JP6600550B2 - 金属層積層透明導電性フィルムおよびそれを用いたタッチセンサ - Google Patents
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そこで、本発明の目的は、細線化した金属配線層を形成する場合でも、透明導電膜の剥離による配線トラブルが生じにくい金属層積層透明導電性フィルム及びそれを用いたタッチセンサを提供することにある。
図1は、本発明の一実施形態に係る金属層積層透明導電性フィルムの模式的断面図であり、図2〜3は、本発明の他の実施形態に係る金属層積層透明導電性フィルムの模式的断面図である。図1に示す金属層積層透明導電性フィルムは、透明基材1と、樹脂層2と、透明導電膜3と、金属層4とをこの順で含んでいる。図2に示すように、透明導電膜3は、2層の透明導電膜(第一透明導電膜31及び第二透明導電膜32)を積層することもできるが、1層の透明導電膜のみ又は3層以上の透明導電膜を有していてもよい。図3に示すように、透明基材1の表面にはハードコート層5を有することができる。ハードコート層5は、透明基材1の片面又は両面に形成することができる。また、金属層4は、金属層4上に第2金属層を設けても良い。なお、図1〜3においては、透明基材1の一方の面にのみ樹脂層2、透明導電膜3および金属層4が形成された形態が図示されているが、透明基材1の両面に樹脂層2、透明導電膜3および金属層4が形成されていてもよい。
透明基材としては、可視光領域において透明であるものであれば特に制限されず、ガラスや、透明性を有する各種のプラスチックフィルムが用いられる。金属層積層透明導電性フィルムを、タッチパネルの透明電極やフレキシブルディスプレイ等に用いる場合は、透明基材として、プラスチックフィルム等の可撓性フィルムが用いられることが好ましい。
透明基材の両面もしくは片面にハードコート層を形成することができる。これにより、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂等を含む透明基材はそれ自体が非常に傷つきやすい傾向にあるが、透明導電膜の形成やパターン化または電子機器への搭載などの各工程で透明基材に傷が入ることを防ぐことが可能である。
樹脂層は、反射特性の制御や、透明導電膜等との密着性の向上を目的として、透明基材上に設けられることが好ましい。特に、各工程上で発生しうる外観欠点の観点から、透明基材上に形成されたハードコート層上に設けられることが好ましい。また、樹脂層は、光学調整層、アンダーコート層等上に設けることもできる。樹脂層は樹脂中に無機酸化物粒子を含んでいる。
透明導電膜はいずれも、金属の導電性酸化物を主成分とする薄膜、または主金属と1種以上の不純物金属を含有する複合金属酸化物を主成分とする薄膜である。これらの導電性薄膜は、透明でありかつ導電性を有するものであれば、その構成材料は特に限定されず、Sc,Y,Si,Zr,Hf,V,Nb,Ta,Cr,Mo,W,Mn,Tc,Re,Fe,Ru,Os,Co,Rh,Ir,Ni,Pd,Pt,Cu,Ag,Au,Zn,Cd,Mg,Al,Ga,Ti,Ge,In,Sn,Pb,As,Sb,Bi,Se,Te,Iからなる群より選択される1種の金属を主成分とする金属酸化物が好適に用いられる。透明導電膜の透明性や導電性の観点からは、主金属元素はIn,Zn,Snのいずれかであることが好ましく、インジウム系複合酸化物が最も好ましい。透明導電膜が、主金属と不純物金属を含有する複合金属酸化物である場合、不純物金属としても、上記群より選択される1種以上の金属が好適に用いられる。
インジウム・スズ系複合酸化物層の表面抵抗値は、好ましくは300Ω/□以下であり、さらに好ましくは270Ω/□以下である。このような表面抵抗値の小さい透明導電性フィルムは、例えば、スパッタリング法又は真空蒸着法により、インジウム・スズ系複合酸化物の非晶質層を硬化樹脂層上に形成した後、120℃〜200℃で30〜90分間程度加熱処理して、非晶質層を結晶質層に変化させることにより得られる。この転化させる手段は、特に限定されないが空気循環式オーブンやIRヒーターなどが用いられる。
透明導電性フィルムの破断を防止する観点から、透明導電性フィルムに後述する粘着剤層を介して保護フィルムを積層して透明導電性積層体とすることができる。保護フィルムは、ポリエステル系樹脂を含む。透明基材の両面に上述のハードコート層を設けることにより、透明基材自体に傷は入りにくくなるが、より硬く裂けやすくなる。また、透明フィルム基材が長尺状の場合には、例えば透明導電膜の形成工程や透明導電膜のパターン化工程などで、フィルム走行時に透明フィルム基材に破断が発生しやすくなるという課題がある。保護フィルムを構成するポリエステル系樹脂フィルムは、機械強度を向上させる観点から、一軸延伸処理や二軸延伸処理などの延伸処理がされていることが好ましい。機械強度や耐熱特性向上の観点から、特に二軸延伸の処理がされていることが好ましい。ポリエステル系樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート系樹脂やポリエチレンナフタレート系樹脂が挙げられ、ポリエチレンテレフタレート系樹脂が機械的特性や光学特性、入手容易性の点で好ましい。
粘着剤層の形成材料としては、透明性を有するものであれば特に制限なく使用できるが、好ましくはアクリル系粘着剤、エポキシ系粘着剤、シリコーン系粘着剤であり、より好ましくはアクリル系粘着剤である。形成される粘着剤層の乾燥厚さは適宜に調整することができるが、通常、1〜40μm程度であり、3〜35μmが好ましく、さらには5〜30μmが好ましい。
透明導電膜上には、金属層が形成される。なお、第一透明導電膜と金属層との間には、密着性向上や、金属層を構成する金属元素の透明導電膜への拡散防止等の観点から、例えば厚みが5nm以下の薄膜を設けることもできる。一方、金属層をエッチングにより除去した際の透明導電膜の表面抵抗の増加を抑制する観点においては、第一透明導電膜上に直接金属層が形成されることが好ましい。
金属層の厚みは、特に制限されない。例えば、金属層の面内の一部をエッチング等により除去してパターン配線を形成する場合は、形成後のパターン配線が所望の抵抗値を有するように金属層の厚みが適宜に設定される。そのため、金属層の厚みは、20nm〜500nmであることが好ましく、100nm〜200nmであることがより好ましく、120nm〜180nmであることが更に好ましい。金属層の厚みが上記範囲であると、パターン配線の抵抗が高くなりすぎず、デバイスの消費電力が大きくならない。また、金属層の成膜の生産効率が上がり、成膜時の積算熱量が小さくなり、フィルムに熱シワが生じにくくなる。
本発明のタッチセンサは、以上で述べた金属層積層透明導電性フィルムを用いたものであり、抵抗膜方式、静電容量方式のタッチパネル等の形態で使用される。例えば、金属層積層透明導電性フィルムは、静電容量方式、抵抗膜方式などのタッチパネルに好適に適用できる。
(ハードコート層の形成)
厚さ50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(以下、PETフィルムという)からなる透明フィルム基材の片面に、ハードコート層形成用塗布液として紫外線硬化型アクリル樹脂(JSR社製、品名「KZ7503」、屈折率1.52)を乾燥後の厚さが1.5μmとなるように塗布し、80℃で3分間加熱することにより塗膜を乾燥させた。その後、高圧水銀ランプにて、積算光量200mJ/cm2の紫外線を照射することで、ハードコート層を形成した。
紫外線硬化型アクリル樹脂(JSR社製、商品名「KZ7503」、屈折率1.52)100重量部に、シリカ粒子(日産化学社製、品名「PGM−ST」、平均粒径15nm)20重量部を配合し、樹脂層形成用塗布液を調製した。
次に、Arガス80体積%およびO2ガス20体積%とからなる4×10−3Torrの雰囲気中で、酸化インジウムと酸化スズを90:10の重量比で有する焼結体のターゲット材料を用いて、DCマグネトロンスパッタ法により、樹脂層上に第二透明導電膜を20nmの厚みで形成した(光の屈折率2.00)。この第二透明導電膜上に、酸化インジウムと酸化スズを97:3の重量比で有する焼結体のターゲット材料を用いて、DCマグネトロンスパッタ法により、第一透明導電膜を4nmの厚みで形成した。このようにして、インジウム・スズ複合酸化物からなる透明導電性薄膜を形成した。
この透明導電性フィルムの第一透明導電膜上に、Arを導入した減圧下で、無酸素銅ターゲットを用いて、DCマグネトロンスパッタ法により、銅層又は銅層を含む合金層からなる金属層を150nmの厚みで形成して、金属層積層透明導電性フィルムを作製した。
この金属層積層透明導電性フィルムの金属層上に、ドライフィルムレジスト(旭化成株式会社、ATP-153)をレジスト膜として貼り合わせた。露光、現像した後に、35℃に加温したエッチング液(ADEKA社製、ITO−4400Z)に2分間浸漬させ、透明導電膜及び金属層のエッチング処理を行い、配線加工を実施した。その際、配線幅は、50μm及び100μmとなるようにパターン化して、金属配線層が形成された金属層積層透明導電性フィルムを作製した。
実施例1において、前記樹脂層中のシリカ粒子を30重量部添加したこと以外は実施例1と同様の方法で金属配線層が形成された金属層積層透明導電性フィルムを作製した。
実施例1において、前記樹脂層中のシリカ粒子を40重量部添加したこと以外は実施例1と同様の方法で金属配線層が形成された金属層積層透明導電性フィルムを作製した。
実施例2において、ハードコート層を形成しなかったこと以外は実施例2と同様の方法で金属配線層が形成された金属層積層透明導電性フィルムを作製した。
実施例1において、前記樹脂層中のシリカ粒子を10重量部添加したこと以外は実施例1と同様の方法で金属配線層が形成された金属層積層透明導電性フィルムを作製した。
実施例1において、前記樹脂層中のシリカ粒子を60重量部添加したこと以外は実施例1と同様の方法で金属配線層が形成された金属層積層透明導電性フィルムを作製した。
比較例2において、ハードコート層を形成しなかったこと以外は比較例2と同様の方法で金属配線層が形成された金属層積層透明導電性フィルムを作製した。
比較例3において、樹脂層を形成しなかったこと以外は比較例3と同様の方法で金属配線層が形成された金属層積層透明導電性フィルムを作製した。
(1)算術平均表面粗さRaの測定
エスアイアイ・ナノテクノロジー(株)製の走査型プローブ顕微鏡(SPI3800)を用いて、AFM観察を行った。測定は、コンタクトモードにて、探針はSi3N4製(バネ定数0.09N/m)を用い、1μm平方スキャンにて行い、算術平均表面粗さRaを測定した。評価した結果を表1に示す。
5mm角の試料片を準備し、X線光電子分光分析法(アルバック・ファイ社製、QuanteraSXM)を用いて、X線源にモノクロAlKα、X Ray settingを100μmφ(15kV、25W)条件で測定した。評価した結果を表1に示す。
配線幅を100μmとして、10本配線した際に剥がれた本数を目視にて測定した。配線幅を50μmとして、前記と同様に測定した。評価した結果を表1に示す。
1.0μm未満の厚みは、透過型電子顕微鏡(日立製作所製、製品名「H−7650」)を用いて、透明導電性フィルムの断面を観察して測定した。1.0μm以上の厚みは、膜厚計(Peacock社製、デジタルダイアルゲージDG−205)を用いて測定した。
JIS K7194に準じて、4端子法により測定した。
実施例1〜4においては、配線幅50μmに細線化した場合でも、配線剥がれ箇所はなく、透明導電膜の剥離はみられず、良好な結果が得られた。これは、樹脂層の透明導電膜側に、所定量のSi粒子が存在することにより、金属層を積層した際の透明導電膜/樹脂層の密着力を向上でき、配線トラブル(配線剥がれ等)の発生を抑制できたと考えられる。一方、比較例1においては、樹脂層中のシリカ粒子の添加量が少なすぎるため、透明導電膜/樹脂層の界面密着力を向上できず、配線幅を狭くすると透明導電膜が剥離し、配線加工性が不十分であった。また、比較例2〜3においては、樹脂層中のシリカ粒子の添加量が多すぎるため、透明導電膜が剥離し、配線加工性が不十分であった。また、比較例4では、樹脂層が形成されていないため、配線幅が100μmの時でさえ、剥離する結果となった。
2 樹脂層
3 透明導電膜
31 第1透明導電膜
32 第2透明導電膜
4 金属層
5 ハードコート層
Claims (8)
- 透明基材の少なくとも一方の面側に、樹脂層、透明導電膜、金属層をこの順に有する金属層積層透明導電性フィルムであって、
前記樹脂層は、厚みが10nm以上100nm以下であり、樹脂100重量部に対して、15〜55重量部の無機酸化物粒子を含み、
前記無機酸化物粒子は、シリカ粒子であり、
前記樹脂層の前記透明導電膜側の面のX線光電子分光分析法によるSiの表面元素比率(原子%)は、0.1原子%〜11原子%であり、
前記透明導電膜は、インジウム系複合酸化物を含む、金属層積層透明導電性フィルム。 - 前記インジウム系複合酸化物は、インジウム・スズ複合酸化物である請求項1に記載の金属層積層透明導電性フィルム。
- 前記樹脂層の前記透明導電膜側の面の算術平均表面粗さ(Ra)が、1nm以下である、請求項1または2に記載の金属層積層透明導電性フィルム。
- 前記無機酸化物粒子の平均粒径は、10nm〜60nmである、請求項1〜3のいずれか1項に記載の金属層積層透明導電性フィルム。
- 前記金属層は、銅層、銅合金層または銅層と銅合金層との積層体である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の金属層積層透明導電性フィルム。
- 前記金属層はパターン部を有し、金属層の幅の最も狭い部分が50μm以下である、請求項1〜5のいずれか1項に記載の金属層積層透明導電性フィルム。
- 前記金属層の厚みは、100nm〜200nmである、請求項1〜6のいずれか1項に記載の金属層積層透明導電性フィルム。
- 請求項1〜7のいずれか1項に記載の金属層積層透明導電性フィルムを含む、タッチセンサ。
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