JP4059946B2 - 有機薄膜形成装置及び有機材料の再利用方法 - Google Patents

有機薄膜形成装置及び有機材料の再利用方法 Download PDF

Info

Publication number
JP4059946B2
JP4059946B2 JP34265396A JP34265396A JP4059946B2 JP 4059946 B2 JP4059946 B2 JP 4059946B2 JP 34265396 A JP34265396 A JP 34265396A JP 34265396 A JP34265396 A JP 34265396A JP 4059946 B2 JP4059946 B2 JP 4059946B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
organic
organic material
shutter
thin film
vapor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP34265396A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH10168559A (ja
Inventor
直樹 長嶋
夏木 高橋
敏夫 根岸
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ulvac Inc
Original Assignee
Ulvac Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ulvac Inc filed Critical Ulvac Inc
Priority to JP34265396A priority Critical patent/JP4059946B2/ja
Publication of JPH10168559A publication Critical patent/JPH10168559A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4059946B2 publication Critical patent/JP4059946B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02WCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO WASTEWATER TREATMENT OR WASTE MANAGEMENT
    • Y02W30/00Technologies for solid waste management
    • Y02W30/50Reuse, recycling or recovery technologies

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
  • Luminescent Compositions (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば、有機EL(電界発光)素子等を製造する際に、基板上に有機化合物の蒸着膜を形成するための有機薄膜形成装置及び有機材料の再利用方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、半導体を中心としたエレクトロニクスは無機物を対象として発展してきたが、近年、有機化合物を用いた機能性薄膜が着目されている。
有機化合物を利用する理由として、
▲1▼無機物より多様な反応系・特性が利用できる。
▲2▼無機物より低エネルギーで表面処理ができる。
ということがあげられる。
【0003】
このような機能性薄膜として、有機EL素子・圧電センサ・焦電センサ・電気絶縁膜等がある。このような機能性薄膜は、主として蒸着によって形成されるが、これらのうち、特に有機EL素子は、ディスプレイパネルとして利用が可能であることから、蒸着成膜の大面積化が求められている。
【0004】
図5は、従来の有機薄膜形成装置の概略構成を示すものである。
図5に示すように、この有機薄膜形成装置100は、図示しない真空排気系に連結される真空槽101を有し、この真空槽の下部に設けられる導入部101A、101Bに、複数の有機材料用蒸発源102A、102Bが仕切板103を挟んで両側に配設される。
【0005】
有機材料用蒸発源102A、102Bの上方近傍には、有機材料の蒸気を閉じこめておくためのシャッター104A、104Bがそれぞれ設けられ、これらのシャッター104A、104の上方近傍には、成膜速度を測定するための膜厚モニター105A、105Bが設けられる。
【0006】
一方、真空槽101の上部には、蒸着膜を成膜すべき基板106が配置される。そして、基板106の上方に、加熱部107を有する加熱手段108が、基板106に密着するように設けられる。さらに、基板106の下方には、有機材料の蒸気を遮るためのメインシャッター109が設けられる。
【0007】
この有機薄膜形成装置100を用いて基板106上に蒸着を行う場合には、真空槽101内の真空排気を行い、シャッター104A、104B及びメインシャッター109を閉じた状態で有機材料用蒸発源102A、102B内の有機材料を所定の温度に加熱する。
【0008】
そして、各有機材料が所定の温度に達して所要の蒸発量が得られた後に、シャッター104A、104B及びメインシャッター109を開き、所定の析出速度で基板106上に有機材料を蒸着し、堆積させて所定の厚みの有機薄膜を形成した後にシャッター104A、104B及びメインシャッター109を閉じる。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の有機薄膜形成装置100の場合、有機材料用蒸発源102A、102B内の有機材料が所定の温度に達して所要の蒸発量が得られるまでシャッター104A、104Bを閉じておく必要があるため、シャッター104A、104Bの裏面、すなわち、有機材料用蒸発源102A、102Bと対向する面に有機材料が付着するという問題がある。
【0010】
このシャッター104A、104Bの裏面に付着した有機材料をそのまま放置しておくと、シャッター104A、104Bの開閉の際の振動によってこの有機材料が粉体として舞い上がり、その結果、均一な厚みの蒸着膜が得られない場合がある。
このため、従来の装置においては、頻繁にシャッター104A、104Bの清掃を行わなければならなかった。
【0011】
また、従来、シャッター104A、104Bの裏面に付着した有機材料は捨てられていたが、この種の有機材料は高価なものもあり、しかも、真空中で再蒸発された有機材料は精製されている場合が多いため、再利用したいという要望もあった。
【0012】
本発明は、このような従来の技術の課題を解決するためになされたもので、有機材料用蒸発源からの蒸気を遮蔽するためのシャッターに付着した有機材料を容易に回収することができる有機薄膜形成装置及び有機材料の再利用方法を提供することを目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、請求項1記載の発明は、真空槽中で所定の有機材料を蒸発させて基体上に有機薄膜を形成するための蒸発源と、該蒸発源から蒸発した上記有機材料の蒸気を所定の蒸発速度が得られるまで遮蔽し封じ込めておくためのシャッターと、該シャッターに付着した上記有機材料を加熱して再蒸発させるための加熱手段と、該シャッターから蒸発した上記有機材料を捕獲して収容する収容手段とを備えたことを特徴とする有機薄膜形成装置である。
【0014】
この場合、請求項2記載の発明のように、請求項1記載の発明において、収容手段が真空槽中の蒸気を冷却するための冷却手段を有することも効果的である。
【0015】
また、請求項3記載の発明のように、請求項2記載の発明において、液体窒素によって真空槽中の蒸気を冷却する冷却手段を有することも効果的である。
【0016】
さらに、請求項4記載の発明のように、請求項1乃至3のいずれかに記載の発明において、所定の有機材料が有機エレクトロルミネッセンス素子を形成するための有機化合物モノマーである場合に特に効果がある。
【0017】
一方、請求項5記載の発明は、真空蒸着用蒸発源から蒸発した所定の有機材料の蒸気をシャッターによって所定の蒸発速度が得られるまで遮蔽し封じ込めておく有機薄膜形成装置において、該シャッターに付着した上記有機材料を加熱して再蒸発させ、この有機材料を捕獲収容して再び蒸発材料として用いることを特徴とする有機蒸発材料の再利用方法である。
【0018】
この場合、請求項6記載の発明のように、請求項5記載の発明において、シャッターから再蒸発した有機材料の蒸気を冷却して捕獲収容することも効果的である。
【0019】
また、請求項7記載の発明のように、請求項6記載の発明において、液体窒素によって有機材料の蒸気を冷却することも効果的である。
【0020】
さらに、請求項8記載の発明のように、請求項5乃至7のいずれかに記載の発明において、所定の有機材料が有機エレクトロルミネッセンス素子を形成するための有機化合物モノマーである場合に特に効果がある。
【0021】
かかる構成を有する請求項1記載の発明の場合、シャッターに付着した有機材料を加熱手段によって加熱し、蒸発した有機材料を収容手段によって捕獲して収容するようにしたことから、有機材料用蒸発源と対向するシャッターの面を容易に有機材料の付着しない状態とすることができ、その結果、成膜時におけるシャッターの開閉の際の振動によって有機材料が粉体として舞い上がることがなくなり、また、頻繁に清掃する必要もなくなる。
【0022】
この場合、請求項2記載の発明のように、収容手段が真空槽中の蒸気を冷却するための冷却手段を有し、特に、請求項3記載の発明のように、液体窒素によって冷却するように構成すれば、有機材料の蒸気が捕獲されやすくなる。
【0023】
また、請求項5記載の発明のように、シャッターに付着した有機材料を加熱して再蒸発させ、この有機材料を捕獲収容して再び蒸発材料として用いた場合、このシャッターに付着した有機材料は、真空中で蒸発されたものであるため、精製されている場合が多く、純度の高い有機蒸発材料を得ることができる。
【0024】
この場合、請求項6記載の発明のように、シャッターから再蒸発した有機材料の蒸気を冷却して捕獲収容し、特に、請求項7記載の発明のように、液体窒素によって所定の有機材料の蒸気を冷却すれば、有機材料の蒸気が捕獲されやすくなり、有機材料の回収率が向上する。
【0025】
また、請求項4又は8記載の発明のように、所定の有機材料が有機エレクトロルミネッセンス素子を形成するための有機化合物モノマーである場合には、高価な材料を無駄にすることがなくなる。
【0026】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係る有機薄膜形成装置及び有機材料の再利用方法の好ましい実施の形態を図1〜4を参照して詳細に説明する。
【0027】
図3は、本実施の形態に係る有機薄膜形成装置の一例を示すものである。
図3に示すように、この有機薄膜形成装置1は、例えばクライオポンプ等の真空排気系(図示せず)に連結される真空槽2を有し、この真空槽2の下部に設けられる複数の導入部2A、2Bに、有機材料用蒸発源3(3A、3B)が仕切板15を挟んでそれぞれ配設される。
【0028】
各有機材料用蒸発源3A、3Bの内部には、例えば、有機EL素子を作製するための有機化合物オリゴマーとして、Alq3[Tris(8-hydroxyquinoline) aluminium, sublimed]を初め、種々のものが充填される。
【0029】
【化1】
Figure 0004059946
【0030】
各有機材料用蒸発源3A、3Bの上側近傍には、有機材料の蒸気を遮断し封じこめておくためのシャッター4(4A、4B)がそれぞれ設けられ、これらのシャッター4A、4Bの上部には、後述する有機材料を加熱するためのヒーター5(5A、5B)がそれぞれ設けられている。なお、各シャッター4A、4Bの上方近傍には、成膜速度を測定するための膜厚モニター6(6A、6B)が設けられる。
【0031】
また、各有機材料用蒸発源3A、3Bの周囲には、シュラウド7が設けられている。このシュラウド7は、後述するようにその内部に液体窒素等が循環されるもので、各有機材料用蒸発源3A、3B周辺の水分及びシャッター4A、4Bから再蒸発する有機材料14の蒸気を捕獲する機能を有するものである。
【0032】
一方、真空槽2の上部には、蒸着膜を成膜すべき基板8が配置される。そして、基板8の上方に、加熱用の例えば温水パイプ9を有する加熱部10が、基板8に密着するように設けられる。さらに、基板8の下方には、有機材料の蒸気を遮るためのメインシャッター11が設けられる。
【0033】
また、真空槽2の側壁の近傍には、基板8及びメインシャッター11を取り囲むようにシュラウド12が設けられる。このシュラウド12は、その内部に液体窒素等が循環されるもので、基板8の周辺の水分及び真空槽2の内壁から再蒸発する有機材料14の蒸気を捕獲する機能を有するものである。
【0034】
さらに、真空槽2には、窒素ガス等の不活性ガスを真空槽2内に導入するためのガス導入手段13が連結されている。
【0035】
図1は、本実施の形態の要部を示すもので、図1(a)は、一つのシャッター4近傍の構成を示す概略構成図、図1(b)は、シャッター4に付着した有機材料の再利用方法を示す説明図である。
【0036】
図1(a)に示すように、有機材料用蒸発源3の上方に設けられるシャッター4は、アーム40によって支柱41に取り付けられ、水平方向に回動自在となっている。シャッター4の上面に設けられるヒーター5は、リード線50を介して真空槽2の外部に設けた電源装置51に接続されている。
【0037】
シャッター4は、例えば、チタン(Ti)、モリブデン(Mo)等の高融点金属製の円盤状の部材からなり、その下面には鏡面が形成されている。
【0038】
一方、図1(b)に示すように、有機材料用蒸発源の周囲に設けられるシュラウド7の内部には、例えば、液体窒素等の冷却媒体71が充填されている。また、シュラウド7の上面には、シャッター4の下面に付着した有機材料14を回収するための凹部からなる収容部70が形成されている。
【0039】
そして、図2に示すように、シャッター4は、有機材料用蒸発源3の上方とシュラウド7の収容部70の上方との間を移動するように構成されている。この場合、シャッター4はシュラウド7の収容部70にごく近接するように配される。
【0040】
また、図1及び図2に示すように、シュラウド7の収容部70はシャッター4の直径より大きい直径を有する円形形状を有し、かつ、有機材料用蒸発源3の口径より大きい直径を有するように構成される。
【0041】
図4は、有機材料用蒸発源3、シャッター4及びシュラウド7の収容部70の位置関係を示すものである。
図4に示すように、真空槽2内において、複数(図4に示す例では3つ)の同じ構成の有機材料用蒸発源3(3A、3B、3C)、シャッター4(4A、4B、4C)、シュラウド7(7A、7B、7C)が設けられる場合には、各有機材料用蒸発源3A、3B、3C、シャッター4A、4B、4C、シュラウド7A、7B、7Cの収容部70A、70B、70Cが同芯円上に配置される。そして、各シャッター4A、4B、4Cは、支柱41の回転により有機材料用蒸発源3A、3B、3Cの上方と上記収容部70A、70B、70Cの上方との間を移動するように構成される。
【0042】
このような構成を有する本実施の形態において、基板8上に有機薄膜を形成する場合には、真空槽2内の真空排気を行って真空槽2内を所定の圧力にした後、シャッター及びメインシャッター11を閉じた状態で各有機材料用蒸発源3内の有機材料を所定の温度に加熱する。
【0043】
そして、各有機材料用蒸発源3内の有機材料が所定の温度に達して所要の蒸発量が得られた後に、シャッター4を開くとともにメインシャッター11を開き、所定の析出速度で基板8上に有機材料を蒸着して堆積させる。そして、所定の厚みの有機薄膜を形成した後にシャッター4及びメインシャッター11を閉じる。
【0044】
このような真空蒸着を繰り返すと、図1に示すように、シャッター4の下面に有機材料14が付着して堆積する。このシャッター4に付着した有機材料は、次のような方法によって回収し、再利用することができる。
【0045】
まず、真空槽2の内部の圧力を大気圧に戻し、図2に示すように、シャッター4を有機材料用蒸発源3の上方から移動してシュラウド7の収容部70の上方に配置させる。
【0046】
そして、シャッター4の上面に設けたヒーター5に通電してシャッター4を加熱し、その下面に付着した有機材料14を加熱する。この場合、有機材料14が蒸発する温度(例えば、Alq3 の場合は350℃程度)で有機材料14を加熱する。
【0047】
この蒸発した有機材料14の蒸気は、シュラウド7の表面によって冷却され、固体状態となってシュラウド7の収容部70内に捕獲される。そして、この有機材料14を回収すれば、再度蒸着用の有機材料として用いることができる。
【0048】
このような構成を有する本実施の形態によれば、容易にシャッター4の下面を有機材料14の付着しない状態とすることができ、その結果、成膜時におけるシャッター4の開閉の際の振動によって有機材料14が粉体として舞い上がることはない。このため、常に均一な厚みの蒸着膜を得ることができる。また、シャッター4の清掃を行う頻度を少なくすることができる。
【0049】
また、シャッター4の下面に付着した有機材料14は、真空中で蒸発されたものであるため精製されている場合が多く、純度の高い有機蒸発材料を得ることができる。したがって、これを再利用することにより、より高品質の有機薄膜を形成することができる。
【0050】
一方、有機EL薄膜を形成するための有機材料は高価なものもあるが、本実施の形態によれば、蒸発材料を無駄にすることがなく、ひいてはコストダウンを図ることができる。
【0051】
なお、本発明は上述の実施の形態に限られることなく、種々の変更を行うことができる。
例えば、シャッター4上に設けられるヒーター5のパターンは種々の形状とすることができる。また、ヒーター5として、赤外線ランプヒーターを始め種々のものを用いることができる。
【0052】
また、有機材料14を収容するための容器をシュラウド7と別に設けることもできるが、上述した実施の形態のように、シュラウド7の上面に収容部70を設けるようにすれば、よりコンパクトな構成とすることができる。
【0053】
さらに、上述の実施の形態においては、シュラウド7の内部に冷却媒体71として液体窒素を循環させるようにしたが、例えば、冷却水を循環させるように構成してもよい。
【0054】
さらにまた、シャッター4を加熱して有機材料14を回収する時期は、任意のものとすることができる。ただし、真空中では有機材料14の捕獲が困難であるため、例えば、メンテナンス時など大気中でシャッター4を加熱することが好ましい。
【0055】
さらにまた、本発明は有機EL素子を作製するための装置のみならず、例えば、有機センサーを作製する装置や蒸着重合により高分子薄膜を形成する装置にも適用することができる。もっとも、本発明は高価な有機材料を用いる有機EL素子作製装置において特に効果が大きいものである。
【0056】
【発明の効果】
以上述べたように本発明によれば、シャッターの有機材料用蒸発源に対向する面を容易に有機材料の付着しない状態とすることができ、成膜時におけるシャッターの開閉の際の振動による有機材料の舞い上がりを防止することができる。したがって、本発明によれば、常に均一な厚みの蒸着膜を得ることができ、また、シャッターの清掃を行う頻度を少なくすることができる。
【0057】
さらに、シャッターに付着した有機材料は、真空中で蒸発されたものであるため精製されている場合が多く、純度の高い有機蒸発材料を得ることができる。したがって、これを再利用することにより、より高品質の有機薄膜を形成することができる。
【0058】
一方、有機EL薄膜を形成するための有機材料は高価なものもあるが、本発明を用いれば、蒸発材料を無駄にすることがなく、ひいてはコストダウンを図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、本発明に係る有機薄膜形成装置の実施の形態の要部を示すもので、図1(a)はシャッター近傍の構成を示す概略構成図、図1(b)はシャッターに付着した有機材料の再利用方法を示す説明図である。
【図2】同実施の形態におけるシャッターの移動を示す説明図である。
【図3】同実施の形態の全体構成を示す概略構成図である。
【図4】同実施の形態における有機材料用蒸発源、シャッター及びシュラウドの収容部の位置関係を示す説明図である。
【図5】従来の有機薄膜形成装置の概略構成図である。
【符号の説明】
1……有機薄膜形成装置 2……真空槽 3(3A、3B、3C)……有機材料用蒸発源 4(4A、4B、4C)……シャッター 5(5A、5B、5C)……ヒーター 6A、6B……膜厚モニター 7(7A、7B、7C)……シュラウド 8……基板 9……温水パイプ 10……加熱部 11……メインシャッター 12……シュラウド 14……有機材料 50……リード線 51……電源装置 70(70A、70B、70C)……収容部 71……冷却媒体

Claims (8)

  1. 真空槽中で所定の有機材料を蒸発させて基体上に有機薄膜を形成するための蒸発源と、
    該蒸発源から蒸発した上記有機材料の蒸気を所定の蒸発速度が得られるまで遮蔽し封じ込めておくためのシャッターと、
    該シャッターに付着した上記有機材料を加熱して再蒸発させるための加熱手段と、
    該シャッターから蒸発した上記有機材料を捕獲して収容する収容手段とを備えたことを特徴とする有機薄膜形成装置。
  2. 収容手段が真空槽中の蒸気を冷却するための冷却手段を有することを特徴とする請求項1記載の有機薄膜形成装置。
  3. 液体窒素によって真空槽中の蒸気を冷却する冷却手段を有することを特徴とする請求項2記載の有機薄膜形成装置。
  4. 所定の有機材料が有機エレクトロルミネッセンス素子を形成するための有機化合物モノマーであることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項記載の有機薄膜形成装置。
  5. 真空蒸着用蒸発源から蒸発した所定の有機材料の蒸気をシャッターによって所定の蒸発速度が得られるまで遮蔽し封じ込めておく有機薄膜形成装置において、該シャッターに付着した上記有機材料を加熱して再蒸発させ、この有機材料を捕獲収容して再び蒸発材料として用いることを特徴とする有機蒸発材料の再利用方法。
  6. シャッターから再蒸発した有機材料の蒸気を冷却して捕獲収容することを特徴とする請求項5記載の有機蒸発材料の再利用方法。
  7. 液体窒素によって有機材料の蒸気を冷却することを特徴とする請求項6記載の有機蒸発材料の再利用方法。
  8. 所定の有機材料が有機エレクトロルミネッセンス素子を形成するための有機化合物モノマーであることを特徴とする請求項5乃至7のいずれか1項記載の有機蒸発材料の再利用方法。
JP34265396A 1996-12-06 1996-12-06 有機薄膜形成装置及び有機材料の再利用方法 Expired - Lifetime JP4059946B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP34265396A JP4059946B2 (ja) 1996-12-06 1996-12-06 有機薄膜形成装置及び有機材料の再利用方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP34265396A JP4059946B2 (ja) 1996-12-06 1996-12-06 有機薄膜形成装置及び有機材料の再利用方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH10168559A JPH10168559A (ja) 1998-06-23
JP4059946B2 true JP4059946B2 (ja) 2008-03-12

Family

ID=18355445

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP34265396A Expired - Lifetime JP4059946B2 (ja) 1996-12-06 1996-12-06 有機薄膜形成装置及び有機材料の再利用方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4059946B2 (ja)

Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW490714B (en) 1999-12-27 2002-06-11 Semiconductor Energy Lab Film formation apparatus and method for forming a film
JP4785269B2 (ja) * 2000-05-02 2011-10-05 株式会社半導体エネルギー研究所 発光装置の作製方法及び成膜装置のクリーニング方法
US20020011205A1 (en) 2000-05-02 2002-01-31 Shunpei Yamazaki Film-forming apparatus, method of cleaning the same, and method of manufacturing a light-emitting device
JP2002190389A (ja) * 2000-12-22 2002-07-05 Nippon Steel Chem Co Ltd 有機el素子の製造方法及び装置
SG114589A1 (en) 2001-12-12 2005-09-28 Semiconductor Energy Lab Film formation apparatus and film formation method and cleaning method
TWI262034B (en) 2002-02-05 2006-09-11 Semiconductor Energy Lab Manufacturing system, manufacturing method, method of operating a manufacturing apparatus, and light emitting device
TWI286044B (en) 2002-02-22 2007-08-21 Semiconductor Energy Lab Light-emitting device and method of manufacturing the same, and method of operating manufacturing apparatus
US7309269B2 (en) 2002-04-15 2007-12-18 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method of fabricating light-emitting device and apparatus for manufacturing light-emitting device
TWI336905B (en) 2002-05-17 2011-02-01 Semiconductor Energy Lab Evaporation method, evaporation device and method of fabricating light emitting device
US20040086639A1 (en) * 2002-09-24 2004-05-06 Grantham Daniel Harrison Patterned thin-film deposition using collimating heated mask asembly
KR20040037661A (ko) * 2002-10-29 2004-05-07 주식회사 엘리아테크 유기물 증착 장치
JP5072184B2 (ja) 2002-12-12 2012-11-14 株式会社半導体エネルギー研究所 成膜方法
JP4830280B2 (ja) * 2004-09-24 2011-12-07 コニカミノルタエムジー株式会社 放射線画像変換パネルの製造装置及び放射線画像変換パネルの製造方法
EP2000299A4 (en) 2006-03-24 2009-08-05 Konica Minolta Med & Graphic TRANSPARENT BARRIER SHEET AND METHOD OF PRODUCING SAME
EP2000300A4 (en) 2006-03-24 2009-08-05 Konica Minolta Med & Graphic TRANSPARENT BARRIER SHEET AND METHOD FOR PRODUCING SAME
JPWO2007111075A1 (ja) 2006-03-24 2009-08-06 コニカミノルタエムジー株式会社 透明バリア性シート及び透明バリア性シートの製造方法
EP2000298A1 (en) 2006-03-24 2008-12-10 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. Transparent barrier sheet and method for producing transparent barrier sheet
WO2007111074A1 (ja) 2006-03-24 2007-10-04 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. 透明バリア性シート及び透明バリア性シートの製造方法
JP5336006B2 (ja) 2010-12-23 2013-11-06 シャープ株式会社 成膜材料の回収方法
JP5319022B2 (ja) 2010-12-27 2013-10-16 シャープ株式会社 蒸着装置および回収装置
JP2014132101A (ja) * 2011-04-11 2014-07-17 Tokyo Electron Ltd 成膜装置及び成膜方法
KR20140077625A (ko) * 2012-12-14 2014-06-24 삼성디스플레이 주식회사 유기물 증착 장치
CN110438454A (zh) * 2019-08-05 2019-11-12 福建华佳彩有限公司 一种具有加热装置的蒸镀坩埚

Also Published As

Publication number Publication date
JPH10168559A (ja) 1998-06-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4059946B2 (ja) 有機薄膜形成装置及び有機材料の再利用方法
US6682600B2 (en) Reusable mass-sensor in manufacture of organic light-emitting devices
TW552307B (en) Heated and cooled vacuum chamber shield
EP1130129B1 (en) Source for thermal physical vapor deposition of organic electroluminescent layers
US20030101937A1 (en) Thermal physical vapor deposition source for making an organic light-emitting device
JP5186243B2 (ja) 蒸気発生装置、蒸着装置
TW201339336A (zh) 蒸發源及使用彼之真空蒸鍍裝置
KR20070043541A (ko) 박막 증착장치 및 이를 이용한 박막 증착방법
US3667424A (en) Multi-station vacuum apparatus
JP3623587B2 (ja) 真空蒸着装置およびその真空蒸着装置を用いた真空蒸着方法
US4472453A (en) Process for radiation free electron beam deposition
JP2010165570A (ja) 膜厚センサー及び成膜装置
JP2004259634A (ja) 有機elパネルの製造方法、及びその有機elパネルの製造方法で用いられる有機層製膜装置
JPH10195641A (ja) 有機薄膜形成装置
JPH05214537A (ja) 固体昇華用の気化器
JPH0853752A (ja) 真空成膜装置およびその減圧方法
JPH09209126A (ja) 真空蒸着装置
KR100658731B1 (ko) 증발원 및 이를 구비하는 유기물 증착장치
JP6432874B1 (ja) 精製装置
JPS61291965A (ja) 超高真空チヤンバ−
JP3736938B2 (ja) 有機el素子の製造方法、有機薄膜形成装置
JPH0238923Y2 (ja)
JP2012153923A (ja) 真空蒸着装置
JPH0665465U (ja) 蒸着装置
JP3671022B2 (ja) 薄膜堆積用真空蒸着装置

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20061019

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20061031

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20061207

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20061207

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20071218

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20071219

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101228

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101228

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131228

Year of fee payment: 6

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term