JP2000353593A

JP2000353593A - 有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルの製造装置および製造方法

Info

Publication number: JP2000353593A
Application number: JP11161647A
Authority: JP
Inventors: Makoto Uchiumi; 誠内海; Goji Kawaguchi; 剛司川口; Yotaro Shiraishi; 洋太郎白石
Original assignee: Fuji Electric Co Ltd
Current assignee: Fuji Electric Co Ltd
Priority date: 1999-06-08
Filing date: 1999-06-08
Publication date: 2000-12-19

Abstract

(57)【要約】【課題】特に長寿命で、発光特性の良好な有機エレク
トロルミネッセンスディスプレイパネルを作製する製造
装置および製造方法を提供する。【解決手段】基板８を紫外線照射処理するための洗浄
室１と、処理された基板上に薄膜を形成するための真空
成膜室と、該洗浄室１と該真空成膜室とを接続するため
の真空中間室２とを少なくとも有する有機エレクトロル
ミネッセンスディスプレイパネルの製造装置において、
前記洗浄室１が真空排気系５と、紫外線照射系６と、基
板支持機構４と、ガス供給系７とを少なくとも有し、か
つ、各室間に設けられた開閉可能なバルブを経由して各
室間で相互に基板８を搬送する基板搬送系１０を有す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、有機エレクトロル
ミネッセンス（以下、単に「有機ＥＬ」とも称する）デ
ィスプレイパネルの製造装置（以下、単に「製造装置」
とも称する）、および製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、有機物層を含む発光デバイスであ
る有機エレクトロルミネッセンス素子が注目されてお
り、ディスプレイ等への利用に向けて研究が進められて
いる。かかる有機ＥＬ素子は、一般に、基板上に第一電
極、有機ＥＬ媒体、および第二電極を積層した構造を有
している。

【０００３】一般に有機ＥＬ素子には、透明基板上に陽
極としてＩＴＯ等を形成し、目的の形状にパターニング
してなる透明電極付基板が用いられる。かかる電極付基
板上に有機ＥＬ媒体および陰極を成膜する際には、まず
電極付基板をＵＶ照射装置やプラズマ洗浄装置等により
洗浄し、その後、成膜を行なっている。

【０００４】この際、洗浄後の電極付基板が大気に晒さ
れて、その表面に大気中の水分やダスト、有機物等が付
着することにより、基板表面が再び汚染されてしまう現
象が発生していた。この点を解消するために、特開平７
−１４２１６８号公報に示されるようにプラズマ処理を
行った後に同じ真空槽内で成膜を行う方法や、特開平８
−２２２３６８号公報に示されるように基板洗浄室にお
いてプラズマ表面処理をした後、大気に晒すことなく真
空成膜室に搬送し、この真空成膜室において成膜を行う
技術が公開されている。また、これらの技術に加え、特
開平９−２３２０７５号および特開平１０−２５５９７
２号公報に記載された技術に示されているように、基板
以外の範囲に付着した物質を除去して、基板表面に再付
着することを防ぐために、ＵＶ照射、イオン照射または
プラズマ処理を行う範囲を限定する技術が公開されてい
る。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記技
術においては、電極付基板を洗浄する際に基板表面に発
生する処理ムラのために、有機ＥＬディスプレイパネル
における表示面内での発光の均一性や、駆動時の劣化の
均一性が損なわれるという問題が生じていた。かかる処
理ムラを解決するために、処理に用いるＵＶ光やプラズ
マの均一化を図り、処理ガスを洗浄室内で均一にする技
術が必要とされていた。

【０００６】そこで本発明の目的は、上述の問題点を解
決し、特に長寿命で、発光特性の良好な有機エレクトロ
ルミネッセンスディスプレイパネルを作製する製造装置
および製造方法を提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の製造装置は、基板を紫外線照射処理するた
めの洗浄室と、処理された基板上に薄膜を形成するため
の真空成膜室と、該洗浄室と該真空成膜室とを接続する
ための真空中間室とを少なくとも有する有機エレクトロ
ルミネッセンスディスプレイパネルの製造装置におい
て、前記洗浄室が真空排気系と、紫外線照射系と、基板
支持機構と、ガス供給系とを少なくとも有し、かつ、各
室間に設けられた開閉可能なバルブを経由して各室間を
相互に基板を搬送する機能を有することを特徴とするも
のである。

【０００８】本発明の製造装置においては、前記洗浄室
が室内を所望の成分と圧力に制御するための真空排気系
とガス供給系とを備えることにより、基板面内で均質で
あり、かつ、処理バッチ間で再現性の高い洗浄処理が得
られる。

【０００９】また、本発明においては、基板支持機構が
基板回転機能を有することが好ましい。このことによ
り、基板に対する紫外線照射系の照度ムラを小さくする
ことができる。

【００１０】さらに、面状に配列された紫外線ランプを
紫外線照射源として用いることも有効である。例えば、
低圧水銀灯などのランプを用いる場合、直線状のランプ
を配列し平面状としたり、曲線状のランプを同心円状に
配列し円状としたりすることで、紫外線照射強度分布を
均質化することが可能である。また、上述の面状に配列
された紫外線ランプの基板と反対の面に、反射板を設け
ることも、照射強度均質化の有効な方法の一つである。

【００１１】また、本発明の有機エレクトロルミネッセ
ンスディスプレイパネルの製造方法は、基板と、該基板
上に形成された複数の第一電極と、該第一電極を被覆す
る有機エレクトロルミネッセンス媒体と、該有機エレク
トロルミネッセンス媒体上に形成された複数の第二電極
とを備え、該第一電極と、該有機エレクトロルミネッセ
ンス媒体と、該第二電極との重なった部分をそれぞれ発
光画素とする有機エレクトロルミネッセンスディスプレ
イパネルの製造方法において、イ）前記基板上に前記第
一電極を形成する工程と、ロ）本発明の製造装置におけ
る洗浄室においてガス供給系より導入された酸素および
窒素の存在下、形成された第一電極付基板の上部に設け
られた紫外線ランプから紫外線を照射することにより該
第一電極付基板を洗浄する工程と、ハ）前記第一電極付
基板を大気に晒すことなく真空成膜室に移送する工程
と、ニ）前記真空成膜室において、洗浄された前記第一
電極付基板上に有機物層を含む薄膜を形成する工程と、
を含むことを特徴とするものである。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照しながら説明する。本発明に係る有機ＥＬディス
プレイパネルは、マトリクス状に配置された複数の発光
画素を有するものであり、夫々の画素が赤、青、緑を表
示する場合や、同一色を表示する場合等を考えることが
できる。

【００１３】かかる有機ＥＬディスプレイパネルは、例
えば図２に示すように、透明基板３１上に形成された複
数の第一電極（陽極）３２と、第一電極３２に直交する
複数の第二電極（陰極）３４と、これらに挟持された有
機層３３とから構成される。第一電極３２と第二電極３
４との交差領域の発光部を１単位として１画素を形成
し、この画素を複数個配列させることにより表示部を形
成して、陽極および陰極を表示部から基板周囲へ延長し
て形成した接続部を介して、この表示部と外部駆動回路
とを接続することにより、画像表示装置が構成される。

【００１４】この有機ＥＬディスプレイパネルに応用さ
れる有機ＥＬ素子は、代表的には、基板と、この基板上
に成膜されたＩＴＯ膜等からなる透明電極（陽極）と、
この透明電極上に成膜された有機物膜である正孔注入層
と、この正孔注入層上に成膜された有機物膜である発光
層と、この発光層上に成膜された有機物膜である電子注
入層と、この電子注入層上に成膜された電極（陰極）と
を備えている。尚、有機ＥＬ素子の構成は上記に限られ
ず、例えば、正孔注入層と発光層との間に正孔輸送層が
挿入された構成等も考えられる。

【００１５】図１に、本発明の有機ＥＬディスプレイパ
ネル製造装置の部分模式図を示す。かかる製造装置は、
電極付基板の洗浄を行うための洗浄室１と、処理された
電極付基板上に薄膜を形成するための真空成膜室（図示
せず）と、該洗浄室１と該真空成膜室とを接続するため
の真空中間室２と、前記真空成膜室と前記真空中間室２
との間および前記洗浄室１と前記真空中間室２との間の
各々に設けられた移送路９に付属する開閉可能なバルブ
３とを有して構成されている。

【００１６】洗浄室１は、基板支持機構４と、真空排気
系５と、紫外線照射系６と、洗浄室の外部から処理ガス
を導入するガス供給系７とを有しており、このガス供給
系７から酸素および窒素等を洗浄室１内に導入して、例
えば、酸素の存在下、または酸素および窒素の存在下で
紫外線照射処理を行う。尚、基板支持機構４は、照度ム
ラを小さくするために、基板回転機能を有していること
が好ましい。

【００１７】酸素の存在下、または酸素および窒素の存
在下で紫外線照射処理を行う効果として、以下のような
ことが挙げられる。陽極は一般的にフォトリソグラフ工
程によりパターニングされる。フォトリソグラフ工程で
用いられるフォトレジストは、溶剤等を用い剥離される
が完全には除去されず、陽極表面に僅かに付着してい
る。また、大気中で工程を行うために、炭化水素等が付
着してしまう。

【００１８】この陽極表面に対して、紫外線照射を酸素
の存在下で行うことにより、雰囲気中にオゾンと原子状
酸素が生成する。陽極表面に残留しているフォトレジス
トや大気中から付着した炭化水素は、発生したオゾンお
よび原子状酸素と反応することにより、また紫外線を吸
収することにより、化学結合が切断され揮発除去され
る。このため、炭化水素のない清浄な陽極表面が得られ
る（例えば、特開平１０−２６１４８４号公報参照）。

【００１９】また、紫外線照射を酸素および窒素の存在
下で行うことにより、上述のようにして発生したオゾン
および原子状酸素は、雰囲気中の窒素と反応して窒素酸
化物を生じ、この窒素酸化物によって、陽極表面が修飾
される。この窒素酸化物の生成とその陽極表面への付着
は、時間飛行型二次イオン質量スペクトロスコピーによ
り確認することができる。これにより、清浄な陽極表面
が得られるとともに、有機ＥＬ媒体の透明導電膜への濡
れ性が改善され、発光特性が向上する。

【００２０】例えば、正孔注入層として銅フタロシアニ
ン（ＣｕＰｃ）を用いた場合、ＣｕＰｃの配向性が変化
する。また、面内で、緻密かつ成長が発生していると考
えられる。

【００２１】このＣｕＰｃの膜成長の効果は、陽極表面
が窒素酸化物により修飾されている場合に、傾向が強
い。また、ＣｕＰｃのみでなく、分子間のπ共役電子の
相関により導電性を示す他の有機化合物についても同様
の効果が観察されている。

【００２２】尚、上述の紫外線照射を用いた窒素酸化物
修飾工程を終了した基板は、炭化水素化合物による再汚
染や水分の吸着を極力排除し、速やかに低分子蒸着膜形
成工程に用いられる蒸着装置内に導入することが好まし
い。

【００２３】洗浄室１内における紫外線照射系６は、基
板８の表面に均一に紫外線を照射し得る機構を有するも
のとし、好適には、面状に配列された紫外線ランプ、例
えば、面状に配列された低圧水銀ランプや高圧水銀ラン
プを用いる。尚、図中の１２は紫外線照射系の電源を示
す。

【００２４】処理ガスとしては、上述したように、酸
素、好適には酸素および窒素を用いる。基板表面におけ
る気流のムラを小さくするためには、洗浄室１内を処理
ガスで満たして、一定圧力に保った後に紫外線照射を行
うことが望ましい。

【００２５】また、本発明の装置においては、洗浄室１
が圧力調整のための真空バルブ１８を備えていることが
好ましい。

【００２６】洗浄室１には、真空排気系１５を備えた真
空中間室２が併設され、バルブ３を備えた移送路９を介
して接続されている。また、真空中間室２にはさらに真
空成膜室（図示せず）およびロードロック室１６を並設
可能であり、バルブを備えた移送路により同様に接続す
ることができる。移送路に開閉手段としてのバルブが設
けられていることにより、洗浄室１を大気中に開放する
ことなく、電極付基板１を、基板搬送系１０により洗浄
室１から真空中間室２、ロードロック室１６へと移送す
ることが可能となる。尚、本発明に係る基板搬送系１０
は、各室間に設けられた開閉可能なバルブを経由して、
各室間で相互に基板を搬送する機能を有するものであ
る。また、図中の１４、１５および２４、２５は夫々、
真空中間室２およびロードロック室１６に付属する基板
支持機構、真空排気系を表す。

【００２７】真空成膜室は、真空成膜室を真空にするた
めの真空排気系と、蒸着材料を蒸発させる蒸着源と、こ
の蒸着源に対向して設けられた基板ホルダとを備え、有
機ＥＬディスプレイパネルの有機ＥＬ媒体の成膜を行う
ことができるように構成されている。蒸着源は、蒸着材
料を入れるためのるつぼを有し、蒸着材料を入れたるつ
ぼを加熱することにより、基板ホルダに取り付けた基板
に有機ＥＬ媒体を蒸着することができる。

【００２８】尚、本装置においては、同様な複数の真空
成膜室を、移送路およびバルブを介して連設し、各真空
成膜室において夫々の有機ＥＬ媒体を順次蒸着すること
も考えられる。

【００２９】本装置に用いる基板搬送系１０は、例えば
ベルト式のもの、またはトレイ式のものであってもよ
く、さらには、電極付基板を保持して移動させることの
できるアームを備えたロボットであってもよい。また、
装置全体の形態は、インライン形や、センターチャンバ
ーを中心として周囲に複数の真空成膜室および洗浄室を
配置したクラスタ形に構成することも可能である。

【００３０】次に、図１に示す本実施形態の製造装置を
用いた有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法について
説明する。以下の方法においては、電極付基板を洗浄室
および真空成膜室へ順次移送して洗浄および成膜を行う
ことにより、ディスプレイパネルを連続的に製造するこ
とができる。

【００３１】まず、基板上に透明電極を成膜し、フォト
リソグラフ工程等でパターニングして、電極付基板８を
作製する。次いで、ロードロック室１６のバルブ２３を
開き、電極付基板８を搬入口１７からロードロック室１
６内に搬入し、基板ホルダ（図示せず）に装着する。搬
入後、バルブ２３を閉めて、真空排気系２５により、好
適には、ロードロック室１６内の圧力が１．３３×１０
^−３Ｐａ未満になるまで排気する。尚、真空中間室とし
てのセンターチャンバー２および洗浄室１は、予め１．
３３×１０^−３Ｐａ未満まで排気しておくことが好まし
い。

【００３２】次に、ロードロック室１６とセンターチャ
ンバー２との間のバルブ１３を開け、移送路１９を通じ
て、電極付基板８を、ロボットアーム等によりロードロ
ック室１６からセンターチャンバー２へ移送する。続い
てセンターチャンバー２と洗浄室１との間のバルブ３を
開けて移送路９を開放し、電極付基板８を、センターチ
ャンバー２からさらに洗浄室１内まで移送して、基板ホ
ルダに保持させる。この際、電極付基板８は、透明電極
側の面を紫外線照射系６側に向けるようにして装着す
る。続いてバルブ３を閉め、ガス供給系７から酸素およ
び窒素を夫々洗浄室１内に導入する。この際の洗浄室１
内の圧力は、４．００Ｐａ〜大気圧になるように調整す
ることが好ましい。

【００３３】次に、紫外線照射系６により紫外線を照射
して、電極付基板８を処理する。電極付基板８の表面
は、紫外線によって有機物からなる不純物が効率よく除
去されると共に、処理ガスに酸素と窒素の混合ガスを用
いることによって紫外線照射の際に発生する窒素酸化物
ガスにより電極表面が修飾されるため、有機ＥＬ媒体の
透明導電膜への濡れ性が変化して、発光特性が向上す
る。

【００３４】紫外線による処理の後、洗浄室１を真空排
気して、洗浄された基板８をセンターチャンバー２へ移
送する。一方、真空成膜室の蒸着源には正孔注入層の蒸
着材料を入れたるつぼを装着しておく。次いで、センタ
ーチャンバー２と真空成膜室との間のバルブを開けて移
送路を開放して、洗浄後の電極付基板８を、基板搬送系
１０により、移送路を通じてセンターチャンバー２から
真空成膜室内に移送して、基板ホルダに保持させる。こ
うすることにより、洗浄後の電極付基板８を、洗浄室１
から大気に晒されることなく真空成膜室に搬送すること
ができる。続いて、バルブを閉じて移送路を閉塞し、蒸
着源の正孔注入層の蒸着材料を加熱して蒸発させ、電極
付基板の陽極上に正孔注入層を成膜する。

【００３５】さらに、正孔注入層の成膜と同様にして、
発光層、電子注入層および陰極を、順次各真空成膜室に
おいて成膜する。この際にも、真空成膜室間の電極付基
板８の搬送は、移送路を通じて、電極付基板８を大気に
晒すことなく行うことができる。

【００３６】尚、複数の有機ＥＬディスプレイパネルを
連続的に製造する場合には、洗浄を繰り返すことにより
洗浄室の内壁が徐々に汚染されるため、洗浄室の内部を
定期的に交換することが必要となることから、洗浄室１
を大気に晒すことなく内部を交換することのできる機構
を有していることが好ましい。

【００３７】

【実施例】以下、本発明を実施例に基づき説明する。実施例ガラス透明基板上に、金属膜として膜厚３００ｎｍのＭ
ｏをスパッタ法により室温で成膜し、ポジ型フォトレジ
スト（ＯＦＰＲ−８００、東京応化工業（株）製）をス
ピンコーターを用いて約１μｍの厚さに塗布した後に、
温風循環式オーブンにてプリベークし、表示部でのピッ
チが１１０μｍ、幅が１０μｍであるパターンのフォト
マスクを用いて露光した。次いで、現像液（ＮＭＤ−
３、東京応化工業（株）製）により現像した。しかる
後、燐酸、硝酸、酢酸の混合液を用いて、Ｍｏ膜のエッ
チングを行なった後、フォトレジストを剥離し、金属パ
ターンを形成した。

【００３８】このＭｏパターンは、第一電極の外部信号
線との接続部まで配設させており、第一電極の抵抗を低
減するバスラインとして機能させてある。また、第二電
極の端子パッド部分に形成されている。

【００３９】次に、この基板上に、第一電極として透明
導電性膜であるインジウム亜鉛酸化物（ＩＤＩＸＯ、出
光興産（株）製）をスパッタリング法により室温で膜厚
約１００ｎｍに成膜した。次に、Ｍｏの場合と同様の方
法でレジストの形成を行ない、シュウ酸を用いてエッチ
ングを行なった後、フォトレジストを剥離し、第一電極
を形成した。インジウム亜鉛酸化物のパターンは、Ｍｏ
膜を完全に被覆するように形成されている。

【００４０】次に、この基板上にネガ型フォトレジスト
（ＺＰＮ１１００、日本ゼオン（株）製）をスピンコー
ターを用いて約５μｍの厚さに塗布した後に、温風循環
式オーブンにてプリベークした。インジウム亜鉛酸化物
と直交するパターンのフォトマスクを用いて露光し、さ
らに温風循環式オーブンにてＰ．Ｅ．Ｂをしてから現像
を行い、電気絶縁性の隔壁を形成した。隔壁はピッチ３
３０μｍ、幅３０μｍであった。

【００４１】図１に示す製造装置のロードロック室１６
を大気圧にし、ロードロック室１６のバルブ２３を開
き、上記電極付基板を搬入口１７からロードロック室１
６内に搬入して、基板ホルダに装着した。この後、バル
ブ２３を閉めて、真空排気系２５により、ロードロック
室１６内の圧力が１．３３×１０^−３Ｐａ未満になるま
で排気した。また、センターチャンバー２および洗浄室
１は予め１．３３×１０^−３Ｐａ未満まで排気しておい
た。

【００４２】次いで、ロードロック室１６とセンターチ
ャンバー２との間のバルブ１３を開けて、ロボットアー
ム（図示せず）により電極付基板をロードロック室１６
からセンターチャンバー２へ移動した。この後、センタ
ーチャンバー２と洗浄室１との間のバルブ３を開けて移
送路９を開放し、電極付基板をセンターチャンバー２か
ら移送路９を通じて洗浄室１内に移送し、基板ホルダに
保持させた。このとき、電極付基板は、透明電極側の面
を紫外線照射系６側に向けて装着した。続いて、バルブ
３を閉めてから、ガス供給系７から夫々酸素および窒素
を洗浄室１内に導入した。この際、洗浄室１内の圧力は
大気圧とし、酸素ガスと窒素ガスの比率は体積比にして
２：８とした。

【００４３】次に、紫外線照射系６により紫外線を５分
間照射し、基板ホルダに装着された電極付基板を、１０
ｒｐｍで回転させながら処理した。処理後、洗浄室１を
真空排気し、洗浄された基板をセンターチャンバー２へ
移動した。一方、真空成膜室（図示せず）の蒸着源には
正孔注入層の蒸着材料を入れたるつぼを装着しておい
た。次いで、センターチャンバー２と真空成膜室との間
のバルブを開けて移送路を開放し、ロボットアームによ
り、電極付基板をセンターチャンバー２から移送路を通
じて真空成膜室内に移送して基板ホルダに保持させた。

【００４４】続いて、バルブを閉じて移送路を閉塞し、
正孔注入層の蒸着源としてのＣｕフタロシアニンを加熱
して蒸発させ、電極付基板の陽極上に正孔注入層を成膜
した。

【００４５】この後、センターチャンバー２と真空成膜
室との間のバルブを開けて移送路を開放し、ロボットア
ームにより、電極付基板を、センターチャンバー２へ移
送した。

【００４６】次いで、正孔注入層の成膜と同様にして、
正孔輸送層としてのＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−
ビス（３メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−
４，４’−ジアミンと、発光層としてのトリス（８−キ
ノリノール）アルミニウムと、陰極としてのＭｇＡｇと
を、夫々各真空成膜室において成膜した。

【００４７】最後に、この基板を上記と同様の方法で封
止処理室へ移送し、基板の端部に室温硬化型接着剤を塗
布して、ガラス基板を貼り合せて封止を行った。

【００４８】比較例実施例と同様の方法で、透明電極付基板を洗浄室１内に
移送し、基板ホルダに保持させた。続いてバルブ３を閉
めてから、ガス供給系７から酸素のみを洗浄室１内に導
入し、大気圧とした。次に、紫外線照射系６により紫外
線を５分間照射し、電極付基板を処理した。

【００４９】この後、実施例と同様な方法で、有機ＥＬ
媒体および陰極を成膜し、ガラス基板を張り合せて封止
を行った。

【００５０】実施例と比較例の素子を比較すると、ダー
クスポット数、発光輝度の半減時間（初期輝度を１００
ｃｄ／ｍ^２とし、連続発光させたときの輝度が５０ｃｄ
／ｍ^２となる時間）に大きな差は見られなかった。しか
し、実施例の素子においては、発光開始電圧の低下およ
び発光効率の向上の効果が見られた。

【００５１】

【発明の効果】以上、本発明によれば、洗浄室内におけ
る処理ガスの流れ、紫外線の照度を均一にすることによ
り、電極付基板表面をムラなく洗浄することができ、長
寿命で、優れた発光特性を有する有機ＥＬディスプレイ
パネルが得られる。

【００５２】また、電極付基板洗浄と、有機ＥＬ媒体お
よび陰極の成膜とを、夫々洗浄室および真空成膜室に分
離することにより、連続生産におけるタクトタイムを短
縮することができる。

【００５３】さらに、電極付基板を大気に晒すことなく
有機ＥＬ媒体の成膜が可能になるため、発光面内におけ
る未発光部分の発生を確実に抑制でき、優れた素子性能
を確保できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の有機エレクトロルミネッセンスディス
プレイパネルの製造装置を示す部分模式図である。

【図２】有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパ
ネルの一例を示す部分断面図である。

【符号の説明】

１洗浄室２真空中間室（センターチャンバー）３，１３，２３バルブ４，１４，２４基板支持機構５，１５，２５真空排気系６紫外線照射系７ガス供給系８基板９，１９移送路１０基板搬送系１２紫外線照射系の電源１６ロードロック室１７搬入口１８真空バルブ

フロントページの続き (72)発明者白石洋太郎神奈川県川崎市川崎区田辺新田１番１号富士電機株式会社内Ｆターム(参考） 3K007 AB11 AB18 CA01 CB01 DA01 DB03 EB00 FA01

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板を紫外線照射処理するための洗浄室
と、処理された基板上に薄膜を形成するための真空成膜
室と、該洗浄室と該真空成膜室とを接続するための真空
中間室とを少なくとも有する有機エレクトロルミネッセ
ンスディスプレイパネルの製造装置において、前記洗浄室が真空排気系と、紫外線照射系と、基板支持
機構と、ガス供給系とを少なくとも有し、かつ、各室間
に設けられた開閉可能なバルブを経由して各室間で相互
に基板を搬送する基板搬送系を有することを特徴とする
有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルの製
造装置。
【請求項２】前記基板支持機構が基板回転機能を有す
る請求項１記載の有機エレクトロルミネッセンスディス
プレイパネルの製造装置。
【請求項３】前記紫外線照射系が、面状に配列された
紫外線ランプを少なくとも備える請求項１または２記載
の有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルの
製造装置。
【請求項４】基板と、該基板上に形成された複数の第
一電極と、該第一電極を被覆する有機エレクトロルミネ
ッセンス媒体と、該有機エレクトロルミネッセンス媒体
上に形成された複数の第二電極とを備え、該第一電極
と、該有機エレクトロルミネッセンス媒体と、該第二電
極との重なった部分をそれぞれ発光画素とする有機エレ
クトロルミネッセンスディスプレイパネルの製造方法に
おいて、イ）前記基板上に前記第一電極を形成する工程と、ロ）請求項１〜３のうちいずれか一項記載の製造装置に
おける洗浄室においてガス供給系より導入された酸素お
よび窒素の存在下、形成された第一電極付基板の上部に
設けられた紫外線ランプから紫外線を照射することによ
り該第一電極付基板を洗浄する工程と、ハ）前記第一電極付基板を大気に晒すことなく真空成膜
室に移送する工程と、ニ）前記真空成膜室において、洗浄された前記第一電極
付基板上に有機物層を含む薄膜を形成する工程と、を含
むことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスディ
スプレイパネルの製造方法。