WO2019220283A1 - 発光素子、発光装置、電子機器および照明装置 - Google Patents

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佐々木俊毅
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    • H10K85/6576Polycyclic condensed heteroaromatic hydrocarbons comprising only sulfur in the heteroaromatic polycondensed ring system, e.g. benzothiophene

Definitions

  • One embodiment of the present invention relates to a light-emitting element, a light-emitting device, an electronic device, and a lighting device. Note that one embodiment of the present invention is not limited to the above technical field.
  • the technical field of one embodiment of the invention disclosed in this specification and the like relates to an object, a method, or a manufacturing method. Alternatively, one embodiment of the present invention relates to a process, a machine, a manufacture, or a composition (composition of matter).
  • the technical field of one embodiment of the present invention disclosed in this specification more specifically includes a semiconductor device, a display device, a liquid crystal display device, a light-emitting device, a lighting device, a power storage device, a memory device, an imaging device, A driving method or a manufacturing method thereof can be given as an example.
  • Such a light-emitting element is a self-luminous type, when used as a display pixel, it has advantages such as higher visibility and no need for a backlight compared to liquid crystal, so it is more suitable as a flat panel display element. is there.
  • a display using such a light emitting element has a great advantage that it can be manufactured to be thin and light. Another feature is that the response speed is very fast.
  • these light emitting elements can continuously form a light emitting layer in two dimensions, light emission can be obtained in a planar shape. This is a feature that is difficult to obtain with a point light source typified by an incandescent bulb or LED, or a line light source typified by a fluorescent lamp, and thus the light-emitting element is also highly useful as a surface light source that can be applied to illumination or the like.
  • a display and a lighting device using a light-emitting element are suitable for application to various electronic devices.
  • research and development have been advanced in search of a light-emitting element having better characteristics.
  • light emission efficiency represented by external quantum efficiency. Since a light-emitting element having good light emission efficiency can reduce power consumption, the higher the efficiency, the better the higher the efficiency in view of the world's energy environment that is becoming more severe year by year.
  • An object of one embodiment of the present invention is to provide a novel light-emitting element. Another object of another embodiment of the present invention is to provide a light-emitting element with high emission efficiency. Another object of another embodiment of the present invention is to provide a light-emitting element having a high blue index (BI). Another object of the present invention is to provide a light-emitting element with low power consumption.
  • BI blue index
  • Another object of another embodiment of the present invention is to provide a light-emitting element, a light-emitting device, an electronic device, a lighting device, and an electronic device with low power consumption.
  • One embodiment of the present invention includes a first electrode, a second electrode, and an EL layer sandwiched between the first electrode and the second electrode, and the first electrode and the second electrode
  • the EL layer has a luminescent center substance
  • the photon energy of light emitted from the luminescent center substance in a solution state E ave [eV] and the emission edge energy on the short wavelength side of the emission spectrum of the emission center substance in the solution state is E edge [eV], the photon of the peak wavelength of the light emitted from the light emitting element.
  • the energy E em [eV] is a light emitting element represented by the following formula (1).
  • Another embodiment of the present invention is a light-emitting element having the above structure, in which the emission center substance emits blue light.
  • another embodiment of the present invention includes a first electrode, a second electrode, and an EL layer sandwiched between the first electrode and the second electrode,
  • the EL layer has a luminescent center substance that emits blue light, and the luminescent center substance is in a solution state
  • the photon energy E em [eV] at the peak wavelength of light is a light emitting element represented by the following formula (2).
  • Another embodiment of the present invention is a light-emitting element having any of the above structures, in which the E em is greater than or equal to 2.6 eV and less than or equal to 2.9 eV.
  • an organic compound layer having a molecular weight of 300 to 1200 is formed on a surface of the transflective electrode opposite to the surface with respect to the reflective electrode. It is a light emitting element.
  • the solvent in the solution state is a light-emitting element having a relative dielectric constant of 1 to 10 at room temperature.
  • Another embodiment of the present invention is a light-emitting element having any of the above structures, in which the solvent in the solution state is toluene or chloroform.
  • Another embodiment of the present invention is a light-emitting element having any one of the above structures, in which the emission center substance in the EL layer is only one kind.
  • Another embodiment of the present invention is a light-emitting device including any of the above light-emitting elements and a transistor or a substrate.
  • Another embodiment of the present invention is an electronic device including the light-emitting device and a sensor, an operation button, a speaker, or a microphone.
  • Another embodiment of the present invention is a lighting device including the light-emitting device and a housing.
  • Another embodiment of the present invention is an electronic device including any one of the above organic compounds.
  • the light-emitting device in this specification includes an image display device using a light-emitting element.
  • a connector for example, an anisotropic conductive film or TCP (Tape Carrier Package) attached to a light emitting element, a module provided with a printed wiring board at the end of TCP, or a COG (Chip On Glass) method for a light emitting element.
  • a module on which an IC (integrated circuit) is directly mounted may have a light emitting device.
  • a lighting fixture or the like may include a light emitting device.
  • a novel light-emitting element can be provided.
  • a light-emitting element with high emission efficiency can be provided.
  • a light-emitting element with high external quantum efficiency can be provided.
  • a light-emitting element with a high blue index can be provided.
  • a light-emitting element with low power consumption can be provided.
  • a light-emitting element a light-emitting device, an electronic device, a lighting device, and an electronic device with low power consumption can be provided.
  • FIGS. 1A and 1B are diagrams illustrating a method for calculating an average value (E ave ) of photon energy of light emitted from a luminescent center substance in a solution state.
  • FIG. 2 is a diagram for explaining a method of calculating the emission edge energy (E edge ) on the short wavelength side of the emission spectrum.
  • FIG. 3 is a diagram for explaining the relationship between the EL emission peak energy (E em ) of the light-emitting element, the external quantum efficiency (EQE), and the blue index (BI).
  • 4A and 4B are conceptual diagrams of light-emitting elements.
  • 5A and 5B are conceptual diagrams of an active matrix light-emitting device.
  • 6A and 6B are diagrams illustrating a lighting device.
  • FIG. 7A, 7B1, 7B2, and 7C are diagrams illustrating electronic devices.
  • 8A to 8C are diagrams illustrating a light source device.
  • FIG. 9 is a diagram illustrating a lighting device.
  • FIG. 10 shows a lighting device.
  • FIG. 11 is a diagram illustrating an in-vehicle display device and a lighting device.
  • 12A and 12B illustrate electronic devices.
  • 13A to 13C each illustrate an electronic device.
  • FIG. 14 shows toluene of N, N′-diphenyl-N, N′-bis [3- (9-phenyl-9H-fluoren-9-yl) phenyl] pyrene-1,6-diamine (abbreviation: 1,6mFLPAPrn). It is the emission spectrum in a solution.
  • FIG. 14 shows toluene of N, N′-diphenyl-N, N′-bis [3- (9-phenyl-9H-fluoren-9-yl) phen
  • FIG. 15 is a diagram for explaining a method of calculating the light emission edge on the short wavelength side of the PL spectrum in a toluene solution of 1,6 mM emFLPAPrn.
  • FIG. 16 is a graph showing a relationship between external quantum efficiency (EQE) and blue index (BI) with respect to light emission peak energy (E em ) in the light-emitting elements 1-1 to 1-8.
  • EQE external quantum efficiency
  • BI blue index
  • E em light emission peak energy
  • FIG. 17 shows N, N′-bis (3-methylphenyl) -N, N′-bis [3- (9-phenyl-9H-fluoren-9-yl) phenyl] -pyrene-1,6-diamine (abbreviation) : 1,6mMemFLPAPrn) in a toluene solution.
  • FIG. 18 is a diagram for explaining a method of calculating the light emission end on the short wavelength side of the PL spectrum in a toluene solution of 1,6 mM emFLPAPrn.
  • FIG. 19 is a graph showing a relationship between external quantum efficiency (EQE) and blue index (BI) with respect to light emission peak energy (E em ) in the light-emitting elements 2-1 to 2-8.
  • FIG. 20 shows N, N ′-(pyrene-1,6-diyl) bis [(6, N-diphenylbenzo [b] naphtho [1,2-d] furan) -8-amine] (abbreviation: 1,6BnfAPrn).
  • -03) is a diagram showing an emission spectrum in a toluene solution.
  • FIG. 21 is a diagram for explaining a method of calculating the light emission edge on the short wavelength side of the PL spectrum in a toluene solution of 1,6BnfAPrn-03.
  • FIG. 22 is a graph showing a relationship between external quantum efficiency (EQE) and blue index (BI) with respect to light emission peak energy (E em ) in the light-emitting elements 3-1 to 3-8.
  • 23 shows N, N ′-(pyrene-1,6-diyl) bis [(6, N-diphenylbenzo [b] naphtho [1,2-d] furan) -8-amine] (abbreviation: 1,6BnfAPrn).
  • -03) is a diagram showing an emission spectrum in a toluene solution.
  • FIG. 24 is a diagram for explaining a method for calculating a light emitting end on the short wavelength side of a PL spectrum in a toluene solution of 1,6BnfAPrn-03.
  • FIG. 25 is a graph showing a relationship between external quantum efficiency (EQE) and blue index (BI) with respect to light emission peak energy (E em ) in the light-emitting elements 4-1 to 4-4.
  • EQE external quantum efficiency
  • BI blue index
  • E em light emission peak energy
  • FIG. 26 shows N, N ′-(pyrene-1,6-diyl) bis (N-phenyl-6-cyclohexylbenzo [b] naphtho [1,2-d] furan-8-amine) (abbreviation: 1,6chBnfAPrn) It is a figure showing the emission spectrum in the toluene solution of).
  • FIG. 27 is a diagram for explaining a method for calculating a light emitting edge on the short wavelength side of a PL spectrum in a toluene solution of 1,6chBnfAPrn.
  • FIG. 28 is a graph showing a relationship between external quantum efficiency (EQE) and blue index (BI) with respect to light emission peak energy (E em ) in the light-emitting elements 5-1 to 5-8.
  • FIG. 29 shows 3,10-bis [N- (9-phenyl-9H-carbazol-2-yl) -N-phenylamino] naphtho [2,3-b; 6,7-b ′] bisbenzofuran (abbreviation: It is a figure showing the emission spectrum in the toluene solution of 3,10PCA2Nbf (IV) -02).
  • FIG. 29 shows 3,10-bis [N- (9-phenyl-9H-carbazol-2-yl) -N-phenylamino] naphtho [2,3-b; 6,7-b ′] bisbenzofuran (abbreviation: It is a figure showing the emission spectrum in the toluene solution of 3,10PCA2Nbf (IV) -02).
  • FIG. 30 is a diagram for explaining a method for calculating the light emission edge on the short wavelength side of the PL spectrum in a toluene solution of 3,10PCA2Nbf (IV) -02.
  • FIG. 31 is a graph showing a relationship between external quantum efficiency (EQE) and blue index (BI) with respect to light emission peak energy (E em ) in the light-emitting elements 6-1 to 6-8.
  • EQE external quantum efficiency
  • BI blue index
  • E em light emission peak energy
  • FIG. 32 shows 3,10-bis [N- (dibenzofuran-3-yl) -N-phenylamino] naphtho [2,3-b; 6,7-b ′] bisbenzofuran (abbreviation: 3,10FrA2Nbf (IV)) It is a figure showing the emission spectrum in the toluene solution of (-02).
  • FIG. 33 is a diagram for explaining a method for calculating the light emission edge on the short wavelength side of the PL spectrum in a toluene solution of 3,10FrA2Nbf (IV) -02.
  • FIG. 34 is a graph showing a relationship between external quantum efficiency (EQE) and blue index (BI) with respect to light emission peak energy (E em ) in the light-emitting elements 7-1 to 7-8.
  • EQE external quantum efficiency
  • BI blue index
  • OLEDs so-called organic EL elements
  • OLEDs are LEDs that use an organic compound as a light-emitting center substance, in contrast to LEDs in which an inorganic compound is a light-emitting center. It is known that an organic compound exhibits a broad emission spectrum as compared with an inorganic compound due to the influence of vibration levels and the like.
  • the use of a microcavity structure capable of amplifying light of a target wavelength is advantageous in that it has less loss of light emission and is efficient.
  • the light-emitting element having a microcavity structure with an appropriate optical path length and a color filter in combination the light-emitting element that can reduce light having a wavelength to be cut and emits light with high efficiency and high color purity. Can be obtained.
  • the use of the microcavity structure is suitable for improving color purity and maintaining light emission efficiency.
  • the organic EL element is a light emitting element using an organic compound as a light emission center substance as described above, and the spectrum of light emitted from the organic compound has a wavelength and a shape derived from the structure of the organic compound. It is unique to the substance. Therefore, the wavelength range in which light emission can be obtained efficiently differs depending on what kind of luminescent center material is used in the light emitting element.
  • a light-emitting element satisfying the following formula (1) in a light-emitting element having a microcavity structure is a light-emitting element having good light-emitting efficiency (quantum efficiency calculated from front luminance).
  • E ave is an average value of photon energy of light emitted from the luminescent center substance used in the light-emitting element in a solution state
  • E em is photon energy of peak wavelength of light emitted from the light-emitting element
  • E edge Is the emission edge energy on the short wavelength side of the emission spectrum of the emission center substance in the solution state
  • the unit is all [eV].
  • FIG. 1A shows a normalized emission spectrum in a toluene solution of an organic compound that exhibits blue light emission.
  • the vertical axis is proportional to the photon count.
  • the energy ⁇ p ( ⁇ ) of a photon having a certain wavelength can be expressed as the following formula (II).
  • c represents the speed of light and h represents the Planck constant.
  • the total energy in the entire wavelength region per unit time of light emission in the toluene solution of the organic compound can be represented by the following formula (III).
  • the average photon energy (E ave ) of light emission is a value obtained by dividing the total energy represented by the above formula (III) by the total number of photons represented by the above formula (I). Can be represented.
  • the average photon energy (E ave ) of light emission in the toluene solution of the organic compound whose emission spectrum is shown in FIG. 1 (A) can be calculated as 2.65 eV, that is, 468 nm from the above formula (IV) (FIG. 1 ( B)).
  • the significant number is 3 digits.
  • the vertical axis of the PL spectrum is not the photon number N p ( ⁇ ) but the energy ⁇ p ( ⁇ ) itself (for example, in the case of a spectral radiance meter), or the energy ⁇ p ( ⁇ ) May be a normalized spectrum I ( ⁇ ) that is proportional to.
  • the average photon energy E ave of light emission can be obtained as follows.
  • the average photon energy (E ave ) of light emission is obtained from the formulas (III) to (V) as in the following formula (VI) when the vertical axis of the PL spectrum is the energy ⁇ p ( ⁇ ) itself. Can do.
  • the average photon energy (E ave ) of luminescence is calculated using any one of the above formulas (IV), (VI), or (VII) depending on the instrument that measures the emission spectrum of the organic compound in the toluene solution. Can be sought.
  • FIG. 2 is an enlarged view of the vicinity of the light emission end on the short wavelength side of the emission center substance used in FIG. As shown in FIG. 2, E edge can be obtained from the intersection of the tangent line and the x axis by drawing a tangent line near the half value at the short wavelength side skirt of the emission spectrum F ( ⁇ ).
  • the emission edge energy (E edge ) can be calculated to be 2.87 eV.
  • the PL spectrum of the luminescent center substance used for calculating E ave and E edge is a spectrum in a solution state.
  • Each energy level is affected by the relative dielectric constant of the medium. Since the relative dielectric constant of the organic compound constituting the EL layer of the light-emitting element is about 3, it is approximately accurate by measuring in a solvent having a relative dielectric constant of 1 to 10 at room temperature, more preferably 2 to 5 at room temperature. Can be measured. Specific examples of the solvent include hexane, benzene, toluene, diethyl ether, ethyl acetate, chloroform, chlorobenzene, and dichloromethane.
  • toluene and chloroform have a relative dielectric constant of 2 to 5 at room temperature, are highly soluble, and are general-purpose solvents. Therefore, when measured in toluene or chloroform, the values in the light-emitting element and those solvents In many cases, the difference in values is within the experimental error range.
  • FIG. 3 shows the relationship between E em and EQE and the relationship between E em and BI with respect to an organic EL element (top emission) having a microcavity structure with the light emitting material used in FIGS. It has been investigated.
  • the EQE here is an uncorrected EQE calculated by assuming Lambertian light distribution from the front luminance. Further, EQE is used when the luminance is around 1000 cd / m 2 .
  • the blue index (BI) is a value obtained by further dividing the current efficiency (cd / A) by the y chromaticity, and is one of indexes indicating the emission characteristics of blue light emission. Blue light emission tends to emit light with higher color purity as the y chromaticity is smaller. Blue light emission with high color purity can express a wide range of blue even if the luminance component is small, and the use of blue light emission with high color purity reduces the luminance required to express blue. Therefore, the power consumption can be reduced.
  • BI considering y chromaticity, which is one of the indicators of blue purity, is preferably used as a means for expressing blue light emission efficiency, and a light emitting element having a higher BI has better efficiency as a blue light emitting element used in a display. It can be said that there is.
  • the EL emission peak energy (E em ) shown on the horizontal axis of FIG. 3 can be adjusted by changing the optical path length of the organic EL element and changing the wavelength to be amplified by the microcavity effect.
  • E em the efficiency of the light emitting device exhibiting good efficiency in the range between 2.65 eV and 2.73 eV (the range of A in the figure) and the E em higher than that is greatly reduced. I understand that. In the same range, BI also shows a good value. Note that, as calculated above, 2.65 eV corresponds to the average photon energy (E ave ) of light emission in the toluene solution of the luminescent center substance used in these light-emitting elements.
  • the upper limit value of 2.73 eV in the range A in the figure is the emission edge energy (E) on the short wavelength side of the PL emission spectrum in the toluene solution of the emission center substance used in these organic EL elements calculated above. edge ) which corresponds to 0.95 times 2.87 eV.
  • BI also shows a good numerical value.
  • E ave represents the average photon energy (unit [eV]) of light emission in the toluene solution of the emission center substance used in the light emitting element, and E edge is the short wavelength of the PL emission spectrum in the toluene solution of the emission center substance.
  • the side emission edge energy (unit [eV]) is represented, and E em represents the EL emission peak energy (unit [eV]).
  • BI In the case of an organic EL element that emits blue light, it is appropriate to pay attention to BI.
  • the present inventors have found that BI and EQE differ from each other in E em that reaches a peak. As shown in FIG. 3, since BI has a maximum value when E em is located in a relatively high energy region as compared to EQE, the microcavity structure has a relationship as shown in the following equation (2). It is preferable to control the cavity length (optical path length).
  • E em is preferably 2.6 eV or more and 2.9 eV or less.
  • the organic EL element of one embodiment of the present invention is a light-emitting element having a microcavity structure.
  • An organic EL element emits light by passing an electric current with an EL layer containing an organic compound sandwiched between a pair of electrodes, but the microcavity structure has one of a pair of electrodes, a reflective electrode and the other half.
  • a transmissive / semi-reflective electrode By using a transmissive / semi-reflective electrode, reflection is repeated and light having a wavelength corresponding to the distance between the electrodes (also referred to as a cavity length or an optical path length) can be amplified.
  • the cavity length can be changed by adjusting the thickness of the EL layer or electrode.
  • a transparent electrode such as ITO can be used.
  • the optical path length can be controlled by adjusting the thickness of the carrier transport layer or the carrier injection layer.
  • the light emission direction of the organic EL element may be a top emission structure or a bottom emission structure.
  • an organic compound layer having a molecular weight of 300 or more and 1200 or less is formed on the surface of the transflective electrode opposite to the surface with respect to the reflective electrode in order to more effectively extract light. It is preferable that
  • the emission center substance in one light-emitting element is preferably one kind.
  • the light-emitting element of one embodiment of the present invention having the above structure can be a light-emitting element with favorable emission efficiency.
  • the light-emitting element in this embodiment includes a pair of electrodes including a first electrode 101 and a second electrode 102, and an EL layer 103 provided between the first electrode 101 and the second electrode 102. It consists of and.
  • the electrode provided on the manufacturing substrate side is described as the first electrode 101.
  • the light-emitting element of one embodiment of the present invention is a light-emitting element having a microcavity structure.
  • a light-emitting element having a microcavity structure is obtained by forming a pair of electrodes of a light-emitting element from a reflective electrode and a semi-transmissive / semi-reflective electrode.
  • the reflective electrode and the semi-transmissive / semi-reflective electrode correspond to the first electrode 101 and the second electrode 102 described above.
  • At least an EL layer is provided, and at least a light-emitting layer serving as a light-emitting region is provided.
  • a light emitting element having a microcavity structure In a light emitting element having a microcavity structure, light emitted in all directions from a light emitting layer included in an EL layer is reflected by a reflective electrode and a semi-transmissive / semi-reflective electrode and resonates.
  • the reflective electrode has a visible light reflectance of 40% to 100%, preferably 70% to 100%, and a resistivity of 1 ⁇ 10 ⁇ 2 ⁇ cm or less.
  • the material for forming the reflective electrode include aluminum (Al) or an alloy containing Al.
  • the alloy containing Al include an alloy containing Al and L (L represents one or more of titanium (Ti), neodymium (Nd), nickel (Ni), and lanthanum (La)).
  • Aluminum has a low resistance value and a high light reflectance. In addition, since aluminum is abundant in the crust and inexpensive, manufacturing cost of a light-emitting element by using aluminum can be reduced.
  • N is yttrium (Y), Nd, magnesium (Mg), ytterbium (Yb), Al, Ti, gallium (Ga), zinc (Zn), indium (In) Represents one or more of tungsten (W), manganese (Mn), tin (Sn), iron (Fe), Ni, copper (Cu), palladium (Pd), iridium (Ir), or gold (Au) ) And the like.
  • the alloy containing silver include an alloy containing silver, palladium and copper, an alloy containing silver and copper, an alloy containing silver and magnesium, an alloy containing silver and nickel, an alloy containing silver and gold, and silver and ytterbium. Examples thereof include alloys.
  • transition metals such as tungsten, chromium (Cr), molybdenum (Mo), copper, and titanium can be used.
  • a transparent electrode layer can be formed using a light-transmitting conductive material between the reflective electrode and the EL layer, and the first electrode 101 can be formed using two layers of the reflective electrode and the transparent electrode.
  • the optical path length (cavity length) of the cavity structure can also be adjusted.
  • the light-transmitting conductive material examples include indium tin oxide (Indium Tin Oxide, hereinafter referred to as ITO), indium tin oxide containing silicon or silicon oxide (abbreviation: ITSO), indium zinc oxide (Indium Zinc Oxide), Examples thereof include metal oxides such as indium oxide-tin oxide containing titanium, indium-titanium oxide, tungsten oxide, and indium oxide containing zinc oxide.
  • ITO Indium Tin Oxide
  • ITSO indium tin oxide containing silicon or silicon oxide
  • ITSO indium zinc oxide
  • metal oxides such as indium oxide-tin oxide containing titanium, indium-titanium oxide, tungsten oxide, and indium oxide containing zinc oxide.
  • the first electrode 101 is composed of the reflective electrode 101-1 and the transparent electrode 101-2.
  • the transflective electrode has a visible light reflectance of 20% to 80%, preferably 40% to 70%, and a resistivity of 1 ⁇ 10 ⁇ 2 ⁇ cm or less.
  • the semi-transmissive / semi-reflective electrode can be formed using one or more kinds of conductive metals, alloys, conductive compounds, and the like. Specifically, for example, indium tin oxide (hereinafter referred to as ITO), indium tin oxide containing silicon or silicon oxide (abbreviation: ITSO), indium zinc oxide (indium zinc oxide), and titanium are included.
  • ITO indium tin oxide
  • ITSO indium tin oxide containing silicon or silicon oxide
  • ITSO indium zinc oxide
  • titanium titanium
  • Metal oxides such as indium oxide containing indium oxide-tin oxide, indium-titanium oxide, tungsten oxide, and zinc oxide can be used.
  • a metal thin film with a thickness that allows light to pass therethrough (preferably, a thickness of 1 nm to 30 nm) can be used.
  • the metal for example, Ag or an alloy such as Ag and Al, Ag and Mg, Ag and Au, Ag and Yb, or the like can be used.
  • the reflective electrode and the semi-transmissive / semi-reflective electrode may be either the first electrode 101 or the second electrode 102.
  • FIG. 4A illustrates the case where the first electrode 101 is on the manufacturing substrate side as described above. Therefore, when the reflective electrode is the first electrode, the light-emitting element has a top emission structure. When the reflective electrode is the second electrode 102, a bottom emission light-emitting element is obtained. Note that the first electrode 101 and the second electrode 102 may be an anode or a cathode, but FIG. 4A illustrates the case where the first electrode 101 is an anode.
  • the light extraction efficiency can be improved by providing the organic cap layer 104 on a surface opposite to the surface in contact with the EL layer 103 of the second electrode 102.
  • the organic cap layer 104 by providing the organic cap layer 104 so as to be in contact with the electrode 102, a difference in refractive index between the electrode 102 and the air interface can be reduced, so that light extraction efficiency can be improved.
  • the film thickness is preferably 5 nm to 120 nm. More preferably, it is 30 nm or more and 90 nm or less.
  • the organic cap layer 104 is preferably an organic compound layer having a molecular weight of 300 to 1200.
  • the second electrode 102 is a semi-transmissive / semi-reflective electrode, and it is necessary to reduce the film thickness in order to maintain a certain degree of translucency, which may deteriorate conductivity.
  • a conductive material for the organic cap layer 104 it is possible to secure the conductivity and improve the yield of manufacturing the light emitting element while improving the light extraction efficiency.
  • an organic compound with little absorption in the visible light region can be preferably used.
  • the organic compound used for the EL layer 103 can also be used as the organic cap layer 104. In this case, the organic cap layer 104 can be easily formed because the organic cap layer 104 can be formed in the film formation apparatus or the film formation chamber in which the EL layer 103 is formed.
  • the light-emitting element is an optical element between the reflective electrode and the semi-transmissive / semi-reflective electrode by changing the thickness of the transparent electrode provided in contact with the reflective electrode and the thickness of the carrier transport layer such as the hole injection layer and the hole transport layer.
  • the distance (cavity length) can be changed.
  • FIG. 4A shows an example in which the optical path length is adjusted by the transparent electrode 101-2 which is a part of the first electrode 101, but the optical path is formed by the hole injection layer 111 as shown in FIG.
  • the length may be adjusted, may be adjusted by the hole transport layer 112, or two or more of these may be used in combination.
  • the light reflected by the reflective electrode has a large interference with the light (first incident light) directly incident on the semi-transmissive / semi-reflective electrode from the light emitting layer. Therefore, it is preferable to adjust the optical distance between the reflective electrode and the light emitting layer to (2n-1) ⁇ / 4 (where n is a natural number of 1 or more and ⁇ is the wavelength of light emission to be amplified). By adjusting the optical distance, the phase of the first reflected light and the first incident light can be matched to further amplify the light emission from the light emitting layer.
  • the EL layer 103 preferably has a laminated structure, but the laminated structure is not particularly limited, and a hole injection layer, a hole transport layer, an electron transport layer, an electron injection layer, a carrier block layer, an exciton Various layer structures such as a block layer and a charge generation layer can be applied.
  • the hole injection layer 111 is a layer containing a substance having an acceptor property.
  • a substance having an acceptor property any of an organic compound and an inorganic compound can be used.
  • a compound having an electron withdrawing group (halogen group or cyano group) can be used, and 7,7,8,8-tetracyano-2,3,5,6-tetrafluoroquinodimethane.
  • F4-TCNQ 4,7,8,8-tetracyano-2,3,5,6-tetrafluoroquinodimethane
  • HAT-CN 2,3,6,7,10,11-hexacyano-1,4 , 5,8,9,12-hexaazatriphenylene
  • F6-TCNNQ 1,3,4,5,7,8-hexafluorotetracyano-naphthoquinodimethane
  • a compound having an electron-withdrawing group can be used.
  • the organic compound having acceptor properties a compound in which an electron withdrawing group is bonded to a condensed aromatic ring having a plurality of heteroatoms such as HAT-CN is preferable because it is thermally stable.
  • Radialene derivatives having an electron-withdrawing group are preferable because of their very high electron-accepting properties.
  • ⁇ , ⁇ ′, ⁇ ′′ 1,2,3-cyclopropanetriylidenetris [4-cyano-2,3,5,6-tetrafluorobenzeneacetonitrile], ⁇ , ⁇ ′, ⁇ ′′ -1,2,3-cyclopropanetriylidenetris [2,6-dichloro-3,5-difluoro-4- (trifluoromethyl) benzeneacetonitrile], ⁇ , ⁇ ′, ⁇ ′′ -1,2,3-cyclopropanetriylidentris [2,3,4, 5,6-pentafluorobenzeneacetonitrile] and the like.
  • molybdenum oxide, vanadium oxide, ruthenium oxide, tungsten oxide, manganese oxide, or the like can be used as the acceptor substance.
  • phthalocyanine-based complex compounds such as phthalocyanine (abbreviation: H 2 Pc) and copper phthalocyanine (CuPC), 4,4′-bis [N- (4-diphenylaminophenyl) -N-phenylamino] biphenyl (abbreviation) : DPAB), N, N′-bis ⁇ 4- [bis (3-methylphenyl) amino] phenyl ⁇ -N, N′-diphenyl- (1,1′-biphenyl) -4,4′-diamine (abbreviation) :
  • the hole injection layer 111 is also formed by an aromatic amine compound such as DNTPD) or a polymer such as poly (3,4-ethylenedioxythiophene) / poly (styrenesulf
  • a composite material in which an acceptor substance is contained in a substance having a hole-transport property can be used for the hole-injecting layer 111.
  • a material for forming an electrode can be selected regardless of a work function. That is, not only a material with a high work function but also a material with a low work function can be used for the first electrode 101.
  • acceptor substance 7,7,8,8-tetracyano-2,3,5,6-tetrafluoroquinodimethane (abbreviation: F4-TCNQ), chloranil, 1,3,4,5,7,
  • F4-TCNQ 7,7,8,8-tetracyano-2,3,5,6-tetrafluoroquinodimethane
  • chloranil 1,3,4,5,7
  • An organic compound having an acceptor property such as 8-hexafluorotetracyano-naphthoquinodimethane (abbreviation: F6-TCNNQ) and a transition metal oxide
  • F6-TCNNQ 8-hexafluorotetracyano-naphthoquinodimethane
  • a transition metal oxide an oxide of a metal belonging to Groups 4 to 8 in the periodic table can be used.
  • vanadium oxide, niobium oxide, tantalum oxide, chromium oxide, molybdenum oxide, tungsten oxide, manganese oxide, rhenium oxide, and the like have high electron-accepting properties. Therefore, it is preferable.
  • molybdenum oxide is especially preferable because it is stable in the air, has a low hygroscopic property, and is easy to handle.
  • the hole-transporting substance used for the composite material various organic compounds such as aromatic amine compounds, carbazole derivatives, aromatic hydrocarbons, and high molecular compounds (oligomers, dendrimers, polymers, and the like) can be used.
  • the hole-transporting substance used for the composite material is preferably a substance having a hole mobility of 10 ⁇ 6 cm 2 / Vs or higher.
  • organic compounds that can be used as the hole transporting substance in the composite material are specifically listed.
  • N, N′-di (p-tolyl) -N, N′-diphenyl-p-phenylenediamine abbreviation: DTDPPA
  • 4,4′-bis [ N- (4-diphenylaminophenyl) -N-phenylamino] biphenyl abbreviation: DPAB
  • N, N′-bis ⁇ 4- [bis (3-methylphenyl) amino] phenyl ⁇ -N, N′-diphenyl -(1,1′-biphenyl) -4,4′-diamine abbreviation: DNTPD
  • DPA3B 1,3-bis- (4-bis (4-methyl-phenyl) -amino-phenyl) -cyclohexane
  • carbazole derivative examples include 3- [N- (9-phenylcarbazol-3-yl) -N-phenylamino] -9-phenylcarbazole (abbreviation: PCzPCA1), 3,6-bis [N— (9-phenylcarbazol-3-yl) -N-phenylamino] -9-phenylcarbazole (abbreviation: PCzPCA2), 3- [N- (1-naphthyl) -N- (9-phenylcarbazol-3-yl) Amino] -9-phenylcarbazole (abbreviation: PCzPCN1), 4,4′-di (N-carbazolyl) biphenyl (abbreviation: CBP), 1,3,5-tris [4- (N-carbazolyl) phenyl] benzene ( Abbreviation: TCPB), 9- [4- (10-phenylanthracen-9-yl) phenyl]
  • aromatic hydrocarbon examples include 2-tert-butyl-9,10-di (2-naphthyl) anthracene (abbreviation: t-BuDNA), 2-tert-butyl-9,10-di (1-naphthyl).
  • pentacene, coronene, and the like can also be used. It may have a vinyl skeleton.
  • aromatic hydrocarbon having a vinyl group for example, 4,4′-bis (2,2-diphenylvinyl) biphenyl (abbreviation: DPVBi), 9,10-bis [4- (2,2- Diphenylvinyl) phenyl] anthracene (abbreviation: DPVPA) and the like.
  • DPVBi 4,4′-bis (2,2-diphenylvinyl) biphenyl
  • DPVPA 9,10-bis [4- (2,2- Diphenylvinyl) phenyl] anthracene
  • poly (N-vinylcarbazole) (abbreviation: PVK), poly (4-vinyltriphenylamine) (abbreviation: PVTPA), poly [N- (4- ⁇ N ′-[4- (4-diphenylamino)] Phenyl] phenyl-N′-phenylamino ⁇ phenyl) methacrylamide] (abbreviation: PTPDMA), poly [N, N′-bis (4-butylphenyl) -N, N′-bis (phenyl) benzidine] (abbreviation: Polymer compounds such as Poly-TPD can also be used.
  • the hole injecting layer 111 By forming the hole injecting layer 111, the hole injecting property is improved and a light emitting element with a low driving voltage can be obtained.
  • An organic compound having an acceptor property is an easy-to-use material because it can be easily deposited and easily formed into a film.
  • the composite material has good conductivity. Therefore, even if it is formed as a thick film, the drive voltage is hardly deteriorated, and the cavity length in the microcavity structure is adjusted. It is very suitable as a layer to perform.
  • the hole transport layer 112 is formed including a material having a hole transport property.
  • the material having a hole transporting property preferably has a hole mobility of 1 ⁇ 10 ⁇ 6 cm 2 / Vs or more.
  • the hole-transport layer 112 preferably contains the organic compound of one embodiment of the present invention. By including the organic compound described in Embodiment 1 in the hole-transport layer 112, a layer having a low refractive index can be formed inside the EL layer 103, and the external quantum efficiency of the light-emitting element can be improved. Become.
  • Examples of the material having a hole transporting property include 4,4′-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] biphenyl (abbreviation: NPB), N, N′-bis (3-methylphenyl).
  • the light emitting layer 113 is a layer containing a host material and a light emitting material.
  • the light emitting material may be a fluorescent light emitting material, a phosphorescent light emitting material, a material exhibiting thermally activated delayed fluorescence (TADF), or another light emitting material. Moreover, even if it is a single layer, it may consist of a plurality of layers containing different light emitting materials.
  • Examples of materials that can be used as the fluorescent light-emitting substance in the light-emitting layer 113 include the following. Other fluorescent materials can also be used.
  • condensed aromatic diamine compounds typified by pyrenediamine compounds such as 1,6FLPAPrn, 1,6mMemFLPAPrn, and 1,6BnfAPrn-03 are preferable because they have high hole trapping properties and are excellent in luminous efficiency and reliability.
  • Examples of materials that can be used as the phosphorescent material in the light-emitting layer 113 include the following.
  • a rare earth metal complex such as tris (acetylacetonato) (monophenanthroline) terbium (III) (abbreviation: [Tb (acac) 3 (Phen)]) can be given. These are compounds that mainly emit green phosphorescence, and have an emission peak at 500 nm to 600 nm. Note that an organometallic iridium complex having a pyrimidine skeleton is particularly preferable because of its outstanding reliability and luminous efficiency.
  • a known phosphorescent light emitting material may be selected and used.
  • TADF material fullerene and its derivatives, acridine and its derivatives, eosin derivatives and the like can be used.
  • metal-containing porphyrins including magnesium (Mg), zinc (Zn), cadmium (Cd), tin (Sn), platinum (Pt), indium (In), palladium (Pd), and the like can be given.
  • the metal-containing porphyrin include a protoporphyrin-tin fluoride complex (SnF 2 (Proto IX)), a mesoporphyrin-tin fluoride complex (SnF 2 (Meso IX)) represented by the following structural formula, and hematoporphyrin.
  • the heterocyclic compound has a ⁇ -electron rich heteroaromatic ring and a ⁇ -electron deficient heteroaromatic ring, both the electron transport property and the hole transport property are high, which is preferable.
  • a substance in which a ⁇ -electron rich heteroaromatic ring and a ⁇ -electron deficient heteroaromatic ring are directly bonded increases both the donor property of the ⁇ -electron rich heteroaromatic ring and the acceptor property of the ⁇ -electron deficient heteroaromatic ring. Since the energy difference between the S 1 level and the T 1 level is small, it is particularly preferable because thermally activated delayed fluorescence can be obtained efficiently.
  • an aromatic ring to which an electron withdrawing group such as a cyano group is bonded may be used.
  • various carrier transport materials such as a material having an electron transport property and a material having a hole transport property can be used.
  • the substances mentioned as the material having a hole transporting property contained in the hole transporting layer 112 can be preferably used.
  • bis (10-hydroxybenzo [h] quinolinato) beryllium (II) (abbreviation: BeBq 2 ), bis (2-methyl-8-quinolinolato) (4-phenylphenolato) Aluminum (III) (abbreviation: BAlq), bis (8-quinolinolato) zinc (II) (abbreviation: Znq), bis [2- (2-benzoxazolyl) phenolato] zinc (II) (abbreviation: ZnPBO), Metal complexes such as bis [2- (2-benzothiazolyl) phenolato] zinc (II) (abbreviation: ZnBTZ), 2- (4-biphenylyl) -5- (4-tert-butylphenyl) -1,3,4 -Oxadiazole (abbreviation: PBD), 3- (4-biphenylyl) -4-phenyl-5- (4-tert-butylpheny
  • a heterocyclic compound having a diazine skeleton and a heterocyclic compound having a pyridine skeleton are preferable because of their good reliability.
  • a heterocyclic compound having a diazine (pyrimidine or pyrazine) skeleton has a high electron transporting property and contributes to a reduction in driving voltage.
  • a material having an anthracene skeleton is preferable as the host material.
  • a substance having an anthracene skeleton is used as a host material for a fluorescent light-emitting substance, a light-emitting layer with favorable emission efficiency and durability can be realized.
  • Many materials having an anthracene skeleton have deep HOMO levels, and thus can be favorably applied to one embodiment of the present invention.
  • a substance having an anthracene skeleton used as a host material a diphenylanthracene skeleton, particularly a substance having a 9,10-diphenylanthracene skeleton, is preferable because it is chemically stable.
  • the host material has a carbazole skeleton because hole injection / transport properties are improved.
  • the HOMO level is about 0.1 eV than carbazole. It is more preferable because it becomes shallower and holes can easily enter.
  • the host material contains a dibenzocarbazole skeleton, the HOMO level is shallower than carbazole by about 0.1 eV, which facilitates the entry of holes, and also has excellent hole transportability and high heat resistance. It is.
  • a substance having a 9,10-diphenylanthracene skeleton and a carbazole skeleton (or a benzocarbazole skeleton or a dibenzocarbazole skeleton) at the same time is more preferable as a host material.
  • a benzofluorene skeleton or a dibenzofluorene skeleton may be used instead of the carbazole skeleton.
  • Examples of such a substance include 9-phenyl-3- [4- (10-phenyl-9-anthryl) phenyl] -9H-carbazole (abbreviation: PCzPA), 3- [4- (1-naphthyl)- Phenyl] -9-phenyl-9H-carbazole (abbreviation: PCPN), 9- [4- (10-phenyl-9-anthracenyl) phenyl] -9H-carbazole (abbreviation: CzPA), 7- [4- (10- Phenyl-9-anthryl) phenyl] -7H-dibenzo [c, g] carbazole (abbreviation: cgDBCzPA), 6- [3- (9,10-diphenyl-2-anthryl) phenyl] -benzo [b] naphtho [1 , 2-d] furan (abbreviation: 2 mBnfPPA), 9-phenyl-10-
  • the host material may be a material in which a plurality of types of substances are mixed.
  • a mixed host material it is preferable to mix a material having an electron transporting property and a material having a hole transporting property. .
  • the exciplex selects a combination that forms an exciplex that emits light that overlaps with the wavelength of the absorption band on the lowest energy side of the light-emitting material, energy transfer becomes smooth and light can be emitted efficiently. preferable. Further, it is preferable to use the structure because the driving voltage is also reduced.
  • One embodiment of the present invention is particularly suitable for a light-emitting element that emits blue light.
  • the electron transport layer 114 is a layer containing a substance having an electron transport property.
  • the substance having an electron transporting property those exemplified as the substance having an electron transporting property that can be used for the host material can be used.
  • an alkali metal or an alkali such as lithium fluoride (LiF), cesium fluoride (CsF), calcium fluoride (CaF 2 ), or the like is used as the electron injection layer 115.
  • a layer containing an earth metal or a compound thereof may be provided.
  • the electron injecting layer 115 a layer made of a substance having an electron transporting property, an alkali metal, an alkaline earth metal, or a compound thereof, or electride may be used. Examples of the electride include a substance obtained by adding a high concentration of electrons to a mixed oxide of calcium and aluminum.
  • a substance having an electron-transport property includes the above alkali metal or alkaline earth metal fluoride in a concentration or higher (50 wt% or more) in a microcrystalline state. It is also possible to use a stripped layer. Since the layer is a layer having a low refractive index, a light-emitting element with better external quantum efficiency can be provided.
  • a charge generation layer 116 may be provided instead of the electron injection layer 115 (FIG. 4B).
  • the charge generation layer 116 is a layer that can inject holes into a layer in contact with the cathode side of the layer and inject electrons into a layer in contact with the anode side by applying a potential.
  • the charge generation layer 116 includes at least a P-type layer 117.
  • the P-type layer 117 is preferably formed using the composite material mentioned as the material that can form the hole injection layer 111 described above. Further, the P-type layer 117 may be formed by stacking the above-described film containing an acceptor material and a film containing a hole transport material as a material constituting the composite material.
  • the organic compound of one embodiment of the present invention is an organic compound having a low refractive index, a light-emitting element with favorable external quantum efficiency can be obtained by using it for the P-type layer 117.
  • the charge generation layer 116 is preferably provided with one or both of an electron relay layer 118 and an electron injection buffer layer 119 in addition to the P-type layer 117.
  • the electron relay layer 118 includes at least a substance having an electron transporting property, and has a function of smoothly transferring electrons by preventing the interaction between the electron injection buffer layer 119 and the P-type layer 117.
  • the LUMO level of the substance having an electron transporting property contained in the electron relay layer 118 is the LUMO level of the acceptor substance in the P-type layer 117 and the substance contained in the layer in contact with the charge generation layer 116 in the electron transporting layer 114. It is preferably between the LUMO levels.
  • the specific energy level of the LUMO level in the substance having an electron transporting property used for the electron relay layer 118 is ⁇ 5.0 eV or more, preferably ⁇ 5.0 eV or more and ⁇ 3.0 eV or less. Note that as the substance having an electron transporting property used for the electron relay layer 118, a phthalocyanine-based material or a metal complex having a metal-oxygen bond and an aromatic ligand is preferably used.
  • the electron injection buffer layer 119 includes an alkali metal, an alkaline earth metal, a rare earth metal, and a compound thereof (including an alkali metal compound (including an oxide such as lithium oxide, a halide, and a carbonate such as lithium carbonate and cesium carbonate).
  • Alkaline earth metal compounds (including oxides, halides, carbonates) or rare earth metal compounds (including oxides, halides, carbonates) can be used. It is.
  • the electron injection buffer layer 119 is formed to include an electron transporting substance and a donor substance, an alkali metal, an alkaline earth metal, a rare earth metal, or a compound thereof (as a donor substance)
  • Alkali metal compounds including oxides such as lithium oxide, halides, carbonates such as lithium carbonate and cesium carbonate
  • alkaline earth metal compounds including oxides, halides, carbonates
  • rare earth metal compounds In addition to (including oxides, halides, and carbonates), organic compounds such as tetrathianaphthacene (abbreviation: TTN), nickelocene, and decamethyl nickelocene can also be used.
  • TTN tetrathianaphthacene
  • nickelocene nickelocene
  • decamethyl nickelocene can also be used.
  • the substance having an electron transporting property can be formed using a material similar to the material of the electron transport layer 114 described above.
  • a metal, an alloy, an electrically conductive compound, a mixture thereof, or the like having a low work function (specifically, 3.8 eV or less) can be used as a material for forming the second electrode 102.
  • cathode materials include alkali metals such as lithium (Li) and cesium (Cs), and group 1 of the periodic table of elements such as magnesium (Mg), calcium (Ca), and strontium (Sr) Examples include elements belonging to Group 2, and alloys containing these (MgAg, AlLi), europium (Eu), ytterbium (Yb), and other rare earth metals, and alloys containing these.
  • indium oxide-tin oxide containing Al, Ag, ITO, silicon or silicon oxide regardless of the work function.
  • Various conductive materials such as the above can be used for the second electrode 102. These conductive materials can be formed by a dry method such as a vacuum evaporation method or a sputtering method, an inkjet method, a spin coating method, or the like. Alternatively, a sol-gel method may be used for a wet method, or a metal material paste may be used for a wet method.
  • a formation method of the EL layer 103 various methods can be used regardless of a dry method or a wet method.
  • a vacuum deposition method a gravure printing method, an offset printing method, a screen printing method, an ink jet method, a spin coating method, or the like may be used.
  • each electrode or each layer described above may be formed by using different film forming methods.
  • the structure of the layers provided between the first electrode 101 and the second electrode 102 is not limited to the above. However, in order to suppress quenching caused by the proximity of the light emitting region and the metal used for the electrode and the carrier injection layer, holes and electrons are separated from the first electrode 101 and the second electrode 102. A structure in which a light emitting region in which recombinations are provided is preferable.
  • Embodiment 2 In this embodiment, a light-emitting device using the light-emitting element described in Embodiment 1 will be described.
  • FIGS. 5A is a top view illustrating the light-emitting device
  • FIG. 5B is a cross-sectional view taken along lines AB and CD of FIG. 5A.
  • This light-emitting device includes a drive circuit portion (source line drive circuit) 601, a pixel portion 602, and a drive circuit portion (gate line drive circuit) 603 indicated by dotted lines, which control light emission of the light-emitting elements.
  • Reference numeral 604 denotes a sealing substrate
  • reference numeral 605 denotes a sealing material
  • the inside surrounded by the sealing material 605 is a space 607.
  • the lead wiring 608 is a wiring for transmitting a signal input to the source line driver circuit 601 and the gate line driver circuit 603, and a video signal, a clock signal, an FPC (flexible printed circuit) 609 serving as an external input terminal, Receives start signal, reset signal, etc.
  • FPC flexible printed circuit
  • a printed wiring board PWB
  • the light-emitting device in this specification includes not only a light-emitting device body but also a state in which an FPC or a PWB is attached thereto.
  • a driver circuit portion and a pixel portion are formed over the element substrate 610.
  • a source line driver circuit 601 that is a driver circuit portion and one pixel in the pixel portion 602 are illustrated.
  • the element substrate 610 is manufactured using a substrate made of glass, quartz, organic resin, metal, alloy, semiconductor, or the like, or a plastic substrate made of FRP (Fiber Reinforced Plastics), PVF (polyvinyl fluoride), polyester, acrylic resin, or the like. do it.
  • FRP Fiber Reinforced Plastics
  • PVF polyvinyl fluoride
  • the structure of the transistor used for the pixel or the driver circuit there is no particular limitation on the structure of the transistor used for the pixel or the driver circuit.
  • an inverted staggered transistor or a staggered transistor may be used.
  • a top-gate transistor or a bottom-gate transistor may be used.
  • the semiconductor material used for the transistor is not particularly limited, and for example, silicon, germanium, silicon carbide, gallium nitride, or the like can be used.
  • an oxide semiconductor containing at least one of indium, gallium, and zinc, such as an In—Ga—Zn-based metal oxide, may be used.
  • crystallinity of a semiconductor material used for the transistor there is no particular limitation on the crystallinity of a semiconductor material used for the transistor, and any of an amorphous semiconductor and a semiconductor having crystallinity (a microcrystalline semiconductor, a polycrystalline semiconductor, a single crystal semiconductor, or a semiconductor partially including a crystal region) is used. May be used. It is preferable to use a crystalline semiconductor because deterioration of transistor characteristics can be suppressed.
  • an oxide semiconductor is preferably used for a semiconductor device such as a transistor used in a touch sensor described below.
  • an oxide semiconductor having a wider band gap than silicon is preferably used.
  • the oxide semiconductor preferably contains at least indium (In) or zinc (Zn).
  • the oxide semiconductor includes an oxide represented by an In-M-Zn-based oxide (M is a metal such as Al, Ti, Ga, Ge, Y, Zr, Sn, La, Ce, or Hf). Is more preferable.
  • the semiconductor layer has a plurality of crystal parts, and the crystal part has a c-axis oriented perpendicular to the formation surface of the semiconductor layer or the top surface of the semiconductor layer, and a grain boundary between adjacent crystal parts. It is preferable to use an oxide semiconductor film which does not contain any oxide.
  • the transistor having the above semiconductor layer can hold charge accumulated in the capacitor through the transistor for a long time due to the low off-state current.
  • the driving circuit can be stopped while maintaining the gradation of an image displayed in each display region. As a result, an electronic device with extremely low power consumption can be realized.
  • a base film In order to stabilize the characteristics of the transistor, it is preferable to provide a base film.
  • an inorganic insulating film such as a silicon oxide film, a silicon nitride film, a silicon oxynitride film, or a silicon nitride oxide film can be used, which can be formed as a single layer or a stacked layer.
  • the base film is formed by sputtering, CVD (Chemical Vapor Deposition) (plasma CVD, thermal CVD, MOCVD (Metal Organic CVD), etc.), ALD (Atomic Layer Deposition), coating, printing, etc. it can. Note that the base film is not necessarily provided if not necessary.
  • the FET 623 indicates one of the transistors formed in the drive circuit portion 601.
  • the driving circuit may be formed of various CMOS circuits, PMOS circuits, or NMOS circuits.
  • CMOS circuits complementary metal-oxide-semiconductor
  • PMOS circuits PMOS circuits
  • NMOS circuits NMOS circuits.
  • a driver integrated type in which a driver circuit is formed over a substrate is shown; however, this is not necessarily required, and the driver circuit can be formed outside the substrate.
  • the pixel portion 602 is formed by a plurality of pixels including the switching FET 611, the current control FET 612, and the first electrode 613 electrically connected to the drain thereof, but is not limited thereto.
  • the pixel portion may be a combination of two or more FETs and a capacitor.
  • an insulator 614 is formed so as to cover an end portion of the first electrode 613.
  • a positive photosensitive acrylic resin film can be used.
  • a curved surface having a curvature is formed at the upper end portion or the lower end portion of the insulator 614 in order to improve the coverage of an EL layer or the like to be formed later.
  • a positive photosensitive acrylic resin is used as the material of the insulator 614
  • a negative photosensitive resin or a positive photosensitive resin can be used as the insulator 614.
  • An EL layer 616 and a second electrode 617 are formed over the first electrode 613.
  • a material used for the first electrode 613 functioning as an anode a material having a high work function is preferably used.
  • a stack of a titanium nitride film and a film containing aluminum as a main component, a three-layer structure including a titanium nitride film, a film containing aluminum as a main component, and a titanium nitride film can be used. Note that with a stacked structure, resistance as a wiring is low, good ohmic contact can be obtained, and a function as an anode can be obtained.
  • the EL layer 616 is formed by various methods such as an evaporation method using an evaporation mask, an inkjet method, and a spin coating method.
  • the EL layer 616 includes the structure described in Embodiment 1. Further, as another material forming the EL layer 616, a low molecular compound or a high molecular compound (including an oligomer and a dendrimer) may be used.
  • the second electrode 617 formed over the EL layer 616 and functioning as a cathode a material having a low work function (Al, Mg, Li, Ca, or an alloy or compound thereof (MgAg, MgIn, AlLi etc.) is preferred.
  • the second electrode 617 includes a thin metal film and a transparent conductive film (ITO, 2 to 20 wt% oxidation).
  • ITO transparent conductive film
  • a stack of indium oxide containing zinc, indium tin oxide containing silicon, zinc oxide (ZnO), or the like is preferably used.
  • a light-emitting element is formed using the first electrode 613, the EL layer 616, and the second electrode 617.
  • the light-emitting element is the light-emitting element described in Embodiment 1.
  • the pixel portion includes a plurality of light-emitting elements, in the light-emitting device in this embodiment, both the light-emitting element described in Embodiment 1 and a light-emitting element having any other structure are mixed. You may do it.
  • the sealing substrate 604 is bonded to the element substrate 610 with the sealant 605, whereby the light-emitting element 618 is provided in the space 607 surrounded by the element substrate 610, the sealing substrate 604, and the sealant 605. Yes.
  • the space 607 is filled with a filler and may be filled with a sealing material in addition to the case of being filled with an inert gas (such as nitrogen or argon).
  • an epoxy resin or glass frit is preferably used for the sealant 605. Moreover, it is desirable that these materials are materials that do not transmit moisture and oxygen as much as possible.
  • a plastic substrate made of FRP (Fiber Reinforced Plastics), PVF (polyvinyl fluoride), polyester, acrylic resin, or the like can be used as a material for the sealing substrate 604.
  • a protective film may be provided on the second electrode.
  • the protective film may be formed of an organic resin film or an inorganic insulating film. Further, a protective film may be formed so as to cover the exposed portion of the sealant 605. The protective film can be provided so as to cover the exposed side surfaces of the surface and side surfaces of the pair of substrates, the sealing layer, the insulating layer, and the like.
  • the protective film a material that hardly permeates impurities such as water can be used. Therefore, it is possible to effectively suppress the diffusion of impurities such as water from the outside to the inside.
  • oxide, nitride, fluoride, sulfide, ternary compound, metal or polymer can be used as a material constituting the protective film.
  • oxide, nitride, fluoride, sulfide, ternary compound, metal or polymer can be used.
  • the protective film is preferably formed by using a film formation method having good step coverage (step coverage).
  • a film formation method having good step coverage there is an atomic layer deposition (ALD: Atomic Layer Deposition) method.
  • a material that can be formed by an ALD method is preferably used for the protective film.
  • ALD method a dense protective film with reduced defects such as cracks and pinholes or a uniform thickness can be formed.
  • damage to the processed member when forming the protective film can be reduced.
  • a protective film that is uniform and has few defects can be formed on the surface having a complicated uneven shape, and the top surface, side surface, and back surface of the touch panel.
  • the light-emitting device described in Embodiment 1 is used for the light-emitting device in this embodiment, a light-emitting device having favorable characteristics can be obtained. Specifically, since the light-emitting element described in Embodiment 1 has favorable light emission efficiency, a light-emitting device with low power consumption can be obtained.
  • FIGS. 6B is a top view of the lighting device
  • FIG. 6A is a cross-sectional view taken along line ef in FIG. 6B.
  • a first electrode 401 is formed over a light-transmitting substrate 400 which is a support.
  • the first electrode 401 corresponds to the first electrode 101 in Embodiment 1.
  • the first electrode 401 is formed using a light-transmitting material.
  • a pad 412 for supplying a voltage to the second electrode 404 is formed on the substrate 400.
  • An EL layer 403 is formed over the first electrode 401.
  • the EL layer 403 corresponds to the structure of the EL layer 103 in Embodiment 1. For these configurations, refer to the description.
  • a second electrode 404 is formed so as to cover the EL layer 403.
  • the second electrode 404 corresponds to the second electrode 102 in Embodiment 1.
  • the second electrode 404 is formed using a highly reflective material.
  • a voltage is supplied to the second electrode 404 by being connected to the pad 412.
  • the lighting device described in this embodiment includes a light-emitting element including the first electrode 401, the EL layer 403, and the second electrode 404. Since the light-emitting element is a light-emitting element with high emission efficiency, the lighting device in this embodiment can be a lighting device with low power consumption.
  • the substrate 400 on which the light-emitting element having the above structure is formed and the sealing substrate 407 are fixed using sealing materials 405 and 406 and sealed, whereby the lighting device is completed. Either one of the sealing materials 405 and 406 may be used.
  • a desiccant can be mixed in the inner sealing material 406 (not shown in FIG. 6B), so that moisture can be adsorbed and reliability can be improved.
  • an external input terminal can be obtained.
  • an IC chip 420 mounted with a converter or the like may be provided thereon.
  • the lighting device described in this embodiment uses the light-emitting element described in Embodiment 1 as an EL element, and can be a light-emitting device with low power consumption.
  • Embodiment 4 examples of electronic devices each including the light-emitting element described in Embodiment 1 will be described.
  • the light-emitting element described in Embodiment 1 has high emission efficiency and low power consumption.
  • the electronic device described in this embodiment can be an electronic device including a light-emitting portion with low power consumption.
  • a television device also referred to as a television or a television receiver
  • a monitor for a computer a digital camera, a digital video camera, a digital photo frame
  • a mobile phone a mobile phone
  • Large-sized game machines such as portable telephones, portable game machines, portable information terminals, sound reproduction apparatuses, and pachinko machines. Specific examples of these electronic devices are shown below.
  • FIG. 7A illustrates an example of a television device.
  • a display portion 7103 is incorporated in a housing 7101.
  • a structure in which the housing 7101 is supported by a stand 7105 is shown.
  • Images can be displayed on the display portion 7103, and the display portion 7103 is formed by arranging the light-emitting elements described in Embodiment 1 in a matrix.
  • the television device can be operated with an operation switch included in the housing 7101 or a separate remote controller 7110.
  • Channels and volume can be operated with an operation key 7109 provided in the remote controller 7110, and an image displayed on the display portion 7103 can be operated.
  • the remote controller 7110 may be provided with a display portion 7107 for displaying information output from the remote controller 7110.
  • the television device is provided with a receiver, a modem, and the like.
  • General TV broadcasts can be received by a receiver, and connected to a wired or wireless communication network via a modem, so that it can be unidirectional (sender to receiver) or bidirectional (sender and receiver). It is also possible to perform information communication between each other or between recipients).
  • FIG. 7B1 illustrates a computer, which includes a main body 7201, a housing 7202, a display portion 7203, a keyboard 7204, an external connection port 7205, a pointing device 7206, and the like. Note that this computer is manufactured by using the light-emitting elements described in Embodiment 1 for the display portion 7203 in a matrix.
  • the computer shown in FIG. 7B1 may have a form as shown in FIG.
  • a computer in FIG. 7B2 includes a second display portion 7210 instead of the keyboard 7204 and the pointing device 7206.
  • the second display portion 7210 is a touch panel type, and input can be performed by operating a display for input displayed on the second display portion 7210 with a finger or a dedicated pen.
  • the second display portion 7210 can display not only an input display but also other images.
  • the display portion 7203 may also be a touch panel.
  • FIG. 7C illustrates an example of a mobile terminal.
  • the mobile phone includes a display portion 7402 incorporated in a housing 7401, operation buttons 7403, an external connection port 7404, a speaker 7405, a microphone 7406, and the like.
  • the cellular phone 7400 includes a display portion 7402 manufactured by arranging the light-emitting elements described in Embodiment 1 in a matrix.
  • the portable terminal illustrated in FIG. 7C can have a structure in which information can be input by touching the display portion 7402 with a finger or the like. In this case, operations such as making a call or creating a mail can be performed by touching the display portion 7402 with a finger or the like.
  • the first mode is a display mode mainly for displaying an image.
  • the first is a display mode mainly for displaying images, and the second is an input mode mainly for inputting information such as characters.
  • the third is a display + input mode in which the display mode and the input mode are mixed.
  • the display portion 7402 may be set to a character input mode mainly for inputting characters, and an operation for inputting characters displayed on the screen may be performed. In this case, it is preferable to display a keyboard or number buttons on most of the screen of the display portion 7402.
  • the orientation (portrait or horizontal) of the mobile terminal is determined, and the screen display of the display portion 7402 is automatically displayed. Can be switched automatically.
  • the screen mode is switched by touching the display portion 7402 or operating the operation button 7403 of the housing 7401. Further, switching can be performed depending on the type of image displayed on the display portion 7402. For example, if the image signal to be displayed on the display unit is moving image data, the mode is switched to the display mode, and if it is text data, the mode is switched to the input mode.
  • the screen mode is switched from the input mode to the display mode. You may control.
  • the display portion 7402 can function as an image sensor. For example, personal authentication can be performed by touching the display portion 7402 with a palm or a finger and capturing an image of a palm print, a fingerprint, or the like. In addition, if a backlight that emits near-infrared light or a sensing light source that emits near-infrared light is used for the display portion, finger veins, palm veins, and the like can be imaged.
  • the applicable range of the light-emitting device including the light-emitting element described in Embodiment 1 is so wide that the light-emitting device can be applied to electronic devices in various fields.
  • an electronic device with low power consumption can be obtained.
  • FIG. 8A is a schematic diagram illustrating an example of a cleaning robot.
  • the cleaning robot 5100 includes a display 5101 disposed on the upper surface, a plurality of cameras 5102 disposed on the side surface, brushes 5103, and operation buttons 5104. Although not shown, the lower surface of the cleaning robot 5100 is provided with a tire, a suction port, and the like. In addition, the cleaning robot 5100 includes various sensors such as an infrared sensor, an ultrasonic sensor, an acceleration sensor, a piezo sensor, an optical sensor, and a gyro sensor. Moreover, the cleaning robot 5100 includes a wireless communication unit.
  • the cleaning robot 5100 is self-propelled, can detect the dust 5120, and can suck the dust from the suction port provided on the lower surface.
  • the cleaning robot 5100 can analyze an image captured by the camera 5102 and determine whether there is an obstacle such as a wall, furniture, or a step. In addition, when an object that is likely to be entangled with the brush 5103 such as wiring is detected by image analysis, the rotation of the brush 5103 can be stopped.
  • the display 5101 can display the remaining battery level, the amount of dust sucked, and the like.
  • the route on which the cleaning robot 5100 has traveled may be displayed on the display 5101.
  • the display 5101 may be a touch panel, and the operation buttons 5104 may be provided on the display 5101.
  • the cleaning robot 5100 can communicate with a portable electronic device 5140 such as a smartphone.
  • An image captured by the camera 5102 can be displayed on the portable electronic device 5140. Therefore, the owner of the cleaning robot 5100 can know the state of the room even when away from home.
  • the display on the display 5101 can be confirmed with a portable electronic device 5140 such as a smartphone.
  • the light-emitting device of one embodiment of the present invention can be used for the display 5101.
  • a robot 2100 illustrated in FIG. 8B includes an arithmetic device 2110, an illuminance sensor 2101, a microphone 2102, an upper camera 2103, a speaker 2104, a display 2105, a lower camera 2106, an obstacle sensor 2107, and a moving mechanism 2108.
  • the microphone 2102 has a function of detecting a user's speaking voice, environmental sound, and the like.
  • the speaker 2104 has a function of emitting sound.
  • the robot 2100 can communicate with the user using the microphone 2102 and the speaker 2104.
  • the display 2105 has a function of displaying various information.
  • the robot 2100 can display information desired by the user on the display 2105.
  • the display 2105 may be equipped with a touch panel. Further, the display 2105 may be an information terminal that can be removed, and is installed at a fixed position of the robot 2100 to enable charging and data transfer.
  • the upper camera 2103 and the lower camera 2106 have a function of imaging the surroundings of the robot 2100.
  • the obstacle sensor 2107 can detect the presence or absence of an obstacle in the traveling direction when the robot 2100 moves forward using the moving mechanism 2108.
  • the robot 2100 can recognize the surrounding environment using the upper camera 2103, the lower camera 2106, and the obstacle sensor 2107, and can move safely.
  • the light-emitting device of one embodiment of the present invention can be used for the display 2105.
  • FIG. 8C illustrates an example of a goggle type display.
  • the goggle type display includes, for example, a housing 5000, a display unit 5001, a speaker 5003, an LED lamp 5004, operation keys 5005 (including a power switch or an operation switch), a connection terminal 5006, and a sensor 5007 (force, displacement, position, speed). , Acceleration, angular velocity, number of revolutions, distance, light, liquid, magnetism, temperature, chemical, sound, time, hardness, electric field, current, voltage, power, radiation, flow rate, humidity, gradient, vibration, smell, or infrared
  • the light-emitting device of one embodiment of the present invention can be used for the display portion 5001 and the second display portion 5002.
  • FIG. 9 illustrates an example in which the light-emitting element described in Embodiment 1 is used for a table lamp which is a lighting device.
  • the desk lamp illustrated in FIG. 9 includes a housing 2001 and a light source 2002.
  • the light source 2002 the lighting device described in Embodiment 2 may be used.
  • FIG. 10 illustrates an example in which the light-emitting element described in Embodiment 1 is used as an indoor lighting device 3001. Since the light-emitting element described in Embodiment 1 is a light-emitting element with high light emission efficiency, the lighting device can have low power consumption. Further, since the light-emitting element described in Embodiment 1 can have a large area, the light-emitting element can be used as a large-area lighting device. Further, since the light-emitting element described in Embodiment 1 is thin, it can be used as a thin lighting device.
  • the light-emitting element described in Embodiment 1 can be mounted on a windshield or a dashboard of an automobile.
  • FIG. 11 illustrates one mode in which the light-emitting element described in Embodiment 1 is used for a windshield or a dashboard of an automobile.
  • Display regions 5200 to 5203 are display regions provided using the light-emitting element described in Embodiment 1.
  • a display region 5200 and a display region 5201 are display devices on which the light-emitting elements described in Embodiment 1 provided on a windshield of an automobile are mounted.
  • the light-emitting element described in Embodiment 1 can be a display device in a so-called see-through state in which a first electrode and a second electrode are formed using a light-transmitting electrode so that opposite sides can be seen through. . If it is a see-through display, it can be installed without obstructing the field of view even if it is installed on the windshield of an automobile. Note that in the case where a transistor for driving or the like is provided, a light-transmitting transistor such as an organic transistor using an organic semiconductor material or a transistor using an oxide semiconductor is preferably used.
  • a display region 5202 is a display device on which the light-emitting element described in Embodiment 1 is provided in a pillar portion.
  • the field of view blocked by the pillar can be complemented by projecting an image from the imaging means provided on the vehicle body.
  • the display area 5203 provided in the dashboard portion compensates for the blind spot by projecting the image from the imaging means provided outside the vehicle from the field of view blocked by the vehicle body, and improves safety. Can do. By displaying the video so as to complement the invisible part, it is possible to check the safety more naturally and without a sense of incongruity.
  • the display area 5203 can also provide various other information by displaying navigation information, speedometer and tachometer, mileage, fuel gauge, gear state, air conditioner settings, and the like.
  • the display items and layout can be appropriately changed according to the user's preference. Note that these pieces of information can also be provided in the display areas 5200 to 5202.
  • the display areas 5200 to 5203 can also be used as lighting devices.
  • FIG. 12A and 12B show a foldable portable information terminal 5150.
  • FIG. A foldable portable information terminal 5150 includes a housing 5151, a display region 5152, and a bent portion 5153.
  • FIG. 12A shows the portable information terminal 5150 in a developed state.
  • FIG. 12B illustrates the portable information terminal 5150 in a folded state. Although the portable information terminal 5150 has a large display area 5152, the portable information terminal 5150 is compact and excellent in portability when folded.
  • the display region 5152 can be folded in half by a bent portion 5153.
  • the bent portion 5153 includes an extendable member and a plurality of support members. When the bent portion 5153 is folded, the extendable member extends, and the bent portion 5153 has a radius of curvature of 2 mm or more, preferably 3 mm or more. It can be folded.
  • the display area 5152 may be a touch panel (input / output device) equipped with a touch sensor (input device).
  • the light-emitting device of one embodiment of the present invention can be used for the display region 5152.
  • FIG. 13A to 13C show a foldable portable information terminal 9310.
  • FIG. 13A illustrates the portable information terminal 9310 in a developed state.
  • FIG. 13B illustrates the portable information terminal 9310 in a state in which the state is changing from one of the developed state or the folded state to the other.
  • FIG. 13C illustrates the portable information terminal 9310 in a folded state.
  • the portable information terminal 9310 is excellent in portability in the folded state and excellent in display listability due to a seamless wide display area in the expanded state.
  • the display panel 9311 is supported by three housings 9315 connected by hinges 9313.
  • the display panel 9311 may be a touch panel (input / output device) equipped with a touch sensor (input device).
  • the display panel 9311 can be reversibly deformed from a developed state to a folded state by bending the two housings 9315 via the hinge 9313.
  • the light-emitting device of one embodiment of the present invention can be used for the display panel 9311.
  • a display region 9312 in the display panel 9311 is a display region located on a side surface of the portable information terminal 9310 in a folded state.
  • an alloy film of silver (Ag), palladium (Pd), and copper (Cu) (Ag—Pd—Cu (APC) film) is formed as a reflective electrode on a glass substrate with a film thickness of 100 nm by a sputtering method.
  • indium tin oxide containing silicon oxide (ITSO) was formed to a thickness of 85 nm as a transparent electrode by a sputtering method, whereby the first electrode 101 was formed.
  • the electrode area was 4 mm 2 (2 mm ⁇ 2 mm).
  • the surface of the substrate was washed with water, baked at 200 ° C. for 1 hour, and then subjected to UV ozone treatment for 370 seconds.
  • the substrate is introduced into a vacuum vapor deposition apparatus whose internal pressure is reduced to about 10 ⁇ 4 Pa, vacuum baking is performed at 170 ° C. for 30 minutes in a heating chamber in the vacuum vapor deposition apparatus, and then the substrate is released for about 30 minutes. Chilled.
  • the substrate on which the first electrode 101 is formed is fixed to a substrate holder provided in the vacuum evaporation apparatus so that the surface on which the first electrode 101 is formed is downward, and the first electrode 101 Further, 3- [4- (9-phenanthryl) -phenyl] -9-phenyl-9H-carbazole (abbreviation: PCPPn) and molybdenum oxide (VI) represented by the above structural formula (i) are formed by an evaporation method.
  • the change of the optical path length of the light emitting element was realized by changing the film thickness of the hole injection layer 111.
  • the thickness of the hole injection layer 111 is 10 nm
  • the light emitting element 1-2 is 15 nm
  • the light emitting element 1-3 is 20 nm
  • the light emitting element 1-4 is 25 nm
  • the light emitting element 1-5 is 30 nm
  • the light emitting element 1-6 was manufactured to have a thickness of 35 nm
  • the light emitting element 1-7 to have a thickness of 40 nm
  • the light emitting element 1-8 to have a thickness of 45 nm.
  • PCPPn was deposited by 15 nm to form a hole transport layer 112.
  • cgDBCzPA was vapor-deposited on the light-emitting layer 113 so as to have a film thickness of 5 nm
  • 2,9-bis (naphthalen-2-yl) -4,7-diphenyl-1 represented by the above structural formula (iv) , 10-phenanthroline (abbreviation: NBPhen) was deposited to a thickness of 15 nm to form the electron transport layer 114.
  • the second electrode 102 was formed by vapor deposition so as to have a thickness of 0.1 and a thickness of 10 nm, whereby the light emitting elements 1-1 to 1-8 were manufactured.
  • the second electrode 102 is a semi-transmissive / semi-reflective electrode having a function of reflecting light and a function of transmitting light, and the light-emitting element of this embodiment is a top emission type that extracts light from the second electrode 102. It is an element.
  • DBT3P-II 1,3,5-tri (dibenzothiophen-4-yl) -benzene represented by the above structural formula (v) is deposited on the second electrode 102 by 70 nm, The extraction efficiency is improved.
  • Tables 1 and 2 show the film thickness of the hole injection layer in each light emitting device.
  • the produced light-emitting element is sealed with a glass substrate in a glove box in a nitrogen atmosphere so that the light-emitting element is not exposed to the atmosphere (a sealing material is applied around the element, and UV treatment is performed at 80 ° C. at the time of sealing. 1 hour heat treatment) and then measured. The measurement was performed at room temperature.
  • Measurement results of the light-emitting elements 1-1 to 1-8 are shown below. All the measurement results are values when the luminance is around 1000 cd / m 2 .
  • the external quantum efficiency is an uncorrected external quantum efficiency calculated by assuming Lambertian light distribution from the front luminance.
  • FIG. 14 shows a PL spectrum in a toluene solution of 1,6 mFLPAPrn, which is an emission center substance.
  • a fluorometer manufactured by Hamamatsu Photonics Co., Ltd., Edinburgh Instruments FS920
  • E ave the average photon energy shown in Embodiment 1
  • the average energy (E ave ) of the PL spectrum in a toluene solution of 1,6 mFLPAPrn was calculated to be 2.61 eV.
  • the emission edge on the short wavelength side of the PL spectrum in a toluene solution of 1,6 mFLPAPrn was determined as shown in FIG. 15, it was 438 nm and its energy was 2.83 eV.
  • FIG. 16 is a graph showing the relationship between the external quantum efficiency (EQE) and the blue index (BI) with respect to the peak energy (E em ) of light emission in each light-emitting element, where the horizontal axis is E em and the vertical axis is EQE. And BI.
  • the numerical value of 2.69 eV is energy corresponding to 0.95 times 2.83 eV which is E edge .
  • a blue light emitting device having a microcavity structure emits light with good efficiency in a light emitting device having a cavity length capable of obtaining a wavelength corresponding to energy equal to 0.95 times or less of E ave or more and E edge. It was found that it was possible to present. That is, by controlling the cavity length so that E ave ⁇ E em ⁇ 0.95 E edge (range A in the figure), both EQE and BI can be maximized.
  • a light-emitting element having E em of E ave +0.02 (eV) or more and E edge ⁇ 0.95 (eV) or less is preferable, and thus E ave + 0.02 ⁇ E em ⁇ 0. It was found that it is preferable to control the cavity length so as to be 95E edge (range B in the figure).
  • an alloy film of silver (Ag), palladium (Pd), and copper (Cu) (Ag—Pd—Cu (APC) film) is formed as a reflective electrode on a glass substrate with a film thickness of 100 nm by a sputtering method.
  • indium tin oxide containing silicon oxide (ITSO) was formed to a thickness of 85 nm as a transparent electrode by a sputtering method, whereby the first electrode 101 was formed.
  • the electrode area was 4 mm 2 (2 mm ⁇ 2 mm).
  • the surface of the substrate was washed with water, baked at 200 ° C. for 1 hour, and then subjected to UV ozone treatment for 370 seconds.
  • the substrate is introduced into a vacuum vapor deposition apparatus whose internal pressure is reduced to about 10 ⁇ 4 Pa, vacuum baking is performed at 170 ° C. for 30 minutes in a heating chamber in the vacuum vapor deposition apparatus, and then the substrate is released for about 30 minutes. Chilled.
  • the substrate on which the first electrode 101 is formed is fixed to a substrate holder provided in the vacuum evaporation apparatus so that the surface on which the first electrode 101 is formed is downward, and the first electrode 101 Further, 3- [4- (9-phenanthryl) -phenyl] -9-phenyl-9H-carbazole (abbreviation: PCPPn) and molybdenum oxide (VI) represented by the above structural formula (i) are formed by an evaporation method.
  • the change of the optical path length of the light emitting element was realized by changing the film thickness of the hole injection layer 111.
  • the thickness of the hole injection layer 111 is 10 nm
  • the light emitting element 2-2 is 15 nm
  • the light emitting element 2-3 is 20 nm
  • the light emitting element 2-4 is 25 nm
  • the light emitting element 2-5 is 30 nm
  • the light emitting element 2-6 was manufactured to have a thickness of 35 nm
  • PCPPn was deposited by 15 nm to form a hole transport layer 112.
  • cgDBCzPA was vapor-deposited on the light-emitting layer 113 so as to have a film thickness of 5 nm
  • 2,9-bis (naphthalen-2-yl) -4,7-diphenyl-1 represented by the above structural formula (iv) , 10-phenanthroline (abbreviation: NBPhen) was deposited to a thickness of 15 nm to form the electron transport layer 114.
  • the second electrode 102 was formed by vapor deposition so as to have a thickness of 0.1 and a thickness of 15 nm, whereby the light-emitting elements 2-1 to 2-8 were manufactured.
  • the second electrode 102 is a semi-transmissive / semi-reflective electrode having a function of reflecting light and a function of transmitting light, and the light-emitting element of this embodiment is a top emission type that extracts light from the second electrode 102. It is an element.
  • DBT3P-II 1,3,5-tri (dibenzothiophen-4-yl) -benzene represented by the above structural formula (v) is deposited on the second electrode 102 by 70 nm, The extraction efficiency is improved.
  • Tables 4 and 5 show the film thickness of the hole injection layer in each light emitting device.
  • the produced light-emitting element is sealed with a glass substrate in a glove box in a nitrogen atmosphere so that the light-emitting element is not exposed to the atmosphere (a sealing material is applied around the element, and UV treatment is performed at 80 ° C. at the time of sealing. 1 hour heat treatment) and then measured. The measurement was performed at room temperature.
  • Measurement results of the light-emitting elements 2-1 to 2-8 are shown below. All the measurement results are values when the luminance is around 1000 cd / m 2 .
  • the external quantum efficiency is an uncorrected external quantum efficiency calculated by assuming Lambertian light distribution from the front luminance.
  • FIG. 17 shows a PL spectrum in a toluene solution of 1,6 mM emFLPAPrn, which is an emission center substance.
  • a fluorometer manufactured by Hamamatsu Photonics Co., Ltd., Edinburgh Instruments FS920
  • E ave the average photon energy shown in Embodiment 1
  • the average energy (E ave ) of the PL spectrum in a toluene solution of 1,6 mM emFLPAPrn was calculated to be 2.59 eV.
  • FIG. 19 is a graph showing the relationship between the external quantum efficiency (EQE) and the blue index (BI) with respect to the peak energy (E em ) of light emission in each light emitting element, where the horizontal axis is E em and the vertical axis is EQE. And BI.
  • both the EQE and BI show good values in a light emitting element having a cavity length such that E em is between E ave (2.59 eV in this embodiment) and 2.68 eV.
  • the numerical value of 2.68 eV is energy corresponding to 0.95 times the E edge of 2.82 eV.
  • a blue light emitting device having a microcavity structure emits light with good efficiency in a light emitting device having a cavity length capable of obtaining a wavelength corresponding to energy equal to 0.95 times or less of E ave or more and E edge. It was found that it was possible to present. That is, by controlling the cavity length so that E ave ⁇ E em ⁇ 0.95 E edge (range A in the figure), both EQE and BI can be maximized.
  • a light-emitting element having E em of E ave +0.02 (eV) or more and E edge ⁇ 0.95 (eV) or less is preferable, and thus E ave + 0.02 ⁇ E em ⁇ 0. It was found that it is preferable to control the cavity length so as to be 95E edge (range B in the figure).
  • an alloy film of silver (Ag), palladium (Pd), and copper (Cu) (Ag—Pd—Cu (APC) film) is formed as a reflective electrode on a glass substrate with a film thickness of 100 nm by a sputtering method.
  • indium tin oxide containing silicon oxide (ITSO) as a transparent electrode was formed to a thickness of 95 nm by a sputtering method, whereby the first electrode 101 was formed.
  • the electrode area was 4 mm 2 (2 mm ⁇ 2 mm).
  • the surface of the substrate was washed with water, baked at 200 ° C. for 1 hour, and then subjected to UV ozone treatment for 370 seconds.
  • the substrate is introduced into a vacuum vapor deposition apparatus whose internal pressure is reduced to about 10 ⁇ 4 Pa, vacuum baking is performed at 170 ° C. for 30 minutes in a heating chamber in the vacuum vapor deposition apparatus, and then the substrate is released for about 30 minutes. Chilled.
  • the substrate on which the first electrode 101 is formed is fixed to a substrate holder provided in the vacuum evaporation apparatus so that the surface on which the first electrode 101 is formed is downward, and the first electrode 101 Further, 3- [4- (9-phenanthryl) -phenyl] -9-phenyl-9H-carbazole (abbreviation: PCPPn) and molybdenum oxide (VI) represented by the above structural formula (i) are formed by an evaporation method.
  • the change of the optical path length of the light emitting element was realized by changing the film thickness of the hole injection layer 111.
  • the thickness of the hole injection layer 111 is 10 nm
  • the light emitting element 3-2 is 15 nm
  • the light emitting element 3-3 is 20 nm
  • the light emitting element 3-4 is 25 nm
  • the light emitting element 3-5 is 30 nm
  • the light emitting element 3-6 was manufactured to have a thickness of 35 nm
  • the light emitting element 3-7 to have a thickness of 40 nm
  • the light emitting element 3-8 to have a thickness of 45 nm.
  • PCPPn was deposited by 15 nm to form a hole transport layer 112.
  • cgDBCzPA was vapor-deposited on the light-emitting layer 113 so as to have a film thickness of 5 nm
  • 2,9-bis (naphthalen-2-yl) -4,7-diphenyl-1 represented by the above structural formula (iv) , 10-phenanthroline (abbreviation: NBPhen) was deposited to a thickness of 15 nm to form the electron transport layer 114.
  • the second electrode 102 was formed by vapor deposition so as to have a thickness of 0.1 and a thickness of 15 nm, whereby the light-emitting elements 3-1 to 3-8 were manufactured.
  • the second electrode 102 is a semi-transmissive / semi-reflective electrode having a function of reflecting light and a function of transmitting light, and the light-emitting element of this embodiment is a top emission type that extracts light from the second electrode 102. It is an element.
  • DBT3P-II 1,3,5-tri (dibenzothiophen-4-yl) -benzene represented by the above structural formula (v) is deposited on the second electrode 102 by 70 nm, The extraction efficiency is improved.
  • Table 8 shows the film thickness of the hole injection layer in each light emitting device.
  • the produced light-emitting element is sealed with a glass substrate in a glove box in a nitrogen atmosphere so that the light-emitting element is not exposed to the atmosphere (a sealing material is applied around the element, and UV treatment is performed at 80 ° C. at the time of sealing. 1 hour heat treatment) and then measured. The measurement was performed at room temperature.
  • Measurement results of the light-emitting elements 3-1 to 3-8 are shown below. All the measurement results are values when the luminance is around 1000 cd / m 2 .
  • the external quantum efficiency is an uncorrected external quantum efficiency calculated by assuming Lambertian light distribution from the front luminance.
  • FIG. 20 shows a PL spectrum in a toluene solution of 1,6BnfAPrn-03 which is an emission center substance.
  • a fluorometer manufactured by Hamamatsu Photonics Co., Ltd., Edinburgh Instruments FS920
  • E ave the average photon energy shown in Embodiment 1
  • the average energy (E ave ) of the PL spectrum in a toluene solution of 1,6BnfAPrn-03 was calculated to be 2.65 eV.
  • the emission end on the short wavelength side of the PL spectrum was determined as shown in FIG. 21, and was found to be 432 nm and its energy was 2.87 eV.
  • FIG. 22 is a graph showing the relationship between the external quantum efficiency (EQE) and the blue index (BI) with respect to the peak energy (E em ) of light emission in each light emitting element, where the horizontal axis is E em and the vertical axis is EQE. And BI.
  • a blue light emitting device having a microcavity structure emits light with good efficiency in a light emitting device having a cavity length capable of obtaining a wavelength corresponding to energy equal to 0.95 times or less of E ave or more and E edge. It was found that it was possible to present. That is, by controlling the cavity length so that E ave ⁇ E em ⁇ 0.95 E edge (range A in the figure), both EQE and BI can be maximized.
  • E ave the light-emitting element having E ave +0.02 (eV) (2.67eV in this embodiment) or more E edge ⁇ 0.95 (eV) or less of E em is preferred, E ave It was found that it is preferable to control the cavity length so that + 0.02 ⁇ E em ⁇ 0.95E edge (range B in the figure).
  • indium tin oxide containing silicon oxide (ITSO) with a film thickness of 70 nm is formed on a glass substrate as a transparent electrode, and then silver (Ag), palladium (Pd), and copper are used as semi-transmissive and semi-reflective electrodes.
  • (Cu) alloy film is formed by sputtering to a thickness of 25 nm, and then ITSO is formed as a transparent electrode to a thickness of 10 nm by sputtering.
  • a first electrode 101 was formed by film formation. The electrode area was 4 mm 2 (2 mm ⁇ 2 mm).
  • the surface of the substrate was washed with water, baked at 200 ° C. for 1 hour, and then subjected to UV ozone treatment for 370 seconds.
  • the substrate is introduced into a vacuum vapor deposition apparatus whose internal pressure is reduced to about 10 ⁇ 4 Pa, vacuum baking is performed at 170 ° C. for 30 minutes in a heating chamber in the vacuum vapor deposition apparatus, and then the substrate is released for about 30 minutes. Chilled.
  • the substrate on which the first electrode 101 is formed is fixed to a substrate holder provided in the vacuum evaporation apparatus so that the surface on which the first electrode 101 is formed is downward, and the first electrode 101 Further, 3- [4- (9-phenanthryl) -phenyl] -9-phenyl-9H-carbazole (abbreviation: PCPPn) and molybdenum oxide (VI) represented by the above structural formula (i) are formed by an evaporation method.
  • the change of the optical path length of the light emitting element was realized by changing the film thickness of the hole injection layer 111.
  • the thickness of the hole injection layer 111 was 10 nm
  • the light emitting element 4-2 was 12.5 nm
  • the light emitting element 4-3 was 15 nm
  • the light emitting element 4-4 was 17.5 nm.
  • PCPPn was deposited by 15 nm to form a hole transport layer 112.
  • 2- [3 ′-(dibenzothiophen-4-yl) biphenyl-3-yl] dibenzo [f, h] quinoxaline (abbreviation: 2mDBTBPDBq ⁇ ) represented by the above structural formula (viii) is formed over the light-emitting layer 113.
  • II) is deposited to a thickness of 10 nm
  • lithium fluoride (LiF) is deposited to a thickness of 1 nm to form the electron injection layer 115, and aluminum is deposited to 120 nm to form the second electrode 102.
  • Light-emitting elements 4-1 to 4-4 were manufactured. Note that the second electrode 102 is an electrode that reflects light, and the light-emitting element of this embodiment is a bottom emission element that extracts light from the first electrode 101.
  • Table 10 shows the element structures of the light-emitting elements 4-1 to 4-4.
  • Table 11 shows the film thickness of the hole injection layer in each light emitting device.
  • the produced light-emitting element is sealed with a glass substrate in a glove box in a nitrogen atmosphere so that the light-emitting element is not exposed to the atmosphere (a sealing material is applied around the element, and UV treatment is performed at 80 ° C. at the time of sealing. 1 hour heat treatment) and then measured. The measurement was performed at room temperature.
  • Measurement results of the light-emitting elements 4-1 to 4-4 are shown below. All the measurement results are values when the luminance is around 1000 cd / m 2 .
  • the external quantum efficiency is an uncorrected external quantum efficiency calculated by assuming Lambertian light distribution from the front luminance.
  • FIG. 23 shows a PL spectrum in a toluene solution of 1,6BnfAPrn-03 which is an emission center substance.
  • a fluorometer manufactured by Hamamatsu Photonics Co., Ltd., Edinburgh Instruments FS920
  • E ave the average photon energy shown in Embodiment 1
  • the average energy (E ave ) of the PL spectrum in a toluene solution of 1,6BnfAPrn-03 was calculated to be 2.65 eV.
  • the light emission end on the short wavelength side of the PL spectrum was obtained as shown in FIG. 24, it was 432 nm, and its energy was 2.87 eV.
  • FIG. 25 is a graph showing the relationship between the external quantum efficiency (EQE) and the blue index (BI) with respect to the peak energy (E em ) of light emission in each light emitting element, where the horizontal axis is E em and the vertical axis is EQE. And BI.
  • a blue light emitting device having a microcavity structure emits light with good efficiency in a light emitting device having a cavity length capable of obtaining a wavelength corresponding to energy equal to 0.95 times or less of E ave or more and E edge. It was found that it was possible to present. That is, by controlling the cavity length so that E ave ⁇ E em ⁇ 0.95 E edge (range A in the figure), both EQE and BI can be maximized.
  • E ave the light-emitting element having E ave +0.02 (eV) (2.67eV in this embodiment) or more E edge ⁇ 0.95 (eV) or less of E em is preferred, E ave It was found that it is preferable to control the cavity length so that + 0.02 ⁇ E em ⁇ 0.95E edge (range B in the figure).
  • an alloy film of silver (Ag), palladium (Pd), and copper (Cu) (Ag—Pd—Cu (APC) film) is formed as a reflective electrode on a glass substrate with a film thickness of 100 nm by a sputtering method.
  • indium tin oxide containing silicon oxide (ITSO) was formed to a thickness of 85 nm as a transparent electrode by a sputtering method, whereby the first electrode 101 was formed.
  • the electrode area was 4 mm 2 (2 mm ⁇ 2 mm).
  • the surface of the substrate was washed with water, baked at 200 ° C. for 1 hour, and then subjected to UV ozone treatment for 370 seconds.
  • the substrate is introduced into a vacuum vapor deposition apparatus whose internal pressure is reduced to about 10 ⁇ 4 Pa, vacuum baking is performed at 170 ° C. for 30 minutes in a heating chamber in the vacuum vapor deposition apparatus, and then the substrate is released for about 30 minutes. Chilled.
  • the substrate on which the first electrode 101 is formed is fixed to a substrate holder provided in the vacuum evaporation apparatus so that the surface on which the first electrode 101 is formed is downward, and the first electrode 101 Further, 3- [4- (9-phenanthryl) -phenyl] -9-phenyl-9H-carbazole (abbreviation: PCPPn) and molybdenum oxide (VI) represented by the above structural formula (i) are formed by an evaporation method.
  • the change of the optical path length of the light emitting element was realized by changing the film thickness of the hole injection layer 111.
  • the thickness of the hole injection layer 111 is 10 nm
  • the light emitting element 5-2 is 15 nm
  • the light emitting element 5-3 is 20 nm
  • the light emitting element 5-4 is 25 nm
  • the light emitting element 5-5 is 30 nm
  • the light emitting element 5-6 was manufactured to have a thickness of 35 nm
  • the light emitting element 5-7 to have a thickness of 40 nm
  • the light emitting element 5-8 to have a thickness of 45 nm.
  • PCPPn was deposited by 15 nm to form a hole transport layer 112.
  • cgDBCzPA was vapor-deposited on the light-emitting layer 113 so as to have a film thickness of 5 nm
  • 2,9-bis (naphthalen-2-yl) -4,7-diphenyl-1 represented by the above structural formula (iv) , 10-phenanthroline (abbreviation: NBPhen) was deposited to a thickness of 15 nm to form the electron transport layer 114.
  • the second electrode 102 is a semi-transmissive / semi-reflective electrode having a function of reflecting light and a function of transmitting light, and the light-emitting element of this embodiment is a top emission type that extracts light from the second electrode 102. It is an element.
  • DBT3P-II 1,3,5-tri (dibenzothiophen-4-yl) -benzene represented by the above structural formula (v) is deposited on the second electrode 102 by 70 nm, The extraction efficiency is improved.
  • Table 14 shows the film thickness of the hole injection layer in each light emitting device.
  • the produced light-emitting element is sealed with a glass substrate in a glove box in a nitrogen atmosphere so that the light-emitting element is not exposed to the atmosphere (a sealing material is applied around the element, and UV treatment is performed at 80 ° C. at the time of sealing. 1 hour heat treatment) and then measured. The measurement was performed at room temperature.
  • Measurement results of the light-emitting elements 5-1 to 5-8 are shown below. All the measurement results are values when the luminance is around 1000 cd / m 2 .
  • the external quantum efficiency is an uncorrected external quantum efficiency calculated by assuming Lambertian light distribution from the front luminance.
  • FIG. 26 shows a PL spectrum in a toluene solution of 1,6chBnfAPrn which is an emission center substance.
  • a fluorometer manufactured by Hamamatsu Photonics Co., Ltd., Edinburgh Instruments FS920
  • E ave the average photon energy shown in Embodiment 1
  • the average energy (E ave ) of the PL spectrum in the toluene solution of 1,6chBnfAPrn was calculated to be 2.65 eV.
  • the light emission edge on the short wavelength side of the PL spectrum was obtained as shown in FIG. 27, it was 432 nm, and its energy was 2.87 eV.
  • FIG. 28 is a graph showing the relationship between the external quantum efficiency (EQE) and the blue index (BI) with respect to the peak energy (E em ) of light emission in each light emitting element, where the horizontal axis is E em and the vertical axis is EQE. And BI.
  • a blue light emitting device having a microcavity structure emits light with good efficiency in a light emitting device having a cavity length capable of obtaining a wavelength corresponding to energy equal to 0.95 times or less of E ave or more and E edge. It was found that it was possible to present. That is, by controlling the cavity length so that E ave ⁇ E em ⁇ 0.95 E edge (range A in the figure), both EQE and BI can be maximized.
  • E ave the light-emitting element having E ave +0.02 (eV) (2.67eV in this embodiment) or more E edge ⁇ 0.95 (eV) or less of E em is preferred, E ave It was found that it is preferable to control the cavity length so that + 0.02 ⁇ E em ⁇ 0.95E edge (range B in the figure).
  • an alloy film of silver (Ag), palladium (Pd), and copper (Cu) (Ag—Pd—Cu (APC) film) is formed as a reflective electrode on a glass substrate with a film thickness of 100 nm by a sputtering method.
  • indium tin oxide containing silicon oxide (ITSO) was formed to a thickness of 85 nm as a transparent electrode by a sputtering method, whereby the first electrode 101 was formed.
  • the electrode area was 4 mm 2 (2 mm ⁇ 2 mm).
  • the surface of the substrate was washed with water, baked at 200 ° C. for 1 hour, and then subjected to UV ozone treatment for 370 seconds.
  • the substrate is introduced into a vacuum vapor deposition apparatus whose internal pressure is reduced to about 10 ⁇ 4 Pa, vacuum baking is performed at 170 ° C. for 30 minutes in a heating chamber in the vacuum vapor deposition apparatus, and then the substrate is released for about 30 minutes. Chilled.
  • the substrate on which the first electrode 101 is formed is fixed to a substrate holder provided in the vacuum evaporation apparatus so that the surface on which the first electrode 101 is formed is downward, and the first electrode 101 Further, 3- [4- (9-phenanthryl) -phenyl] -9-phenyl-9H-carbazole (abbreviation: PCPPn) and molybdenum oxide (VI) represented by the above structural formula (i) are formed by an evaporation method.
  • the change of the optical path length of the light emitting element was realized by changing the film thickness of the hole injection layer 111.
  • the thickness of the hole injection layer 111 is 10 nm
  • the light emitting element 6-2 is 15 nm
  • the light emitting element 6-3 is 20 nm
  • the light emitting element 6-4 is 25 nm
  • the light emitting element 6-5 is 30 nm
  • the light emitting element 6-6 was manufactured to have a thickness of 35 nm
  • the light emitting element 6-7 to have a thickness of 40 nm
  • the light emitting element 6-8 to have a thickness of 45 nm.
  • PCPPn was deposited by 15 nm to form a hole transport layer 112.
  • cgDBCzPA was vapor-deposited on the light-emitting layer 113 so as to have a film thickness of 5 nm
  • 2,9-bis (naphthalen-2-yl) -4,7-diphenyl-1 represented by the above structural formula (iv) , 10-phenanthroline (abbreviation: NBPhen) was deposited to a thickness of 15 nm to form the electron transport layer 114.
  • the second electrode 102 is a semi-transmissive / semi-reflective electrode having a function of reflecting light and a function of transmitting light, and the light-emitting element of this embodiment is a top emission type that extracts light from the second electrode 102. It is an element.
  • DBT3P-II 1,3,5-tri (dibenzothiophen-4-yl) -benzene represented by the above structural formula (v) is deposited on the second electrode 102 by 70 nm, The extraction efficiency is improved.
  • Table 16 shows the element structures of the light-emitting elements 6-1 to 6-8.
  • Table 17 shows the film thickness of the hole injection layer in each light emitting device.
  • the produced light-emitting element is sealed with a glass substrate in a glove box in a nitrogen atmosphere so that the light-emitting element is not exposed to the atmosphere (a sealing material is applied around the element, and UV treatment is performed at 80 ° C. at the time of sealing. 1 hour heat treatment) and then measured. The measurement was performed at room temperature.
  • Measurement results of the light-emitting elements 6-1 to 6-8 are shown below. All the measurement results are values when the luminance is around 1000 cd / m 2 .
  • the external quantum efficiency is an uncorrected external quantum efficiency calculated by assuming Lambertian light distribution from the front luminance.
  • FIG. 29 shows a PL spectrum in a toluene solution of 3,10PCA2Nbf (IV) -02, which is the luminescent center substance.
  • an absolute PL quantum yield measurement apparatus Quantaurus-QY manufactured by Hamamatsu Photonics
  • the PL spectrum shown in FIG. 29 is normalized so that the vertical axis is proportional to the energy ⁇ p ( ⁇ ). Since the spectrum is I ( ⁇ ), the formula (VII) shown in Embodiment Mode 1 was used when obtaining the average photon energy E ave of light emission in this example.
  • the average energy (E ave ) of the PL spectrum in a toluene solution of 3,10PCA2Nbf (IV) -02 was calculated to be 2.66 eV. Further, the emission end on the short wavelength side of the PL spectrum was determined as shown in FIG. 30 and found to be 431 nm and its energy was 2.88 eV.
  • FIG. 31 is a graph showing the relationship between the external quantum efficiency (EQE) and the blue index (BI) with respect to the peak energy (E em ) of light emission in each light emitting element, where the horizontal axis is E em and the vertical axis is EQE. And BI.
  • the numerical value of 2.73 eV is energy equivalent to 0.95 times 2.88 eV which is E edge .
  • a blue light emitting device having a microcavity structure emits light with good efficiency in a light emitting device having a cavity length capable of obtaining a wavelength corresponding to energy equal to 0.95 times or less of E ave or more and E edge. It was found that it was possible to present. That is, by controlling the cavity length so that E ave ⁇ E em ⁇ 0.95 E edge (range A in the figure), both EQE and BI can be maximized.
  • E ave the light-emitting element having E ave +0.02 (eV) (2.67eV in this embodiment) or more E edge ⁇ 0.95 (eV) or less of E em is preferred, E ave It was found that it is preferable to control the cavity length so that + 0.02 ⁇ E em ⁇ 0.95E edge (range B in the figure).
  • an alloy film of silver (Ag), palladium (Pd), and copper (Cu) (Ag—Pd—Cu (APC) film) is formed as a reflective electrode on a glass substrate with a film thickness of 100 nm by a sputtering method.
  • indium tin oxide containing silicon oxide (ITSO) was formed to a thickness of 85 nm as a transparent electrode by a sputtering method, whereby the first electrode 101 was formed.
  • the electrode area was 4 mm 2 (2 mm ⁇ 2 mm).
  • the surface of the substrate was washed with water, baked at 200 ° C. for 1 hour, and then subjected to UV ozone treatment for 370 seconds.
  • the substrate is introduced into a vacuum vapor deposition apparatus whose internal pressure is reduced to about 10 ⁇ 4 Pa, vacuum baking is performed at 170 ° C. for 30 minutes in a heating chamber in the vacuum vapor deposition apparatus, and then the substrate is released for about 30 minutes. Chilled.
  • the substrate on which the first electrode 101 is formed is fixed to a substrate holder provided in the vacuum evaporation apparatus so that the surface on which the first electrode 101 is formed is downward, and the first electrode 101 Further, 3- [4- (9-phenanthryl) -phenyl] -9-phenyl-9H-carbazole (abbreviation: PCPPn) and molybdenum oxide (VI) represented by the above structural formula (i) are formed by an evaporation method.
  • the change of the optical path length of the light emitting element was realized by changing the film thickness of the hole injection layer 111.
  • the thickness of the hole injection layer 111 is 10 nm
  • the light emitting element 7-2 is 15 nm
  • the light emitting element 7-3 is 20 nm
  • the light emitting element 7-4 is 25 nm
  • the light emitting element 7-5 is 30 nm
  • the light emitting element 7-6 was manufactured to have a thickness of 35 nm, the light emitting element 7-7, 40 nm, and the light emitting element 7-8, 45 nm.
  • PCPPn was deposited by 15 nm to form a hole transport layer 112.
  • cgDBCzPA was vapor-deposited on the light-emitting layer 113 so as to have a film thickness of 5 nm
  • 2,9-bis (naphthalen-2-yl) -4,7-diphenyl-1 represented by the above structural formula (iv) , 10-phenanthroline (abbreviation: NBPhen) was deposited to a thickness of 15 nm to form the electron transport layer 114.
  • the second electrode 102 is a semi-transmissive / semi-reflective electrode having a function of reflecting light and a function of transmitting light, and the light-emitting element of this embodiment is a top emission type that extracts light from the second electrode 102. It is an element.
  • DBT3P-II 1,3,5-tri (dibenzothiophen-4-yl) -benzene represented by the above structural formula (v) is deposited on the second electrode 102 by 70 nm, The extraction efficiency is improved.
  • Table 19 shows the film thickness of the hole injection layer in each light emitting device.
  • the produced light-emitting element is sealed with a glass substrate in a glove box in a nitrogen atmosphere so that the light-emitting element is not exposed to the atmosphere (a sealing material is applied around the element, and UV treatment is performed at 80 ° C. at the time of sealing. 1 hour heat treatment) and then measured. The measurement was performed at room temperature.
  • Measurement results of the light-emitting elements 7-1 to 7-8 are shown below. All the measurement results are values when the luminance is around 1000 cd / m 2 .
  • the external quantum efficiency is an uncorrected external quantum efficiency calculated by assuming Lambertian light distribution from the front luminance.
  • FIG. 32 shows a PL spectrum in a toluene solution of 3,10FrA2Nbf (IV) -02, which is the luminescent center substance.
  • an absolute PL quantum yield measuring apparatus Quantaurus-QY manufactured by Hamamatsu Photonics Co., Ltd.
  • the PL spectrum shown in FIG. 32 is normalized so that the vertical axis is proportional to the energy ⁇ p ( ⁇ ). Since the spectrum is I ( ⁇ ), the formula (VII) shown in Embodiment Mode 1 was used when obtaining the average photon energy E ave of light emission in this example.
  • the average energy (E ave ) of the PL spectrum in a toluene solution of 3,10FrA2Nbf (IV) -02 was calculated to be 2.71 eV. Further, the emission end on the short wavelength side of the PL spectrum was obtained as shown in FIG. 33, and it was 426 nm, and its energy was 2.91 eV.
  • FIG. 34 is a graph showing the relationship between the external quantum efficiency (EQE) and the blue index (BI) with respect to the peak energy (E em ) of light emission in each light emitting device, where the horizontal axis is E em and the vertical axis is EQE. And BI.
  • the numerical value of 2.76 eV is energy equivalent to 0.95 times the E edge of 2.91 eV.
  • a blue light emitting device having a microcavity structure emits light with good efficiency in a light emitting device having a cavity length capable of obtaining a wavelength corresponding to energy equal to 0.95 times or less of E ave or more and E edge. It was found that it was possible to present. That is, by controlling the cavity length so that E ave ⁇ E em ⁇ 0.95 E edge (range A in the figure), both EQE and BI can be maximized.
  • E ave the light-emitting element having E ave +0.02 (eV) (2.73eV in this embodiment) or more E edge ⁇ 0.95 (eV) or less of E em is preferred, E ave It was found that it is preferable to control the cavity length so that + 0.02 ⁇ E em ⁇ 0.95E edge (range B in the figure).
  • Electron injection buffer layer 400 Substrate 401 : First electrode, 403: EL layer, 404: second electrode, 405: sealing material, 406: sealing material, 407: sealing substrate, 412: pad, 420: IC chip, 601: drive circuit section (source Line driving circuit), 602: pixel portion, 603: driving circuit portion (gate line driving circuit), 604: sealing substrate, 605: sealing material, 607: space, 608: wiring, 609: FPC (flexible print server) , 610: element substrate, 611: switching FET, 612: current control FET, 613: first electrode, 614: insulator,

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Abstract

要約書 新規発光素子を提供する。 発光効率の高い発光素子を提供する。 ブルーインデックス (BI) の高い 発光素子を提供する。消費電力の小さい発光素子を提供する。 第1の電極と、第2の電極と、前記第1の電極と前記第2の電極との間に挟まれたEL層とを有し、 前記第1の電極および前記第2の電極の一方が、 反射電極、 他方が半透過半反射電極である発光素子 において、 前記 EL層は、 発光中心物質を有し、 前記EL層における前記発光中心物質は1種のみで あるとき、 前記発光中心物質が溶液状態において発する光のフォトンエネルギーの平均値と、 前記発 光中心物質の前記溶液状態における発光スペクトルの短波長側の発光端エネルギーから、前記発光 素子から発する光のピーク波長のフォトンエネルギーが設計された発光素子を提供する。

Description

発光素子、発光装置、電子機器および照明装置
本発明の一態様は、発光素子、発光装置、電子機器および照明装置に関する。なお、本発明の一態様は、上記の技術分野に限定されない。本明細書等で開示する発明の一態様の技術分野は、物、方法、または、製造方法に関するものである。または、本発明の一態様は、プロセス、マシン、マニュファクチャ、または、組成物(コンポジション・オブ・マター)に関するものである。そのため、より具体的に本明細書で開示する本発明の一態様の技術分野としては、半導体装置、表示装置、液晶表示装置、発光装置、照明装置、蓄電装置、記憶装置、撮像装置、それらの駆動方法、または、それらの製造方法、を一例として挙げることができる。
有機化合物を用いたエレクトロルミネッセンス(EL:Electroluminescence)を利用する発光素子(有機EL素子)の実用化が進んでいる。これら発光素子の基本的な構成は、一対の電極間に発光材料を含む有機化合物層(EL層)を挟んだものである。この素子に電圧を印加して、キャリアを注入し、当該キャリアの再結合エネルギーを利用することにより、発光材料からの発光を得ることができる。
このような発光素子は自発光型であるためディスプレイの画素として用いると、液晶に比べ、視認性が高い、バックライトが不要である等の利点があることから、フラットパネルディスプレイ素子としてより好適である。また、このような発光素子を用いたディスプレイは、薄型軽量に作製できることも大きな利点である。さらに非常に応答速度が速いことも特徴の一つである。
また、これらの発光素子は発光層を二次元に連続して形成することが可能であるため、面状に発光を得ることができる。これは、白熱電球やLEDに代表される点光源、あるいは蛍光灯に代表される線光源では得難い特色であるため、当該発光素子は照明等に応用できる面光源としての利用価値も高い。
このように発光素子を用いたディスプレイや照明装置はさまざまな電子機器に適用好適であるが、より良好な特性を有する発光素子を求めて研究開発が進められている。
発光素子の重要な特性の一つに外部量子効率に代表される発光効率がある。発光効率が良好な発光素子は消費電力を低減させることができることから、年々厳しさを増す世界のエネルギー環境を鑑みるに、当該効率は高ければ高いほど良い。
特開2015−187982号公報
本発明の一態様は、新規発光素子を提供することを目的とする。または、本発明の他の一態様は、発光効率の高い発光素子を提供することを目的とする。または、本発明の他の一態様は、ブルーインデックス(BI)の高い発光素子を提供することを目的とする。本発明の他の一態様は、消費電力の小さい発光素子を提供することを目的とする。
または、本発明の他の一態様は、消費電力の小さい発光素子、発光装置、電子機器、照明装置および電子デバイスを各々提供することを目的とする。
なお、これらの課題の記載は、他の課題の存在を妨げるものではない。本発明の一態様は、必ずしも、これらの課題の全てを解決する必要はないものとする。明細書、図面、請求項の記載から、これら以外の課題を抽出することが可能である。
本発明の一態様は、第1の電極と、第2の電極と、前記第1の電極と前記第2の電極との間に挟まれたEL層とを有し、前記第1の電極および前記第2の電極の一方が、反射電極、他方が半透過半反射電極である発光素子において、前記EL層は、発光中心物質を有し、前記発光中心物質が溶液状態において発する光のフォトンエネルギーの平均値をEave[eV]とし、前記発光中心物質の前記溶液状態における発光スペクトルの短波長側の発光端エネルギーをEedge[eV]とすると、前記発光素子から発する光のピーク波長のフォトンエネルギーEem[eV]が、下記式(1)で表される発光素子である。
ave≦Eem≦0.95Eedge ・・・(1)
または、本発明の他の一態様は、上記構成において、前記発光中心物質が青色発光を呈する発光素子である。
または、本発明の他の一態様は、第1の電極と、第2の電極と、前記第1の電極と前記第2の電極との間に挟まれたEL層とを有し、前記第1の電極及び前記第2の電極の一方が反射電極、他方が半透過半反射電極である発光素子において、前記EL層は青色発光を呈する発光中心物質を有し、前記発光中心物質が溶液状態において発する光のフォトンエネルギーの平均値をEave[eV]とし、前記発光中心物質の前記溶液状態における発光スペクトルの短波長側の発光端エネルギーをEedge[eV]とすると、前記発光素子から発する光のピーク波長のフォトンエネルギーEem[eV]が、下記式(2)で表される発光素子である。
ave+0.02≦Eem≦0.95Eedge ・・・(2)
または、本発明の他の一態様は上記構成のいずれかにおいて、前記Eemが2.6eV以上2.9eV以下である発光素子である。
または、本発明の他の一態様は、上記構成のいずれかにおいて、前記半透過半反射電極における、前記反射電極に対する面と反対の面には、分子量300以上1200以下の有機化合物層が形成されている発光素子である。
または、本発明の他の一態様は、上記構成のいずれかにおいて、前記溶液状態における溶媒は、室温における比誘電率が1以上10以下の溶媒である発光素子である。
または、本発明の他の一態様は、上記構成のいずれかにおいて、前記溶液状態における溶媒がトルエンまたはクロロホルムである発光素子である。
または、本発明の他の一態様は、上記構成のいずれかにおいて、EL層における前記発光中心物質が1種のみである発光素子である。
または、本発明の他の一態様は、上記いずれかに記載の発光素子と、トランジスタ、または、基板と、を有する発光装置である。
または、本発明の他の一態様は、上記発光装置と、センサ、操作ボタン、スピーカ、または、マイクと、を有する電子機器である。
または、本発明の他の一態様は、上記発光装置と、筐体と、を有する照明装置である。
または、本発明の他の一態様は、上記いずれかに記載の有機化合物を含む電子デバイスである。
なお、本明細書中における発光装置とは、発光素子を用いた画像表示デバイスを含む。また、発光素子にコネクター、例えば異方導電性フィルム又はTCP(Tape Carrier Package)が取り付けられたモジュール、TCPの先にプリント配線板が設けられたモジュール、又は発光素子にCOG(Chip On Glass)方式によりIC(集積回路)が直接実装されたモジュールは、発光装置を有する場合がある。さらに、照明器具等は、発光装置を有する場合がある。
本発明の一態様では、新規発光素子を提供することができる。または、本発明の他の一態様では、発光効率の高い発光素子を提供することができる。または、本発明の他の一態様では、外部量子効率の高い発光素子を提供することができる。または、本発明の他の一態様では、ブルーインデックスの高い発光素子を提供することができる。または、本発明の他の一態様では、消費電力の小さい発光素子を提供することができる。
または、本発明の他の一態様では、消費電力の小さい発光素子、発光装置、電子機器、照明装置および電子デバイスを各々提供することができる。
図1(A)及び1(B)は発光中心物質が溶液状態において発する光のフォトンエネルギーの平均値(Eave)の算出方法を説明する図である。 図2は発光スペクトルの短波長側の発光端エネルギー(Eedge)の算出方法を説明する図である。 図3は発光素子のEL発光ピークエネルギー(Eem)と、外部量子効率(EQE)およびブルーインデックス(BI)の関係について説明する図である。 図4(A)及び4(B)は発光素子の概念図である。 図5(A)及び5(B)はアクティブマトリクス型発光装置の概念図である。 図6(A)及び6(B)は照明装置を表す図である。 図7(A)、7(B1)、7(B2)及び7(C)は電子機器を表す図である。 図8(A)乃至8(C)は光源装置を表す図である。 図9は照明装置を表す図である。 図10は照明装置を表す図である。 図11は車載表示装置及び照明装置を表す図である。 図12(A)及び12(B)は電子機器を表す図である。 図13(A)乃至13(C)は電子機器を表す図である。 図14はN,N’−ジフェニル−N,N’−ビス[3−(9−フェニル−9H−フルオレン−9−イル)フェニル]ピレン−1,6−ジアミン(略称:1,6mFLPAPrn)のトルエン溶液における発光スペクトルである。 図15は1,6mMemFLPAPrnのトルエン溶液におけるPLスペクトルの短波長側における発光端の算出方法を説明する図である。 図16は発光素子1−1乃至発光素子1−8における発光のピークエネルギー(Eem)に対する外部量子効率(EQE)およびブルーインデックス(BI)の関係を示したグラフである。 図17はN,N’−ビス(3−メチルフェニル)−N,N’−ビス〔3−(9−フェニル−9H−フルオレン−9−イル)フェニル〕−ピレン−1,6−ジアミン(略称:1,6mMemFLPAPrn)のトルエン溶液における発光スペクトルを表す図である。 図18は1,6mMemFLPAPrnのトルエン溶液におけるPLスペクトルの短波長側における発光端の算出方法を説明する図である。 図19は発光素子2−1乃至発光素子2−8における発光のピークエネルギー(Eem)に対する外部量子効率(EQE)およびブルーインデックス(BI)の関係を示したグラフである。 図20はN,N’−(ピレン−1,6−ジイル)ビス[(6,N−ジフェニルベンゾ[b]ナフト[1,2−d]フラン)−8−アミン](略称:1,6BnfAPrn−03)のトルエン溶液における発光スペクトルを表す図である。 図21は1,6BnfAPrn−03のトルエン溶液におけるPLスペクトルの短波長側における発光端の算出方法を説明する図である。 図22は発光素子3−1乃至発光素子3−8における発光のピークエネルギー(Eem)に対する外部量子効率(EQE)およびブルーインデックス(BI)の関係を示したグラフである。 図23はN,N’−(ピレン−1,6−ジイル)ビス[(6,N−ジフェニルベンゾ[b]ナフト[1,2−d]フラン)−8−アミン](略称:1,6BnfAPrn−03)のトルエン溶液における発光スペクトルを表す図である。 図24は1,6BnfAPrn−03のトルエン溶液におけるPLスペクトルの短波長側における発光端の算出方法を説明する図である。 図25は発光素子4−1乃至発光素子4−4における発光のピークエネルギー(Eem)に対する外部量子効率(EQE)およびブルーインデックス(BI)の関係を示したグラフである。 図26はN,N‘−(ピレン−1,6−ジイル)ビス(N−フェニル−6−シクロヘキシルベンゾ[b]ナフト[1,2−d]フラン−8−アミン)(略称:1,6chBnfAPrn)のトルエン溶液における発光スペクトルを表す図である。 図27は1,6chBnfAPrnのトルエン溶液におけるPLスペクトルの短波長側における発光端の算出方法を説明する図である。 図28は発光素子5−1乃至発光素子5−8における発光のピークエネルギー(Eem)に対する外部量子効率(EQE)およびブルーインデックス(BI)の関係を示したグラフである。 図29は3,10−ビス[N−(9−フェニル−9H−カルバゾール−2−イル)−N−フェニルアミノ]ナフト[2,3−b;6,7−b’]ビスベンゾフラン(略称:3,10PCA2Nbf(IV)−02)のトルエン溶液における発光スペクトルを表す図である。 図30は3,10PCA2Nbf(IV)−02のトルエン溶液におけるPLスペクトルの短波長側における発光端の算出方法を説明する図である。 図31は発光素子6−1乃至発光素子6−8における発光のピークエネルギー(Eem)に対する外部量子効率(EQE)およびブルーインデックス(BI)の関係を示したグラフである。 図32は3,10−ビス[N−(ジベンゾフラン−3−イル)−N−フェニルアミノ]ナフト[2,3−b;6,7−b’]ビスベンゾフラン(略称:3,10FrA2Nbf(IV)−02)のトルエン溶液における発光スペクトルを表す図である。 図33は3,10FrA2Nbf(IV)−02のトルエン溶液におけるPLスペクトルの短波長側における発光端の算出方法を説明する図である。 図34は発光素子7−1乃至発光素子7−8における発光のピークエネルギー(Eem)に対する外部量子効率(EQE)およびブルーインデックス(BI)の関係を示したグラフである。
以下、本発明の実施の態様について図面を用いて詳細に説明する。但し、本発明は以下の説明に限定されず、本発明の趣旨及びその範囲から逸脱することなくその形態及び詳細を様々に変更し得ることは当業者であれば容易に理解される。従って、本発明は以下に示す実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。
(実施の形態1)
光を呈する発光素子としては、様々なものが存在するが、無機化合物が発光中心であるLEDに対し、OLED、いわゆる有機EL素子は、有機化合物を発光中心物質として用いた発光素子である。有機化合物は振動準位等の影響から、無機化合物と比較してブロードな形状の発光スペクトルを示すことが知られている。
ディスプレイなどの表示素子において色再現性の高い表示を得るためには、色純度の良好な発光を呈する表示素子を用いる必要がある。そのため、上述のように発光スペクトルがブロードであり色純度の比較的低い有機EL素子をディスプレイ用の表示素子として用いる場合、カラーフィルタやマイクロキャビティ構造などを利用して色純度の向上を図ることがある。
発光を単純にカットするカラーフィルタと比較して、目的の波長の光を増幅することが可能なマイクロキャビティ構造の適用は、発光のロスが少なく効率的に有利である。また、適切な光路長のマイクロキャビティ構造を有する発光素子と、カラーフィルタとを併用することによって、カットされる波長の光を減らすことができ、高効率且つ高い色純度を有する発光を呈する発光素子を得る事ができる。このように、マイクロキャビティ構造の採用は、色純度の向上、発光効率の維持に好適である。
ところで、有機EL素子は、上述のように有機化合物を発光中心物質として用いた発光素子であるが、有機化合物が発する光のスペクトルは、当該有機化合物の構造を由来とする波長、形状を有しており、物質固有のものである。そのため、効率良く発光を得られる波長範囲はその発光素子にどのような発光中心物質が用いられているかによって異なる。
本発明者らは、マイクロキャビティ構造を有する発光素子において、下記式(1)を満たす発光素子が、発光効率(正面輝度から算出した量子効率)の良好な発光素子となることを見出した。
ave≦Eem≦0.95Eedge ・・・(1)
なお、上記式中、Eaveは、当該発光素子に用いられる発光中心物質が溶液状態において発する光のフォトンエネルギーの平均値、Eemは当該発光素子から発する光のピーク波長のフォトンエネルギー、Eedgeは当該発光中心物質の前記溶液状態における発光スペクトルの短波長側の発光端エネルギーであり、単位は全て[eV]である。
<発光中心物質が溶液状態において発する光のフォトンエネルギーの平均値(Eave)の算出方法>
aveの算出方法について図1(A)を参照しながら説明する。図1(A)は青色発光を呈する有機化合物のトルエン溶液における規格化発光スペクトルである。縦軸はフォトンカウントに比例する。当該発光スペクトルをF(λ)(λは波長)の関数として表すと、各波長の単位時間当たりのフォトン数N(λ)はN(λ)=FF(λ)(Fは比例定数)となる。よって当該有機化合物のトルエン溶液における単位時間当たりの総フォトン数Nは下記式(I)と表すことができる。なお、下記式(I)において∫F(λ)dλは図1(A)における発光スペクトルの積分値となる。
=∫N(λ)dλ=F∫F(λ)dλ  ・・・  (I)
一方、ある波長のフォトンの単位時間当たりエネルギーφ(λ)は、下記式(II)のように表すことができる。なお、下記式(II)において、cは光速、hはプランク定数を表す。
φ(λ)=N(λ)・ch/λ=FF(λ)・ch/λ  ・・・  (II)
よって、当該有機化合物のトルエン溶液における発光の単位時間当たりの全波長領域における総エネルギーは、下記式(III)と表すことができる。
φ=∫φ(λ)dλ=Fch∫F(λ)/λdλ  ・・・  (III)
発光の平均フォトンエネルギー(Eave)は、上記式(III)で表される総エネルギーを、上記式(I)で表される総フォトン数で割った値であるため、下記式(IV)で表すことができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000004
図1(A)に発光スペクトルを示した有機化合物のトルエン溶液における発光の平均フォトンエネルギー(Eave)は、上記式(IV)より2.65eV、すなわち468nmと算出することができる(図1(B))。なお、有効数字は3桁としている。
ここで、計測機器によっては、PLスペクトルの縦軸がフォトン数N(λ)ではなく、エネルギーφ(λ)そのもの(例えば分光放射輝度計の場合)であったり、あるいはエネルギーφ(λ)に比例する規格化スペクトルI(λ)であったりする場合がある。その場合は、以下のように発光の平均フォトンエネルギーEaveを求めることができる。
まず、上記式(I)および(II)より、単位時間当たりの総フォトン数Nは下記式(V)のように表すことができる。
=∫N(λ)dλ=(1/ch)∫φ(λ)λdλ  ・・・  (V)
したがって、発光の平均フォトンエネルギー(Eave)は、PLスペクトルの縦軸がエネルギーφ(λ)そのものである場合、式(III)乃至(V)より、下記式(VI)のように求めることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000005
またはエネルギーに比例する規格化スペクトルI(λ)を用いた場合は、下記式(VII)のように求めることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000006
以上のように、発光の平均フォトンエネルギー(Eave)は、有機化合物のトルエン溶液における発光スペクトルを計測する機器に応じて上記式(IV)、(VI)または(VII)のいずれかを用いて求めることができる。
<発光スペクトルの短波長側の発光端エネルギー(Eedge)の算出方法>
edgeの算出方法について説明する。図2は図1で用いた発光中心物質の短波長側の発光端付近を拡大した図である。Eedgeは図2のように、発光スペクトルF(λ)の短波長側の裾において、半値付近で接線を引き、その接線とx軸の交点から求めることができる。
図2に示した発光スペクトルの短波長側の裾において、半値付近で接線を引き、その接線とx軸の交点を求めると432nmであるため、当該発光スペクトルの短波長側の発光端エネルギー(Eedge)は、2.87eVと算出することができる。
なお、これらEave、Eedgeを算出する為に用いた発光中心物質のPLスペクトルは、溶液状態のスペクトルである。各エネルギー準位は媒体の比誘電率等の影響を受ける。発光素子のEL層を構成する有機化合物の比誘電率は3程度であるため、室温において1以上10以下、より好ましくは2以上5以下の比誘電率の溶媒中で測定することで、およそ正確な値を測定できる。具体的な溶媒として、ヘキサン、ベンゼン、トルエン、ジエチルエーテル、酢酸エチル、クロロホルム、クロロベンゼン、ジクロロメタンが挙げられる。特に、トルエンやクロロホルムは室温における比誘電率が2以上5以下で、溶解性が高く、汎用的な溶媒であるので、トルエンやクロロホルム中で測定すると、発光素子中での値とそれらの溶媒中での値の差は多くの場合、実験誤差範囲内となる。
<発光素子のEL発光ピークエネルギー(Eem)と、外部量子効率(EQE)およびブルーインデックス(BI)の関係について>
図3は、図1および図2で用いた発光物質を発光中心とし、マイクロキャビティ構造を有する有機EL素子(トップエミッション)に関し、EemとEQEとの関係、およびEemとBIとの関係を調査したものである。なお、ここでのEQEは、正面輝度からランバーシアン配光を仮定して算出した未補正EQEである。また、輝度が1000cd/m付近の時のEQEを用いている。
なお、ブルーインデックス(BI)とは、電流効率(cd/A)をさらにy色度で割った値であり、青色発光の発光特性を表す指標の一つである。青色発光は、y色度が小さいほど色純度の高い発光となる傾向にある。色純度の高い青色発光は、輝度成分が小さくても広い範囲の青色を表現することが可能であり、色純度の高い青色発光を用いることで、青色を表現するための必要輝度が低下することから消費電力の低減効果が得られる。そのため、青色純度の指標の一つとなるy色度を考慮したBIが青色発光の効率を表す手段として好適に用いられ、BIが高い発光素子ほどディスプレイに用いられる青色発光素子としての効率が良好であるということができる。
図3の横軸に示されている、EL発光ピークエネルギー(Eem)は、有機EL素子の光路長を変え、マイクロキャビティ効果によって増幅させる波長を変化させることで、調整することができる。当該Eemに対するEQEをプロットすると、2.65eV乃至2.73eVの間の範囲(図中Aの範囲)で良好な効率を示し、それ以上のEemを呈する発光素子のEQEは大きく減少していることがわかる。また、同様の範囲ではBIも良好な値を示す。なお、上記で算出したように、2.65eVはこれらの発光素子に用いられている発光中心物質のトルエン溶液における発光の平均フォトンエネルギー(Eave)に相当する。
また、図中範囲Aの上限値である2.73eVは、上で算出したこれらの有機EL素子に用いられている発光中心物質のトルエン溶液におけるPL発光スペクトルの短波長側の発光端エネルギー(Eedge)2.87eVの0.95倍に相当する。
このように、マイクロキャビティ構造を有する有機EL素子に関して、下記式(1)のような関係となるようにマイクロキャビティ構造のキャビティ長(光路長)を制御することで、EQEの良好な発光素子とすることができる。なお、この範囲においてはBIも同様に良好な数値を示す。
ave≦Eem≦0.95Eedge ・・・ (1)
(但し、Eaveは発光素子に用いられている発光中心物質のトルエン溶液における発光の平均フォトンエネルギー(単位[eV])を表し、Eedgeは発光中心物質のトルエン溶液におけるPL発光スペクトルの短波長側の発光端エネルギー(単位[eV])を表し、EemはEL発光ピークエネルギー(単位[eV])を表すものとする。)
なお、青色発光を呈する有機EL素子の場合、BIに着目することが適当である。そしてBIとEQEは、各々ピークを迎えるEemが異なることを本発明者らは見出した。図3に示すように、BIはEQEに比べ、Eemが比較的エネルギーの高い領域に位置する場合に最大値を有するため、下記式(2)のような関係となるようにマイクロキャビティ構造のキャビティ長(光路長)を制御することが好ましい。
ave+0.02≦Eem ≦ 0.95Eedge ・・・(2)
なお、本発明の一態様の有機EL素子は、Eemが2.6eV以上2.9eV以下であることが好ましい。
また、本発明の一態様の有機EL素子は、マイクロキャビティ構造を有する発光素子である。有機EL素子は、一対の電極の間に、有機化合物を含むEL層を挟んで、電流を流すことで発光するが、マイクロキャビティ構造は、一対の電極のうち、一方を反射電極、他方を半透過・半反射電極とすることによって反射を繰り返し、電極間の距離(キャビティ長、光路長ともいう)に相当する波長の光を増幅することができる構造となっている。キャビティ長は、EL層や電極の厚さを調整することによって変化させることができる。電極を用いてキャビティ長を調整する場合には、ITOなどの透明電極を用いることができる。EL層で調整する場合には、キャリア輸送層や、キャリア注入層の厚みを調整することで光路長を制御することができる。
有機EL素子の発光方向については、トップエミッション構造であっても、ボトムエミッション構造であっても構わない。トップエミッションの発光素子においては、光の取出し効率をより効果的に行うために、半透過半反射電極における、前記反射電極に対する面と反対の面に、分子量300以上1200以下の有機化合物層が形成されていることが好ましい。
なお本発明の一態様の発光素子において、一つの発光素子における発光中心物質は一種類であることが好ましい。
以上のような構成を有する本発明の一態様の発光素子は、発光効率の良好な発光素子とすることが可能となる。
続いて、本発明の一態様である発光素子の例について図4(A)を用いて以下、詳細に説明する。
本実施の形態における発光素子は、第1の電極101と、第2の電極102とからなる一対の電極と、第1の電極101と第2の電極102との間に設けられたEL層103とから構成されている。図4(A)では、作製基板側に設けられた電極を第1の電極101として説明を行う。
本発明の一態様の発光素子は、マイクロキャビティ構造を有する発光素子である。マイクロキャビティ構造を有する発光素子は、発光素子の一対の電極を、反射電極と半透過・半反射電極とから構成することにより得られる。反射電極と半透過・半反射電極は上述の第1の電極101と第2の電極102に相当する。反射電極と半透過・半反射電極との間には少なくともEL層を有し、少なくとも発光領域となる発光層を有している。
マイクロキャビティ構造を有する発光素子は、EL層に含まれる発光層から全方向に射出される発光が、反射電極と半透過・半反射電極とによって反射され、共振する。
反射電極は、可視光の反射率が40%乃至100%、好ましくは70%乃至100%であり、かつ抵抗率が1×10−2Ωcm以下であるとする。反射電極を形成する材料としては、アルミニウム(Al)またはAlを含む合金等が挙げられる。Alを含む合金としては、AlとL(Lは、チタン(Ti)、ネオジム(Nd)、ニッケル(Ni)、及びランタン(La)の一つまたは複数を表す)とを含む合金等が挙げられ、例えばAlとTi、またはAlとNiとLaを含む合金等である。アルミニウムは、抵抗値が低く、光の反射率が高い。また、アルミニウムは、地殻における存在量が多く、安価であるため、アルミニウムを用いることによる発光素子の作製コストを低減することができる。また、銀(Ag)、またはAgとN(Nは、イットリウム(Y)、Nd、マグネシウム(Mg)、イッテルビウム(Yb)、Al、Ti、ガリウム(Ga)、亜鉛(Zn)、インジウム(In)、タングステン(W)、マンガン(Mn)、スズ(Sn)、鉄(Fe)、Ni、銅(Cu)、パラジウム(Pd)、イリジウム(Ir)、または金(Au)の一つまたは複数を表す)とを含む合金等を用いても良い。銀を含む合金としては、例えば、銀とパラジウムと銅を含む合金、銀と銅を含む合金、銀とマグネシウムを含む合金、銀とニッケルを含む合金、銀と金を含む合金、銀とイッテルビウムを含む合金等が挙げられる。その他、タングステン、クロム(Cr)、モリブデン(Mo)、銅、チタンなどの遷移金属を用いることができる。なお、反射電極とEL層との間に光透過性を有する導電材料で透明電極層を形成し、反射電極と透明電極の2層で第1の電極101とすることもでき、これにより、マイクロキャビティ構造の光路長(キャビティ長)を調整することもできる。光透過性を有する導電材料としては、インジウム錫酸化物(Indium Tin Oxide、以下ITO)、珪素または酸化珪素を含むインジウム錫酸化物(略称:ITSO)、酸化インジウム−酸化亜鉛(Indium Zinc Oxide)、チタンを含有した酸化インジウム−錫酸化物、インジウム−チタン酸化物、酸化タングステン及び酸化亜鉛を含有した酸化インジウムなどの金属酸化物を挙げることができる。図4(A)では反射電極101−1、透明電極101−2により第1の電極101が構成されている。
また、半透過・半反射電極は、可視光の反射率が20%乃至80%、好ましくは40%乃至70%であり、抵抗率が1×10−2Ωcm以下であるとする。半透過・半反射電極としては、導電性を有する金属、合金、導電性化合物などを1種又は複数種用いて形成することができる。具体的には、例えば、インジウム錫酸化物(Indium Tin Oxide、以下ITO)、珪素または酸化珪素を含むインジウム錫酸化物(略称:ITSO)、酸化インジウム−酸化亜鉛(Indium Zinc Oxide)、チタンを含有した酸化インジウム−錫酸化物、インジウム−チタン酸化物、酸化タングステン及び酸化亜鉛を含有した酸化インジウムなどの金属酸化物を用いることができる。また、光を透過する程度(好ましくは、1nm以上30nm以下の厚さ)の金属薄膜を用いることができる。金属としては、例えば、Ag、またはAgとAl、AgとMg、AgとAu、AgとYbなどの合金等を用いることができる。
反射電極と、半透過・半反射電極は、第1の電極101、第2の電極102のどちらであっても良い。図4(A)では、上述したように第1の電極101が作製基板側にある場合を説明しているため、反射電極が第1の電極である場合、当該発光素子はトップエミッション構造となり、反射電極が第2の電極102である場合はボトムエミッションの発光素子となる。なお、第1の電極101および第2の電極102は陽極であっても陰極であっても構わないが、図4(A)では第1の電極101が陽極である場合を示している。
なお、トップエミッション構造を有する発光素子である場合、第2の電極102のEL層103に接する面と反対の面に有機キャップ層104を設けることで光取出し効率を向上させることができる。発光素子においては、電極102と接するように有機キャップ層104を設けることによって、電極102と空気界面における屈折率差を低減できるため、光取出し効率を向上させることができる。膜厚は5nm以上120nm以下が好ましい。より好ましくは30nm以上90nm以下である。また、有機キャップ層104は分子量300以上1200以下の有機化合物層を用いると良い。また、導電性を有する有機材料であることが好ましい。当該構成では第2の電極102は、半透過・半反射電極であり、ある程度の透光性を維持するため膜厚を薄くする必要があり導電性が悪化する場合がある。ここで有機キャップ層104に導電性を有する材料を用いることで、光取出し効率を向上させつつ、導電性を確保し、発光素子作製の歩留まりを向上させることができる。なお、可視光領域の吸収が少ない有機化合物を好適に用いることができる。有機キャップ層には、EL層103に用いた有機化合物を有機キャップ層104として用いることもできる。この場合、EL層103を成膜した成膜装置若しくは成膜室で有機キャップ層104を成膜できるため、簡便に有機キャップ層104を成膜することができる。
当該発光素子は、上述の反射電極に接して設けられた透明電極や、正孔注入層、正孔輸送層などキャリア輸送層の厚みを変え反射電極と半透過・半反射電極の間の光学的距離(キャビティ長)を変えることができる。これにより、反射電極と半透過・半反射電極との間において、共振する波長の光を強め、共振しない波長の光を減衰させることができる。図4(A)では第1の電極101の一部である透明電極101−2により光路長を調整している例をしめしたが、図4(B)のように正孔注入層111によって光路長を調整してもよいし、正孔輸送層112によって調整しても良いし、これらのうち2以上を組み合わせて用いても良い。
なお、発光のうち、反射電極によって反射されて戻ってきた光(第1の反射光)は、発光層から半透過・半反射電極に直接入射する光(第1の入射光)と大きな干渉を起こすため、反射電極と発光層の光学的距離を(2n−1)λ/4(ただし、nは1以上の自然数、λは増幅したい発光の波長)に調節することが好ましい。当該光学的距離を調節することにより、第1の反射光と第1の入射光との位相を合わせ発光層からの発光をより増幅させることができる。
マイクロキャビティ構造を有することで、特定波長の正面方向の発光強度を強めることが可能となるため、低消費電力化を図ることができる。
EL層103は積層構造を有していることが好ましいが、当該積層構造については特に限定はなく、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、電子注入層、キャリアブロック層、励起子ブロック層、電荷発生層など、様々な層構造を適用することができる。本実施の形態では、図4(A)に示すように、正孔注入層111、正孔輸送層112、発光層113に加えて、電子輸送層114及び電子注入層115を有する構成、及び図4(B)に示すように、正孔注入層111、正孔輸送層112、発光層113に加えて、電子輸送層114、電子注入層115及び電荷発生層116を有する構成の2種類の構成について説明する。各層を構成する材料について以下に具体的に示す。
正孔注入層111は、アクセプタ性を有する物質を含む層である。アクセプタ性を有する物質としては、有機化合物と無機化合物のいずれも用いることが可能である。
アクセプタ性を有する物質としては、電子吸引基(ハロゲン基やシアノ基)を有する化合物を用いることができ、7,7,8,8−テトラシアノ−2,3,5,6−テトラフルオロキノジメタン(略称:F4−TCNQ)、3,6−ジフルオロ−2,5,7,7,8,8−ヘキサシアノキノジメタン、クロラニル、2,3,6,7,10,11−ヘキサシアノ−1,4,5,8,9,12−ヘキサアザトリフェニレン(略称:HAT−CN)、1,3,4,5,7,8−ヘキサフルオロテトラシアノ−ナフトキノジメタン(略称:F6−TCNNQ)等の電子吸引基を有する化合物等を用いることができる。アクセプタ性を有する有機化合物としては、HAT−CNのように複素原子を複数有する縮合芳香環に電子吸引基が結合している化合物が、熱的に安定であり好ましい。また、電子吸引基(特にフルオロ基のようなハロゲン基やシアノ基)を有する[3]ラジアレン誘導体は、電子受容性が非常に高いため好ましく、具体的にはα,α’,α’’−1,2,3−シクロプロパントリイリデントリス[4−シアノ−2,3,5,6−テトラフルオロベンゼンアセトニトリル]、α,α’,α’’−1,2,3−シクロプロパントリイリデントリス[2,6−ジクロロー3,5−ジフルオロ−4−(トリフルオロメチル)ベンゼンアセトニトリル]、α,α’,α’’−1,2,3−シクロプロパントリイリデントリス[2,3,4,5,6−ペンタフルオロベンゼンアセトニトリル]などが挙げられる。アクセプタ性を有する物質としては以上で述べた有機化合物以外にも、モリブデン酸化物やバナジウム酸化物、ルテニウム酸化物、タングステン酸化物、マンガン酸化物等を用いることができる。この他、フタロシアニン(略称:HPc)や銅フタロシアニン(CuPC)等のフタロシアニン系の錯体化合物、4,4’−ビス[N−(4−ジフェニルアミノフェニル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル(略称:DPAB)、N,N’−ビス{4−[ビス(3−メチルフェニル)アミノ]フェニル}−N,N’−ジフェニル−(1,1’−ビフェニル)−4,4’−ジアミン(略称:DNTPD)等の芳香族アミン化合物、或いはポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)/ポリ(スチレンスルホン酸)(PEDOT/PSS)等の高分子等によっても正孔注入層111を形成することができる。アクセプタ性を有する物質は、隣接する正孔輸送層(あるいは正孔輸送材料)から、電界の印加により電子を引き抜くことができる。
また、正孔注入層111として、正孔輸送性を有する物質にアクセプタ性物質を含有させた複合材料を用いることもできる。なお、正孔輸送性の物質にアクセプタ性物質を含有させた複合材料を用いることにより、仕事関数に依らず電極を形成する材料を選ぶことができる。つまり、第1の電極101として仕事関数の大きい材料だけでなく、仕事関数の小さい材料も用いることができるようになる。当該アクセプタ性物質としては、7,7,8,8−テトラシアノ−2,3,5,6−テトラフルオロキノジメタン(略称:F4−TCNQ)、クロラニル、1,3,4,5,7,8−ヘキサフルオロテトラシアノ−ナフトキノジメタン(略称:F6−TCNNQ)等のアクセプタ性を有する有機化合物や、遷移金属酸化物を挙げることができる。また元素周期表における第4族乃至第8族に属する金属の酸化物も用いることができる。元素周期表における第4族乃至第8族に属する金属の酸化物としては、酸化バナジウム、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化クロム、酸化モリブデン、酸化タングステン、酸化マンガン、酸化レニウムなどが電子受容性の高さから好ましい。中でも特に、酸化モリブデンは大気中でも安定であり、吸湿性が低く、扱いやすいため好ましい。
複合材料に用いる正孔輸送性の物質としては、芳香族アミン化合物、カルバゾール誘導体、芳香族炭化水素、高分子化合物(オリゴマー、デンドリマー、ポリマー等)など、種々の有機化合物を用いることができる。なお、複合材料に用いる正孔輸送性の物質としては、10−6cm/Vs以上の正孔移動度を有する物質であることが好ましい。以下では、複合材料における正孔輸送性の物質として用いることのできる有機化合物を具体的に列挙する。
複合材料に用いることのできる芳香族アミン化合物としては、N,N’−ジ(p−トリル)−N,N’−ジフェニル−p−フェニレンジアミン(略称:DTDPPA)、4,4’−ビス[N−(4−ジフェニルアミノフェニル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル(略称:DPAB)、N,N’−ビス{4−[ビス(3−メチルフェニル)アミノ]フェニル}−N,N’−ジフェニル−(1,1’−ビフェニル)−4,4’−ジアミン(略称:DNTPD)、1,3,5−トリス[N−(4−ジフェニルアミノフェニル)−N−フェニルアミノ]ベンゼン(略称:DPA3B)、1,1−ビス−(4−ビス(4−メチル−フェニル)−アミノ−フェニル)−シクロヘキサン(略称:TAPC)等を挙げることができる。カルバゾール誘導体としては、具体的には、3−[N−(9−フェニルカルバゾール−3−イル)−N−フェニルアミノ]−9−フェニルカルバゾール(略称:PCzPCA1)、3,6−ビス[N−(9−フェニルカルバゾール−3−イル)−N−フェニルアミノ]−9−フェニルカルバゾール(略称:PCzPCA2)、3−[N−(1−ナフチル)−N−(9−フェニルカルバゾール−3−イル)アミノ]−9−フェニルカルバゾール(略称:PCzPCN1)、4,4’−ジ(N−カルバゾリル)ビフェニル(略称:CBP)、1,3,5−トリス[4−(N−カルバゾリル)フェニル]ベンゼン(略称:TCPB)、9−[4−(10−フェニルアントラセン−9−イル)フェニル]−9H−カルバゾール(略称:CzPA)、1,4−ビス[4−(N−カルバゾリル)フェニル]−2,3,5,6−テトラフェニルベンゼン等を用いることができる。芳香族炭化水素としては、例えば、2−tert−ブチル−9,10−ジ(2−ナフチル)アントラセン(略称:t−BuDNA)、2−tert−ブチル−9,10−ジ(1−ナフチル)アントラセン、9,10−ビス(3,5−ジフェニルフェニル)アントラセン(略称:DPPA)、2−tert−ブチル−9,10−ビス(4−フェニルフェニル)アントラセン(略称:t−BuDBA)、9,10−ジ(2−ナフチル)アントラセン(略称:DNA)、9,10−ジフェニルアントラセン(略称:DPAnth)、2−tert−ブチルアントラセン(略称:t−BuAnth)、9,10−ビス(4−メチル−1−ナフチル)アントラセン(略称:DMNA)、2−tert−ブチル−9,10−ビス[2−(1−ナフチル)フェニル]アントラセン、9,10−ビス[2−(1−ナフチル)フェニル]アントラセン、2,3,6,7−テトラメチル−9,10−ジ(1−ナフチル)アントラセン、2,3,6,7−テトラメチル−9,10−ジ(2−ナフチル)アントラセン、9,9’−ビアントリル、10,10’−ジフェニル−9,9’−ビアントリル、10,10’−ビス(2−フェニルフェニル)−9,9’−ビアントリル、10,10’−ビス[(2,3,4,5,6−ペンタフェニル)フェニル]−9,9’−ビアントリル、アントラセン、テトラセン、ルブレン、ペリレン、2,5,8,11−テトラ(tert−ブチル)ペリレン等が挙げられる。また、この他、ペンタセン、コロネン等も用いることができる。ビニル骨格を有していてもよい。ビニル基を有している芳香族炭化水素としては、例えば、4,4’−ビス(2,2−ジフェニルビニル)ビフェニル(略称:DPVBi)、9,10−ビス[4−(2,2−ジフェニルビニル)フェニル]アントラセン(略称:DPVPA)等が挙げられる。なお、本発明の一態様の有機化合物も用いることができる。なお、この場合、アクセプタ性物質としては、F6−TCNNQを用いることが好ましい。
また、ポリ(N−ビニルカルバゾール)(略称:PVK)やポリ(4−ビニルトリフェニルアミン)(略称:PVTPA)、ポリ[N−(4−{N’−[4−(4−ジフェニルアミノ)フェニル]フェニル−N’−フェニルアミノ}フェニル)メタクリルアミド](略称:PTPDMA)、ポリ[N,N’−ビス(4−ブチルフェニル)−N,N’−ビス(フェニル)ベンジジン](略称:Poly−TPD)等の高分子化合物を用いることもできる。
正孔注入層111を形成することによって、正孔の注入性が良好となり、駆動電圧の小さい発光素子を得ることができる。また、アクセプタ性を有する有機化合物は蒸着が容易で成膜がしやすいため、用いやすい材料である。
なお、正孔注入層を上記複合材料で形成する場合、当該複合材料は導電性が良好であるため、厚膜として形成しても駆動電圧の悪化を招きにくく、マイクロキャビティ構造におけるキャビティ長を調整する層として非常に好適である。
正孔輸送層112は、正孔輸送性を有する材料を含んで形成される。正孔輸送性を有する材料としては、1×10−6cm/Vs以上の正孔移動度を有していることが好ましい。正孔輸送層112には本発明の一態様の有機化合物を含んでいることが好ましい。実施の形態1に記載の有機化合物を正孔輸送層112に含むことによって、EL層103内部に屈折率の低い層を形成することができ、発光素子の外部量子効率の向上させることが可能となる。
上記正孔輸送性を有する材料としては、4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル(略称:NPB)、N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−N,N’−ジフェニル−[1,1’−ビフェニル]−4,4’−ジアミン(略称:TPD)、4,4’−ビス[N−(スピロ−9,9’−ビフルオレン−2−イル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル(略称:BSPB)、4−フェニル−4’−(9−フェニルフルオレン−9−イル)トリフェニルアミン(略称:BPAFLP)、4−フェニル−3’−(9−フェニルフルオレン−9−イル)トリフェニルアミン(略称:mBPAFLP)、4−フェニル−4’−(9−フェニル−9H−カルバゾール−3−イル)トリフェニルアミン(略称:PCBA1BP)、4,4’−ジフェニル−4’’−(9−フェニル−9H−カルバゾール−3−イル)トリフェニルアミン(略称:PCBBi1BP)、4−(1−ナフチル)−4’−(9−フェニル−9H−カルバゾール−3−イル)−トリフェニルアミン(略称:PCBANB)、4、4’−ジ(1−ナフチル)−4’’−(9−フェニル−9H−カルバゾール−3−イル)トリフェニルアミン(略称:PCBNBB)、9,9−ジメチル−N−フェニル−N−[4−(9−フェニル−9H−カルバゾール−3−イル)フェニル]−フルオレン−2−アミン(略称:PCBAF)、N−フェニル−N−[4−(9−フェニル−9H−カルバゾール−3−イル)フェニル]−スピロ−9,9’−ビフルオレン−2−アミン(略称:PCBASF)などの芳香族アミン骨格を有する化合物や、1,3−ビス(N−カルバゾリル)ベンゼン(略称:mCP)、4,4’−ジ(N−カルバゾリル)ビフェニル(略称:CBP)、3,6−ビス(3,5−ジフェニルフェニル)−9−フェニルカルバゾール(略称:CzTP)、3,3’−ビス(9−フェニル−9H−カルバゾール)(略称:PCCP)などのカルバゾール骨格を有する化合物や、4,4’,4’’−(ベンゼン−1,3,5−トリイル)トリ(ジベンゾチオフェン)(略称:DBT3P−II)、2,8−ジフェニル−4−[4−(9−フェニル−9H−フルオレン−9−イル)フェニル]ジベンゾチオフェン(略称:DBTFLP−III)、4−[4−(9−フェニル−9H−フルオレン−9−イル)フェニル]−6−フェニルジベンゾチオフェン(略称:DBTFLP−IV)などのチオフェン骨格を有する化合物や、4,4’,4’’−(ベンゼン−1,3,5−トリイル)トリ(ジベンゾフラン)(略称:DBF3P−II)、4−{3−[3−(9−フェニル−9H−フルオレン−9−イル)フェニル]フェニル}ジベンゾフラン(略称:mmDBFFLBi−II)などのフラン骨格を有する化合物が挙げられる。上述した中でも、芳香族アミン骨格を有する化合物やカルバゾール骨格を有する化合物は、信頼性が良好であり、また、正孔輸送性が高く、駆動電圧低減にも寄与するため好ましい。なお、正孔注入層111の複合材料に用いられる正孔輸送性を有する材料として挙げた物質も正孔輸送層112を構成する材料として好適に用いることができる。
発光層113は、ホスト材料と発光材料を含む層である。発光材料は蛍光発光物質であっても、りん光発光物質であっても、熱活性化遅延蛍光(TADF)を示す物質であっても、その他の発光材料であっても構わない。また、単層であっても、異なる発光材料が含まれる複数の層からなっていても良い。
発光層113において、蛍光発光物質として用いることが可能な材料としては、例えば以下のようなものが挙げられる。また、これ以外の蛍光発光物質も用いることができる。
5,6−ビス[4−(10−フェニル−9−アントリル)フェニル]−2,2’−ビピリジン(略称:PAP2BPy)、5,6−ビス[4’−(10−フェニル−9−アントリル)ビフェニル−4−イル]−2,2’−ビピリジン(略称:PAPP2BPy)、N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス[4−(9−フェニル−9H−フルオレン−9−イル)フェニル]ピレン−1,6−ジアミン(略称:1,6FLPAPrn)、N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−N,N’−ビス[3−(9−フェニル−9H−フルオレン−9−イル)フェニル]−ピレン−1,6−ジアミン(略称:1,6mMemFLPAPrn)、N,N’−ビス[4−(9H−カルバゾール−9−イル)フェニル]−N,N’−ジフェニルスチルベン−4,4’−ジアミン(略称:YGA2S)、4−(9H−カルバゾール−9−イル)−4’−(10−フェニル−9−アントリル)トリフェニルアミン(略称:YGAPA)、4−(9H−カルバゾール−9−イル)−4’−(9,10−ジフェニル−2−アントリル)トリフェニルアミン(略称:2YGAPPA)、N,9−ジフェニル−N−[4−(10−フェニル−9−アントリル)フェニル]−9H−カルバゾール−3−アミン(略称:PCAPA)、ペリレン、2,5,8,11−テトラ−tert−ブチルペリレン(略称:TBP)、4−(10−フェニル−9−アントリル)−4’−(9−フェニル−9H−カルバゾール−3−イル)トリフェニルアミン(略称:PCBAPA)、N,N’’−(2−tert−ブチルアントラセン−9,10−ジイルジ−4,1−フェニレン)ビス[N,N’,N’−トリフェニル−1,4−フェニレンジアミン](略称:DPABPA)、N,9−ジフェニル−N−[4−(9,10−ジフェニル−2−アントリル)フェニル]−9H−カルバゾール−3−アミン(略称:2PCAPPA)、N−[4−(9,10−ジフェニル−2−アントリル)フェニル]−N,N’,N’−トリフェニル−1,4−フェニレンジアミン(略称:2DPAPPA)、N,N,N’,N’,N’’,N’’,N’’’,N’’’−オクタフェニルジベンゾ[g,p]クリセン−2,7,10,15−テトラアミン(略称:DBC1)、クマリン30、N−(9,10−ジフェニル−2−アントリル)−N,9−ジフェニル−9H−カルバゾール−3−アミン(略称:2PCAPA)、N−[9,10−ビス(1,1’−ビフェニル−2−イル)−2−アントリル]−N,9−ジフェニル−9H−カルバゾール−3−アミン(略称:2PCABPhA)、N−(9,10−ジフェニル−2−アントリル)−N,N’,N’−トリフェニル−1,4−フェニレンジアミン(略称:2DPAPA)、N−[9,10−ビス(1,1’−ビフェニル−2−イル)−2−アントリル]−N,N’,N’−トリフェニル−1,4−フェニレンジアミン(略称:2DPABPhA)、9,10−ビス(1,1’−ビフェニル−2−イル)−N−[4−(9H−カルバゾール−9−イル)フェニル]−N−フェニルアントラセン−2−アミン(略称:2YGABPhA)、N,N,9−トリフェニルアントラセン−9−アミン(略称:DPhAPhA)クマリン545T、N,N’−ジフェニルキナクリドン、(略称:DPQd)、ルブレン、5,12−ビス(1,1’−ビフェニル−4−イル)−6,11−ジフェニルテトラセン(略称:BPT)、2−(2−{2−[4−(ジメチルアミノ)フェニル]エテニル}−6−メチル−4H−ピラン−4−イリデン)プロパンジニトリル(略称:DCM1)、2−{2−メチル−6−[2−(2,3,6,7−テトラヒドロ−1H,5H−ベンゾ[ij]キノリジン−9−イル)エテニル]−4H−ピラン−4−イリデン}プロパンジニトリル(略称:DCM2)、N,N,N’,N’−テトラキス(4−メチルフェニル)テトラセン−5,11−ジアミン(略称:p−mPhTD)、7,14−ジフェニル−N,N,N’,N’−テトラキス(4−メチルフェニル)アセナフト[1,2−a]フルオランテン−3,10−ジアミン(略称:p−mPhAFD)、2−{2−イソプロピル−6−[2−(1,1,7,7−テトラメチル−2,3,6,7−テトラヒドロ−1H,5H−ベンゾ[ij]キノリジン−9−イル)エテニル]−4H−ピラン−4−イリデン}プロパンジニトリル(略称:DCJTI)、2−{2−tert−ブチル−6−[2−(1,1,7,7−テトラメチル−2,3,6,7−テトラヒドロ−1H,5H−ベンゾ[ij]キノリジン−9−イル)エテニル]−4H−ピラン−4−イリデン}プロパンジニトリル(略称:DCJTB)、2−(2,6−ビス{2−[4−(ジメチルアミノ)フェニル]エテニル}−4H−ピラン−4−イリデン)プロパンジニトリル(略称:BisDCM)、2−{2,6−ビス[2−(8−メトキシ−1,1,7,7−テトラメチル−2,3,6,7−テトラヒドロ−1H,5H−ベンゾ[ij]キノリジン−9−イル)エテニル]−4H−ピラン−4−イリデン}プロパンジニトリル(略称:BisDCJTM)、N,N’−ジフェニル−N,N’−(1,6−ピレン−ジイル)ビス[(6−フェニルベンゾ[b]ナフト[1,2−d]フラン)−8−アミン](略称:1,6BnfAPrn−03)などが挙げられる。特に、1,6FLPAPrnや1,6mMemFLPAPrn、1,6BnfAPrn−03のようなピレンジアミン化合物に代表される縮合芳香族ジアミン化合物は、ホールトラップ性が高く、発光効率や信頼性に優れているため好ましい。
発光層113において、りん光発光物質として用いることが可能な材料としては、例えば以下のようなものが挙げられる。
トリス{2−[5−(2−メチルフェニル)−4−(2,6−ジメチルフェニル)−4H−1,2,4−トリアゾール−3−イル−κN2]フェニル−κC}イリジウム(III)(略称:[Ir(mpptz−dmp)])、トリス(5−メチル−3,4−ジフェニル−4H−1,2,4−トリアゾラト)イリジウム(III)(略称:[Ir(Mptz)])、トリス[4−(3−ビフェニル)−5−イソプロピル−3−フェニル−4H−1,2,4−トリアゾラト]イリジウム(III)(略称:[Ir(iPrptz−3b)])のような4H−トリアゾール骨格を有する有機金属イリジウム錯体や、トリス[3−メチル−1−(2−メチルフェニル)−5−フェニル−1H−1,2,4−トリアゾラト]イリジウム(III)(略称:[Ir(Mptz1−mp)])、トリス(1−メチル−5−フェニル−3−プロピル−1H−1,2,4−トリアゾラト)イリジウム(III)(略称:[Ir(Prptz1−Me)])のような1H−トリアゾール骨格を有する有機金属イリジウム錯体や、fac−トリス[1−(2,6−ジイソプロピルフェニル)−2−フェニル−1H−イミダゾール]イリジウム(III)(略称:[Ir(iPrpmi)])、トリス[3−(2,6−ジメチルフェニル)−7−メチルイミダゾ[1,2−f]フェナントリジナト]イリジウム(III)(略称:[Ir(dmpimpt−Me)])のようなイミダゾール骨格を有する有機金属イリジウム錯体や、ビス[2−(4’,6’−ジフルオロフェニル)ピリジナト−N,C2’]イリジウム(III)テトラキス(1−ピラゾリル)ボラート(略称:FIr6)、ビス[2−(4’,6’−ジフルオロフェニル)ピリジナト−N,C2’]イリジウム(III)ピコリナート(略称:FIrpic)、ビス{2−[3’,5’−ビス(トリフルオロメチル)フェニル]ピリジナト−N,C2’}イリジウム(III)ピコリナート(略称:[Ir(CFppy)(pic)])、ビス[2−(4’,6’−ジフルオロフェニル)ピリジナト−N,C2’]イリジウム(III)アセチルアセトナート(略称:FIracac)のような電子吸引基を有するフェニルピリジン誘導体を配位子とする有機金属イリジウム錯体が挙げられる。これらは青色のりん光発光を示す化合物であり、440nmから520nmに発光のピークを有する化合物である。
また、トリス(4−メチル−6−フェニルピリミジナト)イリジウム(III)(略称:[Ir(mppm)])、トリス(4−t−ブチル−6−フェニルピリミジナト)イリジウム(III)(略称:[Ir(tBuppm)])、(アセチルアセトナト)ビス(6−メチル−4−フェニルピリミジナト)イリジウム(III)(略称:[Ir(mppm)(acac)])、(アセチルアセトナト)ビス(6−tert−ブチル−4−フェニルピリミジナト)イリジウム(III)(略称:[Ir(tBuppm)(acac)])、(アセチルアセトナト)ビス[6−(2−ノルボルニル)−4−フェニルピリミジナト]イリジウム(III)(略称:[Ir(nbppm)(acac)])、(アセチルアセトナト)ビス[5−メチル−6−(2−メチルフェニル)−4−フェニルピリミジナト]イリジウム(III)(略称:[Ir(mpmppm)(acac)])、(アセチルアセトナト)ビス(4,6−ジフェニルピリミジナト)イリジウム(III)(略称:[Ir(dppm)(acac)])のようなピリミジン骨格を有する有機金属イリジウム錯体や、(アセチルアセトナト)ビス(3,5−ジメチル−2−フェニルピラジナト)イリジウム(III)(略称:[Ir(mppr−Me)(acac)])、(アセチルアセトナト)ビス(5−イソプロピル−3−メチル−2−フェニルピラジナト)イリジウム(III)(略称:[Ir(mppr−iPr)(acac)])のようなピラジン骨格を有する有機金属イリジウム錯体や、トリス(2−フェニルピリジナト−N,C2’)イリジウム(III)(略称:[Ir(ppy)])、ビス(2−フェニルピリジナト−N,C2’)イリジウム(III)アセチルアセトナート(略称:[Ir(ppy)(acac)])、ビス(ベンゾ[h]キノリナト)イリジウム(III)アセチルアセトナート(略称:[Ir(bzq)(acac)])、トリス(ベンゾ[h]キノリナト)イリジウム(III)(略称:[Ir(bzq)])、トリス(2−フェニルキノリナト−N,C2’)イリジウム(III)(略称:[Ir(pq)])、ビス(2−フェニルキノリナト−N,C2’)イリジウム(III)アセチルアセトナート(略称:[Ir(pq)(acac)])のようなピリジン骨格を有する有機金属イリジウム錯体の他、トリス(アセチルアセトナト)(モノフェナントロリン)テルビウム(III)(略称:[Tb(acac)(Phen)])のような希土類金属錯体が挙げられる。これらは主に緑色のりん光発光を示す化合物であり、500nm~600nmに発光のピークを有する。なお、ピリミジン骨格を有する有機金属イリジウム錯体は、信頼性や発光効率にも際だって優れるため、特に好ましい。
また、(ジイソブチリルメタナト)ビス[4,6−ビス(3−メチルフェニル)ピリミジナト]イリジウム(III)(略称:[Ir(5mdppm)(dibm)])、ビス[4,6−ビス(3−メチルフェニル)ピリミジナト](ジピバロイルメタナト)イリジウム(III)(略称:[Ir(5mdppm)(dpm)])、ビス[4,6−ジ(ナフタレン−1−イル)ピリミジナト](ジピバロイルメタナト)イリジウム(III)(略称:[Ir(d1npm)(dpm)])のようなピリミジン骨格を有する有機金属イリジウム錯体や、(アセチルアセトナト)ビス(2,3,5−トリフェニルピラジナト)イリジウム(III)(略称:[Ir(tppr)(acac)])、ビス(2,3,5−トリフェニルピラジナト)(ジピバロイルメタナト)イリジウム(III)(略称:[Ir(tppr)(dpm])])、(アセチルアセトナト)ビス[2,3−ビス(4−フルオロフェニル)キノキサリナト]イリジウム(III)(略称:[Ir(Fdpq)(acac)])のようなピラジン骨格を有する有機金属イリジウム錯体や、トリス(1−フェニルイソキノリナト−N,C2’)イリジウム(III)(略称:[Ir(piq)])、ビス(1−フェニルイソキノリナト−N,C2’)イリジウム(III)アセチルアセトナート(略称:[Ir(piq)(acac)])のようなピリジン骨格を有する有機金属イリジウム錯体の他、2,3,7,8,12,13,17,18−オクタエチル−21H,23H−ポルフィリン白金(II)(略称:PtOEP)のような白金錯体や、トリス(1,3−ジフェニル−1,3−プロパンジオナト)(モノフェナントロリン)ユーロピウム(III)(略称:[Eu(DBM)(Phen)])、トリス[1−(2−テノイル)−3,3,3−トリフルオロアセトナト](モノフェナントロリン)ユーロピウム(III)(略称:[Eu(TTA)(Phen)])のような希土類金属錯体が挙げられる。これらは、赤色のりん光発光を示す化合物であり、600nmから700nmに発光のピークを有する。また、ピラジン骨格を有する有機金属イリジウム錯体は、色度の良い赤色発光が得られる。
また、以上で述べたりん光性化合物の他、公知のりん光性発光材料を選択し、用いてもよい。
TADF材料としてはフラーレン及びその誘導体、アクリジン及びその誘導体、エオシン誘導体等を用いることができる。またマグネシウム(Mg)、亜鉛(Zn)、カドミウム(Cd)、スズ(Sn)、白金(Pt)、インジウム(In)、もしくはパラジウム(Pd)等を含む金属含有ポルフィリンが挙げられる。該金属含有ポルフィリンとしては、例えば、以下の構造式に示されるプロトポルフィリン−フッ化スズ錯体(SnF(Proto IX))、メソポルフィリン−フッ化スズ錯体(SnF(Meso IX))、ヘマトポルフィリン−フッ化スズ錯体(SnF(Hemato IX))、コプロポルフィリンテトラメチルエステル−フッ化スズ錯体(SnF(Copro III−4Me))、オクタエチルポルフィリン−フッ化スズ錯体(SnF(OEP))、エチオポルフィリン−フッ化スズ錯体(SnF(Etio I))、オクタエチルポルフィリン−塩化白金錯体(PtClOEP)等も挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
また、以下の構造式に示される2−(ビフェニル−4−イル)−4,6−ビス(12−フェニルインドロ[2,3−a]カルバゾール−11−イル)−1,3,5−トリアジン(略称:PIC−TRZ)や、9−(4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン−2−イル)−9’−フェニル−9H,9’H−3,3’−ビカルバゾール(略称:PCCzTzn)、9−[4−(4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン−2−イル)フェニル]−9’−フェニル−9H,9’H−3,3’−ビカルバゾール(略称:PCCzPTzn)、2−[4−(10H−フェノキサジン−10−イル)フェニル]−4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン(略称:PXZ−TRZ)、3−[4−(5−フェニル−5,10−ジヒドロフェナジン−10−イル)フェニル]−4,5−ジフェニル−1,2,4−トリアゾール(略称:PPZ−3TPT)、3−(9,9−ジメチル−9H−アクリジン−10−イル)−9H−キサンテン−9−オン(略称:ACRXTN)、ビス[4−(9,9−ジメチル−9,10−ジヒドロアクリジン)フェニル]スルホン(略称:DMAC−DPS)、10−フェニル−10H,10’H−スピロ[アクリジン−9,9’−アントラセン]−10’−オン(略称:ACRSA)、等のπ電子過剰型複素芳香環とπ電子不足型複素芳香環の両方を有する複素環化合物も用いることができる。該複素環化合物は、π電子過剰型複素芳香環及びπ電子不足型複素芳香環を有するため、電子輸送性及び正孔輸送性が共に高く、好ましい。なお、π電子過剰型複素芳香環とπ電子不足型複素芳香環とが直接結合した物質は、π電子過剰型複素芳香環のドナー性とπ電子不足型複素芳香環のアクセプタ性が共に強くなり、S準位とT準位のエネルギー差が小さくなるため、熱活性化遅延蛍光を効率よく得られることから特に好ましい。なお、π電子不足型複素芳香環の代わりに、シアノ基のような電子吸引基が結合した芳香環を用いても良い。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
発光層のホスト材料としては、電子輸送性を有する材料や正孔輸送性を有する材料など様々なキャリア輸送材料を用いることができる。
正孔輸送性を有する材料としては、上記正孔輸送層112に含まれる正孔輸送性を有する材料として挙げた物質を好適に用いることができる。
電子輸送性を有する材料としては、例えば、ビス(10−ヒドロキシベンゾ[h]キノリナト)ベリリウム(II)(略称:BeBq)、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)(4−フェニルフェノラト)アルミニウム(III)(略称:BAlq)、ビス(8−キノリノラト)亜鉛(II)(略称:Znq)、ビス[2−(2−ベンゾオキサゾリル)フェノラト]亜鉛(II)(略称:ZnPBO)、ビス[2−(2−ベンゾチアゾリル)フェノラト]亜鉛(II)(略称:ZnBTZ)などの金属錯体や、2−(4−ビフェニリル)−5−(4−tert−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール(略称:PBD)、3−(4−ビフェニリル)−4−フェニル−5−(4−tert−ブチルフェニル)−1,2,4−トリアゾール(略称:TAZ)、1,3−ビス[5−(p−tert−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール−2−イル]ベンゼン(略称:OXD−7)、9−[4−(5−フェニル−1,3,4−オキサジアゾール−2−イル)フェニル]−9H−カルバゾール(略称:CO11)、2,2’,2’’−(1,3,5−ベンゼントリイル)トリス(1−フェニル−1H−ベンゾイミダゾール)(略称:TPBI)、2−[3−(ジベンゾチオフェン−4−イル)フェニル]−1−フェニル−1H−ベンゾイミダゾール(略称:mDBTBIm−II)などのポリアゾール骨格を有する複素環化合物や、2−[3−(ジベンゾチオフェン−4−イル)フェニル]ジベンゾ[f,h]キノキサリン(略称:2mDBTPDBq−II)、2−[3’−(ジベンゾチオフェン−4−イル)ビフェニル−3−イル]ジベンゾ[f,h]キノキサリン(略称:2mDBTBPDBq−II)、2−[3’−(9H−カルバゾール−9−イル)ビフェニル−3−イル]ジベンゾ[f,h]キノキサリン(略称:2mCzBPDBq)、4,6−ビス[3−(フェナントレン−9−イル)フェニル]ピリミジン(略称:4,6mPnP2Pm)、4,6−ビス〔3−(4−ジベンゾチエニル)フェニル〕ピリミジン(略称:4,6mDBTP2Pm−II)などのジアジン骨格を有する複素環化合物や、3,5−ビス[3−(9H−カルバゾール−9−イル)フェニル]ピリジン(略称:35DCzPPy)、1,3,5−トリ[3−(3−ピリジル)−フェニル]ベンゼン(略称:TmPyPB)などのピリジン骨格を有する複素環化合物が挙げられる。上述した中でも、ジアジン骨格を有する複素環化合物やピリジン骨格を有する複素環化合物は、信頼性が良好であり好ましい。特に、ジアジン(ピリミジンやピラジン)骨格を有する複素環化合物は、電子輸送性が高く、駆動電圧低減にも寄与する。
蛍光発光物質を発光材料として用いる場合、ホスト材料としては、アントラセン骨格を有する材料が好適である。アントラセン骨格を有する物質を蛍光発光物質のホスト材料として用いると、発光効率、耐久性共に良好な発光層を実現することが可能である。アントラセン骨格を有する材料はHOMO準位が深い材料が多い為、本発明の一態様に好適に適用することができる。ホスト材料として用いるアントラセン骨格を有する物質としては、ジフェニルアントラセン骨格、特に9,10−ジフェニルアントラセン骨格を有する物質が化学的に安定であるため好ましい。また、ホスト材料がカルバゾール骨格を有する場合、正孔の注入・輸送性が高まるため好ましいが、カルバゾールにベンゼン環がさらに縮合したベンゾカルバゾール骨格を含む場合、カルバゾールよりもHOMO準位が0.1eV程度浅くなり、正孔が入りやすくなるためより好ましい。特に、ホスト材料がジベンゾカルバゾール骨格を含む場合、カルバゾールよりもHOMO準位が0.1eV程度浅くなり、正孔が入りやすくなる上に、正孔輸送性にも優れ、耐熱性も高くなるため好適である。したがって、さらにホスト材料として好ましいのは、9,10−ジフェニルアントラセン骨格およびカルバゾール骨格(あるいはベンゾカルバゾール骨格やジベンゾカルバゾール骨格)を同時に有する物質である。なお、上記の正孔注入・輸送性の観点から、カルバゾール骨格に換えて、ベンゾフルオレン骨格やジベンゾフルオレン骨格を用いてもよい。このような物質の例としては、9−フェニル−3−[4−(10−フェニル−9−アントリル)フェニル]−9H−カルバゾール(略称:PCzPA)、3−[4−(1−ナフチル)−フェニル]−9−フェニル−9H−カルバゾール(略称:PCPN)、9−[4−(10−フェニル−9−アントラセニル)フェニル]−9H−カルバゾール(略称:CzPA)、7−[4−(10−フェニル−9−アントリル)フェニル]−7H−ジベンゾ[c,g]カルバゾール(略称:cgDBCzPA)、6−[3−(9,10−ジフェニル−2−アントリル)フェニル]−ベンゾ[b]ナフト[1,2−d]フラン(略称:2mBnfPPA)、9−フェニル−10−{4−(9−フェニル−9H−フルオレン−9−イル)ビフェニル−4’−イル}アントラセン(略称:FLPPA)等が挙げられる。特に、CzPA、cgDBCzPA、2mBnfPPA、PCzPAは非常に良好な特性を示すため、好ましい選択である。
なお、ホスト材料は複数種の物質を混合した材料であっても良く、混合したホスト材料を用いる場合は、電子輸送性を有する材料と、正孔輸送性を有する材料とを混合することが好ましい。電子輸送性を有する材料と、正孔輸送性を有する材料を混合することによって、発光層113の輸送性を容易に調整することができ、再結合領域の制御も簡便に行うことができる。正孔輸送性を有する材料と電子輸送性を有する材料の含有量の比は、正孔輸送性を有する材料:電子輸送性を有する材料=1:9~9:1とすればよい。
また、これら混合された材料同士で励起錯体を形成しても良い。当該励起錯体は発光材料の最も低エネルギー側の吸収帯の波長と重なるような発光を呈する励起錯体を形成するような組み合わせを選択することで、エネルギー移動がスムーズとなり、効率よく発光が得られるため好ましい。また、当該構成を用いることで駆動電圧も低下するため好ましい。
本発明の一態様では、特に青色発光を呈する発光素子に好適である。
電子輸送層114は、電子輸送性を有する物質を含む層である。電子輸送性を有する物質としては、上記ホスト材料に用いることが可能な電子輸送性を有する物質として挙げたものを用いることができる。
電子輸送層114と第2の電極102との間に、電子注入層115として、フッ化リチウム(LiF)、フッ化セシウム(CsF)、フッ化カルシウム(CaF)等のようなアルカリ金属又はアルカリ土類金属又はそれらの化合物を含む層を設けても良い。電子注入層115は、電子輸送性を有する物質からなる層中にアルカリ金属又はアルカリ土類金属又はそれらの化合物を含有させたものや、エレクトライドを用いてもよい。エレクトライドとしては、例えば、カルシウムとアルミニウムの混合酸化物に電子を高濃度添加した物質等が挙げられる。
なお、電子注入層115として、電子輸送性を有する物質(好ましくはビピリジン骨格を有する有機化合物)に上記アルカリ金属又はアルカリ土類金属のフッ化物を微結晶状態となる濃度以上(50wt%以上)含ませた層を用いることも可能である。当該層は、屈折率の低い層であることから、より外部量子効率の良好な発光素子を提供することが可能となる。
また、電子注入層115の代わりに電荷発生層116を設けても良い(図4(B))。電荷発生層116は、電位をかけることによって当該層の陰極側に接する層に正孔を、陽極側に接する層に電子を注入することができる層のことである。電荷発生層116には、少なくともP型層117が含まれる。P型層117は、上述の正孔注入層111を構成することができる材料として挙げた複合材料を用いて形成することが好ましい。またP型層117は、複合材料を構成する材料として上述したアクセプタ材料を含む膜と正孔輸送材料を含む膜とを積層して構成しても良い。P型層117に電位をかけることによって、電子輸送層114に電子が、陰極である第2の電極102に正孔が注入され、発光素子が動作する。また、本発明の一態様の有機化合物は屈折率が低い有機化合物であることから、P型層117に用いることによって、外部量子効率の良好な発光素子を得ることができる。
なお、電荷発生層116はP型層117の他に電子リレー層118及び電子注入バッファ層119のいずれか一又は両方がもうけられていることが好ましい。
電子リレー層118は少なくとも電子輸送性を有する物質を含み、電子注入バッファ層119とP型層117との相互作用を防いで電子をスムーズに受け渡す機能を有する。電子リレー層118に含まれる電子輸送性を有する物質のLUMO準位は、P型層117におけるアクセプタ性物質のLUMO準位と、電子輸送層114における電荷発生層116に接する層に含まれる物質のLUMO準位との間であることが好ましい。電子リレー層118に用いられる電子輸送性を有する物質におけるLUMO準位の具体的なエネルギー準位は−5.0eV以上、好ましくは−5.0eV以上−3.0eV以下とするとよい。なお、電子リレー層118に用いられる電子輸送性を有する物質としてはフタロシアニン系の材料又は金属−酸素結合と芳香族配位子を有する金属錯体を用いることが好ましい。
電子注入バッファ層119には、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類金属、およびこれらの化合物(アルカリ金属化合物(酸化リチウム等の酸化物、ハロゲン化物、炭酸リチウムや炭酸セシウム等の炭酸塩を含む)、アルカリ土類金属化合物(酸化物、ハロゲン化物、炭酸塩を含む)、または希土類金属の化合物(酸化物、ハロゲン化物、炭酸塩を含む))等の電子注入性の高い物質を用いることが可能である。
また、電子注入バッファ層119が、電子輸送性を有する物質とドナー性物質を含んで形成される場合には、ドナー性物質として、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類金属、およびこれらの化合物(アルカリ金属化合物(酸化リチウム等の酸化物、ハロゲン化物、炭酸リチウムや炭酸セシウム等の炭酸塩を含む)、アルカリ土類金属化合物(酸化物、ハロゲン化物、炭酸塩を含む)、または希土類金属の化合物(酸化物、ハロゲン化物、炭酸塩を含む))の他、テトラチアナフタセン(略称:TTN)、ニッケロセン、デカメチルニッケロセン等の有機化合物を用いることもできる。なお、電子輸送性を有する物質としては、先に説明した電子輸送層114を構成する材料と同様の材料を用いて形成することができる。
第2の電極102を形成する物質としては、仕事関数の小さい(具体的には3.8eV以下)金属、合金、電気伝導性化合物、およびこれらの混合物などを用いることができる。このような陰極材料の具体例としては、リチウム(Li)やセシウム(Cs)等のアルカリ金属、およびマグネシウム(Mg)、カルシウム(Ca)、ストロンチウム(Sr)等の元素周期表の第1族または第2族に属する元素、およびこれらを含む合金(MgAg、AlLi)、ユウロピウム(Eu)、イッテルビウム(Yb)等の希土類金属およびこれらを含む合金等が挙げられる。しかしながら、第2の電極102と電子輸送層との間に、電子注入層を設けることにより、仕事関数の大小に関わらず、Al、Ag、ITO、ケイ素若しくは酸化ケイ素を含有した酸化インジウム−酸化スズ等様々な導電性材料を第2の電極102として用いることができる。これら導電性材料は、真空蒸着法やスパッタリング法などの乾式法、インクジェット法、スピンコート法等を用いて成膜することが可能である。また、ゾル−ゲル法を用いて湿式法で形成しても良いし、金属材料のペーストを用いて湿式法で形成してもよい。
また、EL層103の形成方法としては、乾式法、湿式法を問わず、種々の方法を用いることができる。例えば、真空蒸着法、グラビア印刷法、オフセット印刷法、スクリーン印刷法、インクジェット法またはスピンコート法など用いても構わない。
また上述した各電極または各層を異なる成膜方法を用いて形成しても構わない。
なお、第1の電極101と第2の電極102との間に設けられる層の構成は、上記のものには限定されない。しかし、発光領域と電極やキャリア注入層に用いられる金属とが近接することによって生じる消光が抑制されるように、第1の電極101および第2の電極102から離れた部位に正孔と電子とが再結合する発光領域を設けた構成が好ましい。
また、発光層113に接する正孔輸送層や電子輸送層、特に発光層113における再結合領域に近いキャリア輸送層は、発光層で生成した励起子からのエネルギー移動を抑制するため、そのバンドギャップが発光層を構成する発光材料もしくは、発光層に含まれる発光材料が有するバンドギャップより大きいバンドギャップを有する物質で構成することが好ましい。
(実施の形態2)
本実施の形態では、実施の形態1に記載の発光素子を用いた発光装置について説明する。
本実施の形態では、実施の形態1に記載の発光素子を用いて作製された発光装置について図5を用いて説明する。なお、図5(A)は、発光装置を示す上面図、図5(B)は図5(A)をA−BおよびC−Dで切断した断面図である。この発光装置は、発光素子の発光を制御するものとして、点線で示された駆動回路部(ソース線駆動回路)601、画素部602、駆動回路部(ゲート線駆動回路)603を含んでいる。また、604は封止基板、605はシール材であり、シール材605で囲まれた内側は、空間607になっている。
なお、引き回し配線608はソース線駆動回路601及びゲート線駆動回路603に入力される信号を伝送するための配線であり、外部入力端子となるFPC(フレキシブルプリントサーキット)609からビデオ信号、クロック信号、スタート信号、リセット信号等を受け取る。なお、ここではFPCしか図示されていないが、このFPCにはプリント配線基板(PWB)が取り付けられていても良い。本明細書における発光装置には、発光装置本体だけでなく、それにFPCもしくはPWBが取り付けられた状態をも含むものとする。
次に、断面構造について図5(B)を用いて説明する。素子基板610上には駆動回路部及び画素部が形成されているが、ここでは、駆動回路部であるソース線駆動回路601と、画素部602中の一つの画素が示されている。
素子基板610はガラス、石英、有機樹脂、金属、合金、半導体などからなる基板の他、FRP(Fiber Reinforced Plastics)、PVF(ポリビニルフロライド)、ポリエステルまたはアクリル樹脂等からなるプラスチック基板を用いて作製すればよい。
画素や駆動回路に用いられるトランジスタの構造は特に限定されない。例えば、逆スタガ型のトランジスタとしてもよいし、スタガ型のトランジスタとしてもよい。また、トップゲート型のトランジスタでもボトムゲート型トランジスタでもよい。トランジスタに用いる半導体材料は特に限定されず、例えば、シリコン、ゲルマニウム、炭化シリコン、窒化ガリウム等を用いることができる。または、In−Ga−Zn系金属酸化物などの、インジウム、ガリウム、亜鉛のうち少なくとも一つを含む酸化物半導体を用いてもよい。
トランジスタに用いる半導体材料の結晶性についても特に限定されず、非晶質半導体、結晶性を有する半導体(微結晶半導体、多結晶半導体、単結晶半導体、又は一部に結晶領域を有する半導体)のいずれを用いてもよい。結晶性を有する半導体を用いると、トランジスタ特性の劣化を抑制できるため好ましい。
ここで、上記画素や駆動回路に設けられるトランジスタの他、後述するタッチセンサ等に用いられるトランジスタなどの半導体装置には、酸化物半導体を適用することが好ましい。特にシリコンよりもバンドギャップの広い酸化物半導体を適用することが好ましい。シリコンよりもバンドギャップの広い酸化物半導体を用いることで、トランジスタのオフ状態における電流を低減できる。
上記酸化物半導体は、少なくともインジウム(In)又は亜鉛(Zn)を含むことが好ましい。また、In−M−Zn系酸化物(MはAl、Ti、Ga、Ge、Y、Zr、Sn、La、CeまたはHf等の金属)で表記される酸化物を含む酸化物半導体であることがより好ましい。
特に、半導体層として、複数の結晶部を有し、当該結晶部はc軸が半導体層の被形成面、または半導体層の上面に対し垂直に配向し、且つ隣接する結晶部間には粒界を有さない酸化物半導体膜を用いることが好ましい。
半導体層としてこのような材料を用いることで、電気特性の変動が抑制され、信頼性の高いトランジスタを実現できる。
また、上述の半導体層を有するトランジスタはその低いオフ電流により、トランジスタを介して容量に蓄積した電荷を長期間に亘って保持することが可能である。このようなトランジスタを画素に適用することで、各表示領域に表示した画像の階調を維持しつつ、駆動回路を停止することも可能となる。その結果、極めて消費電力の低減された電子機器を実現できる。
トランジスタの特性安定化等のため、下地膜を設けることが好ましい。下地膜としては、酸化シリコン膜、窒化シリコン膜、酸化窒化シリコン膜、窒化酸化シリコン膜などの無機絶縁膜を用い、単層で又は積層して作製することができる。下地膜はスパッタリング法、CVD(Chemical Vapor Deposition)法(プラズマCVD法、熱CVD法、MOCVD(Metal Organic CVD)法など)、ALD(Atomic Layer Deposition)法、塗布法、印刷法等を用いて形成できる。なお、下地膜は、必要で無ければ設けなくてもよい。
なお、FET623は駆動回路部601に形成されるトランジスタの一つを示すものである。また、駆動回路は、種々のCMOS回路、PMOS回路もしくはNMOS回路で形成すれば良い。また、本実施の形態では、基板上に駆動回路を形成したドライバ一体型を示すが、必ずしもその必要はなく、駆動回路を基板上ではなく外部に形成することもできる。
また、画素部602はスイッチング用FET611と、電流制御用FET612とそのドレインに電気的に接続された第1の電極613とを含む複数の画素により形成されているが、これに限定されず、3つ以上のFETと、容量素子とを組み合わせた画素部としてもよい。
なお、第1の電極613の端部を覆って絶縁物614が形成されている。ここでは、ポジ型の感光性アクリル樹脂膜を用いることにより形成することができる。
また、後に形成するEL層等の被覆性を良好なものとするため、絶縁物614の上端部または下端部に曲率を有する曲面が形成されるようにする。例えば、絶縁物614の材料としてポジ型の感光性アクリル樹脂を用いた場合、絶縁物614の上端部のみに曲率半径(0.2μm~3μm)を有する曲面を持たせることが好ましい。また、絶縁物614として、ネガ型の感光性樹脂、或いはポジ型の感光性樹脂のいずれも使用することができる。
第1の電極613上には、EL層616、および第2の電極617がそれぞれ形成されている。ここで、陽極として機能する第1の電極613に用いる材料としては、仕事関数の大きい材料を用いることが望ましい。例えば、ITO膜、またはケイ素を含有したインジウム錫酸化物膜、2~20wt%の酸化亜鉛を含む酸化インジウム膜、窒化チタン膜、クロム膜、タングステン膜、Zn膜、Pt膜などの単層膜の他、窒化チタン膜とアルミニウムを主成分とする膜との積層、窒化チタン膜とアルミニウムを主成分とする膜と窒化チタン膜との3層構造等を用いることができる。なお、積層構造とすると、配線としての抵抗も低く、良好なオーミックコンタクトがとれ、さらに陽極として機能させることができる。
また、EL層616は、蒸着マスクを用いた蒸着法、インクジェット法、スピンコート法等の種々の方法によって形成される。EL層616は、実施の形態1で説明したような構成を含んでいる。また、EL層616を構成する他の材料としては、低分子化合物、または高分子化合物(オリゴマー、デンドリマーを含む)であっても良い。
さらに、EL層616上に形成され、陰極として機能する第2の電極617に用いる材料としては、仕事関数の小さい材料(Al、Mg、Li、Ca、またはこれらの合金や化合物(MgAg、MgIn、AlLi等)等)を用いることが好ましい。なお、EL層616で生じた光が第2の電極617を透過させる場合には、第2の電極617として、膜厚を薄くした金属薄膜と、透明導電膜(ITO、2~20wt%の酸化亜鉛を含む酸化インジウム、ケイ素を含有したインジウム錫酸化物、酸化亜鉛(ZnO)等)との積層を用いるのが良い。
なお、第1の電極613、EL層616、第2の電極617でもって、発光素子が形成されている。当該発光素子は実施の形態1に記載の発光素子である。なお、画素部は複数の発光素子が形成されてなっているが、本実施の形態における発光装置では、実施の形態1に記載の発光素子と、それ以外の構成を有する発光素子の両方が混在していても良い。
さらにシール材605で封止基板604を素子基板610と貼り合わせることにより、素子基板610、封止基板604、およびシール材605で囲まれた空間607に発光素子618が備えられた構造になっている。なお、空間607には、充填材が充填されており、不活性気体(窒素やアルゴン等)が充填される場合の他、シール材で充填される場合もある。封止基板には凹部を形成し、そこに乾燥材を設けることで水分の影響による劣化を抑制することができ、好ましい構成である。
なお、シール材605にはエポキシ系樹脂やガラスフリットを用いるのが好ましい。また、これらの材料はできるだけ水分や酸素を透過しない材料であることが望ましい。また、封止基板604に用いる材料としてガラス基板や石英基板の他、FRP(Fiber Reinforced Plastics)、PVF(ポリビニルフロライド)、ポリエステルまたはアクリル樹脂等からなるプラスチック基板を用いることができる。
図5には示されていないが、第2の電極上に保護膜を設けても良い。保護膜は有機樹脂膜や無機絶縁膜で形成すればよい。また、シール材605の露出した部分を覆うように、保護膜が形成されていても良い。また、保護膜は、一対の基板の表面及び側面、封止層、絶縁層、等の露出した側面を覆って設けることができる。
保護膜には、水などの不純物を透過しにくい材料を用いることができる。したがって、水などの不純物が外部から内部に拡散することを効果的に抑制することができる。
保護膜を構成する材料としては、酸化物、窒化物、フッ化物、硫化物、三元化合物、金属またはポリマー等を用いることができ、例えば、酸化アルミニウム、酸化ハフニウム、ハフニウムシリケート、酸化ランタン、酸化珪素、チタン酸ストロンチウム、酸化タンタル、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ニオブ、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化イットリウム、酸化セリウム、酸化スカンジウム、酸化エルビウム、酸化バナジウムまたは酸化インジウム等を含む材料や、窒化アルミニウム、窒化ハフニウム、窒化珪素、窒化タンタル、窒化チタン、窒化ニオブ、窒化モリブデン、窒化ジルコニウムまたは窒化ガリウム等を含む材料、チタンおよびアルミニウムを含む窒化物、チタンおよびアルミニウムを含む酸化物、アルミニウムおよび亜鉛を含む酸化物、マンガンおよび亜鉛を含む硫化物、セリウムおよびストロンチウムを含む硫化物、エルビウムおよびアルミニウムを含む酸化物、イットリウムおよびジルコニウムを含む酸化物等を含む材料を用いることができる。
保護膜は、段差被覆性(ステップカバレッジ)の良好な成膜方法を用いて形成することが好ましい。このような手法の一つに、原子層堆積(ALD:Atomic Layer Deposition)法がある。ALD法を用いて形成することができる材料を、保護膜に用いることが好ましい。ALD法を用いることで緻密な、クラックやピンホールなどの欠陥が低減された、または均一な厚さを備える保護膜を形成することができる。また、保護膜を形成する際に加工部材に与える損傷を、低減することができる。
例えばALD法を用いて保護膜を形成することで、複雑な凹凸形状を有する表面や、タッチパネルの上面、側面及び裏面にまで均一で欠陥の少ない保護膜を形成することができる。
以上のようにして、実施の形態1に記載の発光素子を用いて作製された発光装置を得ることができる。
本実施の形態における発光装置は、実施の形態1に記載の発光素子を用いているため、良好な特性を備えた発光装置を得ることができる。具体的には、実施の形態1に記載の発光素子は発光効率が良好なため、消費電力の小さい発光装置とすることが可能である。
また、本実施の形態は他の実施の形態と自由に組み合わせることができる。
(実施の形態3)
本実施の形態では、実施の形態1に記載の発光素子を照明装置として用いる例を図6を参照しながら説明する。図6(B)は照明装置の上面図、図6(A)は図6(B)におけるe−f断面図である。
本実施の形態における照明装置は、支持体である透光性を有する基板400上に、第1の電極401が形成されている。第1の電極401は実施の形態1における第1の電極101に相当する。第1の電極401側から発光を取り出す場合、第1の電極401は透光性を有する材料により形成する。
第2の電極404に電圧を供給するためのパッド412が基板400上に形成される。
第1の電極401上にはEL層403が形成されている。EL層403は実施の形態1におけるEL層103の構成に相当する。なお、これらの構成については当該記載を参照されたい。
EL層403を覆って第2の電極404を形成する。第2の電極404は実施の形態1における第2の電極102に相当する。発光を第1の電極401側から取り出す場合、第2の電極404は反射率の高い材料によって形成される。第2の電極404はパッド412と接続することによって、電圧が供給される。
以上、第1の電極401、EL層403、及び第2の電極404を有する発光素子を本実施の形態で示す照明装置は有している。当該発光素子は発光効率の高い発光素子であるため、本実施の形態における照明装置は消費電力の小さい照明装置とすることができる。
以上の構成を有する発光素子が形成された基板400と、封止基板407とをシール材405、406を用いて固着し、封止することによって照明装置が完成する。シール材405、406はどちらか一方でもかまわない。また、内側のシール材406(図6(B)では図示せず)には乾燥剤を混ぜることもでき、これにより、水分を吸着することができ、信頼性の向上につながる。
また、パッド412と第1の電極401の一部をシール材405、406の外に伸張して設けることによって、外部入力端子とすることができる。また、その上にコンバーターなどを搭載したICチップ420などを設けても良い。
以上、本実施の形態に記載の照明装置は、EL素子に実施の形態1に記載の発光素子を用いており、消費電力の小さい発光装置とすることができる。
(実施の形態4)
本実施の形態では、実施の形態1に記載の発光素子をその一部に含む電子機器の例について説明する。実施の形態1に記載の発光素子は発光効率が良好であり、消費電力の小さい発光素子である。その結果、本実施の形態に記載の電子機器は、消費電力が小さい発光部を有する電子機器とすることが可能である。
上記発光素子を適用した電子機器として、例えば、テレビジョン装置(テレビ、またはテレビジョン受信機ともいう)、コンピュータ用などのモニタ、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、デジタルフォトフレーム、携帯電話機(携帯電話、携帯電話装置ともいう)、携帯型ゲーム機、携帯情報端末、音響再生装置、パチンコ機などの大型ゲーム機などが挙げられる。これらの電子機器の具体例を以下に示す。
図7(A)は、テレビジョン装置の一例を示している。テレビジョン装置は、筐体7101に表示部7103が組み込まれている。また、ここでは、スタンド7105により筐体7101を支持した構成を示している。表示部7103により、映像を表示することが可能であり、表示部7103は、実施の形態1に記載の発光素子をマトリクス状に配列して構成されている。
テレビジョン装置の操作は、筐体7101が備える操作スイッチや、別体のリモコン操作機7110により行うことができる。リモコン操作機7110が備える操作キー7109により、チャンネルや音量の操作を行うことができ、表示部7103に表示される映像を操作することができる。また、リモコン操作機7110に、当該リモコン操作機7110から出力する情報を表示する表示部7107を設ける構成としてもよい。
なお、テレビジョン装置は、受信機やモデムなどを備えた構成とする。受信機により一般のテレビ放送の受信を行うことができ、さらにモデムを介して有線または無線による通信ネットワークに接続することにより、一方向(送信者から受信者)または双方向(送信者と受信者間、あるいは受信者間同士など)の情報通信を行うことも可能である。
図7(B1)はコンピュータであり、本体7201、筐体7202、表示部7203、キーボード7204、外部接続ポート7205、ポインティングデバイス7206等を含む。なお、このコンピュータは、実施の形態1に記載の発光素子をマトリクス状に配列して表示部7203に用いることにより作製される。図7(B1)のコンピュータは、図7(B2)のような形態であっても良い。図7(B2)のコンピュータは、キーボード7204、ポインティングデバイス7206の代わりに第2の表示部7210が設けられている。第2の表示部7210はタッチパネル式となっており、第2の表示部7210に表示された入力用の表示を指や専用のペンで操作することによって入力を行うことができる。また、第2の表示部7210は入力用表示だけでなく、その他の画像を表示することも可能である。また表示部7203もタッチパネルであっても良い。二つの画面がヒンジで接続されていることによって、収納や運搬をする際に画面を傷つける、破損するなどのトラブルの発生も防止することができる。
図7(C)は、携帯端末の一例を示している。携帯電話機は、筐体7401に組み込まれた表示部7402の他、操作ボタン7403、外部接続ポート7404、スピーカ7405、マイク7406などを備えている。なお、携帯電話機7400は、実施の形態1に記載の発光素子をマトリクス状に配列して作製された表示部7402を有している。
図7(C)に示す携帯端末は、表示部7402を指などで触れることで、情報を入力することができる構成とすることもできる。この場合、電話を掛ける、或いはメールを作成するなどの操作は、表示部7402を指などで触れることにより行うことができる。
表示部7402の画面は主として3つのモードがある。第1は、画像の表示を主とする表示モードであり、第2は、文字等の情報の入力を主とする入力モードである。第3は表示モードと入力モードの2つのモードが混合した表示+入力モードである。
例えば、電話を掛ける、或いはメールを作成する場合は、表示部7402を文字の入力を主とする文字入力モードとし、画面に表示させた文字の入力操作を行えばよい。この場合、表示部7402の画面のほとんどにキーボードまたは番号ボタンを表示させることが好ましい。
また、携帯端末内部に、ジャイロ、加速度センサ等の傾きを検出するセンサを有する検出装置を設けることで、携帯端末の向き(縦か横か)を判断して、表示部7402の画面表示を自動的に切り替えるようにすることができる。
また、画面モードの切り替えは、表示部7402を触れること、又は筐体7401の操作ボタン7403の操作により行われる。また、表示部7402に表示される画像の種類によって切り替えるようにすることもできる。例えば、表示部に表示する画像信号が動画のデータであれば表示モード、テキストデータであれば入力モードに切り替える。
また、入力モードにおいて、表示部7402の光センサで検出される信号を検知し、表示部7402のタッチ操作による入力が一定期間ない場合には、画面のモードを入力モードから表示モードに切り替えるように制御してもよい。
表示部7402は、イメージセンサとして機能させることもできる。例えば、表示部7402に掌や指で触れ、掌紋、指紋等を撮像することで、本人認証を行うことができる。また、表示部に近赤外光を発光するバックライトまたは近赤外光を発光するセンシング用光源を用いれば、指静脈、掌静脈などを撮像することもできる。
なお、本実施の形態に示す構成は、実施の形態1乃至実施の形態3に示した構成を適宜組み合わせて用いることができる。
以上の様に実施の形態1に記載の発光素子を備えた発光装置の適用範囲は極めて広く、この発光装置をあらゆる分野の電子機器に適用することが可能である。実施の形態1に記載の発光素子を用いることにより消費電力の小さい電子機器を得ることができる。
図8(A)は、掃除ロボットの一例を示す模式図である。
掃除ロボット5100は、上面に配置されたディスプレイ5101、側面に配置された複数のカメラ5102、ブラシ5103、操作ボタン5104を有する。また図示されていないが、掃除ロボット5100の下面には、タイヤ、吸い込み口等が備えられている。掃除ロボット5100は、その他に赤外線センサ、超音波センサ、加速度センサ、ピエゾセンサ、光センサ、ジャイロセンサなどの各種センサを備えている。また、掃除ロボット5100は、無線による通信手段を備えている。
掃除ロボット5100は自走し、ゴミ5120を検知し、下面に設けられた吸い込み口からゴミを吸引することができる。
また、掃除ロボット5100はカメラ5102が撮影した画像を解析し、壁、家具または段差などの障害物の有無を判断することができる。また、画像解析により、配線などブラシ5103に絡まりそうな物体を検知した場合は、ブラシ5103の回転を止めることができる。
ディスプレイ5101には、バッテリーの残量や、吸引したゴミの量などを表示することができる。掃除ロボット5100が走行した経路をディスプレイ5101に表示させてもよい。また、ディスプレイ5101をタッチパネルとし、操作ボタン5104をディスプレイ5101に設けてもよい。
掃除ロボット5100は、スマートフォンなどの携帯電子機器5140と通信することができる。カメラ5102が撮影した画像は、携帯電子機器5140に表示させることができる。そのため、掃除ロボット5100の持ち主は、外出先からでも、部屋の様子を知ることができる。また、ディスプレイ5101の表示をスマートフォンなどの携帯電子機器5140で確認することもできる。
本発明の一態様の発光装置はディスプレイ5101に用いることができる。
図8(B)に示すロボット2100は、演算装置2110、照度センサ2101、マイクロフォン2102、上部カメラ2103、スピーカ2104、ディスプレイ2105、下部カメラ2106、障害物センサ2107および移動機構2108を備える。
マイクロフォン2102は、使用者の話し声及び環境音等を検知する機能を有する。また、スピーカ2104は、音声を発する機能を有する。ロボット2100は、マイクロフォン2102およびスピーカ2104を用いて、使用者とコミュニケーションをとることが可能である。
ディスプレイ2105は、種々の情報の表示を行う機能を有する。ロボット2100は、使用者の望みの情報をディスプレイ2105に表示することが可能である。ディスプレイ2105は、タッチパネルを搭載していてもよい。また、ディスプレイ2105は取り外しのできる情報端末であっても良く、ロボット2100の定位置に設置することで、充電およびデータの受け渡しを可能とする。
上部カメラ2103および下部カメラ2106は、ロボット2100の周囲を撮像する機能を有する。また、障害物センサ2107は、移動機構2108を用いてロボット2100が前進する際の進行方向における障害物の有無を察知することができる。ロボット2100は、上部カメラ2103、下部カメラ2106および障害物センサ2107を用いて、周囲の環境を認識し、安全に移動することが可能である。本発明の一態様の発光装置はディスプレイ2105に用いることができる。
図8(C)はゴーグル型ディスプレイの一例を表す図である。ゴーグル型ディスプレイは、例えば、筐体5000、表示部5001、スピーカ5003、LEDランプ5004、操作キー5005(電源スイッチ、又は操作スイッチを含む)、接続端子5006、センサ5007(力、変位、位置、速度、加速度、角速度、回転数、距離、光、液、磁気、温度、化学物質、音声、時間、硬度、電場、電流、電圧、電力、放射線、流量、湿度、傾度、振動、におい、又は赤外線を測定する機能を含むもの)、マイクロフォン5008、第2の表示部5002、支持部5012、イヤホン5013等を有する。
本発明の一態様の発光装置は表示部5001および第2の表示部5002に用いることができる。
図9は、実施の形態1に記載の発光素子を、照明装置である電気スタンドに用いた例である。図9に示す電気スタンドは、筐体2001と、光源2002を有し、光源2002としては、実施の形態2に記載の照明装置を用いても良い。
図10は、実施の形態1に記載の発光素子を、室内の照明装置3001として用いた例である。実施の形態1に記載の発光素子は発光効率の高い発光素子であるため、消費電力の小さい照明装置とすることができる。また、実施の形態1に記載の発光素子は大面積化が可能であるため、大面積の照明装置として用いることができる。また、実施の形態1に記載の発光素子は、薄型であるため、薄型化した照明装置として用いることが可能となる。
実施の形態1に記載の発光素子は、自動車のフロントガラスやダッシュボードにも搭載することができる。図11に実施の形態1に記載の発光素子を自動車のフロントガラスやダッシュボードに用いる一態様を示す。表示領域5200乃至表示領域5203は実施の形態1に記載の発光素子を用いて設けられた表示領域である。
表示領域5200と表示領域5201は自動車のフロントガラスに設けられた実施の形態1に記載の発光素子を搭載した表示装置である。実施の形態1に記載の発光素子は、第1の電極と第2の電極を透光性を有する電極で作製することによって、反対側が透けて見える、いわゆるシースルー状態の表示装置とすることができる。シースルー状態の表示であれば、自動車のフロントガラスに設置したとしても、視界の妨げになることなく設置することができる。なお、駆動のためのトランジスタなどを設ける場合には、有機半導体材料による有機トランジスタや、酸化物半導体を用いたトランジスタなど、透光性を有するトランジスタを用いると良い。
表示領域5202はピラー部分に設けられた実施の形態1に記載の発光素子を搭載した表示装置である。表示領域5202には、車体に設けられた撮像手段からの映像を映し出すことによって、ピラーで遮られた視界を補完することができる。また、同様に、ダッシュボード部分に設けられた表示領域5203は車体によって遮られた視界を、自動車の外側に設けられた撮像手段からの映像を映し出すことによって、死角を補い、安全性を高めることができる。見えない部分を補完するように映像を映すことによって、より自然に違和感なく安全確認を行うことができる。
表示領域5203はまたナビゲーション情報、速度計や回転計、走行距離、燃料計、ギア状態、エアコンの設定などを表示することで、その他様々な情報を提供することができる。表示は使用者の好みに合わせて適宜その表示項目やレイアウトを変更することができる。なお、これら情報は表示領域5200乃至表示領域5202にも設けることができる。また、表示領域5200乃至表示領域5203は照明装置として用いることも可能である。
また、図12(A)、(B)に、折りたたみ可能な携帯情報端末5150を示す。折りたたみ可能な携帯情報端末5150は筐体5151、表示領域5152および屈曲部5153を有している。図12(A)に展開した状態の携帯情報端末5150を示す。図12(B)に折りたたんだ状態の携帯情報端末5150を示す。携帯情報端末5150は、大きな表示領域5152を有するにも関わらず、折りたためばコンパクトで可搬性に優れる。
表示領域5152は屈曲部5153により半分に折りたたむことができる。屈曲部5153は伸縮可能な部材と複数の支持部材とで構成されており、折りたたむ場合は、伸縮可能な部材が伸びて、屈曲部5153は2mm以上、好ましくは3mm以上の曲率半径を有して折りたたまれる。
なお、表示領域5152は、タッチセンサ(入力装置)を搭載したタッチパネル(入出力装置)であってもよい。本発明の一態様の発光装置を表示領域5152に用いることができる。
また、図13(A)~(C)に、折りたたみ可能な携帯情報端末9310を示す。図13(A)に展開した状態の携帯情報端末9310を示す。図13(B)に展開した状態又は折りたたんだ状態の一方から他方に変化する途中の状態の携帯情報端末9310を示す。図13(C)に折りたたんだ状態の携帯情報端末9310を示す。携帯情報端末9310は、折りたたんだ状態では可搬性に優れ、展開した状態では、継ぎ目のない広い表示領域により表示の一覧性に優れる。
表示パネル9311はヒンジ9313によって連結された3つの筐体9315に支持されている。なお、表示パネル9311は、タッチセンサ(入力装置)を搭載したタッチパネル(入出力装置)であってもよい。また、表示パネル9311は、ヒンジ9313を介して2つの筐体9315間を屈曲させることにより、携帯情報端末9310を展開した状態から折りたたんだ状態に可逆的に変形させることができる。本発明の一態様の発光装置を表示パネル9311に用いることができる。表示パネル9311における表示領域9312は折りたたんだ状態の携帯情報端末9310の側面に位置する表示領域である。
本実施例では、マイクロキャビティ構造を有する発光素子において、その光路長を変化させた場合の外部量子効率およびブルーインデックス(BI)の挙動について詳しく説明する。本実施例で作製した発光素子1−1乃至発光素子1−8に用いた有機化合物の構造を以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
<発光素子1−1乃至発光素子1−8の作製方法>
まず、ガラス基板上に、反射電極として、銀(Ag)とパラジウム(Pd)と銅(Cu)の合金膜(Ag−Pd−Cu(APC)膜)をスパッタリング法により、100nmの膜厚で成膜した後、透明電極として酸化珪素を含むインジウム錫酸化物(ITSO)をスパッタリング法により、85nmの膜厚で成膜して第1の電極101を形成した。なお、その電極面積は4mm(2mm×2mm)とした。
次に、基板上に発光素子を形成するための前処理として、基板表面を水で洗浄し、200℃で1時間焼成した後、UVオゾン処理を370秒行った。
その後、10−4Pa程度まで内部が減圧された真空蒸着装置に基板を導入し、真空蒸着装置内の加熱室において、170℃で30分間の真空焼成を行った後、基板を30分程度放冷した。
次に、第1の電極101が形成された面が下方となるように、第1の電極101が形成された基板を真空蒸着装置内に設けられた基板ホルダーに固定し、第1の電極101上に、蒸着法により上記構造式(i)で表される3−[4−(9−フェナントリル)−フェニル]−9−フェニル−9H−カルバゾール(略称:PCPPn)と酸化モリブデン(VI)とを重量比1:0.5(=PCPPn:酸化モリブデン)となるように、共蒸着して正孔注入層111を形成した。
発光素子の光路長の変更は、上記正孔注入層111の膜厚を変化させることによって実現した。発光素子1−1では当該正孔注入層111の膜厚を10nm、発光素子1−2では15nm、発光素子1−3では20nm、発光素子1−4では25nm、発光素子1−5では30nm、発光素子1−6では35nm、発光素子1−7では40nm、発光素子1−8では45nmとして作製した。
正孔注入層111上に、PCPPnを15nm蒸着して正孔輸送層112を形成した。
続いて、上記構造式(ii)で表される7−[4−(10−フェニル−9−アントリル)フェニル]−7H−ジベンゾ[c,g]カルバゾール(略称:cgDBCzPA)と、上記構造式(iii)で表されるN,N’−ジフェニル−N,N’−ビス[3−(9−フェニル−9H−フルオレン−9−イル)フェニル]ピレン−1,6−ジアミン(略称:1,6mFLPAPrn)とを、重量比で1:0.03(=cgDBCzPA:1,6mFLPAPrn)となるように25nm共蒸着して発光層113を形成した。
その後、発光層113上に、cgDBCzPAを膜厚5nmとなるように蒸着し、上記構造式(iv)で表される2,9−ビス(ナフタレン−2−イル)−4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリン(略称:NBPhen)を膜厚15nmとなるように蒸着し、電子輸送層114を形成した。
電子輸送層114を形成した後、フッ化リチウム(LiF)を膜厚1nmとなるように蒸着して電子注入層115を形成し、銀(Ag)とマグネシウム(Mg)との体積比を1:0.1、膜厚10nmとなるように蒸着することで第2の電極102を形成して発光素子1−1乃至発光素子1−8を作製した。なお、第2の電極102は光を反射する機能と光を透過する機能とを有する半透過・半反射電極であり、本実施例の発光素子は第2の電極102から光を取り出すトップエミッションの素子である。また、第2の電極102上には上記構造式(v)で表される1,3,5−トリ(ジベンゾチオフェン−4−イル)−ベンゼン(略称:DBT3P−II)を70nm蒸着して、取出し効率を向上させている。
発光素子1−1乃至発光素子1−8の素子構造を以下の表1および表2にまとめた。表2は、各発光素子における正孔注入層の膜厚を示している。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000010
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000011
作製した発光素子を、窒素雰囲気のグローブボックス内において、発光素子が大気に曝されないようにガラス基板により封止する作業(シール材を素子の周囲に塗布し、封止時にUV処理、80℃にて1時間熱処理)を行った後、測定を行った。なお、測定は室温で行った。
発光素子1−1乃至発光素子1−8の測定結果を以下に示す。測定結果は全て、輝度が1000cd/m付近の時の値である。また外部量子効率は、正面輝度からランバーシアン配光を仮定して算出した未補正の外部量子効率である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000012
また、発光中心物質である1,6mFLPAPrnのトルエン溶液におけるPLスペクトルを図14に示す。当該PLスペクトルの測定には蛍光光度計((株)浜松ホトニクス製、 Edinburgh Instruments FS920)を用い、平均フォトンエネルギーEaveを求める際には、実施の形態1に示した式(I)を用いた。これにより、1,6mFLPAPrnのトルエン溶液におけるPLスペクトルの平均のエネルギー(Eave)は2.61eVと算出された。また、1,6mFLPAPrnのトルエン溶液におけるPLスペクトルの短波長側における発光端を、図15のように求めたところ、438nmであり、そのエネルギーは2.83eVであった。
図16は、各発光素子における発光のピークエネルギー(Eem)に対する外部量子効率(EQE)およびブルーインデックス(BI)の関係を示したグラフであり、横軸がEemであり、縦軸がEQEおよびBIを表している。
図より、EQEおよびBI共に、EemがEave(本実施例では2.61eV)と2.69eVの間となるようなキャビティ長を有する発光素子において良好な値を示すことがわかった。
なお、2.69eVという数値は、Eedgeである2.83eVの0.95倍に相当するエネルギーである。
このように、マイクロキャビティ構造を有する青色発光素子は、Eave以上Eedgeの0.95倍以下のエネルギーに相当する波長を得ることができるキャビティ長を有する発光素子において、良好な効率で発光を呈することが可能であることがわかった。すなわち、Eave≦Eem≦0.95Eedge(図中範囲A)となるように、キャビティ長を制御することで、EQEとBIの双方を最大化することができる。
また、特にBIを考慮すると、Eave+0.02(eV)以上Eedge×0.95(eV)以下のEemを有する発光素子が好ましいことから、Eave+0.02≦Eem≦0.95Eedge(図中範囲B)となるようにキャビティ長を制御することが好ましいことがわかった。
本実施例では、マイクロキャビティ構造を有する発光素子において、その光路長を変化させた場合の外部量子効率およびブルーインデックス(BI)の挙動について詳しく説明する。本実施例で作製した発光素子2−1乃至発光素子2−8に用いた有機化合物の構造を以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
<発光素子2−1乃至発光素子2−8の作製方法>
まず、ガラス基板上に、反射電極として、銀(Ag)とパラジウム(Pd)と銅(Cu)の合金膜(Ag−Pd−Cu(APC)膜)をスパッタリング法により、100nmの膜厚で成膜した後、透明電極として酸化珪素を含むインジウム錫酸化物(ITSO)をスパッタリング法により、85nmの膜厚で成膜して第1の電極101を形成した。なお、その電極面積は4mm(2mm×2mm)とした。
次に、基板上に発光素子を形成するための前処理として、基板表面を水で洗浄し、200℃で1時間焼成した後、UVオゾン処理を370秒行った。
その後、10−4Pa程度まで内部が減圧された真空蒸着装置に基板を導入し、真空蒸着装置内の加熱室において、170℃で30分間の真空焼成を行った後、基板を30分程度放冷した。
次に、第1の電極101が形成された面が下方となるように、第1の電極101が形成された基板を真空蒸着装置内に設けられた基板ホルダーに固定し、第1の電極101上に、蒸着法により上記構造式(i)で表される3−[4−(9−フェナントリル)−フェニル]−9−フェニル−9H−カルバゾール(略称:PCPPn)と酸化モリブデン(VI)とを重量比1:0.5(=PCPPn:酸化モリブデン)となるように、共蒸着して正孔注入層111を形成した。
発光素子の光路長の変更は、上記正孔注入層111の膜厚を変化させることによって実現した。発光素子2−1では当該正孔注入層111の膜厚を10nm、発光素子2−2では15nm、発光素子2−3では20nm、発光素子2−4では25nm、発光素子2−5では30nm、発光素子2−6では35nm、発光素子2−7では40nm、発光素子2−8では45nmとして作製した。
正孔注入層111上に、PCPPnを15nm蒸着して正孔輸送層112を形成した。
続いて、上記構造式(ii)で表される7−[4−(10−フェニル−9−アントリル)フェニル]−7H−ジベンゾ[c,g]カルバゾール(略称:cgDBCzPA)と、上記構造式(vi)で表されるN,N’−ビス(3−メチルフェニル)−N,N’−ビス〔3−(9−フェニル−9H−フルオレン−9−イル)フェニル〕−ピレン−1,6−ジアミン(略称:1,6mMemFLPAPrn)とを、重量比で1:0.03(=cgDBCzPA:1,6mMemFLPAPrn)となるように25nm共蒸着して発光層113を形成した。
その後、発光層113上に、cgDBCzPAを膜厚5nmとなるように蒸着し、上記構造式(iv)で表される2,9−ビス(ナフタレン−2−イル)−4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリン(略称:NBPhen)を膜厚15nmとなるように蒸着し、電子輸送層114を形成した。
電子輸送層114を形成した後、フッ化リチウム(LiF)を膜厚1nmとなるように蒸着して電子注入層115を形成し、銀(Ag)とマグネシウム(Mg)との体積比を1:0.1、膜厚15nmとなるように蒸着することで第2の電極102を形成して発光素子2−1乃至発光素子2−8を作製した。なお、第2の電極102は光を反射する機能と光を透過する機能とを有する半透過・半反射電極であり、本実施例の発光素子は第2の電極102から光を取り出すトップエミッションの素子である。また、第2の電極102上には上記構造式(v)で表される1,3,5−トリ(ジベンゾチオフェン−4−イル)−ベンゼン(略称:DBT3P−II)を70nm蒸着して、取出し効率を向上させている。
発光素子2−1乃至発光素子2−8の素子構造を以下の表4および表5にまとめた。表5は、各発光素子における正孔注入層の膜厚を示している。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000014
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000015
作製した発光素子を、窒素雰囲気のグローブボックス内において、発光素子が大気に曝されないようにガラス基板により封止する作業(シール材を素子の周囲に塗布し、封止時にUV処理、80℃にて1時間熱処理)を行った後、測定を行った。なお、測定は室温で行った。
発光素子2−1乃至発光素子2−8の測定結果を以下に示す。測定結果は全て、輝度が1000cd/m付近の時の値である。また外部量子効率は、正面輝度からランバーシアン配光を仮定して算出した未補正の外部量子効率である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000016
また、発光中心物質である1,6mMemFLPAPrnのトルエン溶液におけるPLスペクトルを図17に示す。当該PLスペクトルの測定には蛍光光度計((株)浜松ホトニクス製、 Edinburgh Instruments FS920)を用い、平均フォトンエネルギーEaveを求める際には、実施の形態1に示した式(I)を用いた。これにより、1,6mMemFLPAPrnのトルエン溶液におけるPLスペクトルの平均のエネルギー(Eave)は2.59eVと算出された。また、1,6mMemFLPAPrnのトルエン溶液におけるPLスペクトルの短波長側における発光端を、図18のように求めたところ、440nmであり、そのエネルギーは2.82eVであった。
図19は、各発光素子における発光のピークエネルギー(Eem)に対する外部量子効率(EQE)およびブルーインデックス(BI)の関係を示したグラフであり、横軸がEemであり、縦軸がEQEおよびBIを表している。
図より、EQEおよびBI共に、EemがEave(本実施例では2.59eV)と2.68eVの間となるようなキャビティ長を有する発光素子において良好な値を示すことがわかった。
なお、2.68eVという数値は、Eedgeである2.82eVの0.95倍に相当するエネルギーである。
このように、マイクロキャビティ構造を有する青色発光素子は、Eave以上Eedgeの0.95倍以下のエネルギーに相当する波長を得ることができるキャビティ長を有する発光素子において、良好な効率で発光を呈することが可能であることがわかった。すなわち、Eave≦Eem≦0.95Eedge(図中範囲A)となるように、キャビティ長を制御することで、EQEとBIの双方を最大化することができる。
また、特にBIを考慮すると、Eave+0.02(eV)以上Eedge×0.95(eV)以下のEemを有する発光素子が好ましいことから、Eave+0.02≦Eem≦0.95Eedge(図中範囲B)となるようにキャビティ長を制御することが好ましいことがわかった。
本実施例では、マイクロキャビティ構造を有する発光素子において、その光路長を変化させた場合の外部量子効率およびブルーインデックス(BI)の挙動について詳しく説明する。本実施例で作製した発光素子3−1乃至発光素子3−8に用いた有機化合物の構造を以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
<発光素子3−1乃至発光素子3−8の作製方法>
まず、ガラス基板上に、反射電極として、銀(Ag)とパラジウム(Pd)と銅(Cu)の合金膜(Ag−Pd−Cu(APC)膜)をスパッタリング法により、100nmの膜厚で成膜した後、透明電極として酸化珪素を含むインジウム錫酸化物(ITSO)をスパッタリング法により、95nmの膜厚で成膜して第1の電極101を形成した。なお、その電極面積は4mm(2mm×2mm)とした。
次に、基板上に発光素子を形成するための前処理として、基板表面を水で洗浄し、200℃で1時間焼成した後、UVオゾン処理を370秒行った。
その後、10−4Pa程度まで内部が減圧された真空蒸着装置に基板を導入し、真空蒸着装置内の加熱室において、170℃で30分間の真空焼成を行った後、基板を30分程度放冷した。
次に、第1の電極101が形成された面が下方となるように、第1の電極101が形成された基板を真空蒸着装置内に設けられた基板ホルダーに固定し、第1の電極101上に、蒸着法により上記構造式(i)で表される3−[4−(9−フェナントリル)−フェニル]−9−フェニル−9H−カルバゾール(略称:PCPPn)と酸化モリブデン(VI)とを重量比1:0.5(=PCPPn:酸化モリブデン)となるように、共蒸着して正孔注入層111を形成した。
発光素子の光路長の変更は、上記正孔注入層111の膜厚を変化させることによって実現した。発光素子3−1では当該正孔注入層111の膜厚を10nm、発光素子3−2では15nm、発光素子3−3では20nm、発光素子3−4では25nm、発光素子3−5では30nm、発光素子3−6では35nm、発光素子3−7では40nm、発光素子3−8では45nmとして作製した。
正孔注入層111上に、PCPPnを15nm蒸着して正孔輸送層112を形成した。
続いて、上記構造式(ii)で表される7−[4−(10−フェニル−9−アントリル)フェニル]−7H−ジベンゾ[c,g]カルバゾール(略称:cgDBCzPA)と、上記構造式(vii)で表されるN,N’−(ピレン−1,6−ジイル)ビス[(6,N−ジフェニルベンゾ[b]ナフト[1,2−d]フラン)−8−アミン](略称:1,6BnfAPrn−03)とを、重量比で1:0.03(=cgDBCzPA:1,6BnfAPrn−03)となるように25nm共蒸着して発光層113を形成した。
その後、発光層113上に、cgDBCzPAを膜厚5nmとなるように蒸着し、上記構造式(iv)で表される2,9−ビス(ナフタレン−2−イル)−4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリン(略称:NBPhen)を膜厚15nmとなるように蒸着し、電子輸送層114を形成した。
電子輸送層114を形成した後、フッ化リチウム(LiF)を膜厚1nmとなるように蒸着して電子注入層115を形成し、銀(Ag)とマグネシウム(Mg)との体積比を1:0.1、膜厚15nmとなるように蒸着することで第2の電極102を形成して発光素子3−1乃至発光素子3−8を作製した。なお、第2の電極102は光を反射する機能と光を透過する機能とを有する半透過・半反射電極であり、本実施例の発光素子は第2の電極102から光を取り出すトップエミッションの素子である。また、第2の電極102上には上記構造式(v)で表される1,3,5−トリ(ジベンゾチオフェン−4−イル)−ベンゼン(略称:DBT3P−II)を70nm蒸着して、取出し効率を向上させている。
発光素子3−1乃至発光素子3−8の素子構造を以下の表7および表8にまとめた。表8は、各発光素子における正孔注入層の膜厚を示している。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000018
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000019
作製した発光素子を、窒素雰囲気のグローブボックス内において、発光素子が大気に曝されないようにガラス基板により封止する作業(シール材を素子の周囲に塗布し、封止時にUV処理、80℃にて1時間熱処理)を行った後、測定を行った。なお、測定は室温で行った。
発光素子3−1乃至発光素子3−8の測定結果を以下に示す。測定結果は全て、輝度が1000cd/m付近の時の値である。また外部量子効率は、正面輝度からランバーシアン配光を仮定して算出した未補正の外部量子効率である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000020
また、発光中心物質である1,6BnfAPrn−03のトルエン溶液におけるPLスペクトルを図20に示す。当該PLスペクトルの測定には蛍光光度計((株)浜松ホトニクス製、 Edinburgh Instruments FS920)を用い、平均フォトンエネルギーEaveを求める際には、実施の形態1に示した式(I)を用いた。これにより、1,6BnfAPrn−03のトルエン溶液におけるPLスペクトルの平均のエネルギー(Eave)は2.65eVと算出された。また、当該PLスペクトルの短波長側における発光端を、図21のように求めたところ、432nmであり、そのエネルギーは2.87eVであった。
図22は、各発光素子における発光のピークエネルギー(Eem)に対する外部量子効率(EQE)およびブルーインデックス(BI)の関係を示したグラフであり、横軸がEemであり、縦軸がEQEおよびBIを表している。
図より、EQEおよびBI共に、EemがEave(本実施例では2.65eV)と2.73eVの間となるようなキャビティ長を有する発光素子において良好な値を示すことがわかった。
なお、2.73eVという数値は、Eedgeである2.87eVの0.95倍に相当するエネルギーである。
このように、マイクロキャビティ構造を有する青色発光素子は、Eave以上Eedgeの0.95倍以下のエネルギーに相当する波長を得ることができるキャビティ長を有する発光素子において、良好な効率で発光を呈することが可能であることがわかった。すなわち、Eave≦Eem≦0.95Eedge(図中範囲A)となるように、キャビティ長を制御することで、EQEとBIの双方を最大化することができる。
また、特にBIを考慮すると、Eave+0.02(eV)(本実施例では2.67eV)以上Eedge×0.95(eV)以下のEemを有する発光素子が好ましいことから、Eave+0.02≦Eem≦0.95Eedge(図中範囲B)となるようにキャビティ長を制御することが好ましいことがわかった。
本実施例では、マイクロキャビティ構造を有する発光素子において、その光路長を変化させた場合の外部量子効率およびブルーインデックス(BI)の挙動について詳しく説明する。本実施例で作製した発光素子4−1乃至発光素子4−4に用いた有機化合物の構造を以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
<発光素子4−1乃至発光素子4−4の作製方法>
まず、ガラス基板上に、透明電極として酸化珪素を含むインジウム錫酸化物(ITSO)を70nmの膜厚で形成した後、半透過・半反射電極として、銀(Ag)とパラジウム(Pd)と銅(Cu)の合金膜(Ag−Pd−Cu(APC)膜)をスパッタリング法により、膜厚25nmとなるように成膜した後、さらに透明電極としてITSOをスパッタリング法により、10nmの膜厚で成膜して第1の電極101を形成した。なお、その電極面積は4mm(2mm×2mm)とした。
次に、基板上に発光素子を形成するための前処理として、基板表面を水で洗浄し、200℃で1時間焼成した後、UVオゾン処理を370秒行った。
その後、10−4Pa程度まで内部が減圧された真空蒸着装置に基板を導入し、真空蒸着装置内の加熱室において、170℃で30分間の真空焼成を行った後、基板を30分程度放冷した。
次に、第1の電極101が形成された面が下方となるように、第1の電極101が形成された基板を真空蒸着装置内に設けられた基板ホルダーに固定し、第1の電極101上に、蒸着法により上記構造式(i)で表される3−[4−(9−フェナントリル)−フェニル]−9−フェニル−9H−カルバゾール(略称:PCPPn)と酸化モリブデン(VI)とを重量比1:0.5(=PCPPn:酸化モリブデン)となるように、共蒸着して正孔注入層111を形成した。
発光素子の光路長の変更は、上記正孔注入層111の膜厚を変化させることによって実現した。発光素子4−1では当該正孔注入層111の膜厚を10nm、発光素子4−2では12.5nm、発光素子4−3では15nm、発光素子4−4では17.5nmとして作製した。
正孔注入層111上に、PCPPnを15nm蒸着して正孔輸送層112を形成した。
続いて、上記構造式(ii)で表される7−[4−(10−フェニル−9−アントリル)フェニル]−7H−ジベンゾ[c,g]カルバゾール(略称:cgDBCzPA)と、上記構造式(vii)で表されるN,N’−(ピレン−1,6−ジイル)ビス[(6,N−ジフェニルベンゾ[b]ナフト[1,2−d]フラン)−8−アミン](略称:1,6BnfAPrn−03)とを、重量比で1:0.03(=cgDBCzPA:1,6BnfAPrn−03)となるように20nm共蒸着して発光層113を形成した。
その後、発光層113上に、上記構造式(viii)で表される2−[3’−(ジベンゾチオフェン−4−イル)ビフェニル−3−イル]ジベンゾ[f,h]キノキサリン(略称:2mDBTBPDBq−II)を膜厚10nmとなるように蒸着し、上記構造式(iv)で表される2,9−ビス(ナフタレン−2−イル)−4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリン(略称:NBPhen)を膜厚10nmとなるように蒸着し、電子輸送層114を形成した。
電子輸送層114を形成した後、フッ化リチウム(LiF)を膜厚1nmとなるように蒸着して電子注入層115を形成し、アルミニウムを120nm成膜して第2の電極102を形成し、発光素子4−1乃至発光素子4−4を作製した。なお、第2の電極102は光を反射する電極であり、本実施例の発光素子は第1の電極101から光を取り出すボトムエミッションの素子である。
発光素子4−1乃至発光素子4−4の素子構造を以下の表10および表11にまとめた。表11は、各発光素子における正孔注入層の膜厚を示している。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000022
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000023
作製した発光素子を、窒素雰囲気のグローブボックス内において、発光素子が大気に曝されないようにガラス基板により封止する作業(シール材を素子の周囲に塗布し、封止時にUV処理、80℃にて1時間熱処理)を行った後、測定を行った。なお、測定は室温で行った。
発光素子4−1乃至発光素子4−4の測定結果を以下に示す。測定結果は全て、輝度が1000cd/m付近の時の値である。また外部量子効率は、正面輝度からランバーシアン配光を仮定して算出した未補正の外部量子効率である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000024
また、発光中心物質である1,6BnfAPrn−03のトルエン溶液におけるPLスペクトルを図23に示す。当該PLスペクトルの測定には蛍光光度計((株)浜松ホトニクス製、 Edinburgh Instruments FS920)を用い、平均フォトンエネルギーEaveを求める際には、実施の形態1に示した式(I)を用いた。これにより、1,6BnfAPrn−03のトルエン溶液におけるPLスペクトルの平均のエネルギー(Eave)は2.65eVと算出された。また、当該PLスペクトルの短波長側における発光端を、図24のように求めたところ、432nmであり、そのエネルギーは2.87eVであった。
図25は、各発光素子における発光のピークエネルギー(Eem)に対する外部量子効率(EQE)およびブルーインデックス(BI)の関係を示したグラフであり、横軸がEemであり、縦軸がEQEおよびBIを表している。
図より、EQEおよびBI共に、EemがEave(本実施例では2.65eV)と2.73eVの間となるようなキャビティ長を有する発光素子において良好な値を示すことがわかった。
なお、2.73eVという数値は、Eedgeである2.87eVの0.95倍に相当するエネルギーである。
このように、マイクロキャビティ構造を有する青色発光素子は、Eave以上Eedgeの0.95倍以下のエネルギーに相当する波長を得ることができるキャビティ長を有する発光素子において、良好な効率で発光を呈することが可能であることがわかった。すなわち、Eave≦Eem≦0.95Eedge(図中範囲A)となるように、キャビティ長を制御することで、EQEとBIの双方を最大化することができる。
また、特にBIを考慮すると、Eave+0.02(eV)(本実施例では2.67eV)以上Eedge×0.95(eV)以下のEemを有する発光素子が好ましいことから、Eave+0.02≦Eem≦0.95Eedge(図中範囲B)となるようにキャビティ長を制御することが好ましいことがわかった。
本実施例では、マイクロキャビティ構造を有する発光素子において、その光路長を変化させた場合の外部量子効率およびブルーインデックス(BI)の挙動について詳しく説明する。本実施例で作製した発光素子5−1乃至発光素子5−8に用いた有機化合物の構造を以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
<発光素子5−1乃至発光素子5−8の作製方法>
まず、ガラス基板上に、反射電極として、銀(Ag)とパラジウム(Pd)と銅(Cu)の合金膜(Ag−Pd−Cu(APC)膜)をスパッタリング法により、100nmの膜厚で成膜した後、透明電極として酸化珪素を含むインジウム錫酸化物(ITSO)をスパッタリング法により、85nmの膜厚で成膜して第1の電極101を形成した。なお、その電極面積は4mm(2mm×2mm)とした。
次に、基板上に発光素子を形成するための前処理として、基板表面を水で洗浄し、200℃で1時間焼成した後、UVオゾン処理を370秒行った。
その後、10−4Pa程度まで内部が減圧された真空蒸着装置に基板を導入し、真空蒸着装置内の加熱室において、170℃で30分間の真空焼成を行った後、基板を30分程度放冷した。
次に、第1の電極101が形成された面が下方となるように、第1の電極101が形成された基板を真空蒸着装置内に設けられた基板ホルダーに固定し、第1の電極101上に、蒸着法により上記構造式(i)で表される3−[4−(9−フェナントリル)−フェニル]−9−フェニル−9H−カルバゾール(略称:PCPPn)と酸化モリブデン(VI)とを重量比1:0.5(=PCPPn:酸化モリブデン)となるように、共蒸着して正孔注入層111を形成した。
発光素子の光路長の変更は、上記正孔注入層111の膜厚を変化させることによって実現した。発光素子5−1では当該正孔注入層111の膜厚を10nm、発光素子5−2では15nm、発光素子5−3では20nm、発光素子5−4では25nm、発光素子5−5では30nm、発光素子5−6では35nm、発光素子5−7では40nm、発光素子5−8では45nmとして作製した。
正孔注入層111上に、PCPPnを15nm蒸着して正孔輸送層112を形成した。
続いて、上記構造式(ii)で表される7−[4−(10−フェニル−9−アントリル)フェニル]−7H−ジベンゾ[c,g]カルバゾール(略称:cgDBCzPA)と、上記構造式(ix)で表されるN,N’−(ピレン−1,6−ジイル)ビス(N−フェニル−6−シクロヘキシルベンゾ[b]ナフト[1,2−d]フラン−8−アミン)(略称:1,6chBnfAPrn)とを、重量比で1:0.03(=cgDBCzPA:1,6chBnfAPrn)となるように25nm共蒸着して発光層113を形成した。
その後、発光層113上に、cgDBCzPAを膜厚5nmとなるように蒸着し、上記構造式(iv)で表される2,9−ビス(ナフタレン−2−イル)−4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリン(略称:NBPhen)を膜厚15nmとなるように蒸着し、電子輸送層114を形成した。
電子輸送層114を形成した後、フッ化リチウム(LiF)を膜厚1nmとなるように蒸着して電子注入層115を形成し、銀(Ag)とマグネシウム(Mg)との体積比を1:0.1(=Ag:Mg)、膜厚10nmとなるように蒸着することで第2の電極102を形成して発光素子5−1乃至発光素子5−8を作製した。なお、第2の電極102は光を反射する機能と光を透過する機能とを有する半透過・半反射電極であり、本実施例の発光素子は第2の電極102から光を取り出すトップエミッションの素子である。また、第2の電極102上には上記構造式(v)で表される1,3,5−トリ(ジベンゾチオフェン−4−イル)−ベンゼン(略称:DBT3P−II)を70nm蒸着して、取出し効率を向上させている。
発光素子5−1乃至発光素子5−8の素子構造を以下の表13および表14にまとめた。表14は、各発光素子における正孔注入層の膜厚を示している。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000026
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000027
作製した発光素子を、窒素雰囲気のグローブボックス内において、発光素子が大気に曝されないようにガラス基板により封止する作業(シール材を素子の周囲に塗布し、封止時にUV処理、80℃にて1時間熱処理)を行った後、測定を行った。なお、測定は室温で行った。
発光素子5−1乃至発光素子5−8の測定結果を以下に示す。測定結果は全て、輝度が1000cd/m付近の時の値である。また外部量子効率は、正面輝度からランバーシアン配光を仮定して算出した未補正の外部量子効率である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000028
また、発光中心物質である1,6chBnfAPrnのトルエン溶液におけるPLスペクトルを図26に示す。当該PLスペクトルの測定には蛍光光度計((株)浜松ホトニクス製、 Edinburgh Instruments FS920)を用い、平均フォトンエネルギーEaveを求める際には、実施の形態1に示した式(I)を用いた。これにより、1,6chBnfAPrnのトルエン溶液におけるPLスペクトルの平均のエネルギー(Eave)は2.65eVと算出された。また、当該PLスペクトルの短波長側における発光端を、図27のように求めたところ、432nmであり、そのエネルギーは2.87eVであった。
図28は、各発光素子における発光のピークエネルギー(Eem)に対する外部量子効率(EQE)およびブルーインデックス(BI)の関係を示したグラフであり、横軸がEemであり、縦軸がEQEおよびBIを表している。
図より、EQEおよびBI共に、EemがEave(本実施例では2.65eV)と2.73eVの間となるようなキャビティ長を有する発光素子において良好な値を示すことがわかった。
なお、2.73eVという数値は、Eedgeである2.87eVの0.95倍に相当するエネルギーである。
このように、マイクロキャビティ構造を有する青色発光素子は、Eave以上Eedgeの0.95倍以下のエネルギーに相当する波長を得ることができるキャビティ長を有する発光素子において、良好な効率で発光を呈することが可能であることがわかった。すなわち、Eave≦Eem≦0.95Eedge(図中範囲A)となるように、キャビティ長を制御することで、EQEとBIの双方を最大化することができる。
また、特にBIを考慮すると、Eave+0.02(eV)(本実施例では2.67eV)以上Eedge×0.95(eV)以下のEemを有する発光素子が好ましいことから、Eave+0.02≦Eem≦0.95Eedge(図中範囲B)となるようにキャビティ長を制御することが好ましいことがわかった。
本実施例では、マイクロキャビティ構造を有する発光素子において、その光路長を変化させた場合の外部量子効率およびブルーインデックス(BI)の挙動について詳しく説明する。本実施例で作製した発光素子6−1乃至発光素子6−8に用いた有機化合物の構造を以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
<発光素子6−1乃至発光素子6−8の作製方法>
まず、ガラス基板上に、反射電極として、銀(Ag)とパラジウム(Pd)と銅(Cu)の合金膜(Ag−Pd−Cu(APC)膜)をスパッタリング法により、100nmの膜厚で成膜した後、透明電極として酸化珪素を含むインジウム錫酸化物(ITSO)をスパッタリング法により、85nmの膜厚で成膜して第1の電極101を形成した。なお、その電極面積は4mm(2mm×2mm)とした。
次に、基板上に発光素子を形成するための前処理として、基板表面を水で洗浄し、200℃で1時間焼成した後、UVオゾン処理を370秒行った。
その後、10−4Pa程度まで内部が減圧された真空蒸着装置に基板を導入し、真空蒸着装置内の加熱室において、170℃で30分間の真空焼成を行った後、基板を30分程度放冷した。
次に、第1の電極101が形成された面が下方となるように、第1の電極101が形成された基板を真空蒸着装置内に設けられた基板ホルダーに固定し、第1の電極101上に、蒸着法により上記構造式(i)で表される3−[4−(9−フェナントリル)−フェニル]−9−フェニル−9H−カルバゾール(略称:PCPPn)と酸化モリブデン(VI)とを重量比1:0.5(=PCPPn:酸化モリブデン)となるように、共蒸着して正孔注入層111を形成した。
発光素子の光路長の変更は、上記正孔注入層111の膜厚を変化させることによって実現した。発光素子6−1では当該正孔注入層111の膜厚を10nm、発光素子6−2では15nm、発光素子6−3では20nm、発光素子6−4では25nm、発光素子6−5では30nm、発光素子6−6では35nm、発光素子6−7では40nm、発光素子6−8では45nmとして作製した。
正孔注入層111上に、PCPPnを15nm蒸着して正孔輸送層112を形成した。
続いて、上記構造式(ii)で表される7−[4−(10−フェニル−9−アントリル)フェニル]−7H−ジベンゾ[c,g]カルバゾール(略称:cgDBCzPA)と、上記構造式(x)で表される3,10−ビス[N−(9−フェニル−9H−カルバゾール−2−イル)−N−フェニルアミノ]ナフト[2,3−b;6,7−b’]ビスベンゾフラン(略称:3,10PCA2Nbf(IV)−02)とを、重量比で1:0.01(=cgDBCzPA:3,10PCA2Nbf(IV)−02)となるように25nm共蒸着して発光層113を形成した。
その後、発光層113上に、cgDBCzPAを膜厚5nmとなるように蒸着し、上記構造式(iv)で表される2,9−ビス(ナフタレン−2−イル)−4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリン(略称:NBPhen)を膜厚15nmとなるように蒸着し、電子輸送層114を形成した。
電子輸送層114を形成した後、フッ化リチウム(LiF)を膜厚1nmとなるように蒸着して電子注入層115を形成し、銀(Ag)とマグネシウム(Mg)との体積比を1:0.1(=Ag:Mg)、膜厚10nmとなるように蒸着することで第2の電極102を形成して発光素子6−1乃至発光素子6−8を作製した。なお、第2の電極102は光を反射する機能と光を透過する機能とを有する半透過・半反射電極であり、本実施例の発光素子は第2の電極102から光を取り出すトップエミッションの素子である。また、第2の電極102上には上記構造式(v)で表される1,3,5−トリ(ジベンゾチオフェン−4−イル)−ベンゼン(略称:DBT3P−II)を70nm蒸着して、取出し効率を向上させている。
発光素子6−1乃至発光素子6−8の素子構造を以下の表16および表17にまとめた。表17は、各発光素子における正孔注入層の膜厚を示している。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000030
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000031
作製した発光素子を、窒素雰囲気のグローブボックス内において、発光素子が大気に曝されないようにガラス基板により封止する作業(シール材を素子の周囲に塗布し、封止時にUV処理、80℃にて1時間熱処理)を行った後、測定を行った。なお、測定は室温で行った。
発光素子6−1乃至発光素子6−8の測定結果を以下に示す。測定結果は全て、輝度が1000cd/m付近の時の値である。また外部量子効率は、正面輝度からランバーシアン配光を仮定して算出した未補正の外部量子効率である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000032
また、発光中心物質である3,10PCA2Nbf(IV)−02のトルエン溶液におけるPLスペクトルを図29に示す。当該PLスペクトルの測定には絶対PL量子収率測定装置((株)浜松ホトニクス製 Quantaurus−QY)を用い、図29に示すPLスペクトルは、縦軸がエネルギーφ(λ)に比例する規格化スペクトルI(λ)となっているため、本実施例において発光の平均フォトンエネルギーEaveを求める際には、実施の形態1に示した式(VII)を用いた。これにより、3,10PCA2Nbf(IV)−02のトルエン溶液におけるPLスペクトルの平均のエネルギー(Eave)は2.66eVと算出された。また、当該PLスペクトルの短波長側における発光端を、図30のように求めたところ、431nmであり、そのエネルギーは2.88eVであった。
図31は、各発光素子における発光のピークエネルギー(Eem)に対する外部量子効率(EQE)およびブルーインデックス(BI)の関係を示したグラフであり、横軸がEemであり、縦軸がEQEおよびBIを表している。
図より、EQEおよびBI共に、EemがEave(本実施例では2.66eV)と2.73eVの間となるようなキャビティ長を有する発光素子において良好な値を示すことがわかった。
なお、2.73eVという数値は、Eedgeである2.88eVの0.95倍に相当するエネルギーである。
このように、マイクロキャビティ構造を有する青色発光素子は、Eave以上Eedgeの0.95倍以下のエネルギーに相当する波長を得ることができるキャビティ長を有する発光素子において、良好な効率で発光を呈することが可能であることがわかった。すなわち、Eave≦Eem≦0.95Eedge(図中範囲A)となるように、キャビティ長を制御することで、EQEとBIの双方を最大化することができる。
また、特にBIを考慮すると、Eave+0.02(eV)(本実施例では2.67eV)以上Eedge×0.95(eV)以下のEemを有する発光素子が好ましいことから、Eave+0.02≦Eem≦0.95Eedge(図中範囲B)となるようにキャビティ長を制御することが好ましいことがわかった。
本実施例では、マイクロキャビティ構造を有する発光素子において、その光路長を変化させた場合の外部量子効率およびブルーインデックス(BI)の挙動について詳しく説明する。本実施例で作製した発光素子7−1乃至発光素子7−8に用いた有機化合物の構造を以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
<発光素子7−1乃至発光素子7−8の作製方法>
まず、ガラス基板上に、反射電極として、銀(Ag)とパラジウム(Pd)と銅(Cu)の合金膜(Ag−Pd−Cu(APC)膜)をスパッタリング法により、100nmの膜厚で成膜した後、透明電極として酸化珪素を含むインジウム錫酸化物(ITSO)をスパッタリング法により、85nmの膜厚で成膜して第1の電極101を形成した。なお、その電極面積は4mm(2mm×2mm)とした。
次に、基板上に発光素子を形成するための前処理として、基板表面を水で洗浄し、200℃で1時間焼成した後、UVオゾン処理を370秒行った。
その後、10−4Pa程度まで内部が減圧された真空蒸着装置に基板を導入し、真空蒸着装置内の加熱室において、170℃で30分間の真空焼成を行った後、基板を30分程度放冷した。
次に、第1の電極101が形成された面が下方となるように、第1の電極101が形成された基板を真空蒸着装置内に設けられた基板ホルダーに固定し、第1の電極101上に、蒸着法により上記構造式(i)で表される3−[4−(9−フェナントリル)−フェニル]−9−フェニル−9H−カルバゾール(略称:PCPPn)と酸化モリブデン(VI)とを重量比1:0.5(=PCPPn:酸化モリブデン)となるように、共蒸着して正孔注入層111を形成した。
発光素子の光路長の変更は、上記正孔注入層111の膜厚を変化させることによって実現した。発光素子7−1では当該正孔注入層111の膜厚を10nm、発光素子7−2では15nm、発光素子7−3では20nm、発光素子7−4では25nm、発光素子7−5では30nm、発光素子7−6では35nm、発光素子7−7では40nm、発光素子7−8では45nmとして作製した。
正孔注入層111上に、PCPPnを15nm蒸着して正孔輸送層112を形成した。
続いて、上記構造式(ii)で表される7−[4−(10−フェニル−9−アントリル)フェニル]−7H−ジベンゾ[c,g]カルバゾール(略称:cgDBCzPA)と、上記構造式(xi)で表される3,10−ビス[N−(ジベンゾフラン−3−イル)−N−フェニルアミノ]ナフト[2,3−b;6,7−b’]ビスベンゾフラン(略称:3,10FrA2Nbf(IV)−02)とを、重量比で1:0.01(=cgDBCzPA:3,10FrA2Nbf(IV)−02)となるように25nm共蒸着して発光層113を形成した。
その後、発光層113上に、cgDBCzPAを膜厚5nmとなるように蒸着し、上記構造式(iv)で表される2,9−ビス(ナフタレン−2−イル)−4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリン(略称:NBPhen)を膜厚15nmとなるように蒸着し、電子輸送層114を形成した。
電子輸送層114を形成した後、フッ化リチウム(LiF)を膜厚1nmとなるように蒸着して電子注入層115を形成し、銀(Ag)とマグネシウム(Mg)との体積比を1:0.1(=Ag:Mg)、膜厚10nmとなるように蒸着することで第2の電極102を形成して発光素子7−1乃至発光素子7−8を作製した。なお、第2の電極102は光を反射する機能と光を透過する機能とを有する半透過・半反射電極であり、本実施例の発光素子は第2の電極102から光を取り出すトップエミッションの素子である。また、第2の電極102上には上記構造式(v)で表される1,3,5−トリ(ジベンゾチオフェン−4−イル)−ベンゼン(略称:DBT3P−II)を70nm蒸着して、取出し効率を向上させている。
発光素子7−1乃至発光素子7−8の素子構造を以下の表19および表20にまとめた。表20は、各発光素子における正孔注入層の膜厚を示している。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000034
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000035
作製した発光素子を、窒素雰囲気のグローブボックス内において、発光素子が大気に曝されないようにガラス基板により封止する作業(シール材を素子の周囲に塗布し、封止時にUV処理、80℃にて1時間熱処理)を行った後、測定を行った。なお、測定は室温で行った。
発光素子7−1乃至発光素子7−8の測定結果を以下に示す。測定結果は全て、輝度が1000cd/m付近の時の値である。また外部量子効率は、正面輝度からランバーシアン配光を仮定して算出した未補正の外部量子効率である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000036
また、発光中心物質である3,10FrA2Nbf(IV)−02のトルエン溶液におけるPLスペクトルを図32に示す。当該PLスペクトルの測定には絶対PL量子収率測定装置((株)浜松ホトニクス製 Quantaurus−QY)を用い、図32に示すPLスペクトルは、縦軸がエネルギーφ(λ)に比例する規格化スペクトルI(λ)となっているため、本実施例において発光の平均フォトンエネルギーEaveを求める際には、実施の形態1に示した式(VII)を用いた。これにより、3,10FrA2Nbf(IV)−02のトルエン溶液におけるPLスペクトルの平均のエネルギー(Eave)は2.71eVと算出された。また、当該PLスペクトルの短波長側における発光端を、図33のように求めたところ、426nmであり、そのエネルギーは2.91eVであった。
図34は、各発光素子における発光のピークエネルギー(Eem)に対する外部量子効率(EQE)およびブルーインデックス(BI)の関係を示したグラフであり、横軸がEemであり、縦軸がEQEおよびBIを表している。
図より、EQEおよびBI共に、EemがEave(本実施例では2.71eV)と2.76eVの間となるようなキャビティ長を有する発光素子において良好な値を示すことがわかった。
なお、2.76eVという数値は、Eedgeである2.91eVの0.95倍に相当するエネルギーである。
このように、マイクロキャビティ構造を有する青色発光素子は、Eave以上Eedgeの0.95倍以下のエネルギーに相当する波長を得ることができるキャビティ長を有する発光素子において、良好な効率で発光を呈することが可能であることがわかった。すなわち、Eave≦Eem≦0.95Eedge(図中範囲A)となるように、キャビティ長を制御することで、EQEとBIの双方を最大化することができる。
また、特にBIを考慮すると、Eave+0.02(eV)(本実施例では2.73eV)以上Eedge×0.95(eV)以下のEemを有する発光素子が好ましいことから、Eave+0.02≦Eem≦0.95Eedge(図中範囲B)となるようにキャビティ長を制御することが好ましいことがわかった。
101:第1の電極、101−1:反射電極、101−2:透明電極、102:第2の電極、103:EL層、104:有機キャップ層、111:正孔注入層、112:正孔輸送層、113:発光層、114:電子輸送層、115:電子注入層、116:電荷発生層、117:P型層、118:電子リレー層、119:電子注入バッファ層、400:基板、401:第1の電極、403:EL層、404:第2の電極、405:シール材、406:シール材、407:封止基板、412:パッド、420:ICチップ、601:駆動回路部(ソース線駆動回路)、602:画素部、603:駆動回路部(ゲート線駆動回路)、604:封止基板、605:シール材、607:空間、608:配線、609:FPC(フレキシブルプリントサーキット)、610:素子基板、611:スイッチング用FET、612:電流制御用FET、613:第1の電極、614:絶縁物、616:EL層、617:第2の電極、618:発光素子、2001:筐体、2002:光源、2100:ロボット、2110:演算装置、2101:照度センサ、2102:マイクロフォン、2103:上部カメラ、2104:スピーカ、2105:ディスプレイ、2106:下部カメラ、2107:障害物センサ、2108:移動機構、3001:照明装置、5000:筐体、5001:表示部、5002:第2の表示部、5003:スピーカ、5004:LEDランプ、5005:操作キー、5006:接続端子、5007:センサ、5008:マイクロフォン、5012:支持部、5013:イヤホン、5100:掃除ロボット、5101:ディスプレイ、5102:カメラ、5103:ブラシ、5104:操作ボタン、5150:携帯情報端末、5151:筐体、5152:表示領域、5153:屈曲部、5120:ゴミ、5200:表示領域、5201:表示領域、5202:表示領域、5203:表示領域、7101:筐体、7103:表示部、7105:スタンド、7107:表示部、7109:操作キー、7110:リモコン操作機、7201:本体、7202:筐体、7203:表示部、7204:キーボード、7205:外部接続ポート、7206:ポインティングデバイス、7210:第2の表示部、7401:筐体、7402:表示部、7403:操作ボタン、7404:外部接続ポート、7405:スピーカ、7406:マイク、7400:携帯電話機、9310:携帯情報端末、9311:表示パネル、9312:表示領域、9313:ヒンジ、9315:筐体

Claims (11)

  1. 第1の電極と、
    第2の電極と、
    前記第1の電極と前記第2の電極との間に挟まれたEL層とを有し、
    前記第1の電極および前記第2の電極の一方が反射電極、他方が半透過半反射電極である発光素子において、
    前記EL層は発光中心物質を有し、
    前記発光中心物質が溶液状態において発する光のフォトンエネルギーの平均値をEave[eV]とし、前記発光中心物質の前記溶液状態における発光スペクトルの短波長側の発光端エネルギーをEedge[eV]とすると、前記発光素子から発する光のピーク波長のフォトンエネルギーEem[eV]が、下記式(1)で表される発光素子。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-M000001
  2. 第1の電極と、
    第2の電極と、
    前記第1の電極と前記第2の電極との間に挟まれたEL層とを有し、
    前記第1の電極および前記第2の電極の一方が、反射電極、他方が半透過半反射電極である発光素子において、
    前記EL層は、発光中心物質を有し、
    前記発光中心物質が発する光のフォトンエネルギーの平均値をEave[eV]とし、前記発光中心物質の発光スペクトルの短波長側の発光端エネルギーをEedge[eV]とすると、前記発光素子から発する光のピーク波長のフォトンエネルギーEem[eV]が、下記式(1)で表される発光素子。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-M000002
  3. 請求項1において、前記発光中心物質が青色発光を呈する発光素子。
  4. 第1の電極と、
    第2の電極と、
    前記第1の電極と前記第2の電極との間に挟まれたEL層とを有し、
    前記第1の電極及び前記第2の電極の一方が反射電極、他方が半透過半反射電極である発光素子において、
    前記EL層は青色発光を呈する発光中心物質を有し、
    前記発光中心物質が発する光のフォトンエネルギーの平均値をEave[eV]とし、前記発光中心物質の発光スペクトルの短波長側の発光端エネルギーをEedge[eV]とすると、前記発光素子から発する光のピーク波長のフォトンエネルギーEem[eV]が、下記式(2)で表される発光素子。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-M000003
  5. 請求項3または請求項4において、前記Eemが2.6eV以上2.9eV以下である発光素子。
  6. 請求項1乃至請求項5のいずれか一項において、前記半透過半反射電極における、前記反射電極に対する面と反対の面には、分子量300以上1200以下の有機化合物層が形成されている発光素子。
  7. 請求項2乃至請求項6のいずれか一項において、前記Eaveおよび前記Eedgeは室温における比誘電率が1以上10以下の溶媒中で測定される、発光素子。
  8. 請求項1において、前記溶液状態における溶媒がトルエンまたはクロロホルムである発光素子。
  9.  請求項1乃至請求項7に記載の発光素子と、トランジスタ、または、基板と、を有する発光装置。
  10.  請求項8に記載の発光装置と、センサ、操作ボタン、スピーカ、または、マイクと、
     を有する電子機器。
  11.  請求項8に記載の発光装置と、筐体と、を有する照明装置。
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