JP5379604B2 - レーザ加工方法及びチップ - Google Patents
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Description
次に、本発明の第1実施形態のレーザ加工方法について、詳細に説明する。
次に、本発明の第2実施形態について説明する。なお、本実施形態の説明では、上記実施形態と異なる点について主に説明する。
Claims (6)
- 板状の加工対象物の内部に集光点を合わせてレーザ光を照射することにより、切断予定ラインに沿って、切断の基点となる改質領域を前記加工対象物に形成するレーザ加工方法であって、
前記切断予定ラインに沿って、前記加工対象物の一方の主面側に位置する第1改質領域と、前記加工対象物の他方の主面側に位置する第2改質領域と、前記第1及び第2改質領域間に位置する第3改質領域とを、前記加工対象物の厚さ方向に並ぶように少なくとも形成する改質領域形成工程を備え、
前記改質領域形成工程は、
前記第1改質領域の形成部分と非形成部分とが前記切断予定ラインに沿って交互に所在するように前記第1改質領域を形成する工程と、
前記第2改質領域の形成部分と非形成部分とが前記切断予定ラインに沿って交互に所在するように前記第2改質領域を形成する工程と、
前記第3改質領域の形成部分が前記加工対象物において前記切断予定ラインに沿う一端側から他端側に亘って所在するように前記第3改質領域を形成する工程と、を含むことを特徴とするレーザ加工方法。 - 前記第1及び第2改質領域の形成部分は、前記切断予定ラインに沿って延在し且つ前記加工対象物の切断予定面を通過する所定部分に所在するように形成されることを特徴とする請求項1記載のレーザ加工方法。
- 前記加工対象物の前記主面上には、複数の機能素子がマトリクス状に配置され、
前記切断予定ラインは、前記複数の機能素子間に格子状に設定されており、
前記加工対象物を側方から見て、前記第1及び第2改質領域の形成部分は前記複数の機能素子間に対応する部分に所在するように形成されると共に、前記改質領域の非形成部分は前記機能素子の中央部に対応する部分に所在するように形成されることを特徴とする請求項2記載のレーザ加工方法。 - 前記複数の機能素子は、長尺状を呈し、その長手方向が等しくなるようマトリクス状に配置され、
前記第1及び第2改質領域の形成部分と非形成部分とは、前記切断予定ラインのうち前記長手方向に沿う切断予定ラインに沿って交互に所在するように形成されることを特徴とする請求項3記載のレーザ加工方法。 - 前記第1、第2及び第3改質領域を切断の基点として前記加工対象物を前記切断予定ラインに沿って切断する切断工程をさらに備えたことを特徴とする請求項1〜4の何れか一項記載のレーザ加工方法。
- 厚さ方向に略平行な側面を有するチップであって、
前記側面のうちの少なくとも一の側面には、前記厚さ方向に並び且つ該厚さ方向の交差方向に沿って延在する第1、第2及び第3改質領域が少なくとも形成されており、
前記第1改質領域は、前記一の側面において、前記チップの一方の主面側に位置し、前記交差方向における一端部及び他端部に形成され、
前記第2改質領域は、前記一の側面において、前記チップの他方の主面側に位置し、前記一端部及び前記他端部に形成され、
前記第3改質領域は、前記一の側面において、前記第1及び第2改質領域間に位置し、前記一端部から前記他端部に亘って形成されていることを特徴とするチップ。
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