JPH05247628A - 薄膜製造装置用部品の処理方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【目的】 本発明は薄膜形成装置の成膜装置内の部品
からの薄膜の剥離片による薄膜の汚染を防止した薄膜製
造装置用部品の処理方法の提供を目的としたものであ
る。 【構成】 本発明による薄膜製造装置用部品の処理方
法は、薄膜形成装置における成形装置内の部品をポリビ
ニルアルコールでコーティングしてなることを特徴とす
るものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は薄膜製造装置用部品の処
理方法、特には成膜装置内の部品からの剥離片の付着に
よる不良品の発生を防止した薄膜製造装置用部品の処理
方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、薄膜の応用は特にエレクトロニク
ス産業において多岐にわたっているが、この薄膜の形成
はその用途に応じてスパッター法、蒸着法、 CVD法、プ
ラズマCVD法、イオンビームスパッター法、イオンプレ
ーティング法、分子ビームエピタキシー法などの方法で
行われている。しかし、この場合薄膜製造のための生成
膜がこの成膜装置内の基板以外の部品、例えば基板マス
ク、シャッター板、真空壁シールド板、試料キャリヤ
ー、カソードシールドなどにも付着し、この付着膜が厚
くなると、この膜が剥離し、この剥離片が成膜試料に付
着して不良品を出すために薄膜体の製造歩留りが低下す
るという不利が生ずる。

【０００３】そのため、この種の装置においてはこの基
板以外の部品の交換と真空室の清掃が定期的メインテナ
ンスとして行なわれており、この取り換え部品について
は例えば１週間に一度というように定期的に酸あるいは
サンドブラストによる洗浄（膜の剥離）が行なわれるの
であるが、この洗浄においては酸による洗浄では酸性液
によってステンレス、アルミニウムなどの金属製のもの
は一部浸食される場合があり、サンドブラストによる洗
浄では洗浄用の装置およびコランダムなどの粉体が必要
であることから、これには設備費、人件費もかかり、量
産における経費節減を十分に行なうことができないとい
う欠点がある。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】したがって、これにつ
いては成膜室の構成を剥離片が成膜試料に付着しにくく
するという方法が採られており、また交換部品のブラス
ト処理などの表面処理にもいろいろの工夫がされている
のであるが、いずれの方法もそれなりの効果はあるもの
の充分なものではない。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明はこのような不利
を解決した薄膜体の製造時に有用な薄膜製造装置用部品
の処理方法に関するものであり、これは薄膜製造装置に
おける成膜装置内の部品をポリビニルアルコールでコー
ティングしてなることを特徴とするものである。

【０００６】すなわち、本発明者らは薄膜体製造時にお
ける基板以外の成膜装置内の部品からの剥離片の付着に
よる不利を解決する方法について種々検討した結果、こ
の基板以外の成膜装置内の部品をポリビニルアルコール
でコーティングしておけば、このポリビニルアルコール
塗膜上に薄膜が付着しても、これはポリビニルアルコー
ルが水溶性のものであることから、このポリビニルアル
コール塗膜は水洗のみで容易に洗浄することができるの
で、これに付着した薄膜も同時に除去できるということ
を見出して本発明を完成させた。以下にこれをさらに詳
述する。

【０００７】

【作用】本発明は CVD法などによる薄膜体の製造時にお
ける薄膜製造装置用部品の処理方法に関するものであ
り、これは薄膜製造装置における成膜装置内における部
分をポリビニルアルコールでコーティングしてなること
を特徴とするものであり、これによれば成膜装置内にお
ける基板以外の部品にポリビニルアルコールによる塗膜
が設けられるが、この塗膜に目的とする薄膜が付着して
もこれはポリビニルアルコールが水溶性のものであるこ
とから水洗が容易に除去することができるので、部分の
洗浄を簡単、容易に行なうことができ、したがってこの
薄膜の剥離による不利を防止することができるという有
利性が与えられる。

【０００８】本発明は薄膜製造装置用部品の処理方法に
関するものであるが、この薄膜製造装置における薄膜体
の製造は基体上に公知の方法、例えばスパッター法、蒸
着法、 CVD法、プラズマ CVD法、イオンビームスパッタ
ー法、イオンプレーティング法、分子ビームエピタキシ
ー法などで目的とする薄膜を基体上に成膜するという方
法で行なわれる。

【０００９】この成膜装置は目的とする薄膜を成膜させ
る基板を基板以外の部品、例えば基板マスク、シャッタ
ー板、真空壁シールド板、試料のキャリヤー、カソード
シールドなどで囲ったものとされるが、この基板に対す
る薄膜の成膜時にはこの部品にも薄膜の形成が行なわ
れ、この構造物に付着した膜はそれが厚くなると膜が剥
離し、この剥離片が目的とする成膜に付着すると、その
目的とする薄膜が不良品になるという不利が生ずる。

【００１０】本発明はこのような不利を解決するため
に、成膜装置内の基板以外の部品の表面をポリビニルア
ルコールでコーティングするというものであり、これに
よれば成膜装置内の基板に薄膜が形成されるときにこの
基板以外の部品にも薄膜が形成されるのであるが、この
部品はその表面がポリビニルアルコールでコーティング
されており、このポリビニルアルコール塗膜は水溶性で
水洗により容易に除去することができ、基板成膜後にこ
の部品を水洗すれば容易にこの薄膜も除去できるので、
基板成膜後、毎回水洗すればこの部品はくり返し使用す
ることができるし、この薄膜の剥落によって目的とする
薄膜が汚染されるという不利も容易に回避することがで
き、この場合には洗浄に伴なう人件費、設備費も大幅に
低下することができるという有利性が与えられる。

【００１１】本発明における基板以外の部品のポリビニ
ルアルコールによるコーティングはポリビニルアルコー
ルの１〜８０重量％の水溶液をこの部品の表面にスパッ
タリング法、ディッピング法などで塗布して、部品の表
面に0.2 〜10μm 程度のポリビニルアルコール塗膜を付
着させたのち常温で乾燥し、できれば 100〜 150℃で乾
燥すればよい。また、この塗膜の洗浄による除去は外部
からの水洗とすればよいが、これは工業的には水による
超音波洗浄とすることがよい。

【００１２】

【実施例】つぎに本発明の実施例をあげる。 実施例 ステンレス製およびアルミニウム製の基板マスクに５％
のポリビニルアルコール水溶液をデッピング法で塗布
し、室温で30分、その後 150℃で30分乾燥を行なってこ
の基板マスクにポリビニルアルコール塗膜を厚さ0.5 μ
m に成膜させた。ついで、この基板マスクにスパッタリ
ング法でアルミニウム膜を１μm ほど堆積させたのち、
これらを成膜装置から取り出し、10分間ほど水により超
音波洗浄を行なったところ、ポリビニルアルコール膜と
アルミニウム膜は基板マスクから完全に剥離し、この基
板マスクはポリビニルアルコールを施しても水の洗浄で
この塗膜を完全に除去できるので、これからの薄膜の剥
落も防止することが確認された。

【００１３】

【発明の効果】本発明は薄膜製造装置用部品の処理方法
に関するものであり、これは前記したように薄膜製造装
置における成膜装置内の部品をポリビニルアルコールで
コーティングしてなることを特徴とするものであるが、
これは成膜装置内における目的とする薄膜を形成させる
基板以外の部品、例えば基体マスク、シャッター、基板
ホルダーなどの表面にポリビニルアルコールの塗膜を設
けるというものであり、これによればこのポリビニルア
ルコール塗膜が水溶性で水洗により容易に除去すること
ができるものであることから、この部品に薄膜が形成さ
れても、これは基板への薄膜形成後にこの部品を水洗す
ればこのポリビニルアルコール塗膜と共にここに成膜し
た薄膜も容易に除去できるので、この部品は容易に何回
も使用することができるし、この薄膜の剥落もなくな
り、さらにはこの部品の洗浄のための設備費、人件費も
大幅に低下することができるという有利性が与えられ
る。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 久保田 芳宏 群馬県安中市磯部２丁目13番１号 信越化 学工業株式会社精密機能材料研究所内

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】薄膜製造装置における成膜装置内の部品を
   ポリビニルアルコールでコーティングしてなることを特
   徴とする薄膜製造装置用部品の処理方法。