WO2018025648A1 - スクリーン版用洗浄剤組成物 - Google Patents

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WO2018025648A1
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cleaning composition
less
cleaning
screen plate
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PCT/JP2017/026231
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何政輝
川下浩一
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花王株式会社
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Definitions

  • the present disclosure relates to a cleaning composition for a screen plate and a method for cleaning the screen plate.
  • Soldering is generally performed when electronic components are mounted on a printed circuit board or a ceramic substrate.
  • flux is used for soldering in order to remove the oxide film on the surface of the solder and the base material or prevent re-oxidation of the surface of the solder and the base material to obtain a sufficient solder connection.
  • various cleaning compositions for cleaning and removing the flux residue have been proposed.
  • Patent Document 1 discloses an organic amine having a specific water-soluble glycol ether 75 to 94.99 wt% and a boiling point of 170 to 270 ° C. for cleaning various contaminants such as flux residues and metalworking oils.
  • An industrial detergent composition comprising 0.01 to 5% by weight of water and 5 to 20% by weight of water and substantially free of other components is disclosed.
  • Patent Document 2 discloses a cleaning composition comprising a glycol-based solvent, an amine and / or a surfactant for cleaning a flux and a remelted solution remaining on a substrate in an arbitrary process at the time of manufacturing a printed circuit board. It is disclosed.
  • Patent Document 3 discloses that one or two or more glycol ether compounds having a constant boiling point and having water solubility are 25 to 45% by weight, one or two having a constant boiling point and a certain amount of water solubility.
  • a metal mask cleaning agent containing 5 to 25% by weight of at least one glycol ether compound, 0.005 to 1.0% by weight of an amine compound and water (remaining amount) is disclosed.
  • Patent Document 4 discloses a cleaning agent for cleaning an object to be cleaned to which an organic EL material is adhered, and includes 5 to 80% by mass of a specific propylene glycol such as propylpropylene diglycol and N-methyl-2-pyrrolidone.
  • a cleaning agent comprising a composition comprising 20 to 95% by mass of a specific pyrrolidone as described above is disclosed.
  • Patent Document 5 discloses a screen plate cleaning composition containing a low-boiling hydrophilic glycol ether monoalkyl ether, a high-boiling hydrophilic glycol ether monoalkyl ether, and water.
  • JP-A-9-87668 Japanese Patent Laid-Open No. 5-125395 JP-A-9-59688 JP 2006-265300 A JP 2000-267293 A
  • the cleaning agent has higher detergency in order to prevent product defects caused by residue of various pastes such as flux and solder paste on the screen plate surface due to repeated use of the screen plate. It has been demanded. Furthermore, in order to obtain high productivity, it is preferable that it can be dried quickly after washing, and the cleaning agent is required to have quick liquid drainage.
  • none of the methods described in the above-mentioned patent documents can achieve both high detergency and quick liquid drainage.
  • the present disclosure provides a cleaning composition for a screen plate and a cleaning method that are excellent in cleaning properties and liquid cutting properties.
  • the present disclosure is an amine (component A) or a salt thereof having a solubility in 100 g of water at 25 ° C. of less than 10 g, or a solvent having a solubility in 100 g of water at 25 ° C. of 0.02 g or more and less than 10 g (component B).
  • component A is at least one selected from primary amines, secondary amines, and tertiary amines having 6 to 26 carbon atoms.
  • the present disclosure includes a step of cleaning an object to be cleaned using the cleaning composition according to the present disclosure, and the object to be cleaned is a screen plate after screen printing. .
  • the present disclosure in one aspect, relates to the use of the cleaning composition according to the present disclosure for cleaning a screen plate after screen printing.
  • the present disclosure in one aspect, relates to the use of the cleaning composition according to the present disclosure for removing at least one of a flux and a solder paste from a screen plate.
  • the present disclosure it is possible to provide a cleaning composition for a screen plate having excellent cleaning properties and liquid cutting properties. Then, by using the cleaning composition of the present disclosure, the time required for cleaning and drying the screen plate can be shortened, and a screen plate excellent in cleanliness can be efficiently obtained. The production efficiency of electronic parts such as ceramic substrates can be improved.
  • the present disclosure relates to a cleaning composition used for cleaning a screen plate, a solubility of less than 10 g in 100 g of water at 25 ° C., a primary to tertiary amine having 6 to 26 carbon atoms (component A), and 100 g of water at 25 ° C.
  • a solvent component B having a solubility in the range of 0.02 g or more and less than 10 g, it is based on the knowledge that the detergency can be improved and the liquid breakage is accelerated.
  • a cleaning composition according to the present disclosure it is possible to provide a cleaning composition for a screen plate having excellent cleaning properties and liquid cutting properties.
  • the cleaning composition according to the present disclosure When the cleaning composition according to the present disclosure is used for cleaning a screen plate after screen printing, the amine of component A in the cleaning composition has low water solubility and low hydrophilicity, that is, hydrophobicity. Adsorb to the screen plate surface to make the screen plate surface hydrophobic. Component A adsorbs or permeates oily components such as flux at the same time as making the screen plate surface hydrophobic, increasing fluidity of the oily component and causing charge repulsion with the screen plate surface.
  • component A acts on the screen plate surface and oily components such as flux, thereby peeling (removing) the oily component from the screen plate and further preventing the removed oily component from reattaching to the screen plate.
  • oily components such as flux
  • the oily component can be easily removed from the screen plate with the assistance of physical force by spraying or ultrasonic waves.
  • the solvent of component B in the cleaning composition has a certain degree of solubility in water, it can be compatible with component A, and can be uniformly stabilized in water, resulting in oily components such as flux. In order to facilitate adsorption or permeation, the detergency is estimated to be improved.
  • component A forms a salt with an acid
  • the cleaning composition according to the present disclosure further contains an acid (component C)
  • the amine of component A and the acid of component C form a salt.
  • the presence of a salt of an amine and an acid in the cleaning composition increases the permeability to oily components such as flux, and it is estimated that the above effects can be expressed in a shorter time.
  • the present disclosure is not limited to this mechanism.
  • the cleaning composition according to the present disclosure includes an amine (component A) or a salt thereof having a solubility in 100 g of water at 25 ° C. of less than 10 g.
  • Component A can be used alone or in combination of two or more.
  • the solubility of Component A in 100 g of water at 25 ° C. is less than 10 g, and is preferably 8 g or less, more preferably 5 g or less, still more preferably 2 g or less, and even more preferably 1 g or less, from the viewpoints of detergency and liquid breakage.
  • 0.5 g or less is still more preferable, 0.2 g or less is more preferable, 0.1 g or less is more preferable, and from the same viewpoint, 0.0001 g or more is preferable, and 0.001 g or more is more preferable 0.01 g or more is more preferable.
  • the amine of component A is at least one selected from primary amines, secondary amines, and tertiary amines having 6 to 26 carbon atoms from the viewpoints of detergency and liquid drainage.
  • the number of carbon atoms of component A is 6 or more, preferably 7 or more, more preferably 8 or more, and more preferably 26 or less and 18 or less from the same viewpoint from the viewpoints of detergency and liquid breakage.
  • 12 or less is more preferable, and 10 or less is still more preferable.
  • the counter ion for forming the salt is not particularly limited, and examples thereof include the acid of component C.
  • Component A is preferably at least one selected from the compounds represented by formula (I) from the viewpoints of detergency and liquid drainage.
  • R 1 represents at least one selected from a linear or branched alkyl group having 5 to 18 carbon atoms and a linear or branched alkenyl group having 5 to 18 carbon atoms.
  • R 2 and R 3 are the same or different and represent at least one selected from a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms and a hydrogen atom, and the carbon number of R 1 , R 2 and R 3 Is 6 or more and 26 or less.
  • the carbon number of R 1 is 5 or more, preferably 6 or more, more preferably 7 or more, from the viewpoint of detergency and liquid breakage, and suppresses foaming (hereinafter referred to as “suppression”). From the viewpoint of “foamability”, it is 18 or less, preferably 12 or less, more preferably 10 or less, and still more preferably 8 or less.
  • R 2 and R 3 are each independently at least selected from a straight-chain or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms and a hydrogen atom from the viewpoints of detergency and liquid drainage. Preferably, it is at least one selected from a linear alkyl group having 1 or 2 carbon atoms and a hydrogen atom, more preferably a methyl group or a hydrogen atom, and still more preferably a hydrogen atom.
  • the total number of carbon atoms of R 1 , R 2 and R 3 is 6 or more, preferably 7 or more, more preferably 8 or more, from the viewpoint of detergency and severability. From the viewpoint of foamability, it is 26 or less, preferably 18 or less, more preferably 12 or less, and still more preferably 10 or less.
  • Examples of the salt of component A include a salt of at least one compound selected from the compounds represented by the formula (I) and an acid from the viewpoints of detergency and liquid drainage.
  • the acid is not particularly limited as long as it forms a water-soluble salt with component A, and examples thereof include the acid of component C described later.
  • the content of Component A during the cleaning of the cleaning composition according to the present disclosure is preferably 0.001% by mass or more, more preferably 0.01% by mass or more, from the viewpoints of detergency and liquid drainage.
  • 02% by mass or more is more preferable, and from the viewpoints of detergency, liquid drainage and foam suppression, 2.0% by mass or less is preferable, 1.0% by mass or less is more preferable, and 0.7% by mass or less is preferable. More preferably, 0.2 mass% or less is still more preferable, 0.15 mass% or less is further more preferable, and 0.1 mass% or less is still more preferable.
  • component A is a combination of two or more amines
  • the content of component A refers to the total content thereof.
  • the “content of each component during cleaning of the cleaning composition” refers to the content of each component of the cleaning composition used in the cleaning step in one or more embodiments.
  • the cleaning composition according to the present disclosure includes a solvent (component B) having a solubility in 100 g of water at 25 ° C. of 0.02 g or more and less than 10 g.
  • Component B can be used alone or in combination of two or more.
  • the solubility of component B in water at 25 ° C. is 0.02 g or more, preferably 0.05 g or more, more preferably 0.1 g or more, and more preferably 0.2 g or more, from the viewpoints of detergency and liquid breakage. Preferably, from the same viewpoint, it is less than 10 g, preferably 5 g or less, more preferably 3 g or less, and even more preferably 2 g or less.
  • component B examples include solvents other than component A having solubility within the above range from the viewpoint of detergency and liquid breakage.
  • solvents other than component A having solubility within the above range from the viewpoint of detergency and liquid breakage.
  • glycol ether solvents and alcohol solvents having solubility within the above range There may be mentioned at least one selected.
  • the glycol ether solvent is preferably at least one selected from compounds represented by the following formula (II) from the viewpoints of detergency and severability.
  • R 4 represents a hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms
  • EO represents an ethylene oxide group
  • m is an added mole number of EO, and is a number from 0 to 5
  • PO represents a propylene oxide group
  • n is the number of moles of PO added and is a number from 0 to 2
  • m + n ⁇ 1 the addition form of EO and PO may be block or random. The order of addition does not matter.
  • R 4 is a hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms, preferably a hydrocarbon group having 6 to 10 carbon atoms, from the viewpoint of improving detergency and liquid drainage.
  • a hydrocarbon group having a number of 6 or more and 8 or less is more preferable.
  • (EO) m (PO) n may be composed of an ethylene oxide group alone, but may be composed of an ethylene oxide group and a propylene oxide group.
  • (EO) m (PO) When n is composed of an ethylene oxide group and a propylene oxide group, the arrangement of EO and PO may be random or block. When the arrangement of EO and PO is a block, the number of EO blocks and the number of PO blocks may be one or more as long as each average added mole number is within the above range. When the number of EO blocks is two or more, the number of EO repetitions in each block may be the same or different.
  • component B examples include, for example, ethylene glycol mono-2-ethylhexyl ether (solubility: 0.20 g), diethylene glycol mono-2-ethylhexyl ether (solubility: 0.20 g), ethylene glycol monohexyl ether (solubility: 1.00 g).
  • Diethylene glycol monohexyl ether (solubility: 1.40 g), propylene glycol monophenyl ether (phenoxypropanol, solubility: 0.20 g), dipropylene glycol monopropyl ether (solubility: 5.60 g), propylene glycol monobutyl ether (solubility) : 6.60 g) or a combination of two or more.
  • ethylene glycol mono-2-ethylhexyl ether (solubility: 0.20 g), ethylene glycol monohexyl ether (solubility: 1.00 g), diethylene glycol monohexyl ether (solubility: 1.40 g) and propylene
  • glycol monophenyl ether (solubility: 0.20 g) is preferable.
  • Ethylene glycol mono 2-ethylhexyl ether (solubility: 0.20 g), diethylene glycol monohexyl ether (solubility: 1.40 g) And a combination of two or more selected from propylene glycol monophenyl ether (solubility: 0.20 g), ethylene glycol mono 2-ethylhexyl ether (solubility: 0.20 g) and Ethylene glycol monohexyl ether (solubility: 1.40 g) is more preferably either ethylene glycol mono-2-ethylhexyl ether (solubility: 0.20 g) is more preferably more.
  • the solubility in parentheses indicates the solubility in 100 g of water at 25 ° C.
  • the content of Component B during cleaning of the cleaning composition according to the present disclosure is preferably 0.1% by mass or more, more preferably 0.5% by mass or more, from the viewpoint of detergency and liquid breakage, and 1% by mass. % Or more, more preferably 2% by weight or more, and from the same viewpoint, 20% by weight or less is preferable, 15% by weight or less is more preferable, 12% by weight or less is further preferable, and 10% by weight or less is preferable. Even more preferred.
  • component B is a combination of two or more solvents
  • the content of component B refers to the total content thereof.
  • the ratio A / B of the content of the component A to the content of the component B in the cleaning composition according to the present disclosure is preferably 0.001 or more, and preferably 0.002 or more from the viewpoint of detergency and liquid drainage. More preferably, 0.003 or more is further preferable, and from the same viewpoint, 0.1 or less is preferable, 0.09 or less is more preferable, and 0.08 or less is still more preferable.
  • the cleaning composition according to the present disclosure may further contain an acid (component C).
  • the cleaning composition according to the present disclosure may further contain an acid (component C).
  • Component C can be used alone or in combination of two or more.
  • Component C is preferably an acid that forms a salt with Component A from the viewpoints of detergency and severability, and 1 to at least one group selected from a carboxy group, a sulfonic acid group, a sulfuric acid group, and a phosphoric acid group.
  • One or two or more acids selected from three compounds having 2 to 12 carbon atoms and formic acid are more preferable.
  • component C include, for example, formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, caproic acid, enanthic acid, caprylic acid, 2-ethylhexanoic acid, pelargonic acid, and capric acid.
  • Acetic acid, caprylic acid, 2-e One or a combination of two or more selected from ruhexanoic acid, lactic acid, citric acid, p-toluenesulfonic acid and 1-hydroxyethylidene-1,1-diphosphonic acid is more preferable.
  • acetic acid, 2-ethylhexanoic acid More preferred is one or a combination of two or more selected from citric acid, p-toluenesulfonic acid and 1-hydroxyethylidene-1,1-diphosphonic acid.
  • Formic acid acetic acid, p-toluenesulfonic acid and 1-hydroxyethylidene- One or a combination of two or more selected from 1,1-diphosphonic acid is still more preferred, one of acetic acid and p-toluenesulfonic acid is still more preferred, and acetic acid is still more preferred.
  • the content (or blending amount) of Component C during cleaning of the cleaning composition according to the present disclosure is preferably 0.001% by mass or more, and 0.005% by mass or more from the viewpoints of detergency and liquid drainage. More preferably, the content is more preferably 0.01% by mass or more, and from the viewpoint of keeping the washability, liquid breakage and foaming low, it is preferably 2.0% by mass or less, more preferably 1.0% by mass or less, and 7 mass% or less is still more preferable, 0.2 mass% or less is still more preferable, 0.15 mass% or less is further more preferable, and 0.1 mass% or less is still more preferable.
  • the content (or blending amount) of component C refers to the total content (or total blending amount) thereof.
  • the ratio A / C of the content of component A to the content (or blending amount) of component C in the cleaning composition according to the present disclosure is preferably 0.1 or more from the viewpoint of detergency and liquidity. 0.2 or more is more preferable, 0.4 or more is more preferable, and from the same viewpoint, 10 or less is preferable, 7 or less is more preferable, and 5 or less is still more preferable.
  • the cleaning composition according to the present disclosure contains water (component D).
  • water of component D ion exchange water, RO water, distilled water, pure water, or ultrapure water can be used. What is necessary is just to set content of water suitably according to the usage condition of the cleaning composition which concerns on this indication.
  • the content of Component D during cleaning of the cleaning composition according to the present disclosure is preferably 70% by mass or more, more preferably 80% by mass or more, still more preferably 85% by mass or more, from the viewpoint of detergency. From the same viewpoint, 99 mass% or less is preferable, 97 mass% or less is more preferable, and 95 mass% or less is still more preferable.
  • the cleaning composition according to the present disclosure may contain an optional component as necessary in addition to the components A to D described above, as long as the effects of the present disclosure are not impaired.
  • optional components include nonionic surfactants; compounds having chelating power such as aminocarboxylates such as hydroxyethylaminoacetic acid, hydroxyethyliminodiacetic acid, and ethylenediaminetetraacetic acid; antiseptics; rustproofing agents; Antibacterial agents; defoaming agents such as silicone; antioxidants; esters such as palm fatty acid methyl and benzyl acetate; hydrocarbon solvents; alcohols;
  • the content of the optional component during cleaning of the cleaning composition according to the present disclosure is preferably 0% by mass or more and 2.0% by mass or less, and preferably 0% by mass or more and 1.5% by mass from the viewpoint of not hindering the effects of the present disclosure. % Or less is more preferable, 0 mass% or more and 1.3 mass% or less is still more preferable, and 0 mass% or more and 1.0 mass% or less is still more preferable.
  • the cleaning composition according to the present disclosure includes two or more optional components, the content of the optional components refers to the total content thereof.
  • the pH during cleaning of the cleaning composition according to the present disclosure is preferably 12 or less, more preferably 9 or less, still more preferably 8 or less, still more preferably 7 or less, from the viewpoints of detergency and liquid drainage. From the viewpoints of cleaning properties, liquid drainage and corrosion prevention of cleaning equipment, 4 or more is preferable, 4.5 or more is more preferable, 5 or more is further preferable, and 5.5 or more is even more preferable.
  • pH at the time of cleaning is a pH at the time of use (after dilution) of the cleaning composition at 25 ° C., and can be measured using a pH meter. Specifically, it can be measured by the method described in the examples.
  • Adjustment of the pH of the cleaning composition according to the present disclosure includes, for example, inorganic acids such as nitric acid and sulfuric acid; organic acids such as oxycarboxylic acid, polyvalent carboxylic acid, aminopolycarboxylic acid, and amino acid; and metal salts thereof.
  • Basic substances such as ammonium salts, ammonia, sodium hydroxide, potassium hydroxide, amines, etc. can be used.
  • the cleaning composition according to the present disclosure can be produced by blending the component A, the component B and the component D, and optionally the component C and an optional component by a known method.
  • the cleaning composition according to the present disclosure may be formed by blending at least the component A, the component B, and the component D. Therefore, this indication is related with a manufacturing method of a detergent constituent including a process of blending at least the above-mentioned ingredient A, ingredient B, and ingredient D in one mode.
  • “mixing” includes mixing Component A, Component B and Component D, and optionally mixing Component C and optional components simultaneously or in any order.
  • the blending amount of each component may be the same as the content of each component of the cleaning composition according to the present disclosure described above.
  • the cleaning composition according to the present disclosure may be prepared as a concentrate with a reduced amount of component D water from the viewpoint of storage and transportation.
  • the concentrate of the cleaning composition is preferably a concentrate having a dilution ratio of 3 times or more from the viewpoint of storage and transportation, and is preferably a concentrate having a dilution ratio of 200 times or less from the viewpoint of storage stability. .
  • the concentrate of the cleaning composition can be used after being diluted with water so that the content of each component at the time of use becomes the above-described content (that is, the content at the time of cleaning).
  • the concentrate of a cleaning composition can also be used by adding each component separately at the time of use.
  • “when using” or “when cleaning” the concentrate of the cleaning composition refers to a state in which the concentrate of the cleaning composition is diluted.
  • the cleaning composition according to the present disclosure includes a cleaning of a screen plate after screen printing, a flux; a conductive paste such as a solder paste, a silver paste, and a copper paste; Can be used for cleaning.
  • the screen plate include a metal mask, a resin mask, an electroformed mask, and an emulsion mask. Accordingly, the present disclosure, in one aspect, relates to the use of a cleaning composition according to the present disclosure for cleaning a screen plate after screen printing. Furthermore, in another aspect, the present disclosure relates to the use of the cleaning composition according to the present disclosure for removing at least one of flux and solder paste from a screen plate.
  • the present disclosure provides a method for cleaning a screen plate (hereinafter referred to as “this disclosure”) including a step of cleaning an object to be cleaned using the cleaning composition according to the present disclosure (hereinafter also referred to as “cleaning step”). Also referred to as “cleaning method”.
  • the cleaning composition according to the present disclosure is a concentrate
  • the cleaning method according to the present disclosure may further include a step of diluting the concentrate of the cleaning composition.
  • the object to be cleaned include the objects to be cleaned described above.
  • the cleaning step may include bringing the cleaning composition according to the present disclosure into contact with an object to be cleaned.
  • Examples of a method for cleaning an object to be cleaned using the cleaning composition according to the present disclosure include, for example, a method of immersing an object to be cleaned in a cleaning tank and bringing the cleaning composition into contact with the object to be cleaned, an ultrasonic cleaning device And a method of bringing the cleaning composition portion into contact with the object to be cleaned in the bathtub, a method of injecting the cleaning composition in a spray form and bringing it into contact with the object to be cleaned.
  • the cleaning method according to the present disclosure may further include a step of drying the rinsed screen plate without rinsing.
  • a step of drying the rinsed screen plate without rinsing As a result, the time required for cleaning and drying of the screen plate can be shortened, and a screen plate excellent in cleanliness can be obtained efficiently, and the productivity of electronic components such as high-quality printed boards and ceramic substrates can be improved.
  • the cleaning method according to the present disclosure it is preferable to irradiate ultrasonic waves when the cleaning composition according to the present disclosure and the object to be cleaned are in contact with each other because the cleaning power of the cleaning composition according to the present disclosure is easily exhibited.
  • the ultrasonic irradiation condition can be set to 20 to 2000 kHz, for example.
  • the present disclosure is a kit for producing the cleaning composition according to the present disclosure, and includes the component A, the component B, and the component D that constitute the cleaning composition according to the present disclosure.
  • the present invention relates to a kit (hereinafter also referred to as “kit according to the present disclosure”) in which at least one of the components is stored in a state where it is not mixed with other components. According to the present disclosure, it is possible to provide a kit capable of obtaining a cleaning composition having excellent cleaning properties and liquid drainage properties.
  • a solution containing component B (first liquid) and a solution containing one or more of components A, C and D (second liquid) are mixed with each other.
  • a kit (two-component detergent composition) in which these are stored at the time of use.
  • the above-described optional components may be mixed as necessary.
  • the present disclosure further relates to the following cleaning composition, cleaning method, production method and kit.
  • ⁇ 2> The cleaning composition for screen plates according to ⁇ 1>, wherein the pH is 5 or more and 12 or less.
  • the pH is preferably 4 or more, more preferably 4.5 or more, still more preferably 5 or more, and even more preferably 5.5 or more, for the screen plate according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 3> Cleaning composition.
  • ⁇ 5> The solubility of Component A in 100 g of water at 25 ° C.
  • the cleaning composition for screen plates is less than 10 g, preferably 8 g or less, more preferably 5 g or less, still more preferably 2 g or less, still more preferably 1 g or less, and 0.5 g or less.
  • the cleaning composition for screen plates according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 4>, further more preferably 0.2 g or less, still more preferably 0.1 g or less.
  • the solubility of Component A in 100 g of water at 25 ° C. is preferably 0.0001 g or more, more preferably 0.001 g or more, and further preferably 0.01 g or more, ⁇ 1> to ⁇ 5> A cleaning composition for screen plates.
  • ⁇ 7> The cleaning composition for screen plates according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 6>, wherein component A has 6 or more carbon atoms, preferably 7 or more, and more preferably 8 or more.
  • component A has 6 or more carbon atoms, preferably 7 or more, and more preferably 8 or more.
  • the number of carbon atoms of component A is 26 or less, preferably 18 or less, more preferably 12 or less, and still more preferably 10 or less, cleaning for a screen plate according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 7> Agent composition.
  • ⁇ 9> The cleaning composition for screen plates according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 8>, wherein Component A is at least one selected from compounds represented by the following formula (I).
  • R 1 is at least one selected from a linear or branched alkyl group having 5 to 18 carbon atoms and a linear or branched alkenyl group having 5 to 18 carbon atoms.
  • R 2 and R 3 are the same or different and represent at least one selected from a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms and a hydrogen atom, and the total of R 1 , R 2 and R 3 The number of carbon atoms is 6 or more and 26 or less.
  • the salt of component A is at least one compound selected from the compounds represented by formula (I), and at least one group selected from a carboxy group, a sulfonic acid group, a sulfuric acid group, and a phosphoric acid group.
  • the cleaning composition for screen plates according to ⁇ 9> which is a salt with 1 to 3 compounds having 2 to 12 carbon atoms and at least one compound selected from formic acid.
  • the content of the component A at the time of cleaning the cleaning composition is preferably 0.001% by mass or more, more preferably 0.01% by mass or more, and further preferably 0.02% by mass or more.
  • the content of Component A during cleaning of the cleaning composition is preferably 2.0% by mass or less, more preferably 1.0% by mass or less, still more preferably 0.7% by mass or less, and 0.2% by mass.
  • the solubility of component B in water at 25 ° C. is 0.02 g or more, preferably 0.05 g or more, more preferably 0.1 g or more, and further preferably 0.2 g or more, from ⁇ 1> to ⁇ 12>
  • the cleaning composition for screen plates according to any one of the above. ⁇ 14> The solubility of component B in water at 25 ° C.
  • Cleaning composition for screen plate is less than 10 g, preferably 5 g or less, more preferably 3 g or less, and even more preferably 2 g or less, according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 13>
  • Cleaning composition for screen plate is less than 10 g, preferably 5 g or less, more preferably 3 g or less, and even more preferably 2 g or less, according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 13>
  • Cleaning composition for screen plate ⁇ 15>
  • Component B is at least one compound selected from compounds represented by the following formula (II).
  • R 4 O— (EO) m (PO) n —H (II)
  • R 4 represents a hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms
  • EO represents an ethylene oxide group
  • m is an added mole number of EO, and is a number from 0 to 5 Yes
  • PO represents a propylene oxide group
  • n is the number of moles of PO added and is a number from 0 to 2
  • the addition form of EO and PO may be block or random, and EO and The order of adding PO is not limited.
  • R 4 in the formula (II) is a hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms, preferably a hydrocarbon group having 6 to 10 carbon atoms, and a hydrocarbon group having 6 to 8 carbon atoms. More preferably, the cleaning composition for a screen plate according to ⁇ 15>. ⁇ 17>
  • the content of component B at the time of cleaning the cleaning composition is preferably 0.1% by mass or more, more preferably 0.5% by mass or more, further preferably 1% by mass or more, and 2% by mass or more.
  • the content of Component B at the time of cleaning the cleaning composition is preferably 20% by mass or less, more preferably 15% by mass or less, further preferably 12% by mass or less, and still more preferably 10% by mass or less.
  • the ratio A / B of the content of component A to the content of component B in the cleaning composition is preferably 0.001 or more, more preferably 0.002 or more, and even more preferably 0.003 or more.
  • the ratio A / B of the content of component A to the content of component B in the cleaning composition is preferably 0.1 or less, more preferably 0.09 or less, and even more preferably 0.08 or less.
  • ⁇ 21> A compound having 2 to 12 carbon atoms and having at least one group selected from carboxy group, sulfonic acid group, sulfuric acid group and phosphoric acid group, and at least one acid selected from formic acid (components)
  • the content (or blending amount) of Component C during cleaning of the cleaning composition is preferably 0.001% by mass or more, more preferably 0.005% by mass or more, and further 0.01% by mass or more.
  • the content (or blending amount) of Component C at the time of cleaning the cleaning composition is preferably 2.0% by mass or less, more preferably 1.0% by mass or less, and further 0.7% by mass or less.
  • 0.2% by mass or less is more preferable, 0.15% by mass or less is further preferable, and 0.1% by mass or less is more preferable, and the cleaning agent for a screen plate according to ⁇ 21> or ⁇ 22> Composition.
  • the ratio A / C of the content of component A to the content (or blending amount) of component C in the cleaning composition is preferably 0.1 or more, more preferably 0.2 or more, and 0.4. The above is more preferable, and the cleaning composition for screen plates according to any one of ⁇ 21> to ⁇ 23>.
  • the ratio A / C of the content of component A to the content (or blending amount) of component C in the cleaning composition is preferably 10 or less, more preferably 7 or less, and even more preferably 5 or less, ⁇
  • the content of the component D at the time of cleaning the cleaning composition is preferably 70% by mass or more, more preferably 80% by mass or more, and further preferably 85% by mass or more, any one of ⁇ 1> to ⁇ 25> A cleaning composition for a screen plate according to claim 1.
  • the content of component D during cleaning of the cleaning composition is preferably 99% by mass or less, more preferably 97% by mass or less, and still more preferably 95% by mass or less, any one of ⁇ 1> to ⁇ 26> A cleaning composition for a screen plate according to claim 1.
  • a screen plate comprising a step of cleaning an object to be cleaned using the cleaning composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 27>, wherein the object to be cleaned is a screen plate after screen printing.
  • Cleaning method ⁇ 29> The method for cleaning a screen plate according to ⁇ 28>, including a step of drying the rinsed screen plate without rinsing.
  • ⁇ 30> A kit for producing the cleaning composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 27>, wherein at least one of component A, component B and component D is mixed with other components Kit that has been stored in a state that is not.
  • cleaning composition (Examples 1 to 26 and Comparative Examples 1 to 4) Each component was blended so as to have the composition and content (mass%, effective content) shown in Table 1 below, and cleaning compositions of Examples 1 to 26 and Comparative Examples 1 to 4 were obtained.
  • the pH is the pH of the cleaning composition at 25 ° C., measured with a pH meter (Toa Denpa Kogyo Co., Ltd., HM-30G), and the value after 40 minutes after the electrode is immersed in the cleaning composition. is there.
  • ⁇ Component A Amine> ⁇ N-Hexylamine (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) ⁇ N-Octylamine (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) ⁇ N-dodecylamine (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., dodecylamine) ⁇ N-stearylamine (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., stearylamine) ⁇ N-methylhexylamine (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) ⁇ N, N-dimethylhexylamine (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) ⁇ Non-component A: Amine> ⁇ N-Butylamine (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) ⁇ Polyoxyethylene (2 mol) laurylamine (Aoki Yushi Kogyo Co., Ltd., BLAUNON L-202) ⁇ Component B: Solvent (Glycol ether)>
  • the solubility in 100 g of water at 25 ° C. is determined to be 10 g or more.
  • the solubility in 100 g of water at 25 ° C. is judged to be less than 0.02 g.
  • Flux (MB-T100, manufactured by Senju Metal Industry Co., Ltd.) is applied to a stainless steel wire mesh (twill woven, 500 mesh), the opening of the stainless steel wire mesh is filled with flux, and excess flux is removed with a squeegee.
  • the test piece for evaluation is produced by leaving it to stand at room temperature for a period of time and cutting it into 20 mm ⁇ 20 mm. Using this test piece, the cleaning property of the cleaning composition is evaluated by the following procedure. 50 g of each cleaning composition is added to a 100 mL glass beaker and kept in a 25 ° C. water bath.
  • test piece is held with tweezers, immersed in the cleaning composition, and irradiated with ultrasonic waves (104 kHz, 50 W) for 15 minutes. After washing, the test piece is dried with hot air at 60 ° C. for 15 minutes without rinsing.
  • the cleaning compositions of Examples 1 to 26 containing the predetermined amine (component A), the predetermined solvent (component B), and water (component D) are the cleaning compositions of Comparative Examples 1 to 4. Compared to the agent composition, it was excellent in cleanability and liquid drainage.
  • the cleaning composition of the present disclosure is useful as a cleaning composition for a screen plate after screen printing, and can reduce the time required for cleaning and drying and efficiently obtain a screen plate with high cleanliness. Furthermore, the production efficiency of electronic parts such as high-quality printed boards and ceramic boards can be improved.

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Abstract

洗浄性及び液切れ性に優れるスクリーン版用の洗浄剤組成物の提供。　本開示は、一態様において、２５℃の水１００ｇに対する溶解度が１０ｇ未満であるアミン（成分Ａ）又はその塩、２５℃の水１００ｇに対する溶解度が０．０２ｇ以上１０ｇ未満である溶剤（成分Ｂ）、及び水を含み、前記成分Ａが、炭素数が６以上２６以下の、１級アミン、２級アミン及び３級アミンから選ばれる少なくとも１種である、スクリーン版用洗浄剤組成物に関する。

Description

スクリーン版用洗浄剤組成物
　本開示は、スクリーン版用洗浄剤組成物及びスクリーン版の洗浄方法に関する。
　プリント基板やセラミック基板等に電子部品を実装する際、一般に半田付けが行われる。通常、半田付けには、半田及び母材表面の酸化膜を除去する、あるいは半田及び母材表面の再酸化を防止し、十分な半田接続を得る目的でフラックスが使用される。しかし、フラックスは腐食性であり、フラックス残渣はプリント配線基板の品質を低下させることから、フラックス残渣を洗浄除去するための各種洗浄剤組成物が提案されている。
　例えば、特許文献１には、フラックス残渣や金属加工油等の種々の汚染物を洗浄するための、特定の水溶性グリコールエーテル７５～９４．９９重量％、１７０～２７０℃の沸点を有する有機アミン類０．０１～５重量％、水５～２０重量％より構成し、実質的に他成分を含まない工業用洗浄剤組成物が開示されている。
　特許文献２には、プリント基板製造時における任意の工程で基板上に残留するフラックス及び再融解液を洗浄するための、グリコール系溶剤、アミン類及び／または界面活性剤からなる洗浄剤組成物が開示されている。
　近年、低消費電力、高速処理といった観点から、電子部品が小型化しており、それに伴い配線パターンが微細化している。微細な配線形成には、スクリーン版を用いたスクリーン印刷が主に行われている。しかし、スクリーン版の繰り返し使用によるフラックスや半田ペースト等の各種ペーストのスクリーン版表面への付着が配線不良等の製品不良へつながり、今後大きな問題になることが懸念されている。しかし、従来の洗浄剤組成物では、スクリーン版に付着したフラックスや半田ペースト等の汚染物に対する洗浄性が十分ではなかった。さらに、フロン規制以前から使用されている洗浄装置が未だに多く使用されてきており、洗浄剤として脱フロン化したものの、洗浄装置の構成及び構造上、洗浄後に濯ぎを行わずそのまま乾燥させてスクリーン版を使用することから、高い生産性を得るためには、洗浄剤には素早い乾燥性や液切れ性が求められる。さらに、引火性を有するような有機溶剤を使用する場合、厳重な設備を設けて防爆仕様にする必要があり、引火性を有せず、すなわち高沸点かつ低揮発性の水を含有しつつ、素早い乾燥性、液切れ性及び微細配線に対応できる高い洗浄性を有する洗浄剤が求められている。
　例えば、特許文献３には、一定の沸点を持ち、水溶性である１種または２種以上のグリコールエーテル系化合物２５～４５重量％、一定の沸点と一定量の水溶性を持つ１種または２種以上のグリコールエーテル系化合物５～２５重量％、アミン系化合物０．００５～１．０重量％及び水（残量）を含有するメタルマスク用洗浄剤が開示されている。
　特許文献４には、有機ＥＬ材料が付着した被洗浄物を洗浄するための洗浄剤であって、プロピルプロピレンジグリコールのような特定のプロピレングリコール５～８０質量％及びＮ－メチル－２－ピロリドンのような特定のピロリドン類２０～９５質量％からなる組成物を含有してなる洗浄剤が開示されている。
　特許文献５には、低沸点の親水性グリコールエーテルモノアルキルエーテル、高沸点の親水性グリコールエーテルモノアルキルエーテル及び水を含有するスクリーン版洗浄用組成物が開示されている。
特開平９－８７６６８号公報 特開平５－１２５３９５号公報 特開平９－５９６８８号公報 特開２００６－２６５３００号公報 特開２０００－２６７２９３号公報
　スクリーン版の配線パターンの微細化に伴い、スクリーン版の繰り返し使用によるフラックスや半田ペースト等の各種ペーストのスクリーン版表面への残留に起因する製品欠陥を防ぐため、洗浄剤にはより高い洗浄性が求められている。さらに、高い生産性を得るためには、洗浄後に素早く乾燥できることが好ましく、洗浄剤には素早い液切れ性が求められる。しかし、前記特許文献に記載の方法では、高い洗浄性と素早い液切れ性とを両立できるものがなかった。
　そこで、本開示は、洗浄性及び液切れ性に優れるスクリーン版用の洗浄剤組成物及び洗浄方法を提供する。
　本開示は、一態様において、２５℃の水１００ｇに対する溶解度が１０ｇ未満であるアミン（成分Ａ）又はその塩、２５℃の水１００ｇに対する溶解度が０．０２ｇ以上１０ｇ未満である溶剤（成分Ｂ）、及び水を含み、前記成分Ａが、炭素数が６以上２６以下の、１級アミン、２級アミン及び３級アミンから選ばれる少なくとも１種である、スクリーン版用洗浄剤組成物に関する。
　本開示は、一態様において、本開示に係る洗浄剤組成物を用いて被洗浄物を洗浄する工程を含み、前記被洗浄物は、スクリーン印刷後のスクリーン版である、スクリーン版の洗浄方法に関する。
　本開示は、一態様において、スクリーン印刷後のスクリーン版を洗浄するための、本開示に係る洗浄剤組成物の使用に関する。
　本開示は、一態様において、フラックス及び半田ペーストの少なくとも一方をスクリーン版から除去するための、本開示に係る洗浄剤組成物の使用に関する。
　本開示によれば、洗浄性及び液切れ性に優れるスクリーン版用の洗浄剤組成物を提供できる。そして、本開示の洗浄剤組成物を用いることによって、スクリーン版の洗浄及び乾燥にかかる時間が短縮され、清浄度に優れたスクリーン版を効率よく得ることができ、さらに、高品質なプリント基板やセラミック基板等の電子部品の生産効率を向上できる。
　本開示は、スクリーン版の洗浄に用いる洗浄剤組成物中に、２５℃の水１００ｇに対する溶解度が１０ｇ未満で、炭素数６～２６の１～３級アミン（成分Ａ）及び２５℃の水１００ｇに対する溶解度が０．０２ｇ以上１０ｇ未満の溶剤（成分Ｂ）を含有させることで、洗浄性を向上でき、液切れ性が早くなるという知見に基づく。
　すなわち、本開示は、一態様において、２５℃の水１００ｇに対する溶解度が１０ｇ未満であるアミン（成分Ａ）又はその塩、２５℃の水１００ｇに対する溶解度が０．０２ｇ以上１０ｇ未満である溶剤（成分Ｂ）、及び水を含み、前記成分Ａが、炭素数が６以上２６以下の、１級アミン、２級アミン及び３級アミンから選ばれる少なくとも１種である、スクリーン版用洗浄剤組成物（以下、「本開示に係る洗浄剤組成物」ともいう）に関する。本開示によれば、洗浄性及び液切れ性に優れるスクリーン版用の洗浄剤組成物を提供できる。そして、本開示に係る洗浄剤組成物を用いることによって、スクリーン版の洗浄及び乾燥にかかる時間が短縮され、清浄度に優れたスクリーン版を効率よく得ることができ、さらに、高品質なプリント基板やセラミック基板等の電子部品の生産効率を向上できる。
　本開示に係る洗浄剤組成物における効果の作用メカニズムの詳細は不明な部分があるが、以下のように推定される。
　本開示に係る洗浄剤組成物をスクリーン印刷後のスクリーン版の洗浄に用いると、洗浄剤組成物中の成分Ａのアミンは、水への溶解度が低く、低親水性すなわち疎水性を有することから、スクリーン版表面に吸着し、スクリーン版表面を疎水化する。そして、成分Ａは、スクリーン版表面の疎水化と同時に、フラックス等の油性成分へ吸着あるいは浸透し、油性成分の流動性を高くし、スクリーン版表面と電荷反発させる。このように成分Ａがスクリーン版表面とフラックス等の油性成分に作用することによって、スクリーン版から油性成分を引きはがし（除去し）、さらに除去した油性成分がスクリーン版に再付着することを防止できると考えられる。なお、洗浄剤組成物による洗浄において、スプレーや超音波による物理力の補助により、スクリーン版から油性成分を除去しやすくなると考えられる。このように、スクリーン版からの油性成分の除去及び再付着の防止が可能で、さらに油性成分の凝集を抑制できるため、洗浄性が向上すると推測される。そして、スクリーン版表面が疎水化したこと、及び／又は洗浄剤組成物の表面張力が大きいことにより、液切れ性が早くなると推測される。
　また、洗浄剤組成物中の成分Ｂの溶剤は、水に対してある程度の溶解度を有することから、成分Ａと相溶し、成分Ａを水中に均一に安定化でき、フラックス等の油性成分へ吸着あるいは浸透しやすくするため、洗浄性が向上すると推測される。
　さらに、成分Ａが酸と塩を形成した場合、特に、本開示に係る洗浄剤組成物に酸（成分Ｃ）がさらに配合され、成分Ａのアミンと成分Ｃの酸とが塩を形成した場合、洗浄剤組成物中にアミンと酸との塩が存在することによってフラックス等の油性成分への浸透性が高くなり、より短時間に上記効果を発現できるようになると推測される。
　但し、本開示はこのメカニズムに限定して解釈されなくてもよい。
[成分Ａ：アミン]
　本開示に係る洗浄剤組成物は、２５℃の水１００ｇに対する溶解度が１０ｇ未満であるアミン（成分Ａ）又はその塩を含む。本開示において成分Ａは、１種又は２種以上を混合して用いることができる。
　成分Ａの２５℃の水１００ｇに対する溶解度は、１０ｇ未満であって、洗浄性及び液切れ性の観点から、８ｇ以下が好ましく、５ｇ以下がより好ましく、２ｇ以下が更に好ましく、１ｇ以下がより更に好ましく、０．５ｇ以下がより更に好ましく、０．２ｇ以下がより更に好ましく、０．１ｇ以下がより更に好ましく、そして、同様の観点から、０．０００１ｇ以上が好ましく、０．００１ｇ以上がより好ましく、０．０１ｇ以上が更に好ましい。
　成分Ａのアミンは、洗浄性及び液切れ性の観点から、炭素数が６以上２６以下の、１級アミン、２級アミン及び３級アミンから選ばれる少なくとも１種である。成分Ａの炭素数は、洗浄性及び液切れ性の観点から、６以上であって、７以上が好ましく、８以上がより好ましく、そして、同様の観点から、２６以下であって、１８以下が好ましく、１２以下がより好ましく、１０以下が更に好ましい。成分Ａが塩の形態である場合、塩を形成させるための対イオンとしては、特に限定されなくてもよく、例えば、成分Ｃの酸を挙げることができる。
　成分Ａとしては、洗浄性及び液切れ性の観点から、式（Ｉ）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
　式（Ｉ）中、Ｒ1は、炭素数５以上１８以下の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、及び炭素数５以上１８以下の直鎖又は分岐鎖のアルケニル基から選ばれる少なくとも１種を示し、Ｒ2及びＲ3は同一又は異なり、炭素数１以上５以下の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、及び水素原子から選ばれる少なくとも１種を示し、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3の炭素数の合計が６以上２６以下である。
　式（Ｉ）において、Ｒ1の炭素数は、洗浄性及び液切れ性の観点から、５以上であって、６以上が好ましく、７以上がより好ましく、そして、泡立ちを抑える（以下、「抑泡性」ともいう）観点から、１８以下であって、１２以下が好ましく、１０以下がより好ましく、８以下が更に好ましい。
　式（Ｉ）において、Ｒ2及びＲ3はそれぞれ独立して、洗浄性及び液切れ性の観点から、炭素数１以上５以下の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、及び水素原子から選ばれる少なくとも１種であって、炭素数１又は２の直鎖アルキル基及び水素原子から選ばれる少なくとも１種が好ましく、メチル基又は水素原子がより好ましく、水素原子が更に好ましい。
　式（Ｉ）において、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3の合計炭素数は、洗浄性及び液切れ性の観点から、６以上であって、７以上が好ましく、８以上がより好ましく、そして、抑泡性の観点から、２６以下であって、１８以下が好ましく、１２以下がより好ましく、１０以下が更に好ましい。
　成分Ａの塩としては、洗浄性及び液切れ性の観点から、前記式（Ｉ）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物と酸との塩が挙げられる。酸としては、成分Ａと水溶性の塩を形成するものであれば特に限定されなくてもよいが、例えば、後述する成分Ｃの酸が挙げられる。
　本開示に係る洗浄剤組成物の洗浄時における成分Ａの含有量は、洗浄性及び液切れ性の観点から、０．００１質量％以上が好ましく、０．０１質量％以上がより好ましく、０．０２質量％以上が更に好ましく、そして、洗浄性、液切れ性及び抑泡性の観点から、２．０質量％以下が好ましく、１．０質量％以下がより好ましく、０．７質量％以下が更に好ましく、０．２質量％以下がより更に好ましく、０．１５質量％以下がより更に好ましく、０．１質量％以下がより更に好ましい。成分Ａが２種以上のアミンの組合せである場合、成分Ａの含有量はそれらの合計含有量をいう。
　本開示において「洗浄剤組成物の洗浄時における各成分の含有量」とは、一又は複数の実施形態において、洗浄工程に使用される洗浄剤組成物の各成分の含有量をいう。
［成分Ｂ：溶剤］
　本開示に係る洗浄剤組成物は、２５℃の水１００ｇに対する溶解度が０．０２ｇ以上１０ｇ未満である溶剤（成分Ｂ）を含む。本開示において成分Ｂは、１種又は２種以上を混合して用いることができる。
　成分Ｂの２５℃の水に対する溶解度は、洗浄性及び液切れ性の観点から、０．０２ｇ以上であって、０．０５ｇ以上が好ましく、０．１ｇ以上がより好ましく、０．２ｇ以上が更に好ましく、そして、同様の観点から、１０ｇ未満であって、５ｇ以下が好ましく、３ｇ以下がより好ましく、２ｇ以下が更に好ましい。
　成分Ｂとしては、洗浄性及び液切れ性の観点から、上記範囲内の溶解度を有する成分Ａ以外の溶剤が挙げられ、例えば、上記範囲内の溶解度を有する、グリコールエーテル系溶剤及びアルコール系溶剤から選ばれる少なくとも１種が挙げられる。前記グリコールエーテル系溶剤としては、洗浄性及び液切れ性の観点から、下記式（ＩＩ）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種が好ましい。
Ｒ4Ｏ－（ＥＯ）m（ＰＯ）n－Ｈ　　　（ＩＩ）
　上記式（ＩＩ）において、Ｒ4は、炭素数３以上１２以下の炭化水素基を示し、ＥＯはエチレンオキシド基を示し、ｍはＥＯの付加モル数であって０以上５以下の数であり、ＰＯはプロピレンオキシド基を示し、ｎはＰＯの付加モル数であって０以上２以下の数であり、ｍ＋ｎ≧１であり、ＥＯとＰＯの付加形態はブロックでもランダムでもよく、ＥＯとＰＯの付加順序は問わない。
　式（ＩＩ）において、Ｒ4は、洗浄性及び液切れ性を向上させる観点から、炭素数３以上１２以下の炭化水素基であって、炭素数６以上１０以下の炭化水素基が好ましく、炭素数６以上８以下の炭化水素基がより好ましい。
　式（ＩＩ）において、（ＥＯ）m（ＰＯ）nは、エチレンオキシド基単独で構成されていてもよいが、エチレンオキシド基とプロピレンオキシド基とから構成されていてもよい。（ＥＯ）m（ＰＯ）nが、エチレンオキシド基とプロピレンオキシド基とから構成される場合、ＥＯとＰＯの配列はランダムでもブロックでもよい。ＥＯとＰＯの配列がブロックの場合、ＥＯのブロック数、ＰＯのブロック数は、各平均付加モル数が上記範囲内であれば、それぞれ１個であっても１個以上であってもよい。ＥＯからなるブロックの数が２個以上の場合、各ブロックにおけるＥＯの繰り返し数は、相互に同じであってもよいし、異なっていてもよい。
　成分Ｂの具体例としては、例えば、エチレングリコールモノ２－エチルヘキシルエーテル（溶解度：０．２０ｇ）、ジエチレングリコールモノ２－エチルヘキシルエーテル（溶解度：０．２０ｇ）、エチレングリコールモノヘキシルエーテル（溶解度：１．００ｇ）、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル（溶解度：１．４０ｇ）、プロピレングリコールモノフェニルエーテル（フェノキシプロパノール、溶解度：０．２０ｇ）、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル（溶解度：５．６０ｇ）、プロピレングリコールモノブチルエーテル（溶解度：６．６０ｇ）から選ばれる１種または２種以上の組合せが挙げられる。液切れ性を向上させる観点から、エチレングリコールモノ２－エチルヘキシルエーテル（溶解度：０．２０ｇ）、エチレングリコールモノヘキシルエーテル（溶解度：１．００ｇ）、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル（溶解度：１．４０ｇ）及びプロピレングリコールモノフェニルエーテル（溶解度：０．２０ｇ）から選ばれる１種又は２種以上の組合せが好ましく、エチレングリコールモノ２－エチルヘキシルエーテル（溶解度：０．２０ｇ）、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル（溶解度：１．４０ｇ）及びプロピレングリコールモノフェニルエーテル（溶解度：０．２０ｇ）から選ばれる１種又は２種以上の組合せがより好ましく、エチレングリコールモノ２－エチルヘキシルエーテル（溶解度：０．２０ｇ）及びジエチレングリコールモノヘキシルエーテル（溶解度：１．４０ｇ）のいずれか一方が更に好ましく、エチレングリコールモノ２－エチルヘキシルエーテル（溶解度：０．２０ｇ）がより更に好ましい。括弧内の溶解度は、２５℃の水１００ｇに対する溶解度を示す。
　本開示に係る洗浄剤組成物の洗浄時における成分Ｂの含有量は、洗浄性及び液切れ性の観点から、０．１質量％以上が好ましく、０．５質量％以上がより好ましく、１質量％以上が更に好ましく、２質量％以上がより更に好ましく、そして、同様の観点から、２０質量％以下が好ましく、１５質量％以下がより好ましく、１２質量％以下が更に好ましく、１０質量％以下がより更に好ましい。成分Ｂが２種以上の溶剤の組合せである場合、成分Ｂの含有量はそれらの合計含有量をいう。
　本開示に係る洗浄剤組成物中の成分Ｂの含有量に対する成分Ａの含有量の比Ａ／Ｂは、洗浄性及び液切れ性の観点から、０．００１以上が好ましく、０．００２以上がより好ましく、０．００３以上が更に好ましく、そして、同様の観点から、０．１以下が好ましく、０．０９以下がより好ましく、０．０８以下が更に好ましい。
［成分Ｃ：酸］
　本開示に係る洗浄剤組成物は、酸（成分Ｃ）をさらに含有することができる。また、本開示に係る洗浄剤組成物は、酸（成分Ｃ）がさらに配合されたものとすることができる。本開示において成分Ｃは、１種又は２種以上を混合して用いることができる。
　成分Ｃとしては、洗浄性及び液切れ性の観点から、成分Ａと塩を形成する酸が好ましく、カルボキシ基、スルホン酸基、硫酸基及びリン酸基から選ばれる少なくとも１種の基を１～３個有する炭素数２以上１２以下の化合物並びにギ酸から選ばれる１種又は２種以上の酸がより好ましい。
　成分Ｃの具体例としては、例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、２－エチルヘキサン酸、ペラルゴン酸、カプリン酸。ラウリン酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、グリコール酸、乳酸、タルトロン酸、ヒドロキシ酪酸、グリセリン酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、ラウリル硫酸エステル、２－アミノエチルホスホン酸、１－ヒドロキシエチリデン－１，１－ジホスホン酸、アミノトリ（メチレンホスホン酸）、エチレンジアミンテトラ（メチレンホスホン酸）及びジエチレントリアミンペンタ（メチレンホスホン酸）から選ばれる１種又は２種以上の組合せが挙げられ、洗浄性及び液切れ性の観点から、ギ酸、酢酸、カプリル酸、２－エチルヘキサン酸、乳酸、クエン酸、ｐ－トルエンスルホン酸及び１－ヒドロキシエチリデン－１，１－ジホスホン酸から選ばれる１種又は２種以上の組合せがより好ましく、ギ酸、酢酸、２－エチルヘキサン酸、クエン酸、ｐ－トルエンスルホン酸及び１－ヒドロキシエチリデン－１，１－ジホスホン酸から選ばれる１種又は２種以上の組合せが更に好ましく、ギ酸、酢酸、ｐ－トルエンスルホン酸及び１－ヒドロキシエチリデン－１，１－ジホスホン酸から選ばれる１種又は２種以上の組合せがより更に好ましく、酢酸及びｐ－トルエンスルホン酸のいずれか一方がより更に好ましく、酢酸がより更に好ましい。
　本開示に係る洗浄剤組成物の洗浄時における成分Ｃの含有量（又は配合量）は、洗浄性及び液切れ性の観点から、０．００１質量％以上が好ましく、０．００５質量％以上がより好ましく、０．０１質量％以上が更に好ましく、そして、洗浄性、液切れ性及び泡立ちを低く抑える観点から、２．０質量％以下が好ましく、１．０質量％以下がより好ましく、０．７質量％以下が更に好ましく、０．２質量％以下がより更に好ましく、０．１５質量％以下がより更に好ましく、０．１質量％以下がより更に好ましい。成分Ｃが２種以上の酸の組合せである場合、成分Ｃの含有量（又は配合量）はそれらの合計含有量（又は合計配合量）をいう。
　本開示に係る洗浄剤組成物中の成分Ｃの含有量（又は配合量）に対する成分Ａの含有量の比Ａ／Ｃは、洗浄性及び液切れ性の観点から、０．１以上が好ましく、０．２以上がより好ましく、０．４以上が更に好ましく、そして、同様の観点から、１０以下が好ましく、７以下がより好ましく、５以下が更に好ましい。
［成分Ｄ：水］
　本開示に係る洗浄剤組成物は、水（成分Ｄ）を含む。成分Ｄの水としては、イオン交換水、ＲＯ水、蒸留水、純水、超純水が使用されうる。水の含有量は、本開示に係る洗浄剤組成物の使用態様にあわせて適宜設定すればよい。
　本開示に係る洗浄剤組成物の洗浄時における成分Ｄの含有量は、洗浄性の観点から、７０質量％以上が好ましく、８０質量％以上がより好ましく、８５質量％以上が更に好ましく、そして、同様の観点から、９９質量％以下が好ましく、９７質量％以下がより好ましく、９５質量％以下が更に好ましい。
［任意成分］
　本開示に係る洗浄剤組成物は、本開示の効果を損なわない範囲で、上述した成分Ａ～Ｄ以外に、必要に応じて任意成分を含有することができる。任意成分としては、例えばノニオン性界面活性剤；ヒドロキシエチルアミノ酢酸、ヒドロキシエチルイミノ２酢酸、エチレンジアミンテトラ酢酸等のアミノカルボン酸塩等のキレート力を持つ化合物；防腐剤；防錆剤；殺菌剤；抗菌剤；シリコーン等の消泡剤；酸化防止剤；ヤシ脂肪酸メチル、酢酸ベンジル等のエステル；炭化水素系溶剤；アルコール類；等から選ばれる１種又は２種以上の組合せが挙げられる。
　本開示に係る洗浄剤組成物の洗浄時における任意成分の含有量は、本開示の効果を妨げない観点から、０質量％以上２．０質量％以下が好ましく、０質量％以上１．５質量％以下がより好ましく、０質量％以上１．３質量％以下が更に好ましく、０質量％以上１．０質量％以下が更により好ましい。本開示に係る洗浄剤組成物が２種以上の任意成分を含む場合、任意成分の含有量はそれらの合計含有量をいう。
［洗浄剤組成物のｐＨ］
　本開示に係る洗浄剤組成物の洗浄時のｐＨは、洗浄性及び液切れ性の観点から、１２以下が好ましく、９以下がより好ましく、８以下が更に好ましく、７以下がより更に好ましく、そして、洗浄性、液切れ性及び洗浄設備の腐食防止の観点から、４以上が好ましく、４．５以上がより好ましく、５以上が更に好ましく、５．５以上がより更に好ましい。本開示において「洗浄時のｐＨ」とは、２５℃における洗浄剤組成物の使用時（希釈後）のｐＨであり、ｐＨメータを用いて測定できる。具体的には実施例に記載の方法により測定できる。
　本開示に係る洗浄剤組成物のｐＨの調整は、例えば、硝酸、硫酸等の無機酸；オキシカルボン酸、多価カルボン酸、アミノポリカルボン酸、アミノ酸等の有機酸；及びそれらの金属塩やアンモニウム塩、アンモニア、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アミン等の塩基性物質；等を用いて行うことができる。
［洗浄剤組成物の製造方法］
　本開示に係る洗浄剤組成物は、前記成分Ａ、成分Ｂ及び成分Ｄ、並びに必要に応じて成分Ｃ及び任意成分を公知の方法で配合することにより製造できる。例えば、本開示に係る洗浄剤組成物は、少なくとも前記成分Ａ、成分Ｂ及び成分Ｄを配合してなるものとすることができる。したがって、本開示は、一態様において、少なくとも前記成分Ａ、成分Ｂ及び成分Ｄを配合する工程を含む、洗浄剤組成物の製造方法に関する。本開示において「配合する」とは、成分Ａ、成分Ｂ及び成分Ｄ、並びに必要に応じて成分Ｃ及び任意成分を同時に又は任意の順に混合することを含む。本開示に係る洗浄剤組成物の製造方法において、各成分の配合量は、上述した本開示に係る洗浄剤組成物の各成分の含有量と同じとすることができる。
　本開示に係る洗浄剤組成物は、貯蔵及び輸送の観点から、成分Ｄの水の量を減らした濃縮物として調製してもよい。洗浄剤組成物の濃縮物は、貯蔵及び輸送の観点から、希釈倍率３倍以上の濃縮物とすることが好ましく、保管安定性の観点から、希釈倍率２００倍以下の濃縮物とすることが好ましい。洗浄剤組成物の濃縮物は、使用時に各成分の含有量が、上述した含有量（すなわち、洗浄時の含有量）となるように水で希釈して使用することができる。さらに、洗浄剤組成物の濃縮物は、使用時に各成分を別々に添加して使用することもできる。本開示において洗浄剤組成物の濃縮物の「使用時」又は「洗浄時」とは、洗浄剤組成物の濃縮物が希釈された状態をいう。
［被洗浄物］
　本開示に係る洗浄剤組成物は、一又は複数の実施形態において、スクリーン印刷後のスクリーン版の洗浄、フラックス；半田ペースト、銀ペースト、銅ペースト等の導電性ペースト；等が付着したスクリーン版の洗浄に使用されうる。スクリーン版としては、例えば、メタルマスク、樹脂マスク、電鋳マスク、乳剤マスク等が挙げられる。
　したがって、本開示は、一態様において、スクリーン印刷後のスクリーン版を洗浄するための、本開示に係る洗浄剤組成物の使用に関する。さらに、本開示は、その他の態様において、フラックス及び半田ペーストの少なくとも一方をスクリーン版から除去するための、本開示に係る洗浄剤組成物の使用に関する。
［洗浄方法］
　本開示は、一態様において、本開示に係る洗浄剤組成物を用いて被洗浄物を洗浄する工程（以下、「洗浄工程」ともいう）を含む、スクリーン版の洗浄方法（以下、「本開示に係る洗浄方法」ともいう）に関する。本開示に係る洗浄剤組成物が濃縮物である場合、本開示に係る洗浄方法は、洗浄剤組成物の濃縮物を希釈する工程をさらに含むことができる。被洗浄物としては、上述した被洗浄物が挙げられる。前記洗浄工程は、一又は複数の実施形態において、被洗浄物に本開示に係る洗浄剤組成物を接触させることを含むことができる。被洗浄物を本開示に係る洗浄剤組成物を用いて洗浄する方法としては、例えば、被洗浄物を洗浄槽に浸漬して被洗浄物に洗浄剤組成物を接触させる方法、超音波洗浄装置の浴槽内で被洗浄物に洗浄剤組成部を接触させる方法、洗浄剤組成物をスプレー状に射出して被洗浄物に接触させる方法等が挙げられる。
　本開示に係る洗浄方法は、前記洗浄後のスクリーン版を濯がずに乾燥する工程をさらに含むことができる。これにより、スクリーン版の洗浄及び乾燥にかかる時間が短縮され、清浄度に優れたスクリーン版を効率よく得ることができ、高品質なプリント基板やセラミック基板等の電子部品の生産性を向上できる。
　本開示に係る洗浄方法は、本開示に係る洗浄剤組成物の洗浄力が発揮されやすい点から、本開示に係る洗浄剤組成物と被洗浄物との接触時に超音波を照射することが好ましい。超音波の照射条件としては、例えば、２０～２０００ｋＨｚと設定できる。
　［キット］
　本開示は、一態様において、本開示に係る洗浄剤組成物を製造するためのキットであって、本開示に係る洗浄剤組成物を構成する前記成分Ａ、前記成分Ｂ、及び前記成分Ｄのうちの少なくとも１成分が他の成分と混合されない状態で保管されている、キット（以下、「本開示に係るキット」ともいう）に関する。本開示によれば、洗浄性及び液切れ性に優れる洗浄剤組成物が得られうるキットを提供できる。
　本開示に係るキットとしては、例えば、成分Ｂを含む溶液（第１液）と、成分Ａ、Ｃ及びＤの１種又は２種以上を含む溶液（第２液）とが、相互に混合されていない状態で保存されており、これらが使用時に混合されるキット（２液型洗浄剤組成物）が挙げられる。前記第１液及び第２液の各々には、必要に応じて上述した任意成分が混合されていてもよい。
　本開示は、さらに以下の洗浄剤組成物、洗浄方法、製造方法及びキットに関する。
　＜１＞　２５℃の水１００ｇに対する溶解度が１０ｇ未満であるアミン（成分Ａ）又はその塩、２５℃の水１００ｇに対する溶解度が０．０２ｇ以上１０ｇ未満である溶剤（成分Ｂ）、及び水（成分Ｄ）を含み、前記成分Ａが、炭素数が６以上２６以下の、１級アミン、２級アミン及び３級アミンから選ばれる少なくとも１種である、スクリーン版用洗浄剤組成物。
＜２＞　ｐＨが５以上１２以下である、＜１＞に記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
＜３＞　ｐＨは、１２以下が好ましく、９以下がより好ましく、８以下が更に好ましく、７以下がより更に好ましい、＜１＞又は＜２＞に記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
＜４＞　ｐＨは、４以上が好ましく、４．５以上がより好ましく、５以上が更に好ましく、５．５以上がより更に好ましい、＜１＞から＜３＞のいずれかに記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
＜５＞　成分Ａの２５℃の水１００ｇに対する溶解度は、１０ｇ未満であって、８ｇ以下が好ましく、５ｇ以下がより好ましく、２ｇ以下が更に好ましく、１ｇ以下がより更に好ましく、０．５ｇ以下がより更に好ましく、０．２ｇ以下がより更に好ましく、０．１ｇ以下がより更に好ましい、＜１＞から＜４＞のいずれかに記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
＜６＞　成分Ａの２５℃の水１００ｇに対する溶解度は、０．０００１ｇ以上が好ましく、０．００１ｇ以上がより好ましく、０．０１ｇ以上が更に好ましい、＜１＞から＜５＞のいずれかに記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
＜７＞　成分Ａの炭素数は、６以上であって、７以上が好ましく、８以上がより好ましい、＜１＞から＜６＞のいずれかに記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
＜８＞　成分Ａの炭素数は、２６以下であって、１８以下が好ましく、１２以下がより好ましく、１０以下が更に好ましい、＜１＞から＜７＞のいずれかに記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
＜９＞　成分Ａが、下記式（Ｉ）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種である、＜１＞から＜８＞のいずれかに記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
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 　上記式（Ｉ）において、Ｒ1は、炭素数５以上１８以下の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、及び炭素数５以上１８以下の直鎖又は分岐鎖のアルケニル基から選ばれる少なくとも１種を示し、Ｒ2及びＲ3は同一又は異なり、炭素数１以上５以下の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、及び水素原子から選ばれる少なくとも１種を示し、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3の合計炭素数が６以上２６以下である。
＜１０＞　成分Ａの塩が、前記式（Ｉ）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物と、カルボキシ基、スルホン酸基、硫酸基及びリン酸基から選ばれる少なくとも１種の基を１～３個有する炭素数２以上１２以下の化合物並びにギ酸から選ばれる少なくとも１種の化合物との塩である、＜９＞に記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
＜１１＞　洗浄剤組成物の洗浄時における成分Ａの含有量は、０．００１質量％以上が好ましく、０．０１質量％以上がより好ましく、０．０２質量％以上が更に好ましい、＜１＞から＜１０＞のいずれかに記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
＜１２＞　洗浄剤組成物の洗浄時における成分Ａの含有量は、２．０質量％以下が好ましく、１．０質量％以下がより好ましく、０．７質量％以下が更に好ましく、０．２質量％以下がより更に好ましく、０．１５質量％以下がより更に好ましく、０．１質量％以下がより更に好ましい、＜１＞から＜１１＞のいずれかに記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
＜１３＞　成分Ｂの２５℃の水に対する溶解度は、０．０２ｇ以上であって、０．０５ｇ以上が好ましく、０．１ｇ以上がより好ましく、０．２ｇ以上が更に好ましい、＜１＞から＜１２＞のいずれかに記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
＜１４＞　成分Ｂの２５℃の水に対する溶解度は、１０ｇ未満であって、５ｇ以下が好ましく、３ｇ以下がより好ましく、２ｇ以下が更に好ましい、＜１＞から＜１３＞のいずれかに記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
＜１５＞　成分Ｂが、下記式（ＩＩ）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物である、＜１＞から＜１４＞のいずれかに記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
Ｒ4Ｏ－（ＥＯ）m（ＰＯ）n－Ｈ　　　（ＩＩ）
　ここで、式（ＩＩ）において、Ｒ4は、炭素数３以上１２以下の炭化水素基を示し、ＥＯはエチレンオキシド基を示し、ｍはＥＯの付加モル数であって０以上５以下の数であり、ＰＯはプロピレンオキシド基を示し、ｎはＰＯの付加モル数であって０以上２以下の数であり、ｍ＋ｎ≧１であり、ＥＯとＰＯの付加形態はブロックでもランダムでもよく、ＥＯとＰＯの付加順序は問わない。
＜１６＞　式（ＩＩ）におけるＲ4は、炭素数３以上１２以下の炭化水素基であって、炭素数６以上１０以下の炭化水素基が好ましく、炭素数６以上８以下の炭化水素基がより好ましい、＜１５＞に記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
＜１７＞　洗浄剤組成物の洗浄時における成分Ｂの含有量は、０．１質量％以上が好ましく、０．５質量％以上がより好ましく、１質量％以上が更に好ましく、２質量％以上がより更に好ましい、＜１＞から＜１６＞のいずれかに記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
＜１８＞　洗浄剤組成物の洗浄時における成分Ｂの含有量は、２０質量％以下が好ましく、１５質量％以下がより好ましく、１２質量％以下が更に好ましく、１０質量％以下がより更に好ましい、＜１＞から＜１７＞のいずれかに記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
＜１９＞　洗浄剤組成物中の成分Ｂの含有量に対する成分Ａの含有量の比Ａ／Ｂは、０.００１以上が好ましく、０．００２以上がより好ましく、０．００３以上が更に好ましい、＜１＞から＜１８＞のいずれかに記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
＜２０＞　洗浄剤組成物中の成分Ｂの含有量に対する成分Ａの含有量の比Ａ／Ｂは、０．１以下が好ましく、０．０９以下がより好ましく、０．０８以下が更に好ましい、＜１＞から＜１９＞のいずれかに記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
＜２１＞　カルボキシ基、スルホン酸基、硫酸基及びリン酸基から選ばれる少なくとも１種の基を１～３個有する炭素数２以上１２以下の化合物並びにギ酸から選ばれる少なくとも１種の酸（成分Ｃ）がさらに配合された、＜１＞から＜２０＞のいずれかに記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
＜２２＞　洗浄剤組成物の洗浄時における成分Ｃの含有量（又は配合量）は、０．００１質量％以上が好ましく、０．００５質量％以上がより好ましく、０．０１質量％以上が更に好ましい、＜２１＞に記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
＜２３＞　洗浄剤組成物の洗浄時における成分Ｃの含有量（又は配合量）は、２．０質量％以下が好ましく、１．０質量％以下がより好ましく、０．７質量％以下が更に好ましく、０．２質量％以下がより更に好ましく、０．１５質量％以下がより更に好ましく、０．１質量％以下がより更に好ましい、＜２１＞又は＜２２＞に記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
＜２４＞　洗浄剤組成物中の成分Ｃの含有量（又は配合量）に対する成分Ａの含有量の比Ａ／Ｃは、０．１以上が好ましく、０．２以上がより好ましく、０．４以上が更に好ましく、＜２１＞から＜２３＞のいずれかに記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
＜２５＞　洗浄剤組成物中の成分Ｃの含有量（又は配合量）に対する成分Ａの含有量の比Ａ／Ｃは、１０以下が好ましく、７以下がより好ましく、５以下が更に好ましい、＜２１＞から＜２４＞のいずれかに記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
＜２６＞　洗浄剤組成物の洗浄時における成分Ｄの含有量は、７０質量％以上が好ましく、８０質量％以上がより好ましく、８５質量％以上が更に好ましい、＜１＞から＜２５＞のいずれかに記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
＜２７＞　洗浄剤組成物の洗浄時における成分Ｄの含有量は、９９質量％以下が好ましく、９７質量％以下がより好ましく、９５質量％以下が更に好ましい、＜１＞から＜２６＞のいずれかに記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
＜２８＞　＜１＞から＜２７＞のいずれかに記載の洗浄剤組成物を用いて被洗浄物を洗浄する工程を含み、前記被洗浄物は、スクリーン印刷後のスクリーン版である、スクリーン版の洗浄方法。
＜２９＞　前記洗浄後のスクリーン版を濯がずに乾燥する工程を含む、＜２８＞に記載のスクリーン版の洗浄方法。
＜３０＞　＜１＞から＜２７＞のいずれかに記載の洗浄剤組成物を製造するためのキットであって、成分Ａ、成分Ｂ及び成分Ｄのうちの少なくとも１成分が他の成分と混合されない状態で保管されているキット。
＜３１＞　スクリーン印刷後のスクリーン版を洗浄するための、＜１＞から＜２７＞のいずれかに記載の洗浄剤組成物の使用。
＜３２＞　フラックス及び半田ペーストの少なくとも一方をスクリーン版から除去するための、＜１＞から＜２７＞のいずれかに記載の洗浄剤組成物の使用。
　以下に、実施例により本開示を具体的に説明するが、本開示はこれらの実施例によって何ら限定されるものではない。
１．洗浄剤組成物の調製（実施例１～２６及び比較例１～４）
　下記表１に記載の組成及び含有量（質量％、有効分）となるように各成分を配合し、実施例１～２６及び比較例１～４の洗浄剤組成物を得た。ｐＨは、２５℃における洗浄剤組成物のｐＨであり、ｐＨメータ（東亜電波工業株式会社、ＨＭ－３０Ｇ）を用いて測定し、電極を洗浄剤組成物に浸漬して４０分後の数値である。
　洗浄剤組成物の成分として下記のものを使用した。
＜成分Ａ：アミン＞
・ｎ－ヘキシルアミン（和光純薬工業株式会社製）
・ｎ－オクチルアミン（東京化成工業株式会社製）
・ｎ－ドデシルアミン（東京化成工業株式会社製、ドデシルアミン）
・ｎ－ステアリルアミン（東京化成工業株式会社製、ステアリルアミン）
・Ｎ－メチルヘキシルアミン（和光純薬工業株式会社製）
・Ｎ，Ｎ－ジメチルヘキシルアミン（和光純薬工業株式会社製）
＜非成分Ａ：アミン＞
・ｎ－ブチルアミン（和光純薬工業株式会社製）
・ポリオキシエチレン（２モル）ラウリルアミン（青木油脂工業株式会社製、ＢＬＡＵＮＯＮ　Ｌ－２０２）
＜成分Ｂ：溶剤（グリコールエーテル）＞
・エチレングリコールモノ２－エチルヘキシルエーテル［日本乳化剤株式会社製、２エチルヘキシルグリコール（ＥＨＧ）］
・ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル［日本乳化剤株式会社製、ヘキシルジグリコール（ＨｅＤＧ）］
・フェノキシプロパノール（プロピレングリコールモノフェニルエーテル）［日本乳化剤株式会社製、フェニルプロピレングリコール（ＰｈＦＧ）］
・エチレングリコールモノヘキシルエーテル［日本乳化剤株式会社製、ヘキシルグリコール（ＨｅＧ）］
・ジエチレングリコールモノ２－エチルヘキシルエーテル［日本乳化剤株式会社製、２エチルヘキシルジグリコール（ＥＨＤＧ）］
・ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル［日本乳化剤株式会社製、プロピルプロピレンジグリコール（ＰＦＤＧ）］
＜非成分Ｂ：溶剤＞
・ジエチレングリコールモノブチルエーテル［日本乳化剤株式会社製、ブチルジグリコール（ＢＤＧ）］
＜成分Ｃ：酸＞
・酢酸（関東化学株式会社製、鹿１級）
・ｐ－トルエンスルホン酸（和光純薬工業株式会社製、ｐ－トルエンスルホン酸一水和物）
・１－ヒドロキシエチリデン－１、１－ジホスホン酸（Italmatch Chemicals社製、デイクエスト２０１０、６０％水溶液）
・ギ酸（株式会社朝日化学工業所製、ギ酸８８％）
・２－エチルヘキサン酸（和光純薬工業株式会社製）
・クエン酸［和光純薬工業株式会社製、くえん酸（無水）］
＜成分Ｄ：水＞
・オルガノ株式会社製の純水装置Ｇ－１０ＤＳＴＳＥＴで製造した１μＳ/ｃｍ以下の純水
＜その他＞
・水酸化カリウム（関東化学株式会社製、鹿特級、固形分４８質量％）
［アミン及び溶剤の水に対する溶解度］
　１Ｌガラスビーカーに水を５００ｇ加え、回転子（フッ素樹脂（ＰＴＦＥ）、φ8ｍｍ×５０ｍｍ）を用い、回転数１００ｒｐｍで攪拌しながら、２５℃の恒温槽にて保温する。各種アミン又は溶剤を０．１ｇ添加し、目視にて均一透明な状態を確認する。均一透明でなくなるまで各種アミン又は溶剤を０．１ｇずつ追加で添加し、水への溶解度を測定する。
　ここで、アミン又は溶剤を５０ｇ添加しても均一透明の場合、その時点で測定を終了し、２５℃の水１００ｇに対する溶解度は１０ｇ以上と判断する。アミン又は溶剤を０．１ｇ添加したときに均一透明ではない場合、２５℃の水１００ｇに対する溶解度は０．０２ｇ未満と判断する。
２．洗浄剤組成物の評価
　調製した実施例１～２６及び比較例１～４の洗浄剤組成物を用いて下記の評価を行った。
[安定性]
　１００ｍＬガラスビーカーに各洗浄剤組成物を１００ｇ調製し、温度２５℃において回転子（フッ素樹脂（ＰＴＦＥ）、φ8ｍｍ×２５ｍｍ）を用い、回転数１００ｒｐｍにおける撹拌中の液の状態を目視観察し、下記の評価基準で安定性を評価する。その結果を表１に示す。相分離が確認されなかった場合は、安定性に優れると評価できる。
<評価基準>
Ａ：相分離なし
Ｂ：相分離
[洗浄性試験方法]
　ステンレス製金網（綾畳織、５００メッシュ）にフラックス(ＭＢ－Ｔ１００、千住金属工業株式会社製)を塗布し、ステンレス製金網の開口部をフラックスで満たし、余分なフラックスをスキージで除去後、２４時間、室温で放置し、２０ｍｍ×２０ｍｍに切断して評価用テストピースを作製する。このテストピースを用いて洗浄剤組成物の洗浄性を以下の手順で評価する。
　１００ｍＬガラスビーカーに各洗浄剤組成物を５０ｇ添加し、２５℃水浴に保温する。次に、テストピースをピンセットで保持して、洗浄剤組成物に浸漬し、超音波（１０４ｋＨｚ、５０Ｗ）を１５分間照射する。洗浄後、テストピースを濯がずに、６０℃の熱風にて１５分間乾燥する。
［洗浄性の評価方法］
　光学顕微鏡　デジタルマイクロスコープＶＨＸ－２０００（株式会社キーエンス製）を用いて、乾燥後のテストピースのメッシュ開口部にフラックス残渣の有無を目視確認し、フラックス残渣が残る開口部の残渣率を下記の計算式により算出して、洗浄性を評価する。結果を表１に示す。値が小さいほど、洗浄性に優れると評価できる。
残渣率（％）＝残渣のある開口部数÷全体の開口部数×１００
［液切れ性評価］
　ニッケル板(５０ｍｍ×２５ｍｍ×０．５ｍｍ、太佑機材株式会社製)をテストピースとし、垂直（５０ｍｍを高さ方向とする）に直立させ、洗浄剤組成物を垂直面上端に０．０４ｍＬ滴下して、下端までの到達時間を計測し、液切れ性を評価する。結果を表１に示す。値が小さいほど、液切れ性に優れ、乾燥が素早いと評価できる。
［抑泡性］
　各洗浄剤組成物を１１０ｍＬのスクリュー管瓶に５０ｇ添加し、２５℃に保温し、３０回上下に振り、静置して１０秒後の泡高さを計測し、抑泡性を評価する。結果を表１に示す。値が小さいほど、泡立ちの抑制効果が高いと評価できる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
　上記表１に示すとおり、所定のアミン（成分Ａ）、所定の溶剤（成分Ｂ）及び水（成分Ｄ）を含有する実施例１～２６の洗浄剤組成物は、比較例１～４の洗浄剤組成物に比べて、洗浄性及び液切れ性に優れていた。
　本開示の洗浄剤組成物は、スクリーン印刷後のスクリーン版用の洗浄剤組成物として有用であり、洗浄及び乾燥にかかる時間を短縮して、清浄度の高いスクリーン版を効率よく得ることができ、さらに、高品質なプリント基板やセラミック基板等の電子部品の生産効率を向上できる。

Claims (10)

  1. 　２５℃の水１００ｇに対する溶解度が１０ｇ未満であるアミン（成分Ａ）又はその塩、２５℃の水１００ｇに対する溶解度が０．０２ｇ以上１０ｇ未満である溶剤（成分Ｂ）、及び水を含み、
    　前記成分Ａが、炭素数が６以上２６以下の、１級アミン、２級アミン及び３級アミンから選ばれる少なくとも１種である、スクリーン版用洗浄剤組成物。
  2. 　ｐＨが５以上１２以下である、請求項１記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
  3. 　成分Ａが、下記式（Ｉ）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種である、請求項１又は２に記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
     　上記式（Ｉ）において、Ｒ1は、炭素数５以上１８以下の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、及び炭素数５以上１８以下の直鎖又は分岐鎖のアルケニル基から選ばれる少なくとも１種を示し、Ｒ2及びＲ3は同一又は異なり、炭素数１以上５以下の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、及び水素原子から選ばれる少なくとも１種を示し、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3の合計炭素数が６以上２６以下である。
  4. 　成分Ａの塩が、前記式（Ｉ）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物と、カルボキシ基、スルホン酸基、硫酸基及びリン酸基から選ばれる少なくとも１種の基を１～３個有する炭素数２以上１２以下の化合物並びにギ酸から選ばれる少なくとも１種の化合物との塩である、請求項３に記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
  5. 　成分Ｂが、下記式（ＩＩ）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物である、請求項１から４のいずれかに記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
    Ｒ4Ｏ－（ＥＯ）m（ＰＯ）n－Ｈ　　　（ＩＩ）
    　上記式（ＩＩ）において、Ｒ4は、炭素数３以上１２以下の炭化水素基を示し、ＥＯはエチレンオキシド基を示し、ｍはＥＯの付加モル数であって０以上５以下の数であり、ＰＯはプロピレンオキシド基を示し、ｎはＰＯの付加モル数であって０以上２以下の数であり、ｍ＋ｎ≧１であり、ＥＯとＰＯの付加形態はブロックでもランダムでもよく、ＥＯとＰＯの付加順序は問わない。
  6. 　カルボキシ基、スルホン酸基、硫酸基及びリン酸基から選ばれる少なくとも１種の基を１～３個有する炭素数２以上１２以下の化合物並びにギ酸から選ばれる少なくとも１種の酸（成分Ｃ）がさらに配合された、請求項１から５のいずれかに記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
  7. 　請求項１から６のいずれかに記載の洗浄剤組成物を用いて被洗浄物を洗浄する工程を含み、
    　前記被洗浄物は、スクリーン印刷後のスクリーン版である、スクリーン版の洗浄方法。
  8. 　前記洗浄後のスクリーン版を濯がずに乾燥する工程を含む、請求項７に記載のスクリーン版の洗浄方法。
  9. 　スクリーン印刷後のスクリーン版を洗浄するための、請求項１から６のいずれかに記載の洗浄剤組成物の使用。
  10. 　フラックス及び半田ペーストの少なくとも一方をスクリーン版から除去するための、請求項１から６のいずれかに記載の洗浄剤組成物の使用。
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