WO2014192755A1 - 弾性波フィルタ装置 - Google Patents

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康政 谷口
正人 荒木
克也 大門
三村　昌和
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株式会社村田製作所
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Definitions

  • the present invention relates to an elastic wave filter device formed by connecting a plurality of elastic wave resonators, and more particularly, to an elastic wave filter device having a series arm and a parallel arm.
  • Patent Documents 1 and 2 below disclose a structure in which the sound speed at the electrode finger tip side portion is lower than the sound speed at the electrode finger intersection in the IDT electrode. Thereby, it is said that the ripple can be suppressed by the transverse mode by forming the piston mode.
  • Patent Document 1 discloses that regions having different opening widths and sound speeds in series arm resonators are different from regions having different opening widths and sound speeds in parallel arm resonators.
  • Patent Document 3 discloses a ladder type filter in which the crossing width of the parallel arm resonator is larger than the crossing width of the series arm resonator. As a result, spurious due to the transverse mode is suppressed and downsized. Increasing the crossing width of the parallel arm resonator increases the transverse mode harmonics. It is said that the transverse mode spurious is dispersed by the increase of the transverse mode harmonics.
  • Patent Documents 1 and 2 disclose a configuration that suppresses transverse mode ripple by forming a piston mode. Further, Patent Document 1 describes that the shape of the region where the opening width and sound speed of the IDT electrode are different between the series arm resonator and the parallel arm resonator. However, the transverse mode ripple cannot be reliably suppressed simply by changing the regions having different opening widths and sound velocities between the series arm resonator and the parallel arm resonator.
  • An object of the present invention is to provide an elastic wave filter device that can reliably suppress transverse mode ripple.
  • the acoustic wave filter device has a series arm connecting the input terminal and the output terminal, a parallel arm connecting the series arm and the ground potential, and has a plurality of acoustic wave resonators.
  • each acoustic wave resonator has a piezoelectric substrate and an IDT electrode formed on the piezoelectric substrate.
  • the IDT electrode is electrically connected to the first bus bar, the second bus bar arranged to be separated from the first bus bar, and the base end to the first bus bar, A plurality of first electrode fingers extending to the second bus bar side and a base end connected to the second bus bar and extending toward the first bus bar side, the plurality of first electrode fingers And a plurality of second electrode fingers interleaved with each other.
  • a central region is provided in the center of the IDT electrode in the direction in which the first and second electrode fingers extend, and the sound speed is relatively higher than the central region outside the central region in the direction in which the electrode fingers extend.
  • a low low sound velocity region is provided, and a high sound velocity region having a higher elastic wave propagation velocity than the central region is provided outside the extending direction of the low sound velocity region.
  • the width direction dimension of the low sound velocity region of at least one elastic wave resonator is the width direction of the low sound velocity region of the remaining elastic wave resonators. It is different from the dimensions.
  • the first and second bus bars have a plurality of openings dispersedly arranged along the elastic wave propagation direction, and the IDT electrodes rather than the openings.
  • the inner busbar part is the inner busbar part
  • the part provided with the plurality of openings is the central busbar part
  • the outer part of the central busbar part is the outer busbar part
  • the inner busbar part is the elastic wave propagation It has a strip shape extending in the direction
  • the central bus bar portion constitutes the high sound velocity region.
  • the elastic wave filter device includes a width portion provided on a base end side with respect to the inner bus bar width and / or the central region, and the inner bus bar width and / or the The width of the thick portion is different between the at least one elastic wave resonator and the remaining elastic wave resonators.
  • the plurality of acoustic wave resonators include a series arm resonator provided in a series arm and a parallel arm resonator provided in a parallel arm.
  • a ladder-type filter is configured, and the at least one elastic wave resonator is the series arm resonator, and the remaining elastic wave resonator is the parallel arm resonator.
  • the width direction dimension of the low acoustic velocity region of the series arm resonator is smaller than the width direction dimension of the low acoustic velocity region of the parallel arm resonator.
  • each of the series arm resonator and the parallel arm resonator has a plurality of resonators, and a low sound velocity region of the plurality of series arm resonators.
  • the width direction dimension is smaller than the width direction dimension of the low sound velocity region of the plurality of parallel arm resonators.
  • At least one of the series arm resonators has a width direction dimension in a low sound velocity region, and the remaining series arm resonators. This is different from the width dimension of the low sound velocity region.
  • the width direction dimension of the low sound velocity region of at least one parallel arm resonator is the remaining parallel arm resonator. This is different from the width dimension of the low sound velocity region.
  • the low sound velocity region includes the inner busbar width and / or a thicker width portion provided closer to the base end side than the central region, The width of the bus bar and / or the width of the thick portion is smaller in the series arm resonator than in the parallel arm resonator.
  • the transverse mode ripple is effective. It is possible to suppress it.
  • FIGS. 1A and 1B are enlarged views of an IDT electrode of one series arm resonator and one parallel arm resonator of the acoustic wave filter device according to the first embodiment of the present invention.
  • FIG. FIG. 2 is a circuit diagram of the acoustic wave filter device according to the first embodiment of the present invention.
  • 3A and 3B are a schematic plan view of the series arm resonator S1-1 in the acoustic wave filter device according to the first embodiment of the present invention and an enlarged cross-sectional view showing the electrode structure thereof. is there.
  • FIG. 4 is a diagram showing the filter characteristics of the elastic wave filter device according to the first and second embodiments of the present invention and the elastic wave filter device of the comparative example.
  • FIG. 5 is a partially cutaway plan view showing a modification of the planar shape of the IDT electrode of the acoustic wave resonator used in the acoustic wave resonator used in the acoustic wave filter device of the present invention.
  • FIG. 6 is a partially cutaway plan view showing another modification of the planar shape of the IDT electrode of the acoustic wave resonator used in the acoustic wave resonator used in the acoustic wave filter device of the present invention.
  • FIG. 2 is a circuit diagram of the acoustic wave filter device according to the first embodiment of the present invention.
  • the elastic wave filter device 1 is a ladder type filter.
  • the present invention is not limited to ladder type filters, as will be described later.
  • the acoustic wave filter device 1 has a series arm 4 that connects an input terminal 2 and an output terminal 3. First to third parallel arms 5, 6, and 7 that connect the serial arm 4 and the ground potential are provided. On the series arm 4, a plurality of series arm resonators S1-1 to S1-3, S2-1 to S2-3, and S3-1 to S3-3 are arranged. A capacitor C1 is connected in parallel with the series arm resonators S2-2 and S2-3.
  • the parallel arm 5 connects the connection point between the series arm resonator S1-3 and the series arm resonator S2-1 and the ground potential.
  • the parallel arm resonator P1 and the inductance L1 are connected in series.
  • the second parallel arm 6 is connected to a connection point between the series arm resonator S2-3 and the series arm resonator S3-1.
  • the third parallel arm 7 is connected to the output terminal 3.
  • Parallel arm resonators P2 and P3 are disposed on the second parallel arm 6 and the third parallel arm 7, respectively.
  • the second parallel arm 6 and the third parallel arm 7 are commonly connected by a common connection point 8, and an inductance L2 is connected between the common connection point 8 and the ground potential.
  • the series arm resonators S1-1 to S3-3 and the parallel arm resonators P1 to P3 are each composed of a surface acoustic wave resonator.
  • a surface acoustic wave resonator has a structure in which an IDT electrode is formed on a piezoelectric substrate.
  • 3 (a) and 3 (b) are a schematic plan view of the series arm resonator S1-1 and an enlarged cross-sectional view showing an electrode structure thereof.
  • the series arm resonator S1-1 includes a piezoelectric substrate 11 and an IDT electrode 12 formed on the piezoelectric substrate 11. Reflectors 13 and 14 are provided on both sides of the IDT electrode 12 in the surface acoustic wave propagation direction.
  • the series arm resonator S1-1 is a one-port surface acoustic wave resonator having the above structure.
  • a SiO 2 film and a SiN film are laminated as a dielectric layer so as to cover the IDT electrode 12 and the reflectors 13 and 14.
  • FIG. 3B shows the laminated structure in an enlarged manner.
  • the piezoelectric substrate 11 is made of 127.5 ° YX LiNbO 3 .
  • the material constituting the piezoelectric substrate is not particularly limited. That is, various piezoelectric single crystals and piezoelectric ceramics can be used.
  • FIG.3 (b) the part in which the one electrode finger of the said IDT electrode 12 is formed is expanded and shown.
  • An IDT electrode 12 is formed on the piezoelectric substrate 11.
  • the IDT electrode 12 is made of a laminated metal film. That is, the NiCr film 12a, the Pt film 12b, the Ti film 12c, the AlCu film 12d, and the Ti film 12e are stacked in order from the bottom.
  • the thickness of each layer is set to NiCr film 12a: 100 :, Pt film 12b: 360 ⁇ , Ti film 12c: 100 ⁇ , AlCu film 12d: 1500 ⁇ , and Ti film 12e: 100 ⁇ .
  • a SiO 2 film 15 is laminated so as to cover the IDT electrode 12.
  • the thickness of the SiO 2 film 15 from the upper surface of the piezoelectric substrate 11 to the upper surface of the SiO 2 film 15 is 5700 mm.
  • a SiN film 16 is laminated on the SiO 2 film 15.
  • the SiN film 16 has a thickness of 200 mm.
  • SiO 2 film 15 and the SiN film 16 which are the dielectric layers are not necessarily provided.
  • the structure of the surface acoustic wave resonator is shown as a representative of the series arm resonator S1-1.
  • the other series arm resonators S1-2 to S3-3 and the parallel arm resonators P1 to P3 have the same 1
  • a port type surface acoustic wave resonator is used.
  • the electrode structure and the thickness of the dielectric layer in each surface acoustic wave resonator were the same as those of the series arm resonator S1-1.
  • a low sound velocity region and a high sound velocity region are provided in each surface acoustic wave resonator. It has been.
  • the following low sound velocity region and high sound velocity region are provided. This will be described more specifically with reference to FIGS. 1 (a) and 1 (b).
  • FIG. 1 (a) is a partially cutaway enlarged plan view showing the main part of the IDT electrode of the series arm resonator S3-1.
  • the IDT electrode includes the first bus bar 21.
  • FIG. 1 (a) only the first bus bar 21 side is shown, and the second bus bar side is not shown, but it is pointed out that it is configured in the same way as the first bus bar side. Keep it.
  • the bus bar 21 has an inner bus bar portion 21A, a central bus bar portion 21B, and an outer bus bar portion 21C.
  • the inside refers to the inside of the region where the first and second electrode fingers 23 and 24 intersect.
  • the base end of the first electrode finger 23 is connected to the first bus bar 21.
  • the base ends of the second electrode fingers 24 are connected to a second bus bar (not shown).
  • an opening 25 is provided in the central bus bar portion 21B.
  • the opening 25 has a rectangular shape.
  • the shape of the opening 25 is not particularly limited.
  • the inner bus bar portion 21A is an elongated strip-shaped bus bar portion. Therefore, since the region is metallized, a low sound velocity region is formed. Further, the proximal end portion of the first electrode finger 23 has a convex portion 23a and a plurality of wide width portions 23b having a width direction protruding portion. A wide width portion 24 a is also provided on the distal end side of the second electrode finger 24. Since the thick portions 23b and 24a are provided, this region constitutes a low sound velocity region.
  • the widthwise central portion of the region where the first electrode finger 23 and the second electrode fingers 24 intersect is a central area indicated by the acoustic velocity V 1.
  • the low sound velocity region is located outside the central region, and the high sound velocity region is located outside the low sound velocity region.
  • the sound speed in the central area is V 1
  • the sound speed in the low sound speed area is V 2 A
  • the sound speed in the high sound speed area is V 3 .
  • the width of the low sound velocity region is W1A
  • the width of the high sound velocity region is W2.
  • the width of the low sound velocity region of the series arm resonator S3-1 is W1A, and the widths of the low sound velocity regions of the series arm resonators S3-2 and S3-3 are also the same W1A.
  • FIG. 1B is a diagram showing a main part of the IDT electrode of the parallel arm resonator P1 in the present embodiment.
  • the electrode structure of the parallel arm resonator P1 is substantially the same as that of the series arm resonator S3-1 shown in FIG.
  • the width W1B of the low sound speed region is larger than the width W1A of the low sound speed region shown in FIG. That is, in the present embodiment, the width W1A of the low sound velocity region in the series arm resonators S3-1 to S3-3 is smaller than the width W1B of the low sound velocity region of the parallel arm resonator P1.
  • the width W1B of the low sound velocity region is made larger than the width of the low sound velocity region of the remaining parallel arm resonators P2 and P3 and the series arm resonators S1-1 to S3-3.
  • the width W1A of the low sound velocity region of the series arm resonators S3-1 to S3-3 is smaller than the width of the low sound velocity region of the remaining resonators, the transverse mode ripple in the passband is reduced. It can be effectively suppressed. This will be described based on a specific experimental example.
  • Table 1 shows design parameters of the series arm resonators S1-1 to S3-3 and the parallel arm resonators P1 to P3 of the present embodiment.
  • the 4 represents the attenuation frequency characteristic of the elastic wave filter device 1 of the present embodiment.
  • the broken line indicates the result of the comparative example in which the widths of the low sound velocity region and the high sound velocity region are the same in all the resonators.
  • the alternate long and short dash line indicates the attenuation frequency characteristic of the second embodiment described later.
  • the transverse mode ripple indicated by the arrow A is considered to be a ripple caused by the series arm resonators S3-1 to S3-3.
  • the passband is constituted by the anti-resonance frequency of the parallel arm resonator and the resonance frequency of the series arm resonator. Therefore, if a transverse mode remains near the anti-resonance frequency of the parallel arm resonator and the resonance frequency of the series arm resonator, a ripple is generated in the passband.
  • the transverse mode ripple indicated by the arrow A is not observed.
  • the width W1A of the low sound velocity region is smaller than the width of the low sound velocity region of the remaining series arm resonators S1-1 to S2-3.
  • the width W1B of the low sound velocity region is larger than the width of the low sound velocity region of the remaining parallel arm resonators P2 and P3 and the series arm resonators S1-1 to S1-3. Has also been enlarged. Therefore, the transverse mode ripple indicated by the arrow B is also suppressed.
  • the width of the low sound velocity region of the series arm resonators S3-1 to S3-3 is the same as that of the series arm resonators S1-1 to S2-3 in the second embodiment. Except for this, it is the attenuation frequency characteristic of the elastic wave filter device configured in the same manner as in the above embodiment. That is, in the second embodiment, the width of the low sound velocity region of the series arm resonators S1-1 to S3-3 is made smaller than the width of the low sound velocity region of the parallel arm resonators P1 to P3. As apparent from comparing the filter characteristic indicated by the alternate long and short dash line with the filter characteristic of the comparative example indicated by the broken line, the transverse mode ripple caused by the parallel arm resonator P1 is also suppressed in the second embodiment. I understand that.
  • the width W1A of the low acoustic velocity region of the series arm resonators S3-1 to S3-3 is set to be lower than that of the other series arm resonators S1-1 to S2-3. It is desirable to make it smaller than the width of the sound velocity region. As a result, it can be seen that the ripple indicated by the arrow A can also be suppressed.
  • the width of the low sound velocity region in the series arm resonators S1-1 to S3-3 is set to the parallel arm resonator P1. It is desirable to make it smaller than the width of the low sound velocity region of P3.
  • transverse mode ripples generated in the vicinity of the resonance frequency of the series arm resonator and in the vicinity of the antiresonance frequency of the parallel arm resonator can be suppressed, and as a result, the in-band ripple can be suppressed. Therefore, the in-band ripple in the elastic wave filter device having the ladder type circuit configuration can be effectively suppressed.
  • Patent Document 1 describes that the shape of regions having different opening widths and sound velocities of IDT electrodes differs between series arm resonators and parallel arm resonators. It was difficult to suppress this.
  • the transverse mode ripple can be suppressed by making the width of the low sound velocity region in the series arm resonator different from the width of the low sound velocity region in the parallel arm resonator. It was. Accordingly, the transverse mode ripple in the band can be effectively suppressed.
  • the present invention is not limited to the acoustic wave filter device having the ladder type circuit configuration as in the above embodiment. That is, the present invention can be applied to various filter devices having a series arm and a parallel arm and having a plurality of elastic wave resonators.
  • the filter device may include a series arm and a parallel arm, and an elastic wave resonator is arranged in each of the plurality of parallel arms, and no elastic wave resonator is arranged in the series arm.
  • a plurality of elastic wave resonators may be connected in series to the series arm, and the filter device may not include the elastic wave resonator in the parallel arm.
  • an elastic wave filter device having one elastic wave resonator in the series arm and one elastic wave resonator in the parallel arm may be used.
  • the width of the low sound velocity region in at least one of the plurality of elastic wave resonators is made different from the width of the low sound velocity region in the remaining elastic wave resonators.
  • In-band ripple can be suppressed.
  • it is effective to reduce the width of the low sound velocity region of the elastic wave resonators arranged in the series arm rather than the elastic wave resonators arranged in the parallel arms, thereby reducing the ripple in the passband. It can be effectively suppressed.
  • the acoustic wave resonator used in the present invention may be a surface acoustic wave resonator using the surface acoustic wave described above, or an acoustic wave resonator using another elastic wave such as a boundary acoustic wave. May be.
  • any elastic wave resonator having an IDT electrode can be used.
  • the width of the low sound velocity region can be changed in various forms. For example, taking the series arm resonator S3-1 shown in FIG. 1 (a) as an example, the widthwise dimension of the region where the thick width portion 23b is provided, and the strip-shaped bus bar portion constituting the inner bus bar portion 21A This can be achieved by, for example, a method of changing the width of.
  • the configuration is not limited to the configuration in which a plurality of thick portions are provided on the distal end side and the proximal end side of the electrode finger shown in FIG.
  • the configuration may be such that the portion 24 a is provided on the tip side of the second electrode finger 24.
  • the first and second electrode fingers 23 and 24 may not be provided with a wide width portion, and the low sound velocity region may be formed only by the inner busbar portion 21A. In this case, the width of the low sound velocity region can be adjusted by adjusting the width of the inner bus bar portion 21A.

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Abstract

　横モードリップルを効果的に抑圧し得る弾性波フィルタ装置を提供する。　直列腕と並列腕とを有し、複数の弾性波共振子を有する弾性波フィルタ装置であって、各弾性波共振子が、ＩＤＴ電極を有し、ＩＤＴ電極が、電極指２３，２４の延びる方向をＩＤＴ電極における幅方向としたときに、幅方向中央に中央領域、その外側に低音速領域、さらに外側に高音速領域を有するように構成されており、少なくとも１つの弾性波共振子の低音速領域の幅Ｗ１Ａが、残りの弾性波共振子の低音速領域の幅Ｗ１Ｂと異なっている、弾性波フィルタ装置１。

Description

弾性波フィルタ装置
　本発明は、複数の弾性波共振子を接続してなる弾性波フィルタ装置に関し、特に、直列腕と並列腕とを有する弾性波フィルタ装置に関する。
　従来、弾性表面波共振子からなる直列腕共振子及び並列腕共振子を有するフィルタ装置が種々提案されている。例えば下記の特許文献１，２には、ＩＤＴ電極における電極指交差部の音速に比べ、電極指先端側部分の音速を低めた構造が開示されている。それによって、ピストンモードを形成することにより、横モードによるリップルの抑圧を図ることができるとされている。
　さらに、特許文献１では、直列腕共振子における開口幅や音速の異なる領域を、並列腕共振子における開口幅や音速の異なる領域と異ならせることが開示されている。
　下記の特許文献３には、並列腕共振子における交差幅を、直列腕共振子の交差幅よりも大きくしたラダー型フィルタが開示されている。それによって、横モードに起因するスプリアスの抑制及び小型化が図られている。並列腕共振子の交差幅を大きくすることにより、横モードの高調波が増加する。この横モードの高調波の増加により、横モードスプリアスが分散されるとされている。
ＷＯ２０１１／０８８９０４Ａ１ 特開２０１１－１０１３５０号公報 特開２０１１－２０５６２５号公報
　特許文献１や２では、ピストンモードを形成することにより、横モードリップルの抑圧を図る構成が開示されている。また、特許文献１では、特に、直列腕共振子と並列腕共振子とで、ＩＤＴ電極の開口幅や音速が異なる領域の形状を異ならせることが記載されている。しかしながら、単に直列腕共振子と並列腕共振子とで、開口幅や音速の異なる領域を異ならせただけでは、横モードリップルを確実に抑制することはできなかった。
　また、特許文献３に記載のように、単に交差幅を変化させただけでは、横モードリップルを十分に抑圧することは困難であった。
　本発明の目的は、横モードリップルを確実に抑制し得る弾性波フィルタ装置を提供することにある。
　本発明に係る弾性波フィルタ装置は、入力端子と出力端子とを結ぶ直列腕と、直列腕とグラウンド電位とを結ぶ並列腕とを有し、複数の弾性波共振子を有する。本発明においては、各弾性波共振子が、圧電基板と、圧電基板上に形成されたＩＤＴ電極とを有する。
　本発明においては、前記ＩＤＴ電極が、第１のバスバーと、第１のバスバーと隔てられて配置された第２のバスバーと、第１のバスバーに基端が電気的に接続されており、第２のバスバー側に延びる複数本の第１の電極指と、前記第２のバスバーに基端が接続されており、前記第１のバスバー側に向かって延び、複数本の前記第１の電極指と間挿し合っている複数本の第２の電極指とを有する。
　そして、前記ＩＤＴ電極の前記第１，第２の電極指が延びる方向中央に中央領域が設けられており、前記中央領域の前記電極指の延びる方向外側に中央領域に比べて相対的に音速が低い低音速領域が設けられており、前記低音速領域の延びる方向外側に、中央領域よりも弾性波伝搬速度が高い高音速領域が設けられている。本発明では、弾性波伝搬方向と直交する方向を幅方向としたときに、少なくとも１つの弾性波共振子の低音速領域の幅方向寸法が、残りの弾性波共振子の低音速領域の幅方向寸法と異なっている。
　本発明に係る弾性波フィルタ装置のある特定の局面では、前記第１，第２のバスバーが、前記弾性波伝搬方向に沿って分散配置された複数の開口を有し、該開口よりもＩＤＴ電極の幅方向内側部分が内側バスバー部、前記複数の開口部が設けられている部分が中央バスバー部、中央バスバー部の外側部分が外側バスバー部とされており、前記内側バスバー部が、弾性波伝搬方向に延びる帯状の形状を有しており、前記中央バスバー部が前記高音速領域を構成している。
　本発明に係る弾性波フィルタ装置のさらに別の特定の局面では、前記内側バスバー幅および／または前記中央領域よりも基端側に設けられた太幅部を含み、前記内側バスバー幅および／または前記太幅部の幅が、前記少なくとも１つの弾性波共振子と、残りの弾性波共振子とで異なっている。
　本発明に係る弾性波フィルタ装置の他の特定の局面では、前記複数の弾性波共振子が、直列腕に設けられた直列腕共振子と、並列腕に設けられた並列腕共振子とを有するラダー型フィルタが構成されており、前記少なくとも１つの弾性波共振子が前記直列腕共振子であり、前記残りの弾性波共振子が前記並列腕共振子である。
　本発明に係る弾性波フィルタ装置のさらに他の特定の局面では、前記直列腕共振子の低音速領域の幅方向寸法が、前記並列腕共振子の低音速領域の幅方向寸法よりも小さい。
　本発明に係る弾性波フィルタ装置のさらに他の特定の局面では、前記直列腕共振子および前記並列腕共振子がそれぞれ複数の共振子を有し、前記複数の直列腕共振子の低音速領域の幅方向寸法が、前記複数の並列腕共振子の低音速領域の幅方向寸法よりも小さい。
　本発明に係る弾性波フィルタ装置のさらに他の特定の局面では、前記複数の直列腕共振子のうち、少なくともひとつの直列腕共振子の低音速領域の幅方向寸法が、残りの直列腕共振子の低音速領域の幅方向寸法と異なっている。
　本発明に係る弾性波フィルタ装置のさらに他の特定の局面では、前記複数の並列腕共振子のうち、少なくともひとつの並列腕共振子の低音速領域の幅方向寸法が、残りの並列腕共振子の低音速領域の幅方向寸法と異なっている。
　本発明に係る弾性波フィルタ装置のさらに他の特定の局面では、前記低音速領域は、前記内側バスバー幅および／または前記中央領域よりも基端側に設けられた太幅部を含み、前記内側バスバー幅および／または前記太幅部の幅が、直列腕共振子のほうが並列腕共振子よりも小さい。
　本発明に係る弾性波フィルタ装置によれば、少なくとも１つの弾性波共振子の低音速領域の幅が、残りの弾性波共振子の低音速領域の幅と異なっているため、横モードリップルを効果的に抑圧することが可能とされている。
図１（ａ）及び図１（ｂ）は、本発明の第１の実施形態に係る弾性波フィルタ装置の１つの直列腕共振子及び１つの並列腕共振子のＩＤＴ電極の要部を拡大して示す部分切欠平面図である。 図２は、本発明の第１の実施形態に係る弾性波フィルタ装置の回路図である。 図３（ａ）及び図３（ｂ）は、本発明の第１の実施形態に係る弾性波フィルタ装置における直列腕共振子Ｓ１－１の模式的平面図及びその電極構造を示す拡大断面図である。 図４は、本発明の第１，第２の実施形態に係る弾性波フィルタ装置及び比較例の弾性波フィルタ装置の各フィルタ特性を示す図である。 図５は、本発明の弾性波フィルタ装置で用いられる弾性波共振子で用いられる弾性波共振子のＩＤＴ電極の平面形状の変形例を示す部分切欠平面図である。 図６は、本発明の弾性波フィルタ装置で用いられる弾性波共振子で用いられる弾性波共振子のＩＤＴ電極の平面形状の他の変形例を示す部分切欠平面図である。
　以下、図面を参照しつつ、本発明の具体的な実施形態を説明することにより、本発明を明らかにする。
　図２は、本発明の第１の実施形態に係る弾性波フィルタ装置の回路図である。弾性波フィルタ装置１は、ラダー型フィルタである。もっとも、本発明は、後述するように、ラダー型フィルタに限定されるものではない。
　弾性波フィルタ装置１は、入力端子２と出力端子３とを結ぶ直列腕４を有する。直列腕４とグラウンド電位を結ぶ第１～第３の並列腕５，６，７が設けられている。直列腕４には、複数の直列腕共振子Ｓ１－１～Ｓ１－３，Ｓ２－１～Ｓ２－３，Ｓ３－１～Ｓ３－３が配置されている。直列腕共振子Ｓ２－２，Ｓ２－３に並列に、コンデンサＣ１が接続されている。
　並列腕５は、直列腕共振子Ｓ１－３と直列腕共振子Ｓ２－１との間の接続点とグラウンド電位とを結んでいる。並列腕５において、並列腕共振子Ｐ１とインダクタンスＬ１とが直列に接続されている。
　第２の並列腕６は、直列腕共振子Ｓ２－３と直列腕共振子Ｓ３－１との間の接続点に接続されている。第３の並列腕７は、出力端子３に接続されている。
　第２の並列腕６及び第３の並列腕７には、それぞれ、並列腕共振子Ｐ２，Ｐ３が配置されている。第２の並列腕６と、第３の並列腕７とは、共通接続点８により共通接続されており、共通接続点８とグラウンド電位との間にインダクタンスＬ２が接続されている。
　弾性波フィルタ装置１において、上記直列腕共振子Ｓ１－１～Ｓ３－３及び並列腕共振子Ｐ１～Ｐ３は、それぞれ、弾性表面波共振子により構成されている。
　周知のように、弾性表面波共振子は、圧電基板上にＩＤＴ電極を形成した構造を有する。
　図３（ａ）及び（ｂ）は、直列腕共振子Ｓ１－１の模式的平面図及びその電極構造を示す拡大断面図である。
　図３（ａ）に示すように、直列腕共振子Ｓ１－１は、圧電基板１１と、圧電基板１１上に形成されているＩＤＴ電極１２とを有する。ＩＤＴ電極１２の弾性表面波伝搬方向両側に、反射器１３，１４が設けられている。直列腕共振子Ｓ１－１は、上記構造を有する１ポート型の弾性表面波共振子である。なお、図３（ａ）では図示を省略しているが、上記ＩＤＴ電極１２，反射器１３，１４を覆うように、誘電体層としてＳｉＯ２膜及びＳｉＮ膜が積層されている。
　図３（ｂ）はこの積層構造を拡大して示す。本実施形態では、圧電基板１１が、１２７．５°Ｙ－ＸのＬｉＮｂＯ３からなる。もっとも本発明において、圧電基板を構成する材料は特に限定されない。すなわち、様々な圧電単結晶や圧電セラミックスを用いることができる。
　図３（ｂ）では、上記ＩＤＴ電極１２の１本の電極指が形成されている部分を拡大して示す。圧電基板１１上に、ＩＤＴ電極１２が構成されている。このＩＤＴ電極１２は、本実施形態では、積層金属膜からなる。すなわち、下から順に、ＮｉＣｒ膜１２ａ、Ｐｔ膜１２ｂ、Ｔｉ膜１２ｃ、ＡｌＣｕ膜１２ｄ及びＴｉ膜１２ｅを積層した構造を有する。本実施形態では、各層の厚みは、ＮｉＣｒ膜１２ａ：１００Å、Ｐｔ膜１２ｂ：３６０Å、Ｔｉ膜１２ｃ：１００Å、ＡｌＣｕ膜１２ｄ：１５００Å、Ｔｉ膜１２ｅ：１００Åとされている。また、ＩＤＴ電極１２を覆うように、ＳｉＯ２膜１５が積層されている。ＳｉＯ２膜１５の圧電基板１１の上面からＳｉＯ２膜１５の上面までの寸法である厚みは５７００Åとなる。ＳｉＯ２膜１５上に、ＳｉＮ膜１６が積層されている。ＳｉＮ膜１６は、厚み２００Åである。
　なお、上記誘電体層であるＳｉＯ２膜１５及びＳｉＮ膜１６は、必ずしも設けられずともよい。
　直列腕共振子Ｓ１－１を代表して、弾性表面波共振子の構造を示したが、他の直列腕共振子Ｓ１－２～Ｓ３－３及び並列腕共振子Ｐ１～Ｐ３も、同様の１ポート型弾性表面波共振子により構成されている。また、各弾性表面波共振子における電極構造及び誘電体層の厚み等は直列腕共振子Ｓ１－１と同様とした。
　本実施形態の弾性波フィルタ装置１では、直列腕共振子Ｓ１－１～Ｓ３－３及び並列腕共振子Ｐ１～Ｐ３において、各弾性表面波共振子内に低音速領域と高音速領域とが設けられている。そして、ピストンモードを利用して横モードリップルの抑圧を図るために、下記の低音速領域及び高音速領域が設けられている。これを、図１（ａ）及び（ｂ）を参照してより具体的に説明する。
　図１（ａ）は、直列腕共振子Ｓ３－１のＩＤＴ電極の要部を示す部分切欠拡大平面図である。直列腕共振子Ｓ３－１は、ＩＤＴ電極は、第１のバスバー２１を有する。図１（ａ）では、第１のバスバー２１側のみを図示しており、第２のバスバー側は図示を省略しているが、第１のバスバー側と同様に構成されていることを指摘しておく。
　ＩＤＴ電極において、弾性表面波伝搬方向と直交する方向を、すなわち電極指の延びる方向を幅方向とする。バスバー２１は、内側バスバー部２１Ａ、中央バスバー部２１Ｂ及び外側バスバー部２１Ｃを有する。ここで内側とは、第１，第２の電極指２３，２４が交差している領域の側を内側とするものとする。
　第１のバスバー２１には、第１の電極指２３の基端が接続されている。第２の電極指２４の基端は第２のバスバー（図示せず）に接続されている。
　第１のバスバー２１においては、中央バスバー部２１Ｂに開口部２５が設けられている。開口部２５は本実施形態では矩形の形状を有する。もっとも、開口部２５の形状は特に限定されない。開口部２５を設けることにより、開口部２５が設けられている中央バスバー部２１Ｂの音速は、Ｖ３で示すように高音速となる。この中央バスバー部２１Ｂが設けられている領域が高音速領域を構成している。
　内側バスバー部２１Ａは、細長い帯状のバスバー部分である。従って、メタライズされている領域であるため、低音速領域を構成している。また、第１の電極指２３の基端側部分には、凸部２３ａと、幅方向突出部を有する複数の太幅部２３ｂを有する。第２の電極指２４の先端側にも太幅部２４ａが設けられている。太幅部２３ｂ，２４ａが設けられているため、この領域は低音速領域を構成している。
　他方、第１の電極指２３と第２の電極指２４とが交差している領域の幅方向中央部分は、音速Ｖ１で示す中央領域となる。
　すなわち、直列腕共振子Ｓ３－１では、中央領域の外側に低音速領域が位置し、低音速領域の外側に高音速領域が位置している。この中央領域の音速がＶ１、低音速領域の音速がＶ２Ａ、高音速領域の音速がＶ３である。また、低音速領域の幅をＷ１Ａ、高音速領域の幅をＷ２とする。
　本実施形態では、この直列腕共振子Ｓ３－１の低音速領域の幅はＷ１Ａであり、直列腕共振子Ｓ３－２及びＳ３－３の低音速領域の幅も同じＷ１Ａとされている。
　他方、図１（ｂ）は、本実施形態における並列腕共振子Ｐ１のＩＤＴ電極の要部を示す図である。並列腕共振子Ｐ１の電極構造は、図１（ａ）に示した直列腕共振子Ｓ３－１とほぼ同様である。もっとも、低音速領域の幅Ｗ１Ｂは、図１（ａ）に示した低音速領域の幅Ｗ１Ａよりも大きくなっている。すなわち、本実施形態では、直列腕共振子Ｓ３－１～Ｓ３－３における低音速領域の幅Ｗ１Ａは、並列腕共振子Ｐ１の低音速領域の幅Ｗ１Ｂよりも小さくなっている。
　さらに、上記低音速領域の幅Ｗ１Ｂが、残りの並列腕共振子Ｐ２，Ｐ３及び直列腕共振子Ｓ１－１～Ｓ３－３の低音速領域の幅よりも大きくされている。
　本実施形態では、直列腕共振子Ｓ３－１～Ｓ３－３の低音速領域の幅Ｗ１Ａが残りの共振子における低音速領域の幅よりも小さくされているため、通過帯域内における横モードリップルを効果的に抑圧することができる。これを、具体的な実験例に基づき説明する。
　下記の表１に、本実施形態の直列腕共振子Ｓ１－１～Ｓ３－３及び並列腕共振子Ｐ１～Ｐ３の設計パラメータを示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　図４の実線は、本実施形態の弾性波フィルタ装置１の減衰量周波数特性を示す。また、破線は、全ての共振子において低音速領域及び高音速領域の幅が同一である比較例の結果を示す。また、一点鎖線は、後述する第２の実施形態の減衰量周波数特性を示す。
　実線と破線とを比較すれば明らかなように、矢印Ａで示す大きなリップルが、比較例ではみられるのに対し、本実施形態ではみられないことがわかる。また、矢印Ｂで示すリップルが破線で示すフィルタ特性では現れているのに対し、本実施形態では現れていないことがわかる。
　上記矢印Ａで示す横モードリップルは、直列腕共振子Ｓ３－１～Ｓ３－３に起因するリップルであると考えられる。
　ラダー型フィルタでは、並列腕共振子の反共振周波数と、直列腕共振子の共振周波数により通過帯域が構成される。従って、並列腕共振子の反共振周波数付近及び直列腕共振子の共振周波数付近に横モードが残っていると、通過帯域内にリップルが発生する。
　上記図４に破線で示す比較例では、全ての共振子において、低音速領域及び高音速領域が同一とされていた。従って、全ての共振子において横モードリップルを完全に抑圧することができない。そのため、通過帯域内に横モードリップルが発生する。従って、通過帯域内における損失が悪化するという問題がある。特に、図４に矢印Ａで示すように、直列腕共振子Ｓ３－１，Ｓ３－２及びＳ３－３に起因する横モードリップルが通過帯域内に発生している。なお、この矢印Ａで示すリップルが、直列腕共振子Ｓ３－１～Ｓ３－３に起因することは、第２の実施形態との比較により推測し得る。
　本実施形態では、図４の実線で示すように、この矢印Ａで示す横モードリップルがみられない。これは、前述したように、直列腕共振子Ｓ３－１～Ｓ３－３において、低音速領域の幅Ｗ１Ａが残りの直列腕共振子Ｓ１－１～Ｓ２－３の低音速領域の幅よりも小さくされていることによる。すなわち、低音速領域の幅を小さくすることにより、Ｓ３－１～Ｓ３－３の横モードリップルを低減できるため、上記矢印Ａで示す通過帯域内リップルを抑制し得ることがわかる。
　なお本実施形態では、並列腕共振子Ｐ１において、上記低音速領域の幅Ｗ１Ｂが、残りの並列腕共振子Ｐ２，Ｐ３及び直列腕共振子Ｓ１－１－Ｓ１－３の低音速領域の幅よりも大きくされている。そのため、矢印Ｂで示す横モードリップルも抑制されている。
　図４の一点鎖線は、第２の実施形態として、直列腕共振子Ｓ３－１～Ｓ３－３の低音速領域の幅が、直列腕共振子Ｓ１－１～Ｓ２－３と同一とされていることを除いては上記実施形態と同様にして構成されている弾性波フィルタ装置の減衰量周波数特性である。すなわち、第２の実施形態においては、直列腕共振子Ｓ１－１～Ｓ３－３の低音速領域の幅が、並列腕共振子Ｐ１～Ｐ３の低音速領域の幅よりも小さくされている。なお一点鎖線で示すフィルタ特性を、破線で示す比較例のフィルタ特性と比較すれば明らかなように、第２の実施形態においても、並列腕共振子Ｐ１に起因する横モードリップルは抑圧されていることがわかる。
　もっとも、好ましくは、第１の実施形態のように、直列腕共振子Ｓ３－１～Ｓ３－３の低音速領域の幅Ｗ１Ａの幅を他の直列腕共振子Ｓ１－１～Ｓ２－３の低音速領域の幅よりも小さくすることが望ましい。それによって矢印Ａで示すリップルも抑圧し得ることがわかる。
　第１及び第２の実施形態から明らかなように、ラダー型回路構成の弾性波フィルタ装置１では、直列腕共振子Ｓ１－１～Ｓ３－３における低音速領域の幅を、並列腕共振子Ｐ１～Ｐ３の低音速領域の幅よりも小さくすることが望ましい。それによって、直列腕共振子の共振周波数付近、および並列腕共振子の反共振周波数付近に発生する横モードリップルを抑圧することができ、その結果、帯域内リップルを抑圧することができる。従って、ラダー型回路構成の弾性波フィルタ装置における帯域内リップルを効果的に抑圧することができる。
　前述した特許文献１～３の構成では、帯域内における横モードのリップルを十分に抑圧することが困難であった。特に、特許文献１には、直列腕共振子と並列腕共振子とで、ＩＤＴ電極の開口幅や音速が異なる領域の形状を異ならせることが記載されているものの、それだけでは十分な横モードリップルの抑制は困難であった。これに対して、本願発明では、特に、直列腕共振子における低音速領域の幅と、並列腕共振子における低音速領域の幅を異ならせることにより、横モードリップルを抑圧することができることを見出した。従って、効果的に帯域内における横モードリップルを抑圧することができる。
　なお、本発明においては、上記実施形態のようなラダー型回路構成を有する弾性波フィルタ装置に限定されるものではない。すなわち、直列腕及び並列腕を有し、複数の弾性波共振子を有する様々なフィルタ装置に本発明を適用することができる。例えば、直列腕と並列腕を有し、複数の並列腕においてそれぞれ弾性波共振子が配置されており、直列腕に弾性波共振子が配置されていないフィルタ装置であってもよい。あるいは、逆に、直列腕に複数の弾性波共振子が互いに直列に接続されており、並列腕に弾性波共振子を有しないフィルタ装置であってもよい。さらに、直列腕に１個の弾性波共振子、並列腕に１個の弾性波共振子を有する弾性波フィルタ装置であってもよい。
　いずれにしても、複数の弾性波共振子のうち少なくとも１個の弾性波共振子における低音速領域の幅を、残りの弾性波共振子における低音速領域の幅と異ならせることにより、本発明に従って帯域内リップルを抑圧することができる。特に、並列腕に配置されている弾性波共振子よりも直列腕に配置されている弾性波共振子の低音速領域の幅を小さくすることが効果的であり、それによって、通過帯域内リップルを効果的に抑圧することができる。
　なお、本発明において用いられる弾性波共振子は、前述した弾性表面波を利用した弾性表面波共振子であってもよく、弾性境界波などの他の弾性波を利用する弾性波共振子であってもよい。
　すなわち、ＩＤＴ電極を有する任意の弾性波共振子を用いることができる。
　なお、上記低音速領域の幅の変更は様々な形態で行い得る。例えば、図１（ａ）に示す直列腕共振子Ｓ３－１を例にとると、太幅部２３ｂの設けられている領域の幅方向寸法、内側バスバー部２１Ａを構成している帯状のバスバー部分の幅を変化させる方法などにより達成し得る。
　また、図１（ａ）に示した電極指の先端側及び基端側に複数の太幅部を設けた構成に限らず、図５に示す弾性波共振子５１のように、１つの太幅部２４ａを第２の電極指２４の先端側に設けた構成であってもよい。
　また、図６に示す弾性波共振子６１のように、第１，第２の電極指２３，２４に太幅部を設けず、内側バスバー部２１Ａのみによって低音速領域を形成してもよい。この場合においては、内側バスバー部２１Ａの幅を調整することにより低音速領域の幅を調整することができる。
１…弾性波フィルタ装置
２…入力端子
３…出力端子
４…直列腕
５～７…第１～第３の並列腕
８…共通接続点
１１…圧電基板
１２…ＩＤＴ電極
１２ａ…ＮｉＣｒ膜
１２ｂ…Ｐｔ膜
１２ｃ…Ｔｉ膜
１２ｄ…ＡｌＣｕ膜
１２ｅ…Ｔｉ膜
１３，１４…反射器
１５…ＳｉＯ２膜
１６…ＳｉＮ膜
２１…バスバー
２１Ａ…内側バスバー部
２１Ｂ…中央バスバー部
２１Ｃ…外側バスバー部
２３，２４…第１，第２の電極指
２３ａ…凸部
２３ｂ，２４ａ…太幅部
２５…開口部
５１，６１…弾性波共振子
Ｓ１－１～Ｓ３－３…直列腕共振子
Ｐ１～Ｐ３…並列腕共振子

Claims (9)

  1. 　入力端子と出力端子とを結ぶ直列腕と、直列腕とグラウンド電位とを結ぶ並列腕とを有し、複数の弾性波共振子を有し、
    　各弾性波共振子が、圧電基板と、前記圧電基板上に形成されたＩＤＴ電極とを有し、
    　前記ＩＤＴ電極が、第１のバスバーと、前記第１のバスバーと隔てられて配置された第２のバスバーと、
    　前記第１のバスバーに基端が電気的に接続されており、前記第２のバスバー側に延びる複数本の第１の電極指と、前記第２のバスバーに基端が接続されており、前記第１のバスバー側に向かって延び、複数本の前記第１の電極指と間挿し合っている複数本の第２の電極指とを有し、
    　前記ＩＤＴ電極の前記第１，第２の電極指が延びる方向中央に中央領域が設けられており、前記中央領域の前記電極指の延びる方向外側に前記中央領域に比べて相対的に音速が低い低音速領域が設けられており、前記低音速領域の延びる方向外側に、前記中央領域よりも弾性波伝搬速度が高い高音速領域が設けられており、
    　弾性波伝搬方向と直交する方向を幅方向としたときに、少なくとも１つの弾性波共振子の低音速領域の幅方向寸法が、残りの弾性波共振子の低音速領域の幅方向寸法と異なっている、弾性波フィルタ装置。
  2. 　前記第１，第２のバスバーが、前記弾性波伝搬方向に沿って分散配置された複数の開口を有し、該開口よりもＩＤＴ電極の幅方向内側部分が内側バスバー部、前記複数の開口部が設けられている部分が中央バスバー部、前記中央バスバー部の外側部分が外側バスバー部とされており、前記内側バスバー部が、前記弾性波伝搬方向に延びる帯状の形状を有しており、前記中央バスバー部が前記高音速領域を構成している、請求項１に記載の弾性波フィルタ装置。
  3. 　前記内側バスバー幅および／または前記中央領域よりも基端側に設けられた太幅部を含み、前記内側バスバー幅および／または前記太幅部の幅が、前記少なくとも１つの弾性波共振子と、残りの弾性波共振子とで異なっている、請求項２に記載の弾性波フィルタ装置。
  4. 　前記複数の弾性波共振子が、直列腕に設けられた直列腕共振子と、並列腕に設けられた並列腕共振子とを有するラダー型フィルタが構成されており、前記少なくとも１つの弾性波共振子が前記直列腕共振子であり、前記残りの弾性波共振子が前記並列腕共振子である、請求項１～３のいずれか１項に記載の弾性波フィルタ装置。
  5. 　前記直列腕共振子の低音速領域の幅方向寸法が、前記並列腕共振子の低音速領域の幅方向寸法よりも小さい、請求項１～４のいずれか１項に記載の弾性波フィルタ装置。
  6. 　前記直列腕共振子および前記並列腕共振子がそれぞれ複数の共振子を有し、前記複数の直列腕共振子の低音速領域の幅方向寸法が、前記複数の並列腕共振子の低音速領域の幅方向寸法よりも小さい、請求項１～５のいずれか１項に記載の弾性波フィルタ装置。
  7. 　前記複数の直列腕共振子のうち、少なくともひとつの直列腕共振子の低音速領域の幅方向寸法が、残りの直列腕共振子の低音速領域の幅方向寸法と異なる、請求項５ないし６に記載の弾性波フィルタ装置。
  8. 　前記複数の並列腕共振子のうち、少なくともひとつの並列腕共振子の低音速領域の幅方向寸法が、残りの並列腕共振子の低音速領域の幅方向寸法と異なる、請求項５ないし６に記載の弾性波フィルタ装置。
  9. 　前記低音速領域は、前記内側バスバー幅および／または前記中央領域よりも基端側に設けられた太幅部を含み、前記内側バスバー幅および／または前記太幅部の幅が、直列腕共振子のほうが並列腕共振子よりも小さい、請求項１～８のいずれか１項に記載の弾性波フィルタ装置。
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