CN109563453A - 丝网印版用清洗剂组合物 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种清洗性及控液性优异的丝网印版用清洗剂组合物。本发明在一个方式中涉及一种丝网印版用清洗剂组合物，其含有相对于25℃的水100g的溶解度小于10g的胺(成分A)或其盐、相对于25℃的水100g的溶解度为0.02g以上且小于10g的溶剂(成分B)、以及水，上述成分A是选自碳数为6以上且26以下的伯胺、仲胺及叔胺中的至少1种。

Description

丝网印版用清洗剂组合物
技术领域
本发明涉及丝网印版用清洗剂组合物及丝网印版的清洗方法。
背景技术
在将电子零件安装于印刷基板或陶瓷基板等时，一般进行软钎焊。通常对于软钎焊而言，为了去除焊料及母材表面的氧化膜、或者防止焊料及母材表面的再氧化而获得充分的焊料连接，使用助焊剂。然而，由于助焊剂为腐蚀性且助焊剂残渣会使印刷配线基板的品质降低，故而提出有各种用以将助焊剂残渣清洗去除的清洗剂组合物。
例如，在专利文献1中公开有一种工业用清洗剂组合物，其用于清洗助焊剂残渣或金属加工油等各种污染物，该组合物由特定的水溶性二醇醚75～94.99重量％、具有170～270℃的沸点的有机胺类0.01～5重量％、水5～20重量％构成，且实质上不含其他成分。
在专利文献2中公开有一种清洗剂组合物，其用于清洗在印刷基板制造时的任意步骤中残留于基板上的助焊剂及再熔解液，且包含二醇系溶剂、胺类及/或表面活性剂。
近年来，就低耗电、高速处理等观点而言，电子零件不断小型化，伴随于此，配线图案正进行微细化。为了形成微细的配线，主要进行使用丝网印版的丝网印刷。然而，因丝网印版的反复使用造成的助焊剂或焊膏等各种膏在丝网印版表面的附着会导致配线不良等制品不良，担忧今后成为较大的问题。然而，以往的清洗剂组合物对于附着于丝网印版的助焊剂或焊膏等污染物的清洗性并不充分。进而，在限制氟利昂以前就使用的清洗装置仍被大量使用，虽然清洗剂经脱氟利昂化，但在清洗装置的构成及构造上而言，清洗后不进行冲洗而直接干燥并使用丝网印版，因此，为了获得较高的生产率，对清洗剂要求快速干燥性、控液性。进而，在使用如具有起火性的有机溶剂的情况下，必须设置严格的设备而设为防爆规格，要求不具有起火性、即含有高沸点且低挥发性的水、并且具有快速干燥性、控液性及能够应对微细配线的高清洗性的清洗剂。
例如，在专利文献3中公开有一种金属掩膜用清洗剂，其含有：具有一定的沸点且为水溶性的1种或2种以上的二醇醚系化合物25～45重量％、具有一定的沸点与一定量的水溶性的1种或2种以上的二醇醚系化合物5～25重量％、胺系化合物0.005～1.0重量％及水(余量)。
在专利文献4中公开有一种清洗剂，其是用以清洗附着有有机EL材料的被清洗物的清洗剂，其含有：包含二丙二醇丙醚之类的特定丙二醇5～80质量％及N-甲基-2-吡咯啶酮之类的特定吡咯啶酮类20～95质量％的组合物。
在专利文献5中公开有一种丝网印版清洗用组合物，其含有低沸点的亲水性二醇醚单烷基醚、高沸点的亲水性二醇醚单烷基醚及水。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开平9-87668号公报
专利文献2：日本特开平5-125395号公报
专利文献3：日本特开平9-59688号公报
专利文献4：日本特开2006-265300号公报
专利文献5：日本特开2000-267293号公报
发明内容
发明要解决的课题
随着丝网印版的配线图案的微细化，为了防止因丝网印版的反复使用造成的助焊剂或焊膏等各种膏在丝网印版表面的残留所导致的制品缺陷，对清洗剂要求更高的清洗性。进而，为了获得较高的生产率，优选在清洗后能够快速干燥，对清洗剂要求快速的控液性。然而，上述专利文献中记载的方法无法同时实现高清洗性与快速的控液性。
因此，本发明提供一种清洗性及控液性优异的丝网印版用清洗剂组合物及清洗方法。
用于解决课题的方法
本发明在一个方式中涉及一种丝网印版用清洗剂组合物，其含有相对于25℃的水100g的溶解度小于10g的胺(成分A)或其盐、相对于25℃的水100g的溶解度为0.02g以上且小于10g的溶剂(成分B)、以及水，上述成分A是选自碳数为6以上且26以下的伯胺、仲胺及叔胺中的至少1种。
本发明在一个方式中涉及一种丝网印版的清洗方法，其包含使用本发明的清洗剂组合物清洗被清洗物的步骤，上述被清洗物为丝网印刷后的丝网印版。
本发明在一个方式中涉及一种本发明的清洗剂组合物的用途，其用于清洗丝网印刷后的丝网印版。
本发明在一个方式中涉及一种本发明的清洗剂组合物的用途，其用于从丝网印版去除助焊剂及焊膏中的至少一者。
发明的效果
根据本发明，可提供清洗性及控液性优异的丝网印版用清洗剂组合物。并且，通过使用本发明的清洗剂组合物，可缩短丝网印版的清洗及干燥所耗费的时间，效率良好地获得洁净度优异的丝网印版，进而，可提高高品质的印刷基板或陶瓷基板等电子零件的生产效率。
具体实施方式
本发明基于如下见解：通过在用于清洗丝网印版的清洗剂组合物中含有相对于25℃的水100g的溶解度小于10g且碳数为6～26的伯胺～叔胺(成分A)、以及相对于25℃的水100g的溶解度为0.02g以上且小于10g的溶剂(成分B)，可提高清洗性，且控液性变快。
即，本发明在一个方式中涉及一种丝网印版用清洗剂组合物(以下也称为“本发明的清洗剂组合物”)，其含有相对于25℃的水100g的溶解度小于10g的胺(成分A)或其盐、相对于25℃的水100g的溶解度为0.02g以上且小于10g的溶剂(成分B)、以及水，上述成分A是选自碳数为6以上且26以下的伯胺、仲胺及叔胺中的至少1种。根据本发明，可提供清洗性及控液性优异的丝网印版用清洗剂组合物。并且，通过使用本发明的清洗剂组合物，可缩短丝网印版的清洗及干燥所耗费的时间，效率良好地获得洁净度优异的丝网印版，进而，可提高高品质的印刷基板或陶瓷基板等电子零件的生产效率。
本发明的清洗剂组合物的效果的详细作用机理虽有不明确的部分，但推测如下。
若将本发明的清洗剂组合物用于清洗丝网印刷后的丝网印版，则清洗剂组合物中的成分A的胺在水中的溶解度较低，具有低亲水性即疏水性，因此吸附于丝网印版表面，而使丝网印版表面疏水化。并且，成分A在丝网印版表面的疏水化的同时，会向助焊剂等油性成分吸附或渗透，使油性成分的流动性提高，而与丝网印版表面发生电荷排斥。可认为：通过如上所述成分A作用于丝网印版表面与助焊剂等油性成分，可将油性成分自丝网印版剥离(去除)，进而防止已去除的油性成分再次附着于丝网印版。再者，可认为：在利用清洗剂组合物进行清洗时，利用由喷雾或超声波产生的物理力的辅助而容易将油性成分自丝网印版去除。可推测：由于如上所述能够自丝网印版去除油性成分并防止再次附着，进而可抑制油性成分的凝集，因此清洗性提高。并且，可推测：由于丝网印版表面疏水化及/或清洗剂组合物的表面张力较大，故而控液性变快。
另外，可推测：清洗剂组合物中的成分B的溶剂由于对水具有某程度的溶解度，故而与成分A相溶，可使成分A在水中均匀地稳定化并容易向助焊剂等油性成分吸附或渗透，因此清洗性提高。
进而可推测：在成分A与酸形成盐的情况、尤其在本发明的清洗剂组合物中进一步混配有酸(成分C)而使成分A的胺与成分C的酸形成盐的情况下，通过在清洗剂组合物中存在胺与酸的盐，向助焊剂等油性成分的渗透性提高，能够在更短的时间内表现上述效果。
但是，本发明不受该机理的限定性解释。
[成分A：胺]
本发明的清洗剂组合物含有相对于25℃的水100g的溶解度小于10g的胺(成分A)或其盐。在本发明中，成分A可使用1种或混合2种以上使用。
成分A的相对于25℃的水100g的溶解度小于10g，就清洗性及控液性的观点而言，优选为8g以下，更优选为5g以下，进一步优选为2g以下，更进一步优选为1g以下，更进一步优选为0.5g以下，更进一步优选为0.2g以下，更进一步优选为0.1g以下，并且，就同样的观点而言，优选为0.0001g以上，更优选为0.001g以上，进一步优选为0.01g以上。
就清洗性及控液性的观点而言，成分A的胺是选自碳数为6以上且26以下的伯胺、仲胺及叔胺中的至少1种。就清洗性及控液性的观点而言，成分A的碳数为6以上，优选为7以上，更优选为8以上，并且，就同样的观点而言，为26以下，优选为18以下，更优选为12以下，进一步优选为10以下。在成分A为盐的形态的情况下，作为用以形成盐的抗衡离子，并无特别限定，例如可列举成分C的酸。
作为成分A，就清洗性及控液性的观点而言，优选为选自式(I)所表示的化合物中的至少1种。
[化1]
式(I)中，R1表示选自碳数5以上且18以下的直链烷基或支链烷基、以及碳数5以上且18以下的直链烯基或支链烯基中的至少1种，R2及R3相同或不同，表示选自碳数1以上且5以下的直链烷基或支链烷基、以及氢原子中的至少1种，R1、R2及R3的碳数的合计为6以上且26以下。
式(I)中，就清洗性及控液性的观点而言，R1的碳数为5以上，优选为6以上，更优选为7以上，并且，就抑制起泡(以下也称为“抑泡性”)的观点而言，R1的碳数为18以下，优选为12以下，更优选为10以下，进一步优选为8以下。
式(I)中，就清洗性及控液性的观点而言，R2及R3分别独立地为选自碳数1以上且5以下的直链烷基或支链烷基、以及氢原子中的至少1种，优选为选自碳数1或2的直链烷基及氢原子中的至少1种，更优选为甲基或氢原子，进一步优选为氢原子。
式(I)中，就清洗性及控液性的观点而言，R1、R2及R3的合计碳数为6以上，优选为7以上，更优选为8以上，并且，就抑泡性的观点而言，R1、R2及R3的合计碳数为26以下，优选为18以下，更优选为12以下，进一步优选为10以下。
作为成分A的盐，就清洗性及控液性的观点而言，可列举选自上述式(I)所表示的化合物中的至少1种化合物与酸形成的盐。作为酸，只要与成分A形成水溶性盐，则并无特别限定，例如可列举下述成分C的酸。
关于本发明的清洗剂组合物在清洗时的成分A的含量，就清洗性及控液性的观点而言，优选为0.001质量％以上，更优选为0.01质量％以上，进一步优选为0.02质量％以上，并且，就清洗性、控液性及抑泡性的观点而言，优选为2.0质量％以下，更优选为1.0质量％以下，进一步优选为0.7质量％以下，更进一步优选为0.2质量％以下，更进一步优选为0.15质量％以下，更进一步优选为0.1质量％以下。在成分A为2种以上的胺的组合的情况下，成分A的含量是指它们的合计含量。
在本发明中，“清洗剂组合物在清洗时的各成分的含量”在一个或多个实施方式中，是指用于清洗步骤的清洗剂组合物的各成分的含量。
[成分B：溶剂]
本发明的清洗剂组合物含有相对于25℃的水100g的溶解度为0.02g以上且小于10g的溶剂(成分B)。在本发明中，成分B可使用1种或混合2种以上使用。
关于成分B的相对于25℃水的溶解度，就清洗性及控液性的观点而言，为0.02g以上，优选为0.05g以上，更优选为0.1g以上，进一步优选为0.2g以上，并且，就同样的观点而言，小于10g，优选为5g以下，更优选为3g以下，进一步优选为2g以下。
作为成分B，就清洗性及控液性的观点而言，可列举具有上述范围内的溶解度的除了成分A以外的溶剂，例如可列举具有上述范围内的溶解度且选自二醇醚系溶剂及醇系溶剂中的至少1种。作为上述二醇醚系溶剂，就清洗性及控液性的观点而言，优选为选自下述式(II)所表示的化合物中的至少1种。
R4O-(EO)m(PO)n-H(II)
上述式(II)中，R4表示碳数3以上且12以下的烃基，EO表示环氧乙烷基，m为EO的加成摩尔数且为0以上且5以下的数，PO表示环氧丙烷基，n为PO的加成摩尔数且为0以上且2以下的数，m+n≥1，EO与PO的加成形态可为嵌段也可为无规，EO与PO的加成顺序不受限定。
式(II)中，就提高清洗性及控液性的观点而言，R4为碳数3以上且12以下的烃基，优选为碳数6以上且10以下的烃基，更优选为碳数6以上且8以下的烃基。
式(II)中，(EO)m(PO)n可由环氧乙烷基单独构成，也可由环氧乙烷基与环氧丙烷基构成。在(EO)m(PO)n由环氧乙烷基与环氧丙烷基构成的情况下，EO与PO的排列可为无规也可为嵌段。在EO与PO的排列为嵌段的情况下，EO的嵌段数、PO的嵌段数只要各平均加成摩尔数为上述范围内，则分别可为1个也可为1个以上。在包含EO的嵌段数为2个以上的情况下，各嵌段中的EO的重复数可相互相同也可不同。
作为成分B的具体例，例如可列举：选自乙二醇单2-乙基己基醚(溶解度：0.20g)、二乙二醇单2-乙基己基醚(溶解度：0.20g)、乙二醇单己醚(溶解度：1.00g)、二乙二醇单己醚(溶解度：1.40g)、丙二醇单苯醚(苯氧基丙醇，溶解度：0.20g)、二丙二醇单丙醚(溶解度：5.60g)、丙二醇单丁醚(溶解度：6.60g)中的1种或2种以上的组合。就提高控液性的观点而言，优选为选自乙二醇单2-乙基己基醚(溶解度：0.20g)、乙二醇单己醚(溶解度：1.00g)、二乙二醇单己醚(溶解度：1.40g)及丙二醇单苯醚(溶解度：0.20g)中的1种或2种以上的组合，更优选为选自乙二醇单2-乙基己基醚(溶解度：0.20g)、二乙二醇单己醚(溶解度：1.40g)及丙二醇单苯醚(溶解度：0.20g)中的1种或2种以上的组合，进一步优选为乙二醇单2-乙基己基醚(溶解度：0.20g)及二乙二醇单己醚(溶解度：1.40g)中的任一者，更进一步优选为乙二醇单2-乙基己基醚(溶解度：0.20g)。括弧内的溶解度表示相对于25℃的水100g的溶解度。
关于本发明的清洗剂组合物在清洗时的成分B的含量，就清洗性及控液性的观点而言，优选为0.1质量％以上，更优选为0.5质量％以上，进一步优选为1质量％以上，更进一步优选为2质量％以上，并且，就同样的观点而言，优选为20质量％以下，更优选为15质量％以下，进一步优选为12质量％以下，更进一步优选为10质量％以下。在成分B为2种以上的溶剂的组合的情况下，成分B的含量是指它们的合计含量。
关于本发明的清洗剂组合物中的成分A的含量相对于成分B的含量之比A/B，就清洗性及控液性的观点而言，优选为0.001以上，更优选为0.002以上，进一步优选为0.003以上，并且，就同样的观点而言，优选为0.1以下，更优选为0.09以下，进一步优选为0.08以下。
[成分C：酸]
本发明的清洗剂组合物可进一步含有酸(成分C)。另外，本发明的清洗剂组合物可设为进一步混配有酸(成分C)的组合物。在本发明中，成分C可使用1种或混合2种以上使用。
作为成分C，就清洗性及控液性的观点而言，优选为与成分A形成盐的酸，更优选为选自碳数2以上且12以下的化合物及甲酸中的1种或2种以上的酸，上述碳数2以上且12以下的化合物具有1～3个选自羧基、磺酸基、硫酸基及磷酸基中的至少1种基团。
作为成分C的具体例，例如可列举：选自甲酸、乙酸、丙酸、丁酸、戊酸、己酸、庚酸、辛酸、2-乙基己酸、壬酸、癸酸、月桂酸、草酸、丙二酸、丁二酸、戊二酸、己二酸、庚二酸、辛二酸、壬二酸、癸二酸、邻苯二甲酸、间苯二甲酸、对苯二甲酸、乙醇酸、乳酸、羟基丙二酸、羟基丁酸、甘油酸、苹果酸、酒石酸、柠檬酸、甲磺酸、苯磺酸、对甲苯磺酸、萘磺酸、月桂基硫酸酯、2-氨基乙基膦酸、1-羟基亚乙基-1,1-二膦酸、氨基三(亚甲基膦酸)、乙二胺四(亚甲基膦酸)及二亚乙基三胺五(亚甲基膦酸)中的1种或2种以上的组合，就清洗性及控液性的观点而言，更优选为选自甲酸、乙酸、辛酸、2-乙基己酸、乳酸、柠檬酸、对甲苯磺酸及1-羟基亚乙基-1,1-二膦酸中的1种或2种以上的组合，进一步优选为选自甲酸、乙酸、2-乙基己酸、柠檬酸、对甲苯磺酸及1-羟基亚乙基-1,1-二膦酸中的1种或2种以上的组合，更进一步优选为选自甲酸、乙酸、对甲苯磺酸及1-羟基亚乙基-1,1-二膦酸中的1种或2种以上的组合，更进一步优选为乙酸及对甲苯磺酸中的任一者，更进一步优选为乙酸。
关于本发明的清洗剂组合物在清洗时的成分C的含量(或混配量)，就清洗性及控液性的观点而言，优选为0.001质量％以上，更优选为0.005质量％以上，进一步优选为0.01质量％以上，并且，就清洗性、控液性及将起泡抑制为较低的观点而言，优选为2.0质量％以下，更优选为1.0质量％以下，进一步优选为0.7质量％以下，更进一步优选为0.2质量％以下，更进一步优选为0.15质量％以下，更进一步优选为0.1质量％以下。在成分C为2种以上的酸的组合的情况下，成分C的含量(或混配量)是指它们的合计含量(或合计混配量)。
关于本发明的清洗剂组合物中的成分A的含量相对于成分C的含量(或混配量)之比A/C，就清洗性及控液性的观点而言，优选为0.1以上，更优选为0.2以上，进一步优选为0.4以上，并且，就同样的观点而言，优选为10以下，更优选为7以下，进一步优选为5以下。
[成分D：水]
本发明的清洗剂组合物含有水(成分D)。作为成分D的水，可使用离子交换水、RO(反渗透)水、蒸馏水、纯水、超纯水。水的含量只要根据本发明的清洗剂组合物的使用方式进行适当设定即可。
关于本发明的清洗剂组合物在清洗时的成分D的含量，就清洗性的观点而言，优选为70质量％以上，更优选为80质量％以上，进一步优选为85质量％以上，并且，就同样的观点而言，优选为99质量％以下，更优选为97质量％以下，进一步优选为95质量％以下。
[任选成分]
本发明的清洗剂组合物在无损本发明效果的范围内，除了上述成分A～D以外，可视需要含有任选成分。作为任选成分，例如可列举：选自非离子性表面活性剂；羟乙基氨基乙酸、羟乙基亚氨基二乙酸、乙二胺四乙酸等的氨基羧酸盐等具有螯合力的化合物；防腐剂；防锈剂；杀菌剂；抗菌剂；有机硅等消泡剂；抗氧化剂；椰油脂肪酸甲酯、乙酸苄酯等酯；烃系溶剂；醇类等中的1种或2种以上的组合。
就不阻碍本发明效果的观点而言，本发明的清洗剂组合物在清洗时的任选成分的含量优选为0质量％以上且2.0质量％以下，更优选为0质量％以上且1.5质量％以下，进一步优选为0质量％以上且1.3质量％以下，更进一步优选为0质量％以上且1.0质量％以下。在本发明的清洗剂组合物含有2种以上的任选成分的情况下，任选成分的含量是指它们的合计含量。
[清洗剂组合物的pH]
关于本发明的清洗剂组合物在清洗时的pH，就清洗性及控液性的观点而言，优选为12以下，更优选为9以下，进一步优选为8以下，更进一步优选为7以下，并且，就清洗性、控液性及防止清洗设备腐蚀的观点而言，优选为4以上，更优选为4.5以上，进一步优选为5以上，更进一步优选为5.5以上。在本发明中，“清洗时的pH”是指在25℃下使用清洗剂组合物时(稀释后)的pH，可使用pH计进行测定。具体可通过实施例中记载的方法进行测定。
本发明的清洗剂组合物的pH的调整例如可使用硝酸、硫酸等无机酸；羟基羧酸、多元羧酸、氨基多羧酸、氨基酸等有机酸；以及它们的金属盐或铵盐、氨、氢氧化钠、氢氧化钾、胺等碱性物质等进行。
[清洗剂组合物的制造方法]
本发明的清洗剂组合物可通过将上述成分A、成分B及成分D、以及视需要的成分C及任选成分利用公知的方法进行混配而制造。例如，本发明的清洗剂组合物可设为至少混配上述成分A、成分B及成分D而成的组合物。因此，本发明在一个方式中涉及一种清洗剂组合物的制造方法，其包含至少将上述成分A、成分B及成分D进行混配的步骤。在本发明中，“混配”是指包括将成分A、成分B及成分D、以及视需要的成分C及任选成分同时混合或按任意顺序进行混合。在本发明的清洗剂组合物的制造方法中，各成分的混配量可设为与上述本发明的清洗剂组合物的各成分的含量相同。
就储存及运输的观点而言，本发明的清洗剂组合物也可制备为减少成分D的水量而得的浓缩物。关于清洗剂组合物的浓缩物，就储存及运输的观点而言，优选制成稀释倍率为3倍以上的浓缩物，就保管稳定性的观点而言，优选制成稀释倍率为200倍以下的浓缩物。清洗剂组合物的浓缩物能够在使用时以各成分的含量成为上述含量(即，清洗时的含量)的方式利用水稀释而使用。进而，清洗剂组合物的浓缩物也能够在使用时分别添加各成分而使用。在本发明中，清洗剂组合物的浓缩物的“使用时”或“清洗时”是指清洗剂组合物的浓缩物被稀释的状态。
[被清洗物]
本发明的清洗剂组合物在一个或多个实施方式中可用于清洗丝网印刷后的丝网印版，以及清洗附着有助焊剂、焊膏、银膏、铜膏等导电膏等的丝网印版。作为丝网印版，例如可列举金属掩膜、树脂掩膜、电铸掩膜、乳剂掩膜等。
因此，本发明在一个方式中涉及本发明的清洗剂组合物的用途，其用于清洗丝网印刷后的丝网印版。进而，本发明在另一个方式中涉及本发明的清洗剂组合物的用途，其用于从丝网印版去除助焊剂及焊膏中的至少一者。
[清洗方法]
本发明在一个方式中涉及丝网印版的清洗方法(以下也称为“本发明的清洗方法”)，其包含使用本发明的清洗剂组合物清洗被清洗物的步骤(以下也称为“清洗步骤”)。在本发明的清洗剂组合物为浓缩物的情况下，本发明的清洗方法可进一步包含将清洗剂组合物的浓缩物稀释的步骤。作为被清洗物，可列举上述被清洗物。上述清洗步骤在一个或多个实施方式中可包括：使本发明的清洗剂组合物与被清洗物接触。作为使用本发明的清洗剂组合物清洗被清洗物的方法，例如可列举：将被清洗物浸渍于清洗槽中而使清洗剂组合物与被清洗物接触的方法、在超声波清洗装置的浴槽内使清洗剂组合物与被清洗物接触的方法、使清洗剂组合物以喷雾状射出而与被清洗物接触的方法等。
本发明的清洗方法可进一步包含不冲洗上述清洗后的丝网印版而进行干燥的步骤。由此，可缩短丝网印版的清洗及干燥所耗费的时间，效率良好地获得洁净度优异的丝网印版，可提高高品质的印刷基板或陶瓷基板等电子零件的生产率。
就容易发挥本发明的清洗剂组合物的清洗力的方面而言，本发明的清洗方法优选在本发明的清洗剂组合物与被清洗物的接触时照射超声波。作为超声波的照射条件，例如可设定为20～2000kHz。
[套装]
本发明在一个方式中涉及套装(kit，以下也称为“本发明的套装”)，其是用于制造本发明的清洗剂组合物的套装，其在不使构成本发明的清洗剂组合物的上述成分A、上述成分B及上述成分D中的至少1种成分与其他成分混合的状态下保管。根据本发明，可提供能够获得清洗性及控液性优异的清洗剂组合物的套装。
作为本发明的套装，例如可列举如下套装(2液型清洗剂组合物)，其是在不使含有成分B的溶液(第1液)与含有成分A、C及D中的1种或2种以上的溶液(第2液)相互混合的状态下保存，且在使用时将它们进行混合。上述第1液及第2液也可分别视需要而混合有上述任选成分。
本发明进而涉及以下的清洗剂组合物、清洗方法、制造方法及套装。
＜1＞一种丝网印版用清洗剂组合物，其含有相对于25℃的水100g的溶解度小于10g的胺(成分A)或其盐、相对于25℃的水100g的溶解度为0.02g以上且小于10g的溶剂(成分B)、以及水(成分D)，上述成分A是选自碳数为6以上且26以下的伯胺、仲胺及叔胺中的至少1种。
＜2＞根据＜1＞所述的丝网印版用清洗剂组合物，其pH为5以上且12以下。
＜3＞根据＜1＞或＜2＞所述的丝网印版用清洗剂组合物，其pH优选为12以下，更优选为9以下，进一步优选为8以下，更进一步优选为7以下。
＜4＞根据＜1＞至＜3＞中任一项所述的丝网印版用清洗剂组合物，其pH优选为4以上，更优选为4.5以上，进一步优选为5以上，更进一步优选为5.5以上。
＜5＞根据＜1＞至＜4＞中任一项所述的丝网印版用清洗剂组合物，其中，成分A的相对于25℃的水100g的溶解度小于10g，优选为8g以下，更优选为5g以下，进一步优选为2g以下，更进一步优选为1g以下，更进一步优选为0.5g以下，更进一步优选为0.2g以下，更进一步优选为0.1g以下。
＜6＞根据＜1＞至＜5＞中任一项所述的丝网印版用清洗剂组合物，其中，成分A的相对于25℃的水100g的溶解度优选为0.0001g以上，更优选为0.001g以上，进一步优选为0.01g以上。
＜7＞根据＜1＞至＜6＞中任一项所述的丝网印版用清洗剂组合物，其中，成分A的碳数为6以上，优选为7以上，更优选为8以上。
＜8＞根据＜1＞至＜7＞中任一项所述的丝网印版用清洗剂组合物，其中，成分A的碳数为26以下，优选为18以下，更优选为12以下，进一步优选为10以下。
＜9＞根据＜1＞至＜8＞中任一项所述的丝网印版用清洗剂组合物，其中，成分A是选自下述式(I)所表示的化合物中的至少1种。
[化2]
上述式(I)中，R1表示选自碳数5以上且18以下的直链烷基或支链烷基、以及碳数5以上且18以下的直链烯基或支链烯基中的至少1种，R2及R3相同或不同，表示选自碳数1以上且5以下的直链烷基或支链烷基、以及氢原子中的至少1种，R1、R2及R3的合计碳数为6以上且26以下。
＜10＞根据＜9＞所述的丝网印版用清洗剂组合物，其中，成分A的盐是选自上述式(I)所表示的化合物中的至少1种化合物与选自碳数为2以上且12以下的化合物及甲酸中的至少1种化合物形成的盐，上述碳数为2以上且12以下的化合物具有1～3个选自羧基、磺酸基、硫酸基及磷酸基中的至少1种基团。
＜11＞根据＜1＞至＜10＞中任一项所述的丝网印版用清洗剂组合物，其中，清洗剂组合物在清洗时的成分A的含量优选为0..001质量％以上，更优选为0.01质量％以上，进一步优选为0.02质量％以上。
＜12＞根据＜1＞至＜11＞中任一项所述的丝网印版用清洗剂组合物，其中，清洗剂组合物在清洗时的成分A的含量优选为2.0质量％以下，更优选为1.0质量％以下，进一步优选为0.7质量％以下，更进一步优选为0.2质量％以下，更进一步优选为0.15质量％以下，更进一步优选为0.1质量％以下。
＜13＞根据＜1＞至＜12＞中任一项所述的丝网印版用清洗剂组合物，其中，成分B的相对于25℃的水的溶解度为0.02g以上，优选为0.05g以上，更优选为0.1g以上，进一步优选为0.2g以上。
＜14＞根据＜1＞至＜13＞中任一项所述的丝网印版用清洗剂组合物，其中，成分B的相对于25℃的水的溶解度小于10g，优选为5g以下，更优选为3g以下，进一步优选为2g以下。
＜15＞根据＜1＞至＜14＞中任一项所述的丝网印版用清洗剂组合物，其中，成分B是选自下述式(II)所表示的化合物中的至少1种化合物。
R4O-(EO)m(PO)n-H (II)
此处，式(II)中，R4表示碳数3以上且12以下的烃基，EO表示环氧乙烷基，m为EO的加成摩尔数且为0以上且5以下的数，PO表示环氧丙烷基，n为PO的加成摩尔数且为0以上且2以下的数，m+n≥1，EO与PO的加成形态可为嵌段也可为无规，EO与PO的加成顺序不受限定。
＜16＞根据＜15＞所述的丝网印版用清洗剂组合物，其中，式(II)中的R4为碳数3以上且12以下的烃基，优选为碳数6以上且10以下的烃基，更优选为碳数6以上且8以下的烃基。
＜17＞根据＜1＞至＜16＞中任一项所述的丝网印版用清洗剂组合物，其中，清洗剂组合物在清洗时的成分B的含量优选为0.1质量％以上，更优选为0.5质量％以上，进一步优选为1质量％以上，更进一步优选为2质量％以上。
＜18＞根据＜1＞至＜17＞中任一项所述的丝网印版用清洗剂组合物，其中，清洗剂组合物在清洗时的成分B的含量优选为20质量％以下，更优选为15质量％以下，进一步优选为12质量％以下，更进一步优选为10质量％以下。
＜19＞根据＜1＞至＜18＞中任一项所述的丝网印版用清洗剂组合物，其中，清洗剂组合物中的成分A的含量相对于成分B的含量之比A/B优选为0.001以上，更优选为0.002以上，进一步优选为0.003以上。
＜20＞根据＜1＞至＜19＞中任一项所述的丝网印版用清洗剂组合物，其中，清洗剂组合物中的成分A的含量相对于成分B的含量之比A/B优选为0.1以下，更优选为0.09以下，进一步优选为0.08以下。
＜21＞根据＜1＞至＜20＞中任一项所述的丝网印版用清洗剂组合物，其还混配有选自碳数2以上且12以下的化合物及甲酸中的至少1种酸(成分C)，上述碳数2以上且12以下的化合物具有1～3个选自羧基、磺酸基、硫酸基及磷酸基中的至少1种基团。
＜22＞根据＜21＞所述的丝网印版用清洗剂组合物，其中，清洗剂组合物在清洗时的成分C的含量(或混配量)优选为0.001质量％以上，更优选为0.005质量％以上，进一步优选为0.01质量％以上。
＜23＞根据＜21＞或＜22＞所述的丝网印版用清洗剂组合物，其中，清洗剂组合物在清洗时的成分C的含量(或混配量)优选为2.0质量％以下，更优选为1.0质量％以下，进一步优选为0.7质量％以下，更进一步优选为0.2质量％以下，更进一步优选为0.15质量％以下，更进一步优选为0.1质量％以下。
＜24＞根据＜21＞至＜23＞中任一项所述的丝网印版用清洗剂组合物，其中，清洗剂组合物中的成分A的含量相对于成分C的含量(或混配量)之比A/C优选为0.1以上，更优选为0.2以上，进一步优选为0.4以上。
＜25＞根据＜21＞至＜24＞中任一项所述的丝网印版用清洗剂组合物，其中，清洗剂组合物中的成分A的含量相对于成分C的含量(或混配量)之比A/C优选为10以下，更优选为7以下，进一步优选为5以下。
＜26＞根据＜1＞至＜25＞中任一项所述的丝网印版用清洗剂组合物，其中，清洗剂组合物在清洗时的成分D的含量优选为70质量％以上，更优选为80质量％以上，进一步优选为85质量％以上。
＜27＞根据＜1＞至＜26＞中任一项所述的丝网印版用清洗剂组合物，其中，清洗剂组合物在清洗时的成分D的含量优选为99质量％以下，更优选为97质量％以下，进一步优选为95质量％以下。
＜28＞一种丝网印版的清洗方法，其包含使用＜1＞至＜27＞中任一项所述的清洗剂组合物清洗被清洗物的步骤，上述被清洗物为丝网印刷后的丝网印版。
＜29＞根据＜28＞所述的丝网印版的清洗方法，其包含不冲洗上述清洗后的丝网印版而进行干燥的步骤。
＜30＞一种套装，其是用于制造＜1＞至＜27＞中任一项所述的清洗剂组合物的套装，其在不使成分A、成分B及成分D中的至少1种成分与其他成分混合的状态下保管。
＜31＞一种＜1＞至＜27＞中任一项所述的清洗剂组合物的用途，其用于清洗丝网印刷后的丝网印版。
＜32＞一种＜1＞至＜27＞中任一项所述的清洗剂组合物的用途，其用于从丝网印版去除助焊剂及焊膏中的至少一者。
实施例
以下，通过实施例对本发明具体地进行说明，但本发明不受这些实施例的任何限定。
1.清洗剂组合物的制备(实施例1～26及比较例1～4)
以成为下述表1中记载的组成及含量(质量％、有效成分)的方式混配各成分，获得实施例1～26及比较例1～4的清洗剂组合物。pH是25℃下的清洗剂组合物的pH，是使用pH计(东亚电波工业株式会社，HM-30G)进行测定，并将电极浸渍在清洗剂组合物中经过40分钟后的数值。
作为清洗剂组合物的成分，使用下述成分。
＜成分A：胺＞
·正己胺(和光纯药工业株式会社制造)
·正辛胺(东京化成工业株式会社制造)
·正十二烷基胺(东京化成工业株式会社制造，十二烷基胺)
·正硬脂胺(东京化成工业株式会社制造，硬脂胺)
·N-甲基己基胺(和光纯药工业株式会社制造)
·N,N-二甲基己基胺(和光纯药工业株式会社制造)
＜非成分A：胺＞
·正丁胺(和光纯药工业株式会社制造)
·聚氧乙烯(2摩尔)月桂胺(青木油脂工业株式会社制造，BLAUNON L-202)
＜成分B：溶剂(二醇醚)＞
·乙二醇单2-乙基己基醚[日本乳化剂株式会社制造，乙二醇2-乙基己基醚(EHG，2-Ethyl Hexyl Glycol)]
·二乙二醇单己醚[日本乳化剂株式会社制造，二乙二醇己醚(HeDG，HexylDiglycol)]
·苯氧基丙醇(丙二醇单苯醚)[日本乳化剂株式会社制造，丙二醇苯醚(PhFG，Phenyl Propylene Glycol)]
·乙二醇单己醚[日本乳化剂株式会社制造，乙二醇己醚(HeG，Hexyl Glycol)]
·二乙二醇单2-乙基己基醚[日本乳化剂株式会社制造，二乙二醇2-乙基己基醚(EHDG，2-Ethyl Hexyl Diglycol)]
·二丙二醇单丙醚[日本乳化剂株式会社制造，二丙二醇丙醚(PFDG，PropylPropylene Diglycol)]
＜非成分B：溶剂＞
·二乙二醇单丁醚[日本乳化剂株式会社制造，二乙二醇丁醚(BDG，ButylDiglycol)]
＜成分C：酸＞
·乙酸(关东化学株式会社制造，鹿一级)
·对甲苯磺酸(和光纯药工业株式会社制造，对甲苯磺酸一水合物)
·1-羟基亚乙基-1,1-二膦酸(Italmatch Chemicals公司制造，Dequest2010，60％水溶液)
·甲酸(株式会社朝日化学工业所制造，甲酸88％)
·2-乙基己酸(和光纯药工业株式会社制造)
·柠檬酸[和光纯药工业株式会社制造，柠檬酸(酐)]
＜成分D：水＞
·由Organo株式会社制造的纯水装置G-10DSTSET制造的1μS/cm以下的纯水
＜其他＞
·氢氧化钾(关东化学株式会社制造，鹿特级，固体成分48质量％)
[胺及溶剂相对于水的溶解度]
在1L玻璃烧杯中添加水500g，一面使用转子(氟树脂(PTFE)，φ8mm×50mm)以转数100rpm进行搅拌，一面利用25℃的恒温槽进行保温。添加各种胺或溶剂0.1g，利用目视确认均匀透明的状态。每次追加添加0.1g各种胺或溶剂直至变得不均匀透明，测定在水中的溶解度。
此处，在即便添加50g胺或溶剂也均匀透明的情况下，在该时间点结束测定，判断为相对于25℃的水100g的溶解度为10g以上。在添加0.1g胺或溶剂时不均匀透明的情况下，判断为相对于25℃的水100g的溶解度小于0.02g。
2.清洗剂组合物的评价
使用所制备的实施例1～26及比较例1～4的清洗剂组合物进行下述评价。
[稳定性]
在100mL玻璃烧杯中制备各清洗剂组合物100g，在温度25℃下使用转子(氟树脂(PTFE)，φ8mm×25mm)以转数100rpm进行搅拌，对搅拌过程中的液体状态进行目视观察，利用下述评价基准评价稳定性。将其结果示于表1。在未确认到相分离的情况下，可评价为稳定性优异。
＜评价基准＞
A：无相分离
B：相分离
[清洗性试验方法]
对不锈钢制金属网(斜纹荷兰编织(twill dutch weave)，500mesh)涂布助焊剂(MB-T100，千住金属工业株式会社制造)，用助焊剂填满不锈钢制金属网的开口部，利用刮刀去除多余的助焊剂后，在室温下放置24小时，切断为20mm×20mm而制作评价用试样。使用该试样，按以下的顺序对清洗剂组合物的清洗性进行评价。
在100mL玻璃烧杯中添加各清洗剂组合物50g，并保温在25℃水浴中。进而，用镊子保持试样，将其浸渍在清洗剂组合物中，照射超声波(104kHz，50W)15分钟。清洗后，不冲洗试样而利用60℃的热风干燥15分钟。
[清洗性的评价方法]
使用光学显微镜：数字显微镜VHX-2000(KEYENCE株式会社制造)，目视确认干燥后的试样的金属网开口部有无助焊剂残渣，并根据下述计算式算出残留助焊剂残渣的开口部的残渣率，对清洗性进行评价。将结果示于表1。值越小，则可评价清洗性越优异。
残渣率(％)＝有残渣的开口部数量÷全部的开口部数量×100
[控液性评价]
将镍板(50mm×25mm×0.5mm，太佑机材株式会社制造)作为试样，使其垂直(将50mm设为高度方向)立起，将清洗剂组合物0.04mL滴至垂直面上端，测量流至下端为止的到达时间，对控液性进行评价。将结果示于表1。值越小，则可评价控液性越优异，干燥越快。
[抑泡性]
将各清洗剂组合物50g添加于110mL的螺旋口瓶，并保温于25℃，上下振荡30次并静置，测定10秒后的泡高度，从而对抑泡性进行评价。将结果示于表1。值越小，则可评价起泡的抑制效果越高。
[表1]
如上述表1所示，含有规定的胺(成分A)、规定的溶剂(成分B)及水(成分D)的实施例1～26的清洗剂组合物与比较例1～4的清洗剂组合物相比，清洗性及控液性优异。
产业上的可利用性
本发明的清洗剂组合物作为丝网印刷后的丝网印版用清洗剂组合物有用，可缩短清洗及干燥所耗费的时间，效率良好地获得洁净度较高的丝网印版，进而可提高高品质的印刷基板或陶瓷基板等电子零件的生产效率。

Claims (10)

1.一种丝网印版用清洗剂组合物，其含有：
成分A或其盐；
成分B；以及
水，
所述成分A为相对于25℃的水100g的溶解度小于10g的胺，所述成分B为相对于25℃的水100g的溶解度为0.02g以上且小于10g的溶剂，
所述成分A是选自碳数为6以上且26以下的伯胺、仲胺及叔胺中的至少1种。
2.根据权利要求1所述的丝网印版用清洗剂组合物，其pH为5以上且12以下。
3.根据权利要求1或2所述的丝网印版用清洗剂组合物，其中，成分A是选自下述式(I)所表示的化合物中的至少1种，
所述式(I)中，R1表示选自碳数5以上且18以下的直链烷基或支链烷基、以及碳数5以上且18以下的直链烯基或支链烯基中的至少1种，R2及R3相同或不同，表示选自碳数1以上且5以下的直链烷基或支链烷基、以及氢原子中的至少1种，R1、R2及R3的合计碳数为6以上且26以下。
4.根据权利要求3所述的丝网印版用清洗剂组合物，其中，成分A的盐是选自所述式(I)所表示的化合物中的至少1种化合物与选自碳数2以上且12以下的化合物及甲酸中的至少1种化合物形成的盐，所述碳数2以上且12以下的化合物具有1个～3个选自羧基、磺酸基、硫酸基及磷酸基中的至少1种基团。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的丝网印版用清洗剂组合物，其中，成分B是选自下述式(II)所表示的化合物中的至少1种化合物，
R4O-(EO)m(PO)nH (II)
所述式(II)中，R4表示碳数3以上且12以下的烃基，EO表示环氧乙烷基，m为EO的加成摩尔数且为0以上且5以下的数，PO表示环氧丙烷基，n为PO的加成摩尔数且为0以上且2以下的数，m+n≥1，EO与PO的加成形态可为嵌段也可为无规，EO与PO的加成顺序不受限定。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的丝网印版用清洗剂组合物，其还混配有成分C，所述成分C为选自碳数2以上且12以下的化合物及甲酸中的至少1种酸，所述碳数2以上且12以下的化合物具有1个～3个选自羧基、磺酸基、硫酸基及磷酸基中的至少1种基团。
7.一种丝网印版的清洗方法，其包含使用权利要求1～6中任一项所述的清洗剂组合物清洗被清洗物的步骤，
所述被清洗物为丝网印刷后的丝网印版。
8.根据权利要求7所述的丝网印版的清洗方法，其包含不冲洗所述清洗后的丝网印版而将其干燥的步骤。
9.一种权利要求1～6中任一项所述的清洗剂组合物的用途，其用于清洗丝网印刷后的丝网印版。
10.一种权利要求1～6中任一项所述的清洗剂组合物的用途，其用于从丝网印版去除助焊剂及焊膏中的至少一者。
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