JP2013520686A - 基板シート上に製品特徴を印刷する方法 - Google Patents
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Abstract
【選択図】図3
Description
−複数の凹部を有する表面を含むマトリックスを提供する基本工程と、
−硬化性化合物で凹部を充填するように、硬化性化合物をマトリックス表面及び凹部に塗布する基本工程と、
−硬化性化合物の粘度を高める基本工程と、
−凹部の外側から余分な硬化性化合物を除去する基本工程と、
−マトリックスを基板シートの表面と接触させて凹部における硬化性化合物を基板シートの表面に移す(transferring)ことにより、硬化性化合物が基板シートの表面上に印刷製品特徴を形成する基本工程とを備える。
−基板シートと転がり接触しているように配置された複数の凹部を有する周方向表面を含むマトリックスロールと、
−マトリックスロール上に硬化性化合物を塗布するように配置されたアプリケータと、
−アプリケータで硬化性化合物を塗布した後、マトリックスロールの周方向表面から凹部の外側の余分な硬化性化合物を除去するように配置された除去手段と、
−余分な硬化性化合物を除去する前に硬化性化合物の粘度を高める、少なくともアプリケータと除去手段との間に配置された硬化手段とを備え、
凹部を充填する残りの硬化性化合物が転がり接触中に基板シートに移されるように配置される。
−複数の凹部12を有するマトリックス表面9を含むマトリックス8を提供する基本工程と、
−硬化性化合物13で凹部12を充填するように、硬化性化合物13をマトリックス表面9及び凹部12に塗布する基本工程と、
−凹部(12)の外側から余分な硬化性化合物(13)を除去する基本工程と、
−基板シート5からマトリックスを解放する場合に、基板シート5の表面7上に印刷製品特徴3を形成するために硬化性化合物13が基板シート5に取り付けられるように、マトリックス8を基板シート5の表面7と接触させることで凹部12における硬化性化合物13を基板シート5の表面7に移す基本工程とを備える。
−基板シート5と転がり接触しているように配置され、複数の凹部12を有する周方向表面9を含むマトリックスロール8と、
−マトリックスロール8の周方向表面9及び凹部12上に硬化性化合物13を塗布するように配置されたアプリケータ21と、
−アプリケータ21で硬化性化合物13を塗布した後、マトリックスロール8の周方向表面9から余分な硬化性化合物13を除去するように配置された除去手段22aと、
−硬化性化合物13の粘度を高める硬化手段23aとを備え、
それによって、凹部を充填する残りの硬化性化合物13は、印刷製品特徴3を形成するために、マトリックスロール8と基板シート5との転がり接触中に基板シート5に移される。
Claims (16)
- 基板シート(5)の表面(7)上に配置された印刷製品特徴(3)を含む製品を製造する方法であって、
複数の凹部(12)を有するマトリックス表面(9)を含むマトリックス(8)を提供する工程と、
硬化性化合物(13)で前記凹部(12)を充填するように、前記硬化性化合物(13)を前記マトリックス表面(9)及び前記凹部(12)に塗布する工程と、
前記硬化性化合物(13)の粘度を高める工程と、
前記凹部(12)の外側の前記マトリックス表面から余分な硬化性化合物を除去する工程と、
前記マトリックス(8)を基板シート(5)の前記表面(7)と接触させることで前記凹部(12)における前記硬化性化合物(13)を前記基板シート(5)の前記表面(7)に移すことによって、前記硬化性化合物が前記基板シート(5)の前記表面(7)上に前記印刷製品特徴(3)を形成する工程と、
を備えることを特徴とする方法。 - 前記粘度を高める工程は、余分な硬化性化合物を除去する前に、前記硬化性化合物(13)を少なくとも部分的に硬化することを含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記除去する工程は、研磨することを含むことを特徴とする請求項1又は2に記載の方法。
- 前記硬化性化合物(13)は、前記基板シート(5)と前記マトリックス(8)との接触中に硬化されることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の方法。
- 前記硬化性化合物(13)を移す前に、前記マトリックス(8)に対向する前記基板シート(5)の前記表面(7)上に表面層(6)を塗布する工程を更に備えることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の方法。
- 前記表面層(6)は、前記硬化性化合物(13)の前記基板シート(5)への接着を改善するための硬化性化合物を含むことを特徴とする請求項5に記載の方法。
- 前記マトリックス(8)は、マトリックスロール上に提供され、少なくとも前記硬化性化合物(13)を移すことは、ロールツーロール処理によって行われることを特徴とする請求項1から6のいずれか1項に記載の方法。
- 各々が前記基板シート(5)の反対側の印刷製品特徴(3)と関連付けられる更なる製品特徴(2)を提供する工程を更に備え、前記印刷製品特徴(3)及び前記更なる製品特徴(2)は、それぞれ、合成画像デバイスに対する画像オブジェクト及びフォーカス素子を形成することを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記凹部(12)は、前記硬化性化合物(13)の充填を改善するための支持構造(20)を含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記マトリックス表面から余分な硬化性化合物を除去する工程は、前記硬化性化合物を少なくとも部分的に吸収できる柔軟な拭き取り材料で前記マトリックス表面を拭き取ることを含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記拭き取ることは、双方とも前記マトリックス表面と接触している第1の拭き取りロールから第2の拭き取りロールに前記拭き取り材料のウェブを搬送することを含むことを特徴とする請求項10に記載の方法。
- 基板シート(5)の表面(7)上に配置された印刷製品特徴(3)を含む製品の連続的な製造のための装置であって、
前記基板シート(5)と転がり接触させられるように配置された複数の凹部(12)を有する周方向表面(9)を含むマトリックスロール(8)と、
前記マトリックスロール(8)上に硬化性化合物を塗布するように配置されたアプリケータ(21)と、
前記アプリケータ(21)で硬化性化合物(13)を塗布した後、前記マトリックスロール(8)の前記周方向表面(9)から余分な硬化性化合物を除去するように配置された除去手段(22a)と、
余分な硬化性化合物(13)を除去する前に、前記硬化性化合物(13)の粘度を高める少なくとも前記アプリケータ(21)と前記除去手段(22a)との間に配置された硬化手段(23a)とを備え、
前記凹部(12)を充填する残りの硬化性化合物が前記基板シートと前記マトリックスロールとの転がり接触中に前記基板シート(5)に移されることを特徴とする装置。 - 前記硬化手段は、前記硬化性化合物(13)を少なくとも部分的に硬化することで前記硬化性化合物の粘度を高めるように配置されることを特徴とする請求項12に記載の装置。
- 各々が前記基板シート(5)の反対側の印刷製品特徴(3)と関連付けられる更なる製品特徴(2)を提供する手段を更に備え、前記印刷製品特徴(3)及び前記更なる製品特徴(2)は、それぞれ、合成画像デバイスに対する画像オブジェクト及びフォーカス素子を形成することを特徴とする請求項13に記載の装置。
- 第1の拭き取りロールから第2の拭き取りロールに拭き取り材料のウェブを搬送するために前記マトリックス表面と接触するように配置された前記第1の拭き取りロール及び前記第2の拭き取りロールを更に備えることを特徴とする請求項12に記載の装置。
- 前記拭き取りロールは、前記マトリックス表面の形状になるように十分に柔軟な前記ウェブを支持する支持表面を含むことを特徴とする請求項15に記載の装置。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017069081A1 (ja) * | 2015-10-22 | 2017-04-27 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | 被印刷基材の表面構造及びその製造方法 |
Families Citing this family (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SE537104C2 (sv) * | 2012-11-02 | 2015-01-07 | Rolling Optics Ab | Höghastighetstillverkning av tryckta produktmikrokännemärken |
US9763370B2 (en) | 2013-03-15 | 2017-09-12 | National Technology & Engineering Solutions Of Sandia, Llc | Apparatus for assembly of microelectronic devices |
WO2014156452A1 (ja) * | 2013-03-28 | 2014-10-02 | 三菱レイヨン株式会社 | 光学フィルムの製造方法、光学フィルム、面発光体及び光学フィルムの製造装置 |
GB201313363D0 (en) | 2013-07-26 | 2013-09-11 | Rue De Int Ltd | Security devices and method of manufacture |
GB201313362D0 (en) | 2013-07-26 | 2013-09-11 | Rue De Int Ltd | Security Devices and Methods of Manufacture |
GB201317195D0 (en) * | 2013-09-27 | 2013-11-13 | Rue De Int Ltd | Method of manufacturing a pattern and apparatus therefor |
WO2015156723A1 (en) * | 2014-04-11 | 2015-10-15 | Rolling Optics Ab | Thin integral image devices |
GB2536877B (en) | 2015-03-23 | 2017-06-28 | De La Rue Int Ltd | Security device and method of manufacture |
MA42906A (fr) | 2015-07-10 | 2018-05-16 | De La Rue Int Ltd | Procédé de fabrication d'un motif dans ou sur un support |
MA42904A (fr) * | 2015-07-10 | 2018-05-16 | De La Rue Int Ltd | Procédés de fabrication de documents de sécurité et de dispositifs de sécurité |
GB2542847B (en) * | 2015-10-02 | 2019-12-04 | De La Rue Int Ltd | Methods of manufacturing a die form and applying a pattern to a support layer |
GB2550168B (en) | 2016-05-11 | 2018-07-25 | De La Rue Int Ltd | Security device and method of manufacture |
GB201612290D0 (en) | 2016-07-15 | 2016-08-31 | La Rue Int De Ltd | Methods of manufacturing a secuirty device |
GB2557167B (en) | 2016-09-30 | 2020-03-04 | De La Rue Int Ltd | Security devices |
ES2730122B2 (es) * | 2018-05-07 | 2020-03-12 | Latorre Jesus Francisco Barberan | Procedimiento para producir relieves mediante impresion digital y maquina de impresion digital |
GB2580069B (en) | 2018-12-20 | 2022-06-15 | De La Rue Int Ltd | Security documents and methods of manufacture thereof |
EP3888929B1 (en) | 2020-03-31 | 2022-05-11 | NWM Research Spolka z ograniczona Odpowiedzialnoscia Spolka komandytowa | A method of manufacturing a discretized optical security microstructure on a substrate and a shim for use in the method |
CN112277435B (zh) * | 2020-10-10 | 2021-07-13 | 山东华冠智能卡有限公司 | 一种石墨烯rfid标签天线的生产设备和生产方法 |
CN112319016B (zh) * | 2020-11-02 | 2021-07-13 | 山东华冠智能卡有限公司 | 一种石墨烯rfid电子标签的凹版印刷方法及装置 |
GB202101267D0 (en) | 2021-01-29 | 2021-03-17 | De La Rue Int Ltd | Security devices and methods of manufacture thereof |
CN113370693B (zh) * | 2021-07-13 | 2022-05-20 | 浙江英赛德数码科技有限公司 | 高效固化转印数码辊筒印刷工艺及设备 |
WO2023177744A1 (en) * | 2022-03-15 | 2023-09-21 | Nanografix Corporation | System and method for generating holographic optical images in curable material |
GB2621154A (en) | 2022-08-03 | 2024-02-07 | De La Rue Int Ltd | Security devices and methods of manufacture thereof |
Citations (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6364746A (ja) * | 1986-09-05 | 1988-03-23 | 大倉工業株式会社 | 立体感に富んだ塗装化粧板 |
JPH0228458A (ja) * | 1988-07-18 | 1990-01-30 | Konica Corp | クリーニング方法及びその装置 |
JPH05147195A (ja) * | 1991-11-27 | 1993-06-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 印刷方法および印刷装置 |
JPH0558287U (ja) * | 1992-01-22 | 1993-08-03 | 株式会社小森コーポレーション | 印刷機の印刷胴・ローラ洗浄装置 |
JPH06305108A (ja) * | 1993-04-23 | 1994-11-01 | Dainippon Printing Co Ltd | オフセット印刷装置 |
JP2001001494A (ja) * | 1999-06-24 | 2001-01-09 | Dainippon Printing Co Ltd | 転写型への充填方法および装置 |
JP2002258759A (ja) * | 2001-03-02 | 2002-09-11 | Hitachi Chem Co Ltd | 電磁波シールド材料の製造方法、及びこの製造方法により製造された電磁波シールド材料 |
JP2005217051A (ja) * | 2004-01-28 | 2005-08-11 | Kyocera Corp | 複合シート及び積層部品並びにその製造方法 |
JP2006193744A (ja) * | 2005-01-14 | 2006-07-27 | Xerox Corp | 放射線硬化型インクジェット用インク |
JP2007139898A (ja) * | 2005-11-15 | 2007-06-07 | Tohoku Univ | 光導波路装置の製造方法 |
JP2007230232A (ja) * | 2006-02-01 | 2007-09-13 | Fujifilm Corp | 画像形成装置及び画像形成方法 |
WO2007119707A1 (ja) * | 2006-04-10 | 2007-10-25 | Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd. | 電磁波遮蔽膜付き透明基材とその製造方法及び製造装置 |
WO2008059972A1 (fr) * | 2006-11-16 | 2008-05-22 | Mitsubishi Materials Corporation | Imprimante offset, procédé de fabrication d'un écran, composition d'encre pour l'impression, et procédé de formation d'une matrice à fond noir et d'une électrode de bus de panneau avant pour l'écran plasma utilisant la composition |
JP2009506908A (ja) * | 2005-09-02 | 2009-02-19 | ザール テクノロジー リミテッド | 印刷方法 |
JP2009073186A (ja) * | 2007-08-27 | 2009-04-09 | Seiko Epson Corp | 液体噴射ヘッド及び液体噴射ヘッドの製造方法並びに液体噴射装置 |
WO2009085004A1 (en) * | 2007-12-28 | 2009-07-09 | Rolling Optics Ab | Method of producing a microstructured product |
JP2009541873A (ja) * | 2006-06-27 | 2009-11-26 | ギーゼッケ アンド デブリエント ゲーエムベーハー | マイクロパターンの成形方法、ダイ構造、マイクロパターンを有する物品 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4676157A (en) * | 1985-05-28 | 1987-06-30 | Komori Printing | Wiping apparatus for intaglio printing machine |
US5331891A (en) | 1992-01-22 | 1994-07-26 | Komori Corporation | Printing cylinder/roller cleaning apparatus for printing press and method of cleaning printing cylinder/roller |
JP2604502Y2 (ja) | 1992-11-30 | 2000-05-22 | 株式会社小森コーポレーション | 印刷機のシリンダ洗浄装置 |
KR100366906B1 (ko) * | 1994-02-22 | 2003-02-11 | 니혼 미크로 코팅 가부시끼 가이샤 | 연마시트및그제조방법 |
US5540147A (en) | 1994-12-02 | 1996-07-30 | Corning Incorporated | Method for forming a contoured planarizing layer for a color filter |
US7048375B2 (en) | 1999-11-01 | 2006-05-23 | Praful Doshi | Tinted lenses and methods of manufacture |
US6849558B2 (en) * | 2002-05-22 | 2005-02-01 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University | Replication and transfer of microstructures and nanostructures |
KR100651519B1 (ko) * | 2005-12-08 | 2006-11-30 | 삼성전기주식회사 | 인쇄회로기판의 회로패턴 형성방법 |
US8025388B2 (en) | 2006-02-01 | 2011-09-27 | Fujifilm Corporation | Image forming apparatus and image forming method with decreased image transfer disturbance |
WO2009014717A1 (en) * | 2007-07-25 | 2009-01-29 | Nano Terra Inc. | Contact printing method using an elastomeric stamp having a variable surface area and variable shape |
US20090085985A1 (en) | 2007-08-27 | 2009-04-02 | Seiko Epson Corporation | Liquid jet head, method for manufacturing the liquid jet head, and liquid jet apparatus |
US20090145314A1 (en) * | 2007-12-07 | 2009-06-11 | Chemque, Inc. | Intaglio Printing Methods, Apparatuses, and Printed or Coated Materials Made Therewith |
-
2010
- 2010-02-19 SE SE1050158A patent/SE535467C2/sv unknown
-
2011
- 2011-02-21 JP JP2012553851A patent/JP2013520686A/ja active Pending
- 2011-02-21 WO PCT/SE2011/050192 patent/WO2011102800A1/en active Application Filing
- 2011-02-21 US US13/579,746 patent/US9256006B2/en active Active
- 2011-02-21 EP EP11744980.1A patent/EP2536564B1/en active Active
- 2011-02-21 CN CN201180010235.3A patent/CN102791489B/zh active Active
- 2011-02-21 KR KR1020127024333A patent/KR20130009786A/ko not_active Application Discontinuation
Patent Citations (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6364746A (ja) * | 1986-09-05 | 1988-03-23 | 大倉工業株式会社 | 立体感に富んだ塗装化粧板 |
JPH0228458A (ja) * | 1988-07-18 | 1990-01-30 | Konica Corp | クリーニング方法及びその装置 |
JPH05147195A (ja) * | 1991-11-27 | 1993-06-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 印刷方法および印刷装置 |
JPH0558287U (ja) * | 1992-01-22 | 1993-08-03 | 株式会社小森コーポレーション | 印刷機の印刷胴・ローラ洗浄装置 |
JPH06305108A (ja) * | 1993-04-23 | 1994-11-01 | Dainippon Printing Co Ltd | オフセット印刷装置 |
JP2001001494A (ja) * | 1999-06-24 | 2001-01-09 | Dainippon Printing Co Ltd | 転写型への充填方法および装置 |
JP2002258759A (ja) * | 2001-03-02 | 2002-09-11 | Hitachi Chem Co Ltd | 電磁波シールド材料の製造方法、及びこの製造方法により製造された電磁波シールド材料 |
JP2005217051A (ja) * | 2004-01-28 | 2005-08-11 | Kyocera Corp | 複合シート及び積層部品並びにその製造方法 |
JP2006193744A (ja) * | 2005-01-14 | 2006-07-27 | Xerox Corp | 放射線硬化型インクジェット用インク |
JP2009506908A (ja) * | 2005-09-02 | 2009-02-19 | ザール テクノロジー リミテッド | 印刷方法 |
JP2007139898A (ja) * | 2005-11-15 | 2007-06-07 | Tohoku Univ | 光導波路装置の製造方法 |
JP2007230232A (ja) * | 2006-02-01 | 2007-09-13 | Fujifilm Corp | 画像形成装置及び画像形成方法 |
WO2007119707A1 (ja) * | 2006-04-10 | 2007-10-25 | Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd. | 電磁波遮蔽膜付き透明基材とその製造方法及び製造装置 |
JP2009541873A (ja) * | 2006-06-27 | 2009-11-26 | ギーゼッケ アンド デブリエント ゲーエムベーハー | マイクロパターンの成形方法、ダイ構造、マイクロパターンを有する物品 |
WO2008059972A1 (fr) * | 2006-11-16 | 2008-05-22 | Mitsubishi Materials Corporation | Imprimante offset, procédé de fabrication d'un écran, composition d'encre pour l'impression, et procédé de formation d'une matrice à fond noir et d'une électrode de bus de panneau avant pour l'écran plasma utilisant la composition |
JP2009073186A (ja) * | 2007-08-27 | 2009-04-09 | Seiko Epson Corp | 液体噴射ヘッド及び液体噴射ヘッドの製造方法並びに液体噴射装置 |
WO2009085004A1 (en) * | 2007-12-28 | 2009-07-09 | Rolling Optics Ab | Method of producing a microstructured product |
JP2011508907A (ja) * | 2007-12-28 | 2011-03-17 | ローリング オプティクス エービー | 微細構造化製品を製造する方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017069081A1 (ja) * | 2015-10-22 | 2017-04-27 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | 被印刷基材の表面構造及びその製造方法 |
JPWO2017069081A1 (ja) * | 2015-10-22 | 2018-08-30 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | 被印刷基材の表面構造及びその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20120321793A1 (en) | 2012-12-20 |
SE1050158A1 (sv) | 2011-08-20 |
EP2536564B1 (en) | 2019-01-09 |
WO2011102800A1 (en) | 2011-08-25 |
SE535467C2 (sv) | 2012-08-21 |
CN102791489B (zh) | 2014-11-19 |
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KR20130009786A (ko) | 2013-01-23 |
US9256006B2 (en) | 2016-02-09 |
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