する。
　金属層５の材料としては、特に限定されず、例えば、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｎｂ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｂ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ｇｅ、Ｒｕ、Ｎｄ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎａ、Ｗ、Ｚｒ、ＴａおよびＨｆからなる群から選択される１種の金属、または、２種以上の金属を含有する合金が挙げられる。金属層５の材料として、好ましくは、第１無機酸化物層４が含有する金属と異なる金属または合金が挙げられる。金属層５の材料として、より好ましくは、比抵抗を低減する観点から、銀を含有する金属（合金を含む）が挙げられ、さらに好ましくは、銀、銀合金が挙げられ、とりわけ好ましくは、銀合金が挙げられる。
　なお、銀を含有する金属は、後述するように、環境によっては、腐食し易く、そのため、金属層５に変色を生じ易い。しかし、この光透過性フィルム１では、金属層５に隣接する第１層７に含有される亜鉛（より具体的には、第１無機酸化物層４に好ましく含有される亜鉛、および、第１層７に含有される亜鉛）の擬制防食（後で詳述）によって、上記した変色を抑制することができる。
　銀合金は、銀を主成分として含有し、その他の金属を副成分として含有しており、その組成は限定されない。銀合金の組成としては、例えば、Ａｇ－Ｐｄ合金、Ａｇ－Ｐｄ－Ｃｕ合金、Ａｇ－Ｐｄ－Ｃｕ－Ｇｅ合金、Ａｇ－Ｃｕ－Ａｕ合金、Ａｇ－Ｃｕ合金、Ａｇ－Ｃｕ－Ｓｎ合金、Ａｇ－Ｒｕ－Ｃｕ合金、Ａｇ－Ｒｕ－Ａｕ合金、Ａｇ－Ｐｄ合金、Ａｇ－Ｎｄ合金、Ａｇ－Ｍｇ合金、Ａｇ－Ｃａ合金、Ａｇ－Ｎａ合金などが挙げられる。
　銀合金における銀の含有割合は、例えば、８０質量％以上、好ましくは、８５質量％以上、より好ましくは、９０質量％以上、さらに好ましくは、９５．０質量％以上であり、また、例えば、９９．９質量％以下である。銀合金におけるその他の金属の含有割合は、上記した銀の含有割合の残部である。
　金属層５の厚みは、例えば、１ｎｍ以上、好ましくは、５ｎｍ以上であり、また、例えば、３０ｎｍ以下、好ましくは、２０ｎｍ以下、より好ましくは、１０ｎｍ以下である。
金属層５の厚みの、第１無機酸化物層４の厚みに対する割合（金属層５の厚み／第１無機酸化物層４の厚み）は、例えば、０．０５以上、好ましくは、０．１以上であり、また、例えば、０．５以下、好ましくは、０．４以下である。
　第２無機酸化物層６は、金属層５の厚み方向一方面全面に配置されている。具体的には、第２無機酸化物層６は、金属層５の厚み方向一方面に接触している。第２無機酸化物層６は、面方向に延びるフィルム形状を有する。より具体的には、第２無機酸化物層６は、厚み方向に対向する一方面２１および他方面２２を有する。一方面２１および他方面２２は、厚み方向に間隔を隔てて配置されている。
　第２無機酸化物層６の他方面２２は、金属層５の厚み方向一方面に接触している。他方、第２無機酸化物層６の一方面２１は、厚み方向一方側に向かって露出している。
　そして、この第２無機酸化物層６は、他方面２２から厚み方向一方側に向かう第１領域３１に区画される第１層７、および、一方面２１から厚み方向他方側に向かう第２領域３２に区画される第２層８からなる。
　詳しくは、第２無機酸化物層６は、厚み方向他方側部分（他方側領域）に位置する第１層７と、厚み方向一方側部分（一方側領域）に位置する第２層８とのみを有する。
　また、第２無機酸化物層６では、厚み方向一方側に向かって第１層７および第２層８が順に区画されており、具体的には、第２無機酸化物層６は、第１層７および第２層８の間に形成される中間層などを有しない。つまり、第２無機酸化物層６は、第１層７と、第２層８とのみを厚み方向一方側に向かって順に備える。換言すれば、第２無機酸化物層６は、第１領域３１と、第２領域３２とのみを厚み方向一方側に向かって順に有する。
　第１層７は、金属層５の厚み方向一方面全面に配置されている。具体的には、第１層７は、金属層５の厚み方向一方面に接触している。第１層７は、面方向に延びるフィルム形状を有する。第１層７は、面方向にわたって、略同一の厚みを有する。第１層７は、第２無機酸化物層６の他方面２２を含む。なお、第１層７の一方面は、第２層８に接触している。
　第１層７の材料は、Ｉｎ（インジウム）およびＺｎ（亜鉛）を含有する。第１層７の材料として、具体的には、光透過性導電層３の優れた光透過性（透明性）および導電性を確保しつつ、金属層５の腐食に起因する変色を抑制する観点から、Ｉｎ（インジウム）およびＺｎ（亜鉛）を含む金属酸化物が挙げられ、好ましくは、インジウム－亜鉛酸化物（ＩＺＯ）が挙げられる。ＩＺＯとしては、具体的には、酸化インジウムと酸化亜鉛との焼結体などが挙げられる。
　そして、第１層７において、亜鉛のモル数は、インジウムのモル数より少ない。
　逆に、第１層７において、亜鉛のモル数が、インジウムのモル数より多いと、第１層７に含まれる亜鉛が水と反応して、水酸化亜鉛が生成されることを十分に抑制できず、そのため、光透過性導電層３の抵抗の変化を増大させてしまう。
　具体的には、第１層７において（具体的には、ＩｎおよびＺｎを含む金属酸化物中）、インジウム１００モルに対する亜鉛のモル数が、例えば、１００モル未満、好ましくは、７５モル以下、より好ましくは、５０モル以下、さらに好ましくは、４５モル以下、とりわけ好ましくは、４０モル以下、特に好ましくは、３５モル以下、最も好ましくは、３０モル以下であり、また、例えば、１モル以上、好ましくは、５モル以上、より好ましくは、１０モル以上、さらに好ましくは、１５モル以上、とりわけ好ましくは、１８モル以上、特に好ましくは、２０モル以上である。
　インジウム１００モルに対する亜鉛のモル数が上記した上限以下、下限以上であれば、金属層５の腐食に起因する変色を有効に抑制することができる。
　なお、インジウム１００モルに対する亜鉛のモル数は、第１層７を後述するスパッタリングで形成する場合には、上記したモル数が予め分かっているターゲットにおけるモル数をそのまま適用することができる。
　第１層７の厚みは、特に限定されず、例えば、３ｎｍ以上、好ましくは、８ｎｍ以上、さらに好ましくは、１０ｎｍ以上、とりわけ好ましくは、１２ｎｍ以上、最も好ましくは、１５ｎｍ以上であり、また、例えば、１００ｎｍ以下、好ましくは、６０ｎｍ以下、より好ましくは、５０ｎｍ以下である。第１層７の厚みの、第２無機酸化物層６の厚みに対する比は、例えば、０．２以上、好ましくは、０．３以上であり、また、例えば、０．９以下、好ましくは、０．８以下、より好ましくは、０．７以下、さらに好ましくは０．６以下である。なお、第１層７の厚みは、後述する第２層８との厚みの比（第２層８の厚み／第１層７の厚み）が所望の範囲となるように、調整される。
　第２層８は、光透過性導電層３の一方側部分に位置する。第２層８は、第１層７の厚み方向一方面全面に配置されている。具体的には、第２層８は、第１層７の厚み方向一方面に接触している。第２層８は、面方向に延びるフィルム形状を有する。第２層８は、面方向にわたって、略同一の厚みを有する。第２層８は、第２無機酸化物層６の一方面２１を含む。なお、第２層８の他方面は、第１層７に接触している。
　第２層８の材料は、亜鉛を含有しない。
　逆に、第２層８の材料が亜鉛を含有すれば、第２層８の亜鉛が、第１層７に含まれる亜鉛とともに、水と反応してしまい、水酸化亜鉛が生成されることを十分に抑制できず、そのため、光透過性導電層３の抵抗の変化を増大させてしまう。
　具体的には、第２層８の材料として、亜鉛を含有しない無機酸化物が挙げられ、好ましくは、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｇａ、Ｓｂ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｚｒ、Ｍｇ、Ａｌ、Ａｕ、Ａｇ、Ｐｄ、Ｗからなる群より選択される少なくとも１種の金属（Ｚｎを除く金属）を含む金属酸化物が挙げられ、好ましくは、上記群より選択される少なくとも２種の金属（Ｚｎを除く金属）を含む金属酸化物が挙げられる。
　第２層８の材料は、光透過性導電層３の優れた光透過性（透明性）および導電性を確保する観点から、好ましくは、Ｉｎ（インジウム）およびＳｎ（スズ）を含有し、具体的には、Ｉｎ（インジウム）およびＳｎ（スズ）を含む金属酸化物が挙げられ、より好ましくは、インジウム－スズ酸化物（ＩＴＯ）が挙げられる。ＩＴＯとしては、具体的には、酸化インジウムと酸化スズとの焼結体などが挙げられる。
　第２層８の材料がＩＴＯであれば、第１層７に含有される亜鉛に起因する光透過性導電層３の抵抗の変化率をより一層抑制することができる。
　ＩＴＯに含有される酸化スズ（ＳｎＯ２）の含有質量は、酸化スズおよび酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）の合計質量に対して、例えば、０．５質量％以上、好ましくは、３質量％以上、より好ましくは、６質量％以上、さらに好ましくは、８質量％以上、とりわけ好ましくは、１０質量％以上であり、また、例えば、３５質量％以下、好ましくは、２０質量％以下、より好ましくは、１５質量％以下、さらに好ましくは、１３質量％以下である。酸化インジウムの含有質量（Ｉｎ２Ｏ３）は、酸化スズ（ＳｎＯ２）の含有質量の残部である。
　第２層８の厚みは、例えば、５ｎｍ以上、好ましくは、８ｎｍ以上、さらに好ましくは、１０ｎｍ以上、とりわけ好ましくは、１２ｎｍ以上、最も好ましくは、１５ｎｍ以上であり、また、例えば、１００ｎｍ以下、好ましくは、６０ｎｍ以下、より好ましくは、５０ｎｍ以下である。
　第２層８の厚みの、第１層７の厚みに対する比（第２層８の厚み／第１層７の厚み）は、例えば、０．１以上、好ましくは、０．３以上、より好ましくは、０．６以上であり、また、例えば、１０以下、好ましくは、５以下、より好ましくは、２．５以下である。
　第２層８の厚みの、第１層７の厚みに対する比が上記した下限以上であれば、第１層７に含有される亜鉛に起因する光透過性導電層３の抵抗の変化率をより一層抑制することができる。
　第２層８の厚みの、第１層７の厚みに対する比が上記した上限以下であれば、配線２３（光透過性導電層３がパターンニングされたもの）の端面における金属層５の腐食に起因する変色を、第１層７に含有されるＺｎによって、有効に抑制することができる。
　第２無機酸化物層６の厚みは、第１層７の厚みおよび第２層８の厚みの合計であって、他方面２２および一方面２１間の距離である。第２無機酸化物層６の厚みの、光透過性導電層３の厚みに対する割合（第２無機酸化物層６の厚み／光透過性導電層３の厚み）は、例えば、０．２以上、好ましくは、０．４以上であり、また、例えば、０．６以下、好ましくは、０．５以下である。なお、第２無機酸化物層６の厚みは、第１無機酸化物層４の厚みと同様である。
　光透過性導電層３の全光線透過率（ＪＩＳ　Ｋ　７３７５－２００８）は、例えば、８０％以上、好ましくは、８５％以上である。
　光透過性導電層３の厚みは、例えば、４０ｎｍ以上、好ましくは、６０ｎｍ以上であり、また、例えば、１５０ｎｍ以下、好ましくは、１００ｎｍ以下である。
　次に、光透過性フィルム１の製造方法を説明する。
　この方法では、例えば、ロール－トゥ－ロール法が用いられる。
　この方法では、まず、光透過性基材フィルム２を準備し、続いて、光透過性基材フィルム２の厚み方向一方面に、保護層９、第１無機酸化物層４、金属層５、第１層７、および、第２層８を順に形成する。なお、ロール－トゥ－ロール法が用いられる場合には、ロール状の光透過性基材フィルム２（あるいは、光透過性基材フィルム２のロール）を準備し、これを長尺方向に操り出しながら、上記した各層を順に形成し、その後、ロール状の光透過性フィルム１（あるいは、光透過性フィルム１のロール）を得る。
　保護層９は、例えば、塗布などのウエット方式の層形成方法によって、形成される。具体的には、保護層９の材料を含有する樹脂組成物を光透過性基材フィルム２の厚み方向一方面に塗布し、その後、乾燥することにより、形成される。
　第１無機酸化物層４は、例えば、スパッタリングなどのドライ方式の薄膜形成方法によって、形成される。なお、第１無機酸化物層４をスパッタリングにより形成する際、光透過性基材フィルム２の他方面を冷却する。
　金属層５、第１層７および第２層８の形成方法は、上記した第１無機酸化物層４の形成方法と同様である。
　なお、保護層９、第１無機酸化物層４、金属層５、第１層７および第２層８のそれぞれについても、ロール－トゥ－ロール法で、形成することができる。
　なお、光透過性導電層３は、結晶化しても、あるいは、しなくてもよい。つまり、光透過性導電層３は、結晶化光透過性導電層および非晶光透過性導電層のいずれであってもよい。
　その後、図２Ｃに示すように、光透過性フィルム１がタッチセンサ２５に備えられる場合には、光透過性フィルム１における光透過性導電層３が、エッチングなどのパターンニングによって、配線２３に形成される。
　具体的には、図２Ａに示すように、ドライフィルムレジスト１５（仮想線）からエッチングレジスト１１を、光透過性導電層３の一方面２１に形成し、図２Ｂに示すように、次いで、エッチングレジスト１１から露出する光透過性導電層３を、エッチングによりパターンニングする。これにより、光透過性導電層３から、配線２３を形成する。配線２３の層構成は、光透過性導電層３のそれと同様である。その後、図２Ｃに示すように、エッチングレジスト１１を配線２３から剥離する。
　図２Ｃの仮想線で示すように、タッチセンサ２５は、配線２３を備える光透過性フィルム１と、第１感圧接着部材１６と、光透過性保護部材２６とを備える。
　第１感圧接着部材１６は、配線２３の一方面および側面と、配線２３から露出する光透過性基材フィルム２の一方面とを被覆する。第１感圧接着部材１６は、公知の感圧接着剤からなる第１感圧接着層２４を含む。
　光透過性保護部材２６は、第１感圧接着部材１６を介して、光透過性フィルム１に感圧接着されており、例えば、面方向に延びるカバーガラスなどが挙げられる。
　このタッチセンサ２５は、図示しない画像表示装置などに備えられる。
　そして、この光透過性フィルム１では、図２Ｃに示すように、配線２３における金属層５の端面が露出して、配線２３の材料が腐食する環境となっても、具体的には、金属層５の端面が第１感圧接着部材１６と接触し、第１感圧接着部材１６が設けられた光透過性フィルム１が高温高湿環境になっても、金属層５に隣接する第１層７に含有される亜鉛が、上記した材料（好ましくは、銀）よりも優先的に腐食する（犠牲防食する）ことができる。そのため、金属層５の腐食に起因する変色を抑制することができる。
　また、この光透過性フィルム１では、光透過性導電層３が、インジウムと亜鉛とを含有する第１領域３１に区画される第１層７と、亜鉛を含有しない第２領域３２に区画される第２領域３２とのみを厚み方向一方側に向かって順に有し、第１層７（第１領域３１）における、亜鉛のモル数が、インジウムのモル数より少ない。
　ここで、第１層７に含まれる亜鉛が水と反応すると、水酸化亜鉛が生成される。この水酸化亜鉛は、光透過性導電層３の抵抗の変化を増大させる要因となると推測される。また、上記した抵抗の変化の増大は、第１層７における、亜鉛のモル数が、インジウムのモル数以上であっても生じる。
　しかし、この一実施形態の光透過性フィルム１では、第２層８が、第１層７における水酸化亜鉛の生成を抑制でき、そのため、光透過性導電層３の抵抗の変化を抑制することができる。
　その結果、この光透過性フィルム１においては、配線２３（パターンニングされ光透過性導電層３）の腐食に起因する変色を抑制できながら、光透過性導電層３の耐熱耐湿性が優れる。
　また、タッチセンサ２５およびこれを備える画像表示装置（図示せず）では、配線２３の腐食に起因する変色を抑制できながら、上記した配線２３の耐熱耐湿性が優れる。
　　変形例
　次に、一実施形態の変形例を説明する。以下の各変形例において、上記した一実施形態と同様の部材および工程については、同一の参照符号を付し、その詳細な説明を省略する。また、各変形例を適宜組み合わせることができる。さらに、各変形例は、特記する以外、一実施形態と同様の作用効果を奏することができる。
　一実施形態では、図１に示すように、光透過性フィルム１が保護層９を備えるが、例えば、図示しないが、光学調整層、アンチブロッキング層、ハードコート層などの、保護層９以外の機能層を備えることができ、さらには、例えば、図３に示すように、保護層９を備えずに、光透過性フィルム１を構成することもできる。
　図３に示すように、この変形例の光透過性フィルム１は、光透過性基材フィルム２と、光透過性導電層３とを厚み方向一方側に向かって順に備える。具体的には、光透過性フィルム１は、好ましくは、光透過性基材フィルム２と、光透過性導電層３とのみを備える。
　光透過性導電層３は、光透過性基材フィルム２の厚み方向一方面に直接配置されている。具体的には、第１無機酸化物層４は、光透過性基材フィルム２の厚み方向一方面全面に接触している。
　一実施形態では、図１に示すように、第２無機酸化物層６は、第１層７および第２層８を備え、それらの界面が、例えば、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）による断面観察などによって明瞭に観察される。
　一方、第２無機酸化物層６は、図１に示す第１層７および第２層８を層として明確に有することなく、具体的には、図４に示すように、界面を有する２層を有することなく、第１領域３１と第２領域３２とのみを、それらの界面が明確に観察されずに、厚み方向一方側に向かって順に含むことができる。
　第１領域３１は、他方面２２を有する。第１領域３１を構成する材料は、第１層７の材料と同様である。
　第２領域３２は、一方面２１を有する。第２領域３２を構成する材料は、第２層８の材料と同様である。
　第１領域３１および第２領域３２は、Ｘ線光電子分光法による亜鉛（Ｚｎ）の有無によって、特定される。
　第２無機酸化物層６において、Ｚｎが存在する領域が第１領域３１であり、Ｚｎが存在しない領域が第２領域３２であり、Ｘ線光電子分光法に基づいて、第１領域３１および第２領域３２が特定され、それらの厚みが求められる。なお、第１領域３１の厚みは、第１層７の厚みと同様である。第２領域３２の厚みは、第２層８の厚みと同様である。さらには、第２領域３２の、第１領域３１の厚みに対する比は、上記した第２層８の厚みの、第１層７の厚みに対する比と同様である。
　上記した一実施形態では、光透過性フィルム１は、タッチセンサ２５に備えられて、タッチセンサ用として使用されるが、例えば、図示しないが、赤外線反射部材や電磁波シールド部材として使用することもできる。
　図５Ａに示すように、一実施形態の光透過性フィルム１の変形例の転写用基材付き光透過性導電層３０は、光透過性導電層３と、転写用基材２０とを、厚み方向一方側に向かって順に備える。
　透明導電層３は、例えば、図５Ａの実線で示すように、配線２３に予めパターンニングされている。
　転写用基材２０は、例えば、特開２０１９－３１０４１号公報などに記載される。なお、転写用基材２０は、光透過性を有しても、または、有しなくてもよい。また、転写用基材２０の厚み方向一方面に、図示しない剥離層を設けてもよい。
　図５Ａ矢印および図５Ｂに示すように、転写用基材付き光透過性導電層３０を、保護層付光透過性基材フィルム１０の厚み方向一方面に貼着する。このとき、光透過性導電層３の第１無機酸化物層４が、転写用基材２０の厚み方向一方面に接触する。
　その後、図５Ｂの矢印で示すように、転写用基材２０を光透過性導電層３から剥離する。剥離層がある場合には、剥離層および転写用基材２０を光透過性導電層３から剥離する。これにより、図１に示す光透過性フィルム１を製造する。
　なお、図５Ａの仮想線で示すように、まだパターンニングされていない光透過性導電層３を、保護層付光透過性基材フィルム１０への転写後に、パターンニングして、図２Ｃに示す配線２３を形成することもできる。
　一実施形態では、第２無機酸化物層６は、第１領域３１および第２領域３２のみを有するが、例えば、図示しないが、それらの間に別の成分の領域があってもよい。具体的には、第２無機酸化物層６は、第１層７および第２層８の間に、別の層を含んでもよい。
　以下に実施例および比較例を示し、本発明をさらに具体的に説明する。なお、本発明は、何ら実施例および比較例に限定されない。また、以下の記載において用いられる配合割合（割合）、物性値、パラメータなどの具体的数値は、上記の「発明を実施するための形態」において記載されている、それらに対応する配合割合（割合）、物性値、パラメータなど該当記載の上限（「以下」、「未満」として
定義されている数値）または下限（「以上」、「超過」として定義されている数値）に代替することができる。
　　実施例１
　　（光透過性基材フィルムの用意、および、保護層の形成）
　まず、長尺状ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムからなる光透過性基材フィルム２をロール状で用意した。
　次いで、光透過性基材フィルム２の厚み方向一方面に、アクリル樹脂からなる紫外線硬化性樹脂を含有する塗布液を塗布し、紫外線照射により硬化させることにより、硬化樹脂層から構成される保護層９を形成した。これにより、図１に示すように、光透過性基材フィルム２と、保護層９とを厚み方向一方側に向かって順に備える保護層付光透過性基材フィルム１０をロール状で得た。
　　（第１無機酸化物層の形成）
　次いで、保護層付光透過性基材フィルム１０を真空スパッタ装置に設置して静置し、未搬送時の気圧が４×１０－３Ｐａとなるまで真空排気した（脱ガス処理）。
　次いで、保護層付光透過性基材フィルム１０を長手方向に繰り出しながら、保護層９の厚み方向一方面に、スパッタリングにより、ＩＺＯからなる第１無機酸化物層４を形成した。
　具体的には、ＡｒおよびＯ２を導入した気圧０．２Ｐａの真空雰囲気下（流量比はＡｒ：Ｏ２＝１００：１．４）で、直流（ＤＣ）電源を用いて、酸化インジウムと酸化亜鉛との焼結体（モル比Ｉｎ：Ｚｎ＝１００：２１）からなるＩＺＯターゲットをスパッタリングした。
　なお、スパッタリングにより第１無機酸化物層４を形成するとき、保護層付光透過性基材フィルム１０の他方面（具体的には、光透過性基材フィルム２の他方面）を、－５℃の冷却ロールに接触させて、保護層付光透過性基材フィルム２を冷却した。
　　（金属層の形成）
　銀合金からなる金属層５を、スパッタリングにより、第１無機酸化物層４の厚み方向一方面に形成した。
　具体的には、Ａｒを導入した気圧０．４Ｐａの真空雰囲気で、電源として、直流（ＤＣ）電源を用い、Ａｇ合金ターゲット（三菱マテリアル社製、品番：「Ｎｏ．３１７」）をスパッタリングした。
　　（第１層の形成）
　ＩＺＯからなる第１層７を、金属層５の厚み方向一方面に、スパッタリングにより、形成した。
　具体的には、ＡｒおよびＯ２を導入した気圧０．２Ｐａの真空雰囲気下（流量比はＡｒ：Ｏ２＝１００：１．４）で、直流（ＤＣ）電源を用いて、酸化インジウムと酸化亜鉛との焼結体（モル比Ｉｎ：Ｚｎ＝１００：２１）からなるＩＺＯターゲットをスパッタリングした。
　　（第２層の形成）
　ＩＴＯからなる第２層８を、第１層７の厚み方向一方面に、スパッタリングにより、形成した。
　具体的には、ＡｒおよびＯ２を導入した気圧０．２Ｐａの真空雰囲気下（流量比はＡｒ：Ｏ２＝１００：１．４）で、直流（ＤＣ）電源を用いて、８８質量％の酸化インジウムと１２質量％の酸化スズとの焼結体からなるＩＴＯターゲットをスパッタリングした。
　これによって、第１領域３１に区画される第１層７、および、第２領域３２に区画される第２層８からなる第２無機酸化物層６を形成した。
　これによって、光透過性基材フィルム２の上に、順に、保護層９、第１無機酸化物層４、金属層５、第２無機酸化物層６が形成された光透過性フィルム１を得た。
　実施例２～実施例６
　表１に従って、第１層７および第２層８の厚みを変更した以外は、実施例１と同様に処理して、光透過性フィルム１を得た。
　　比較例１
　第１層７を形成しなかった以外は実施例６と同様にして光透過性フィルム１を得た。つまり、第２無機酸化物層６を、ＩＴＯからなり、Ｚｎを含有しない第２層８のみから形成した。なお、第２層８は、金属層５の一方面に接触している。
　　比較例２
　第２層８を形成しなかった以外は実施例６と同様にして光透過性フィルム１を得た。つまり、第２無機酸化物層６を、ＩｎおよびＺｎを含有するＩＺＯからなる第１層７のみから形成した。なお、第１層７の一方面は、厚み方向一方側に向かって露出している。
　　比較例３
　酸化インジウム、酸化ガリウムおよび酸化亜鉛の焼結体（モル比Ｉｎ：Ｇａ：Ｚｎ＝１００：１００：１００）からなるＩＧＺＯターゲットをスパッタリングすることで、ＩＧＺＯからなる第１層７を形成した以外は実施例６と同様にして光透過性フィルム１を得た。
　　（測定）
　各実施例および各比較例の光透過性フィルム１について、下記の事項を測定した。それらの結果を表１に記載する。
　（１）厚み
　保護層９、第１無機酸化物層４、金属層５、第１層７および第２層８のそれぞれの厚みを、透過型電子顕微鏡（日立製作所社製　Ｈ－７６５０）を用いた断面観察により測定した。
　また、光透過性基材フィルム２の厚みを、膜厚計（Ｐｅａｃｏｃｋ社製　デジタルダイアルゲージＤＧ－２０５）を用いて測定した。
　（２）光透過性導電層の腐食性（配線の腐食に起因する変色の評価）
　図２Ａの仮想線で示すように、感光性のドライフィルムレジスト１５（ＤＦＲ）（商品名「ＲＹ３３１０」、日立化成社製）を光透過性導電層３の厚み方向一方面全面に配置し、続いて、フォトマスク（図示せず）を介してドライフィルムレジスト１５を露光し、その後、現像することにより、図２Ａの実線で示すように、配線２３に対応するパターンを有するエッチングレジスト１１を形成した。その後、エッチングレジスト１１から露出する光透過性導電層３を、４０℃に加温したエッチング液（株式会社ＡＤＥＫＡ社製、アデカケルミカ　ＳＥＴ－５００）に３０秒浸漬してエッチングし、水洗して、図２Ｂに示すように、幅１００μｍのパターン状の（光透過性導電層３がパターンニングされた）配線２３を形成した。その後、２５℃、２．５質量％炭酸ナトリウム溶液に浸漬することで、図２Ｃの実線で示すように、エッチングレジスト１１を剥離し、水洗、乾燥した。
　次いで、一方面および他方面がセパレータ（図示せず）で被覆された第１感圧接着層２４（仮想線）を備える第１感圧接着部材１６（日東電工社製、品番：「ＣＳ９９０４Ｕ」）を準備し、次いで、一のセパレータ（図示せず）を第１感圧接着層２４の他方面から剥離した後、第１感圧接着層２４の他方面を、配線２３の厚み方向一方面および側面と、配線２３から露出する保護層９の一方面とを全て覆うように、貼り合わせた。
　続いて、第１感圧接着部材１６（第１感圧接着層２４）が貼り合わされた光透過性フィルム１を、８５℃、相対湿度８５％の環境で、５００時間暴露した。
　その後、配線２３の腐食性を評価を下記の方法で評価した。
　上記環境で暴露した後の光透過性フィルム１における配線２３を、長さ２ｃｍ間に渡って、光学顕微鏡で、厚み方向一方側から第１感圧接着層２４を介して観察し、配線２３の幅方向両端面からの腐食を下記の基準に従って評価した。
◎：配線２３の幅方向一端面から幅方向内側に向かって変色している幅と、幅方向他端面から幅方向内側に向かって変色している幅との合計幅が、２０μｍ以下。
〇：上記した変色の合計幅が、２０μｍ超過、３０μｍ以下。
×：上記した変色の合計幅が、３０μｍ超過。
　（３）配線の抵抗の変化（光透過性導電層の耐熱耐湿性）
　第２無機酸化物層６の一方面２１（光透過性導電層３の厚み方向一方面）に、図６Ａに示すように、長さ（長手方向長さ）６０ｍｍ、幅（幅方向長さ）６ｍｍのポリイミドからなるエッチングレジスト（マスキングテープ）１１を気泡やシワのないように貼付し、４０℃に加温したエッチング液（株式会社ＡＤＥＫＡ社製、アデカケルミカ　ＳＥＴ－５００）に３０秒浸漬後、水洗することで、光透過性導電層３においてエッチングレジスト１１から露出する部分をエッチングした。これにより、長さ６０ｍｍ、幅６ｍｍのパターン状の（光透過性導電層３がパターンニングされた）配線２３を形成した。その後、図６Ｂに示すように、エッチングレジスト１１を剥離して、再度水洗、乾燥させた。
　次いで、長さ４０ｍｍ、幅２０ｍｍであり、一方面および他方面がセパレータ（図示せず）で被覆された第２感圧接着層１７を備える第２感圧接着部材１２（日東電工社製、品番：「ＣＳ９９０４Ｕ」）を準備し、次いで、一のセパレータ（図示せず）を第２感圧接着層１７の他方面から剥離した後、第２感圧接着層１７の他方面を、上記した配線２３を被覆するように、図６Ｃに示すように、光透過性基材フィルム２の厚み方向一方面に張り合わせた。具体的には、配線２３の両端部１３（長さ１０ｍｍの部分）が第２感圧接着部材１２から露出するように、第２感圧接着部材１２を配線２３の長手方向中央部に貼付した。
　次いで、図６Ｄおよび図６Ｅに示すように、配線２３の両端部１３のそれぞれの厚み方向一方面に銀ペースト１４を塗布した。この時、銀ペースト１４を、両端部１３の側面（幅方向側面および長手方向側面）に至らないように、両端部１３の一方面２１のみに塗布した。その後、銀ペースト１４を、１３０℃で３０分加熱して、乾燥させた。このようにして、抵抗測定用検体を作成した。
　続いて、抵抗値テスターを用いて、両端部１３に対応する銀ペースト１４の間の抵抗（初期の抵抗Ｒ０）を測定した。
　その後、抵抗測定用検体を８５℃、相対湿度８５％の環境で、５００時間暴露し、この抵抗測定用検体の抵抗（抵抗Ｒ５００）を求めた。
　そして、暴露後の抵抗Ｒ５００の、初期の抵抗Ｒ０に対する比（Ｒ５００／Ｒ０）を求め、以下の基準により５段階（Ａ～Ｅ）で評価した。
Ａ：０．９５≦Ｒ５００／Ｒ０≦１．０５
Ｂ：０．８５≦Ｒ５００／Ｒ０＜０．９５、または、１．０５＜Ｒ５００／Ｒ０≦１．１５
Ｃ：０．８０≦Ｒ５００／Ｒ０＜０．８５、または、１．１５＜Ｒ５００／Ｒ０≦１．２０
Ｄ：０．７５≦Ｒ５００／Ｒ０＜０．８０、または、１．２０＜Ｒ５００／Ｒ０≦１．２５
Ｅ：０．７５＞Ｒ５００／Ｒ０、または、１．２５＜Ｒ５００／Ｒ０
　この評価では、評価Ａは配線２３（光透過性導電層３）の抵抗の変化率が小さく、耐熱耐湿性が最も優れることを意味する一方、評価Ｅは配線２３（光透過性導電層３）の抵抗の変化率が大きく、耐熱耐湿性が最も劣ることを意味する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　なお、上記発明は、本発明の例示の実施形態として提供したが、これは単なる例示に過ぎず、限定的に解釈してはならない。当該当技術分野の当業者によって明らかな本発明の変形例は、後記請求の範囲に含まれる。
　光透過性フィルムは、タッチセンサに備えられる。
１ 光透過性フィルム
２ 光透過性基材フィルム
３ 光透過性導電層
４ 第１無機酸化物層
５ 金属層
６ 第２無機酸化物層
７ 第１層
８ 第２層
１０ 保護層付光透過性基材フィルム
２０ 転写用基材
２５ タッチセンサ
３０ 転写用基材付き光透過性導電層
３１ 第１領域
３２ 第２領域

Claims (13)

  1. 　光透過性部材と、光透過性導電層とを厚み方向一方側に向かって順に備え、
    　前記光透過性導電層は、
    　第１無機酸化物層と、金属層と、第２無機酸化物層とを厚み方向一方側に向かって順に備え、
    　前記第２無機酸化物層は、
    　　インジウムと亜鉛とを含有する第１領域と、
    　　亜鉛を含有しない第２領域とを厚み方向一方側に向かって順に有し、
    　前記第１領域における、亜鉛のモル数が、インジウムのモル数より少ないことを特徴とする、光透過性積層体。
  2. 　光透過性導電層と、転写用基材とを厚み方向一方側に向かって順に備え、
    　前記光透過性導電層は、
    　第１無機酸化物層と、金属層と、第２無機酸化物層とを厚み方向一方側に向かって順に備え、
    　前記第２無機酸化物層は、
    　　インジウムと亜鉛とを含有する第１領域と、
    　　亜鉛を含有しない第２領域とを厚み方向一方側に向かって順に有し、
    　前記第１領域における、亜鉛のモル数が、インジウムのモル数より少ないことを特徴とする、光透過性積層体。
  3. 　前記第１領域において、インジウム１００モルに対する亜鉛のモル数が、１０モル以上、３０モル以下であることを特徴とする、請求項１に記載の光透過性積層体。
  4. 　前記第２領域の厚みの、前記第１領域の厚みに対する比が、０．３以上、５以下であることを特徴とする、請求項１に記載の光透過性積層体。
  5. 　前記第２領域は、インジウムとスズとを含有することを特徴とする、請求項１に記載の光透過性積層体。
  6. 　前記第２領域は、インジウム－スズ酸化物を含有することを特徴とする、請求項１に記載の光透過性積層体。
  7. 　前記第１領域は、インジウム－亜鉛酸化物を含有することを特徴とする、請求項１に記載の光透過性積層体。
  8. 　前記第１無機酸化物層は、インジウムと亜鉛とを含有することを特徴とする、請求項１に記載の光透過性積層体。
  9. 　前記第１無機酸化物層は、インジウム－亜鉛酸化物を含有することを特徴とする、請求項１に記載の光透過性積層体。
  10. 　前記金属層は、銀を含有することを特徴とする、請求項１に記載の光透過性積層体。
  11. 　前記光透過性導電層がパターンニングされていることを特徴とする、請求項１に記載の光透過性積層体。
  12. 　請求項１１に記載の光透過性積層体を備えることを特徴とする、タッチセンサ。
  13. 　請求項１２に記載のタッチセンサを備えることを特徴とする、画像表示装置。
     
     
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