WO2010079658A1 - レーザ加工装置 - Google Patents

レーザ加工装置 Download PDF

Info

Publication number
WO2010079658A1
WO2010079658A1 PCT/JP2009/070401 JP2009070401W WO2010079658A1 WO 2010079658 A1 WO2010079658 A1 WO 2010079658A1 JP 2009070401 W JP2009070401 W JP 2009070401W WO 2010079658 A1 WO2010079658 A1 WO 2010079658A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
point
laser
optical system
workpiece
processing apparatus
Prior art date
Application number
PCT/JP2009/070401
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
福満 憲志
真吾 大石
青島 紳一郎
Original Assignee
浜松ホトニクス株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 浜松ホトニクス株式会社 filed Critical 浜松ホトニクス株式会社
Priority to CN200980153474.7A priority Critical patent/CN102271859B/zh
Priority to EP09837544.7A priority patent/EP2388103B1/en
Priority to US13/143,604 priority patent/US8841580B2/en
Priority to KR1020117011528A priority patent/KR101798172B1/ko
Publication of WO2010079658A1 publication Critical patent/WO2010079658A1/ja

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/36Removing material
    • B23K26/38Removing material by boring or cutting
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/06Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
    • B23K26/073Shaping the laser spot
    • B23K26/0736Shaping the laser spot into an oval shape, e.g. elliptic shape
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/03Observing, e.g. monitoring, the workpiece
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/06Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
    • B23K26/0604Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by a combination of beams
    • B23K26/0613Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by a combination of beams having a common axis
    • B23K26/0617Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by a combination of beams having a common axis and with spots spaced along the common axis
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/06Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
    • B23K26/064Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by means of optical elements, e.g. lenses, mirrors or prisms
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/06Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
    • B23K26/073Shaping the laser spot
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/06Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
    • B23K26/073Shaping the laser spot
    • B23K26/0738Shaping the laser spot into a linear shape
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/08Devices involving relative movement between laser beam and workpiece
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/50Working by transmitting the laser beam through or within the workpiece
    • B23K26/53Working by transmitting the laser beam through or within the workpiece for modifying or reforming the material inside the workpiece, e.g. for producing break initiation cracks

Definitions

  • the present invention relates to a laser processing apparatus.
  • the laser processing apparatus as described above is extremely effective because a processing region can be formed so as to extend in one direction with respect to the processing target, and further technical development is expected.
  • the present invention has been made in view of such circumstances, and an object thereof is to provide a laser processing apparatus capable of forming a processing region in a desired shape.
  • a laser processing apparatus includes a laser light source that emits laser light, a support that supports a workpiece that is transparent to the laser light, and parallel light that is transmitted through an optical axis.
  • a first optical system that diverges or converges laser light emitted from a laser light source in a predetermined direction, and converges parallel light at one point on the optical axis.
  • a laser beam emitted from the first optical system is converged to a first point in a first direction orthogonal to the optical axis, and a second orthogonal to the optical axis and the first direction.
  • a second optical system that converges to a second point in the direction, a first moving mechanism that moves the first optical system relative to the second optical system along the optical axis, and a second Second moving the support base relative to the optical system along the optical axis
  • a first moving mechanism and a second moving mechanism the first point is positioned outside the workpiece, and the second point is positioned on the outer surface or inside of the workpiece.
  • the processing object is irradiated with laser light.
  • the cross-sectional shape of the laser beam is a long shape extending in the second direction at the first point, and is a long shape extending in the first direction at the second point. Therefore, the first movement mechanism and the second movement mechanism are used to position the first point on the outside of the workpiece and to place the second point on the outer surface or inside of the workpiece.
  • An elongated processing region extending in the first direction can be formed at a portion where the second point is located on the outer surface or inside of the object. Therefore, according to this laser processing apparatus, it is possible to form a processing region in a desired shape.
  • the second point is preferably a point at which a light beam that has not been diverged or converged by the first optical system among the light beam bundle of the laser light is converged by the second optical system.
  • the width of the processing region in the second direction is increased. Can be thinned.
  • the second moving mechanism moves the support base relative to the second optical system in the first direction.
  • the machining area has a long shape extending in the first direction
  • the machining area can be efficiently formed on the outer surface or inside of the workpiece along the machining line parallel to the first direction. it can.
  • the second moving mechanism moves the support base relative to the second optical system in the second direction.
  • the processing region has an elongated shape extending in the first direction
  • a wide processing region can be formed on the outer surface or inside of the processing object along the processing line perpendicular to the first direction. it can.
  • An optical member that reflects laser light is disposed on the optical axis between the first optical system and the second optical system, and the optical member transmits observation light for observing the workpiece. It is preferable to make it. According to this configuration, the object to be processed can be observed via the second optical system having a function of converging parallel light to one point on the optical axis without being affected by the first optical system. .
  • FIG. 1 is a configuration diagram of an embodiment of a laser processing apparatus according to the present invention.
  • a laser processing apparatus 1 includes a laser oscillator (laser light source) 2 that emits a laser beam L1, and a support base 3 that supports a workpiece S that is transparent to the laser beam L1.
  • laser oscillator laser light source
  • support base 3 that supports a workpiece S that is transparent to the laser beam L1.
  • the XYZ stage 7 supports not only the optical axis direction of the objective lens 5, that is, the Z-axis direction, but also the X-axis direction orthogonal to the Z-axis direction and the Y-axis direction orthogonal to the Z-axis direction and the X-axis direction. 3 is moved.
  • the laser processing apparatus 1 further receives an illumination unit 8 that projects an observation light L2 for observing the processing object S, and a reflected light of the observation light L2 reflected by the processing object S to receive the processing object. And an imaging unit 9 that acquires an image of S. Thereby, the surface, the inside, or the back surface of the workpiece S can be observed.
  • the laser light L 1 emitted from the laser oscillator 2 travels on the optical axis of the cylindrical lens 4, is then reflected by the dichroic mirror (optical member) 11, and travels on the optical axis of the objective lens 5. It advances and is irradiated to the workpiece S on the support 3.
  • the observation light L ⁇ b> 2 projected by the illumination unit 8 is reflected by the dichroic mirror 12, passes through the dichroic mirror 11, travels on the optical axis of the objective lens 5, and is a workpiece on the support base 3. S is irradiated.
  • the reflected light of the observation light L2 reflected by the processing object S travels on the optical axis of the objective lens 5, passes through the dichroic mirrors 11 and 12, and is received by the imaging unit 9.
  • the laser processing apparatus 1 In the laser processing apparatus 1, the laser oscillator 2, the cylindrical lens 4, the objective lens 5, the moving mechanism 6, the illumination unit 8, the imaging unit 9, the dichroic mirror 11, and the dichroic mirror 12 are arranged in the housing, and laser irradiation is performed.
  • a device 10 is configured.
  • the laser processing apparatus 1 is provided with a control unit 20 that controls the entire apparatus such as the laser oscillator 2, the moving mechanism 6, the illumination unit 8, the imaging unit 9, and the XYZ stage 7.
  • the control unit 20 controls the moving mechanism 6 to move the cylindrical lens 4 relative to the objective lens 5 along the optical axis, or supports the support 3 (that is, the object to be processed) with respect to the objective lens 5.
  • the XYZ stage 7 is controlled to move S) relatively along the optical axis.
  • the distance between the objective lens 5 and the support base 3 may be adjusted by moving the support base 3 in the Z-axis direction (optical axis direction).
  • the laser irradiation device 10 including the lens 5 or the objective lens 5 may be moved in the Z-axis direction, or both may be controlled to move.
  • the control unit 20 controls the laser oscillator 2 and the illumination unit 8 or operates the XYZ stage 7 based on the image acquired by the imaging unit 9 to control the focal position of the laser light L1 with respect to the workpiece S.
  • 2 and 3 are diagrams showing an optical path of laser light in the laser processing apparatus of FIG. 2 and 3, the illustration of the dichroic mirror 11 is omitted for convenience of explanation.
  • the cylindrical lens 4 diverges the laser light L1 emitted from the laser oscillator 2 in the Y-axis direction (predetermined direction) (that is, in the YZ plane), and the X-axis direction ( That is, it does not diverge and converge in the ZX plane.
  • the objective lens 5 converges the laser light L1 emitted from the cylindrical lens 4 to the first point P1 in the Y-axis direction (first direction) (that is, in the YZ plane), and the X-axis direction (first 2) (that is, in the ZX plane), it converges to the second point P2.
  • the cross-sectional shape of the laser beam L1 becomes a long shape extending in the X-axis direction at the point P1, and becomes a long shape extending in the Y-axis direction at the point P2.
  • the focal length of the cylindrical lens 4 is A
  • the divergence point distance (the distance between the focal point of the cylindrical lens 4 and the principal point of the objective lens 5)
  • the focal length of the objective lens 5 is C
  • the refraction of the workpiece S is performed.
  • the focal point distance in the YZ plane (the distance between the principal point of the objective lens 5 and the first point P1) is the focal point in the Z1 and ZX planes.
  • the light spot distance (distance between the principal point of the objective lens 5 and the second point P2) Z2 is expressed by the following equations (1) and (2), respectively.
  • Z1 (GH) + d + (nH-d) / n
  • Z2 (CE) + nE (2)
  • n 1.
  • the focal point distance Z1 in the YZ plane depends on the divergence point distance B, and the focal point distance Z2 in the ZX plane does not depend on the divergence point distance B.
  • the focal point distance Z2 in the ZX plane does not change, and the focal point distance Z1 in the YZ plane is extended.
  • FIGS. 4 and 5 are views showing a processing object in which a processing region is formed by the laser processing apparatus of FIG.
  • the laser beam L ⁇ b> 1 that is a pulse wave is irradiated along the processing line PL of the processing target S that is a glass substrate, and the crack region is the starting point of cutting.
  • CR is formed inside the workpiece S as a processing region.
  • the XYZ stage 7 causes the second point P2 to be located inside the workpiece S (a predetermined distance from the surface of the workpiece S).
  • the support base 3 is moved in the Z-axis direction (see the above formula (2)).
  • the moving mechanism 6 causes the cylindrical lens 4 to move to the optical axis so that the first point P1 is located outside (below) the workpiece S. (See the above formula (1)).
  • the peak power density of the laser light L1 at the second point P2 positioned inside the processing object S exceeds a processing threshold (for example, a threshold at which multiphoton absorption or other light absorption can occur).
  • a processing threshold for example, a threshold at which multiphoton absorption or other light absorption can occur.
  • the laser beam L1 is emitted from the laser oscillator 2, and the support base 3 is moved in the Y-axis direction by the XYZ stage 7, and the laser beam L1 is irradiated along the processing line PL.
  • a crack region CR is formed for each irradiation of one pulse of the laser light L1 in the portion where the point P2 is located inside the workpiece S.
  • each crack region CR is a long shape in which the cross-sectional shape of the laser beam L1 extends in the Y-axis direction at the point P2, so when viewed from the incident direction of the laser beam L1 with respect to the workpiece S, It becomes a long shape extending along the processing line PL.
  • the crack region CR becomes a starting point of cutting, so the processing object S can be accurately moved along the processing line PL. Can be cut. And since the crack area
  • the cross-sectional shape of the laser beam L1 is a long shape extending in the X-axis direction at the first point P1, and a long shape extending in the Y-axis direction at the second point P2. It becomes. Therefore, the point P2 is positioned inside the workpiece S by positioning the point P1 outside the workpiece S and the point P2 inside the workpiece S by the moving mechanism 6 and the XYZ stage 7. An elongated processing region extending in the Y-axis direction can be formed in the portion that has been made. Therefore, according to the laser processing apparatus 1, it is possible to form a processing region in a desired shape.
  • the point at which the beam bundle in the XZ plane that is not diverged by the cylindrical lens 4 out of the beam bundle of the laser beam L1 is converged by the objective lens 5 is defined as a second point P2. Processing is performed at the point P2 (see FIG. 3B). For this reason, a point where the ray bundle in the YZ plane diverged by the cylindrical lens 4 is converged by the objective lens 5 is defined as a point P2, and the width of the processing region in the X-axis direction is compared with the case where the processing is performed at the point P2. Can be made thinner.
  • the point P2 is a point where the light bundle in the YZ plane diverged by the cylindrical lens 4 is converged by the objective lens 5, and the point P2
  • the processing may be performed by the above.
  • the XYZ stage 7 moves the support base 3 in the Y-axis direction with respect to the objective lens 5.
  • the machining area has a long shape extending in the Y-axis direction
  • the machining area can be efficiently formed inside the workpiece S along the machining line PL parallel to the Y-axis direction.
  • the processing region becomes a long shape extending in the Y-axis direction, so that the processing line PL parallel to the X-axis direction is obtained.
  • a wide processing region can be formed inside the processing object S along the line.
  • a dichroic mirror 11 that reflects the laser light L1 and transmits the observation light L2 is disposed on the optical axis between the cylindrical lens 4 and the objective lens 5. Thereby, the surface, the inside, or the back surface of the workpiece S can be observed through the objective lens 5 having the function of converging parallel light to one point on the optical axis without being affected by the cylindrical lens 4. .
  • FIG. 6 is a view showing a photograph of a processing object in which a crack region is formed by the embodiment of the laser processing apparatus according to the present invention.
  • 6A is a cross-sectional photograph of the object to be processed along the processing line
  • FIG. 6B is a photograph when the observation light is focused on the surface of the object to be processed
  • FIG. 6C is the object to be processed.
  • (d) is an observation on the portion where the first point P1 is located inside the workpiece. It is a photograph when the light is focused.
  • the processing conditions in this example are as follows.
  • Polarization characteristics linearly polarized light
  • Transmittance for laser light 70%
  • a long crack region CR2 extending in the Y-axis direction is formed in the portion where the second point P2 is positioned inside the workpiece.
  • an elongated crack region CR1 extending in the X-axis direction is formed in the portion where the first point P1 is positioned inside the workpiece.
  • the point P1 is located outside the workpiece, and the point P2 is located inside the workpiece, thereby preventing the machining of the workpiece at the point P1.
  • the present invention is not limited to the embodiment described above.
  • a cylindrical lens 4 having a function of converging parallel light in a predetermined direction orthogonal to the optical axis by a cylindrical convex surface may be used.
  • the laser beam L1 may be incident on the objective lens 5 in a diverging state, or the laser beam L1 is incident on the objective lens 5 in a converged state as shown in FIG. You may let them.
  • the objective lens 5 is moved, or both the cylindrical lens 4 and the objective lens 5 are moved. You may apply what moves relatively along an axis
  • the objective lens 5 (or the laser irradiation apparatus 10 including the objective lens 5) is moved, or the support base 3 and the objective lens 5 (or the objective lens 5).
  • a device that moves the support 3 relative to the objective lens 5 along the optical axis may be applied, such as moving both of the laser irradiation devices 10).
  • optical systems such as those composed of a plurality of lenses may be used instead of the cylindrical lens 4 as long as it has a function of diverging or converging parallel light in a predetermined direction orthogonal to the optical axis. May be.
  • other optical systems such as one constituted by a plurality of lenses may be applied instead of the objective lens 5.
  • the use of the crack region is not limited to that which is the starting point of cutting.
  • Other applications include optical waveguides, micro-channels, micro-TAS (Total Analysis Systems), etc. that are configured by a plurality of continuous crack regions.
  • the processing region may be formed on the outer surface of the processing object S by positioning the second point P2 on the outer surface (for example, the front surface or the back surface) of the processing object S.
  • the processing area is not limited to the crack area.
  • the processing region includes a crack region and a dielectric breakdown region (for example, when the processing target is made of a piezoelectric material such as glass or LiTaO 3 ), and a melt processing region (for example, the processing target is made of a semiconductor material such as silicon). ), A refractive index change region (for example, when the object to be processed is made of glass) and the like, and there are also regions where these are mixed.
  • SYMBOLS 1 Laser processing apparatus, 2 ... Laser oscillator (laser light source), 3 ... Support stand, 4 ... Cylindrical lens (1st optical system), 5 ... Objective lens (2nd optical system), 6 ... Moving mechanism (1st) 1... XYZ stage (second movement mechanism), 11... Dichroic mirror (optical member).

Abstract

 シリンドリカルレンズ4は、レーザ光L1をY軸方向(すなわち、YZ平面内) において発散させ、X軸方向(すなわち、ZX平面内)において発散及び収束させない。そして、対物レンズ5は、シリンドリカルレンズ4から出射されたレーザ光L1をY軸方向において点P1に収束させ、X軸方向において点P2に収束させる。これにより、レーザ光L1の断面形状は、点P1でX軸方向に延びる長尺形状となり、点P2でY軸方向に延びる長尺形状となる。そのため、点P1を加工対象物Sの外部に位置させ、点P2を加工対象物Sの内部に位置させることで、加工対象物Sの内部において点P2が位置させられた部分に、Y軸方向に延びる長尺形状の加工領域を形成することができる。

Description

レーザ加工装置
 本発明は、レーザ加工装置に関する。
 従来のレーザ加工装置として、集光点でのレーザ光の強度が加工閾値を超え、且つ集光点での断面形状が楕円形状等の長尺形状となるように、レーザ光を加工対象物に照射するものが知られている(例えば、特許文献1,2参照)。
特表平10-506087号公報 特開2007-75886号公報
 上述したようなレーザ加工装置は、加工対象物に対して一方向に延びるように加工領域を形成することができることから、極めて有効なものであり、更なる技術開発が期待されている。
 本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、所望の形状に加工領域を形成することができるレーザ加工装置を提供することを目的とする。
 上記目的を達成するために、本発明に係るレーザ加工装置は、レーザ光を出射するレーザ光源と、レーザ光に対して透過性を有する加工対象物を支持する支持台と、平行光を光軸と直交する所定の方向において発散又は収束させる機能を有し、レーザ光源から出射されたレーザ光を所定の方向において発散又は収束させる第1の光学系と、平行光を光軸上の一点に収束させる機能を有し、第1の光学系から出射されたレーザ光を、光軸と直交する第1の方向において第1の点に収束させ、光軸及び第1の方向と直交する第2の方向において第2の点に収束させる第2の光学系と、第2の光学系に対して第1の光学系を光軸に沿って相対的に移動させる第1の移動機構と、第2の光学系に対して支持台を光軸に沿って相対的に移動させる第2の移動機構と、を備え、第1の移動機構及び第2の移動機構によって、第1の点を加工対象物の外部に位置させ、第2の点を加工対象物の外表面又は内部に位置させて、加工対象物にレーザ光を照射することを特徴とする。
 このレーザ加工装置では、レーザ光の断面形状が第1の点で第2の方向に延びる長尺形状となり、第2の点で第1の方向に延びる長尺形状となる。そのため、第1の移動機構及び第2の移動機構により、第1の点を加工対象物の外部に位置させ、第2の点を加工対象物の外表面又は内部に位置させることで、加工対象物の外表面又は内部において第2の点が位置させられた部分に、第1の方向に延びる長尺形状の加工領域を形成することができる。従って、このレーザ加工装置によれば、所望の形状に加工領域を形成することが可能となる。
 また、第2の点は、レーザ光の光線束のうち第1の光学系によって発散又は収束させられなかった光線束が第2の光学系によって収束させられる点であることが好ましい。この場合、第2の点が、第1の光学系によって発散又は収束させられた光線束が第2の光学系によって収束させられる点である場合に比べ、加工領域の第2の方向の幅を細くすることができる。
 また、第2の移動機構は、第2の光学系に対して支持台を第1の方向に相対的に移動させることが好ましい。この場合、加工領域が第1の方向に延びる長尺形状となることから、第1の方向に平行な加工ラインに沿って加工対象物の外表面又は内部に加工領域を効率良く形成することができる。或いは、第2の移動機構は、第2の光学系に対して支持台を第2の方向に相対的に移動させることが好ましい。この場合、加工領域が第1の方向に延びる長尺形状となることから、第1の方向に垂直な加工ラインに沿って加工対象物の外表面又は内部に幅広の加工領域を形成することができる。
 また、第1の光学系と第2の光学系との間の光軸上には、レーザ光を反射する光学部材が配置され、光学部材は、加工対象物を観察するための観察光を透過させることが好ましい。この構成によれば、第1の光学系の影響を受けることなく、平行光を光軸上の一点に収束させる機能を有する第2の光学系を介して、加工対象物を観察することができる。
 本発明によれば、所望の形状に加工領域を形成することが可能となる。
本発明に係るレーザ加工装置の一実施形態の構成図である。 図1のレーザ加工装置におけるレーザ光の光路を示す図である。 図1のレーザ加工装置におけるレーザ光の光路を示す図である。 図1のレーザ加工装置によって加工領域が形成された加工対象物を示す図である。 図1のレーザ加工装置によって加工領域が形成された加工対象物を示す図である。 本発明に係るレーザ加工装置の実施例によってクラック領域が形成された加工対象物の写真を示す図である。 本発明に係るレーザ加工装置の他の実施形態におけるレーザ光の光路を示す図である。 本発明に係るレーザ加工装置の他の実施形態におけるレーザ光の光路を示す図である。
 以下、本発明の好適な実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、各図において同一又は相当部分には同一符号を付し、重複する説明を省略する。
 図1は、本発明に係るレーザ加工装置の一実施形態の構成図である。図1に示されるように、レーザ加工装置1は、レーザ光L1を出射するレーザ発振器(レーザ光源)2と、レーザ光L1に対して透過性を有する加工対象物Sを支持する支持台3と、円柱凹面によって平行光を光軸と直交する所定の方向において発散させる機能を有するシリンドリカルレンズ(第1の光学系)4と、平行光を光軸上の一点に収束させる機能を有する対物レンズ(第2の光学系)5と、シリンドリカルレンズ4をその光軸に沿って移動させる移動機構(第1の移動機構)6と、支持台3を対物レンズ5の光軸に沿って移動させるXYZステージ(第2の移動機構)7と、を備えている。XYZステージ7は、対物レンズ5の光軸方向、すなわちZ軸方向だけでなく、Z軸方向と直交するX軸方向、並びにZ軸方向及
びX軸方向と直交するY軸方向にも、支持台3を移動させる。
 レーザ加工装置1は、更に、加工対象物Sを観察するための観察光L2を投光する照明部8と、加工対象物Sで反射された観察光L2の反射光を受光して加工対象物Sの像を取得する撮像部9と、を備えている。これにより、加工対象物Sの表面、内部又は裏面を観察することができる。
 レーザ加工装置1においては、レーザ発振器2から出射されたレーザ光L1は、シリンドリカルレンズ4の光軸上を進行した後、ダイクロイックミラー(光学部材)11によって反射され、対物レンズ5の光軸上を進行して支持台3上の加工対象物Sに照射される。一方、照明部8によって投光された観察光L2は、ダイクロイックミラー12によって反射された後、ダイクロイックミラー11を透過し、対物レンズ5の光軸上を進行して支持台3上の加工対象物Sに照射される。そして、加工対象物Sで反射された観察光L2の反射光は、対物レンズ5の光軸上を進行し、ダイクロイックミラー11,12を透過して、撮像部9によって受光される。
 なお、レーザ加工装置1においては、レーザ発振器2、シリンドリカルレンズ4、対物レンズ5、移動機構6、照明部8、撮像部9、ダイクロイックミラー11及びダイクロイックミラー12が筐体内に配置されて、レーザ照射装置10が構成されている。また、レーザ加工装置1には、レーザ発振器2、移動機構6、照明部8、撮像部9及びXYZステージ7等の装置全体を制御する制御部20が設けられている。制御部20は、対物レンズ5に対してシリンドリカルレンズ4を光軸に沿って相対的に移動させるために移動機構6を制御したり、対物レンズ5に対して支持台3(すなわち、加工対象物S)を光軸に沿って相対的に移動させるためにXYZステージ7を制御したりする。対物レンズ5と支持台3との距離(すなわち、対物レンズ5と加工対象物Sとの距離)の調節は、支持台3をZ軸方向(光軸方向)に移動させてもよいし、対物レンズ5、若しくは対物レンズ5を含むレーザ照射装置10をZ軸方向に移動させてよいし、その両方を移動させるように制御してもよい。更に、制御部20は、レーザ発振器2や照明部8を制御したり、撮像部9で取得した画像に基づいてXYZステージ7を動作させ、加工対象物Sに対するレーザ光L1の焦点位置を制御したりする。
 図2及び3は、図1のレーザ加工装置におけるレーザ光の光路を示す図である。なお、図2及び3においては、説明の便宜上、ダイクロイックミラー11の図示を省略する。図2及び3に示されるように、シリンドリカルレンズ4は、レーザ発振器2から出射されたレーザ光L1を、Y軸方向(所定の方向)(すなわち、YZ平面内)において発散させ、X軸方向(すなわち、ZX平面内)において発散及び収束させない。そして、対物レンズ5は、シリンドリカルレンズ4から出射されたレーザ光L1を、Y軸方向(第1の方向)(すなわち、YZ平面内)において第1の点P1に収束させ、X軸方向(第2の方向)(すなわち、ZX平面内)において第2の点P2に収束させる。これにより、レーザ光L1の断面形状は、点P1でX軸方向に延びる長尺形状となり、点P2でY軸方向に延びる長尺形状となる。
 ここで、シリンドリカルレンズ4の焦点距離をA、発散点距離(シリンドリカルレンズ4の焦点と対物レンズ5の主点との距離)をB、対物レンズ5の焦点距離をC、加工対象物Sの屈折率をn、加工対象物Sの厚さをdとすると、YZ平面内での集光点距離(対物レンズ5の主点と第1の点P1との距離)Z1及びZX平面内での集光点距離(対物レンズ5の主点と第2の点P2との距離)Z2は、それぞれ次の式(1)及び(2)で表される。
Z1=(G-H)+d+(nH-d)/n…(1)
Z2=(C-E)+nE…(2)
 なお、式(1)及び(2)において、G=1/((1/C)-(1/B))であり、Hはn=1の場合における加工対象物Sの表面と集光点(YZ平面内でのレーザ光L1の集光点)との距離、Eはn=1の場合における加工対象物Sの表面と集光点(ZX平面内でのレーザ光L1の集光点)との距離である。加工対象物Sの上側(すなわち、加工対象物Sと対物レンズ5との間)や加工対象物の下側の空気中においては、n=1である。
 上記の式(1)及び(2)より、YZ平面内での集光点距離Z1は発散点距離Bに依存し、ZX平面内での集光点距離Z2は発散点距離Bに依存しないことが分かる。つまり、移動機構6によってシリンドリカルレンズ4が光軸に沿って進退させられると、ZX平面内での集光点距離Z2は変化せずに、YZ平面内での集光点距離Z1、延いては非点距離Za(=Z1-Z2)が変化することになる。
 次に、上述したレーザ加工装置1の動作の一例について説明する。図4及び5は、図1のレーザ加工装置によって加工領域が形成された加工対象物を示す図である。なお、この一例は、図4及び5に示されるように、ガラス基板である加工対象物Sの加工ラインPLに沿って、パルス波であるレーザ光L1を照射し、切断の起点となるクラック領域CRを加工領域として加工対象物Sの内部に形成する例である。
 まず、加工対象物Sの屈折率nに基づいて、第2の点P2が加工対象物Sの内部(加工対象物Sの表面から所定の距離だけ内側)に位置するように、XYZステージ7によって支持台3がZ軸方向に移動させられる(上記の式(2)参照)。そして、加工対象物Sの屈折率n及び厚さdに基づいて、第1の点P1が加工対象物Sの外部(下側)に位置するように、移動機構6によってシリンドリカルレンズ4が光軸に沿って移動させられる(上記の式(1)参照)。
 続いて、加工対象物Sの内部に位置させられた第2の点P2でのレーザ光L1のピークパワー密度が加工閾値(例えば、多光子吸収、その他の光吸収が生じ得る閾値)を超えるように、レーザ発振器2からレーザ光L1が出射されると共に、XYZステージ7によって支持台3がY軸方向に移動させられ、加工ラインPLに沿ってレーザ光L1が照射される。これにより、加工対象物Sの内部において点P2が位置させられた部分に、1パルスのレーザ光L1の照射毎に1つのクラック領域CRが形成される。このとき、各クラック領域CRの形状は、レーザ光L1の断面形状が点P2でY軸方向に延びる長尺形状であるため、加工対象物Sに対するレーザ光L1の入射方向から見た場合に、加工ラインPLに沿って延びる長尺形状となる。
 このように、加工ラインPLに沿って加工対象物Sの内部にクラック領域CRが形成されると、クラック領域CRが切断の起点となるので、加工対象物Sを加工ラインPLに沿って精度良く切断することができる。しかも、クラック領域CRが加工ラインPLに沿って延びる長尺形状であるため、加工ラインPLに沿って切断された加工対象物Sの切断面を滑らかにすることができる。
 以上説明したように、レーザ加工装置1においては、レーザ光L1の断面形状が第1の点P1でX軸方向に延びる長尺形状となり、第2の点P2でY軸方向に延びる長尺形状となる。そのため、移動機構6及びXYZステージ7により、点P1を加工対象物Sの外部に位置させ、点P2を加工対象物Sの内部に位置させることで、加工対象物Sの内部において点P2が位置させられた部分に、Y軸方向に延びる長尺形状の加工領域を形成することができる。従って、レーザ加工装置1によれば、所望の形状に加工領域を形成することが可能となる。
 また、レーザ加工装置1においては、レーザ光L1の光線束のうちシリンドリカルレンズ4によって発散させられなかったXZ平面内の光線束が対物レンズ5によって収束させられる点を第2の点P2とし、その点P2で加工が行われる(図3(b)参照)。そのため、シリンドリカルレンズ4によって発散させられたYZ平面内の光線束が対物レンズ5によって収束させられる点を点P2とし、その点P2で加工が行われる場合に比べ、加工領域のX軸方向の幅を細くすることができる。なお、加工領域のX軸方向の幅を太くすべき場合等には、シリンドリカルレンズ4によって発散させられたYZ平面内の光線束が対物レンズ5によって収束させられる点を点P2とし、その点P2で加工が行われるようにしてもよい。
 また、レーザ加工装置1においては、XYZステージ7が対物レンズ5に対して支持台3をY軸方向に移動させる。この場合、加工領域がY軸方向に延びる長尺形状となることから、Y軸方向に平行な加工ラインPLに沿って加工対象物Sの内部に加工領域を効率良く形成することができる。なお、XYZステージ7が対物レンズ5に対して支持台3をX軸方向に移動させれば、加工領域がY軸方向に延びる長尺形状となることから、X軸方向に平行な加工ラインPLに沿って加工対象物Sの内部に幅広の加工領域を形成することができる。
 また、レーザ加工装置1においては、シリンドリカルレンズ4と対物レンズ5との間の光軸上に、レーザ光L1を反射し、且つ観察光L2を透過させるダイクロイックミラー11が配置されている。これにより、シリンドリカルレンズ4の影響を受けることなく、平行光を光軸上の一点に収束させる機能を有する対物レンズ5を介して、加工対象物Sの表面、内部又は裏面を観察することができる。
 次に、本発明に係るレーザ加工装置の実施例について説明する。図6は、本発明に係るレーザ加工装置の実施例によってクラック領域が形成された加工対象物の写真を示す図である。なお、図6において、(a)は加工ラインに沿っての加工対象物の断面写真、(b)は加工対象物の表面に観察光の焦点を合わせたときの写真、(c)は加工対象物の内部において第2の点P2が位置させられた部分に観察光の焦点を合わせたときの写真、(d)は加工対象物の内部において第1の点P1が位置させられた部分に観察光の焦点を合わせたときの写真である。
 この実施例における加工条件は次の通りである。
(A)加工対象物:パイレックス(登録商標)ガラス(厚さ700μm)
(B)レーザ
光源:Yb:KGW超短パルスレーザ
波長:1030nm
発振形態:再生増幅
繰り返し周波数:3kHz
パルス幅:3ps
出射レーザエネルギ:100μJ/パルス
出射レーザ光品質:TEM00
偏光特性:直線偏光
(C)対物レンズ
開口数(NA):0.55
レーザ光に対する透過率:70%
(D)照射条件
第2の点P2でのレーザ光の断面形状:100μm(Y軸方向の最大長さ)×5μm(X軸方向の最大長さ)
第2の点P2でのレーザ光の断面積:5×10-6cm
第2の点P2でのレーザ光のピークパワー密度:5.1×1012W/cm
第1の点P1でのレーザ光の断面形状:7μm(Y軸方向の最大長さ)×50μm(X軸方向の最大長さ)
第1の点P1でのレーザ光の断面積:3.5×10-6cm
第1の点P1でのレーザ光のピークパワー密度:1×1012W/cm
(E)対物レンズに対する支持台の移動速度:300mm/s
 図6(c)に示されるように、加工対象物の内部において第2の点P2が位置させられた部分には、Y軸方向に延びる長尺形状のクラック領域CR2が形成されている。一方、図6(d)に示されるように、加工対象物の内部において第1の点P1が位置させられた部分には、X軸方向に延びる長尺形状のクラック領域CR1が形成されている。上記実施形態では、点P1が加工対象物の外部に位置し、点P2が加工対象物の内部に位置するようにすることで、点P1における加工対象物の加工を防止しているが、点P1,P2を加工対象物の外表面や内部に位置させることで、延びる方向が直交する長尺形状の加工領域を加工対象物に同時に形成することができる。
 本発明は、上述した実施形態に限定されるものではない。
 例えば、図7及び8に示されるように、円柱凸面によって平行光を光軸と直交する所定の方向において収束させる機能を有するシリンドリカルレンズ4を用いてもよい。そして、図7に示されるように、発散する状態でレーザ光L1を対物レンズ5に入射させてもよいし、図8に示されるように、収束する状態でレーザ光L1を対物レンズ5に入射させてもよい。この場合、第1の点P1が加工対象物Sの上側に位置し、Z1=Gとなる。
 また、移動機構6に代えて、或いは移動機構6と共に、対物レンズ5を移動させたり、シリンドリカルレンズ4及び対物レンズ5の両方を移動させたりするなど、対物レンズ5に対してシリンドリカルレンズ4を光軸に沿って相対的に移動させるものを適用してもよい。同様に、XYZステージ7に代えて、或いはXYZステージ7と共に、対物レンズ5(若しくは、対物レンズ5を含むレーザ照射装置10)を移動させたり、支持台3及び対物レンズ5(若しくは、対物レンズ5を含むレーザ照射装置10)の両方を移動させたりするなど、対物レンズ5に対して支持台3を光軸に沿って相対的に移動させるものを適用してもよい。
 また、平行光を光軸と直交する所定の方向において発散又は収束させる機能を有するものであれば、シリンドリカルレンズ4に代えて、複数のレンズから構成されるもの等、他の光学系を適用してもよい。同様に、平行光を光軸上の一点に収束させる機能を有するものであれば、対物レンズ5に代えて、複数のレンズから構成されるもの等、他の光学系を適用してもよい。
 また、クラック領域の用途は、切断の起点となるものに限定されない。他の用途として、複数のクラック領域が連続させられて構成される光導波路、マイクロ流路、マイクロTAS(Total Analysis Systems)等がある。
 また、加工領域は、第2の点P2が加工対象物Sの外表面(例えば、表面や裏面)に位置させられることにより、加工対象物Sの外表面に形成される場合もある。更に、加工領域は、クラック領域に限定されない。加工領域は、クラック領域、絶縁破壊領域(例えば、加工対象物がガラスやLiTaO等の圧電材料からなる場合)の他に、溶融処理領域(例えば、加工対象物がシリコン等の半導体材料からなる場合)、屈折率変化領域(例えば、加工対象物がガラスからなる場合)等があり、これらが混在した領域もある。
 所望の形状に加工領域を形成することができるレーザ加工装置を提供することができる。
 1…レーザ加工装置、2…レーザ発振器(レーザ光源)、3…支持台、4…シリンドリカルレンズ(第1の光学系)、5…対物レンズ(第2の光学系)、6…移動機構(第1の移動機構)、7…XYZステージ(第2の移動機構)、11…ダイクロイックミラー(光学部材)。 

Claims (5)

  1.  レーザ光を出射するレーザ光源と、
     前記レーザ光に対して透過性を有する加工対象物を支持する支持台と、
     平行光を光軸と直交する所定の方向において発散又は収束させる機能を有し、前記レーザ光源から出射された前記レーザ光を前記所定の方向において発散又は収束させる第1の光学系と、
     平行光を光軸上の一点に収束させる機能を有し、前記第1の光学系から出射された前記レーザ光を、光軸と直交する第1の方向において第1の点に収束させ、光軸及び前記第1の方向と直交する第2の方向において第2の点に収束させる第2の光学系と、
     前記第2の光学系に対して前記第1の光学系を光軸に沿って相対的に移動させる第1の移動機構と、
     前記第2の光学系に対して前記支持台を光軸に沿って相対的に移動させる第2の移動機構と、を備え、
     前記第1の移動機構及び前記第2の移動機構によって、前記第1の点を前記加工対象物の外部に位置させ、前記第2の点を前記加工対象物の外表面又は内部に位置させて、前記加工対象物に前記レーザ光を照射することを特徴とするレーザ加工装置。
  2.  前記第2の点は、前記レーザ光の光線束のうち前記第1の光学系によって発散又は収束させられなかった光線束が前記第2の光学系によって収束させられる点であることを特徴とする請求項1記載のレーザ加工装置。
  3.  前記第2の移動機構は、前記第2の光学系に対して前記支持台を前記第1の方向に相対的に移動させることを特徴とする請求項1記載のレーザ加工装置。
  4.  前記第2の移動機構は、前記第2の光学系に対して前記支持台を前記第2の方向に相対的に移動させることを特徴とする請求項1記載のレーザ加工装置。
  5.  前記第1の光学系と前記第2の光学系との間の光軸上には、前記レーザ光を反射する光学部材が配置され、
     前記光学部材は、前記加工対象物を観察するための観察光を透過させることを特徴とする請求項1記載のレーザ加工装置。
PCT/JP2009/070401 2009-01-09 2009-12-04 レーザ加工装置 WO2010079658A1 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN200980153474.7A CN102271859B (zh) 2009-01-09 2009-12-04 激光加工装置
EP09837544.7A EP2388103B1 (en) 2009-01-09 2009-12-04 Laser beam working machine
US13/143,604 US8841580B2 (en) 2009-01-09 2009-12-04 Laser beam working machine
KR1020117011528A KR101798172B1 (ko) 2009-01-09 2009-12-04 레이저 가공장치

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009-003945 2009-01-09
JP2009003945A JP5241525B2 (ja) 2009-01-09 2009-01-09 レーザ加工装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2010079658A1 true WO2010079658A1 (ja) 2010-07-15

Family

ID=42316430

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2009/070401 WO2010079658A1 (ja) 2009-01-09 2009-12-04 レーザ加工装置

Country Status (7)

Country Link
US (1) US8841580B2 (ja)
EP (1) EP2388103B1 (ja)
JP (1) JP5241525B2 (ja)
KR (1) KR101798172B1 (ja)
CN (1) CN102271859B (ja)
TW (1) TWI505891B (ja)
WO (1) WO2010079658A1 (ja)

Families Citing this family (47)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4659300B2 (ja) 2000-09-13 2011-03-30 浜松ホトニクス株式会社 レーザ加工方法及び半導体チップの製造方法
CN1328002C (zh) 2002-03-12 2007-07-25 浜松光子学株式会社 加工对象物切割方法
TWI326626B (en) 2002-03-12 2010-07-01 Hamamatsu Photonics Kk Laser processing method
ATE534142T1 (de) 2002-03-12 2011-12-15 Hamamatsu Photonics Kk Verfahren zum auftrennen eines substrats
TWI520269B (zh) 2002-12-03 2016-02-01 Hamamatsu Photonics Kk Cutting method of semiconductor substrate
FR2852250B1 (fr) 2003-03-11 2009-07-24 Jean Luc Jouvin Fourreau de protection pour canule, un ensemble d'injection comportant un tel fourreau et aiguille equipee d'un tel fourreau
DE60315515T2 (de) 2003-03-12 2007-12-13 Hamamatsu Photonics K.K., Hamamatsu Laserstrahlbearbeitungsverfahren
ES2523432T3 (es) * 2003-07-18 2014-11-25 Hamamatsu Photonics K.K. Chip semiconductor cortado
JP4563097B2 (ja) 2003-09-10 2010-10-13 浜松ホトニクス株式会社 半導体基板の切断方法
JP4601965B2 (ja) 2004-01-09 2010-12-22 浜松ホトニクス株式会社 レーザ加工方法及びレーザ加工装置
JP4598407B2 (ja) 2004-01-09 2010-12-15 浜松ホトニクス株式会社 レーザ加工方法及びレーザ加工装置
JP4509578B2 (ja) 2004-01-09 2010-07-21 浜松ホトニクス株式会社 レーザ加工方法及びレーザ加工装置
WO2005098916A1 (ja) 2004-03-30 2005-10-20 Hamamatsu Photonics K.K. レーザ加工方法及び半導体チップ
KR101109860B1 (ko) * 2004-08-06 2012-02-21 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤 레이저 가공 방법, 가공 대상물 절단 방법 및 반도체 장치
JP4762653B2 (ja) * 2005-09-16 2011-08-31 浜松ホトニクス株式会社 レーザ加工方法及びレーザ加工装置
JP4907965B2 (ja) * 2005-11-25 2012-04-04 浜松ホトニクス株式会社 レーザ加工方法
JP4804911B2 (ja) * 2005-12-22 2011-11-02 浜松ホトニクス株式会社 レーザ加工装置
JP4907984B2 (ja) * 2005-12-27 2012-04-04 浜松ホトニクス株式会社 レーザ加工方法及び半導体チップ
ES2428826T3 (es) 2006-07-03 2013-11-11 Hamamatsu Photonics K.K. Procedimiento de procesamiento por láser y chip
JP5183892B2 (ja) 2006-07-03 2013-04-17 浜松ホトニクス株式会社 レーザ加工方法
KR101428823B1 (ko) * 2006-09-19 2014-08-11 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤 레이저 가공 방법 및 레이저 가공 장치
JP4954653B2 (ja) 2006-09-19 2012-06-20 浜松ホトニクス株式会社 レーザ加工方法
JP5101073B2 (ja) * 2006-10-02 2012-12-19 浜松ホトニクス株式会社 レーザ加工装置
JP5132911B2 (ja) * 2006-10-03 2013-01-30 浜松ホトニクス株式会社 レーザ加工方法
JP4964554B2 (ja) * 2006-10-03 2012-07-04 浜松ホトニクス株式会社 レーザ加工方法
US8735770B2 (en) * 2006-10-04 2014-05-27 Hamamatsu Photonics K.K. Laser processing method for forming a modified region in an object
JP5336054B2 (ja) * 2007-07-18 2013-11-06 浜松ホトニクス株式会社 加工情報供給装置を備える加工情報供給システム
JP5449665B2 (ja) 2007-10-30 2014-03-19 浜松ホトニクス株式会社 レーザ加工方法
JP5134928B2 (ja) * 2007-11-30 2013-01-30 浜松ホトニクス株式会社 加工対象物研削方法
JP5054496B2 (ja) * 2007-11-30 2012-10-24 浜松ホトニクス株式会社 加工対象物切断方法
JP5692969B2 (ja) 2008-09-01 2015-04-01 浜松ホトニクス株式会社 収差補正方法、この収差補正方法を用いたレーザ加工方法、この収差補正方法を用いたレーザ照射方法、収差補正装置、及び、収差補正プログラム
JP5254761B2 (ja) 2008-11-28 2013-08-07 浜松ホトニクス株式会社 レーザ加工装置
JP5241527B2 (ja) 2009-01-09 2013-07-17 浜松ホトニクス株式会社 レーザ加工装置
KR101757937B1 (ko) 2009-02-09 2017-07-13 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤 가공대상물 절단방법
KR101769158B1 (ko) 2009-04-07 2017-08-17 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤 레이저 가공 장치 및 레이저 가공 방법
JP5491761B2 (ja) 2009-04-20 2014-05-14 浜松ホトニクス株式会社 レーザ加工装置
JP5379604B2 (ja) 2009-08-21 2013-12-25 浜松ホトニクス株式会社 レーザ加工方法及びチップ
US20120234807A1 (en) * 2009-12-07 2012-09-20 J.P. Sercel Associates Inc. Laser scribing with extended depth affectation into a workplace
US20130256286A1 (en) * 2009-12-07 2013-10-03 Ipg Microsystems Llc Laser processing using an astigmatic elongated beam spot and using ultrashort pulses and/or longer wavelengths
US8722516B2 (en) 2010-09-28 2014-05-13 Hamamatsu Photonics K.K. Laser processing method and method for manufacturing light-emitting device
JP5618373B2 (ja) * 2011-04-06 2014-11-05 株式会社ブイ・テクノロジー ガラス基板のレーザ加工装置
TW201343296A (zh) * 2012-03-16 2013-11-01 Ipg Microsystems Llc 使一工件中具有延伸深度虛飾之雷射切割系統及方法
JP2013193110A (ja) * 2012-03-21 2013-09-30 Sumitomo Heavy Ind Ltd レーザ加工装置及びレーザ加工方法
US20160207144A1 (en) * 2013-08-28 2016-07-21 Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. Laser processing apparatus
US10668561B2 (en) 2016-11-15 2020-06-02 Coherent, Inc. Laser apparatus for cutting brittle material
US10589445B1 (en) * 2018-10-29 2020-03-17 Semivation, LLC Method of cleaving a single crystal substrate parallel to its active planar surface and method of using the cleaved daughter substrate
JP7286464B2 (ja) * 2019-08-02 2023-06-05 株式会社ディスコ レーザー加工装置

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10506087A (ja) 1994-09-19 1998-06-16 コーニング インコーポレイテッド ガラスシートを破断する方法
JP2007000931A (ja) * 2005-05-24 2007-01-11 Disco Abrasive Syst Ltd レーザー加工装置
JP2007075886A (ja) 2005-09-16 2007-03-29 Hamamatsu Photonics Kk レーザ加工方法及びレーザ加工装置
JP2008296254A (ja) * 2007-05-31 2008-12-11 Disco Abrasive Syst Ltd レーザー加工装置

Family Cites Families (64)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4546231A (en) 1983-11-14 1985-10-08 Group Ii Manufacturing Ltd. Creation of a parting zone in a crystal structure
US5637244A (en) 1993-05-13 1997-06-10 Podarok International, Inc. Method and apparatus for creating an image by a pulsed laser beam inside a transparent material
GB9514558D0 (en) * 1995-07-17 1995-09-13 Gersan Ets Marking diamond
KR0171947B1 (ko) 1995-12-08 1999-03-20 김주용 반도체소자 제조를 위한 노광 방법 및 그를 이용한 노광장치
JP4194160B2 (ja) 1998-02-19 2008-12-10 キヤノン株式会社 投影露光装置
JP4659300B2 (ja) 2000-09-13 2011-03-30 浜松ホトニクス株式会社 レーザ加工方法及び半導体チップの製造方法
CN2454077Y (zh) * 2000-12-12 2001-10-17 魏学惠 激光加工机光学装置
SG120880A1 (en) 2001-08-31 2006-04-26 Semiconductor Energy Lab Laser irradiation method, laser irradiation apparatus, and method of manufacturing a semiconductor device
CN1328002C (zh) 2002-03-12 2007-07-25 浜松光子学株式会社 加工对象物切割方法
ATE534142T1 (de) 2002-03-12 2011-12-15 Hamamatsu Photonics Kk Verfahren zum auftrennen eines substrats
TWI326626B (en) 2002-03-12 2010-07-01 Hamamatsu Photonics Kk Laser processing method
US7009630B1 (en) * 2002-09-09 2006-03-07 General Data Company, Inc. Method and apparatus for printing ink imprinted indicia
JP4246981B2 (ja) * 2002-09-18 2009-04-02 株式会社ジェイテクト レーザ加工装置
TWI520269B (zh) 2002-12-03 2016-02-01 Hamamatsu Photonics Kk Cutting method of semiconductor substrate
ES2381254T3 (es) 2002-12-05 2012-05-24 Hamamatsu Photonics K.K. Dispositivos de procesamiento con láser
JP2004188422A (ja) 2002-12-06 2004-07-08 Hamamatsu Photonics Kk レーザ加工装置及びレーザ加工方法
TWI248244B (en) * 2003-02-19 2006-01-21 J P Sercel Associates Inc System and method for cutting using a variable astigmatic focal beam spot
FR2852250B1 (fr) 2003-03-11 2009-07-24 Jean Luc Jouvin Fourreau de protection pour canule, un ensemble d'injection comportant un tel fourreau et aiguille equipee d'un tel fourreau
DE60315515T2 (de) 2003-03-12 2007-12-13 Hamamatsu Photonics K.K., Hamamatsu Laserstrahlbearbeitungsverfahren
SG147288A1 (en) * 2003-04-29 2008-11-28 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus, device manufacturing method and angular encoder
ES2523432T3 (es) 2003-07-18 2014-11-25 Hamamatsu Photonics K.K. Chip semiconductor cortado
JP4563097B2 (ja) 2003-09-10 2010-10-13 浜松ホトニクス株式会社 半導体基板の切断方法
JP2005086175A (ja) 2003-09-11 2005-03-31 Hamamatsu Photonics Kk 半導体薄膜の製造方法、半導体薄膜、半導体薄膜チップ、電子管、及び光検出素子
WO2005067113A1 (ja) 2004-01-07 2005-07-21 Hamamatsu Photonics K.K. 半導体発光素子及びその製造方法
JP4509578B2 (ja) 2004-01-09 2010-07-21 浜松ホトニクス株式会社 レーザ加工方法及びレーザ加工装置
JP4601965B2 (ja) 2004-01-09 2010-12-22 浜松ホトニクス株式会社 レーザ加工方法及びレーザ加工装置
JP4598407B2 (ja) 2004-01-09 2010-12-15 浜松ホトニクス株式会社 レーザ加工方法及びレーザ加工装置
TWI250910B (en) * 2004-03-05 2006-03-11 Olympus Corp Apparatus for laser machining
JP4536407B2 (ja) 2004-03-30 2010-09-01 浜松ホトニクス株式会社 レーザ加工方法及び加工対象物
WO2005098916A1 (ja) 2004-03-30 2005-10-20 Hamamatsu Photonics K.K. レーザ加工方法及び半導体チップ
JP4829781B2 (ja) 2004-03-30 2011-12-07 浜松ホトニクス株式会社 レーザ加工方法及び半導体チップ
JP4740556B2 (ja) * 2004-06-17 2011-08-03 三星ダイヤモンド工業株式会社 レーザ光によるライン加工方法およびレーザ加工装置。
JP4634089B2 (ja) 2004-07-30 2011-02-16 浜松ホトニクス株式会社 レーザ加工方法
KR101109860B1 (ko) 2004-08-06 2012-02-21 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤 레이저 가공 방법, 가공 대상물 절단 방법 및 반도체 장치
JP4754801B2 (ja) 2004-10-13 2011-08-24 浜松ホトニクス株式会社 レーザ加工方法
JP4781661B2 (ja) 2004-11-12 2011-09-28 浜松ホトニクス株式会社 レーザ加工方法
JP4917257B2 (ja) 2004-11-12 2012-04-18 浜松ホトニクス株式会社 レーザ加工方法
JP4198123B2 (ja) 2005-03-22 2008-12-17 浜松ホトニクス株式会社 レーザ加工方法
JP4838531B2 (ja) * 2005-04-27 2011-12-14 サイバーレーザー株式会社 板状体切断方法並びにレーザ加工装置
KR101284201B1 (ko) * 2005-05-02 2013-07-09 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 레이저 조사 장치 및 레이저 조사 방법
US7402773B2 (en) * 2005-05-24 2008-07-22 Disco Corporation Laser beam processing machine
JP4776994B2 (ja) 2005-07-04 2011-09-21 浜松ホトニクス株式会社 加工対象物切断方法
JP4749799B2 (ja) 2005-08-12 2011-08-17 浜松ホトニクス株式会社 レーザ加工方法
JP4237745B2 (ja) 2005-11-18 2009-03-11 浜松ホトニクス株式会社 レーザ加工方法
JP4907965B2 (ja) 2005-11-25 2012-04-04 浜松ホトニクス株式会社 レーザ加工方法
JP4804911B2 (ja) 2005-12-22 2011-11-02 浜松ホトニクス株式会社 レーザ加工装置
JP4907984B2 (ja) 2005-12-27 2012-04-04 浜松ホトニクス株式会社 レーザ加工方法及び半導体チップ
JP5183892B2 (ja) 2006-07-03 2013-04-17 浜松ホトニクス株式会社 レーザ加工方法
ES2428826T3 (es) 2006-07-03 2013-11-11 Hamamatsu Photonics K.K. Procedimiento de procesamiento por láser y chip
KR101428823B1 (ko) 2006-09-19 2014-08-11 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤 레이저 가공 방법 및 레이저 가공 장치
JP4954653B2 (ja) 2006-09-19 2012-06-20 浜松ホトニクス株式会社 レーザ加工方法
JP5101073B2 (ja) 2006-10-02 2012-12-19 浜松ホトニクス株式会社 レーザ加工装置
JP5132911B2 (ja) 2006-10-03 2013-01-30 浜松ホトニクス株式会社 レーザ加工方法
JP4964554B2 (ja) 2006-10-03 2012-07-04 浜松ホトニクス株式会社 レーザ加工方法
US8735770B2 (en) 2006-10-04 2014-05-27 Hamamatsu Photonics K.K. Laser processing method for forming a modified region in an object
JP2008093682A (ja) 2006-10-10 2008-04-24 Tokyo Electron Ltd レーザ発光装置の位置調整方法
JP5336054B2 (ja) 2007-07-18 2013-11-06 浜松ホトニクス株式会社 加工情報供給装置を備える加工情報供給システム
JP4402708B2 (ja) 2007-08-03 2010-01-20 浜松ホトニクス株式会社 レーザ加工方法、レーザ加工装置及びその製造方法
JP5188764B2 (ja) 2007-08-29 2013-04-24 浜松ホトニクス株式会社 レーザ加工装置およびレーザ加工方法
JP5225639B2 (ja) 2007-09-06 2013-07-03 浜松ホトニクス株式会社 半導体レーザ素子の製造方法
JP5342772B2 (ja) 2007-10-12 2013-11-13 浜松ホトニクス株式会社 加工対象物切断方法
JP5449665B2 (ja) 2007-10-30 2014-03-19 浜松ホトニクス株式会社 レーザ加工方法
JP5134928B2 (ja) 2007-11-30 2013-01-30 浜松ホトニクス株式会社 加工対象物研削方法
JP5054496B2 (ja) 2007-11-30 2012-10-24 浜松ホトニクス株式会社 加工対象物切断方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10506087A (ja) 1994-09-19 1998-06-16 コーニング インコーポレイテッド ガラスシートを破断する方法
JP2007000931A (ja) * 2005-05-24 2007-01-11 Disco Abrasive Syst Ltd レーザー加工装置
JP2007075886A (ja) 2005-09-16 2007-03-29 Hamamatsu Photonics Kk レーザ加工方法及びレーザ加工装置
JP2008296254A (ja) * 2007-05-31 2008-12-11 Disco Abrasive Syst Ltd レーザー加工装置

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP2388103A4 *

Also Published As

Publication number Publication date
EP2388103A1 (en) 2011-11-23
JP2010158713A (ja) 2010-07-22
CN102271859B (zh) 2014-07-09
KR101798172B1 (ko) 2017-11-15
CN102271859A (zh) 2011-12-07
EP2388103A4 (en) 2015-07-29
US20110274128A1 (en) 2011-11-10
US8841580B2 (en) 2014-09-23
KR20110112282A (ko) 2011-10-12
TWI505891B (zh) 2015-11-01
EP2388103B1 (en) 2017-08-02
TW201039955A (en) 2010-11-16
JP5241525B2 (ja) 2013-07-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5241525B2 (ja) レーザ加工装置
JP4804911B2 (ja) レーザ加工装置
JP5241527B2 (ja) レーザ加工装置
JP4645892B2 (ja) レーザ加工装置及び方法
JP5580129B2 (ja) 固体レーザ加工装置
JP2004188422A (ja) レーザ加工装置及びレーザ加工方法
JP2007229758A (ja) レーザ加工装置
RU2012112398A (ru) ЛАЗЕРНАЯ ФОКУСИРУЮЩАЯ ГОЛОВКА С ЛИНЗАМИ ИЗ ZnS, ИМЕЮЩИМИ ТОЛЩИНУ ПО КРАЯМ, ПО МЕНЬШЕЙ МЕРЕ, 5 мм, И УСТАНОВКА И СПОСОБ ЛАЗЕРНОЙ РЕЗКИ С ИСПОЛЬЗОВАНИЕМ ОДНОЙ ТАКОЙ ФОКУСИРУЮЩЕЙ ГОЛОВКИ
US7795560B2 (en) Apparatus for processing work-piece
JP2008036641A (ja) レーザ加工装置およびレーザ加工方法
JP2004337903A (ja) レーザ加工装置及びレーザ加工方法
JP2004337902A (ja) レーザ加工装置及びレーザ加工方法
JP2005199285A (ja) レーザ加工方法及びレーザ加工装置
JP2008173652A (ja) バリ取り方法
JP5302788B2 (ja) レーザ加工装置
CN105636738A (zh) 激光加工装置
KR102050765B1 (ko) 3차원 고속 정밀 레이저 가공 장치
JP5021277B2 (ja) レーザ加工装置
JP2018521859A (ja) レーザ処理装置およびこの装置を備えたワークステーション
JP6335590B2 (ja) レーザ加工装置及びレンズユニット
JP2002340804A (ja) マークの観察方法及び観察装置

Legal Events

Date Code Title Description
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 200980153474.7

Country of ref document: CN

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 09837544

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 20117011528

Country of ref document: KR

Kind code of ref document: A

REEP Request for entry into the european phase

Ref document number: 2009837544

Country of ref document: EP

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2009837544

Country of ref document: EP

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 13143604

Country of ref document: US