WO2018008252A1 - 弾性波装置 - Google Patents

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WO2018008252A1
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electrode
electrode fingers
wave device
elastic wave
bus bar
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Inventor
治樹 京屋
三村　昌和
康政 谷口
Original Assignee
株式会社村田製作所
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    • H—ELECTRICITY
    • H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
    • H03H9/02—Details
    • H03H9/125—Driving means, e.g. electrodes, coils
    • H03H9/145—Driving means, e.g. electrodes, coils for networks using surface acoustic waves

Definitions

  • the present invention relates to an acoustic wave device in which an IDT electrode and a reflector are provided on an acoustic wave element substrate.
  • an acoustic wave device is required to be downsized like other electronic components.
  • the thickness of all electrode fingers of the reflector is increased compared to the thickness of the IDT electrode. Thereby, it is possible to reduce the number of electrode fingers of the reflector, and it is said that downsizing can be promoted.
  • the elastic wave device described in Patent Document 1 has a problem that the longitudinal mode ripple is increased because the thickness of all electrode fingers of the reflector is larger than the thickness of the IDT electrode.
  • an object of the present invention is to provide an elastic wave device that can achieve downsizing and suppression of the influence of longitudinal mode ripple.
  • An acoustic wave device is provided on an acoustic wave element substrate, an IDT electrode that excites an acoustic wave, and a pair of acoustic waves that are excited by the IDT electrode.
  • a reflector, and the reflector has a plurality of electrode fingers, and some of the electrode fingers of the reflector are thicker than the IDT electrode.
  • the part of the electrode fingers is at least one electrode finger other than the electrode finger closest to the IDT electrode in the reflector.
  • the partial electrode fingers are all electrode fingers other than the electrode finger closest to the IDT electrode in the reflector.
  • the size can be further reduced by reducing the number of electrode fingers.
  • the plurality of electrode fingers each have a first electrode layer, and the some electrode fingers are the first electrode layers.
  • a second electrode layer provided on the electrode layer;
  • the second electrode layer is made of a material different from that of the first electrode layer.
  • the second electrode layer is made of a material different from that of the IDT electrode.
  • the IDT electrode includes first and second electrode fingers that are interleaved with each other, and the first electrode finger and the second electrode finger Is defined as a crossing region when viewed in the elastic wave propagation direction, the crossing region includes a central region and a central region in the direction in which the first and second electrode fingers extend.
  • the first and second edge regions provided on one side and the other side, and the first and second high sound velocity regions respectively provided on the outside of the first and second edge regions;
  • the acoustic velocity of the elastic wave in the first and second edge regions is slower than the acoustic velocity of the elastic wave in the central region, and the acoustic velocity of the elastic wave in the first and second high acoustic velocity regions is the center. Has been faster than the speed of sound in the region.
  • the IDT electrode is provided on the first bus bar, the second bus bar arranged to be separated from the first bus bar, and the first bus bar.
  • a base end is electrically connected, a plurality of first electrode fingers whose front ends are extended toward the second bus bar, and a base end is connected to the second bus bar,
  • a plurality of second electrode fingers whose tips extend toward the first bus bar, and a direction perpendicular to the extending direction of the first and second electrode fingers is defined as the width direction
  • a wide width part having a width direction dimension larger than the center in the length direction of the first and second electrode fingers is larger than the center region.
  • At least one of the first and second bus bars has a plurality of openings that are separately arranged along the length direction of the first or second bus bar, and the first and second bus bars are An inner busbar portion that is located on the first or second electrode finger side of the opening and that extends in the length direction of the first and second busbars, and the opening.
  • the thickness of the first and second electrode fingers of the IDT electrode may be the first or second edge region in the first or second edge region. It is thicker than the thickness of the remaining part of the second electrode finger.
  • portions of the first and second electrode fingers that are thicker than the remaining portions have an additional electrode layer.
  • the additional electrode layer is made of the same material as the second electrode layer of the reflector.
  • the formation of the edge region and the formation of the electrode fingers having a thick reflector can be performed in the same process.
  • the thickness of the additional electrode layer and the thickness of the second electrode layer in the reflector are the same. In this case, the manufacturing process can be simplified.
  • the width of the first and second electrode fingers is the first in the central region. , Larger than the width of the second electrode finger.
  • the acoustic wave element substrate is a piezoelectric substrate.
  • the acoustic wave element substrate includes a support substrate and a piezoelectric film laminated directly or indirectly on the support substrate.
  • the elastic wave device of the present invention it is possible to reduce the size and suppress the influence of longitudinal mode ripple.
  • FIG. 1 is a schematic plan view of an acoustic wave device according to a first embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a partially cutaway front sectional view showing a main part of the elastic wave device according to the first embodiment of the present invention.
  • FIG. 3 is a partially cutaway front sectional view showing a main part of the acoustic wave device according to the first embodiment of the present invention.
  • FIG. 4 is a diagram showing the S parameter characteristics of Examples 1 to 3 which are examples of the first embodiment of the present invention and the elastic wave device of Comparative Example 1.
  • FIG. 5 is an enlarged view showing a main part of the S parameter characteristic of FIG.
  • FIG. 6 is a graph showing S parameter characteristics of the elastic wave devices of Example 4 and Comparative Examples 1 and 2.
  • FIG. 1 is a schematic plan view of an acoustic wave device according to a first embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a partially cutaway front sectional view showing a main part of the elastic wave device according to the first
  • FIG. 7 is a partially cutaway front sectional view for explaining the electrode structure of the acoustic wave device according to the second embodiment of the present invention.
  • FIG. 8 is a front cross-sectional view for explaining a modification of the structure of the electrode finger of the acoustic wave device of the present invention.
  • FIG. 9 is a schematic plan view of an acoustic wave device according to the third embodiment of the present invention.
  • FIG. 10 is a partially cutaway front sectional view for explaining an electrode structure of an acoustic wave device according to the fourth embodiment of the present invention.
  • FIG. 11 is a partially cutaway plan view showing the main part of the IDT electrode of the acoustic wave device according to the fifth embodiment of the present invention.
  • FIG. 1 is a schematic plan view of an elastic wave device according to a first embodiment of the present invention.
  • the elastic wave device 1 has a piezoelectric substrate 2 as an elastic wave element substrate.
  • the piezoelectric substrate 2 is made of a piezoelectric single crystal such as LiTaO 3 or LiNbO 3 .
  • the piezoelectric substrate 2 may be made of piezoelectric ceramics.
  • An IDT electrode 3 is provided on the piezoelectric substrate 2. Reflectors 4 and 5 are provided on both sides of the IDT electrode 3 in the elastic wave propagation direction. Thereby, a 1-port elastic wave resonator is formed.
  • the IDT electrode 3 has first and second bus bars 11 and 12 facing each other. One end of a plurality of first electrode fingers 13 is connected to the first bus bar 11. One end of a plurality of second electrode fingers 14 is connected to the second bus bar 12. The plurality of first electrode fingers 13 and the plurality of second electrode fingers 14 are interleaved with each other.
  • the elastic wave propagation direction is a direction orthogonal to the direction in which the first and second electrode fingers 13 and 14 extend.
  • a region where the first electrode finger 13 and the second electrode finger 14 overlap when viewed from the elastic wave propagation direction is defined as an intersecting region R.
  • the intersecting region R has a central region A0 and first and second edge regions A1 and A2 provided on both sides of the central region A0 in the direction in which the first and second electrode fingers 13 and 14 extend.
  • the first and second edge regions A1 and A2 are provided so that the acoustic velocity of the elastic wave in the first and second edge regions A1 and A2 is lower than the acoustic velocity of the elastic wave in the central region A0.
  • the thicknesses of the first and second electrode fingers 13 and 14 are larger than the thickness in the central region A0.
  • the thickness of the first and second electrode fingers in the edge region is schematically shown with hatching.
  • the first and second high sound velocity regions H are located outside the first and second edge regions A1 and A2, respectively.
  • an outer side means the side away from a center area
  • the sound velocity of the elastic wave in the first and second high sound velocity regions H is faster than the sound velocity of the elastic wave in the central region A0.
  • the transverse mode ripple is suppressed.
  • the reflectors 4 and 5 have a structure in which both ends of a plurality of electrode fingers 15a to 15d and 16a to 16d are short-circuited.
  • the plurality of electrode fingers 15a to 15d and the plurality of electrode fingers 16a to 16d hatching of the remaining electrode fingers 15b to 15d and 16b to 16d excluding the electrode fingers 15a and 16a closest to the IDT electrode 3 is hatched. It is shown.
  • the hatched hatching means that the thickness of the electrode fingers is increased as in the case of the first and second edge regions A1 and A2 in the IDT electrode 3.
  • FIG. 2 is a partially cutaway front sectional view for explaining the main part of the acoustic wave device 1.
  • FIG. 2 shows a cross section of a portion along the line BB in FIG.
  • the plurality of electrode fingers 16 a to 16 d have a first electrode layer 161.
  • the electrode finger 16 a closest to the IDT electrode 3 has only the first electrode layer 161.
  • the remaining electrode fingers 16b to 16d have a second electrode layer 162 provided on the first electrode layer 161.
  • the remaining electrodes 16b to 16d are relatively thick.
  • the thickness of the first and second electrode fingers 13 and 14 of the IDT electrode 3 is the same as that of the first electrode layer 161. Accordingly, the electrode fingers 16b to 16d are thicker than the first and second electrode fingers 13 and 14 of the IDT electrode 3.
  • the first electrode layer 161 is made of the same material as the first and second electrode fingers 13 and 14. Therefore, the first electrode layer 161 can be formed in the same process as the first and second electrode fingers 13 and 14. However, the first electrode layer 161 may have a thickness different from that of the first and second electrode fingers 13 and 14. Further, the first electrode layer 161 may be made of a material different from that of the first and second electrode fingers 13 and 14.
  • the second electrode layer 162 is made of a material different from that of the first electrode layer 161.
  • the second electrode layer 162 may be made of the same material as the first electrode layer 161.
  • the thickness of the electrode fingers 16b to 16d is increased.
  • the portion where the thickness is increased may reach a high sound velocity region H outside the intersecting region R.
  • the thickness is increased.
  • FIG. 3 shows a cross section of a portion along the line CC in FIG.
  • additional electrode layers 13 a and 14 a are stacked on the first electrode finger 13 and the second electrode finger 14.
  • the additional electrode layers 13a and 14a are made of the same material as the second electrode layer 162 and have the same thickness. Therefore, the second electrode layer 162 can be provided in the same process as the additional electrode layers 13a and 14a. But the 2nd electrode layer 162 may differ in thickness from the additional electrode layers 13a and 14a, and may consist of a different material.
  • all the electrode fingers 16b to 16d other than the electrode finger 16a closest to the IDT electrode 3 are relatively thick. However, at least one of the remaining electrode fingers 16b to 16d other than the electrode finger 16a closest to the IDT electrode 3 only needs to be relatively thick.
  • the remaining electrode fingers 16b to 16d other than the electrode finger 16a closest to the IDT electrode 3 are desirably relatively thick. Thereby, the number of electrode fingers in the reflector 5 can be further reduced. Accordingly, the size can be further reduced.
  • the reflector 5 was demonstrated, the reflector 4 is also the same.
  • the feature of the acoustic wave device 1 is that the reflectors 4 and 5 are provided with a plurality of electrode fingers 15b to 15d and 16b to 16d having a large thickness, thereby enabling a reduction in size. Furthermore, another feature of the acoustic wave device 1 is that the influence of longitudinal mode ripple can be suppressed by relatively increasing the thickness of at least a part of the electrode fingers 15b to 15d and 16b to 16d. is there.
  • FIG. 4 is a diagram showing S parameter characteristics of the acoustic wave devices of Examples 1 to 3 and Comparative Example 1 below.
  • FIG. 5 is an enlarged view of the characteristics in the vicinity of 0.882 to 0.889 GHz where the longitudinal mode response in FIG. 4 appears.
  • the horizontal axis indicates the unit of MHz.
  • Example 1 a LiNbO 3 single crystal substrate was used as the piezoelectric substrate 2.
  • the number of pairs of electrode fingers in the IDT electrode 3 is 40, the size of the intersecting region R, that is, the intersecting width is 100 ⁇ m, and the size along the extending direction of the first and second electrode fingers 13 and 14 in the central region A0 is 95.84 ⁇ m.
  • the dimension along the extending direction of the first and second electrode fingers 13 and 14 in the first and second edge regions A1 and A2 was 2.08 ⁇ m.
  • the width direction dimension of the first electrode finger 13 and the second electrode 14 was 1 ⁇ m, and the wavelength determined by the electrode finger pitch was 4 ⁇ m.
  • the thickness of the first and second electrode fingers 13 and 14 in the central region A0 was 329.1 nm.
  • the thicknesses of the additional electrode layers 13a and 14a were 31.2 nm.
  • the width direction dimensions of the electrode fingers 15a to 15d and 16a to 16d were 1 ⁇ m, and the wavelength determined by the electrode finger pitch was 4 ⁇ m.
  • the reflectors 4 and 5 are shown as having four electrode fingers 15a to 15d and 16a to 16d. However, in this embodiment, the number of electrode fingers of the reflectors 4 and 5 is There were 11 each.
  • the thickness of the electrode fingers 15a and 16a closest to the IDT electrode 3 was 329.1 nm.
  • the thicknesses of the electrode fingers 15b to 15d and 16b to 16d are the same as those of the first and second edge regions A1 and A2, and the thickness of the second electrode layer 162 is equal to the thickness of the additional electrode layers 13a and 14a.
  • Pt / Al As a material for the IDT electrode 3 and the reflectors 4 and 5, Pt / Al was used.
  • the second electrode layer 162 and the additional electrode layers 13a and 14a were made of Pt.
  • Examples 2 and 3 and Comparative Example 1 were the same as Example 1 except for the following points.
  • Example 2 In contrast to Example 1, in Example 2, the second electrode layer was not provided in the electrode finger in the center of the elastic wave propagation direction in the reflector, and the second electrode layer was provided in the remaining electrode fingers.
  • Example 3 in the reflector, the second electrode layer was not provided on one electrode finger located on the outermost side in the elastic wave propagation direction, and the second electrode layer was provided on the remaining electrode fingers.
  • the second electrode layer was provided on all the electrode fingers of the reflector.
  • the resonance frequency of the main response in the acoustic wave resonators of Examples 1 to 3 and Comparative Example 1 is 903.5 MHz, and the longitudinal mode response appears in the vicinity of 0.885 GHz.
  • the solid line shows the result of Example 1
  • the one-dot chain line shows the result of Example 2
  • the two-dot chain line shows the result of Example 3
  • the broken line shows the result of Comparative Example 1.
  • Comparative Example 1 is the same as Comparative Example 1 described above.
  • the configurations of the acoustic wave resonators of Example 4 and Comparative Example 2 are as follows.
  • the materials of the piezoelectric substrate 2 and the IDT electrode 3 were the same as in Example 1.
  • the number of electrode fingers of the IDT electrode 3 was 40 pairs, and the number of electrode fingers per reflector was 11.
  • the thicknesses of the IDT electrode 3 and the electrode finger were made equal.
  • the second electrode layer 162 made of a Pt film was provided so as to have a thickness of 31.2 nm.
  • Example 4 was the same as Example 1 except for the above.
  • the second electrode layer was not provided on all the electrode fingers of the reflector.
  • Comparative Example 2 is the same as Example 4 in other points.
  • Example 4 it can be seen that the influence of the response in the longitudinal mode is small.
  • the longitudinal mode ripple is the same as in the first to third embodiments. It can be seen that the influence of is suppressed.
  • FIG. 7 is a partially cutaway front sectional view for explaining the main part of the acoustic wave device according to the second embodiment of the present invention.
  • the remaining electrode fingers 16b to 16d other than the electrode finger 16a closest to the IDT electrode are thickened.
  • the second electrode layer 162 is not provided, and the film formation is performed so that the thickness of the electrode fingers 16b to 16d is increased.
  • the relatively thick electrode fingers 16b to 16d may be provided by simply increasing the thickness without providing the second electrode layer 162.
  • FIG. 8 is a front sectional view showing a modification of the structure of the electrode fingers of the reflector according to the present invention.
  • the electrode finger 16b of the reflector is provided with the second electrode layer 162 on the first electrode layer 161 as in the first embodiment.
  • the first electrode layer 161 and the second electrode layer 162 are each composed of a stacked body of a plurality of electrode layers 161a to 161c and 162a to 162c.
  • each of the first electrode layer 161 and the second electrode layer 162 may be a stack of a plurality of electrode layers.
  • the first and second electrode fingers 13 and 14 in the IDT electrode 3 may also have a structure in which a plurality of electrode layers are stacked other than the edge regions A1 and A2.
  • the additional electrode layers 13a and 14a described above may also be a laminate of a plurality of electrode layers.
  • the electrode fingers 15a and 16a closest to the IDT electrode 3 in the reflectors 4 and 5 are not limited to a single electrode layer, and may be a laminate of a plurality of electrode layers.
  • FIG. 9 is a schematic plan view of an elastic wave device according to a third embodiment of the present invention.
  • the widths of the first and second electrode fingers 13B and 14B are thicker than the remaining electrode finger portions in the edge region of the IDT electrode 3.
  • the edge region may be provided by providing the wide portions 13b and 14b.
  • a structure in which an additional electrode layer is provided and a structure in which the thick portions 13b and 14b are provided may be used in combination.
  • the electrode fingers 15b to 15d and 16b to 16d are relatively thick so as to be hatched. Therefore, the size can be reduced as in the first embodiment. Therefore, also in the third embodiment, it is possible to reduce the size and suppress the influence of the longitudinal mode ripple.
  • FIG. 10 is a partially cutaway front sectional view for explaining the electrode structure of the acoustic wave device according to the fourth embodiment of the present invention.
  • the electrode finger 16b of the reflector 5 is made thin like the electrode finger 16a.
  • the fourth embodiment shown in FIG. 10 is the same as the structure of FIG. 2 of the first embodiment. Accordingly, the same parts are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.
  • the plurality of electrode fingers 16 a and 16 b are relatively thin, and the plurality of electrode fingers 16 c and 16 d are thicker than the IDT electrode 3. May be.
  • FIG. 11 is a partially cutaway plan view showing the main part of the IDT electrode of the acoustic wave device according to the fifth embodiment of the present invention.
  • the IDT electrode has first and second bus bars facing each other.
  • the plurality of first electrode fingers 23 are provided with thick width portions 23a
  • the plurality of second electrode fingers 24 are provided with thick width portions 24a and 24b.
  • the wide portion 23a by shifting the direction of the position of extension of the electrode fingers of 24a and 24b, region V22 is provided the sound velocity is V 22.
  • Sound velocity of the region V22 is lower than the acoustic velocity V 21 in the central region V21. Further, in the region V23 is the gap area, the acoustic velocity V 23 is also higher than the acoustic velocity V 22 or the acoustic velocity V 21.
  • the first bus bar 21 has an inner bus bar portion 21A and an outer bus bar portion 21C.
  • a plurality of openings 25 are provided along the elastic wave propagation direction.
  • the inner bus bar portion 21 ⁇ / b> A and the outer bus bar portion 21 ⁇ / b> C are connected by a connecting portion 26.
  • the connecting portion 26 is located on the extension of the first electrode finger 23.
  • the sound speeds V 24 and V 26 of the inner bus bar portion 21A and the outer bus bar portion 21C are sufficiently lowered, whereas in the region V25 where the opening 25 is provided, the sound velocity V 25 is smaller than that of the gap region V23. which is equivalent to the speed of sound V 23.
  • the elastic wave device of the fifth embodiment is the same as the elastic wave device of the first embodiment except that the IDT electrode is configured as described above. Therefore, also in the elastic wave device of the fifth embodiment, the reflector can be downsized by providing a plurality of thick electrode fingers.

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Abstract

小型化と、縦モードリップルの影響の抑制とを図り得る弾性波装置を提供する。　ＩＤＴ電極３で励振された弾性波を反射させる反射器４，５が設けられている弾性波装置１。反射器４，５は、複数本の電極指１５ａ～１５ｄ，１６ａ～１６ｄを有する。ＩＤＴ電極３に最も近い電極指１５ａ，１６ａを除く残りの電極指１５ｂ～１５ｄ，１６ｂ～１６ｄにおいて、少なくとも１本の電極指の厚みが、ＩＤＴ電極３の中央領域Ａ０における電極指１３，１４の厚みよりも厚くされている。

Description

弾性波装置
　本発明は、弾性波素子基板上にＩＤＴ電極及び反射器が設けられている、弾性波装置に関する。
　従来、弾性波装置では、他の電子部品と同様に小型化が求められている。下記の特許文献１に記載の弾性波装置では、ＩＤＴ電極の厚みに比べて、反射器の全ての電極指の厚みが厚くされている。それによって、反射器の電極指の本数を少なくすることが可能となり、小型化を進め得るとされている。
特開２００６－２３８１５３号公報
　しかしながら、特許文献１に記載の弾性波装置では、ＩＤＴ電極の厚みに比べて、反射器の全ての電極指の厚みが厚くされているので、縦モードリップルが大きくなるという問題があった。
　したがって、本発明の目的は、小型化と、縦モードリップルの影響の抑制とを図り得る、弾性波装置を提供することにある。
　本発明に係る弾性波装置は、弾性波素子基板と、前記弾性波素子基板上に設けられており、弾性波を励振するＩＤＴ電極と、前記ＩＤＴ電極で励振された弾性波を反射させる一対の反射器とを備え、前記反射器が複数本の電極指を有し、前記反射器の前記複数本の電極指のうち、一部の電極指が、前記ＩＤＴ電極よりも厚くされている。
　本発明に係る弾性波装置のある特定の局面では、前記一部の電極指が、前記反射器において、前記ＩＤＴ電極に最も近い電極指以外の少なくとも１本の電極指である。
　本発明に係る弾性波装置の他の特定の局面では、前記一部の電極指が、前記反射器において、前記ＩＤＴ電極に最も近い電極指以外の全ての電極指である。この場合には、電極指の本数を減らすことにより、小型化をより一層図ることができる。
　本発明に係る弾性波装置の別の特定の局面では、前記反射器において、前記複数本の電極指が、それぞれ第１の電極層を有し、前記一部の電極指が、前記第１の電極層上に設けられた第２の電極層を有する。
　本発明に係る弾性波装置の他の特定の局面では、前記第２の電極層が、前記第１の電極層と異なる材料からなる。
　本発明に係る弾性波装置のさらに他の特定の局面では、前記第２の電極層が、前記ＩＤＴ電極と異なる材料からなる。
　本発明に係る弾性波装置のさらに他の特定の局面では、前記ＩＤＴ電極が、互いに間挿し合う第１及び第２の電極指を有し、前記第１の電極指と前記第２の電極指とが、弾性波伝搬方向にみたときに重なり合っている領域を交差領域としたときに、該交差領域が、前記第１，第２の電極指が延びる方向において、中央領域と、前記中央領域の一方側及び他方側に設けられた第１，第２のエッジ領域と、前記第１，第２のエッジ領域の外側にそれぞれ設けられた第１，第２の高音速領域と、を有し、前記第１，第２のエッジ領域における弾性波の音速が、前記中央領域における弾性波の音速よりも遅くされており、前記第１，第２の高音速領域における弾性波の音速が、前記中央領域における音速よりも速くされている。
　本発明に係る弾性波装置の他の特定の局面では、前記ＩＤＴ電極が、第１のバスバーと、前記第１のバスバーと隔てられて配置された第２のバスバーと、前記第１のバスバーに基端が電気的に接続されており、先端が前記第２のバスバーに向かって延ばされている複数本の第１の電極指と、前記第２のバスバーに基端が接続されており、先端が前記第１のバスバーに向かって延ばされている複数本の第２の電極指とを有し、前記第１及び第２の電極指の延びる方向と直交する方向を幅方向としたときに、前記第１及び第２の電極指の少なくとも一方において、前記第１及び第２の電極指の長さ方向中央に比べて幅方向寸法が大きくされている太幅部が、中央領域よりも前記基端側および前記先端側のうちの少なくとも一方の側に設けられており、前記第１及び第２のバスバーの少なくとも一方が前記第１または第２のバスバーの長さ方向に沿って分離配置された複数の開口部を有し、前記第１及び第２のバスバーが、前記開口部よりも前記第１または第２の電極指側に位置しており、かつ前記第１及び第２のバスバーの長さ方向に延びる内側バスバー部と、前記開口部が設けられている中央バスバー部と、前記内側バスバー部と、前記中央バスバー部を挟んで反対側に位置している外側バスバー部とを有する。
　本発明に係る弾性波装置の別の特定の局面では、前記ＩＤＴ電極の前記第１及び第２の電極指の厚みが、前記第１及び第２のエッジ領域の少なくとも一方において、当該第１または第２の電極指の残りの部分の厚みよりも厚くされている。
　本発明に係る弾性波装置の他の特定の局面では、前記第１及び第２の電極指において、前記残りの部分より厚くされている部分が、追加電極層を有する。
　本発明に係る弾性波装置のさらに他の特定の局面では、前記追加電極層が、前記反射器の前記第２の電極層と同じ材料からなる。この場合には、エッジ領域の形成と、反射器の厚みの厚い電極指の形成を、同じ工程で行なうことができる。
　本発明に係る弾性波装置のさらに他の特定の局面では、前記追加電極層の厚みと、前記反射器における前記第２の電極層の厚みとが同一である。この場合には、製造工程の簡略化を図ることができる。
　本発明に係る弾性波装置のさらに他の特定の局面では、前記第１，第２のエッジ領域の少なくとも一方において、前記第１，第２の電極指の幅が、前記中央領域における前記第１，第２の電極指の幅よりも大きくされている。
　本発明に係る弾性波装置のさらに他の特定の局面では、前記弾性波素子基板が、圧電基板である。
　本発明に係る弾性波装置のさらに他の特定の局面では、前記弾性波素子基板が、支持基板と、支持基板上に直接または間接に積層された圧電膜とを有する。
　本発明に係る弾性波装置によれば、小型化を図ることができ、かつ縦モードリップルの影響を抑制することができる。
図１は、本発明の第１の実施形態に係る弾性波装置の模式的平面図である。 図２は、本発明の第１の実施形態の弾性波装置の要部を示す部分切欠き正面断面図である。 図３は、本発明の第１の実施形態に係る弾性波装置の要部を示す部分切欠き正面断面図である。 図４は、本発明の第１の実施形態の実施例である実施例１～３と、比較例１の弾性波装置のＳパラメータ特性を示す図である。 図５は、図４のＳパラメータ特性の要部を拡大して示す図である。 図６は、実施例４及び比較例１，２の弾性波装置のＳパラメータ特性を示す図である。 図７は、本発明の第２の実施形態に係る弾性波装置の電極構造を説明するための部分切欠き正面断面図である。 図８は、本発明の弾性波装置の電極指の構造の変形例を説明するための正面断面図である。 図９は、本発明の第３の実施形態に係る弾性波装置の模式的平面図である。 図１０は、本発明の第４の実施形態に係る弾性波装置の電極構造を説明するための部分切欠き正面断面図である。 図１１は、本発明の第５の実施形態に係る弾性波装置のＩＤＴ電極の要部を示す部分切欠平面図である。
　以下、図面を参照しつつ、本発明の具体的な実施形態を説明することにより、本発明を明らかにする。
　なお、本明細書に記載の各実施形態は、例示的なものであり、異なる実施形態間において、構成の部分的な置換または組み合わせが可能であることを指摘しておく。
　図１は、本発明の第１の実施形態に係る弾性波装置の模式的平面図である。
　弾性波装置１は、弾性波素子基板としての圧電基板２を有する。圧電基板２は、ＬｉＴａＯ３またはＬｉＮｂＯ３などの圧電単結晶からなる。圧電基板２は、圧電セラミックスからなるものであってもよい。
　圧電基板２上に、ＩＤＴ電極３が設けられている。ＩＤＴ電極３の弾性波伝搬方向両側に反射器４，５が設けられている。それによって、１ポート型の弾性波共振子が構成されている。
　ＩＤＴ電極３は、対向し合う第１，第２のバスバー１１，１２を有する。第１のバスバー１１に、複数本の第１の電極指１３の一端が接続されている。第２のバスバー１２に、複数本の第２の電極指１４の一端が接続されている。複数本の第１の電極指１３及び複数本の第２の電極指１４は、互いに間挿し合っている。
　弾性波伝搬方向は、第１，第２の電極指１３，１４が延びる方向と直交する方向である。
　弾性波伝搬方向からみたときに、第１の電極指１３と第２の電極指１４とが重なり合っている領域を交差領域Ｒとする。交差領域Ｒは、第１，第２の電極指１３，１４が延びる方向において、中央領域Ａ０と、中央領域Ａ０の両側に設けられた第１，第２のエッジ領域Ａ１，Ａ２とを有する。
　第１，第２のエッジ領域Ａ１，Ａ２における弾性波の音速が、中央領域Ａ０における弾性波の音速よりも低くなるように、第１，第２のエッジ領域Ａ１，Ａ２が設けられている。本実施形態では、第１，第２のエッジ領域Ａ１，Ａ２において、第１，第２の電極指１３，１４の厚みが、中央領域Ａ０における厚みよりも厚くされている。このエッジ領域において第１，第２の電極指の厚みが厚くされていることを、図１等において、斜線のハッチングを付して模式的に示す。
　上記第１，第２のエッジ領域Ａ１，Ａ２の外側には、第１，第２の高音速領域Ｈがそれぞれ位置している。なお、外側とは、第１，第２の電極指１３，１４の延びる方向において、中央領域から遠ざかる側をいう。そして、第１，第２の高音速領域Ｈにおける弾性波の音速は、中央領域Ａ０における弾性波の音速よりも速くなっている。
　上記中央領域Ａ０、第１，第２のエッジ領域Ａ１，Ａ２及び外側の高音速領域Ｈを設けることにより、横モードリップルが抑圧されている。
　図１に示すように、反射器４，５は、複数本の電極指１５ａ～１５ｄ，１６ａ～１６ｄの両端を短絡した構造を有する。複数本の電極指１５ａ～１５ｄ及び複数本の電極指１６ａ～１６ｄにおいては、ＩＤＴ電極３に最も近い側の電極指１５ａ，１６ａを除く残りの電極指１５ｂ～１５ｄ，１６ｂ～１６ｄに斜線のハッチングが示されている。
　斜線のハッチングは、ＩＤＴ電極３における第１，第２のエッジ領域Ａ１，Ａ２の場合と同様に、電極指の厚みが厚くされていることを意味する。
　図２は、弾性波装置１の要部を説明するための部分切欠き正面断面図である。
　図２は、図１のＢ－Ｂ線に沿う部分の断面を示す。
　図２に示すように、反射器５では、複数本の電極指１６ａ～１６ｄは、第１の電極層１６１を有する。そして、ＩＤＴ電極３に最も近い電極指１６ａは、第１の電極層１６１のみを有する。これに対して、残りの電極指１６ｂ～１６ｄは、第１の電極層１６１上に設けられた第２の電極層１６２を有する。それによって、残りの電極１６ｂ～１６ｄの厚みが相対的に厚くされている。また、ＩＤＴ電極３の第１，第２の電極指１３，１４の厚みは、第１の電極層１６１と同じとされている。従って、電極指１６ｂ～１６ｄの厚みは、ＩＤＴ電極３の第１，第２の電極指１３，１４の厚みよりも厚くされている。
　上記第１の電極層１６１は、第１，第２の電極指１３，１４と同じ材料からなる。従って、第１の電極層１６１は、第１，第２の電極指１３，１４と同じ工程で形成することができる。もっとも、第１の電極層１６１は、第１，第２の電極指１３，１４と異なる厚みを有していてもよい。また、第１の電極層１６１は、第１，第２の電極指１３，１４と異なる材料からなるものであってもよい。
　本実施形態では、第２の電極層１６２は、第１の電極層１６１と異なる材料からなる。もっとも、第２の電極層１６２は、第１の電極層１６１と同じ材料からなるものであってもよい。
　なお、図１では、交差領域Ｒにおいて、電極指１６ｂ～１６ｄの厚みが厚くされていた。この厚みが厚くされている部分は、交差領域Ｒの外側の高音速領域Ｈに至っていてもよい。
　図１に示す反射器４においても、電極指１５ｂ～１５ｄは、同様に第２の電極層を有するため、厚みが厚くされている。
　また、図３に図１のＣ－Ｃ線に沿う部分の断面を示す。エッジ領域Ａ２においては、第１の電極指１３及び第２の電極指１４上に、追加電極層１３ａ，１４ａが積層されている。追加電極層１３ａ，１４ａは、第２の電極層１６２と同じ材料からなり、かつ同じ厚みとされている。従って、第２の電極層１６２は、追加電極層１３ａ，１４ａと同一工程で設けることができる。もっとも、第２の電極層１６２は、追加電極層１３ａ，１４ａと、厚みが異なっていてもよく、異なる材料からなるものであってもよい。
　また、本実施形態では、ＩＤＴ電極３に最も近い電極指１６ａ以外の全ての電極指１６ｂ～１６ｄにおいて、厚みが相対的に厚くされていた。しかしながら、ＩＤＴ電極３に最も近い電極指１６ａ以外の残りの電極指１６ｂ～１６ｄのうち、少なくとも１本の電極指において、厚みが相対的に厚くされておればよい。
　好ましくは、本実施形態のように、ＩＤＴ電極３に最も近い電極指１６ａを除く、残りの電極指１６ｂ～１６ｄの全てにおいて、厚みが相対的に厚くされていることが望ましい。それによって、反射器５における電極指の本数をより少なくすることができる。従って、小型化をより一層図ることができる。
　なお、反射器５について説明したが、反射器４も同様である。
　弾性波装置１の特徴は、反射器４，５において、厚みが厚い複数本の電極指１５ｂ～１５ｄ，１６ｂ～１６ｄが設けられていることにより、小型化を図り得ることにある。さらに、弾性波装置１の他の特徴は、電極指１５ｂ～１５ｄ，１６ｂ～１６ｄの少なくとも一部において厚みが相対的に厚くされていることによって、縦モードリップルの影響を抑制することができることにある。
　これを、図４～図７を参照して説明する。
　図４は、以下の実施例１～３、比較例１の弾性波装置のＳパラメータ特性を示す図である。また、図５は、図４中の縦モードの応答が現れている０．８８２～０．８８９ＧＨｚ付近の特性を拡大して示す図である。なお、図５では、横軸はＭＨｚの単位で示されている。
　なお、実施例１～３及び比較例１の構成は以下の通りである。
　実施例１では、圧電基板２として、ＬｉＮｂＯ３単結晶基板を用いた。ＩＤＴ電極３における電極指の対数は４０対とし、交差領域Ｒの寸法すなわち交差幅は１００μｍとし、中央領域Ａ０の第１，第２の電極指１３，１４の延びる方向に沿う寸法は９５．８４μｍ、第１，第２のエッジ領域Ａ１，Ａ２の第１，第２の電極指１３，１４の延びる方向に沿う寸法は２．０８μｍとした。第１の電極指１３及び第２の電極１４の幅方向寸法は１μｍとし、電極指ピッチで定める波長は４μｍとした。
　中央領域Ａ０における第１，第２の電極指１３，１４の厚みは３２９．１ｎｍとした。追加電極層１３ａ，１４ａの厚みは３１．２ｎｍとした。
　反射器４，５においては、電極指１５ａ～１５ｄ，１６ａ～１６ｄの幅方向寸法は１μｍとし、電極指ピッチで定まる波長は４μｍとした。なお、図１では、反射器４，５は、４本の電極指１５ａ～１５ｄ，１６ａ～１６ｄを有するように図示したが、本実施例では、反射器４，５の電極指の本数は、それぞれ１１本とした。ＩＤＴ電極３に最も近い電極指１５ａ，１６ａの厚みは、３２９．１ｎｍとした。電極指１５ｂ～１５ｄ，１６ｂ～１６ｄの厚みは、第１，第２のエッジ領域Ａ１，Ａ２と同様とし、第２の電極層１６２の厚みは、追加電極層１３ａ，１４ａの厚みと等しくした。
　上記ＩＤＴ電極３及び反射器４，５の材料としては、Ｐｔ／Ａｌを用いた。第２の電極層１６２及び追加電極層１３ａ，１４ａはＰｔで構成した。
　実施例２，３及び比較例１は、下記の点を除いては、上記実施例１と同様とした。
　上記実施例１に対し、実施例２では、反射器における弾性波伝搬方向中央の電極指において、第２の電極層を設けず、残りの電極指に第２の電極層を設けた。
　実施例３では、反射器において、弾性波伝搬方向において最も外側に位置している１本の電極指に第２の電極層を設けず、残りの電極指に第２の電極層を設けた。
　比較例１では、反射器の全ての電極指に第２の電極層を設けた。
　実施例１～３及び比較例１の弾性波共振子における主たる応答の共振周波数は９０３．５ＭＨｚであり、縦モードの応答は、０．８８５ＧＨｚ付近に現れている。実線が実施例１の結果を、一点鎖線が実施例２の結果を、二点鎖線が実施例３の結果を、破線が比較例１の結果を示す。
　図４及び図５から明らかなように、比較例１では、縦モードによる応答が大きいのに対し、実施例１～３によれば、縦モードによる応答の影響が小さいことがわかる。特に、実施例１では、縦モードによる応答の影響をより一層効果的に抑制し得ることがわかる。
　次に、実施例４及び比較例１，２の弾性波装置のＳパラメータ特性を図６に示す。比較例１は、前述した比較例１と同一である。実施例４及び比較例２の弾性波共振子の構成は以下の通りである。
　圧電基板２、ＩＤＴ電極３の材料は実施例１と同様とした。実施例４では、ＩＤＴ電極３の電極指の対数を４０対、反射器１つあたりの電極指の本数を１１本とした。そして、反射器４，５におけるＩＤＴ電極３に近い側の４本の電極指において、ＩＤＴ電極３と電極指の厚みを等しくした。他方、残りの７本の電極指については、Ｐｔ膜からなる第２の電極層１６２を３１．２ｎｍの厚みになるように設けた。
　実施例４は、上記以外は実施例１と同様とした。
　比較例２では、反射器の全ての電極指に、第２の電極層は設けなかった。
　比較例２は、その他の点は、実施例４と同様である。
　図６において、実線が実施例４の結果を、破線が比較例１の結果を、一点鎖線が比較例２の結果を示す。
　図６から明らかなように、比較例１では、矢印Ｄで示すように、０．８８３ＧＨｚ付近において、縦モードの応答が大きく現れている。
　これに対して、実施例４では、縦モードの応答の影響が小さいことがわかる。
　また、比較例２に比べても、実施例４によれば、縦モードの影響を効果的に抑制し得ることがわかる。
　実施例４から明らかなように、ＩＤＴ電極３に最も近い電極指以外の残りの電極指の一部の電極指の厚みを厚くした場合においても、実施例１～３と同様に、縦モードリップルの影響が抑制されることがわかる。
　図７は、本発明の第２の実施形態に係る弾性波装置の要部を説明するための部分切欠き正面断面図である。第２の実施形態の弾性波装置では、図７に示すように、反射器５Ａにおいて、ＩＤＴ電極に最も近い電極指１６ａ以外の残りの電極指１６ｂ～１６ｄの厚みが厚くされている。もっとも、本実施形態では、第２の電極層１６２を設けることなく、成膜に際し、電極指１６ｂ～１６ｄの厚みが厚くなるように成膜が行なわれている。このように、第２の電極層１６２を設けずに、単に厚みを厚くすることにより、相対的に厚い電極指１６ｂ～１６ｄを設けてもよい。
　図８は、本発明における反射器の電極指の構造の変形例を示す正面断面図である。反射器の電極指１６ｂは、第１の実施形態のように、第１の電極層１６１上に第２の電極層１６２が設けられている。ここでは、第１の電極層１６１及び第２の電極層１６２が、それぞれ、複数の電極層１６１ａ～１６１ｃ及び１６２ａ～１６２ｃの積層体からなる。このように、第１の電極層１６１及び第２の電極層１６２は、それぞれ、複数の電極層を積層したものであってもよい。
　ＩＤＴ電極３における第１，第２の電極指１３，１４についても、エッジ領域Ａ１，Ａ２以外において、複数の電極層を積層した構造を有していてもよい。前述した追加電極層１３ａ，１４ａについても、複数の電極層の積層体であってもよい。
　また、反射器４，５におけるＩＤＴ電極３に最も近い電極指１５ａ，１６ａについても、単一の電極層のものに限らず、複数の電極層の積層体であってもよい。
　図９は、本発明の第３の実施形態に係る弾性波装置の模式的平面図である。本実施形態の弾性波装置では、ＩＤＴ電極３のエッジ領域において、第１，第２の電極指１３Ｂ，１４Ｂの幅が残りの電極指部分よりも太くされている。このように、太幅部１３ｂ，１４ｂを設けることにより、エッジ領域を設けてもよい。
　また、上記第１の実施形態のように、追加電極層を設けた構造と、上記太幅部１３ｂ，１４ｂを設けた構造とを併用してもよい。
　第３の実施形態においても、電極指１５ｂ～１５ｄ，１６ｂ～１６ｄが、斜線のハッチングを付されているように、相対的に厚くされている。従って、第１の実施形態と同様に、小型化が図られる。よって、第３の実施形態においても、小型化と縦モードリップルの影響の抑制を図ることができる。
　図１０は、本発明の第４の実施形態に係る弾性波装置の電極構造を説明するための部分切欠き正面断面図である。第４の実施形態では、反射器５の電極指１６ｂが、電極指１６ａと同様に薄くされている。その他の構造は、図１０に示した第４の実施形態は、第１の実施形態の図２の構造と同一である。従って、同一部分については同一の参照番号を付することによりその説明を省略する。第４の実施形態のように、反射器５において、複数本の電極指１６ａ，１６ｂの厚みが相対的に薄く、複数本の電極指１６ｃ，１６ｄの厚みがＩＤＴ電極３の厚みより厚くされていてもよい。
　図１１は、本発明の第５の実施形態に係る弾性波装置のＩＤＴ電極の要部を示す部分切欠平面図である。第５の実施形態の弾性波装置では、ＩＤＴ電極が、対向し合う第１，第２のバスバーを有する。図１１では、第１のバスバー２１側のみが図示されているが、第２のバスバー側も同様の構造とされている。ここでは、複数本の第１の電極指２３において、太幅部２３ａが設けられており、複数本の第２の電極指２４に太幅部２４ａ，２４ｂが設けられている。太幅部２３ａ，２４ａ及び２４ｂの電極指の延びる方向の位置をずらすことにより、音速がＶ２２である領域Ｖ２２が設けられている。この領域Ｖ２２の音速は、中央領域Ｖ２１における音速Ｖ２１よりも低くなっている。また、ギャップ領域である領域Ｖ２３では、音速Ｖ２３が音速Ｖ２２や音速Ｖ２１よりも高められている。
　他方、第１のバスバー２１は、内側バスバー部２１Ａと、外側バスバー部２１Ｃとを有する。内側バスバー部２１Ａと外側バスバー部２１Ｃとの間の部分において、複数の開口部２５が弾性波伝搬方向に沿って設けられている。また、内側バスバー部２１Ａと外側バスバー部２１Ｃとが、連結部２６により連結されている。連結部２６は、第１の電極指２３の延長上に位置している。また、内側バスバー部２１Ａ及び外側バスバー部２１Ｃの音速Ｖ２４，Ｖ２６は、十分低められているのに対し、開口部２５が設けられている領域Ｖ２５では、音速Ｖ２５は、ギャップ領域Ｖ２３の音速Ｖ２３と同等とされている。第５の実施形態の弾性波装置のＩＤＴ電極が上記のように構成されていることを除いては、第１の実施形態の弾性波装置と同様である。従って、第５の実施形態の弾性波装置においても、反射器において、厚みが厚い複数本の電極指が設けられていることにより小型化を図ることができる。
１…弾性波装置
２…圧電基板
３…ＩＤＴ電極
４，５，５Ａ…反射器
１１，１２…第１，第２のバスバー
１３，１４…第１，第２の電極指
１３ａ，１４ａ…追加電極層
１３ｂ，１４ｂ…太幅部
１３Ｂ，１４Ｂ…第１，第２の電極指
１５ａ～１５ｄ，１６ａ～１６ｄ…電極指
１６１，１６２…第１，第２の電極層
１６１ａ～１６１ｃ，１６２ａ～１６２ｃ…電極層
２１…第１のバスバー
２１Ａ…内側バスバー部
２１Ｃ…外側バスバー部
２３，２４…電極指
２３ａ，２４ａ，２４ｂ…太幅部
２５…開口部
２６…連結部
Ａ０…中央領域
Ａ１，Ａ２…エッジ領域
Ｈ…高音速領域
Ｒ…交差領域

Claims (15)

  1. 　弾性波素子基板と、
    　前記弾性波素子基板上に設けられており、弾性波を励振するＩＤＴ電極と、
    　前記ＩＤＴ電極で励振された弾性波を反射させる一対の反射器とを備え、
    　前記反射器が複数本の電極指を有し、
    　前記反射器の前記複数本の電極指のうち、一部の電極指が、前記ＩＤＴ電極よりも厚くされている、弾性波装置。
  2. 　前記一部の電極指が、前記反射器において、前記ＩＤＴ電極に最も近い電極指以外の少なくとも１本の電極指である、請求項１に記載の弾性波装置。
  3. 　前記一部の電極指が、前記反射器において、前記ＩＤＴ電極に最も近い電極指以外の全ての電極指である、請求項２に記載の弾性波装置。
  4. 　前記反射器において、前記複数本の電極指が、それぞれ第１の電極層を有し、前記一部の電極指が、前記第１の電極層上に設けられた第２の電極層を有する、請求項１～３のいずれか一項に記載の弾性波装置。
  5. 　前記第２の電極層が、前記第１の電極層と異なる材料からなる、請求項４に記載の弾性波装置。
  6. 　前記第２の電極層が、前記ＩＤＴ電極と異なる材料からなる、請求項４または５に記載の弾性波装置。
  7. 　前記ＩＤＴ電極が、互いに間挿し合う第１及び第２の電極指を有し、前記第１の電極指と前記第２の電極指とが、弾性波伝搬方向にみたときに重なり合っている領域を交差領域としたときに、該交差領域が、前記第１，第２の電極指が延びる方向において、中央領域と、前記中央領域の一方側及び他方側に設けられた第１，第２のエッジ領域と、前記第１，第２のエッジ領域の外側にそれぞれ設けられた第１，第２の高音速領域と、を有し、前記第１，第２のエッジ領域における弾性波の音速が、前記中央領域における弾性波の音速よりも遅くされており、前記第１，第２の高音速領域における弾性波の音速が、前記中央領域における音速よりも速くされている、請求項１～６のいずれか一項に記載の弾性波装置。
  8. 　前記ＩＤＴ電極が、第１のバスバーと、前記第１のバスバーと隔てられて配置された第２のバスバーと、前記第１のバスバーに基端が電気的に接続されており、先端が前記第２のバスバーに向かって延ばされている複数本の第１の電極指と、前記第２のバスバーに基端が接続されており、先端が前記第１のバスバーに向かって延ばされている複数本の第２の電極指とを有し、
    　前記第１及び第２の電極指の延びる方向と直交する方向を幅方向としたときに、前記第１及び第２の電極指の少なくとも一方において、前記第１及び第２の電極指の長さ方向中央に比べて幅方向寸法が大きくされている太幅部が、中央領域よりも前記基端側および前記先端側のうちの少なくとも一方の側に設けられており、
    　前記第１及び第２のバスバーの少なくとも一方が前記第１または第２のバスバーの長さ方向に沿って分離配置された複数の開口部を有し、
    　前記第１及び第２のバスバーが、前記開口部よりも前記第１または第２の電極指側に位置しており、かつ前記第１及び第２のバスバーの長さ方向に延びる内側バスバー部と、前記開口部が設けられている中央バスバー部と、前記内側バスバー部と、前記中央バスバー部を挟んで反対側に位置している外側バスバー部とを有する、請求項１～６のいずれか一項に記載の弾性波装置。
  9. 　前記ＩＤＴ電極の前記第１及び第２の電極指の厚みが、前記第１及び第２のエッジ領域の少なくとも一方において、当該第１または第２の電極指の残りの部分の厚みよりも厚くされている、請求項７または８に記載の弾性波装置。
  10. 　前記第１及び第２の電極指において、前記残りの部分より厚くされている部分が、追加電極層を有する、請求項９に記載の弾性波装置。
  11. 　前記追加電極層が、前記反射器の前記第２の電極層と同じ材料からなる、請求項１０に記載の弾性波装置。
  12. 　前記追加電極層の厚みと、前記反射器における前記第２の電極層の厚みとが同一である、請求項１１に記載の弾性波装置。
  13. 　前記第１，第２のエッジ領域の少なくとも一方において、前記第１，第２の電極指の幅が、前記中央領域における前記第１，第２の電極指の幅よりも大きくされている、請求項７～１２のいずれか一項に記載の弾性波装置。
  14. 　前記弾性波素子基板が、圧電基板である、請求項１～１３のいずれか一項に記載の弾性波装置。
  15. 　前記弾性波素子基板が、支持基板と、支持基板上に直接または間接に積層された圧電膜とを有する、請求項１～１４のいずれか一項に記載の弾性波装置。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113206653A (zh) * 2020-01-31 2021-08-03 株式会社村田制作所 弹性波滤波器
WO2023035235A1 (zh) * 2021-09-10 2023-03-16 华为技术有限公司 谐振器、滤波器及电子设备

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002290194A (ja) * 2001-03-27 2002-10-04 Toshiba Corp 弾性表面波装置
JP2013518455A (ja) * 2010-01-25 2013-05-20 エプコス アーゲー 横方向放射損失を低減させ，横方向モードの抑制により性能を高めた電気音響変換器
WO2014192755A1 (ja) * 2013-05-29 2014-12-04 株式会社村田製作所 弾性波フィルタ装置
JP2015111923A (ja) * 2011-03-25 2015-06-18 スカイワークス・パナソニック フィルターソリューションズ ジャパン株式会社 高次横モード波を抑制した弾性波デバイス

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002290194A (ja) * 2001-03-27 2002-10-04 Toshiba Corp 弾性表面波装置
JP2013518455A (ja) * 2010-01-25 2013-05-20 エプコス アーゲー 横方向放射損失を低減させ，横方向モードの抑制により性能を高めた電気音響変換器
JP2015111923A (ja) * 2011-03-25 2015-06-18 スカイワークス・パナソニック フィルターソリューションズ ジャパン株式会社 高次横モード波を抑制した弾性波デバイス
WO2014192755A1 (ja) * 2013-05-29 2014-12-04 株式会社村田製作所 弾性波フィルタ装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113206653A (zh) * 2020-01-31 2021-08-03 株式会社村田制作所 弹性波滤波器
CN113206653B (zh) * 2020-01-31 2024-04-02 株式会社村田制作所 弹性波滤波器
WO2023035235A1 (zh) * 2021-09-10 2023-03-16 华为技术有限公司 谐振器、滤波器及电子设备

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