WO2014068614A1 - 樹脂基板を用い、電気鋳造によりコイル素子を製造する方法 - Google Patents

樹脂基板を用い、電気鋳造によりコイル素子を製造する方法 Download PDF

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佐野 孝史
常徳 寺田
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    • HELECTRICITY
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Definitions

  • the present invention relates to a method of manufacturing a coil element by electroforming (also referred to as electroplating) using a resin substrate.
  • Patent Document 1 describes a method of forming a thin film conductor having a predetermined pattern.
  • a patterned plating mask layer is provided on a plating base conductive film covering an insulator, and a plating film is formed by a first plating step so as to fill a non-mask portion of the plating mask layer.
  • the plating mask layer from which the plating mask layer is exposed is removed, and the surface of the plating film is covered and thickened by the second plating step, thereby narrowing the conductor pattern interval. It is.
  • Patent Document 2 a plating resist pattern is formed on a substrate, a coiled coiled conductor is formed by electroforming, the plating resist pattern is removed, and then transferred onto a sheet-like magnetic layer.
  • a plurality of coiled coiled conductors are connected through through holes provided in a sheet-like magnetic layer.
  • Patent Document 1 relates to a method of forming a coil component integrally with an insulator without being peeled off from the insulator, and the coil component is peeled off from the insulator and transferred by transfer. Is not intended to produce. Accordingly, no consideration is given to measures for preventing the conductor pattern from falling or falling off due to peeling transfer.
  • Patent Document 2 The method described in Patent Document 2 is to peel a conductor pattern from a substrate and form a coiled plated conductor by transfer. By appropriately roughening the substrate surface, the adhesion of the plating resist pattern is improved. It is only described that the effect of preventing the release of the conductor pattern in the peeling process of the plating resist pattern is secondaryly improved, and it is possible to positively prevent the conductor pattern from falling or falling off due to peeling / transfer. There is no description about. Thus, in the conventional method for manufacturing a coil component, the problem of preventing the conductor pattern from falling or dropping due to the peeling / transfer of the conductor pattern has not been solved.
  • the present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and manufactured a coil component having a high aspect conductor pattern while preventing the conductor pattern from falling or falling off due to peeling / transfer of the conductor pattern from the substrate.
  • the purpose is to do.
  • Means in the present invention is a method of manufacturing a coil element by electroforming using a resin substrate, and in order to prevent the coil element from overturning or falling off, forming a groove on the substrate surface of the resin substrate; Forming a metal film to be a seed layer so as to cover the resin substrate on which the groove is formed, and a resist pattern that is a reversal pattern of the coil element pattern for forming a desired aspect ratio of the coil element.
  • the means of the present invention is characterized by further comprising the step of transplanting the coil element peeled from the resin substrate onto a component substrate.
  • a groove is formed on the substrate surface of the resin substrate, and the central conductor film of the coil element is formed on the substrate surface including the groove. Therefore, a high aspect coil element can be manufactured without causing the conductor pattern to be broken.
  • the figure which shows the preparation processes of the coil element by this invention The top view of the coil element aggregate
  • FIG. 1 is a diagram showing a manufacturing process of a coil element according to the present invention.
  • a resin substrate is used, and a coil element is manufactured on this substrate.
  • the coil element formed on the resin substrate is peeled off from the resin substrate by transfer, and the resin substrate after peeling the coil element is not used again. Therefore, such a resin substrate is called a consumable mold. Can do.
  • a resin substrate 100 is prepared, and a groove 102 is formed on the substrate surface in order to prevent a coil element formed on the resin substrate 100 from falling or dropping in a later step.
  • the shape of the groove 102 is not particularly limited, and a plurality of grooves having an arbitrary shape may be formed. However, merely roughening the surface of the substrate has a small effect of preventing overturning or falling off, and thus it is necessary to form a groove having a sufficient level difference.
  • a metal film 104 serving as a seed layer is formed so as to cover the surface of the resin substrate on which the groove 102 is formed.
  • the metal coating 104 can be formed by electroless plating with copper, nickel, or the like, or by vapor deposition.
  • a resist pattern 106 which is a reversal pattern of the coil element pattern, for forming a desired aspect ratio of the coil element is formed on the substrate surface with the groove 102 interposed therebetween so as to have a desired thickness T.
  • the pattern density can be further improved by making the side wall of the resist pattern 106 overlap with the substrate surface.
  • this resist pattern 106 is used as a mask, for example, copper (Cu) is electrodeposited by electroforming, so that the central conductor film 108 of the coil element is formed on the surface of the substrate including the groove 102 so as to have a height t equal to or less than the thickness T. Form.
  • the height t is controlled in this way to prevent the center conductor film 108 from overhanging the center conductor film 108 when the center conductor film 108 is electrodeposited beyond the thickness T of the resist pattern 106. It is.
  • the resist pattern 106 is removed, and the exposed metal film 104 is also removed as shown in FIG. 1c.
  • the coil element 112 is transferred to the component substrate 200 by transfer, or simply peeled off from the resin substrate and taken out as shown in FIG. 1f.
  • it may be transplanted to the component substrate 200 via an adhesive, or may be transplanted to a green sheet (not shown) without using an adhesive.
  • a portion 108a formed in the groove 102 in the central conductor film 108 protrudes into the shape of the groove. Therefore, reverse electric field etching is performed to remove this portion 108a.
  • the reverse electric field etching is a process in which the electric field direction is reversed and the plated metal is removed by reverse etching.
  • the etching rate is increased and etching is selectively performed.
  • the coil element 112 having a uniform shape and no protrusion is formed. In this way, a coil component with an arbitrary aspect ratio and a narrow pattern interval can be manufactured.
  • FIG. 2 is a plan view of a coil element assembly 1000 manufactured according to the present invention.
  • the mold substrate for producing the coil element assembly 1000 has the same shape as this shape.
  • a rib 502, a gate 504, and a runner 506 are provided.
  • Holes 508 are provided at the four corners of the rib 502, and the positions of the conductor patterns of the coil elements 500m and n formed in each layer of the plurality of coil element assemblies 1000 using the pins 510 penetrating the holes 508. Align.
  • a plurality of coil element assemblies 1000-1, 1000-2,... 1000-N are aligned via pins 510 so that corresponding coil elements in each coil element assembly are aligned with each other.
  • the tin plating constituting the bonding film is melted and acts as solder to join the coil elements of the respective layers.
  • FIG. 4 is a diagram for explaining that a plurality of coil element assemblies are stacked and the coil elements of each layer are connected to form a coil.
  • FIG. 4 a case where six coil element assemblies are stacked and the coil elements in each layer are connected to each other to produce one coil is shown.
  • Corresponding coil elements in the plurality of coil element assemblies can be configured to include different coil patterns.
  • the first layer (Layer 1), the third layer (Layer 3), and the sixth layer (Layer 6) have different coil patterns, respectively, and the second layer (Layer 2) and The fourth layer (Layer 4) has the same coil pattern, and the third layer (Layer 3) and the fifth layer (Layer 5) have the same coil pattern.
  • (B) and (C) six layers of coil element assemblies were laminated, joined so that corresponding coil elements in each layer were aligned, and the coil elements were connected to form one coil. It shows the state.
  • the connecting portions of the respective layers have different heights.
  • the height (H) is 100 ⁇ m in the normal coil element pattern, but the height (H) is 150 ⁇ m in the connection portion between the layers.
  • Such coil patterns with different heights (H) are produced in the same layer by increasing the depth of the etching pattern formed in the transfer mold at the connection portion, and a special copper plating solution for field vias. By using this, it is possible to selectively fill the deepened portion, or to perform copper plating using the mask twice.
  • the upper core of the magnetic body having the protruding portion 604 penetrating the central portion of the coil as shown in FIG. Using 600 and the lower core 602, the electrode lead-out portion 606 is exposed to the outside to seal the coil.
  • the upper core 600 and the lower core 602 are attached so as to avoid the gate 504 for pattern reinforcement shown in FIG.
  • the upper core 600 and the lower core 602 are cut along the dicing line 608 in a subsequent dicing process.
  • an insulating material 612 is filled from a gap (not shown) between the upper core 600 and the lower core 602, and the coil is fixed.
  • the laminated coil element assemblies are cut using a cutter 700 in units of coils.
  • (A) shows a coil element assembly
  • (B) shows one coil component
  • the electrode lead-out portion 606 is formed as a part of the first layer (Layer 1).
  • the external electrode 610 is attached to the electrode lead-out portion 606 by a method such as a solder dipping method, and soldering is performed as a pretreatment for subsequent soldering to complete the coil component 3000. .

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Abstract

 ハイアスペクトの導体パターンを持ったコイル部品を作製する。コイル素子を製造する方法であって、樹脂基板の基板表面に溝部を形成するステップと、金属被膜を形成するステップと、コイル素子パターンの反転パターンであるレジストパターンを所望の厚さTとなるよう溝部を挟んで基板表面に形成するステップと、レジストパターンをマスクに、第1の電気鋳造によりコイル素子の中心導体膜を所望の厚さT以下の高さtとなるよう溝部を含む基板表面に形成するステップと、レジストパターンと露出した金属被膜とを除去するステップと、中心導体膜を下地として第2の電気鋳造により表面導体膜を形成し、中心導体膜と表面導体膜とからなるコイル素子を形成するステップと、コイル素子を樹脂基板から剥離するステップと、剥離されたコイル素子の中心導体膜の内、溝部内に形成された部分を逆電界エッチングにより除去するステップと、を有することを特徴とする。

Description

樹脂基板を用い、電気鋳造によりコイル素子を製造する方法
 本発明は樹脂基板を用い、電気鋳造(電気めっきともいう)によりコイル素子を製造する方法に関する。
 近年のスマートフォンやタブレット端末などのモバイル機器の多機能化に伴い、小型で高い定格電流を扱うことの出来るコイル部品(インダクタ)の必要性が高まっている。
 また、コイルパターン幅が細く、かつ厚さの大きい、いわゆるハイアスペクトの導体パターンを持ったコイル部品の必要性も高い。
 このようなコイル部品の製造方法として、特許文献1には、所定パターンの薄膜導体を形成する方法が記載されている。
 この方法は、絶縁体を被覆するメッキ用下地導電膜上にパターン化されためっき用マスク層を設け、このメッキ用マスク層の非マスク部分を埋めるように、第1のメッキ工程により、メッキ膜を設け、次いで、メッキ用マスク層を露出したメッキ用マスク層とを除去し、第2のメッキ工程により前記メッキ膜の表面を被覆して太らせることにより、導体パターン間隔を狭めるようにしたものである。
 また、特許文献2には、基板上にメッキレジストパターンを形成した後、電鋳法により巻回コイル状メッキ導体を形成し、メッキレジストパターンを除去した後に、シート状磁性体層上に転写し、シート状磁性体層に設けた貫通孔を介して複数の巻回コイル状メッキ導体を接続することが記載されている。
特開平5-075237号公報 特開平8-138941号公報
 特許文献1に記載されている方法は、絶縁体上から剥離されることなく、絶縁体と一体となってコイル部品を形成する方法に関するものであって、絶縁体から剥離し、転写によってコイル部品を作製するものではない。
 従って、剥離転写に伴う導体パターンの転倒又は脱落を防止することについての対策については何等考慮されていない。
 特許文献2に記載されている方法は、導体パターンを基板から剥離し、転写によってコイル状メッキ導体を形成するものであり、基板面を適度に粗すことにより、メッキレジストパターンの密着性を向上させ、メッキレジストパターンの剥離工程における導体パターンの離型防止効果を副次的に向上させることが記載されているのみで、剥離・転写に伴う導体パターンの転倒又は脱落を積極的に防止することについては何等記載されていない。
 このように従来のコイル部品の製造方法においては、導体パターンの剥離・転写に伴う導体パターンの転倒又は脱落を防止するという課題が解決されていなかった。
 本発明は、上記課題を解決するためになされたもので、導体パターンの基板からの剥離・転写に伴う導体パターンの転倒又は脱落を防止しつつ、ハイアスペクトの導体パターンを持ったコイル部品を作製することを目的とする。
 上記課題は、以下の本発明によって達成することができる。
 本発明における手段は、樹脂基板を用い、電気鋳造によりコイル素子を製造する方法であって、前記コイル素子の転倒又は脱落を防止するため、前記樹脂基板の基板表面に溝部を形成するステップと、前記溝部の形成された前記樹脂基板を覆うようにシード層となる金属被膜を形成するステップと、前記コイル素子の所望のアスペクト比を形成するための、コイル素子パターンの反転パターンであるレジストパターンを所望の厚さTとなるよう前記溝部を挟んで前記基板表面に形成するステップと、前記レジストパターンをマスクに、第1の電気鋳造により前記コイル素子の中心導体膜を前記所望の厚さT以下の高さtとなるよう前記溝部を含む前記基板表面に形成するステップと、前記レジストパターンと露出した前記金属被膜とを除去するステップと、前記中心導体膜を下地として第2の電気鋳造により表面導体膜を形成し、前記中心導体膜と前記表面導体膜とからなる前記コイル素子を形成するステップと、前記コイル素子を前記樹脂基板から剥離するステップと、剥離された前記コイル素子の前記中心導体膜の内、前記溝部内に形成された部分を逆電界エッチングにより除去するステップと、を有することを特徴とする。
 本発明の手段において、前記樹脂基板から剥離した前記コイル素子を部品基板に移植するステップを更に有することを特徴とする。
 本発明によれば、コイル素子の転倒又は脱落を防止するために、樹脂基板の基板表面に溝部を形成し、この溝部を含む前記基板表面にコイル素子の中心導体膜を形成するようにしたことにより、導体パターンがくずれることなく、また、ハイアスペクトのコイル素子を作製することができる。
本発明によるコイル素子の作製工程を示す図。 本発明による消耗型金型基板を用いて作製されたコイル素子集合体の平面図。 複数枚のコイル素子集合体を積層した状態を示す図。 複数枚のコイル素子集合体を積層し、各層のコイル素子同士を接続してコイルを形成する説明図。 上部コアと下部コアとを用いてコイルを密閉した状態を示す図。 コイル内に絶縁物質を充填した状態を示す図。 積層されたコイル素子集合体を、コイル単位で切断するダイシングを示す図。 電極引出し部に外部電極を取り付けコイル部品を形成する工程を示す図。
 以下、添付図面に従って、本発明を詳細に説明する。
 図1は、本発明によるコイル素子の作製工程を示す図である。
 本発明では、樹脂基板を用い、この基板上にコイル素子を製造する。
 この樹脂基板上に形成されたコイル素子は、樹脂基板から転写によって剥離され、コイル素子剥離後の樹脂基板は再び使用されることはないので、このような樹脂基板は消耗型金型と呼ぶことができる。
 まず、図1aに示すように、樹脂基板100を準備し、後の工程でこの樹脂基板100上に形成されるコイル素子の転倒又は脱落を防止するために、基板表面に溝部102を形成する。溝部102の形状には特段の制約はなく、任意の形状の溝部を複数形成するようにしてもよい。
 しかし、基板表面を単に粗面加工するだけでは、転倒又は脱落防止効果が薄いため、十分な段差のある溝部を形成する必要がある。
 つぎに、後続工程での電気鋳造(電気めっき)処理に備えて、溝部102の形成された樹脂基板の表面を覆うようにシード層となる金属被膜104を形成する。この金属被膜104の形成は、銅やニッケルなどを無電解めっきすることによっても行うことができるし、蒸着などによって形成しても良い。
 つぎに、コイル素子の所望のアスペクト比を形成するための、コイル素子パターンの反転パターンであるレジストパターン106を所望の厚さTとなるように溝部102を挟んで基板表面に形成する。この時レジストパターン106の側壁は、基板表面に対して重直となるようにすると、パターン密度をより向上させることができる。
 つぎに、このレジストパターン106をマスクに、電鋳により例えば銅(Cu)を電着してコイル素子の中心導体膜108を厚さT以下の高さtとなるよう溝部102を含む基板表面に形成する。このように高さtを制御するのは、中心導体膜108がレジストパターン106の厚さTを越えて電着されると、中心導体膜108の上部に張り出しが出来てしまうのを防止するためである。
 ついで、図1bに示すように、レジストパターン106を除去し、露出した金属被膜104も図1cに示すように除去する。
 ついで、図1dに示すように、中心導体膜108を下地として電鋳により例えば銅(Cu)を中心導体膜108の表面に表面導体膜110として電着させる。
 この処理は、太らせめっきとも呼ばれ、これにより中心導体膜108と表面導体膜110とからなるコイル素子112のパターン間隔を狭めることができる。ついで、図1eに示すように、コイル素子112は部品基板200に転写により移植されるか、あるいは、図1fに示すように、単に樹脂基板から剥離されて取り出される。なお、転写による移植に際しては、接着剤を介して部品基板200に移植しても良いし、接着剤を介さずグリーンシート(図示しない)に移植しても良い。
 取り出されたコイル素子112は、中心導体膜108の内、溝部102に形成された部分108aが溝部の形状に突出している。
 そこで、この部分108aを除去するために逆電界エッチングを行う。
 逆電界エッチングとは、電界方向を逆にし、めっきされた金属を逆エッチングして取り除く処理をいう。ここで部分108aには、他の部分に比較して電界が集中するため、エッチング速度が上がり、選択的にエッチングが行なわれる。
 その結果、図1gに示すように、突出部がなく均一な形状のコイル素子112が形成される。
 このようにして任意のアスペクト比を有するパターン間隔の細いコイル部品を作製することができる。
 以上の説明では、一個のコイル素子を作製する場合を説明したが、複数のコイル素子を有するコイル素子集合体を一括して作製する場合には、複数の反転コイル素子パターンが形成された樹脂基板を用いて、同様に作製することができる。
 次に、このように作製されたコイル素子集合体を用いてコイル部品を作製する方法について説明する。後述するように、コイル部品はコイル素子集合体を複数枚積層して作製される。
 そこで、各層のコイル素子同士を接合して接続するために、予めコイル素子の周囲に接合膜を形成しておく必要がある。
 図2は、本発明により作製されたコイル素子集合体1000の平面図である。このコイル素子集合体1000を作製するための金型基板も、この形状と同一の形状となっている。複数のコイル素子500m,n(m,n=1,2…)の導体パターンを補強するため、リブ502、ゲート504、ランナ506が設けられている。また、リブ502の4隅には孔508が設けられ、この孔508を貫通するピン510を用いて、複数枚のコイル素子集合体1000各層に形成されたコイル素子500m,nの導体パターンの位置合わせを行う。
 図3に示すように複数枚のコイル素子集合体1000-1、1000-2、…1000-Nを、ピン510を介して、各コイル素子集合体中の対応するコイル素子同士が整合するように積層し、加熱及び/又は加熱して互いに接合し、各層のコイル素子同士を接続してコイルを形成する。加熱及び/又は加熱することで、結合膜を構成する錫めっきが溶融し、はんだとして作用して各層のコイル素子同士が接合される。
 図4は、複数枚のコイル素子集合体を積層し、各層のコイル素子同士を接続してコイルを形成することを説明する図である。図4に示す実施例では、6層のコイル素子集合体を積層して、各層中のコイル素子同士を接続して、1個のコイルを作製する場合を示している。複数枚のコイル素子集合体中の対応するコイル素子同士は互いに異なるコイルパターンを含むように構成することができる。
 図4に示す例では、第1層(Layer 1)、第3層(Layer 3)、及び第6層(Layer 6)はそれぞれ相異なるコイルパターンとなっており、第2層(Layer 2)と第4層(Layer 4)とは同一コイルパターン及び第3層(Layer 3)と第5層(Layer5)とはそれぞれ同一コイルパターンとなっている。(B)、(C)は、6層のコイル素子集合体を積層し、各層中の対応するコイル素子同士が整合するように接合し、コイル素子同士を接続して1個のコイルを形成した状態を示したものである。
 なお、前述の説明におけるコイル素子の作製においては、コイル素子を構成する中心導体層の高さ(H)を揃えているようなイメージで説明したが、実際には図4(A)に示すように各層の接続部においては高さの異なるものを使用している。(A)に示す例では、通常のコイル素子のパターンにおいては高さ(H)は100μmであるが、層間の接続部分においては、高さ(H)は150μmとなっている。
 このような高さ(H)の異なるコイルパターンの同一層中での作製は、転写金型に形成される食刻パターンの深さを接続部分において深くし、フィールドビア用の特殊な銅めっき液を用いることで、深くなった部分を、選択的に充填めっきを行ったり、マスクを2回用いて銅めっきを行ったりすることで実現できる。
 以上のようにして、各層のコイル素子同士を接続してコイルを形成した後は、図5に示すように、いずれか一方にコイルの中心部を貫通する突起部604を有する磁性体の上部コア600と下部コア602とを用いて電極引出し部606を外部に露出させてコイルを密閉する。この際、上部コア600と下部コア602とは図2に示すパターン補強のためのゲート504をかわすように取り付ける。なお、上部コア600と下部コア602とは後続のダイシング工程でダイシングライン608に沿って切断される。次いで、図6に示すように上部コア600と下部コア602との隙間(図示せず)から絶縁物質612を充填し、コイルを固定する。
 次いで、図7に示すように積層されたコイル素子集合体をコイル単位でカッター700を用いて切断する。(A)はコイル素子集合体を、(B)は1個のコイル部品を示すもので、電極引出し部606は、第1層(Layer 1)の一部として形成されている。
 最後に、図8に示すように、電極引出し部606にはんだディップ法などの方法により、外部電極610を取付け、その後のはんだ付けのための前処理としてはんだ上げを行い、コイル部品3000を完成する。
   100:樹脂基板
   102:溝部
   104:金属被膜
   106:レジストパターン
   108:中心導体膜
   108a:中心導体膜の内、溝部に形成された部分
   110:表面導体膜
   112:コイル素子
   200:部品基板

Claims (2)

  1.  樹脂基板を用い、電気鋳造によりコイル素子を製造する方法であって、
     前記コイル素子の転倒又は脱落を防止するため、前記樹脂基板の基板表面に溝部を形成するステップと、
     前記溝部の形成された前記樹脂基板を覆うようにシード層となる金属被膜を形成するステップと、
     前記コイル素子の所望のアスペクト比を形成するための、コイル素子パターンの反転パターンであるレジストパターンを所望の厚さTとなるよう前記溝部を挟んで前記基板表面に形成するステップと、
     前記レジストパターンをマスクに、第1の電気鋳造により前記コイル素子の中心導体膜を前記所望の厚さT以下の高さtとなるよう前記溝部を含む前記基板表面に形成するステップと、
     前記レジストパターンと露出した前記金属被膜とを除去するステップと、
     前記中心導体膜を下地として第2の電気鋳造により表面導体膜を形成し、前記中心導体膜と前記表面導体膜とからなる前記コイル素子を形成するステップと、
     前記コイル素子を前記樹脂基板から剥離するステップと、
     剥離された前記コイル素子の前記中心導体膜の内、前記溝部内に形成された部分を逆電界エッチングにより除去するステップと、を有することを特徴とする方法。
  2.  請求項1に記載の方法において、
     前記樹脂基板から剥離した前記コイル素子を部品基板に移植するステップを更に有することを特徴とする方法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020178944A1 (ja) * 2019-03-04 2020-09-10 株式会社プリケン コイル装置及び製造方法
JP2021002677A (ja) * 2019-03-04 2021-01-07 株式会社プリケン コイル装置

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180133153A (ko) * 2017-06-05 2018-12-13 삼성전기주식회사 코일 부품 및 그 제조방법
KR101952872B1 (ko) * 2017-06-23 2019-05-17 삼성전기주식회사 코일 부품 및 그의 제조방법
KR101973448B1 (ko) 2017-12-11 2019-04-29 삼성전기주식회사 코일 부품
KR102047595B1 (ko) * 2017-12-11 2019-11-21 삼성전기주식회사 인덕터 및 그 제조방법
KR101973449B1 (ko) 2017-12-11 2019-04-29 삼성전기주식회사 인덕터
KR102064041B1 (ko) 2017-12-11 2020-01-08 삼성전기주식회사 코일 부품
KR102016498B1 (ko) * 2018-04-02 2019-09-02 삼성전기주식회사 코일 부품 및 코일 부품의 제조 방법
KR102029582B1 (ko) 2018-04-19 2019-10-08 삼성전기주식회사 코일부품 및 그 제조방법

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0575237A (ja) 1991-09-11 1993-03-26 Fujitsu Ltd 導体パターン形成方法
JPH08138941A (ja) 1994-09-12 1996-05-31 Matsushita Electric Ind Co Ltd 積層型セラミックチップインダクタおよびその製造方法
JP2003017351A (ja) * 1994-10-04 2003-01-17 Matsushita Electric Ind Co Ltd 転写導体の製造方法およびグリーンシート積層体の製造方法
JP2003068555A (ja) * 2001-08-24 2003-03-07 Minebea Co Ltd 電子部品の導体パターン形成方法及びコモンモードチョークコイル
JP2008166391A (ja) * 2006-12-27 2008-07-17 Tdk Corp 導体パターンの形成方法および電子部品
JP2008251640A (ja) * 2007-03-29 2008-10-16 Tdk Corp 導体パターンの形成方法

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1563731A (en) * 1925-03-02 1925-12-01 Ducas Charles Electrical apparatus and method of manufacturing the same
US2600343A (en) * 1948-10-07 1952-06-10 Kenyon Instr Company Inc Method of making conductive patterns
BE568197A (ja) * 1957-06-12
US3878061A (en) * 1974-02-26 1975-04-15 Rca Corp Master matrix for making multiple copies
US6841339B2 (en) * 2000-08-09 2005-01-11 Sandia National Laboratories Silicon micro-mold and method for fabrication
US6749997B2 (en) * 2002-05-14 2004-06-15 Sandia National Laboratories Method for providing an arbitrary three-dimensional microstructure in silicon using an anisotropic deep etch
US20050133375A1 (en) * 2002-06-28 2005-06-23 Gunter Schmid Method of producing electrodeposited antennas for RF ID tags by means of selectively introduced adhesive
JP2004162096A (ja) * 2002-11-11 2004-06-10 Sumitomo Electric Ind Ltd 無電解めっき用ペーストと、これを用いた金属構造体および微細金属部品の製造方法
JP3914173B2 (ja) * 2003-05-29 2007-05-16 新科實業有限公司 薄膜コイルおよびその形成方法ならびに薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法
US7791440B2 (en) * 2004-06-09 2010-09-07 Agency For Science, Technology And Research Microfabricated system for magnetic field generation and focusing
US7767263B2 (en) * 2004-09-10 2010-08-03 Danmarks Tekniske Universitet Method of manufacturing a mould part
JP2006339365A (ja) * 2005-06-01 2006-12-14 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd 配線基板およびその製造方法、多層積層配線基板の製造方法並びにビアホールの形成方法
KR100664443B1 (ko) * 2005-08-10 2007-01-03 주식회사 파이컴 캔틸레버형 프로브 및 그 제조 방법
JP2009516388A (ja) * 2005-11-18 2009-04-16 レプリソールス テクノロジーズ アーベー 多層構造の形成方法
KR100897509B1 (ko) * 2007-04-24 2009-05-15 박태흠 음각부, 양각부와 관통부를 갖는 금속박판체를 제조하기위한 미세금속몰드, 그 제조방법 및 위의 미세금속몰드로제조된 금속박판체
CH704572B1 (fr) * 2007-12-31 2012-09-14 Nivarox Sa Procédé de fabrication d'une microstructure métallique et microstructure obtenue selon ce procédé.
JP2010009729A (ja) * 2008-06-30 2010-01-14 Toshiba Corp インプリント用スタンパ、インプリント用スタンパの製造方法、磁気記録媒体、磁気記録媒体の製造方法及び磁気ディスク装置
US20100205804A1 (en) * 2009-02-17 2010-08-19 Alireza Ousati Ashtiani Thick Conductor
US20100290157A1 (en) * 2009-05-14 2010-11-18 Western Digital (Fremont), Llc Damascene coil processes and structures
JP4829360B2 (ja) * 2010-04-27 2011-12-07 株式会社東芝 スタンパーの製造方法
CN103154329B (zh) * 2010-10-08 2015-09-16 夏普株式会社 阳极氧化膜的制造方法
KR20140048564A (ko) * 2012-10-16 2014-04-24 삼성전기주식회사 코어기판, 그의 제조방법 및 메탈 비아용 구조체
EP2935861A1 (en) * 2012-12-21 2015-10-28 3M Innovative Properties Company Method of making a nozzle including injection molding
JP5786906B2 (ja) * 2013-08-02 2015-09-30 オムロン株式会社 電鋳部品の製造方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0575237A (ja) 1991-09-11 1993-03-26 Fujitsu Ltd 導体パターン形成方法
JPH08138941A (ja) 1994-09-12 1996-05-31 Matsushita Electric Ind Co Ltd 積層型セラミックチップインダクタおよびその製造方法
JP2003017351A (ja) * 1994-10-04 2003-01-17 Matsushita Electric Ind Co Ltd 転写導体の製造方法およびグリーンシート積層体の製造方法
JP2003068555A (ja) * 2001-08-24 2003-03-07 Minebea Co Ltd 電子部品の導体パターン形成方法及びコモンモードチョークコイル
JP2008166391A (ja) * 2006-12-27 2008-07-17 Tdk Corp 導体パターンの形成方法および電子部品
JP2008251640A (ja) * 2007-03-29 2008-10-16 Tdk Corp 導体パターンの形成方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020178944A1 (ja) * 2019-03-04 2020-09-10 株式会社プリケン コイル装置及び製造方法
JP6774699B1 (ja) * 2019-03-04 2020-10-28 株式会社プリケン コイル装置及び製造方法
JP2021002677A (ja) * 2019-03-04 2021-01-07 株式会社プリケン コイル装置
JP7498447B2 (ja) 2019-03-04 2024-06-12 株式会社プリケン コイル装置

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