JP4468328B2 - El表示装置の作製方法 - Google Patents
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Description
(1)平行平板型グロー放電を用いた酸素プラズマによる表面酸化法。
(2) 紫外光照射により生成したオゾンによる表面酸化法。
(3) プラズマにより生成した酸素ラジカルによる表面酸化法。
蒸着源に関しては第1気相成膜用処理室110と同様で構わないので、ここでの説明は省略する。
また、シーリング材と上記全ての処理を終えた基板とは熱硬化性樹脂又は紫外光硬化性樹脂を用いて貼り合わせ、熱処理又は紫外光照射処理によって樹脂を硬化させて密閉空間を形成する。この密閉空間の中に酸化バリウム等の乾燥剤を設けることも有効である。
に出射されるが、このとき画素電極603は反射電極として機能することになる。そのため、できるだけ反射率の高い材料を用いることが好ましい。
Claims (3)
- 少なくとも、共通室と、前記共通室に第1のゲートを介して連結された真空排気処理室と、前記真空排気処理室に第2のゲートを介して連結された第1の処理室と、前記共通室に第3のゲートを介して連結された第2の処理室と、を有する装置を用いて行うEL表示装置の作製方法であって、
第1の電極が設けられた基板を前記共通室から前記真空排気処理室に搬送する第1の工程を行い、
前記真空排気処理室内を不活性ガスでパージする第2の工程を行い、
前記基板を前記真空排気処理室から前記第1の処理室に搬送する第3の工程を行い、
前記第1の処理室内で前記第1の電極上にエレクトロルミネッセンス材料及び有機溶媒を含む溶液を塗布することにより薄膜を形成する第4の工程を行い、
前記基板を前記第1の処理室から前記真空排気処理室に搬送する第5の工程を行い、
前記真空排気処理室内で前記薄膜を焼成した後、前記真空排気処理室内を真空排気する第6の工程を行い、
前記基板を前記真空排気処理室から前記共通室に搬送する第7の工程を行い、
前記基板を前記共通室から前記第2の処理室に搬送する第8の工程を行い、
前記第2の処理室内で前記薄膜上に第2の電極を形成する第9の工程を行い、
前記第1の電極と前記薄膜と前記第2の電極とからなるEL素子を覆うパッシベーション膜を形成する工程を行い、
少なくとも前記第1乃至第9の工程を行う間、前記共通室及び前記第2の処理室を減圧状態に保つとともに、前記第1の処理室を不活性ガスで満たされた状態に保つことを特徴とするEL表示装置の作製方法。 - 少なくとも、共通室と、前記共通室に第1のゲートを介して連結された真空排気処理室と、前記真空排気処理室に第2のゲートを介して連結された第1の処理室と、前記共通室に第3のゲートを介して連結された第2の処理室と、前記共通室に第4のゲートを介して連結された第3の処理室と、前記共通室に第5のゲートを介して連結された第4の処理室と、を有する装置を用いて行うEL表示装置の作製方法であって、
第1の電極が設けられた基板を前記共通室から前記第3の処理室に搬送する第1の工程を行い、
前記第3の処理室内で前記第1の電極の表面を酸化する第2の工程を行い、
前記基板を前記第3の処理室から前記共通室へ搬送する第3の工程を行い、
前記基板を前記共通室から前記真空排気処理室に搬送する第4の工程を行い、
前記真空排気処理室内を不活性ガスでパージする第5の工程を行い、
前記基板を前記真空排気処理室から前記第1の処理室に搬送する第6の工程を行い、
前記第1の処理室内で前記第1の電極上にエレクトロルミネッセンス材料及び有機溶媒を含む溶液を塗布することにより薄膜を形成する第7の工程を行い、
前記基板を前記第1の処理室から前記真空排気処理室に搬送する第8の工程を行い、
前記真空排気処理室内で前記薄膜を焼成した後、前記真空排気処理室内を真空排気する第9の工程を行い、
前記基板を前記真空排気処理室から前記共通室に搬送する第10の工程を行い、
前記基板を前記共通室から前記第2の処理室に搬送する第11の工程を行い、
前記第2の処理室内で前記薄膜上に第2の電極を形成する第12の工程を行い、
前記基板を前記第2の処理室から前記共通室へ搬送する第13の工程を行い、
前記基板を前記共通室から前記第4の処理室に搬送する第14の工程を行い、
前記第4の処理室内で前記第2の電極上に第3の電極を形成する第15の工程を行い、
前記第1の電極と前記薄膜と前記第2の電極と前記第3の電極とからなるEL素子を覆うパッシベーション膜を形成する工程を行い、
少なくとも前記第1乃至第15の工程を行う間、前記共通室、前記第2の処理室、第3の処理室、及び前記第4の処理室を減圧状態に保つとともに、前記第1の処理室を不活性ガスで満たされた状態に保つことを特徴とするEL表示装置の作製方法。 - 請求項1又は請求項2において、
前記装置から前記基板を取り出した後に前記パッシベーション膜を形成する工程を行うことを特徴とするEL表示装置の作製方法。
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