JP2000267293A - スクリーン版洗浄用組成物 - Google Patents

スクリーン版洗浄用組成物

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JP2000267293A
JP2000267293A JP6839599A JP6839599A JP2000267293A JP 2000267293 A JP2000267293 A JP 2000267293A JP 6839599 A JP6839599 A JP 6839599A JP 6839599 A JP6839599 A JP 6839599A JP 2000267293 A JP2000267293 A JP 2000267293A
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ether
glycol
hydrophilic
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screen plate
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Shiyouji Matsumoto
省慈 松本
Hiroshi Kobayashi
博司 小林
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Asahi Chemical Industry Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 インキ等に対し高い洗浄力を有し、乳剤や版
の材質に対するダメージが抑制され、引火の危険性が低
いスクリーン版用洗浄用組成物を提供する。 【解決手段】 低沸点の親水性グリコールエーテルモノ
アルキルエーテル、高沸点の親水性グリコールエーテル
モノアルキルエーテルおよび水を含有するスクリーン版
洗浄用組成物。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、乳剤によってパタ
ーン形成されたスクリーン版に付着したインキやペース
ト等を洗浄するのに好適な洗浄用組成物に関するもので
ある。
【0002】
【従来の技術】近年、スクリーン印刷法が電子工業分野
をはじめとして広く活用されている。これは絹、ナイロ
ン、テトロン(登録商標)などの繊維、あるいはステン
レスの針金などで織った布地(スクリーン)を枠に張っ
て四周を固定し、その上にポリビニルアルコール、酢酸
ビニルエマルジョン、アクリルモノマー等の主剤とジア
ゾニウム塩類や重クロム酸塩等の感光剤を攪拌混合した
ものを塗布し、光化学的方法で乳剤膜を作って必要な画
線以外の目をふさぎ、パターンを形成したスクリーン
と、スキージと呼ばれるウレタン製ゴムを取り付けた道
具を使い、印刷を行なうものである。印刷を終えたスク
リーンとスキージは保管または再使用のため、スクリー
ンおよびスキージに付着、残留したインキ、ペーストを
洗浄、除去する必要がある。
【0003】これらの洗浄、除去には、不燃性で毒性が
低く、優れた溶解性を示す等、多くの特徴を有すること
から、1,1,1−トリクロロエタン等の塩素系有機溶
剤が広く使われてきたが、これら塩素系溶剤はオゾン層
破壊等の地球環境汚染問題が指摘され、近年では安全で
環境への影響の少ない非ハロゲン系の代替洗浄剤とし
て、特公平8−26350号公報、特開平7−1266
95号公報、特開平8−158081号公報、特開平9
−194892号公報、特開平10−10744号公報
等のグリコールエーテル系溶剤を組み合わせた洗浄剤の
技術が開発されている。
【0004】しかし、特公平8−26350号公報には
グリコールエーテルモノアルキルエーテルとグリコール
エーテルジアルキルエーテルと水を併用した超音波洗浄
用スクリーン版洗浄剤が提案されているが、グリコール
エーテルジアルキルエーテルと水の併用はパターン形成
に使用されている乳剤へのダメージが大きく実用上問題
が多い。また、特開平7−126695号公報には水へ
の溶解性が異なる2種のグリコールエーテルと水を併用
したハンダペースト洗浄剤が提案されている。この洗浄
剤はハンダペーストの印刷に使用されるステンレス製の
メタルマスクスクリーンの洗浄を目的としているが、水
の添加量が多いためにハンダペースト以外のペーストや
インキに対する溶解性が低く、しかも、パターン形成に
乳剤を使用したスクリーン版の洗浄では乳剤へのダメー
ジが大きい。また、特開平8−158081号公報には
ジプロピレングリコールモノプロピルエーテルとジプロ
ピレングリコールモノメチルエーテルと水の併用につい
ての記載はあるが、極性の低い脱脂洗浄剤としての記載
であり、極性の高いインキ洗浄性についての記載が全く
ない。また、特開平9−194892号公報ではインキ
洗浄剤としての記載があるが、2種以上親水性グリコー
ルエーテルの併用についての記載がない上に、スクリー
ン洗浄剤としてはパターン形成に使用される乳剤等への
ダメージが大きく、インキ洗浄剤として使用できても、
スクリーン版洗浄剤として実用上問題がある。また、特
開平10−10744号公報には、グリコールエーテル
とグリコールエーテルアセテートと水の併用についの記
載があるが、2種以上の親水性グリコールエーテルの併
用についての記載が全くない。
【0005】以上のごとく、これまで提案されてきた組
成物ではインキ洗浄が可能であっても毒性の問題や乳剤
によりパターン形成されたスクリーン版へのダメージが
大きく使用できなかったり、インキ洗浄に全く使用され
ていないのが現状である。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、各種イン
キ、ペーストに対し高い洗浄力を有すると共に多種類の
インキを洗浄しうる広範囲な洗浄性を示し、かつ、乳剤
の膨潤、乳剤膜表面の白化、スクリーンメッシュと乳剤
膜の密着性低下等の乳剤ダメージ等のスクリーン材質に
対するダメージおよび洗浄用組成物の使用中の性能低下
を抑制した上で、引火の危険性が低く、オゾン層破壊の
恐れがないスクリーン版用洗浄用組成物を提供すること
を課題とする。
【0007】
【課題を達成するための手段】本発明者は、上記課題を
達成するため鋭意検討を重ねた結果、沸点で区別される
2種類以上の親水性グリコールエーテルモノアルキルエ
ーテルを水と併用する事により、水添加による溶解性低
下及び乳剤へのダメージを抑制できる事を見出し、本発
明を完成した。
【0008】すなわち、発明の第一は、(a)低沸点の
親水性グリコールエーテルモノアルキルエーテル、
(b)高沸点の親水性グリコールエーテルモノアルキル
エーテルおよび(c)水を含有するスクリーン版洗浄用
組成物である。発明の第二は、(a)低沸点の親水性グ
リコールエーテルモノアルキルエーテルが低沸点の親水
性プロピレングリコールモノアルキルエーテルであり、
および/または、(b)高沸点の親水性グリコールエー
テルモノアルキルエーテルが高沸点の親水性プロピレン
グリコールモノアルキルエーテルである発明の第一また
は二に記載のスクリーン版洗浄用組成物である。
【0009】発明の第三は、(a)低沸点の親水性グリ
コールエーテルモノアルキルエーテルがジプロピレング
リコールモノメチルエーテルである発明の第一または二
に記載のスクリーン版洗浄用組成物である。発明の第四
は、二塩基酸エステル、3−メチル−3−メトキシブチ
ルアセテート及びグリコールエーテルアセテートからな
る群から選ばれる少なくとも一種以上を含む発明の第一
ないし三に記載のスクリーン版洗浄用組成物である。
【0010】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の
組成物は、引火点消去を目的として水を含むことを要す
る。また、本発明の組成物は、沸点で区別される二種類
以上の親水性グリコールエーテルモノアルキルエーテル
を含むことを要する。一種類の親水性グリコールエーテ
ルモノアルキルエーテルを使用するだけでは、引火点消
去を目的に添加した水により、インキ等の溶解力が低下
し、乳剤に対するダメージが増加することがある。それ
に対して、沸点で区別される、すなわち低沸点の親水性
グリコールエーテルモノアルキルエーテルと高沸点の親
水性グリコールエーテルモノアルキルエーテルとを併用
することによって、理由は不明であるが、優れたインキ
溶解性を維持したまま乳剤に対するダメージを低減でき
る。
【0011】ここで、本発明の組成物に使用する親水性
グリコールエーテルモノアルキルエーテルとは、30℃
において、水に無限大に溶解し、かつ、水が無限大に溶
解できるグリコールエーテルモノアルキルエーテルを言
う。好ましくは、下記一般式(1)で表されるものであ
る。 R1O−(R2O)n−H (1) (式中、R1 は炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル
基またはシクロアルキル基、R2 は炭素数2〜5のアル
キレン基、nは1〜4の整数を示す) 低沸点の親水性グリコールエーテルモノアルキルエーテ
ルは、もう一方の親水性グリコールエーテルモノアルキ
ルエーテルの沸点と対比して相対的に低沸点であればよ
いが、好ましくは、1気圧における沸点が200℃未満
の親水性グリコールエーテルモノアルキルエーテルであ
る。特に、人体における代謝系で毒性の指摘されている
アルコキシ酢酸を生成しないプロピレングリコールモノ
アルキルエーテルが好適である。
【0012】1気圧における沸点が200℃未満の親水
性グリコールエーテルモノアルキルエーテルの具体例と
しては、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、プ
ロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレン
グリコールモノメチルエーテルが挙げられ、特にジプロ
ピレングリコールモノメチルエーテルが好適である。
【0013】高沸点の親水性グリコールエーテルモノア
ルキルエーテルは、もう一方の親水性グリコールエーテ
ルモノアルキルエーテルの沸点と対比して相対的に高沸
点で有ればよいが、好ましくは、1気圧における沸点が
200℃以上の親水性グリコールエーテルモノアルキル
エーテルである。特に、人体における代謝系で毒性の指
摘されているアルコキシ酢酸を生成しないプロピレング
リコールモノアルキルエーテルが好適である。
【0014】1気圧における沸点が200℃以上の親水
性グリコールエーテルモノアルキルエーテルの具体例と
しては、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジ
エチレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、ジエ
チレングリコールモノ−i−プロピルエーテル、ジエチ
レングリコールモノ−n−ブチルエーテル、ジエチレン
グリコールモノ−i−ブチルエーテル、ジエチレングリ
コールモノ−sec−ブチルエーテル、ジエチレングリ
コールモノ−t−ブチルエーテル、トリプロピレングリ
コールモノメチルエーテル等が挙げられる。特にトリプ
ロピレングリコールモノメチルエーテルが好適である。
【0015】本発明の洗浄用組成物には二塩基酸エステ
ルを使用できる。二塩基酸エステルと親水性グリコール
エーテルモノアルキルエーテルの相乗効果により、乳剤
へのダメージを抑制したまま多種類のインキ洗浄性を高
めることができる。二塩基酸エステルとしては、コハク
酸、グルタル酸およびアジピン酸のジアルキルエステル
またはそれらの混合物が好適である。これらのアルキル
基の具体例としては、メチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、ブチル、イソブチル、sec−ブチル、t−
ブチル、ペンチル、ヘキシル、シクロヘキシル等が挙げ
られる。
【0016】本発明の洗浄用組成物には3−メトキシ−
3−ブチルアセテートを使用できる。本発明の洗浄用組
成物にはグリコールエーテルアセテートを使用できる。
グリコールエーテルアセテートとしては、下記一般式
(2)で表される化合物を挙げることができる。
【0017】
【化1】
【0018】(式中、R4 は炭素数1〜6のアルキル
基、アルケニル基又はシクロアルキル基、R5 は炭素数
2〜5のアルキレン基、mは1〜4の整数を示す) 具体的には、エチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、
ジプロピレングリコールおよびトリプロピレングリコー
ル等のモノアルキルエーテルのアセテートまたはモノア
ルケニルエーテルのアセテート、3−メトキシ−1−ブ
チルアセテート等があげられる。
【0019】本発明の洗浄用組成物には、これら使用し
ても良い成分の中から1種又は2種以上を組み合わせて
使用することができる。特に人体における代謝系で毒性
の指摘されているアルコキシ酢酸を生成しないプロピレ
ングリコールモノアルキルエーテルアセテートが好適で
あり、さらにジプロピレングリコールモノメチルエーテ
ルアセテートが好適である。
【0020】次に、各成分の割合は、(a)低沸点の親
水性グリコールエーテルモノアルキルエーテルおよび
(b)高沸点の親水性グリコールエーテルモノアルキル
エーテルの合計が、組成物に対して70〜95重量%で
あることが好ましく、さらに好ましくは85〜95重量
%である。配合量が70重量%以下ではインキおよびペ
ーストに対する溶解性が低下し、95重量%を越えると
引火点の低い組成物になってしまう。
【0021】また、(a)低沸点の親水性グリコールエ
ーテルモノアルキルエーテルと(b)高沸点の親水性グ
リコールエーテルモノアルキルエーテルの使用重量割合
は、(a)/(b)が、20/80〜80/20である
ことが好ましく、さらに好ましくは40/60〜60/
40である。この重量割合が20/80より小さいとス
クリーンの乾燥性が低下し、80/20を越えると引火
点を消去するための水添加量が多くなりインキおよびペ
ースト溶解性が低下する。
【0022】(c)水の添加量は、組成物に対して5〜
30重量%が好ましく、さらに好ましくは5〜15重量
%である。これにより引火点消去できるとともに、イン
キ及びペースト溶解性を維持し、かつ乳剤に対するダメ
ージが抑制できる。特に乳剤パターンの寸法変化を極限
まで抑制する必要のあるプラズマディスプレイパネル製
造に使用するスクリーン版の洗浄に好適である。
【0023】二塩基酸エステル、3−メチル−3−メト
キシブチルアセテート及びグリコールエーテルアセテー
トからなる群から選ばれる少なくとも一種以上を添加す
る場合には(以下、組成物に対するこの添加量を(d)
とする。)、((a)+(b))/(d)の重量割合が
50/50〜90/10であることが好ましい。
((a)+(b))/(d)の重量割合が50/50よ
り小さいと洗浄用組成物が相分離する可能性が高くな
り、90/10を越えるとインキおよびペースト溶解力
改善効果が低下する。また、(a)+(b)+(d)の
合計は洗浄用組成物に対して70〜95重量%であるこ
とが好ましく、さらに好ましくは85〜95重量%であ
る。
【0024】本発明の組成物には、他の種類のエステ
ル、各種インキ及びペーストの溶解力改良剤、エステル
の加水分解防止剤、グリコールエーテルの酸化防止剤、
水リンス性改良剤および消泡剤等を必要に応じて添加し
ても良い。以下に本発明の組成物に添加できる添加剤の
具体例を例示する。溶解力改良剤として、シリコン系イ
ンキに対しては、直鎖または分岐の脂肪族炭化水素、脂
環式炭化水素、オレフィン系炭化水素等の炭化水素を添
加しても良い。炭化水素の具体例としては、デカン、ウ
ンデカン、ドデカン、トリデカン、テトラデカン、メン
タン、シクロドデカン、α−ピネン、ジペンテン、1−
デセン、1−ウンデセン、1−ドデセン、1−トリデセ
ン、1−テトラデセン等が挙げられる。
【0025】エステルの加水分解防止剤としては、エポ
キシ化合物および/またはカルボジイミド化合物を添加
しても良い。エポキシ化合物としては、1分子内にエポ
キシ基を1つ以上有する化合物であり、具体的には、
1,2−ブチレンオキサイド、1,2−エポキシオクタ
ン、1,2−エポキシテトラデカン、シクロヘキセンオ
キサイド、1,2−エポキシシクロドデカン、ブタジエ
ンジオキサイド、メチルグリシジルエーテル、ブチルグ
リシジルエーテル、2−エチルヘキシルグリシジルエー
テル、デシルグリシジルエーテル、ステアリルグリシジ
ルエーテル、アリルグリシジルエーテル、フェニルグリ
シジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエー
テル及びエポキシ基を含む樹脂等が挙げられる。カルボ
ジイミド化合物としては、ジシクロヘキシルカルボジイ
ミド、ジフェニルカルボジイミド、ジブチルフェニルカ
ルボジイミド、ジトリルカルボジイミド、ジナフチルカ
ルボジイミド等が挙げられる。
【0026】グリコールエーテルの酸化防止剤として
は、2、6−t−ブチル−4−メチルフェノール等のフ
ェノール系酸化防止剤等が挙げられる。水リンス性改良
剤としては、アニオンまたはノニオン系界面活性剤を添
加しても良い。アニオン系界面活性剤としては、炭素数
が6〜20の脂肪酸、ドデシルベンゼンスルホン酸等の
アルカリ金属、アルカノールアミンおよびアミン塩等が
挙げられる。ノニオン系界面活性剤としては、アルキル
フェノール、炭素数が8〜18の直鎖または分岐の脂肪
族アルコールのエチレンオキサイド付加物、ポリエチレ
ンオキサイドポリプロピレンオキサイドのブロックポリ
マー等が挙げられる。
【0027】消泡剤としては、自己乳化シリコーン、シ
リコン、脂肪酸、高級アルコール、ポリプロピレングリ
コールポリエチレングリコールおよびフッ素系界面活性
剤等が挙げられる。本発明の組成物は、各成分を定法に
従って混合し均一化して得られる。
【0028】
【発明の実施の形態】以下、実施例により本発明を具体
的に説明する。なお、組成物の各種物性は以下のように
して測定、評価した。 (1)引火点 JIS K 2265に従い、クリーブランド開放式で
引火点の測定を行った。評価は以下の基準による。
【0029】○:引火点なし ×:引火点あり (2)溶解性 各種インキ(熱硬化型マーキングインキ(太陽インキ
(株)社製、商品名:S100Y)、熱硬化型レジスト
インキ(アサヒ化研(株)社製、商品名:CCR23
2)、UV硬化型エッチングレジスト(互応化学(株)
社製、商品名:PER158B)、UV硬化型ソルダー
レジスト(タムラ化研(株)社製、商品名:USR2
G))を各々ガラス製シャーレに約0.2g塗布し、6
0分間室温で放置後、シャーレに洗浄用組成物10cc
を入れ揺動(50回/分)し、インキまたはペーストが
溶解するまでの時間を測定した。評価は以下の基準によ
る。
【0030】 A:2分未満 B:2分以上〜4分未満 C:4分以上〜6分未満 D:6分以上 (3)乳剤に対する影響 各種乳剤(ジアゾ系乳剤(メッシュ工業(株)製、商品
名:メッシュコートNo.1)、ジアゾラジカル系乳剤
(メッシュ工業(株)製、商品名:メッシュコートN
o.7)、樹脂系乳剤(メッシュ工業(株)製、商品
名:メッシュコートNo.5)で各々パターンの形成さ
れているポリエステル製スクリーンを小型超音波洗浄機
(47kHz、60w)を使い、30℃、5分間の条件
で洗浄した。評価は以下の基準による。
【0031】 ○:変化なし △:表面が若干白化 ×:表面が白化又は膨潤
【0032】
【実施例1〜5】表1に記載の組成で各成分を混合し、
目的の洗浄用組成物を得た。各洗浄用組成物について、
洗浄性試験、乳剤に対する影響の試験を行ない、結果を
表1にまとめた。ジプロピレングリコールモノメチルエ
ーテルとトリプロピレングリコールモノメチルエーテル
と水により引火点を消去した上で、優れたインキ溶解性
と乳剤に対する影響の少ない組成となり、さらに二塩基
酸エステル等を添加することによって溶解性が格段に改
善された。
【0033】
【比較例1】表2に記載の組成で各成分を混合し洗浄用
組成物を得た。この洗浄用組成物について実施例と同じ
評価試験を行った。結果を表2にまとめた。ジアゾ系乳
剤への影響が見られ、引火点も消去できなかった。
【0034】
【比較例2】表2に記載の組成で各成分を混合し洗浄剤
を得た。この洗浄剤について実施例と同じ評価試験を行
った。結果を表2にまとめた。引火点は消去できたがイ
ンキ洗浄力が低下し、乳剤へのダメージも生じた。
【0035】
【比較例3】表2に記載の組成で各成分を混合し洗浄剤
を得た。この洗浄剤について実施例と同じ評価試験を行
った。結果を表2にまとめた。インキおよびペーストに
対する溶解性が不十分であった。
【0036】
【比較例4】表2に記載の組成で各成分を混合し洗浄用
組成物を得た。この洗浄用組成物について実施例と同じ
評価試験を行った。結果を表2にまとめた。乳剤に対す
るダメージが大きく、かつ、引火点が確認された。
【0037】
【比較例5〜6】表2に記載の組成で各成分を混合し洗
浄用組成物を得た。この洗浄用組成物について実施例と
同じ評価試験を行った。結果を表2にまとめた。乳剤に
対するダメージが大きく、かつ、引火点が確認された。
【0038】
【表1】
【0039】
【表2】
【0040】
【発明の効果】優れたインキ洗浄力を有するとともに、
スクリーン版材質に対するダメージを低く抑制でき、か
つ引火点がなく安全である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C23G 5/02 C23G 5/02 G03F 7/32 501 G03F 7/32 501 Fターム(参考) 2H096 AA00 AA19 GA17 LA30 2H114 AB01 DA25 GA27 4H003 BA12 DA12 DB03 EB06 EB09 EB34 ED02 ED29 FA01 FA15 FA16 4K053 PA13 QA07 RA08 RA12 RA31 RA40 RA41 RA52 RA55 RA63 RA64 TA13

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (a)低沸点の親水性グリコールエーテ
    ルモノアルキルエーテル、(b)高沸点の親水性グリコ
    ールエーテルモノアルキルエーテルおよび(c)水を含
    有するスクリーン版洗浄用組成物。
  2. 【請求項2】 (a)低沸点の親水性グリコールエーテ
    ルモノアルキルエーテルが低沸点の親水性プロピレング
    リコールモノアルキルエーテルであり、および/また
    は、(b)高沸点の親水性グリコールエーテルモノアル
    キルエーテルが高沸点の親水性プロピレングリコールモ
    ノアルキルエーテルである請求項1に記載のスクリーン
    版洗浄用組成物。
  3. 【請求項3】 (a)低沸点の親水性グリコールエーテ
    ルモノアルキルエーテルがジプロピレングリコールモノ
    メチルエーテルである請求項1または2に記載のスクリ
    ーン版洗浄用組成物。
  4. 【請求項4】 二塩基酸エステル、3−メチル−3−メ
    トキシブチルアセテート及びグリコールエーテルアセテ
    ートからなる群から選ばれる少なくとも一種以上を含む
    請求項1ないし3に記載のスクリーン版洗浄用組成物。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014019810A (ja) * 2012-07-19 2014-02-03 Asahi Kasei Chemicals Corp 洗浄剤及び洗浄方法
KR20190025667A (ko) 2016-08-01 2019-03-11 카오카부시키가이샤 스크린판용 세정제 조성물

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014019810A (ja) * 2012-07-19 2014-02-03 Asahi Kasei Chemicals Corp 洗浄剤及び洗浄方法
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