JPH1161386A - 有機薄膜発光素子の成膜装置 - Google Patents
有機薄膜発光素子の成膜装置Info
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
Abstract
(57)【要約】
【課題】 欠陥の少ない有機薄膜発光素子を高い稼働率
で製造することのできる有機薄膜発光素子の成膜装置を
提供する。 【解決手段】 電子と正孔の再結合により発光する有機
発光層を有する有機薄膜発光素子の成膜装置において、
成膜室内部の素子基板以外の部分であって、蒸着源から
蒸発した有機または無機材料がダストとして付着する部
分に存在する部品が同一の支持体に載置されてなるダス
ト付着組部品を交換自在に具備する。
で製造することのできる有機薄膜発光素子の成膜装置を
提供する。 【解決手段】 電子と正孔の再結合により発光する有機
発光層を有する有機薄膜発光素子の成膜装置において、
成膜室内部の素子基板以外の部分であって、蒸着源から
蒸発した有機または無機材料がダストとして付着する部
分に存在する部品が同一の支持体に載置されてなるダス
ト付着組部品を交換自在に具備する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、表示装置として用
いられる有機薄膜発光素子を製造するための成膜装置
（真空蒸着装置）に関する。
いられる有機薄膜発光素子を製造するための成膜装置
（真空蒸着装置）に関する。
【０００２】
【従来の技術】エレクトロルミネッセンス素子は自己発
光という特徴を有することから視認性が高く、完全固体
素子であることから耐衝撃性に優れており、表示デバイ
スに適用されている。また、有機材料を用いたエレクト
ロルミネッセンス素子である有機薄膜発光素子は、発光
に必要な印加電圧を大幅に低下させることができ、かつ
各種発光材料の適用によりフルカラー化の可能性が極め
て高いことから注目を集めている。
光という特徴を有することから視認性が高く、完全固体
素子であることから耐衝撃性に優れており、表示デバイ
スに適用されている。また、有機材料を用いたエレクト
ロルミネッセンス素子である有機薄膜発光素子は、発光
に必要な印加電圧を大幅に低下させることができ、かつ
各種発光材料の適用によりフルカラー化の可能性が極め
て高いことから注目を集めている。
【０００３】特に、１９８７年におけるＴａｎｇらの積
層型薄膜発光素子の発表により、１０Ｖという低印加電
圧で１０００ｃｄ／ｍ２という高輝度の発光を示す有機
薄膜発光素子が実証されたことから(Appl.Phys.Lett.,5
1,913(1987))、これ以来、実用化に向けての素子構造の
開発や各種材料の開発、更には生産技術の開発が進めら
れている。
層型薄膜発光素子の発表により、１０Ｖという低印加電
圧で１０００ｃｄ／ｍ２という高輝度の発光を示す有機
薄膜発光素子が実証されたことから(Appl.Phys.Lett.,5
1,913(1987))、これ以来、実用化に向けての素子構造の
開発や各種材料の開発、更には生産技術の開発が進めら
れている。
【０００４】かかる有機薄膜発光素子の層構成を図１に
基づき説明する。図１は有機薄膜発光素子の典型的な素
子構造の断面図であり、光透過性の基板１に陽極層２、
正孔注入層３、発光層４、電子注入層５および陰極層６
を順次に成膜・積層して構成した発光素子である。この
陽極２と陰極６の間に外部電源７から電圧を駆動して発
光層４から生じる光を制御し、表示デバイスとして利用
する。
基づき説明する。図１は有機薄膜発光素子の典型的な素
子構造の断面図であり、光透過性の基板１に陽極層２、
正孔注入層３、発光層４、電子注入層５および陰極層６
を順次に成膜・積層して構成した発光素子である。この
陽極２と陰極６の間に外部電源７から電圧を駆動して発
光層４から生じる光を制御し、表示デバイスとして利用
する。
【０００５】有機発光材料としては、成膜性に優れ、発
光効率が高く、かつ安定であることが要求され、また電
荷注入材料としては成膜性に優れ、電荷輸送性および発
光層への電荷注入効率が高く、かつ安定であることが要
求され、特開平２−３１１５９１号公報、特開昭５９−
１９４３９３号公報などに開示された材料が知られてい
る。
光効率が高く、かつ安定であることが要求され、また電
荷注入材料としては成膜性に優れ、電荷輸送性および発
光層への電荷注入効率が高く、かつ安定であることが要
求され、特開平２−３１１５９１号公報、特開昭５９−
１９４３９３号公報などに開示された材料が知られてい
る。
【０００６】有機・無機薄膜を成膜する方法には気相成
長法と液相成長法があるが、有機薄膜発光素子の有機・
無機層を成膜する方法には一般に気相成長法が用いられ
る。これは、一般に有機層を構成する有機物質は液相成
長法において使用する有機・無機溶剤に対して溶解性が
あるため、液相成長法では有機層の積層が困難となるか
らである。
長法と液相成長法があるが、有機薄膜発光素子の有機・
無機層を成膜する方法には一般に気相成長法が用いられ
る。これは、一般に有機層を構成する有機物質は液相成
長法において使用する有機・無機溶剤に対して溶解性が
あるため、液相成長法では有機層の積層が困難となるか
らである。
【０００７】気相成長法の一つである真空蒸着法を用い
る場合の有機薄膜発光素子の成膜装置の形態を図７、図
８、図９に示す。これらはいずれも３蒸着源で３層成膜
するための真空蒸着装置である。図７はバッチ式で、有
機薄膜発光素子の有機・無機層の成膜を複数の成膜室１
０ａ、１０ｂ、１０ｃで順次行って行く形態である。こ
れら成膜室は真空バルブ１１を介して接続され、各シャ
ッター１２の下方に蒸発源８ａ、８ｂ、８ｃが設置され
ている。図８は枚葉式で、１つの成膜室内１０に複数の
蒸着源８ａ、８ｂ、８ｃがあり、多層膜を成膜した後に
素子基板９を取り出す形態である。図９は搬送式で、こ
れは枚葉式と同様に１つの成膜室内１０に複数の蒸着源
８ａ、８ｂ、８ｃがシャッター１２の下方にあるが、こ
の場合は素子基板９に移動機能があるため複数の素子を
同時に連続成膜することができる。
る場合の有機薄膜発光素子の成膜装置の形態を図７、図
８、図９に示す。これらはいずれも３蒸着源で３層成膜
するための真空蒸着装置である。図７はバッチ式で、有
機薄膜発光素子の有機・無機層の成膜を複数の成膜室１
０ａ、１０ｂ、１０ｃで順次行って行く形態である。こ
れら成膜室は真空バルブ１１を介して接続され、各シャ
ッター１２の下方に蒸発源８ａ、８ｂ、８ｃが設置され
ている。図８は枚葉式で、１つの成膜室内１０に複数の
蒸着源８ａ、８ｂ、８ｃがあり、多層膜を成膜した後に
素子基板９を取り出す形態である。図９は搬送式で、こ
れは枚葉式と同様に１つの成膜室内１０に複数の蒸着源
８ａ、８ｂ、８ｃがシャッター１２の下方にあるが、こ
の場合は素子基板９に移動機能があるため複数の素子を
同時に連続成膜することができる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】図７、図８、図９に示
すような成膜装置を用いて有機薄膜発光素子の有機・無
機層を成膜する場合、成膜装置の稼働率を上げることが
困難であるという問題がある。その理由として、以下の
３点が挙げられる。 真空蒸着装置を用いた有機薄膜蒸着では、蒸着源から
素子基板上に有機材料を蒸着した後に、有機材料が付着
した素子基板上以外の成膜室内を洗浄処理するメンテナ
ンス作業を１回の蒸着毎に行う必要がある。 有機・無機材料を新たに蒸着源として設置した後、ま
たは真空蒸着装置内部の真空状態を破って蒸着源を大気
にさらした後は、必ず蒸着源のガス出し作業等の蒸着源
の初期化作業を行う必要がある。 有機・無機材料を使用し尽くすなどで蒸着源の使用が
不可能になった場合、成膜作業を中断しなければならな
い。 以下、これら３点うち前記およびについて詳しく説
明する。
すような成膜装置を用いて有機薄膜発光素子の有機・無
機層を成膜する場合、成膜装置の稼働率を上げることが
困難であるという問題がある。その理由として、以下の
３点が挙げられる。 真空蒸着装置を用いた有機薄膜蒸着では、蒸着源から
素子基板上に有機材料を蒸着した後に、有機材料が付着
した素子基板上以外の成膜室内を洗浄処理するメンテナ
ンス作業を１回の蒸着毎に行う必要がある。 有機・無機材料を新たに蒸着源として設置した後、ま
たは真空蒸着装置内部の真空状態を破って蒸着源を大気
にさらした後は、必ず蒸着源のガス出し作業等の蒸着源
の初期化作業を行う必要がある。 有機・無機材料を使用し尽くすなどで蒸着源の使用が
不可能になった場合、成膜作業を中断しなければならな
い。 以下、これら３点うち前記およびについて詳しく説
明する。
【０００９】先ず、前記の理由について説明する。真
空蒸着装置では有機・無機材料を素子基板上に蒸着する
工程において、蒸着源から蒸発する有機・無機材料は、
主に次の真空蒸着装置内部の下記５要素に蒸着膜状のダ
ストとして付着する。 要素１：抵抗加熱等の加熱方法で真空中で蒸発させる有
機・無機材料と、材料を加熱するためのボードやるつぼ
等から構成される蒸着源。 要素２：蒸着源から蒸発した材料を素子基板上でパター
ン形状に蒸着する過程で用いる、材料の蒸気流をパター
ン形状に遮断するマスク。 要素３：蒸着源から蒸発した材料を素子基板上に蒸着開
始または終了させる過程で、材料の蒸気流を通過または
遮断するためのシャッター。 要素４：蒸着源から蒸発した材料が素子基板上に蒸着し
たときの蒸着膜厚と蒸着速度を観測するためのセンサ。 要素５：蒸着源から蒸発した材料が成膜室の素子基板上
以外に付着することを防ぐための防着板。
空蒸着装置では有機・無機材料を素子基板上に蒸着する
工程において、蒸着源から蒸発する有機・無機材料は、
主に次の真空蒸着装置内部の下記５要素に蒸着膜状のダ
ストとして付着する。 要素１：抵抗加熱等の加熱方法で真空中で蒸発させる有
機・無機材料と、材料を加熱するためのボードやるつぼ
等から構成される蒸着源。 要素２：蒸着源から蒸発した材料を素子基板上でパター
ン形状に蒸着する過程で用いる、材料の蒸気流をパター
ン形状に遮断するマスク。 要素３：蒸着源から蒸発した材料を素子基板上に蒸着開
始または終了させる過程で、材料の蒸気流を通過または
遮断するためのシャッター。 要素４：蒸着源から蒸発した材料が素子基板上に蒸着し
たときの蒸着膜厚と蒸着速度を観測するためのセンサ。 要素５：蒸着源から蒸発した材料が成膜室の素子基板上
以外に付着することを防ぐための防着板。
【００１０】有機薄膜成膜後に防着板、マスク、シャッ
ター、センサ、蒸発源等に付着した有機材料は、真空蒸
着装置内部において剥がれ易い。この原因としては、有
機材料の熱安定性が低いということや、有機材料が低密
度で絶縁性であるということ、あるいは有機材料が付着
する防着板、マスク、シャッター、センサ、蒸発源等の
大部分がアルミニウムやＳＵＳ等の無機材料で構成され
るので、付着する有機材料との間の熱膨張係数差が大き
いということなどが挙げられる。
ター、センサ、蒸発源等に付着した有機材料は、真空蒸
着装置内部において剥がれ易い。この原因としては、有
機材料の熱安定性が低いということや、有機材料が低密
度で絶縁性であるということ、あるいは有機材料が付着
する防着板、マスク、シャッター、センサ、蒸発源等の
大部分がアルミニウムやＳＵＳ等の無機材料で構成され
るので、付着する有機材料との間の熱膨張係数差が大き
いということなどが挙げられる。
【００１１】有機材料が付着した状態の防着板、マス
ク、シャッター、センサ、蒸発源等を使用して有機薄膜
の成膜を引き続き行うと、これらから剥がれた有機材料
が粉末状ダストとして有機薄膜発光素子内に混入してし
まうという問題が生ずる。
ク、シャッター、センサ、蒸発源等を使用して有機薄膜
の成膜を引き続き行うと、これらから剥がれた有機材料
が粉末状ダストとして有機薄膜発光素子内に混入してし
まうという問題が生ずる。
【００１２】粉末ダストはその剥がれ方、材料の種類、
成膜時の蒸着速度、成膜装置の構造によってそのサイズ
が異なり、オーダーとしては数Åから数ｍｍに亘る幅広
い範囲に及ぶ。一方、有機薄膜発光素子を構成する有機
・無機薄膜の膜厚は数十から数百ｎｍのオーダーであ
り、非常に薄い。よって、膜厚サイズ程度の粉末状ダス
トが素子内部に混入するだけで、この粉末状ダストを起
点とした有機材料の凝集等に起因するダークスポットの
原因、電界集中等に起因する電流のリーク発生原因、有
機薄膜の化学変化の原因等となり、発光寿命低下、不良
発光部分の増加、輝度・色むら等を引き起こすことにな
る。従って、粉末状ダストの素子内部への混入は、有機
薄膜発光素子の実用化へ向けて大きな問題となってい
る。
成膜時の蒸着速度、成膜装置の構造によってそのサイズ
が異なり、オーダーとしては数Åから数ｍｍに亘る幅広
い範囲に及ぶ。一方、有機薄膜発光素子を構成する有機
・無機薄膜の膜厚は数十から数百ｎｍのオーダーであ
り、非常に薄い。よって、膜厚サイズ程度の粉末状ダス
トが素子内部に混入するだけで、この粉末状ダストを起
点とした有機材料の凝集等に起因するダークスポットの
原因、電界集中等に起因する電流のリーク発生原因、有
機薄膜の化学変化の原因等となり、発光寿命低下、不良
発光部分の増加、輝度・色むら等を引き起こすことにな
る。従って、粉末状ダストの素子内部への混入は、有機
薄膜発光素子の実用化へ向けて大きな問題となってい
る。
【００１３】よって、有機薄膜発光素子の作製では、有
機材料が付着した素子基板上以外の成膜室内を洗浄処理
するメンテナンス作業を特に頻繁に行う必要があること
から、成膜装置の稼働率を上げることが困難となり、生
産コストが高くなる。
機材料が付着した素子基板上以外の成膜室内を洗浄処理
するメンテナンス作業を特に頻繁に行う必要があること
から、成膜装置の稼働率を上げることが困難となり、生
産コストが高くなる。
【００１４】次に、前記の理由について説明する。真
空蒸着装置を用いた有機薄膜蒸着では、有機材料が付着
した素子基板上以外の成膜室を洗浄処理する上述のメン
テナンス作業を行う上で真空蒸着装置内部の真空状態を
破らなければならない。真空蒸着装置内部の真空状態を
破ると、大気中の水素、水、一酸化炭素、二酸化炭素等
の吸着物質が蒸着源に付着する。有機薄膜発光素子の作
製では、真空蒸着装置による有機薄膜成膜前に、蒸着源
のガス出しを行うための加熱、保温、冷却作業を行って
きた。蒸着源のガス出しを行うための加熱、保温、冷却
作業を有機薄膜成膜前に行わないと、水素、水、一酸化
炭素、二酸化炭素等の吸着物質が有機薄膜発光素子内に
混入するためである。
空蒸着装置を用いた有機薄膜蒸着では、有機材料が付着
した素子基板上以外の成膜室を洗浄処理する上述のメン
テナンス作業を行う上で真空蒸着装置内部の真空状態を
破らなければならない。真空蒸着装置内部の真空状態を
破ると、大気中の水素、水、一酸化炭素、二酸化炭素等
の吸着物質が蒸着源に付着する。有機薄膜発光素子の作
製では、真空蒸着装置による有機薄膜成膜前に、蒸着源
のガス出しを行うための加熱、保温、冷却作業を行って
きた。蒸着源のガス出しを行うための加熱、保温、冷却
作業を有機薄膜成膜前に行わないと、水素、水、一酸化
炭素、二酸化炭素等の吸着物質が有機薄膜発光素子内に
混入するためである。
【００１５】吸着物質が特に有機薄膜発光素子内に混入
することは、有機薄膜発光素子の電極から発光層へ注入
される電子・正孔の注入効率の低下原因や、薄膜の化学
変化の原因等となる。その結果として、吸着物質の有機
薄膜発光素子内への混入は、有機薄膜発光素子の輝度の
低下等を引き起こし、有機薄膜発光素子の実用化へ向け
て、やはり大きな問題となっている。
することは、有機薄膜発光素子の電極から発光層へ注入
される電子・正孔の注入効率の低下原因や、薄膜の化学
変化の原因等となる。その結果として、吸着物質の有機
薄膜発光素子内への混入は、有機薄膜発光素子の輝度の
低下等を引き起こし、有機薄膜発光素子の実用化へ向け
て、やはり大きな問題となっている。
【００１６】また、有機・無機材料を新たに蒸着源とし
て設置した後、蒸着源に特別な加熱、保温、冷却処理を
施さないと、均一な有機・無機薄膜の成膜を蒸着源の昇
温後直ちには行えないことがある。
て設置した後、蒸着源に特別な加熱、保温、冷却処理を
施さないと、均一な有機・無機薄膜の成膜を蒸着源の昇
温後直ちには行えないことがある。
【００１７】よって、有機薄膜発光素子作製では、前記
（１）で述べた頻繁なメンテナンス作業の後、または有
機・無機材料を新たに蒸着源として設置した後に、必ず
蒸着源のガス出し作業等の蒸着源の初期化作業を行う必
要があり、このことからも成膜装置の稼働率を上げるこ
とが困難となり、生産コストの一層の高騰につながって
いる。
（１）で述べた頻繁なメンテナンス作業の後、または有
機・無機材料を新たに蒸着源として設置した後に、必ず
蒸着源のガス出し作業等の蒸着源の初期化作業を行う必
要があり、このことからも成膜装置の稼働率を上げるこ
とが困難となり、生産コストの一層の高騰につながって
いる。
【００１８】上述のように、従来の成膜装置における１
バッチ工程は、図１０の工程図に示すようにダスト付着
部品の洗浄工程、ダスト付着部品の成膜室への取り付け
工程、成膜室の真空引き工程、蒸着源の初期化工程、蒸
着源の昇温工程、基板への材料の蒸着工程、基板の交換
工程、およびダスト付着部品の取り出し工程のすべてを
必要としていた。
バッチ工程は、図１０の工程図に示すようにダスト付着
部品の洗浄工程、ダスト付着部品の成膜室への取り付け
工程、成膜室の真空引き工程、蒸着源の初期化工程、蒸
着源の昇温工程、基板への材料の蒸着工程、基板の交換
工程、およびダスト付着部品の取り出し工程のすべてを
必要としていた。
【００１９】そこで、本発明の目的は、有機薄膜発光素
子の成膜装置において、従来の技術が有する成膜装置の
稼働率に関する課題を解決し、欠陥の少ない有機薄膜発
光素子を高い稼働率で製造することのできる有機薄膜発
光素子の成膜装置を提供することにある。
子の成膜装置において、従来の技術が有する成膜装置の
稼働率に関する課題を解決し、欠陥の少ない有機薄膜発
光素子を高い稼働率で製造することのできる有機薄膜発
光素子の成膜装置を提供することにある。
【００２０】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、本発明は下記の通りである。 （１）電子と正孔の再結合により発光する有機発光層を
有する有機薄膜発光素子の成膜装置において、成膜室内
部の素子基板以外の部分であって、蒸着源から蒸発した
有機または無機材料がダストとして付着する部分に存在
する部品が同一の支持体に載置されてなるダスト付着組
部品を交換自在に具備することを特徴とする有機薄膜発
光素子の成膜装置である。
に、本発明は下記の通りである。 （１）電子と正孔の再結合により発光する有機発光層を
有する有機薄膜発光素子の成膜装置において、成膜室内
部の素子基板以外の部分であって、蒸着源から蒸発した
有機または無機材料がダストとして付着する部分に存在
する部品が同一の支持体に載置されてなるダスト付着組
部品を交換自在に具備することを特徴とする有機薄膜発
光素子の成膜装置である。
【００２１】（２）前記（１）の有機薄膜発光素子の成
膜装置において、成膜室を真空状態に維持したままダス
ト付着組部品の交換を可能とするために、真空ポンプが
接続されたロードロック室を該成膜室に真空バルブを介
して具備する成膜装置である。
膜装置において、成膜室を真空状態に維持したままダス
ト付着組部品の交換を可能とするために、真空ポンプが
接続されたロードロック室を該成膜室に真空バルブを介
して具備する成膜装置である。
【００２２】（３）前記（１）または（２）の有機薄膜
発光素子の成膜装置において、有機または無機材料の成
膜に使用する蒸着源の初期化作業を行うための部屋とし
て、蒸着源の温度調節機能と真空状態維持機能とを有す
る予熱室を成膜室と空間的に隔離して具備する成膜装置
である。
発光素子の成膜装置において、有機または無機材料の成
膜に使用する蒸着源の初期化作業を行うための部屋とし
て、蒸着源の温度調節機能と真空状態維持機能とを有す
る予熱室を成膜室と空間的に隔離して具備する成膜装置
である。
【００２３】（４）前記（３）の有機薄膜発光素子の成
膜装置において、成膜室を真空状態に維持したまま蒸着
源を予熱室から成膜室にまたは成膜室から予熱室に移動
可能にするために、該予熱室を真空バルブを介して該成
膜室に接続した請求項３記載の成膜装置である。
膜装置において、成膜室を真空状態に維持したまま蒸着
源を予熱室から成膜室にまたは成膜室から予熱室に移動
可能にするために、該予熱室を真空バルブを介して該成
膜室に接続した請求項３記載の成膜装置である。
【００２４】（５）前記（４）の有機薄膜発光素子の成
膜装置において、複数のダスト付着組部品を具備し、ロ
ードロック室が予熱室の機能を兼ね備えている成膜装置
である。
膜装置において、複数のダスト付着組部品を具備し、ロ
ードロック室が予熱室の機能を兼ね備えている成膜装置
である。
【００２５】（６）電子と正孔の再結合により発光する
有機発光層を有する有機薄膜発光素子の成膜装置におい
て、有機または無機材料の成膜に使用する蒸着源の初期
化作業を行うための部屋として、蒸着源の温度調節機能
と真空状態維持機能とを有する予熱室を成膜室と空間的
に隔離して具備する有機薄膜発光素子の成膜装置であ
る。
有機発光層を有する有機薄膜発光素子の成膜装置におい
て、有機または無機材料の成膜に使用する蒸着源の初期
化作業を行うための部屋として、蒸着源の温度調節機能
と真空状態維持機能とを有する予熱室を成膜室と空間的
に隔離して具備する有機薄膜発光素子の成膜装置であ
る。
【００２６】（７）前記（６）の有機薄膜発光素子の成
膜装置において、成膜室を真空状態に維持したまま蒸着
源を予熱室から成膜室にまたは成膜室から予熱室に移動
可能にするために、該予熱室を真空バルブを介して該成
膜室に接続した成膜装置である。
膜装置において、成膜室を真空状態に維持したまま蒸着
源を予熱室から成膜室にまたは成膜室から予熱室に移動
可能にするために、該予熱室を真空バルブを介して該成
膜室に接続した成膜装置である。
【００２７】
【発明の実施の形態】以下、本発明を図面に基づき具体
的に説明する。なお、以下に示す本発明の好適例におい
ては、いずれも有機または無機層を１層成膜するための
成膜装置例であり、また、ダスト付着部品は素子を１個
成膜した後に洗浄を行う場合である。
的に説明する。なお、以下に示す本発明の好適例におい
ては、いずれも有機または無機層を１層成膜するための
成膜装置例であり、また、ダスト付着部品は素子を１個
成膜した後に洗浄を行う場合である。
【００２８】図２は、有機層または無機層を１層成膜す
るための本発明の成膜装置の好適例を示す。図２におい
て、ダスト付着組部品１３は、蒸着源から蒸発した有機
または無機材料がダストとして付着する部分に存在する
部品を同一の支持体に一体化して保持してなり、かかる
部品として、蒸発源８、るつぼ１６、加熱源１７、セン
サ１５、シャッター１２、マスク、防着板等が挙げられ
る。このダスト付着組部品１３は、成膜室１０から真空
バルブ１１を介して分離して取り出すことが可能な構造
となっている。
るための本発明の成膜装置の好適例を示す。図２におい
て、ダスト付着組部品１３は、蒸着源から蒸発した有機
または無機材料がダストとして付着する部分に存在する
部品を同一の支持体に一体化して保持してなり、かかる
部品として、蒸発源８、るつぼ１６、加熱源１７、セン
サ１５、シャッター１２、マスク、防着板等が挙げられ
る。このダスト付着組部品１３は、成膜室１０から真空
バルブ１１を介して分離して取り出すことが可能な構造
となっている。
【００２９】かかる構造において、ダスト付着組部品１
３を複数準備しておき、成膜室１０で素子基板９に所定
の蒸着薄膜を形成している間に、別のダスト付着組部品
１３’を洗浄し、次の蒸着源８’を装填しておき、しか
る後次の蒸着薄膜を積層する場合には、真空バルブ１１
を開いて組部品１３を取り出して組部品１３’と交換す
るだけで次の成膜を開始することができる。すなわち、
蒸着源８だけを交換する従来の場合に比較して、組部品
１３’の洗浄時間、つまり図１０の工程図におけるダス
ト付着部品の洗浄工程を減らすことができ、その分だ
け、膜装置の稼働率を上げることができる。
３を複数準備しておき、成膜室１０で素子基板９に所定
の蒸着薄膜を形成している間に、別のダスト付着組部品
１３’を洗浄し、次の蒸着源８’を装填しておき、しか
る後次の蒸着薄膜を積層する場合には、真空バルブ１１
を開いて組部品１３を取り出して組部品１３’と交換す
るだけで次の成膜を開始することができる。すなわち、
蒸着源８だけを交換する従来の場合に比較して、組部品
１３’の洗浄時間、つまり図１０の工程図におけるダス
ト付着部品の洗浄工程を減らすことができ、その分だ
け、膜装置の稼働率を上げることができる。
【００３０】図３は、成膜室を真空状態に維持したまま
ダスト付着組部品を交換する機能を備える成膜装置の好
適例を示しており、この装置の構造は、図２に示す構造
の装置に真空バルブ１１を経由してロードロック室１９
が接続された構造である。ロードロック室１９は、成膜
装置の成膜室１０を真空状態に維持したままダスト付着
組部品１３を交換するための部屋で、真空ポンプ１８に
接続されており、ダスト付着組部品１３を装着できる構
造になっている。
ダスト付着組部品を交換する機能を備える成膜装置の好
適例を示しており、この装置の構造は、図２に示す構造
の装置に真空バルブ１１を経由してロードロック室１９
が接続された構造である。ロードロック室１９は、成膜
装置の成膜室１０を真空状態に維持したままダスト付着
組部品１３を交換するための部屋で、真空ポンプ１８に
接続されており、ダスト付着組部品１３を装着できる構
造になっている。
【００３１】かかる構造において、ダスト付着組部品１
３を複数準備しておき、成膜室１０で素子基板９に所定
の蒸着薄膜を形成している間に、次の蒸着源８’を装填
した別のダスト組部品１３’を洗浄して、ロードロック
室１９に取り付けてロードロック室１９を真空バルブ１
１’を閉じて真空ポンプ１８で真空引きしておくことに
より、次の蒸着薄膜を積層する場合には、真空バルブ１
１を開き、組部品１３を取り出して組部品１３’と交換
するだけで次の成膜を開始することができる。すなわ
ち、ロードロック室１９を使用せずに蒸着源８だけを交
換する従来の場合に比較して、組部品１３’の洗浄時間
および成膜室１０の真空引き時間、つまり図１０におけ
るダスト付着部品の洗浄工程および成膜室の真空引き工
程を減らすことができ、その分だけ成膜装置の稼働率を
上げることができる。
３を複数準備しておき、成膜室１０で素子基板９に所定
の蒸着薄膜を形成している間に、次の蒸着源８’を装填
した別のダスト組部品１３’を洗浄して、ロードロック
室１９に取り付けてロードロック室１９を真空バルブ１
１’を閉じて真空ポンプ１８で真空引きしておくことに
より、次の蒸着薄膜を積層する場合には、真空バルブ１
１を開き、組部品１３を取り出して組部品１３’と交換
するだけで次の成膜を開始することができる。すなわ
ち、ロードロック室１９を使用せずに蒸着源８だけを交
換する従来の場合に比較して、組部品１３’の洗浄時間
および成膜室１０の真空引き時間、つまり図１０におけ
るダスト付着部品の洗浄工程および成膜室の真空引き工
程を減らすことができ、その分だけ成膜装置の稼働率を
上げることができる。
【００３２】図４は、有機・無機材料の成膜に使用する
蒸着源８の初期化作業を行うための予熱室２０を備える
成膜装置の好適例を示しており、この予熱室２０は、蒸
着源８の温度調節機能と真空状態維持機能とを有し、蒸
発源８’、センサ１５、るつぼ１６’、加熱源１７、真
空ポンプ１８’等を備える。ここで、温度調節機能と
は、蒸着源の昇温のための加熱源１７等が予熱室２０で
動作する機能で、保温または冷却機能をも含む。また、
真空維持機能とは、予熱室２０が真空ポンプ１８’に接
続されていることで得られる機能である。図示する例で
は、予熱室２０は成膜装置の成膜室１０と空間的に隔離
された構造となっている。
蒸着源８の初期化作業を行うための予熱室２０を備える
成膜装置の好適例を示しており、この予熱室２０は、蒸
着源８の温度調節機能と真空状態維持機能とを有し、蒸
発源８’、センサ１５、るつぼ１６’、加熱源１７、真
空ポンプ１８’等を備える。ここで、温度調節機能と
は、蒸着源の昇温のための加熱源１７等が予熱室２０で
動作する機能で、保温または冷却機能をも含む。また、
真空維持機能とは、予熱室２０が真空ポンプ１８’に接
続されていることで得られる機能である。図示する例で
は、予熱室２０は成膜装置の成膜室１０と空間的に隔離
された構造となっている。
【００３３】かかる構造において、成膜室１０で素子基
板９に所定の蒸着薄膜を形成している間に、次の蒸着源
８’を予熱室２０に取り付けて真空バルブ１１’を閉じ
て真空ポンプ１８’で真空引きをして蒸着源８’の初期
化を行い、しかる後真空バルブ１１’を開いて蒸着源
８’を取り出しておくことにより、次の蒸着薄膜を積層
する場合に、真空バルブ１１を開いて防着板２２内から
蒸着源８を取り出して蒸着源８’と交換するだけで次の
成膜を開始することができる。すなわち、予熱室２０を
使用せずに蒸着源８だけを交換する従来の場合に比較し
て、蒸着源８’の初期化時間、つまり図１０における蒸
着源の初期化工程を減らすことができ、その分だけ成膜
装置の稼働率を上げることができる。
板９に所定の蒸着薄膜を形成している間に、次の蒸着源
８’を予熱室２０に取り付けて真空バルブ１１’を閉じ
て真空ポンプ１８’で真空引きをして蒸着源８’の初期
化を行い、しかる後真空バルブ１１’を開いて蒸着源
８’を取り出しておくことにより、次の蒸着薄膜を積層
する場合に、真空バルブ１１を開いて防着板２２内から
蒸着源８を取り出して蒸着源８’と交換するだけで次の
成膜を開始することができる。すなわち、予熱室２０を
使用せずに蒸着源８だけを交換する従来の場合に比較し
て、蒸着源８’の初期化時間、つまり図１０における蒸
着源の初期化工程を減らすことができ、その分だけ成膜
装置の稼働率を上げることができる。
【００３４】上述した図４に示す予熱室２０を備える成
膜装置の好適例において、成膜室１０を真空状態に維持
したまま蒸着源８を予熱室２０から成膜室１０に、また
は成膜室１０から予熱室２０に移動する機能を成膜装置
に付与するには、図４の予熱室２０を成膜室１０に真空
バルブ１１を介して接続させればよい。この成膜装置を
使用すると、予熱室２０を使用せずに蒸着源８だけを交
換する従来の場合に比較して、図１０における蒸着源の
初期化工程および成膜室の真空引き工程を省くことがで
き、その分だけ成膜装置の稼働率を上げることができ
る。
膜装置の好適例において、成膜室１０を真空状態に維持
したまま蒸着源８を予熱室２０から成膜室１０に、また
は成膜室１０から予熱室２０に移動する機能を成膜装置
に付与するには、図４の予熱室２０を成膜室１０に真空
バルブ１１を介して接続させればよい。この成膜装置を
使用すると、予熱室２０を使用せずに蒸着源８だけを交
換する従来の場合に比較して、図１０における蒸着源の
初期化工程および成膜室の真空引き工程を省くことがで
き、その分だけ成膜装置の稼働率を上げることができ
る。
【００３５】さらに、図３に示すロードロック室１９
に、図４に示す予熱室２０の機能である蒸着源８の温度
調節機能を付与した成膜装置を使用すると、ロードロッ
ク室１９と予熱室２０を使用せずに蒸着源８だけを交換
する従来の場合に比較して、図１０におけるダスト付着
部品の洗浄工程、蒸着源の初期化工程および成膜室の真
空引き工程を減らすことができ、その分だけ成膜装置の
稼働率を上げることができる。
に、図４に示す予熱室２０の機能である蒸着源８の温度
調節機能を付与した成膜装置を使用すると、ロードロッ
ク室１９と予熱室２０を使用せずに蒸着源８だけを交換
する従来の場合に比較して、図１０におけるダスト付着
部品の洗浄工程、蒸着源の初期化工程および成膜室の真
空引き工程を減らすことができ、その分だけ成膜装置の
稼働率を上げることができる。
【００３６】図５は、複数のダスト付着組部品１３、１
３ｂを成膜室に取り付ける機能を備える成膜装置の好適
例を示しており、成膜室１０に真空バルブ１１を介して
接続されている部屋は、前記ロードロック室と前記予熱
室の機能を共に備えているロードロック兼予熱室２１で
ある。このロードロック兼予熱室２１は、この中で蒸着
源８の初期化ができる構造、即ちロードロック兼予熱室
２１にダスト付着組部品１３を装着すれば蒸着源８を加
熱するための加熱源１７を機能させることができる構造
となっている。蒸着源８を加熱するための加熱源１７を
機能させることができる構造とは、ダスト付着組部品１
３の装着とともに、加熱源１７の動力源を供給する配線
と配管等を完了できるような構造のことである。一方、
上述の図３におけるロードロック室１９は、ロードロッ
ク室１９内で蒸着源８の初期化ができない構造、即ちロ
ードロック室１９にダスト付着組部品１３を装着しても
蒸着源８を加熱するための加熱源１７が機能しない構造
になっている。ここで、成膜室１０は、２つのダスト付
着組部品１３、１３ｂを同時に取り付けることのできる
空間と機能を備えた構造である。
３ｂを成膜室に取り付ける機能を備える成膜装置の好適
例を示しており、成膜室１０に真空バルブ１１を介して
接続されている部屋は、前記ロードロック室と前記予熱
室の機能を共に備えているロードロック兼予熱室２１で
ある。このロードロック兼予熱室２１は、この中で蒸着
源８の初期化ができる構造、即ちロードロック兼予熱室
２１にダスト付着組部品１３を装着すれば蒸着源８を加
熱するための加熱源１７を機能させることができる構造
となっている。蒸着源８を加熱するための加熱源１７を
機能させることができる構造とは、ダスト付着組部品１
３の装着とともに、加熱源１７の動力源を供給する配線
と配管等を完了できるような構造のことである。一方、
上述の図３におけるロードロック室１９は、ロードロッ
ク室１９内で蒸着源８の初期化ができない構造、即ちロ
ードロック室１９にダスト付着組部品１３を装着しても
蒸着源８を加熱するための加熱源１７が機能しない構造
になっている。ここで、成膜室１０は、２つのダスト付
着組部品１３、１３ｂを同時に取り付けることのできる
空間と機能を備えた構造である。
【００３７】かかる構造において、ダスト付着組部品１
３を複数準備しておき、成膜室１０で素子基板９に所定
の蒸着薄膜を形成している間に、次の蒸着源８ｂ’を装
填したダスト付着組部品１３ｂ’をロードロック兼予熱
室２１で真空引きおよび蒸着源８ｂ’の初期化を行い、
しかる後真空バルブ１１を開いて成膜室１０にダスト付
着組部品１３ｂとして取り付け、さらに次に蒸着する素
子基板９’を取り付けておくことにより、次の蒸着薄膜
を積層する場合にはただちに次の成膜を開始することが
できる。すなわち、ロードロック兼予熱室を使用せずに
蒸着源８だけを交換する従来の場合に比較して、ダスト
付着組部品１３の洗浄時間、成膜室１０の真空引き時
間、蒸着源８の初期化時間、素子基板９を取り付ける時
間、およびダスト付着組部品１３の成膜室１０への取り
付け・取り出し時間、つまり図１０における蒸着源の昇
温工程と、基板への材料の蒸着工程以外の全工程を減ら
すことができ、その分だけ成膜装置の稼働率を大幅に上
げることができる。
３を複数準備しておき、成膜室１０で素子基板９に所定
の蒸着薄膜を形成している間に、次の蒸着源８ｂ’を装
填したダスト付着組部品１３ｂ’をロードロック兼予熱
室２１で真空引きおよび蒸着源８ｂ’の初期化を行い、
しかる後真空バルブ１１を開いて成膜室１０にダスト付
着組部品１３ｂとして取り付け、さらに次に蒸着する素
子基板９’を取り付けておくことにより、次の蒸着薄膜
を積層する場合にはただちに次の成膜を開始することが
できる。すなわち、ロードロック兼予熱室を使用せずに
蒸着源８だけを交換する従来の場合に比較して、ダスト
付着組部品１３の洗浄時間、成膜室１０の真空引き時
間、蒸着源８の初期化時間、素子基板９を取り付ける時
間、およびダスト付着組部品１３の成膜室１０への取り
付け・取り出し時間、つまり図１０における蒸着源の昇
温工程と、基板への材料の蒸着工程以外の全工程を減ら
すことができ、その分だけ成膜装置の稼働率を大幅に上
げることができる。
【００３８】また、図５においてダスト付着組部品１３
ｂは、ダスト付着組部品１３をバックアップする機能を
備える。つまり、有機・無機材料を使用し尽くすなどで
蒸着源８の使用が不可能になった場合、蒸着に使用する
蒸着源を蒸着源８から蒸着源８ｂに切り替えることによ
り、蒸着源８ｂを昇温するだけでただちに成膜を再開す
ることができる。すなわち、複数のダスト付着組部品１
３を取り付け可能な成膜室とロードロック兼予熱室を使
用しない従来の場合に比較して、蒸着源８の使用が不可
能になった場合、図５における蒸着源の昇温工程と基板
への材料の蒸着工程以外の全工程を再開する必要がな
く、その分だけ成膜装置の稼働率を上げることができ
る。
ｂは、ダスト付着組部品１３をバックアップする機能を
備える。つまり、有機・無機材料を使用し尽くすなどで
蒸着源８の使用が不可能になった場合、蒸着に使用する
蒸着源を蒸着源８から蒸着源８ｂに切り替えることによ
り、蒸着源８ｂを昇温するだけでただちに成膜を再開す
ることができる。すなわち、複数のダスト付着組部品１
３を取り付け可能な成膜室とロードロック兼予熱室を使
用しない従来の場合に比較して、蒸着源８の使用が不可
能になった場合、図５における蒸着源の昇温工程と基板
への材料の蒸着工程以外の全工程を再開する必要がな
く、その分だけ成膜装置の稼働率を上げることができ
る。
【００３９】本発明の成膜装置は、図７〜９に示す３バ
ッチ式、枚葉式、搬送式等の形態の成膜装置において、
各蒸着源８ａ、８ｂ、８ｃに関わる防着板、マスク、シ
ャッター、センサ、素子基板等の部品が属する成膜室に
対してそれぞれ適応することができる。
ッチ式、枚葉式、搬送式等の形態の成膜装置において、
各蒸着源８ａ、８ｂ、８ｃに関わる防着板、マスク、シ
ャッター、センサ、素子基板等の部品が属する成膜室に
対してそれぞれ適応することができる。
【００４０】
【実施例】有機または無機層をＮ層成膜する場合を例と
して挙げて、この場合における成膜装置の稼働率を従来
例と本発明の実施例について以下に示す。 （従来例）成膜装置における１バッチ工程は図１０の工
程図に示すように、ダスト付着部品の洗浄工程、ダスト
付着部品の成膜室への取り付け工程、成膜室の真空引き
工程、蒸着源の初期化工程、蒸着源の昇温工程、基板へ
の材料の蒸着工程、基板の交換工程、ダスト付着部品の
取り出し工程で構成される。各工程で必要とされる時間
はそれぞれ次のように概算した。
して挙げて、この場合における成膜装置の稼働率を従来
例と本発明の実施例について以下に示す。 （従来例）成膜装置における１バッチ工程は図１０の工
程図に示すように、ダスト付着部品の洗浄工程、ダスト
付着部品の成膜室への取り付け工程、成膜室の真空引き
工程、蒸着源の初期化工程、蒸着源の昇温工程、基板へ
の材料の蒸着工程、基板の交換工程、ダスト付着部品の
取り出し工程で構成される。各工程で必要とされる時間
はそれぞれ次のように概算した。
【００４１】１）ダスト付着部品の洗浄時間：１５分 洗浄の方法にもよるが、有機溶剤による粉末状ダストの
拭き取り洗浄または超音波洗浄に必要とされる時間とし
て概算した。 ２）ダスト付着部品の成膜室への取り付け時間（＝ダス
ト付着部品の取り出し時間）：５分 ３）成膜室の真空引き時間：６０分 圧力１０−６Ｔｏｒｒ台以下に真空引きするのに要する
時間として概算した。 ４）蒸着源の初期化時間：５分 蒸着源のガス出し作業以外の初期化作業をも含む時間で
ある。 ５）蒸着源の昇温時間：５分 ６）基板への材料の蒸着時間：５分 薄膜を蒸着レート３Å／ｓで膜厚９００Åまで蒸着する
として概算した。 ７）基板の交換時間：１分 また、ダスト付着部品はＮ層の素子をＭ個成膜した後に
洗浄を行うものとする。
拭き取り洗浄または超音波洗浄に必要とされる時間とし
て概算した。 ２）ダスト付着部品の成膜室への取り付け時間（＝ダス
ト付着部品の取り出し時間）：５分 ３）成膜室の真空引き時間：６０分 圧力１０−６Ｔｏｒｒ台以下に真空引きするのに要する
時間として概算した。 ４）蒸着源の初期化時間：５分 蒸着源のガス出し作業以外の初期化作業をも含む時間で
ある。 ５）蒸着源の昇温時間：５分 ６）基板への材料の蒸着時間：５分 薄膜を蒸着レート３Å／ｓで膜厚９００Åまで蒸着する
として概算した。 ７）基板の交換時間：１分 また、ダスト付着部品はＮ層の素子をＭ個成膜した後に
洗浄を行うものとする。
【００４２】よって、成膜装置で有機または無機層をＮ
層成膜する場合における１バッチ工程の総時間は前記１
〜７）の合計時間｛９０＋（１０Ｎ＋１）Ｍ｝分とな
る。この中で成膜装置の稼働時間は基板への材料の蒸着
時間｛５ＮＭ｝分に相当する。よって、成膜装置の稼働
率は式、｛５ＮＭ／（９０＋（１０Ｎ＋１）Ｍ｝×１０
０％で表される。Ｎ＝Ｍ＝１の場合、成膜装置の稼働率
は５％である。
層成膜する場合における１バッチ工程の総時間は前記１
〜７）の合計時間｛９０＋（１０Ｎ＋１）Ｍ｝分とな
る。この中で成膜装置の稼働時間は基板への材料の蒸着
時間｛５ＮＭ｝分に相当する。よって、成膜装置の稼働
率は式、｛５ＮＭ／（９０＋（１０Ｎ＋１）Ｍ｝×１０
０％で表される。Ｎ＝Ｍ＝１の場合、成膜装置の稼働率
は５％である。
【００４３】実施例 枚葉式の成膜装置で有機または無機層をＮ層成膜する場
合で、ダスト付着組部品はＮ層の素子をＭ個成膜した後
に洗浄を行う場合を例として挙げると、図１０に示すタ
イプの成膜装置を使用した場合における、Ｎ層の薄膜形
成の工程図は図６のようになる。つまり、図１０の工程
図と比較すると、蒸着源の昇温工程と素子基板への材料
の蒸着工程を行っている間に、使用後の汚染したダスト
組部品の成膜室から大気中への取り出しまでの工程、お
よび既に大気中に取り出されていた汚染されたダスト付
着組部品の洗浄から成膜室への取り付けまでの工程を共
に行うことができる。この工程図に基づき成膜装置の稼
働率を次式、 （基板への材料の蒸着時間）／（蒸着源の昇温時間＋基
板への材料蒸着時間＋Ｎ層成膜後の基板の交換時間）＝
｛５ＮＭ／（１０Ｎ＋１）Ｍ｝×１００％＝｛５Ｎ／
（１０Ｎ＋１）｝×１００％ より求めると約５０％となる。これは前記従来例の５％
と比較して約１０倍の稼働率の向上となる。
合で、ダスト付着組部品はＮ層の素子をＭ個成膜した後
に洗浄を行う場合を例として挙げると、図１０に示すタ
イプの成膜装置を使用した場合における、Ｎ層の薄膜形
成の工程図は図６のようになる。つまり、図１０の工程
図と比較すると、蒸着源の昇温工程と素子基板への材料
の蒸着工程を行っている間に、使用後の汚染したダスト
組部品の成膜室から大気中への取り出しまでの工程、お
よび既に大気中に取り出されていた汚染されたダスト付
着組部品の洗浄から成膜室への取り付けまでの工程を共
に行うことができる。この工程図に基づき成膜装置の稼
働率を次式、 （基板への材料の蒸着時間）／（蒸着源の昇温時間＋基
板への材料蒸着時間＋Ｎ層成膜後の基板の交換時間）＝
｛５ＮＭ／（１０Ｎ＋１）Ｍ｝×１００％＝｛５Ｎ／
（１０Ｎ＋１）｝×１００％ より求めると約５０％となる。これは前記従来例の５％
と比較して約１０倍の稼働率の向上となる。
【００４４】
【発明の効果】以上説明してきたように、本発明の成膜
装置においては、欠陥の少ない有機薄膜発光素子を高い
稼働率で製造することができる。
装置においては、欠陥の少ない有機薄膜発光素子を高い
稼働率で製造することができる。
【図１】有機薄膜発光素子の典型的な素子構造の一例を
示す断面図である。を適用しない場合の成膜装置におけ
る１バッチ工程の一例を示す工程図である。
示す断面図である。を適用しない場合の成膜装置におけ
る１バッチ工程の一例を示す工程図である。
【図２】本発明の成膜装置の好適例を示す断面図であ
る。
る。
【図３】本発明の他の成膜装置の好適例を示す断面図で
ある。
ある。
【図４】本発明の他の成膜装置の好適例を示す断面図で
ある。
ある。
【図５】本発明の他の成膜装置の好適例を示す断面図で
ある。
ある。
【図６】本発明の成膜装置における１バッチ工程の一例
を示す工程図である。
を示す工程図である。
【図７】従来のバッチ式の成膜装置の一例を示す断面図
である。
である。
【図８】従来の枚葉式の成膜装置の一例を示す断面図で
ある。
ある。
【図９】従来のの搬送式の成膜装置の一例を示す断面図
である。
である。
【図１０】従来の成膜装置における１バッチ工程の一例
を示す工程図である。
を示す工程図である。
１ 絶縁性光透過性基板 ２ 光透過性陽極 ３ 正孔注入層 ４ 発光層 ５ 電子注入層 ６ 陰極 ７ 駆動用直流電源 ８ 蒸着源（８ａ：蒸着源Ａ、８ｂ：蒸着源Ｂ、８ｃ：
蒸着源Ｃ） ９ 素子基板 １０ 成膜室（１０ａ：成膜室Ａ、１０ｂ：成膜室Ｂ、
１０ｃ：成膜室Ｃ） １１ 真空バルブ １２ シャッター １３ ダスト付着組部品 １４ 基板ホルダー １５ センサー １６ るつぼ １７ 加熱源 １８ 真空ポンプ １９ ロードロック室 ２０ 予熱室 ２１ （ロードロック＋予熱）室 ２２ 防着板
蒸着源Ｃ） ９ 素子基板 １０ 成膜室（１０ａ：成膜室Ａ、１０ｂ：成膜室Ｂ、
１０ｃ：成膜室Ｃ） １１ 真空バルブ １２ シャッター １３ ダスト付着組部品 １４ 基板ホルダー １５ センサー １６ るつぼ １７ 加熱源 １８ 真空ポンプ １９ ロードロック室 ２０ 予熱室 ２１ （ロードロック＋予熱）室 ２２ 防着板
Claims (7)
- 【請求項１】 電子と正孔の再結合により発光する有機
発光層を有する有機薄膜発光素子の成膜装置において、 成膜室内部の素子基板以外の部分であって、蒸着源から
蒸発した有機または無機材料がダストとして付着する部
分に存在する部品が同一の支持体に載置されてなるダス
ト付着組部品を交換自在に具備することを特徴とする有
機薄膜発光素子の成膜装置。 - 【請求項２】 成膜室を真空状態に維持したままダスト
付着組部品の交換を可能とするために、真空ポンプが接
続されたロードロック室を該成膜室に真空バルブを介し
て具備する請求項１記載の成膜装置。 - 【請求項３】 有機または無機材料の成膜に使用する蒸
着源の初期化作業を行うための部屋として、蒸着源の温
度調節機能と真空状態維持機能とを有する予熱室を成膜
室と空間的に隔離して具備する請求項１または２記載の
成膜装置。 - 【請求項４】 成膜室を真空状態に維持したまま蒸着源
を予熱室から成膜室にまたは成膜室から予熱室に移動可
能にするために、該予熱室を真空バルブを介して該成膜
室に接続した請求項３記載の成膜装置。 - 【請求項５】 複数のダスト付着組部品を具備し、ロー
ドロック室が予熱室の機能を兼ね備えている請求項４の
記載の成膜装置。 - 【請求項６】 電子と正孔の再結合により発光する有機
発光層を有する有機薄膜発光素子の成膜装置において、 有機または無機材料の成膜に使用する蒸着源の初期化作
業を行うための部屋として、蒸着源の温度調節機能と真
空状態維持機能とを有する予熱室を成膜室と空間的に隔
離して具備する有機薄膜発光素子の成膜装置。 - 【請求項７】 成膜室を真空状態に維持したまま蒸着源
を予熱室から成膜室にまたは成膜室から予熱室に移動可
能にするために、該予熱室を真空バルブを介して該成膜
室に接続した請求項６記載の成膜装置。
Priority Applications (2)
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|---|---|---|---|
| JP9225892A JPH1161386A (ja) | 1997-08-22 | 1997-08-22 | 有機薄膜発光素子の成膜装置 |
| US09/136,045 US6179923B1 (en) | 1997-08-22 | 1998-08-18 | Deposition apparatus for an organic thin-film light-emitting element |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9225892A JPH1161386A (ja) | 1997-08-22 | 1997-08-22 | 有機薄膜発光素子の成膜装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1161386A true JPH1161386A (ja) | 1999-03-05 |
Family
ID=16836520
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9225892A Pending JPH1161386A (ja) | 1997-08-22 | 1997-08-22 | 有機薄膜発光素子の成膜装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
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| JP (1) | JPH1161386A (ja) |
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