TW201819615A - 網版用洗淨劑組合物 - Google Patents
網版用洗淨劑組合物 Download PDFInfo
- Publication number
- TW201819615A TW201819615A TW106125434A TW106125434A TW201819615A TW 201819615 A TW201819615 A TW 201819615A TW 106125434 A TW106125434 A TW 106125434A TW 106125434 A TW106125434 A TW 106125434A TW 201819615 A TW201819615 A TW 201819615A
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- less
- component
- detergent composition
- screen
- acid
- Prior art date
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 154
- 239000003599 detergent Substances 0.000 title claims abstract description 123
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 title claims abstract description 27
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 51
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims abstract description 25
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 23
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract description 19
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 claims abstract description 6
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 claims abstract description 6
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 claims abstract description 6
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 38
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 29
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 27
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 26
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 24
- 230000004907 flux Effects 0.000 claims description 23
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 22
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 claims description 11
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 10
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 7
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 7
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical group C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 claims description 6
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 4
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 claims description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid group Chemical group S(O)(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 claims description 3
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L sulfate group Chemical group S(=O)(=O)([O-])[O-] QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical group OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 7
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 16
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- -1 glycol ether compound Chemical class 0.000 description 12
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 10
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 9
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 9
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 8
- OHJYHAOODFPJOD-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethylhexoxy)ethanol Chemical compound CCCCC(CC)COCCO OHJYHAOODFPJOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 7
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 6
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 6
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 6
- IBLKWZIFZMJLFL-UHFFFAOYSA-N 1-phenoxypropan-2-ol Chemical compound CC(O)COC1=CC=CC=C1 IBLKWZIFZMJLFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- GZMAAYIALGURDQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hexoxyethoxy)ethanol Chemical compound CCCCCCOCCOCCO GZMAAYIALGURDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N Caprylic acid Natural products CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- OBETXYAYXDNJHR-SSDOTTSWSA-M (2r)-2-ethylhexanoate Chemical compound CCCC[C@@H](CC)C([O-])=O OBETXYAYXDNJHR-SSDOTTSWSA-M 0.000 description 4
- XYVAYAJYLWYJJN-UHFFFAOYSA-N 2-(2-propoxypropoxy)propan-1-ol Chemical compound CCCOC(C)COC(C)CO XYVAYAJYLWYJJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical group CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N alpha-ethylcaproic acid Natural products CCCCC(CC)C(O)=O OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 235000015165 citric acid Nutrition 0.000 description 4
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical compound CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 4
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 4
- OADIZUFHUPTFAG-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-ethylhexoxy)ethoxy]ethanol Chemical compound CCCCC(CC)COCCOCCO OADIZUFHUPTFAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 3
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 3
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 3
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 3
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 3
- JRBPAEWTRLWTQC-UHFFFAOYSA-N dodecylamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCN JRBPAEWTRLWTQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- QQVDJLLNRSOCEL-UHFFFAOYSA-N (2-aminoethyl)phosphonic acid Chemical compound [NH3+]CCP(O)([O-])=O QQVDJLLNRSOCEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAAZUWWNSYWWHG-UHFFFAOYSA-N 1-phenoxypropan-1-ol Chemical compound CCC(O)OC1=CC=CC=C1 OAAZUWWNSYWWHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethanol Chemical compound CCCCOCCOCCO OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Chemical compound CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005635 Caprylic acid (CAS 124-07-2) Substances 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- REYJJPSVUYRZGE-UHFFFAOYSA-N Octadecylamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCN REYJJPSVUYRZGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUKGYYKBILRGFE-UHFFFAOYSA-N benzyl acetate Chemical compound CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 QUKGYYKBILRGFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical class OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 2
- GHVNFZFCNZKVNT-UHFFFAOYSA-N decanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCC(O)=O GHVNFZFCNZKVNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N dodecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)=O POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ROBFUDYVXSDBQM-UHFFFAOYSA-N hydroxymalonic acid Chemical compound OC(=O)C(O)C(O)=O ROBFUDYVXSDBQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 2
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 2
- BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N nonanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCC(O)=O BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FBUKVWPVBMHYJY-UHFFFAOYSA-N nonanoic acid Chemical compound CCCCCCCCC(O)=O FBUKVWPVBMHYJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960002446 octanoic acid Drugs 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- KJIFKLIQANRMOU-UHFFFAOYSA-N oxidanium;4-methylbenzenesulfonate Chemical compound O.CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 KJIFKLIQANRMOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N pimelic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCC(O)=O WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 238000001223 reverse osmosis Methods 0.000 description 2
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- TYFQFVWCELRYAO-UHFFFAOYSA-N suberic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCC(O)=O TYFQFVWCELRYAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- RBNPOMFGQQGHHO-UHFFFAOYSA-N -2,3-Dihydroxypropanoic acid Natural products OCC(O)C(O)=O RBNPOMFGQQGHHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWNUSVWFHDHRCJ-UHFFFAOYSA-N 1-butoxypropan-2-ol Chemical compound CCCCOCC(C)O RWNUSVWFHDHRCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMVXCPBXGZKUPN-UHFFFAOYSA-N 1-hexanamine Chemical compound CCCCCCN BMVXCPBXGZKUPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPIUIOXAFBGMNB-UHFFFAOYSA-N 1-hexoxyhexane Chemical compound CCCCCCOCCCCCC BPIUIOXAFBGMNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 1-methylsulfonylpiperidin-4-one Chemical compound CS(=O)(=O)N1CCC(=O)CC1 RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FOUZISDNESEYLX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxyethylazaniumyl)acetate Chemical compound OCCNCC(O)=O FOUZISDNESEYLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPGSWASWQBLSKZ-UHFFFAOYSA-N 2-hexoxyethanol Chemical compound CCCCCCOCCO UPGSWASWQBLSKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJZRECIVHVDYJC-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyric acid Chemical compound OCCCC(O)=O SJZRECIVHVDYJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWQSAIIDOMEEOD-UHFFFAOYSA-N 5,5-Dimethyl-4-(3-oxobutyl)dihydro-2(3H)-furanone Chemical compound CC(=O)CCC1CC(=O)OC1(C)C AWQSAIIDOMEEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005632 Capric acid (CAS 334-48-5) Substances 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- 241000282994 Cervidae Species 0.000 description 1
- 235000005979 Citrus limon Nutrition 0.000 description 1
- 244000131522 Citrus pyriformis Species 0.000 description 1
- 244000060011 Cocos nucifera Species 0.000 description 1
- 235000013162 Cocos nucifera Nutrition 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBNPOMFGQQGHHO-UWTATZPHSA-N D-glyceric acid Chemical compound OC[C@@H](O)C(O)=O RBNPOMFGQQGHHO-UWTATZPHSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 1
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical group OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBVJJBKOTRCVKF-UHFFFAOYSA-N Etidronic acid Chemical compound OP(=O)(O)C(O)(C)P(O)(O)=O DBVJJBKOTRCVKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005639 Lauric acid Substances 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YDONNITUKPKTIG-UHFFFAOYSA-N [Nitrilotris(methylene)]trisphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)CN(CP(O)(O)=O)CP(O)(O)=O YDONNITUKPKTIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004480 active ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000004520 agglutination Effects 0.000 description 1
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxysuccinic acid Natural products OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N anhydrous glutaric acid Natural products OC(=O)CCCC(O)=O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003242 anti bacterial agent Substances 0.000 description 1
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000003899 bactericide agent Substances 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940092714 benzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 229940007550 benzyl acetate Drugs 0.000 description 1
- GONOPSZTUGRENK-UHFFFAOYSA-N benzyl(trichloro)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)CC1=CC=CC=C1 GONOPSZTUGRENK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- 229960004106 citric acid Drugs 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 229940028356 diethylene glycol monobutyl ether Drugs 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- MOTZDAYCYVMXPC-UHFFFAOYSA-N dodecyl hydrogen sulfate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOS(O)(=O)=O MOTZDAYCYVMXPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043264 dodecyl sulfate Drugs 0.000 description 1
- DUYCTCQXNHFCSJ-UHFFFAOYSA-N dtpmp Chemical compound OP(=O)(O)CN(CP(O)(O)=O)CCN(CP(O)(=O)O)CCN(CP(O)(O)=O)CP(O)(O)=O DUYCTCQXNHFCSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NFDRPXJGHKJRLJ-UHFFFAOYSA-N edtmp Chemical compound OP(O)(=O)CN(CP(O)(O)=O)CCN(CP(O)(O)=O)CP(O)(O)=O NFDRPXJGHKJRLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- XTEBISFIAYHLQY-UHFFFAOYSA-N ethene;2-(2-hydroxyethoxy)ethanol Chemical compound C=C.OCCOCCO XTEBISFIAYHLQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- 235000019387 fatty acid methyl ester Nutrition 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 238000011086 high cleaning Methods 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001630 malic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229940099690 malic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- QMHNQZGXPNCMCO-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylhexan-1-amine Chemical compound CCCCCCN(C)C QMHNQZGXPNCMCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N n-hexanoic acid Natural products CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJINZNWPEQMMBV-UHFFFAOYSA-N n-methylhexan-1-amine Chemical compound CCCCCCNC XJINZNWPEQMMBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=C2C(S(=O)(=O)O)=CC=CC2=C1 PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- IOQPZZOEVPZRBK-UHFFFAOYSA-N octan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCN IOQPZZOEVPZRBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N oxolane-2,4-dione Chemical compound O=C1COC(=O)C1 JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N pyrrolidin-2-one Chemical compound O=C1CCCN1 HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 238000010405 reoxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 1
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 1
- 229960001367 tartaric acid Drugs 0.000 description 1
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 1
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 1
- 229940005605 valeric acid Drugs 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/22—Organic compounds
- C11D7/32—Organic compounds containing nitrogen
- C11D7/3209—Amines or imines with one to four nitrogen atoms; Quaternized amines
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
- B08B3/08—Cleaning involving contact with liquid the liquid having chemical or dissolving effect
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
- B08B3/10—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration
- B08B3/12—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration by sonic or ultrasonic vibrations
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D1/00—Detergent compositions based essentially on surface-active compounds; Use of these compounds as a detergent
- C11D1/66—Non-ionic compounds
- C11D1/72—Ethers of polyoxyalkylene glycols
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D1/00—Detergent compositions based essentially on surface-active compounds; Use of these compounds as a detergent
- C11D1/66—Non-ionic compounds
- C11D1/722—Ethers of polyoxyalkylene glycols having mixed oxyalkylene groups; Polyalkoxylated fatty alcohols or polyalkoxylated alkylaryl alcohols with mixed oxyalkylele groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D17/00—Detergent materials or soaps characterised by their shape or physical properties
- C11D17/08—Liquid soap, e.g. for dispensers; capsuled
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
- C11D3/16—Organic compounds
- C11D3/20—Organic compounds containing oxygen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/22—Organic compounds
- C11D7/32—Organic compounds containing nitrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/50—Solvents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/50—Solvents
- C11D7/5036—Azeotropic mixtures containing halogenated solvents
- C11D7/5068—Mixtures of halogenated and non-halogenated solvents
- C11D7/5077—Mixtures of only oxygen-containing solvents
- C11D7/5086—Mixtures of only oxygen-containing solvents the oxygen-containing solvents being different from alcohols, e.g. mixtures of water and ethers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D2111/00—Cleaning compositions characterised by the objects to be cleaned; Cleaning compositions characterised by non-standard cleaning or washing processes
- C11D2111/10—Objects to be cleaned
- C11D2111/14—Hard surfaces
- C11D2111/22—Electronic devices, e.g. PCBs or semiconductors
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
- C11D3/16—Organic compounds
- C11D3/26—Organic compounds containing nitrogen
- C11D3/30—Amines; Substituted amines ; Quaternized amines
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
- C11D3/43—Solvents
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Emergency Medicine (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Abstract
本發明提供一種洗淨性及脫液性優異之網版用洗淨劑組合物。 本發明於一態樣中係關於一種網版用洗淨劑組合物,其含有相對於25℃之水100 g之溶解度未達10 g之胺(成分A)或其鹽、相對於25℃之水100 g之溶解度為0.02 g以上且未達10 g之溶劑(成分B)、及水,且上述成分A係選自碳數為6以上且26以下之一級胺、二級胺及三級胺之至少1種。
Description
本發明係關於一種網版用洗淨劑組合物及網版之洗淨方法。
於將電子零件安裝於印刷基板或陶瓷基板等時,一般進行焊接。通常於焊接時,為了去除焊料及母材表面之氧化膜、或者防止焊料及母材表面之再氧化從而獲得充分之焊料連接,而使用助焊劑。然而,助焊劑由於為腐蝕性且助焊劑殘渣會使印刷配線基板之品質降低,故而提出有各種用以將助焊劑殘渣洗淨去除之洗淨劑組合物。 例如,於專利文獻1中揭示有一種工業用洗淨劑組合物,其用於洗淨助焊劑殘渣或金屬加工油等各種污染物,包含特定之水溶性二醇醚75~94.99重量%、具有170~270℃之沸點之有機胺類0.01~5重量%、及水5~20重量%,且實質上不含其他成分。 於專利文獻2中揭示有一種洗淨劑組合物,其用於洗淨於印刷基板製造時之任意步驟中殘留在基板上之助焊劑及再熔解液,且包含二醇系溶劑、胺類及/或界面活性劑。 近年來,就低耗電、高速處理等觀點而言,電子零件不斷小型化,伴隨於此,配線圖案正進行微細化。為了形成微細之配線,主要進行使用網版之網版印刷。然而,因網版之反覆使用造成之助焊劑或焊料膏等各種膏於網版表面之附著會導致配線不良等製品不良,擔憂今後成為較大之問題。然而,先前之洗淨劑組合物對於附著於網版之助焊劑或焊料膏等污染物之洗淨性並不充分。進而,限制氟氯碳化物以前起使用之洗淨裝置仍被大量使用,雖然洗淨劑經脫氟氯碳化物化,但於洗淨裝置之構成及構造上而言,洗淨後不進行沖洗而直接乾燥後使用網版,因此,為了獲得較高之生產性,對洗淨劑要求快速乾燥性或脫液性。進而,於使用如具有易燃性之有機溶劑之情形時,必須設置嚴格之設備而設為防爆規格,要求不具有易燃性、即含有高沸點且低揮發性之水並且具有快速乾燥性、脫液性及能夠應對微細配線之高洗淨性的洗淨劑。 例如,於專利文獻3中揭示有一種金屬遮罩用洗淨劑,其含有:具有一定之沸點且為水溶性之1種或2種以上之二醇醚系化合物25~45重量%、具有一定之沸點與一定量之水溶性之1種或2種以上之二醇醚系化合物5~25重量%、胺系化合物0.005~1.0重量%及水(剩餘量)。 於專利文獻4中揭示有一種洗淨劑,其係用以洗淨附著有有機EL材料之被洗淨物者,且係含有包含二丙二醇丙醚之類之特定丙二醇5~80質量%及N-甲基-2-吡咯啶酮之類之特定吡咯啶酮類20~95質量%的組合物而成。 於專利文獻5中揭示有一種網版洗淨用組合物,其含有低沸點之親水性二醇醚單烷基醚、高沸點之親水性二醇醚單烷基醚及水。 先前技術文獻 專利文獻 專利文獻1:日本專利特開平9-87668號公報 專利文獻2:日本專利特開平5-125395號公報 專利文獻3:日本專利特開平9-59688號公報 專利文獻4:日本專利特開2006-265300號公報 專利文獻5:日本專利特開2000-267293號公報
[發明所欲解決之問題] 隨著網版之配線圖案之微細化,為了防止因網版之反覆使用造成之助焊劑或焊料膏等各種膏於網版表面之殘留所導致之製品缺陷,對洗淨劑要求更高之洗淨性。進而,為了獲得較高之生產性,較佳為於洗淨後能夠快速乾燥,對洗淨劑要求快速脫液性。然而,上述專利文獻中記載之方法無法同時實現高洗淨性與快速脫液性。 因此,本發明提供一種洗淨性及脫液性優異之網版用洗淨劑組合物及洗淨方法。 [解決問題之技術手段] 本發明於一態樣中係關於一種網版用洗淨劑組合物,其含有相對於25℃之水100 g之溶解度未達10 g之胺(成分A)或其鹽、相對於25℃之水100 g之溶解度為0.02 g以上且未達10 g之溶劑(成分B)、及水,且上述成分A係選自碳數為6以上且26以下之一級胺、二級胺及三級胺之至少1種。 本發明於一態樣中係關於一種網版之洗淨方法,其包含使用本發明之洗淨劑組合物洗淨被洗淨物之步驟,且上述被洗淨物為網版印刷後之網版。 本發明於一態樣中係關於一種本發明之洗淨劑組合物之用途,其用於洗淨網版印刷後之網版。 本發明於一態樣中係關於一種本發明之洗淨劑組合物之用途,其用於將助焊劑及焊料膏之至少一者自網版去除。 [發明之效果] 根據本發明,可提供一種洗淨性及脫液性優異之網版用洗淨劑組合物。並且,藉由使用本發明之洗淨劑組合物,可縮短網版之洗淨及乾燥所耗費之時間,效率良好地獲得潔淨度優異之網版,進而,可提高高品質之印刷基板或陶瓷基板等電子零件之生產效率。
本發明係基於如下知識見解:藉由在用於洗淨網版之洗淨劑組合物中含有相對於25℃之水100 g之溶解度未達10 g且碳數為6~26之一~三級胺(成分A)、及相對於25℃之水100 g之溶解度為0.02 g以上且未達10 g之溶劑(成分B),可提高洗淨性,且脫液性變快。 即,本發明於一態樣中係關於一種網版用洗淨劑組合物(以下亦稱為「本發明之洗淨劑組合物」),其含有相對於25℃之水100 g之溶解度未達10 g之胺(成分A)或其鹽、相對於25℃之水100 g之溶解度為0.02 g以上且未達10 g之溶劑(成分B)、及水,且上述成分A係選自碳數為6以上且26以下之一級胺、二級胺及三級胺之至少1種。根據本發明,可提供一種洗淨性及脫液性優異之網版用洗淨劑組合物。並且,藉由使用本發明之洗淨劑組合物,可縮短網版之洗淨及乾燥所耗費之時間,效率良好地獲得潔淨度優異之網版,進而,可提高高品質之印刷基板或陶瓷基板等電子零件之生產效率。 本發明之洗淨劑組合物之效果之詳細作用機制雖有不明確之部分,但推測如下。 若將本發明之洗淨劑組合物用於洗淨網版印刷後之網版,則洗淨劑組合物中之成分A之胺於水中之溶解度較低,具有低親水性即疏水性,因此吸附於網版表面,而使網版表面疏水化。並且,成分A於網版表面疏水化之同時會向助焊劑等油性成分吸附或滲透,使油性成分之流動性提高,而與網版表面電荷排斥。認為藉由如上所述成分A作用於網版表面與助焊劑等油性成分,可將油性成分自網版剝離(去除),進而防止去除之油性成分再次附著於網版。再者,認為於利用洗淨劑組合物進行洗淨時,利用由噴霧或超音波產生之物理力之輔助而容易將油性成分自網版去除。推測由於如上所述能夠自網版去除油性成分並防止再次附著,進而可抑制油性成分之凝集,因此洗淨性提高。並且,推測由於網版表面疏水化及/或洗淨劑組合物之表面張力較大,故而脫液性變快。 又,推測洗淨劑組合物中之成分B之溶劑由於對水具有某程度之溶解度,故而與成分A相溶,可使成分A於水中均勻地穩定化並容易向助焊劑等油性成分吸附或滲透,因此洗淨性提高。 進而推測,於成分A與酸形成鹽之情形、尤其於本發明之洗淨劑組合物中進而調配酸(成分C)而使成分A之胺與成分C之酸形成鹽之情形時,藉由於洗淨劑組合物中存在胺與酸之鹽,向助焊劑等油性成分之滲透性提高,能夠於更短之時間內表現上述效果。 但是,本發明亦可不限定於該機制地加以解釋。 [成分A:胺] 本發明之洗淨劑組合物含有相對於25℃之水100 g之溶解度未達10 g之胺(成分A)或其鹽。於本發明中,成分A可使用1種或混合2種以上使用。 成分A之相對於25℃之水100 g之溶解度未達10 g,就洗淨性及脫液性之觀點而言,較佳為8 g以下,更佳為5 g以下,進而較佳為2 g以下,進而更佳為1 g以下,進而更佳為0.5 g以下,進而更佳為0.2 g以下,進而更佳為0.1 g以下,並且,就同樣之觀點而言,較佳為0.0001 g以上,更佳為0.001 g以上,進而較佳為0.01 g以上。 就洗淨性及脫液性之觀點而言,成分A之胺係選自碳數為6以上且26以下之一級胺、二級胺及三級胺之至少1種。成分A之碳數就洗淨性及脫液性之觀點而言,為6以上,較佳為7以上,更佳為8以上,並且,就同樣之觀點而言,為26以下,較佳為18以下,更佳為12以下,進而較佳為10以下。於成分A為鹽之形態之情形時,作為用以形成鹽之抗衡離子,並無特別限定,例如可列舉成分C之酸。 作為成分A,就洗淨性及脫液性之觀點而言,較佳為選自式(I)所表示之化合物之至少1種。 [化1]式(I)中,R1
表示選自碳數5以上且18以下之直鏈或支鏈烷基、及碳數5以上且18以下之直鏈或支鏈烯基之至少1種,R2
及R3
相同或不同,表示選自碳數1以上且5以下之直鏈或支鏈烷基及氫原子之至少1種,且R1
、R2
及R3
之碳數之合計為6以上且26以下。 式(I)中,R1
之碳數就洗淨性及脫液性之觀點而言,為5以上,較佳為6以上,更佳為7以上,並且,就抑制起泡(以下亦稱為「抑泡性」)之觀點而言,為18以下,較佳為12以下,更佳為10以下,進而較佳為8以下。 式(I)中,就洗淨性及脫液性之觀點而言,R2
及R3
分別獨立為選自碳數1以上且5以下之直鏈或支鏈烷基及氫原子之至少1種,較佳為選自碳數1或2之直鏈烷基及氫原子之至少1種,更佳為甲基或氫原子,進而較佳為氫原子。 式(I)中,R1
、R2
及R3
之合計碳數就洗淨性及脫液性之觀點而言,為6以上,較佳為7以上,更佳為8以上,並且,就抑泡性之觀點而言,為26以下,較佳為18以下,更佳為12以下,進而較佳為10以下。 作為成分A之鹽,就洗淨性及脫液性之觀點而言,可列舉選自上述式(I)所表示之化合物之至少1種化合物與酸之鹽。作為酸,只要為與成分A形成水溶性鹽者,則並無特別限定,例如可列舉下述成分C之酸。 本發明之洗淨劑組合物於洗淨時之成分A之含量就洗淨性及脫液性之觀點而言,較佳為0.001質量%以上,更佳為0.01質量%以上,進而較佳為0.02質量%以上,並且,就洗淨性、脫液性及抑泡性之觀點而言,較佳為2.0質量%以下,更佳為1.0質量%以下,進而較佳為0.7質量%以下,進而更佳為0.2質量%以下,進而更佳為0.15質量%以下,進而更佳為0.1質量%以下。於成分A為2種以上之胺之組合之情形時,成分A之含量係指其等之合計含量。 於本發明中,「洗淨劑組合物於洗淨時之各成分之含量」於一個或複數個實施形態中,係指用於洗淨步驟之洗淨劑組合物之各成分之含量。 [成分B:溶劑] 本發明之洗淨劑組合物含有相對於25℃之水100 g之溶解度為0.02 g以上且未達10 g之溶劑(成分B)。於本發明中,成分B可使用1種或混合2種以上使用。 成分B之相對於25℃水之溶解度就洗淨性及脫液性之觀點而言,為0.02 g以上,較佳為0.05 g以上,更佳為0.1 g以上,進而較佳為0.2 g以上,並且,就同樣之觀點而言,未達10 g,較佳為5 g以下,更佳為3g以下,進而較佳為2 g以下。 作為成分B,就洗淨性及脫液性之觀點而言,可列舉具有上述範圍內之溶解度之除成分A以外之溶劑,例如可列舉具有上述範圍內之溶解度且選自二醇醚系溶劑及醇系溶劑之至少1種。作為上述二醇醚系溶劑,就洗淨性及脫液性之觀點而言,較佳為選自下述式(II)所表示之化合物之至少1種。 R4
O-(EO)m
(PO)n
-H (II) 上述式(II)中,R4
表示碳數3以上且12以下之烴基,EO表示環氧乙烷基,m為EO之加成莫耳數且為0以上且5以下之數,PO表示環氧丙烷基,n為PO之加成莫耳數且為0以上且2以下之數,m+n≧1,EO與PO之加成形態可為嵌段亦可為無規,且EO與PO之加成順序不受限定。 式(II)中,就提高洗淨性及脫液性之觀點而言,R4
為碳數3以上且12以下之烴基,較佳為碳數6以上且10以下之烴基,更佳為碳數6以上且8以下之烴基。 式(II)中,(EO)m
(PO)n
可由環氧乙烷基單獨構成,亦可由環氧乙烷基與環氧丙烷基構成。於(EO)m
(PO)n
係由環氧乙烷基與環氧丙烷基構成之情形時,EO與PO之排列可為無規亦可為嵌段。於EO與PO之排列為嵌段之情形時,EO之嵌段數、PO之嵌段數只要各平均加成莫耳數為上述範圍內,則分別可為1個亦可為1個以上。於包含EO之嵌段之數為2個以上之情形時,各嵌段中之EO之重複數可相互相同亦可不同。 作為成分B之具體例,例如可列舉:選自乙二醇單2-乙基己基醚(溶解度:0.20 g)、二乙二醇單2-乙基己基醚(溶解度:0.20 g)、乙二醇單己醚(溶解度:1.00 g)、二乙二醇單己醚(溶解度:1.40 g)、丙二醇單苯醚(苯氧基丙醇,溶解度:0.20 g)、二丙二醇單丙醚(溶解度:5.60 g)、丙二醇單丁醚(溶解度:6.60 g)之1種或2種以上之組合。就提高脫液性之觀點而言,較佳為選自乙二醇單2-乙基己基醚(溶解度:0.20 g)、乙二醇單己醚(溶解度:1.00 g)、二乙二醇單己醚(溶解度:1.40 g)及丙二醇單苯醚(溶解度:0.20 g)之1種或2種以上之組合,更佳為選自乙二醇單2-乙基己基醚(溶解度:0.20 g)、二乙二醇單己醚(溶解度:1.40 g)及丙二醇單苯醚(溶解度:0.20 g)之1種或2種以上之組合,進而較佳為乙二醇單2-乙基己基醚(溶解度:0.20 g)及二乙二醇單己醚(溶解度:1.40 g)之任一者,進而更佳為乙二醇單2-乙基己基醚(溶解度:0.20 g)。括弧內之溶解度表示相對於25℃之水100 g之溶解度。 本發明之洗淨劑組合物於洗淨時之成分B之含量就洗淨性及脫液性之觀點而言,較佳為0.1質量%以上,更佳為0.5質量%以上,進而較佳為1質量%以上,進而更佳為2質量%以上,並且,就同樣之觀點而言,較佳為20質量%以下,更佳為15質量%以下,進而較佳為12質量%以下,進而更佳為10質量%以下。於成分B為2種以上之溶劑之組合之情形時,成分B之含量係指其等之合計含量。 本發明之洗淨劑組合物中成分A之含量相對於成分B之含量的比A/B就洗淨性及脫液性之觀點而言,較佳為0.001以上,更佳為0.002以上,進而較佳為0.003以上,並且,就同樣之觀點而言,較佳為0.1以下,更佳為0.09以下,進而較佳為0.08以下。 [成分C:酸] 本發明之洗淨劑組合物可進而含有酸(成分C)。又,本發明之洗淨劑組合物可設為進而調配有酸(成分C)者。於本發明中,成分C可使用1種或混合2種以上使用。 作為成分C,就洗淨性及脫液性之觀點而言,較佳為與成分A形成鹽之酸,更佳為選自如下化合物及甲酸之1種或2種以上之酸,上述化合物具有1~3個選自羧基、磺酸基、硫酸基及磷酸基之至少1種基,且碳數為2以上且12以下。 作為成分C之具體例,例如可列舉:選自甲酸、乙酸、丙酸、丁酸、戊酸、己酸、庚酸、辛酸、2-乙基己酸、壬酸、癸酸、月桂酸、草酸、丙二酸、丁二酸、戊二酸、己二酸、庚二酸、辛二酸、壬二酸、癸二酸、鄰苯二甲酸、間苯二甲酸、對苯二甲酸、乙醇酸、乳酸、羥基丙二酸、羥基丁酸、甘油酸、蘋果酸、酒石酸、檸檬酸、甲磺酸、苯磺酸、對甲苯磺酸、萘磺酸、月桂基硫酸酯、2-胺基乙基膦酸、1-羥基亞乙基-1,1-二膦酸、胺基三(亞甲基膦酸)、乙二胺四(亞甲基膦酸)及二伸乙基三胺五(亞甲基膦酸)之1種或2種以上之組合,就洗淨性及脫液性之觀點而言,更佳為選自甲酸、乙酸、辛酸、2-乙基己酸、乳酸、檸檬酸、對甲苯磺酸及1-羥基亞乙基-1,1-二膦酸之1種或2種以上之組合,進而較佳為選自甲酸、乙酸、2-乙基己酸、檸檬酸、對甲苯磺酸及1-羥基亞乙基-1,1-二膦酸之1種或2種以上之組合,進而更佳為選自甲酸、乙酸、對甲苯磺酸及1-羥基亞乙基-1,1-二膦酸之1種或2種以上之組合,進而更佳為乙酸及對甲苯磺酸之任一者,進而更佳為乙酸。 本發明之洗淨劑組合物於洗淨時之成分C之含量(或調配量)就洗淨性及脫液性之觀點而言,較佳為0.001質量%以上,更佳為0.005質量%以上,進而較佳為0.01質量%以上,並且,就洗淨性、脫液性及將起泡抑制為較低之觀點而言,較佳為2.0質量%以下,更佳為1.0質量%以下,進而較佳為0.7質量%以下,進而更佳為0.2質量%以下,進而更佳為0.15質量%以下,進而更佳為0.1質量%以下。於成分C為2種以上之酸之組合之情形時,成分C之含量(或調配量)係指其等之合計含量(或合計調配量)。 本發明之洗淨劑組合物中成分A之含量相對於成分C之含量(或調配量)的比A/C就洗淨性及脫液性之觀點而言,較佳為0.1以上,更佳為0.2以上,進而較佳為0.4以上,並且,就同樣之觀點而言,較佳為10以下,更佳為7以下,進而較佳為5以下。 [成分D:水] 本發明之洗淨劑組合物含有水(成分D)。作為成分D之水,可使用離子交換水、RO(Reverse Osmosis,逆滲透)水、蒸餾水、純水、超純水。水之含量只要根據本發明之洗淨劑組合物之使用態樣進行適當設定即可。 本發明之洗淨劑組合物於洗淨時之成分D之含量就洗淨性之觀點而言,較佳為70質量%以上,更佳為80質量%以上,進而較佳為85質量%以上,並且,就同樣之觀點而言,較佳為99質量%以下,更佳為97質量%以下,進而較佳為95質量%以下。 [任意成分] 本發明之洗淨劑組合物於無損本發明之效果之範圍內,可除上述成分A~D以外視需要含有任意成分。作為任意成分,例如可列舉:選自非離子性界面活性劑;羥基乙基胺基乙酸、羥基乙基亞胺基二乙酸、乙二胺四乙酸等胺基羧酸鹽等具有螯合力之化合物;防腐劑;防銹劑;殺菌劑;抗菌劑;聚矽氧等消泡劑;抗氧化劑;椰油脂肪酸甲酯、乙酸苄酯等酯;烴系溶劑;醇類等之1種或2種以上之組合。 本發明之洗淨劑組合物於洗淨時之任意成分之含量就不阻礙本發明之效果之觀點而言,較佳為0質量%以上且2.0質量%以下,更佳為0質量%以上且1.5質量%以下,進而較佳為0質量%以上且1.3質量%以下,進而更佳為0質量%以上且1.0質量%以下。於本發明之洗淨劑組合物含有2種以上之任意成分之情形時,任意成分之含量係指其等之合計含量。 [洗淨劑組合物之pH值] 本發明之洗淨劑組合物於洗淨時之pH值就洗淨性及脫液性之觀點而言,較佳為12以下,更佳為9以下,進而較佳為8以下,進而更佳為7以下,並且,就洗淨性、脫液性及防止洗淨設備之腐蝕之觀點而言,較佳為4以上,更佳為4.5以上,進而較佳為5以上,進而更佳為5.5以上。於本發明中,「洗淨時之pH值」係指於25℃下使用洗淨劑組合物時(稀釋後)之pH值,可使用pH值計進行測定。具體可藉由實施例中記載之方法進行測定。 本發明之洗淨劑組合物之pH值調整例如可使用硝酸、硫酸等無機酸;羥基羧酸、多元羧酸、胺基聚羧酸、胺基酸等有機酸;及其等之金屬鹽或銨鹽、氨、氫氧化鈉、氫氧化鉀、胺等鹼性物質等進行。 [洗淨劑組合物之製造方法] 本發明之洗淨劑組合物可藉由將上述成分A、成分B及成分D、以及視需要之成分C及任意成分利用公知之方法進行調配而製造。例如,本發明之洗淨劑組合物可設為至少調配上述成分A、成分B及成分D而成者。因此,本發明於一態樣中係關於一種洗淨劑組合物之製造方法,其包含至少將上述成分A、成分B及成分D進行調配之步驟。於本發明中,所謂「調配」,包括將成分A、成分B及成分D、以及視需要之成分C及任意成分同時混合或按任意順序進行混合。於本發明之洗淨劑組合物之製造方法中,各成分之調配量可設為與上述本發明之洗淨劑組合物之各成分之含量相同。 本發明之洗淨劑組合物就儲存及運輸之觀點而言,亦可製備為減少成分D之水量而得之濃縮物。洗淨劑組合物之濃縮物就儲存及運輸之觀點而言,較佳為製成稀釋倍率3倍以上之濃縮物,就保管穩定性之觀點而言,較佳為製成稀釋倍率200倍以下之濃縮物。洗淨劑組合物之濃縮物能夠於使用時以各成分之含量成為上述含量(即,洗淨時之含量)之方式利用水稀釋而使用。進而,洗淨劑組合物之濃縮物亦能夠於使用時分別添加各成分而使用。於本發明中,洗淨劑組合物之濃縮物之「使用時」或「洗淨時」係指洗淨劑組合物之濃縮物被稀釋之狀態。 [被洗淨物] 本發明之洗淨劑組合物於一個或複數個實施形態中可用於洗淨網版印刷後之網版、及洗淨附著有助焊劑、焊料膏、銀膏、銅膏等導電膏等之網版。作為網版,例如可列舉金屬遮罩、樹脂遮罩、電鑄遮罩、乳劑遮罩等。 因此,本發明於一態樣中係關於一種本發明之洗淨劑組合物之用途,其用於洗淨網版印刷後之網版。進而,本發明於另一態樣中係關於一種本發明之洗淨劑組合物之用途,其用於將助焊劑及焊料膏之至少一者自網版去除。 [洗淨方法] 本發明於一態樣中係關於一種網版之洗淨方法(以下亦稱為「本發明之洗淨方法」),其包含使用本發明之洗淨劑組合物洗淨被洗淨物之步驟(以下亦稱為「洗淨步驟」)。於本發明之洗淨劑組合物為濃縮物之情形時,本發明之洗淨方法可進而包含將洗淨劑組合物之濃縮物稀釋之步驟。作為被洗淨物,可列舉上述被洗淨物。上述洗淨步驟於一個或複數個實施形態中,可包括使本發明之洗淨劑組合物與被洗淨物接觸。作為使用本發明之洗淨劑組合物洗淨被洗淨物之方法,例如可列舉:將被洗淨物浸漬於洗淨槽中而使洗淨劑組合物與被洗淨物接觸之方法、於超音波洗淨裝置之浴槽內使洗淨劑組合物與被洗淨物接觸之方法、使洗淨劑組合物噴霧狀射出而與被洗淨物接觸之方法等。 本發明之洗淨方法可進而包含不沖洗上述洗淨後之網版而進行乾燥之步驟。藉此,可縮短網版之洗淨及乾燥所耗費之時間,效率良好地獲得潔淨度優異之網版,可提高高品質之印刷基板或陶瓷基板等電子零件之生產性。 本發明之洗淨方法就容易發揮本發明之洗淨劑組合物之洗淨力之方面而言,較佳為於本發明之洗淨劑組合物與被洗淨物之接觸時照射超音波。作為超音波之照射條件,例如可設定為20~2000 kHz。 [套組] 本發明於一態樣中係關於一種套組(以下亦稱為「本發明之套組」),其係用於製造本發明之洗淨劑組合物者,且其於不使構成本發明之洗淨劑組合物之上述成分A、上述成分B及上述成分D中之至少1種成分與其他成分混合之狀態下保管。根據本發明,可提供一種能夠獲得洗淨性及脫液性優異之洗淨劑組合物之套組。 作為本發明之套組,例如可列舉如下套組(2液型洗淨劑組合物),其係於不使含有成分B之溶液(第1液)與含有成分A、C及D之1種或2種以上之溶液(第2液)相互混合之狀態下保存,且於使用時將該等進行混合。上述第1液及第2液之各者中亦可視需要混合有上述任意成分。 本發明進而係關於以下之洗淨劑組合物、洗淨方法、製造方法及套組。 <1>一種網版用洗淨劑組合物,其含有相對於25℃之水100 g之溶解度未達10 g之胺(成分A)或其鹽、相對於25℃之水100 g之溶解度為0.02 g以上且未達10 g之溶劑(成分B)、及水(成分D),且上述成分A係選自碳數為6以上且26以下之一級胺、二級胺及三級胺之至少1種。 <2>如<1>記載之網版用洗淨劑組合物,其pH值為5以上且12以下。 <3>如<1>或<2>記載之網版用洗淨劑組合物,其pH值較佳為12以下,更佳為9以下,進而較佳為8以下,進而更佳為7以下。 <4>如<1>至<3>中任一項記載之網版用洗淨劑組合物,其pH值較佳為4以上,更佳為4.5以上,進而較佳為5以上,進而更佳為5.5以上。 <5>如<1>至<4>中任一項記載之網版用洗淨劑組合物,其中成分A之相對於25℃之水100 g之溶解度未達10 g,較佳為8 g以下,更佳為5 g以下,進而較佳為2 g以下,進而更佳為1 g以下,進而更佳為0.5 g以下,進而更佳為0.2 g以下,進而更佳為0.1 g以下。 <6>如<1>至<5>中任一項記載之網版用洗淨劑組合物,其中成分A之相對於25℃之水100 g之溶解度較佳為0.0001 g以上,更佳為0.001 g以上,進而較佳為0.01 g以上。 <7>如<1>至<6>中任一項記載之網版用洗淨劑組合物,其中成分A之碳數為6以上,較佳為7以上,更佳為8以上。 <8>如<1>至<7>中任一項記載之網版用洗淨劑組合物,其中成分A之碳數為26以下,較佳為18以下,更佳為12以下,進而較佳為10以下。 <9>如<1>至<8>中任一項記載之網版用洗淨劑組合物,其中成分A係選自下述式(I)所表示之化合物之至少1種。 [化2]上述式(I)中,R1
表示選自碳數5以上且18以下之直鏈或支鏈烷基、及碳數5以上且18以下之直鏈或支鏈烯基之至少1種,R2
及R3
相同或不同,表示選自碳數1以上且5以下之直鏈或支鏈烷基及氫原子之至少1種,且R1
、R2
及R3
之合計碳數為6以上且26以下。 <10>如<9>記載之網版用洗淨劑組合物,其中成分A之鹽係選自上述式(I)所表示之化合物之至少1種化合物與選自如下化合物及甲酸之至少1種化合物的鹽,上述化合物具有1~3個選自羧基、磺酸基、硫酸基及磷酸基之至少1種基,且碳數為2以上且12以下。 <11>如<1>至<10>中任一項記載之網版用洗淨劑組合物,其中洗淨劑組合物於洗淨時之成分A之含量較佳為0.001質量%以上,更佳為0.01質量%以上,進而較佳為0.02質量%以上。 <12>如<1>至<11>中任一項記載之網版用洗淨劑組合物,其中洗淨劑組合物於洗淨時之成分A之含量較佳為2.0質量%以下,更佳為1.0質量%以下,進而較佳為0.7質量%以下,進而更佳為0.2質量%以下,進而更佳為0.15質量%以下,進而更佳為0.1質量%以下。 <13>如<1>至<12>中任一項記載之網版用洗淨劑組合物,其中成分B之相對於25℃之水之溶解度為0.02 g以上,較佳為0.05 g以上,更佳為0.1 g以上,進而較佳為0.2 g以上。 <14>如<1>至<13>中任一項記載之網版用洗淨劑組合物,其中成分B之相對於25℃之水之溶解度未達10 g,較佳為5 g以下,更佳為3g以下,進而較佳為2 g以下。 <15>如<1>至<14>中任一項記載之網版用洗淨劑組合物,其中成分B係選自下述式(II)所表示之化合物之至少1種化合物。 R4
O-(EO)m
(PO)n
-H (II) 此處,式(II)中,R4
表示碳數3以上且12以下之烴基,EO表示環氧乙烷基,m為EO之加成莫耳數且為0以上且5以下之數,PO表示環氧丙烷基,n為PO之加成莫耳數且為0以上且2以下之數,m+n≧1,EO與PO之加成形態可為嵌段亦可為無規,且EO與PO之加成順序不受限定。 <16>如<15>記載之網版用洗淨劑組合物,其中式(II)中之R4
為碳數3以上且12以下之烴基,較佳為碳數6以上且10以下之烴基,更佳為碳數6以上且8以下之烴基。 <17>如<1>至<16>中任一項記載之網版用洗淨劑組合物,其中洗淨劑組合物於洗淨時之成分B之含量較佳為0.1質量%以上,更佳為0.5質量%以上,進而較佳為1質量%以上,進而更佳為2質量%以上。 <18>如<1>至<17>中任一項記載之網版用洗淨劑組合物,其中洗淨劑組合物於洗淨時之成分B之含量較佳為20質量%以下,更佳為15質量%以下,進而較佳為12質量%以下,進而更佳為10質量%以下。 <19>如<1>至<18>中任一項記載之網版用洗淨劑組合物,其中洗淨劑組合物中成分A之含量相對於成分B之含量的比A/B較佳為0.001以上,更佳為0.002以上,進而較佳為0.003以上。 <20>如<1>至<19>中任一項記載之網版用洗淨劑組合物,其中洗淨劑組合物中成分A之含量相對於成分B之含量的比A/B較佳為0.1以下,更佳為0.09以下,進而較佳為0.08以下。 <21>如<1>至<20>中任一項記載之網版用洗淨劑組合物,其進而調配有選自如下化合物及甲酸之至少1種酸(成分C),上述化合物具有1~3個選自羧基、磺酸基、硫酸基及磷酸基之至少1種基,且碳數為2以上且12以下。 <22>如<21>記載之網版用洗淨劑組合物,其中洗淨劑組合物於洗淨時之成分C之含量(或調配量)較佳為0.001質量%以上,更佳為0.005質量%以上,進而較佳為0.01質量%以上。 <23>如<21>或<22>記載之網版用洗淨劑組合物,其中洗淨劑組合物於洗淨時之成分C之含量(或調配量)較佳為2.0質量%以下,更佳為1.0質量%以下,進而較佳為0.7質量%以下,進而更佳為0.2質量%以下,進而更佳為0.15質量%以下,進而更佳為0.1質量%以下。 <24>如<21>至<23>中任一項記載之網版用洗淨劑組合物,其中洗淨劑組合物中成分A之含量相對於成分C之含量(或調配量)的比A/C較佳為0.1以上,更佳為0.2以上,進而較佳為0.4以上。 <25>如<21>至<24>中任一項記載之網版用洗淨劑組合物,其中洗淨劑組合物中成分A之含量相對於成分C之含量(或調配量)的比A/C較佳為10以下,更佳為7以下,進而較佳為5以下。 <26>如<1>至<25>中任一項記載之網版用洗淨劑組合物,其中洗淨劑組合物於洗淨時之成分D之含量較佳為70質量%以上,更佳為80質量%以上,進而較佳為85質量%以上。 <27>如<1>至<26>中任一項記載之網版用洗淨劑組合物,其中洗淨劑組合物於洗淨時之成分D之含量較佳為99質量%以下,更佳為97質量%以下,進而較佳為95質量%以下。 <28>一種網版之洗淨方法,其包含使用如<1>至<27>中任一項記載之洗淨劑組合物洗淨被洗淨物之步驟,且上述被洗淨物為網版印刷後之網版。 <29>如<28>記載之網版之洗淨方法,其包含不沖洗上述洗淨後之網版而進行乾燥之步驟。 <30>一種套組,其係用於製造如<1>至<27>中任一項記載之洗淨劑組合物者,且其於不使成分A、成分B及成分D中之至少1種成分與其他成分混合之狀態下保管。 <31>一種如<1>至<27>中任一項記載之洗淨劑組合物之用途,其用於洗淨網版印刷後之網版。 <32>一種如<1>至<27>中任一項記載之洗淨劑組合物之用途,其用於將助焊劑及焊料膏之至少一者自網版去除。 實施例 以下,藉由實施例對本發明具體地進行說明,但本發明不受該等實施例任何限定。 1.洗淨劑組合物之製備(實施例1~26及比較例1~4) 以成為下述表1中記載之組成及含量(質量%、有效成分)之方式調配各成分,獲得實施例1~26及比較例1~4之洗淨劑組合物。pH值係25℃下洗淨劑組合物之pH值,係使用pH值計(東亞電波工業股份有限公司,HM-30G)測定將電極浸漬於洗淨劑組合物中經過40分鐘後之數值。 作為洗淨劑組合物之成分,使用下述者。 <成分A:胺> ·正己胺(和光純藥工業股份有限公司製造) ·正辛胺(東京化成工業股份有限公司製造) ·正十二烷基胺(東京化成工業股份有限公司製造,十二烷基胺(Dodecylamine)) ·正硬脂胺(東京化成工業股份有限公司製造,硬脂胺(Stearylamine)) ·N-甲基己基胺(和光純藥工業股份有限公司製造) ·N,N-二甲基己基胺(和光純藥工業股份有限公司製造) <非成分A:胺> ·正丁胺(和光純藥工業股份有限公司製造) ·聚氧乙烯(2莫耳)月桂胺(青木油脂工業股份有限公司製造,BLAUNON L-202) <成分B:溶劑(二醇醚)> ·乙二醇單2-乙基己基醚[日本乳化劑股份有限公司製造,乙二醇2-乙基己基醚(EHG,2-Ethyl Hexyl Glycol)] ·二乙二醇單己醚[日本乳化劑股份有限公司製造,二乙二醇己醚(HeDG,Hexyl Diglycol)] ·苯氧基丙醇(丙二醇單苯醚)[日本乳化劑股份有限公司製造,丙二醇苯醚(PhFG,Phenyl Propylene Glycol)] ·乙二醇單己醚[日本乳化劑股份有限公司製造,乙二醇己醚(HeG,Hexyl Glycol)] ·二乙二醇單2-乙基己基醚[日本乳化劑股份有限公司製造,二乙二醇2-乙基己基醚(EHDG,2-Ethyl Hexyl Diglycol)] ·二丙二醇單丙醚[日本乳化劑股份有限公司製造,二丙二醇丙醚(PFDG,Propyl Propylene Diglycol)] <非成分B:溶劑> ·二乙二醇單丁醚[日本乳化劑股份有限公司製造,二乙二醇丁醚(BDG,Butyl Diglycol)] <成分C:酸> ·乙酸(關東化學股份有限公司製造,鹿一級) ·對甲苯磺酸(和光純藥工業股份有限公司製造,對甲苯磺酸一水合物) ·1-羥基亞乙基-1,1-二膦酸(Italmatch Chemicals公司製造,Dequest 2010,60%水溶液) ·甲酸(朝日化學工業所股份有限公司製造,甲酸88%) ·2-乙基己酸(和光純藥工業股份有限公司製造) ·檸檬酸[和光純藥工業股份有限公司製造,檸檬酸(酐)] <成分D:水> ·由Organo股份有限公司製造之純水裝置G-10DSTSET製造之1 μS/cm以下之純水 <其他> ·氫氧化鉀(關東化學股份有限公司製造,鹿特級,固形物成分48質量%) [胺及溶劑相對於水之溶解度] 於1 L玻璃燒杯中添加水500 g,一面使用轉子(氟樹脂(PTFE(Polytetrafluoroethylene,聚四氟乙烯)),f 8 mm×50 mm)以轉數100 rpm進行攪拌,一面利用25℃之恆溫槽進行保溫。添加各種胺或溶劑0.1 g,利用目視確認均勻透明之狀態。每次追加添加0.1 g各種胺或溶劑直至變得不均勻透明,測定於水中之溶解度。 此處,於即便添加50 g胺或溶劑亦均勻透明之情形時,在該時間點結束測定,判斷為相對於25℃之水100 g之溶解度為10 g以上。於添加0.1 g胺或溶劑時便不均勻透明之情形時,判斷為相對於25℃之水100 g之溶解度未達0.02 g。 2.洗淨劑組合物之評價 使用所製備之實施例1~26及比較例1~4之洗淨劑組合物進行下述評價。 [穩定性] 於100 mL玻璃燒杯中製備各洗淨劑組合物100 g,於溫度25℃下使用轉子(氟樹脂(PTFE),f 8 mm×25 mm)以轉數100 rpm進行攪拌,對攪拌過程中之液體之狀態進行目視觀察,利用下述評價基準評價穩定性。將其結果示於表1。於未確認到相分離之情形時,可評價為穩定性優異。 <評價基準> A:無相分離 B:相分離 [洗淨性試驗方法] 於不鏽鋼製金屬網(斜紋荷蘭編織(twill dutch weave),500目)塗佈助焊劑(MB-T100,千住金屬工業股份有限公司製造),用助焊劑填滿不鏽鋼製金屬網之開口部,利用刮刀去除多餘之助焊劑後於室溫下放置24小時,切斷為20 mm×20 mm而製作評價用試樣。使用該試樣,按以下之順序對洗淨劑組合物之洗淨性進行評價。 於100 mL玻璃燒杯中添加各洗淨劑組合物50 g,並保溫於25℃水浴中。繼而,用鑷子保持試樣,將其浸漬於洗淨劑組合物中,照射超音波(104 kHz,50 W)15分鐘。洗淨後,不沖洗試樣而利用60℃之熱風乾燥15分鐘。 [洗淨性之評價方法] 使用光學顯微鏡:數位顯微鏡VHX-2000(KEYENCE股份有限公司製造),目視確認於乾燥後試樣之金屬網開口部有無助焊劑殘渣,並根據下述計算式算出殘留助焊劑殘渣之開口部之殘渣率,對洗淨性進行評價。將結果示於表1。值越小,可評價洗淨性越優異。 殘渣率(%)=有殘渣之開口部數÷全部之開口部數×100 [脫液性評價] 將鎳板(50 mm×25 mm×0.5 mm,太佑機材股份有限公司製造)作為試樣,使其垂直(將50 mm設為高度方向)立起,將洗淨劑組合物0.04 mL滴至垂直面上端,測量流至下端之到達時間,對脫液性進行評價。將結果示於表1。值越小,可評價脫液性越優異,乾燥越快。 [抑泡性] 將各洗淨劑組合物50 g添加於110 mL之螺旋口瓶,並保溫於25℃,上下振盪30次後靜置10秒,然後測量泡高度,從而對抑泡性進行評價。將結果示於表1。值越小,可評價起泡之抑制效果越高。 [表1]
如上述表1所示,含有特定之胺(成分A)、特定之溶劑(成分B)及水(成分D)之實施例1~26之洗淨劑組合物與比較例1~4之洗淨劑組合物相比,洗淨性及脫液性優異。 [產業上之可利用性] 本發明之洗淨劑組合物作為網版印刷後之網版用洗淨劑組合物有用,可縮短洗淨及乾燥所耗費之時間,效率良好地獲得潔淨度較高之網版,進而可提高高品質之印刷基板或陶瓷基板等電子零件之生產效率。
Claims (10)
- 一種網版用洗淨劑組合物,其含有相對於25℃之水100 g之溶解度未達10 g之胺(成分A)或其鹽、相對於25℃之水100 g之溶解度為0.02 g以上且未達10 g之溶劑(成分B)、及水,且 上述成分A係選自碳數為6以上且26以下之一級胺、二級胺及三級胺之至少1種。
- 如請求項1之網版用洗淨劑組合物,其pH值為5以上且12以下。
- 如請求項1或2之網版用洗淨劑組合物,其中成分A係選自下述式(I)所表示之化合物之至少1種; [化1]上述式(I)中,R1 表示選自碳數5以上且18以下之直鏈或支鏈烷基、及碳數5以上且18以下之直鏈或支鏈烯基之至少1種,R2 及R3 相同或不同,表示選自碳數1以上且5以下之直鏈或支鏈烷基及氫原子之至少1種,且R1 、R2 及R3 之合計碳數為6以上且26以下。
- 如請求項3之網版用洗淨劑組合物,其中成分A之鹽係選自上述式(I)所表示之化合物之至少1種化合物與選自如下化合物及甲酸之至少1種化合物的鹽,上述化合物具有1~3個選自羧基、磺酸基、硫酸基及磷酸基之至少1種基,且碳數為2以上且12以下。
- 如請求項1或2之網版用洗淨劑組合物,其中成分B係選自下述式(II)所表示之化合物之至少1種化合物; R4 O-(EO)m (PO)n H (II) 上述式(II)中,R4 表示碳數3以上且12以下之烴基,EO表示環氧乙烷基,m為EO之加成莫耳數且為0以上且5以下之數,PO表示環氧丙烷基,n為PO之加成莫耳數且為0以上且2以下之數,m+n≧1,EO與PO之加成形態可為嵌段亦可為無規,且EO與PO之加成順序不受限定。
- 如請求項1或2之網版用洗淨劑組合物,其進而調配有選自如下化合物及甲酸之至少1種酸(成分C),上述化合物具有1~3個選自羧基、磺酸基、硫酸基及磷酸基之至少1種基,且碳數為2以上且12以下。
- 一種網版之洗淨方法,其包含使用如請求項1至6中任一項之洗淨劑組合物洗淨被洗淨物之步驟,且 上述被洗淨物為網版印刷後之網版。
- 如請求項7之網版之洗淨方法,其包含不沖洗上述洗淨後之網版而進行乾燥之步驟。
- 一種如請求項1至6中任一項之洗淨劑組合物之用途,其用於洗淨網版印刷後之網版。
- 一種如請求項1至6中任一項之洗淨劑組合物之用途,其用於將助焊劑及焊料膏之至少一者自網版去除。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016151282A JP6951059B2 (ja) | 2016-08-01 | 2016-08-01 | スクリーン版用洗浄剤組成物 |
JP??2016-151282 | 2016-08-01 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW201819615A true TW201819615A (zh) | 2018-06-01 |
TWI734816B TWI734816B (zh) | 2021-08-01 |
Family
ID=61073409
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW106125434A TWI734816B (zh) | 2016-08-01 | 2017-07-28 | 網版用洗淨劑組合物 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6951059B2 (zh) |
KR (1) | KR102176804B1 (zh) |
CN (1) | CN109563453B (zh) |
TW (1) | TWI734816B (zh) |
WO (1) | WO2018025648A1 (zh) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3715092A4 (en) | 2017-11-20 | 2021-08-11 | Japan Polypropylene Corporation | DECORATIVE FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING A DECORATIVE MOLDED BODY WITH IT |
JP7306373B2 (ja) | 2018-03-14 | 2023-07-11 | 三菱瓦斯化学株式会社 | ドライエッチング残渣を除去するための洗浄液及びこれを用いた半導体基板の製造方法 |
JP2020037726A (ja) * | 2018-09-05 | 2020-03-12 | 株式会社トクヤマMetel | 金属物品の洗浄方法 |
KR20210099006A (ko) * | 2018-12-05 | 2021-08-11 | 카오카부시키가이샤 | 플럭스 잔사의 세정 |
KR20210099579A (ko) * | 2018-12-05 | 2021-08-12 | 카오카부시키가이샤 | 플럭스 잔사 제거용 세정제 조성물 |
JP7305454B2 (ja) * | 2019-06-20 | 2023-07-10 | アルバックテクノ株式会社 | マスクの洗浄方法 |
JP7372661B2 (ja) * | 2019-09-20 | 2023-11-01 | 化研テック株式会社 | 洗浄剤組成物及び洗浄剤組成物用原液 |
JP7372662B2 (ja) * | 2019-09-20 | 2023-11-01 | 化研テック株式会社 | 洗浄剤組成物及び洗浄剤組成物用原液 |
CN111097746A (zh) * | 2019-12-18 | 2020-05-05 | 西安英诺维特新材料有限公司 | 一种光伏焊带模具的清洗方法 |
CN112760660A (zh) * | 2020-12-25 | 2021-05-07 | 浙江亚欣包装材料有限公司 | 一种全息镍版用清洗剂及其制备方法 |
TW202307192A (zh) | 2021-08-10 | 2023-02-16 | 日商日油股份有限公司 | 導電性糊用清洗劑組成物及導電性糊的清洗方法 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0525494A (ja) * | 1991-07-24 | 1993-02-02 | Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd | 洗浄剤 |
JPH05125395A (ja) | 1991-11-05 | 1993-05-21 | Metsuku Kk | 洗浄剤組成物 |
JPH07276845A (ja) * | 1994-04-04 | 1995-10-24 | Nippon Hyomen Kagaku Kk | スクリーン印刷版の洗浄液 |
JP4063344B2 (ja) | 1995-08-23 | 2008-03-19 | 旭化成ケミカルズ株式会社 | メタルマスク用洗浄剤組成物 |
JPH0987668A (ja) | 1995-09-27 | 1997-03-31 | Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd | 洗浄剤組成物、及びこれの再処理方法 |
JP2000267293A (ja) | 1999-03-15 | 2000-09-29 | Asahi Chem Ind Co Ltd | スクリーン版洗浄用組成物 |
JP4327322B2 (ja) * | 2000-01-19 | 2009-09-09 | 昭和電工株式会社 | ハンダ付けフラックス及びハンダペースト |
JP2006199939A (ja) * | 2004-12-20 | 2006-08-03 | Sanyo Chem Ind Ltd | エレクトロニクス用洗浄剤 |
JP2006265300A (ja) | 2005-03-22 | 2006-10-05 | Tokuyama Corp | 洗浄剤 |
WO2009020199A1 (ja) * | 2007-08-08 | 2009-02-12 | Arakawa Chemical Industries, Ltd. | 鉛フリーハンダフラックス除去用洗浄剤組成物、および鉛フリーハンダフラックスの除去方法 |
JP5252853B2 (ja) * | 2007-08-10 | 2013-07-31 | 花王株式会社 | ハンダフラックス用洗浄剤組成物 |
DE202007011599U1 (de) * | 2007-08-18 | 2007-11-15 | Wüstefeld, Jens-Hagen | Tragstruktur für Leichtbauelemente |
CN101629131B (zh) * | 2008-07-15 | 2011-09-14 | 村上精密制版(昆山)有限公司 | 一种丝网印刷用丝网清洗剂 |
US8211845B2 (en) * | 2008-08-27 | 2012-07-03 | Arakawa Chemical Industries, Ltd. | Cleaning composition for removing lead-free solder flux and system for removing lead-free solder flux |
JP5546263B2 (ja) * | 2009-01-26 | 2014-07-09 | 化研テック株式会社 | 洗浄液再生装置及び循環洗浄装置 |
WO2013180135A1 (ja) * | 2012-05-28 | 2013-12-05 | 花王株式会社 | 内視鏡洗浄機用洗浄剤組成物 |
CN105658780B (zh) * | 2013-10-23 | 2019-04-05 | 荒川化学工业株式会社 | 工业用共沸清洗剂、物品的清洗方法、工业用共沸清洗剂的再生方法以及清洗再生装置 |
-
2016
- 2016-08-01 JP JP2016151282A patent/JP6951059B2/ja active Active
-
2017
- 2017-07-20 CN CN201780047526.7A patent/CN109563453B/zh active Active
- 2017-07-20 WO PCT/JP2017/026231 patent/WO2018025648A1/ja active Application Filing
- 2017-07-20 KR KR1020197002981A patent/KR102176804B1/ko active IP Right Grant
- 2017-07-28 TW TW106125434A patent/TWI734816B/zh active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6951059B2 (ja) | 2021-10-20 |
CN109563453B (zh) | 2022-10-18 |
TWI734816B (zh) | 2021-08-01 |
CN109563453A (zh) | 2019-04-02 |
JP2018021093A (ja) | 2018-02-08 |
WO2018025648A1 (ja) | 2018-02-08 |
KR102176804B1 (ko) | 2020-11-10 |
KR20190025667A (ko) | 2019-03-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI734816B (zh) | 網版用洗淨劑組合物 | |
JP5428859B2 (ja) | 鉛フリーハンダフラックス除去用洗浄剤組成物、および鉛フリーハンダフラックスの除去方法 | |
JP2022009467A (ja) | ポスト化学機械平坦化(cmp)洗浄 | |
JP6598671B2 (ja) | フラックス用洗浄剤組成物 | |
TWI796397B (zh) | 樹脂遮罩剝離用洗淨劑組合物 | |
WO2005021700A1 (ja) | 半田フラックス除去用洗浄剤および半田フラックスの洗浄方法 | |
JP2015218295A (ja) | 洗浄剤組成物用原液、洗浄剤組成物および洗浄方法 | |
KR102225717B1 (ko) | 땜납 플럭스 잔사 제거용 세정제 조성물 | |
KR101847208B1 (ko) | 평판표시장치용 세정제 조성물 | |
JP2005060660A (ja) | 半導体基板用洗浄液 | |
JP2017119782A (ja) | 水溶性フラックス用洗浄剤組成物 | |
TW202028448A (zh) | 助焊劑殘餘物除去用清潔劑組合物 | |
KR101128865B1 (ko) | 리플로우 공정에 따른 플럭스 잔사 세정제 조성물 및 이를 이용한 세정방법 | |
JPWO2019163465A1 (ja) | リンス剤及びリンス剤の使用方法 | |
WO2021210599A1 (ja) | 基板の洗浄方法 | |
JP2005015776A (ja) | 硬質表面用洗浄剤組成物 | |
JP5203637B2 (ja) | レジスト、エッチング残渣、及び金属酸化物をアルミニウム及びアルミニウム銅合金を有する基板から除去する方法及び組成物 | |
JP6100669B2 (ja) | 洗浄液組成物 | |
JP2017116871A (ja) | 樹脂マスク剥離用洗浄剤組成物 | |
TW202223074A (zh) | 助焊劑用清潔劑組合物 | |
KR20170001122A (ko) | 매거진 세정액 조성물 | |
JP2017034256A (ja) | レジスト基板前処理組成物及びレジスト基板の製造方法 | |
JP2021099380A (ja) | 樹脂マスク剥離用洗浄剤組成物 | |
JP2024060151A (ja) | 洗浄剤組成物、及び洗浄剤組成物用の原液 | |
JP2022043812A (ja) | 樹脂マスク剥離用洗浄剤組成物 |