JP2000267293A - スクリーン版洗浄用組成物 - Google Patents
スクリーン版洗浄用組成物Info
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- JP2000267293A JP2000267293A JP6839599A JP6839599A JP2000267293A JP 2000267293 A JP2000267293 A JP 2000267293A JP 6839599 A JP6839599 A JP 6839599A JP 6839599 A JP6839599 A JP 6839599A JP 2000267293 A JP2000267293 A JP 2000267293A
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- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
Abstract
の材質に対するダメージが抑制され、引火の危険性が低
いスクリーン版用洗浄用組成物を提供する。 【解決手段】 低沸点の親水性グリコールエーテルモノ
アルキルエーテル、高沸点の親水性グリコールエーテル
モノアルキルエーテルおよび水を含有するスクリーン版
洗浄用組成物。
Description
ーン形成されたスクリーン版に付着したインキやペース
ト等を洗浄するのに好適な洗浄用組成物に関するもので
ある。
をはじめとして広く活用されている。これは絹、ナイロ
ン、テトロン(登録商標)などの繊維、あるいはステン
レスの針金などで織った布地(スクリーン)を枠に張っ
て四周を固定し、その上にポリビニルアルコール、酢酸
ビニルエマルジョン、アクリルモノマー等の主剤とジア
ゾニウム塩類や重クロム酸塩等の感光剤を攪拌混合した
ものを塗布し、光化学的方法で乳剤膜を作って必要な画
線以外の目をふさぎ、パターンを形成したスクリーン
と、スキージと呼ばれるウレタン製ゴムを取り付けた道
具を使い、印刷を行なうものである。印刷を終えたスク
リーンとスキージは保管または再使用のため、スクリー
ンおよびスキージに付着、残留したインキ、ペーストを
洗浄、除去する必要がある。
低く、優れた溶解性を示す等、多くの特徴を有すること
から、1,1,1−トリクロロエタン等の塩素系有機溶
剤が広く使われてきたが、これら塩素系溶剤はオゾン層
破壊等の地球環境汚染問題が指摘され、近年では安全で
環境への影響の少ない非ハロゲン系の代替洗浄剤とし
て、特公平8−26350号公報、特開平7−1266
95号公報、特開平8−158081号公報、特開平9
−194892号公報、特開平10−10744号公報
等のグリコールエーテル系溶剤を組み合わせた洗浄剤の
技術が開発されている。
グリコールエーテルモノアルキルエーテルとグリコール
エーテルジアルキルエーテルと水を併用した超音波洗浄
用スクリーン版洗浄剤が提案されているが、グリコール
エーテルジアルキルエーテルと水の併用はパターン形成
に使用されている乳剤へのダメージが大きく実用上問題
が多い。また、特開平7−126695号公報には水へ
の溶解性が異なる2種のグリコールエーテルと水を併用
したハンダペースト洗浄剤が提案されている。この洗浄
剤はハンダペーストの印刷に使用されるステンレス製の
メタルマスクスクリーンの洗浄を目的としているが、水
の添加量が多いためにハンダペースト以外のペーストや
インキに対する溶解性が低く、しかも、パターン形成に
乳剤を使用したスクリーン版の洗浄では乳剤へのダメー
ジが大きい。また、特開平8−158081号公報には
ジプロピレングリコールモノプロピルエーテルとジプロ
ピレングリコールモノメチルエーテルと水の併用につい
ての記載はあるが、極性の低い脱脂洗浄剤としての記載
であり、極性の高いインキ洗浄性についての記載が全く
ない。また、特開平9−194892号公報ではインキ
洗浄剤としての記載があるが、2種以上親水性グリコー
ルエーテルの併用についての記載がない上に、スクリー
ン洗浄剤としてはパターン形成に使用される乳剤等への
ダメージが大きく、インキ洗浄剤として使用できても、
スクリーン版洗浄剤として実用上問題がある。また、特
開平10−10744号公報には、グリコールエーテル
とグリコールエーテルアセテートと水の併用についの記
載があるが、2種以上の親水性グリコールエーテルの併
用についての記載が全くない。
成物ではインキ洗浄が可能であっても毒性の問題や乳剤
によりパターン形成されたスクリーン版へのダメージが
大きく使用できなかったり、インキ洗浄に全く使用され
ていないのが現状である。
キ、ペーストに対し高い洗浄力を有すると共に多種類の
インキを洗浄しうる広範囲な洗浄性を示し、かつ、乳剤
の膨潤、乳剤膜表面の白化、スクリーンメッシュと乳剤
膜の密着性低下等の乳剤ダメージ等のスクリーン材質に
対するダメージおよび洗浄用組成物の使用中の性能低下
を抑制した上で、引火の危険性が低く、オゾン層破壊の
恐れがないスクリーン版用洗浄用組成物を提供すること
を課題とする。
達成するため鋭意検討を重ねた結果、沸点で区別される
2種類以上の親水性グリコールエーテルモノアルキルエ
ーテルを水と併用する事により、水添加による溶解性低
下及び乳剤へのダメージを抑制できる事を見出し、本発
明を完成した。
親水性グリコールエーテルモノアルキルエーテル、
(b)高沸点の親水性グリコールエーテルモノアルキル
エーテルおよび(c)水を含有するスクリーン版洗浄用
組成物である。発明の第二は、(a)低沸点の親水性グ
リコールエーテルモノアルキルエーテルが低沸点の親水
性プロピレングリコールモノアルキルエーテルであり、
および/または、(b)高沸点の親水性グリコールエー
テルモノアルキルエーテルが高沸点の親水性プロピレン
グリコールモノアルキルエーテルである発明の第一また
は二に記載のスクリーン版洗浄用組成物である。
コールエーテルモノアルキルエーテルがジプロピレング
リコールモノメチルエーテルである発明の第一または二
に記載のスクリーン版洗浄用組成物である。発明の第四
は、二塩基酸エステル、3−メチル−3−メトキシブチ
ルアセテート及びグリコールエーテルアセテートからな
る群から選ばれる少なくとも一種以上を含む発明の第一
ないし三に記載のスクリーン版洗浄用組成物である。
組成物は、引火点消去を目的として水を含むことを要す
る。また、本発明の組成物は、沸点で区別される二種類
以上の親水性グリコールエーテルモノアルキルエーテル
を含むことを要する。一種類の親水性グリコールエーテ
ルモノアルキルエーテルを使用するだけでは、引火点消
去を目的に添加した水により、インキ等の溶解力が低下
し、乳剤に対するダメージが増加することがある。それ
に対して、沸点で区別される、すなわち低沸点の親水性
グリコールエーテルモノアルキルエーテルと高沸点の親
水性グリコールエーテルモノアルキルエーテルとを併用
することによって、理由は不明であるが、優れたインキ
溶解性を維持したまま乳剤に対するダメージを低減でき
る。
グリコールエーテルモノアルキルエーテルとは、30℃
において、水に無限大に溶解し、かつ、水が無限大に溶
解できるグリコールエーテルモノアルキルエーテルを言
う。好ましくは、下記一般式(1)で表されるものであ
る。 R1O−(R2O)n−H (1) (式中、R1 は炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル
基またはシクロアルキル基、R2 は炭素数2〜5のアル
キレン基、nは1〜4の整数を示す) 低沸点の親水性グリコールエーテルモノアルキルエーテ
ルは、もう一方の親水性グリコールエーテルモノアルキ
ルエーテルの沸点と対比して相対的に低沸点であればよ
いが、好ましくは、1気圧における沸点が200℃未満
の親水性グリコールエーテルモノアルキルエーテルであ
る。特に、人体における代謝系で毒性の指摘されている
アルコキシ酢酸を生成しないプロピレングリコールモノ
アルキルエーテルが好適である。
性グリコールエーテルモノアルキルエーテルの具体例と
しては、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、プ
ロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレン
グリコールモノメチルエーテルが挙げられ、特にジプロ
ピレングリコールモノメチルエーテルが好適である。
ルキルエーテルは、もう一方の親水性グリコールエーテ
ルモノアルキルエーテルの沸点と対比して相対的に高沸
点で有ればよいが、好ましくは、1気圧における沸点が
200℃以上の親水性グリコールエーテルモノアルキル
エーテルである。特に、人体における代謝系で毒性の指
摘されているアルコキシ酢酸を生成しないプロピレング
リコールモノアルキルエーテルが好適である。
性グリコールエーテルモノアルキルエーテルの具体例と
しては、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジ
エチレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、ジエ
チレングリコールモノ−i−プロピルエーテル、ジエチ
レングリコールモノ−n−ブチルエーテル、ジエチレン
グリコールモノ−i−ブチルエーテル、ジエチレングリ
コールモノ−sec−ブチルエーテル、ジエチレングリ
コールモノ−t−ブチルエーテル、トリプロピレングリ
コールモノメチルエーテル等が挙げられる。特にトリプ
ロピレングリコールモノメチルエーテルが好適である。
ルを使用できる。二塩基酸エステルと親水性グリコール
エーテルモノアルキルエーテルの相乗効果により、乳剤
へのダメージを抑制したまま多種類のインキ洗浄性を高
めることができる。二塩基酸エステルとしては、コハク
酸、グルタル酸およびアジピン酸のジアルキルエステル
またはそれらの混合物が好適である。これらのアルキル
基の具体例としては、メチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、ブチル、イソブチル、sec−ブチル、t−
ブチル、ペンチル、ヘキシル、シクロヘキシル等が挙げ
られる。
3−ブチルアセテートを使用できる。本発明の洗浄用組
成物にはグリコールエーテルアセテートを使用できる。
グリコールエーテルアセテートとしては、下記一般式
(2)で表される化合物を挙げることができる。
基、アルケニル基又はシクロアルキル基、R5 は炭素数
2〜5のアルキレン基、mは1〜4の整数を示す) 具体的には、エチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、
ジプロピレングリコールおよびトリプロピレングリコー
ル等のモノアルキルエーテルのアセテートまたはモノア
ルケニルエーテルのアセテート、3−メトキシ−1−ブ
チルアセテート等があげられる。
ても良い成分の中から1種又は2種以上を組み合わせて
使用することができる。特に人体における代謝系で毒性
の指摘されているアルコキシ酢酸を生成しないプロピレ
ングリコールモノアルキルエーテルアセテートが好適で
あり、さらにジプロピレングリコールモノメチルエーテ
ルアセテートが好適である。
水性グリコールエーテルモノアルキルエーテルおよび
(b)高沸点の親水性グリコールエーテルモノアルキル
エーテルの合計が、組成物に対して70〜95重量%で
あることが好ましく、さらに好ましくは85〜95重量
%である。配合量が70重量%以下ではインキおよびペ
ーストに対する溶解性が低下し、95重量%を越えると
引火点の低い組成物になってしまう。
ーテルモノアルキルエーテルと(b)高沸点の親水性グ
リコールエーテルモノアルキルエーテルの使用重量割合
は、(a)/(b)が、20/80〜80/20である
ことが好ましく、さらに好ましくは40/60〜60/
40である。この重量割合が20/80より小さいとス
クリーンの乾燥性が低下し、80/20を越えると引火
点を消去するための水添加量が多くなりインキおよびペ
ースト溶解性が低下する。
30重量%が好ましく、さらに好ましくは5〜15重量
%である。これにより引火点消去できるとともに、イン
キ及びペースト溶解性を維持し、かつ乳剤に対するダメ
ージが抑制できる。特に乳剤パターンの寸法変化を極限
まで抑制する必要のあるプラズマディスプレイパネル製
造に使用するスクリーン版の洗浄に好適である。
キシブチルアセテート及びグリコールエーテルアセテー
トからなる群から選ばれる少なくとも一種以上を添加す
る場合には(以下、組成物に対するこの添加量を(d)
とする。)、((a)+(b))/(d)の重量割合が
50/50〜90/10であることが好ましい。
((a)+(b))/(d)の重量割合が50/50よ
り小さいと洗浄用組成物が相分離する可能性が高くな
り、90/10を越えるとインキおよびペースト溶解力
改善効果が低下する。また、(a)+(b)+(d)の
合計は洗浄用組成物に対して70〜95重量%であるこ
とが好ましく、さらに好ましくは85〜95重量%であ
る。
ル、各種インキ及びペーストの溶解力改良剤、エステル
の加水分解防止剤、グリコールエーテルの酸化防止剤、
水リンス性改良剤および消泡剤等を必要に応じて添加し
ても良い。以下に本発明の組成物に添加できる添加剤の
具体例を例示する。溶解力改良剤として、シリコン系イ
ンキに対しては、直鎖または分岐の脂肪族炭化水素、脂
環式炭化水素、オレフィン系炭化水素等の炭化水素を添
加しても良い。炭化水素の具体例としては、デカン、ウ
ンデカン、ドデカン、トリデカン、テトラデカン、メン
タン、シクロドデカン、α−ピネン、ジペンテン、1−
デセン、1−ウンデセン、1−ドデセン、1−トリデセ
ン、1−テトラデセン等が挙げられる。
キシ化合物および/またはカルボジイミド化合物を添加
しても良い。エポキシ化合物としては、1分子内にエポ
キシ基を1つ以上有する化合物であり、具体的には、
1,2−ブチレンオキサイド、1,2−エポキシオクタ
ン、1,2−エポキシテトラデカン、シクロヘキセンオ
キサイド、1,2−エポキシシクロドデカン、ブタジエ
ンジオキサイド、メチルグリシジルエーテル、ブチルグ
リシジルエーテル、2−エチルヘキシルグリシジルエー
テル、デシルグリシジルエーテル、ステアリルグリシジ
ルエーテル、アリルグリシジルエーテル、フェニルグリ
シジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエー
テル及びエポキシ基を含む樹脂等が挙げられる。カルボ
ジイミド化合物としては、ジシクロヘキシルカルボジイ
ミド、ジフェニルカルボジイミド、ジブチルフェニルカ
ルボジイミド、ジトリルカルボジイミド、ジナフチルカ
ルボジイミド等が挙げられる。
は、2、6−t−ブチル−4−メチルフェノール等のフ
ェノール系酸化防止剤等が挙げられる。水リンス性改良
剤としては、アニオンまたはノニオン系界面活性剤を添
加しても良い。アニオン系界面活性剤としては、炭素数
が6〜20の脂肪酸、ドデシルベンゼンスルホン酸等の
アルカリ金属、アルカノールアミンおよびアミン塩等が
挙げられる。ノニオン系界面活性剤としては、アルキル
フェノール、炭素数が8〜18の直鎖または分岐の脂肪
族アルコールのエチレンオキサイド付加物、ポリエチレ
ンオキサイドポリプロピレンオキサイドのブロックポリ
マー等が挙げられる。
リコン、脂肪酸、高級アルコール、ポリプロピレングリ
コールポリエチレングリコールおよびフッ素系界面活性
剤等が挙げられる。本発明の組成物は、各成分を定法に
従って混合し均一化して得られる。
的に説明する。なお、組成物の各種物性は以下のように
して測定、評価した。 (1)引火点 JIS K 2265に従い、クリーブランド開放式で
引火点の測定を行った。評価は以下の基準による。
(株)社製、商品名:S100Y)、熱硬化型レジスト
インキ(アサヒ化研(株)社製、商品名:CCR23
2)、UV硬化型エッチングレジスト(互応化学(株)
社製、商品名:PER158B)、UV硬化型ソルダー
レジスト(タムラ化研(株)社製、商品名:USR2
G))を各々ガラス製シャーレに約0.2g塗布し、6
0分間室温で放置後、シャーレに洗浄用組成物10cc
を入れ揺動(50回/分)し、インキまたはペーストが
溶解するまでの時間を測定した。評価は以下の基準によ
る。
名:メッシュコートNo.1)、ジアゾラジカル系乳剤
(メッシュ工業(株)製、商品名:メッシュコートN
o.7)、樹脂系乳剤(メッシュ工業(株)製、商品
名:メッシュコートNo.5)で各々パターンの形成さ
れているポリエステル製スクリーンを小型超音波洗浄機
(47kHz、60w)を使い、30℃、5分間の条件
で洗浄した。評価は以下の基準による。
目的の洗浄用組成物を得た。各洗浄用組成物について、
洗浄性試験、乳剤に対する影響の試験を行ない、結果を
表1にまとめた。ジプロピレングリコールモノメチルエ
ーテルとトリプロピレングリコールモノメチルエーテル
と水により引火点を消去した上で、優れたインキ溶解性
と乳剤に対する影響の少ない組成となり、さらに二塩基
酸エステル等を添加することによって溶解性が格段に改
善された。
組成物を得た。この洗浄用組成物について実施例と同じ
評価試験を行った。結果を表2にまとめた。ジアゾ系乳
剤への影響が見られ、引火点も消去できなかった。
を得た。この洗浄剤について実施例と同じ評価試験を行
った。結果を表2にまとめた。引火点は消去できたがイ
ンキ洗浄力が低下し、乳剤へのダメージも生じた。
を得た。この洗浄剤について実施例と同じ評価試験を行
った。結果を表2にまとめた。インキおよびペーストに
対する溶解性が不十分であった。
組成物を得た。この洗浄用組成物について実施例と同じ
評価試験を行った。結果を表2にまとめた。乳剤に対す
るダメージが大きく、かつ、引火点が確認された。
浄用組成物を得た。この洗浄用組成物について実施例と
同じ評価試験を行った。結果を表2にまとめた。乳剤に
対するダメージが大きく、かつ、引火点が確認された。
スクリーン版材質に対するダメージを低く抑制でき、か
つ引火点がなく安全である。
Claims (4)
- 【請求項1】 (a)低沸点の親水性グリコールエーテ
ルモノアルキルエーテル、(b)高沸点の親水性グリコ
ールエーテルモノアルキルエーテルおよび(c)水を含
有するスクリーン版洗浄用組成物。 - 【請求項2】 (a)低沸点の親水性グリコールエーテ
ルモノアルキルエーテルが低沸点の親水性プロピレング
リコールモノアルキルエーテルであり、および/また
は、(b)高沸点の親水性グリコールエーテルモノアル
キルエーテルが高沸点の親水性プロピレングリコールモ
ノアルキルエーテルである請求項1に記載のスクリーン
版洗浄用組成物。 - 【請求項3】 (a)低沸点の親水性グリコールエーテ
ルモノアルキルエーテルがジプロピレングリコールモノ
メチルエーテルである請求項1または2に記載のスクリ
ーン版洗浄用組成物。 - 【請求項4】 二塩基酸エステル、3−メチル−3−メ
トキシブチルアセテート及びグリコールエーテルアセテ
ートからなる群から選ばれる少なくとも一種以上を含む
請求項1ないし3に記載のスクリーン版洗浄用組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6839599A JP2000267293A (ja) | 1999-03-15 | 1999-03-15 | スクリーン版洗浄用組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6839599A JP2000267293A (ja) | 1999-03-15 | 1999-03-15 | スクリーン版洗浄用組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000267293A true JP2000267293A (ja) | 2000-09-29 |
Family
ID=13372485
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6839599A Pending JP2000267293A (ja) | 1999-03-15 | 1999-03-15 | スクリーン版洗浄用組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2000267293A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014019810A (ja) * | 2012-07-19 | 2014-02-03 | Asahi Kasei Chemicals Corp | 洗浄剤及び洗浄方法 |
KR20190025667A (ko) | 2016-08-01 | 2019-03-11 | 카오카부시키가이샤 | 스크린판용 세정제 조성물 |
-
1999
- 1999-03-15 JP JP6839599A patent/JP2000267293A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014019810A (ja) * | 2012-07-19 | 2014-02-03 | Asahi Kasei Chemicals Corp | 洗浄剤及び洗浄方法 |
KR20190025667A (ko) | 2016-08-01 | 2019-03-11 | 카오카부시키가이샤 | 스크린판용 세정제 조성물 |
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