WO2012090774A1 - 蒸着装置および回収装置 - Google Patents

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Abstract

　真空チャンバ（５）の防着板（３）およびシャッタ（４）において、蒸着粒子が蒸着される面の少なくとも一部には、防着板（３）およびシャッタ（４）から剥離可能なフィルム（７）が設けられており、フィルム（７）は、フィルム（７）上に形成される蒸着膜とは、融点、昇華点、所定の溶媒に対する溶解特性、微生物に対する生分解性、および光分解特性中、少なくとも一つが異なる材料からなる。

Description

蒸着装置および回収装置
　本発明は、不要な部分に蒸着された蒸着材料を回収するための蒸着装置および回収装置に関するものである。
　近年、様々な商品や分野でフラットパネルディスプレイが活用されており、フラットパネルディスプレイのさらなる大型化、高画質化、低消費電力化が求められている。
　そのような状況下において、有機材料の電界発光（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ；以下、「ＥＬ」と記す）を利用した有機ＥＬ素子を備えた有機ＥＬ表示装置は、全固体型で、低電圧駆動、高速応答性、自発光性、広視野角特性等の点で優れたフラットパネルディスプレイとして、高い注目を浴びている。
　有機ＥＬ表示装置は、例えば、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）が設けられたガラス基板等からなる基板上に、ＴＦＴに電気的に接続された有機ＥＬ素子が設けられた構成を有している。
　有機ＥＬ素子は、低電圧直流駆動による高輝度発光が可能な発光素子であり、第１電極、有機ＥＬ層、および第２電極が、この順に積層された構造を有しており、そのうち、第１電極がＴＦＴと電気的に接続されている。
　また、第１電極と第２電極との間には、上記有機ＥＬ層として、正孔注入層、正孔輸送層、電子ブロッキング層、発光層、正孔ブロッキング層、電子輸送層、電子注入層等を積層させた有機層が設けられている。
　フルカラーの有機ＥＬ表示装置は、一般的に、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各色の有機ＥＬ素子をサブ画素として基板上に配列形成してなり、ＴＦＴを用いて、これら有機ＥＬ素子を選択的に所望の輝度で発光させることにより画像表示を行っている。
　このような有機ＥＬ表示装置の製造においては、少なくとも各色に発光する有機発光材料からなる発光層が、発光素子である有機ＥＬ素子毎に所定のパターンで形成されている。
　これらの有機ＥＬ層および第２電極を作成する方法としては、例えば、シャドウマスクと称される蒸着用のマスクを用いた真空蒸着法、インクジェット法やレーザ転写法などを適用可能である。
　そのうち、現在では真空蒸着法を用いるのが最も一般的である。真空蒸着法では、高真空下において、るつぼやボートと呼ばれる加熱用の入れ物に入れられた蒸着材料を加熱し昇華させて、基板上にその蒸着材料の薄膜を堆積させる。
　その際、所望の領域のみが開口しているシャドウマスクを基板に密着させ、そのシャドウマスクの開口部を介して蒸着することで、所望の領域のみに蒸着膜を形成することができる。
　しかしながら、上記真空蒸着法の場合、基板上に堆積された蒸着膜以外は、全て材料の損失となり、有機ＥＬ表示装置に備えられる蒸着膜とはならない。
　すなわち、蒸着材料が入っているるつぼ等の直上に配された基板に向けて蒸着粒子を放出するか否かを決めるシャッタ、蒸着装置のチャンバ内が蒸着材料で汚染されないように、交換可能な状態で設置される防着板、シャドウマスクの非開口部などに付着した蒸着材料は全て無駄となる。
　一般に第２電極を構成する材料は金属であり、その材料単価は有機ＥＬ層を構成する有機材料に比較して、高価ではないが、有機ＥＬ層を構成する有機材料は、電気伝導性、キャリア輸送性、発光特性、熱的および電気的安定性などを有する特殊な機能性材料であり、その材料単価は非常に高価である。
　それにも関わらず、上記したように、基板上に堆積される有機材料以外は全て材料の損失となってしまうため、蒸着処理する基板当たりの材料使用量が多く、上記蒸着処理に掛かる費用は高価となり、結果として有機ＥＬ表示装置の原価（コスト）が増大してしまうことになる。
　このような問題を解決するための方法として、基板以外に付着した材料を回収し、再利用する方法が考えられる。
　例えば、特許文献１には、成膜治具に付着された付着膜をウォータジェットの吹き付けによって回収するウォータジェット装置について開示されている。
　図１５は、特許文献１に記載されているウォータジェット装置の概略構成を示す図である。
　図１５に図示されているウォータジェット装置においては、洗浄作業のための作業台であるテーブル１２６を上方から覆う箱状に形成された作業室１２２が設けられており、作業室１２２の側面には、テーブル１２６上に被洗浄物である成膜治具１２５を搬入、搬出するための扉が備えられている。
　そして、作業室１２２は、洗浄作業中においては、ウォータジェットによる飛沫が外部に漏れ出すことを防止できるよう密閉可能に形成されている。
　作業室１２２内には、ロボット１２１が設置されており、ロボット１２１の先端部は、被洗浄物（洗浄対象）となる成膜治具１２５の付着膜の形成面の形状に沿って三次元的に移動できるようになっている。
　ロボット１２１のアーム先端部には、洗浄ガン１５１が取り付けられており、高圧水を発生するための高圧水発生装置１５２が、洗浄ガン１５１にロボット１２１を介して高圧水を供給するように連結されて作業室１２２の外部に近接して設けられている。
　なお、純水製造装置１５１から高圧水発生装置１５２には、市水からイオンを除去した水が供給されるようになっている。
　また、作業室１２２には、作業室１２２の内面壁を濡らしておくための噴霧器１５９と作業室１２２内を陰圧に設定するための排気ファン１６２とが設けられている。
　テーブル１２６には、網状に多数の穴が形成されており、テーブル１２６の下方には、固定容器１５４と、その周面に多数の穴が開けられており、その内側面には濾材１５５が上記の多数の穴を覆うように取り付けられている固定容器１５４の中にて同軸状にて高速で回転する回転容器１５６と、を備えた遠心分離機１５７が配置されている。
　そして、洗浄ガン１５１によって、作業室１２２内のテーブル１２６上の洗浄治具載置台１５３上に載置された成膜治具１２５の付着膜に対し、水圧３０ＭＰａ～２００ＭＰａの範囲のウォータジェットを吹き付けると、成膜治具１２５に噴射された高圧水は、成膜治具１２５の付着膜からの付着膜片を含む懸濁水となる。
　上記懸濁水は、直接または作業室１２２の内壁面を伝って、噴霧器１５９から噴出された水と共に、多数の穴の開いたテーブル１２６から下方に流れ、回転容器１５６内に入り、遠心分離機１５７により遠心分離されて、付着膜片と排水とに分離され、付着膜を回収できるようになっている。
　なお、ドレイン１５８からの排水は、配管１７７によって、高圧水発生装置１５２に戻るようになっている。
　上記装置によれば、成膜治具１２５の研削量が少なく、廃棄物の発生量も抑制しながら、成膜治具１２５の付着膜を回収し再利用することができると記載されている。
特開２００２－２９２３４６号公報（２００２年１０月８日公開）
　以下、図１４に基づいて、有機ＥＬ表示装置の製造工程において、有機ＥＬ層を形成する際に用いられている従来の真空蒸着装置２１の問題点について説明する。
　図１４は、従来の真空蒸着装置２１の概略的な構成を示す図である。
　真空チャンバ５内には、蒸着源２と、防着板３およびシャッタ４とが配置されている。
　蒸着源２は真空チャンバ５内に一つだけであり、防着板３はチャンバ５内の他の構成物が蒸着粒子の付着によって汚染されるのを防止する。
　また、シャッタ４は、蒸着が不必要な時（例えば、安定な蒸着速度を得るまでの時間や、基板１０１が存在しない間あるいは基板１０１とシャドウマスク１１０とを位置合わせし、密着させるまでの時間など）に蒸着粒子が真空チャンバ５内に放出（射出）されるのを防止している。すなわち、シャッタ４は、防着板３の放出口６を開放または遮蔽する役目をもつ。
　なお、防着板３やシャッタ４などには、蒸着処理を続けていると、蒸着源２から放出された蒸着材料が付着していくが、ある程度以上付着してしまうと、自重などにより剥落し、チャンバ５内を汚染してしまうので、防着板３やシャッタ４などは、定期的に新たなものに付け替える必要がある。
　このような従来の真空蒸着装置２１においては、基板１０１に到達する蒸着粒子以外は、全て材料の損失となるが、以下に示す理由から基板１０１以外に付着された付着膜を効率よく回収、再利用できていなかった。
　真空蒸着装置に備えられた防着板やシャッタなどは、その真空蒸着装置の真空チャンバの形状に合わせて、特別な設計がなされていたり、特別な形状に設計されている。
　そのため、どのような防着板やシャッタにも適用でき、これらに付着している付着膜を効率よく回収して再利用できるような汎用的な手法は存在しなかった。
　したがって、これまでは、防着板やシャッタなどを真空蒸着装置から取り外し、これらに付着している付着膜を付着表面からこそぎ落としたり、真空蒸着装置とは別に設置された昇華精製装置で分離精製するような方法や防着板やシャッタなどを真空蒸着装置から取り外し、上記特許文献１に記載されているようなウォータジェット装置を用いて、付着膜を回収するなどの方法しかなかった。
　これらの方法においては、防着板やシャッタなどを真空蒸着装置から取り外し、新たなものに付け替える必要があり、この作業には時間を要するが、この作業の期間中には蒸着を行うことができないので、結果的に真空蒸着装置の生産性（スループット）の低下を招いてしまう。
　また、付着膜を付着表面からこそぎ落としたり、防着板やシャッタなどに付着されている付着膜に直接ウォータジェットを吹き付ける際に、防着板やシャッタなどに損傷を与えてしまい、不純物が混入される可能性が高い。
　また、真空蒸着装置とは別途に比較的高価な回収装置が必要とされるため、高価な材料を再利用するために、結局、高いコストがかかってしまい、コスト低減の効果が小さくなっていた。
　一方、回収装置として上記特許文献１に記載されているウォータジェット装置を用いた場合においては、以下のような問題点もある。
　成膜治具１２５に付着されている付着膜に直接ウォータジェットを吹き付ける必要があるため、成膜治具１２５を重ねて処理することが困難であるため、一度に処理できる量が少ないという問題がある。
　さらには、成膜治具１２５の大きさが大きい場合、ウォータジェット装置のサイズも大きくなり、結果として装置コストの増大を招いてしまうという問題がある。
　本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、生産性が高く、且つ、装置価格の上昇を伴うことなく蒸着材料を回収できる蒸着装置と、不純物が混入する可能性を小さくできるとともに、高効率且つ低コストで蒸着材料を回収できる回収装置と、を提供することを目的とする。
　本発明の蒸着装置は、上記の課題を解決するために、蒸着室において、蒸着源から放出された蒸着粒子を、基板上に蒸着させる蒸着装置であって、上記蒸着源から第１の期間中、第１の方向に放出される蒸着粒子は、上記基板上に蒸着され、上記蒸着源から上記第１の期間中、上記第１の方向とは異なる第２の方向に放出される蒸着粒子または、上記第１の期間とは異なる第２の期間中、上記蒸着源から放出される蒸着粒子は、上記蒸着装置から取り外しできる防着部材に蒸着され、上記防着部材において、上記蒸着粒子が蒸着される面の少なくとも一部には、上記防着部材から剥離可能なフィルムが設けられており、上記フィルムは、上記フィルム上に形成される蒸着膜とは、融点、昇華点、所定の溶媒に対する溶解特性、微生物に対する生分解性、および光分解特性中、少なくとも一つが異なる材料からなることを特徴としている。
　上記構成によれば、上記防着部材の上記蒸着粒子が蒸着される面の少なくとも一部には、上記防着部材から剥離可能なフィルムが設けられているため、上記蒸着粒子は上記防着部材ではなく、上記フィルム上に蒸着されることとなる。
　上記蒸着粒子が蒸着されたフィルムは、上記防着部材から容易に剥離できるので、上記フィルムを新しいフィルムに付け替える作業は、比較的短時間で行うことができる。
　一方、上記フィルムが設けられてない従来の蒸着装置においては、防着部材を蒸着装置から取り外し、新たなものに付け替える必要があり、この作業には時間を要するが、この作業の期間中には蒸着を行うことができないので、結果的に蒸着装置の生産性（スループット）の低下を招いていた。
　また、上記フィルムを設けるのみで上記蒸着装置の生産性を向上させることができる。
　さらに、上記フィルムは、上記フィルム上に形成される蒸着膜とは、融点、昇華点、所定の溶媒に対する溶解特性、微生物に対する生分解性、および光分解特性中、少なくとも一つが異なる材料からなるので、上記フィルムと上記フィルム上に形成される蒸着膜との分離を不純物の混入なく、比較的容易に行うことができる。
　したがって、上記構成によれば、生産性が高く、且つ、装置価格の上昇を伴うことなく蒸着材料を回収できる蒸着装置を実現することができる。
　本発明の回収装置は、上記の課題を解決するために、上記蒸着装置に備えられた蒸着膜が形成されたフィルムと、上記蒸着膜が形成されたフィルムから上記蒸着膜と上記フィルムとを分離するための分離部と、を備えていることを特徴としている。
　上記構成によれば、上記分離部では、上記フィルムと上記フィルム上に形成される蒸着膜とにおける、融点、昇華点、所定の溶媒に対する溶解特性、微生物に対する生分解性、および光分解特性が異なることを利用して、上記フィルムと上記フィルム上に形成される蒸着膜との分離を行うので、従来のように、蒸着膜を蒸着表面からこそぎ落としたり、防着部材に蒸着されている蒸着膜に直接ウォータジェットを吹き付ける際に、防着部材に損傷を与えてしまい、不純物が混入される可能性を抑制できる。
　したがって、不純物が混入する可能性を小さくできるとともに、高効率且つ低コストで蒸着材料を回収できる回収装置を実現できる。
　本発明の蒸着装置は、以上のように、上記蒸着源から第１の期間中、第１の方向に放出される蒸着粒子は、上記基板上に蒸着され、上記蒸着源から上記第１の期間中、上記第１の方向とは異なる第２の方向に放出される蒸着粒子または、上記第１の期間とは異なる第２の期間中、上記蒸着源から放出される蒸着粒子は、上記蒸着装置から取り外しできる防着部材に蒸着され、上記防着部材において、上記蒸着粒子が蒸着される面の少なくとも一部には、上記防着部材から剥離可能なフィルムが設けられており、上記フィルムは、上記フィルム上に形成される蒸着膜とは、融点、昇華点、所定の溶媒に対する溶解特性、微生物に対する生分解性、および光分解特性中、少なくとも一つが異なる材料からなる構成である。
　また、本発明の回収装置は、以上のように、上記蒸着装置に備えられた蒸着膜が形成されたフィルムと、上記蒸着膜が形成されたフィルムから上記蒸着膜と上記フィルムとを分離するための分離部と、を備えている構成である。
　それゆえ、生産性が高く、且つ、装置価格の上昇を伴うことなく蒸着材料を回収できる蒸着装置と、不純物が混入する可能性を小さくできるとともに、高効率且つ低コストで蒸着材料を回収できる回収装置と、を実現することができる。
本発明の一実施の形態の真空蒸着装置の概略的な構成を示す図である。 図１に示す真空蒸着装置において、防着板およびシャッタからフィルムを剥離させた状態を示す図である。 本発明の一実施の形態の回収装置と回収装置から得られる非水溶性物質を蒸着材料として再利用するための工程とを示す図である。 本発明の一実施の形態の変形例であるフィルムが設けられた制御板を備えた真空蒸着装置の概略的な構成を示す図である。 本発明の他の一実施の形態の真空蒸着装置の概略的な構成を示す図である。 本発明の他の一実施の形態の回収装置と回収装置から得られる非分解物を蒸着材料として再利用するための工程とを示す図である。 本発明のさらに他の一実施の形態の真空蒸着装置の概略的な構成を示す図である。 本発明のさらに他の一実施の形態の回収装置と回収装置から得られる非溶融物を蒸着材料として再利用するための工程とを示す図である。 本発明のさらに他の一実施の形態の真空蒸着装置の概略的な構成を示す図である。 本発明のさらに他の一実施の形態の回収装置と回収装置から得られる蒸着材料を再利用するための工程とを示す図である。 有機ＥＬ表示装置の表示部を構成する有機ＥＬ素子の断面図である。 真空蒸着法によって、基板上にパターン蒸着膜を形成する方法を示した模式図である。 有機ＥＬ表示装置の製造工程を示す図である。 従来の真空蒸着装置の概略的な構成を示す図である。 特許文献１に記載されているウォータジェット装置の概略構成を示す図である。
　以下、図面に基づいて本発明の実施の形態について詳しく説明する。ただし、この実施の形態に記載されている構成部品の寸法、材質、形状、その相対配置などはあくまで一実施形態に過ぎず、これらによってこの発明の範囲が限定解釈されるべきではない。
　なお、以下の実施の形態においては、本発明の蒸着装置および回収装置の一例として、有機ＥＬ表示装置の製造工程に用いられる蒸着装置および回収装置を例に挙げて説明するが、これに限定されることはなく、本発明の蒸着装置および回収装置は、様々な分野の製造工程にて用いることができる。
　〔実施の形態１〕
　図１１は、有機ＥＬ表示装置の表示部を構成する有機ＥＬ素子の断面図を示したものである。
　薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）１００が形成された基板１０１上に、層間絶縁膜１０２、第１電極１０３およびエッジカバー１０４が形成されている。
　基板１０１としては、例えば、無アルカリガラスやプラスチックなどを用いることができるが、本実施の形態においては、板厚０．７ｍｍの無アルカリガラスを使用した。
　そして、層間絶縁膜１０２およびエッジカバー１０４としては、既知の感光性樹脂を用いることができる。上記感光性樹脂としては、例えば、アクリル樹脂やポリイミド樹脂などが挙げられる。
　なお、本実施の形態においては、層間絶縁膜１０２およびエッジカバー１０４として、感光性アクリル樹脂を用いた。
　また、第１電極１０３は、電極材料をスパッタ法などで形成した後、フォトリソグラフィ技術およびエッチングにより個々の画素に対応してパターン形成されている。
　第１電極１０３としては、様々な導電性材料を用いることができるが、基板側に光を放射するボトムエミッション型有機ＥＬ素子の場合、透明または半透明の必要がある。一方、基板とは反対側から光を放射するトップエミッション型有機ＥＬ素子の場合には、第２電極１０７が透明または半透明の必要がある。
　また、ＴＦＴは既知の方法にて作製される。なお、本実施の形態においては、ＴＦＴを各画素に形成したアクティブマトリックス型の有機ＥＬ表示装置の製造について述べるが、これに限らずＴＦＴのないパッシブマトリックス型の有機ＥＬ表示装置についても、本発明は適用可能である。
　エッジカバー１０４は第１電極１０３の端部で有機ＥＬ層が薄くなったり電界が集中したりして、第２電極１０７との間で短絡するのを防止するために、第１電極１０３の端部を覆うように形成されており、エッジカバー１０４のない部分で第１電極１０３が露出している。この露出部分が各画素の発光部となる。
　第１電極１０３上に各有機ＥＬ層を形成する。有機ＥＬ層としては、例えば、正孔注入層および正孔輸送層１０５、発光層（１０６Ｒ・１０６Ｇ・１０６Ｂ）、図示してないが、電子輸送層および電子注入層などが挙げられる。
　そして、図示してないが、必要に応じて正孔、電子といったキャリアの流れをせき止めるキャリアブロッキング層が挿入されていてもよい。また、一つの層が複数の機能を有していてもよく、例えば、正孔注入層と正孔輸送層とを兼ねた一つの層を形成してもよい。
　本実施の形態においては、第１電極１０３を陽極とし、第１電極１０３側より正孔注入層兼正孔輸送層１０５、発光層（１０６Ｒ・１０６Ｇ・１０６Ｂ）、電子輸送層（未図示）、電子注入層（未図示）、そして第２電極１０７を陰極とした順番で積層した。
　なお、第１電極１０３を陰極とする場合には、上記積層順は反転する。
　また、本実施の形態においては、ボトムエミッション型有機ＥＬ素子とし、第１電極１０３として、ＩＴＯ（インジウム－スズ酸化物）を用いた。有機ＥＬ層の材料としては、既知の材料を用いることができる。
　また、発光層（１０６Ｒ・１０６Ｇ・１０６Ｂ）としては単一材料を用いたもの、あるいはある材料をホスト材料とし、他の材料をゲスト材料またはドーパントとして混ぜ込んだ混合型を用いることができるが、本実施の形態においては、発光層（１０６Ｒ・１０６Ｇ・１０６Ｂ）を単一材料を用いたもので形成した。
　以下、図１２および図１３に基づいて、図１１に示した第１電極１０３までが形成された基板１０１上に有機ＥＬ層を形成する方法について説明する。
　図１２は真空蒸着法によって、基板上にパターン蒸着膜を形成する方法を示した模式図である。
　図示されているように、蒸着源１２０にて蒸着材料を加熱、昇華させる。昇華した蒸着粒子は、所望の位置に開口部１１０ａを有するシャドウマスク１１０を介して図１１に示した第１電極１０３までが形成された基板１０１に到達する。
　シャドウマスク１１０は基板１０１に密着されている。これによって、基板１０１上の所望の位置に蒸着膜が形成される。
　図１１における正孔注入層兼正孔輸送層１０５、電子輸送層（未図示）、電子注入層（未図示）および第２電極１０７の場合、表示部全面に製膜を行うため、表示部全面および製膜が必要な領域のみ開口しているオープンマスクをシャドウマスク１１０として用いて、製膜を行う。
　一方、同図において、発光層（１０６Ｒ・１０６Ｇ・１０６Ｂ）の製膜を行う場合、当該箇所（例えば、サブ画素ごと）のみが開口したファインマスクをシャドウマスク１１０として用いて、製膜を行う。
　図１３は、有機ＥＬ表示装置の製造工程を示したものである。
　先ず、ＴＦＴ基板上に第１電極１０３を形成した基板１０１を作製する（Ｓ１）。
　そして、基板１０１の上に正孔注入層兼正孔輸送層１０５を真空蒸着法により全面に形成する（Ｓ２、Ｓ３）。
　それから、ファインマスクをシャドウマスク１１０として用いて、発光層（１０６Ｒ・１０６Ｇ・１０６Ｂ）を真空蒸着法により所定の箇所に形成する（Ｓ４）。
　その後、電子輸送層、電子注入層、第２電極１０７を順に真空蒸着法により形成する（Ｓ５、Ｓ６、Ｓ７）。
　なお、第２電極１０７は、真空蒸着法以外のスパッタ法などで形成してもよい。
　以上のように、蒸着が完了した基板に対して、有機ＥＬ素子が大気中の水分や酸素にて劣化しないよう、有機ＥＬ素子の領域（表示部）の封止を行う（Ｓ８）。
　封止は、水分や酸素の透過しにくい膜をＣＶＤ法などで形成する方法、ガラス基板などを接着剤などにより貼り合わせる方法などがある。
　以上のような工程により、有機ＥＬ表示装置が作製され、外部に形成された駆動回路から、個々の画素にある有機ＥＬ素子に電流を流し発光させることで、所望の表示を行うことができる。
　以下、図１に基づいて、上述した図１３に示す有機ＥＬ表示装置の製造工程において、ＴＦＴ基板上に第１電極１０３を形成した基板１０１上に、有機ＥＬ層を形成する際に用いられる真空蒸着装置１について説明する。
　図１は、真空蒸着装置１の概略的な構成を示す図である。
　真空チャンバ５（蒸着室）内には、蒸着源２と、防着板３（防着部材）およびシャッタ４（防着部材）とが配置されている。
　蒸着源２は真空チャンバ５内に一つだけであり、防着板３はチャンバ５内の他の構成物が蒸着粒子の付着によって汚染されるのを防止する。
　また、シャッタ４は、蒸着が不必要な時（例えば、安定な蒸着速度を得るまでの時間や、基板１０１が存在しない間あるいは基板１０１とシャドウマスク１１０とを位置合わせし、密着させるまでの時間など）に蒸着粒子が真空チャンバ５内に放出（射出）されるのを防止している。すなわち、シャッタ４は、防着板３の放出口６を開放または遮蔽する役目をもつ。
　そして、図示されているように、防着板３およびシャッタ４における上記蒸着粒子が蒸着される面には、防着板３およびシャッタ４から剥離可能なフィルム７が設けられている。
　本実施の形態においては、防着板３およびシャッタ４における上記蒸着粒子が蒸着される面の全面にフィルム７を設けているが、防着板３およびシャッタ４における上記蒸着粒子が蒸着される面の少なくとも一部に設けてもよい。
　さらには、防着板３およびシャッタ４において、上記蒸着粒子の蒸着量が多い領域のみに設けることもできる。
　図１に示す真空蒸着装置１は、図１４に示す従来の真空蒸着装置２１とは、防着板３およびシャッタ４における上記蒸着粒子が蒸着される面の全面にフィルム７が設けている点において異なり、フィルム７上に上記蒸着粒子が蒸着されることとなる。
　なお、本実施の形態においては、従来と同様の防着板３およびシャッタ４における上記蒸着粒子が付着する面に、フィルム７を接着剤を用いて貼付しているが、これに限定されることはなく、貼付は粘着剤を用いて行ってもよい。
　また、ピンなどにより押し付けて貼付してもよく、さらには、樹脂をスプレーや塗布した後、硬化させることでフィルム化してもよい。
　図２は、図１に示す真空蒸着装置１において、防着板３およびシャッタ４からフィルム７を剥離させた状態を示す図である。
　図示されているように、フィルム７は、防着板３およびシャッタ４から手動あるいは機械的な手段で容易に剥離できるようになっている。
　なお、フィルム７は、水溶性を示すものを用いており、本実施の形態においては、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）で作られたフィルムを用いたが、これに限定されることはない。
　また、本実施の形態においては、接着剤も水溶性としているが、これに限定されることはない。但し、水溶性でない場合は水に溶解せず残存するため、別途回収装置から接着剤成分を除去する必要がある。
　一方、フィルム７上に蒸着されることとなる、真空蒸着装置１において、蒸着源２として用いられる有機ＥＬ層（正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層など）の材料は一般的に、鎖状または複素環式共役系有機化合物であり、特別な官能基（例えば、カルボキシル基や水酸基）を有しない場合には、非水溶性である。
　したがって、後述する回収装置において、フィルム７は水に溶解するが、フィルム７上に蒸着された膜は、水に溶解しないため、フィルム７とフィルム７上に蒸着された膜とを容易に分離することができる。
　以下、蒸着源２として用いることのできる有機ＥＬ層の材料の一例を示す。
　正孔注入層および正孔輸送層の材料としては、例えば、アントラセン、アザトリフェニレン、フルオレノン、ヒドラゾン、スチルベン、トリフェニレン、ベンジン、スチリルアミン、トリフェニルアミン、ポルフィリン、トリアゾール、イミダゾール、オキサジアゾール、オキザゾール、ポリアリールアルカン、フェニレンジアミン、アリールアミン、およびこれらの誘導体、チオフェン系化合物、ポリシラン系化合物、ビニルカルバゾール系化合物、アニリン系化合物等の複素環式共役系のモノマー、オリゴマー、またはポリマーなどが挙げられる。
　発光層の材料としては、低分子蛍光色素、金属錯体等の発光効率が高い材料が用いられる。例えば、アントラセン、ナフタレン、インデン、フェナントレン、ピレン、ナフタセン、トリフェニレン、ペリレン、ピセン、フルオランテン、アセフェナントリレン、ペンタフェン、ペンタセン、コロネン、ブタジエン、クマリン、アクリジン、スチルベン、およびこれらの誘導体、トリス（８－キノリノラト）アルミニウム錯体、ビス（ベンゾキノリノラト）ベリリウム錯体、トリ（ジベンゾイルメチル）フェナントロリンユーロピウム錯体、ジトルイルビニルビフェニル、ヒドロキシフェニルオキサゾール、ヒドロキシフェニルチアゾールなどが挙げられる。
　電子輸送層および電子注入層の材料としては、例えば、トリス（８－キノリノラト）アルミニウム錯体、オキサジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、フェニルキノキサリン誘導体、シロール誘導体などが挙げられる。
　なお、フィルム７上に蒸着された膜は、必ず非水溶性である必要はなく、フィルム７とフィルム７上に蒸着された膜との水に対する溶解特性が異なればよく、その溶解特性の差が大きければ大きい程、好ましい。
　以上のように、蒸着粒子が蒸着されたフィルム７は、防着板３およびシャッタ４から容易に剥離でき、真空チャンバ５から取り出せるようになっている。
　フィルム７を防着板３およびシャッタ４から剥離する際には、防着板３およびシャッタ４を、真空チャンバ５から取り出した後、剥離することもできるが、防着板３およびシャッタ４の取り出し、再設置の時間分スループットが低下するため、真空チャンバ５からはフィルム７のみを取り出すほうが好ましい。
　また、フィルム７の剥離後、防着板３およびシャッタ４に新規のフィルム７を再度貼付すれば、真空蒸着装置１を稼働させることができる。そのため、蒸着材料が付着した防着板３およびシャッタ４を全て入れ替える従来の方法に比べて、スループットが向上する。
　さらには、入れ替え用の防着板３およびシャッタ４を準備しておく必要が無く、設備コストの低減や部材保管場所の削減も見込める。
　図３は、フィルム７とフィルム７上に蒸着された膜とを分離するための回収装置８と回収装置８から得られる非水溶性物質を蒸着材料として再利用するための工程を示す図である。
　図示されているように、回収装置８には、水槽（分離部）が備えられたおり、上記水槽中に蒸着膜が形成されたフィルム７を入れる。
　フィルム７が溶解した水溶液から、ろ過し非水溶性物質のみを回収し、乾燥させることで、蒸着材料を得ることができ、蒸着材料の再利用が可能となる。
　なお、図３に示した回収装置８には、水槽のみを図示しているが、ろ過部と乾燥部とを別途備えている。
　なお、本実施の形態においては、水溶液から、非水溶性物質のみを回収する方法としては、ろ過を行っているが、これに限定されることはない。
　なお、本実施の形態においては、回収装置８に水槽が備えられているが、フィルム７とフィルム７上に蒸着された膜との所定の溶媒に対する溶解特性の差を確保できるのであれば、例えば、有機溶剤の入った槽を用いることもできる。但し、後述するように、有機溶媒は水に比べて、様々な問題点を有しているため、水を用いるほうがより好ましい。
　なお、回収装置８においては、乾燥工程以外では加熱を行わないため、加熱による蒸着材料の劣化がない。
　さらには、従来のように、付着膜を付着表面からこそぎ落としたり、防着板やシャッタなどに付着されている付着膜に直接ウォータジェットを吹き付ける必要が無いため、防着板やシャッタの損傷や、これら防着材料の表面に蒸着材料の残渣が残ることもない。
　そして、蒸着膜が形成されたフィルム７は柔軟であるので、細かく切断したり、圧縮したりして水槽に投入することができる。
　したがって、一度に多量を処理することができるとともに、回収装置８を小型にすることができる。
　また、真空蒸着装置のサイズ、形状に限らず同一の回収装置８を用いることができるので、設備コストを低減することができる。
　一方、防着板やシャッタをＳＵＳ製とし、蒸着材料が付着した防着板やシャッタを蒸着材料を溶解するような有機溶剤に浸漬するような方法を用いて、蒸着材料を回収する方法も考えられる。
　この方法においては、蒸着材料のみを有機溶剤に溶解して分離することができるが、一方で以下の問題がある。
　有機溶剤を用いるので、水に比べて高価であり、また、高度な廃液設備、再処理設備が必要となる。
　また、有機溶剤が元々含有している不純物が、回収された蒸着材料に混入する。この不純物の分離は難しく、蒸着材料の昇華精製などによる高純度化処理が必要となり、回収にかかるコストを増加させる要因となる。
　また、有機溶剤に対する蒸着材料の溶解性に依存するため、回収できる蒸着材料が制限されてしまう。
　そして、本実施の形態と同じように、防着板やシャッタにフィルムを設ける場合には、そのフィルムは有機溶剤に対する溶解性がない材料を選択する必要がある。
　なお、フィルム７は、シャッタや防着板に限らず、真空チャンバ内の様々な構成物に適用することができる。
　図４は、制御板２２を備えた真空蒸着装置１ａの概略的な構成を示す図である。
　図示されているように、真空蒸着装置１ａにおいては、蒸着源２ａと蒸着マスク１１０との間に設けられた複数の制御板２２（防着部材）が、制御板間空間２３に入射した蒸着粒子を、その入射角度に応じて選択的に捕捉するので、マスク１１０の開口部には、所定の入射角度以下の蒸着粒子のみが入射されるようになっている。
　これにより、蒸着粒子の基板１０１に対する最大入射角度が小さくなるので、ホルダ１２０に保持された基板１０１に形成される被膜の端縁に生じるボヤケを抑制することができる。
　図示されているように、制御板２２にもフィルム７を設けることができる。
　なお、複数の制御板２２は、一体化したものであってもよい。
　なお、本実施の形態においては、図１３に示す有機ＥＬ表示装置の各製造工程において、各々真空チャンバを準備し、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層および電子注入層の形成工程に用いられる各々の真空チャンバ内の防着板３およびシャッタ４には、フィルム７を設けた。
　〔実施の形態２〕
　次に、図５および図６に基づいて、本発明の第２の実施形態について説明する。本実施の形態においては、生分解性材料からなるフィルム９を用いている点において実施の形態１とは異なっており、その他の構成については実施の形態１において説明したとおりである。説明の便宜上、上記の実施の形態１の図面に示した部材と同じ機能を有する部材については、同じ符号を付し、その説明を省略する。
　図５は、真空蒸着装置１ｂの概略的な構成を示す図である。
　図示されているように、真空蒸着装置１ｂに備えられた防着板３およびシャッタ４における上記蒸着粒子が蒸着される面の全面に生分解性材料からなるフィルム９が設けられており、フィルム９上に蒸着粒子が蒸着されることとなる。
　そして、蒸着粒子が蒸着されたフィルム９は、防着板３およびシャッタ４から容易に剥離でき、真空チャンバ５から取り出せるようになっている。
　フィルム９は、生分解性材料を用いたフィルムであり、生分解性材料としては、例えば、ポリ乳酸、ポリグリコール酸などがある。
　具体的には、三菱樹脂株式会社のエコロージュや日本合成化学工業株式会社のハイセロンなどを例に挙げることができる。
　この生分解性を有するフィルム９は、微生物により分解され、水や二酸化炭素となる。
　図６は、フィルム９とフィルム９上に蒸着された膜とを分離するための回収装置１０と回収装置１０から得られる非分解物を蒸着材料として再利用するための工程を示す図である。
　図示されているように、回収装置１０には、微生物分解槽（分離部）が備えられたおり、上記微生物分解槽中に蒸着膜が形成されたフィルム９を入れる。
　フィルム９は生分解性であるので、微生物によって分解されるが、一方、有機ＥＬ層の材料はベンゼン環を有するものが多く、ベンゼン環は生分解性が低い。
　すなわち、フィルム９に付着した蒸着膜の生分解性をフィルム９のそれよりも低くしておくことで、フィルム９が完全に分解されても、未分解の蒸着膜（非分解物）を残存させることができる。
　非分解物をろ過や水洗浄などの方法によって分離回収し、乾燥させることで蒸着材料を得ることができ、蒸着材料の再利用が可能となる。
　なお、図６に示した回収装置１０には、微生物分解槽のみを図示しているが、ろ過部と乾燥部とを別途備えている。
　上記構成によれば、フィルム９は、生分解性材料を用いているので、フィルム９から蒸着材料を分離する工程において、有害な副生成物が発生せず、環境負荷の低い回収装置１０を実現できる。
　また、回収装置１０においては、蒸着材料が劣化しない範囲で光照射を併用することができる。
　また、光照射のみにて分解し得るフィルムである場合には、生分解性フィルムの代替に用いることができる。その際には、微生物分解槽の代わりに光照射処理槽とすればよい。また光照射によるフィルムの分解の促進として、水を併用することもできる。
　上記光照射のみにて分解し得るフィルム、すなわち、光分解性プラスチック（フィルム）は、例えば、特許第２８２６６３４号や特開２０１０－０５９３２２号公報に記載されている技術を用いて得ることができる。
　そして、上記照射する光の波長領域は、上記フィルムを光分解できるのであれば特に限定されず、例えば、可視光または紫外光（紫外線）であってもよく、さらには、可視光および紫外光を含む光などであってもよい。
　なお、回収装置１０においては、乾燥工程以外では加熱を行わないため、加熱による蒸着材料の劣化がない。
　さらには、従来のように、付着膜を付着表面からこそぎ落としたり、防着板やシャッタなどに付着されている付着膜に直接ウォータジェットを吹き付ける必要が無いため、防着板やシャッタの損傷や、これら防着材料の表面に蒸着材料の残渣が残ることもない。
　そして、蒸着膜が形成されたフィルム９は柔軟であるので、細かく切断したり、圧縮したりして微生物分解槽に投入することができる。
　したがって、一度に多量を処理することができるとともに、回収装置１０を小型にすることができる。
　また、真空蒸着装置のサイズ、形状に限らず同一の回収装置１０を用いることができるので、設備コストを低減することができる。
　〔実施の形態３〕
　次に、図７および図８に基づいて、本発明の第３の実施形態について説明する。本実施の形態においては、低温溶融性材料からなるフィルム１１を用いている点において実施の形態１とは異なっており、その他の構成については実施の形態１において説明したとおりである。説明の便宜上、上記の実施の形態１の図面に示した部材と同じ機能を有する部材については、同じ符号を付し、その説明を省略する。
　図７は、真空蒸着装置１ｃの概略的な構成を示す図である。
　図示されているように、真空蒸着装置１ｃに備えられた防着板３およびシャッタ４における上記蒸着粒子が蒸着される面の全面に低温溶融性材料からなるフィルム１１が設けられており、フィルム１１上に蒸着粒子が蒸着されることとなる。
　そして、蒸着粒子が蒸着されたフィルム１１は、防着板３およびシャッタ４から容易に剥離でき、真空チャンバ５から取り出せるようになっている。
　フィルム１１は、低温溶融性材料を用いたフィルムであり、低温溶融性材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレンなどが挙げられる。ポリエチレンの融点は常圧で１２０℃程度であり、ポリプロピレンは常圧で１６０℃程度である。
　本実施の形態においては、ポリプロピレンを用いてフィルム１１を作製したが、これに限定されることはない。
　図８は、フィルム１１とフィルム１１上に蒸着された膜とを分離するための回収装置１２と回収装置１２から得られる非溶融物を蒸着材料として再利用するための工程を示す図である。
　図示されているように、回収装置１２には、加熱槽（分離部）が備えられたおり、上記加熱槽中に蒸着膜が形成されたフィルム１１を入れる。
　上記加熱槽は、不活性ガスまたは真空雰囲気に維持され、フィルム１１は、低温溶融性であるので、加温によって融点以上になると液体化する。
　一方、真空蒸着法にて形成される有機ＥＬ層の材料は、一般的に低分子であり、融点または昇華点が高いため、液体化せずに上澄み、浮遊または沈殿する。有機ＥＬ層の材料の融点または昇華点は、例えば、２００℃から３５０℃程度である。
　上記加熱槽は、不活性ガス雰囲気中あるいは真空中にあるので、非溶融物が加熱によって劣化しにくい。
　上記非溶融物をろ過などによって分離回収することができ、上記加熱槽による溶融からろ過による分離回収は、必要であれば複数回実施することができる。
　このようにすることによって、得られる蒸着材料の純度をより向上することができる。
　以上のようにして、蒸着材料の回収および再利用が可能となる。
　なお、図８に示した回収装置１２には、加熱槽のみを図示しているが、ろ過部を別途備えている。
　なお、フィルム上に蒸着されている蒸着膜の融点あるいは昇華点よりも、フィルムが低い融点を有するのであれば、上記の方法を用いることができる。
　また、融点の代わりに昇華点を有するフィルムを用いた場合には、同様に、フィルム上に蒸着されている蒸着膜の融点あるいは昇華点よりも、フィルムが低い昇華点を有していれば上記の方法を用いることができる。但し、この場合においては、ろ過処理の代わりに、加熱槽において昇華したフィルム素材を排出する排出口を加熱槽に設ける必要がある。
　また、回収装置１２においては、溶融したフィルム１１の素材を、再度フィルム化することで再利用することができるので、フィルム１１およびフィルム１１上に蒸着されている蒸着材料の両方を再利用することができ、有機ＥＬ表示装置の蒸着工程における排出物をより低減することができる。
　そして、蒸着膜が形成されたフィルム１１は柔軟であるので、細かく切断したり、圧縮したりして加熱槽に投入することができる。
　したがって、一度に多量を処理することができるとともに、回収装置１２を小型にすることができる。
　また、真空蒸着装置のサイズ、形状に限らず同一の回収装置１２を用いることができるので、設備コストを低減することができる。
　〔実施の形態４〕
　次に、図９および図１０に基づいて、本発明の第４の実施形態について説明する。本実施の形態においては、耐熱性フィルム１３を用いている点において実施の形態１とは異なっており、その他の構成については実施の形態１において説明したとおりである。説明の便宜上、上記の実施の形態１の図面に示した部材と同じ機能を有する部材については、同じ符号を付し、その説明を省略する。
　図９は、真空蒸着装置１ｄの概略的な構成を示す図である。
　図示されているように、真空蒸着装置１ｄに備えられた防着板３およびシャッタ４における上記蒸着粒子が蒸着される面の全面に耐熱性のフィルム１３が設けられており、フィルム１３上に蒸着粒子が蒸着されることとなる。
　そして、蒸着粒子が蒸着されたフィルム１３は、防着板３およびシャッタ４から容易に剥離でき、真空チャンバ５から取り出せるようになっている。
　フィルム１３は、耐熱性のフィルムであり、本実施の形態においては、フィルム１３として、アルミニウムホイルを用いているが、これに限定されることはない。
　図１０は、フィルム１３とフィルム１３上に蒸着された膜とを分離するための回収装置１４と回収装置１４から得られる蒸着材料を再利用するための工程を示す図である。
　図示されているように、回収装置１４には、分離部として加熱槽（昇華精製槽）と回収室とが備えられたおり、上記加熱槽中に蒸着膜が形成されたフィルム１３を入れる。
　上記加熱槽内は、真空雰囲気に維持されており、加熱槽を加熱することによって、フィルム１３上に蒸着された膜を昇華させる。
　フィルム１３は耐熱性を有しているので、加熱しても変性しない。
　昇華物は回収室によって冷却され、再度固体化される。このような処理によって、蒸着材料を捕集し、再利用することができる。
　なお、このような昇華精製工程は、複数回繰り返すことができ、その際には、回収室（捕集部）に捕集された蒸着材料を再度、加熱槽（昇華精製槽）に投入することで実施できる。
　また、回収室に捕集された蒸着材料を再度、加熱槽（昇華精製槽）に投入する際には、
防着板３およびシャッタ４から剥離したフィルム１３とを混在して処理してもよい。
　上記昇華精製工程を繰り返すことで、蒸着材料の純度をより高めることができる。
　なお、耐熱性フィルム１３としては、フィルム１３上に蒸着された膜の昇華温度よりも、高温の耐熱性を有する材料であれば、用いることができる。
　一般的に金属材料の多くは、有機ＥＬ層の材料の昇華温度で変性することはないので、フィルム材料として好適に用いることができる。
　そして、昇華によりフィルム１３上に蒸着された蒸着材料が脱離した後には、フィルム１３は、そのまま再利用することができる。
　したがって、フィルム１３およびフィルム１３上に蒸着された蒸着材料の両方を再利用することができ、有機ＥＬ表示装置の蒸着工程における排出物をより低減することができる。
　そして、蒸着膜が形成されたフィルム１３は柔軟であるので、細かく切断したり、圧縮したりして加熱槽に投入することができる。
　したがって、一度に多量を処理することができるとともに、回収装置１４を小型にすることができる。
　また、真空蒸着装置のサイズ、形状に限らず同一の回収装置１４を用いることができるので、設備コストを低減することができる。
　本発明の蒸着装置においては、上記フィルムは、上記フィルム上に形成される蒸着膜とは、水に対する溶解特性が異なる材料からなり、上記フィルムは、上記フィルム上に形成される蒸着膜より、上記水に対して溶解しやすい材料からなることが好ましい。
　上記構成によれば、上記フィルムと上記フィルム上に形成される蒸着膜との分離を水を用いて行うことができる。
　本発明の蒸着装置においては、上記フィルムは、水溶性であり、上記フィルム上に形成される蒸着膜は、非水溶性であることが好ましい。
　本発明の蒸着装置においては、上記フィルムは、ポリビニルアルコールからなることが好ましい。
　上記構成によれば、水を用いて効率的に上記フィルムと上記フィルム上に形成される蒸着膜との分離を行うことができる。
　本発明の蒸着装置においては、上記フィルムは、上記フィルム上に形成される蒸着膜とは、微生物に対する生分解性が異なる材料からなり、上記フィルムは、上記フィルム上に形成される蒸着膜より、上記微生物に対して生分解されやすい材料からなることが好ましい。
　本発明の蒸着装置においては、上記フィルムは、ポリ乳酸または、ポリグリコール酸からなることが好ましい。
　上記構成によれば、上記フィルムと上記フィルム上に形成される蒸着膜とを分離する工程において、有害な副生成物が発生せず、環境負荷の低くすることができる。
　本発明の蒸着装置においては、上記フィルムは、上記フィルム上に形成される蒸着膜とは、光分解特性が異なる材料からなり、上記フィルムは、上記フィルム上に形成される蒸着膜より、上記光により分解されやすい材料からなることが好ましい。
　上記構成によれば、光を用いて上記フィルムと上記フィルム上に形成される蒸着膜との分離を行うことができる。
　本発明の蒸着装置においては、上記フィルムは、上記フィルム上に形成される蒸着膜とは、融点または、昇華点が異なる材料からなり、上記フィルムは、上記フィルム上に形成される蒸着膜より、融点または、昇華点が低い材料からなることが好ましい。
　本発明の蒸着装置においては、上記フィルムは、ポリエチレンまたはポリプロピレンからなることが好ましい。
　上記構成によれば、溶融したフィルムを、再度フィルム化することで再利用することができるので、フィルムおよびフィルム上に蒸着されている蒸着膜の両方を再利用することができ、排出物をより低減することができる。
　本発明の蒸着装置においては、上記フィルムは、上記フィルム上に形成される蒸着膜とは、昇華点が異なる材料からなり、上記フィルムは、上記フィルム上に形成される蒸着膜より、昇華点が高い材料からなることが好ましい。
　本発明の蒸着装置においては、上記フィルムは、アルミニウムホイルであることが好ましい。
　上記構成によれば、昇華によりフィルム上に蒸着された蒸着膜が脱離した後には、フィルムは、そのまま再利用することができる。
　したがって、フィルムおよびフィルム上に蒸着された蒸着膜の両方を再利用することができ、排出物をより低減することができる。
　本発明の蒸着装置において、上記防着部材には、上記蒸着粒子によって上記蒸着室が汚染されるのを防止するための防着板が含まれていることが好ましい。
　本発明の蒸着装置において、上記防着部材には、上記第２の期間中に、上記蒸着源から放出される蒸着粒子が、上記基板上に蒸着されるのを防止するためのシャッタが含まれていることが好ましい。
　本発明の蒸着装置において、上記防着部材には、上記蒸着源から蒸着粒子が放出される開口部と上記基板との間に備えられ、且つ、上記基板の法線方向に直交する方向に沿って、上記開口部を間に挟むように所定間隔で形成された複数の制御板または、上記複数の制御板が一体化したものが含まれていることが好ましい。
　上記構成によれば、上記フィルムが設けられる上記防着部材は、蒸着粒子の蒸着量が多い防着板、シャッタ、制御板などであるため、効率よく、蒸着材料を回収することができる。
　本発明の回収装置においては、上記フィルムは、上記フィルム上に形成された蒸着膜とは、水に対する溶解特性が異なる材料からなり、上記分離部として水槽を備えていることが好ましい。
　上記構成によれば、水を用いて効率的に上記フィルムと上記フィルム上に形成される蒸着膜との分離を行うことができる。
　また、蒸着膜が形成されたフィルムは柔軟であるので、細かく切断したり、圧縮したりして水槽に投入することができ、一度に多量を処理することができるとともに、回収装置を小型にすることができる。
　さらには、蒸着装置のサイズ、形状に限らず同一の回収装置を用いることができるので、設備コストを低減することができる。
　本発明の回収装置においては、上記フィルムは、上記フィルム上に形成された蒸着膜とは、微生物に対する生分解性が異なる材料からなり、上記分離部として上記微生物を含む分解槽を備えていることが好ましい。
　上記構成によれば、上記フィルムと上記フィルム上に形成される蒸着膜とを分離する工程において、有害な副生成物が発生せず、環境負荷の低くすることができる。
　また、蒸着膜が形成されたフィルムは柔軟であるので、細かく切断したり、圧縮したりして微生物を含む分解槽に投入することができ、一度に多量を処理することができるとともに、回収装置を小型にすることができる。
　さらには、蒸着装置のサイズ、形状に限らず同一の回収装置を用いることができるので、設備コストを低減することができる。
　本発明の回収装置においては、上記フィルムは、上記フィルム上に形成された蒸着膜とは、融点または、昇華点が異なる材料からなり、上記分離部として加熱槽を備えていることが好ましい。
　上記構成によれば、溶融したフィルムを、再度フィルム化することで再利用することができるので、フィルムおよびフィルム上に蒸着されている蒸着膜の両方を再利用することができ、排出物をより低減することができる。
　または、上記構成によれば、昇華によりフィルム上に蒸着された蒸着膜が脱離した後には、フィルムは、そのまま再利用することができるので、フィルムおよびフィルム上に蒸着された蒸着膜の両方を再利用することができ、排出物をより低減することができる。
　また、蒸着膜が形成されたフィルムは柔軟であるので、細かく切断したり、圧縮したりして加熱槽に投入することができ、一度に多量を処理することができるとともに、回収装置を小型にすることができる。
　また、蒸着装置のサイズ、形状に限らず同一の回収装置を用いることができるので、設備コストを低減することができる。
　本発明の回収装置においては、上記フィルムの昇華点が、上記フィルム上に形成された蒸着膜より低い場合には、上記加熱槽には、排出口が設けられていることが好ましい。
　本発明の回収装置においては、上記フィルムの昇華点が、上記フィルム上に形成された蒸着膜より高い場合には、上記加熱槽には、上記フィルム上に形成された蒸着膜からの昇華物を捕集するための捕集部が接続されていることが好ましい。
　上記構成によれば、昇華によりフィルム上に蒸着された蒸着膜が脱離した後には、フィルムは、そのまま再利用することができる。
　したがって、フィルムおよびフィルム上に蒸着された蒸着膜の両方を再利用することができ、排出物をより低減することができる。
　本発明の回収装置において、上記フィルムは、光分解特性が、上記フィルム上に形成された蒸着膜より高い材料からなり、上記分離部として、光照射処理槽が備えている構成であってもよい。
　上記構成によれば、上記フィルムと上記フィルム上に形成される蒸着膜とを分離する工程において、光を用いることができる。
　本発明の回収装置において、上記微生物を含む分解槽には、光照射部が備えられていてもよい。
　上記構成によれば、蒸着材料が劣化しない範囲で光照射を併用することができるので、上記蒸着材料の回収時間を短縮することができる。
　本発明は上記した各実施の形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施の形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施の形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。
　本発明は、蒸着装置や蒸着材料を回収する回収装置などに適用することができる。
　１、１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄ　　真空蒸着装置（蒸着装置）
　２　　　　　　　　　　　　　　蒸着源
　３　　　　　　　　　　　　　　防着板（防着部材）
　４　　　　　　　　　　　　　　シャッタ（防着部材）
　５　　　　　　　　　　　　　　真空チャンバ（蒸着室）
　７、９、１１、１３　　　　　　フィルム
　８、１０、１２、１４　　　　　回収装置
　２２　　　　　　　　　　　　　制御板（防着部材）
　１０１　　　　　　　　　　　　基板
　１１０　　　　　　　　　　　　シャドウマスク

Claims (22)

  1. 　蒸着室において、蒸着源から放出された蒸着粒子を、基板上に蒸着させる蒸着装置であって、
    　上記蒸着源から第１の期間中、第１の方向に放出される蒸着粒子は、上記基板上に蒸着され、
    　上記蒸着源から上記第１の期間中、上記第１の方向とは異なる第２の方向に放出される蒸着粒子または、上記第１の期間とは異なる第２の期間中、上記蒸着源から放出される蒸着粒子は、上記蒸着装置から取り外しできる防着部材に蒸着され、
    　上記防着部材において、上記蒸着粒子が蒸着される面の少なくとも一部には、上記防着部材から剥離可能なフィルムが設けられており、
    　上記フィルムは、上記フィルム上に形成される蒸着膜とは、融点、昇華点、所定の溶媒に対する溶解特性、微生物に対する生分解性、および光分解特性中、少なくとも一つが異なる材料からなることを特徴とする蒸着装置。
  2. 　上記フィルムは、上記フィルム上に形成される蒸着膜とは、水に対する溶解特性が異なる材料からなり、
    　上記フィルムは、上記フィルム上に形成される蒸着膜より、上記水に対して溶解しやすい材料からなることを特徴とする請求項１に記載の蒸着装置。
  3. 　上記フィルムは、水溶性であり、
    　上記フィルム上に形成される蒸着膜は、非水溶性であることを特徴とする請求項２に記載の蒸着装置。
  4. 　上記フィルムは、ポリビニルアルコールからなることを特徴とする請求項２または３に記載の蒸着装置。
  5. 　上記フィルムは、上記フィルム上に形成される蒸着膜とは、微生物に対する生分解性が異なる材料からなり、
    　上記フィルムは、上記フィルム上に形成される蒸着膜より、上記微生物に対して生分解されやすい材料からなることを特徴とする請求項１に記載の蒸着装置。
  6. 　上記フィルムは、ポリ乳酸または、ポリグリコール酸からなることを特徴とする請求項５に記載の蒸着装置。
  7. 　上記フィルムは、上記フィルム上に形成される蒸着膜とは、光分解特性が異なる材料からなり、
    　上記フィルムは、上記フィルム上に形成される蒸着膜より、上記光により分解されやすい材料からなることを特徴とする請求項１に記載の蒸着装置。
  8. 　上記フィルムは、上記フィルム上に形成される蒸着膜とは、融点または、昇華点が異なる材料からなり、
    　上記フィルムは、上記フィルム上に形成される蒸着膜より、融点または、昇華点が低い材料からなることを特徴とする請求項１に記載の蒸着装置。
  9. 　上記フィルムは、ポリエチレンまたはポリプロピレンからなることを特徴とする請求項８に記載の蒸着装置。
  10. 　上記フィルムは、上記フィルム上に形成される蒸着膜とは、昇華点が異なる材料からなり、
    　上記フィルムは、上記フィルム上に形成される蒸着膜より、昇華点が高い材料からなることを特徴とする請求項１に記載の蒸着装置。
  11. 　上記フィルムは、アルミニウムホイルであることを特徴とする請求項１０に記載の蒸着装置。
  12. 　上記防着部材には、上記蒸着粒子によって上記蒸着室が汚染されるのを防止するための防着板が含まれていることを特徴とする請求項１から１１の何れか１項に記載の蒸着装置。
  13. 　上記防着部材には、上記第２の期間中に、上記蒸着源から放出される蒸着粒子が、上記基板上に蒸着されるのを防止するためのシャッタが含まれていることを特徴とする請求項１から１１の何れか１項に記載の蒸着装置。
  14. 　上記防着部材には、上記蒸着源から蒸着粒子が放出される開口部と上記基板との間に備えられ、且つ、上記基板の法線方向に直交する方向に沿って、上記開口部を間に挟むように所定間隔で形成された複数の制御板または、上記複数の制御板が一体化したものが含まれていることを特徴とする請求項１から１１の何れか１項に記載の蒸着装置。
  15. 　請求項１から１４の何れか１項に記載の蒸着装置に備えられた蒸着膜が形成されたフィルムと、
    　上記蒸着膜が形成されたフィルムから上記蒸着膜と上記フィルムとを分離するための分離部と、を備えていることを特徴とする回収装置。
  16. 　上記フィルムは、上記フィルム上に形成された蒸着膜とは、水に対する溶解特性が異なる材料からなり、
    　上記分離部として水槽を備えていることを特徴とする請求項１５に記載の回収装置。
  17. 　上記フィルムは、上記フィルム上に形成された蒸着膜とは、微生物に対する生分解性が異なる材料からなり、
    　上記分離部として上記微生物を含む分解槽を備えていることを特徴とする請求項１５に記載の回収装置。
  18. 　上記フィルムは、上記フィルム上に形成された蒸着膜とは、融点または、昇華点が異なる材料からなり、
    　上記分離部として加熱槽を備えていることを特徴とする請求項１５に記載の回収装置。
  19. 　上記フィルムの昇華点が、上記フィルム上に形成された蒸着膜より低い場合には、
    　上記加熱槽には、排出口が設けられていることを特徴とする請求項１８に記載の回収装置。
  20. 　上記フィルムの昇華点が、上記フィルム上に形成された蒸着膜より高い場合には、
    　上記加熱槽には、上記フィルム上に形成された蒸着膜からの昇華物を捕集するための捕集部が接続されていることを特徴とする請求項１８に記載の回収装置。
  21. 　上記フィルムは、光分解特性が、上記フィルム上に形成された蒸着膜より高い材料からなり、
    　上記分離部として、光照射処理槽が備えていることを特徴とする請求項１５に記載の回収装置。
  22. 　上記微生物を含む分解槽には、光照射部が備えられていることを特徴とする請求項１７に記載の回収装置。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20140102090A (ko) * 2013-02-13 2014-08-21 삼성디스플레이 주식회사 방착 유니트를 가지는 박막 증착 장치와, 이의 증착물을 제거하는 방법
ITBA20130034A1 (it) * 2013-04-30 2014-10-31 Mrs S R L Metodo per la pulizia di superfici in apparati di deposizione di film sottili da fase vapore e per il recupero del materiale rimosso
KR20160148833A (ko) * 2015-06-16 2016-12-27 삼성디스플레이 주식회사 증착 장치
KR20170113933A (ko) * 2016-03-29 2017-10-13 삼성디스플레이 주식회사 박막 증착 장치

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20170057296A1 (en) * 2014-05-01 2017-03-02 The Yokohama Rubber Co., Ltd. Pneumatic Tire
CN105296927A (zh) * 2015-10-29 2016-02-03 云南汇恒光电技术有限公司 一种光学真空镀膜机内腔清洁方法
CN106222617A (zh) * 2016-08-26 2016-12-14 武汉华星光电技术有限公司 用于镀膜设备的防着板结构及其制造方法、镀膜设备
CN106756834A (zh) * 2016-12-29 2017-05-31 深圳市华星光电技术有限公司 一种真空溅镀机防着板及其制备方法
CN106702319A (zh) * 2017-03-30 2017-05-24 京东方科技集团股份有限公司 一种蒸镀方法
CN107043919A (zh) * 2017-04-18 2017-08-15 合肥鑫晟光电科技有限公司 防着板及其表面处理方法、材料回收方法以及薄膜沉积设备
CN107287559A (zh) * 2017-06-22 2017-10-24 深圳市华星光电技术有限公司 Oled蒸镀设备及其防粘板
CN107227443B (zh) * 2017-08-04 2019-07-02 京东方科技集团股份有限公司 吸附遮挡装置及具有该装置的蒸镀设备
CN107946164B (zh) * 2017-11-20 2019-09-27 深圳市华星光电技术有限公司 一种防着板及其制备方法和应用
CN110021715B (zh) * 2018-01-09 2021-12-28 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 蒸镀源及有机发光二极管显示面板的制造方法
CN109182968A (zh) * 2018-07-23 2019-01-11 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 附着物回收方法及装置、真空成膜系统
KR20220076341A (ko) * 2020-11-30 2022-06-08 캐논 톡키 가부시키가이샤 성막 장치

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04236759A (ja) * 1991-01-19 1992-08-25 Hitachi Cable Ltd 蒸着装置
JPH05247628A (ja) * 1992-03-03 1993-09-24 Shin Etsu Chem Co Ltd 薄膜製造装置用部品の処理方法
JPH0841624A (ja) * 1994-07-28 1996-02-13 Tanaka Kikinzoku Kogyo Kk 蒸着用治具及び蒸着用治具の再生方法
JP2005149924A (ja) * 2003-11-17 2005-06-09 Toray Ind Inc 蒸着装置および蒸着材料の回収・再利用方法並びに有機電界発光装置の製造方法。
JP2009521714A (ja) * 2005-12-22 2009-06-04 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 炎光穿孔された開口マスク
WO2009133837A1 (ja) * 2008-04-30 2009-11-05 株式会社アルバック 水反応性Ａｌ複合材料、水反応性Ａｌ膜、このＡｌ膜の製造方法、及び成膜室用構成部材
WO2009133836A1 (ja) * 2008-04-30 2009-11-05 株式会社アルバック 水反応性Ａｌ膜の製造方法及び成膜室用構成部材
WO2009133838A1 (ja) * 2008-04-30 2009-11-05 株式会社アルバック 水反応性Ａｌ複合材料、水反応性Ａｌ膜、このＡｌ膜の製造方法、及び成膜室用構成部材
WO2009133839A1 (ja) * 2008-04-30 2009-11-05 株式会社アルバック 水反応性Ａｌ複合材料、水反応性Ａｌ膜、このＡｌ膜の製造方法、及び成膜室用構成部材
JP2010270396A (ja) * 2009-05-22 2010-12-02 Samsung Mobile Display Co Ltd 薄膜蒸着装置

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5502158A (en) * 1988-08-08 1996-03-26 Ecopol, Llc Degradable polymer composition
US5366764A (en) * 1992-06-15 1994-11-22 Sunthankar Mandar B Environmentally safe methods and apparatus for depositing and/or reclaiming a metal or semi-conductor material using sublimation
JPH07289240A (ja) * 1993-06-30 1995-11-07 Kawasaki Heavy Ind Ltd 微細藻類の分離回収方法
US5472509A (en) * 1993-11-30 1995-12-05 Neomecs Incorporated Gas plasma apparatus with movable film liners
JPH10510711A (ja) * 1994-12-16 1998-10-20 サイテク・テクノロジー・コーポレーシヨン 有機化合物（１種もしくは複数）を分解する微生物を得るための方法
US5641679A (en) * 1994-12-16 1997-06-24 Cytec Technology Corporation Methods for bio-remediation
US5585272A (en) * 1994-12-16 1996-12-17 Cytec Technology Corporation Solid phase system for aerobic degradation
US5688685A (en) * 1994-12-16 1997-11-18 Cytec Technology Corporation System and methods for biodegradation of compounds
JP4059946B2 (ja) 1996-12-06 2008-03-12 株式会社アルバック 有機薄膜形成装置及び有機材料の再利用方法
JPH10286566A (ja) * 1997-04-15 1998-10-27 Masayuki Nakaya 汚水浄化システム
JPH1161386A (ja) * 1997-08-22 1999-03-05 Fuji Electric Co Ltd 有機薄膜発光素子の成膜装置
JP2002190389A (ja) 2000-12-22 2002-07-05 Nippon Steel Chem Co Ltd 有機ｅｌ素子の製造方法及び装置
JP2002292346A (ja) 2001-03-29 2002-10-08 Sharp Corp 付着膜回収装置および付着膜の回収方法
KR100615302B1 (ko) * 2005-01-21 2006-08-25 삼성에스디아이 주식회사 가열용기 지지대 및 이를 구비한 증착장치
KR100980729B1 (ko) * 2006-07-03 2010-09-07 주식회사 야스 증착 공정용 다중 노즐 증발원
JP2008088465A (ja) 2006-09-29 2008-04-17 Seiko Epson Corp 蒸着装置および有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法
JP4768584B2 (ja) * 2006-11-16 2011-09-07 財団法人山形県産業技術振興機構 蒸発源およびこれを用いた真空蒸着装置
JP2008127642A (ja) 2006-11-22 2008-06-05 Toppan Printing Co Ltd 蒸着装置及び蒸着材料の再生方法
JP2008223102A (ja) 2007-03-14 2008-09-25 Seiko Epson Corp 蒸着装置、および蒸着方法
US9062369B2 (en) * 2009-03-25 2015-06-23 Veeco Instruments, Inc. Deposition of high vapor pressure materials
US8696815B2 (en) * 2009-09-01 2014-04-15 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus
JP5519996B2 (ja) * 2009-10-20 2014-06-11 日東電工株式会社 表面保護用粘着シート
KR101174874B1 (ko) * 2010-01-06 2012-08-17 삼성디스플레이 주식회사 증착 소스, 박막 증착 장치 및 유기 발광 표시 장치 제조 방법
KR20130117798A (ko) * 2010-11-26 2013-10-28 닛토덴코 가부시키가이샤 폴리락트산계 필름 또는 시트

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04236759A (ja) * 1991-01-19 1992-08-25 Hitachi Cable Ltd 蒸着装置
JPH05247628A (ja) * 1992-03-03 1993-09-24 Shin Etsu Chem Co Ltd 薄膜製造装置用部品の処理方法
JPH0841624A (ja) * 1994-07-28 1996-02-13 Tanaka Kikinzoku Kogyo Kk 蒸着用治具及び蒸着用治具の再生方法
JP2005149924A (ja) * 2003-11-17 2005-06-09 Toray Ind Inc 蒸着装置および蒸着材料の回収・再利用方法並びに有機電界発光装置の製造方法。
JP2009521714A (ja) * 2005-12-22 2009-06-04 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 炎光穿孔された開口マスク
WO2009133837A1 (ja) * 2008-04-30 2009-11-05 株式会社アルバック 水反応性Ａｌ複合材料、水反応性Ａｌ膜、このＡｌ膜の製造方法、及び成膜室用構成部材
WO2009133836A1 (ja) * 2008-04-30 2009-11-05 株式会社アルバック 水反応性Ａｌ膜の製造方法及び成膜室用構成部材
WO2009133838A1 (ja) * 2008-04-30 2009-11-05 株式会社アルバック 水反応性Ａｌ複合材料、水反応性Ａｌ膜、このＡｌ膜の製造方法、及び成膜室用構成部材
WO2009133839A1 (ja) * 2008-04-30 2009-11-05 株式会社アルバック 水反応性Ａｌ複合材料、水反応性Ａｌ膜、このＡｌ膜の製造方法、及び成膜室用構成部材
JP2010270396A (ja) * 2009-05-22 2010-12-02 Samsung Mobile Display Co Ltd 薄膜蒸着装置

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20140102090A (ko) * 2013-02-13 2014-08-21 삼성디스플레이 주식회사 방착 유니트를 가지는 박막 증착 장치와, 이의 증착물을 제거하는 방법
KR102036325B1 (ko) * 2013-02-13 2019-10-25 삼성디스플레이 주식회사 방착 유니트를 가지는 박막 증착 장치와, 이의 증착물을 제거하는 방법
ITBA20130034A1 (it) * 2013-04-30 2014-10-31 Mrs S R L Metodo per la pulizia di superfici in apparati di deposizione di film sottili da fase vapore e per il recupero del materiale rimosso
KR20160148833A (ko) * 2015-06-16 2016-12-27 삼성디스플레이 주식회사 증착 장치
KR102369314B1 (ko) 2015-06-16 2022-03-04 삼성디스플레이 주식회사 증착 장치
KR20170113933A (ko) * 2016-03-29 2017-10-13 삼성디스플레이 주식회사 박막 증착 장치
KR102536253B1 (ko) 2016-03-29 2023-05-25 삼성디스플레이 주식회사 박막 증착 장치

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