JP5261989B2 - 電磁波遮蔽膜付き透明基材及びその製造方法 - Google Patents
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Description
本発明は、電磁波遮蔽膜付き透明基材及びその製造方法に関し、さらに詳しくは、優れた透明性を有し、ヘーズ値が小さく、しかも短工程かつ安価な製造プロセスにて高精度のパターニングが可能な電磁波遮蔽膜付き透明基材及びその製造方法に関するものである。
従来、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等の各種フラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）等に使用されている電磁波遮蔽膜付き透明基材としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム等の透明基材上にスパッタ法等により電磁波シールド膜が形成されたものがある。
この電磁波シールド膜としては、スズ添加酸化インジウム（Indium Tin Oxide: ITO）薄膜や銀薄膜等のスパッタ膜が用いられている。また、最近注目されている大型ディスプレイであるプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等の各種フラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）においては、より高い電磁波遮蔽能が必要とされているため、主として透明フィルム上に形成された銅箔をフォトリソグラフィにより網目状としたエッチングメッシュ膜が使用されている。
この電磁波シールド膜としては、スズ添加酸化インジウム（Indium Tin Oxide: ITO）薄膜や銀薄膜等のスパッタ膜が用いられている。また、最近注目されている大型ディスプレイであるプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等の各種フラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）においては、より高い電磁波遮蔽能が必要とされているため、主として透明フィルム上に形成された銅箔をフォトリソグラフィにより網目状としたエッチングメッシュ膜が使用されている。
しかしながら、従来のエッチングメッシュ膜は、製造工程が多く、またエッチング条件の管理が難しいため歩留まりが悪い等の理由から、コストが高いという問題点があった。特に、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等の各種フラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）を民生用として普及させるためには、製造コストを含めたトータル的なコストダウンが要求されており、電磁波遮蔽膜においても低価格化が要求されている。
そこで、高導電率及び高透過率を有する電磁波遮蔽膜を比較的低コストで得る方法として、透明フィルム上に、スクリーン印刷法により貴金属触媒を含有せしめた触媒インクを印刷して網目状微細パターンの触媒インク層とし、この触媒インク層上に銅を無電解メッキする方法が提案されている（例えば、特許文献１、２参照）。
特開平１１−１７０４２０号公報
特開２００３−１４５７０９号公報
そこで、高導電率及び高透過率を有する電磁波遮蔽膜を比較的低コストで得る方法として、透明フィルム上に、スクリーン印刷法により貴金属触媒を含有せしめた触媒インクを印刷して網目状微細パターンの触媒インク層とし、この触媒インク層上に銅を無電解メッキする方法が提案されている（例えば、特許文献１、２参照）。
ところで、従来のスクリーン印刷法を用いた電磁波遮蔽膜では、印刷されたパターンの精度に限界があり、より高精度のパターニングが難しいという問題点があった。
また、従来のスクリーン印刷法では、比較的容易にかつ低コストで電磁波遮蔽膜を得ることができるものの、スクリーン印刷法自体が枚葉印刷であるために、印刷速度に限界があり、更なる生産性の向上を図ることが難しいという問題点があった。
また、従来のスクリーン印刷法では、比較的容易にかつ低コストで電磁波遮蔽膜を得ることができるものの、スクリーン印刷法自体が枚葉印刷であるために、印刷速度に限界があり、更なる生産性の向上を図ることが難しいという問題点があった。
さらに、スクリーン印刷法は、本質的には厚膜印刷技術であるから、断線の虞がない電磁波遮蔽用パターンを得るためには触媒インクを厚膜状に印刷する必要があり、もって、得られる電磁波遮蔽膜にあっては、網目状の電磁波遮蔽パターンが形成されているパターン形成部と、網目状の電磁波遮蔽パターンが形成されていない非パターン形成部との段差（凹凸）が大きくなる。そこで、この電磁波遮蔽用パターンを、優れた透明性、低ヘーズ性が要求される光学用途に適用するためには、この段差（凹凸）を小さくするために、この凹部に透明性樹脂を充填する等の平坦化処理を施す必要があった。
本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、優れた透明性を有し、ヘーズ値が小さく、短工程かつ安価な製造プロセスにて高精度のパターニングが可能であり、しかも、光学用途に適用する場合においても平坦化処理を施す必要のない低ヘーズ値の電磁波遮蔽膜付き透明基材及びその製造方法を提供することを目的とする。
本発明者等は、短工程かつ安価であり、高精度のパターニングも可能であり、しかも、光学用途に適用する場合においても平坦化処理を施す必要のない低ヘーズ値の電磁波遮蔽膜付き透明基材及びその製造方法について鋭意検討した結果、印刷法としてグラビア印刷法を採用し、グラビア印刷用の版胴上の触媒インクに基材上の下地層を所定の時間押圧させれば、基材上に高精度にパターニングされ、しかも、光学用途に適用する場合においても平坦化処理を施す必要のない低ヘーズ値の電磁波遮蔽膜を低コストで安価に形成することができることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明の電磁波遮蔽膜付き透明基材は、柔軟性を有する透明基材の一主面上に、下地層及び網目状パターンを有する電磁波遮蔽層を積層してなる電磁波遮蔽膜付き透明基材であって、前記下地層は、アルミナ、チタニア、ジルコニア、シリカの群から選択される１種または２種以上からなる酸化物微粒子及び柔軟性を有する樹脂を含む複合材料からなり、前記電磁波遮蔽層は、貴金属微粒子を担持させた酸化物微粒子と有機高分子を含む触媒インク層と、この触媒インク層上に無電解メッキにより形成した金属層とからなり、前記電磁波遮蔽層の頂面の前記下地層の表面からの高さは５μｍ以下であり、かつ、ヘーズ値が３％以下であることを特徴とする。
この電磁波遮蔽膜付き透明基材では、貴金属微粒子を担持させた酸化物微粒子と有機高分子を含む触媒インク層が高精度のパターンを有するものとなり、また、電磁波遮蔽膜のパターン精度が高精度となる。
さらに、触媒インク層が薄膜状となり、網目状の電磁波遮蔽層が形成されているパターン形成部と、網目状の電磁波遮蔽層が形成されていない非パターン形成部との段差（凹凸）が小さく、光学用途に適用する場合においても、前記段差（凹凸）を平坦にする平坦化処理が不要となる。
さらに、触媒インク層が薄膜状となり、網目状の電磁波遮蔽層が形成されているパターン形成部と、網目状の電磁波遮蔽層が形成されていない非パターン形成部との段差（凹凸）が小さく、光学用途に適用する場合においても、前記段差（凹凸）を平坦にする平坦化処理が不要となる。
前記金属層上に、電解メッキにより形成された第２の金属層を積層してなることが好ましい。
本発明の電磁波遮蔽膜付き透明基材の製造方法は、柔軟性を有する透明基材の一主面上に、アルミナ、チタニア、ジルコニア、シリカの群から選択される１種または２種以上からなる酸化物微粒子及び柔軟性を有する樹脂を含む複合材料からなる下地層、及び、貴金属微粒子を担持させた酸化物微粒子と有機高分子を含む触媒インク層と、この触媒インク層上に無電解メッキにより形成した金属層とからなる網目状パターンを有する電磁波遮蔽層を積層してなる電磁波遮蔽膜付き透明基材の製造方法であって、グラビア印刷用の版胴上に触媒インクを網目状のパターンに塗布し、次いで、この版胴上の触媒インクと前記透明基材上に形成された下地層とを押圧させて所定の時間保持し、次いで、前記透明基材と前記版胴とを離間させて前記版胴上の触媒インクを前記下地層上に転写して網目状パターンの触媒インク層を形成し、次いで、前記触媒インク層上に無電解メッキを施し、網目状パターンの頂面の前記下地層の表面からの高さが５μｍ以下の金属層を形成することを特徴とする。
この電磁波遮蔽膜付き透明基材の製造方法では、網目状パターンに塗布された版胴上の触媒インクと、透明基材上に形成された下地層とを押圧させて所定の時間保持し、次いで、前記透明基材と前記版胴とを離間させて前記版胴上の触媒インクを前記透明基材の下地層上に転写することにより、貴金属微粒子を担持させた酸化物微粒子と有機高分子を含み網目状パターンを有する薄膜状の触媒インク層を短工程かつ安価な製造プロセスにて形成することができる。これにより、優れた透明性を有し、ヘーズ値が小さく、しかも高精度のパターンを有する電磁波遮蔽膜付き透明基板が製造される。
前記所定の時間は、０．５秒以上かつ１０秒以下であることが好ましい。
前記金属層上に電解メッキを施して、第２の金属層を形成することが好ましい。
前記金属層上に電解メッキを施して、第２の金属層を形成することが好ましい。
本発明の電磁波遮蔽膜付き透明基材によれば、貴金属微粒子を担持させた酸化物微粒子と有機高分子を含む触媒インク層のパターンを高精度かつ薄膜状とすることができ、電磁波遮蔽膜のパターン精度を高精度、かつ段差（凹凸）のないものとすることができる。
したがって、優れた透明性を有し、ヘーズ値が小さく、高精度かつ薄膜状のパターンを有する電磁波遮蔽膜付き透明基材を容易に実現することができる。
したがって、優れた透明性を有し、ヘーズ値が小さく、高精度かつ薄膜状のパターンを有する電磁波遮蔽膜付き透明基材を容易に実現することができる。
本発明の電磁波遮蔽膜付き透明基材の製造方法によれば、網目状パターンに塗布された版胴上の触媒インクと透明基材上に形成された下地層とを押圧させて所定の時間保持し、次いで、前記透明基材と前記版胴とを離間させて前記版胴上の触媒インクを前記下地層上に転写するので、電磁波遮蔽膜を、短工程かつ安価な製造プロセスにて薄膜状とするとともに、高精度のパターニングを行うことができる。
したがって、優れた透明性を有し、ヘーズ値が小さく、高精度かつ薄膜状のパターンを有する電磁波遮蔽膜付き透明基材を、短工程かつ安価な製造プロセスにて製造することができる。
したがって、優れた透明性を有し、ヘーズ値が小さく、高精度かつ薄膜状のパターンを有する電磁波遮蔽膜付き透明基材を、短工程かつ安価な製造プロセスにて製造することができる。
本発明の電磁波遮蔽膜付き透明基材及びその製造方法を実施するための最良の形態について説明する。
なお、この形態は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。
なお、この形態は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。
「第１の実施形態」
図１は、本発明の第１の実施形態の電磁波遮蔽膜付き透明フィルムを示す平面図、図２は同部分拡大断面図であり、図において、１はポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等の柔軟性を有する透明フィルム（透明基材）、２は透明フィルム１の上面全体に形成されたプライマー層（下地層）、３はプライマー層２上にグラビア印刷法により網目状パターンに形成された薄膜状の触媒インク層、４は触媒インク層３上に無電解メッキ法により形成された前記網目状パターンと同一パターン形状の金属層である。
図１は、本発明の第１の実施形態の電磁波遮蔽膜付き透明フィルムを示す平面図、図２は同部分拡大断面図であり、図において、１はポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等の柔軟性を有する透明フィルム（透明基材）、２は透明フィルム１の上面全体に形成されたプライマー層（下地層）、３はプライマー層２上にグラビア印刷法により網目状パターンに形成された薄膜状の触媒インク層、４は触媒インク層３上に無電解メッキ法により形成された前記網目状パターンと同一パターン形状の金属層である。
この電磁波遮蔽膜付き透明フィルムは、触媒インク層３及び金属層４を積層してなる網目状の電磁波遮蔽層６が形成されているパターン形成部７と、網目状の電磁波遮蔽層６が形成されていない非パターン形成部８との間に段差（凹凸）が形成されている。
この触媒インク層３は、グラビア印刷用の版胴上の触媒インクに透明フィルム１のプライマー層２を所定の時間押圧させることにより、この触媒インクをプライマー層２上に転写したものであり、この触媒インク層３及び金属層４は、例えば、線幅Ｌが５〜１００μｍ、線間隔Ｓが１５０〜５００μｍの網目状とされている。
プライマー層２は、酸化物微粒子及び有機高分子を含む複合材料により構成されている。
酸化物微粒子としては、アルミナ、チタニア、ジルコニア等の金属酸化物、あるいはシリカ等の無機酸化物が挙げられ、これら２種以上を混合してもよい。
有機高分子としては、金属層３を無電解メッキする際のメッキ浴に対して耐性を有する樹脂、例えば、耐熱温度が１２０〜１５０℃で耐薬品性に優れた樹脂であれば使用でき、エチルセルロース、プロピルセルロース等のセルロース誘導体、ポリビニルブチラール、アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、ロジンエステル樹脂等が挙げられ、これら２種類以上を混合してもよい。
酸化物微粒子としては、アルミナ、チタニア、ジルコニア等の金属酸化物、あるいはシリカ等の無機酸化物が挙げられ、これら２種以上を混合してもよい。
有機高分子としては、金属層３を無電解メッキする際のメッキ浴に対して耐性を有する樹脂、例えば、耐熱温度が１２０〜１５０℃で耐薬品性に優れた樹脂であれば使用でき、エチルセルロース、プロピルセルロース等のセルロース誘導体、ポリビニルブチラール、アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、ロジンエステル樹脂等が挙げられ、これら２種類以上を混合してもよい。
特に、ポリウレタン樹脂等の柔軟性を有する樹脂を使用すれば、プライマー層自体が柔軟性を有することとなり、グラビア印刷法にて触媒インクが胴版からプライマー層上に転写される際に、プライマー層が胴版のパターン溝に追従して接触し、かつパターン溝に押し込められることで、転写性も良好となるので好ましい。
これら酸化物微粒子（Ｍ）と有機高分子（Ｒ）との比率（Ｍ／Ｒ）は、重量比で９０／１０〜１０／９０が好ましく、より好ましくは６０／４０〜４０／６０である。
酸化物微粒子の比率が上記の範囲より高いと、透明フィルム１との密着強度が弱くなり、得られた電磁波遮蔽膜付き透明フィルム自体の透過率が低下し、ヘーズ値が高くなるからであり、一方、比率が上記の範囲より低いと、透明フィルム１との密着強度が弱くなるに加えて、グラビア印刷法により触媒インク層を形成する際の受容層としての効果が小さく、印刷した触媒インク層に垂れ、滲みを生じる虞があるからである。
酸化物微粒子の比率が上記の範囲より高いと、透明フィルム１との密着強度が弱くなり、得られた電磁波遮蔽膜付き透明フィルム自体の透過率が低下し、ヘーズ値が高くなるからであり、一方、比率が上記の範囲より低いと、透明フィルム１との密着強度が弱くなるに加えて、グラビア印刷法により触媒インク層を形成する際の受容層としての効果が小さく、印刷した触媒インク層に垂れ、滲みを生じる虞があるからである。
また、このプライマー層２の厚みは、０．５〜１０μｍが好ましく、より好ましくは１〜３μｍである。
プライマー層２の厚みが上記の範囲より薄いと、グラビア印刷法により触媒インク層を形成する際の受容層としての効果が小さくなるからであり、一方、厚みが上記の範囲より厚いと、印刷した触媒インク層に割れ等が生じる虞があるからである。
プライマー層２の厚みが上記の範囲より薄いと、グラビア印刷法により触媒インク層を形成する際の受容層としての効果が小さくなるからであり、一方、厚みが上記の範囲より厚いと、印刷した触媒インク層に割れ等が生じる虞があるからである。
触媒インク層３は、貴金属微粒子を担持させた酸化物微粒子と、黒色顔料と、有機高分子を含む複合材料により構成されている。
ここで、貴金属微粒子を担持させた酸化物微粒子を用いたのは、貴金属微粒子を酸化物微粒子に担持させることにより、印刷に適する触媒インクのチクソトロピー性が得られ、良好な印刷形状が得られるからである。
貴金属微粒子としては、パラジウム、白金、金等の微粒子が挙げられる。これらの貴金属微粒子は２種類以上を混合して用いても良い。
また、酸化物微粒子としては、アルミナ、酸化亜鉛、ジルコニア、チタニア等の金属酸化物微粒子が挙げられる。これらの金属酸化物微粒子は２種類以上を混合して用いても良い。
ここで、貴金属微粒子を担持させた酸化物微粒子を用いたのは、貴金属微粒子を酸化物微粒子に担持させることにより、印刷に適する触媒インクのチクソトロピー性が得られ、良好な印刷形状が得られるからである。
貴金属微粒子としては、パラジウム、白金、金等の微粒子が挙げられる。これらの貴金属微粒子は２種類以上を混合して用いても良い。
また、酸化物微粒子としては、アルミナ、酸化亜鉛、ジルコニア、チタニア等の金属酸化物微粒子が挙げられる。これらの金属酸化物微粒子は２種類以上を混合して用いても良い。
この貴金属微粒子（Ｎ）と酸化物微粒子（Ｍ）の比率（Ｎ／Ｍ）は、重量比で０．５／９９．５〜５／９５が好ましく、より好ましくは１／９９〜２／９８である。貴金属微粒子の比率が上記の範囲よりも低いと、無電解メッキの触媒として機能しないからであり、一方、上記の範囲よりも高いと、無電解メッキの触媒としての機能が飽和するとともに、必要以上に高価な貴金属を使用することとなり、コストアップの原因となるからである。
黒色顔料は、触媒インク層３を黒色に着色してコントラストを向上させるために添加されるものであり、このような黒色顔料としては、例えば、カーボンブラック等が挙げられる。
有機高分子としては、グラビア印刷に適正があり、アルカリ性の無電解メッキ液に対して耐性を有する樹脂であればよく、エチルセルロース、ロジンエステル系樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂等が挙げられる。これらの樹脂は２種類以上を混合して用いても良い。
有機高分子としては、グラビア印刷に適正があり、アルカリ性の無電解メッキ液に対して耐性を有する樹脂であればよく、エチルセルロース、ロジンエステル系樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂等が挙げられる。これらの樹脂は２種類以上を混合して用いても良い。
また、貴金属微粒子を担持させた酸化物微粒子（ＮＭ）と、有機高分子（Ｒ）との比率（ＮＭ／Ｒ）は、重量比で４０／６０〜８０／２０が好ましく、より好ましくは６０／４０〜７０／３０である。酸化物微粒子の比率が上記の範囲よりも低いと、含まれている貴金属微粒子が高分子樹脂でほとんど覆われてしまい、無電解メッキの触媒として機能しなくなるからであり、一方、上記の範囲よりも高いと、印刷性が悪くなり、かつ高分子樹脂による印刷膜の硬化が不足し、透明フィルムとの密着性が得られなくなるからである。
この触媒インク層３の厚みは、例えば、０．５μｍ〜３．０μｍ、好ましくは１．０μｍ〜２．０μｍとされている。
この触媒インク層３の厚みが０．５μｍを下回ると、無電解メッキでの金属析出量が低下し、その結果、電磁波を遮蔽するに充分な低抵抗（例えば０．２Ω／□以下）の金属層４が得られず、一方、３．０μｍを超えると、網目状の電磁波遮蔽層６が形成されているパターン形成部７と、網目状の電磁波遮蔽層６が形成されていない非パターン形成部８との段差（凹凸）が大きく、この電磁波遮蔽膜付き透明フィルムを光学用途に適用するためには、この段差（凹凸）を平坦にする平坦化処理が必要となるので好ましくない。
この触媒インク層３の厚みが０．５μｍを下回ると、無電解メッキでの金属析出量が低下し、その結果、電磁波を遮蔽するに充分な低抵抗（例えば０．２Ω／□以下）の金属層４が得られず、一方、３．０μｍを超えると、網目状の電磁波遮蔽層６が形成されているパターン形成部７と、網目状の電磁波遮蔽層６が形成されていない非パターン形成部８との段差（凹凸）が大きく、この電磁波遮蔽膜付き透明フィルムを光学用途に適用するためには、この段差（凹凸）を平坦にする平坦化処理が必要となるので好ましくない。
金属層４は、電磁波遮蔽膜に電磁波を遮蔽する充分な導電性を付与するためのもので、無電解銅メッキ層またはニッケルメッキ層により構成され、その膜厚は１．０μｍ〜５．０μｍとされている。
金属層４の膜厚を上記の範囲に限定した理由は、膜厚が１．０μｍ未満であると、電磁波を遮蔽するに充分な低抵抗（例えば、表面抵抗が０．２Ω／□以下）の金属層４とならず、一方、５．０μｍを超えると、網目状の電磁波遮蔽層６が形成されているパターン形成部７と、網目状の電磁波遮蔽層６が形成されていない非パターン形成部８との間の段差（凹凸）が大きくなり過ぎてしまい、この電磁波遮蔽膜付き透明フィルムを光学用途に適用するためには、この段差（凹凸）を平坦にする平坦化処理が必要となるからである。
この金属層４の頂面及び両側面には、可視光線の反射を抑え、かつ画像のコントラストを向上させるために、黒色化層が形成されていることが好ましい。
金属層４の膜厚を上記の範囲に限定した理由は、膜厚が１．０μｍ未満であると、電磁波を遮蔽するに充分な低抵抗（例えば、表面抵抗が０．２Ω／□以下）の金属層４とならず、一方、５．０μｍを超えると、網目状の電磁波遮蔽層６が形成されているパターン形成部７と、網目状の電磁波遮蔽層６が形成されていない非パターン形成部８との間の段差（凹凸）が大きくなり過ぎてしまい、この電磁波遮蔽膜付き透明フィルムを光学用途に適用するためには、この段差（凹凸）を平坦にする平坦化処理が必要となるからである。
この金属層４の頂面及び両側面には、可視光線の反射を抑え、かつ画像のコントラストを向上させるために、黒色化層が形成されていることが好ましい。
この電磁波遮蔽層６の頂面のプライマー層２の表面からの高さは、５μｍ以下、好ましくは１．５μｍ〜５μｍとされている。
したがって、電磁波を遮蔽するに充分な低抵抗、例えば、表面抵抗が０．２Ω／□以下の導電性を有しており、しかも、網目状の電磁波遮蔽層６が形成されているパターン形成部７と、網目状の電磁波遮蔽層６が形成されていない非パターン形成部８との間の段差（凹凸）が小さく、もって、この電磁波遮蔽膜付き透明フィルムを光学用途に適用する場合においても、段差（凹凸）を平坦にする平坦化処理を施す必要がなく、透明性に優れ、ヘーズ値が３％以下となっている。
したがって、電磁波を遮蔽するに充分な低抵抗、例えば、表面抵抗が０．２Ω／□以下の導電性を有しており、しかも、網目状の電磁波遮蔽層６が形成されているパターン形成部７と、網目状の電磁波遮蔽層６が形成されていない非パターン形成部８との間の段差（凹凸）が小さく、もって、この電磁波遮蔽膜付き透明フィルムを光学用途に適用する場合においても、段差（凹凸）を平坦にする平坦化処理を施す必要がなく、透明性に優れ、ヘーズ値が３％以下となっている。
次に、本実施形態の電磁波遮蔽膜付き透明フィルムの製造方法について説明する。
「プライマー層の形成」
まず、グラビア印刷法、バーコート印刷法、オフセット印刷法等により、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等の柔軟性を有する透明フィルム１上にプライマー層形成用塗料を塗工し、その後乾燥させることにより、プライマー層２を形成する。
「プライマー層の形成」
まず、グラビア印刷法、バーコート印刷法、オフセット印刷法等により、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等の柔軟性を有する透明フィルム１上にプライマー層形成用塗料を塗工し、その後乾燥させることにより、プライマー層２を形成する。
プライマー層形成用塗料としては、酸化物微粒子と、有機高分子と、有機溶媒を含む塗料が好適に用いられる。
酸化物微粒子としては、アルミナ、チタニア、ジルコニア等の金属酸化物、あるいはシリカ等の無機酸化物が挙げられ、これら２種以上を混合してもよい。
この酸化物微粒子の含有量は、０．２重量％〜１５重量％が好ましく、より好ましくは１重量％〜８重量％である。
酸化物微粒子の含有量が０．２重量％未満であると、プライマー層２の厚みが薄く、触媒インク層を形成する際の受容層としての効果が小さくなるからであり、一方、１５重量％を越えると、プライマー層２の厚みが厚く、印刷した触媒インク層に割れが生じるからである。
酸化物微粒子としては、アルミナ、チタニア、ジルコニア等の金属酸化物、あるいはシリカ等の無機酸化物が挙げられ、これら２種以上を混合してもよい。
この酸化物微粒子の含有量は、０．２重量％〜１５重量％が好ましく、より好ましくは１重量％〜８重量％である。
酸化物微粒子の含有量が０．２重量％未満であると、プライマー層２の厚みが薄く、触媒インク層を形成する際の受容層としての効果が小さくなるからであり、一方、１５重量％を越えると、プライマー層２の厚みが厚く、印刷した触媒インク層に割れが生じるからである。
有機高分子としては、金属層３をメッキする際のメッキ浴に対して耐性を有する樹脂、例えば、耐熱温度が１２０〜１５０℃で耐薬品性に優れた樹脂であれば使用でき、エチルセルロース、プロピルセルロース等のセルロース誘導体、ポリビニルブチラール、アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、ロジンエステル樹脂等が挙げられ、これら２種類以上を混合してもよい。
この有機高分子の含有量は、０．２重量％〜１５重量％が好ましく、より好ましくは１重量％〜８重量％である。
有機高分子の含有量が０．２重量％未満であると、プライマー層２の厚みが薄く、触媒インク層を形成する際の受容層としての効果が小さくなるからであり、一方、１５重量％を越えると、プライマー層２の厚みが厚く、印刷した触媒インク層に割れが生じるからである。
この有機高分子の含有量は、０．２重量％〜１５重量％が好ましく、より好ましくは１重量％〜８重量％である。
有機高分子の含有量が０．２重量％未満であると、プライマー層２の厚みが薄く、触媒インク層を形成する際の受容層としての効果が小さくなるからであり、一方、１５重量％を越えると、プライマー層２の厚みが厚く、印刷した触媒インク層に割れが生じるからである。
特に、ポリウレタン樹脂等の柔軟性を有する樹脂を使用すれば、プライマー層２自体が柔軟性を有することとなり、グラビア印刷法にて触媒インクが胴版からプライマー層２上に転写される際に、プライマー層２が胴版のパターン溝に追従して接触し、かつパターン溝に押し込められることで、転写性も良好となるので好ましい。
これら酸化物微粒子（Ｍ）と有機高分子（Ｒ）との比率（Ｍ／Ｒ）は、重量比で９０／１０〜１０／９０が好ましく、より好ましくは６０／４０〜４０／６０である。
酸化物微粒子の比率が上記の範囲より高いと、透明フィルム１との密着強度が弱くなり、得られた電磁波遮蔽膜付き透明フィルム自体の透過率が低下し、ヘーズが高くなるからであり、一方、比率が上記の範囲より低いと、透明フィルム１との密着強度が弱くなるに加えて、グラビア印刷法により触媒インク層３を形成する際の受容層としての効果が小さく、印刷した触媒インク層３に垂れ、滲みを生じる虞があるからである。
酸化物微粒子の比率が上記の範囲より高いと、透明フィルム１との密着強度が弱くなり、得られた電磁波遮蔽膜付き透明フィルム自体の透過率が低下し、ヘーズが高くなるからであり、一方、比率が上記の範囲より低いと、透明フィルム１との密着強度が弱くなるに加えて、グラビア印刷法により触媒インク層３を形成する際の受容層としての効果が小さく、印刷した触媒インク層３に垂れ、滲みを生じる虞があるからである。
有機溶媒としては、酸化物微粒子の分散が可能で、しかも有機高分子を溶解することが可能であればよく、例えば、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、シクロヘキサノン等の環化脂肪族炭化水素、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）等のケトン類、２−プロパノール等のアルコール類が好適に用いられる。
この有機溶媒に、酸化物微粒子の分散をし易くするために、リン酸エステル系の分散剤等を添加しても良い。
この有機溶媒に、酸化物微粒子の分散をし易くするために、リン酸エステル系の分散剤等を添加しても良い。
得られたプライマー層２の厚みは、０．５〜５．０μｍが好ましく、より好ましくは１．０〜３．０μｍである。プライマー層２の厚みが上記の範囲より薄いと、グラビア印刷法により触媒インク層３を形成する際の受容層としての効果が小さくなるからであり、一方、厚みが上記の範囲より厚いと、印刷した触媒インク層に割れ等が生じる虞があるからである。
「触媒インク層の形成」
上記のプライマー層２上に、グラビア印刷法により触媒インクを所定のパターンにて塗布し、その後乾燥させることにより、触媒インク層３を形成する。
触媒インクとしては、貴金属微粒子を担持させた酸化物微粒子と、黒色顔料と、有機高分子と、有機溶媒を含むインクが好適に用いられる。
この貴金属微粒子を担持させた酸化物微粒子は、印刷に適する触媒インクのチクソトロピー性、良好な印刷形状を得るために用いられる。
上記のプライマー層２上に、グラビア印刷法により触媒インクを所定のパターンにて塗布し、その後乾燥させることにより、触媒インク層３を形成する。
触媒インクとしては、貴金属微粒子を担持させた酸化物微粒子と、黒色顔料と、有機高分子と、有機溶媒を含むインクが好適に用いられる。
この貴金属微粒子を担持させた酸化物微粒子は、印刷に適する触媒インクのチクソトロピー性、良好な印刷形状を得るために用いられる。
貴金属微粒子としては、パラジウム、白金、金等の微粒子が挙げられる。これらの貴金属微粒子は２種類以上を混合して用いても良い。
この貴金属微粒子の含有量は、０．０１重量％〜１．５重量％が好ましく、より好ましくは０．１０重量％〜０．５０重量％である。
貴金属微粒子の含有量が０．０１重量％未満であると、無電解めっきの触媒として機能しないからであり、一方、１．５重量％を越えると、高価な貴金属を必要以上に使用することとなり、コストアップの原因となるからである。
この貴金属微粒子の含有量は、０．０１重量％〜１．５重量％が好ましく、より好ましくは０．１０重量％〜０．５０重量％である。
貴金属微粒子の含有量が０．０１重量％未満であると、無電解めっきの触媒として機能しないからであり、一方、１．５重量％を越えると、高価な貴金属を必要以上に使用することとなり、コストアップの原因となるからである。
この貴金属微粒子を担持させる酸化物微粒子としては、アルミナ、酸化亜鉛、ジルコニア、チタニア等の金属酸化物微粒子が挙げられる。これらの金属酸化物微粒子は２種類以上を混合して用いても良い。
この酸化物微粒子の含有量は、３．０重量％〜２７．０重量％が好ましく、より好ましくは１３．０重量％〜２０．０重量％である。
酸化物微粒子の含有量が３．０重量％未満であると、触媒インクの粘度が低くかつチクソトロピー性を失うことで、印刷膜に垂れが生じ、印刷精度が低下するからであり、一方、２７．０重量％を越えると、触媒インクの粘度が高くなり、ブレードで余剰部分を除去する際に、除去が完全にできずに残ってしまい、その結果、膜のパターン精度が低下してしまうからである。
この酸化物微粒子の含有量は、３．０重量％〜２７．０重量％が好ましく、より好ましくは１３．０重量％〜２０．０重量％である。
酸化物微粒子の含有量が３．０重量％未満であると、触媒インクの粘度が低くかつチクソトロピー性を失うことで、印刷膜に垂れが生じ、印刷精度が低下するからであり、一方、２７．０重量％を越えると、触媒インクの粘度が高くなり、ブレードで余剰部分を除去する際に、除去が完全にできずに残ってしまい、その結果、膜のパターン精度が低下してしまうからである。
この貴金属微粒子（Ｎ）と酸化物微粒子（Ｍ）の比率（Ｎ／Ｍ）は、重量比で０．５／９９．５〜５／９５が好ましく、より好ましくは１／９９〜２／９８である。貴金属微粒子の比率が上記の範囲よりも低いと、無電解メッキの触媒として機能しないからであり、一方、上記の範囲よりも高いと、無電解メッキの触媒としての機能が飽和するとともに、必要以上に高価な貴金属を使用することとなり、コストアップの原因となるからである。
黒色顔料としては、カーボンブラック等が挙げられる。
この黒色顔料の含有量は、０．０３重量％〜３．０重量％が好ましく、より好ましくは０．１重量％〜１．０重量％である。
黒色顔料の含有量が０．０３重量％未満であると、印刷膜裏面の網目の黒色度が不足し、ＰＤＰ等のディスプレイの表示面に搭載した場合、良好なコントラストが得られないからであり、一方、３．０重量％を越えると、印刷膜裏面の網目の黒色度が良好となり、良好なコントラストも得られるが、印刷性が悪くなるからである。
この黒色顔料の含有量は、０．０３重量％〜３．０重量％が好ましく、より好ましくは０．１重量％〜１．０重量％である。
黒色顔料の含有量が０．０３重量％未満であると、印刷膜裏面の網目の黒色度が不足し、ＰＤＰ等のディスプレイの表示面に搭載した場合、良好なコントラストが得られないからであり、一方、３．０重量％を越えると、印刷膜裏面の網目の黒色度が良好となり、良好なコントラストも得られるが、印刷性が悪くなるからである。
有機高分子としては、グラビア印刷に適正があり、アルカリ性の無電解メッキ液に対して耐性を有する樹脂であればよく、エチルセルロース、ロジンエステル系樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂等が挙げられる。これらの樹脂は２種類以上を混合して用いても良い。中でも、エチルセルロースがグラビア印刷に好適である。
この有機高分子の含有量は、１．０重量％〜１５．０重量％が好ましく、より好ましくは６．０重量％〜１０．０重量％である。
有機高分子の含有量が１．０重量％未満であると、インクの粘度が低くなり過ぎて印刷に適しなくなるからであり、一方、１５．０重量％を越えると、インクの粘度が高くなり過ぎて印刷に適しなくなるからである。
この有機高分子の含有量は、１．０重量％〜１５．０重量％が好ましく、より好ましくは６．０重量％〜１０．０重量％である。
有機高分子の含有量が１．０重量％未満であると、インクの粘度が低くなり過ぎて印刷に適しなくなるからであり、一方、１５．０重量％を越えると、インクの粘度が高くなり過ぎて印刷に適しなくなるからである。
また、貴金属微粒子を担持させた酸化物微粒子（ＮＭ）と、有機高分子（Ｒ）との比率（ＮＭ／Ｒ）は、重量比で４０／６０〜８０／２０が好ましく、より好ましくは６０／４０〜７０／３０である。酸化物微粒子の比率が上記の範囲よりも低いと、含まれている貴金属微粒子が高分子樹脂でほとんど覆われてしまい、無電解メッキの触媒として機能しなくなるからであり、一方、上記の範囲よりも高いと、印刷性が悪くなり、かつ高分子樹脂による印刷膜の硬化が不足し、透明フィルムとの密着性が得られなくなるからである。
有機溶媒としては、有機高分子の溶解が可能で、しかもグラビア印刷に適正があればよく、例えば、トルエン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、酢酸ブチル、シクロヘキサノン、ブチルカルビトール、ブチルカルビトールアセテート、α−テルピネオール等が挙げられる。
この触媒インクの粘度は、１〜５００Ｐａ・ｓが好ましく、より好ましくは５０〜２００Ｐａ・ｓである。
触媒インクの粘度が１Ｐａ・ｓ未満であると、インクのチクソトロピー性が無くなり、糸引き等の不具合が生じて良好な印刷形状が得られないからであり、一方、５００Ｐａ・ｓを越えると、グラビア印刷の際に均一にインクを供給することができず、印刷ムラが生じるからである。
触媒インクの粘度が１Ｐａ・ｓ未満であると、インクのチクソトロピー性が無くなり、糸引き等の不具合が生じて良好な印刷形状が得られないからであり、一方、５００Ｐａ・ｓを越えると、グラビア印刷の際に均一にインクを供給することができず、印刷ムラが生じるからである。
プライマー層２上への触媒インク層３の形成は、図３に示す電磁波遮蔽膜付き透明フィルムの製造装置を用いて行う。
この装置は、グラビア印刷法により透明フィルム１のプライマー層２上に、網目状パターンを有する触媒インク層３を形成するための装置であり、図において、１１は円筒状の表面にパターン溝１２が形成されたグラビア印刷用の版胴、１３は版胴１１上に触媒インクＣを塗布するディスペンサ、１４は塗布された触媒インクＣのうちパターン溝１２以外の余剰部分を除去するブレード、１５、１６は透明フィルム１の一方の面にプライマー層２が形成されたグラビア印刷用透明フィルムＦを版胴１１に所定時間押圧させるバックアップロールである。
この装置は、グラビア印刷法により透明フィルム１のプライマー層２上に、網目状パターンを有する触媒インク層３を形成するための装置であり、図において、１１は円筒状の表面にパターン溝１２が形成されたグラビア印刷用の版胴、１３は版胴１１上に触媒インクＣを塗布するディスペンサ、１４は塗布された触媒インクＣのうちパターン溝１２以外の余剰部分を除去するブレード、１５、１６は透明フィルム１の一方の面にプライマー層２が形成されたグラビア印刷用透明フィルムＦを版胴１１に所定時間押圧させるバックアップロールである。
この装置を用いてプライマー層２上へ触媒インク層３を形成するには、まず、透明フィルムＦを版胴１１に所定時間押圧させるために、バックアップロール１６を印刷速度に合わせて一定の押圧時間が得られるように位置調整する。この押圧時間は、０．５〜１０秒が好ましく、より好ましくは１〜５秒である。
押圧時間が０．５秒未満であると、プライマー層２への有機溶媒の吸収が不十分となり、版胴１１のパターン溝１２に充填された触媒インクの粘度が高くならず、糸引き等の不具合が発生して良好な印刷形状が得られないからであり、一方、押圧時間が１０秒を越えると、逆に有機溶媒が吸収され過ぎて触媒インクの粘度が高くなり過ぎてしまい、透明フィルムＦへの転写が困難となるからである。
押圧時間が０．５秒未満であると、プライマー層２への有機溶媒の吸収が不十分となり、版胴１１のパターン溝１２に充填された触媒インクの粘度が高くならず、糸引き等の不具合が発生して良好な印刷形状が得られないからであり、一方、押圧時間が１０秒を越えると、逆に有機溶媒が吸収され過ぎて触媒インクの粘度が高くなり過ぎてしまい、透明フィルムＦへの転写が困難となるからである。
次いで、ディスペンサ１３により版胴１１上に触媒インクＣを塗布し、ブレード１４により塗布された触媒インクＣのうちパターン溝１２以外の余剰部分を除去する。
次いで、透明フィルムＦをバックアップロール１５、１６により版胴１１に押圧させつつ版胴１１に沿って回転移動させることにより、版胴１１上の触媒インクＣと透明フィルムＦのプライマー層２とを押圧させて所定の時間保持する。
次いで、バックアップロール１６により透明フィルムＦを引き出し、この透明フィルムＦを版胴１１から離間させることにより、版胴１１上の触媒インクＣを透明フィルムＦのプライマー層２上に転写する。
次いで、乾燥器等を用いて乾燥し、触媒インク層３とする。この乾燥は、透明フィルムＦの耐熱性と触媒インクＣの転写膜の乾燥割れを考慮して１００℃以下で行うことが好ましい。
以上により、透明フィルムＦのプライマー層２上に、グラビア印刷法により所定のパターンの触媒インク層３を形成することができる。
次いで、透明フィルムＦをバックアップロール１５、１６により版胴１１に押圧させつつ版胴１１に沿って回転移動させることにより、版胴１１上の触媒インクＣと透明フィルムＦのプライマー層２とを押圧させて所定の時間保持する。
次いで、バックアップロール１６により透明フィルムＦを引き出し、この透明フィルムＦを版胴１１から離間させることにより、版胴１１上の触媒インクＣを透明フィルムＦのプライマー層２上に転写する。
次いで、乾燥器等を用いて乾燥し、触媒インク層３とする。この乾燥は、透明フィルムＦの耐熱性と触媒インクＣの転写膜の乾燥割れを考慮して１００℃以下で行うことが好ましい。
以上により、透明フィルムＦのプライマー層２上に、グラビア印刷法により所定のパターンの触媒インク層３を形成することができる。
このように、上記の組成のプライマー層形成用塗料及び触媒インクを用いることにより、透明フィルムＦへの転写性と転写率が良く、更に転写シート（ブランケット）を使用する事無く、版胴１１から直接透明フィルムＦへ触媒インクＣを転写する「グラビア直刷り法」が可能となった。
また、この直刷り法によりブランケットが不要となり、円筒形状の版胴１１を用いることにより、シリンダー版によるエンドレス版が可能となった。
また、この版胴１１を用いることで、マスクレスの直描で版胴１１を作製することができ、パターン溝の深度を調整することで、ブランケットを使用するグラビア印刷に比べてより厚みのある膜の印刷が可能となり、触媒インクの厚みによる触媒総量が増加し、メッキの析出を容易にすることができる。
また、この版胴１１を用いることで、マスクレスの直描で版胴１１を作製することができ、パターン溝の深度を調整することで、ブランケットを使用するグラビア印刷に比べてより厚みのある膜の印刷が可能となり、触媒インクの厚みによる触媒総量が増加し、メッキの析出を容易にすることができる。
また、透明フィルムＦを版胴１１に所定時間押圧させることにより、パターン溝１２に充填された触媒インク中の溶媒が受容層であるプライマー層２中に吸収されるので、触媒インクの粘度が急激に高くなり、パターン溝１２に充填された触媒インクを版の画像形状をそのまま維持した状態で透明フィルムＦ側に転写させることができる。
また、プライマー層２に吸収された溶媒は、一旦プライマー層２表面の樹脂を溶解し、触媒インクと界面で相溶するので、乾燥後の透明フィルムＦと触媒インク層３との密着強度が強くなる。このように、線幅Ｌが１０〜２０μｍ程度のファインパターンを１０ｍ／分前後の高速で、設計された画像形状を維持したまま印刷することが可能となった。
また、プライマー層２に吸収された溶媒は、一旦プライマー層２表面の樹脂を溶解し、触媒インクと界面で相溶するので、乾燥後の透明フィルムＦと触媒インク層３との密着強度が強くなる。このように、線幅Ｌが１０〜２０μｍ程度のファインパターンを１０ｍ／分前後の高速で、設計された画像形状を維持したまま印刷することが可能となった。
図４は、上記の装置の変形例を示す概略構成図であり、図３に示す装置と異なる点は、ブレード１４の下流側に、このブレード１４と平行に（第２の）ブレード２１を設け、ブレード１４により触媒インクＣのうちパターン溝１２以外の余剰部分を除去した後に、ブレード２１により触媒インクＣの余剰部分をさらに除去する構成である。
この装置においては、ブレード１４、２１を用いて塗布された触媒インクＣのうちパターン溝１２以外の余剰部分を除去するので、プライマー層２上に転写される触媒インクのパターンの精度をさらに向上させることができる。
この装置においては、ブレード１４、２１を用いて塗布された触媒インクＣのうちパターン溝１２以外の余剰部分を除去するので、プライマー層２上に転写される触媒インクのパターンの精度をさらに向上させることができる。
「金属層の形成」
次いで、触媒インク層３が形成された透明フィルムＦを無電解銅メッキ浴またはニッケルメッキ浴中に浸漬し、触媒インク層３上に金属を析出させることにより、金属層４を形成する。
次いで、必要に応じて、この金属層４の頂面及び両側面を、可視光線の反射を抑え、コントラストを向上させるために、黒色化する。
次いで、触媒インク層３が形成された透明フィルムＦを無電解銅メッキ浴またはニッケルメッキ浴中に浸漬し、触媒インク層３上に金属を析出させることにより、金属層４を形成する。
次いで、必要に応じて、この金属層４の頂面及び両側面を、可視光線の反射を抑え、コントラストを向上させるために、黒色化する。
黒色化する方法としては、黒色金属層または黒色電着層で被覆する方法、酸化処理または硫化処理を施す方法などが挙げられる。例えば、黒色金属層としては、黒色ニッケルメッキ、黒色クロムメッキ、ニッケル−スズ合金メッキ等が挙げられる。また、黒色電着層は、電着により設けられる黒色の層であって、例えば、黒色顔料を電着樹脂中に分散させた黒色塗料を用いて電着塗装することにより、設けることができる。さらに、金属層４の表面に酸化処理や硫化処理を施すことにより、その表面を黒色化することもできる。これら酸化処理や硫化処理は、公知の方法で行うことができる。
以上により、優れた透明性を有し、ヘーズ値が小さく、しかも高精度のパターンを有する電磁波遮蔽膜付き透明基材を、短工程かつ安価な製造プロセスにて作製することができる。
「第２の実施形態」
図５は、本発明の第２の実施形態の電磁波遮蔽膜付き透明フィルムを示す部分拡大断面図であり、この電磁波遮蔽膜付き透明フィルムが第１の実施形態の電磁波遮蔽膜付き透明フィルムと異なる点は、網目状の電磁波遮蔽層６をさらに低抵抗とするために、金属層４上に、電解メッキ法により形成された銅、ニッケル等からなる（第２の）金属層３１を積層した点である。
この金属層３１においても、金属層４と同様、その頂面及び両側面を、可視光線の反射を抑え、コントラストを向上させるために、黒色化することが好ましい。
黒色化する方法としては、上述した黒色金属層または黒色電着層で被覆する方法、酸化処理または硫化処理を施す方法などが挙げられる。
図５は、本発明の第２の実施形態の電磁波遮蔽膜付き透明フィルムを示す部分拡大断面図であり、この電磁波遮蔽膜付き透明フィルムが第１の実施形態の電磁波遮蔽膜付き透明フィルムと異なる点は、網目状の電磁波遮蔽層６をさらに低抵抗とするために、金属層４上に、電解メッキ法により形成された銅、ニッケル等からなる（第２の）金属層３１を積層した点である。
この金属層３１においても、金属層４と同様、その頂面及び両側面を、可視光線の反射を抑え、コントラストを向上させるために、黒色化することが好ましい。
黒色化する方法としては、上述した黒色金属層または黒色電着層で被覆する方法、酸化処理または硫化処理を施す方法などが挙げられる。
この電磁波遮蔽膜付き透明フィルムでは、電磁波遮蔽層３２の頂面のプライマー層２の表面からの高さは５μｍ以下、好ましくは１．５μｍ〜５μｍとされている。
したがって、電磁波を遮蔽するに充分な低抵抗、例えば、表面抵抗が０．１Ω／□以下の導電性を有しており、しかも、網目状の電磁波遮蔽層３２が形成されているパターン形成部３３と、網目状の電磁波遮蔽層３２が形成されていない非パターン形成部３４との段差（凹凸）が小さく、もって、電磁波遮蔽膜付き透明フィルムを光学用途に適用する場合においても、この段差（凹凸）を平坦にする平坦化処理を施す必要がなく、透明性に優れ、ヘーズ値が３％以下となっている。
したがって、電磁波を遮蔽するに充分な低抵抗、例えば、表面抵抗が０．１Ω／□以下の導電性を有しており、しかも、網目状の電磁波遮蔽層３２が形成されているパターン形成部３３と、網目状の電磁波遮蔽層３２が形成されていない非パターン形成部３４との段差（凹凸）が小さく、もって、電磁波遮蔽膜付き透明フィルムを光学用途に適用する場合においても、この段差（凹凸）を平坦にする平坦化処理を施す必要がなく、透明性に優れ、ヘーズ値が３％以下となっている。
本発明を実施例及び比較例により説明するが、本発明はこの実施例に限定されるものではない。
［実施例１］
「プライマー層形成用塗料の作製及びプライマー層の形成」
アルミナ粉末２４０ｇ、リン酸エステル系分散剤２８ｇをトルエン１３３２ｇに投入し、サンドミルを用いて分散させ、アルミナ分散液を作製した。
［実施例１］
「プライマー層形成用塗料の作製及びプライマー層の形成」
アルミナ粉末２４０ｇ、リン酸エステル系分散剤２８ｇをトルエン１３３２ｇに投入し、サンドミルを用いて分散させ、アルミナ分散液を作製した。
次いで、エチルセルロース２４０ｇをトルエン１８０８ｇに溶解させ、この溶液に、上記のアルミナ分散液とシクロヘキサノン５５２ｇとメチルエチルケトン（ＭＥＫ）１８００ｇを加え、ホモジナイザーで混合し、プライマー層形成用塗料を作製した。
次いで、このプライマー層形成用塗料を、厚みが１２５μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム上にマイクログラビア印刷により塗工し、その後乾燥し、表面にプライマー層が形成された透明フィルムを得た。得られたプライマー層の膜厚は２μｍであった。
次いで、このプライマー層形成用塗料を、厚みが１２５μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム上にマイクログラビア印刷により塗工し、その後乾燥し、表面にプライマー層が形成された透明フィルムを得た。得られたプライマー層の膜厚は２μｍであった。
「触媒インクの作製及び触媒インク層の形成」
パラジウム微粒子３．５ｇとγ−アルミナ１７１．５ｇをエタノール中で分散、凝集させ、固液分離した後乾燥させ、パラジウム微粒子を担持させたγ−アルミナ微粒子を得た。
次いで、α−テルピネオール４７２ｇ及びブチルカルビトールアセテート２３６ｇからなる溶液に、エチルセルロース９０ｇを溶解させ、さらに上記のパラジウム微粒子を担持させたγ−アルミナ微粒子とカーボンブラック９ｇを加え、三本ロールミルで混合、分散し、触媒インクを作製した。
パラジウム微粒子３．５ｇとγ−アルミナ１７１．５ｇをエタノール中で分散、凝集させ、固液分離した後乾燥させ、パラジウム微粒子を担持させたγ−アルミナ微粒子を得た。
次いで、α−テルピネオール４７２ｇ及びブチルカルビトールアセテート２３６ｇからなる溶液に、エチルセルロース９０ｇを溶解させ、さらに上記のパラジウム微粒子を担持させたγ−アルミナ微粒子とカーボンブラック９ｇを加え、三本ロールミルで混合、分散し、触媒インクを作製した。
次いで、この触媒インク及び上記の透明フィルムを用い、図３に示す装置により透明フィルム上に、速度１０ｍ／分、押圧時間１．５秒の条件にて、Ｌ／Ｓ＝１８／２８２μｍのメッシュパターンをグラビア印刷し、８０℃にて５分間、乾燥し、厚みが１．５μｍの網目状の触媒インク層が形成された印刷メッシュフィルムを得た。得られたメッシュ状パターンの形状は非常に良好で、外観上の問題は無かった。
「金属層の形成」
上記の印刷メッシュフィルムを、２５℃の無電解銅メッキ液ＯＰＣ−７５０（奥野製薬社製）中に４０分間浸漬させ、メッシュパターン上に銅を析出させ、金属層を形成した。その後、厚みが２．０μｍのニッケル／スズの合金メッキを施し、メッシュパターンの表面を黒色化させ、金属メッシュ膜を作製した。
この金属メッシュ膜の網目状の電磁波遮蔽層は、Ｌ／Ｓ＝２０／２８０μｍであり、この電磁波遮蔽層の頂面のプライマー層の表面からの高さは３．７μｍ、表面抵抗は０．２Ω／口、可視光線透過率は８４％、ヘーズ値は３％であった。
上記の印刷メッシュフィルムを、２５℃の無電解銅メッキ液ＯＰＣ−７５０（奥野製薬社製）中に４０分間浸漬させ、メッシュパターン上に銅を析出させ、金属層を形成した。その後、厚みが２．０μｍのニッケル／スズの合金メッキを施し、メッシュパターンの表面を黒色化させ、金属メッシュ膜を作製した。
この金属メッシュ膜の網目状の電磁波遮蔽層は、Ｌ／Ｓ＝２０／２８０μｍであり、この電磁波遮蔽層の頂面のプライマー層の表面からの高さは３．７μｍ、表面抵抗は０．２Ω／口、可視光線透過率は８４％、ヘーズ値は３％であった。
［実施例２］
実施例１のアルミナ粉末をジルコニア粉末に替えた以外は、実施例１と同様にして印刷メッシュフィルムを作製した。得られたメッシュパターンの形状は非常に良好で、外観上の問題は無かった。
次いで、この印刷メッシュフィルムに、実施例１と同様にメッキ処理を施し、金属メッシュ膜を作製した。
この金属メッシュ膜の網目状の電磁波遮蔽層は、Ｌ／Ｓ＝２０／２８０μｍであり、この電磁波遮蔽層の頂面のプライマー層の表面からの高さは３．７μｍ、表面抵抗は０．２Ω／口、可視光線透過率は８４％、ヘーズ値は３％であった。
実施例１のアルミナ粉末をジルコニア粉末に替えた以外は、実施例１と同様にして印刷メッシュフィルムを作製した。得られたメッシュパターンの形状は非常に良好で、外観上の問題は無かった。
次いで、この印刷メッシュフィルムに、実施例１と同様にメッキ処理を施し、金属メッシュ膜を作製した。
この金属メッシュ膜の網目状の電磁波遮蔽層は、Ｌ／Ｓ＝２０／２８０μｍであり、この電磁波遮蔽層の頂面のプライマー層の表面からの高さは３．７μｍ、表面抵抗は０．２Ω／口、可視光線透過率は８４％、ヘーズ値は３％であった。
［実施例３］
実施例１のアルミナ粉末をシリカ粉末に替えた以外は、実施例１と同様にして印刷メッシュフィルムを作製した。得られたメッシュパターンの形状は非常に良好で、外観上の問題は無かった。
次いで、この印刷メッシュフィルムに、実施例１と同様にメッキ処理を施し、金属メッシュ膜を作製した。
この金属メッシュ膜の網目状の電磁波遮蔽層は、Ｌ／Ｓ＝２０／２８０μｍであり、この電磁波遮蔽層の頂面のプライマー層の表面からの高さは３．７μｍ、表面抵抗は０．２Ω／口、可視光線透過率は８４％、ヘーズ値は３％であった。
実施例１のアルミナ粉末をシリカ粉末に替えた以外は、実施例１と同様にして印刷メッシュフィルムを作製した。得られたメッシュパターンの形状は非常に良好で、外観上の問題は無かった。
次いで、この印刷メッシュフィルムに、実施例１と同様にメッキ処理を施し、金属メッシュ膜を作製した。
この金属メッシュ膜の網目状の電磁波遮蔽層は、Ｌ／Ｓ＝２０／２８０μｍであり、この電磁波遮蔽層の頂面のプライマー層の表面からの高さは３．７μｍ、表面抵抗は０．２Ω／口、可視光線透過率は８４％、ヘーズ値は３％であった。
［実施例４］
実施例１と同様にして印刷メッシュフィルムを作製した。得られたメッシュパターンの形状は非常に良好で、外観上の問題は無かった。
次いで、この印刷メッシュフィルムを、２５℃の無電解銅メッキ液ＯＰＣ−７５０（奥野製薬社製）中に１０分間浸漬させてメッシュパターン上に銅を析出させ、厚みが１．０μｍの金属層を形成した。
実施例１と同様にして印刷メッシュフィルムを作製した。得られたメッシュパターンの形状は非常に良好で、外観上の問題は無かった。
次いで、この印刷メッシュフィルムを、２５℃の無電解銅メッキ液ＯＰＣ−７５０（奥野製薬社製）中に１０分間浸漬させてメッシュパターン上に銅を析出させ、厚みが１．０μｍの金属層を形成した。
次いで、この銅を析出させた印刷メッシュフィルムに、電気銅メッキ液 トップルチナＳＦ（奥野製薬社製）を用いて、３Ａ／ｄｍ２の電流密度で２５℃にて５分間、電気銅メッキ処理を施し、厚みが２．０μｍの金属層を形成した。
その後、電気メッキによりニッケル／スズの合金メッキを施し、メッシュパターンの表面を黒色化させ、金属メッシュ膜を作製した。
この金属メッシュ膜の網目状の電磁波遮蔽層は、Ｌ／Ｓ＝２０／２８０μｍであり、この電磁波遮蔽層の頂面のプライマー層の表面からの高さは４．７μｍ、表面抵抗は０．０５Ω／口、可視光線透過率は８４％、ヘーズ値は３％であった。
その後、電気メッキによりニッケル／スズの合金メッキを施し、メッシュパターンの表面を黒色化させ、金属メッシュ膜を作製した。
この金属メッシュ膜の網目状の電磁波遮蔽層は、Ｌ／Ｓ＝２０／２８０μｍであり、この電磁波遮蔽層の頂面のプライマー層の表面からの高さは４．７μｍ、表面抵抗は０．０５Ω／口、可視光線透過率は８４％、ヘーズ値は３％であった。
［実施例５］
実施例１と同様にして、プライマー層が形成された透明フィルムを作製した。
次いで、実施例１の触媒インクのアルミナ粉末をジルコニア粉末に替えた以外は、実施例１と同様にして触媒インクを作製した。
この触媒インクを用い、図３に示す装置により透明フィルム上に、速度１０ｍ／分、押圧時間１．５秒の条件にて、Ｌ／Ｓ＝８／２９２μｍのメッシュパターンをグラビア印刷し、８０℃にて５分間、乾燥し、厚みが１．５μｍの網目状の触媒インク層が形成された印刷メッシュフィルムを得た。得られたメッシュ状パターンの形状は非常に良好で、外観上の問題は無かった。
実施例１と同様にして、プライマー層が形成された透明フィルムを作製した。
次いで、実施例１の触媒インクのアルミナ粉末をジルコニア粉末に替えた以外は、実施例１と同様にして触媒インクを作製した。
この触媒インクを用い、図３に示す装置により透明フィルム上に、速度１０ｍ／分、押圧時間１．５秒の条件にて、Ｌ／Ｓ＝８／２９２μｍのメッシュパターンをグラビア印刷し、８０℃にて５分間、乾燥し、厚みが１．５μｍの網目状の触媒インク層が形成された印刷メッシュフィルムを得た。得られたメッシュ状パターンの形状は非常に良好で、外観上の問題は無かった。
その後、実施例４と同様にしてメッキ処理を施し、金属メッシュ膜を作製した。
この金属メッシュ膜の網目状の電磁波遮蔽層は、Ｌ／Ｓ＝１０／２９０μｍであり、この電磁波遮蔽層の頂面のプライマー層の表面からの高さは４．７μｍ、表面抵抗は０．１Ω／口、可視光線透過率は９０％、ヘーズ値は２．５％であった。
この金属メッシュ膜の網目状の電磁波遮蔽層は、Ｌ／Ｓ＝１０／２９０μｍであり、この電磁波遮蔽層の頂面のプライマー層の表面からの高さは４．７μｍ、表面抵抗は０．１Ω／口、可視光線透過率は９０％、ヘーズ値は２．５％であった。
［実施例６］
実施例１と同様にして、プライマー層が形成された透明フィルムを作製した。
次いで、実施例１の触媒インクのアルミナ粉末をジルコニア粉末に替えた以外は、実施例１と同様にして触媒インクを作製した。
この触媒インクを用い、図３に示す装置により透明フィルム上に、速度２０ｍ／分、押圧時間１．５秒の条件にて、Ｌ／Ｓ＝８／２９２μｍのメッシュパターンをグラビア印刷し、８０℃にて５分間、乾燥し、厚みが１．５μｍの網目状の触媒インク層が形成された印刷メッシュフィルムを得た。得られたメッシュ状パターンの形状は非常に良好で、外観上の問題は無かった。
実施例１と同様にして、プライマー層が形成された透明フィルムを作製した。
次いで、実施例１の触媒インクのアルミナ粉末をジルコニア粉末に替えた以外は、実施例１と同様にして触媒インクを作製した。
この触媒インクを用い、図３に示す装置により透明フィルム上に、速度２０ｍ／分、押圧時間１．５秒の条件にて、Ｌ／Ｓ＝８／２９２μｍのメッシュパターンをグラビア印刷し、８０℃にて５分間、乾燥し、厚みが１．５μｍの網目状の触媒インク層が形成された印刷メッシュフィルムを得た。得られたメッシュ状パターンの形状は非常に良好で、外観上の問題は無かった。
その後、実施例４と同様にしてメッキ処理を施し、金属メッシュ膜を作製した。
この金属メッシュ膜の網目状の電磁波遮蔽層は、Ｌ／Ｓ＝１０／２９０μｍであり、この電磁波遮蔽層の頂面のプライマー層の表面からの高さは４．７μｍ、表面抵抗は０．１Ω／口、可視光線透過率は９０％、ヘーズ値は２．５％であった。
この金属メッシュ膜の網目状の電磁波遮蔽層は、Ｌ／Ｓ＝１０／２９０μｍであり、この電磁波遮蔽層の頂面のプライマー層の表面からの高さは４．７μｍ、表面抵抗は０．１Ω／口、可視光線透過率は９０％、ヘーズ値は２．５％であった。
［比較例］
実施例１と同様にして、プライマー層が形成された透明フィルムを作製した。
次いで、この透明フィルムと実施例１の触媒インクを用い、スクリーン印刷法により、透明フィルム上にＬ／Ｓ＝２０／２８０μｍのメッシュパターンを印刷し、９０℃にて１０分間、乾燥し、印刷メッシュフィルムを得た。
良好なメッシュパターンの形状が得られる限界の印刷速度は、１ｍ／分であり、厚みは８．０μｍであった。
実施例１と同様にして、プライマー層が形成された透明フィルムを作製した。
次いで、この透明フィルムと実施例１の触媒インクを用い、スクリーン印刷法により、透明フィルム上にＬ／Ｓ＝２０／２８０μｍのメッシュパターンを印刷し、９０℃にて１０分間、乾燥し、印刷メッシュフィルムを得た。
良好なメッシュパターンの形状が得られる限界の印刷速度は、１ｍ／分であり、厚みは８．０μｍであった。
「金属層の形成」
上記の印刷メッシュフィルムを、２５℃の無電解銅メッキ液ＯＰＣ−７５０（奥野製薬社製）中に４０分間浸漬させ、メッシュパターン上に銅を析出させ、厚みが２．０μｍの金属層を形成した。その後、ニッケル／スズの合金メッキを施し、メッシュパターンの表面を黒色化させ、金属メッシュ膜を作製した。
この金属メッシュ膜の網目状の電磁波遮蔽層は、Ｌ／Ｓ＝２０／２８０μｍであり、この電磁波遮蔽層の頂面のプライマー層の表面からの高さは１０μｍ、表面抵抗は０．２Ω／口、可視光線透過率は８４％、ヘーズ値は５％であった。
上記の印刷メッシュフィルムを、２５℃の無電解銅メッキ液ＯＰＣ−７５０（奥野製薬社製）中に４０分間浸漬させ、メッシュパターン上に銅を析出させ、厚みが２．０μｍの金属層を形成した。その後、ニッケル／スズの合金メッキを施し、メッシュパターンの表面を黒色化させ、金属メッシュ膜を作製した。
この金属メッシュ膜の網目状の電磁波遮蔽層は、Ｌ／Ｓ＝２０／２８０μｍであり、この電磁波遮蔽層の頂面のプライマー層の表面からの高さは１０μｍ、表面抵抗は０．２Ω／口、可視光線透過率は８４％、ヘーズ値は５％であった。
本発明の電磁波遮蔽膜付き透明基材は、柔軟性を有する透明基材の一主面上に、グラビア印刷用の版胴上の触媒インクに下地層を押圧させることにより触媒インクを下地層上に転写してなる網目状パターンを有する触媒インク層と、この触媒インク層上に無電解メッキにより形成した金属層とからなる網目状パターンを有する電磁波遮蔽層を積層したことにより、優れた透明性を有し、ヘーズ値が小さく、高精度かつ薄膜状のパターンを有する電磁波遮蔽膜付き透明基材を容易に実現することができたものであるから、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等の各種フラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）はもちろんのこと、その他の表示装置等へも適用可能であり、その工業的価値は極めて大きなものである。
１ 透明フィルム
２ プライマー層
３ 触媒インク層
４ 金属層
６ 網目状の電磁波遮蔽層
７ パターン形成部
８ 非パターン形成部
１１ 版胴
１２ パターン溝
１３ ディスペンサ
１４ ブレード
１５、１６ バックアップロール
２１ ブレード
３１（第２の）金属層
３２ 電磁波遮蔽層
３３ パターン形成部
３４ 非パターン形成部
Ｃ 触媒インク
Ｆ グラビア印刷用透明フィルム
２ プライマー層
３ 触媒インク層
４ 金属層
６ 網目状の電磁波遮蔽層
７ パターン形成部
８ 非パターン形成部
１１ 版胴
１２ パターン溝
１３ ディスペンサ
１４ ブレード
１５、１６ バックアップロール
２１ ブレード
３１（第２の）金属層
３２ 電磁波遮蔽層
３３ パターン形成部
３４ 非パターン形成部
Ｃ 触媒インク
Ｆ グラビア印刷用透明フィルム
Claims (5)
- 柔軟性を有する透明基材の一主面上に、下地層及び網目状パターンを有する電磁波遮蔽層を積層してなる電磁波遮蔽膜付き透明基材であって、
前記下地層は、アルミナ、チタニア、ジルコニア、シリカの群から選択される１種または２種以上からなる酸化物微粒子及び柔軟性を有する樹脂を含む複合材料からなり、
前記電磁波遮蔽層は、貴金属微粒子を担持させた酸化物微粒子と有機高分子を含む触媒インク層と、この触媒インク層上に無電解メッキにより形成した金属層とからなり、
前記電磁波遮蔽層の頂面の前記下地層の表面からの高さは５μｍ以下であり、かつ、ヘーズ値が３％以下であることを特徴とする電磁波遮蔽膜付き透明基材。 - 前記金属層上に、電解メッキにより形成された第２の金属層を積層してなることを特徴とする請求項１記載の電磁波遮蔽膜付き透明基材。
- 柔軟性を有する透明基材の一主面上に、アルミナ、チタニア、ジルコニア、シリカの群から選択される１種または２種以上からなる酸化物微粒子及び柔軟性を有する樹脂を含む複合材料からなる下地層、及び、貴金属微粒子を担持させた酸化物微粒子と有機高分子を含む触媒インク層と、この触媒インク層上に無電解メッキにより形成した金属層とからなる網目状パターンを有する電磁波遮蔽層を積層してなる電磁波遮蔽膜付き透明基材の製造方法であって、
グラビア印刷用の版胴上に触媒インクを網目状のパターンに塗布し、次いで、この版胴上の触媒インクと前記透明基材上に形成された下地層とを押圧させて所定の時間保持し、次いで、前記透明基材と前記版胴とを離間させて前記版胴上の触媒インクを前記下地層上に転写して網目状パターンの触媒インク層を形成し、
次いで、前記触媒インク層上に無電解メッキを施し、網目状パターンの頂面の前記下地層の表面からの高さが５μｍ以下の金属層を形成することを特徴とする電磁波遮蔽膜付き透明基材の製造方法。 - 前記所定の時間は、０．５秒以上かつ１０秒以下であることを特徴とする請求項３記載の電磁波遮蔽膜付き透明基材の製造方法。
- 前記金属層上に電解メッキを施して、第２の金属層を形成することを特徴とする請求項３または４記載の電磁波遮蔽膜付き透明基材の製造方法。
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