JPWO2020100692A1 - 光透過性積層体、タッチセンサおよび画像表示装置 - Google Patents
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Abstract
光透過性フィルム1は、光透過性基材フィルム2と、光透過性導電層3とを厚み方向一方側に向かって順に備える。光透過性導電層3は、第1無機酸化物層4と、金属層5と、第2無機酸化物層とを厚み方向一方側に向かって順に備える。第2無機酸化物層6は、インジウムと亜鉛とを含有する第1領域31と、亜鉛を含有しない第2領域32とを厚み方向一方側に向かって順に有する。第1領域31における、亜鉛のモル数が、インジウムのモル数より少ない。
Description
本発明は、光透過性積層体、タッチセンサおよび画像表示装置に関する。
従来、透明導電体フィルムは、タッチセンサなどの光学用途に用いられることが知られている。
例えば、透明基板と、第1屈折率調整層群と、透明金属層と、第2屈折率調整層群とを順に有する透明導電体フィルムが提案されている(例えば、下記特許文献1参照。)。第1屈折率調整層群は、第1高屈折率層と、硫化防止層とを順に備える。第2屈折率調整層群は、第2高屈折率層と、第3高屈折率層とを順に備える。
具体的には、特許文献1では、ポリエチレンテレフタレートからなる透明基板と、ZnSSiO2からなる第1高屈折率層と、IGZOからなる硫化防止層と、Agからなる透明金属層と、IGZOからなる第2高屈折率層と、ITOからなる第3高屈折率層とを順に備える透明導電体フィルムが開示されている。特許文献1の透明導電体フィルムでは、第1屈折率調整層群と、透明金属層と、第2屈折率調整層群とが、平面視において、いずれも同一の電極形状にパターンニングされている。
特許文献1に記載の透明導電体フィルムでは、パターンニングされた透明金属層の端面におけるAgの腐食に起因する変色を、硫化防止層および第2高屈折率層に含有されるZnによって、抑制することができる。
しかるに、透明導電体フィルムの電極には、高温高湿雰囲気下における抵抗の変化率が抑制されること、すなわち、優れた耐熱耐湿性が要求されている。
しかし、特許文献1に記載の透明導電体フィルムでは、上記した要求を満足することができない。
本発明は、金属層の変色を抑制できながら、光透過性導電層の耐熱耐湿性に優れる光透過性積層体、それを備えるタッチセンサおよび画像表示装置を提供する。
本発明(1)は、光透過性部材と、光透過性導電層とを厚み方向一方側に向かって順に備え、前記光透過性導電層は、第1無機酸化物層と、金属層と、第2無機酸化物層とを厚み方向一方側に向かって順に備え、前記第2無機酸化物層は、インジウムと亜鉛とを含有する第1領域と、亜鉛を含有しない第2領域とを厚み方向一方側に向かって順に有し、前記第1領域における、亜鉛のモル数が、インジウムのモル数より少ない、光透過性積層体を含む。
本発明(2)は、光透過性導電層と、転写用基材とを厚み方向一方側に向かって順に備え、前記光透過性導電層は、第1無機酸化物層と、金属層と、第2無機酸化物層とを厚み方向一方側に向かって順に備え、前記第2無機酸化物層は、インジウムと亜鉛とを含有する第1領域と、亜鉛を含有しない第2領域とを厚み方向一方側に向かって順に有し、前記第1領域における、亜鉛のモル数が、インジウムのモル数より少ない、光透過性積層体を含む。
本発明(3)は、前記第1領域において、インジウム100モルに対する亜鉛のモル数が、10モル以上、30モル以下である、(1)または(2)に記載の光透過性積層体を含む。
本発明(4)は、前記第2領域の厚みの、前記第1領域の厚みに対する比が、0.3以上、5以下である、(1)〜(3)のいずれか一項に記載の光透過性積層体を含む。
本発明(5)は、前記第2領域は、インジウムとスズとを含有する、(1)〜(4)のいずれか一項に記載の光透過性積層体を含む。
本発明(6)は、前記第2領域は、インジウム−スズ酸化物を含有する、(1)〜(5)のいずれか一項に記載の光透過性積層体を含む。
本発明(7)は、前記第1領域は、インジウム−亜鉛酸化物を含有する、(1)〜(6)のいずれか一項に記載の光透過性積層体を含む。
本発明(8)は、前記第1無機酸化物層は、インジウムと亜鉛とを含有する、(1)〜(7)のいずれか一項に記載の光透過性積層体を含む。
本発明(9)は、前記第1無機酸化物層は、インジウム−亜鉛酸化物を含有する、(1)〜(8)のいずれか一項に記載の光透過性積層体を含む。
本発明(10)は、前記金属層は、銀を含有する、(1)〜(9)のいずれか一項に記載の光透過性積層体を含む。
本発明(11)は、前記光透過性導電層がパターンニングされている、(1)〜(10)のいずれか一項に記載の光透過性積層体を含む。
本発明(12)は、(11)に記載の光透過性積層体を備える、タッチセンサを含む。
本発明(13)は、(12)に記載のタッチセンサを備える、画像表示装置を含む。
本発明の光透過性積層体では、金属層がパターンニングされて、その端面が露出して、金属層の材料が腐食する環境となっても、金属層に対応する第1領域に含有される亜鉛が、金属層の変色を抑制することができる。
また、この光透過性積層体では、光透過性導電層が、インジウムと亜鉛とを含有する第1領域と、亜鉛を含有しない第2領域とを厚み方向一方側に向かって順に有し、第1領域における、亜鉛のモル数が、インジウムのモル数より少ない。
そのため、第1領域に含まれる亜鉛と水との反応に起因する、光透過性導電層の抵抗の変化を、第2領域によって抑制することができる。
その結果、この光透過性積層体では、金属層の変色を抑制できながら、光透過性導電層の耐熱耐湿性が優れる。
本発明のタッチセンサおよび画像表示装置では、パターンニングされた金属層の変色を抑制できながら、パターンニングされた光透過性導電層の耐熱耐湿性が優れる。
<一実施形態>
本発明の光透過性積層体の一実施形態である光透過性フィルムを、図1を参照して説明する。
本発明の光透過性積層体の一実施形態である光透過性フィルムを、図1を参照して説明する。
図1に示すように、光透過性フィルム1は、厚み方向に対向する一方面および他方面を有しており、厚み方向に直交する面方向に延びる略フィルム(シート)形状を有する。
光透過性フィルム1は、光透過性基材フィルム2と、保護層9と、光透過性導電層3とを厚み方向一方側に向かって順に備える。具体的には、光透過性フィルム1は、光透過性基材フィルム2と、その厚み方向一方面に配置される保護層9と、その厚み方向一方面に配置される光透過性導電層3とを備える。
光透過性基材フィルム2は、透明基材フィルムであって、光透過性導電層3を保護層9を介して支持する。光透過性基材フィルム2は、厚み方向に対向する一方面および他方面を有しており、面方向に延びるフィルム形状を有する。
光透過性基材フィルム2の材料は、光透過性(あるいは透明性)を有すれば、特に限定されない。光透過性基材フィルム2の材料としては、例えば、樹脂(ポリマーを含む)が挙げられる。樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル樹脂、例えば、ポリメタクリレートなどの(メタ)アクリル樹脂(アクリル樹脂および/またはメタクリル樹脂)、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、シクロオレフィンポリマー(COP)などのオレフィン樹脂、例えば、ポリカーボネート樹脂、例えば、ポリエーテルスルフォン樹脂、例えば、ポリアリレート樹脂、例えば、メラミン樹脂、例えば、ポリアミド樹脂、例えば、ポリイミド樹脂、例えば、セルロース樹脂、例えば、ポリスチレン樹脂、例えば、ノルボルネン樹脂などが挙げられる。これら樹脂は、単独使用または2種以上併用することができる。好ましくは、優れた機械特性を確保する観点から、PETが挙げられる。また、好ましくは、優れた等方性を確保する観点から、COPが挙げられる。
光透過性基材フィルム2の全光線透過率(JIS K 7375−2008)は、例えば、80%以上、好ましくは、85%以上である。
光透過性基材フィルム2の厚みは、特に限定されず、例えば、2μm以上、好ましくは、20μm以上であり、また、例えば、300μm以下、好ましくは、200μm以下である。光透過性基材フィルム2の厚みは、例えば、膜厚計を用いて測定される。
保護層9は、光透過性保護層(あるいは透明保護層)であって、光透過性基材フィルム2の厚み方向一方面を保護する。具体的には、保護層9は、光透過性基材フィルム2の厚み方向一方面全面に配置されている。より具体的には、保護層9は、光透過性基材フィルム2の厚み方向一方面に接触している。保護層9は、面方向に延びるフィルム形状を有する。
保護層9の材料は、光透過性(あるいは透明性)を有し、かつ、光透過性導電層3を保護できる材料であれば、特に限定されない。保護層9の材料として、例えば、樹脂が挙げられ、そのような樹脂としては、例えば、紫外線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂などの硬化性樹脂、例えば、熱可塑性樹脂などが挙げられ、好ましくは、硬化性樹脂が挙げられ、より好ましくは、紫外線硬化性樹脂が挙げられる。紫外線硬化性樹脂として、例えば、アクリル樹脂、シリコーン樹脂などが挙げられる。硬化性樹脂の性状は、好ましくは、硬化物(Cステージ状態)であって、保護層9を硬化樹脂層として構成する。
保護層9の全光線透過率(JIS K 7375−2008)は、例えば、80%以上、好ましくは、85%以上である。
保護層9の厚みは、例えば、0.2μm以上、好ましくは、1μm以上であり、また、例えば、50μm以下、好ましくは、10μm以下である。保護層9の厚みの、光透過性基材フィルム2の厚みに対する比は、例えば、0.01以上、好ましくは、0.02以上であり、また、例えば、0.2以下、好ましくは、0.1以下である。保護層9の厚みは、透過型電子顕微鏡を用いた断面観察により測定される。後述する光透過性導電層3(金属層5、第1層7、第2層8のそれぞれ)の厚みは、保護層9と同様の方法により測定される。
なお、保護層9および光透過性基材フィルム2は、それらを備える光透過性部材の一例としての保護層付光透過性基材フィルム10を構成する。
光透過性導電層3は、光透過性基材フィルム2の厚み方向一方側に保護層9を介して配置されている。具体的には、光透過性導電層3は、保護層9の厚み方向一方面全面に配置されている。より具体的には、光透過性導電層3は、保護層9の厚み方向一方面に接触している。光透過性導電層3は、面方向に延びるフィルム形状を有する。
詳しくは、光透過性導電層3は、第1無機酸化物層4と、金属層5と、第2無機酸化物層6とを厚み方向一方側に向かって順に備える。
第1無機酸化物層4は、光透過性導電層3の他方側部分に位置する。第1無機酸化物層4は、保護層9の厚み方向一方面全面に配置されている。より具体的には、第1無機酸化物層4は、保護層9の厚み方向一方面に接触している。第1無機酸化物層4は、面方向に延びるフィルム形状を有する。
第1無機酸化物層4の材料は、無機酸化物であれば特に限定されず、例えば、In、Sn、Zn、Ga、Sb、Ti、Si、Zr、Mg、Al、Au、Ag、Pd、Wからなる群より選択される少なくとも1種の金属を含む金属酸化物が挙げられ、好ましくは、上記群より選択される少なくとも2種の金属を含む金属酸化物が挙げられる。
第1無機酸化物層4の材料として、光透過性導電層3の優れた光透過性(透明性)および導電性を確保しつつ、次に説明する金属層5の腐食に起因する変色を抑制する観点から、好ましくは、In(インジウム)およびZn(亜鉛)を含む金属酸化物が挙げられ、より好ましくは、インジウム−亜鉛酸化物(IZO)が挙げられる。IZOとしては、具体的には、酸化インジウムと酸化亜鉛との焼結体などが挙げられる。
第1無機酸化物層4の材料が、InおよびZnを含む金属酸化物(具体的には、IZO)である場合において、Znの、Inに対するモル比は、特に限定されず、好ましくは、後述する第1層7におけるモル比(インジウム100モルに対する亜鉛のモル数が、例えば、20モル以上、30モル以下)と同様である。
第1無機酸化物層4の厚みは、例えば、3nm以上、好ましくは、20nm以上、より好ましくは、30nm以上であり、また、例えば、100nm以下、好ましくは、60nm以下、より好ましくは、50nm以下である。第1無機酸化物層4の厚みの、光透過性導電層3の厚みに対する割合(第1無機酸化物層4の厚み/光透過性導電層3の厚み)は、例えば、0.2以上、好ましくは、0.4以上であり、また、例えば、0.6以下、好ましくは、0.5以下である。
金属層5は、第1無機酸化物層4および第2無機酸化物層6(具体的には、第1無機酸化物層4および第1層7、好ましくは、第1無機酸化物層4、第1層7および第2層8)とともに、光透過性導電層3に導電性を付与する導電層である。また、金属層5は、光透過性導電層3の比抵抗を低減する低比抵抗化層でもある。
金属層5は、第1無機酸化物層4の厚み方向一方面全面に配置されている。具体的には、金属層5は、第1無機酸化物層4の厚み方向一方面に接触している。金属層5は、面方向に延びるフィルム形状を有する。
金属層5の材料としては、特に限定されず、例えば、Ti、Si、Nb、In、Sn、Au、Ag、Cu、Al、Co、Cr、Ni、Pb、Pd、Pt、Cu、Ge、Ru、Nd、Mg、Ca、Na、W、Zr、TaおよびHfからなる群から選択される1種の金属、または、2種以上の金属を含有する合金が挙げられる。金属層5の材料として、好ましくは、第1無機酸化物層4が含有する金属と異なる金属または合金が挙げられる。金属層5の材料として、より好ましくは、比抵抗を低減する観点から、銀を含有する金属(合金を含む)が挙げられ、さらに好ましくは、銀、銀合金が挙げられ、とりわけ好ましくは、銀合金が挙げられる。
なお、銀を含有する金属は、後述するように、環境によっては、腐食し易く、そのため、金属層5に変色を生じ易い。しかし、この光透過性フィルム1では、金属層5に隣接する第1層7に含有される亜鉛(より具体的には、第1無機酸化物層4に好ましく含有される亜鉛、および、第1層7に含有される亜鉛)の擬制防食(後で詳述)によって、上記した変色を抑制することができる。
銀合金は、銀を主成分として含有し、その他の金属を副成分として含有しており、その組成は限定されない。銀合金の組成としては、例えば、Ag−Pd合金、Ag−Pd−Cu合金、Ag−Pd−Cu−Ge合金、Ag−Cu−Au合金、Ag−Cu合金、Ag−Cu−Sn合金、Ag−Ru−Cu合金、Ag−Ru−Au合金、Ag−Pd合金、Ag−Nd合金、Ag−Mg合金、Ag−Ca合金、Ag−Na合金などが挙げられる。
銀合金における銀の含有割合は、例えば、80質量%以上、好ましくは、85質量%以上、より好ましくは、90質量%以上、さらに好ましくは、95.0質量%以上であり、また、例えば、99.9質量%以下である。銀合金におけるその他の金属の含有割合は、上記した銀の含有割合の残部である。
金属層5の厚みは、例えば、1nm以上、好ましくは、5nm以上であり、また、例えば、30nm以下、好ましくは、20nm以下、より好ましくは、10nm以下である。
金属層5の厚みの、第1無機酸化物層4の厚みに対する割合(金属層5の厚み/第1無機酸化物層4の厚み)は、例えば、0.05以上、好ましくは、0.1以上であり、また、例えば、0.5以下、好ましくは、0.4以下である。
金属層5の厚みの、第1無機酸化物層4の厚みに対する割合(金属層5の厚み/第1無機酸化物層4の厚み)は、例えば、0.05以上、好ましくは、0.1以上であり、また、例えば、0.5以下、好ましくは、0.4以下である。
第2無機酸化物層6は、金属層5の厚み方向一方面全面に配置されている。具体的には、第2無機酸化物層6は、金属層5の厚み方向一方面に接触している。第2無機酸化物層6は、面方向に延びるフィルム形状を有する。より具体的には、第2無機酸化物層6は、厚み方向に対向する一方面21および他方面22を有する。一方面21および他方面22は、厚み方向に間隔を隔てて配置されている。
第2無機酸化物層6の他方面22は、金属層5の厚み方向一方面に接触している。他方、第2無機酸化物層6の一方面21は、厚み方向一方側に向かって露出している。
そして、この第2無機酸化物層6は、他方面22から厚み方向一方側に向かう第1領域31に区画される第1層7、および、一方面21から厚み方向他方側に向かう第2領域32に区画される第2層8からなる。
詳しくは、第2無機酸化物層6は、厚み方向他方側部分(他方側領域)に位置する第1層7と、厚み方向一方側部分(一方側領域)に位置する第2層8とのみを有する。
また、第2無機酸化物層6では、厚み方向一方側に向かって第1層7および第2層8が順に区画されており、具体的には、第2無機酸化物層6は、第1層7および第2層8の間に形成される中間層などを有しない。つまり、第2無機酸化物層6は、第1層7と、第2層8とのみを厚み方向一方側に向かって順に備える。換言すれば、第2無機酸化物層6は、第1領域31と、第2領域32とのみを厚み方向一方側に向かって順に有する。
第1層7は、金属層5の厚み方向一方面全面に配置されている。具体的には、第1層7は、金属層5の厚み方向一方面に接触している。第1層7は、面方向に延びるフィルム形状を有する。第1層7は、面方向にわたって、略同一の厚みを有する。第1層7は、第2無機酸化物層6の他方面22を含む。なお、第1層7の一方面は、第2層8に接触している。
第1層7の材料は、In(インジウム)およびZn(亜鉛)を含有する。第1層7の材料として、具体的には、光透過性導電層3の優れた光透過性(透明性)および導電性を確保しつつ、金属層5の腐食に起因する変色を抑制する観点から、In(インジウム)およびZn(亜鉛)を含む金属酸化物が挙げられ、好ましくは、インジウム−亜鉛酸化物(IZO)が挙げられる。IZOとしては、具体的には、酸化インジウムと酸化亜鉛との焼結体などが挙げられる。
そして、第1層7において、亜鉛のモル数は、インジウムのモル数より少ない。
逆に、第1層7において、亜鉛のモル数が、インジウムのモル数より多いと、第1層7に含まれる亜鉛が水と反応して、水酸化亜鉛が生成されることを十分に抑制できず、そのため、光透過性導電層3の抵抗の変化を増大させてしまう。
具体的には、第1層7において(具体的には、InおよびZnを含む金属酸化物中)、インジウム100モルに対する亜鉛のモル数が、例えば、100モル未満、好ましくは、75モル以下、より好ましくは、50モル以下、さらに好ましくは、45モル以下、とりわけ好ましくは、40モル以下、特に好ましくは、35モル以下、最も好ましくは、30モル以下であり、また、例えば、1モル以上、好ましくは、5モル以上、より好ましくは、10モル以上、さらに好ましくは、15モル以上、とりわけ好ましくは、18モル以上、特に好ましくは、20モル以上である。
インジウム100モルに対する亜鉛のモル数が上記した上限以下、下限以上であれば、金属層5の腐食に起因する変色を有効に抑制することができる。
なお、インジウム100モルに対する亜鉛のモル数は、第1層7を後述するスパッタリングで形成する場合には、上記したモル数が予め分かっているターゲットにおけるモル数をそのまま適用することができる。
第1層7の厚みは、特に限定されず、例えば、3nm以上、好ましくは、8nm以上、さらに好ましくは、10nm以上、とりわけ好ましくは、12nm以上、最も好ましくは、15nm以上であり、また、例えば、100nm以下、好ましくは、60nm以下、より好ましくは、50nm以下である。第1層7の厚みの、第2無機酸化物層6の厚みに対する比は、例えば、0.2以上、好ましくは、0.3以上であり、また、例えば、0.9以下、好ましくは、0.8以下、より好ましくは、0.7以下、さらに好ましくは0.6以下である。なお、第1層7の厚みは、後述する第2層8との厚みの比(第2層8の厚み/第1層7の厚み)が所望の範囲となるように、調整される。
第2層8は、光透過性導電層3の一方側部分に位置する。第2層8は、第1層7の厚み方向一方面全面に配置されている。具体的には、第2層8は、第1層7の厚み方向一方面に接触している。第2層8は、面方向に延びるフィルム形状を有する。第2層8は、面方向にわたって、略同一の厚みを有する。第2層8は、第2無機酸化物層6の一方面21を含む。なお、第2層8の他方面は、第1層7に接触している。
第2層8の材料は、亜鉛を含有しない。
逆に、第2層8の材料が亜鉛を含有すれば、第2層8の亜鉛が、第1層7に含まれる亜鉛とともに、水と反応してしまい、水酸化亜鉛が生成されることを十分に抑制できず、そのため、光透過性導電層3の抵抗の変化を増大させてしまう。
具体的には、第2層8の材料として、亜鉛を含有しない無機酸化物が挙げられ、好ましくは、In、Sn、Ga、Sb、Ti、Si、Zr、Mg、Al、Au、Ag、Pd、Wからなる群より選択される少なくとも1種の金属(Znを除く金属)を含む金属酸化物が挙げられ、好ましくは、上記群より選択される少なくとも2種の金属(Znを除く金属)を含む金属酸化物が挙げられる。
第2層8の材料は、光透過性導電層3の優れた光透過性(透明性)および導電性を確保する観点から、好ましくは、In(インジウム)およびSn(スズ)を含有し、具体的には、In(インジウム)およびSn(スズ)を含む金属酸化物が挙げられ、より好ましくは、インジウム−スズ酸化物(ITO)が挙げられる。ITOとしては、具体的には、酸化インジウムと酸化スズとの焼結体などが挙げられる。
第2層8の材料がITOであれば、第1層7に含有される亜鉛に起因する光透過性導電層3の抵抗の変化率をより一層抑制することができる。
ITOに含有される酸化スズ(SnO2)の含有質量は、酸化スズおよび酸化インジウム(In2O3)の合計質量に対して、例えば、0.5質量%以上、好ましくは、3質量%以上、より好ましくは、6質量%以上、さらに好ましくは、8質量%以上、とりわけ好ましくは、10質量%以上であり、また、例えば、35質量%以下、好ましくは、20質量%以下、より好ましくは、15質量%以下、さらに好ましくは、13質量%以下である。酸化インジウムの含有質量(In2O3)は、酸化スズ(SnO2)の含有質量の残部である。
第2層8の厚みは、例えば、5nm以上、好ましくは、8nm以上、さらに好ましくは、10nm以上、とりわけ好ましくは、12nm以上、最も好ましくは、15nm以上であり、また、例えば、100nm以下、好ましくは、60nm以下、より好ましくは、50nm以下である。
第2層8の厚みの、第1層7の厚みに対する比(第2層8の厚み/第1層7の厚み)は、例えば、0.1以上、好ましくは、0.3以上、より好ましくは、0.6以上であり、また、例えば、10以下、好ましくは、5以下、より好ましくは、2.5以下である。
第2層8の厚みの、第1層7の厚みに対する比が上記した下限以上であれば、第1層7に含有される亜鉛に起因する光透過性導電層3の抵抗の変化率をより一層抑制することができる。
第2層8の厚みの、第1層7の厚みに対する比が上記した上限以下であれば、配線23(光透過性導電層3がパターンニングされたもの)の端面における金属層5の腐食に起因する変色を、第1層7に含有されるZnによって、有効に抑制することができる。
第2無機酸化物層6の厚みは、第1層7の厚みおよび第2層8の厚みの合計であって、他方面22および一方面21間の距離である。第2無機酸化物層6の厚みの、光透過性導電層3の厚みに対する割合(第2無機酸化物層6の厚み/光透過性導電層3の厚み)は、例えば、0.2以上、好ましくは、0.4以上であり、また、例えば、0.6以下、好ましくは、0.5以下である。なお、第2無機酸化物層6の厚みは、第1無機酸化物層4の厚みと同様である。
光透過性導電層3の全光線透過率(JIS K 7375−2008)は、例えば、80%以上、好ましくは、85%以上である。
光透過性導電層3の厚みは、例えば、40nm以上、好ましくは、60nm以上であり、また、例えば、150nm以下、好ましくは、100nm以下である。
次に、光透過性フィルム1の製造方法を説明する。
この方法では、例えば、ロール−トゥ−ロール法が用いられる。
この方法では、まず、光透過性基材フィルム2を準備し、続いて、光透過性基材フィルム2の厚み方向一方面に、保護層9、第1無機酸化物層4、金属層5、第1層7、および、第2層8を順に形成する。なお、ロール−トゥ−ロール法が用いられる場合には、ロール状の光透過性基材フィルム2(あるいは、光透過性基材フィルム2のロール)を準備し、これを長尺方向に操り出しながら、上記した各層を順に形成し、その後、ロール状の光透過性フィルム1(あるいは、光透過性フィルム1のロール)を得る。
保護層9は、例えば、塗布などのウエット方式の層形成方法によって、形成される。具体的には、保護層9の材料を含有する樹脂組成物を光透過性基材フィルム2の厚み方向一方面に塗布し、その後、乾燥することにより、形成される。
第1無機酸化物層4は、例えば、スパッタリングなどのドライ方式の薄膜形成方法によって、形成される。なお、第1無機酸化物層4をスパッタリングにより形成する際、光透過性基材フィルム2の他方面を冷却する。
金属層5、第1層7および第2層8の形成方法は、上記した第1無機酸化物層4の形成方法と同様である。
なお、保護層9、第1無機酸化物層4、金属層5、第1層7および第2層8のそれぞれについても、ロール−トゥ−ロール法で、形成することができる。
なお、光透過性導電層3は、結晶化しても、あるいは、しなくてもよい。つまり、光透過性導電層3は、結晶化光透過性導電層および非晶光透過性導電層のいずれであってもよい。
その後、図2Cに示すように、光透過性フィルム1がタッチセンサ25に備えられる場合には、光透過性フィルム1における光透過性導電層3が、エッチングなどのパターンニングによって、配線23に形成される。
具体的には、図2Aに示すように、ドライフィルムレジスト15(仮想線)からエッチングレジスト11を、光透過性導電層3の一方面21に形成し、図2Bに示すように、次いで、エッチングレジスト11から露出する光透過性導電層3を、エッチングによりパターンニングする。これにより、光透過性導電層3から、配線23を形成する。配線23の層構成は、光透過性導電層3のそれと同様である。その後、図2Cに示すように、エッチングレジスト11を配線23から剥離する。
図2Cの仮想線で示すように、タッチセンサ25は、配線23を備える光透過性フィルム1と、第1感圧接着部材16と、光透過性保護部材26とを備える。
第1感圧接着部材16は、配線23の一方面および側面と、配線23から露出する光透過性基材フィルム2の一方面とを被覆する。第1感圧接着部材16は、公知の感圧接着剤からなる第1感圧接着層24を含む。
光透過性保護部材26は、第1感圧接着部材16を介して、光透過性フィルム1に感圧接着されており、例えば、面方向に延びるカバーガラスなどが挙げられる。
このタッチセンサ25は、図示しない画像表示装置などに備えられる。
そして、この光透過性フィルム1では、図2Cに示すように、配線23における金属層5の端面が露出して、配線23の材料が腐食する環境となっても、具体的には、金属層5の端面が第1感圧接着部材16と接触し、第1感圧接着部材16が設けられた光透過性フィルム1が高温高湿環境になっても、金属層5に隣接する第1層7に含有される亜鉛が、上記した材料(好ましくは、銀)よりも優先的に腐食する(犠牲防食する)ことができる。そのため、金属層5の腐食に起因する変色を抑制することができる。
また、この光透過性フィルム1では、光透過性導電層3が、インジウムと亜鉛とを含有する第1領域31に区画される第1層7と、亜鉛を含有しない第2領域32に区画される第2領域32とのみを厚み方向一方側に向かって順に有し、第1層7(第1領域31)における、亜鉛のモル数が、インジウムのモル数より少ない。
ここで、第1層7に含まれる亜鉛が水と反応すると、水酸化亜鉛が生成される。この水酸化亜鉛は、光透過性導電層3の抵抗の変化を増大させる要因となると推測される。また、上記した抵抗の変化の増大は、第1層7における、亜鉛のモル数が、インジウムのモル数以上であっても生じる。
しかし、この一実施形態の光透過性フィルム1では、第2層8が、第1層7における水酸化亜鉛の生成を抑制でき、そのため、光透過性導電層3の抵抗の変化を抑制することができる。
その結果、この光透過性フィルム1においては、配線23(パターンニングされ光透過性導電層3)の腐食に起因する変色を抑制できながら、光透過性導電層3の耐熱耐湿性が優れる。
また、タッチセンサ25およびこれを備える画像表示装置(図示せず)では、配線23の腐食に起因する変色を抑制できながら、上記した配線23の耐熱耐湿性が優れる。
変形例
次に、一実施形態の変形例を説明する。以下の各変形例において、上記した一実施形態と同様の部材および工程については、同一の参照符号を付し、その詳細な説明を省略する。また、各変形例を適宜組み合わせることができる。さらに、各変形例は、特記する以外、一実施形態と同様の作用効果を奏することができる。
次に、一実施形態の変形例を説明する。以下の各変形例において、上記した一実施形態と同様の部材および工程については、同一の参照符号を付し、その詳細な説明を省略する。また、各変形例を適宜組み合わせることができる。さらに、各変形例は、特記する以外、一実施形態と同様の作用効果を奏することができる。
一実施形態では、図1に示すように、光透過性フィルム1が保護層9を備えるが、例えば、図示しないが、光学調整層、アンチブロッキング層、ハードコート層などの、保護層9以外の機能層を備えることができ、さらには、例えば、図3に示すように、保護層9を備えずに、光透過性フィルム1を構成することもできる。
図3に示すように、この変形例の光透過性フィルム1は、光透過性基材フィルム2と、光透過性導電層3とを厚み方向一方側に向かって順に備える。具体的には、光透過性フィルム1は、好ましくは、光透過性基材フィルム2と、光透過性導電層3とのみを備える。
光透過性導電層3は、光透過性基材フィルム2の厚み方向一方面に直接配置されている。具体的には、第1無機酸化物層4は、光透過性基材フィルム2の厚み方向一方面全面に接触している。
一実施形態では、図1に示すように、第2無機酸化物層6は、第1層7および第2層8を備え、それらの界面が、例えば、透過型電子顕微鏡(TEM)による断面観察などによって明瞭に観察される。
一方、第2無機酸化物層6は、図1に示す第1層7および第2層8を層として明確に有することなく、具体的には、図4に示すように、界面を有する2層を有することなく、第1領域31と第2領域32とのみを、それらの界面が明確に観察されずに、厚み方向一方側に向かって順に含むことができる。
第1領域31は、他方面22を有する。第1領域31を構成する材料は、第1層7の材料と同様である。
第2領域32は、一方面21を有する。第2領域32を構成する材料は、第2層8の材料と同様である。
第1領域31および第2領域32は、X線光電子分光法による亜鉛(Zn)の有無によって、特定される。
第2無機酸化物層6において、Znが存在する領域が第1領域31であり、Znが存在しない領域が第2領域32であり、X線光電子分光法に基づいて、第1領域31および第2領域32が特定され、それらの厚みが求められる。なお、第1領域31の厚みは、第1層7の厚みと同様である。第2領域32の厚みは、第2層8の厚みと同様である。さらには、第2領域32の、第1領域31の厚みに対する比は、上記した第2層8の厚みの、第1層7の厚みに対する比と同様である。
上記した一実施形態では、光透過性フィルム1は、タッチセンサ25に備えられて、タッチセンサ用として使用されるが、例えば、図示しないが、赤外線反射部材や電磁波シールド部材として使用することもできる。
図5Aに示すように、一実施形態の光透過性フィルム1の変形例の転写用基材付き光透過性導電層30は、光透過性導電層3と、転写用基材20とを、厚み方向一方側に向かって順に備える。
透明導電層3は、例えば、図5Aの実線で示すように、配線23に予めパターンニングされている。
転写用基材20は、例えば、特開2019−31041号公報などに記載される。なお、転写用基材20は、光透過性を有しても、または、有しなくてもよい。また、転写用基材20の厚み方向一方面に、図示しない剥離層を設けてもよい。
図5A矢印および図5Bに示すように、転写用基材付き光透過性導電層30を、保護層付光透過性基材フィルム10の厚み方向一方面に貼着する。このとき、光透過性導電層3の第1無機酸化物層4が、転写用基材20の厚み方向一方面に接触する。
その後、図5Bの矢印で示すように、転写用基材20を光透過性導電層3から剥離する。剥離層がある場合には、剥離層および転写用基材20を光透過性導電層3から剥離する。これにより、図1に示す光透過性フィルム1を製造する。
なお、図5Aの仮想線で示すように、まだパターンニングされていない光透過性導電層3を、保護層付光透過性基材フィルム10への転写後に、パターンニングして、図2Cに示す配線23を形成することもできる。
一実施形態では、第2無機酸化物層6は、第1領域31および第2領域32のみを有するが、例えば、図示しないが、それらの間に別の成分の領域があってもよい。具体的には、第2無機酸化物層6は、第1層7および第2層8の間に、別の層を含んでもよい。
以下に実施例および比較例を示し、本発明をさらに具体的に説明する。なお、本発明は、何ら実施例および比較例に限定されない。また、以下の記載において用いられる配合割合(割合)、物性値、パラメータなどの具体的数値は、上記の「発明を実施するための形態」において記載されている、それらに対応する配合割合(割合)、物性値、パラメータなど該当記載の上限(「以下」、「未満」として
定義されている数値)または下限(「以上」、「超過」として定義されている数値)に代替することができる。
実施例1
(光透過性基材フィルムの用意、および、保護層の形成)
まず、長尺状ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムからなる光透過性基材フィルム2をロール状で用意した。
(光透過性基材フィルムの用意、および、保護層の形成)
まず、長尺状ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムからなる光透過性基材フィルム2をロール状で用意した。
次いで、光透過性基材フィルム2の厚み方向一方面に、アクリル樹脂からなる紫外線硬化性樹脂を含有する塗布液を塗布し、紫外線照射により硬化させることにより、硬化樹脂層から構成される保護層9を形成した。これにより、図1に示すように、光透過性基材フィルム2と、保護層9とを厚み方向一方側に向かって順に備える保護層付光透過性基材フィルム10をロール状で得た。
(第1無機酸化物層の形成)
次いで、保護層付光透過性基材フィルム10を真空スパッタ装置に設置して静置し、未搬送時の気圧が4×10−3Paとなるまで真空排気した(脱ガス処理)。
次いで、保護層付光透過性基材フィルム10を真空スパッタ装置に設置して静置し、未搬送時の気圧が4×10−3Paとなるまで真空排気した(脱ガス処理)。
次いで、保護層付光透過性基材フィルム10を長手方向に繰り出しながら、保護層9の厚み方向一方面に、スパッタリングにより、IZOからなる第1無機酸化物層4を形成した。
具体的には、ArおよびO2を導入した気圧0.2Paの真空雰囲気下(流量比はAr:O2=100:1.4)で、直流(DC)電源を用いて、酸化インジウムと酸化亜鉛との焼結体(モル比In:Zn=100:21)からなるIZOターゲットをスパッタリングした。
なお、スパッタリングにより第1無機酸化物層4を形成するとき、保護層付光透過性基材フィルム10の他方面(具体的には、光透過性基材フィルム2の他方面)を、−5℃の冷却ロールに接触させて、保護層付光透過性基材フィルム2を冷却した。
(金属層の形成)
銀合金からなる金属層5を、スパッタリングにより、第1無機酸化物層4の厚み方向一方面に形成した。
銀合金からなる金属層5を、スパッタリングにより、第1無機酸化物層4の厚み方向一方面に形成した。
具体的には、Arを導入した気圧0.4Paの真空雰囲気で、電源として、直流(DC)電源を用い、Ag合金ターゲット(三菱マテリアル社製、品番:「No.317」)をスパッタリングした。
(第1層の形成)
IZOからなる第1層7を、金属層5の厚み方向一方面に、スパッタリングにより、形成した。
IZOからなる第1層7を、金属層5の厚み方向一方面に、スパッタリングにより、形成した。
具体的には、ArおよびO2を導入した気圧0.2Paの真空雰囲気下(流量比はAr:O2=100:1.4)で、直流(DC)電源を用いて、酸化インジウムと酸化亜鉛との焼結体(モル比In:Zn=100:21)からなるIZOターゲットをスパッタリングした。
(第2層の形成)
ITOからなる第2層8を、第1層7の厚み方向一方面に、スパッタリングにより、形成した。
ITOからなる第2層8を、第1層7の厚み方向一方面に、スパッタリングにより、形成した。
具体的には、ArおよびO2を導入した気圧0.2Paの真空雰囲気下(流量比はAr:O2=100:1.4)で、直流(DC)電源を用いて、88質量%の酸化インジウムと12質量%の酸化スズとの焼結体からなるITOターゲットをスパッタリングした。
これによって、第1領域31に区画される第1層7、および、第2領域32に区画される第2層8からなる第2無機酸化物層6を形成した。
これによって、光透過性基材フィルム2の上に、順に、保護層9、第1無機酸化物層4、金属層5、第2無機酸化物層6が形成された光透過性フィルム1を得た。
実施例2〜実施例6
表1に従って、第1層7および第2層8の厚みを変更した以外は、実施例1と同様に処理して、光透過性フィルム1を得た。
表1に従って、第1層7および第2層8の厚みを変更した以外は、実施例1と同様に処理して、光透過性フィルム1を得た。
比較例1
第1層7を形成しなかった以外は実施例6と同様にして光透過性フィルム1を得た。つまり、第2無機酸化物層6を、ITOからなり、Znを含有しない第2層8のみから形成した。なお、第2層8は、金属層5の一方面に接触している。
第1層7を形成しなかった以外は実施例6と同様にして光透過性フィルム1を得た。つまり、第2無機酸化物層6を、ITOからなり、Znを含有しない第2層8のみから形成した。なお、第2層8は、金属層5の一方面に接触している。
比較例2
第2層8を形成しなかった以外は実施例6と同様にして光透過性フィルム1を得た。つまり、第2無機酸化物層6を、InおよびZnを含有するIZOからなる第1層7のみから形成した。なお、第1層7の一方面は、厚み方向一方側に向かって露出している。
第2層8を形成しなかった以外は実施例6と同様にして光透過性フィルム1を得た。つまり、第2無機酸化物層6を、InおよびZnを含有するIZOからなる第1層7のみから形成した。なお、第1層7の一方面は、厚み方向一方側に向かって露出している。
比較例3
酸化インジウム、酸化ガリウムおよび酸化亜鉛の焼結体(モル比In:Ga:Zn=100:100:100)からなるIGZOターゲットをスパッタリングすることで、IGZOからなる第1層7を形成した以外は実施例6と同様にして光透過性フィルム1を得た。
酸化インジウム、酸化ガリウムおよび酸化亜鉛の焼結体(モル比In:Ga:Zn=100:100:100)からなるIGZOターゲットをスパッタリングすることで、IGZOからなる第1層7を形成した以外は実施例6と同様にして光透過性フィルム1を得た。
(測定)
各実施例および各比較例の光透過性フィルム1について、下記の事項を測定した。それらの結果を表1に記載する。
各実施例および各比較例の光透過性フィルム1について、下記の事項を測定した。それらの結果を表1に記載する。
(1)厚み
保護層9、第1無機酸化物層4、金属層5、第1層7および第2層8のそれぞれの厚みを、透過型電子顕微鏡(日立製作所社製 H−7650)を用いた断面観察により測定した。
保護層9、第1無機酸化物層4、金属層5、第1層7および第2層8のそれぞれの厚みを、透過型電子顕微鏡(日立製作所社製 H−7650)を用いた断面観察により測定した。
また、光透過性基材フィルム2の厚みを、膜厚計(Peacock社製 デジタルダイアルゲージDG−205)を用いて測定した。
(2)光透過性導電層の腐食性(配線の腐食に起因する変色の評価)
図2Aの仮想線で示すように、感光性のドライフィルムレジスト15(DFR)(商品名「RY3310」、日立化成社製)を光透過性導電層3の厚み方向一方面全面に配置し、続いて、フォトマスク(図示せず)を介してドライフィルムレジスト15を露光し、その後、現像することにより、図2Aの実線で示すように、配線23に対応するパターンを有するエッチングレジスト11を形成した。その後、エッチングレジスト11から露出する光透過性導電層3を、40℃に加温したエッチング液(株式会社ADEKA社製、アデカケルミカ SET−500)に30秒浸漬してエッチングし、水洗して、図2Bに示すように、幅100μmのパターン状の(光透過性導電層3がパターンニングされた)配線23を形成した。その後、25℃、2.5質量%炭酸ナトリウム溶液に浸漬することで、図2Cの実線で示すように、エッチングレジスト11を剥離し、水洗、乾燥した。
図2Aの仮想線で示すように、感光性のドライフィルムレジスト15(DFR)(商品名「RY3310」、日立化成社製)を光透過性導電層3の厚み方向一方面全面に配置し、続いて、フォトマスク(図示せず)を介してドライフィルムレジスト15を露光し、その後、現像することにより、図2Aの実線で示すように、配線23に対応するパターンを有するエッチングレジスト11を形成した。その後、エッチングレジスト11から露出する光透過性導電層3を、40℃に加温したエッチング液(株式会社ADEKA社製、アデカケルミカ SET−500)に30秒浸漬してエッチングし、水洗して、図2Bに示すように、幅100μmのパターン状の(光透過性導電層3がパターンニングされた)配線23を形成した。その後、25℃、2.5質量%炭酸ナトリウム溶液に浸漬することで、図2Cの実線で示すように、エッチングレジスト11を剥離し、水洗、乾燥した。
次いで、一方面および他方面がセパレータ(図示せず)で被覆された第1感圧接着層24(仮想線)を備える第1感圧接着部材16(日東電工社製、品番:「CS9904U」)を準備し、次いで、一のセパレータ(図示せず)を第1感圧接着層24の他方面から剥離した後、第1感圧接着層24の他方面を、配線23の厚み方向一方面および側面と、配線23から露出する保護層9の一方面とを全て覆うように、貼り合わせた。
続いて、第1感圧接着部材16(第1感圧接着層24)が貼り合わされた光透過性フィルム1を、85℃、相対湿度85%の環境で、500時間暴露した。
その後、配線23の腐食性を評価を下記の方法で評価した。
上記環境で暴露した後の光透過性フィルム1における配線23を、長さ2cm間に渡って、光学顕微鏡で、厚み方向一方側から第1感圧接着層24を介して観察し、配線23の幅方向両端面からの腐食を下記の基準に従って評価した。
◎:配線23の幅方向一端面から幅方向内側に向かって変色している幅と、幅方向他端面から幅方向内側に向かって変色している幅との合計幅が、20μm以下。
〇:上記した変色の合計幅が、20μm超過、30μm以下。
×:上記した変色の合計幅が、30μm超過。
◎:配線23の幅方向一端面から幅方向内側に向かって変色している幅と、幅方向他端面から幅方向内側に向かって変色している幅との合計幅が、20μm以下。
〇:上記した変色の合計幅が、20μm超過、30μm以下。
×:上記した変色の合計幅が、30μm超過。
(3)配線の抵抗の変化(光透過性導電層の耐熱耐湿性)
第2無機酸化物層6の一方面21(光透過性導電層3の厚み方向一方面)に、図6Aに示すように、長さ(長手方向長さ)60mm、幅(幅方向長さ)6mmのポリイミドからなるエッチングレジスト(マスキングテープ)11を気泡やシワのないように貼付し、40℃に加温したエッチング液(株式会社ADEKA社製、アデカケルミカ SET−500)に30秒浸漬後、水洗することで、光透過性導電層3においてエッチングレジスト11から露出する部分をエッチングした。これにより、長さ60mm、幅6mmのパターン状の(光透過性導電層3がパターンニングされた)配線23を形成した。その後、図6Bに示すように、エッチングレジスト11を剥離して、再度水洗、乾燥させた。
第2無機酸化物層6の一方面21(光透過性導電層3の厚み方向一方面)に、図6Aに示すように、長さ(長手方向長さ)60mm、幅(幅方向長さ)6mmのポリイミドからなるエッチングレジスト(マスキングテープ)11を気泡やシワのないように貼付し、40℃に加温したエッチング液(株式会社ADEKA社製、アデカケルミカ SET−500)に30秒浸漬後、水洗することで、光透過性導電層3においてエッチングレジスト11から露出する部分をエッチングした。これにより、長さ60mm、幅6mmのパターン状の(光透過性導電層3がパターンニングされた)配線23を形成した。その後、図6Bに示すように、エッチングレジスト11を剥離して、再度水洗、乾燥させた。
次いで、長さ40mm、幅20mmであり、一方面および他方面がセパレータ(図示せず)で被覆された第2感圧接着層17を備える第2感圧接着部材12(日東電工社製、品番:「CS9904U」)を準備し、次いで、一のセパレータ(図示せず)を第2感圧接着層17の他方面から剥離した後、第2感圧接着層17の他方面を、上記した配線23を被覆するように、図6Cに示すように、光透過性基材フィルム2の厚み方向一方面に張り合わせた。具体的には、配線23の両端部13(長さ10mmの部分)が第2感圧接着部材12から露出するように、第2感圧接着部材12を配線23の長手方向中央部に貼付した。
次いで、図6Dおよび図6Eに示すように、配線23の両端部13のそれぞれの厚み方向一方面に銀ペースト14を塗布した。この時、銀ペースト14を、両端部13の側面(幅方向側面および長手方向側面)に至らないように、両端部13の一方面21のみに塗布した。その後、銀ペースト14を、130℃で30分加熱して、乾燥させた。このようにして、抵抗測定用検体を作成した。
続いて、抵抗値テスターを用いて、両端部13に対応する銀ペースト14の間の抵抗(初期の抵抗R0)を測定した。
その後、抵抗測定用検体を85℃、相対湿度85%の環境で、500時間暴露し、この抵抗測定用検体の抵抗(抵抗R500)を求めた。
そして、暴露後の抵抗R500の、初期の抵抗R0に対する比(R500/R0)を求め、以下の基準により5段階(A〜E)で評価した。
A:0.95≦R500/R0≦1.05
B:0.85≦R500/R0<0.95、または、1.05<R500/R0≦1.15
C:0.80≦R500/R0<0.85、または、1.15<R500/R0≦1.20
D:0.75≦R500/R0<0.80、または、1.20<R500/R0≦1.25
E:0.75>R500/R0、または、1.25<R500/R0
この評価では、評価Aは配線23(光透過性導電層3)の抵抗の変化率が小さく、耐熱耐湿性が最も優れることを意味する一方、評価Eは配線23(光透過性導電層3)の抵抗の変化率が大きく、耐熱耐湿性が最も劣ることを意味する。
A:0.95≦R500/R0≦1.05
B:0.85≦R500/R0<0.95、または、1.05<R500/R0≦1.15
C:0.80≦R500/R0<0.85、または、1.15<R500/R0≦1.20
D:0.75≦R500/R0<0.80、または、1.20<R500/R0≦1.25
E:0.75>R500/R0、または、1.25<R500/R0
この評価では、評価Aは配線23(光透過性導電層3)の抵抗の変化率が小さく、耐熱耐湿性が最も優れることを意味する一方、評価Eは配線23(光透過性導電層3)の抵抗の変化率が大きく、耐熱耐湿性が最も劣ることを意味する。
なお、上記発明は、本発明の例示の実施形態として提供したが、これは単なる例示に過ぎず、限定的に解釈してはならない。当該当技術分野の当業者によって明らかな本発明の変形例は、後記請求の範囲に含まれる。
光透過性フィルムは、タッチセンサに備えられる。
1 光透過性フィルム
2 光透過性基材フィルム
3 光透過性導電層
4 第1無機酸化物層
5 金属層
6 第2無機酸化物層
7 第1層
8 第2層
10 保護層付光透過性基材フィルム
20 転写用基材
25 タッチセンサ
30 転写用基材付き光透過性導電層
31 第1領域
32 第2領域
2 光透過性基材フィルム
3 光透過性導電層
4 第1無機酸化物層
5 金属層
6 第2無機酸化物層
7 第1層
8 第2層
10 保護層付光透過性基材フィルム
20 転写用基材
25 タッチセンサ
30 転写用基材付き光透過性導電層
31 第1領域
32 第2領域
Claims (13)
- 光透過性部材と、光透過性導電層とを厚み方向一方側に向かって順に備え、
前記光透過性導電層は、
第1無機酸化物層と、金属層と、第2無機酸化物層とを厚み方向一方側に向かって順に備え、
前記第2無機酸化物層は、
インジウムと亜鉛とを含有する第1領域と、
亜鉛を含有しない第2領域とを厚み方向一方側に向かって順に有し、
前記第1領域における、亜鉛のモル数が、インジウムのモル数より少ないことを特徴とする、光透過性積層体。 - 光透過性導電層と、転写用基材とを厚み方向一方側に向かって順に備え、
前記光透過性導電層は、
第1無機酸化物層と、金属層と、第2無機酸化物層とを厚み方向一方側に向かって順に備え、
前記第2無機酸化物層は、
インジウムと亜鉛とを含有する第1領域と、
亜鉛を含有しない第2領域とを厚み方向一方側に向かって順に有し、
前記第1領域における、亜鉛のモル数が、インジウムのモル数より少ないことを特徴とする、光透過性積層体。 - 前記第1領域において、インジウム100モルに対する亜鉛のモル数が、10モル以上、30モル以下であることを特徴とする、請求項1に記載の光透過性積層体。
- 前記第2領域の厚みの、前記第1領域の厚みに対する比が、0.3以上、5以下であることを特徴とする、請求項1に記載の光透過性積層体。
- 前記第2領域は、インジウムとスズとを含有することを特徴とする、請求項1に記載の光透過性積層体。
- 前記第2領域は、インジウム−スズ酸化物を含有することを特徴とする、請求項1に記載の光透過性積層体。
- 前記第1領域は、インジウム−亜鉛酸化物を含有することを特徴とする、請求項1に記載の光透過性積層体。
- 前記第1無機酸化物層は、インジウムと亜鉛とを含有することを特徴とする、請求項1に記載の光透過性積層体。
- 前記第1無機酸化物層は、インジウム−亜鉛酸化物を含有することを特徴とする、請求項1に記載の光透過性積層体。
- 前記金属層は、銀を含有することを特徴とする、請求項1に記載の光透過性積層体。
- 前記光透過性導電層がパターンニングされていることを特徴とする、請求項1に記載の光透過性積層体。
- 請求項11に記載の光透過性積層体を備えることを特徴とする、タッチセンサ。
- 請求項12に記載のタッチセンサを備えることを特徴とする、画像表示装置。
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