WO2007099848A1 - クリーニング装置、クリーニング方法、パターン形成装置、およびパターン形成方法 - Google Patents

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WO2007099848A1
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cleaning
liquid
image carrier
particles
developer
Prior art date
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PCT/JP2007/053282
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English (en)
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Atsuko Iida
Mitsunaga Saito
Koichi Ishii
Ken Takahashi
Yoshihiro Tajima
Yasushi Shinjiyo
Shigeyuki Tashiro
Daiji Hirosawa
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Kabushiki Kaisha Toshiba
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    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41FPRINTING MACHINES OR PRESSES
    • B41F35/00Cleaning arrangements or devices
    • B41F35/02Cleaning arrangements or devices for forme cylinders
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G21/00Arrangements not provided for by groups G03G13/00 - G03G19/00, e.g. cleaning, elimination of residual charge
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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    • G03G21/00Arrangements not provided for by groups G03G13/00 - G03G19/00, e.g. cleaning, elimination of residual charge
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B41PINDEXING SCHEME RELATING TO PRINTING, LINING MACHINES, TYPEWRITERS, AND TO STAMPS
    • B41P2235/00Cleaning
    • B41P2235/10Cleaning characterised by the methods or devices
    • B41P2235/26Spraying devices

Definitions

  • the present invention relates to, for example, a pattern image forming apparatus used for manufacturing a flat image display device, a wiring board, an IC tag, a pattern forming method, an intaglio cleaning device incorporated in the pattern forming device, and a cleaning device. Regarding the method.
  • a photolithography technique has played a central role as a technique for forming a fine pattern on the surface of a substrate.
  • this photolithography technology is increasing its resolution and performance, it requires huge and expensive manufacturing facilities, and the manufacturing cost is also increasing according to the resolution.
  • inkjet technology has begun to be put into practical use as a patterning technology that makes use of features such as simplicity of the device and non-contact patterning, but there are limits to high resolution and high productivity. I have to say that there is. That is, in this respect, electrophotographic technology, in particular, electrophotographic technology using liquid toner has excellent potential.
  • an electrostatic printing plate in which a pattern having different electrical resistances is formed on the surface in advance is used to develop the pattern by applying liquid toner to the plate, and this pattern image is formed on the glass.
  • a method of forming a pattern of a phosphor or the like on a display windshield by transferring it to a plate see, for example, JP 2002-527783.
  • wet electrophotographic technology is suitable for forming fine patterns with high resolution and high alignment accuracy, which cannot be achieved with dry electrophotography (for example, JP 2001-13795 A). reference).
  • the carrier liquid is also used as a cleaning liquid in the cleaning step of toner particles adhering to the image carrier after pattern formation. For this reason, a large amount of carrier liquid containing toner particles is discharged as waste liquid. For this reason, in a conventional pattern forming apparatus using wet electrophotographic technology, for example, a small amount of untransferred liquid developer remaining on an image carrier is recovered, toner solids are removed, and carrier liquid is separated and extracted. A regenerating unit is provided, and the regenerated carrier liquid is added to the developer of the developing means.
  • a continuous foam as a liquid diffusion suppressing member that suppresses diffusion of the recovered developer, and an electric field applied to the recovered developer passing through the continuous foam can be used.
  • a pair of planar electrodes to which different potentials are applied were provided.
  • the toner solid content can be removed, it is added to the developer as an ionic compound, and it is light gold.
  • the genus sarcophagus could not be removed because it was not electrodeposited on the electrode.
  • a method for removing this ionic compound there is a method using an adsorbent (see, for example, JP-A-2004-117772).
  • an ionic compound removal device containing an ionic adsorbent that adsorbs ions in an ionic manner is used to adsorb and remove the ionic compound contained in the recovered liquid to the adsorbent.
  • the metal sarcophagus was removed and the carrier liquid was regenerated.
  • the toner solids are removed by adding a separate filter.
  • the adsorbent retention mechanism is not provided in the above method. Therefore, in order to increase the adsorption efficiency of the ion adsorbent, the carrier flow rate of lOmlZ is less than that of the lOOg adsorbent. It was necessary to always pass the recovered liquid at a low flow rate and to increase the contact time between the ionic adsorbent and the recovered carrier liquid. For this reason, the processing capacity per unit time cannot be increased, and the processing efficiency is extremely low.
  • An object of the present invention is to provide a cleaning device and a cleaning method that can satisfactorily clean charged particles held on an image carrier.
  • an object of the present invention is to regenerate the carrier liquid by removing the ionic compound and the toner solids from the liquid developer waste liquid in parallel, and the processing capacity per unit time
  • Another object of the present invention is to obtain a pattern forming apparatus and a pattern forming method provided with a waste liquid treatment unit having good adsorption efficiency per unit amount of adsorbent used.
  • the cleaning device of the present invention is a device for cleaning the intaglio after the image forming agent particles are aggregated in the pattern-shaped recess and transferred to the transfer medium.
  • a supply device that supplies a cleaning liquid; and a removal device that removes the developer particles remaining in the recess together with the cleaning liquid supplied by the supply device.
  • the cleaning device of the present invention supplies a liquid developer in which developer particles charged in an insulating liquid are dispersed to an intaglio having a pattern-shaped recess, and an electric field is applied near the recess.
  • the developer particles in the liquid developer are aggregated in the recesses, and an electric field is applied to the developer particles collected in the recesses to be transferred to a transfer medium.
  • a cleaning device for cleaning the recessed portion after the transfer a supply device for supplying a cleaning liquid to the recessed portion, a removing device for removing developer particles remaining in the recessed portion together with the cleaning liquid supplied by the supplying device; Have
  • the cleaning method of the present invention is a method for cleaning the intaglio after the developer particles are aggregated in the pattern-like recesses and transferred to the transfer medium, and supplying the cleaning liquid to the recesses And a removing step of removing the developer particles remaining in the concave portion together with the cleaning liquid supplied in the supplying step.
  • the cleaning liquid is supplied to the recesses and adheres to the recesses. Developer particles are released in the cleaning liquid, and then the released developer particles are removed together with the cleaning liquid, so that the developer particles adhering to the recesses can be surely removed, resulting in high resolution and high definition.
  • An intaglio capable of transferring a pattern to a transfer medium can be provided.
  • the cleaning device of the present invention is a device for cleaning an image carrier that holds a pattern image of charged particles and transfers the pattern image to a transfer medium, and is disposed in close proximity to the image carrier.
  • An electric field is formed between the image carrier and the image carrier.
  • An electrode for adsorbing charged particles and a space between the electrode and the image carrier are filled with a cleaning liquid, and after the electric field has disappeared, the charged particles adsorbed on the electrode are allowed to flow.
  • the pattern forming apparatus of the present invention includes a holding mechanism that holds a flat plate-shaped transfer medium, a drum-shaped image holding member, and a flat plate-like receiving member that holds the image holding member by the holding mechanism.
  • a rolling mechanism that rolls along a transfer medium, an image forming apparatus that forms a pattern image with charged particles on a peripheral surface of the image carrier, and the rolling image carrier and the transfer medium.
  • a transfer device that forms an electric field in between and transfers the pattern image on the peripheral surface to the transfer medium; and a cleaning device that cleans the peripheral surface of the image carrier.
  • An electrode that is disposed in close proximity to the circumferential surface of the image carrier and that forms an electric field with the image carrier to adsorb charged particles held on the circumferential surface, and the electrode and the image carrier Fill the body with the cleaning liquid. Both After disappearance over Symbol field, having a liquid flow device for flowing Tarinin grayed liquid to flow charged particles which has been adsorbed to the electrode.
  • the cleaning method of the present invention is a method for cleaning an image carrier that holds a pattern image by charged particles and transfers the pattern image to a transfer medium, and the electrode is placed in close proximity to the image carrier.
  • the gap between the electrode that is in close proximity to the image carrier and the image carrier is filled with the cleaning liquid, and the electrode, the image carrier,
  • the charged particles held on the image carrier were adsorbed on the electrode by forming an electric field between them, and after the electric field disappeared, the cleaning liquid was flowed so that the charged particles adsorbed on the electrode flowed.
  • the cleaning liquid was flowed so that the charged particles adsorbed on the electrode flowed.
  • the surface of the image carrier is filled with the cleaning liquid.
  • ultrasonic waves are applied to the developer particles remaining on the image carrier to remove the cleaning liquid from the residual liquid.
  • an ultrasonic device that penetrates between the developer particles.
  • the surface of the image carrier is filled with the cleaning liquid, and ultrasonic waves are applied to the developer particles remaining on the surface so that the cleaning liquid penetrates between the developer particles. For this reason, when the cleaning liquid is allowed to flow, the developer particles can be made to be in a forceful state, and the developer particles remaining on the image carrier can be effectively removed. Thereby, for example, a large amount of developer particles remaining on the image carrier due to poor development can be excellently tared.
  • the present invention is effective when using an intaglio having a pattern of concave portions for accommodating developer particles on the surface of the image carrier.
  • the cleaning device of the present invention is a device for cleaning an image carrier that holds a pattern image by charged particles and transfers it to a transfer medium, and fills the surface of the image carrier with a cleaning liquid.
  • a liquid flow device for flowing the cleaning liquid, and with the surface of the image carrier filled with the cleaning liquid, ultrasonic waves are applied to the charged particles remaining on the image carrier to leave the cleaning liquid.
  • An ultrasonic device that penetrates between the charged particles and the surface of the image carrier, which is disposed in close proximity to each other, forms an electric field between the image carrier and the charged particles held on the image carrier.
  • an ultrasonic wave is applied to the charged particles remaining in a state where the surface of the image holding member is filled with the cleaning liquid, and an electric field is applied to the charged particles in such a state of being electrically conductive. Since the member is adsorbed to the member, the charged particles remaining on the image carrier can be easily removed by flowing a cleaning liquid after the electric field is lost, and the image carrier can be cleaned well.
  • the cleaning method of the present invention is a method for cleaning an image carrier that holds a pattern image by developer particles and transfers it to a transfer medium, and the surface of the image carrier is cleaned with a cleaning liquid. And a step of applying ultrasonic waves to the developer particles remaining on the image carrier to allow the cleaning liquid to penetrate between the remaining developer particles.
  • the cleaning method of the present invention is a method of cleaning an image carrier that holds a pattern image by charged particles and transfers it to a transfer medium, and the surface of the image carrier is filled with a cleaning liquid.
  • An ultrasonic wave generation process in which ultrasonic waves are applied to the charged particles remaining on the image carrier and the cleaning liquid penetrates between the remaining charged particles; and the surface of the image carrier is closely opposed to each other.
  • An electric field is formed between the conductive member and the image carrier, and the charged particles held by the image carrier are adsorbed to the conductive member; and after the electric field is eliminated, And a liquid flow step of flowing charged particles filled with the tallying liquid filling the surface of the image carrier and adsorbed by the conductive member.
  • the pattern forming apparatus of the present invention includes an ionic compound containing an image bearing member and an electrostatic latent image formed on the image bearing member facing the image bearing member. Connected to the pattern forming unit, which is developed with a liquid developer containing toner and a carrier liquid and has a developing unit for forming a toner image, a pattern forming unit for transferring the toner image to a transfer medium, and the pattern forming unit.
  • Waste liquid collection line for collecting waste liquid containing toner solids, ionic compound, and carrier liquid, and a conductive barrier structure connected to the collection line and having an opening of 30 to LOO / zm diameter
  • a filter that removes the toner solids and the ionic compound in the waste liquid
  • a waste liquid treatment unit that is provided upstream of the filter and includes an inlet for introducing adsorbent particles; And discharge from the waste liquid treatment unit And a regenerating liquid supply line for returning the treated waste liquid to the patterning unit, and the filter has an adsorbent having a maximum frequency of the particle size distribution in the range between 5 IX m and 100 m in particle size.
  • FIG. 1 is a perspective view showing a schematic configuration of a pattern forming apparatus according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a plan view (a) showing a master plate used in the pattern forming apparatus of FIG. It is a surface view (b).
  • FIG. 3 is a partially enlarged plan view showing the original plate of FIG. 2 partially enlarged.
  • FIG. 4 is a partially enlarged perspective view for explaining the structure of one concave portion of the original plate of FIG.
  • FIG. 5 is a schematic view showing a state in which the original plate of FIG. 2 is wound around a drum base tube.
  • FIG. 6 is a schematic diagram showing a configuration for charging the surface of the high resistance layer of the original plate in FIG.
  • FIG. 7 is a schematic view showing a configuration for supplying a liquid developer to the original plate of FIG. 2 to form a pattern of toner particles.
  • FIG. 8 is a schematic diagram showing a configuration for transferring a pattern formed on the original plate of FIG. 2 to a glass plate.
  • FIG. 9 is a schematic diagram showing a configuration of a main part of a rolling mechanism for rolling the original plate of FIG. 2 along a glass plate.
  • FIG. 10 is an operation explanatory diagram for explaining an operation of transferring toner particles collected in the concave portions of the intaglio to a glass plate.
  • FIG. 11 is a schematic diagram showing the cleaner according to the first embodiment of the present invention for cleaning an intaglio.
  • FIG. 12 is a diagram for explaining the spray angle of the cleaning liquid by the cleaner of FIG. 11.
  • FIG. 13 is a schematic view showing a state in which a cleaning liquid is sprayed on the recesses of the intaglio.
  • FIG. 14 is a schematic view showing a state where toner particles are released by spraying a cleaning liquid.
  • FIG. 15 is a schematic view showing a state in which the removing roller is brought into sliding contact with the recess after spraying the cleaning liquid.
  • FIG. 16 is a schematic diagram showing a state in which toner particles are sucked together with a cleaning liquid by bringing a removing roller into contact with a recess opening.
  • FIG. 17 is a schematic diagram showing a cleaner according to a second embodiment of the present invention.
  • FIG. 18 is a schematic diagram showing a cleaner according to a third embodiment of the present invention.
  • FIG. 19 is a schematic diagram showing a cleaner according to a fourth embodiment of the present invention.
  • FIG. 20 is a schematic diagram showing a cleaner according to a fifth embodiment of the present invention.
  • FIG. 21 is a schematic diagram showing a cleaner according to a sixth embodiment of the present invention.
  • FIG. 22 is a schematic diagram showing the structure of the main part of the cleaner according to the seventh embodiment of the present invention.
  • FIG. 23 is a schematic diagram showing the structure of the main part of the cleaner according to the eighth embodiment of the present invention.
  • FIG. 24 is a schematic diagram showing the structure of the main part of the cleaner according to the ninth embodiment of the present invention.
  • FIG. 25 is a schematic diagram showing a cleaner according to a tenth embodiment of the present invention.
  • FIG. 26 is a diagram for explaining a method of determining the amount of developer particles remaining in the recesses.
  • FIG. 27 is a schematic view showing a cleaning device according to the first embodiment of the present invention.
  • FIG. 28 is an operation explanatory view showing a state in which the space between the original plate and the electrode is filled with the cleaning liquid in the cleaning device of FIG. 27.
  • FIG. 29 is an operation explanatory view showing a state in which an electric field is formed between the original plate and the electrode from the state shown in FIG. 28 and developer particles are adsorbed to the electrode.
  • FIG. 30 is an operation explanatory view showing a state in which the developer particles are caused to flow through the cleaning liquid also in the state force shown in FIG. 29.
  • FIG. 31 is a schematic view showing a cleaning device according to a second embodiment of the present invention.
  • FIG. 32 is a schematic diagram showing a cleaning device according to a third embodiment of the present invention.
  • FIG. 33 is a schematic diagram showing a cleaning device according to a fourth embodiment of the present invention.
  • FIG. 34 is a schematic view showing a cleaning device according to a fifth embodiment of the present invention. It is.
  • FIG. 35 is a schematic view showing a cleaning device according to a sixth embodiment of the present invention.
  • FIG. 36 is a diagram for explaining voltages applied to the components of the apparatus shown in FIG. 35.
  • FIG. 37 is a schematic diagram showing a cleaner according to an eleventh embodiment of the present invention.
  • FIG. 38 is a block diagram of a control system for controlling the operation of the cleaning device according to the seventh embodiment of the present invention.
  • FIG. 39 is a diagram for explaining a method of determining the amount of developer particles remaining in a recess.
  • FIG. 40 is a schematic diagram showing a cleaning device according to a seventh embodiment of the present invention.
  • FIG. 41 is a flowchart for explaining the operation of the cleaning device of FIG. 40.
  • FIG. 42 is an operation explanatory diagram showing a state in which the space between the original plate and the electrode is filled with the cleaning liquid in the cleaning device of FIG. 40.
  • FIG. 43 is an operation explanatory view showing a state where the developer particles are loosened by applying ultrasonic waves between the original plate and the electrode from the state shown in FIG. 42.
  • FIG. 44 is an operation explanatory diagram showing a state in which the developer particles are allowed to flow through the cleaning liquid in the state shown in FIG. 43.
  • FIG. 45 is a graph showing the relationship between the frequency and the cleaning index for the cleaning effect when A and B particles are cleaned.
  • FIG. 46 is a diagram for explaining a method of calculating a cleaning index.
  • FIG. 47 is a table showing the relationship between the frequency of ultrasonic waves applied during cleaning of the original plate and the damage to the original plate.
  • FIG. 48 is a schematic view showing an embodiment in which the cleaner is removed from the pattern forming apparatus shown in FIG. 1.
  • FIG. 49 is a schematic diagram showing a cleaning device according to an eighth embodiment of the present invention. It is.
  • FIG. 50 is a block diagram showing a control system for controlling the operation of the cleaning device of FIG. 49.
  • FIG. 51 is a flowchart for explaining the operation of the cleaning device of FIG. 49.
  • FIG. 52 is an operation explanatory view showing a state in which the space between the original plate and the electrode is filled with the cleaning liquid in the cleaning device of FIG. 49.
  • FIG. 53 is an operation explanatory view showing a state in which the developer particles are loosened by applying ultrasonic waves between the original plate and the electrode from the state shown in FIG. 52.
  • FIG. 54 is an operation explanatory diagram showing a state in which an electric field is formed between the original plate and the electrode from the state shown in FIG. 53 and developer particles are attracted to the electrode.
  • FIG. 55 is an operation explanatory diagram showing a state in which developer particles are adsorbed on the electrode from the state of FIG. 54.
  • FIG. 56 is an operation explanatory view showing a state in which the developer particles are caused to flow by eliminating the state force electric field shown in FIG. 55 and circulating the cleaning liquid.
  • FIG. 57 is a schematic diagram showing a first modification of the cleaning device in FIG. 49.
  • FIG. 58 is a diagram showing a state in which the surface of the original plate has been wetted with a cleaning liquid by the cleaning device of FIG. 57.
  • FIG. 59 is a diagram showing a state force of FIG. 58 in which an electric field and an ultrasonic wave are generated between the electrode and the original.
  • FIG. 60 is an operation explanatory diagram showing a state in which the developer particles are allowed to flow through the cleaning liquid after the state force electric field in FIG. 59 has disappeared.
  • FIG. 61 is a schematic diagram showing a second modification of the cleaning device in FIG. 49.
  • FIG. 61 is a schematic diagram showing a second modification of the cleaning device in FIG. 49.
  • FIG. 62 is a schematic diagram showing a third modification of the cleaning device in FIG. 49.
  • FIG. 63 is a diagram for explaining voltages applied to each component of the cleaning device in FIG. 62.
  • FIG. 64 is a schematic diagram showing a cleaning device according to a ninth embodiment of the present invention.
  • FIG. 65 is a diagram showing a state in which the space between the original plate and the electrode is filled with the cleaning liquid in the cleaning device of FIG. 64.
  • FIG. 66 is a diagram showing a state having a liquid non-penetrating portion before applying ultrasonic waves in the state of FIG. 65.
  • FIG. 67 is a diagram for explaining how the cleaning liquid penetrates when the state force of FIG. 66 is also applied with ultrasonic waves.
  • FIG. 68 is a diagram for explaining the spraying operation of the tarescent liquid by the spraying unit incorporated in the cleaning device of FIG. 64.
  • FIG. 69 is a schematic diagram showing an outline of an example of a pattern forming apparatus according to another embodiment of the present invention.
  • FIG. 70 is a schematic diagram for explaining a configuration of an example of a waste liquid treatment mechanism applied to the pattern forming apparatus according to the present invention.
  • FIG. 71 is a schematic diagram showing a configuration of an example of a filter used in the waste liquid treatment mechanism.
  • FIG. 72 is an enlarged view of a part of the barrier structure shown in FIG. 71.
  • FIG. 73 is a diagram for explaining an example of the operation in the adsorbent particle layer of FIG. 72.
  • FIG. 74 is a graph showing the relationship between the amount of adsorbent input and the amount of removed metal stone.
  • FIG. 75 is a graph showing the number of circulations in the waste liquid treatment unit and the amount of metal stalagmite removal.
  • FIG. 76 is a graph showing the relationship between the degree of saturation of adsorbent particles and the conductivity of waste liquid.
  • FIG. 77 is a schematic view showing the structure of another example of the barrier structure used in the filter of the waste liquid treatment mechanism.
  • FIG. 78 is a partially enlarged view of the barrier structure shown in FIG. 77.
  • FIG. 79 is a schematic diagram showing the structure of still another example of the barrier structure used in the filter of the liquid treatment mechanism.
  • FIG. 80 is an enlarged view of the barrier structure shown in FIG. 79.
  • FIG. 81 is a diagram showing a configuration of a stainless steel plate used as the barrier structure in FIG. 79.
  • FIG. 82 is a schematic diagram showing a cross-sectional state of the barrier structure gap in FIG. 81.
  • FIG. 83 is a schematic view showing an outline of an example of a pattern forming apparatus according to still another embodiment of the present invention.
  • FIG. 84 is a view for explaining the configuration of an intaglio drum used in the pattern forming apparatus of FIG. 83.
  • FIG. 85 is a diagram for explaining a configuration of a wiring board manufacturing apparatus used for manufacturing a circuit board.
  • FIG. 86 is a diagram schematically showing a configuration of a liquid developer that can be used in the present invention.
  • FIG. 87 is a diagram schematically showing a configuration of a liquid developer that can be used in the present invention.
  • FIG. 88 is a diagram schematically showing a cross-sectional configuration of a circuit board using a pattern formed according to the present invention.
  • FIG. 89 is a graph showing a guide for replacement of an adsorbent.
  • a pattern forming apparatus 10 includes an original plate wound around a peripheral surface of a drum base tube (described later) that rotates in a clockwise direction (arrow R direction) in the figure.
  • a plurality of developing devices 3r, 3g, 3b (hereinafter also collectively referred to as a developing device 3) that develop and supply the solvent to the solvent component of the liquid developer adhering to the original plate 1 by the development by air blowing.
  • Dryer 4 for drying and drying, Stage 6 (holding mechanism) that holds the glass plate 5 as a transfer medium to transfer the developer particles adhering to the original plate 1 to form a pattern in a fixed position, prior to transfer Coating device 7 for applying a high-resistance or insulating solvent to the surface of glass plate 5, Edition 1 Cleaner 8, cleaning device 100 that cleans a relatively large amount of developer particles (charged particles) attached to the original 1, and cleaning of the original 1 It has a static eliminator 9 to be removed.
  • a detector 11 detection device that detects the amount of developer particles remaining on the original plate 1 is disposed opposite to the upstream side of the static eliminator 9 along the rotation direction R of the drum tube.
  • the charger 2, the developing device 3, and the dryer 4 function as the image forming apparatus of the present invention.
  • the liquid developer accommodated in the developing devices 3r, 3g, and 3b for each color is obtained by dispersing charged fine particles (charged particles) in an insulating solvent such as hydrocarbon or silicone. Development is performed by electrophoresis in an electric field.
  • the fine particles for example, phosphor particles of each color having an average particle size of about 4 [m] are surrounded by a resin particle having an average particle size force S smaller than this, and the resin particle force S has an ionic charging site. It is possible to implement a configuration that is charged by ion dissociation in an electric field, a configuration in which pigment fine particles of each color are encapsulated inside the resin particles, or a configuration in which pigment fine particles of each color are supported on the surface of the resin particles. is there.
  • the original plate 1 is formed in a rectangular thin plate shape.
  • this master 1 has a thickness of 0.05 [mm] to 0.4 [mm], more preferably 0.1 [mm] to 0.
  • a high resistance layer 13 is formed on the surface of a rectangular metal film 12 (conductive member) of 2 [mm].
  • the metal film 12 is flexible and can be made of a material such as aluminum, stainless steel, titanium, or amber.
  • polyimide film may be formed by depositing metal on the surface of PET, In order to form a transfer pattern with high positional accuracy, it is desirable that the transfer pattern be made of a material that is unlikely to undergo thermal expansion or elongation due to stress.
  • the high resistance layer 13 has a volume resistivity of 10 1 (> [ ⁇ cm], for example, polyimide, acrylic, polyester, urethane, epoxy, Teflon (registered trademark), nylon, known resist materials, and the like.
  • the film is formed of the above materials (including an insulator) and has a film thickness of 10 [m] to 40 [m], more preferably 20 [m] ⁇ 5 [m].
  • a pattern 14 is formed on the surface 13 a of the high resistance layer 13 of the original 1, in which a large number of rectangular recesses 14 a are arranged in alignment as shown in a partially enlarged view in FIG.
  • a phosphor screen formed on the front substrate of a flat image display device is manufactured.
  • the intaglio only the recesses 14a corresponding to the pixels for one color are formed by recessing from the surface 13a of the high resistance layer 13, and the recesses are formed in the region 14b for the other two colors indicated by broken lines in FIG. Guess! , Only space is secured. In other words, when forming a color pattern using the original 1, an area for shifting the original 1 by one color from the transfer medium is secured.
  • FIG. 4 shows a cross-sectional view of the original 1 in which one concave portion 14a is enlarged.
  • the surface 12a of the metal film 12 is exposed at the bottom of the recess 14a, and the depth of the recess 14a substantially corresponds to the layer thickness of the high resistance layer 13.
  • Surface release of about 0.5 [ ⁇ m] to 3 [m] on the entire surface of the original 1 including the surface 12a of the metal film 12 exposed at the bottom of the recess 14a and the surface 13a of the high resistance layer 13 If the layer is coated, transfer characteristics are improved and more favorable characteristics can be obtained. Alternatively, it is possible to improve the transfer characteristics even in a configuration in which the high resistance layer 13 is formed on the metal film 12 coated with the surface release layer and the release layer is exposed only at the bottom of the recess 14a (see FIG. Not shown).
  • FIG. 5 is a schematic cross-sectional view depicting a state in which the film-shaped original plate 1 having the above structure is rubbed against the drum base tube 31.
  • a notch 31a in the upper part of the drum base tube 31 in the drawing is provided with a clamp 32 for fixing one end of the original 1 and a clamp 33 for fixing the other end.
  • FIG. 6 is a partial configuration diagram for explaining a process of charging the surface 13 a of the high resistance layer 13 of the original plate 1 that has been wound on the drum base tube 31 with the charger 2 in this manner.
  • the charger 2 is a well-known corona charger, and the charging uniformity can be improved by providing a force mesh grid 44 basically composed of a corona wire 42 and a shield case 43.
  • the metal film 12 of the original plate 1 and the shield case 43 are grounded, a voltage of +5.5 [kV] is applied to the corona wire 42 by a power supply unit (not shown), and a voltage of +500 [V] is applied to the grid 44. Is applied to move the original plate 1 in the direction of arrow R in the figure, the surface 13 a of the high resistance layer 13 is uniformly charged to approximately +500 [V].
  • the static eliminator 9 shown in the figure is not shown in order to apply, for example, an AC voltage having an effective voltage of 6 [kV] and a frequency of 50 [Hz] to the force corona wire 46 having a structure substantially similar to the charger 2.
  • an AC voltage having an effective voltage of 6 [kV] and a frequency of 50 [Hz]
  • the surface 13a of the high resistance layer 13 of the original 1 can be neutralized to approximately 0 [V] prior to charging by the charger 2.
  • the repeated charging characteristics of the high resistance layer 13 can be stabilized.
  • FIG. 7 is a view for explaining the developing operation for the original 1 charged as described above.
  • the developing unit 3 of the color to be developed is opposed to the original plate 1, the developing roller 51 (supply member) and the squeeze roller 52 are brought close to the original plate 1, and the liquid imaging agent described above is supplied to the original plate 1.
  • the developing roller 51 is disposed at a position where the peripheral surface thereof is opposed to the surface 13a of the high resistance layer 13 of the original 1 to be conveyed with a gap of about 100 to 150 [m], and the rotation direction of the original 1 is 1. Rotate in the same direction (counterclockwise in the figure) at a speed of 1.5 to 4 times.
  • the liquid developer 53 supplied to the circumferential surface of the developing roller 51 by a supply system is configured by dispersing charged toner particles 55 as developer particles in a solvent 54 as an insulating liquid.
  • a voltage of, for example, +250 [V] is applied to the image roller 51 by a power supply device, the positively charged toner particles 55 are moved toward the ground potential metal film 12 in the solvent 54. Are collected in the concave portion 14a of the original plate 1.
  • the surface 13a of the high resistance layer 13 is charged to about +500 [V]
  • the positively charged toner particles 55 are repelled from the surface 13a and do not adhere.
  • the gap (distance between the insulating layer 13 surface 13a and the squeeze roller 52 surface) is 30 [m] !, 50 [m]
  • the squeeze roller potential is +250 [V]
  • the squeeze roller 52 Is set to move at a speed about 3 to 5 times the speed of the original plate 1 in the opposite direction to the original plate 1. Therefore, the solvent adhering to the original plate 1 is further accelerated while further developing. The effect which squeezes a part of is produced. In this way, the pattern 57 by the toner is formed in the concave portion 14a of the original 1.
  • a developing device 3b containing a liquid developer containing blue phosphor particles is the original plate 1.
  • the developing device 3b is moved up by the lifting mechanism and is brought close to the original 1 (not shown).
  • the original plate 1 rotates in the direction of arrow R, and the pattern formed by the recesses 14a is developed.
  • the developing device 3b is lowered and separated from the original 1.
  • the coating device 7 is shown by a broken line in the drawing along the surface separated from the stage 6 of the glass plate 5 that has been transported in advance by a transport device (not shown) and held on the stage 6. It moves in the direction of the arrow T1, and the solvent is applied to the surface of the glass plate 5.
  • the role and material composition of this solvent will be described later.
  • the solvent application method will be described later in detail.
  • the original plate 1 carrying the blue pattern on the peripheral surface moves along the broken line arrow T2 in the figure while rotating (this operation is referred to as rolling), and the blue pattern image becomes a glass plate. Transferred to the surface of 5. Details of the transfer will also be described later.
  • the original 1 that has finished transferring the blue pattern moves to the left in the figure and returns to the initial position during development. At this time, contact with the original plate 1 where the stage 6 holding the glass plate 5 descends and returns to the initial position is avoided.
  • the cleaner 8 is operated to clean the blue developer particles remaining on the original plate 1 without being transferred to the glass plate 5.
  • This cleaner 8 is responsible for the normal cleaning operation after the transfer process of the developer particles of each color. This cleaner 8 will also be described in detail later.
  • the three color developing devices 3r, 3g, 3b move to the left in the figure, and stop when the green developing device 3g is located immediately below the original plate 1.
  • the developer 3g is raised, displayed, and lowered.
  • the green pattern is transferred from the original 1 to the surface of the glass plate 5 by the same operation as described above.
  • the transfer position of the green pattern on the surface of the glass plate 5 is shifted by one color from the blue pattern.
  • the original 1 after the green pattern is transferred is cleaned by the cleaner 8.
  • FIG. 9 shows a structure of a main part of a rolling mechanism for rolling the above-described original plate 1 along the glass plate 5. Gears 71 called pions are attached to both ends in the axial direction of the drum base tube 31 around which the original plate 1 is wound on the peripheral surface.
  • the original plate 1 is rotated by meshing the gear 71 and the drive gear 73 of the motor 72, and is installed at both ends of the stage 6! Translate to the right in the figure.
  • the structure of each part of the rolling mechanism is designed so that there is no relative displacement between the surface of the glass plate 5 held on the stage 6 and the surface of the original 1. .
  • the operation of moving in parallel along the glass plate 5 while rotating in this way is called rolling.
  • the glass plate 5 (not shown in FIG. 9) has a back surface 5b (surface on the side separated from the original 1) with respect to the flat contact surface 6a of the stage 6. It is placed on the stage 6 so that almost the entire surface is interviewed.
  • a vacuum pump (not shown) is connected to the glass plate 5 via the main pipe 77 from the connection pipe 75 to the intake port 76 that extends through the stage 6 to the contact surface 6a, thereby A negative pressure is applied through a suction hole (not shown) opened in the contact surface 6a of the port 76, and is adsorbed on the contact surface 6a of the stage 6.
  • the glass plate 5 is brought into close contact with the contact surface 6a having high flatness by pressing substantially the entire back surface 5b, and is held on the stage 6 in a state of high flatness.
  • the glass plate 5 against the flat contact surface 6a in this way, distortion and the like of the glass plate 5 can be corrected, and the relative position between the original plate 1 can be maintained with high accuracy.
  • FIG. 10 is a cross-sectional view of a principal part for explaining a state in which the toner particles 55 are transferred from the original 1 to the glass plate 5.
  • a conductive layer 81 made of, for example, a conductive polymer is applied to the surface 5a of the glass plate 5, and the surface 8la of the conductive layer 81 and the surface 13a of the high resistance layer 13 of the original 1 are defined. And installed in a non-contact state through the gap d2.
  • d2 is set to a value in the range of 10 [m] V and 40 [ ⁇ m].
  • the thickness of the high resistance layer 13 is 20 [m]
  • the distance between the metal film 12 and the surface 81a of the conductive layer 81 is 30 [m] to 60 [ m].
  • the conductive layer 81 applied to the glass plate surface 5a and the high resistance layer surface 13a of the original 1 may be brought into contact with each other.
  • the prewetting solvent may be insulating or high resistance, but is preferably the same as the solvent used in the liquid developer or the one added with a charge control agent or the like. .
  • the prewetting solvent is applied onto the surface 5a of the glass plate 5 at an appropriate application amount by an application device 7 at an appropriate timing.
  • a pattern by the recesses 14a is formed on the high resistance layer 13 with high precision and an electric field is generated. It is important to clean the original plate 1 after transferring the non-turn image after transferring the toner image in the recess 14a to the glass plate 5 by using it.
  • the toner particles 55 of the previous color remain in the concave portion 14a. If this occurs, the problem of color mixing will occur when the pattern image of the next color is formed.
  • FIG. 11 schematically shows the structure of the main part of the cleaner 8 according to the first embodiment of the present invention.
  • the cleaner 8 has a case 101 that opens toward the surface of the original 1.
  • This case 101 functions as a container for collecting the cleaning liquid containing the toner particles 55 removed from the original 1.
  • the nozzle 102 of one system arranged in the upper part in the figure is arranged to incline upward in the figure toward the rotation direction of the original 1 (the direction of arrow R in the figure), and the tip of the nozzle 102 is the case 101. It is positioned so as to face the surface of the original 1 through the opening.
  • the nozzle 103 of the other system is arranged so as to be inclined downward in the drawing with respect to the rotation direction R of the original 1, and its leading end faces the surface of the original 1 through the opening of the case 101. So that it is positioned.
  • a plurality of recesses 14 a are provided on the surface of the original 1.
  • the nozzles 102 and 103 of each system are each provided with a plurality of nozzles (not shown) along the axial direction of the original 1 that crosses the rotational direction R of the original 1.
  • One removal roller 104 is disposed above one nozzle 102 in the drawing, that is, close to the downstream side of the nozzle 102 along the rotation direction R of the original 1, and passes through the opening of the case 101.
  • the other removal roller 105 is disposed below the other nozzle 103 in the drawing, that is, at a position where the two nozzles 102 and 103 are sandwiched between the other removal roller 104 and the opening of the case 101. It is positioned so as to contact the surface of the original plate 1 through.
  • the upper removal roller 104 in the figure rotates in the direction opposite to the rotation direction R of the original 1 (the direction of the arrow rl in the figure), and the lower removal roller 1 in the figure 1 05 rotates in the same direction as the rotation direction R of the original plate 1 (arrow r2 direction in the figure).
  • each of the nozzles 102, 103 of each system is configured by arranging a plurality of two fluid nozzles that simultaneously inject liquid and gas in the axial direction of the original 1, and each nozzle is configured as follows. Tari-Jung liquid is sprayed toward the surface of the original 1 at a constant pressure.
  • the insulating liquid constituting the liquid developer is used as the cleaning liquid.
  • the process is not hindered when the cleaning liquid remains in the recess 14a of the original plate 1. In other words, it is necessary to select a cleaning liquid that does not affect the process if it remains on the master 1.
  • the cleaning liquid sprayed from each nozzle diffuses and is sprayed from a direction inclined with respect to the rotation direction and the axial direction of the original 1.
  • the angle of inclination of each nozzle 102, 103 with respect to the original plate 1 that is, the spraying angle of the cleaning liquid
  • any angular force with respect to the rotation direction and the axial direction of the original plate 1 can be adjusted with the cleaning liquid.
  • any angular force can be sprayed onto the rectangular recess 14a with any angular force, and in particular, the toner particles 55 adhering to the corner of the recess 14a can be reliably peeled off.
  • the two removal rollers 104 and 105 described above have the same structure, and are configured by providing sponge layers 104b and 105b (porous members) around the hollow shafts 104a and 105a (rotating shaft), respectively. Has been.
  • One of the removal rollers 104 will be described as a representative.
  • a large number of air intake holes are provided in a portion of the shaft 104a facing the sponge layer 104b, not shown! /
  • the sponge layer 104b is made of a urethane material having a thickness of 7 [mm] having continuous bubbles with an average bubble diameter of 70 [m], and is provided so as to cover all the intake holes of the shaft 104a.
  • the term “ream bubbles” here refers to a structure in which many bubbles are connected in a three-dimensional network.
  • the removal roller 1 04 is used for the original plate 1 Even in a configuration that rotates in the forward direction, the ability to remove the liquid and the toner particles 55 can be sufficiently exerted.
  • the cleaning liquid is sprayed onto the surface of the rotating master 1 through the nozzles 102 and 103.
  • the spray angle of the cleaning liquid is an angle of ⁇ 70 degrees along the rotation direction R of the original plate 1 from an angle perpendicular to the surface of the original plate 1 (this angle is defined as a 0-degree reference line).
  • the angle of the nozzle 102 on the downstream side along the rotation direction R is adjusted to 45 degrees in the rotation direction
  • the angle of the nozzle 103 on the upstream side along the rotation direction R is set as the rotation direction. To the contrary, it was adjusted to 45 degrees.
  • the nozzles 102 and 103 are two-fluid nozzles, and are supplied with a cleaning liquid tank (not shown) via a liquid supply pump (not shown) in the range of 0.1 [MPa] to 10 [MPa]. ) And simultaneously connected to an air pump (not shown) in the range of 0. l [MPa] to l. 0 [MPa], and 0. l [MPa] to l. 0 [MPa].
  • the cleaning liquid can be supplied to the surface of the intaglio with a liquid pressure in the range and an air pressure in the range of 0.1 [MPa] to 10 [MPa].
  • the liquid pressure of the cleaning liquid ejected from each of the nozzles 102 and 103 is preferably set to about 0.1 [MPa] to 10 [MPa]. It is desirable to set it to about l [MPa] to l .0 [MPa]. In this embodiment, the cleaning liquid pressure is set to 0.5 [MPa], and the air pressure is also set to 0.5 [MPa].
  • the spray angle of the cleaning liquid to the original plate 1 exceeds 70 degrees, the incident angle with respect to the concave pattern having a fine shape becomes shallow, and in particular, the remaining fine particles are released at an appropriate liquid pressure at the corners.
  • the liquid tends to flow out to a region other than the portion where the cleaning unit abuts, so that the surface of the intaglio drum is likely to be contaminated.
  • the cleaning liquid pressure is less than 0.1 [MPa]
  • the liquid cannot be ejected into the recesses with sufficient liquid pressure, and the remaining fine particles cannot be released. If [MPa] is exceeded, the fluid pressure is too strong compared to the air pressure.
  • the liquid flow which is not fully controlled and spread, is sprayed toward the surface of the intaglio, causing the liquid to scatter to the surroundings and causing contamination to other units. Further, when the air pressure of the cleaning liquid is less than 0.1 [MPa], the liquid flow is sprayed toward the intaglio surface in a state where the width and spread of the liquid are not sufficiently controlled. It cannot be released from the corners with sufficient pressure, and if it exceeds 1.0 [MPa], the sprayed liquid becomes mist-like, and it is possible to release the corners with sufficient pressure. I can't.
  • a single-fluid nozzle that directly injects the liquid with a high hydraulic pressure using a high-pressure pump is used. Also good.
  • the cleaning liquid pressure is set within the range of 0.4 [MPa] to 2.5 [MPa].
  • the cleaning liquid pressure is set to 1.2 [MPa]. Even in the case of a single fluid nozzle, it is needless to say that an angle in the range of ⁇ 70 degrees along the rotation direction R of the original 1 is desirable for the same reason as in the case of a two-fluid nozzle.
  • the liquid pressure of the cleaning liquid is less than 0.4 [MPa]
  • the liquid cannot be ejected into the concave part with sufficient liquid pressure, so that the remaining fine particles cannot be sufficiently released. 2.5 [MPa If the pressure exceeds the value, the fluid pressure is too strong, causing the fluid to scatter to the surroundings and causing contamination to other units.
  • the cleaning liquid 106 ejected from one nozzle 102 disposed downstream along the rotation direction R of the master 1 is mainly formed in each concave portion of the master 1.
  • the rotation direction of 14a is sprayed toward the corner on the downstream side R, and the toner particles 55 adhering to the corner are released in the cleaning liquid as schematically shown in FIG.
  • the cleaning liquid 107 ejected from the other nozzle 103 arranged on the upstream side in the rotational direction is mainly sprayed toward the corners on the upstream side in the rotational direction R of the concave portions 14a of the original 1 and this corner portion.
  • the toner particles 55 adhering to the toner particles are released in the cleaning liquid.
  • the one removal roller 104 arranged in the rotation direction R downstream of the original plate 1 is moved in the opposite direction to the original plate 1.
  • the sponge layer 104b is brought into sliding contact with the surface of the original 1 while being rotated.
  • removal of the other The roller 105 mainly functions to collect the cleaning liquid ejected from the other nozzle 103.
  • the average bubble diameter of the open bubbles 108 of the sponge layer 104b of the removal roller 104 (105) is set to 70 [ ⁇ m], which has the highest suction I efficiency.
  • Average bubble diameter is 20 [/ ⁇ ⁇ ! ] ⁇ 400 [/ ⁇ ⁇ ] is desirable. If the average bubble diameter of the continuous bubble 108 is less than 20 [; zm], fine particles are clogged in the bubble and the life of the squeezing and removing roller is reduced, resulting in a problem that the replacement frequency of the member is increased, and the average bubble diameter is increased. If it exceeds 400 [m], the number of fine particles trapped and removed in the bubbles decreases, and high removal performance cannot be obtained.
  • the toner particles 55 adhered to the corners of the recesses 14a and remaining by spraying the cleaning liquid onto the original plate 1 at an angle can be obtained.
  • the toner particles 55 can be reliably released in the cleaning liquid, and can be reliably and easily removed together with the cleaning liquid by the removing roller 104 that has generated a negative pressure on the surface of the sponge layer 104b. For this reason, it is possible to prevent the toner particles 55 of the previous color from remaining on the original 1 before executing the development process of the next color, and to prevent the problem of color mixing.
  • the ratio of the toner particles remaining on the original plate 1 after transferring the toner particles 55 to the glass plate 5 is 0.1 [%] or less. .
  • the ratio of the toner particles remaining on the original plate 1 after transferring the toner particles 55 to the glass plate 5 is 0.1 [%] or less.
  • FIG. 17 shows a schematic diagram of a cleaner 110 according to the second embodiment of the present invention.
  • the shaft 111 of the two removal rollers 104, 105 is solid, and a metal scraper 112 is disposed in contact with the peripheral surface of the sponge layer 104a, 105a of each roller. Except for this, it has the same configuration as the cleaner 8 of the first embodiment described above. Therefore, the same reference numerals are given to components that function in the same manner as the cleaner 8 described above, and detailed description thereof will be omitted.
  • the tallying liquid ejected from the nozzles 102 and 103 liberates the toner particles 55 remaining in the concave portions 14a of the original 1, and the liberated toner particles 55 become the cleaning liquid. At the same time, it is removed by removing rollers 104 'and 105'. At this time, the toner particles 55 adhering to the peripheral surfaces of the sponge layers 104a and 105a of the removing rollers 104 ′ and 105 ′ are scraped off by the scraper 112 by the rotation of the removing rollers.
  • the cleaner 110 of the present embodiment can achieve the same effects as the above-described tallener 8 of the first embodiment, and can further simplify the apparatus configuration and manufacture the apparatus. Cost can be reduced.
  • FIG. 18 shows a schematic diagram of a cleaner 120 according to the third embodiment of the present invention.
  • the sponge layer 121 of the two removing rollers 104 "and 105" has conductivity, and an electric field is formed between the sponge layer 121 and the metal film 12 of the original 1 (not shown here).
  • the power supply device 122 has the same configuration as the tailor 8 of the first embodiment described above. Therefore, here again, the same reference numerals are given to components that function in the same manner as the cleaner 8 described above, and a detailed description thereof will be omitted.
  • the sponge layer 121 has a volume resistivity of 10 3 [ ⁇ ' «! 1] to 10 12 [0' cm], preferably 10 8 [
  • ⁇ 'cm] ⁇ Metal film exposed to the bottom of the recess 14a, formed of a conductive material of about ⁇ ⁇ ⁇ 'cm] and having a JIS-C hardness of about 50, in contact with the master 1 12 It is designed to be hard enough not to touch the surface.
  • the volume resistivity is less than 10 3 [ ⁇ 'cm]
  • the surface of the sponge layer becomes easy to conduct, and a sufficient electric field cannot be generated between the surface of the sponge layer and the intaglio plate surface.
  • the removal effect that is electrically attracted to the surface cannot be obtained.
  • the volume resistivity exceeds 10 12 [ ⁇ 'cm], it becomes difficult to generate an effective electric field between the sponge layer surface and the intaglio surface with an appropriate applied voltage, and the charged particles are The effect of electrical removal cannot be obtained.
  • the cleaner 120 when the cleaner 120 is operated, the tally-jung liquid ejected from the nozzles 102 and 103 releases the toner particles 55 remaining in the concave portion 14a of the original 1, and this released toner is removed.
  • the toner particles 55 are removed together with the cleaning liquid by the removing rollers 104 "and 105".
  • a negative pressure device (not shown) is operated to apply a negative pressure to the surface of the sponge layer 121, and a voltage of, for example, ⁇ 300 [V] is applied to each of the removing rollers 104 ”and 105” via the power supply device 122. Is applied, and an electric field is formed between the metal film 12 of the original plate 1 and the sponge layer 121 which are set to the ground potential. Then, the toner particles 55 are attracted together with the cleaning liquid by the action of the negative pressure, and the toner particles 55 charged by the action of the electric field are adsorbed to the sponge layer 121.
  • the cleaner 120 of the present embodiment can also achieve the same effect as the above-described cleaner 8 of the first embodiment, and in addition, the toner particles 55 removing roller 104 ", The adsorption effect on 105 "can be enhanced, and the removal efficiency of the toner particles 55 can be further enhanced.
  • FIG. 19 shows a schematic diagram of a cleaner 130 according to the fourth embodiment of the present invention.
  • This cleaner 130 has the third embodiment described above except that the cleaning roller 131 is brought into rolling contact with the circumferential surface of each of the removal rollers 104 "and 105", and the blade 132 is placed in contact with the circumferential surface of each cleaning roller 131.
  • It has the same configuration as the cleaner 120 of the form. Therefore, here, the same reference numerals are given to components that function in the same manner as the above-described cleaner 120, and detailed description thereof will be omitted.
  • the cleaning roller 131 is formed, for example, by forming an alumite layer having a thickness of about 6 [m] on the peripheral surface of an aluminum hollow pipe by anodizing treatment, and the corresponding removing roller 104 " , Rotate in the same direction as 105 ".
  • the blade 132 is made of urethane rubber having a JIS-A hardness of 80, a 300% modulus of 300 [kgfZcm 2 ], and a thickness of 1 [mm].
  • the tally-jung liquid ejected from the nozzles 102 and 103 releases the toner particles 55 remaining in the concave portions 14a of the original 1, and the released toner particles 55 are It is removed together with the cleaning liquid by the removing rollers 104 "and 105".
  • a negative pressure device (not shown) is operated to apply a negative pressure to the surface of the sponge layer 121, and a voltage of, for example, 300 [V] is applied to the sponge layer 121 of each removal roller 104 ", 105".
  • a negative pressure device (not shown) is operated to apply a negative pressure to the surface of the sponge layer 121, and a voltage of, for example, 300 [V] is applied to the sponge layer 121 of each removal roller 104 ", 105".
  • a field is formed between the metal film 12 of the original plate 1 and the sponge layer 121, which are grounded. A field is formed. Then, the toner particles 55 are sucked together with the cleaning liquid by the action of the negative pressure, and the toner particles 55
  • the cleaner 130 of the present embodiment can achieve the same effect as the above-described third embodiment of the cleaner 120, and in addition, the periphery of the removal rollers 104 "and 105"
  • the surface can always be kept clean, and the circumferential surface of the cleaning roller 131 can always be kept clean, and the adsorption action of the toner particles 55 to the removal rollers 104 "and 105" can be further enhanced. And the removal efficiency of the toner particles 55 can be further increased.
  • FIG. 20 shows a schematic diagram of a cleaner 140 according to the fifth embodiment of the present invention.
  • This cleaner 140 has the same configuration as the cleaner 8 of the first embodiment described above, except that it has two blades made of grease 144, 142 instead of the two removal rollers 104, 105. . Therefore, here, the same reference numerals are given to components that function in the same manner as the cleaner 8 described above, and a detailed description thereof will be omitted.
  • Blades 141 and 142 are JIS-A hardness 75, 300% modulus 250 [kgf / cm 2 ], thickness 1
  • the liquid pressure of the cleaning liquid ejected through the two-fluid nozzles 102 and 103 is set to 1.0 [MPa], and the air pressure is also set to 1.0 [MPa]. That is, the jet pressure of the tally liquid is set stronger than the cleaner 8 of the first embodiment described above.
  • the spraying angle of the cleaning liquid was set to an angle of 70 degrees with respect to the direction perpendicular to the original plate 1.
  • this cleaner 140 when this cleaner 140 is operated, first the nozzles 102, 103 are ejected. The leakage liquid liberates the toner particles 55 remaining in the recesses 14a of the original 1. Then, the released toner particles 55 are removed by the blades 141 and 142 together with the cleaning liquid. In the present embodiment, since the cleaning liquid pressure is set high and the spraying angle of the tallying liquid is adjusted to an appropriate angle, the toner particles 55 adhering to the recess 14a can be reliably released, and the blade 141 Toner particles 55 can be removed sufficiently by simply scraping them with 142.
  • the cleaner 140 of the present embodiment can achieve the same effect as the above-described tallener 8 of the first embodiment, and in addition, the removal rollers 104 and 105 are attached to the blade 14 1.
  • an expensive configuration such as a negative pressure device is not required, and the device configuration can be manufactured at a lower cost.
  • FIG. 21 shows a schematic diagram of a cleaner 150 according to the sixth embodiment of the present invention.
  • This cleaner 150 uses conductive blades 151 and 152 formed of a conductive material instead of the blades 141 and 142 made of grease, and the metal film 12 (
  • the power supply device 153 for forming an electric field is connected between the cleaner 140 and the cleaner 140 of the fifth embodiment described above. Therefore, the same reference numerals are given to components that function in the same manner as the above-described cleaner 140, and detailed description thereof will be omitted.
  • the toner liquid 55 ejected from the nozzles 102 and 103 first releases the toner particles 55 remaining in the concave portion 14 a of the original 1. Then, the released toner particles 55 are removed by the blades 151 and 152 together with the cleaning liquid. At this time, for example, a voltage of ⁇ 300 [V] is applied to each of the conductive blades 151 and 152 through the power supply device 153, and an electric field is generated between the metal film 12 (not shown here) of the original plate 1 having the ground potential. Is formed. As a result, the toner particles 55 released from the original 1 can be removed by the conductive blades 151 and 152, and the toner particles 55 remaining in the recess 14 a can be adsorbed to the conductive blades 151 and 152.
  • the cleaner 150 of the present embodiment when used, the same effects as the cleaner 140 of the fifth embodiment described above can be obtained, and the toner particles 55 for the conductive blades 151 and 152 can be obtained.
  • the adsorption effect can be further enhanced, and the removal efficiency of toner particles 55 Can be further enhanced.
  • FIG. 22 is a schematic diagram showing the configuration of the main part of cleaner 160 according to the seventh embodiment of the present invention.
  • the apparatus is illustrated in a simplified manner, and the downstream configuration along the rotation direction R of the original 1 is not shown.
  • This cleaner 160 differs from the cleaner 120 of the third embodiment described above in that it has a blade 161 made of a conductive resin material. Therefore, the same reference numerals are given to components that function in the same manner as the above-described cleaner 120, and detailed description thereof will be omitted.
  • the toner solution 55 in which the nozzle 103 (102) force is also ejected releases the toner particles 55 remaining in the concave portion 14a of the original 1.
  • the released toner particles 55 are removed by the blade 161 together with the cleaning liquid and removed by the removing rollers 105 "(104").
  • a voltage of about ⁇ 300 [V] is applied to the blade 161 in the same manner as the cleaner 150 of the sixth embodiment described above. The same voltage is also applied to the removal rollers 105 "(104").
  • FIG. 23 is a schematic diagram showing the configuration of the main part of the cleaner 170 according to the eighth embodiment of the present invention.
  • the apparatus is illustrated in a simplified manner, and the downstream configuration along the rotation direction R of the original 1 is not shown.
  • This cleaner 170 differs from the cleaner 120 of the third embodiment described above in that a conductive scraper 171 is disposed in contact with the peripheral surface of each removal roller 105 "(104"). Therefore, the same reference numerals are given to components that function in the same manner as the cleaner 120 described above, and detailed description thereof will be omitted.
  • the conductive scraper 171 is configured, for example, by coating a surface of an aluminum plate having a thickness of about 1 [mm] with a fluorine resin having a thickness of about 2 [ ⁇ m].
  • a metal film (not shown) of the original 1 is set to the ground potential, and for example, a voltage of 300 [V] is applied to the removing roller 105 "(104"), and the conductive scraper 171 is, for example, 500 [V] voltage Applied.
  • the toner liquid 55 in which the nozzle 103 (102) force is also ejected releases the toner particles 55 remaining in the concave portion 14a of the original 1.
  • the released toner particles 55 are removed together with the cleaning liquid by the removing rollers 105 "(104").
  • the toner particles 55 released from the original 1 are electrically attracted to the removal roller 105 "(104") due to the potential difference between the original 1 and the removal roller 105 "(104").
  • the toner particles 55 which are transferred to the removing roller 105 ′′ (104 ′′) and remain on the peripheral surface without being sucked are scraped off by the conductive scraper 171.
  • the toner particles 55 on the circumferential surface of the removal roller 105 ′′ (104 ′′) are attracted to the conductive scraper 171 by the electric field formed between the removal roller 105 ′′ (104 ′′) and the conductive scraper 171.
  • the conductive scraper 171 is brought into contact with the peripheral surface of the removal roller 105 "(104"). Since they are arranged to be arranged, the peripheral surface of the removing roller 105 "(104") can always be kept clean by the action of an electric field, and the removal efficiency of the toner particles 55 can be improved.
  • FIG. 24 schematically shows a configuration of a main part of a cleaner 180 according to the ninth embodiment of the present invention.
  • the cleaner 180 is provided with the same cleaning roller 181 as that used in the apparatus 130 of the fourth embodiment described above instead of the conductive scraper 171, and the scraper 182 is disposed in contact with the circumferential surface of the cleaning roller 181. This is different from the cleaner 170 of the eighth embodiment described above.
  • the original plate 1 is grounded, a voltage of, for example, ⁇ 300 [V] is applied to the removal roller 105 ′′ (104 ”), and a voltage of, for example, ⁇ 500 [V] is applied to the cleaning roller 181. did.
  • the toner particles 55 removed from the original 1 by the removing roller 105 ′′ (104 ′′) are electrically attracted to the tally roller 181 and are scraped off by the scraper 182.
  • the cleaner 180 of this embodiment can achieve the same effects as the cleaners of the above-described embodiments.
  • a cleaner 130 according to a ninth embodiment of the invention will be described with reference to FIG.
  • the cleaner 130 according to the ninth embodiment has a force substantially the same as that of the cleaner 130 according to the fourth embodiment described above.
  • the fourth example uses a two-fluid nozzle of cleaning liquid and air.
  • a one-fluid nozzle having only a cleaning liquid is used.
  • the nozzles 102 and 103 are connected to a high-pressure pump in the range of 0.4 [MPa] to 2.5 [MPa] (not shown), and from the cleaning liquid tank, 0.4 [MPa] to 2.5 [MPa]
  • the cleaning liquid can be supplied to the surface of the intaglio with a liquid pressure in the range of In this embodiment
  • the cleaning liquid pressure was set to 1.2 [MPa], and multiple one-fluid nozzles were arranged so that the nozzle angle was +80 degrees and 80 degrees, respectively.
  • the ejected tally-jung liquid releases the toner particles 55 remaining in the recesses 14a of the original 1, and the released toner particles 55 are removed together with the cleaning liquid by the removing rollers 104 "and 105".
  • a negative pressure device (not shown) is operated to apply a negative pressure to the surface of the sponge layer 121, and a voltage of, for example, 300 [V] is applied to the sponge layer 121 of each removal roller 104 ", 105".
  • the force described in the case where the toner images of all colors are developed and transferred using the recesses 14a formed with the pattern for one color is not limited thereto.
  • the recesses 14a for three colors may be formed on the original plate 1, and the three-color toner images may be developed on the original plate 1 and then transferred to the glass plate 5 at once.
  • the recesses 14a for three colors may be formed on the original plate 1, and the three-color toner images may be developed on the original plate 1 and then transferred to the glass plate 5 at once.
  • a cleaning operation is performed every transfer process without having to perform the tallying process for each color. There is no need.
  • the apparatus having the adjusting mechanism capable of adjusting the angle of the two-fluid nozzle that ejects the cleaning liquid toward the original plate 1 has been described.
  • the two-fluid nozzles 102 and 102 are electrically connected.
  • the nozzle may be swung by controlling it in a controlled manner.
  • FIG. 25 schematically shows a configuration of a main part of cleaner 190 according to the tenth embodiment of the present invention.
  • the cleaner 190 has a case 191 that opens toward the surface of the original 1.
  • This case 191 also functions as a container for collecting the cleaning liquid containing the developer particles removed from the original 1.
  • two nozzles 192 and 193 and two removal rollers 194 and 195 force S are provided.
  • the nozzle 192 of one system arranged in the upper part in the figure is arranged to incline upward in the figure toward the rotation direction of the original 1 (the direction of arrow R in the figure), and the tip thereof is the case 191. It is positioned so as to face the surface of the original 1 through the opening.
  • the nozzle 193 of the other system is arranged so as to be inclined downward in the figure with respect to the rotation direction R of the original 1, and its leading end faces the surface of the original 1 through the opening of the case 191. So that it is positioned.
  • the nozzles 192 and 193 of each system are each provided with a plurality of nozzles (not shown here) along the axial direction of the original 1 that crosses the rotational direction R of the original 1.
  • One removal roller 194 is disposed above one nozzle 192 in the drawing, that is, close to the downstream side of the nozzle 192 along the rotation direction R of the original 1, and through the opening of the case 191. Positioned to contact the surface of the original 1 Further, the other removal roller 1 95 is arranged below the other nozzle 193 in the drawing, that is, at a position where the two nozzles 192 and 193 are sandwiched between the removal roller 194 and the opening of the case 191. It is positioned so as to contact the surface of the original plate 1 through.
  • the upper removal roller 194 in the figure rotates in the direction opposite to the rotation direction R of the original 1 (the direction of the arrow rl in the figure), and the lower removal roller 1 95 in the figure has the same direction as the rotation direction R of the original 1 (see FIG. It rotates in the direction of the middle arrow r2.
  • the nozzles 192 and 193 of each system are configured by arranging a plurality of two-fluid nozzles that simultaneously inject liquid and gas in the axial direction of the original 1, and each nozzle is configured as follows. Tari-Jung liquid is sprayed toward the surface of the original 1 at a constant pressure.
  • the insulating liquid constituting the liquid developer is used as the cleaning liquid.
  • the cleaning liquid to be sprayed diffuses and is sprayed from a direction inclined with respect to the rotation direction and the axial direction of the original 1.
  • the cleaning liquid can be sprayed from a direction inclined with respect to the rectangular recess 14a, and in particular, the toner particles 55 attached to the corners of the recess 14a can be reliably peeled off.
  • the two removal rollers 194 and 195 described above have the same structure, and are configured by providing a sponge layer 197 around a hollow shaft 196, respectively.
  • One removal roller 194 will be described as a representative.
  • a plurality of intake holes are provided in a portion of the shaft 196 facing the sponge layer 197.
  • the toner particles 55 attached to the surface of the sponge layer 197 are removed by a rotating roller 198 that rotates in the direction of the arrow in the figure. Then, the toner particles 55 attached to the surface of the cleaning roller 198 are scraped off by the blade 199. That is, the two removal rollers 194 and 195 described above are always kept clean by the cleaning roller 198 and the blade 199, and the cleaning performance of the original 1 is enhanced.
  • the cleaning device 100 fails to develop the pattern image of each color, and a relatively large amount of developer particles adhere to the concave portion 14a of the original 1 or fails to transfer the pattern image of each color. This is used when it is necessary to remove a larger amount of developer particles from the master 1 than usual, such as when a relatively large amount of developer particles adhere to the recess 14a.
  • the cleaner 8, 110, 120, 130, 140, 150, 160, 170, 180, 190 described above may not be able to sufficiently remove the developer particles adhering to the original plate 1. I can.
  • the tallying device 100 is operated and the original plate 1 is operated before moving to the transfer process, provided that the amount of developer particles adhering to the original plate 1 exceeds the reference value. 1 is cleaned.
  • the cleaning device 100 is used when the master 1 is cleaned by a separate process separately from the normal cleaning operation by the cleaner 8 (which will be described below as a representative).
  • the determination as to whether or not the original plate 1 is to be cleaned by the cleaning device 100 is made by, for example, the following two methods. In other words, when the amount of developer particles undesirably attached to the original plate 1 exceeds a certain standard, a mode for cleaning the original plate 1 using the cleaning device 100 is selected, and the amount of developer particles is a certain standard. If it is less than, the mode for cleaning the original 1 using the cleaner 8 is selected as usual.
  • the developer particles that develop the pattern-shaped recess 14a of the original 1 are phosphor particles
  • the cleaning mode is selected, the fluorescence adhering in the recess 14a serving as a specific sample is selected.
  • the body particles By irradiating the body particles with ultraviolet light, detecting the excitation light, and comparing it with a normal reference light amount detected in advance, it is possible to determine whether or not the amount of the phosphor particles exceeds the reference value.
  • a control unit (not shown) of the pattern forming device 10 operates a moving mechanism (not shown).
  • the original 1 is moved to the cleaning position above the cleaning device 100.
  • each process unit such as the cleaner 8, the dryer 4, the static eliminator 9, and the charger 2 that interferes with the movement of the original 1 is retracted from the movement path of the original 1 to an unillustrated retraction position.
  • these process units are moved together with the movement of the original 1.
  • illustration and description of the moving mechanism for moving the original 1 to the cleaning position and the retreating mechanism for retreating each process unit are omitted.
  • the cleaning device 100 includes a liquid tank 202 that opens toward the original 1 disposed at the illustrated cleaning position.
  • the liquid tank 202 opens vertically upward (toward the original 1). ing.
  • the liquid tank 202 has a length exceeding at least the total length of the original plate 1 in the axial direction (the direction perpendicular to the paper surface in FIG. 11), and the edge of the opening is curved in accordance with the curvature of the original plate 1.
  • the original plate 1 is arranged opposite to the cleaning position in a positional relationship in which the peripheral force of the original plate 1 whose opening edge is at the cleaning position is separated by a certain gap.
  • an inlet 202a for allowing a cleaning liquid L to be described later to flow into the liquid tank 202 and an outlet 202b for allowing the cleaning liquid L to flow out of the liquid tank 202 are formed.
  • the inflow port 202a and the outflow port 202b are formed in an elongated slit shape extending in the axial direction of the original plate 1, and the cleaning liquid L flowing through the liquid tank 202 is in a certain direction along the peripheral surface of the original plate 1 (original plate 1 In the direction opposite to the direction of rotation).
  • the inflow port 202a and the outflow port 202b are pipes having a diameter of about 5 mm to 10 mm in the axial direction, or a plurality of flexible tubes arranged at regular intervals and connected to each other.
  • the liquid supplied at a constant flow rate may be configured so that a constant liquid flow is formed in the liquid tank 202 by sequentially discharging the pipe group force arranged on the outflow side (not shown).
  • the tank 202 containing the cleaning liquid L is connected to the inlet 202a via a pipe and a valve (not shown), and a flow rate that can be controlled by operating the pump is not shown.
  • the cleaning liquid L can be supplied to the liquid tank 202.
  • a waste liquid tank is connected to the outlet 202b via a pipe (not shown).
  • the cleaning fluid L that has been discharged is also stored.
  • the used cleaning liquid L collected in the waste liquid tank may be reused after the developer particles are removed.
  • each liquid leakage prevention roller 204 is positioned and arranged at a position facing the peripheral surface of the original 1 rotating at the cleaning position via a certain minute gap.
  • each liquid leakage prevention roller 204 is a metal roller having a roller diameter of 20 [mm], and is opposed to the peripheral surface of the original 1 through a gap of about 50 [m] ⁇ 10 [m].
  • each liquid leakage prevention roller 204 is rotated in the direction of the arrow r in the figure, the liquid tank 2 is supplied with a cleaning liquid that may leak the gap force between the edge of the liquid tank 202 and the peripheral surface of the original plate 1.
  • a directional flow was generated inside 02 and liquid leakage from the liquid tank 202 was prevented by a squeeze effect.
  • the rotation direction r of each liquid leakage prevention roller 204 is set to a direction in which the cleaning liquid interposed in the minute gap between the original plate 1 and the liquid tank 202 is sent.
  • an electrode 206 for forming an electric field with the original plate 1 is fixedly attached to the center bottom of the liquid tank 202.
  • the electrode 206 is curved so as to be concave toward the original plate 1 with substantially the same curvature as the peripheral surface of the original plate 1, and is fixed to the bottom of the liquid tank 202 via a gap adjusting member 208.
  • the electrode 206 is formed by applying gold plating to a surface of a nickel plate having a thickness of 0.5 [mm] to a thickness of 5 [zm], and the thickness of the gap adjusting member 208 is By adjusting the height, the gap with the peripheral surface of the original 1 is set to about 100 [m] ⁇ 20 [m].
  • bisiso or the like is used as the cleaning liquid L flowing in the liquid tank 202 in which the electrode 206 is disposed.
  • the cleaning operation by the cleaning device 100 having the above structure will be described with reference to FIG. 28 to FIG.
  • the structure of the main part of the cleaning device 100 is shown partially enlarged, and the developer particle tallying operation will be described by focusing on one concave portion 14a of the original 1.
  • the plurality of liquid leakage prevention rollers 204 of the cleaning device 100 are rotated in the above-described direction.
  • the cleaning liquid L is supplied into the liquid tank 202 through the inlet 202a by operating the pump.
  • the cleaning liquid L is filled into the liquid tank 202 without flowing out the tallying liquid L through the outlet 202b of the liquid tank 202, and the space between the master 1 and the electrode 206 is filled with the cleaning liquid L. This state is shown in FIG.
  • a voltage of ⁇ 500 [V] is applied to the electrode 206 arranged in the liquid tank 202 via a power supply device (not shown), and the ground potential arranged at the bottom of the recess 14a is applied.
  • An electric field is formed between the metal film 12 (conductive member).
  • the developer particles (toner particles 55) held in the recesses 14a as shown in FIG. 28 are adsorbed to the electrodes 206 as shown in FIG. At this time, the developer particles migrate to the electrode 206 by migrating the tallying liquid L filled between the recess 14 a and the electrode 206.
  • the cleaning apparatus 100 of the present embodiment when used, a relatively large amount of developer particles are formed on the pattern of the original 1 such as after the development process fails or after the transfer process fails.
  • the developer particles held in the original plate 1 can be reliably cleaned even if they remain in the concave portion 14a, and a larger amount of developer particles than the cleaner 8 that performs normal cleaning operations. Can be cleaned well.
  • the cleaning device 100 of the present embodiment when operated in a state where the pattern-like concave portion 14a of the original plate 1 is filled with developer particles, the developer particles remaining in the concave portion 14a at the end of the cleaning operation. The amount of was less than 0.01 [%].
  • the relative movement between the master 1 and the cleaning device 100 is referred to during the cleaning operation by the cleaning device 100.
  • the master 1 may or may not be rotated in the direction of arrow R as shown in FIG.
  • the above-mentioned electric field is formed and disappears at least once in the entire area of the peripheral surface of the master 1 facing the liquid tank 202 of the cleaning device 100! It is necessary to let Alternatively, in this case, the cleaning liquid L may be allowed to flow constantly by forming a pulsed electric field.
  • the master 1 is not rotated, after the cleaning of the area of the master peripheral surface facing the liquid tank 202 of the cleaning device 100 is completed, the liquid tank 202 faces the area adjacent to that area. In this way, the master 1 is rotated intermittently and the cleaning operation is performed multiple times. In this case, it is desirable to set the distance for rotating the master 1 to a distance that slightly overlaps two adjacent areas to be cleaned.
  • the cleaning operation by the cleaning device 100 when the cleaning operation by the cleaning device 100 is performed, the force that moves the original 1 to the cleaning position and places it above the cleaning device 100,
  • the arrangement position is not limited to this, and if the liquid leakage between the edge of the liquid tank 202 and the original peripheral surface can be surely prevented, the cleaning device 100 is placed on the peripheral surface of the original 1 arranged at the development position. It is also possible to arrange.
  • Fig. 31 shows a schematic diagram of a tallying device 210 according to the second embodiment of the present invention in which the liquid leakage preventing function is further enhanced.
  • the cleaning device 210 can be opposed to the original plate 1 in any posture, which does not necessarily require the liquid tank 202 to be disposed in a posture with the opening facing upward as shown in the figure.
  • This cleaning device 210 has substantially the same structure as the tallying device 100 of the first embodiment described above except that it has a rubber packing 212 for preventing liquid leakage instead of the liquid leakage prevention roller 204 described above.
  • components that function in the same manner are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.
  • the illustration of the gap adjusting member 208 for adjusting the gap between the electrode 206 and the original plate surface to an appropriate value is omitted. It is.
  • the liquid tank 202 is filled with the cleaning liquid and an electric field is formed between the original 1 and the electrode 206, and the concave portion 14a of the original 1 is formed.
  • the developer particles adhering to are adsorbed on the electrode 206.
  • the tallying liquid L is circulated in the liquid tank 202, and the cleaning liquid L containing developer particles flows out of the tallying device 210.
  • the cleaning liquid L filled between the two is circulated so that the developer particles in the recess 14a are taken over time.
  • the developer particles in the recess 14a are taken over time.
  • FIG. 32 shows a schematic view of a cleaning device 220 according to the third embodiment of the present invention.
  • the cleaning device 220 includes a blade 222 that contacts the peripheral surface of the original 1 on the outside of each liquid leakage prevention roller 204, and the liquid tank 202 has a double structure. Since it has substantially the same structure as cleaning device 100, the same reference numerals are given to components that function in the same manner, and detailed description thereof will be omitted.
  • the blade 222 is made of a resin having a JISA hardness of about 30 to 90.
  • the cleaning liquid L that has flowed into the liquid tank 202 'via the inflow port 202a flows into the inner region partitioned by the generally frame-shaped partition wall 224, and is disposed further inside the inner region.
  • the space between the peripheral surface of the original 1 and the electrode 206 is filled by the squeeze effect by the plurality of liquid leakage prevention rollers 204.
  • an electric field is formed between the original plate 1 and the electrode 206 and disappears, and the developer particles adsorbed on the electrode 206 are moved by the flow of the tarrying liquid L. It flows out of the cleaning device 220 through the outflow port 202b.
  • the cleaning liquid L that fills the inner region described above through the gap between the liquid leakage prevention roller 204 and the peripheral surface of the original plate 1 may leak outside in this way.
  • the cleaning liquid L is scraped off by the blade 222.
  • the cleaning liquid L from which the peripheral surface force of the original 1 has been removed by the blade 222 is collected in an annular region outside the liquid tank 202 ′ and discharged through a waste liquid pipe 226.
  • the present embodiment can achieve the same effects as the cleaning device 100 of the first embodiment described above, and has the possibility of liquid leakage as compared with the cleaning device 100. Can be lowered.
  • FIG. 33 shows a schematic diagram of a cleaning device 230 according to the fourth embodiment of the present invention.
  • This cleaning device 230 has a nozzle 232 as a prewetting device arranged upstream of the above-described taring device 100 along the rotation direction R of the original 1, and the cleaning device 100 is aligned along the rotation direction R. It has a structure in which a removing device 234 is arranged on the downstream side.
  • the nozzle 232 supplies the cleaning liquid to the peripheral surface of the original plate 1 so that the region of the peripheral surface of the original plate 1 before facing the cleaning device 100 is previously wetted with the cleaning liquid.
  • the two-fluid nozzle of the cleaner 8 described above may be adopted. In this way, by pre-wetting the region before the facing of the tallying device 100 with the cleaning liquid, the developer particles adhering to the concave portions 14a of the original 1 can be easily peeled off, and good cleaning can be performed.
  • the removing device 234 functions to remove the cleaning liquid remaining on the peripheral surface of the original plate 1 that has passed through the cleaning device 100.
  • the removing device 234 abuts the blade 236 on the peripheral surface of the original 1, scrapes off the cleaning liquid remaining on the peripheral surface, and collects the scrubbed cleaning liquid in the container 238.
  • the blade 236 is formed of a resin having a JISA hardness of 60 in the present embodiment, which is desirably formed of a resin having a JISA hardness of about 30 to 90.
  • FIG. 34 shows a schematic view of a cleaning device 240 according to the fifth embodiment of the present invention. This cleaning device 240 differs from the cleaning device 230 of the fourth embodiment in that it has a removal device 242 instead of the above-described removal device 234 on the downstream side of the cleaning device 100 along the rotation direction R of the original 1. It has a structure.
  • the removal device 242 functions to remove the cleaning liquid remaining on the peripheral surface of the original plate 1 that has passed through the cleaning device 100, similarly to the above-described removal device 234.
  • the removal device 2 42 contacts the peripheral surface of the original plate 1 and rotates in the direction opposite to the rotation direction R of the original plate 1 to collect the cleaning liquid adhering to the peripheral surface.
  • the peripheral surface force of the sponge roller 244 and the sponge roller 244 It has a scraper 246 that removes dirt such as cleaning liquid, and a container 248 that collects deposits scraped by the scraper 246.
  • the sponge roller 244 has a sponge layer having bubbles with an average pore diameter of about 20 [/ ⁇ ⁇ ] to 400 [/ ⁇ m], and adheres the cleaning liquid remaining on the peripheral surface of the original plate 1 to the surface. to recover.
  • a urethane sponge roller 244 having an average pore diameter of about 200 [m] is used.
  • the scraper 246 is formed of a metal plate.
  • This cleaning device 240 can also achieve the same effects as the cleaning device 230 of the fourth embodiment described above, and can more reliably collect the developer particles remaining in the concave portion 14a of the original plate 1. . That is, the sponge roller 244 can elastically deform in accordance with the shape of the concave portion 14a of the original 1 to follow the shape of the concave portion 14a, and also has an action of sucking the cleaning liquid by a large number of bubbles.
  • FIG. 35 shows a schematic view of a cleaning device 250 according to the sixth embodiment of the present invention.
  • FIG. 36 shows a diagram for explaining voltages applied to the respective constituent members of the cleaning device 250.
  • the cleaning device 250 has the cleaning device of the fourth embodiment described above in that it has a removing device 252 instead of the removing device 234 on the downstream side of the cleaning device 100 along the rotation direction R of the original 1. It has a different structure from the device 230.
  • the removal device 252 removes the taritung liquid remaining on the peripheral surface of the original plate 1 that has passed through the tallying device 100 in the same manner as the removal device 234 described above.
  • the removal device 252 provides open air bubbles with an average cell diameter of 70 m outside the hollow pipe 253. It has a sponge roller 255 on which a urethane sponge layer 254 having a thickness of about 7 [mm] is formed. The sponge roller 255 is positioned and arranged so that the peripheral surface of the sponge layer 254 contacts the peripheral surface of the original 1, and rotates in the direction opposite to the rotation direction R of the original 1.
  • the sponge layer 254 has a JIS-C hardness of about 30 and a volume resistivity of 10 3 [ ⁇ !!!] to ⁇ ) 1 ⁇
  • Tally roller 256 is made by forming an alumite layer with a thickness of about 6 [m] on the surface of an aluminum hollow pipe by anodizing! RU
  • the blade 257 is made of urethane rubber having a JIS-A hardness of about 80 and a thickness of 100 mmfZcm 2 and a thickness l [mm].
  • an appropriate voltage is applied to each constituent member of the above-described removal apparatus 252. That is, a metal film (not shown) of the original plate 1 is grounded, a voltage of ⁇ 300 [V] is applied to the sponge roller 255 via the power supply 262, and to the tally roller 256 via the power supply 264—500 [V]. Is applied. In this way, by applying a voltage to each component so that the potential gradually decreases along the direction of movement of the developer particles, the developer particles remaining on the original plate 1 are electrically moved effectively. The developer particle removal efficiency can be further increased.
  • FIG. 37 shows a schematic view of a cleaner 60 according to an eleventh embodiment of the present invention.
  • the cleaner 60 has a case 61 that opens toward the surface of the original 1.
  • This case 61 also functions as a container for collecting the cleaning liquid containing the developer particles removed from the original 1.
  • nozzles 62 and 63 there are two nozzles 62 and 63, and these nozzles are aligned with the rotation direction R of the master 1.
  • the two liquid shielding rollers 64, 64 arranged between the upper and lower sides in the figure, two liquid shielding plates 65, 65, and these components 62 arranged further outside these two rollers. From ⁇ 65, a suction sponge roller 66, a tiling roller 67, and a blade 68 are provided on the downstream side along the rotation direction of the master 1!
  • the nozzle 62 of one system arranged in the upper part in the figure is arranged to incline upward in the figure toward the rotation direction of the original 1 (direction of arrow R in the figure), and the tip of the nozzle 62 is the case 61. It is positioned so as to face the surface of the original 1 through the opening.
  • the nozzle 63 of the other system is arranged so as to be inclined downward in the figure with respect to the rotation direction R of the original 1 so that the tip thereof faces the surface of the original 1 through the opening of the case 61. It is positioned.
  • the nozzles 62 and 63 of each system are each provided with a plurality of nozzles (not shown) along the axial direction of the original 1 that crosses the rotational direction R of the original 1. These multiple nozzles are also inclined in the axial direction of the original 1.
  • a liquid supply pipe is connected to the base ends of the plurality of nozzles, and the cleaning liquid is supplied through the liquid supply pipe to spray the tip force of each nozzle on the master 1! / RU
  • the two liquid shielding rollers 64 arranged at positions where the two nozzles 62 and 63 are sandwiched vertically have a structure in which urethane rubber is wound around the shaft, and the length of the original plate 1 in the axial direction.
  • the circumferential surface is positioned so as to contact the surface of the original plate 1 through the opening of the case 61.
  • Each liquid shielding roller 64 rotates with the rotation of the original 1 and functions to prevent the cleaning liquid sprayed from the nozzles 62 and 63 from scattering.
  • the two liquid shielding plates 65 arranged further outside the two liquid shielding rollers 64 have a length at least exceeding the axial length of the original 1, and are shielded by the liquid shielding rollers 64. It functions to shield the cleaning liquid that has scattered with excessive force.
  • These liquid shielding plates 65 are made of talyl-based resin, and are arranged at positions separated from the surface of the original plate 1 by a slight gap! RU
  • the suction sponge roller 66 has a length at least exceeding the axial length of the original 1, and is positioned so that its outer peripheral surface comes into contact with the surface of the original 1 through the opening of the case 61. .
  • the suction sponge roller 66 rotates in the direction opposite to the rotation direction R of the original 1 so that its outer peripheral surface is brought into sliding contact with the surface of the original 1.
  • the outer peripheral surface of the cleaning roller 67 is in rolling contact with the outer peripheral surface of the suction sponge roller 66. Further, the tip end of the blade 68 is disposed in contact with the outer peripheral surface of the cleaning roller 67.
  • each of the nozzles 62 and 63 of each system is configured by arranging a plurality of one-fluid nozzles that inject liquid at high pressure in the axial direction of the original plate 1, each nozzle being The cleaning liquid is sprayed toward the surface of the original 1 at a constant pressure.
  • the insulating liquid constituting the liquid developer is used as the cleaning liquid. In this way, by using the solvent constituting the liquid developer as the cleaning liquid, the process is not hindered when the cleaning liquid remains in the recess 14 a of the original 1. In other words, as the cleaning liquid, it is necessary to select a liquid that does not affect the process if it remains on the master 1.
  • the cleaning liquid sprayed by each nozzle force at a high pressure diffuses and is sprayed from the direction of rotation of the original 1 and the direction inclined with respect to the axial direction.
  • the cleaning liquid can be sprayed from a direction inclined with respect to the large number of rectangular concave portions 14a of the original plate 1, and in particular, the toner particles 55 attached to the corner portions of the concave portions 14a can be reliably peeled off.
  • the suction sponge roller 66 is configured by providing a sponge layer 66b around a hollow shaft 66a.
  • the sponge layer 66b is a conductive layer having open bubbles having a JIS-C hardness of about 50, a volume resistivity of 10 9 [ ⁇ 'cm], and an average bubble diameter of 50 [/ zm]. It is made of sex urethane material.
  • a large number of intake holes are provided in a portion of the shaft 66a facing the sponge layer 66b. Accordingly, when the suction pump 69 connected to the shaft 66a also sucks air by the suction holes of the shaft 66a, negative pressure is generated on the surface of the sponge layer 66b, and the cleaning liquid containing the toner particles 55 is applied to the sponge layer 66b. It comes to be sucked.
  • the cleaning liquid sucked by the suction pump 69 passes through a liquid recovery pipe (not shown). It is collected in a waste liquid tank (not shown). The used cleaning liquid collected in the waste liquid tank may be reused after the developer particles are removed.
  • the toner particles 55 remaining on the surface of the sponge layer 66b without being sucked are removed by a cleaning roller 67 that rotates in a direction opposite to the suction sponge roller 66 (in the direction of the arrow in the figure).
  • the cleaning roller 67 is configured by forming an alumite layer having a thickness of about 6 [m] on the surface of an aluminum hollow pipe by anodizing treatment.
  • the blade 68 is formed of urethane rubber having a JIS-A hardness of about 75 and a thickness of 2 [mm] of 300 [%] modulus 300 [kgf / cm 2 ].
  • the surface of the above-described suction sponge roller 66 is always kept clean by the cleaning roller 67 and the blade 68, and the cleaning performance of the original 1 is enhanced.
  • FIG. 38 shows a block diagram of a control system that controls the operation of the cleaning device 300.
  • the cleaning device 300 fails to develop the pattern image of each color and a relatively large amount of developer particles adhere to the concave portion 14a of the original 1, or transfers the pattern image of each color. Used when it is necessary to remove a larger amount of developer particles from the master 1 than usual, such as when a relatively large amount of developer particles adhere to the recess 14a.
  • the cleaner 8 represented as a representative
  • the amount of developer particles remaining on the original plate 1 can be detected by the detector 11 shown in FIG.
  • the control unit 90 (see FIG. 38) of the pattern forming apparatus 10 detects the amount of developer particles adhering to the original plate 1 via the detector 11. If it is determined that the amount of the remaining developer particles exceeds the reference value, a command is sent to the controller 91 (control device) of the cleaning device 100 before proceeding to the transfer process. Select the cleaning mode. That is, the cleaning device 100 is used when the master 1 is cleaned by a separate process separately from the normal cleaning operation by the tarner 8.
  • the detector 11, the control unit 90, and the controller 91 function as the detection device of the present invention.
  • the determination as to whether or not the master 1 is to be cleaned by the cleaning device 300 is made by the control unit 90 by, for example, the following two methods. In other words, if the amount of developer particles undesirably adhering to the original plate 1 exceeds a certain standard, the mode for cleaning the original plate 1 using the tallying device 300 is selected, and the amount of developer particles is When is below a certain standard, the mode in which the original 1 is cleaned using the cleaner 8 is selected as usual.
  • the control unit 90 passes through the detector 11 into the recess 14a serving as a specific sample.
  • the excitation phosphor is detected by irradiating the adhering phosphor particles with ultraviolet light.
  • the control unit 90 compares the normal reference light amount detected in advance through the detector 11 with the detected light amount of the excitation light, so that the amount of phosphor particles remaining on the original plate 1 becomes the reference value. Judge whether or not it exceeds.
  • the control unit 90 detects an image of the concave portion 14a serving as a sample via a camera or the like (not shown) of the detector 11, and compares the detected image with the reference image detected in advance. It is determined whether the amount of the developer particles adhering to the substrate exceeds the reference value.
  • the area of the opening is calculated in advance as the reference value S1 (FIG. 39a) from the image of the recess 14a in the state, and the mode is selected.
  • the degree of adhesion of developer particles can be determined by calculating 9b) and comparing it with the reference value SI. Specifically, when the above Sl and S2 satisfy the following formula, the cleaning mode by the cleaner 8 is selected without using the cleaning unit 300, and when the sl and S2 are out of the below formula, the cleaning mode by the tallying unit 300 is selected. Is done.
  • the control unit 90 operates a moving mechanism (not shown) to move the original 1 to the cleaning position above the cleaning apparatus 300.
  • each process unit such as the tarner 8, the dryer 4, the static eliminator 9, and the charger 2, which hinders the movement of the original 1, is retracted from the movement path of the original 1 to an unillustrated retraction position.
  • these process units are moved together with the movement of Master 1.
  • the illustration and description of the moving mechanism for moving the original 1 to the cleaning position and the retracting mechanism for retracting each process unit are omitted.
  • the control unit 90 includes a mechanism (not shown) that counts the time from the development process or after the transfer process until the cleaning operation is started (not shown), and exceeds a certain reference time.
  • a mode may be provided in which a mode for cleaning the original 1 using the tallying device 300 is selected when the emergency stop state is restored.
  • the cleaning device 300 includes a liquid tank 302 that opens toward the original 1 disposed at the illustrated cleaning position.
  • the liquid tank 302 opens vertically upward (toward the original 1). ing.
  • the liquid tank 302 has a length exceeding at least the total length of the original 1 in the axial direction (the direction perpendicular to the paper surface in FIG. 40), and the edge of the opening is curved in accordance with the curvature of the original 1. And the edge of the opening The peripheral force of the original 1 in the leaning position The original 1 is placed opposite to the cleaning position with a certain gap distance.
  • the liquid tank 302 is simply divided into a total of three tanks along the rotation direction R of the master 1; an inner tank and two outer tanks.
  • the inflow port 303 and the outflow port 304 are formed in the shape of an elongated slit extending in the axial direction of the original 1, and the tallying liquid L flowing in the liquid tank 302 moves along the peripheral surface of the original 1 in a certain direction ( It flows in the direction opposite to the rotation direction of the original plate 1).
  • a tank containing cleaning liquid L is connected to the inlet 303 via a pipe (not shown) and a valve 92 (see FIG. 38), and the pump 93 (FIG. 38) can be operated.
  • the cleaning liquid L in the tank can be supplied to the inner tank 302a at a controllable flow rate.
  • a waste liquid tank is connected to the outlet 304 via a pipe (not shown) so as to store the cleaning liquid L discharged from the inner tank 302a.
  • the used cleaning liquid L collected in the waste liquid tank may be reused after the developer particles are removed.
  • a plurality of liquid leakage prevention rollers 305 are arranged near the peripheral edge of the inner tank 302a.
  • the two liquid leakage prevention rollers 305 shown in FIG. 40 are respectively accommodated and arranged in the two outer tubs 302b so as to substantially contact the wall portion 302c that partitions the inner tub 302a and the outer tub 302b.
  • a liquid shielding plate using an acrylic plate or the like for preventing liquid leakage may be provided at both ends along the axial direction of the force master 1 illustrating the two liquid leakage preventing rollers 305.
  • Each liquid leakage prevention roller 305 is positioned and arranged at a position facing the peripheral surface of the original 1 rotating at the cleaning position via a certain minute gap.
  • each liquid leakage prevention roller 305 is a metal roller having a roller diameter of 20 [mm], and is positioned so as to face the peripheral surface of the original 1 through a gap of about 50 [m] to 10 [m]. did.
  • each liquid leakage prevention roller 305 is set to a direction in which the cleaning liquid interposed in the minute gap between the original plate 1 and the inner tank 302a is sent.
  • each of the above-described components 302, 303, 304, 320, 92, 93, and 94 functions as a liquid flow device of the present invention.
  • a plurality of piezoelectric elements 306 for generating ultrasonic waves that act on the developer particles held on the original plate 1 are mounted side by side on the outside of the liquid tank 302 and substantially in the center of the bottom surface.
  • Each of these piezoelectric elements 306 is configured by accommodating and arranging a piezoelectric body in a case formed of a substantially cylindrical conductive material having a diameter of 45 [mm] and a height of 60 [mm]. It is arranged side by side to cover the entire surface.
  • the plurality of piezoelectric elements 306 are connected to a power supply device 95 and function as an ultrasonic device of the present invention that generates ultrasonic waves having a desired frequency and applied voltage under the control of the controller 91.
  • the bottom of the inner tank 302a facing the original plate 1 is preferably made of a conductive member such as a metal plate in order to prevent ultrasonic attenuation.
  • the ultrasonic waves generated from the plurality of piezoelectric elements 306 generate an ultrasonic oscillating field that passes through the Talyung liquid L filled with a minute gap between the surface of the original plate 1 and the concave portion of the original plate 1.
  • the cleaning liquid L is effectively penetrated between the toner particles 55 filled in 14a in a short time.
  • the cleaning liquid L can permeate quickly and sufficiently to the corner of the recess 14a.
  • the toner particles 55 can be quickly splayed and the toner particles 55 can be easily and reliably peeled from the recesses 14a by flowing the tallying liquid L.
  • the cleaning operation by the cleaning device 300 having the above structure will be described with reference to the operation explanatory diagrams shown in FIGS. 42 to 44 together with the flowchart shown in FIG.
  • the structure of the main part of the cleaning device 300 is shown partially enlarged, and the cleaning operation of the developer particles will be described focusing on one concave portion 14a of the original 1.
  • the cleaning mode by the cleaning device 300 is selected by the control unit 90 of the pattern forming device 10 (step 1; YES)
  • the original 1 is moved to the above-described cleaning position facing the cleaning device 300 in close proximity.
  • the control unit 90 detects the amount of toner particles 55 remaining on the original plate 1 via the detector 11 and selects an operation mode by comparing with the predetermined threshold value V and value.
  • the controller 91 of the cleaning device 300 rotates the plurality of liquid leakage prevention rollers 304 in the above-described direction (step 3), opens the valve 92, operates the pump 93, and passes through the inlet 303.
  • the cleaning liquid L is supplied into the liquid tank 302.
  • the cleaning liquid L is filled into the liquid tank 302 that does not allow the cleaning liquid L to flow out through the outflow port 304 of the liquid tank 302, and the liquid tank 302 is filled with the cleaning liquid L (step 4). This state is shown in FIG.
  • the controller 91 supplies power of about 1 [KW] to the plurality of piezoelectric elements 306 by controlling the power supply device 95 in a state where the surface of the original 1 is filled with the cleaning liquid L in step 4.
  • An ultrasonic fluctuation field of about 45 [KHz] is generated in the cleaning liquid L (Step 5).
  • the frequency, applied voltage, and applied time of the ultrasonic wave to be generated can be arbitrarily changed by the controller 91 controlling the power supply device 95, and the amount of residual toner particles detected through the detector 11 can be changed. Or a desired value according to the elapsed time.
  • the tarnishing liquid L penetrates well into the recesses 14a of the original 1, and the toner particles 55 are peeled off from the recesses 14a.
  • the cleaning liquid L effectively enters the toner particles 55 fixed in the recess 14a in a short time, and forced vibration is applied to the toner particles 55 in the liquid.
  • the toner particles 55 float in the cleaning liquid L.
  • the controller 91 operates the pump 93 to circulate the targing liquid L in the liquid tank 302 at a predetermined flow rate, and from the recess 14a together with the cleaning liquid L in the liquid tank 302.
  • the toner particles 55 that have been peeled off and suspended in the cleaning liquid L are caused to flow out through the outlet 304 (step 6).
  • This state is shown in FIG. With the above operation, the toner particles 55 held on the original 1 are cleaned.
  • the cleaning apparatus 300 of the present embodiment a large amount of developer particles can be cleaned better than the cleaner 8 that performs the normal cleaning operation.
  • the tallying device 300 of the present embodiment is operated in a state where the patterned concave portion 14a of the original plate 1 is filled with developer particles, the developer particles remaining in the concave portion 14a at the end of the cleaning operation. The amount of was less than 0.01 [%].
  • the tallying device 300 according to the present embodiment is effective when the developer particles remaining in the recesses 14a are fixed over time, and the developer particles are softened by the influence of ultrasonic waves. Can be peeled off.
  • FIG. 45 is a graph showing the relationship between the ultrasonic frequency and the cleaning index.
  • FIG. 46 shows a diagram for explaining a method of calculating the cleaning index.
  • FIG. 47 shows a table showing the results of examining the relationship between the frequency of ultrasonic waves and the damage to the original plate 1.
  • a sample in which the concave portion 14a of the original plate 1 is filled with the toner particles 55 is prepared, and the harsh conditions are created by evaporating the solvent 54 and drying it.
  • the cleaning index S3 of the recess 14a in each case where the original plate 1 was cleaned at different frequencies was measured.
  • the toner particles 55 to be filled in the recesses 14a there are prepared soot particles having a particle size of 2 to 10 [/ ⁇ ⁇ ] and B particles having a particle size of 1 [m] or less, For each particle The washing index S3 was measured.
  • the cleaning index S3 is a numerical value representing the cleaning state of the recess 14a.
  • the opening area of the recess 14a to which no toner particles 55 are attached is S1.
  • S2 the area of the region in which the toner particles 55 remain in the recess 14a detected by the detector 11 after cleaning
  • S3 l ⁇ (S2 / S1).
  • FIG. 46 illustrates the case where the washing effect number S3 force ⁇ 0.8.
  • the cleaning index S3 shows a good value exceeding 0.95 for the A particle when the ultrasonic frequency is 100 KHz or less.
  • the cleaning index S3 showed a good value exceeding 0.95 when the ultrasonic frequency was set to 200 [KHz] or less.
  • both A particles and B particles were found to be able to perform good cleaning that would allow the effect on the next process when ultrasonic waves with a specific frequency or lower were applied.
  • the damage to the original plate 1 may be serious depending on the frequency band of the ultrasonic wave. I was strong. For this reason, the frequency band that may cause serious damage should be excluded as an appropriate ultrasonic frequency for cleaning each of the above-mentioned particles. That is, the appropriate frequency for the A particle is 28 [KHz] to 100 [KHz], more preferably 40 [KHz] to 100 [KHz], and the appropriate frequency for the B particle is 28 [KHz] to It can be said that it is 200 [KHz], more preferably 40 [KHz] to 200 [KHz].
  • the particle diameter depends on the particle diameter. There is an optimum ultrasonic frequency range, and it was found that by applying ultrasonic waves to the developer particles within this range, good cleaning can be achieved.
  • the frequency of the applied ultrasonic wave can be temporally changed.
  • the cleaning force is improved by increasing the rocking force applied to the developer particles at a frequency of about 28 [KHz] at the initial stage of applying ultrasonic waves. After that, it is possible to reduce the damage to the original plate 1 by switching the frequency to about 45 [KHz] at an appropriate timing.
  • the power for applying the ultrasonic wave can be changed with time. For example, at the time of cleaning the A particles described above, a relatively large voltage is applied to the piezoelectric element 306 in the initial stage of applying the ultrasonic wave to increase the swinging force applied to the developer particles, and then at an appropriate timing. By reducing the applied voltage with, damage to the original plate 1 can be reduced and cleaning efficiency can be improved.
  • the cleaning device 300 is operated only once by detecting the amount of developer remaining in the detector 11 after the master 1 is cleaned by the cleaner 8 has been described. After the cleaning device 300 is operated once, the amount of the developer remaining on the original plate 1 is detected again, and if the cleaning index S3 is less than 0.95, the next pattern is not formed again. Cleaning by the cleaning device 300 may be performed. In this case, the force that allows the first cleaning operation and the second cleaning operation to be performed under the same conditions.For example, in the second cleaning operation, the ultrasonic application time is longer than in the first taring operation. May be extended, or the voltage applied to the piezoelectric element 306 may be increased.
  • the ultrasonic wave may be continuously applied while the cleaning liquid L is always supplied.
  • the master 1 When the master 1 is not rotated, after the cleaning of the area of the original peripheral surface to which the liquid tank 302 of the cleaning device 300 is opposed, the liquid tank 302 faces the area adjacent to the area. In this way, the master 1 is rotated intermittently and the cleaning operation is performed multiple times. In this case, it is desirable to set the distance for rotating the master 1 to a distance that slightly overlaps two adjacent areas to be cleaned.
  • the force described in the case where the cleaner 8 and the tally-jung device 300 are used together as the cleaning means of the original 1 is not limited to this. As shown in FIG. It is also possible to remove the component force of the device 10 and use only the cleaning device 300 because the developer particle removal capability is high.
  • the cleaning device 300 when the cleaning operation by the cleaning device 300 is performed, the original 1 is moved to the cleaning position and placed above the cleaning device 300.
  • the arrangement position is not limited to this. If the liquid leakage between the edge of the liquid tank 302 and the peripheral surface of the original plate can be surely prevented, the cleaning device 300 is disposed on the peripheral surface of the original plate 1 disposed at the development position. It is also possible to do. In other words, the liquid tank 302 does not necessarily have to be disposed with the opening facing upward.
  • a rubber packing (not shown) for preventing liquid leakage is used. By using it, the cleaning device 300 can be arranged at the position of the cleaner 8 by further enhancing the liquid leakage prevention mechanism.
  • the cleaning liquid L is supplied into the liquid tank 302 to clean the surface of the original plate 1.
  • the method of pre-wetting the surface of the original 1 with the cleaning liquid L in the previous stage is also conceivable.
  • the developer particles held on the original plate 1 are hardened and dried over time, the developer particles can be softened by pre-wetting the developer particles. Can be removed efficiently.
  • FIG. 49 shows a schematic structure of the cleaning device 310
  • FIG. 50 shows a block diagram of a control system of the cleaning device 310.
  • This tallying device 310 has substantially the same structure as the cleaning device 300 according to the seventh embodiment described above except that a residual toner transfer electrode 311 (hereinafter simply referred to as a transfer electrode 311) is provided at the bottom of the liquid tank 302.
  • a residual toner transfer electrode 311 hereinafter simply referred to as a transfer electrode 311
  • the same reference numerals are given to components that function in the same manner, and detailed description thereof is omitted.
  • the transfer electrode 311 is disposed between the plurality of piezoelectric elements 306 and the original plate 1 at the bottom of the liquid tank 302, and has a size that covers substantially the entire bottom of the liquid tank 302.
  • the transfer electrode 311 is curved so as to be concave toward the original 1 in accordance with the curvature of the original 1.
  • the transfer electrode 311 is formed by applying gold plating to a surface of a nickel plate having a thickness of approximately 0.5 [mm] to a thickness of 5 [m].
  • the gap between is set to about 100 m] ⁇ 20 [/ zm].
  • the bottom of the inner tank 302a is preferably made of a conductive member such as a metal plate in order to prevent attenuation of ultrasonic waves.
  • the transfer electrode 311 is made of an insulating adhesive or the like. Needless to say, the transfer electrode 311 and the inner tank 302a are electrically insulated from each other by being fixed (not shown in detail) to the bottom of the inner tank 302a.
  • a power supply device 312 is connected to the transfer electrode 311.
  • a voltage of ⁇ 500 [V] is applied to the transfer electrode 311 via the power supply device 312 and the ground potential metal film 12 (shown here) is disposed at the bottom of the recess 14a. An electric field was formed between the terminal and the terminal (not shown).
  • step 1 When the cleaning mode by the cleaning device 310 is selected by the control unit 90 of the pattern forming device 10 (step 1; YES), the original 1 is moved to the above-described cleaning position facing the cleaning device 310 in close proximity. (Step 2). At this time, the control unit 90 detects the amount of toner particles 55 remaining on the original plate 1 via the detector 11 and selects an operation mode by comparing with the predetermined threshold value V and value.
  • the controller 91 of the cleaning device 310 rotates the plurality of liquid leakage prevention rollers 305 in the above-described direction (step 3), opens the valve 92, operates the pump 93, and passes through the inlet 303.
  • the cleaning liquid L is supplied into the liquid tank 302.
  • the cleaning liquid L is filled into the liquid tank 302 that does not allow the cleaning liquid L to flow out through the outflow port 304 of the liquid tank 302, and the liquid tank 302 is filled with the cleaning liquid L (step 4). This state is shown in FIG.
  • the controller 91 controls the power supply device 95 to supply electric power of about 1 [KW] to the plurality of piezoelectric elements 306.
  • An ultrasonic fluctuation field of about 45 [KHz] is generated in the cleaning liquid L (Step 5).
  • the frequency, applied voltage, and applied time of the ultrasonic wave to be generated can be arbitrarily changed by the controller 91 controlling the power supply device 95, and the amount of residual toner particles detected through the detector 11 can be changed. Or a desired value according to the elapsed time.
  • step 5 When ultrasonic waves are generated in step 5, as shown in FIG. 53, the tarnishing liquid L penetrates well into the recesses 14a of the original 1, and the toner particles 55 peel off from the recesses 14a.
  • the cleaning liquid L effectively enters the toner particles 55 fixed in the recess 14a in a short time, and forced vibration is applied to the toner particles 55 charged in the liquid.
  • the toner particles 55 float in the cleaning liquid L as shown in FIG.
  • the controller 91 applies a voltage of about 500 [V] to the transfer electrode 311 via the power supply 312 to form an electric field with the metal film 12 in the concave portion 14a of the original 1 (Step 6).
  • This state is shown in FIG.
  • the imaging agent particles floating in the recesses 14 a migrate in the cleaning liquid L filled between the recesses 14 a and the transfer electrode 311 and are adsorbed by the transfer electrode 311.
  • the controller 91 turns off the power supply device 312 at an appropriate timing so that the potential of the transfer electrode 311 is the same as that of the metal film 12, and the electric field formed in Step 6 disappears (Step 7).
  • the controller 91 operates the pump 93 to cause the cleaning liquid L to flow in the liquid tank 302 at a predetermined flow rate, and is adsorbed to the transfer electrode 311 together with the cleaning liquid L in the liquid tank 302, and the toner. Particle 55 is allowed to flow out through outlet 304 (step 8). This state is shown in FIG. The toner particles held on the original 1 are cleaned by the above operation.
  • cleaning device 310 of the present embodiment an electric field is formed in addition to the ultrasonic oscillation field, so that the developer particles peeled off from recess 14a by the ultrasonic wave are positively applied to transfer electrode 311.
  • the developer particles remaining in the recesses 14a can be more efficiently cleaned.
  • the cleaning liquid L an appropriate amount of a metal stone component such as zirconium naphthenate is supplementarily added to the force insulating solvent using an insulating solvent alone to impart conductivity to the cleaning liquid.
  • a metal stone component such as zirconium naphthenate
  • the charging characteristics of the remaining developer particles are improved, and the effect of applying an electric field is further increased, so that the developer particles separated from the recesses 14a can be actively adsorbed to the transfer electrode 311.
  • the amount of addition of the metal stalagmite is 0.1% by weight or less, so that even if the cleaning liquid L remains on the surface of the original plate 1, it does not affect the next development process.
  • FIG. a cleaning device 320 according to a first modification example having the configuration of the cleaning device 310 of the above-described eighth embodiment will be described with reference to FIGS. 57 to 60.
  • the cleaning device 320 includes a nozzle 321 that functions as a prewetting device and a removal device 322 in addition to the configuration of the tallying device 310 of the eighth embodiment described above.
  • the nozzle 321 is arranged upstream of the cleaning device 310 in the rotation direction (arrow R direction) of the original 1, and the removal device 322 is arranged downstream of the cleaning device 310.
  • the nozzle 321 functions to supply the cleaning liquid to the surface of the original plate 1 before passing through the cleaning device 310 to wet the surface in advance.
  • the image forming agent particles adhering to the concave portion 14a of the original plate 1 can be softly loosened. Can improve the cleaning effect.
  • the nozzle 321 the above-described high-pressure one-fluid nozzle of the cleaner 8 may be employed.
  • the removing device 322 includes a blade 323 that comes into contact with the surface of the original 1, and a tray 324 for collecting the cleaning liquid removed from the surface by the blade 323.
  • the removing device 322 functions to remove the tar lichen liquid remaining on the surface of the original 1 that has passed through the cleaning device 310. That is, the removing device 322 contacts the blade 323 with the surface of the original 1 to scrape off the cleaning liquid remaining on the surface, and collects the scrubbed cleaning liquid with the tray 324.
  • the blade 323 is formed of a resin having a JISA hardness of about 30 to 90
  • the blade 323 is formed of a resin having a JISA hardness of 60.
  • the surface of the original plate 1 is wetted by the cleaning liquid supplied through the nozzle 321.
  • the nozzle 321 supplies the cleaning liquid to an area covering the entire axial length across the rotational direction of the original 1, and wets the entire surface of the original 1 with the cleaning liquid.
  • the toner particles 55 remaining in the concave portion 14a of the original 1 are softened and softened. This state is shown in FIG.
  • the wetted surface area of the original 1 is passed through the cleaning device 310, and as described above, the ultrasonic oscillation field generated via the piezoelectric element 306 and the transfer electrode 311.
  • the toner particles 55 remaining in the recesses 14 a are peeled off by the electric field formed, migrate in the Talyung liquid L, and are adsorbed by the transfer electrode 311. This state is shown in FIG.
  • the surface of the original plate 1 is passed through the removing device 322, and the Talyung liquid L remaining on the surface is removed.
  • the cleaning liquid L remaining on the surface of the original plate 1 is scraped off by the blade 323, collected on the tray 324, and then discharged through a drain pipe (not shown).
  • the blade 323 in contact with the surface of the original 1 has a length that covers the entire length along the axial direction crossing the rotational direction R of the original 1 and is in sliding contact with the entire surface of the original 1.
  • the cleaning device 320 according to this comparative example the same effect as that of the cleaning device 310 according to the eighth embodiment described above can be obtained, and before the passage through the tallying region. Since the surface of the original plate 1 was previously wetted with the cleaning liquid L, even the toner particles 55 that have been fixed over time can be softened and softened in advance, and the cleaning performance can be further improved. . Further, according to this comparative example, the cleaning liquid L adhering to the surface of the original plate 1 after tallying is actively removed, so that the influence on the next process can be almost eliminated.
  • the cleaning device 330 has a cleaning device 320 according to the first modification in that it has a removing device 331 instead of the above-described removing device 322 on the downstream side of the cleaning device 310 along the rotation direction R of the original 1. And has a different structure.
  • the removing device 331 functions to remove the cleaning liquid L remaining on the surface of the original plate 1 that has passed through the cleaning device 310.
  • the removal device 331 contacts the surface of the original plate 1 and rotates in a direction opposite to the rotation direction R of the original plate 1 to recover the cleaning liquid L adhering to the surface from the peripheral surfaces of the sponge roller 332 and the sponge roller 332. It has a scraper 333 that removes dirt such as cleaning liquid, and a container 334 that collects deposits scraped by the scraper 333.
  • the sponge roller 332 has a sponge layer having bubbles with an average pore diameter of about 20 [/ ⁇ ⁇ ] to 400 [/ ⁇ m], and collects the cleaning liquid remaining on the surface of the original 1 by attaching it. To do.
  • a urethane sponge roller 332 having an average pore diameter of about 200 [m] was used.
  • the scraper 333 is formed of a metal plate.
  • This cleaning device 330 can also achieve the same effect as the cleaning device 320 of the first comparative example described above, and the developer particles remaining in the concave portion 14a of the original 1 can be more reliably collected.
  • the sponge roller 332 can follow the shape of the concave portion 14a by elastically deforming in accordance with the shape of the concave portion 14a of the original 1, and also has an action of sucking the cleaning liquid by a large number of bubbles.
  • FIG. 62 shows a schematic configuration of the cleaning device 340
  • FIG. 63 shows a diagram for explaining voltages applied to each component of the cleaning device 340.
  • This cleaning device 340 has a different structure from the cleaning device 320 described above in that it has a removal device 341 instead of the above-described removal device 322 on the downstream side of the cleaning device 310 along the rotation direction R of the original 1.
  • the removing device 341 functions to remove the cleaning liquid remaining on the surface of the original plate 1 that has passed through the tallying device 310, like the removing device 322 described above.
  • the removing device 341 is a suction sponge roller 3 in which a urethane sponge layer 343 having a thickness of about 7 [mm] having continuous bubbles with an average cell diameter of 70 m is formed outside the hollow pipe 342. 44.
  • This suction sponge roller 344 is positioned and arranged so that the peripheral surface of the sponge layer 343 is in contact with the surface of the original 1 and rotates in the direction opposite to the rotation direction R of the original 1.
  • the sponge layer 343 has a JIS-C hardness of about 30 and a volume resistivity of 10 3 [ ⁇ !!!] to ⁇ ) 1 ⁇
  • the cleaning roller 345 is formed by forming an alumite layer having a thickness of about 6 ⁇ m on the surface of an aluminum hollow nozzle by anodizing treatment.
  • Blade 346 is made of urethane rubber having a JIS-A hardness of about 80 and a thickness of 100 mmfZcm 2 and a thickness l [mm].
  • an appropriate voltage is applied to each component member of the above-described removal apparatus 341. That is, a metal film (not shown) of the original 1 is grounded, a voltage of 300 [V] is applied to the suction sponge roller 344 via a power supply device (not shown), and a voltage of 500 [V] is applied to the cleaning roller 345. Is applied. In this way, the developer particles remaining on the original plate 1 can be electrically moved effectively by applying a voltage to each component so that the potential gradually decreases along the moving direction of the developer particles. The developer particle removal efficiency can be further increased.
  • the removal device for the cleaning liquid L is installed, so the amount of addition of the metal sarcophagus is 0.3. weight
  • the effect of applying an electric field can be further enhanced, and cleaning can be performed in a process that has improved the taring effect.
  • the cleaning liquid L can be reliably removed by the removing device, it has an influence on the next development process. Can be prevented.
  • the cleaning device 350 is arranged from the upstream side along the rotation direction R of the master 1 from the upstream side, the liquid supply nozzle 351 (prewetting device), the pretreatment unit 352 (ultrasonic device), and the spray removal.
  • Has unit 353 spray device.
  • Two liquid shielding plates 354 and 354 are disposed between the pretreatment unit 352 and the spray removing unit 353, and one liquid shielding plate 355 is disposed on the downstream side of the spray removing unit 353. ing.
  • These liquid shielding plates 354 and 355 are formed of, for example, an acrylic plate and have a length that covers the entire axial length of the original 1 to prevent the cleaning liquid L from splashing and contaminating other areas. It works as follows.
  • a large number of liquid supply nozzles 351 are arranged along the axial direction crossing the rotation direction R of the original 1, so that the cleaning liquid L can be supplied to the entire surface of the original 1 in a uniform amount.
  • the cleaning liquid L supplied to the surface of the original 1 via the liquid supply nozzle 351 is discharged through the space between the two liquid shielding plates 354 via the pretreatment unit described below.
  • the pre-processing unit 352 includes a metal case 361 having a rectangular frame shape elongated in the axial direction, a transfer electrode 362 for forming an electric field with the metal film (not shown here) of the original 1, and A plurality of piezoelectric elements 363 for applying ultrasonic waves to the surface of the original 1 are provided.
  • a metal case 361 having a rectangular frame shape elongated in the axial direction
  • a transfer electrode 362 for forming an electric field with the metal film (not shown here) of the original 1
  • a plurality of piezoelectric elements 363 for applying ultrasonic waves to the surface of the original 1 are provided.
  • an insulating adhesive is used, and the case 361 is attached to the surface facing the surface of the original plate 1.
  • the plurality of piezoelectric elements 363 use an insulating adhesive 364.
  • the case 361 is adhered and fixed to the inner surface of the original 1 side.
  • the case 361 is a hollow metal case having a length exceeding at least the total length of the original plate 1 in the axial direction (direction perpendicular to the paper surface in FIG. 64), and includes a plurality of piezoelectric elements inside. 36 3 are stored side by side in the axial direction.
  • the transfer electrode 362 is disposed at a position facing the original plate 1 with a gap of about 0.1 to about Lmm, and the cleaning liquid L is poured into the gap from the liquid supply nozzle 351 so that the cleaning liquid L is interposed between the two.
  • An electric field and an ultrasonic oscillation field are formed between the original 1 and the transfer electrode 362 in the filled state.
  • the spray removal unit 353 has two nozzles arranged in a nozzle array 365 and nozzles. It has a pair of liquid shielding rollers 366 facing each other.
  • the spray removing unit 353 has a liquid receiving tray 367 for collecting the cleaning liquid L used for cleaning.
  • the liquid receiving tray 367 also collects the cleaning liquid L that has flowed through the pretreatment unit 352 described above.
  • the liquid supply nozzle 351 and the nozzle array 365 are supplied with a cleaning liquid L via a liquid supply pipe 368 from a common cleaning liquid tank (not shown).
  • the recovered liquid from the liquid receiving tray 367 is stored in the waste liquid tank, and after removing the fine particles of the developing agent through the filter device, it is returned to the cleaning liquid tank and reused as the cleaning liquid (not shown). .
  • the liquid supply nozzle 351 and the nozzles used in the nozzle array 365 in the figure are both high-pressure single-fluid nozzles, and the liquid supply nozzle 351 cleans the original plate 1 at a liquid pressure of 0.2 to 1.0 [MPa].
  • the cleaning liquid is sprayed to the area.
  • the nozzle array 365 is a two-line nozzle array slightly inclined in the forward direction and the reverse direction with respect to the rotation direction scale of the original 1, and each has a liquid pressure of about 0.2 to 2.0 [MPa]. Spray Tallying Liquid L on the original 1 cleaning area.
  • the pair of liquid shielding rollers 366 has a structure in which urethane rubber is attached to the shaft, and the nozzle array 365 is sandwiched along the rotation direction R while being in contact with the surface of the original 1. It is placed in the opposite position.
  • Each liquid shielding roller 366 has a length that covers the entire axial length of the original 1, and rotates along with the rotational movement of the original 1. In this way, the liquid shielding roller 366 functions to prevent the cleaning liquid L from the two nozzle arrays 365 ejected at a high pressure from scattering to other areas and contaminating the original plate 1.
  • the cleaning liquid L is supplied to the surface of the original 1 via the liquid supply nozzle 351.
  • the supplied cleaning liquid L fills the gap between the transfer electrode 362 of the pretreatment unit 352 and the surface of the original 1, and the toner remaining on the concave portion 14a of the original 1 as shown in FIG. Particle 55 is in a pre-wet state.
  • the cleaning liquid L further flows between the original plate 1 and the transfer electrode 362, passes between the two liquid shielding plates 354, and is collected in the liquid receiving tray 367.
  • the cleaning liquid L is sufficiently immersed in the bottom of the recess 14a in a short time.
  • the toner particles 55 can be permeated in the liquid, and the toner particles 55 can be easily peeled from the bottom of the concave portion 14a and the particles can be easily separated by the oscillation of the toner particles 55 in the liquid.
  • an electric field is formed between the transfer electrode 362 and the original 1 so that some toner particles 55 floating in the cleaning liquid L are caused to flow to the liquid receiving tray 367 together with the cleaning liquid L. be able to.
  • the toner particles 55 remaining on the surface of the original 1 are tallyed through the spray removing unit 353 disposed downstream of the pretreatment unit 352 along the rotation direction R of the original 1.
  • the spray removal unit 353 sprays a high-pressure liquid flow in two directions (in the direction of the arrow in the figure) on the toner particles 55 remaining in the recess 14a, and remains at the corner of the recess 14a. Clean the toner particles 55 so that they are blown away. As a result, the toner particles 55 remaining in the recesses 14a can be removed from the original 1 almost completely.
  • the toner particles 55 once adsorbed to the transfer electrode 362 by the action of the electric field continue to receive liquid supply from the liquid supply nozzle 351 with the electric field disappeared.
  • the surface force of the transfer electrode 362 is also washed away (not shown) .
  • it is desirable that the ultrasonic oscillating field is kept as it is to improve the cleaning effect.
  • the case 361 is made of SUS, and the transfer electrode 362 is fixedly attached to the case 361 with a 1 mm thick SUS plate via an adhesive.
  • Each of the piezoelectric elements 363 is an element in which a piezoelectric body is housed in a cylindrical case having a diameter of about 45 [mm] and a height of about 60 [mm]. It is fixedly attached to case 361 via layer 364.
  • the surface of the original 1 that has passed through the spray removing unit 353 moves to the next process in a state where a thin liquid film of the clean cleaning liquid L is still formed.
  • the process may be shifted to a charge removal process.
  • a liquid removing member such as a blade or suction sponge roller is brought into contact with the surface of the original plate 1 that has passed through the spray removing unit 353. The liquid film may be removed.
  • the tanks for the prewetting liquid L supplied via the liquid supply nozzle 351 and the cleaning liquid supplied from the spray removing unit 353 are separated. It may be configured (not shown). That is, the prewetting liquid L1 uses a conductive cleaning liquid with an addition amount of metal sarcophagus of about 0.3% by weight, and the cleaning liquid L2 of the spray removal unit 353 uses an insulating solvent alone. Since the prewetting liquid L1 can be reliably removed in the spray removal process, the influence on the next development process can be prevented.
  • the present invention is not limited to the above-described embodiments as they are, and can be embodied by modifying the constituent elements without departing from the spirit of the invention in the implementation stage.
  • various inventions can be formed by appropriately combining a plurality of constituent elements disclosed in the above-described embodiment. For example, some components may be deleted from the total component force shown in the above-described embodiment.
  • the constituent elements in different embodiments may be appropriately combined.
  • the present invention is not limited only to the pattern forming apparatus using the original plate 1 on which the pattern by the bulging recesses 14a is formed.
  • the present invention can also be applied to an apparatus in which an electrostatic latent image is formed on the surface of a photoconductor, which is developed with a liquid developer and transferred.
  • a liquid developing agent is a resin particle having an average particle size of 0.3 [m] and metal fine particles having an average particle size of 0.02 [m] adhering to the surface thereof (for example, copper , Palladium, silver, etc.) and a charge control agent such as a metal sarcophagus can be used to form a wiring pattern with a developer on a silicon wafer, for example, by the same method as in the above-described embodiment. .
  • the pattern forming apparatus of the present invention develops toner using a liquid developer containing a toner containing an ionic compound and a carrier liquid, and before or after the transfer, the toner solids and toners.
  • the waste liquid containing the ionic compound and the carrier liquid contained is recovered, and after removing the toner solids and the ionic compound in the waste liquid, the regenerated carrier liquid is supplied to the developing unit, Alternatively, a waste liquid treatment unit is provided for returning to the cleaning unit for reuse.
  • the waste liquid treatment unit has a filter including a conductive barrier structure having a gap with a diameter of 30 to LOO ⁇ m, and the filter of the filter is provided.
  • the particle size indicating the maximum frequency of particle size distribution is 5 m to 100 on the surface of the barrier structure. Applying adsorbent particles that are m 0.5mn!
  • an adsorbent particle layer with a thickness of ⁇ 1 Omm Forming an adsorbent particle layer with a thickness of ⁇ 1 Omm, while passing the waste liquid through the gap between the particles of the adsorbent particle layer to the barrier structure side, it is physically due to the filtering action of the gap between the adsorbent particles Then, the toner solids are removed, and the carrier liquid is regenerated by chemically removing the ionic compounds by the adsorption action of the adsorbent particles.
  • the liquid developer used in the present invention may be composed of a carrier liquid containing toner solids as fine particles and an ionic compound.
  • a petroleum-based highly insulating solvent for example, Isopar L manufactured by Exxon Corporation can be used.
  • the toner solids for example, fine particles having an average particle size of about 0.05 m to lm impregnated and adhered with a colorant, and as the solids, for example, a main chain insoluble in a highly insulating solvent and a highly insulating solvent. Examples thereof include a graft copolymer having a soluble side chain force.
  • the colorant one or more of inorganic pigments, organic pigments, dyes and the like can be used.
  • the ratio of the toner solid content in the developer is adjusted to 0.5 to 30% by weight.
  • the ionic compound is added to adjust the charge characteristics of the toner solids.
  • metal salts such as naphthenic acid, octylic acid, and stearic acid, metal salts of ethylenediamine tetraacetic acid, phosphorus, Examples thereof include zinc acid, and one or more of these can be used.
  • These ionic compounds are usually added in excess relative to the solid content of the toner, and most of them are chemically or physically adsorbed on the surface of the toner fine particles, but some are contained in the carrier liquid. Is done.
  • the amount of the ionic compound added is, for example, about 5% to 30% by weight based on the solid content of the toner.
  • the adsorbent particles used in the present invention exhibit charging characteristics in an insulating solvent.
  • Adsorbent particles are dispersed in an insulating solvent at a predetermined concentration in advance to prepare an adsorbent particle dispersion, and the conductivity is measured in this state.
  • the adsorbent particles are deposited on the surface of the barrier structure to form an adsorbent particle layer.
  • the barrier structure is formed of a conductive member, and it is possible to form the adsorbent particle layer more precisely and faster by applying a predetermined potential to the barrier structure when depositing the adsorbent particles. is there.
  • the adsorbent particles used in the present invention for example, diatomaceous earth, zeolite, rhodium, id mouth talcite, carbon and the like can be used.
  • the adsorbent particles have a maximum frequency distribution in the range between 5 ⁇ m and 100 ⁇ m, and the thickness of the adsorbent particle deposition layer is in the range of 0.5 mm to 10 mm.
  • a sufficient amount of liquid can be secured, and the surface area of the adsorbent that comes in contact with the waste liquid is large. Therefore, even if the amount of adsorbent used is small, sufficient adsorption capacity is demonstrated. It is possible to improve the adsorption efficiency of the adsorbent per unit weight.
  • the maximum frequency of the particle size distribution of the adsorbent particles is less than 5 ⁇ m, the adsorbent particles that are not retained on the surface of the barrier structure and the gap and pass through the filter together with the waste liquid will increase. There is a tendency to become unsuitable for reuse as waste liquid,
  • the particle size distribution referred to here is, for example, replaced by an electrolyte solution corresponding to the particle volume when particles suspended in the electrolyte solution pass through an aperture tube having a predetermined diameter by a Coulter counter. This is a measurement of the number and size of particles measured by changing the value of the current flowing between the electrodes installed on both sides of the aperture.
  • the adsorbent particles preferably have a particle force of 5 ⁇ m to 100 ⁇ m and 80% or more of the distribution frequency of all particles.
  • the thickness of the adsorbent particle layer is less than 0.5 mm, the waste liquid formed in the gap between the adsorbent particles has a short bottleneck, so the toner solids are removed by sufficient physical filtration.
  • the surface area of the adsorbent that comes into contact with the waste liquid as it passes through tends to decrease the adsorption efficiency of the adsorbent significantly. Since the waste liquid formed in the gap between the agent particles has a long bottleneck, high pressure is required to pass the waste liquid, and the circulation of the liquid tends to be delayed.
  • the adsorbent particles are exchanged, for example, after the waste liquid treatment step, the adsorbent is easily detached from the surface of the barrier structure by flowing an insulating solvent from the inside of the barrier structure, so that the adsorbent particles are easily removed.
  • the layer can be peeled off.
  • the separated adsorbent particles can be taken out from the outlet separately, and a new adsorbent can be added to easily maintain the adsorption capacity of the waste liquid treatment unit.
  • waste liquid treatment units can be used. Removing particulate having a particle diameter of more than mu m in the first vessel
  • the second and lower tanks fine particles of less than 1 ⁇ m and ionic compounds can be removed.
  • the second or lower treatment tank is operated, and the second tank, which is a treatment tank for fine particles of 1 ⁇ m or less, or ionic compound,
  • the inlet and outlet, and the adsorbent holder 30 ⁇ has a barrier structure with a gap of LOO ⁇ m, and the second tank is independent of the main body of the device as needed during the waste liquid recycling process 2.
  • fine particles of 1 ⁇ m or more are likely to settle, they can be sufficiently separated and removed by precipitating them in the first treatment tank and, for example, extracting the supernatant or removing the precipitates.
  • the waste liquid from which fine particles of 1 m or less are removed in the first tank is adsorbed at a sufficient level by removing fine particles of 1 ⁇ m or less and ionic compounds in the second and lower treatment tanks. The adsorption efficiency of the agent can be maintained.
  • the initial adsorbent body is obtained. It has been experimentally obtained that the conductivity is lower than that of a solution dispersed at a predetermined concentration. Therefore, the conductivity is measured in advance in a state where the adsorbent is dispersed in an insulating solvent used as a carrier liquid at a predetermined concentration, and after the waste liquid treatment step, the adsorbent is peeled off from the surface of the barrier structure, Collect the monitor solution dispersed in the concentration and measure the conductivity.
  • the value is above a certain value, it is determined that the adsorption capacity of the adsorbent is not saturated, and again The adsorbent is coated on the surface of the barrier structure and the waste liquid treatment is continued. If the conductivity shows a value below a certain value, it indicates that the adsorbent has sufficiently adsorbed the toner solids and ionic compounds and is close to saturation. By removing it outside the unit and introducing a new adsorbent, it becomes easy to continue the regeneration of the waste liquid treatment unit.
  • the adsorbent adsorption efficiency can be improved because the surface area of the adsorbent that comes into contact with the waste liquid when passing through the bottleneck formed by the adsorbents is large.
  • the carrier liquid can be regenerated by simultaneously removing the ionic compound and the toner solids through a filter, the processing capacity per unit time is good.
  • FIG. 69 is a schematic diagram showing an outline of an example of a pattern forming apparatus according to another embodiment of the present invention.
  • the pattern forming apparatus 472 is provided with a photosensitive drum 401 on which a fine pattern is formed, and the photosensitive drum 401, and develops a toner image using a liquid developer. Development unit for cleaning, drying unit for removing excess current liquid on the toner image formed on the photosensitive drum, transfer unit for transferring the toner image to the transfer medium, and cleaning the surface of the photosensitive drum 1 after transfer A pattern forming unit having a cleaning unit that performs the above and a waste liquid processing mechanism 406 for processing and regenerating the waste liquid discharged from the fine pattern forming unit.
  • the developer unit is a charger 402-1, 403-1, 404-1, laser exposure 402-2, 403-
  • the drying unit has a drying hood 405-2.
  • the transfer unit includes a primary transfer roller 407 that can rotate in contact with the photosensitive member, and a secondary transfer roller 408 that can rotate synchronously while pressing the primary transfer roller 407 via the transfer medium 409.
  • the cleaning unit has a cleaner 410.
  • the photosensitive drum 401 used has, for example, an organic or amorphous silicon photosensitive layer.
  • a latent image is selectively formed by the laser exposure device 402-2 according to the pattern information of the first color.
  • the electrostatic latent image is developed by supplying the first color liquid developer by the developing device 402-3.
  • the liquid developer used is, for example, Etason L-isopar L as a carrier liquid, and a toner having an average particle diameter of about 0.05 m to lm impregnated and Z or adhering a colorant as a solid content of toner. It contains naphthenate as fine particles and ionic compounds.
  • the resin for example, a graft copolymer having a main chain insoluble in a highly insulating solvent and a side chain force soluble in the highly insulating solvent can be used.
  • the pattern of the second color, the pattern of the third color and the like are also the same.
  • Charger 403-1, 404-1, Laser exposure unit 403-2, 404-2, Developer 402-3, 403-3, Each is developed in 404-3.
  • the toner image formed on the photosensitive drum 401 contains excess developer, and in the subsequent drying unit, a foamed sponge layer is formed on the hollow shaft provided with a through hole, and is removed by suction from the inside of the hollow shaft. Excess liquid of 85% or more is sucked and removed by the solvent recovery roller 405-1 with the configuration. After that, under the dry hood 405-2, the remaining developer is removed by high-speed air of 80 mZS blown from the slit nozzle, and the process proceeds to the next transfer step with a toner solid content of 90% or more.
  • a heater is placed inside the primary transfer roller 407, which is a hollow silicon rubber roller, and the silicon rubber layer is kept at 100 ° C for primary transfer onto the primary transfer roller 407 by pressure heating. . Further, the toner is transferred to a sheet 409 which is a recording medium via a secondary transfer roller 408. After the transfer process, the photosensitive drum 401 proceeds to the cleaning process, and the transfer residual toner and the cleaning liquid are collected by a cleaner 410 including a cleaning liquid supply nozzle, a sponge, and a blade.
  • FIG. 70 is a schematic diagram for explaining the configuration of an example of the waste liquid treatment mechanism applied to the pattern forming apparatus according to the present invention.
  • the waste liquid treatment mechanism 406 collects the waste liquid in the waste liquid tank 415 recovered through the waste liquid recovery lines 41-1 and 412 and the waste liquid recovery line 411.
  • a sorbent particle that can simultaneously remove toner solids and metal slag fine hydrated talcite-based adsorbent particles having a maximum particle size distribution in the range of 5 ⁇ m to 100 m Kyowa Word 2000 made by Kyowa Chemical Industry can be used. Add 80g of this Kiyoword 2000 from the adsorbent inlet 413, and disperse it in the Isopar L at a concentration of 10% by weight in the initial conductivity measuring tank 414. The conductivity measured in this state was 3pSZcm.
  • this dispersion is added to the waste liquid tank 415, assembled together with the waste liquid into the filter 418 by the pump 416, and depending on the force that forms the adsorbent particle layer on the surface of the filter 419, the initial conductivity may be increased.
  • the rate measuring tank 414 it is assembled directly into the filter 418 by a bypass (not shown) that does not pass through the waste liquid tank 415, and the adsorbent is put on the surface of the filter 419.
  • a method of forming a particle layer may be used.
  • the initial conductivity measuring tank 414 is equipped with a stirrer, the conductivity of the dispersion can be accurately measured and the adsorbent can be uniformly distributed over a sufficiently long time. Needless to say, it is possible to disperse in concentration, and the efficiency when assembled directly into the filter 418 through the bypass is improved.
  • FIG. 71 is a schematic diagram showing a configuration of an example of a filter used in the waste liquid treatment mechanism.
  • the filter 418 includes a conductive barrier structure 419 1 having a gap of 30 / ⁇ ⁇ to 90 / ⁇ ⁇ inside the filter storage container 418-1.
  • the barrier structure 4192 for example, a coil spring manufactured by Ergotec with a diameter of 15 mm and a length of 250 mm and a barrier structure gap 4 19-4 of 90 m is used.
  • FIG. 72 shows an enlarged view of a part of the barrier structure of FIG.
  • FIG. 73 is a diagram for explaining an example of the operation in the adsorbent particle layer of FIG.
  • solid toner content (not shown) in the waste liquid is a slight amount formed by the adsorbent particles 419-3 in the adsorbent particle layer 419-2 formed on the surface of the coil panel 419 1. As it passes through the gap, it is physically clogged and attached to and removed from the adsorbent particle layer 419-2, and the ionic compound, which is a metal stone component, is absorbed by the adsorbent particles 419-3. It is chemically adsorbed and removed. Depending on the amount of toner particles and metal slag contained in the waste liquid, the waste liquid can be circulated multiple times in the circulation path, so that the toner solids and metal slag in the waste liquid can be almost completely removed.
  • Fig. 74 is a graph showing the relationship between the adsorbent input amount and the amount of metal stalagmite removed.
  • Adsorbents of various weights were added to 500 ml of several types of metal slag concentration of Isopar L solution, and the concentration of metal slag remaining in the liquid after a long time was investigated while stirring. That The results are shown in the graph.
  • the metal stone acid concentration is proportional to the conductivity of the liquid, and the metal stone content in the liquid is determined by measuring the liquid conductivity by preparing a conversion graph of the metal stone concentration and conductivity in advance. I can do it.
  • stirring was stopped, and after a sufficient time had passed for the adsorbent to settle at the bottom of the experimental tank, the supernatant was collected and the electrical conductivity was measured.
  • the data in Fig. 74 confirms that the conductivity does not change for a sufficiently long time with respect to the input weight of each sample after stirring the liquid containing the adsorbent for more than 1 month. Show the numerical value near!
  • Fig. 75 is a graph showing the number of circulations and the amount of metal stalagmite removed in the waste liquid treatment unit.
  • Adsorbents weighing 20 g, 50 g, and 80 g were charged into 500 ml of the Isopar L solution, respectively, and circulated through the waste liquid treatment unit 16.
  • the adsorbent used is slightly conductive in XYPAR L. Using a cathode 2000 as the adsorbent and preparing a liquid in which only the adsorbent was dispersed in Isopar L at a concentration of 10% by weight, and measuring the conductivity, it was 3 pSZcm.
  • FIG. 76 is a graph showing the relationship between the degree of saturation of the adsorbent particles and the conductivity of the waste liquid.
  • a Isopar L solution in which the adsorbent is dispersed at a concentration of 10% by weight, and 0.75 pSZcm is the standard. It is conductivity, and it can be seen that the adsorption capacity is close to the limit with nearly 90% of sarcophagus adsorbed. The following describes how to use this data to detect the approximate timing of adsorbent replacement. .
  • the adsorbent was measured in the initial conductivity measuring tank when added beforehand, with Isopar L added to a concentration of 10% by weight.
  • the initial adsorbent conductivity was 3pSZcm.
  • the waste liquid recovered from the waste liquid recovery line 411 contains toner fine particles and metal stones.
  • the conductivity of the waste liquid tank 415 and the toner solid content concentration were measured, the conductivity was 80 pSZcm and the solid content concentration was 2% by weight.
  • This waste liquid and the above-mentioned new adsorbent 10% by weight concentration of Isopar L dispersion are circulated 4 times in the first circulation path at a flow rate of 6 liters Z, Then, the electrical conductivity and the toner solid content concentration were measured with a motor installed in the filtrate circulation line 420. At this time, the conductivity was 0.03 pSZcm, which is the conductivity of pure lysopar L, and the solid content concentration was below the detection limit.
  • the waste liquid tank 415 the waste liquid is recovered from the waste liquid recovery line 411, and a new adsorbent is added from the inlet 413.
  • the initial conductivity measuring tank 414 the predetermined concentration in the ISOPAR L is obtained. After measuring the initial conductivity with, the same waste liquid treatment was performed again in addition to the waste liquid tank 415.o
  • FIG. 77 is a schematic diagram showing the configuration of another example of the barrier structure used in the filter of the waste liquid treatment mechanism.
  • FIG. 78 shows a partially enlarged view of the barrier structure shown in FIG. 77.
  • a hollow shaft 430-2 having a plurality of through-holes having a diameter of 0.5 mm on the side surface and having an outer diameter of 10 mm and an inner diameter of 8 mm is provided as a barrier structure gap 430-5.
  • an adsorbent particle layer 430-4 having a thickness of 0.5 to 2 mm can be formed on the sponge surface.
  • Fig. 79 is a schematic diagram showing the configuration of still another example of the barrier structure used in the filter of the liquid processing mechanism.
  • FIG. 80 is a schematic cross-sectional view of the barrier structure shown in FIG.
  • the barrier structure has a box shape as shown in Fig. 79, the side surface 431 has a filter function, and a pair of opposed filters 431-1 are provided between the ends of the filter 431-1 43 A configuration may be adopted in which a constant distance is maintained at 2, and the principal surface force of the filter 431 also allows the liquid flow to flow.
  • the barrier structure 431-1 constituting the filter 431 is a 3 mm thick stainless steel plate with a through hole from the front side to the back side, and the adsorbent particle layer 431 with a thickness of 5 to: LOmm on the front side. -2 is formed.
  • FIG. 81 is a diagram showing a configuration of a stainless steel plate used as the filter 431-1.
  • the stainless steel plate 431-1 is etched from the front side with a salty ferric etchant to form through holes whose opening diameter continuously changes as shown in the figure.
  • FIG. 82 is a schematic diagram showing a cross-sectional state of the barrier structure gap in FIG.
  • the average opening diameter d3 on the front side of the barrier structure gap 431-4 is in the range of 60 ⁇ m to 80 ⁇ m, and the average opening diameter on the back side is in the range of 30 ⁇ m to 40 ⁇ m. It was. With the above-mentioned configuration of the hollow shaft and open-cell sponge and the configuration of the stainless steel plate provided with the through holes 414-2, the maximum frequency of the particle size distribution is within the range between the particle size 5 m and LOO / zm, respectively. As a result of holding the hydrated talcite adsorbent particle layer 431-2 on the surface and reprocessing the waste liquid, it is effective for removing toner solids and ionic compounds in a short time. This makes it possible to recycle waste liquid by making the best use of the adsorption capacity of the adsorbent.
  • FIG. 83 is a schematic diagram showing an outline of an example of a pattern forming apparatus according to still another embodiment of the present invention.
  • the pattern forming apparatus 471 is divided into a pattern forming unit 450 for forming a fine pattern and a waste liquid processing unit 460 for performing a waste liquid regeneration process.
  • the notturn forming unit 450 transfers the fine particle pattern at the position where the intaglio drum 451, the developing unit 452 for forming the fine particle layer on the intaglio drum 451, and the intaglio drum 451 are opposed to the recording medium 454. It has a backup roller 453 and a cleaner 455 for removing developer particles remaining on the surface of the intaglio drum after the transfer process.
  • the development unit 452 includes a charger (not shown) that charges the surface of the intaglio drum 451.
  • the cleaner 455 is a mechanism that sucks and raises ISOPAR L as a carrier liquid from the carrier liquid tank 456, supplies it to the surface of the intaglio drum 451 with a nozzle, and simultaneously collects waste liquid and residual developer with a suction sponge roller (not shown).
  • the collected waste liquid is collected in a waste liquid treatment unit 460 through a waste liquid collection line 461.
  • the carrier liquid tank 456 is mixed with the new lysopar L and the regenerated liquid sent from the waste liquid processing unit 460 through the regenerated liquid supply line 470 and supplied to the cleaner 455 and also to the developer tank 457. Then, it is mixed with the high-concentration image solution supplied from the concentrated developer tank 458 and used in the developing unit 452 as a developer having a predetermined concentration.
  • FIG. 84 is a view for explaining the configuration of the intaglio drum used in the pattern forming apparatus of FIG.
  • the intaglio drum 451 is composed of a drum surface 451-1 having a thickness of about 20 ⁇ m to 50 ⁇ m made of a resin material such as polyimide PET or PEN, or a glass material. Insulating electrode holder 451-2, fine pattern forming electrode 451-3 formed thereon, electrode holder 451-2 common electrode (not shown) provided on the back surface, and fine pattern forming electrode 451 -3! /, Having a high resistance layer 451-5 for forming the concave pattern 451-4.
  • the common electrode is made of a conductive material such as aluminum or stainless steel, and has a thickness of about 100 ⁇ m or about 3000 ⁇ m.
  • High resistance layer 451-5 is made of materials (including insulators) with a volume resistivity of 1010 ⁇ cm or higher, such as polyimide, acrylic, polyester, urethane, epoxy, Teflon (registered trademark), nylon, etc.
  • the film thickness is ⁇ -30 / ⁇ m.
  • each fine pattern forming electrode 451-3 a predetermined voltage is supplied from a power supply device (not shown) through a wiring electrode (not shown), and each electrode group is electrically independent. Different voltages can be supplied to the electrode group.
  • the developing unit 452 includes, for example, a first and third developer supply unit (not shown) and first to third surplus liquid removing units (not shown). Is supplied to the intaglio surface 451-1.
  • the fine particle-containing liquid supply roller that constitutes the developer supply section is placed opposite to the high resistance layer 451-5 on the intaglio drum 451 with a gap of about 100 to 200 m to form an excess liquid removal section.
  • the liquid removal roller is positioned so as to face the high resistance layer 451-5 with a gap of about 30 to 60 m.
  • the developer has a configuration in which toner particles 451-6 containing a functional material such as a pigment material such as a pigment or a dye or a fluorescent material are dispersed in an insulating solvent. Is charged in an insulating solvent.
  • the charger is, for example, a scorotron charger, and is provided through a gap of about 1 to 2 mm from the surface of the intaglio drum 451.
  • a corotron charger without a grid electrode and an ion generator without using a wire can be used.
  • Intaglio drum 451 is charged only on the surface of high resistance layer 451-5 by the charger of development unit 452. After being charged to about +400 V, for example, the developer is supplied to form a toner layer of toner particles 451-6 on the fine pattern forming electrode 451-3 in the desired concave pattern 451-4. Next, in the transfer process, development of the toner particles 451-6 that are arranged on the position facing the transfer medium 454 and formed on the fine pattern forming electrode 451-3 in the desired recess pattern 451-4 of the intaglio drum 451 is performed.
  • the layer is in close contact with the back surface of the intaglio drum 451 and the transfer medium 454 having the conductor layer, or opposed through a gap of about 30 to 400 m, and +100 V to the fine pattern forming electrode 451-3, conductor
  • a bias voltage of 10 kV to the layer, the development layer of toner particles 451-6 formed in the concave pattern 451-4 is transferred to the transfer medium 454, and a pattern of toner particles is formed on the transfer medium 454.
  • the intaglio drum 451 proceeds to a process for removing the toner particles remaining in the recess pattern 451-4.
  • the cleaner 455 supplies carrier liquid as cleaning liquid at a liquid pressure of 0.5 MPa and an air pressure of 0.5 MPa from a two-fluid nozzle (not shown) which is an intaglio drum surface 451-1 .
  • the toner particles 451-6 remaining in the recess pattern 451-4 also peel off the surface force of the intaglio plate due to the protruding pressure of the cleaning liquid, and become free in the cleaning liquid, and are released together with the cleaning liquid by contacting the suction sponge roller.
  • the removed fine particles can be removed by suction.
  • the suction sponge roller used in Cleaner 455 is a 7 mm thick urethane sponge layer (JIS standard) with a hollow pipe with a plurality of through-holes and a continuous bubble with an average bubble diameter of 70 ⁇ m formed on it. -C hardness 30), the hollow nozzle is connected to a suction pump, and the cleaning liquid and toner particles are removed from the intaglio surface 451-1 through the foam bubble and the hollow nozzle, and the waste liquid recovery line 461 is removed. Then, it is sent to the waste liquid treatment unit 460.
  • JIS standard 7 mm thick urethane sponge layer
  • the intaglio drum 451 that has undergone the toner particle removal process is subjected to the drying process, and then the charge is removed in the charge removal process, and the process proceeds to the next pattern forming operation.
  • the solid content of the collected waste liquid includes a toner resin matrix and a dye material having an average particle diameter of 1 ⁇ m or less, a fluorescent material having an average particle diameter of 4 to 6 / ⁇ ⁇ , and a metal.
  • Three main types of sarcophagus are included.
  • the waste liquid treatment unit 460 the waste liquid is first stored in the first treatment tank 462, and the particle size is large and easily settled: a fluorescent material of m or more is precipitated.
  • Lub 466e is opened and the waste liquid is sent to the second treatment tank 463.
  • the fluorescent material deposited on the bottom of the first treatment tank 462 can be taken out and discarded.
  • the waste liquid sent to the second treatment tank 463 contains a toner resin base material or a pigment material having an average particle size of 1 ⁇ m or less, and a metal sarcophagus.
  • the electrical conductivity and the toner solid content concentration were measured in the second treatment tank 463, the electrical conductivity was 160 pSZcm and the solid content concentration was 2% by weight.
  • As an adsorbent particle 80 g of Kyowa Kagaku Kogyo Ward 2000, which has a maximum frequency of particle size distribution within a particle size range of 5 ⁇ to 100 / ⁇ m, was used.
  • the adsorbent was introduced from the inlet 464, and in the initial conductivity measuring tank 465, the conductivity was measured while being dispersed at a concentration of 10% by weight in Isopar L, and a value of 3pSZcm was obtained.
  • This dispersion is placed in the second treatment tank 463, the nozzle 466a is opened, and the filter 467 is assembled by a pump.
  • the filter 467 has a barrier structure having the same configuration as that shown in FIG. 71, and adsorbent particles are deposited and adhered in a gap of 60 m between the coil panels.
  • the surface of the coil panel has a thickness of 3 mm.
  • An adsorbent particle layer is formed.
  • the waste liquid that has passed through the filter 467 opens the valves 466b and c with the valve 466d closed, and passes through the circulation path through the filtrate circulation line 468 and the second filtration circulation line 469. Return to the second treatment tank 463.
  • the filtrate was put into the carrier liquid tank 456 via the regenerated liquid supply line 470 with the nozzle 466c closed and the nozzle 466d opened.
  • the carrier liquid tank 456 the carrier liquid is appropriately supplied to the developer tank 457 and the cleaner 455.
  • FIG. 85 is a diagram schematically showing a wiring board manufacturing apparatus according to the present invention.
  • the wiring board manufacturing apparatus in FIG. 85 is a pattern forming apparatus in which a substrate on which a fine pattern is formed using the apparatus 500 having the configuration shown in FIG. After the substrate is subjected to surface treatment, the substrate is transferred to the electroless plating apparatus 503 via the transfer system 501, and a conductive layer is selectively formed on the fine pattern to manufacture a fine wiring board. .
  • FIG. 86 is a diagram schematically showing the configuration of a liquid developer that can be used in the present invention.
  • the liquid developer has, as the toner solid content 504, an average obtained by adhering metal fine particles 504-2 having a particle diameter in the range of 5 nm to lOO nm, which is a metal nucleus, instead of the colorant
  • the fine resin particles 504-1 with a particle size of 0.05 ⁇ m to l ⁇ m were used.
  • a metal sarcophagus (not shown) is attached to the surface of the fine resin particles 5041.
  • a fine pattern 505 having a line width of 20 m and a line spacing of 20 m was formed on the polyimide substrate 506-1 in the pattern forming apparatus 500.
  • the substrate 506-1 was transported from the transport system 501 to the surface treatment device 502, and was inserted into the vacuum chamber decompressed to 10-4 Pa by the surface treatment device 502. Then, in the vacuum chamber, a mixed gas of oxygen gas and fluorine gas is introduced to generate plasma, and the surface treatment with plasma is performed for 10 seconds at a power of 100W. Was given.
  • Fig. 87 is a diagram schematically showing a cross-sectional shape near the pattern surface after passing the pattern layer through the surface treatment apparatus.
  • the surface of the line pattern 505 becomes a resin layer 504-5 in which a part of the resin is selectively removed by etching, and the metal fine particles 5 which are the plating nuclei 5
  • FIG. 88 is a diagram schematically showing a cross-sectional configuration of a circuit board using a pattern formed according to the present invention.
  • the filter used in the waste liquid treatment mechanism of the pattern forming apparatus 500 having the same configuration as the pattern forming apparatus in FIG. 69 has the same configuration as that shown in FIGS. 79, 80, 81, and 82. I used what I had. In this embodiment, it is particularly important to remove and adsorb the metal fine particles that have also released the toner solid component force.
  • the barrier structure 431-1 is a stainless steel plate with a thickness of 2 mm. By etching, the front side average opening diameter d3 is 60 m, and the back side average opening diameter is 30 m. It is provided. On the surface of this barrier structure, a hydrated talcite-based adsorbent particle layer 431-2 with the maximum frequency of particle size distribution in the range of 5 ⁇ m to 100 ⁇ m in size is deposited, and 6 mm on the front side. An adsorbent particle layer 431-2 having a thickness of 5 mm was formed. As a result of waste liquid regeneration using this filter 431, both are effective in removing toner solids and ionic compounds, and in a short time, waste liquid regeneration using the maximum adsorption capacity of the adsorbent. Became possible.
  • Fig. 89 is a graph showing a guide for replacement of the adsorbent.
  • the initial conductivity was 3 pSZcm, and the conductivity of the nearly saturated adsorbent was reduced to 1.
  • OpSZcm Therefore, the adsorbent was managed with an exchange conductivity of 1.5 pSZcm, which is 80% adsorbed.
  • the cleaning device of the present invention has the above-described configuration and action, it can satisfactorily clean the charged particles held on the image carrier.
  • the pattern forming apparatus of the present invention can regenerate the carrier liquid by removing the ionic compound and the toner solids from the liquid developer waste liquid in parallel, and has a processing capacity per unit time. And a waste liquid treatment unit with good adsorption efficiency per unit amount of adsorbent used.

Abstract

 パターン形成装置は、被転写媒体に沿って転動するドラム状の凹版1を有する。帯電器によって凹版1を帯電させた後、現像装置を介して各色の液体現像剤を凹版1に供給してトナー粒子によるパターンを形成し、凹版1を被転写媒体に沿って転動させて両者間に電界を形成して帯電したトナー粒子を被転写媒体へ転写する。各色パターンを被転写媒体へ転写した後、凹版1をクリーニングするクリーニング装置8は、凹部にクリーニング液を吹き付ける角度の付いたノズル102、103、および凹部から遊離したトナー粒子をクリーニング液とともに除去する除去ローラ104、105を有する。

Description

クリーニング装置、クリーニング方法、パターン形成装置、およびパターン 形成方法
技術分野
[0001] この発明は、例えば、平面型画像表示装置、配線基板、 ICタグなどの製造に用い るパターン形成装置、パターン形成方法、このパターン形成装置に組み込まれた凹 版のクリーニング装置、およびクリーニング方法に関する。
背景技術
[0002] 従来、基材の表面に微細なパターンを形成する技術として、フォトリソグラフィー技 術が中心的な役割を果たしてきている。しかし、このフォトリソグラフィー技術は、その 解像度やパフォーマンスをますます高めつつある反面、巨大で高額な製造設備を必 要とし、製造コストも解像度に応じて高くなりつつある。
[0003] 一方、半導体デバイスはもとより、画像表示装置などの製造分野においては、性能 の改良とともに低価格ィ匕の要求が高まりつつあり、上記のフォトリソグラフィー技術で はこのような要求を十分に満足できなくなってきている。このような状況下で、デジタ ル印刷技術を用いたパターン形成技術が注目されつつある。
[0004] これに対し、例えば、インクジェット技術は、装置の簡便さや非接触パターユングと いった特徴を生力したパターユング技術として実用化され始めているが、高解像度化 や高生産性には限界があると言わざるを得ない。つまり、この点において、電子写真 技術、とりわけ液体トナーを用いた電子写真技術は、優れた可能性を有している。
[0005] このような電子写真技術を用いて、フラットパネルディスプレイ用の前面基板の蛍光 体層やブラックマトリックス、カラーフィルターなどを形成する方法が提案されている( 例えば、特開 2004— 30980号公報、特開平 6— 265712号公報参照)。
[0006] フラットパネルディスプレイの分野においては、高解像度化の要求は益々高まりつ つあり、より高い位置精度で高解像度のパターンを形成することが要請されている。し かし、上述した電子写真方式では、この課題に答えることは困難である。何故ならば 、書き込み光学系の解像度は高々 1200 [dpi]程度であり、解像度や位置合せにお いて不十分であるからである。また、近年の大画面化に対応できる広幅の書き込み 光学系を実現できて ヽな 、と 、う課題もある。
[0007] これに対し、感光体の代わりに表面に予め電気抵抗の異なるパターンを形成した 静電印刷プレートを用いて、このプレートに液体トナーを作用させてパターンを現像 し、このパターン像をガラス板に転写することで、ディスプレイ用フロントガラスに蛍光 体などのパターンを形成する方法が提案されている(例えば、特表 2002— 527783 号公報参照)。
[0008] この方法を採用してガラス板に解像度の高 、高精細なパターン像を形成するため には、静電印刷プレートに予め形成する電気抵抗の異なるパターンを高精細にする 必要があるとともに、ノターン転写後の静電印刷プレートに不所望に残留するトナー を確実にクリーニングする必要がある。
[0009] また、湿式電子写真技術は、乾式電子写真には達成できな 、高解像度ゃ高 、位 置合せ精度で、微細なパターンの形成に適している(例えば、特開 2001— 13795 号公報参照)。
[0010] 湿式電子写真技術では、パターン形成工程にぉ ヽて、像担持体に形成されたバタ ーン像、或 、は最終的に形成されるパターン像力 キャリア液を取り除く乾燥工程が 必要とされる場合があり、また、パターン形成後、像担持体に付着したトナー粒子のク リー-ング工程においても、キャリア液をクリーニング液として用いることが多い。この ため、トナー粒子を含んだ多量のキャリア液が廃液として排出される。このため、従来 の湿式電子写真技術を用いたパターン形成装置では、例えば像担持体上に少量残 存する未転写液体現像剤を回収し、トナー固形分を除去して、キャリア液を分離抽出 して再生するユニットを設け、再生されたキャリア液を現像手段の現像剤に添加して いる。キャリア液分離ユニットの濾過フィルタ一として、例えば回収現像剤の拡散を抑 制する液拡散抑制部材としての連続発泡体、連続発泡体を通過中の回収現像液に 電界を作用させるために互 、に異なる電位が印加される一対の平面電極を設けて ヽ た。これにより、正極性に帯電したトナー固形分のみを、マイナス電圧を印加した一 方の電極に電着保持し、キャリア液のみをキャリア液回収タンクに分離抽出していた [0011] し力しながら、従来の湿式電子写真技術を用いたパターン形成装置では、トナー固 形分は除去できるものの、イオン性ィ匕合物として現像液に添加されて 、る 、わゆる金 属石鹼分は電極に電着されな 、ため、除去が出来な 、と 、う問題点があった。
[0012] そこで、このイオン性ィ匕合物の除去を行う方法として、吸着剤を用いた方法がある( 例えば、特開 2004— 117772号公報参照)。この方法では、イオンをィ匕学的に吸着 するイオン吸着剤を収納したイオン性化合物除去装置を用いて、回収液に含まれて いるイオン性ィ匕合物を吸着剤に吸着除去することで、金属石鹼を除去し、キャリア液 の再生を行っていた。また、この方法では、トナー固形分の除去は、別途フィルター を付加することにより、トナー固形分の除去を行っていた。
[0013] し力しながら、上記の方法では、吸着剤の保持機構がな 、ため、イオン吸着剤の吸 着効率を上げるためには、 lOOgの吸着剤に対して、キャリア流速 lOmlZ分という非 常に低 ヽ流速で回収液を通過させ、イオン性吸着剤と回収キャリア液との接触時間 を長くすることが必要であった。このため、単位時間当たりの処理能力が大きく出来 ず、処理効率が著しく低いという欠点があった。また、吸着剤は液中で沈殿しやすい ため、液と接触している最表層の吸着剤のみが吸着能力を発揮し、他層の吸着剤は 十分能力を発揮できず、投入した吸着剤の単位量当たりの吸着効率が低いという問 題点があった。さらに、イオン性ィ匕合物除去装置内では、底部に沈殿したイオン性吸 着剤の攪拌が必要となると 、う煩雑さもあった。
[0014] また、この方法では、トナー固形分の除去とイオン性ィ匕合物の除去を同時に行うこと は出来なかった。また、投入した吸着剤の吸着能力が飽和した力どうかの判断は、ィ オン性化合物除去装置を通過した再生キャリア液中のイオン性化合物の含有量を長 時間モニターし、変化しなくなった状態力も判断するし力なぐ吸着剤の入れ替えの 判断が容易にっかな 、と 、う欠点があった。
発明の開示
[0015] この発明の目的は、像保持体に保持された帯電粒子を良好にクリーニングできるク リー-ング装置、およびクリーニング方法を提供することにある。
[0016] また、この発明の目的は、液体現像剤廃液からイオン性化合物及びトナー固形分 を並行して除去してキャリア液を再生することが可能で、単位時間当たりの処理能力 、及び使用される吸着剤の単位量当たりの吸着効率が良好な廃液処理ユニットを備 えたパターン形成装置、およびパターン形成方法を得ることにある。
[0017] 上記目的を達成するため、この発明のクリーニング装置は、パターン状の凹部に現 像剤粒子を凝集せしめて被転写媒体へ転写した後の凹版をクリーニングする装置で あって、上記凹部にクリーニング液を供給する供給装置と、上記凹部に残留した現像 剤粒子を上記供給装置によって供給したクリーニング液とともに除去する除去装置と 、を有する。
[0018] また、この発明のクリーニング装置は、パターン状の凹部を有する凹版に、絶縁性 液体中に帯電した現像剤粒子を分散させた液体現像剤を供給し、上記凹部の近く に電界を作用させて上記液体現像剤中の現像剤粒子を該凹部内に凝集させ、この 凹部に集めた現像剤粒子に電界を作用させて被転写媒体へ転写するパターン形成 装置に^ aみ込まれた、上記転写後の凹部をクリーニングするクリーニング装置であつ て、上記凹部にクリーニング液を供給する供給装置と、上記凹部に残留した現像剤 粒子を上記供給装置によって供給したクリーニング液とともに除去する除去装置と、 を有する。
[0019] さらに、この発明のクリーニング方法は、パターン状の凹部に現像剤粒子を凝集せ しめて被転写媒体へ転写した後の凹版をクリーニングする方法であって、上記凹部 にクリーニング液を供給する供給工程と、上記凹部に残留した現像剤粒子を上記供 給工程によって供給したクリーニング液とともに除去する除去工程と、を有する。
[0020] 上記発明によると、現像剤粒子を被転写媒体へ転写した後、凹版の凹部に残留し た現像剤粒子をクリーニングする際に、まず、クリーニング液を凹部へ供給して凹部 に付着した現像剤粒子をクリーニング液中に遊離させ、その後、遊離した現像剤粒 子をクリーニング液とともに除去するようにしたため、凹部に付着した現像剤粒子を確 実に除去でき、解像度の高!、高精細なパターンを被転写媒体へ転写可能な凹版を 提供できる。
[0021] また、この発明のクリーニング装置は、帯電粒子によるパターン像を保持して被転 写媒体に転写する像保持体をクリーニングする装置であって、上記像保持体に近接 対向して配置され、上記像保持体との間で電界を形成して上記像保持体に保持され て ヽる帯電粒子を吸着させる電極と、この電極と上記像保持体との間をクリーニング 液で満たすとともに、上記電界を消失させた後、上記電極に吸着されていた帯電粒 子を流すようにクリーニング液を流通させる液流装置と、を有する。
[0022] また、この発明のパターン形成装置は、平板状の被転写媒体を保持した保持機構 と、ドラム状の像保持体と、この像保持体を上記保持機構によって保持された平板状 の被転写媒体に沿って転動させる転動機構と、上記像保持体の周面上に帯電粒子 によるパターン像を形成する像形成装置と、上記転動する像保持体と上記被転写媒 体との間に電界を形成して上記周面上のパターン像を上記被転写媒体へ転写する 転写装置と、上記像保持体の周面をクリーニングするクリーニング装置と、を有し、上 記クリーニング装置は、上記像保持体の周面に近接対向して配置され、上記像保持 体との間で電界を形成して上記周面に保持されている帯電粒子を吸着させる電極と 、この電極と上記像保持体の上記周面との間をクリーニング液で満たすとともに、上 記電界を消失させた後、上記電極に吸着されていた帯電粒子を流すようにタリーニン グ液を流通させる液流装置と、を有する。
[0023] さらに、この発明のクリーニング方法は、帯電粒子によるパターン像を保持して被転 写媒体に転写する像保持体をクリーニングする方法であって、上記像保持体に近接 対向して電極を配置する工程と、上記電極と上記像保持体との間をクリーニング液で 満たす工程と、上記電極と上記像保持体との間で電界を形成して上記像保持体に 保持されて ヽる帯電粒子を上記電極へ吸着させる工程と、上記電界を消失させた後 、上記電極と上記像保持体との間を満たしたクリーニング液を流通させて上記電極に 吸着されていた帯電粒子を流す工程と、を有する。
[0024] 上記発明によると、像保持体によって保持された帯電粒子をクリーニングする際、 像保持体に近接対向させた電極と像保持体との間をクリーニング液で満たし、電極と 像保持体との間に電界を形成して像保持体に保持されている帯電粒子を電極に吸 着させ、電界を消失させた後、クリーニング液を流して電極に吸着していた帯電粒子 を流すようにした。これにより、例えば、現像不良によって像保持体に多量に残った 帯電粒子を良好にクリーニングできる。
[0025] また、この発明のクリーニング装置は、像保持体の表面をクリーニング液で満たすと ともにこのクリーニング液を流す液流装置と、上記像保持体の表面をクリーニング液 によって満たした状態で、上記像保持体に残留した現像剤粒子に超音波を作用させ て、上記クリーニング液を上記残留した現像剤粒子間に浸透させる超音波装置と、を 有する。
[0026] 上記発明によると、像保持体の表面をクリーニング液で満たした状態で該表面に残 留した現像剤粒子に超音波を作用させてクリーニング液を現像剤粒子間に浸透させ るようにしたため、クリーニング液を流すときには現像剤粒子をふや力した状態とする ことができ、像保持体に残留した現像剤粒子を効果的に除去することができる。これ により、例えば、現像不良によって像保持体に多量に残った現像剤粒子を良好にタリ 一-ングできる。特に、この発明は、像保持体の表面に現像剤粒子を収容するバタ ーン状の凹部を有する凹版を使用する際に有効である。
[0027] また、この発明のクリーニング装置は、帯電粒子によるパターン像を保持して被転 写媒体に転写する像保持体をクリーニングする装置であって、上記像保持体の表面 をクリーニング液で満たすとともにこのクリーニング液を流す液流装置と、上記像保持 体の表面をクリーニング液によって満たした状態で、上記像保持体に残留した帯電 粒子に超音波を作用させて、上記クリーニング液を上記残留した帯電粒子間に浸透 させる超音波装置と、上記像保持体の表面に近接対向して配置され、上記像保持体 との間で電界を形成して上記像保持体に保持されている帯電粒子を吸着させる導電 部材と、を有する。
[0028] 上記発明によると、像保持体の表面をクリーニング液で満たした状態で残留した帯 電粒子に超音波を作用させ、このようにふやかした状態の帯電粒子に電界を作用さ せて導電部材に吸着せしめるようにしたため、電界を消失させた後、クリーニング液 を流すことにより、像保持体に残留した帯電粒子を容易に除去することができ、像保 持体を良好にクリーニングできる。
[0029] また、この発明のクリーニング方法は、現像剤粒子によるパターン像を保持して被 転写媒体に転写する像保持体をクリーニングする方法であって、上記像保持体の表 面をクリーニング液で満たす工程と、上記像保持体に残留した現像剤粒子に超音波 を作用させて、上記クリーニング液を上記残留した現像剤粒子間に浸透させる超音 波発生工程と、上記像保持体の表面を満たしたクリーニング液を流す液流工程と、を 有する。
[0030] さらに、この発明のクリーニング方法は、帯電粒子によるパターン像を保持して被転 写媒体に転写する像保持体をクリーニングする方法であって、上記像保持体の表面 をクリーニング液で満たす工程と、上記像保持体に残留した帯電粒子に超音波を作 用させて、上記クリーニング液を上記残留した帯電粒子間に浸透させる超音波発生 工程と、上記像保持体の表面に近接対向せしめた導電部材と上記像保持体との間 で電界を形成して、上記像保持体に保持されて!ヽる帯電粒子を上記導電部材に吸 着させる工程と、上記電界を消失させた後、上記像保持体の表面を満たしたタリー- ング液を流して上記導電部材に吸着されて 、た帯電粒子を流す液流工程と、を有す る。
[0031] また、本発明のパターン形成装置は、像担持体と、該像担持体に対向して設けられ 、該像担持体上に形成された静電潜像を、イオン性化合物を含有するトナーとキヤリ ァ液とを含む液体現像剤により現像し、トナー像を形成する現像部、該トナー像を転 写媒体に転写する転写部を有するパターン形成ユニットと、該パターン形成ユニット に接続され、トナー固形分、イオン性化合物、及び該キャリア液を含有する廃液を回 収する廃液回収ラインと、該回収ラインに接続され、 30〜: LOO /z m径の開孔を持つ 導電性の障壁構造体を有し、該廃液中の該トナー固形分及び該イオン性化合物の 除去を行う濾過器、該濾過器の上流に設けられ、吸着剤粒子を投入するための投入 口を含む廃液処理ユニットと、及び該廃液処理ユニットから排出された処理済みの廃 液をパターン形成ユニットに戻す再生液供給ラインとを具備し、該濾過器は、粒径 5 IX m〜 100 mの間の範囲内に粒度分布の最大頻度を持つ吸着剤粒子を添加した 廃液を通過させて、前記障壁構造体上に 0. 5mn!〜 10mmの厚さの吸着剤粒子層 を形成せしめて廃液処理に供することを特徴とする。
図面の簡単な説明
[0032] [図 1]図 1は、この発明の実施の形態に係るパターン形成装置の概略構成を示す斜 視図である。
[図 2]図 2は、図 1のパターン形成装置で使用する原版を示す平面図 (a)、および断 面図(b)である。
[図 3]図 3は、図 2の原版を部分的に拡大して示す部分拡大平面図である。
[図 4]図 4は、図 2の原版の 1つの凹部の構造を説明するための部分拡大斜視図であ る。
[図 5]図 5は、図 2の原版をドラム素管に巻き付けた状態を示す概略図である。
[図 6]図 6は、図 2の原版の高抵抗層の表面を帯電させるための構成を示す概略図で ある。
[図 7]図 7は、図 2の原版に液体現像剤を供給してトナー粒子によるパターンを形成 するための構成を示す概略図である。
[図 8]図 8は、図 2の原版に形成したパターンをガラス板に転写するための構成を示 す概略図である。
[図 9]図 9は、図 2の原版をガラス板に沿って転動させるための転動機構の要部の構 成を示す概略図である。
[図 10]図 10は、凹版の凹部に集めたトナー粒子をガラス板に転写する動作を説明す るための動作説明図である。
[図 11]図 11は、凹版をクリーニングするこの発明の第 1の実施の形態に係るクリーナ を示す模式図である。
[図 12]図 12は、図 11のクリーナによるクリーニング液の吹き付け角度を説明するため の図である。
[図 13]図 13は、凹版の凹部にクリーニング液を吹き付けた状態を示す概略図である
[図 14]図 14は、クリーニング液の吹き付けによってトナー粒子が遊離した状態を示す 概略図である。
[図 15]図 15は、クリーニング液吹き付け後に除去ローラを凹部に摺接させる状態を示 す概略図である。
[図 16]図 16は、凹部開口に除去ローラを接触させてトナー粒子をクリーニング液とと もに吸引する状態を示す概略図である。
[図 17]図 17は、この発明の第 2の実施の形態に係るクリーナを示す模式図である。 [図 18]図 18は、この発明の第 3の実施の形態に係るクリーナを示す模式図である。
[図 19]図 19は、この発明の第 4の実施の形態に係るクリーナを示す模式図である。
[図 20]図 20は、この発明の第 5の実施の形態に係るクリーナを示す模式図である。
[図 21]図 21は、この発明の第 6の実施の形態に係るクリーナを示す模式図である。
[図 22]図 22は、この発明の第 7の実施の形態に係るクリーナの要部の構造を示す模 式図である。
[図 23]図 23は、この発明の第 8の実施の形態に係るクリーナの要部の構造を示す模 式図である。
[図 24]図 24は、この発明の第 9の実施の形態に係るクリーナの要部の構造を示す模 式図である。
[図 25]図 25は、この発明の第 10の実施の形態に係るクリーナを示す模式図である。
[図 26]図 26は、凹部に残った現像剤粒子の量を判定する方法を説明するための図 である。
[図 27]図 27は、この発明の第 1の実施の形態に係るクリーニング装置を示す概略図 である。
[図 28]図 28は、図 27のクリーニング装置で原版と電極との間をクリーニング液で満た した状態を示す動作説明図である。
[図 29]図 29は、図 28に示す状態から原版と電極との間に電界を形成して現像剤粒 子を電極に吸着させた状態を示す動作説明図である。
[図 30]図 30は、図 29に示す状態力もクリーニング液を流通させて現像剤粒子を流す 状態を示す動作説明図である。
[図 31]図 31は、この発明の第 2の実施の形態に係るクリーニング装置を示す概略図 である。
[図 32]図 32は、この発明の第 3の実施の形態に係るクリーニング装置を示す概略図 である。
[図 33]図 33は、この発明の第 4の実施の形態に係るクリーニング装置を示す概略図 である。
[図 34]図 34は、この発明の第 5の実施の形態に係るクリーニング装置を示す概略図 である。
[図 35]図 35は、この発明の第 6の実施の形態に係るクリーニング装置を示す概略図 である。
[図 36]図 36は、図 35の装置の構成部材に印加する電圧について説明するための図 である。
[図 37]図 37は、この発明の第 11の実施の形態に係るクリーナを示す概略図である。
[図 38]図 38は、この発明の第 7の実施の形態に係るクリーニング装置の動作を制御 する制御系のブロック図である。
[図 39]図 39は、凹部に残った現像剤粒子の量を判定する方法を説明するための図 である。
[図 40]図 40は、この発明の第 7の実施の形態に係るクリーニング装置を示す概略図 である。
[図 41]図 41は、図 40のクリーニング装置による動作を説明するためのフローチャート である。
[図 42]図 42は、図 40のクリーニング装置で原版と電極との間をクリーニング液で満た した状態を示す動作説明図である。
[図 43]図 43は、図 42に示す状態から原版と電極との間に超音波を付与して現像剤 粒子をほぐした状態を示す動作説明図である。
[図 44]図 44は、図 43に示す状態カゝらクリーニング液を流通させて現像剤粒子を流す 状態を示す動作説明図である。
[図 45]図 45は、 A、 B粒子を洗浄したときの洗浄効果について周波数と洗浄指数の 関係を示すグラフである。
[図 46]図 46は、洗浄指数の計算方法を説明するための図である。
[図 47]図 47は、原版の洗浄時に付与する超音波の周波数と原版へのダメージの関 係を示す表である。
[図 48]図 48は、図 1のパターン形成装置力ゝらクリーナを取り除いた実施例を示す概 略図である。
[図 49]図 49は、この発明の第 8の実施の形態に係るクリーニング装置を示す概略図 である。
[図 50]図 50は、図 49のクリーニング装置の動作を制御する制御系を示すブロック図 である。
[図 51]図 51は、図 49のクリーニング装置の動作を説明するためのフローチャートであ る。
[図 52]図 52は、図 49のクリーニング装置で原版と電極との間をクリーニング液で満た した状態を示す動作説明図である。
[図 53]図 53は、図 52に示す状態から原版と電極との間に超音波を付与して現像剤 粒子をほぐした状態を示す動作説明図である。
[図 54]図 54は、図 53に示す状態から原版と電極との間で電界を形成して現像剤粒 子を電極に引き寄せた状態を示す動作説明図である。
[図 55]図 55は、図 54の状態から電極に現像剤粒子を吸着せしめた状態を示す動作 説明図である。
[図 56]図 56は、図 55に示す状態力 電界を消失させてクリーニング液を流通させて 現像剤粒子を流す状態を示す動作説明図である。
[図 57]図 57は、図 49のクリーニング装置の第 1の変形例を示す概略図である。
[図 58]図 58は、図 57のクリーニング装置で原版の表面をクリーニング液で濡らした状 態を示す図である。
[図 59]図 59は、図 58の状態力も電極と原版との間に電界および超音波を発生させ た状態を示す図である。
[図 60]図 60は、図 59の状態力 電界を消失させた後、クリーニング液を流通させて 現像剤粒子を流す状態を示す動作説明図である。
[図 61]図 61は、図 49のクリーニング装置の第 2の変形例を示す概略図である。
[図 62]図 62は、図 49のクリーニング装置の第 3の変形例を示す概略図である。
[図 63]図 63は、図 62のクリーニング装置の各構成要素に付与する電圧について説 明するための図である。
[図 64]図 64は、この発明の第 9の実施の形態に係るクリーニング装置を示す概略図 である。 [図 65]図 65は、図 64のクリーニング装置で原版と電極との間をクリーニング液で満た した状態を示す図である。
[図 66]図 66は、図 65の状態で超音波をかける前の液未浸透部を有する状態を示す 図である。
[図 67]図 67は、図 66の状態力も超音波を付与した際のクリーニング液の浸透具合を 説明するための図である。
[図 68]図 68は、図 64のクリーニング装置に組み込まれた吹き付けユニットによるタリ 一ユング液の吹き付け動作を説明するための図である。
[図 69]図 69は、この発明の他の実施態様に係るパターン形成装置の一例の概要を 表す模式図である。
[図 70]図 70は、この発明に係るパターン形成装置に適用される廃液処理機構の一 例の構成を説明するための模式図である。
[図 71]図 71は、廃液処理機構に使用される濾過器の一例の構成を表す模式図であ る。
[図 72]図 72は、図 71の障壁構造体の一部を拡大した図である。
[図 73]図 73は、図 72の吸着剤粒子層における動作の一例を説明するための図であ る。
圆 74]図 74は、吸着剤投入量と除去された金属石鹼量との関係を表すグラフ図であ る。
[図 75]図 75は、廃液処理ユニット内の循環回数と金属石鹼除去量とを表すグラフ図 である。
[図 76]図 76は、吸着剤粒子の飽和度と廃液の導電率との関係を表すグラフ図である
[図 77]図 77は、廃液処理機構の濾過器に使用される障壁構造体の他の一例の構成 を表す模式図である。
[図 78]図 78は、図 77の障壁構造体を部分的に拡大した図である。
[図 79]図 79は、液処理機構の濾過器に使用される障壁構造体のさらに他の一例の 構成を表す模式図である。 [図 80]図 80は、図 79の障壁構造体を拡大した図である。
[図 81]図 81は、図 79の障壁構造体として使用されるステンレス板の構成を示す図で ある。
[図 82]図 82は、図 81の障壁構造体間隙の断面の状態を表す模式図である。
[図 83]図 83は、本発明のさらに他の実施態様に係るパターン形成装置の一例の概 要を表す模式図である。
[図 84]図 84は、図 83のパターン形成装置に用いられる凹版ドラムの構成を説明する ための図である。
[図 85]図 85は、回路基板の製造に用いられる配線基板製造装置の構成を説明する ための図である。
[図 86]図 86は、本発明に使用可能な液体現像剤の構成を模式的に示した図である
[図 87]図 87は、本発明に使用可能な液体現像剤の構成を模式的に示した図である
[図 88]図 88は、本発明により形成されたパターンを用いた回路基板の断面構成を模 式的に示す図である。
[図 89]図 89は、吸着剤の交換目安を示すグラフである。
発明を実施するための最良の形態
以下、図面を参照しながら、この発明の実施の形態について詳細に説明する。 図 1に示すように、この発明の実施の形態に係るパターン形成装置 10は、図中時 計回り方向(矢印 R方向)に回転するドラム素管 (後述する)の周面に巻かれた原版 1 (凹版、像保持体)、この原版 1の後述する高抵抗層に電荷を与えて帯電させる帯電 器 2、原版 1に各色 (r:赤、 g :緑、 b :青)の液体現像剤を供給して現像する複数の現 像装置 3r、 3g、 3b (以下、総称して現像装置 3と称する場合もある)、現像によって原 版 1に付着した液体現像剤の溶媒成分をエアブローによって気化して乾燥させる乾 燥器 4、原版 1に付着した現像剤粒子を転写してパターンを形成する被転写媒体とな るガラス板 5を定位置で保持するステージ 6 (保持機構)、転写に先立ってガラス板 5 の表面に高抵抗もしくは絶縁性の溶媒を塗布する塗布装置 7、転写を終えた原版 1 をクリーニングするクリーナ 8、通常より多量の現像剤粒子 (帯電粒子)が原版 1に付 着しているときにこれら比較的多量の現像剤粒子をクリーニングするクリーニング装 置 100、および原版 1の電荷を除去する除電器 9を有する。なお、ドラム素管の回転 方向 Rに沿って除電器 9の上流側には、原版 1に残留した現像剤粒子の量を検出す る検出器 11 (検出装置)が対向配置されている。また、上記帯電器 2、現像装置 3、 および乾燥器 4は、本発明の像形成装置として機能する。
[0034] 各色の現像装置 3r、 3g、 3bに収納される液体現像剤は、炭化水素系やシリコーン 系などの絶縁性溶媒中に帯電した微粒子 (帯電粒子)を分散したもので、この微粒子 が電界で電気泳動することによって現像が行われる。微粒子としては、例えば平均粒 径 4 [ m]程度の各色の蛍光体粒子をこれよりも平均粒径力 S小さい榭脂粒子が取り 囲み、榭脂粒子力 Sイオン性帯電サイトを有していて電界中でイオン解離することで電 荷を帯びる構成や、榭脂粒子の内部に各色の顔料微粒子を内包する構成、もしくは 榭脂粒子の表面に各色の顔料微粒子を担持する構成などが実施可能である。
[0035] 図 2 (a)に平面図を示すように、原版 1は、矩形の薄板状に形成されている。この原 版 1は、図 2 (b)に断面図を示すように、厚さ 0. 05 [mm]ないし 0. 4 [mm] ,より好ま しくは厚さ 0. l [mm]ないし 0. 2 [mm]の矩形の金属フィルム 12 (導電部材)の表面 に高抵抗層 13を形成して構成されて 、る。
[0036] 金属フィルム 12は可撓性を有し、アルミニウム、ステンレス、チタン、アンバーなどの 素材で構成可能であるほかに、ポリイミドゃ PETなどの表面に金属を蒸着したものな どでも良いが、転写パターンを高い位置精度で形成するためには、熱膨張や応力に よる伸びなどが生じにくい素材で構成することが望ましい。
[0037] また、高抵抗層 13は、例えば、ポリイミド、アクリル、ポリエステル、ウレタン、ェポキ シ、テフロン (登録商標)、ナイロン、公知のレジスト材料などの体積抵抗率が 101(>[ Ω cm]以上の材料 (絶縁体を含む)により形成され、その膜厚は、 10 [ m]〜40 [ m ]、より好ましくは 20 [ m] ± 5 [ m]に形成されて!ヽる。
[0038] また、原版 1の高抵抗層 13の表面 13aには、図 3に部分的に拡大して示すような矩 形の凹部 14aを多数整列配置したパターン 14が形成されて 、る。本実施の形態で は、例えば平面型画像表示装置の前面基板に形成する蛍光体スクリーンを製造する 凹版として、 1色分の画素に相当する凹部 14aだけを高抵抗層 13の表面 13aから凹 ませて形成し、図 3中に破線で示す他の 2色分の領域 14bには凹部を形成しな!、で スペースだけを確保してある。つまり、この原版 1を用いてカラーパターンを形成する 際に、原版 1を被転写媒体に対して 1色分ずつずらすための領域を確保してある。
[0039] 図 4には、 1つの凹部 14aを拡大した原版 1の断面図を示してある。本実施の形態 では、凹部 14aの底には金属フィルム 12の表面 12aが露出しており、凹部 14aの深さ は、高抵抗層 13の層厚に概ね相当する。凹部 14aの底に露出した金属フィルム 12 の表面 12a、および高抵抗層 13の表面 13aを含む原版 1の表面全体に、厚さ 0. 5 [ μ m]ないし 3 [ m]程度の表面離型層をコーティングすれば、転写特性が向上しよ り好ましい特性が得られる。あるいは、表面離型層をコーティングした金属フィルム 12 に高抵抗層 13を形成し、凹部 14aの底にのみ離型層が露出している構成でも、転写 特性を向上させることが可能である(図示せず)。
[0040] 図 5には、上記構造のフィルム状の原版 1をドラム素管 31に卷きつける様子を描い た概略断面図を示してある。ドラム素管 31の図中上部の切り込み部 31aには、原版 1 の一端を固定するクランプ 32と他端を固定するクランプ 33が設けられて 、る。原版 1 をドラム素管 31の周面上に巻き付ける場合、まず、原版 1の一端をクランプ 32に固定 し、その後、原版 1を架張しつつその他端 34をクランプ 33で固定する。これにより、た るみ無く原版 1をドラム素管 31周面の規定位置に巻き付けることができる。
[0041] 図 6は、このようにしてドラム素管 31に卷きつけられた原版 1の高抵抗層 13の表面 1 3aを帯電器 2によって帯電する工程を説明するための部分構成図である。帯電器 2 は、周知のコロナ帯電器であり、コロナワイヤー 42とシールドケース 43で基本的に構 成されている力 メッシュ状のグリッド 44を設けることで帯電の均一性を向上できる。 例えば、原版 1の金属フィルム 12とシールドケース 43を接地し、コロナワイヤー 42に 不図示の電源装置によって + 5. 5 [kV]の電圧を印加し、更にグリッド 44に + 500 [ V]の電圧を印加して原版 1を図中矢印 R方向に移動させると、高抵抗層 13の表面 1 3aは略 + 500 [V]に均一に帯電される。
[0042] 同図に示した除電器 9は、帯電器 2とほぼ同様の構造である力 コロナワイヤー 46 に例えば実効電圧 6 [kV]、周波数 50 [Hz]の交流電圧を印加すべく不図示の交流 電源に接続し、シールドケース 47とグリッド 48を設置すると、帯電器 2による帯電に先 立って原版 1の高抵抗層 13の表面 13aを略 0 [V]となるよう除電することが可能で、 高抵抗層 13の繰り返し帯電特性を安定化させることができる。
[0043] 図 7には、上記のように帯電された原版 1に対する現像動作を説明するための図を 示してある。現像時には、現像する色の現像器 3を原板 1に対向させて、その現像口 ーラ 51 (供給部材)とスクイズローラ 52を原版 1に近接させ、原版 1に上述した液体現 像剤を供給する。現像ローラ 51は、搬送される原版 1の高抵抗層 13の表面 13aに対 して 100〜150 [ m]程度のギャップを介してその周面が対向する位置に配置され 、原版 1の回転方向と同じ方向(図中反時計回り方向)に 1. 5倍ないし 4倍程度の速 度で回転する。
[0044] 不図示の供給系によって現像ローラ 51周面に供給される液体現像剤 53は、絶縁 性液体としての溶媒 54に現像剤粒子としての帯電したトナー粒子 55を分散させて構 成されており、現像ローラ 51の回転に伴って原版 1の周面に供給される。ここで、現 像ローラ 51に図示しな 、電源装置によって例えば + 250 [V]の電圧を印加すると、 正に帯電しているトナー粒子 55は、接地電位の金属フィルム 12に向かって溶媒 54 中を泳動し、原版 1の凹部 14a内に集められる。このとき、高抵抗層 13の表面 13aは 、 + 500 [V]程度に帯電されているので正帯電したトナー粒子 55は表面 13aから反 発されて付着しない。
[0045] このようにして原版 1の凹部 14a内にトナー粒子 55が集められた後、トナー粒子 55 の濃度が薄くなつた液体現像剤 53が引き続いてスクイズローラ 52と原版 1が対向す るギャップに進入する。ここでは、ギャップ(絶縁層 13表面 13aとスクイズローラ 52表 面の間の距離)が 30 [ m]な!、し 50 [ m]、スクイズローラの電位が + 250 [V]で、 スクイズローラ 52は原版 1とは逆向きに原版 1の速度の 3倍から 5倍程度の速度で移 動するように設定されているため、現像をさらに促進しつつ、同時に原版 1に付着し ている溶媒 56の一部を絞り取る効果を奏する。このようにして、原版 1の凹部 14aにト ナ一によるパターン 57が形成される。
[0046] ところで、ガラス板 5上に 3色の蛍光体のパターンを形成する場合、図 8に示すよう に、まず、青色蛍光体粒子を含む液体現像剤を収納する現像器 3bが原版 1の直下 に移動し、ここで図示しな 、昇降機構によって現像器 3bが上昇して原版 1に近接さ せる。この状態で、原板 1が矢印 R方向に回転して凹部 14aによるパターンが現像さ れる。青色パターンの現像が終了すると、現像器 3bが下降して原版 1から離間する。
[0047] この青色現像プロセスの間に、図示しない搬送装置によって予め搬送されてステー ジ 6上に保持されているガラス板 5のステージ 6から離間した表面に沿って塗布装置 7 が図中の破線矢印 T1方向に移動し、ガラス板 5の表面に溶媒が塗布される。この溶 媒の役割と材料組成については後述する。また、溶媒の塗布方法についても後に詳 述する。
[0048] しかる後に、青色のパターンを周面に担持した原版 1が回転しつつ図中の破線矢 印 T2に沿って移動(この動作を転動と称する)し、青色のパターン像がガラス板 5の 表面に転写される。転写の詳細についても後述する。青パターンの転写を終えた原 版 1は図中左方に平行移動し、現像時の初期位置に戻る。このとき、ガラス板 5を保 持したステージ 6が下降して初期位置に戻る原版 1との接触が避けられる。
[0049] この後、クリーナ 8が動作されて、ガラス板 5に転写されずに原版 1に残留した青色 の現像剤粒子がクリーニングされる。このクリーナ 8は、各色の現像剤粒子の転写プ ロセス終了後の通常のクリーニング動作を担う。このクリーナ 8についても後に詳述す る。
[0050] 次に、 3色の現像器 3r、 3g、 3bが図中左方に移動し、緑色の現像器 3gが原版 1の 直下に位置するところで停止し、青色の現像のときと同様にして現像器 3gの上昇、現 像、下降が行われる。引き続いて上記と同様の操作で緑パターンが原版 1からガラス 板 5の表面に転写される。このとき、緑色のパターンのガラス板 5表面上の転写位置 は、上述した青色のパターンから 1色分ずらされることは言うまでもない。また、このと き、緑色のパターンを転写した後の原版 1がクリーナ 8によってクリーニングされる。
[0051] そして、上記の動作を赤色の現像にっ 、ても繰り返し、ガラス板 5の表面上に 3色パ ターンを並べて転写して 3色のパターン像をガラス板 5の表面に形成する。このように 、ガラス板 5を定位置に保持して固定し、原版 1をガラス板 5に対して移動させることで 、ガラス板 5の往復移動が不要になり、大きな移動スペースの確保や装置の大型化を 抑制できる。 [0052] 図 9には、上述した原版 1をガラス板 5に沿って転動させるための転動機構の要部 の構造を示してある。原版 1を周面上に巻き付けたドラム素管 31の軸方向両端には 、ピ-オンと呼ばれる歯車 71が取り付けられている。原版 1は、この歯車 71とモータ 一 72の駆動歯車 73のかみ合わせによって回転するとともに、ステージ 6の両端に設 置されて!、る直線軌道のラック 74とピ-オン (歯車 71)の嚙み合わせによって図中右 方向に並進する。このとき、ステージ 6上に保持されたガラス板 5の表面と原版 1の周 面との間に相対的なズレを生じることのないように、転動機構の各部の構造が設計さ れている。このように回転しながらガラス板 5に沿って平行に移動する動作を転動と称 している。
[0053] このようなラック 'アンド'ピユオン機構によれば、駆動伝達用のアイドラが無いため、 ノ ックラッシュの無 、高精度の回転 ·並進駆動を実現でき、ガラス板 5上に例えば ± 5 [ m]と 、つた位置精度の高!、高精細パターンを転写することが可能となる。
[0054] 一方、ガラス板 5 (図 9では図示していない)は、図 8に示すように、ステージ 6の平ら な接触面 6aに対してその裏面 5b (原版 1から離間した側の面)の略全面を面接させ るようにステージ 6上に配置される。その上、ガラス板 5には、ステージ 6を貫通して接 触面 6aまで延びた吸気口 76に、接続パイプ 75から主パイプ 77を経由して不図示の 真空ポンプを接続することによって、吸気口 76の接触面 6aに開口した図示しない吸 着孔を介して負圧が作用され、ステージ 6の接触面 6a上に吸着される。この吸着機 構によって、ガラス板 5は、高い平面度を持った接触面 6aにその裏面 5bの略全面を 押圧させて密着され、平面性が高い状態でステージ 6上に保持される。このように平 らな接触面 6aにガラス板 5を押し付けることにより、ガラス板 5の歪み等をも矯正でき、 原版 1との間の相対位置を高精度に維持できる。
[0055] 図 10は、原版 1からガラス板 5にトナー粒子 55を転写する際の様子を説明する要 部断面図である。ガラス板 5の表面 5aには、例えば導電性高分子などで構成される 導電層 81が塗布されており、この導電層 81の表面 8 laと原版 1の高抵抗層 13の表 面 13aとは、ギャップ d2を介して非接触状態に設置される。 d2は例えば 10 [ m]な V、し 40 [ μ m]の範囲の値に設定される。高抵抗層 13の厚さが例えば 20 [ m]の場 合は、金属フィルム 12と導電層 81表面 81aとの間の距離は、 30 [ m]ないし 60 [ m]となる。或いは、ガラス板表面 5aに塗布した導電層 81と原版 1の高抵抗層表面 1 3aを接触させるようにしても良 、。
[0056] この状態で、電源装置 82 (転写装置)を介して導電層 81に例えば— 500 [V]の電 圧を印加すると、接地電位の金属フィルム 12との間に 500 [V]の電位差が形成され 、その電界によってトナー粒子 55が溶媒 54中を電気泳動して導電層 81の表面 81a に転写される。このように、トナー粒子 55は非接触状態でも転写が可能なので、オフ セット印刷やフレキソ印刷の場合のように、ブランケットやフレキソ版と!、つた弾性体を 介在させる必要がなぐ常に位置精度の高い転写を実現することが可能となる。導電 層 81は、トナー粒子 55の転写後、ガラス板 5を図示しないべ一ク炉へ投入して焼成 することで消失させる。
[0057] なお、上記のように、電界を用いてトナー粒子をガラス板 5に転写する場合、転写ギ ヤップに溶媒が存在してガラス板 5側の導電層 81と原版 1との間を濡らすことが必須 条件となるため、転写に先立ってガラス板 5の表面 5aを溶媒でプリウエットしておくこと が有効である。プリウエット溶媒としては絶縁性もしくは高抵抗であれば良いが、液体 現像剤に用いられている溶媒と同一の溶媒、もしくはこれに帯電制御剤などが添加さ れたものであればなお好適である。プリウエット溶媒は、図 8を用いて説明したように、 塗布装置 7によって適切なタイミングで適当な塗布量でガラス板 5の表面 5a上に塗布 される。
[0058] ところで、上述したパターン形成装置 10によって解像度の高い高精細なパターン 像をガラス板 5に形成するためには、高抵抗層 13に凹部 14aによるパターンを高精 細に形成し且つ電界を用いて凹部 14a内のトナー像をガラス板 5に転写することにカロ え、ノターン像を転写した後の原版 1を確実にクリーニングすることが重要となる。特 に、本実施の形態のように、原版 1の同じ凹部 14aを繰り返し使用して 3色のパターン 像を現像および転写するような場合、前の色のトナー粒子 55が凹部 14a内に残留し ていると次の色のパターン像を形成する際に混色の問題が生じてしまう。また、本実 施の形態で採用したような原版 1をクリーニングする場合、凹部 14aの底の角部近く に現像剤の微粒子が残留し易ぐ従来のようにスクイズローラを摺接させるだけでは 極めて微細なパターン状の凹部 14aから十分にトナー粒子 55を除去できない。 [0059] このため、本実施の形態では、原版 1をクリーニングする際に、まず、クリーニング液 を凹部 14aに供給して、凹部 14aの特に角部に残留したトナー粒子 55をタリ一ユング 液中で遊離させ、その後、遊離せしめたトナー粒子 55をクリーニング液とともに除去 するようにした。以下、いくつかの例をあげて原版 1のクリーニング方法について説明 する。なお、以下の説明で用いる図面は、全て模式図であり、実際の装置の構造を 示すものではなくその機能を説明するためのものである。
[0060] 図 11には、この発明の第 1の実施の形態に係るクリーナ 8の要部の構造を模式的 に示してある。
このクリーナ 8は、原版 1の表面に向けて開口したケース 101を有する。このケース 1 01は、原版 1から除去したトナー粒子 55を含むクリーニング液を回収する容器として 機能する。ケース 101内には、この発明の供給装置として機能する 2系統のノズル 10 2、 103、およびこの発明の除去装置として機能する 2つの除去ローラ 104、 105が設 けられている。
[0061] 図中上方に配置された一方の系統のノズル 102は、原版 1の回転方向(図中矢印 R方向)に向けて図中上方に傾斜して配置されており、その先端がケース 101の開口 を介して原版 1の表面に対向するよう位置決めされている。また、他方の系統のノズ ル 103は、原版 1の回転方向 Rに対して図中下方に傾斜して配置されており、その先 端がケース 101の開口を介して原版 1の表面に対向するよう位置決めされている。な お、原版 1の表面には、ここでは図示を省略した複数の凹部 14aが設けられている。 また、各系統のノズル 102、 103は、原版 1の回転方向 Rを横切る原版 1の軸方向に 沿ってここでは図示しな 、複数本のノズルをそれぞれ備えて 、る。
[0062] 一方の除去ローラ 104は、一方のノズル 102より図中上方、すなわち原版 1の回転 方向 Rに沿ってノズル 102の下流側に近接して配置されており、ケース 101の開口を 介して原版 1の表面に接触するよう位置決めされている。さらに、他方の除去ローラ 1 05は、他方のノズル 103より図中下方、すなわち一方の除去ローラ 104との間に 2系 統のノズル 102、 103を挟む位置に配置されており、ケース 101の開口を介して原版 1の表面に接触するよう位置決めされている。そして、図中上方の除去ローラ 104は 原版 1の回転方向 Rと逆方向(図中矢印 rl方向)に回転し、図中下方の除去ローラ 1 05は原版 1の回転方向 Rと同じ方向(図中矢印 r2方向)に回転する。
[0063] より詳細には、各系統のノズル 102、 103は、液体と気体を同時に噴射する複数本 の 2流体ノズルをそれぞれ原版 1の軸方向に並設して構成されており、各ノズルがタリ 一ユング液を一定圧力で原版 1の表面に向けて噴射するようになっている。本実施の 形態では、クリーニング液として、液体現像剤を構成する絶縁性液体を用いた。この ように、液体現像剤を構成する溶媒をクリーニング液として利用することで、原版 1の 凹部 14a内にクリーニング液が残留した場合にプロセスに支障をきたすことがない。 言い換えると、クリーニング液としては、原版 1に残留した場合にプロセスに影響を及 ぼすことのな 、液体を選択する必要がある。
[0064] 各ノズルから噴射されるクリーニング液は、拡散し、原版 1の回転方向および軸方向 に対して傾斜した方向から吹き付けられる。本実施の形態では、図示しない調節機 構によって、各ノズル 102、 103の原版 1に対する傾斜角度、すなわちクリーニング液 の吹き付け角度を調整可能とし、原版 1の回転方向および軸方向に関してあらゆる 角度力もクリーニング液を吹き付け可能とした。これにより、矩形の凹部 14aに対して あらゆる角度力もタリ一ユング液を吹き付け可能となり、特に凹部 14aの角部に付着し たトナー粒子 55を確実に剥離させることができる。
[0065] また、上述した 2つの除去ローラ 104、 105は同じ構造を有し、それぞれ中空なシャ フト 104a、 105a (回転軸)の周囲にスポンジ層 104b、 105b (多孔部材)を設けて構 成されている。一方の除去ローラ 104について代表して説明すると、シャフト 104aの スポンジ層 104bに対向する部位には図示しな 、多数の吸気孔が設けられて!/、る。 そして、平均気泡径 70 [ m]の連泡を有する厚さ 7 [mm]のウレタン系の材料によつ てスポンジ層 104bが構成され、シャフト 104aの全ての吸気孔を覆うように設けられて いる。ここで言う"連泡"とは、多数の気泡が 3次元の網目状に繋がった構造を指す。
[0066] しかして、シャフト 104aに接続された図示しない吸引ポンプ (負圧装置)によってシ ャフト 104aの多数の吸気孔力も空気を吸引すると、スポンジ層 104bの表面に負圧 が生じ、スポンジ層 104bにトナー粒子 55を含むクリーニング液が吸引されるようにな つている。ここで、図 11において、除去ローラ 104は原版 1と逆方向に回転させること によって原版 1上に残留したトナー粒子 55を拭い去る効果も有している力 タリー- ング前の原版 1に付着したトナー粒子 55の量が少なぐノズル力もの噴射液によりト ナー粒子 55のほとんどが廃液と一緒に排出されているような場合には、除去ローラ 1 04が原版 1と順方向に連れ回りするような構成でも、液とトナー粒子 55の除去能力を 充分発揮することが出来る。
[0067] 以下、上記構造のクリーナ 8によって原版 1をクリーニングする動作について、図 11 とともに図 12乃至図 16を参照して説明する。
まず、回転する原版 1の表面に、ノズル 102、 103を介してクリーニング液を吹き付 ける。図 12に示すように、クリーニング液の吹き付け角度は、原版 1の表面に直交す る角度 (この角度を 0度の基準線とする)から原版 1の回転方向 Rに沿って ± 70度の 角度まで調節可能となっている。本実施の形態では、回転方向 Rに沿って下流側に あるノズル 102の角度を回転方向に向けて 45度に調節し、回転方向 Rに沿って上流 側にあるノズル 103の角度を回転方向と逆に向けて 45度に調節した。
[0068] ノズル 102、 103は、二流体ノズルであり、 0. l [MPa]〜l. 0[MPa]の範囲の液 供給ポンプ(図示せず)を介して、クリーニング液タンク(図示せず)に接続され、同時 に 0. l [MPa]〜l. 0[MPa]の範囲のエアポンプ(図示せず)にも接続されており、 0 . l [MPa]〜l. 0[MPa]の範囲の液圧と、 0. l [MPa]〜l. 0[MPa]の範囲のエア 圧で、クリーニング液を凹版表面に供給できるような構成になっている。各ノズル 102 、 103から噴出させるクリーニング液の液圧は二流体ノズルの場合、 0. l [MPa]〜l . 0[MPa]程度に設定することが望ましぐクリーニング液のエア圧も 0. l [MPa]〜l . 0[MPa]程度に設定することが望ましい。本実施の形態では、クリーニング液の液 圧を 0. 5 [MPa]に設定し、エア圧も 0. 5 [MPa]に設定した。
[0069] クリーニング液の原版 1に対する吹き付け角度が 70度を超えると、微細な形状であ る凹部パターンに対する入射角が浅くなり、特に角部において、残留した微粒子を適 度な液圧で遊離させることが出来なくなるとともに、クリーニングユニットが当接した部 分以外の領域にまで液が流出しやすくなるため、凹版ドラム表面の汚染が生じやすく なるという不具合が発生する。また、クリーニング液の液圧が 0. l [MPa]より小さくな ると、十分な液圧で凹部に液を噴射することができないため、残留した微粒子を遊離 させることが出来ず、 1. 0[MPa]を超えると、エア圧に比べて液圧が強すぎるため、 十分制御されず広がった状態の液流が凹版表面に向けて噴射され、周囲への液の 飛散が起こり、他ユニットへの汚染が生じる。さらに、クリーニング液のエア圧が 0. 1 [ MPa]より小さくなると、液流の幅と広がりが十分制御されていない状態で凹版表面 に向けて噴射されるため、凹部パターン内部に残留した微粒子を十分な圧力で角部 から遊離させることが出来ず、 1. 0 [MPa]を超えると、噴出される液が霧状になって しまい、やはり微粒子を十分な圧力で角部力 遊離させることが出来ない。
[0070] また、本実施例では、気体として空気を用いたが、より防爆効果を高めるため、不活 性な窒素ガスを用いてもょ ヽ。
[0071] さら〖こ、上述のような、気体の圧力を利用して液圧を高める二流体ノズル以外にも、 直接、高圧ポンプで、高い液圧により液を噴射させる一流体ノズルを用いても良い。 二流体ノズルの場合、クリーニング液の液圧は、 0. 4[MPa]〜2. 5 [MPa]の範囲に 設定することが望ましい。本実施の形態では、クリーニング液の液圧を 1. 2[MPa]に 設定した。一流体ノズルの場合も、やはりノズルの角度は、二流体ノズルの場合と同 様の理由から、原版 1の回転方向 Rに沿って ± 70度の範囲の角度が望ましいのは言 うまでもない。クリーニング液の液圧が 0. 4 [MPa]より小さくなると、十分な液圧で凹 部に液を噴射することができないため、残留した微粒子を十分遊離させることが出来 ず、 2. 5 [MPa]を超えると、液圧が強すぎるため、周囲への液の飛散が起こり、他ュ ニットへの汚染が生じる。
[0072] 図 13に模式的に示すように、原版 1の回転方向 Rに沿って下流側に配置された一 方のノズル 102から噴出されたクリーニング液 106は、主に、原版 1の各凹部 14aの 回転方向 R下流側の角部に向けて吹き付けられ、この角部に付着したトナー粒子 55 を図 14に模式的に示すようにクリーニング液中で遊離させる。一方、回転方向上流 側に配置された他方のノズル 103から噴出されたクリーニング液 107は、主に、原版 1の各凹部 14aの回転方向 R上流側の角部に向けて吹き付けられ、この角部に付着 したトナー粒子 55をクリーニング液中で遊離させる。
[0073] この後、図 15に示すように、原版 1とクリーナ 8との相対的な移動によって、原版 1の 回転方向 R下流側に配置された一方の除去ローラ 104が原版 1と逆方向に回転され つつ接触され、原版 1の表面にスポンジ層 104bが摺接される。このとき、他方の除去 ローラ 105は、主に、他方のノズル 103から噴出されたクリーニング液を回収するよう 機能する。
[0074] 除去ローラ 104のスポンジ層 104bが原版 1の凹部 14a開口に接触すると、図 16に 模式的に示すように、スポンジ層 104bの連泡 108および中空シャフト 104aを介して スポンジ層 104bの表面に負圧が作用し、凹部 14aに残留したトナー粒子 55がタリー ユング液とともに吸引される。このとき、凹部 14aの角部に付着していたトナー粒子 55 は、クリーニング液の吹き付けによってクリーニング液中に遊離した状態となっており 、クリーニング液の吸引除去と同時に容易に凹部 14aから除去できる。
[0075] 本実施の形態では、除去ローラ 104 (105)のスポンジ層 104bの連泡 108の平均 気泡径を最も吸弓 I効率が良かった 70 [ μ m]に設定したが、連泡 108の平均気泡径 は 20 [ /ζ π!]〜 400 [ /ζ πι]程度に設定することが望ましい。連泡 108の平均気泡径が 20 [; z m]を下回ると、微粒子が気泡内に目詰まりしゃすぐ除去ローラの寿命が低 下し、部材の交換頻度が上がるという不具合が生じ、平均気泡径が 400 [ m]を超 えると、気泡内に捕捉除去される微粒子数が少なくなり、高い除去性能が得られない
[0076] 以上のように、第 1の実施の形態に係るクリーナ 8によると、クリーニング液を角度を 付けて原版 1に吹き付けることにより凹部 14aの角部に付着して残留したトナー粒子 5 5をクリーニング液中で確実に遊離させることができ、遊離させたトナー粒子 55をスポ ンジ層 104bの表面に負圧を生じせしめた除去ローラ 104によってクリーニング液とと もに確実且つ容易に除去できる。このため、次の色の現像プロセスを実行する前の 原版 1に前の色のトナー粒子 55が残留することを防止でき、混色の問題を防止する ことができる。具体的には、本実施の形態のクリーナ 8を用いた場合、ガラス板 5にト ナー粒子 55を転写した後の原版 1に残留したトナー粒子の割合は 0. 1 [%]以下とな つた。これにより、高精細な微細パターンを高い解像度で転写可能な原版 1を提供で きる。
[0077] 図 17には、この発明の第 2の実施の形態に係るクリーナ 110の模式図を示してある 。このクリーナ 110は、 2つの除去ローラ 104,、 105,のシャフト 111が中実であり、各 ローラのスポンジ層 104a、 105aの周面に金属製のスクレーバ 112を当接配置した 以外、上述した第 1の実施の形態のクリーナ 8と同様の構成を有する。よって、ここで は、上述したクリーナ 8と同様に機能する構成要素には同一符号を付してその詳細な 説明を省略する。
[0078] つまり、このクリーナ 110を動作させると、ノズル 102、 103から噴出されたタリーニン グ液が原版 1の凹部 14aに残留したトナー粒子 55を遊離させ、この遊離されたトナー 粒子 55がクリーニング液とともに除去ローラ 104'、 105 'によって除去される。このと き、各除去ローラ 104'、 105 'のスポンジ層 104a、 105aの周面に付着したトナー粒 子 55は、除去ローラの回転によってスクレーバ 112により搔き落とされる。
[0079] よって、本実施の形態のクリーナ 110においても、上述した第 1の実施の形態のタリ ーナ 8と同様の効果を奏することができ、その上、装置構成を簡略化でき装置の製造 コストを低減できる。
[0080] 図 18には、この発明の第 3の実施の形態に係るクリーナ 120の模式図を示してある 。このクリーナ 120は、 2つの除去ローラ 104"、 105"のスポンジ層 121が導電性を有 し、このスポンジ層 121に原版 1の金属フィルム 12 (ここでは図示省略)との間に電界 を形成するための電源装置 122を接続した以外、上述した第 1の実施の形態のタリ ーナ 8と同様の構成を有する。よって、ここでも、上述したクリーナ 8と同様に機能する 構成要素には同一符号を付してその詳細な説明を省略する。
[0081] スポンジ層 121は、体積抵抗率が 103[ Ω ' «!1]〜1012[ 0 ' cm]、好ましくは 108[
Ω ' cm]〜: ίΟ^ Ω ' cm]程度で、且つ JIS— C硬度が 50程度の導電性材料により形 成され、原版 1に接触させた状態で凹部 14aの底に露出した金属フィルム 12に接触 することのない程度の硬さに設計されている。体積抵抗率が 103[ Ω ' cm]を下回ると 、スポンジ層表面が導通しやすくなり、スポンジ層表面と凹版表面の間に十分な電界 を発生させることが出来ず、帯電した微粒子をスポンジ側に電気的に引き寄せる除 去効果が得られない。体積抵抗率が 1012[ Ω ' cm]を超えると、適度な引印加電圧で 、スポンジ層表面と凹版表面の間に効果的な電界を発生させることが困難になり、や はり帯電した微粒子を電気的に除去する効果が得られない。
[0082] しかして、このクリーナ 120を動作させると、ノズル 102、 103から噴出されたタリー ユング液が原版 1の凹部 14aに残留したトナー粒子 55を遊離させ、この遊離されたト ナー粒子 55がクリーニング液とともに除去ローラ 104"、 105"によって除去される。こ のとき、図示しない負圧装置が動作されてスポンジ層 121の表面に負圧が作用され るとともに、電源装置 122を介して各除去ローラ 104"、 105"に例えば— 300[V]の 電圧が印加され、接地電位にされた原版 1の金属フィルム 12とスポンジ層 121との間 に電界が形成される。そして、負圧の作用によってトナー粒子 55がクリーニング液と ともに吸引され、且つ電界の作用によって帯電したトナー粒子 55がスポンジ層 121 に吸着される。
[0083] つまり、本実施の形態のクリーナ 120においても、上述した第 1の実施の形態のタリ ーナ 8と同様の効果を奏することができ、その上、トナー粒子 55の除去ローラ 104"、 105"に対する吸着作用を高めることができ、トナー粒子 55の除去効率をさらに高め ることがでさる。
[0084] 図 19には、この発明の第 4の実施の形態に係るクリーナ 130の模式図を示してある 。このクリーナ 130は、各除去ローラ 104"、 105"の周面にクリーニングローラ 131を 転接させ、さらに各クリーニングローラ 131の周面にブレード 132を当接配置した以 外、上述した第 3の実施の形態のクリーナ 120と同様の構成を有する。よって、ここで は、上述したクリーナ 120と同様に機能する構成要素には同一符号を付してその詳 細な説明を省略する。
[0085] クリーニングローラ 131は、例えば、アルミニウム製の中空パイプの周面に陽極酸ィ匕 処理によって厚さ 6 [ m]程度のアルマイト層を形成して構成されており、対応する 除去ローラ 104"、 105"と同じ方向に回転する。また、ブレード 132は、 JIS— A硬度 80、 300%モデュラス 300 [kgfZcm2]、厚さ 1 [mm]のウレタン系ゴムにより形成さ れている。
[0086] しかして、このクリーナ 130を動作させると、ノズル 102、 103から噴出されたタリー ユング液が原版 1の凹部 14aに残留したトナー粒子 55を遊離させ、この遊離されたト ナー粒子 55がクリーニング液とともに除去ローラ 104"、 105"によって除去される。こ のとき、図示しない負圧装置が動作されてスポンジ層 121の表面に負圧が作用され るとともに、各除去ローラ 104"、 105"のスポンジ層 121に例えば一 300[V]の電圧 が印加され、接地電位にされた原版 1の金属フィルム 12とスポンジ層 121との間に電 界が形成される。そして、負圧の作用によってトナー粒子 55がクリーニング液とともに 吸引され、且つ電界の作用によって帯電したトナー粒子 55がスポンジ層 121に吸着 される。
[0087] そして、除去ローラ 104"、 105"によって吸引されたトナー粒子 55のうちタリーニン グ液とともにシャフト 104a、 105aを介して回収されずに除去ローラ 104"、 105"の周 面に残留したトナー粒子 55は、クリーニングローラ 131に移された後、ブレード 132 によって搔き落とされる。このとき、上述したように除去ローラ 104"、 105"に付与する 電圧 ( - 300 [V] )に対し、クリーニングローラ 131に例えば― 500 [V]の電圧を印加 して両者の間に電界を形成し、除去ローラ 104"、 105"の周面に残留したトナー粒子 55をクリーニングローラ 131側へ引き付ける。
[0088] つまり、本実施の形態のクリーナ 130においても、上述した第 3の実施の形態のタリ ーナ 120と同様の効果を奏することができ、その上、除去ローラ 104"、 105"の周面 を常にクリーンな状態に保つことができ、且つクリーニングローラ 131の周面も常にク リーンな状態に保つことができ、トナー粒子 55の除去ローラ 104"、 105"に対する吸 着作用をより高めることができ、トナー粒子 55の除去効率をさらに高めることができる
[0089] 図 20には、この発明の第 5の実施の形態に係るクリーナ 140の模式図を示してある 。このクリーナ 140は、 2つの除去ローラ 104、 105の代りに 2枚の榭脂製のブレード 1 41、 142を有する以外、上述した第 1の実施の形態のクリーナ 8と同様の構成を有す る。よって、ここでは、上述したクリーナ 8と同様に機能する構成要素には同一符号を 付してその詳細な説明を省略する。
[0090] ブレード 141、 142は、 JIS— A硬度 75、 300%モデュラス 250[kgf/cm2]、厚さ 1
[mm]のウレタン系ゴムにより形成されている。本実施の形態では、各 2流体ノズル 1 02、 103を介して噴出させるクリーニング液の液圧を 1. 0[MPa]に設定し、エア圧も 1. 0[MPa]に設定した。つまり、上述した第 1の実施の形態のクリーナ 8よりタリー- ング液の噴出圧力を強く設定した。また、クリーニング液の吹き付け角度を原版 1に 直交する方向に対して士 70度の角度に設定した。
[0091] しかして、このクリーナ 140を動作させると、まず、ノズル 102、 103から噴出されたク リー-ング液が原版 1の凹部 14aに残留したトナー粒子 55を遊離させる。そして、こ の遊離されたトナー粒子 55をクリーニング液とともにブレード 141、 142によって搔き 落とす。本実施の形態では、クリーニング液の圧力を高めに設定し、且つタリーニン グ液の吹き付け角度を適切な角度に調節したため、凹部 14aに付着したトナー粒子 55を確実に遊離させることができ、ブレード 141、 142によって搔き落とすだけでトナ 一粒子 55を十分に除去できる。
[0092] つまり、本実施の形態のクリーナ 140においても、上述した第 1の実施の形態のタリ ーナ 8と同様の効果を奏することができ、その上、除去ローラ 104、 105をブレード 14 1、 142に置き換えることで、負圧装置などの高価な構成も不要となり、装置構成をよ り安価に製造することができる。
[0093] 図 21には、この発明の第 6の実施の形態に係るクリーナ 150の模式図を示してある 。このクリーナ 150は、榭脂製のブレード 141、 142の代りに導電性を有する材料によ つて形成された導電ブレード 151、 152を用い、これら導電ブレード 151、 152に原 版 1の金属フィルム 12 (ここでは図示省略)との間に電界を形成するための電源装置 153を接続した以外、上述した第 5の実施の形態のクリーナ 140と同様の構成を有す る。よって、ここでは、上述したクリーナ 140と同様に機能する構成要素には同一符 号を付してその詳細な説明を省略する。
[0094] このクリーナ 150を動作させると、まず、ノズル 102、 103から噴出されたタリーニン グ液が原版 1の凹部 14aに残留したトナー粒子 55を遊離させる。そして、この遊離さ れたトナー粒子 55をクリーニング液とともにブレード 151、 152によって搔き落とす。こ のとき、電源装置 153を介して各導電ブレード 151、 152に例えば— 300 [V]の電圧 が印加され、接地電位の原版 1の金属フィルム 12 (ここでは図示せず)との間に電界 が形成される。これにより、原版 1から遊離したトナー粒子 55を導電ブレード 151、 15 2によって搔き落とすとともに、凹部 14aに残留したトナー粒子 55を導電ブレード 151 、 152に吸着させることができる。
[0095] よって、本実施の形態のクリーナ 150を用いた場合、上述した第 5の実施の形態の クリーナ 140と同様の効果を奏することができるとともに、導電ブレード 151、 152に 対するトナー粒子 55の吸着効果をより高めることができ、トナー粒子 55の除去効率 をより高めることができる。
[0096] 図 22には、この発明の第 7の実施の形態に係るクリーナ 160の要部の構成を模式 図にして示してある。ここでは、装置をさらに簡略ィ匕して図示してあり、原版 1の回転 方向 Rに沿って下流側の構成を図示省略してある。このクリーナ 160は、導電性を有 する榭脂材料によって形成したブレード 161を有する点で上述した第 3の実施の形 態のクリーナ 120と異なる。よって、ここでは、上述したクリーナ 120と同様に機能する 構成要素には同一符号を付してその詳細な説明を省略する。
[0097] このクリーナ 160を動作させると、まず、ノズル 103 (102)力も噴出されたタリーニン グ液が原版 1の凹部 14aに残留したトナー粒子 55を遊離させる。そして、この遊離さ れたトナー粒子 55がクリーニング液とともにブレード 161によって搔き落とされて除去 ローラ 105" (104")によって除去される。ブレード 161には上述した第 6の実施の形 態のクリーナ 150と同様に例えば— 300[V]程度の電圧が印加される。また、除去口 ーラ 105" (104")にも同じ電圧が付与されている。
[0098] このため、原版 1と除去ローラ 105" (104")との間に電界が形成されるとともに原版 1とブレード 161との間に電界が形成され、クリーニング液の噴射によって原版 1から 遊離されたトナー粒子 55が電界の作用によって除去ローラおよびブレードに引き付 けられる。よって、本実施の形態においても、上述した各実施の形態の装置と同様の 効果を奏することができ、トナー粒子 55の除去効率を高めることができる。
[0099] 図 23には、この発明の第 8の実施の形態に係るクリーナ 170の要部の構成を模式 図にして示してある。ここでは、装置をさらに簡略ィ匕して図示してあり、原版 1の回転 方向 Rに沿って下流側の構成を図示省略してある。このクリーナ 170は、各除去ロー ラ 105" (104")の周面に導電性スクレーバ 171を当接配置した点で上述した第 3の 実施の形態のクリーナ 120と異なる。よって、ここでは、上述したクリーナ 120と同様に 機能する構成要素には同一符号を付してその詳細な説明を省略する。
[0100] 導電性スクレーバ 171は、例えば、厚さ 1 [mm]程度のアルミニウム板の表面に 2[ μ m]程度の厚さのフッ素榭脂をコーティングして構成される。本実施の形態では、原 版 1の図示しない金属フィルムを接地電位に設定し、除去ローラ 105" (104")に例え ば— 300 [V]の電圧を印加し、導電性スクレーバ 171に例えば— 500 [V]の電圧を 印加した。
[0101] このクリーナ 160を動作させると、まず、ノズル 103 (102)力も噴出されたタリーニン グ液が原版 1の凹部 14aに残留したトナー粒子 55を遊離させる。そして、この遊離さ れたトナー粒子 55がクリーニング液とともに除去ローラ 105" (104")によって除去さ れる。このとき、原版 1と除去ローラ 105" (104")との間の電位差によって原版 1から 遊離したトナー粒子 55が除去ローラ 105" (104")に電気的に引き付けられる。
[0102] さらに、除去ローラ 105" (104")に移されて吸引されずに周面に残留されたトナー 粒子 55が導電性スクレーバ 171によって搔き落とされる。このとき、除去ローラ 105" ( 104")と導電性スクレーバ 171との間に形成されている電界によって除去ローラ 105 " (104")周面のトナー粒子 55が導電性スクレーバ 171へ吸引される。
[0103] 以上のように、本実施の形態によると、上述した第 3の実施の形態のクリーナ 120の 構成に加えて導電性スクレーバ 171を除去ローラ 105" (104")の周面に当接せしめ て配置したため、電界の作用によって除去ローラ 105" (104")周面を常にクリーンな 状態に維持でき、トナー粒子 55の除去効率を高めることができる。
[0104] 図 24には、この発明の第 9の実施の形態に係るクリーナ 180の要部の構成を模式 的に示してある。このクリーナ 180は、導電性スクレーバ 171の代りに上述した第 4の 実施の形態の装置 130で用いたものと同じクリーニングローラ 181を備え、さらにこの クリーニングローラ 181の周面にスクレーバ 182を当接配置した点で上述した第 8の 実施の形態のクリーナ 170と異なる。
[0105] 本実施の形態でも、原版 1を接地し、除去ローラ 105" (104")に例えば— 300[V] の電圧を印加し、クリーニングローラ 181に例えば— 500[V]の電圧を印加した。し かして、除去ローラ 105" (104")で原版 1から除去されたトナー粒子 55がタリーニン グローラ 181に電気的に引き付けられてスクレーバ 182によって搔き落とされる。この 実施の形態のクリーナ 180においても、上述した各実施の形態のクリーナと同様の効 果を奏し得ることは言うまでもな 、。
[0106] また、図 19を用いて、発明の第 9の実施の形態に係るクリーナ 130を説明する。第 9の実施の形態に係るクリーナ 130は、前述の第 4の実施の形態に係るクリーナ 130 とほぼ同じ構成である力 第 4の実施例が、クリーニング液とエアの二流体ノズルを用 いているのに対して、第 9の実施例では、クリーニング液のみの一流体ノズルを用い た。ノズル 102、 103は、 0. 4 [MPa]〜2. 5 [MPa]の範囲の高圧ポンプに接続(図 示せず)され、クリーニング液タンクから、 0. 4[MPa]〜2. 5 [MPa]の範囲の液圧で クリーニング液を凹版表面に供給できるような構成になっている。本実施の形態では
、クリーニング液の液圧を 1. 2[MPa]に設定し、ノズルの角度は、それぞれ + 80度と 80度で液を噴出できるように、一流体ノズルを複数個配列した。噴出されたタリー ユング液が原版 1の凹部 14aに残留したトナー粒子 55を遊離させ、この遊離されたト ナー粒子 55がクリーニング液とともに除去ローラ 104"、 105"によって除去される。こ のとき、図示しない負圧装置が動作されてスポンジ層 121の表面に負圧が作用され るとともに、各除去ローラ 104"、 105"のスポンジ層 121に例えば一 300[V]の電圧 が印加され、接地電位にされた原版 1の金属フィルム 12とスポンジ層 121との間に電 界が形成される。そして、負圧の作用によってトナー粒子 55がクリーニング液とともに 吸引され、且つ電界の作用によって帯電したトナー粒子 55がスポンジ層 121に吸着 される。
[0107] そして、除去ローラ 104"、 105"によって吸引されたトナー粒子 55のうちタリーニン グ液とともにシャフト 104a、 105aを介して回収されずに除去ローラ 104"、 105"の周 面に残留したトナー粒子 55は、クリーニングローラ 131に移された後、ブレード 132 によって搔き落とされる。このとき、上述したように除去ローラ 104"、 105"に付与する 電圧 ( - 300 [V] )に対し、クリーニングローラ 131に例えば― 500 [V]の電圧を印加 して両者の間に電界を形成し、除去ローラ 104"、 105"の周面に残留したトナー粒子 55をクリーニングローラ 131側へ引き付ける。
[0108] なお、上述した第 1乃至第 9の実施の形態では、 1色分のパターンを形成した凹部 14aを用いて全ての色のトナー像を現像'転写する場合について説明した力 これに 限らず、 3色分の凹部 14aを原版 1に形成しておき、 3色のトナー像を原版 1に現像し た後、一括してガラス板 5に転写するようにしても良い。この場合、同じ凹部 14aに異 なる色のトナーが現像されることがないため、混色の心配がないことから、タリーニン グプロセスを各色毎に実施する必要もなぐ転写プロセス毎に毎回クリーニング動作 を実施する必要もない。 [0109] また、上述した実施の形態では、原版 1に向けてクリーニング液を噴出させる 2流体 ノズルの角度を調節可能な調節機構を有する装置について説明したが、 2流体ノズ ル 102、 102を電気的に制御して揺動させ、ノズルの首振り機能を持たせても良い。
[0110] 図 25には、この発明の第 10の実施の形態に係るクリーナ 190の要部の構成を模 式的に示してある。
クリーナ 190は、原版 1の表面に向けて開口したケース 191を有する。このケース 1 91は、原版 1から除去した現像剤粒子を含むクリーニング液を回収する容器としても 機能する。ケース 191内には、 2系統のノズル 192、 193、および 2つの除去ローラ 19 4、 195力 S設けられている。
[0111] 図中上方に配置された一方の系統のノズル 192は、原版 1の回転方向(図中矢印 R方向)に向けて図中上方に傾斜して配置されており、その先端がケース 191の開口 を介して原版 1の表面に対向するよう位置決めされている。また、他方の系統のノズ ル 193は、原版 1の回転方向 Rに対して図中下方に傾斜して配置されており、その先 端がケース 191の開口を介して原版 1の表面に対向するよう位置決めされている。ま た、各系統のノズル 192、 193は、原版 1の回転方向 Rを横切る原版 1の軸方向に沿 つてここでは図示しな 、複数本のノズルをそれぞれ備えて 、る。
[0112] 一方の除去ローラ 194は、一方のノズル 192より図中上方、すなわち原版 1の回転 方向 Rに沿ってノズル 192の下流側に近接して配置されており、ケース 191の開口を 介して原版 1の表面に接触するよう位置決めされている。さらに、他方の除去ローラ 1 95は、他方のノズル 193より図中下方、すなわち一方の除去ローラ 194との間に 2系 統のノズル 192、 193を挟む位置に配置されており、ケース 191の開口を介して原版 1の表面に接触するよう位置決めされている。そして、図中上方の除去ローラ 194は 原版 1の回転方向 Rと逆方向(図中矢印 rl方向)に回転し、図中下方の除去ローラ 1 95は原版 1の回転方向 Rと同じ方向(図中矢印 r2方向)に回転する。
[0113] より詳細には、各系統のノズル 192、 193は、液体と気体を同時に噴射する複数本 の 2流体ノズルをそれぞれ原版 1の軸方向に並設して構成されており、各ノズルがタリ 一ユング液を一定圧力で原版 1の表面に向けて噴射するようになっている。本実施の 形態では、クリーニング液として、液体現像剤を構成する絶縁性液体を用いた。この ように、液体現像剤を構成する溶媒をクリーニング液として利用することで、原版 1の 凹部 14a内にクリーニング液が残留した場合にプロセスに支障をきたすことがない。 言い換えると、クリーニング液としては、原版 1に残留した場合にプロセスに影響を及 ぼすことのな 、液体を選択する必要がある。
[0114] 各ノズル力 噴射されるクリーニング液は、拡散し、原版 1の回転方向および軸方向 に対して傾斜した方向から吹き付けられる。これにより、矩形の凹部 14aに対して傾 斜した方向からクリーニング液を吹き付け可能となり、特に凹部 14aの角部に付着し たトナー粒子 55を確実に剥離させることができる。
[0115] 上述した 2つの除去ローラ 194、 195は同じ構造を有し、それぞれ中空なシャフト 1 96の周囲にスポンジ層 197を設けて構成されている。一方の除去ローラ 194につい て代表して説明すると、シャフト 196のスポンジ層 197に対向する部位には図示しな い多数の吸気孔が設けられている。しかして、シャフト 196に接続された図示しない 吸弓 Iポンプによってシャフト 196の多数の吸気孔から空気を吸引すると、スポンジ層 1 97の表面に負圧が生じ、スポンジ層 197にトナー粒子 55を含むクリーニング液が吸 引されるようになっている。
[0116] スポンジ層 197の表面に付着したトナー粒子 55は、図中矢印方向に回転するタリ 一-ングローラ 198によって除去される。そして、クリーニングローラ 198の表面に付 着したトナー粒子 55は、ブレード 199によって搔き落とされる。つまり、上述した 2つ の除去ローラ 194、 195は、クリーニングローラ 198およびブレード 199によって、常 に清浄な状態に維持されて、原版 1のクリーニング性能を高められている。
[0117] 次に、この発明の第 1の実施の形態に係るクリーニング装置 100について詳細に説 明する。
このクリーニング装置 100は、例えば、各色のパターン像の現像を失敗して原版 1 の凹部 14aに比較的多量の現像剤粒子が付着している場合、或いは各色のパター ン像の転写を失敗して凹部 14aに比較的多量の現像剤粒子が付着している場合な ど、通常より多量の現像剤粒子を原版 1から除去する必要がある場合に用いられる。 言 ヽ換えると、上述したクリーナ 8、 110、 120、 130、 140、 150、 160、 170、 180、 190では原板 1に付着した現像剤粒子を十分に除去できない可能性があるときに用 いられる。例えば、現像プロセスを失敗した場合、原版 1に付着している現像剤粒子 の量が基準値を超えていることを条件に、転写プロセスに移行する前に、タリーニン グ装置 100が動作されて原版 1がクリーニングされる。つまり、クリーニング装置 100 は、クリーナ 8 (以下、代表して説明する)による通常のクリーニング動作とは別に原版 1を別処理でクリーニングする場合に用いられる。
[0118] このクリーニング装置 100による原版 1のクリーニングを実行するか否かの判断は、 例えば以下に説明する 2通りの方法によってなされる。つまり、原版 1に不所望に付 着した現像剤粒子の量が一定基準を超えている場合にはクリーニング装置 100を用 いて原版 1をクリーニングするモードが選択され、現像剤粒子の量が一定基準を下回 る場合には通常通りクリーナ 8を用いて原版 1をクリーニングするモードが選択される
[0119] 例えば、原版 1のパターン状の凹部 14aを現像する現像剤粒子が蛍光体粒子であ る場合、クリーニングモードを選択するとき、ある特定のサンプルとなる凹部 14a内に 付着している蛍光体粒子に紫外光を照射してその励起光を検出し、予め検出した正 常時の基準光量と比較することで蛍光体粒子の量が基準値を超えている力否かを判 断できる。
[0120] 或いは、サンプルとなる凹部 14aの画像を検出して予め検出しておいた基準画像と 比較することで凹部 14aに付着している現像剤粒子の量が基準値を超えているか否 かを判断できる。この場合、例えば図 26に示すように、現像剤粒子が付着していない 状態の凹部 14aの画像力もその開口の面積を基準値 S1として予め算出しておき、モ ードを選択するときに、検出した画像力も当該凹部 14aに付着している現像剤粒子の 占有面積 S2を演算して基準値 S1と比較することで現像剤粒子の付着の程度を判断 できる。具体的には、上記の Sl、 S2が下式を満たす場合にはクリーニング装置 100 を用いることなくクリーナ 8によるクリーニングモードが選択され、下式から外れた場合 にクリーニング装置 100によるクリーニングモードが選択される。
[0121] 0. 6< S2/S1 < 1. 4
具体的には、クリーニング装置 100を動作させるクリーニングモードが選択された場 合、パターン形成装置 10の図示しない制御部は、図示しない移動機構を動作させて 、原版 1をクリーニング装置 100の上方のクリーニング位置に移動する。このとき、原 版 1の移動の邪魔になるクリーナ 8、乾燥器 4、除電器 9、帯電器 2などの各プロセス ユニットは、原版 1の移動経路から図示しない退避位置へ退避される。或いは、これ らプロセスユニットは、原版 1の移動とともに一体的に移動される。なお、ここでは、原 版 1をクリーニング位置へ移動させる移動機構や各プロセスユニットを退避させる退 避機構については、図示およびその説明を省略する。
[0122] 図 27に示すように、クリーニング装置 100は、図示のクリーニング位置に配置された 原版 1に向けて開口した液槽 202を有する。本実施の形態では、クリーニング位置に 配置された原版 1の鉛直下方にクリーニング装置 100が対向する位置関係となって いるため、液槽 202は鉛直上方に向けて (原版 1に向けて)開口している。なお、液槽 202は、原版 1の軸方向(図 11で紙面と垂直な方向)の全長を少なくとも超える長さ を有し、原版 1の曲率に合わせて開口の縁が湾曲されている。そして、開口の縁がク リー-ング位置にある原版 1の周面力 一定ギャップ離間した位置関係で原版 1がク リー-ング位置に対向配置される。
[0123] 液槽 202の底には、液槽 202内に後述するクリーニング液 Lを流入させるための流 入口 202a、および液槽 202内からクリーニング液 Lを流出させる流出口 202bが形成 されている。流入口 202a、および流出口 202bは、原版 1の軸方向に延びた細長い スリット状に形成され、液槽 202内を流通するクリーニング液 Lが原版 1の周面に沿つ て一定方向(原版 1の回転方向と逆方向)に流れるようになつている。また、流入口 20 2a、および流出口 202bは、軸方向に直径 5mm〜10mm程度のパイプ、もしくはフ レキシブルチューブを複数本、一定の間隔で配列させて接続し、流入側に配列した パイプ群から一定の流量で供給された液が、流出側に配列したパイプ群力も順次排 出されることにより、液槽 202内で一定の液流が形成される構成でもよい(図示せず)
[0124] すなわち、流入口 202aには、図示しない配管およびバルブを介してクリーニング液 Lを収容したタンクが接続されており、図示しな 、ポンプを動作させることで制御可能 な流量でタンク内のクリーニング液 Lを液槽 202へ供給できるようになって 、る。また、 流出口 202bには、図示しない配管を介して廃液タンクが接続されており、液槽 202 力も排出されたクリーニング液 Lを溜めるようになつている。なお、廃液タンクに回収し た使用済のクリーニング液 Lは、現像剤粒子が除去されて再使用に供されても良い。
[0125] また、液槽 202内の周縁部近くには、複数の液漏れ防止ローラ 204が配置されて いる。図 27では、 2つの液漏れ防止ローラ 204を代表して図示した力 原版 1の軸方 向に沿った両端側の液槽 202内にもそれぞれ同様の液漏れ防止ローラが設けられ ても良い。各液漏れ防止ローラ 204は、クリーニング位置で回転する原版 1の周面に 対して一定の微小ギャップを介して対向する位置に位置決め配置されて 、る。本実 施の形態では、各液漏れ防止ローラ 204を、ローラ径 20 [mm]の金属ローラとし、 50 [ m] ± 10 [ m]程度のギャップを介して原版 1の周面に対向させて位置決めした
[0126] そして、各液漏れ防止ローラ 204を図示矢印 r方向に回転させることで、液槽 202 の縁と原版 1の周面との間のギャップ力も漏れる可能性のあるクリーニング液に液槽 2 02の内側に向力 流れを生じせしめ、スクイーズ効果によって液槽 202からの液漏れ を防止するようにした。言い換えると、各液漏れ防止ローラ 204の回転方向 rは、原版 1との間の微小ギャップに介在するクリーニング液を液槽 202の内側に送る方向に設 定される。
[0127] また、液槽 202の中央底部には、原版 1との間で電界を形成するための電極 206が 固定的に取り付けられている。この電極 206は、原版 1の周面と略同じ曲率で原版 1 に向けて凹をなすように湾曲されており、ギャップ調整部材 208を介して液槽 202の 底部に固設されている。本実施の形態では、電極 206は、 0. 5 [mm]の厚さを有す るニッケル板の表面に 5 [; z m]の厚さで金メッキを施して形成され、ギャップ調整部材 208の厚さを調整することで原版 1の周面との間のギャップを 100 [ m] ± 20 [ m] 程度に設定されている。なお、上述したように電極 206を配置した液槽 202内を流通 するクリーニング液 Lとしてはァイソパーなどが用いられる。
[0128] 以下、上記構造のクリーニング装置 100によるクリーニング動作について、図 28乃 至図 30を参照して説明する。なお、ここでは、クリーニング装置 100の要部の構造を 部分的に拡大して示し、原版 1の 1つの凹部 14aに着目して現像剤粒子のタリーニン グ動作を説明する。 [0129] 原版 1がクリーニング装置 100に近接して対向する上述したクリーニング位置へ移 動された後、クリーニング装置 100の複数の液漏れ防止ローラ 204を上述した方向 に回転し、この状態で、図示しないポンプを動作させて流入口 202aを介して液槽 20 2内にクリーニング液 Lを供給する。このとき、液槽 202の流出口 202bを介してタリー ユング液 Lを流出することなぐ液槽 202内にクリーニング液 Lを充填し、原版 1と電極 206との間をクリーニング液 Lで満たす。この状態を図 28に示す。
[0130] そして、図 28に示す状態で、図示しない電源装置を介して液槽 202内に配置した 電極 206に― 500 [V]の電圧を印加し、凹部 14aの底に配置した接地電位の金属フ イルム 12 (導電部材)との間で電界を形成する。これにより、図 28に示すように凹部 1 4a内に保持されていた現像剤粒子(トナー粒子 55)が図 29に示すように電極 206に 吸着される。このとき、現像剤粒子は、凹部 14aと電極 206との間に満たされたタリー ユング液 Lを泳動して電極 206に至る。
[0131] この後、図 30に示すように、電極 206に印加していた電圧をオフにして電界を消失 させた状態で、原版 1と電極 206との間に介在されているクリーニング液 Lを流通させ 、電極 206に吸着されていた現像剤粒子を流す。このとき、図示しないポンプが動作 されて流入口 202aを介してクリーニング液 Lが予め決められた流量で液槽 202内に 供給され、凹部 14aから除去した現像剤粒子を含むクリーニング液 Lが流出口 202b を介して流出される。
[0132] 以上のように、本実施の形態のクリーニング装置 100を用いると、現像プロセスを失 敗した後や転写プロセスを失敗した後などのように比較的多量の現像剤粒子が原版 1のパターン状の凹部 14a内に残っているような場合であっても、原版 1に保持されて いる現像剤粒子を確実にクリーニングでき、通常のクリーニング動作を担うクリーナ 8 と比較して多量の現像剤粒子を良好にクリーニングできる。例えば、原版 1のパター ン状の凹部 14aを現像剤粒子で満杯にした状態で本実施の形態のクリーニング装置 100を動作させたところ、クリーニング動作終了時点で凹部 14aに残留していた現像 剤粒子の量は、 0. 01 [%]以下であった。
[0133] なお、上述した実施の形態では、クリーニング装置 100によるクリーニング動作時に ぉ 、て原版 1とクリーニング装置 100との相対的な移動にっ ヽては言及して 、な 、が 、クリーニング動作時に図 27に示すように原版 1を矢印 R方向に回転させても良ぐ 回転させなくても良い。原版 1を回転させる場合には、クリーニング装置 100の液槽 2 02に対向して 、る原版 1の周面の全ての領域にお!、て少なくとも 1回は上述した電 界を形成して消失させる必要がある。或いは、この場合、パルス状の電界を形成して クリーニング液 Lを常時流すようにしても良 、。
[0134] また、原版 1を回転させない場合には、クリーニング装置 100の液槽 202が対向し ている原版周面の領域のクリーニングが終了した後、その領域に隣接する領域に液 槽 202が対向するように原版 1を間欠的に回転させて複数回にわたってクリーニング 動作を実施することになる。この場合、原版 1を回転する距離は、クリーニングを実施 する隣接する 2つの領域が僅かにオーバーラップする距離に設定することが望ましい
[0135] また、上述した実施の形態では、原版 1のクリーニング手段としてクリーナ 8とタリー ユング装置 100を併用した場合について説明したが、これに限らず、現像剤粒子の 除去能力が高!、クリーニング装置 100だけを用いても良 、。
[0136] さらに、上述した実施の形態では、クリーニング装置 100によるクリーニング動作を 実施する際に、原版 1をクリーニング位置に移動させてクリーニング装置 100の上方 に配置するようにした力、クリーニング装置 100の配置位置はこれに限るものではなく 、液槽 202の縁部と原版周面との間の液漏れを確実に防止できれば、現像位置に配 置されている原版 1の周面にクリーニング装置 100を配置することも可能である。
[0137] 図 31には、液漏れ防止機能をより高めたこの発明の第 2の実施の形態に係るタリー ユング装置 210の概略図を示してある。このクリーニング装置 210は、必ずしも図示 のように開口を上方に向けた姿勢で液槽 202を配置する必要はなぐ原版 1に対して いかなる姿勢で対向させることも可能である。
[0138] このクリーニング装置 210は、上述した液漏れ防止ローラ 204の代わりに液漏れを 防止するためのゴムパッキン 212を有する以外、上述した第 1の実施の形態のタリー ユング装置 100と略同じ構造を有する。従って、同様に機能する構成要素について は同一符号を付してその詳細な説明を省略する。また、ここでは、電極 206と原版周 面との間のギャップを適正値に調整するためのギャップ調整部材 208の図示を省略 してある。
[0139] このクリーニング装置 210を用いる場合、原版 1をクリーニング位置に移動させた図 示の状態でゴムパッキン 212の端部が原版 1の周面に当接する位置関係が保たれる 。この位置関係は、原版 1に対するクリーニング装置 210の配置状態が変更された場 合も維持される。
[0140] この状態で、上述した第 1の実施の形態と同様に、液槽 202内にクリーニング液しが 満たされて原版 1と電極 206との間で電界が形成され、原版 1の凹部 14aに付着して いた現像剤粒子が電極 206に吸着される。そして、電界を消失せしめた後、タリー- ング液 Lを液槽 202内で流通させ、現像剤粒子を含むクリーニング液 Lがタリーニン グ装置 210から流出される。
[0141] 以上のように、本実施の形態においても、上述した第 1の実施の形態のタリーニン グ装置 100と同様に、原版 1に残留した比較的多量の現像剤粒子を良好にタリー- ングでき、解像度の高い高精細なパターンを形成できる。特に、本実施の形態のタリ 一ユング装置 210を用いる場合、原版 1とクリーニング装置 210を相対的に移動させ ることがないため、凹部 14aに在留した現像剤粒子が乾燥して固着してしまっている ような場合に有効に機能する。
[0142] 例えば、原版 1とクリーニング装置 210の電極 206との間に電界を形成する前に、 両者の間を満たしたクリーニング液 Lを流通させて凹部 14a内の現像剤粒子を時間 をかけて良好に濡らすことで、凹部 14aから剥離し易くできる。この結果、乾燥した現 像剤粒子であっても、良好にクリーニングできる。
[0143] 図 32には、この発明の第 3の実施の形態に係るクリーニング装置 220の概略図を 示してある。このクリーニング装置 220は、各液漏れ防止ローラ 204の外側に原版 1 の周面に当接するブレード 222を備え、且つ液槽 202を 2重構造とした以外、上述し た第 1の実施の形態のクリーニング装置 100と略同様の構造を有するため、同様に 機能する構成要素には同一符号を付してその詳細な説明を省略する。なお、ブレー ド 222は、 JISA硬度 30〜90程度の榭脂により形成されている。
[0144] 流入口 202aを介して液槽 202'内に流入されたクリーニング液 Lは、概ね枠状の隔 壁 224で区画された内側領域に流入され、この内側領域のさらに内側に配置された 複数の液漏れ防止ローラ 204によるスクイーズ効果によって原版 1の周面と電極 206 との間を満たされる。この後、上述した第 1の実施の形態と同様に、原版 1と電極 206 との間で電界が形成されて消失され、電極 206に吸着された現像剤粒子がタリー- ング液 Lの流れによって流出口 202bを介してクリーニング装置 220から流出される。
[0145] このとき、液漏れ防止ローラ 204と原版 1の周面との間のギャップを介して上述した 内側領域を満たしたクリーニング液 Lが外側に漏れる可能性がある力 このようにして 漏れたクリーニング液 Lは、ブレード 222によって搔き取られる。ブレード 222によって 原版 1の周面力も搔き取られたクリーニング液 Lは、液槽 202'の外側の環状の領域 に回収され、廃液管 226を介して排出される。
[0146] 以上のように、本実施の形態においても上述した第 1の実施の形態のクリーニング 装置 100と同様の効果を奏することができるとともに、クリーニング装置 100と比較し て液漏れの可能性を低くできる。
[0147] 図 33には、この発明の第 4の実施の形態に係るクリーニング装置 230の概略図を 示してある。このクリーニング装置 230は、原版 1の回転方向 Rに沿って、上述したタリ 一ユング装置 100の上流側にプリウエット装置としてのノズル 232を配置し、且つ回 転方向 Rに沿ってクリーニング装置 100の下流側に除去装置 234を配置した構造を 有する。
[0148] ノズル 232は、クリーニング装置 100に対向する前の原版 1の周面の領域を予めク リー-ング液で濡らすように、原版 1の周面にクリーニング液を供給する。このノズル 2 32として、上述したクリーナ 8の 2流体ノズルを採用しても良い。このように、タリーニン グ装置 100が対向する前の領域を予めクリーニング液で濡らすことで、原版 1の凹部 14aに付着して 、る現像剤粒子を剥離し易くでき、良好なクリーニングを実施できる。
[0149] また、除去装置 234は、クリーニング装置 100を通過した原版 1の周面に残留して いるクリーニング液を除去するように機能する。除去装置 234は、原版 1の周面にブ レード 236を当接させて当外周面に残留しているクリーニング液を搔き取り、搔き取つ たクリーニング液を容器 238で回収する。なお、ブレード 236は、 JISA硬度 30〜90 程度の榭脂により形成されていることが望ましぐ本実施の形態では、 JISA硬度 60の 榭脂により形成されている。 [0150] 図 34には、この発明の第 5の実施の形態に係るクリーニング装置 240の概略図を 示してある。このクリーニング装置 240は、原版 1の回転方向 Rに沿ってクリーニング 装置 100の下流側に、上述した除去装置 234の代わりに除去装置 242を有する点で 第 4の実施の形態のクリーニング装置 230と異なる構造を有する。
[0151] 除去装置 242は、上述した除去装置 234と同様に、クリーニング装置 100を通過し た原版 1の周面に残留しているクリーニング液を除去するように機能する。除去装置 2 42は、原版 1の周面に接触して原版 1の回転方向 Rと逆方向に回転することで周面 に付着したクリーニング液を回収するスポンジローラ 244、スポンジローラ 244の周面 力 クリーニング液などの汚れを搔き取るスクレーバ 246、およびスクレーバ 246によ つて搔き取った付着物を回収する容器 248を有する。
[0152] スポンジローラ 244は、平均気孔径が 20[ /ζ πι]〜400[ /ζ m]程度の気泡を有する スポンジ層を有し、原版 1の周面に残ったクリーニング液を付着させて回収する。本 実施の形態では、平均気孔径が 200[ m]程度のウレタン系のスポンジローラ 244 を用いた。スクレーバ 246は、金属板により形成されている。
[0153] このクリーニング装置 240においても上述した第 4の実施の形態のクリーニング装 置 230と同様の効果を奏することができ、原版 1の凹部 14aに残った現像剤粒子をよ り確実に回収できる。つまり、スポンジローラ 244が原版 1の凹部 14aの形状にならつ て弾性変形することで凹部 14aの形状に追従でき、多数の気泡によってクリーニング 液を吸引する作用もある。
[0154] 図 35には、この発明の第 6の実施の形態に係るクリーニング装置 250の概略図を 示してある。また、図 36には、このクリーニング装置 250の各構成部材に付与する電 圧を説明するための図を示してある。このクリーニング装置 250は、原版 1の回転方 向 Rに沿ってクリーニング装置 100の下流側に、上述した除去装置 234の代わりに除 去装置 252を有する点で上述した第 4の実施の形態のクリーニング装置 230と異なる 構造を有する。
[0155] 図 35に示すように、除去装置 252は、上述した除去装置 234と同様に、タリーニン グ装置 100を通過した原版 1の周面に残留して 、るタリ一ユング液を除去するように 機能する。除去装置 252は、中空パイプ 253の外側に平均気泡径 70 mの連泡を 有する厚さ 7[mm]程度のウレタン系スポンジ層 254を形成したスポンジローラ 255を 有する。このスポンジローラ 255は、スポンジ層 254の周面が原版 1の周面に接触す るように位置決めされて配置され、原版 1の回転方向 Rと逆方向に回転する。
[0156] スポンジ層 254は、 JIS— C硬度が 30程度で、体積抵抗率が 103[ Ω !!!]〜^)1^
Ω - cm]、本実施の形態では 109[ Ω 'cm]で、且つ平均気泡径が 20[ m]〜200[ /z m]、本実施の形態では 70 [ m]の材料により形成されており、中空パイプ 253に 接続した図示しない吸引ポンプを動作させることでその周面に負圧を生じせしめるよ うになつている。つまり、スポンジローラ 255によって原版 1から回収されたタリーニン グ液は、概ね中空パイプ 253を介して回収される。
[0157] そして、スポンジローラ 255の周面に僅かに残ったクリーニング液 (現像剤粒子を含 む)がスポンジローラ 255に転接したクリーニングローラ 256によって除去される。タリ 一-ングローラ 256は、アルミニウム製の中空パイプの表面に陽極酸化処理によって 厚さ 6 [ m]程度のアルマイト層を形成して構成されて!、る。
[0158] さらに、クリーニングローラ 256の周面に付着された付着物は、ブレード 257によつ て搔き取られて容器 258で回収される。ブレード 257は、 JIS— A硬度 80程度で、 30 0%モデュラス 300kgfZcm2の厚さ l [mm]のウレタン系ゴムにより形成されている。
[0159] 図 36に示すように、上述した除去装置 252の各構成部材には、適切な電圧が印加 される。つまり、原版 1の図示しない金属フィルムが接地され、電源装置 262を介して スポンジローラ 255に― 300 [V]の電圧が印加され、電源装置 264を介してタリー- ングローラ 256に— 500 [V]の電圧が印加される。このように、現像剤粒子の移動方 向に沿って徐々に電位が低くなるように各構成部材に電圧を印加することで、原版 1 に残った現像剤粒子を電気的に効果的に移動させることができ、現像剤粒子の除去 効率をさらに高めることができる。
[0160] 図 37には、この発明の第 11の実施の形態に係るクリーナ 60の概略図を示してある 。クリーナ 60は、原版 1の表面に向けて開口したケース 61を有する。このケース 61は 、原版 1から除去した現像剤粒子を含むクリーニング液を回収する容器としても機能 する。
[0161] ケース 61内には、 2系統のノズル 62、 63、これらノズルを原版 1の回転方向 Rに沿 つて図中上下に挟む位置に配置された 2本の液遮蔽ローラ 64、 64、これら 2本の口 ーラのさらに外側に配置された 2枚の液遮蔽板 65、 65、これらの構成要素 62〜65よ り原版 1の回転方向に沿って下流側に配置された吸引スポンジローラ 66、タリーニン グローラ 67、およびブレード 68が設けられて!/ヽる。
[0162] 図中上方に配置された一方の系統のノズル 62は、原版 1の回転方向(図中矢印 R 方向)に向けて図中上方に傾斜して配置されており、その先端がケース 61の開口を 介して原版 1の表面に対向するよう位置決めされている。また、他方の系統のノズル 6 3は、原版 1の回転方向 Rに対して図中下方に傾斜して配置されており、その先端が ケース 61の開口を介して原版 1の表面に対向するよう位置決めされている。
[0163] さらに、各系統のノズル 62、 63は、原版 1の回転方向 Rを横切る原版 1の軸方向に 沿ってここでは図示しな 、複数本のノズルをそれぞれ備えて 、る。これら複数本のノ ズルは、原版 1の軸方向にも傾斜して配置されている。なお、複数本のノズルの基端 部には、液供給パイプが接続されており、この液供給パイプを介してクリーニング液 を供給して各ノズルの先端力 原版 1に吹き付けるようになって!/、る。
[0164] 2系統のノズル 62、 63を上下に挟む位置に配置された 2本の液遮蔽ローラ 64は、 シャフトにウレタン系ゴムを巻き付けた構造を有し、それぞれ、原版 1の軸方向長さを 少なくとも超える長さを有し、その周面がケース 61の開口を介して原版 1の表面に接 触するよう位置決めされている。そして、各液遮蔽ローラ 64は、原版 1の回転に対し て連れ回り、ノズル 62、 63から吹き付けられるクリーニング液の飛び散りを防止するよ う機能する。
[0165] また、 2本の液遮蔽ローラ 64のさらに外側に配置された 2枚の液遮蔽板 65も、原版 1の軸方向長さを少なくとも超える長さを有し、液遮蔽ローラ 64によって遮蔽しきれな 力つた飛散したクリーニング液を遮蔽するよう機能する。これら液遮蔽板 65は、アタリ ル系榭脂により形成され、それぞれ、原版 1の表面に対して僅かなギャップを介して 離間した位置に配置されて!、る。
[0166] これら液遮蔽ローラ 64、および液遮蔽板 65を設けることにより、ノズル 62、 63を介 して吹き付けたクリーニング液が原版 1の他の領域に飛び散って原版 1を汚染するこ とを防止できる。 [0167] 吸引スポンジローラ 66は、原版 1の軸方向長さを少なくとも超える長さを有し、ケー ス 61の開口を介してその外周面が原版 1の表面に接触するよう位置決め配置されて いる。この吸引スポンジローラ 66は、原版 1の回転方向 Rと逆方向に回転し、その外 周面を原版 1の表面に摺接せしめる。
[0168] 吸引スポンジローラ 66の外周面には、クリーニングロー 67の外周面が転接されて いる。また、クリーニングローラ 67の外周面には、ブレード 68の先端が当接して配置 されている。
[0169] より詳細には、各系統のノズル 62、 63は、高圧で液体を噴射する複数本の 1流体ノ ズルをそれぞれ原版 1の軸方向に並設して構成されており、各ノズルがクリーニング 液を一定圧力で原版 1の表面に向けて噴射するようになっている。本実施の形態で は、クリーニング液として、液体現像剤を構成する絶縁性液体を用いた。このように、 液体現像剤を構成する溶媒をクリーニング液として利用することで、原版 1の凹部 14 a内にクリーニング液が残留した場合にプロセスに支障をきたすことがない。言い換え ると、クリーニング液としては、原版 1に残留した場合にプロセスに影響を及ぼすこと のな 、液体を選択する必要がある。
[0170] 各ノズル力も高圧で噴射されるクリーニング液は、拡散し、原版 1の回転方向および 軸方向に対して傾斜した方向から吹き付けられる。これにより、原版 1の多数の矩形 の凹部 14aに対して傾斜した方向からクリーニング液を吹き付けることが可能となり、 特に凹部 14aの角部に付着したトナー粒子 55を確実に剥離させることができる。
[0171] 吸引スポンジローラ 66は、中空なシャフト 66aの周囲にスポンジ層 66bを設けて構 成されている。本実施の形態では、スポンジ層 66bは、 JIS— C硬度が 50程度で、体 積抵抗率が 109[ Ω ' cm]で、且つ平均気泡径が 50 [ /z m]の連泡を有する導電性ゥ レタン材料により形成されて 、る。
[0172] また、シャフト 66aのスポンジ層 66bに対向する部位には図示しない多数の吸気孔 が設けられている。しかして、シャフト 66aに接続された吸引ポンプ 69によってシャフ ト 66aの多数の吸気孔力も空気を吸引すると、スポンジ層 66bの表面に負圧が生じ、 スポンジ層 66bにトナー粒子 55を含むクリーニング液が吸引されるようになっている。
[0173] 吸引ポンプ 69によって吸引されたクリーニング液は、図示しない液回収パイプを通 つて図示しない廃液タンクに回収される。廃液タンクに回収した使用済のクリーニング 液は、現像剤粒子が除去されて再使用に供されても良い。
[0174] さらに、吸引されずにスポンジ層 66bの表面に残ったトナー粒子 55は、吸引スポン ジローラ 66と逆方向(図中矢印方向)に回転するクリーニングローラ 67によって除去 される。本実施の形態では、クリーニングローラ 67は、アルミニウム製の中空パイプの 表面に陽極酸ィ匕処理によって厚さ 6 [ m]程度のアルマイト層を形成して構成され ている。
[0175] そして、クリーニングローラ 67の表面に付着したトナー粒子 55は、ブレード 68によ つて搔き落とされる。本実施の形態では、ブレード 68は、 JIS— A硬度 75程度で、 30 0 [%]モデュラス 300 [kgf/cm2]の厚さ 2 [mm]のウレタン系ゴムにより形成されて いる。
[0176] つまり、上述した吸引スポンジローラ 66の表面は、クリーニングローラ 67およびブレ ード 68によって、常に清浄な状態に維持されて、原版 1のクリーニング性能を高めら れている。
[0177] なお、上述した吸引スポンジローラ 66とクリーニングローラ 67には、適切な電圧が 印加されている。つまり、原版 1の金属フィルムが接地され、吸引スポンジローラ 66に - 300 [V]の電圧が印加され、クリーニングローラ 67に 500 [V]の電圧が印加され る。このように、現像剤粒子の移動方向に沿って徐々に電位が低くなるように各構成 部材に電圧を印加することで、原版 1に残った現像剤粒子を電気的に効果的に移動 させることができ、現像剤粒子の除去効率をさらに高めることができる。
[0178] 次に、この発明の第 7の実施の形態に係るクリーニング装置 300について詳細に説 明する。なお、図 38には、このクリーニング装置 300の動作を制御する制御系のブロ ック図を示してある。
[0179] このクリーニング装置 300は、例えば、各色のパターン像の現像を失敗して原版 1 の凹部 14aに比較的多量の現像剤粒子が付着している場合、或いは各色のパター ン像の転写を失敗して凹部 14aに比較的多量の現像剤粒子が付着している場合な ど、通常より多量の現像剤粒子を原版 1から除去する必要がある場合に用いられる。 言!、換えると、上述したクリーナ 8 (代表して説明する)では原板 1に付着した現像剤 粒子を十分に除去できない可能性があるときに用いられる。なお、原版 1に残留した 現像剤粒子の量は、図 1に示した検出器 11で検出することができる。
[0180] 例えば、現像プロセスを失敗した場合、パターン形成装置 10の制御部 90 (図 38参 照)は、検出器 11を介して、原版 1に付着している現像剤粒子の量を検出し、この残 留した現像剤粒子の量が基準値を超えて 、ることを判断した場合、転写プロセスに 移行する前に、クリーニング装置 100のコントローラ 91 (制御装置)にコマンドを送信 して原版 1をクリーニングするモードを選択する。つまり、クリーニング装置 100は、タリ ーナ 8による通常のクリーニング動作とは別に原版 1を別処理でクリーニングする場合 に用いられる。なお、検出器 11、制御部 90、およびコントローラ 91は、この発明の検 出装置として機能する。
[0181] このクリーニング装置 300による原版 1のクリーニングを実行するか否かの判断は、 制御部 90によって、例えば以下に説明する 2通りの方法によってなされる。つまり、原 版 1に不所望に付着した現像剤粒子の量が一定基準を超えて 、る場合にはタリー- ング装置 300を用いて原版 1をクリーニングするモードが選択され、現像剤粒子の量 が一定基準を下回る場合には通常通りクリーナ 8を用いて原版 1をクリーニングする モードが選択される。
[0182] 例えば、原版 1のパターン状の凹部 14aを現像する現像剤粒子が蛍光体粒子であ る場合、制御部 90は、検出器 11を介して、ある特定のサンプルとなる凹部 14a内に 付着している蛍光体粒子に紫外光を照射してその励起光を検出する。そして、制御 部 90は、予め検出器 11を介して検出した正常時の基準光量と検出した励起光の光 量とを比較することで、原版 1に残留した蛍光体粒子の量が基準値を超えて 、るか否 かを判断する。
[0183] 或いは、制御部 90は、検出器 11の図示しないカメラ等を介して、サンプルとなる凹 部 14aの画像を検出し、予め検出しておいた基準画像と比較することで凹部 14aに 付着して 、る現像剤粒子の量が基準値を超えて 、る力否かを判断する。この場合、 例えば図 39に示すように、現像剤粒子が付着して 、な 、状態の凹部 14aの画像から その開口の面積を基準値 S1 (図 39a)として予め算出しておき、モードを選択するとき に、検出した画像から当該凹部 14aに付着している現像剤粒子の占有面積 S2 (図 3 9b)を演算して基準値 SIと比較することで現像剤粒子の付着の程度を判断できる。 具体的には、上記の Sl、 S2が下式を満たす場合にはクリーニング装置 300を用いる ことなくクリーナ 8によるクリーニングモードが選択され、下式から外れた場合にタリー ユング装置 300によるクリーニングモードが選択される。
[0184] 0. 6< S2/S1 < 1. 4
つまり、パターン形成装置 10の制御部 90によってクリーニングモードが選択された 場合、制御部 90は、図示しない移動機構を動作させて、原版 1をクリーニング装置 3 00の上方のクリーニング位置に移動する。このとき、原版 1の移動の邪魔になるタリー ナ 8、乾燥器 4、除電器 9、帯電器 2などの各プロセスユニットは、原版 1の移動経路か ら図示しない退避位置へ退避される。或いは、これらプロセスユニットは、原版 1の移 動とともに一体的に移動される。なお、ここでは、原版 1をクリーニング位置へ移動さ せる移動機構や各プロセスユニットを退避させる退避機構につ!ヽては、図示および その説明を省略する。
[0185] さらに、パターン形成装置 10の動作不良や緊急停止時には、付着した現像剤粒子 が一定基準を超えて長時間、原版 1上に留まっていることがあり、このような場合、粘 着性を有する現像剤の性質上、通常のクリーニングモードではクリーニング出来ない ことがある。このような状況に対応するため、制御部 90には現像工程後、或いは、転 写工程後から、クリーニング動作に移るまでの時間をカウントする機構を備え(図示せ ず)、一定基準時間を越えた場合、或いは緊急停止状態から復帰した時点で、タリー ユング装置 300を用いて原版 1をクリーニングするモードが選択される設定を具備し てもよい。
[0186] ここで、本実施の形態のクリーニング装置 300の構成について説明する。
図 40に示すように、クリーニング装置 300は、図示のクリーニング位置に配置された 原版 1に向けて開口した液槽 302を有する。本実施の形態では、クリーニング位置に 配置された原版 1の鉛直下方にクリーニング装置 300が対向する位置関係となって いるため、液槽 302は鉛直上方に向けて (原版 1に向けて)開口している。なお、液槽 302は、原版 1の軸方向(図 40で紙面と垂直な方向)の全長を少なくとも超える長さ を有し、原版 1の曲率に合わせて開口の縁が湾曲されている。そして、開口の縁がク リー-ング位置にある原版 1の周面力 一定ギャップ離間した位置関係で原版 1がク リー-ング位置に対向配置される。
[0187] 液槽 302は、原版 1の回転方向 Rに沿って内側の槽と外側の 2槽の合計 3槽に簡易 的に分けられている。液槽 302の内槽 302aの底には、液槽 302内に後述するタリー ユング液 Lを流入させるための流入口 303、および内槽 302a内力もクリーニング液 L を流出させる流出口 304が形成されている。流入口 303、および流出口 304は、原 版 1の軸方向に延びた細長いスリット状に形成され、液槽 302内を流通するタリー- ング液 Lが原版 1の周面に沿って一定方向(原版 1の回転方向と逆方向)に流れるよ うになつている。
[0188] すなわち、流入口 303には、図示しない配管およびバルブ 92 (図 38参照)を介して クリーニング液 Lを収容したタンクが接続されており、ポンプ 93 (図 38)を動作させるこ とで制御可能な流量でタンク内のクリーニング液 Lを内槽 302aへ供給できるようにな つている。また、流出口 304には、図示しない配管を介して廃液タンクが接続されて おり、内槽 302aから排出されたクリーニング液 Lを溜めるようになつている。なお、廃 液タンクに回収した使用済のクリーニング液 Lは、現像剤粒子が除去されて再使用に 供されても良い。
[0189] また、内槽 302aの周縁部近くには、複数の液漏れ防止ローラ 305が配置されて ヽ る。図 40で図示した 2本の液漏れ防止ローラ 305は、内槽 302aと外槽 302bを区画 する壁部 302cに略接触するように 2つの外槽 302b内にそれぞれ収容配置されてい る。図 40では、 2つの液漏れ防止ローラ 305を図示した力 原版 1の軸方向に沿った 両端側にもそれぞれ液漏れ防止用のアクリル板などを用いた液遮蔽板が設けられて も良い。
[0190] 各液漏れ防止ローラ 305は、クリーニング位置で回転する原版 1の周面に対して一 定の微小ギャップを介して対向する位置に位置決め配置されて 、る。本実施の形態 では、各液漏れ防止ローラ 305を、ローラ径 20 [mm]の金属ローラとし、 50 [ m]士 10 [ m]程度のギャップを介して原版 1の周面に対向させて位置決めした。
[0191] そして、モータ 94 (図 38参照)を回転させて各液漏れ防止ローラ 305を図示矢印 r 方向に回転させることで、内槽 302aの縁にある壁部 302cと原版 1の周面との間のギ ヤップ力も外槽 302bへと漏れる可能性のあるクリーニング液 Lに内槽 302aの内側に 向力 流れを生じせしめ、スクイーズ効果によって内槽 302aから外槽 302bへの液漏 れを防止するようにした。言い換えると、各液漏れ防止ローラ 305の回転方向 rは、原 版 1との間の微小ギャップに介在するクリーニング液を内槽 302aの内側に送る方向 に設定される。なお、上述したようにクリーニング装置 300内を流れるクリーニング液 L としてはァイソパーなどが用いられる。また、上述した各構成要素 302、 303、 304、 3 05、 92、 93、 94は、この発明の液流装置として機會する。
[0192] 液槽 302の外側であって底面略中央には、原版 1に保持されている現像剤粒子に 作用せしめる超音波を発生させるための複数の圧電素子 306が並べて取り付けられ ている。これら圧電素子 306は、それぞれ、直径 45 [mm]、高さ 60 [mm]の略円柱 形の導電性材料により形成されたケース内に圧電体を収容配置して構成され、内槽 302aの略全面をカバーするように並設されている。複数の圧電素子 306は、図 38に 示すように、電源装置 95に接続され、コントローラ 91の制御によって、所望する周波 数および印加電圧を有する超音波を発生させるこの発明の超音波装置として機能す る。なお、原版 1に対向する内槽 302aの底部は、超音波の減衰を防ぐために、金属 板などの導電性部材で構成されて 、るのが望ま 、。
[0193] 複数の圧電素子 306から発生された超音波は、原版 1の表面との間の微小ギヤッ プを満たしたタリ一ユング液 Lを通る超音波揺動場を生じせしめ、原版 1の凹部 14a に充填されたトナー粒子 55間にクリーニング液 Lを短時間で効果的に浸透させる。こ れにより、比較的多量のトナー粒子 55が凹部 14a内に残留し且つ時間が経って固着 したような場合であっても、凹部 14aの角部までクリーニング液 Lを迅速且つ十分に 浸透させることができ、トナー粒子 55を素早くふやかした状態とすることができ、タリー ユング液 Lを流すことで、凹部 14aからトナー粒子 55を容易且つ確実に剥離すること ができる。
[0194] 以下、上記構造のクリーニング装置 300によるクリーニング動作について、図 41に 示すフローチャートとともに、図 42乃至図 44に示す動作説明図を参照して説明する 。なお、ここでは、クリーニング装置 300の要部の構造を部分的に拡大して示し、原 版 1の 1つの凹部 14aに着目して現像剤粒子のクリーニング動作を説明する。 [0195] パターン形成装置 10の制御部 90でクリーニング装置 300によるクリーニングモード が選択されると (ステップ 1; YES)、原版 1がクリーニング装置 300に近接して対向す る上述したクリーニング位置へ移動される (ステップ 2)。このとき、制御部 90は、検出 器 11を介して原版 1に残留して 、るトナー粒子 55の量を検出し、予め設定したしき V、値と比較して動作モードを選択する。
[0196] この後、クリーニング装置 300のコントローラ 91は、複数の液漏れ防止ローラ 304を 上述した方向に回転し (ステップ 3)、バルブ 92を開いてポンプ 93を動作させ、流入 口 303を介して液槽 302内にクリーニング液 Lを供給する。このとき、液槽 302の流出 口 304を介してクリーニング液 Lを流出することなぐ液槽 302内にクリーニング液 Lを 充填し、液槽 302をクリーニング液 Lで満たす (ステップ 4)。この状態を図 42に示す。
[0197] そして、コントローラ 91は、ステップ 4で原版 1の表面をクリーニング液 Lで満たした 状態で、電源装置 95を制御して複数の圧電素子 306に 1 [KW]程度の電力を供給 し、 45 [KHz]程度の超音波揺動場をクリーニング液 L中に発生させる (ステップ 5)。 このとき、発生させる超音波の周波数、印加電圧、および印加時間は、コントローラ 9 1が電源装置 95を制御することで任意に変更でき、検出器 11を介して検出される残 留トナー粒子の量や経過時間などに応じて所望する値に設定することができる。
[0198] ステップ 5で超音波が発生されると、図 43に示すように、原版 1の凹部 14a内にタリ 一二ング液 Lが良好に浸透し、凹部 14aからトナー粒子 55が剥がれ落ちる。つまり、 超音波の影響により、凹部 14a内で固着したトナー粒子 55間にクリーニング液 Lが効 果的且つ短時間で浸入するとともに、液中でトナー粒子 55に強制振動が加えられる ことにより、図 43に示すようにクリーニング液 L中にトナー粒子 55が浮遊する状態とな る。
[0199] この状態で、コントローラ 91は、ポンプ 93を動作させて予め決められた流量でタリ 一ユング液 Lを液槽 302内で流通させ、液槽 302内のクリーニング液 Lとともに凹部 1 4aから剥がれ落ちてクリーニング液 L中を浮遊しているトナー粒子 55を流出口 304を 介して流出させる (ステップ 6)。この状態を図 44に示す。以上の動作により原版 1に 保持されたトナー粒子 55がクリーニングされる。
[0200] なお、ステップ 6でクリーニング液 Lを流すとき、圧電素子 306によって発生される超 音波揺動場は消失させた状態としてもよいが、残留トナー 55をより効率よく凹部 14a 力も除去するためには、超音波揺動場が形成された状態を保持したままクリーニング 液 Lを流すことが望ましい。
[0201] 以上のように、本実施の形態のクリーニング装置 300を用いると、現像プロセスを失 敗した後や転写プロセスを失敗した後などのように比較的多量の現像剤粒子が原版 1のパターン状の凹部 14a内に残って固着しているような場合であっても、原版 1に保 持されている現像剤粒子を確実且つ迅速にクリーニングできる。このため、本実施の 形態のクリーニング装置 300をパターン形成装置 10に組み込むことで、解像度の高 Vヽ高精細なパターンを安定して形成できる。
[0202] また、本実施の形態のクリーニング装置 300によると、通常のクリーニング動作を担 ぅクリーナ 8と比較して多量の現像剤粒子を良好にクリーニングできる。例えば、原版 1のパターン状の凹部 14aを現像剤粒子で満杯にした状態で本実施の形態のタリー ユング装置 300を動作させたところ、クリーニング動作終了時点で凹部 14aに残留し ていた現像剤粒子の量は、 0. 01 [%]以下であった。特に、本実施の形態のタリー- ング装置 300は、時間が経過して凹部 14a内に残留した現像剤粒子が固着してしま つた場合に有効であり、超音波の影響により現像剤粒子をふやかして剥離することが できる。
[0203] ここで、図 45乃至図 47を参照して、本実施の形態のクリーニング装置 300のように 超音波を用いた場合におけるトナー粒子 55の洗浄効果についてさらに詳しく考察す る。図 45には、超音波の周波数と洗浄指数との関係をグラフにして示してある。また 、図 46には、洗浄指数の計算方法について説明するための図を示してある。さらに、 図 47には、超音波の周波数と原版 1へのダメージとの関係を調べた結果を表にして 示してある。
[0204] 図 45に示す例では、原版 1の凹部 14a内にトナー粒子 55を充填したサンプルを用 意し、且つ溶媒 54を蒸発させて乾燥させた過酷な条件を作り、印加する超音波の周 波数を変えて原版 1を洗浄した各場合における凹部 14aの洗浄指数 S3を測定した。 なお、ここでは、凹部 14aに充填するトナー粒子 55として、粒径が 2〜10 [ /ζ πι]の分 布を持つ Α粒子と、粒径が 1 [ m]以下の B粒子を用意し、それぞれの粒子につい て洗浄指数 S3を測定した。
[0205] 洗浄指数 S3とは、凹部 14aの洗浄状態を表す数値であり、本実施の形態では、図 46に示すように、トナー粒子 55が全く付着していない凹部 14aの開口面積を S1とし 、洗浄後に検出器 11で検出した凹部 14aにトナー粒子 55が残留した領域の面積を S2とした場合、 S3 = l— (S2/S1)と定義した。なお、図 46には、洗净旨数 S3力 ^0. 8の場合を例示してある。
[0206] 洗浄指数 S3の測定に際し、上述したように、用意した原版 1の表面をクリーニング 液 Lで満たし、この状態で 20秒間圧電素子 306を動作させて種々の周波数を有する 超音波を印加し、クリーニング液 Lを流した後、検出器 11を介して原版 1の凹部 14a に残留したトナー粒子 55の面積 S2を検出した。そして、予め測定した凹部 14aの開 口面積 S1を用いて、 A粒子、 B粒子それぞれについて、超音波の周波数を変えた場 合における洗浄指数 S3を算出した。なお、洗浄指数 S3が 0. 95を超えている場合に 次工程のパターン形成に影響が出ないことを確認した。
[0207] 図 45にその結果を示すように、 A粒子については超音波の周波数を 100 [KHz] 以下にした場合に洗浄指数 S3が 0. 95を超える良好な数値を示すことがわかり、 B 粒子につ 、ては超音波の周波数を 200 [KHz]以下にした場合に洗浄指数 S3が 0. 95を超える良好な数値を示すことがゎカゝつた。つまり、 A粒子、 B粒子ともに、特定の 周波数以下の超音波を印力 tlした場合に、次工程に対する影響を許容しうる良好な洗 浄を実施できることがわ力つた。
[0208] なお、超音波の周波数と原版 1に対するダメージとの関係を調べたところ、図 47に 示すように、超音波の周波数帯域によっては原版 1に対するダメージが深刻なものに なる可能性があることがわ力つた。このため、上述した各粒子に対する洗浄時に適切 な超音波の周波数として、この深刻なダメージを与える可能性のある周波数帯域は 除外すべきである。すなわち、 A粒子に対する適切な周波数は、 28 [KHz]〜100[ KHz] ,より好ましくは 40[KHz]〜100[KHz]ということが言え、 B粒子に対する適 切な周波数は、 28 [KHz]〜200[KHz]、より好ましくは 40 [KHz]〜200 [KHz]と ヽうことが言える。
[0209] 以上のように、現像剤粒子のクリーニングに超音波を用いる場合、粒子径に応じた 最適な超音波の周波数の範囲があり、この範囲内で現像剤粒子に超音波を印加す ることで、良好なクリーニングが可能となることが分力つた。
[0210] なお、上述した実施の形態では、原版 1に残留した現像剤粒子に対して特定の周 波数を有する超音波を印加する場合について説明したが、これに限らず、周波数の 異なる複数種の超音波を組み合わせて印加することもできる。この場合、例えば、 28 [KHz]、 40 [KHz]、 75 [KHz]の 3種類の超音波を同時に印加することで、位置に よる揺動場の強弱の差を小さくでき、原版 1の全面にわたって均一なクリーニングを 実施することができる。
[0211] また、印加する超音波の周波数を時間的に変化させることもできる。例えば、上述し た粒径が比較的大きい A粒子に対するクリーニング時において、超音波を印加する 初期段階で 28 [KHz]程度の周波数として現像剤粒子に加わる揺動力を大きくして 洗浄効率を向上させ、その後、適当なタイミングで周波数を 45 [KHz]程度に切り替 えることで原版 1へのダメージを低減させるようにしても良 、。
[0212] また、超音波を印加するパワーを時間的に変化させることもできる。例えば、上述し た A粒子に対するクリーニング時において、超音波を印加する初期段階で比較的大 きな電圧を圧電素子 306に印加して現像剤粒子に加わる揺動力を大きくし、その後 、適当なタイミングで印加電圧を下げることで、原版 1に対するダメージ低減と、洗浄 効率の向上を図ることができる。
[0213] また、上述した実施の形態では、原版 1をクリーナ 8でクリーニングした後に検出器 1 1で残留した現像剤の量を検出してクリーニング装置 300を 1回だけ動作させる場合 について説明したが、クリーニング装置 300を 1回動作させた後、原版 1に残留した 現像剤の量を再度検出し、洗浄指数 S3が 0. 95未満である場合には、次のパターン 形成を行わずに、もう一度クリーニング装置 300によるクリーニングを実施するように しても良い。この場合、 1回目のクリーニング動作と 2回目のクリーニング動作を同じ条 件で実施することもできる力 例えば、 2回目のクリーニング動作時には、 1回目のタリ 一二ング動作時より、超音波の印加時間を延長したり、圧電素子 306に印加する電 圧を上げたりしても良い。また、洗浄指数 S3に応じて超音波の印加時間や印加電圧 を任意に変更するようプログラムしても良い。 [0214] ところで、上述した実施の形態では、クリーニング装置 300によるクリーニング動作 時において原版 1とクリーニング装置 300との相対的な移動については言及していな いが、クリーニング動作時に図 40に矢印 Rとして示すように原版 1を回転させても良く 、回転させなくても良い。原版 1を回転させる場合には、クリーニング装置 300の液槽 302に対向している原版 1の周面の全ての領域において少なくとも 1回は上述した超 音波を与える必要がある。また、この場合、クリーニング液 Lを常に流しながら超音波 を与え続けても良い。
[0215] また、原版 1を回転させない場合には、クリーニング装置 300の液槽 302が対向し ている原版周面の領域のクリーニングが終了した後、その領域に隣接する領域に液 槽 302が対向するように原版 1を間欠的に回転させて複数回にわたってクリーニング 動作を実施することになる。この場合、原版 1を回転する距離は、クリーニングを実施 する隣接する 2つの領域が僅かにオーバーラップする距離に設定することが望ましい
[0216] また、上述した実施の形態では、原版 1のクリーニング手段としてクリーナ 8とタリー ユング装置 300を併用した場合について説明した力 これに限らず、図 48に示すよう に、クリーナ 8をパターン形成装置 10の構成要素力も外して、現像剤粒子の除去能 力が高 、クリーニング装置 300だけを用いるようにしても良 、。
[0217] また、上述した実施の形態では、クリーニング装置 300によるクリーニング動作を実 施する際に、原版 1をクリーニング位置に移動させてクリーニング装置 300の上方に 配置するようにした力 クリーニング装置 300の配置位置はこれに限るものではなぐ 液槽 302の縁部と原版周面との間の液漏れを確実に防止できれば、現像位置に配 置されている原版 1の周面にクリーニング装置 300を配置することも可能である。つま り、液槽 302は、必ずしも開口を上方に向けた姿勢で配置する必要はなぐ例えば、 上述した液漏れ防止ローラ 305の代わりに液漏れを防止するためのゴムパッキン(図 示せず)などを用いることで、液漏れ防止機構をより高めることで、クリーナ 8の位置に クリーニング装置 300を配置することもできる。
[0218] さらに、上述した実施の形態では、原版 1をクリーニング装置 300の開口に近接対 向させた後で、液槽 302内にクリーニング液 Lを供給して原版 1の表面をクリーニング 液 Lで満たすようにしたが、この前の段階で、原版 1の表面をクリーニング液 Lによつ て予め濡らしておく方法も考えられる。これにより、原版 1に保持されている現像剤粒 子が経時的に固まって乾いているような場合であっても、現像剤粒子を予め濡らすこ とでふやかすことができ、現像剤粒子をさらに効率良く除去できる。
[0219] 次に、この発明の第 8の実施の形態に係るクリーニング装置 310について、図 49お よび図 50を参照して説明する。図 49にはクリーニング装置 310の概略構造を示して あり、図 50にはクリーニング装置 310の制御系のブロック図を示してある。このタリー ニング装置 310は、液槽 302の底に残留トナー転写電極 311 (以下、単に転写電極 311と称する)を有する以外、上述した第 7の実施の形態に係るクリーニング装置 30 0と略同じ構造を有するため、ここでは同様に機能する構成要素には同一符号を付 してその詳細な説明を省略する。
[0220] 転写電極 311は、液槽 302の底部で複数の圧電素子 306と原版 1との間に配置さ れ、液槽 302の底部の略全面をカバーする大きさを有する。また、転写電極 311は、 原版 1の曲率に合わせて原版 1に向けて凹をなすように湾曲されている。本実施の形 態では、転写電極 311は、概ね 0. 5 [mm]の厚さを有するニッケル板の表面に 5 [ m]の厚さで金メッキを施して形成され、原版 1の周面との間のギャップを 100 m] ± 20 [ /z m]程度に設定されている。なお、前述のように、内槽 302aの底部は超音波 の減衰を防ぐために金属板などの導電性部材で構成されて 、るのが望ま 、が、転 写電極 311は、絶縁性接着剤などを介して内槽 302aの底部に固定 (詳細図示せず )されており、転写電極 311と内槽 302aとは電気的に絶縁されていることはいうまでも ない。
[0221] また、転写電極 311には、図 50に示すように、電源装置 312が接続されている。し かして、本実施の形態では、電源装置 312を介して転写電極 311に例えば— 500[ V]の電圧を印加し、凹部 14aの底に配置した接地電位の金属フィルム 12 (ここでは 図示せず)との間で電界を形成するようにした。
[0222] 以下、上記構造のクリーニング装置 310による動作について、図 51に示すフローチ ヤートとともに図 52乃至図 56に示す動作説明図を参照しつつ説明する。なお、ここ では、要部の構造を部分的に拡大して示し、原版 1の 1つの凹部 14aに着目して現 像剤粒子のクリーニング動作を説明する。
[0223] パターン形成装置 10の制御部 90でクリーニング装置 310によるクリーニングモード が選択されると (ステップ 1; YES)、原版 1がクリーニング装置 310に近接して対向す る上述したクリーニング位置へ移動される (ステップ 2)。このとき、制御部 90は、検出 器 11を介して原版 1に残留して 、るトナー粒子 55の量を検出し、予め設定したしき V、値と比較して動作モードを選択する。
[0224] この後、クリーニング装置 310のコントローラ 91は、複数の液漏れ防止ローラ 305を 上述した方向に回転し (ステップ 3)、バルブ 92を開いてポンプ 93を動作させ、流入 口 303を介して液槽 302内にクリーニング液 Lを供給する。このとき、液槽 302の流出 口 304を介してクリーニング液 Lを流出することなぐ液槽 302内にクリーニング液 Lを 充填し、液槽 302をクリーニング液 Lで満たす (ステップ 4)。この状態を図 52に示す。
[0225] そして、コントローラ 91は、ステップ 4で原版 1の表面をクリーニング液 Lで満たした 状態で、電源装置 95を制御して複数の圧電素子 306に 1 [KW]程度の電力を供給 し、 45 [KHz]程度の超音波揺動場をクリーニング液 L中に発生させる (ステップ 5)。 このとき、発生させる超音波の周波数、印加電圧、および印加時間は、コントローラ 9 1が電源装置 95を制御することで任意に変更でき、検出器 11を介して検出される残 留トナー粒子の量や経過時間などに応じて所望する値に設定することができる。
[0226] ステップ 5で超音波が発生されると、図 53に示すように、原版 1の凹部 14a内にタリ 一二ング液 Lが良好に浸透し、凹部 14aからトナー粒子 55が剥がれ落ちる。つまり、 超音波の影響により、凹部 14a内で固着したトナー粒子 55間にクリーニング液 Lが効 果的且つ短時間で浸入するとともに、液中で帯電したトナー粒子 55に強制振動が加 えられることにより、図 53に示すようにクリーニング液 L中にトナー粒子 55が浮遊する 状態となる。
[0227] この状態で、コントローラ 91は、電源装置 312を介して転写電極 311に— 500 [V] 程度の電圧を印加し、原版 1の凹部 14aにある金属フィルム 12との間で電界を形成 する (ステップ 6)。この状態を図 54に示す。これにより、凹部 14a内に浮遊していた現 像剤粒子は、凹部 14aと転写電極 311との間に満たされたクリーニング液 L中を泳動 して転写電極 311〖こ吸着される。この状態を図 55に示す。 [0228] この後、コントローラ 91は、適当なタイミングで電源装置 312をオフにして転写電極 311の電位を金属フィルム 12と同じくし、ステップ 6で形成した電界を消失させる(ス テツプ 7)。そして、コントローラ 91は、ポンプ 93を動作させて予め決められた流量で クリーニング液 Lを液槽 302内で流通させ、液槽 302内のクリーニング液 Lとともに転 写電極 311に吸着されて 、たトナー粒子 55を流出口 304を介して流出させる (ステツ プ 8)。この状態を図 56に示す。以上の動作により原版 1に保持されたトナー粒子 55 力 Sクリーニングされる。
[0229] なお、ステップ 8でクリーニング液 Lを流すとき、圧電素子 306によって発生される超 音波揺動場および転写電極 311によって形成される電界は消失させた状態としたが 、超音波揺動場を形成したままで、転写電極 311にパルス状の電圧を印加して電界 の形成および消失を繰り返すようにしても良 、。
[0230] 以上のように、本実施の形態のクリーニング装置 310を用いると、現像プロセスを失 敗した後や転写プロセスを失敗した後などのように比較的多量の現像剤粒子が原版 1のパターン状の凹部 14a内に残って固着しているような場合であっても、原版 1に保 持されている現像剤粒子を確実且つ迅速にクリーニングできる。このため、本実施の 形態のクリーニング装置 310をパターン形成装置 10に組み込むことで、解像度の高 Vヽ高精細なパターンを安定して形成できる。
[0231] 特に、本実施の形態のクリーニング装置 310では、超音波揺動場に加えて電界を 形成するようにしたため、超音波によって凹部 14aから剥離された現像剤粒子を転写 電極 311に積極的に吸着せしめることができ、凹部 14aに残留した現像剤粒子をより 効率良くクリーニングすることができる。
[0232] また、ここでは、クリーニング液 Lとして、絶縁性溶媒単体を用いた力 絶縁性溶媒 に適量ナフテン酸ジルコニウムなどの金属石鹼分を補助的に添加し、クリーニング液 に導電性を付与することにより、残留した現像剤粒子の帯電特性を上げ、より電界印 加の効果を高めることで、凹部 14aから剥離された現像剤粒子を転写電極 311に積 極的に吸着せしめることができる。この場合、金属石鹼の添加量を、 0. 1重量%以下 とすることで、クリーニング液 Lが原版 1の表面に残留した場合でも、次の現像工程に 影響を与えな 、ことが確認されて 、る。 [0233] 次に、上述した第 8の実施の形態のクリーニング装置 310の構成を備えた第 1の変 形例に係るクリーニング装置 320について、図 57乃至図 60を参照して説明する。な お、以下に説明する各変形例および第 9の実施の形態において、上述した第 7およ び第 8の実施の形態のクリーニング装置 300、 310と同様に機能する構成要素には 同一符号を付してその詳細な説明を省略する。また、以下に説明する各変形例にお けるクリーニング装置 310は第 7の実施の形態のクリーニング装置 300に置き換える ことちでさる。
[0234] 図 57に示すように、クリーニング装置 320は、上述した第 8の実施の形態のタリー- ング装置 310の構成の他に、プリウエット装置として機能するノズル 321、および除去 装置 322を有する。ノズル 321はクリーニング装置 310に対して原版 1の回転方向( 矢印 R方向)上流側に配置され、除去装置 322はクリーニング装置 310の下流側に 配置されている。
[0235] ノズル 321は、クリーニング装置 310を通過する前の原版 1の表面にクリーニング液 を供給して該表面を予め濡らすよう機能する。このように、クリーニング装置 310を通 過する前に、原版 1の表面を予め濡らすことで、原版 1の凹部 14aに付着している現 像剤粒子を柔ら力べほぐすことができ、クリーニング装置 310によるクリーニング効果 を高めることができる。例えば、ノズル 321として、上述したクリーナ 8の高圧 1流体ノ ズルを採用しても良い。
[0236] 除去装置 322は、原版 1の表面に当接するブレード 323と、ブレード 323によって 表面から除去したクリーニング液を回収するためのトレィ 324と、を備えている。この 除去装置 322は、クリーニング装置 310を通過した原版 1の表面に残留しているタリ 一ユング液を除去するように機能する。つまり、除去装置 322は、原版 1の表面にブ レード 323を当接させて該表面に残留しているクリーニング液を搔き取り、搔き取った クリーニング液をトレイ 324で回収する。なお、ブレード 323は、 JISA硬度 30〜90程 度の榭脂により形成されていることが望ましぐ本変形例では、 JISA硬度 60の榭脂に よりブレード 323を形成した。
[0237] 以下、上記構造のクリーニング装置 320による動作について説明する。なお、このク リー-ング装置 320に組み込まれたクリーニング装置 310による動作は上述した第 8 の実施の形態で説明した動作と同じであるため、ここではその詳細な説明を省略す る。
[0238] まず、原版 1の回転方向上流側において、原版 1の表面がノズル 321を介して供給 されるクリーニング液によって濡らされる。このとき、ノズル 321は、原版 1の回転方向 を横切る軸方向の全長をカバーする領域にクリーニング液を供給し、原版 1の表面全 体をクリーニング液で濡らす。これにより、原版 1の凹部 14aに残留したトナー粒子 55 がふや力されて柔ら力べされる。この状態を図 58に示す。
[0239] この後、原版 1の濡らされた表面の領域がクリーニング装置 310を通過され、上述し たように、圧電素子 306を介して発生される超音波揺動場、および転写電極 311によ つて形成される電界によって、凹部 14a内に残留したトナー粒子 55が剥離されてタリ 一ユング液 L中を泳動され、転写電極 311に吸着される。この状態を図 59に示す。
[0240] そして、電界を消失させた後、超音波摇場を形成したまま、クリーニング液 Lを連続 的に流通させる。これにより、クリーニング L中に浮遊していたトナー粒子 55と、転写 電極 311に吸着されていたトナー粒子 55が流出される。この状態を図 60に示す。
[0241] さらにその後、原版 1の表面が除去装置 322を通過され、当該表面に残留したタリ 一ユング液 Lが除去される。このとき、原版 1の表面に残留したクリーニング液 Lは、ブ レード 323によって搔き取られ、トレイ 324に集められた後、図示しない排液管を介し て排出される。原版 1の表面に当接するブレード 323は、原版 1の回転方向 Rを横切 る軸方向に沿った全長をカバーする長さを有し、原版 1の表面全体に摺接するように なっている。
[0242] 以上のように、本比較例に係るクリーニング装置 320によると、上述した第 8の実施 の形態のクリーニング装置 310と同様の効果を奏することができるとともに、タリーニン グ領域を通過する前の原版 1の表面を予めクリーニング液 Lで濡らすようにしたため、 時間が経って固着した状態のトナー粒子 55であっても予めふやかして柔ら力べするこ とができ、クリーニング性能をより高めることができる。また、本比較例によると、タリー ユング後の原版 1の表面に付着したクリーニング液 Lを積極的に除去するようにした ため、次のプロセスへの影響を概ね無くすことができる。
[0243] 次に、第 2の比較例に係るクリーニング装置 330について、図 61を参照して説明す る。なお、このクリーニング装置 330は、原版 1の回転方向 Rに沿ってクリーニング装 置 310の下流側に、上述した除去装置 322の代わりに除去装置 331を有する点で第 1の変形例のクリーニング装置 320と異なる構造を有する。
[0244] 除去装置 331は、上述した除去装置 322と同様に、クリーニング装置 310を通過し た原版 1の表面に残留しているクリーニング液 Lを除去するように機能する。除去装 置 331は、原版 1の表面に接触して原版 1の回転方向 Rと逆方向に回転することで表 面に付着したクリーニング液 Lを回収するスポンジローラ 332、スポンジローラ 332の 周面からクリーニング液などの汚れを搔き取るスクレーバ 333、およびスクレーバ 333 によって搔き取った付着物を回収する容器 334を有する。
[0245] スポンジローラ 332は、平均気孔径が 20[ /ζ πι]〜400[ /ζ m]程度の気泡を有する スポンジ層を有し、原版 1の表面に残ったクリーニング液を付着させて回収する。本 比較例では、平均気孔径が 200 [ m]程度のウレタン系のスポンジローラ 332を用 いた。スクレーバ 333は、金属板により形成されている。
[0246] このクリーニング装置 330においても上述した第 1の比較例のクリーニング装置 320 と同様の効果を奏することができ、原版 1の凹部 14aに残った現像剤粒子をより確実 に回収できる。つまり、スポンジローラ 332が原版 1の凹部 14aの形状にならって弾性 変形することで凹部 14aの形状に追従でき、多数の気泡によってクリーニング液を吸 引する作用もある。
[0247] 次に、第 3の変形例に係るクリーニング装置 340について、図 62および図 63を参 照して説明する。図 62にはクリーニング装置 340の概略構成を示してあり、図 63に はクリーニング装置 340の各構成要素に付与する電圧について説明するための図を 示してある。このクリーニング装置 340は、原版 1の回転方向 Rに沿ってクリーニング 装置 310の下流側に、上述した除去装置 322の代わりに除去装置 341を有する点で 上述したクリーニング装置 320と異なる構造を有する。
[0248] 図 62に示すように、除去装置 341は、上述した除去装置 322と同様に、タリーニン グ装置 310を通過した原版 1の表面に残留しているクリーニング液を除去するように 機能する。除去装置 341は、中空パイプ 342の外側に平均気泡径 70 mの連泡を 有する厚さ 7 [mm]程度のウレタン系スポンジ層 343を形成した吸引スポンジローラ 3 44を有する。この吸引スポンジローラ 344は、スポンジ層 343の周面が原版 1の表面 に接触するように位置決めされて配置され、原版 1の回転方向 Rと逆方向に回転する
[0249] スポンジ層 343は、 JIS— C硬度が 30程度で、体積抵抗率が 103[ Ω !!!]〜^)1^
Ω - cm]、本実施の形態では 109[ Ω 'cm]で、且つ平均気泡径が 20[ m]〜200[ /z m]、本実施の形態では 70 [ m]の材料により形成されており、中空パイプ 342に 接続した図示しない吸引ポンプを動作させることでその周面に負圧を生じせしめるよ うになつている。つまり、吸引スポンジローラ 344によって原版 1から回収されたタリー ユング液は、概ね中空パイプ 342を介して回収される。
[0250] そして、吸引スポンジローラ 344の周面に僅かに残ったクリーニング液 (現像剤粒子 を含む)が吸引スポンジローラ 344に転接したクリーニングローラ 345によって除去さ れる。クリーニングローラ 345は、アルミニウム製の中空ノイブの表面に陽極酸ィ匕処 理によって厚さ 6 [ μ m]程度のアルマイト層を形成して構成されて 、る。
[0251] さらに、クリーニングローラ 345の周面に付着された付着物は、ブレード 346によつ て搔き取られて容器 347で回収される。ブレード 346は、 JIS— A硬度 80程度で、 30 0%モデュラス 300kgfZcm2の厚さ l [mm]のウレタン系ゴムにより形成されている。
[0252] 図 63に示すように、上述した除去装置 341の各構成部材には、適切な電圧が印加 される。つまり、原版 1のここでは図示しない金属フィルムが接地され、図示しない電 源装置を介して吸引スポンジローラ 344に一 300 [V]の電圧が印加され、クリーニン グローラ 345に— 500[V]の電圧が印加される。このように、現像剤粒子の移動方向 に沿って徐々に電位が低くなるように各構成部材に電圧を印加することで、原版 1に 残った現像剤粒子を電気的に効果的に移動させることができ、現像剤粒子の除去効 率をさらに高めることができる。
[0253] また、上述したように第 8の実施の形態のクリーニング装置 320、 330、 340では、ク リーニング液 Lの除去装置が設置されていることから、金属石鹼の添加量を 0. 3重量
%程度まで上げた導電性クリーニング液を用いて、より電界印加の効果を高め、タリ 一-ング効果を上げた工程でクリーニングを行うことができる。この場合、除去装置に よって確実にクリーニング液 Lの除去を行うことができるため、次の現像工程への影響 を防ぐことができる。
[0254] 次に、この発明の第 9の実施の形態に係るクリーニング装置 350について、図 64乃 至図 68を参照して説明する。
図 64に示すように、クリーニング装置 350は、原版 1の回転方向 Rに沿って上流側 から、液供給ノズル 351 (プリウエット装置)、前処理ユニット 352 (超音波装置)、およ び吹き付け除去ユニット 353 (吹き付け装置)を有する。なお、前処理ユニット 352と 吹き付け除去ユニット 353との間には 2枚の液遮蔽板 354、 354が配置され、吹き付 け除去ユニット 353の下流側には 1枚の液遮蔽板 355が配置されている。これら液遮 蔽板 354、 355は、例えば、アクリル板によって形成され、原版 1の軸方向全長を力 バーする長さを有し、クリーニング液 Lが飛び散って他の領域を汚染することを防止 するよう機能する。
[0255] 液供給ノズル 351は、原版 1の回転方向 Rを横切る軸方向に沿って多数配置され、 原版 1の表面全体に均一な量でクリーニング液 Lを供給できるようになって 、る。液供 給ノズル 351を介して原版 1の表面に供給されたクリーニング液 Lは、以下に説明す る前処理ユニットを経由して 2枚の液遮蔽板 354の間を通って排出される。
[0256] 前処理ユニット 352は、軸方向に細長い矩形枠状の金属製ケース 361、原版 1の 金属フィルム(ここでは図示せず)との間で電界を形成するための転写電極 362、お よび原版 1の表面に超音波を付与するための複数の圧電素子 363を有する。転写電 極 362は、絶縁性の接着剤を用いて、ケース 361が原版 1の表面に対向する面に貼 り付けられており、複数の圧電素子 363は、絶縁性を有する接着剤 364を用いて、ケ ース 361の原版 1側の内面に接着固定されている。
[0257] より詳細には、ケース 361は、原版 1の軸方向(図 64で紙面と垂直な方向)の全長 を少なくとも超える長さを有した中空の金属ケースであり、内部に複数の圧電素子 36 3を軸方向に並べて収納している。また、転写電極 362は、原版 1と約 0. 1〜: Lmmの 隙間対向した位置に配置され、液供給ノズル 351からこの隙間にクリーニング液 Lを 流し込むことにより、両者の間にクリーニング液 Lを充填させた状態で、原版 1と転写 電極 362との間に電界と超音波揺動場を形成するようになっている。
[0258] 吹き付け除去ユニット 353は、 2系統のノズルを配列したノズルアレイ 365、ノズルを 挟んで対向する 1対の液遮蔽ローラ 366を有する。また、吹き付け除去ユニット 353 は、クリーニングに使用したクリーニング液 Lを回収するための液受けトレィ 367を有 する。液受けトレィ 367は、上述した前処理ユニット 352を通って流れたクリーニング 液 Lをも回収する。液供給ノズル 351とノズルアレイ 365〖こは、共通のクリーニング液 タンク(図示せず)から液供給パイプ 368を介してクリーニング液 Lが供給されている。 液受けトレィ 367からの回収液は廃液タンクに溜められ、フィルター装置を介して現 像剤微粒子を取り除いた後、再びクリーニング液タンクに戻され、クリーニング液とし て再利用される(図示せず)。
[0259] 図中の液供給ノズル 351とノズルアレイ 365に用いられるノズルは、ともに高圧 1流 体ノズルで、液供給ノズル 351は液圧 0. 2〜1. 0[MPa]で原版 1のクリーニング領 域に向力つてクリーニング液を噴射する。ノズルアレイ 365は、原版 1の回転方向尺に 対して、順方向と逆方向に僅かに傾斜した二系統のノズルアレイであり、それぞれ液 圧 0. 2〜2. 0[MPa]程度の圧力で原版 1のクリーニング領域に向力つてタリーニン グ液 Lを吹き付ける。
[0260] また、 1対の液遮蔽ローラ 366は、シャフトにウレタン系ゴムを卷きつけた構造を有し 、原版 1の表面に接触した状態で、ノズルアレイ 365を回転方向 Rに沿って挟んで対 向する位置に配置されている。各液遮蔽ローラ 366は、原版 1の軸方向全長をカバ 一する長さを有し、原版 1の回転移動に伴って連れ周り回転する。このようにして、液 遮蔽ローラ 366は、高圧で噴射される 2本のノズルアレイ 365からのクリーニング液 L が他領域に飛び散って原版 1を汚染することを防止するよう機能する。
[0261] 以下、上記構造のクリーニング装置 350によるクリーニング動作について説明する。 まず、液供給ノズル 351を介して原版 1の表面にクリーニング液 Lが供給される。こ のとき、供給されたクリーニング液 Lは、前処理ユニット 352の転写電極 362と原版 1 の表面との間のギャップを満たし、図 65に示すように、原版 1の凹部 14aに付着残留 したトナー粒子 55がプリウエット状態となる。クリーニング液 Lは、さらに、原版 1と転写 電極 362との間を流通し、 2枚の液遮蔽板 354の間を通って液受けトレィ 367に回収 される。 [0262] 次に、上記のようにクリーニング液 Lが転写電極 362と原版 1との間に充填された状 態で、前処理ユニット 352を介して、原版 1と転写電極 362との間に電界を形成し、且 つ超音波揺動場を形成する。つまり、複数の圧電素子 363に 3 [KW]程度の電圧を 印加して、 45 [KHz]程度の超音波揺動場を形成させ、同時に、転写電極 362に— 500 [V]程度の電圧を印加して、金属フィルム 12 (導電部材)との間で電界を形成す る。これにより、凹部 14a内に付着していたトナー粒子 55を剥離させ、その一部を転 写電極 362側に吸着させることができる。
[0263] 特に、凹部 14aのトナー粒子 55が乾燥して強固に付着しているような場合には、液 供給ノズル 351を介してプリウエット液 Lを供給するだけでは、図 66に示すように、凹 部 14aの底部までクリーニング液 Lを充分に浸透させることができない。つまり、液供 給ノズル 351を介してクリーニング液 Lを原版 1の表面に供給するだけでは、液浸透 部と液未浸透部とに分かれてしまう。
[0264] このため、本実施の形態のように、クリーニング液 Lを通る超音波を印加することに より、図 67に示すように、短時間で充分にクリーニング液 Lを凹部 14aの底部まで浸 透させることができ、液中でのトナー粒子 55の揺動により、トナー粒子 55の凹部 14a 底部からの剥離と、粒子同士の剥離が容易になる。また、この状態で、転写電極 362 と原版 1との間で電界を形成することで、クリーニング液 L中を浮遊している一部のト ナー粒子 55をクリーニング液 Lとともに液受けトレィ 367へ流すことができる。
[0265] さらに、原版 1の回転方向 Rに沿って前処理ユニット 352の下流側に配置された吹 き付け除去ユニット 353を介して、原版 1の表面に残留したトナー粒子 55にタリー- ング液 Lを吹き付けて、特に、凹部 14a内に付着したトナー粒子 55をクリーニングす る。このとき、吹き付け除去ユニット 353は、図 68に示すように、凹部 14aに残留して いるトナー粒子 55に二方向(図中矢印方向)の高圧の液流を吹き付けて、凹部 14a の角に残留したトナー粒子 55を吹き飛ばすようにクリーニングする。これにより、凹部 14aに残留していたトナー粒子 55を略完全に原版 1から除去することができる。
[0266] なお、上述した前処理ユニット 352において、電界の作用によって転写電極 362に 一旦吸着されたトナー粒子 55は、電界を消失させた状態で引き続き液供給ノズル 35 1からの液供給を受けることにより、転写電極 362表面力も洗い流される(図示せず) 。この時、超音波揺動場は、より洗浄効果を高めるために形成したままの状態にする ことが望ましい。
[0267] なお、本実施の形態では、ケース 361は、 SUS製であり、転写電極 362は、厚さ 1 [ mm]の SUS板を、接着剤を介して、ケース 361に固定的に取り付けられている。また 、各圧電素子 363は、直径 45 [mm]、高さ 60[mm]程度の円柱状ケース内に圧電 体を収納した素子であり、転写電極 362全面に渡って複数個配置され、接着剤層 36 4を介して、ケース 361に固定的に取り付けられて 、る。
[0268] また、本実施の形態では、吹き付け除去ユニット 353を通過した原版 1の表面は、 清浄なクリーニング液 Lの薄い液膜が形成されたままの状態で次のプロセスに移行 することになるが、ここでは図示しない乾燥機を通過して液膜を除去した後に除電工 程に移っても良い。また、本実施の形態においても、上述した第 7および第 8の実施 の形態と同様に、吹き付け除去ユニット 353を通過した原版 1の表面にブレードや吸 引スポンジローラなどの液除去部材を接触させて液膜を除去するようにしても良い。
[0269] また、第 9の実施の形態のクリーニング装置 350では、液供給ノズル 351を介して供 給するプリウエット液 Lと、吹き付け除去ユニット 353から供給されるクリーニング液しと のタンクを分けた構成でもよい(図示せず)。即ち、プリウエット液 L1には、金属石鹼 の添加量を 0. 3重量%程度の導電性クリーニング液を用い、吹き付け除去ユニット 3 53のクリーニング液 L2には絶縁性溶媒単体を用いることにより、吹き付け除去工程 で確実にプリウエット液 L1の除去ができることから、次の現像工程への影響を防ぐこと ができる。
[0270] なお、この発明は、上述した実施の形態そのままに限定されるものではなぐ実施 段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体ィ匕できる。また、上 述した実施の形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより種 々の発明を形成できる。例えば、上述した実施の形態に示される全構成要素力も幾 つかの構成要素を削除しても良い。更に、異なる実施の形態に亘る構成要素を適宜 組み合わせても良い。
[0271] 例えば、本発明は、あら力じめ凹部 14aによるパターンが形成されている原版 1を用 いるパターン形成装置のみに限定されるものではなぐ周知の電子写真法によって、 感光体表面に静電潜像を形成し、これを液体現像剤で現像して転写する装置にも適 用できる。
[0272] また、上述した実施の形態では、現像剤粒子を正に帯電させてパターン形成装置 を動作させる場合について説明したが、これに限らず、全ての構成を逆極性に帯電 させて動作させても良い。
[0273] また、上述した実施の形態では、平面型画像表示装置の前面基板に蛍光体層や カラーフィルターを形成する装置に本発明を適用した場合についてのみ説明したが 、本発明は、他の技術分野における製造装置として広く利用できる。
[0274] 例えば、液体現像剤の組成を変更すれば回路基板や ICタグなどにおける導電パ ターンを形成する装置に本発明を適用することも可能である。この場合には、液体現 像剤を、例えば、平均粒径 0. 3 [ m]の榭脂粒子と、その表面に付着している平均 粒径 0. 02 [ m]の金属微粒子(例えば銅、パラジウム、銀など)と、金属石鹼のよう な電荷制御剤から構成すれば、上述した実施の形態と同様の手法により、例えばシ リコンウェハー上に現像剤による配線パターンを形成することもできる。一般に、この ような現像剤のみで十分な導電性を有する回路パターンを形成することは容易では な!、ので、パターン形成後に上記の金属微粒子を核としてメツキを施すことが望まし い。このようにして、導電性回路や、コンデンサー、抵抗などのパターユングを行うこと も可能である。
[0275] 以下、この発明の他の実施の形態に係るパターン形成装置について説明する。
[0276] 本発明のパターン形成装置は、イオン性化合物を含有するトナー、及びキャリア液 を含む液体現像剤を用いて現像を行った後、転写前、あるいは転写後に、トナー固 形分、トナーに含まれていたイオン性ィ匕合物、及びキャリア液を含んだ廃液を回収し 、廃液中のトナー固形分とイオン性ィ匕合物を除去した後、再生されたキャリア液を、 現像ユニット、もしくはクリーニングユニットに戻して再利用するための廃液処理ュ- ットを備える。
[0277] 本発明のパターン形成装置では、廃液処理ユニットが、直径 30〜: LOO μ m大きさ の空隙を持つ導電性の障壁構造体を含む濾過器を有し、その濾過器の濾過フィル ターとして、障壁構造体表面に、粒度分布の最大頻度を示す粒径が 5 m〜 100 mである吸着剤粒子を適用して 0. 5mn!〜 1 Ommの厚さの吸着剤粒子層を形成して 、廃液を、吸着剤粒子層の粒子間の隙間を通して障壁構造体側に通過させながら、 この吸着剤粒子間の隙間の濾過作用により物理的にトナー固形分を除去し、吸着剤 粒子の吸着作用によって化学的にイオン性ィ匕合物を除去することで、キャリア液を再 生する。
[0278] 本発明に使用される液体現像剤は、微粒子であるトナー固形分と、イオン性化合物 とを含有したキャリア液で構成され得る。
[0279] キャリア液として、石油系高絶縁性溶媒例えばェクソン社製ァイソパー L等を用いる ことができる。トナー固形分として、例えば着色剤を含浸および Zまたは付着させた 平均粒径 0. 05 m〜l m程度の榭脂微粒子、榭脂として例えば高絶縁性溶媒に 不溶な主鎖と高絶縁性溶媒に可溶な側鎖力 なるグラフト共重合体が挙げられる。
[0280] 着色剤としては、無機顔料、有機顔料、染料などの 1種または 2種以上を用いること ができる。現像剤中のトナー固形分の比率は 0. 5重量%〜30重量%に調整される。
[0281] イオン性ィ匕合物は、トナー固形分の荷電特性を調整するために添加されるもので、 例えばナフテン酸、ォクチル酸、及びステアリン酸などの金属塩、エチレンジァミン四 酢酸金属錯塩、リン酸亜鉛などが挙げられ、これらの 1種または 2種以上を用いること ができる。これらのイオン性化合物は通常、トナー固形分に対して過剰に添加される ものであり、大部分はトナー微粒子表面に化学的、あるいは物理的に吸着されるが、 一部はキャリア液中に含有される。イオン性ィ匕合物の添加量は、例えばトナー固形分 に対して 5重量%〜30重量%程度である。
[0282] 本発明に使用される吸着剤粒子は、絶縁性溶媒中で帯電特性を示す。吸着剤粒 子を、予め所定濃度で絶縁性溶媒中に分散させて吸着剤粒子分散液を作成し、こ の状態で導電率を測定しておく。障壁構造体表面から、内部へと流れる流路に従つ て、この吸着剤粒子分散液を流すことにより、障壁構造体表面に吸着剤粒子が堆積 し、吸着剤粒子層が形成される。障壁構造体は導電性部材で形成されており、吸着 剤粒子を堆積させる際に障壁構造体に所定の電位を与えて、吸着剤粒子層の形成 をより緻密に、より早く行うことも可能である。この状態で、廃液を流すと、障壁構造体 表面に堆積された吸着剤粒子層内の、吸着剤粒子同士が形成する僅かな隙間を通 過する際に、トナー固形分は物理的に目詰まりを起こして吸着剤粒子層に付着除去 されると同時に、イオン性ィ匕合物は吸着剤本体の吸着作用によって化学的に吸着除 去される。
[0283] 本発明に使用される吸着剤粒子としては、例えば珪藻土、ゼォライト、ノ、イド口タル サイト、及びカーボン等を用いることができる。この吸着剤粒子は、 5 μ m〜100 μ m の間の範囲内に粒度分布の最大頻度を持ち、吸着剤粒子の堆積層の厚さを 0. 5m m〜10mmの範囲とすることにより、沈殿法に比べ、通過する液量として十分な量が 確保でき、廃液の通過中に接触する吸着剤の表面積が大きいことから、使用する吸 着剤の量も少量で十分な吸着能力を発揮することが可能で、単位重量当たりの吸着 剤の吸着効率を向上させることが出来る。
[0284] 吸着剤粒子の粒度分布の最大頻度が 5 μ m未満であると、障壁構造体表面、及び 間隙に保持されず、廃液とともにろ過器を通過する吸着剤粒子が多くなり、処理済み の廃液として再使用に適さなくなるという傾向があり、
100 mを超えると、障壁構造体の表面に吸着剤粒子を高密度で緻密に堆積させる ことが困難となり、液の循環に際して安定した吸着剤堆積層を形成出来なるとともに、 吸着剤粒子間の間隙が大きくなるため、物理的なろ過作用によりトナー固形分を除 去することが困難となり、処理済みの廃液として再使用に適さなくなるという傾向があ る。
[0285] なお、ここでいう粒度分布は、例えば、コールターカウンターにより、電解液中に懸 濁された粒子が所定の径を有するアパーチャ一チューブを通過する際に粒子体積 に相当する電解液が置換され、アパーチャ一の両側に設置した電極間に流した電流 値が変化することにより測定された粒子の数とサイズの計測値である。
[0286] また、吸着剤粒子は、 5 μ m〜100 μ mの粒径を有する粒子力 全粒子の分布頻 度の 80%以上であることが好まし 、。
[0287] また、吸着剤粒子層の厚さが 0. 5mm未満であると、吸着剤粒子間の間隙で形成 される廃液の隘路が短いため、十分な物理的ろ過作用によりトナー固形分を除去す ることが困難になるとともに、廃液が通過する際に接触する吸着剤の表面積が小さい ため、吸着剤の吸着効率が著しく低下するという傾向があり、 10mmを超えると、吸着 剤粒子間の間隙で形成される廃液の隘路が長いため、廃液を通過させるために高い 圧力が必要となり、液の循環が滞る傾向がある。
[0288] 吸着剤粒子の交換の際は、例えば廃液処理工程後に、障壁構造体の内部から逆 に絶縁性溶媒を流すことにより、障壁構造体表面から容易に吸着剤が離脱し、吸着 剤粒子層を剥離することが出来る。剥離させた吸着剤粒子は、別途取り出し口から取 り出し、新たな吸着剤を投入することで、廃液処理ユニットの吸着能力を簡単に維持 することが出来る。
[0289] また、特に液体現像剤として、 1 μ m以上の粒径を有する微粒子と、 1 μ m未満の微 粒子、及びイオン性化合物を含んだ系を処理する場合、複数の処理槽を有する廃液 処理ユニットを使用することができる。第一槽では μ m以上の粒径の微粒子を除去
、第二以下の槽では 1 μ m以下の微粒子及びイオン性ィヒ合物の除去を行うことがで きる。第一槽の処理液が一定量に達した時、第二以下の処理槽を稼動させ、 1 μ m 以下の微粒子、若しくはイオン性ィ匕合物処理槽である第二槽は、吸着剤の投入口と 取り出し口と、吸着剤の保持体である 30〜: LOO μ mの空隙を持つ障壁構造体を有し 、第二槽は廃液の再生処理工程中、必要に応じ、装置本体と独立した循環系を形成 して、廃液再生処理工程が終了後、液を装置本体に戻す構成を特徴とする請求項 1 記載の廃液処理ユニットを持つパターン形成装置である。 1 μ m以上の微粒子は沈 殿しやすいため、第一の処理槽で沈殿させ、例えばその上澄み液を抜き取る、ある いは沈殿物を抜き取ることにより、十分に分離、除去できる。第一槽で 1 m以下の微 粒子を取り除いた廃液を、第二以下の処理槽で、 1 μ m以下の微粒子、及びイオン 性ィ匕合物の除去を行うことにより、十分なレベルで吸着剤の吸着効率を維持できる。
[0290] さらに、廃液処理工程後に、トナー固形分とイオン性ィヒ合物を表面に付着させた吸 着剤を所定濃度で分散させた溶液の導電率を測定すると、初期の吸着剤本体を所 定濃度で分散させた溶液の導電率より低い値となることが実験的に得られている。よ つて、予め所定濃度で吸着剤をキャリア液として使用される絶縁性溶媒に分散させた 状態で導電率を測定しておき、廃液処理工程後に、障壁構造体表面から吸着剤を 剥離させ、所定濃度に分散させたモニター液を採取して導電率を測定する。一定値 以上の数値を示す場合には、吸着剤の吸着能力が飽和していないと判断され、再び 吸着剤を障壁構造体表面にコーティングして、廃液処理を続ける。導電率が一定値 以下の数値を示した場合には、吸着剤がトナー固形分とイオン性ィ匕合物を十分吸着 して飽和状態に近 、ことを示すことから、吸着剤を取り出し口力 ユニット外に除去し 、新しい吸着剤を投入することにより、続けて、廃液処理ユニットの再生を行うことが 容易となる。
[0291] 本発明によれば、吸着剤同士が形成する隘路を廃液が通過する際に、接触する吸 着剤の表面積が大きいことから、吸着剤の吸着効率を向上させることが出来る。また 、単に、濾過器を通してイオン性ィ匕合物及びトナー固形分を同時に除去してキャリア 液を再生することが可能であるため、単位時間当たりの処理能力が良好である。さら に、沈殿しやすい吸着剤の攪拌機構が不要となり、吸着剤を所定濃度で分散させた 溶液の導電率をモニターすることで、吸着剤の交換時期を簡便な方法で検知できる という利点を持つ。
[0292] 以下、図面を参照し、本発明を具体的に説明する。
[0293] 図 69は、本発明の他の実施態様に係るパターン形成装置の一例の概要を表す模 式図を示す。
[0294] このパターン形成装置 472は、図 69に示すように、微細パターンが形成される感光 体ドラム 401と、感光体ドラム 401に対向して設けられ、液体現像剤を用いてトナー 像を現像するための現像ユニット、感光体ドラム上に形成されたトナー像の余剰の現 像液を除去する乾燥ユニット、トナー像を転写媒体に転写する転写ユニット、転写後 の感光体ドラム 1の表面をクリーニングするクリーニングユニットを有するパターン形 成部と、微細パターン形成部から排出された廃液を処理して再生するための廃液処 理機構 406とを含む。
[0295] 現像ュ-ッ卜は、帯電器 402— 1, 403- 1, 404—1、レーザ露光 402— 2, 403—
2, 404— 2、及び現像器 402— 3, 403— 3, 404— 3を有する。
[0296] 乾燥ユニットは乾燥フード 405— 2を有する。
[0297] 転写ユニットは感光体と接触して回転し得る一次転写ローラ 407、転写媒体 409を 介して一次転写ローラ 407を押圧しながら同期して回転し得る二次転写ローラ 408を 有する。 [0298] クリーニングユニットは、クリーナ 410を有する。
[0299] 次に、トナー像の形成工程を以下に述べる。
[0300] 使用される感光体ドラム 401は、例えば有機系、若しくはアモルファスシリコン系の 感光層を有する。
[0301] 現像ユニットでは、感光体ドラム 401の表面を帯電器 402— 1で帯電させた後、レ 一ザ露光器 402— 2により 1色目のパターン情報に応じて選択的に潜像が形成され、 現像器 402— 3により 1色目の液体現像剤を供給することにより、静電潜像が現像さ れる。
[0302] 使用される液体現像剤は、例えば、キャリア液としてエタソン社製ァイソパー L、トナ 一固形分として着色剤を含浸および Zまたは付着させた平均粒径 0. 05 m〜l m程度の榭脂微粒子、及びイオン性ィ匕合物としてナフテン酸塩を含む。
[0303] また、榭脂としては、例えば高絶縁性溶媒に不溶な主鎖と高絶縁性溶媒に可溶な 側鎖力 なるグラフト共重合体を用いることができる。
[0304] 2色目のパターン、 3色目のパターン以降も同様に、帯電器 403— 1, 404— 1、レ 一ザ露光器 403— 2, 404-2,現像器 402— 3, 403-3, 404— 3で各々現像され る。感光体ドラム 401上に形成されたトナー画像は余剰の現像液を含んでおり、後続 の乾燥ュニットにおいて、貫通孔を設けた中空シャフトに連泡スポンジ層を形成し、 中空シャフト内部から吸引除去する構成の溶媒回収ローラ 405— 1で 85%以上の余 剰液を吸引除去される。その後、乾燥フード 405— 2下において、スリットノズルから 吹き付けられる 80mZSの高速風により、残りの現像液が除去され、トナー固形分 90 %以上の状態で、次の転写工程に移る。
[0305] 転写工程では、中空のシリコンゴムローラ力 なる一次転写ローラ 407内部にヒータ を入れ、シリコンゴム層を 100°Cに保持した状態で、加圧加熱により一次転写ローラ 4 07上に一次転写する。さらに、二次転写ローラ 408を介して、記録媒体である用紙 4 09に転写される。転写工程を経た後の感光体ドラム 401は、クリーニング工程に移り 、クリーニング液供給ノズルとスポンジとブレードで構成されるクリーナ 410により、転 写残りのトナーをクリーニング液とともに回収する。
[0306] また、このパターン形成装置では、廃液として、溶媒回収ローラ 405— 1から吸引除 去された余剰現像液と、クリーナ 410で回収されたトナー微粒子を含むクリーニング 液が排出される。これらは、いずれも 1 μ m以下のトナー微粒子と、イオン性化合物で あるナフテン酸塩いわゆる金属石鹼を含んでいる。これらの廃液は、クリーナ 410に 接続され、ここ力 廃液を抜き取るための廃液回収ライン 411— 1,及び溶媒回収口 ーラ 405 - 1に接続され、ここ力 廃液を抜き取るための廃液回収ライン 411 - 2を介 して、廃液処理機構 406に送られる。そこで、トナー固形分と金属石鹼分を除去した キャリア液に再生される。再生されたキャリア液は、再生液供給ライン 412を介して、 例えば各現像器 402— 3, 403- 3, 404— 3ゃクリーナ 410に戻され、再利用される
[0307] 図 70に、本発明に係るパターン形成装置に適用される廃液処理機構の一例の構 成を説明するための模式図を各々示す。
[0308] 図 70に示すように、廃液処理機構 406では、廃液回収ライン 411— 1, 411 2及 び廃液回収ライン 411を通して回収された廃液力 廃液タンク 415に集められる。ト ナー固形分と金属石鹼分を同時に除去することができる吸着剤粒子として、粒径 5 μ m〜 100 mの間の範囲内に粒度分布の最大頻度を持つハイド口タルサイト系吸着 剤微粒子である協和化学工業製 キヨ一ワード 2000を用いることができる。このキヨ 一ワード 2000を 80g、吸着剤投入口 413から投入し、初期導電率計測タンク 414に おいて、ァイソパー L中に 10重量%の濃度で分散させる。この状態で導電率を計測 したところ、 3pSZcmであった。この分散液を廃液タンク 415に加え、バルブ 417aを 開け、ポンプ 416で濾過器 418に組み上げる。濾過器 418は、内部にフィルター 419 を内蔵し、フィルター 419を通過した廃液は、バルブ 417dを閉じた状態で、バルブ 4 17b, cを開け、ろ過液循環ライン 420と第二ろ過循環ライン 421を介した循環パスを 通り、ー且廃液タンク 415に戻る。ここで図 70の Mは導電率計を意味し、 Cはトナー 粒子濃度計を意味する。
[0309] なお、上記では、この分散液を廃液タンク 415に加え、廃液とともにポンプ 416で濾 過器 418に組み上げ、フィルター 419の表面に吸着剤粒子層を形成した力 場合に よっては、初期導電率計測タンク 414から、廃液タンク 415を経ない図示しないバイ パスによりポンプで直接、濾過器 418に組み上げ、フィルター 419の表面に吸着剤 粒子層を形成する方法でもよい。また、初期導電率計測タンク 414には、その内部に 攪拌器を備えておくと、分散液の導電率を正確に計測することが出来ると同時に、吸 着剤を十分長時間に渡って均一な濃度で分散させることが可能となり、直接、バイパ スを通って濾過器 418に組み上げる際の効率が向上することは言うまでもない。
[0310] 図 71は、廃液処理機構に使用される濾過器の一例の構成を表す模式図である。
[0311] 濾過器 418の構成は、フィルター収納容器 418— 1の内部に、 30 /ζ πι〜90 /ζ πιの 空隙を持つ導電性の障壁構造体 419 1を有する。この例では、障壁構造体 419 2として、例えばェルゴテック社製の直径 15mm、長さ 250mmで、障壁構造体間隙 4 19— 4が 90 mであるコイルばねを用いる。
[0312] 図 72は、図 71の障壁構造体の一部を拡大した図を示す。
[0313] 吸着剤粒子を分散させた液を添加した廃液を、吸い上げポンプ 416の圧力 2kgf、 6リットル Z分の流量で循環させると、廃液が第一循環パスで濾過器 418を通過する 際に、図 72に示すように、 90 /z mの間隙 419— 4に吸着剤微粒子 419— 3が堆積し て付着し、コイルパネ 419 1表面には厚さ 8mmの吸着剤粒子層 419-2が形成され る。
[0314] 図 73は、図 72の吸着剤粒子層における動作の一例を説明するための図を示す。
[0315] 図 73に示すように、廃液中の図示しないトナー固形分は、コイルパネ 419 1表面 に形成された吸着剤粒子層 419— 2内の、吸着剤粒子 419 - 3同士が形成する僅か な隙間を通過する際に、物理的に目詰まりを起こして吸着剤粒子層 419— 2に付着 除去され、金属石鹼分であるイオン性ィ匕合物は吸着剤粒子 419 3の吸着作用によ つて化学的に吸着除去される。廃液に含まれているトナー微粒子と金属石鹼量に応 じて、廃液を複数回、循環パスで循環させることにより、廃液中のトナー固形分と金属 石鹼分をほぼ完全に除去できる。
[0316] 実験例として、吸着剤としてキヨ一ワード 2000を用いた時の、吸着剤が除去できる 金属石鹼量を調べた。
[0317] 図 74に、吸着剤投入量と除去された金属石鹼量との関係を表すグラフ図を示す。
[0318] 数種類の金属石鹼濃度のァイソパー L溶液 500mlに種々の重量の吸着剤を各々 投入し、攪拌しながら長時間経過後の、液に残留する金属石鹼濃度を調べた。その 結果を、各々、グラフに示す。金属石酸濃度は、液の導電率に比例し、予め金属石 鹼濃度と導電率の換算グラフを作成することにより、液の導電率を測定することで液 中の金属石鹼分を求めることが出来る。液中の導電率を測定する場合には、攪拌を 中止し、十分吸着剤が実験槽の底部に沈殿する十分な時間を経過した後、上澄み 液を採取し、導電率を測定した。図 74のデータは、吸着剤を投入した液を 1ヶ月以上 攪拌し、各サンプルの投入重量に対して、十分長期に渡って導電率が変化しないこ とを確認したものであり、ほぼ飽和重量に近 、数値を示して!/、る。
[0319] 次に、図 74のデータを基に、吸着剤としてキヨ一ワード 2000を用いた時の循環回 数と石鹼分除去量を調べた。
[0320] 図 75に、廃液処理ユニット内の循環回数と金属石鹼除去量とを表すグラフ図を示 す。
[0321] ァイソパー L溶液 500mlに各々、 20g, 50g, 80gの重量の吸着剤を各々投入し、 廃液処理ユニット 16内を循環させた。
[0322] 吸着剤 80gを投入した場合には、 4回循環させた時点で廃液中に含まれた金属石 鹼分のほぼ全量が除去された。金属石鹼を 20g含んだ廃液を 18リツトル用 、た場合 、 4回の循環に要した時間は僅か 12分であった。この廃液再生処理ユニットを用いた ことにより、吸着剤の吸着能力の限界近くまで金属石鹼分の除去を行うのに、極めて 短時間で再生処理が完了した。
[0323] 使用される吸着剤は、ァイソパー L中で僅か〖こ導電性を示す。吸着剤としてキヨーヮ ード 2000を用い、ァイソパー Lに吸着剤のみを 10重量%濃度で分散した液を作成 し、導電率を計測すると、 3pSZcmであった。
[0324] 図 75のデータから、吸着剤 80gがほぼ完全に金属石鹼分を吸着し、飽和した状態 になるまでに金属石鹼を約 20g吸着除去することが分力つて 、た。ほぼ完全に金属 石鹼分を吸着した吸着剤の 10重量%濃度のァイソパー L分散液の導電率は、 0. 3p SZcmに下がっていた。 80gの吸着剤が 20gの金属石鹼分を吸着した状態を飽和 度 100%とし、途中の吸着量と導電率の関係を求めた。
[0325] 図 76に、吸着剤粒子の飽和度と廃液の導電率との関係を表すグラフ図を示す。
[0326] 吸着剤を 10重量%濃度で分散したァイソパー L溶液で、 0. 75pSZcmは基準の 導電率であり、石鹼分を 90%近く吸着した状態で、吸着能力の限界に近いことが分 力る。 このデータを利用して、吸着剤の交換時期の目安を検知する方法を以下に 述べ。。
[0327] 吸着剤は、予め投入する際に初期導電率計測タンクで、ァイソパー Lを添加し、 10重 量%濃度とした状態で、導電率を計測した。初期の吸着剤のみの導電率は 3pSZc mであった。
[0328] 廃液回収ライン 411から回収された廃液は、トナー微粒子と金属石鹼分を含んでい る。廃液タンク 415の導電率とトナー固形分濃度を計測した時、導電率は 80pSZc m、固形分濃度は 2重量%であった。この廃液と、上記の、新規吸着剤 10重量%濃 度のアイソパー L分散液を加えたものを、 6リットル Z分の流量で第一循環パスにお いて 4回循環させた後、ー且液の循環を止め、ろ過液循環ライン 420に設置したモ- ターで導電率とトナー固形分濃度を計測した。この時、導電率は純ァイソパー Lの導 電率である 0. 03pSZcmの数値を示し、固形分濃度も検出限界以下であった。そこ で、バルブ 417cを閉じ、バルブ 417dを開けた状態で、再生液ライン 422を介して、 ろ過液を再利用タンク 423に入れた。再利用タンク 423からは、適宜、再生液供給ラ イン 412を介して、現像ユニットとクリーニングユニットへの供給が行なわれる。
[0329] また、この時、ろ過液の一部を残し、ノ レブ 417aと、バルブ 417bを閉め、バルブ 4 17e、 1¾開け、濾過器に高圧エア供給弁 428から高圧エアを供給し、コイルパネ 419 —1表面力も吸着剤を剥離、吸着剤をろ過後導電率計測タンク 424に、液を一時溜 めタンク 426に入れ、吸着剤とろ過液を一時的に分離した。吸着剤の入ったろ過導 電率計測タンク 424にァイソパー Lを入れ、吸着剤の 10重量%濃度の分散液を作成 、この状態で導電率を計測した結果、導電率は 0. 55pSZcmに下がっていた。
[0330] 図 76に示す実験結果から、吸着剤の 10重量%濃度での導電率が吸着剤交換目 安である 0. 75pSZcm以下であったことから、今回投入した 80gの吸着剤はほぼ吸 着能が飽和した状態に近いと判断され、投入した吸着剤を全て取り出し口 425から 除去した。
[0331] 廃液タンク 415には廃液回収ライン 411から廃液が回収され、投入口 413から新た な吸着剤を加え、初期導電率計測タンク 414において、ァイソパー L中の所定濃度 で初期の導電率を計測した後、廃液タンク 415に加え、再び、同様の廃液処理を行 つた o
[0332] 上記実験例では、使用した吸着剤分散液の導電率を計測した結果、交換目安とし た基準の導電率以下の値であったため吸着剤を廃棄したが、所定数値以上の導電 率を示した場合には、まだ十分吸着能力があると判断され、バイパスライン 427を介 して吸着剤を廃液タンク 415に戻し、再び廃液とともに組み上げて、障壁構造体 419 —1表面への堆積、付着を行い、吸着剤粒子層 419— 2を形成することにより、廃液 再生処理を続行することができる。
[0333] 上記実験例では、障壁構造体として、コイルパネ 419 1を用いた力 他の形状の 障壁構造体を使用することができる。
[0334] 図 77に、廃液処理機構の濾過器に使用される障壁構造体の他の一例の構成を表 す模式図を示す。
[0335] 図 78に、図 77の障壁構造体を部分的に拡大した図を示す。
[0336] 障壁構造体の他の例として、例えば側面に直径 0. 5mmの貫通孔を複数個設けた 外径 10mm、内径 8mmの中空シャフト 430— 2に、障壁構造体間隙 430— 5として 気泡径 30 μ mないし 100 μ mを有するウレタン系連泡スポンジ 430— 3を厚さ 3mm で形成した構成を有する障壁構造体 430— 1があげられる。この場合、スポンジ表面 に 0. 5ないし 2mmの厚さの吸着剤粒子層 430— 4を形成し得る。
[0337] 図 79に、液処理機構の濾過器に使用される障壁構造体のさらに他の一例の構成 を表す模式図を示す。
[0338] 図 80に、図 79の障壁構造体の模式的な断面図を示す。
[0339] 障壁構造体は図 79に示すような箱型で、側面 431がフィルター機能を有し、対向 する一対のフィルター 431— 1をフィルター 431— 1の端部間に設けられた支持体 43 2で一定距離を保つように保持し、フィルター 431の主面力も液流を流入させる構成 でもよい。この場合、フィルター 431を構成する障壁構造体 431— 1は、表側から裏 側への貫通孔を設けた厚さ 3mmのステンレス板で、表側に 5〜: LOmmの厚さの吸着 剤粒子層 431 - 2が形成されて 、る。
[0340] 図 81は、フィルター 431—1として使用されるステンレス板の構成を示す図である。 [0341] ステンレス板 431— 1は、塩ィ匕第二鉄系のエッチング液などにより、表側からエッチ ング処理を行うことで、図示するように、連続的に開口径が変わる貫通孔が形成され る。
[0342] 図 82に、図 81の障壁構造体間隙の断面の状態を表す模式図を示す。
[0343] 障壁構造体間隙 431—4としての、表側の平均開口径 d3は 60 μ m〜80 μ mの範 囲であり、裏側の平均開口径は 30 μ m〜40 μ mの範囲であった。上記、中空シャフ トと連泡スポンジの構成と、貫通孔 413— 2を設けたステンレス板の構成で、それぞれ 、粒径 5 m〜: LOO /z mの間の範囲内に粒度分布の最大頻度を持つハイド口タルサ イト系の吸着剤粒子層 431— 2を表面に保持し、廃液の再生処理を行った結果、とも にトナー固形分とイオン性ィ匕合物の除去に有効で、短時間で、吸着剤の吸着能力を 最大限に利用した廃液再生処理が可能となる。
[0344] 図 83に、本発明のさらに他の実施態様に係るパターン形成装置の一例の概要を 表す模式図を示す。
[0345] このパターン形成装置 471は、微細パターンが形成されるパターン形成ユニット 45 0と、廃液の再生処理を行う廃液処理ユニット 460とに分かれて 、る。
[0346] ノターン形成ユニット 450は、凹版ドラム 451と、凹版ドラム 451上に微粒子層を形 成するための現像ユニット 452と、凹版ドラム 451を記録媒体 454に対向させた位置 で微粒子パターンを転写するバックアップローラ 453と、転写工程後、凹版ドラム表 面に残留した現像粒子を除去するクリーナ 455を有する。
[0347] 現像ユニット 452は、凹版ドラム 451の表面を帯電する図示しない帯電器を含む。
クリーナ 455は、キャリア液であるアイソパー Lをキャリア液タンク 456から吸!、上げ、 ノズルで凹版ドラム 451表面に供給し、図示しない吸引スポンジローラで廃液と残留 現像剤を同時に回収する機構である。回収された廃液は、廃液回収ライン 461により 廃液処理ュ-ット 460に回収される。
[0348] キャリア液タンク 456には新規のァイソパー Lと、廃液処理ユニット 460から再生液 供給ライン 470により送られた再生液が混合され、クリーナ 455に供給されるとともに 、現像剤タンク 457にも供給され、コンク現像液タンク 458から供給される高濃度の現 像液と混合され、所定の濃度の現像液として、現像ユニット 452で用いられる。 [0349] 図 84に、図 83のパターン形成装置に用いられる凹版ドラムの構成を説明するため の図を示す。
[0350] 図示するように、この凹版ドラム 451の構成は、ドラム表面 451— 1に、ポリイミドゃ P ET、 PEN等の榭脂材料やガラス材料等からなる 20 μ m〜50 μ m程度の厚みの絶 縁性の電極保持体 451— 2と、その上に形成された微細パターン形成電極 451— 3 、電極保持体 451— 2裏面に設けられた図示しない共通電極、及び微細パターン形 成電極 451 - 3にお!/、て凹部パターン 451 - 4を形成するための高抵抗層 451 - 5 を有する。
[0351] 共通電極は、アルミニウム、ステンレス等の導電性材料力 構成され、 100 μ mな!ヽ し 3000 μ m程度の厚みを有する。
[0352] 高抵抗層 451— 5は、例えば、ポリイミド、アクリル、ポリエステル、ウレタン、エポキシ 、テフロン (登録商標)、ナイロンなどの体積抵抗率が 1010 Ω cm以上の材料 (絶縁 体を含む)により形成され、その膜厚は、 πι〜30 /ζ mである。
[0353] なお、各微細パターン形成電極 451—3では、図示しない電源装置から、図示しな い配線電極を通じて所定の電圧が供給され、各電極群は電気的に独立しているた め、各電極群には異なる電圧が供給できるようになって 、る。
[0354] 現像ユニット 452は、例えば図示しな 、第 1な 、し第 3の現像剤供給部と、図示しな い第 1ないし第 3の余剰液除去部を有し、これにより、現像剤は凹版表面 451— 1に 供給される。現像剤供給部を構成する微粒子含有液供給ローラが凹版ドラム 451上 の高抵抗層 451— 5と 100〜200 m程度のギャップをおいて対向して配置され、余 剰液除去部を構成する余剰液除去ローラが高抵抗層 451— 5と 30〜60 m程度の ギャップをお 、て対向するように位置する。
[0355] 現像剤は、顔料や染料等の色素材料、蛍光材料等の機能性材料を含むトナー粒 子 451— 6を絶縁性の溶媒中に分散させた構成を有し、トナー粒子 451 - 6は絶縁 性溶媒中で帯電している。帯電器は、例えばスコロトロン帯電器で、凹版ドラム 451 表面から l〜2mm程度のギャップを介して設けられている。また、グリッド電極を有し な 、コロトロン帯電器、ワイヤーを使用しな 、イオン発生器等も使用可能である。
[0356] 凹版ドラム 451は、現像ユニット 452の帯電器により、高抵抗層 451—5の表面のみ が例えば +400V程度に帯電された後、現像剤の供給を受け、所望の凹部パターン 451— 4内の微細パターン形成電極 451— 3上にトナー粒子 451— 6のトナー層を形 成する。次に転写工程において、転写媒体 454と対向した位置に配置され、凹版ドラ ム 451の所望の凹部パターン 451—4内の微細パターン形成電極 451— 3上に形成 されたトナー粒子 451— 6の現像層は、凹版ドラム 451裏面と、導電体層を有する転 写媒体 454とを密着、或いは、 30〜400 m程度のギャップを介して対抗させ、微細 パターン形成電極 451— 3に + 100V、導電体層に 10kVのバイアス電圧を印加 することにより、凹部パターン 451—4に形成されたトナー粒子 451—6の現像層は転 写媒体 454に転写され、転写媒体 454上にトナー粒子のパターンが形成される。
[0357] 転写工程を経たのち、凹版ドラム 451は、凹部パターン 451— 4に残留したトナー 粒子の除去工程に移る。クリーナ 455は、凹版ドラム表面 451— 1〖こ、図示しないタリ 一-ング液供給部材である二流体ノズルから、液圧 0. 5MPa、エア圧 0. 5MPaで、 クリーニング液としてキャリア液を供給する。凹部パターン 451— 4内に残留したトナ 一粒子 451— 6はクリーニング液の突出圧により凹版表面力も剥離し、クリーニング液 中に遊離した状態となり、吸引スポンジローラを接触させることにより、クリーニング液 とともに遊離した微粒子を吸引除去することができる。クリーナ 455に使用される吸引 スポンジローラは、複数の貫通孔を有する中空パイプと、その上に形成された平均気 泡径 70 μ mの連泡を有した厚さ 7mmのウレタン系スポンジ層(JIS-C硬度 30)を有し 、中空ノイブは吸引ポンプに接続され、クリーニング液とトナー粒子は、スポンジ層の 連泡と中空ノイブを介して凹版表面 451— 1から除去され、廃液回収ライン 461を通 つて、廃液処理ユニット 460に送られる。
[0358] トナー粒子の除去工程を経た凹版ドラム 451は、乾燥工程を経て、除電工程で除 電され、次のパターン形成動作に移る。
[0359] 回収された廃液中のトナー固形分には、平均粒径が 1 μ m以下のトナー榭脂母材 や色素材料と、平均粒径が 4〜6 /ζ πιの蛍光材料、及び金属石鹼の主に 3種類が含 まれている。廃液処理ユニット 460では、まず廃液を第一処理槽 462に溜め、粒径が 大きぐ沈殿しやすい: m以上の蛍光材料を沈殿させる。第一処理槽 462におい て、廃液が所定の貯蔵量に達するとともに、蛍光材料の沈殿が終了した時点で、バ ルブ 466eを開け、廃液を第二処理槽 463に送る。第一処理槽 462の底部に沈殿し た蛍光材料は取り出して廃棄することができる。
[0360] 第二処理槽 463に送られた廃液は、平均粒径が 1 μ m以下のトナー榭脂母材や色 素材料と、金属石鹼が含まれている。第二処理槽 463で導電率とトナー固形分濃度 を計測した時、導電率は 160pSZcm、固形分濃度は 2重量%であった。吸着剤粒 子として、粒径 5 πι〜100 /ζ mの間の範囲内に粒度分布の最大頻度を持つ協和化 学工業製のキヨ一ワード 2000を 80g用いた。吸着剤を投入口 464から投入し、初期 導電率計測槽 465において、ァイソパー L中に 10重量%の濃度で分散させた状態 で導電率を計測し、 3pSZcmという数値が得られた。この分散液を第二処理槽 463 にカロえ、ノ レブ 466aを開け、ポンプで濾過器 467に組み上げる。濾過器 467は、内 部に、図 71と同様の構成をもつ障壁構造体を有し、コイルパネ間の 60 mの間隙に 吸着剤粒子が堆積して付着し、コイルパネ表面には厚さ 3mmの吸着剤粒子層が形 成される。
[0361] 濾過器 467を通過した廃液は、バルブ 466dを閉じた状態で、バルブ 466b、 cを開 け、ろ過液循環ライン 468と第二ろ過循環ライン 469を通る循環パスを介して、ー且、 第二処理槽 463に戻る。
[0362] この廃液を、 6リットル Z分の流量で循環パスにおいて 4回循環させた後、ー且液の 循環を止め、ろ過液循環ライン 468に設置したモニターで導電率とトナー固形分濃 度を計測した。この時、導電率は 20pSZcmで、固形分濃度は 0. 8重量%で、再利 用が出来な 、レベルであったため、ろ過液を再び第二処理槽 463に戻した。
[0363] また、この時、ろ過液の一部を濾過器 467内に残したままとし、ノ レブ 466aと、ノ ルブ 466bを閉め、ノ レブ 466e、 1¾開け、濾過器 467に高圧エア供給弁 475から高 圧エアを供給し、コイルパネ表面から吸着剤粒子を剥離、吸着剤粒子をろ過後導電 率計測槽 472に、液を一時溜め槽 473に入れ、吸着剤とろ過液を一時的に分離した 。吸着剤の入ったろ過導電率計測槽 472にァイソパー Lを入れ、吸着剤の 10重量% 濃度の分散液を作成、この状態で導電率を計測した結果、導電率は 0. 70pS/cm に下がっていた。吸着剤の 10重量%濃度での導電率が吸着剤交換目安である 0. 7 5pSZcm以下であったことから、今回投入した 80gの吸着剤はほぼ吸着能が飽和し た状態に近いと判断され、投入した吸着剤を全て取り出し口 471から除去した。
[0364] 新たな吸着剤 80gを投入口 464から加え、初期導電率計測槽 465で、ァイソパー L 中の 10重量%濃度で初期の導電率を計測した後、第二処理槽 463に加えた。この 混合液をポンプで組み上げ、同様の手順で、 6リットル Z分の流量で循環パスにおい て廃液処理を行った。 4回循環させた後、ー且液の循環を止め、ろ過液循環ライン 4 68に設置したモニターで導電率とトナー固形分濃度を計測した。この時、導電率は 純ァイソパー Lの導電率である 0. 03pSZcmの数値を示し、固形分濃度も検出限界 以下であった。そこで、ノ レブ 466cを閉じ、ノ レブ 466dを開けた状態で、再生液供 給ライン 470を介して、ろ過液をキャリア液タンク 456に入れた。キャリア液タンク 456 力もは、適宜、現像液タンク 457とクリーナ 455へのキャリア液の供給が行なわれる。
[0365] 次に、図 85ないし図 89を用いて、本発明のさらに他の実施態様を述べる。
[0366] 図 85は、本発明に係る配線基板製造装置を模式的に示した図である。
[0367] 以下に詳細を述べる。
[0368] 図 85の配線基板製造装置は、パターン形成装置として、図 69に示した構成の装 置 500を用いて微細パターンを形成した基板を、搬送系 501を介して、表面処理装 置 502に搬送し、基板に表面処理を施した後、搬送系 501を介して、無電解メツキ装 置 503に搬送し、微細パターン上に選択的に導電層を形成して微細配線基板を製 造する。
[0369] 図 86は、本発明に使用可能な液体現像剤の構成を模式的に示した図である。
[0370] 液体現像剤は、図 86に示すように、トナー固形分 504として、着色剤の代わりにメッ キ核である、粒径 5nm〜 lOOnmの範囲の金属微粒子 504— 2を付着させた平均粒 径 0. 05 μ m〜l μ m程度の榭脂微粒子 504— 1を用いた。また、榭脂微粒子 504 1表面には図示しない金属石鹼が付着されている。この現像剤により、パターン形 成装置 500において、ポリイミド基板 506— 1上に、ライン幅 20 m、ライン間スぺー ス 20 mの微細パターン 505を形成した。基板 506— 1は、搬送系 501〖こより、表面 処理装置 502に搬送され、表面処理装置 502において、 10— 4Paに減圧された真 空槽内に挿入された。そして、真空槽内において、酸素ガスとフッ素系ガスの混合ガ スを導入してプラズマを発生させ、パワー 100Wで 10秒間、プラズマによる表面処理 を施した。
[0371] 図 87は、パターン層を表面処理装置に通過した後のパターン表面付近の断面形 状を模式的に示した図である。
[0372] この表面処理により、図 87に示すように、ラインパターン 505表面は、榭脂の一部 が選択的にエッチング除去された榭脂層 504— 5となり、メツキ核である金属微粒子 5
04— 2の表面に露出した個数が飛躍的に増大した。
[0373] 図 88は、本発明により形成されたパターンを用いた回路基板の断面構成を模式的 に示す図である。
[0374] 基板 506— 1は、搬送系 501により、無電解メツキ装置 503に搬送され、エチレンジ ァミン系の無電解メツキ液に浸漬されることにより、図示するように、ラインパターン 50 5上に厚さ 10 /z mの無電解 Cuメツキ層 506— 3が形成され、ライン幅 20 /ζ πι、ライン 間スペース 20 μ mの微細配線パターン 506 - 2が形成された回路基板 506が製造 された。
[0375] 次に、図 69のパターン形成装置と同じ構成を持つパターン形成装置 500の、廃液 処理機構に使用される濾過器は、図 79、 80、 81、 82に示すものと同様の構成を持 つものを用いた。本実施例では、特に、トナー固形分力も遊離した金属微粒子の吸 着除去が重要となる。
[0376] 図 82に示すように、障壁構造体 431— 1は厚さ 2mmのステンレス板で、エッチング 処理により表側の平均開口径 d3は 60 m、裏側の平均開口径は 30 mの貫通孔 を設けてある。この障壁構造体表面に、粒径 5 μ m〜100 μ mの間の範囲内に粒度 分布の最大頻度を持つハイド口タルサイト系の吸着剤粒子層 431—2を堆積させ、表 側に 6mmの厚さの吸着剤粒子層 431—2を形成した。このろ過器 431を用いて、廃 液の再生処理を行った結果、ともにトナー固形分とイオン性化合物の除去に有効で 、短時間で、吸着剤の吸着能力を最大限に利用した廃液再生処理が可能となった。
[0377] 本実施例に力かる液体現像剤に関して、吸着剤が十分、トナー固形分や遊離した 金属微粒子、及び金属石鹼分を吸着した状態のァイソパー L分散液の導電率を計 測した。
[0378] 図 89は、吸着剤の交換目安を示すグラフである。 [0379] その結果、図 89に示すように、初期の導電率は 3pSZcmで、ほぼ飽和状態の吸 着剤の導電率は 1. OpSZcmに下がっていた。従って、交換目安導電率を、 80%吸 着した状態である 1. 5pSZcmとして、吸着剤の管理を行った。
[0380] 本発明にかかる配線基板製造装置を用いることにより、予め CADで作成したデータ に基づいた、高信頼性を有する微細配線パターンの回路基板を、短時間で再現性よ く製造することが可能となった。
産業上の利用可能性
[0381] この発明のクリーニング装置は、上記のような構成および作用を有しているので、像 保持体に保持された帯電粒子を良好にクリーニングできる。
[0382] また、この発明のパターン形成装置は、液体現像剤廃液からイオン性化合物及びト ナー固形分を並行して除去してキャリア液を再生することが可能で、単位時間当たり の処理能力、及び使用される吸着剤の単位量当たりの吸着効率が良好な廃液処理 ユニットを備えている。

Claims

請求の範囲
[1] パターン状の凹部に現像剤粒子を凝集せしめて被転写媒体へ転写した後の凹版 をクリーニングするクリーニング装置であって、
上記凹部にクリーニング液を供給する供給装置と、
上記凹部に残留した現像剤粒子を上記供給装置によって供給したクリーニング液 とともに除去する除去装置と、
を有することを特徴とするクリーニング装置。
[2] 上記供給装置は、上記クリーニング液を上記凹部に吹き付ける 2流体ノズル、若しく は 1流体ノズルを有することを特徴とする請求項 1に記載のクリーニング装置。
[3] 上記供給装置は、上記 2流体ノズル、若しくは 1流体ノズルによる上記クリーニング 液の吹き付け角度を調節する調節機構を有することを特徴とする請求項 2に記載の クリーニング装置。
[4] 上記除去装置は、上記凹部の開口に接触する多孔部材、およびこの多孔部材の 表面に負圧を生じさせる負圧装置を有することを特徴とする請求項 1に記載のタリー ニング装置。
[5] 上記除去装置は、上記多孔部材を外周に備えた除去ローラを有し、この除去ロー ラを回転して上記凹部に摺接させ、その回転軸を介して上記負圧装置によって除去 ローラ周面に負圧を生じさせることを特徴とする請求項 4に記載のクリーニング装置。
[6] パターン状の凹部を有する凹版に、絶縁性液体中に帯電した現像剤粒子を分散さ せた液体現像剤を供給し、上記凹部の近くに電界を作用させて上記液体現像剤中 の現像剤粒子を該凹部内に凝集させ、この凹部に集めた現像剤粒子に電界を作用 させて被転写媒体へ転写するパターン形成装置に組み込まれた、上記転写後の凹 部をクリーニングするクリーニング装置であって、
上記凹部にクリーニング液を供給する供給装置と、
上記凹部に残留した現像剤粒子を上記供給装置によって供給したクリーニング液 とともに除去する除去装置と、
を有することを特徴とするクリーニング装置。
[7] 上記供給装置は、上記クリーニング液を上記凹部に吹き付ける 2流体ノズル、若しく は 1流体ノズルを有することを特徴とする請求項 6に記載のクリーニング装置。
[8] 上記供給装置は、上記 2流体ノズル、若しくは 1流体ノズルによる上記クリーニング 液の吹き付け角度を調節する調節機構をさらに有することを特徴とする請求項 7に記 載のクリーニング装置。
[9] 上記供給装置は、上記 2流体ノズル、若しくは 1流体ノズルによる上記クリーニング 液の吹き付け角度を変動させる変動機構をさらに有することを特徴とする請求項 7に 記載のクリーニング装置。
[10] 上記クリーニング液は、上記液体現像剤を構成する絶縁性液体であることを特徴と する請求項 7に記載のタリ一二ング装置。
[11] 上記除去装置は、上記凹部の開口に接触する多孔部材、およびこの多孔部材の 表面に負圧を生じさせる負圧装置を有することを特徴とする請求項 6に記載のタリー ニング装置。
[12] 上記除去装置は、上記多孔部材を外周に備えた除去ローラを有し、この除去ロー ラを回転して上記凹部に摺接させ、その回転軸を介して上記負圧装置によって除去 ローラ周面に負圧を生じさせることを特徴とする請求項 11に記載のクリーニング装置
[13] 上記除去ローラの多孔部材は、上記凹部との間に電界を作用させて上記帯電した 現像剤粒子を吸着させるように導電性を有する材料によって形成されて ヽることを特 徴とする請求項 12に記載のクリーニング装置。
[14] 上記除去装置は、上記除去ローラに付着した現像剤粒子を搔き取るブレードをさら に有することを特徴とする請求項 12に記載のクリーニング装置。
[15] 上記ブレードは、上記除去ローラとの間で電界を形成して該除去ローラに付着した 現像剤粒子を吸着させるように導電性を有する材料によって形成されて ヽることを特 徴とする請求項 14に記載のクリーニング装置。
[16] 上記除去装置は、上記除去ローラに転接するクリーニングローラをさらに有し、上記 除去ローラとクリーニングローラとの間に電界を形成して上記除去ローラに付着した 現像剤粒子を上記クリーニングローラの周面に付着させることを特徴とする請求項 13 に記載のクリーニング装置。
[17] 上記除去装置は、上記クリーニングローラの周面に付着した現像剤粒子を搔き取る ブレードをさらに有することを特徴とする請求項 16に記載のタリ一ユング装置。
[18] 上記ブレードは、上記クリーニングローラとの間で電界を形成して該クリーニング口 一ラの周面に付着した現像剤粒子を吸着させるように導電性を有する材料によって 形成されていることを特徴とする請求項 17に記載のクリーニング装置。
[19] パターン状の凹部に現像剤粒子を凝集せしめて被転写媒体へ転写した後の凹版 をクリーニングするクリーニング方法であって、
上記凹部にクリーニング液を供給する供給工程と、
上記凹部に残留した現像剤粒子を上記供給工程によって供給したクリーニング液 とともに除去する除去工程と、
を有することを特徴とするクリーニング方法。
[20] 上記供給工程では、 2流体ノズル、若しくは 1流体ノズルを介して上記クリーニング 液を上記凹部に吹き付けることを特徴とする請求項 19に記載のクリーニング方法。
[21] 帯電粒子によるパターン像を保持して被転写媒体に転写する像保持体をタリー二 ングするクリーニング装置であって、
上記像保持体に近接対向して配置され、上記像保持体との間で電界を形成して上 記像保持体に保持されている帯電粒子を吸着させる電極と、
この電極と上記像保持体との間をクリーニング液で満たすとともに、上記電界を消 失させた後、上記電極に吸着されていた帯電粒子を流すようにクリーニング液を流通 させる液流装置と、
を有することを特徴とするクリーニング装置。
[22] 上記像保持体は、帯電粒子を収容して保持するパターン状の凹部、およびこの凹 部の底に配置された導電部材を有し、
上記凹部に保持されている帯電粒子をクリーニングする際に、上記像保持体と上 記電極との間をタリ一-ング液で満たした後、上記導電部材と上記電極との間で上 記電界を形成することを特徴とする請求項 21に記載のクリーニング装置。
[23] 上記像保持体を予めクリーニング液で濡らすプリウエット装置をさらに有することを 特徴とする請求項 21に記載のクリーニング装置。
[24] 上記帯電粒子を流した後、上記像保持体からクリーニング液を除去する除去装置 をさらに有することを特徴とする請求項 21または請求項 23に記載のクリーニング装 置。
[25] 上記像保持体に保持された帯電粒子をクリーニングする別のクリーナをさらに有す ることを特徴とする請求項 21乃至請求項 24のうちいずれか 1項に記載のタリーニン グ装置。
[26] 平板状の被転写媒体を保持した保持機構と、
ドラム状の像保持体と、
この像保持体を上記保持機構によって保持された平板状の被転写媒体に沿って 転動させる転動機構と、
上記像保持体の周面上に帯電粒子によるパターン像を形成する像形成装置と、 上記転動する像保持体と上記被転写媒体との間に電界を形成して上記周面上の パターン像を上記被転写媒体へ転写する転写装置と、
上記像保持体の周面をクリーニングするクリーニング装置と、を有し、
上記クリーニング装置は、
上記像保持体の周面に近接対向して配置され、上記像保持体との間で電界を形 成して上記周面に保持されている帯電粒子を吸着させる電極と、
この電極と上記像保持体の上記周面との間をクリーニング液で満たすとともに、上 記電界を消失させた後、上記電極に吸着されていた帯電粒子を流すようにタリーニン グ液を流通させる液流装置と、
を有することを特徴とするパターン形成装置。
[27] 上記像保持体の周面には、帯電粒子を収容して保持するパターン状の凹部が形 成されて!/ヽることを特徴とする請求項 26に記載のパターン形成装置。
[28] 上記像保持体は、上記凹部の底に配置された導電部材を有し、
上記クリーニング装置は、上記像保持体の周面と上記電極との間をクリーニング液 で満たした後、上記導電部材と上記電極との間で上記電界を形成することを特徴と する請求項 27に記載のパターン形成装置。
[29] 上記クリーニング装置で上記像保持体の周面をクリーニングする前に、当該周面を 予めクリーニング液で儒らすプリウエット装置をさらに有することを特徴とする請求項 2 6に記載のパターン形成装置。
[30] 上記クリーニング装置で上記像保持体の周面をクリーニングした後、当該周面から クリーニング液を除去する除去装置をさらに有することを特徴とする請求項 26または 請求項 29に記載のパターン形成装置。
[31] 上記像保持体の周面をクリーニングする別のクリーナをさらに有することを特徴とす る請求項 26乃至請求項 30のうちいずれ力 1項に記載のパターン形成装置。
[32] 帯電粒子によるパターン像を保持して被転写媒体に転写する像保持体をタリー二 ングするクリーニング方法であって、
上記像保持体に近接対向して電極を配置する工程と、
上記電極と上記像保持体との間をクリーニング液で満たす工程と、
上記電極と上記像保持体との間で電界を形成して上記像保持体に保持されている 帯電粒子を上記電極へ吸着させる工程と、
上記電界を消失させた後、上記電極と上記像保持体との間を満たしたクリーニング 液を流通させて上記電極に吸着されていた帯電粒子を流す工程と、
を有することを特徴とするクリーニング方法。
[33] 上記像保持体を予めクリーニング液で濡らすプリウエット工程をさらに有することを 特徴とする請求項 32に記載のクリーニング方法。
[34] 上記流通させる工程の後、上記像保持体力 クリーニング液を除去する除去工程 をさらに有することを特徴とする請求項 32または請求項 33に記載のクリーニング方 法。
[35] 上記像保持体に保持されている帯電粒子の量を判断して緊急時のクリーニングが 必要か否かを判断する工程をさらに有することを特徴とする請求項 32に記載のタリー ユング方法。
[36] 像保持体の表面をクリーニング液で満たすとともにこのクリーニング液を流す液流 装置と、
上記像保持体の表面をクリーニング液によって満たした状態で、上記像保持体に 残留した現像剤粒子に超音波を作用させて、上記クリーニング液を上記残留した現 像剤粒子間に浸透させる超音波装置と、
を有することを特徴とするクリーニング装置。
[37] 上記像保持体の表面を予め上記クリーニング液で濡らすプリウエット装置をさらに有 することを特徴とする請求項 36に記載のクリーニング装置。
[38] 上記現像剤粒子を流した後、上記像保持体の表面から上記クリーニング液を除去 する除去装置をさらに有することを特徴とする請求項 36に記載のクリーニング装置。
[39] 上記像保持体に保持された現像剤粒子をクリーニングする別のクリーナをさらに有 することを特徴とする請求項 36に記載のクリーニング装置。
[40] 上記像保持体に残留した現像剤粒子の量を検出する検出装置と、
この検出装置による検出結果に基づいて、上記超音波装置によって発生される超 音波の周波数、印加電圧、および印加時間、のうち少なくとも一つを制御する制御装 置と、
をさらに有することを特徴とする請求項 36に記載のクリーニング装置。
[41] 上記像保持体に残留した現像剤粒子に上記クリーニング液を吹き付けて剥離させ る吹き付け装置をさらに有することを特徴とする請求項 36に記載のクリーニング装置
[42] 帯電粒子によるパターン像を保持して被転写媒体に転写する像保持体をタリー二 ングするクリーニング装置であって、
上記像保持体の表面をクリーニング液で満たすとともにこのクリーニング液を流す 液流装置と、
上記像保持体の表面をクリーニング液によって満たした状態で、上記像保持体に 残留した帯電粒子に超音波を作用させて、上記クリーニング液を上記残留した帯電 粒子間に浸透させる超音波装置と、
上記像保持体の表面に近接対向して配置され、上記像保持体との間で電界を形 成して上記像保持体に保持されている帯電粒子を吸着させる導電部材と、
を有することを特徴とするクリーニング装置。
[43] 上記像保持体の表面を予め上記クリーニング液で濡らすプリウエット装置をさらに有 することを特徴とする請求項 42に記載のクリーニング装置。
[44] 上記現像剤を流した後、上記像保持体の表面から上記クリーニング液を除去する 除去装置をさらに有することを特徴とする請求項 42に記載のクリーニング装置。
[45] 上記像保持体に保持された現像剤をクリーニングする別のクリーナをさらに有する ことを特徴とする請求項 42に記載のクリーニング装置。
[46] 上記像保持体に残留した現像剤の量を検出する検出装置と、
この検出装置による検出結果に基づいて、上記超音波装置によって発生される超 音波の周波数、印加電圧、印加時間、および上記像保持体と導電部材との間で形 成される電界のうち少なくとも一つを制御する制御装置と、
をさらに有することを特徴とする請求項 42に記載のクリーニング装置。
[47] 上記像保持体に残留した帯電粒子に上記クリーニング液を吹き付けて剥離させる 吹き付け装置をさらに有することを特徴とする請求項 42に記載のクリーニング装置。
[48] 現像剤粒子によるパターン像を保持して被転写媒体に転写する像保持体をタリー ユングするクリーニング方法であって、
上記像保持体の表面をクリーニング液で満たす工程と、
上記像保持体に残留した現像剤粒子に超音波を作用させて、上記クリーニング液 を上記残留した現像剤粒子間に浸透させる超音波発生工程と、
上記像保持体の表面を満たしたクリーニング液を流す液流工程と、
を有することを特徴とするクリーニング方法。
[49] 上記像保持体を予めクリーニング液で濡らすプリウエット工程をさらに有することを 特徴とする請求項 48に記載のクリーニング方法。
[50] 上記液流工程の後、上記像保持体力もクリーニング液を除去する除去工程をさら に有することを特徴とする請求項 48に記載のクリーニング方法。
[51] 上記像保持体に残留した現像剤粒子に上記クリーニング液を吹き付けて剥離させ る吹き付け工程をさらに有することを特徴とする請求項 48に記載のクリーニング方法
[52] 上記像保持体に残留した現像剤粒子の量を検出する検出工程と、
この検出工程における検出結果に基づいて、上記超音波発生工程で発生する超 音波の周波数、印加電圧、および印加時間、のうち少なくとも一つを制御する制御ェ 程と、
をさらに有することを特徴とする請求項 48に記載のクリーニング方法。
[53] 帯電粒子によるパターン像を保持して被転写媒体に転写する像保持体をタリー二 ングするクリーニング方法であって、
上記像保持体の表面をクリーニング液で満たす工程と、
上記像保持体に残留した帯電粒子に超音波を作用させて、上記クリーニング液を 上記残留した帯電粒子間に浸透させる超音波発生工程と、
上記像保持体の表面に近接対向せしめた導電部材と上記像保持体との間で電界 を形成して、上記像保持体に保持されて!ヽる帯電粒子を上記導電部材に吸着させる 工程と、
上記電界を消失させた後、上記像保持体の表面を満たしたクリーニング液を流して 上記導電部材に吸着されていた帯電粒子を流す液流工程と、
を有することを特徴とするクリーニング方法。
[54] 上記像保持体を予めクリーニング液で濡らすプリウエット工程をさらに有することを 特徴とする請求項 53に記載のクリーニング方法。
[55] 上記液流工程の後、上記像保持体力もクリーニング液を除去する除去工程をさら に有することを特徴とする請求項 53に記載のクリーニング方法。
[56] 上記像保持体に残留した帯電粒子に上記クリーニング液を吹き付けて剥離させる 吹き付け工程をさらに有することを特徴とする請求項 53に記載のクリーニング方法。
[57] 上記像保持体に残留した帯電粒子の量を検出する検出工程と、
この検出工程における検出結果に基づいて、上記超音波発生工程で発生する超 音波の周波数、印加電圧、印加時間、および上記吸着させる工程で上記像保持体と 導電部材との間に形成される電界のうち少なくとも一つを制御する制御工程と、 をさらに有することを特徴とする請求項 53に記載のクリーニング方法。
[58] 像担持体、
該像担持体に対向して設けられ、該像担持体上に形成された静電潜像を、イオン 性ィ匕合物を含有するトナーとキャリア液とを含む液体現像剤により現像し、トナー像を 形成する現像部、該トナー像を転写媒体に転写する転写部を有するパターン形成ュ -ッ卜と、
該パターン形成ユニットに接続され、トナー固形分、イオン性化合物、及び該キヤリ ァ液を含有する廃液を回収する廃液回収ライン、
該回収ラインに接続され、 30〜: LOO /z m径の開孔を持つ導電性の障壁構造体を 有し、該廃液中の該トナー固形分及び該イオン性化合物の除去を行う濾過器、該濾 過器の上流に設けられ、吸着剤粒子を投入するための投入口を含む廃液処理ュ- ット、及び
該廃液処理ユニットから排出された処理済みの廃液をパターン形成ユニットに戻す 再生液供給ラインとを具備し、
該濾過器は、粒径 5 μ m〜100 μ mの間の範囲内に粒度分布の最大頻度を持つ 吸着剤粒子を添加した廃液、若しくはキャリア液を通過させて、前記障壁構造体上に 0. 5mn!〜 1 Ommの厚さの吸着剤粒子層を形成せしめて廃液処理に供することを特 徴とするパターン形成装置。
[59] 前記廃液処理ユニットは、前記濾過器の上流に設けられ、前記吸着剤粒子を投入 する投入部を有する処理槽、該処理槽から前記吸着剤粒子を取り出す取出部とをさ らに含むことを特徴とする請求項 58に記載のパターン形成装置。
[60] 前記廃液処理ユニットは、前記処理槽の上流に設けられ、廃液を貯留して、前記ト ナ一の少なくとも一部を沈殿せしめ、廃液から除去する予備処理槽をさらに含むこと を特徴とする請求項 59に記載のパターン形成装置。
[61] 前記予備処理槽では、 1 μ m以上の粒径を有するトナーを除去し、前記処理槽及 び濾過器では、 1 μ m未満の粒径を有するトナーを除去することを特徴とする請求項 60に記載のパターン形成装置。
[62] 前記投入部と前記処理槽との間に、第 1の導電率計測部、前記処理槽と取り出し 部との間に第 2の導電率計測部をさらに含み、前記第 1の導電率計測部では、投入 された前記吸着剤粒子を前記キャリア液に分散させて初期導電率を計測し、前記第 2の導電率計測部では、廃液処理後の導電率を計測し、前記廃液処理後の導電率 が前記初期導電率に基づく基準の導電率以下になったとき、前記吸着剤粒子を前 記取り出し部から除去し、前記投入部力 未使用の吸着剤粒子を投入することを特 徴とする請求項 58ないし 61のいずれか 1項に記載のパターン形成装置。
[63] 廃液処理部から排出された処理済みの廃液を、前記廃液処理部内の前記濾過器 よりも上流に戻す循環ラインを、前記濾過器よりも後段にさらに具備する請求項 58な いし 61のいずれか 1項に記載のパターン形成装置。
[64] 廃液処理ユニット及びパターン形成ユニットを備えたパターン形成装置を使用して
、ノターン形成を行う方法であって、
前記パターン形成ユニット内で、像担持体上に形成された静電潜像を、イオン性化 合物を有するトナーとキャリア液とを含む液体現像剤により現像してトナー像を形成し
、該トナー像を転写媒体に転写するパターン形成工程、
トナー固形分、該イオン性化合物、及び該キャリア液を含有する廃液を、前記バタ ーン形成ユニットから廃液回収ラインを通して廃液処理ユニット内に回収する廃液回 収工程、
前記廃液処理ユニット内で、該濾過器の上流に設けられた投入口から、粒径 5 /z m 〜 100 mの間の範囲内に粒度分布の最大頻度を持つ吸着剤粒子を廃液、若しく はキャリア液に適用し、該吸着剤粒子を含む廃液、若しくはキャリア液を、 30〜: LOO μ m径の開孔を持つ導電性の障壁構造体を有する濾過器に通すことにより、前記障 壁構造体上に 0. 5mn!〜 10mmの厚さの吸着剤粒子層を形成する吸着剤粒子層形 成工程、
続いて、前記吸着剤粒子層が形成された前記濾過器に該廃液を通し、該トナー固 形分、及び該イオン性化合物を除去する廃液処理工程、及び
廃液処理済みの廃液を再生液供給ラインを通して、廃液処理ユニットからパターン 形成ユニットに戻す再生液供給工程を具備することを特徴とするパターン形成方法。
[65] 前記回収された廃液は、前記濾過器の上流に設けられ、前記投入部及び前記吸 着剤粒子を取り出す取出部を有する処理槽に導入され、該処理槽から前記濾過器 に送られることを特徴とする請求項 64に記載のパターン形成方法。
[66] 前記回収された廃液は、前記処理槽の上流に設けられた予備処理槽に導入され、 該予備処理槽内で貯留され、前記トナー固形分を沈殿せしめて除去した後、前記処 理槽に送られることを特徴とする請求項 65に記載のパターン形成方法。
[67] 前記予備処理槽では、 1 μ m以上の粒径を有するトナーを除去し、前記処理槽及 び濾過器では、 1 μ m未満の粒径を有するトナーを除去することを特徴とする請求項 66に記載のパターン形成方法。
[68] 前記投入部と前記処理槽との間に、第 1の導電率計測部、前記処理槽と取り出し 部との間に第 2の導電率計測部をさらに含み、前記第 1の導電率計測部では、投入 された前記吸着剤粒子を前記キャリア液に分散させて初期導電率を計測し、前記第 2の導電率計測部では、廃液処理後の導電率を計測し、前記廃液処理後の導電率 が前記初期導電率に基づく基準の導電率以下になったとき、前記吸着剤粒子を前 記取り出し部から除去し、前記投入部力 未使用の吸着剤粒子を投入することを特 徴とする請求項 64ないし 67のいずれか 1項に記載のパターン形成方法。
[69] 前記廃液処理済みの廃液を、前記濾過器の後段に設けられた循環ラインを通して 、前記廃液処理部内の前記濾過器よりも上流に戻すことを特徴とする請求項 64な 、 し 67の 、ずれか 1項に記載のパターン形成方法。
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