WO2007119707A1

WO2007119707A1 - 電磁波遮蔽膜付き透明基材とその製造方法及び製造装置

Info

Publication number: WO2007119707A1
Application number: PCT/JP2007/057834
Authority: WO
Inventors: Masaaki Ishikawa; Tsunehiro Kobayashi
Original assignee: Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd.
Priority date: 2006-04-10
Filing date: 2007-04-09
Publication date: 2007-10-25
Also published as: JP2007281290A; KR20080108435A; CN101416572A; US20090280305A1; TW200810684A

Abstract

　本発明の電磁波遮蔽膜付き透明基材は、柔軟性を有する透明フィルム１上に、プライマー層２、所定のパターン形状の触媒インク層３、同一パターン形状の金属層４を順次積層したものである。触媒インク層３は、グラビア印刷用の版胴上の触媒インクに透明フィルム１のプライマー層２を所定の時間押圧させることにより、触媒インクをプライマー層２上に転写したことにより形成される。

Description

明細書

電磁波遮蔽膜付き透明基材とその製造方法及び製造装置

技術分野

[0001] 本発明は、電磁波遮蔽膜付き透明基材とその製造方法及び製造装置に関する。

本願は、 2006年 4月 10曰に、曰本に出願された特願 2006— 107548号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。

背景技術

[0002] 電磁波遮蔽膜付き透明基材に対する需要は近年高まっており、様々なものが開発されてる。

例えば、従来 CRT等のディスプレイに使用されている電磁波遮蔽膜付き透明基材としては、ポリエチレンテレフタレート（PET)フィルム等の透明基材上にスパッタ法等により電磁波シールド膜が形成されたものがある。この電磁波シールド膜としては、例えば、スパッタにより製造したスズ添カ卩酸化インジウム（Indium Tin Oxide: ITO)薄膜や銀薄膜等のスパッタ膜が用いられて、る。

また、最近注目されている大型ディスプレイに適用されている、プラズマディスプレイパネル（PDP)等の各種フラットパネルディスプレイ（FPD)においては、より高い電磁波遮蔽能が必要とされているため、主として、透明フィルム上に形成された銅箔をフオトリソグラフィにより格子状としたエッチングメッシュ膜が使用されている。

[0003] 上記のようなメッシュ膜では、表面、側面、裏面のそれぞれが黒色であることが、画像のコントラストの面力好ましい。ところが、従来のエッチングメッシュ膜の製造方法では、銅箔をエッチングしてパターン形成する為、表面、側面 (縦方向及び横方向）、裏面の 4面の全てを黒色化、特に側面を黒色化することが難しぐディスプレイに搭載した際に画像のコントラストに悪影響を及ぼすという問題点があった。そこで、上記各面を黒色化するために、さらにエッチングメッシュ膜の銅表面を酸ィ匕させて黒色化する方法が主に用いられている力この方法では、エッチングメッシュ膜の表面抵抗が高くなる等の問題点があった。

また、エッチングメッシュ膜は製造工程が多ぐまたエッチング条件の管理が難しいため歩留まりが悪い等の理由から、コストが高いという問題点があった。特に、プラズマディスプレイパネル（PDP)等の各種フラットパネルディスプレイ（FPD)を民生用として普及させるためには、製造コストを含めたトータル的なコストダウンが要求されており、フラットパネルディスプレイに使用される電磁波遮蔽膜においても、低価格化が要求されている。

[0004] そこで、高導電率及び高透過率を有する電磁波遮蔽膜を比較的低コストで得る方法として、透明フィルム上に、スクリーン印刷法により貴金属触媒を含有せしめたべ一ストを印刷して微細パターンの下地層とし、この下地層上に銅を無電解メツキする方法が提案されている (例えば、特許文献 1及び 2参照)。し力しながら後述するような問題があり、更なる改良が望まれていた。

特許文献 1：特開平 11 170420号公報

特許文献 2 :特開 2003— 145709号公報

発明の開示

発明が解決しょうとする課題

[0005] 従来のスクリーン印刷法を用いた電磁波遮蔽膜では、印刷された際のパターンの精度及び膜厚に限界があり、より高精度のパターユングが難しいという問題点があつた。

また、従来のスクリーン印刷法では、比較的容易にかつ低コストで電磁波遮蔽膜を得ることができるものの、スクリーン印刷法自体が枚葉印刷であるために、印刷速度に限界があり、更なる生産性の向上を図ることが難しいという問題点があった。

[0006] 本発明は、上記の従来技術の課題を解決するためになされたものであって、高い導電性と優れた透明性を有し、し力も短工程かつ安価な製造プロセスにて高精度のノターニングが可能な電磁波遮蔽膜付き透明基材とその製造方法及び製造装置を提供することを目的とする。本発明者等は、上記で述べたような、短工程かつ安価であり、し力も高精度のパターユングが可能な電磁波遮蔽膜付き透明基材について鋭意検討した結果、本発明を達成するに至ったものである。

課題を解決するための手段

[0007] 本発明者等は、印刷法としてグラビア印刷法を採用し、グラビア印刷用の版胴上の触媒インクに透明基材上の下地層を所定の時間押圧させれば、透明基材上に高精度にパター-ングされた電磁波遮蔽膜を低コストで安価に形成することができることを見出し、本発明を完成するに至った。

[0008] すなわち、本発明の電磁波遮蔽膜付き透明基材は、柔軟性を有する透明基材上に、下地層と、所定のパターンを有する触媒インク層と、前記パターンと同一形状の金属層とがこの順で積層されており、

前記触媒インク層が、グラビア印刷用の版胴上の触媒インクに前記透明基材上の下地層を所定の時間押圧させることにより前記触媒インクを前記下地層上に転写されたインク層であることを特徴とする電磁波遮蔽膜付き透明基材であることを特徴とする。

[0009] 本発明の電磁波遮蔽膜付き透明基材の製造方法は、所定のパターンが形成されたグラビア印刷用の版胴上に触媒インクを塗布する工程と、

この版胴上の触媒インクと、柔軟性を有する透明基材上に形成された下地層とを押圧させたまま所定の時間保持する工程と、

押圧後に前記透明基材と前記版胴とを離間させて前記版胴上の触媒インクを前記透明基材の下地層上に転写する工程と、

所定のパターンを有する触媒インク層上に、前記パターンと同一形状の金属層を設けて、

柔軟性を有する透明基材上に、下地層と、所定のパターンを有する触媒インク層と、前記パターンと同一形状の金属層とが積層された電磁波遮蔽膜付き透明基材を得る工程と、

を含むことを特徴とする電磁波遮蔽膜付き透明基材の製造方法であることを特徴とする。

[0010] 本発明の電磁波遮蔽膜付き透明基材の製造装置は、柔軟性を有する透明基材上に、下地層、所定のパターンを有する触媒インク層、前記パターンと同一形状の金属層がこの順で積層された電磁波遮蔽膜付き透明基材の製造装置であって、表面に所定のパターン溝が形成されたグラビア印刷用の版胴と、

該版胴上に触媒インクを塗布するデイスペンサと、塗布された前記触媒インクのうち前記パターン溝内に含まれるインク以外の余剰ィンク部分を除去するブレードとを備え、

さらに、パターン溝内に触媒インクを含ませた前記版胴に透明基材上の下地層を押圧された状態で所定時間保持させる部材と、

前記触媒インクを前記下地層上に転写するために、押圧した後に透明基材を前記版月同から離間させる部材とを有する、ことを特徴とする電磁波遮蔽膜付き透明基材の製造装置であることを特徴とする。

本発明において、パターン溝内に触媒インクを含ませた前記版胴に透明基材上の下地層を押圧された状態で所定時間保持させる部材と、押圧した後に透明基材を前記版胴から離間させる部材は同じ部材であってもよい。

発明の効果

[0011] 本発明の電磁波遮蔽膜付き透明基材によれば、グラビア印刷用の版胴上の触媒ィンクに前記透明基材上の下地層を所定の時間押圧させることにより前記触媒インクを前記下地層上に転写するので、触媒インク層のパターンを高精度とすることができ、その結果、電磁波遮蔽膜のノターン精度を高精度とすることができる。

したがって、高い導電性と優れた透明性、及び高精度のパターンを有する電磁波遮蔽膜付き透明基材を容易に実現することができる。

[0012] 本発明の電磁波遮蔽膜付き透明基材の製造方法によれば、所定のパターンの版胴上の触媒インクと、透明基材上に形成された下地層とを押圧させて所定の時間保持し、次いで、前記透明基材と前記版胴とを離間させて前記版胴上の触媒インクを前記透明基材の下地層上に転写するので、短工程かつ安価な製造プロセスにて電磁波遮蔽膜の高精度のパターユングを行うことができる。

したがって、高!ヽ導電性と優れた透明性及び高精度のパターンを有する電磁波遮蔽膜付き透明基材を、短工程かつ安価な製造プロセスにて製造することができる。

[0013] 本発明の電磁波遮蔽膜付き透明基材の製造装置によれば、グラビア印刷用の所定のパターンを設けた版胴と、該版胴上に触媒インクを塗布するデイスペンサと、塗布された前記触媒インクの余剰部分を除去するブレードとを備え、前記透明基材上の下地層を前記版胴に押圧された状態で所定時間保持した後に前記版胴から離間させ、前記触媒インクを前記下地層上に転写することとしたので、高い導電性と優れた透明性及び高精度のパターンを有する電磁波遮蔽膜付き透明基材を、簡単な構成の装置を用いて、短工程かつ安価に安価な製造プロセスで製造することができる。図面の簡単な説明

[0014] [図 1]本発明の電磁波遮蔽膜付き透明フィルムの一例を示す平面図である。

[図 2]本発明の電磁波遮蔽膜付き透明フィルムの一例を示す部分拡大断面図である

[図 3]本発明の電磁波遮蔽膜付き透明基材の製造装置の一例を示す概略構成図である。

[図 4]本発明の電磁波遮蔽膜付き透明基材の製造装置の変形例を示す概略構成図である。

符号の説明

[0015] 1 透明フィルム

2 プライマー層

3 触媒インク層

4 金属層

11 版胴

12 パターン溝

13 デイスペンサ

14 ブレード

15、 16 バックアップロール

C 触媒インク

F グラビア印刷用透明フィルム

S 線間隔

L 線幅

発明を実施するための最良の形態

[0016] 本発明の電磁波遮蔽膜付き透明基材とその製造方法、及び製造装置を実施するための最良の形態について説明する。なお、この形態は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。

本発明の電磁波遮蔽膜付き透明基材とその製造方法及び製造装置は、さらに詳しくは、プラズマディスプレイパネル（PDP)等の各種フラットパネルディスプレイ（FPD) に好適に用いられる事ができ、高ヽ導電性と優れた透明性を有する電磁波遮蔽膜付き透明基材と、短工程かつ安価な製造プロセスにて高精度のパターユングが可能な製造方法及び製造装置に関するものである。

[0017] 以下に電磁波遮蔽膜付き透明フィルムについて、図 1と 2を用いて説明する。

図 1は、本発明の電磁波遮蔽膜付き透明フィルムの一例を示す平面図、図 2はその同部分拡大断面図である。図において、 1はポリエチレンテレフタレート (PET)等の柔軟性を有する透明フィルム (透明基材）、 2は透明フィルム 1の上面全体に形成されたプライマー層（下地層）、 3はプライマー層 2上にグラビア印刷法により所定のパターンに形成された触媒インク層、 4は触媒インク層 3上にメツキ法により形成された前記パターンと同一パターン形状の金属層である。なお本発明において電磁波遮蔽膜とは、触媒インク層及び金属層の組み合わせを意味するものとする。

[0018] この触媒インク層 3は、グラビア印刷用の版胴上の触媒インクに透明フィルム 1のプライマー層 2を所定の時間押圧させることにより、この触媒インクをプライマー層 2上に転写したものである。この触媒インク層 3及び金属層 4のパターン形状は必要に応じて選択でき、電磁波遮蔽が可能であればいかなる形状であっても良い。具体例としては格子状パターンが挙げられ、線幅や線間隔も必要に応じて選択できる。例えば、線幅 Lが 5〜： LOO μ m、線間隔 Sが 150〜500 μ mの格子状が好ましく使用できる。格子の線の数や幅や傾き、線の形状、また穴の数や形状や大きさなどは、必要に応じて変更してよい。四角、円形、その他の多角形などであってもよい。また上下左右で必要に応じてパターンの各条件を変えても良い。本発明によれば、切れ目や継ぎ目のな、連続したパターンを有する電磁波遮蔽膜付き透明基材を提供することも可能であり、利用やコストの面で有利である。本発明の製造方法によればいかなる形状も精度よく所望のパターン形状を形成できる。

[0019] 透明フィルム 1は、柔軟性を有するフィルムであってグラビア印刷に使用できる限り、特に制限なく使用できる。例えば透明フィルムの材料としては、 PET、 PEN, TACなどが使用できる。これらは単独で使用してもよく組み合わせて使用しても良い。いかなるポリマーであっても良ぐホモポリマーであっても共重合体であってもよい。透明フィルムは単層であってもよぐまたは積層であってもよい。また柔軟性についても特に問題のない限り!/、かなる程度であってもよ、。フィルムの膜厚は特に問題のな!、限りいかなる厚さであっても良いが、 10-200 であることが好ましぐ 30〜

150 mであることが好ましい。本発明の製造方法では連続した処理が可能なことから、連続した長い透明フィルムでも使用できる。長さや幅等は特に制限はされない。

[0020] プライマー層 2は、酸ィ匕物微粒子及び有機高分子を含む複合材料により構成されている。

酸ィ匕物微粒子としては、アルミナ、チタ-ァ、ジルコユア等の金属酸化物、あるいはシリカ等の無機酸ィ匕物が挙げられ、これらは単独で使用されても 2種以上を混合してちょい。

有機高分子としては、金属層 3をメツキする際のメツキ浴に対して耐性を有する榭脂であれは特に制限はなぐ必要に応じて選択できる。例えば、耐熱温度が 120〜150 °Cで耐薬品性に優れた榭脂であれば使用でき、ェチルセルロース、プロピルセル口ース等のセルロース誘導体、ポリビュルブチラール、アクリル榭脂、ポリウレタン榭脂、ロジンエステル榭脂等が挙げられ、これらは単独で使用してもよく 2種類以上を混合してちよい。

[0021] 特に、ポリウレタン榭脂等の柔軟性を有する榭脂を使用すれば、プライマー層自体が柔軟性を有することとなり、グラビア印刷法にて触媒インクが胴版力プライマー層上に転写される際に、プライマー層が胴版のパターン溝に接触し、かつパターン溝に押し込められることで、転写性も良好となるので好まヽ。

[0022] これら酸化物微粒子 (M)と有機高分子 (R)との比率 (MZR)は、重量比で 90/1 0〜： LOZ90が好ましぐより好ましくは 75Z25〜25Z75が好ましぐさらに好ましくは 60Z40〜40Z60である。

酸ィ匕物微粒子の比率が上記の範囲の上限以下であると、透明フィルム 1との密着強度が維持でき、得られた電磁波遮蔽膜付き透明フィルム自体の透過率が低下せず、ヘーズも高くならない。一方、比率が上記の範囲の下限値以上であると、透明フイルム 1との密着強度が維持でき、加えてグラビア印刷法により触媒インク層を形成する際の受容層としての効果が維持でき、印刷した触媒インク層に垂れや滲みを生じる虞がない。

[0023] また、このプライマー層 2の厚みは、 0. 5〜10 μ mが好ましぐ 0. 7〜7 μ mがより好ましぐさらに好ましくは 1〜3 μ mである。

プライマー層 2の厚みが上記の範囲下限値以上であると、グラビア印刷法により触媒インク層を形成する際の受容層としての効果が維持でき、一方、厚みが上記の範囲上限値以下であると、印刷した触媒インク層に割れ等が生じる虞がな、。

[0024] 触媒インク層 3は、貴金属微粒子を担持させた酸化物微粒子と、黒色顔料と、有機高分子を含む複合材料により構成されてヽる。

ここで、貴金属微粒子を担持させた酸ィ匕物微粒子を用いたのは、貴金属微粒子を酸ィ匕物微粒子に担持させることにより、印刷に適する触媒インクのチクソトロピー性が得られ、良好な印刷形状が得られるからである。

貴金属微粒子としては特に限定はされないが、ノラジウム、白金、金等の微粒子が挙げられる。これらの貴金属微粒子は単独で用いても 2種類以上を混合して用いても良い。微粒子はいかなるサイズや形状であってもよぐ例えば球形や薄膜細砕片であつても良い。好ましい粒径は 5〜5007? mであり、より好ましくは 10〜 100 r? mである。また、この貴金属微粒子を担持させる酸ィ匕物微粒子としては特に限定はされない力アルミナ、酸化亜鉛、ジルコユア、チタ-ァ等の金属酸ィ匕物微粒子が挙げられる。これらの金属酸ィ匕物微粒子は単独で用いても 2種類以上を混合して用いても良ヽ。微粒子はいかなるサイズや形状であってもよい。好ましい粒径は 5〜500 η mであり、より好ましくは 10〜： LOO 7? mである。

[0025] この貴金属微粒子 (N)と酸化物微粒子（M)の比率 (NZM)は、重量比で 0. 5/9 9. 5〜5Z95力子ましく、より好ましくは 1Z99〜2Z98である。貴金属微粒子の比率が上記の範囲の下限値以上であると、無電解メツキの触媒として十分機能する。一方、上記の範囲の上限以下であると、無電解メツキの触媒としての機能が飽和することがなぐ必要以上に高価な貴金属を使用することがなぐコストアップの原因とならない。

[0026] 黒色顔料としては、カーボンブラック等が挙げられる。

有機高分子としては、グラビア印刷に適正があり、アルカリ性の無電解メツキ液に対して耐性を有する榭脂であればよぐェチルセルロース、ロジンエステル系榭脂、ァクリル榭脂、ポリビュルプチラール榭脂、ポリウレタン榭脂等が例として挙げられる。これらの榭脂は単独で用いても 2種類以上を混合して用いても良、。

[0027] また、貴金属微粒子を担持させた酸化物微粒子 (NM)と、有機高分子 (R)との比 ^ (NM/R) ίま、重量 i:匕で 40/60〜80/20力 S好ましく、 50/50〜80/20力り好ましぐさらに好ましくは 60Z40〜70Z30である。酸化物微粒子の比率が上記の範囲の下限値以上であると、含まれている貴金属微粒子が高分子榭脂ですベて覆われてしまうことがなぐ無電解メツキの触媒として機能できる。一方、上記の範囲の上限値以下であると、印刷性が悪くなることがなぐかつ高分子榭脂による印刷膜の硬化が十分であり、透明フィルムとの密着性が十分に得られる。

[0028] 金属層 4は、電磁波遮蔽膜に導電性を付与するためのものである。必要に応じて選択してよいが、無電解銅メツキ層またはニッケルメツキ層力もなる 1層構造のもの、または、電気銅メツキ層上に、例えば、黒色ニッケルメツキ層、黒色クロムメツキ層、 -ッケルースズ合金メッキ層等の黒色メツキ層を形成した 2層構造のものなどが挙げられる。特に、低抵抗の電磁波遮蔽膜を得たい場合には、 2層構造のものが好ましい。この黒色メツキ層は、表面及び両側面を同時に黒色化することが可能であり、しかも導電性を低下させることがない。

[0029] 次に、本実施形態の電磁波遮蔽膜付き透明フィルムの製造方法について説明する

「プライマー層の形成」

まず、グラビア印刷法、バーコート印刷法、オフセット印刷法等により、ポリエチレンテレフタレート（PET)等の柔軟性を有する透明フィルム 1上にプライマー層形成用塗料を塗工し、その後乾燥させることにより、プライマー層 2を形成する。

[0030] プライマー層形成用塗料としては、酸化物微粒子と、有機高分子と、有機溶剤を含む塗料が好適に用いられる。酸ィ匕物微粒子としては、アルミナ、チタ-ァ、ジルコユア等の金属酸化物、あるいはシリカ等の無機酸ィ匕物が挙げられ、これら 2種以上を混合してもよ、。

この酸化物微粒子の含有量は、 0. 2重量％〜15重量％が好ましぐ 0. 5重量％〜 12重量％がより好ましぐさらに好ましくは 1重量％〜8重量％である。

酸化物微粒子の含有量が 0. 2重量％以上であると、プライマー層 2の厚みが薄すぎることがなぐ触媒インク層を形成する際の受容層としての効果が小さくなることがない。一方、 15重量％以下であると、プライマー層 2の厚みが厚すぎることがなぐ印刷した触媒インク層に割れが生じな!/、。

[0031] 有機高分子としては、金属層 3をメツキする際のメツキ浴に対して耐性を有する榭脂を使用でき、例えば、耐熱温度が 120〜150°Cで耐薬品性に優れた榭脂であれば好ましく使用できる。ェチルセルロース、プロピルセルロース等のセルロース誘導体、ポリビニルプチラール、アクリル榭脂、ポリウレタン榭脂、ロジンエステル榭脂等が例として挙げられ、これら 2種類以上を混合してもよい。

この有機高分子の含有量は、 0. 2重量％〜15重量％が好ましぐより好ましくは 0. 5〜12重量％であり、さらに好ましくは 1重量％〜8重量％である。

有機高分子の含有量が 0. 2重量％以上であると、プライマー層 2の厚みが薄くなりすぎず、触媒インク層を形成する際の受容層としての効果が保たれる。一方、 15重量％以下であると、プライマー層 2の厚みが厚すぎることがなぐ印刷した触媒インク層に割れが生じない。

[0032] 特に、プライマー層に、ポリウレタン榭脂等の柔軟性を有する榭脂を使用すれば、プライマー層自体が柔軟性を有することとなり、グラビア印刷法にて触媒インクが胴版力プライマー層上に転写される際に、プライマー層が胴版のパターン溝に追従して接触でき、かつパターン溝に向かって押し込められることができることで、転写性も良好となるので好ましい。

[0033] 有機溶剤としては、酸化物微粒子の分散が可能で、しかも有機高分子を溶解することが可能であれば好ましく使用できる。例えば、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、シクロへキサノン等の環化脂肪族炭化水素、メチルェチルケトン (MEK)等のケトン類、イソプロピルアルコール等のアルコール類が好適に用いられる。この有機溶剤に、酸ィ匕物微粒子の分散をし易くするために、リン酸エステル系の分散剤等を添加しても良い。

[0034] 得られたプライマー層 2の厚みは、 0. 5〜5. 0 μ mが好ましぐ 0. 4〜4. 0 μ mがより好ましぐさらに好ましくは 1. 0〜3. O /z mである。プライマー層 2の厚みが上記の範囲の下限以上であると、グラビア印刷法により触媒インク層を形成する際の受容層としての効果が保たれ、一方、厚みが上記の範囲の上限以下であると、印刷した触媒インク層に割れ等が生じる虞がな、。

[0035] 「触媒インク層の形成」

上記のプライマー層 2上に、グラビア印刷法により触媒インクを所定のパターンにて塗布し、その後乾燥させることにより、触媒インク層 3を形成する。

触媒インクとしては制限はなぐ特に問題のない限り必要に応じて選択できる。貴金属微粒子を担持させた酸化物微粒子と、黒色顔料と、有機高分子と、有機溶剤を含むインクが好適に用いられる。

この貴金属微粒子を担持させた酸ィ匕物微粒子は、印刷に適する触媒インクのチタソトロピー性、良好な印刷形状を得るために用いられる。

[0036] 貴金属微粒子の含有量は、 0. 01重量％〜1. 5重量％が好ましぐ 0. 05重量％

〜1重量％がより好ましぐさらに好ましくは 0. 10重量％〜0. 50重量％である。貴金属微粒子の含有量が 0. 01重量％以上であると、無電解めつきの触媒として機能することができ、一方、 1. 5重量％以下であると、高価な貴金属を必要以上に使用することなく十分な効果が得られ、コストアップの原因となることがない。

[0037] 酸化物微粒子の含有量は、 3. 0重量％〜27. 0重量％が好ましぐ 8. 0重量％〜

23. 0重量％がより好ましぐさらに好ましくは 13. 0重量％〜20. 0重量％である。酸化物微粒子の含有量が 3. 0重量％以上であると、触媒インクの粘度が低力つたりチクソトロピー性を失うことがなぐ印刷膜に垂れが生じず、印刷精度が低下しない

。一方、 27. 0重量％以下であると、触媒インクの粘度が高くなりすぎず、ブレードで余剰部分を除去する際に、除去が完全にでき残ることがない。

[0038] 黒色顔料としては必要に応じて選択できる力好ましい例としてカーボンブラック等が挙げられる。この黒色顔料の含有量は、 0. 03重量％〜3. 0重量％が好ましぐ 0. 05重量％〜 2. 0重量％がより好ましぐさらに好ましくは 0. 1重量％〜1. 0重量％である。

黒色顔料の含有量が 0. 03重量％以上であると、印刷膜裏面のメッシュの黒色度が不足することなぐ PDP等のディスプレイの表示面に搭載した場合、良好なコントラストが得られ、一方、 3. 0重量％以下であると、印刷膜裏面のメッシュの黒色度が良好かつ良好なコントラストも得られたまま、印刷性も維持できるからである。

[0039] 有機高分子としては、グラビア印刷に適正があり、アルカリ性の無電解メツキ液に対して耐性を有する榭脂であれば制限なく使用できる。ェチルセルロース、ロジンエステル系榭脂、アクリル榭脂、ポリビュルプチラール榭脂、ポリウレタン榭脂等が例として挙げられる。これらの榭脂は単独で用いても 2種類以上を混合して用いても良、。中でも、ェチルセルロースがグラビア印刷に好適である。

この有機高分子の含有量は、 1. 0重量％〜15. 0重量％が好ましぐ 3. 0重量％〜12. 0重量％がより好ましぐさらに好ましくは 6. 0重量％〜10. 0重量％である。有機高分子の含有量が 1. 0重量％以上であると、インクの粘度が低くならず印刷に適するからであり、一方、 15. 0重量％以下であると、インクの粘度が高くなり過ぎず印刷に適しなくなるからである。

[0040] 有機溶剤としては、有機高分子の溶解が可能で、しかもグラビア印刷に適正があればよい。例えば、トルエン、メチルェチルケトン（MEK)、メチルイソブチルケトン（Ml BK)、酢酸ブチル、シクロへキサノン、ブチルカルビトール、ブチルカルビトールァセテート、 a テルビネオール等が挙げられる。

[0041] この虫媒インクの粘度は、 l〜500Pa ' s力好ましく、 25〜350Pa' s力より好ましく、さらに好ましくは 50〜200Pa' sである。

触媒インクの粘度が lPa' s以上であると、インクのチクソトロピー性が維持され、糸引き等の不具合が生じず良好な印刷形状が得られる。一方、 500Pa ' s以下であると、グラビア印刷の際に均一にインクを供給することができ、印刷ムラが生じないからである。

[0042] 以下に触媒インク層の形成工程の一例について説明する。

本発明の電磁波遮蔽膜付き透明基材の製造装置には、版胴への透明基材の押圧を効率よく行うために、押圧及び Z又は離間部材を有することができる。具体例としては、必要に応じて、一つ以上のロールを、好ましくは 2つ以上のロールを、より好ましくは少なくとも一対のロールをこれらのロール同士が互いに離間した状態で、前記版月同と平行に設けることができる。これらの各ロールの押圧位置を調整することにより、前記透明基材が前記版胴に押圧される時間を好ましく制御できる。ロールは版月同に接触するように配置されても、離れて配置されても良い。位置は任意で設定可能であり、版胴を挟んで、透明シートの上流に配置されてもよぐ下流に配置されても良い。これらロールの少なくとも一つはシートの版胴からの離間を促進する部材であってもよい。

[0043] 上記のように、前記版胴に透明基材を押圧するための一対のロールを、離間した状態で前記版胴と平行に設け、各ロールの押圧位置を調整して透明基材が版胴に押圧される時間を制御することにより、下地層上に転写される触媒インク層のパターンの精度がさらに向上する。

[0044] 例えば、プライマー層 2上への触媒インク層 3の転写は、図 3に示す装置を用いて行うことができる。

この装置は、グラビア印刷法により透明フィルム 1のプライマー層 2上に、所定のパターンを有する触媒インク層 3を形成するための装置である。図 3において、 11は円筒状の筒の表面にパターン溝 12が形成されたグラビア印刷用の版胴、 13は版胴 11 上に触媒インク Cを塗布するデイスペンサ、 14は塗布された触媒インク Cのうちパターン溝 12以外の余剰部分を除去するブレード、 15、 16は透明フィルム 1の一方の面にプライマー層 2が形成されたグラビア印刷用透明フィルム Fを版胴 11に所定時間押圧させるバックアップロールである。版胴の直径や幅、パターン形状や、パターン溝の深さや溝の断面形状は必要に応じて選択してょヽ。例えば溝の深さは一般的には 1〜50 μ m、好ましい溝の深さは 3〜20 μ m、より好ましくは 5〜15 μ mである。深さは均一でもよぐ必要に応じて位置によって変化させてもよい。好ましい溝の断面形状は、隅が曲面で形成された四角状や半円状である。

[0045] まず最初に、透明フィルム Fを版胴 11に所定時間押圧させるために、印刷速度に合わせて一定の押圧時間が得られるようにバックアップロール 16の位置調整する。この押圧時間は必要に応じて選択でき、 0. 5〜10秒が好ましぐ 0. 5〜7秒が好ましく、より好ましくは 1〜5秒である。なお本発明において押圧時間とは透明フィルムが版胴に接触している時間を意味する。

押圧時間が 0. 5秒以上であると、プライマー層 2への有機溶剤の吸収が十分であり、版胴 11のパターン溝 12に充填された触媒インクの粘度が高くなり、糸引き等の不具合が発生しせず良好な印刷形状が得られる。一方、押圧時間が 10秒以下であると、有機溶剤が吸収され過ぎて触媒インクの粘度が高くなり過ぎることがなぐ透明フィルム Fへの転写が困難とならな!/、。

押圧の圧力は、最大値が 10〜500Nの範囲内であることが好ましぐ 100〜300N の範囲内であることがさらに好ましい。

[0046] 次いで、デイスペンサ 13により版胴 11上に触媒インク Cを塗布し、ブレード 14により塗布された触媒インク Cのうちパターン溝 12以外の余剰部分を除去する。ブレードの形状や材料及び数は必要に応じて選択できる。

透明フィルム Fをバックアップロール 15、 16により版胴 11に押圧させつつ版胴 11 に沿って回転移動させることにより、版胴 11上の触媒インク Cに透明フィルム Fのブライマ一層 2が押圧されたまま所定の時間保持されて回転移動する。

次、で、バックアップロール 16により透明フィルム Fをロールと版胴の間から引き出し、この透明フィルム Fを版胴 11から離間させることにより、版胴 11上の触媒インク C を透明フィルム Fのプライマー層 2上に転写する。

次いで、必要に応じて乾燥器等を用いて乾燥し、乾燥された触媒インク層 3を得る。この乾燥は、透明フィルム Fの耐熱性と触媒インク Cの転写膜の乾燥割れを考慮して 100°C以下で行うことが好まし!/、。

以上により、透明フィルム Fのプライマー層 2上に、グラビア印刷法により所定のパターンの触媒インク層 3を形成することができる。

[0047] このように、上記の組成のプライマー層形成用塗料及び触媒インクを用いることにより、透明フィルム Fへの転写性と転写率が良い、更に従来のような転写シート（ブランケット）を使用する事無い、版胴 11から直接透明フィルム Fへ触媒インク Cを転写する「グラビア直刷り法」が実施できる。 [0048] このような直刷り法により、従来の方法では必要であったブランケットは不要となる。本発明では、円筒形状の版胴 11を用いることにより、シリンダー版によるエンドレス版が可能となった。

また、この版胴 11を用いることで、マスクレスの直描で版胴 11を作製することができる。またパターン溝の深度を調整することで、ブランケットを使用するグラビア印刷に比べてより厚みのある膜の印刷が可能となり、触媒インクの厚みによる触媒総量が増加し、メツキの析出を容易にすることができる。触媒インク層の厚みは 0. 1〜10 /ζ πι であることが好ましぐ 1〜5 /ζ πιであることがより好ましい。本発明の版胴の直径は必要に応じて選択できるため、使用される透明フィルムやインクの条件に応じて好ましいものを選択できる。適当な直径や幅の版胴を選択すれば、サイズの大きな電磁波遮蔽膜付き透明基材であっても、本発明によって容易に製造できる。

[0049] また、透明フィルム Fを版胴 11に所定時間押圧させることにより、パターン溝 12に充填された触媒インク中の溶剤が受容層であるプライマー層 2中に吸収されるので、触媒インクの粘度が急激に高くなり、パターン溝 12に充填された触媒インクを版の画像形状をそのまま維持した状態で透明フィルム F側に転写させることができる。押圧時間はコントロールでき、ばらつきのない転写が実施できる。

また、プライマー層 2に吸収された溶剤は、ー且プライマー層 2表面の榭脂を溶解し、触媒インクと界面で相溶するので、乾燥後の透明フィルム Fと触媒インク層 3との密着強度が強くなる。このように、ファインパターンを高速で、例えば、線幅 Lが 10〜20 IX m程度のファインパターンを 10mZ分前後の高速で、設計された画像形状を維持したまま印刷することが可能となった。なお本発明で速度の制限はないが、一般的な速度は 5〜30mZ分であり、好ましくは 5〜20mZ分であり、より好ましくは 5〜15m Z分である。

[0050] 次に図 4について説明する。

本発明の電磁波遮蔽膜付き透明基材の製造装置は、ブレードを、第 1及び第 2のブレードにより構成し、前記第 1のブレードにより前記触媒インクの余剰部分を除去した後、前記第 2のブレードにより前記触媒インクの余剰部分をさらに除去してもよい。

[0051] この電磁波遮蔽膜付き透明基材の製造装置では、第 1のブレードにより触媒インクの余剰部分を除去した後、第 2のブレードにより前記触媒インクの余剰部分をさらに除去することにより、下地層上に転写される触媒インク層のパターンの精度がさらに向上する。

図 4は、第 1のブレードと第 2のブレードとを有する本発明の電磁波遮蔽膜付き透明基材の製造装置の一例を示す概略構成図である。図 3に示す電磁波遮蔽膜付き透明基材の製造装置と異なる点は、ブレード 14の下流側に、このブレード 14と平行に（第 2の）ブレード 21を設け、ブレード 14により触媒インク Cのうちパターン溝 12以外の余剰部分を除去した後に、ブレード 21により触媒インク Cの余剰部分をさらに除去する構成である。

[0052] この製造装置においても、図 3に示す製造装置と同様の効果を奏することができる。し力も、ブレード 14、 21を用いて塗布された触媒インク Cのうちパターン溝 12以外の余剰部分を除去するので、プライマー層 2上に転写される触媒インクのパターンの精度をさらに向上させることができる。

[0053] 「金属層の形成」

触媒インク層 3が形成された透明フィルム Fを、メツキ浴中に、例えば無電解銅メツキ浴やニッケルメツキ浴中に浸漬し、触媒インク層 3上に金属を析出させることにより、金属層 4を形成する。メツキの種類は特に限定されないが、銅、ニッケル、金などが使用できる。

さらに、低抵抗のメッシュ膜を得たい場合には、触媒インク層 3上に無電解メツキによる金属層 4を設け、更に電気銅メツキなどを施す。また、所定の抵抗値が得られた後、黒色メツキを行うことができる。黒色メツキは銅メツキ表面の導電性を劣化させないことが好ましぐ黒色ニッケルメツキ、黒色クロムメツキ、ニッケル一スズ合金メッキ等が例として挙げられる。

[0054] この黒色メツキは、メッシュ膜の表面と側面の 3面を同時に黒色化することができ、かつ導電性を劣化させることもなヽ。

一方、触媒インク層 3の裏面側のメッシュ部も触媒インク中の黒色顔料により良好な黒色を呈しているので、メッシュ膜の表面、側面、裏面の 4面の黒色化が可能であり、ディスプレイに搭載しても良好なコントラストを得ることができる。以上により、高い導電性と優れた透明性を有し、し力も編目状のパターンの黒色性に優れた電磁波遮蔽膜付き透明基材であっても、短工程かつ安価な製造プロセスにて製造することができる。

本発明で得られた電磁波遮蔽膜付き透明基材の表面抵抗は、一般的には 0. 02 〜20 ΩΖ口であり、好ましくは 0. 05-0. 2ΩΖ口である、可視光透過率は一般的に ίま 70〜90⁰/₀であり、好ましく ίま 80〜90⁰/₀である。

実施例

[0055] 本発明を実施例及び比較例により説明するが、本発明はこの実施例に限定されるものではない。

(実施例 1)「プライマー層形成用塗料の作製及びプライマー層の形成」

アルミナ粉末 240g、リン酸エステル系分散剤 28gをトルエン 1332gに投入し、サンドミルを用いて分散させ、アルミナ分散液を作製した。

[0056] 次いで、ェチルセルロース 240gをトルエン 1808gに溶解させ、この溶液に、上記のアルミナ分散液とシクロへキサノン 552gとメチルェチルケトン（MEK) 1800gを加え、ホモジナイザーで混合し、プライマー層形成用塗料を作製した。

次いで、このプライマー層形成用塗料を、厚みが 125 mのポリエチレンテレフタレート（PET)フィルム上にマイクログラビア印刷により塗工し、その後乾燥し、透明フィルムを得た。得られたプライマー層の膜厚は 2 mであった。

[0057] 「触媒インクの作製及び触媒インク層の形成」

パラジウム微粒子 3. 5gと γ アルミナ 171. 5gをエタノール中で分散、凝集させ、固液分離した後乾燥させ、ノラジウム微粒子を担持させた γ アルミナ微粒子を得た。

次いで、 at テルビネオール 472g及びブチルカルビトールアセテート 236gからなる溶液に、ェチルセルロース 90gを溶解させ、さらに上記のパラジウム微粒子を担持させた γ アルミナ微粒子とカーボンブラック 9gをカ卩え、三本ロールミルで混合、分散し、触媒インクを作製した。

この触媒インク及び上記の透明フィルムを用い、図 3に示す装置により 10mZ分の速度及び押圧時間 2秒の条件で透明フィルム上に、 LZS = 20Z280 /z mのメッシュパターンをグラビア印刷し、 80°Cにて 5分間、乾燥し、印刷メッシュフィルムを得た。得られたメッシュパターンの形状は非常に良好で、外観上の問題は無力つた。なお外観上の評価は、スジ、ムラ等がなく均一な膜であることを良好であると判断した。

[0058] 「金属層の形成」

上記の印刷メッシュフィルムを、 25°Cの無電解銅メツキ液 OPC— 750 (奥野製薬社製）中に 40分間浸漬させ、メッシュパターン上に銅を析出させた。その後、ニッケル Zスズの合金メッキを施し、メッシュパターンの表面を黒色化させた。得られた金属メッシュ膜は Ι^Ζ3 = 20Ζ280 /ζ πιであり、表面抵抗は 0. 2 Ω Ζ口、可視光透過率は 84%であった。

表面抵抗の測定はロレスタ（四端子抵抗測定機、三菱化学 (株)製)を用いて常温常圧の条件で行った。

可視光透過率の測定はヘーズメーターを用いて常温常圧の条件で行った。

[0059] (実施例 2)

実施例 1のアルミナ粉末をジルコユア粉末に変えた以外は、実施例 1と同様にして印刷メッシュフィルムを作製した。得られたメッシュパターンの形状は非常に良好で、外観上の問題は無力つた。

次いで、この印刷メッシュフィルムに、実施例 1と同様にメツキ処理を施し、金属メッシュ膜を作製した。

得られた金属メッシュ膜は Ι^Ζ3 = 20Ζ230 /ζ πιであり、表面抵抗は 0. 2 Ω Ζ口、可視光透過率は 84%であった。

[0060] (実施例 3)

実施例 1のアルミナ粉末をシリカ粉末に変えた以外は、実施例 1と同様にして印刷メッシュフィルムを作製した。得られたメッシュパターンの形状は非常に良好で、外観上の問題は無かった。

得られた金属メッシュ膜は Ι^Ζ3 = 20Ζ230 /ζ πιであり、表面抵抗は 0. 2 Ω Ζ口、可視光透過率は 84%であった。 [0061] (実施例 4)

実施例 1と同様にして印刷メッシュフィルムを作製した。得られたメッシュパターンの形状は非常に良好で、外観上の問題は無力つた。

次いで、この印刷メッシュフィルムを、 25°Cの無電解銅メツキ液 OPC— 750 (奥野製薬社製）中に 10分間浸漬させ、メッシュパターン上に銅を析出させた。

次いで、この銅を析出させた印刷メッシュフィルムに、電気銅メツキ液トツプルチナ SF (奥野製薬社製)を用いて、 3AZdm²の電流密度で 25°Cにて 5分間、電気銅メッキ処理を施した。その後、ニッケル Zスズの合金メッキを施し、メッシュパターンの表面を黒色化させた。得られた金属メッシュ膜は Ι^Ζ3 = 20Ζ280 /ζ πιであり、表面抵抗は 0. 05 Ω Ζ口、可視光透過率は 84%であった。

[0062] (実施例 5)

実施例 1と同様にして透明フィルムを作製した。

次、で、実施例 1の触媒インクのアルミナ粉末をジルコユア粉末に変えた以外は、実施例 1と同様にして触媒インクを作製した。

この触媒インクを用い、図 3に示す装置により 20mZ分の速度で上記の透明フィルム上に、 LZS = 10Z290 mのメッシュパターンをグラビア印刷し、 80°Cにて 5分間、乾燥し、印刷メッシュフィルムを得た。得られたメッシュパターンの形状は非常に良好で、外観上の問題は無力つた。

その後、実施例 4と同様にしてメツキ処理を施した。

得られた金属メッシュ膜は Ι^Ζ3 = 10Ζ290 /ζ πιであり、表面抵抗は 0. 1 Ω Ζ口、可視光透過率は 90%であった。

[0063] (比較例 1)「プライマー層形成用塗料の作製及びプライマー層の形成」

次いで、ェチルセルロース 240gをトルエン 1808gに溶解させ、この溶液に、上記のアルミナ分散液とシクロへキサノン 552gとメチルェチルケトン（MEK) 1800gを加え、ホモジナイザーで混合し、プライマー層形成用塗料を作製した。

[0064] 「触媒インクの作製及び触媒インク層の形成」

この触媒インク及び上記の透明フィルムを用い、スクリーン印刷法により透明フィルム上に、実施例 1と同じ LZS = 20Z280 mのメッシュパターンを印刷し、 90°Cにて 10分間、乾燥した。なお実施例 1のような連続処理ができないため、良好なメッシュパターンの形状が得られる限界の印刷速度は、 lmZ分であった。

[0065] 「金属層の形成」

[0066] (比較例 2)

比較例 1と同様にして透明フィルム及び触媒インクを作製した。

次いで、この触媒インク及び透明フィルムを用い、ノックアップローラーを設けない、すなわち本発明のような押圧時間を設定しない通常のグラビア印刷法により、 10m Z分の印刷速度で透明フィルム上に、 LZS = 20Z280 μ mのメッシュパターンをグラビア印刷し、 80°Cにて 5分間、乾燥した。得られた印刷メッシュフィルムは、良好なメッシュパターンが得られず、外観上の不具合が生じた。

次いで、比較例 1と同様にして金属層を形成した力印刷メッシュの形状が悪ぐメツキ後の印刷メッシュフィルムにおいても印刷で生じた外観上の不具合が認められた

。表面抵抗は 0. 2ΩΖ口、可視光透過率は 80%であった。

[0067] (比較例 3)「触媒インクの作製」

[0068] 「触媒インク層の形成」

この触媒インクを用いて、図 3に示す装置により 10mZ分の速度で厚みが 125 m のポリエチレンテレフタレート（PET)フィルム上にそのままダイレクトに、 L/S = 20/ 280 mのメッシュパターンをグラビア印刷し、 80°Cにて 5分間、乾燥した。得られた印刷メッシュフィルムは、良好なメッシュパターンが得られず、外観上の不具合が生じた。

次いで、比較例 1と同様にして金属層を形成した力印刷メッシュの形状が悪ぐメツキ後の印刷メッシュフィルムにおいても印刷で生じた外観上の不具合が認められた。表面抵抗は 0. 2 Ω Ζ口、可視光透過率は 70%であった。

産業上の利用可能性

[0069] 本発明は、高、導電性と優れた透明性を有し、し力も短工程かつ安価な製造プロセスにて高精度のパター-ングが可能な、電磁波遮蔽膜付き透明基材とその製造方法及び製造装置を提供できる。本発明の電磁波遮蔽膜付き透明基材は、印刷法としてグラビア印刷法を採用し、またグラビア印刷用の版胴上の触媒インクに透明基材上の下地層を所定の時間押圧させることにより、透明基材上に高精度にパターニングされた電磁波遮蔽膜を低コストで安価に形成できる。プラズマディスプレイパネル (PD P)等の各種フラットパネルディスプレイ（FPD)はもちろんのこと、その他の表示装置等へも適用可能であり、その工業的価値は極めて大きなものである。

Claims

請求の範囲

[1] 柔軟性を有する透明基材上に、下地層と、所定のパターンを有する触媒インク層と

、前記パターンと同一形状の金属層とがこの順で積層されており、

前記触媒インク層が、グラビア印刷用の版胴上の触媒インクに前記透明基材上の下地層を所定の時間押圧させることにより前記触媒インクを前記下地層上に転写されたインク層であることを特徴とする電磁波遮蔽膜付き透明基材。

[2] 所定のパターンが形成されたグラビア印刷用の版胴上に触媒インクを塗布するェ程と、

を含むことを特徴とする電磁波遮蔽膜付き透明基材の製造方法。

[3] 柔軟性を有する透明基材上に、下地層、所定のパターンを有する触媒インク層、前記パターンと同一形状の金属層がこの順で積層された電磁波遮蔽膜付き透明基材の製造装置であって、

表面に所定のパターン溝が形成されたグラビア印刷用の版胴と、

該版胴上に触媒インクを塗布するデイスペンサと、

塗布された前記触媒インクのうち前記パターン溝内に含まれるインク以外の余剰ィンク部分を除去するブレードとを備え、

前記触媒インクを前記下地層上に転写するために、押圧した後に透明基材を前記版胴から離間させる部材とを有する、ことを特徴とする電磁波遮蔽膜付き透明基材の製造装置。

[4] 上記部材として、前記版胴に、前記透明基材を押圧するための一対のロールを含み、これらのロール同士は離間した状態で前記版胴と平行に設けられ、

各ロールの位置を調整することにより、前記透明基材が前記版胴に押圧される時間を制御することを特徴とする請求項 3記載の電磁波遮蔽膜付き透明基材の製造装置

[5] 前記ブレードは、第 1及び第 2のブレードからなり、

前記第 1のブレードにより前記触媒インクの余剰部分を除去した後、前記第 2のブレードにより前記触媒インクの余剰部分をさらに除去することを特徴とする請求項 3または 4記載の電磁波遮蔽膜付き透明基材の製造装置。

[6] 前記所定の時間が 0. 5〜10秒の範囲内である、請求項 1の電磁波遮蔽膜付き透明基材。

[7] 触媒インクが、貴金属微粒子を担持させた酸化物微粒子と、黒色顔料と、有機高分子を含む、請求項 1の電磁波遮蔽膜付き透明基材。

[8] 触媒インクの粘度は、 l〜500Pa ' sの範囲内である、請求項 1の電磁波遮蔽膜付き透明基材。

[9] 貴金属微粒子が、パラジウム、白金、金力なる群力選択される少なくとも一つであり、酸化物微粒子が、アルミナ、酸化亜鉛、ジルコユア、チタユアの金属酸化物微粒子力もなる群力も選択される少なくとも一つである、請求項 7の電磁波遮蔽膜付き透明基材。

[10] 金属層が、無電解銅メツキ層またはニッケルメツキ層である 1層構造の金属層、または、電気銅メツキ層上に、黒色ニッケルメツキ層、黒色クロムメツキ層、ニッケルースズ合金メッキ層からなる群力選択される一つの黒色メツキ層を形成した 2層構造の金属層である、請求項 1の電磁波遮蔽膜付き透明基材。