WO2005116108A1 - ポリエステル樹脂組成物、その製造方法およびポリエステルフィルム - Google Patents

ポリエステル樹脂組成物、その製造方法およびポリエステルフィルム Download PDF

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WO2005116108A1
WO2005116108A1 PCT/JP2005/009430 JP2005009430W WO2005116108A1 WO 2005116108 A1 WO2005116108 A1 WO 2005116108A1 JP 2005009430 W JP2005009430 W JP 2005009430W WO 2005116108 A1 WO2005116108 A1 WO 2005116108A1
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post
poster
amount
heat treatment
degree
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PCT/JP2005/009430
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Inventor
Yoshihiro Honma
Jun Sakamoto
Masahiro Kimura
Original Assignee
Toray Industries, Inc.
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L67/00—Compositions of polyesters obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L67/02—Polyesters derived from dicarboxylic acids and dihydroxy compounds
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    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
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    • C08G63/02—Polyesters derived from hydroxycarboxylic acids or from polycarboxylic acids and polyhydroxy compounds
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    • C08G63/16—Dicarboxylic acids and dihydroxy compounds
    • C08G63/18—Dicarboxylic acids and dihydroxy compounds the acids or hydroxy compounds containing carbocyclic rings
    • C08G63/181—Acids containing aromatic rings
    • C08G63/183—Terephthalic acids
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/10—Metal compounds

Definitions

  • the present invention relates to a poster having a small amount of the cyclic compound (e), a good color tone, and a degree which can be extruded for practical use.
  • a post is a dicarbon or its linear conductor and a linear molecule composed of geo or its linear conductor.
  • a cyclic substance is generated in a linear molecule based on an equilibrium relationship. It is released at the post process or on the surface of the product at any time.
  • a large amount is released and causes various tigers. It is known.
  • Patent 5 a ring is formed by heat treatment in a gas atmosphere.
  • the post is suitable for extrusion molding even in a process that has a small annular content, is excellent in color tone, decreases in temperature and rises, and has a long history.
  • the purpose is to provide a post.
  • the degree of heat treatment is controlled to be within 8 C degrees from the post and the heat-treatment ambient is controlled to be lower than the non-gas post per post. Of the poste.
  • the amount of the 001-mer is in the range of-to 7, the 5 to 4 tons of the cab, the degree of-55 to-8 and the degree in (8) with the value of-is-22 to 36. A poste.
  • a poster which can greatly reduce the amount of the cyclic monomer, has a favorable color tone, and has a degree suitable for extrusion molding with a small amount of foreign matter.
  • the color tone is good and Without substantially changing the degree, productivity can be reduced at low cost even if only the cyclic material is produced.
  • by performing the heat treatment from the initial state it is possible to obtain a porous material having a reduced number of cyclic substances while maintaining the specificity as usual.
  • the poster of the present invention can be formed without changing the usually used conditions, and can be used for the preparation of the yarn by the monomer.
  • the potentiometer and the potentiometer are preferred because of their good image quality, and the potentiator is the best.
  • the titanate may be copolymerized, . If the number of titantes is 9, the posterity may be poor, and it may be difficult to satisfy the degree in the light poster law.
  • dicarbon As the polymerization components of these posters, dicarbon, g
  • dicabone components include theta, 26 tandicarbon, didicabone, ta, isota, whitan sodium, dicabone components such as these, and adipine.
  • aliphatic dikabon fractions such as 4xanthic carbonyl and their axutes Zikabon can be mentioned.
  • the gusset include chin, chin, ping, tangio, 4-kisandimethano, neopentine, spig, bisquine tincide, and isobeta.
  • the component include a bon component such as tomet and an acid and an a such as tip and pentato. Further, benzoic acid and carboxylic acid may be used as a copolymer component.
  • the post is polymerized, and then formed into particles (chips) by a twisting or stranding method.
  • ⁇ 5 is preferred, more preferably 2 ⁇ 2.
  • the term “poster” refers to a ball having the same volume as the poster (child, chip).
  • the degree of the first post of the light is preferably 65 to 99. More preferred is 7 95, with a value of 759 being particularly preferred.
  • the posterior cyclic isomer having this shape is remarkably reduced.
  • the mass of the monomer of the Ming-I-Poster is preferably 4 lower, more preferably 3 lower, and particularly preferably 25 lower. Since the number of cyclic monomers is small as indicated by the box, it is possible to lengthen the distance until the cyclic monomers come out.
  • the viscosity may be so high that poor extrusion may occur, or the poly may be heated, resulting in non-uniform poly. Also,
  • the lower limit is preferably 4d.
  • the degree is lower than 4d, it is easy to cause a problem of good forming such as the loss of the yarn and the loss of forming.
  • the amount of Aca elements is a (), the amount of Aca elements is d (), and the amount of L is ().
  • a and satisfies when, it is preferable that a and satisfies.
  • P is the same as P if 002, a 2X d is, and is P, and P ⁇ 5 is preferable. If it is P O, the electrostatic cast injection will be defective, and air will easily enter between the caster and the im-stagnating drum at the time of casting, resulting in a situation where the temperature must be reduced, resulting in lower productivity. Although the cause is not certain, it is possible to promote the control of the surface of the cyclic polymer and to reduce the amount of the polymer in the heat treatment by setting the elementary amount of the posterior to the above.
  • the genus Aca or the genus Aca to be used to satisfy the above conditions is not particularly limited, but specific examples thereof include, for example, titanium, sodium, calcium, magnesium, and calcium hydroxide. For example, sodium hydroxide, magnesium hydroxide, or the like can be used.
  • One of the posters is the maximum, and the degree of particles containing elemental Sb or Ge is
  • the degree is higher, the surface may become dull when the poster is formed, or the clarity of the image may be impaired.
  • the composition contains one of the substances of the present invention, and the amount of the substance is about OO to the poster as a substance. More preferred is 5 to O.
  • the amount is the amount of trivalent compounds, and because it is a trivalent compound, it keeps the note and increases the slow rate of the cyclic monomer, although the cause is not certain.
  • ⁇ 3 more preferred is ⁇ 2.
  • a predetermined amount may be added to the substance containing the element (the is kept in the po). Further, by setting the content of the genus Aca to -3 as an aceto relative to the poster, the amount during polymerization can be increased, and the water decomposition of the titanium compound can be suppressed.
  • the preferred amount of Aca is from to.
  • the hydrolysis result is poor, and when the content exceeds 3, it may cause foreign matters to be produced.
  • This can be realized by adding a predetermined amount of an element of the genus Aca, such as sodium hydroxide, sodium hydroxide, sodium, and potassium.
  • titanium-containing material described in 002 examples include titanium chito and tetraa
  • titanates such as titanate, tetra (2-tin) net, and tetramethi titanate, but titanium titan and tetra titanate are particularly preferred. .
  • the first poster described for example, a post with a degree of less than d and an isometric diameter of 55, is depressurized and / or gas, with a 8 C range from the point without said post. It can be obtained by heating at the same temperature.
  • the (treatment) described above is preferably 9 C to 26 C, particularly preferably 2 C to 25 C, in the case of the potentieta.
  • productivity decreases because the acceleration of heat treatment is too slow.
  • the treatment is lower than 9 C, the small velocity of the cyclic material becomes small.
  • it exceeds 26 the po is melted, and there is a tendency that the amount of the substance does not decrease even if the heat treatment is performed.
  • the heat treatment is performed below the heat treatment post (poster). .
  • the processing time is usually between 2 and 6 hours, preferably between 3 and 4 hours.
  • the length is less than 2 hours, the fruit of the ring is small, and when the length is longer than 6, the speed of the ring is small, and conversely, the subject such as heat becomes large.
  • the gas may be any as long as it has a property to the post, and for example, there may be mentioned carbon dioxide, carbon dioxide gas, etc., but economical elements are preferred.
  • the atmosphere of the heat treatment is important. Since posters are easily hydrolyzed by oxygen and moisture, it is necessary to control the moisture and moisture in the atmosphere.
  • the fraction in the atmosphere is below OO, more preferably below 5 and even more preferably below 4.
  • OOO the amount in the atmosphere exceeds OOO
  • the number of rings decreases, but at the same time, the flowers are hydrolyzed, resulting in a tendency for the degree of the obtained bubbles to decrease.
  • the water content should be below . This is because when the water content is low, the process must be complicated in order to increase the degree of gas generation. Tends to fall.
  • the oxygen concentration is below OO, preferably below 5, more preferably below OO, and most preferably below 5. If the elemental concentration exceeds OOO, it is easy for the poster to develop.
  • the treatment apparatus used for the heat treatment described above can heat the post at once. .
  • a machine or the like that is possessed can be used.
  • any compound having a phenolic structure and having at least a number of groups in a phenyl ring can be used. Physically, the following .
  • Penta to di-osite bis (26 e 4 Methyl pentatodisulfide, 222 4 Tetrakis (methyl) benzo df32 sodium 6 O, bs2 248 Tetrakis (methyl) benzo df32 22 sodium 61, etc. There is. These are marketed, for example, as Spetsy G6.
  • a conductor of 2266 tetramethyi is used.
  • a conductor of 2266 tetramethyi is used.
  • the amount used relative to the amount of posterior being ⁇ , preferably ⁇ .
  • the heat treatment does not change the specificity. .
  • the time for the treatment is usually between 2 and 6 hours, preferably between 3 and 4 hours.
  • the time is longer than 2 hours, the fruit of the cyclic compound is small, and when the time is longer than 6 hours, the speed of the cyclic compound is no longer small, and conversely, the subject such as thermalization becomes large.
  • the gas may be any as long as it has a property to the post, for example, the gas and the carbon dioxide gas may be mentioned, but the economical element is preferred.
  • the fraction in the atmosphere is OO (. Lower, based on weight in the present invention), more preferably 5 lower, and still more preferably 4 lower.
  • the oxygen concentration is below OO, preferably below 5, more preferably below OO, and most preferably below 5. If the elemental concentration exceeds OO, it is easy for the posterior to occur.
  • the heat treatment may be performed, for example, by performing the heat treatment using the gas described above.
  • Atmospheric pressure during heat treatment is 3-4 Pa, more preferably 7-7 Pa.
  • the amount of cyclic monomer is ...-7 It is an enclosure. If the amount of the monomer is more than 7, the cyclic monomer will easily come out on the surface such as the surface, and the output will be the surface point. Furthermore, the weight of the cyclic monomer is preferably less than 6 and more preferably 4 .
  • the monomer cannot exist in the form of a post, it will be present as the formation of the post progresses in the form of a film.
  • the cyclic monomer which is unevenly distributed at high concentration in the state is easy to put out on the postal surface, and is released when the amount of the monomer in the area exceeds about -2. For this reason, if the degree of the post is c (), the abundance () of the cyclic monomer is more than 2X ((c)). . If the weight of the cyclic monomer is 5 .
  • the adhesiveness of the metal is reduced to make it slippery, the gim surface is easily scratched, and the adhesiveness when the gim surface is processed is insufficient.
  • the tone of the posty becomes yellowish, and it becomes difficult to use it in optical applications. Between 5 and 35, 8 to 3.
  • the poster with the specificity is in the range of -55 to -8.
  • the term “measurement” refers to a value measured at 25 ° C with a value of 0 ° C. However, if this value is 55, the mechanical properties will be insufficient as a mold. Can significantly induce a solution. ⁇ ⁇ 55 ⁇ ⁇ 75, most preferably ⁇ 6 ⁇ ⁇ 7.
  • the number of times when solving the problem 8 was within the range of 22 to 36. The light is blue light, and if this is abundant, the po will become yellowish.
  • the amount of bis () tetate in the first place of the present invention be in the range of 5 to 2 (hereinafter, unless otherwise specified in the present invention, the weight is based on the weight).
  • the value of the screw () is a kind of potato tet, but if the amount of o is more than 5, it is preferred to improve the poster, while the amount is 2 When the temperature exceeds the above, the sublimation often occurs in the post process and contaminates the equipment and products.
  • the post is not particularly limited.
  • the amount of antimony is less than 3, it is difficult to reduce the amount of cyclic monomers, while when the amount is more than 5, the added amount of cyclic monomers is easily regenerated into a post.
  • the oxygen is full, the volume resistance of the post increases, which makes it difficult to apply the cast method at the time of the image. Plays easily.
  • titanium In the case where the above-described silicon is used, or when the total is less than 3, it is preferable to use a polymerized titanium material. In this case, it is preferable to set titanium to 5 to 5. If the titanium content is 5, it is difficult to reduce the amount of cyclic monomers, while if it exceeds 5, the added cyclic monomers are easily regenerated into posterior. As for this You can also use things.
  • anti-trioxide can be preferably used.
  • titanium .
  • examples include tetrachititanet and tetra (2 quinet, tetramethititane, and other such acititanes.
  • titanium chitita and tetrachititanet are used. .
  • the gas atmosphere for example, rare gases such as um, neon, and anneal, nitrogen gas, and carbon dioxide gas can be given. Later, gas is readily available and can be preferred. It is preferable that the moisture contained in these gases be 5 PP or less. If the water content exceeds 5, the poster is likely to develop color, which causes the poster to be colored.
  • the ambient pressure is 65 to 2 Pa. When the pressure is 65 Pa, the postural pressure rises due to the progress of solidification. The size of the postage increases, and when the fat is greased, the vigor increases and the posture of the postage tends to occur. Also, at 65 Pa, the amount of bis () tetate tends to decrease, and the postage tends to deteriorate.
  • the post to be subjected to the heat treatment is in the range of 44 to 77. ⁇ Four
  • the cyclic monomer tends to decrease, but the posterior mechanical properties are insufficient. If the degree exceeds 7, the slow speed of the cyclic monomer is slow, and a long heat treatment is required, which is disadvantageous in terms of cost. Unique ⁇ 5 ⁇ ⁇ 7, and ⁇ 55 ⁇ ⁇ . A poster having such a degree can be obtained by controlling the polymerization torque in a normal case.
  • the post where heat treatment is to be performed 3 Since the monomer exists at the position in the post, the monomer will be removed as the state of the system progresses. In such a state, the amount of cyclic monomers that are oversaturated in is reduced to equilibrium, so that the amount of monomers as the posterior bodies can be reduced. When the degree is 3, the saturation of the cyclic monomer at other sites is insufficient, so that a large effect of reducing the cyclic monomer cannot be expected. It can be increased during the heat treatment, . 3 In the above method, it is preferable to provide a treatment step before the heat treatment. For example, it is preferable to reduce the pressure of the resin at 2 to 8 C for 2 to 8 C or more in hot air circulation. The process can be combined with the process. Postage is dense 3 can be confirmed by, for example,
  • the time for performing the heat treatment is between: 5 and 6; Poste The time varies depending on the degree of polymerization remaining. ⁇ It is difficult to sufficiently reduce the number of cyclic monomers in the case of 5, and if it exceeds 6, it is economically disadvantageous. According to the production method described above, only the cyclic monomer can be reduced without increasing the color of the poster and without coloring, etc. .
  • gas with a pressure in the range of 2 Pa to Pa5 Pa is used for posturing.
  • the same gas as in the first method can be selected for the gas, and the oxygen concentration and moisture content are the same as those in the first method.
  • the gas flow rate in the light refers to the flow rate in the standard condition
  • the standard condition refers to the condition at a pressure Pa and a temperature C.
  • the gas power is 2 Pa
  • the third method is a method of intermittently changing the atmosphere.
  • the gas atmosphere when the gas flow rate is below the kg kg / h of the gas atmosphere, the gas atmosphere must be maintained at a temperature of g C to 25 C for 5 to 5 hours. This is a method in which the total time of the process () and the process () is set to between 5 and 6. In (), the gas atmosphere almost fluctuates, so that the postural change during the heat treatment hardly changes. On the other hand, a small amount of toadaldehyde or the like generated in the step () is emitted in the sub-step () to prevent the poster from being colored or changed.
  • a method of filling the heat treatment apparatus with gas or a method of changing non-gas by circulating it in the processing volume can be adopted. () Is preferably completed within 5 minutes, and if it exceeds 5 minutes, the degree of postage may increase. When the atmosphere of the new heat treatment is updated according to (), the process may be shifted to () and the process () may be performed.
  • the (volume) of the post is only for the postal. . If the volume is 5, the post is easily colored by the heat treatment.
  • the volume is 5 pcs
  • the apparent weight is 7 o It is about the cost of a poster
  • the volume is 5.
  • the volume is more preferably above 2 and most preferably above 25.
  • a volume exceeding 5 lowers the production rate and can be expected to have a special effect on the tone of the post.
  • the post can be heated all at once. .
  • a continuous tower machine or the like, which is provided by the company, can be used.
  • the posters obtained from the posters of the present invention can be used in the case where the polymer is exposed to the im surface even in a long-term pipe, and even when the image is processed in a heated state, the polymer remains on the im surface. It is suitable for magnetic recording media, optics, mats, and packaging. In the case where the amount of the monomer is suppressed by only the amount of the im, it can be a laminated im. By laminating bright postal resin, it is possible to reduce the amount of oligomers not only on the laminated but also on the laminated surface. Layers, at least one side of which contains the above mentioned poster .
  • Potentiators can be manufactured, for example, by the following offset process.
  • (2) a process in which the tethering is used as a raw material, a coalescence is obtained by direct stabilization, and a polymer is obtained by subsequent application.
  • This is a process in which a coalescence is obtained by the reaction and a polymer is obtained by the subsequent polymerization.
  • the method of () or (2) can be used.
  • a locking agent or the like can be added to the reaction before the reaction.
  • the polymerization point of the post can be determined by the value of the post. When the value is high, the degree of the point is high and the specificity is also high. It is advisable to set the power of the superposition device so that the temperature is as high as possible. It is possible to take out the strands from the post-polymer superposed part where polymerization has been completed, and then tin it with a cutter while cooling with water. , The tip can be controlled by the tin, It is possible to obtain a poster chip having a certain degree.
  • the chip should be heated to 2 C-8 C under reduced pressure or hot air flow for at least 2 minutes. In this way, it is possible to make the position 3 above the post.
  • the post-dried post is subsequently subjected to a heat treatment, and the post-heated post is cooled and taken out from the post.
  • posters () and () can be respectively manufactured.
  • the degree is not particularly limited as long as the post () () is difficult to push out from the base.
  • the members of the posters () and () are stacked to form a laminated layer.
  • Posts () and () are merged from the extruder to the base, or inside the base, etc., and are discharged from the base as a laminated sheet, so-called extruding method, or other
  • the posts () and () may be put out from the base in the shape of a letter, and the person may be stacked. .
  • the configuration of the laminate is small, as long as the post () is laminated, but the () () configuration and () ) () () () () Can be adopted. In particular, the configuration is preferred.
  • the method of obtaining an image with a different degree of metallization by using the post of the present invention alone or by combining it with another post to obtain an image with a different degree of metallization is also necessary. Preferred from the point of view above.
  • an Idock Tactic Mixer, a Tihod die or the like can be used as the extruded layer method.
  • the static mixer include an ipxa and a squaraix, but it is preferable to use a squarax in the light.
  • the obtained pellets are collected by a rotary drum, preferably with a rotating drum, and are charged by discharging the pellets and cooled by moving.
  • a rotary drum preferably with a rotating drum
  • a method can be used in which a wire pole is provided on a side of the base that is not in contact with the base, and a voltage is applied between the base and the base.
  • the term "direction" is used to give the element a longitudinal orientation. It can be done on this floor or in multiple steps using pairs.
  • the ratio is preferably 2 to 5 times, more preferably 2.5 to 7 times.
  • a direction for giving a direction to an image is sent, for example, by using a tenter and feeding the image while holding the end of the image with a cup.
  • the ratio is preferably 2 to 2 times.
  • the end of the image is fed while being held by a cup, and is simultaneously extended in the direction.
  • the tenter is used to provide flatness and qualities. It is preferable that the treatment is performed within the range of the elongation or more and the point or less. First, it is cooled to room temperature and wound up. In the case of light, a heat treatment degree of 2 to 24 is preferred in terms of flatness and qualitative properties.
  • a ting portion such as gravure metallization may be used to apply the ting portion in-line before or during elongation, or may be applied in an in-line manner.
  • the posters and posters in the description are particularly useful as a scientific basis for optical recording optics such as telephotos.
  • the measurement was performed at 25C using an instrument.
  • the po was solved with 9 to C in an octonochrome home (73), and the potential was fixed with an aca.
  • the density d was measured at C using a pipe made of a sodium solution. The degree was calculated using the obtained values.
  • X manufactured by Seisakusho, S5W type
  • CP light analysis Seins, SPS7
  • X or CP optical analysis was performed after the following precautions in order to eliminate the effects of titanium oxide particles in the target titanate. In other words, dissolve the potentite in Kuno, adjust the properties of the poly with Kuhom if necessary, and settle the centrifuge. Then, only the supernatant liquid is recovered with, and the port is discharged by adding acetone, followed by washing and washing to obtain a port from which particles have been removed. After removing the particles obtained by the above preconditioning, the amount of titanium, the amount of silicon, the amount of silicon, and the like were determined.
  • equivalent refers to a straight sphere having the same volume as the poster (child, chip), and divides the amount of the poster by the (d3359 cm) of the poster to obtain the volume. calculate.
  • Teta (Gakusha Chiguri (45 slurries with screw () Supply at 4 C at a pressure of 25 C and a pressure / Pa, and perform stabilization at a further interval after the supply is completed.
  • the titanium lactate, to which the stay was transferred was added with titanium in an amount of O by titanium calculation.
  • P P45 () is added OO to the port, the guanium solution is added 7 times in terms of the amount of manganese, and the acid is added in the amount of 0 in the amount of sulfonic acid. From 25 C to 2 C, and the pressure was reduced to 4 Pa. Degree, final
  • the pressure-reduced pressure was set at 5 C, the pressure was reduced (33 Pa) with, and the heat-treated port at a temperature of 24 for 8 minutes was taken out. It was a rejected port.
  • the amount of the three ring bodies in the port was 3 (both is the post ()).
  • the process was carried out in the same manner as in the above except that the unique to 6 d chip was heated after the polymerization was completed by raising the predetermined toque to obtain a unique to 75 d chip.
  • the isomer in the port was 5 (both is assumed to be a post ()).
  • the post () obtained in step (3) is supplied at 8 C for 3 hours, decompressed at 33 Pa, supplied to (), melted on a casting drum, put on a 25 cm surface of the just drum, and quenched. And In this formula, this formula is used to formulate 3.5 times at 9 C vertically, and furthermore, use a tenter to heat-treat at 5 C horizontally and 3.5 C below, at a temperature of 2 C, and heat-treat at a temperature of 2 C. A poster with a thickness of 8 was obtained. It was good. To the image obtained
  • the post () obtained in (4) is supplied for 3 hours at 8 C, decompressed at 33 Pa, and supplied to (), melted on a casting drum, and quenched by putting it on a casting drum with a surface of 25 C while rubbing.
  • this formula is calculated as follows: 3 ⁇ 5 at 9 C vertically, and 3.5 ⁇ 5 at 5 C horizontally using a tenter, heat treatment at a temperature of 2 C below, 2 widths at width, and thickness. I got 8 posts. It was good.
  • the slurry of r was supplied to the screw (titanium 23 charged) at the stage 4 maintained at the temperature and temperature.
  • the part of the antimony triacid to which the stem was transferred was added, and the sterically hindered compound G OX22 () was added at 35 n to the port.
  • the reaction system was increased from 25 C to 2 C, and the pressure was reduced to 3 C while adding 3 nn of phosphoric acid as a phosphorus compound.
  • the temperature reached a certain level, the reaction system was returned to ji, the reaction was stopped, and the strand was poured into cold water. (It was 6.4, etc.) It was three times from the start of depressurization to the predetermined time.
  • the amount of the poly obtained was 25, and the amount of the three rings in the poly was 3.
  • Example 8 In the same manner as in Example 8 except that P45 () was added to the po 3 instead of adding GOX22, a titanate was synthesized in the same manner as in Example 8 to obtain a columnar chip having a size of about 7 (po). Etc. are 6 and 4).
  • the heat treatment was performed in the same manner as in Example 8 except that the amount of the three ring bodies in the po was .45 (poster ()) 8, except that the fraction was .5. It was 3/5 of the obtained poly (the degree of the cyclic three-body synthesized at the post () o8 was 3), the 3 po was dried at 5 C under reduced pressure, and the system was changed to Pa with gas at. The elemental concentration of the system was moisture 5. The system was held by force (), and the heat-treated g at a temperature of 23 C was taken out of the system. And the In addition, it was 5 points, and the viscosity was large and the degree of viscosity was low.
  • Example 8 Except that GOX22 was not added, the same procedure as in Example 8 was carried out to synthesize a titanate to obtain a columnar chip having a size of about 7 (the number of poisons was 6.4).
  • the pressure of 51401 was reduced at 5 C and the system was set to 7XPa with gas at.
  • the elemental concentration of the reaction system is 5, water O.
  • the system was held by force (), and the port subjected to the heat treatment for 24 g at a temperature of 24 C was taken out. 645d
  • Example 8 heat treatment was performed in the same manner as in Example 8 except that the temperature was changed to 7 C (7) and 2 C (8). At 7 C, the total amount of the ring 3.3 did not decrease. On the other hand, in 2C, a pond adhered to the device wall, and it was 3 ⁇ 2, and no decrease was observed (poste ((, polystere ((8
  • the poster (G) obtained in Example 8 was supplied to () under reduced pressure at 33 Pa for 3 minutes at 8 C.
  • the post () obtained in Example 9 was decompressed at 33 C for 3 hours at 8 C, and then supplied to the sub (), merged in the die, melted out on the die-storing drum, and melted on the surface of the die. It was quickly cooled by putting it on a 25C just drum while putting it on the drum, and it was made into a mold (only 6 ratio).
  • this formula is calculated as follows: formula: 3.5 at 9 C vertically, further, by using a tenter, not by 3.5 at 5 C, heat treatment at a temperature of 2 C, heat treatment at 2 C, width by 2
  • a single-layer poster was obtained in the same manner as in Example 2, except that the poster () obtained in 5 was supplied instead of the poster (G).
  • a single-layer poster was obtained in the same manner as in Example 2 except for the supply. It was good. When an experiment was performed on the material obtained as a result, a large amount of monomeric product was produced. It is anticipated that the dynasty will be unbearable for use as a polymorph. The results are shown in Table 4.
  • Dissolve Polyester-8 in zero octono If the polyester contains particles, etc., the solution is centrifuged to sediment the particles, and the supernatant is used for measurement. We measured the RRT at RRT using a meter with Hitachi as a sensor and a Hitachi meter.
  • n was the number of oligomers with a larger diameter per side. 0154 4
  • the reaction system was changed from C to 2 C while the coalescence was performed at 3, and the pressure was reduced to 3 Pa.
  • the final and final scores were both set to 9.
  • the reaction system was returned to the gas state to stop the application of the reaction, and the strand was put into cold water in the form of a strand.
  • the weight of the poster chip was 63, and the weight of the three ring bodies was 2.
  • the pressure of the post was reduced at 7 C, and a post with a degree of 6 was obtained. Only 43 chips per chip.
  • a rotary processing machine having a dry chip volume of 3 chips was charged, and the inside was filled with a gas having a water content and an oxygen concentration of 4 or less, and the internal force was Pa. Then, the temperature was raised to 23 C, and the temperature was maintained twice after the temperature reached 23 C, and then the chip was taken out.
  • a gas having a water content and an oxygen concentration of 4 or less was charged, and the internal force was Pa. Then, the temperature was raised to 23 C, and the temperature was maintained twice after the temperature reached 23 C, and then the chip was taken out.
  • Polymerization was carried out in the same manner except that the addition of the acid in 4 was changed, and the chips were heat-treated.
  • a poster chip was obtained in the same manner as in Example 4 except that the materials for tetrahedral in 4 were tetramethy 94 and isomethy6. Of the poster chips obtained, the weight of 65 and the three ring bodies was.
  • the poster was decompressed at 7 C to obtain a poster having a degree of 3. Only 43 chips per chip.
  • a rotary processing machine having a dry chip volume of 3 chips was charged, and the inside was filled with a gas having a water content and an oxygen concentration of 4 or less, and the internal force was Pa. Then, the temperature was raised to 23 C, and the temperature was maintained twice after the temperature reached 23 C, and then the chip was taken out.
  • a gas having a water content and an oxygen concentration of 4 or less was charged, and the internal force was Pa. Then, the temperature was raised to 23 C, and the temperature was maintained twice after the temperature reached 23 C, and then the chip was taken out.
  • a post chip was obtained in the same manner as in Example 4 except that the total cost was reduced. It was 6 in the poster chip and a cyclic monomer.
  • the poster was decompressed at 7 C, and a poster having a degree of 6 was obtained. Only 43 chips per chip.
  • a rotary type processing machine having a dry chip volume of 3 chips was charged, and the inside was filled with a gas having a moisture content and an oxygen concentration of 4 or less, and the internal force was set to Pa. Then, the temperature was raised to 23 C, and the temperature was maintained twice after the temperature reached 23 C, and then the chip was taken out.
  • a gas having a moisture content and an oxygen concentration of 4 or less was set to Pa.
  • step 4 4 the poster was polymerized, and the chips were subjected to heat treatment and production. Due to the large amount of phosphorus, the cyclic monomer was regenerated in the lime, and the amount in the lime increased.
  • reaction was carried out while adding methane to the mixture of manganese 4 and 5. After the reaction was completed, the reaction was terminated at three times until 235C, and then the acid was added. Further, an average of 3 was added, and the titanium sodium prepared as a reference was added as a titanium element so that the amount of titanium was 5 () with respect to tetramethy. The reaction was then transferred to loading.
  • the reaction system was changed from C to 2 C while the coalescence was performed at 3, and the pressure was reduced to 3 Pa.
  • the final and final scores were both set to 9.
  • the reaction system was returned to the gas state to stop the application of the reaction, and the reaction system was discharged into cold water in the form of a strand.
  • the weight of the poster chip was 64, and the weight of the three ring bodies was 2.
  • the pressure was reduced at 7 C to obtain a poster with a degree of 6. Only 43 chips per chip.
  • a rotary processing machine having a dry chip volume of 3 was prepared, and the inside was filled with a gas having a water content and an oxygen concentration of 4 or less, and the internal force was Pa. Then, the temperature was raised to 23 C, and the temperature was maintained twice after the temperature reached 23 C, and then the chip was taken out.
  • a gas having a water content and an oxygen concentration of 4 or less was filled with a gas having a water content and an oxygen concentration of 4 or less
  • step (1) The host obtained in step (1) was heated to 9 C, and moved in the longitudinal direction by 3.3, and by the tenter formula, the direction of C was increased by 3.8.
  • the roll was wound at a fixed temperature of 23 C.
  • the amount of the cyclic monomer contained in the compound was 3. As a result of the test, no test results were found.
  • a post chip was obtained in the same manner as in Example 4 except for increasing the total cost, and a heat treatment was performed in the same manner as in Example 4 to obtain a piece. 0179 28
  • the volume of the heat treatment machine in 4 and the rate of chip removal were 3 to 2.
  • the heat treatment was carried out in the same manner as in Example 4 except that the temperature was changed to, to produce.
  • the volume of the heat treatment machine and the rate of chip removal were 32.
  • the heat treatment was carried out in the same manner as in Example 4 except that the temperature was changed to, to produce.
  • Example 4 was prepared in the same manner as in Example 4 except that the heat treatment was performed at the ambient pressure of 3 Pa and the nitrogen gas flow rate was set to 2 per post in Step 4. The wound was slightly damaged. 0182 3
  • Example 3 The heat treatment was performed in the same manner as in Example 3 except that the gas amount in Example 3 was reduced to a unit, and an im was produced.
  • Heat treatment was performed in the same manner as in Example 3 except that the ambient pressure in Step 3 was set to ⁇ Pa to produce an im. The wound was slightly scratched.
  • a two-stacker equipped with two pushers was prepared. Chips heat-treated in Example 4 and chips heat-treated only by drying were supplied to each of the two presses and discharged. The resulting polish was laminated in two layers by a laminating device and extruded from the base in a toroidal shape. At this time, a heat treatment port was laminated on the drum side and a heat treatment port was laminated on the drum. Heat treatment Heat treatment was 5. The submitted post was further processed in the same case as in Implementation 4.
  • the heat-treated chip of 4 was used.
  • the poster chip was decompressed at 7 C, and a poster chip having a degree of 6 was obtained. It was 43 tips for a poster chip.
  • the reactor was charged into a rotary processor, and the inside was filled with a gas having a moisture content and an oxygen concentration of 4 or less, and the pressure was adjusted to atmospheric pressure. The gas and pressure were raised at, and when the temperature reached 23 C, heat treatment was performed ().
  • step 34 was performed for 2 hours, the process was set to 5, the final process was set to 75, and a total of 2 boosters were heat-treated. Table 8 shows the results.
  • the poster chip polymerized in 4 was decompressed at 7 C to obtain a poster having a degree of 6. Only 43 chips per chip.
  • the dried chip was charged into a rotary processor with a chip volume of 3 and the internal force was OOPa. Then, the temperature was raised to 23 C, and after the temperature was maintained twice, the chip was taken out. The number of the obtained chips was 35, the cyclic monomer was 35, and the degree was 75. Tables 8 and 9 show the properties.
  • the processed chips were put into an extrusion, and extruded at 2C from a mouthpiece at 2C.
  • the heat of the extrusion is intense due to the high degree of the chips.
  • the sample was closely contacted and cooled by a drum method whose surface degree was controlled to 25C.
  • the company performed the same procedure, but the room was out of order and frequent breaks occurred. For this reason, the obtained im was the amount of 2 () of the used po.
  • the post chip provided for manufacture had a small size, the adhesion to the post chip was sufficient, and scratches were found on the surface of the image.
  • the abundance of the cyclic monomer contained in the im was 75. The properties are shown in the table. 0197 4
  • Example 4 An image was obtained in the same manner as in Example 4, except that the heat treatment was performed at 255C.
  • the chip was shaped as a heat treatment device. The chips were colored. I could't make an im product because the tip was too late.
  • a chip was obtained in the same manner as in Example 4 except that the total cost was reduced, and a heat treatment was performed in the same manner as in Example 4 to produce an im.
  • the width of the extrusion was not constant because the specificity was too low, and the extrusion could not always be used.
  • the poster according to the present invention is particularly effective as a step optical system, a food container, a combination, and a package electrical insulation.

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Abstract

　等価球直径が１ｍｍ～５０ｍｍ、結晶化度が６５％以上９９％未満、固有粘度が０．７ｄｌ／ｇ以下、かつ環状三量体の含有量が０．４重量％以下であるポリエステル樹脂組成物を提供する。このポリエステル樹脂組成物は、色調に優れ、、かつ粘度低下や粘度上昇の小さく、長期の熱履歴を受ける工程にも耐えうる。また、本発明は、汎用的に押し出し可能な粘度を有するポリエステル樹脂組成物、その製造方法およびポリエステルフィルムを提供する。

Description

細 書
ポ ステ 、その製 、法およびポ ステ イ ム 術分野
０００1 、ポ ステ 、その製 ポ ステ イ ムに 関し、さらに詳し は環状化合物(オ )の 有量が少な 、色調が良好で、 用的に押し出し 能な 度を有するポ ステ 、その製
ポ ステ イ ムに関する。
０００2 般に、ポ ステ はジカ ボン またはその ステ 導体及びジオ またはその ステ 導体 ら 成される線状 分子である。し しな がら、例えば などに記載されて る に、線状 分子中には平衡 係 に基 て環状 物が生成する。 のものであり、ポ ステ の 程で 出したり、また製品の 面に随時 出したり、特に成形 加工工程、また製品の 用時に溶剤を用 た場合には多量に 出され、各種トラ の 因となることが知られて る。
０００3 えば、磁気記録 の ス イ ムであれば、環状 物が 出に
大 起を形成して 気記録を阻害したり、光学用 ス イ ムであれば、加工 工程での 熱に 環状 物が 出して 学的な りや を発生さ 、 合わ イ ムであれば、 板に 合わ た後の外観に りを発生さ る。 ０００4 これらの 物に ては、 の 告がなされて 、例えばポ チ ン テ タ トに ては、環状 物の たる成分は環状3 体であり、これらは ポ チ ンテ タ トの に平衡 応で生成することが、例えば
2に 告されて る。
０００5 記した問題に対して、例えば ～ では減圧 、不 ガス 囲気 にてポ ステ 脂を融点以下の 度で固 合する方法が提案されて る。 ０００6 し し、 る 合法に 環状 物を減少さ る 術では、確 に環状 物量は減少できるものの、同時にポ ステ の 応も進行し、重合 大き なるため、環状化合物 有量の な 成形 製造 料としては不適 当であ た。
０００7 すなわち、ポ ステ の が大き なると成形する際に溶融 ポ の 度が大き なり、そのために押し出し時の負 大き な たり、また 熱により ポ 度が上昇し、 解などの 題を生じることとなる。
０００8 このよ 問題を解決するため、 合時の を調整したり( ) 体の 量を調整したりする方法( 2)、グリ 分を含有する ガス 囲気で加熱する方法( 3)、さらに ァイ ィ ム 物を 除去して ガス 囲気 で加熱する方法( 4)が提案されて る。し しこれらの 法でも、得られるポ ステ の が変動するため、一定 質の ポ ステ を工業的に得ることは非常に困難であ た。
０００9 また、特許 5では ガス 囲気中で加熱処理をすることにより環状
物を減少さ る 術が記載されて るが、この 法でも、たし に環状 量体 を低 減 することができるが、ポ が着色する 題があ た。
1 ピ ・ジ イ・ 分子 ( 小天、金丸 訳、丸 版社 )P9 ～97
2 和男 ポ ステ ンド 、 ( 新聞社) P 67～ 78
1 34 8987
2 2 3 3 6538
3 2 72372
4 9966
5 9 249744
6 9 59362
7 6 234834
8 5 485 5
9 49 462
1０ 53 92 11 55 8933
12 55 8933
13 8 2 62
14 2 2 73528
15 2745676 報
発明の
明が解決しよ とする課題
００1０ 明の 、上記した従来の 題を解決し、環状 有量が少な 、色 調に優れ、 度低下や 上昇の さ 、長期の 歴を受ける工程にも 、押し出し成形に適したポ ステ 、その製 ポ ステ イ ムを提供することにある。
題を解決するための
００11 記した 明の 、以下の 段に 成される。
径が ～5 、 度が65 99 、固有 度が ・ 7 d 下、 量体の 有量が ・4 下であるポ ステ 。 を含有するポ ステ を加熱処理するに際し、その 熱処 理 度をポ ステ の 点 ら 8 C 度の 囲に制御すると ともに、加熱処理 囲気を不 ガスの ポ ステ あたり ット 下となる に制御するポ ステ の 。
００12 量体の 有量が ・ ～ ・ 7 、カ ボ 5～4 トン、 度が ・ 55～ ・ 8 の 囲であり、オ トク ノ を とした ( 8 )の における 度が ・ 22～ ・ 36であるポ ステ 。
明の
００13 明に れば、環状 量体 を大き 減少さ ることができ、さらに色調が良好 で 、異物が少な 押し出し成形に適した 度を有するポ ステ を提 供することができる。また、 明に れば、色調が良好で ポ の 度を実質的に変えることな 、環状 物のみを生産性 し も安価に減少できる 。さらに、 度の 態 ら加熱処理することにより、固有 度を通常の ベ とした ままで環状 物を減少さ たポ が得られる。
００14 明のポ ステ 、通常 用されて る条件を特に変更することな 、 、成形を〒 ことができ、し も 量体による製糸 の 剤の
ステイング・ 備の 染などを防止することが可能となる。また成形 の 用時に環状 物の 出による 点を防止でき、繊維、 イ ム、ボ など に有効に使用することができる。特に テ プ 光学 イ ム 途、食品用 の 器、 合わ 、包装 電気絶縁 イ ムとして有効である。
明を実施するための 良の
００15 明のポ ステ 、後述する第一および 二のポ ステ
を包含する。 明の、後述する第一および 二のポ ステ
、ポ チ ンテ タ ト、ポ チ ン タ ト、ポ チ ンテ タ ト、ポ プ ピ ンテ タ ト、ポ ク キサンジメチ ンテ タ ト、ポ チ ン タ ト等を挙げることができ、さらにこれらの 重合体であ てもよ 。これらポ ステ の中でもポ チ ンテ タ ト、ポ チ ン タ トが イ ムとしての 性が良好で好まし 、さらにポ チ ンテ タ トが一番 。ポ チ ンテ タ トは共重合しても まわな が、ポ ステ
Figure imgf000005_0001
。 チ ンテ タ ト 分が9 である場合、ポ ステ の 性が悪 なり、 明のポ ステ の 法における 度を満足することが難し なる場合がある。
００16 これらポ ステ の 重合成分としてジカ ボン 分、グ 分、多
分を挙げることができ、例えばジカ ボン 分としては、テ タ 、 2 6 タ ンジカ ボン 、ジ ジカ ボン 、 タ 、イソ タ 、ス ホイ タ ナト ウムおよびこれらのア キ ステ などの ジカ ボン 分、 アジピン 、 ン 、およびこれらのア キ ステ などの 肪族ジカ ボン 分、 4 ク キサンジカ ボン およびこれらのア キ ステ などの ジカ ボン 分を挙げることができる。グ 分としては、 チ ング 、 チ ング 、プ ピ ング 、 タンジオ 、 4 ク キ サンジメタノ 、ネオペンチ グ 、スピ グ 、ビス ノ の チ ン キサイド 、イソ ベ ト等をあげることができる。また 分とし ては、ト メ ット 、 酸などの ボン 分、ト チ プ ン、ペンタ ト などの ア を挙げることができる。さらに キ 息香酸 カ ボ 酸を共重合成分として てもよ 。
００17 明の 一のポ ステ にお ては、ポ ステ を重合終了後、 ト 、ストランド 法などにより 、粒子状(チップ )に成形する。
(チップ)の 任意でよ があまりに形状が小さすぎて微粉末 とな たもの は熱処理工程やその後の成 程でのトラ の 因となる。また形状が大き 場 合には環状 物を減少さ る意味では特に問題にはならな が、操作性の点 ら 問題が多 。このこと ら、ポ ステ ( 子、チップ)の きさは等
～5 が好まし 、より好まし は2 ～2 である。なお、ここで等 とは、ポ ステ ( 子、チッ ) 同じ体積を有する球の直 であ る。
００18 明の 一のポ ステ の 度は65 99 満が好ま 。より好まし は7 95 であり、 75 9 満が特に好まし 。こ の 囲の を有し、 この 状のポ ステ 環状 量体 が著 し 減少する。 65 では通常のポ ステ 同様に環状 量体が減少しに 99 上は生産性が悪 。 明の 一のポ ステ の 量体 の 有量は ・ 4 下が好まし 、より好まし は ・ 3 下、特に好まし は、 ・ 25 下である。 囲のよ に環状 量体 が少な ことにより、環 状 量体が 出するまでのポ の 間を長 することが可能になる。
００19 明の 一のポ ステ の ・ 7d 下であることが好ま し 。 ・ 7d を超えると粘度が高 ため に押し出し不良の 題や 熱して ポリ を さ 、不均一なポリ を生じさ てしま ことがある。また、
を高めるために成形 度を高 設定する必要があり、その 果として製 の 物が生成しやす なる。また、下限としては ・4d 上が好まし 。 度が ・4d より低 場合には製糸 の 、 の 、成形 の 損など成形 良の 題を生じやす なり、特に固有 度が ・4d 上 、 ・ 7d 下のものを用 るのが好まし 。
００2０ 明の 一のポ ステ を例えば イ ムの 料として使用する 場合、ア カ 属元素の 有量を a( )、ア カ 属元素の 有量 を d( 、リ 素の 有量を ( )としたとき、 a および が を満足して ることが好まし 。
a 2 d
００21 、 a 2X dを 、 をPとすれば P 同義であり、好まし は P ・ 5である。 P Oであると、静電 キヤスト注が不良となり、 し出し ヤスト時に イ ム ステイングドラムとの間に空気が入りやす なり、 度を下げざるを得な 状況になりやす 、生産性の 下を招 。また、原因は定 ではな が、ポ ステ の 素量を上記 とすることにより、環状 量 体の 面 の 制を促進し、さらに加熱処理 に早 量体 を減少 し めることが可能となる。 を満足さ るために用 るア カ 属元素 物やア カ 属元素 合物としては、特に限定されな が具体的には、 例えば、 チウム、 ナト ウム、 カ ウム、 グネ ウム、水酸 カ ウム、水酸 ナト ウム、水酸 グネ ウムなどを用 ることができる。
００22 明の 一のポ ステ 、最大 上であり、 、Sbま たはGeの 素を含有する粒子の 度がポ ステ たり
であることが好まし 。より好まし は5 であることが好まし 。こ の 度が 上であるとポ ステ イ ムとした際に表面 さが な たり、 イ ムの 明性が損なわれることがある。
００23 明の 一のポ ステ 3 ン 物を含有し、その 有量が ン としてポ ステ に対して ～ OO であることが好まし 。より 好まし は5～ O である。 OO を超えて 有すると、重合 応性が悪化する 傾向にあり、 満の 有量では耐熱性の 持が困難となる。なお、ここで 有量は3価の 物の ン 素量であり、 3価の ン 合物であることにより、 注を維持して るとともに原因は定 ではな が環状 量体の 少速度を増加 さ る。
００24 明の 一のポ ステ ではチタン 素が得られるポ ステ
に対してチタン として ・ 5～5 まれて ると重合 性が高 、得られ
Figure imgf000008_0001
。 O を超える量を含有して ると耐熱性が悪化し、さらに触媒 因の 物の 因となりやす 。 有量として、より 好まし は ～3 、更に好まし は ～2 である。これらチタン 素の 定 量をポ に含有さ るためには、それら元素を含む 物の に所定量を添 加すればよ ( がそのま ポ 中に保持される)。また、ア カ 属元素の 有量はポ ステ に対してア カ として ～3 とする ことにより、重合時の をあげることができ、チタン 合物の 水分解を抑制 することができる。ア カ 属元素の 有量としては好まし は ～ である。
を下回る含有量であると、加水分解 果に乏し 、 3 を超える含有 量であると、異物 生の 因となり得る。ア カ 属元素の 、たとえば、水酸 ナト ウム、水酸 カ ウム、 ナト ウム、 カ ウムなどの 物を所定量 加することにより実現できる。
００25 記のチタン 素を含む 物としては、チタンキ ト 物やテトラア
Figure imgf000008_0002
。 えばチタン チ ア トネ ト、チタンテトラ チ ア トネ ト、チタンオ チ ング ト、チタンラクテ ト、チタン チ ア テ ト、ク ン チタン、乳酸チタン、チタンペ ク ン チタンアン ウムな どのチタンキ ト テトライソプ ピ チタネ ト、テトラ チ チタネ ト、テトラ(2 チ キ ) ネ ト、テトラメチ チタネ トなどのア キ チタネ トなど を挙げることができるが、な でも、チタンキ ト、テトラ チ チタネ トを用 るこ
Figure imgf000008_0003
。
００26 記した第一のポ ステ 、例えば 度が ・ d 下であり 、 等 径が ～5 のポ ステ を、減圧 および または ガス 、前記ポ ステ の 点な しその より8 C 範囲 の 度で加熱することにより得ることができる。
００27 記の ( 処理)は、ポ チ ンテ タ トの 合、好まし は 9 C 上 26 C 、特に好まし は2 C 上25 C 下である。
００28 熱処理に用 るポ ステ の 好まし は ・ d
下であるが、さらに好まし は ・ 5 d 下であるポ ステ を使用すると、環状
Figure imgf000009_0001
。 ・ d 上である。 ・ d では熱処理 の 度の 加速度が遅すぎるため生産性が低下する。 ００29 処理 9 Cより低 場合には環状 物の 少速度が小さ なる。 26 でを超える場合には、ポ が溶解し、加熱処理を行 ても 物が減少しな なる傾向がある。 て 熱処理は、熱処理ポ (ポ ステ )の 点以下で実施
Figure imgf000009_0002
。
００3０ 処理する時間は通常2 間以上6 間、好まし は3 間以上4 間である。 2 間より 時には環状 物の 果が小さ 、また6 間より長 場合には え て環状 物の 少速度が小さ なり、逆に熱 などの 題が大き な て る。
００31 度が ・ 55 下のポ ステ を熱処理する場合、減圧 、好まし は 33Pa 下の 件、および または ガス の 件で加熱処理を行 ことが重要である。 ガスはポ ステ に対して 性なものであれば良 、 例えば 、 ウム、炭酸ガスなどを挙げることができるが、経済性 ら 素が好ま し られる。
００32 ガスを用 る場合には、熱処理 の 囲気が重要である。ポ ステ は酸 素および水分により 加水分解が生じ易 ため、 囲気中の および 水分を制御する必要がある。 囲気中の 分率としては OO 下、より好ま し は5 下、更に好まし は4 下である。 囲気中の 分量が OOO を超えると環状 減少するものの、同時にポ ステ が加水分解 し、得られるポ の 度が低下する傾向にある。 方で、水分量は 下 にしな
Figure imgf000009_0003
。なぜならば、水分量が 下の 合には、 ガ スの 度を高めるために工程が複雑になるば りでな 、環状 物の 少速度が 下する傾向にある。また、酸素濃度は OO 下、好まし は5 下 、さらに好まし は OO 下、最も好まし は5 下である。 素濃度が OOO を超える場合には、ポ ステ の が生じやす 。
００33 記の 熱処理に使用する 処理装置としては、ポ ステ を 一に加熱できる
Figure imgf000010_0001
。 体的には 、回転式 、流動式
の 有する 機などを用 ることができる。
００34 また、 明にお て 処理を実施する前にポリ ステ の 適度に 去し
Figure imgf000010_0002
。さらには、熱処理 ポ 士の を防止するためにポ
Figure imgf000010_0003
。
００35 明にお
Figure imgf000010_0004
。
としては ノ 系 、 ン系 、ア ン系
、ラクトン系 剤などが好適である。
００36 ノ 系 としては、 ノ 造を有し、 ノ 環に少な とも 個の さ 基を持 合物であれば用 ることができる。 体的には、以下の
Figure imgf000010_0005
。
００37
Figure imgf000010_0006
００38 ここで、
2
、 ア キ 、置換ア キ 、または、置換ト アゾ (それぞれ 一で も異な て てもよ 、
3
ア キ 、置換ア キ 、ア キ 、または、置換ア ノ ) である。
００39 このよ な 物の としては2 2 メチ ンビス(4 メチ 6 e
ノ )、 6 キサンジオ ビス 3 3 5 e 4 ピオナ ト 、ペンタ ト テトラ 3 (3 5 e 4 ) ピオナ ト 、ジステア 3 5 e 4 ベンジ ナ ト、2 6 7 ト オキサ ホス ァビ ク 2・ 2・ 2オクタ 4 イ メチ 3 5 e 4
ンナ ト、 3 5 e 4 3 5 ステア チオト アジ ン、2 (2 キ 3 キ 3 5 e
) 5 ク ベンゾト アゾ 、2 6 e 4 メチ ノ 、 3 5 メチ 2 4 6 ト ス(3 5 e 4 ベンジ )ベンゼン、4 4 メチ ンビス(2 6 e ノ )、3 5 e 4 ベンジ メチ ア ン、 キサ チ ン 3 5 e 4 ンナ などがある。中でも、 3 5 ビス( メチ ) 4 メチ ス ォネ トが特に効果が優れており好まし 。この 例えば ・スペ ティ ・ ズ社 ら G X 22 として市販さ れて る。
００4０ ン系 としては、3価の児 含み、ベンゼン環に少な とも 個の さ 基を持 物が好適である。 体的には以下の 造を有する 物であると好 まし 。
００41 2
Figure imgf000011_0001
００42 このよ な 物の としては 2 4 ビス( メチ ) 6 メチ ステ ン テトラキス(2 4 e
) ビ 4 4 ビスホス ナイト、ビス(2 4 e
)ペンタ ト ジ オス イト、ビス(2 6 e チ 4 メチ ペンタ ト ジ ォス ァイト、2 2 4 8 テト ラキス( メチ ) ベンゾ d f 3 2 サ ォス 6 O 、 bs 2 2 4 8 テトラキス( メチ ) ベン ゾ d f 3 2 サ ォス 6 1 o タン など がある。これらは例えば ・スペ ティ ・ ズ社 ら G 6 な どとして市販されて る。
００43 系 としては、たとえば 下の 造を有する 物であると好まし ００44 3
Figure imgf000012_0001
００45 ここで、
ア キ ( 一でも異な て てもよ
またはア キ 、
2または3員のア キ ン ( 飽和または ) 、
である。
００46 まし のは、2 2 6 6 テトラメチ の 導体である。 えば、4 トキ 2 2 6 6 テトラメチ ジン、4 ステア イ オキ 2 2 6 6 テトラメチ ジン、4 ア イ オキ 2 2 6 6 テトラメチ 4 トキ 2 2 6 6 テトラメチ ジン、4 ベンゾイ オキ 2 2 6 6 。
テトラメチ ジン、4 ク オキ 2 2 6 6 テトラメチ
4 キ 2 2 6 6 テトラメチ 4 オキ 2 2 6 6 テトラメチ ジン、4 ( オキ ) 2 2 6 6 テ トラメチ などがある。これらは例えば ・スペ ティ ・ ズ S 42 として市販されて る。 ００47 クトン系 好まし 、たとえば、5 7 e 3 (3 4 メチ ) 3 ベンゾ ラン
Figure imgf000013_0001
。
これらは、個別に使用しても、混合物として使用することもでき、使用される量は、ポ ステ の 量に対して、 ・ であり、好まし は ・ ～ ・ である。ポ ステ にこれらの を添加することによ り 熱処理 に混入される 素の 響を抑制することに加えて、原因は明ら では な が 熱性が向上し 化を改善する。
００48 を含有したポ ステ の ・4d1 上であること
Figure imgf000013_0002
。 度が ・4d より低 場合には製糸 の 、 の 、成形 の 損など成形 良の 題を生じやす なり、また 度が 高すぎる場合には成形 の 熱で温度が上昇したり、また
を高めるために成形 度を高 設定する必要があり、またその 果として製 の 物が生成しやす なる。特に固有 度が ・45d 上、 ・ g d 下のものを用 るのが好ま 。
００49 記した ポ ステ に用 た場合、加熱処理は固有 度を 変 さ な
Figure imgf000013_0003
。
００5０ たとえば、一定 質のポ ステ を得るためにポ ステ あ たり ット 下の ガス ・ 囲気 で加熱処理を〒 ことが重要 である。 度にも 存するが、例えば 度が22 C 上では、流通 ( )を毎時 ・
Figure imgf000013_0004
。さらに好まし は ・ ット 下であり、ほとんど 量がな 態でも良 。 量がポ ステ あ たり ット を超える場合、ポ の 度が上昇してしま 、一定 質のポ ステ を工業的に得ることが困難となる。
００51 処理 、 用するポ ステ の ～ より8０C
Figure imgf000013_0005
。 常のポ チ ンテ タ トに ては、好まし は g C 上26 C 、特に好まし は2 C 上25 C 下である。 処理 度が 9 Cより低 場合には環状 物の 少速度が小さ なりやす 。また、26 でを超える場合には、ポ が溶解し、加熱処理を行 ても 物が減少しな なる傾向がある。 て 熱処理は、ポ ステ の 点以下で実施すること が重要である。
００52 処理する時間は通常2 間以上6 間、好まし は3 間以上4 間である。 2 間より 時には環状 物の 果が小さ 、また6 間より長 場合には もはや環状化合物の 少速度が小さ なり、逆に熱 化などの 題が大き な て る。
００53 明で ガスはポ ステ に対して 性なものであれば良 、例え ば 、 ウム、炭酸ガスなどを挙げることができるが、経済性 ら 素が好まし られる。
００54 ポ ステ は酸素および水分により 加水分解が生じ易 ため、
ガス 囲気中の および水分を制御することが重要である。 囲気中の 分率 としては OO ( 。 下、本 明にお て は重量を基準とす る。)、より好まし は5 下、更に好まし は4 下である。 囲気中 の 分量が OO を超えると環状 減少するものの、同時にポ ステ が加水分解し、得られるポ の 度が低下する傾向にある。また、水分量は 下にしな
Figure imgf000014_0001
。なぜならば、水分量が 満の 合に は、 ガスの 度を高めるために工程が複雑になるば りでな 、環状 物 の 少速度が低下する傾向にある。また、酸素濃度は OO 下、好まし は 5 下、さらに好まし は OO 下、最も好まし は5 下である。 素濃度が OO を超えた場合には、ポ ステ の が生じやす なる。 ００55 また、前記 熱処理は、例えば 熱処理 を前記した ガスによ て
Figure imgf000014_0002
。 熱処理の際の雰囲気 圧力は ・ 3～4・ Pa、より好まし は ・ 7～ ・ 9 Paである。 囲気 圧力が ・ Pa 満の ポ ステ の 動にともな 、大気中 の および水分が混入し固有 度の 下を引きおこしたり、 加水分解 をひきおこしやす なる。また4・ Paを超えると設備 に高価になる。
００56 次に第二のポ ステ に て説明する。
明の 二のポ ステ 、環状 量体の 有量が ・ ～ ・ 7 囲である。 量体の 有量が ・ 7 超える場合、環状 量体が ィ などの 面に 出しやす 、 出物が表面 点となる。さらに環状 量体の 有量は ・ 6 下であることが 制の 点 ら好まし 、さらには ・4
Figure imgf000015_0001
。
００57 方、環状 量体の 有量が ・ 満の 合、環状 量体を減少さ る 加熱処理に る時間が長時間となり、ポ ステ の 定性を損な 向にある 。また環状 量体 有量を ・ 満にした場合には、特にこれによる 著な 効果が発現しに なる。
００58 量体はポ ステ の では存在できな ため、 ィ ム 形の 程 でポ ステ の 化が進行すれば 在するよ になる。 で高濃 度に偏在する環状 量体は、ポ ステ 面に 出しやす 態にあり、 での 量体 がおよそ ・ 2 超えると 出してしま 。このため、ポ ス テ の 度をc ( )とすれば、環状 量体の 有量( )は ・ 2X(( c) )よりも 、
Figure imgf000015_0002
。 5 ィ であれば、環状 量体の 有量は ・ 6 より
Figure imgf000015_0003
。
００59 明の 二のポ ステ 、カ ボ 5～4
の 囲である。 5 トン 満の 合、 ィ ム 程にお
ィ の 着性が低下して滑りやす なり、 ィ ム 面に傷が付きやす な たり 、 ィ ム 面に加工を施す際の接着性が不十分となる。 方、4 を超え る場合、ポ ステ ィ の 調が黄味を帯び、光学用途における 用 が困難となる。 まし 5～35 であり、
Figure imgf000015_0004
8～3 である。
００6０ 明のポ ステ 、固有 度が ・ 55～ ・ 8 の 囲にある。 明 にお 度とは、オ トク ノ を として25Cで測定したものであ るが、これが ・ 55 では成型 として不十分な機械 性となり、一方 ・ 8 を超 える場合、 し出しの際に勢 熱が著し なりポ の 解を誘発するこ とがある。 ま ・ 55～ ・ 75であり、最も好まし は ・ 6～ ・ 7の 囲で ある。 ００61 明の 二のポ ステ 、オ トク ノ に ・ 8 を 解した における 度が ・ 22～ ・ 36の 囲である。 光は 青色の光であり、これが多 収されるとポ は黄味を帯びて ることになる。
度が ・ 36を超える場合、 ポ ステ イ ムを光学用途に用 る ことが困難になる。 方、吸 度を ・ 22 満にするには、ポ ステ 合に おける原料 を低減さ るなど生産性を犠牲にすることが必要であり、 スト 質の ラ ス ㌧ 点 らは避けることが好まし 。 まし は ・ 24～ ・ 3 の 囲 である。
００62 明の 二のポ ステ 、ビス( )テ タ トの 有量が5 ～2 の 囲であることが好ま ( 下、本 明にお て特に明記 しな ときは は重量を基準として 出された値を 。ビス( )テ タ トはポ チ ンテ タ トの オ の 種であるが、 オ の 有量が5 を超える場合、ポ ステ の が向上するために好ま し 、一方、 有量が2 を超える場合には オ がポ ステ の 工工程 に昇華して 置や 品を汚染することが多 。
００63 明の 二のポ ステ では、ポ ステ の 特に限定は な が、アンチ ン 3 ～ 5 、ア カ ～8 の 囲に することが好まし 。アンチ ン 素が3 満の 合、環状 量体を減少さ ることが難し なり、一方 5 を超える場合には、 さ た環状 量体が ポ ステ に再生しやす なる。ア カ 素が 満の 合、ポ ステ の 体積 抵抗が高 なるため、 イ ム の際に キヤ スト法を適用することが困難になり、8 を超える場合には、 さ た環状 量体がポ ステ に再生しやす なる。
００64 記したアンチ ン 素を用 な 、もし は3 満とする場合には、重合 チタン 物とすることが好まし 。この際にはチタン 素を ・ 5～5 とすることが好まし 。チタン 素が ・ 5 である場合、環状 量体を減 少さ ることが難し なり、一方5 を超える場合には、 さ た環状 量 体がポ ステ に再生しやす なる。 としてはこのほ にゲ ウム 物を用 ることもできる。
００65 アンチ 物としては三酸化アンチ を好まし ることができる。チタン の 合には、
Figure imgf000017_0001
。 えばチタン チ ア トネ ト、チタンテトラ チ ア トネ ト、チタンオ チ ング ト、チタンラクテ ト、チタン チ ア テ ト、ク ン チタン、 乳酸チタン、チタンペ ク ン チタンアン ウムなどのチタンキ ト テ トライソプ ピ チタネ ト、テトラ チ チタネ ト、テトラ(2 キ ネ ト、テトラメチ チタネ トなどのア キ チタネ トなどを挙げることができるが、 な でも、チタンキ ト、テトラ チ チタネ トを用
Figure imgf000017_0002
。
００66 明の 二のポ ステ 、 良が5 ～95 ( )の とし、 度を ・ 5～ ・
Figure imgf000017_0003
。 良が高 場合には環 状 量体をより 率的に減少さ ることができる。 5 満の 合には 、環状 量体の 有量を下げることが難し な て る。また 度を95 上と するには、ポ ステ チップを長時間にわた て することが必要であり、ポ ステ の を誘発しやす 。ポ ステ チップの 度が ・ 5 ット である場合、チップの ンド ングに支障をきたしやす 、 ・ O ット を超える場合には、チップ中の環 量体を減少さ るために熱処理する と 色しやす なる。
００67 記した第二のポ ステ を得る方法に て次に示す。
明の 二のポ ステ の 一の 、65 ～ 2 Paの 囲にある ガス 囲気 、固有 度が ・ 4～ ・ 7、 良が3 上であるポ ステ を 9 。C～25 。Cの 度で ・ 5～6 間加熱することで得る ことができる。
００68 ガス 囲気としては、例えば ウム、ネオン、ア ン等の希ガス 窒素ガ ス、炭酸ガス等を挙げることができる。この ち ガスが入手しやす 、好まし ることができる。これらの き ガスに含有される 水分の 、 5 PP 下であることが好ま 。 水分の 度が5 を超える場合にはポ ステ の が起こりやす なり、ポ ステ の 色などの 因となる。 ００69 ガス 囲気の 、65 ～ 2 Paの とするとよ 。65 Pa である場合、固 合が進行するためポ ステ の が上昇する。 の ポ ステ の 大に結び き、 脂を する際 に勢 が激し なり、ポ ステ の が起こりやす なる。また65 P a ではビス( )テ タ トの 有量が下がりやす 、ポ ステ の も悪 なりやす 。 方、不 ガス 囲気の 力が 2 Paを 超える場合にはポ ステ の 解が起こりやす なる。 態で処理をする場 合には、後に説明するとおり特定の で不 囲気を流通さ ることが重要 である。 まし 8 ～ 2 Paの 囲であり、さらには85 ～ O Paである。
００7０ 熱処理を施すポ ステ の 、 ・4～ ・ 7の 囲にある。 ・4
では、環状 量体は減少しやす ものの られたポ ステ 機械 性が 不十分となる。 度が ・ 7を超える場合には、環状 量体の 少速度が遅 、 長時間の 熱処理が必要になり 済的に不利である。
Figure imgf000018_0001
固有 ・ 5～ ・ 7の 、さらには ・ 55～ ・
Figure imgf000018_0002
。このよ 囲の 度を 有するポ ステ 、通常の 合にお て重合 ト クを制御すること で得ることができる。
００71 熱処理を施すポ ステ 、 3 上である。 量体は ポ ステ の に存在するため、 が進行すれ 量体は されることになる。このよ 状態のポ ステ は、 にお て過飽 和とな た環状 量体が平衡 まで減少するために、ポ ステ 体としての 量体 を低減することができる。 度が3 である場合、非 に おける環状 量体の 飽和 が不十分なために大きな環状 量体 減効果を期待 することができな 。なお、 加熱処理の 中にも高めることができ、最終
Figure imgf000018_0003
。 3 上とする方法 は、加熱処理の前に結 理工程を設けることが好まし 、例えばポ ステ 脂を減圧 、または熱風流通 にお て 2 ～ 8 Cで2 間以上 することが 。 程を 程と兼ねても良 。ポ ステ の 度は密 3 によ て確認することができ、例えば の 度を ・ 335 c 、
3
度を ・455 c とすれば、 (チップ 335) ( 455 335)で めることができる。
００72 熱処理を施す 、 9 C～25 Cの 囲である。 9 C ではオ
少速度が遅 ために処理 間が長 なり、経済的に不利であり、一方 度 が25 Cを超える場合にはポ ステ の が起こりやす 、さらには も起こるためにポ ステ の 色が激し なる。
Figure imgf000019_0001
温度 2 C～24 でであり、
Figure imgf000019_0002
。
００73 熱処理を施す時間は ・ 5～6 間の 囲である。ポ ステ 残存する 重合 の 度によ て時間は変わるが、 ・ 5 では十分に環状 量体を減少さ ることが困難であり、6 間を超える場合には経済的に不利とな る。 記した製造 法によ て、ポ ステ の を上昇さ ず、着色などさ ずに環状 量体のみを減少さ ることができるが、次の第二の 法によ て製 造しても まわな 。
００74 二の 、圧力が 2 Pa～ ・ 5 Paの 囲にある ガスをポ ステ あたり ット 上流通さ ながら、固有 度が ・4～ ・ 7、
3 上であるポ ステ を 9 C～25 Cの 度で ・ 5～6 間加熱するポ ステ の 法である。
００75 度、結 、処理 度、時間は第一の 法と通ずるが、第二の 法 では圧力が 、 2 Pa～ ・ 5 Paの 囲にある ガスをポ ステ
ット 上流通さ ながら処理を行 。 ガスは第一の 法と同様 の を選択することができ、酸素濃度や水分 度も第一の 法と同様の 囲
Figure imgf000019_0003
。なお、 明における ガスの 通量とは、標準 態に おける 通量を指し、標準 態とは圧力 Pa、温度 Cにおける状態を指す ００76 ガスの 力が 2 Pa である場合、不 ガスを流通すれば
合が進行するため、ポ ステ の が増大してしま 。 方、 ・ 5 Pa を超える高圧にしてもオ 減には特に効果はな 、経済的に不利である。 まし ・ 2 Pa～ ・4 Paであり、さらに ・ 5 Pa～ ・ 35 Paで ある。 態で不 ガスを流通すれば、ポ ステ ら発生する トア デ ヒド等の熱 物は系 に排出され、 チ ング 等は加圧 態では排出さ れに ので着色をおさえながら 上 抑制し、環状 量体を減少さ ること ができる。アセトア デヒドの 熱処理 度における 気圧は ・ 5 Paを超えるもの の、 チ ング の 気圧は ・ 5 Pa 下であることが上記した効果が発現 する要因である。
００77 三の 、加熱処理 囲気を間欠的に入れ替える方法である。
体的には、 ガスの 通量がポ ステ kg たり ット h 下であ ガス 囲気 、ポ ステ を g C～25 Cの 度で 5 ～ 間加熱 処理する工程( )と 5 以内に不 ガス 囲気を新し 入れ替えて 新する ( )を交互に繰り返し、工程( ) 工程( )の 計時間を ・ 5～6 間とする方 法である。 ( )では ガス 囲気がほとんど動 な ため、加熱処理中に おけるポ ステ の 度変 がほとんどな 。 方、工程( )によ て 発生した微量の トア デヒド等の副 工程( )によ て 出さ れ、ポ ステ が着色したり 化したりすることを防ぐ。
００78 ( )は、
Figure imgf000020_0001
ガスで加熱 処理装置 を充満さ る方法や不 ガスを処理 体積 上流通さ て 替 えるなどの 法をとることができる。 ( )は 5 以内に完了さ ることが好まし 5分を越えるとポ ステ の 度が上昇する場合がある。 ００79 ( )によ て新し 熱処理 囲気が更新されたら、そのまま ( )の 件 に移行して工程( )を実施すればよ 。
００8０ 明の 一、第二、第三の 法にお て、ポ ステ を加熱する加熱 用 る場合は、その の ( 容積)がポ ステ の け
Figure imgf000020_0002
。 容積が 5 であれば 熱処理に よ てポ ステ に着色が発生しやす なる。
００81 えば、 容積が 5 ット の 合、見 け 重が ・ 7のポ ステ 脂を7 o めばポ ステ の け ット 当となり、 容積は 5 となる。 容積は2 上であればさらに好まし 、最も好まし は25 上である。 方、 5 超える 容積は生産 率を落とし、ポ ステ の 調 に対する格別な効果も期待できに 。
００82 記の 熱処理に使用する 処理装置としては、ポ ステ を 一に加熱できる
Figure imgf000021_0001
。 体的には 、回転式 、流動式
の 有する 、連続 タワ 機などを用 ることができる。
００83 明のポ ステ 物 ら られるポ ステ イ ムは、長期の 管にお ても 量体が イ ム 面に 出しに 、さらに加熱した状態で イ ムを処理しても 量体が イ ム 面に 出しに ので、磁気記録 体や 光学用、 合わ 、包装 イ ムに好適である。 イ ムの だけ 量体の 出を抑制した 場合であれば、積層 イ ムとすることもできる。 明のポ ステ 脂を積層すれば、積層した だけでな 、積層して な 面の 環 量体 出を少な することもできる。 層を〒 、少な とも一方の 面 が上記した 明のポ ステ を含んで
Figure imgf000021_0002
。
００84 次に本 明の および 二のポ ステ の 法に て例を挙 げて説明する。
００85 ポ チ ンテ タ トはたとえば、次の ずれ のプ セスにより製造すること ができる。すなわち、 ( )テ タ チ ング を原料とし、直接 ステ 応によ て 合体を得、さらにその後の重 応によ て高分子 ポ を得るプ セス、 (2) メチ テ タ ト チ ング を原料とし、 ステ 応によ て 合体を得、さらにその後の重 応によ て高分子 ポ を得るプ セスである。 明にお ては、 ( )または(2)の ずれの 法でも ることができる。さらに必要に応じて 、 ッキング 剤などを反応前 、反応 に添加することができる。
００86 明にお ては、 ( )または(2)の 連の 応の 意の 階に、 を 添加し重 応を 、高分子 ポ チ ンテ タ トを得る方法を採る ことができる。 ００87 また、上記の 回分 、半回分 ある は連続 の 式で実施されるが、 明の はその ずれの 式にも適応し得る。さらに を重合終 了後に練り込みなどによ て 加しても わな 。
００88 ポ ステ の 、重合の 点をポ の ト クで判定するこ とができる。 ト クが高 場合にはポ の 度が高 、固有 度も高 な る。 的とする 度になるよ に重合 置の ト クを設定すればよ ００89 られた重合の 了したポ ステ 重合 部 らストランド状に 出 し、水冷しながらカッタ によ て ティン すればよ 。 、ティン によ てチッ プ 状が制御できるので、 明
Figure imgf000022_0001
度を有するポ ステ チップを得 ることができる。
００9０ られたポ ステ 、
Figure imgf000022_0002
。
チップを減圧 または熱風流通 2 C～ 8 Cに加熱し、2 間以上 すれ ばよ 。このよ 程によ てポ ステ の 3 上とする ことができる。
００91 燥の 了したポ ステ 引き続 て 熱処理を施し、加熱処理が終了 したポ ステ 冷却して 内 ら取り出す。
００92 記したポ ステ 、 ィ として好適に用 ることができる。中でも、
Figure imgf000022_0003
。 ィ は、例えば、 ポ ステ ( ) ( )をそれぞれ 造することができる。この 合、 度 は特に限定されず、ポ ステ ( ) ( )を口金 ら押し出しするのに支障の 度であればよ 。 で、 されたポ ステ ( ) ( )の 者を積層 、積 層 トを形成する。 ポ ステ ( ) ( )を押し出し機 ら口金までの 、ある は、 口金内などで合流 さ 、積層 トとして口金 ら吐出さ る方 法、 わゆる し出し法、ある は、 なるス ット状の口金 らポ ステ ( ) ( )をそれぞれ ト状にして 出さ 、その 者を積層する方法など ずれであ ても良 が、
Figure imgf000022_0004
。なお、積層 トの 構成は少な も、ポ ステ ( )が積層されておればよ が、 ( ) ( ) 構成や、 ( ) ) ( ) ( ) ( ) ( )、の 構成を採ることもできる。特に、 構成が好ま し 。この 、本 明のポ ステ 独で してもよ し、また他のポ ステ に本 明のポ ステ 上 合して、金属 度を変 さ た イ ムを得る方法も、 種の 産性や 熱性の 上の観点 ら好まし 。 ００93 し出し 層法としては イ ド ック タテイック キサ 、 チ ホ ドダイなどを用 ることができる。スタテイック キサ としては イプ キサ 、スク ア キサ などが挙げられるが、 明ではスク ア キサ を用 ることが好まし 。また、 明のポ ステ 物 らなる層が少な とも 面を構成す ることが異物の 点 ら好まし 。
００94 して得られた トを、 の 、好まし は回転ドラムで引き取 ると共に、 トに 電荷を 出さ て移動 で冷却 する。 トに 電荷 を 出する方法は特に限定されな 。たとえば、 口金と移動 の 、 、 トが移動 と接しな 側の ト 上にワイヤ 極を設け、そのワイヤ 移動 との間に電圧を印 する方法などを用 ることができる。
された ト、すなわち、 トは次 で、 の 、たとえば、 ある はテンタ により もし は二軸に延 しこれを巻き取る。 の でも同時でも ずれでもよ 。
００95 ここで 向 の とは イ ムに長手方向の 子配 を与えるための を 、例えば、 の により される。この 階で行 てもよ 、ま た の 対を使用して多段階に行 ても良 。 の 率としては2～ 5 倍が好まし 、より好まし は2・ 5～7倍である。
００96 向の とは イ ムに 向の を与えるための を 、例えば、テ ンタ を用 て イ ムの 端をク ップで 持しながら 送して 向に延 する 。 の 率としては2～ 倍が好まし 。
００97 時二軸 の テンタ 内にて イ ムの 端をク ップで 持しながら 送し 、 および 向に同時に延 するものであり、この 法を用 てもよ ００98 こ して二軸 された イ ムは平面性、 定性を付与するためにテンタ 内で延 度以上 点以下の 処理を〒 のが好まし 、 一に 、室温まで 冷やして巻き取られる。 明の ィ にお ては熱処理 度としては 2 ～24 でであることが平面性、 定性などの点 ら好まし 。
００99 明の ポ ステ ィ の みは特に限定されな が、好まし は ・ 5 ～ 特に ～8 が好まし 。
０1００ また、 、粒子 形成する場合は、グラビア ト メタ ング など の ティング 術を用 て、 前、または 伸の間で ティング 分をインラインで塗布してもよ し、 オ ライン ティン してもよ 。
０1０1 明のポ ステ およびポ ステ ィ は 特に テ プなど の 気記録 光学 ィ などの 学基 途、 合わ 、とし て有効である。
０1０2 明を実施 によりさらに詳細に説明する。 一のポ ステ に て次に示す。
０1０3 ( )ポ ステ 中の環 量体の
ポ ステ O を の 2 2 テトラク タンにガラスアンプ 中で2 C 間加熱して溶解し、冷却 ク ホ ムで して25 1とし、 得られた 液を東洋 (株)の ク トグラ C 8 2 を用 てク ホ ムを展開 剤として分析した。
０1０4 (2)
オ トク ノ を用 て25Cで測定した。
０1０5 (3)ポ の
験機(株) 製の (S カラ ンピ タ S 3)を用 て、 ンタ ( 、a、b )として 定した。
０1０6 (4) キ
ポ をオ トク ゾ ノク ホ ム( 7 3)に9 ～ Cで 解し、 ア カ で電位 定して めた。
０1０7 (5)オ ・ 5。 角の イ ムを 5 C 3 間、大気 囲気で加熱した後、 着し、 微分 微鏡にて2 倍で観察し、 mmあたりの 上の環 量体 出 量をカウントした。
０1０8 (6)
ナト ウム 溶液 らなる 配管を用 て、 Cで密度dを測定した。 られた値 ら を用 て 度を計算した。
( ) (d 335) ( 455 335)X
０1０9 (7)ポ ステ の 大 物の ( g)( Sb Ge 素を含む 子 の )
クラス のク ン ムに チップを( )で 音波 した後、純 音波 、その 、ホットプ ト上のカ ガラス上で 解し、気泡が入らな よ にカ ガラスを載 てサンプ を作成し、 ンス デジタ 微鏡( Z 45 )を用 て (45 f )で4 定しその 均で観察した。プ ラ ト上のポ 膜には鋭利な みそりに X の れ込みを入れ、合計 個の升目を作成した。 上の欠点を異
2
物と判断した。 野面積 ・ 34c 、厚み4 ら ・ 2 チップ中の異物を 測定して る。さらに ラ トをポ プラズ 理を施した後に カ ボン 着をおこな 、光学 微鏡で 上とカウントされた 子の 在する 目をS X にて観察し、 子に含有される Ge Sb 素の 無を 確認した。このよ にして Ge Sb 素を含有する 上の粒 数をポ りに 算した数値を 度とした。なお、最大 観察した 点の として る。
０11０ (8)ポ ステ 中の チウム ア カ 属の 有量( )
立製作所社製 ン 度計 8 8 ( ム チ ン )を用 て原子 により 定した。ポ 8 を として中空 ラ ンプを用 て、 ム 式で原子 、測光 により検出して 成した 線 を用 て金属 有量に 算した。
０111 (9)ポ チ ンテ タ ト中のチタン 、アンチ ン 素及びゲ ウム 素などの 属の 有量
X ( 作所社製、 S 5 W型)または CP 光分 析 (セイ インス 、SPS 7 )により めた。なお、必要に応じ て、対象となるポ チ ンテ タ ト中の酸 チタン の 子の 響 を除去するために次の前 理をした上で X または CP 光分析を行 た。す なわち、ポ チ ンテ タ トを ク ノ に溶解し、必要に応じて ク ホ ムで ポリ の 性を調製した後、遠心 子を沈降さ る 。その 、 で上澄み液のみを回収し、アセトン 加によりポ を 出、 過、洗浄して 子を除去したポ とする。 上の前 理を施して得られた 子 を除去したポ に てチタン 素量、アンチ ン 素及びゲ ウム 素な どの の 行 た。
０112 ( )等
ここで等 とは、ポ ステ ( 子、チップ) 同じ体積を有する球 の直 であり、ポ ステ の 量をポ ステ の (d ・3359 cm )で除して体積を求め、それ ら球の直 計算する。
０113 ( ) チタンナト ウム ト 合物の
、 器及び 度計を備えた3 の ラス 中の温 (37 )に (226 8 、 2・ 52 )を 解さ た。この されて る 斗 らチタンテトラ イソプ ポ (285 、 ・ )をゆ り えた。この 合物を 間加熱、 流さ て た 液を生成さ 、これより ソプ ノ ノ 合物を減圧 で蒸 留した。その 7 Cより低 度まで冷却し、そしてその されて る a (38 、3・ 4 )の32 溶液を によりゆ り えた。 られた生成 、次 で チ ング (5 4 、8 ) 混合 し、そして で加熱して ソプ ノ ノ水を除去し、わず に た 色 の ( 有量5・ 6 )を得た( チタンナト ウム ト )。 ０114
テ タ ( 学社製 チ グリ ( 45 のスラ を ビス( )テ タ ト 23 が仕込まれ、 25 C、圧力 ・ Paに保持された ステ 4 間 けて 給し、供給 了後もさらに 間 けて ステ 応を行 、この ステ
23 を に移送した。
０115 き続 て、 ステ が移送された前記 、乳酸チタ ンナト ウム トをチタン 算で O 加し、その 、 ン系
P P45 ( )をポ に対して OO 加し、 グネ ウム 液を グネ ウム 量で7 加し、 ン 物として ン酸を ン 量 で O 加し、その 、低 合体を3 で しながら、反応系を25 C ら 2 Cまで に するとともに、圧力を4 Paまで下げた。 度、最終
までの はともに6 とした。 定の ト クとな た時点で反応系を ジ に戻し重 応を停止し、冷水にストランド状に 出、直ちに テ イングして 4 さ約6 の 柱状のチップを得た。 (ポ の等
5・4 である)なお、減圧 始 ら所定の ト ク までの 2 間であ た。 られたポ の ・ 5 d 、またポ 中の環 3 体の量は ・ であ た。
０116 ポ を 5 Cで減圧 、 で減圧 ( 33Pa )で、温度24 でで8 間熱処理を実施した ポ を取り出した。 られたポ の ・ であ た。またポ 中の環 3 体の量は ・ 3 であ た( ボ をポ ステ ( )とする)。
０117 2
にお て所定ト クを低 して重合終了後に固有 ・ d のチッ プを加熱処理する以外はす て実施 同様にして 処理を行 、固有 ・ 5 8d であり、環状3 体が ・ 25 であるポ を得た( ボ をポ ステ
( )とする)。
０118 3
にお て所定ト クを低 して重合終了後に固有 ・4 d のチッ プを加熱処理する以外はす て実施 同様にして 処理を行 、固有 ・ 5 3d であり、環状3 体が ・ 2 であるポ を得た ボ をポ ステ (C)とする)。
０119 4
にお て、乳酸チタンナト ウム トの わりに三酸 アンチ をア ンチ ン 算で2 加して ・ 55 d のチップを得て 処理する 以外は実施 全 同様にして ・ 7 d のポ を得た。ポ 中 の環 量体 ・4 であ た( ボ をポ ステ ( )とする) ０12０
にお て所定ト クを高 して重合終了後に固有 ・ 6 d のチッ プを加熱処理する以外はす て実施 同様にして 処理を行 、固有 ・ 7 5d のチップを得た。ポ 中の環 量体は ・ 5 であ た( ボ をポ ステ ( )とする)。
０121 2)
にお て、 グネ ウムを添加しな で重合終了後に固有 ・45 Od のチップを得て 処理する以外は実施 全 同様にして ・ 53 d のチップを得た。ポ 中の環 量体 ・45 であ た( ボ をポ ステ ( )とする)。
０122 5
で得られたポ ステ ( )を 8 Cで3 間、 33Paで減圧 、 ( ) に供給して、キヤステイングドラム上に溶融 出して、表面 25Cの ヤストドラム上に を けながら 着さ て急冷 、 イ ムとした。 で、この イ ムを 式 にて9 Cで縦に3・ 5 、 さらに、テンタ を用 て、 5Cで横に3・ 5 ず 、 下で温度2 Cで 間熱処理 、幅 向に2 理を 、厚み8 の ポ ステ イ ムを得た。 良好であ た。 して得られた イ ムにオ
験を行 たところ 量体 出物がほとんどな 、色調が良好であ た。 果を表2に示す。
０123 6 2台を用 、実施 で得られたポ ステ ( )を 8 Cで3 間、 33Paで減圧 、 ( ) に供給した。また、実施 2で得られたポ ステ ( )を 8 Cで3 間、 33Paで減圧 した後、副 ( ) に供給して、 ダイ中で合流さ 、 ダイ スティングドラム上に溶融 出 して、表面 25Cの ヤストドラム上に を けながら 着さ て急冷 、 型( み比6 )の ィ とした。 で、この ィ を 式 にて9 Cで縦に3・ 5 、さらに、テ タ を用 て、 5Cで横 に3・ 5 ず 、 下で温度2 Cで 間熱処理 、幅 向に2
理を 、厚み の ポ ステ ィ を得た( 層の積 ・ 4 )。 良好であ た。 して得られた ィ にオ 験 を行 たところ 量体 出物がほとんどな 、色調が良好であ た。 果を表2 に示す。
０124 7
4で得られたポ ステ ( )を 8 Cで3 間、 33Paで減圧 、 ( ) に供給して、キヤスティングドラム上に溶融 出して、表面 25Cの ヤストドラム上に を けながら 着さ て急冷 化し、 ィ とした。 で、この ィ を 式 にて9 Cで縦に3・ 5 、 さらに、テンタ を用 て、 5Cで横に3・ 5 ず 、 下で温度2 Cで 間熱処理 、幅 向に2 理を 、厚み8 の ポ ステ ィ を得た。 良好であ た。 して得られた ィ にオ
験を行 たところ 量体 出物がほとんどな 、色調が良好であ た。 果を表2に示す。
０125 3
で得られたポ ステ ( )をポ ステ ( )の わりに 供給する他は実施 5 全 同様の 法で押出 に供給した。 度が高すぎて押し 出しができず、 することができな た。
０126 4
Figure imgf000029_0001
給する他は実施 4 全 同様 法で押出 に供給した。 が悪 気が入り、生産 度を上げることができな た。
０127
Figure imgf000030_0001
０128 2
Figure imgf000031_0001
8
テ タ ( 社製) OO チ ングリ (
r のスラリ を ビス( テ タ ト 23 が仕込まれ、 温度 、 ・ に保持された ステ 4 間 けて 給し、供給 了後もさらに 間 けて ステ 反応を行 、この ステ
R を に移送した。
き続 て、 ステ が移送された前記 、三酸 ア ンチモン ・ 部を添加し、その 、立体障害 ノ 合物 G OX 22 ( )をポ に対して35 n 加し、 グネ ウム 液を グネ ウム 量で7 nn 加し、リン 合物としてリン酸をリン 量で O 加し、その 、低 合体を3「n で しながら、反応系を25 C ら2 Cまで に するとともに、圧力を まで下げた。 度、最終 までの はともに とした。 定の クとな た時点で反応系を ジ に戻し重 応を停止し、冷水にストランド状に 出、直ちに テイングして f さ約7 の 柱状のチップを得た(ポ の等 6・4 である )。なお、減圧 始 ら所定の ト ク までの 3 間であ た。
られたポリ の ・ であり、 キ 25 ポ 、またポリ 中の環 3 体の量は ・ 3 であ た。
られたポリ を で減圧 、 で で 5 ガス 系 ・ 7X Paの 態にした。 応系 の 素濃度は5 、水分 O である。 力で系 を保持し( )、温度24 Cでg 間熱処理を実施した ポ を取 り出した。 られたポ の ・ 645d であり、 キ
28 ポ であ た。またポ 中の環 3 体の量は ・4 で あ た。ポ チップの 良好であ た(ポ ステ (G))
9
G OX 22 を添加する わりに P P45 ( )をポ に対して 3 加する以外は実施 8 同様にしてポ チ ンテ タ トを 応で合成し、 5 さ約7 の 柱状のチップを得た(ポ の等 6・4 である)。
られたポ の ・ であり、 キ 28 ポ であり、またポ 中の環 3 ・ 3 であ た。
Figure imgf000032_0001
Paの 態にした。 の 素濃度は5 、水分 O であ た。 力 で系 を保持し( )、温度23 Cでg 間熱処理を実施した ポ を取り 出した。 られたポ の ・ 625d であり、 キ
ポ であ た。またポ 中の環 3 体の量は ・45 であ た(ポ ステ ( )) 8にお て、 の 分率を ・ 5 とした他は実施 8 全 同様にして 熱処理を実施した。 られたポ の 3 ・ 5 であ た(ポ ス テ ( ) o 8で合成した環状3 体の 度が ・ 3 ポ を 5 Cで減圧 で 乾燥 、 で ガスで系 ・ Paの 態にした。 応系 の 素濃度は 、水分は 5 であ た。 力で系 を保持し( )、温度23 Cでg 間熱処理を実施した ポ を取り出した。 られたポ 中 の環 3 ・ 5 であ たが、ポ の ・ 53 d であり、 また キ 5 ポ であり、粘度低下が大き 、 キ 度の ポ であ た(ポ ステ ㈲)
０138 5
G OX 22 添加しな 以外は実施 8 同様にしてポ チ ンテ タ トを 応で合成し、 5 さ約7 の 柱状のチップを得た(ポ の等 6・4 である)。
０139 られたポリ の ・ 665d1 であり、 キ 35
6
ポ であり、またポ 中の環 3 ・ 3 であ た。
5 ０14０ られたポ を 5 Cで減圧 、 で ガスで系 ・ 7X Paの 態にした。 応系 の 素濃度は5 、水分 O である。 力で系 を保持し( )、温度24 Cでg 間熱処理を実施した ポ を取 り出した。 られたポ の ・ 645d であり、カ ボキ
6
38 ポ であ た。またポ 中の環 3 体の量は ・45 で あ た(ポ ステ ( ))。 組成 にお ては、ポ チップが着色した ０141 6
8で合成した環状3 ・ 3 ポ を、 ポ たり ガスを6 ット の 合で流通さ る以外は実施 8 同様にして 処理を実施した。 られたポ の 3 体の量は ・4 であ た。またポ の ・ 8 d まで上昇してしま た。 キ 2 6
ポ であ た(ポ ステ ( ))
０142 7、8
8にお て、 の 度を 7 C( 7)および2 C( 8)とした 他は実施 8 全 同様にして 熱処理を実施した。 7 Cの 、環状3 ・ 3 全 減少しな た。 方、2 Cの 、装置 壁にポ が付 着し、 3 ・ 2 であり、減少 認められな た(ポ ス テ ( ( 、ポリ ステ ( ( 8
０143 2 8で得られたポ ステ (G)を 8 Cで3 間、 33Paで減圧 、 ( ) に供給して、 8 Cで3 間、 33Paで減圧 した後、キヤ スティングドラム上に溶融 出して、表面 25Cの ヤストドラム上に を けながら 着さ て急冷 、 ィ とした。 で、この ィ を 式 にて9 Cで縦に3・ 5 、さらに、テンタ を用 て、 5Cで横 に3・ 5 ず 、 下で温度2 Cで 間熱処理 、幅 向に2
理を 、厚み8 の ポ ステ ィ を得た。 良好であ た。 して得られた ィ にオ 験を行 たところ 量体 出物がほとんどな 、色調が良好であ た。 果を表4に示す。
０144 3
2台を用 、実施 8で得られたポ ステ (G)を 8 Cで3 間、 33Paで減圧 、 ( ) に供給した。また、実施 9で得られたポ ステ ( )を 8 Cで3 間、 33Paで減圧 した後、副 ( ) に供給して、 ダイ中で合流さ 、 ダイ スティングドラム上に溶融 出 して、表面 25Cの ヤストドラム上に を けながら 着さ て急冷 、 型( み比6 )の ィ とした。 で、この ィ を 式 にて9 Cで縦に3・ 5 、さらに、テンタ を用 て、 5Cで横 に3・ 5 ず 、 下で温度2 Cで 間熱処理 、幅 向に2
理を 、厚み8 の ポ ステ ィ を得た( 層の積 ・ 4 )。 良好であ た。 して得られた ィ にオ 験 を行 たところ 量体 出物がほとんどな 、色調が良好であ た。 果を表4 に示す。
０145 9
5で得られたポ ステ ( )をポ ステ (G)の わりに 供給する他は実施 2 全 同様の 法で単層ポ ステ ィ を得た。
良好であ た。 して得られた ィ にオ 験を行 たとこ ろ 量体 出物がほとんどな たが、 ィ が着色した。 果を表4に示す ０146
Figure imgf000035_0001
給する他は実施 2 全 同様の 法で押出 に供給した。 度が高すぎて押 し出しができず、 することができな た。
０147
Figure imgf000035_0002
給する他は実施 2 全 同様の 法で単層ポ ステ ィ を得た。 良好であ た。 して得られた ィ にオ 験を行 たとこ ろ 量体 出物が多量に 出した。 大 起が多 ィ としての 用に耐 えな と予測される。 果を表4に示す。
０148
・
Figure imgf000036_0001
Figure imgf000036_0002
Figure imgf000037_0001
次に第二のポ ステ に て次に示す。
ポ ステ 中の環 量体の
ポ ステ を9 1のオ トク ノ に溶解し、内部 準を添加する。さ らにメタノ を加えてポリ を 出さ て 離によ て上澄みを採取し、 ク トグラ を用 て定量した。
ポ ステ 中のビス( )テ タ トの
ポ ステ ・ を オ ソプ ノ に溶解し、メタノ を 加えてポリ を 出さ る。 離によ てポリ を分離して上澄み液を採取 し、 上澄み液を蒸 させる。 した S 3 1に 解さ 、 Q 液中に含まれる 量を液 ク トグラ を用 て定量した。
1 R6 光の吸
ポリ ステ ・ 8 を ０ のオ ク ノ に溶解する。ポリ ステ に 子などが含有されて る場合には、 液を遠心 離して 子を沈降さ 、そ 澄 みを測定に供する。 ア ンスとしてオ トク ノ を用 、 日立製作所 度計 を用 て RR T における 度を測定した。
)オ
・ f 角 ィ を1 でR 間熱風オ 内で加熱した後、走査 子顕微鏡で ィ ム 面を観察し、 nは 方あたりの 径が 上の環 量体 出物 数をカウントした。 ０154 4
テ タ メチ チ ング 62 ステ
に仕込み、 5 Cで した。 で グネ ウム4 ・ 5 込んでメタノ を さ ながら ステ 応をおこな た。 応物の 度を 3 間 けて235Cまで 、 ステ 応が終了したのちオ ト ン酸を ・ 加した。さらに平均 ・ 3 である イダ を ・ 加し、 で三酸 アンチ を ・ 5 加した。その 、反応物を重 置に移行した。
０155 合体を3 で しながら、反応系を C ら2 Cまで に す るとともに、圧力を 3 Paまで下げた。 度、最終 までの はともに 9 とした。 定の ト クとな た時点で反応系を ガスによ て に戻し 重 応を停止し、冷水中にストランド状に 出、直ちに テイング ポ ス テ チップを得た。 られたポ ステ チップの ・ 63、環状3 体の 有量は ・ 2 であ た。
０156 ポ ステ を 7 Cで減圧 、 度が6 であるポ ステ を得た。チップ あたりの け ・43 ット であ た。
０157 で乾燥 みのチップ 容積がチップ け 3 であ る回転式 処理機に仕込み、内部を水分率、酸素濃度が4 下である ガ スで満たし、内部 力を Paとした。 で 度を昇 、23 Cとな た 時点 ら2 度を保持したのちチップを取り出した。 られたチップの
・ 64、環状 量体 ・ 32 、 度は75 であ た。その 性 を表5、6に示す。
０158 理の わ たチップを押出 に投入し、2 Cで 、 口金 ら ト状に押 し出した。 トは、表面 度が25Cに制御された ドラム 法に よ て密着さ て冷却した。 で得られた ボ ステ トは9 Cに加熱 された によ て長手方向に3・ 3 、 でテンタ 式 によ て Cで 向に3・ 8 した。 の 了した イ ムは23 Cで 定 して 巻き取 た。 イ ムの製 良好であ た。 イ ム みは3 であり、 イ ムに含まれる環状 量体の 有量は ・49 であ た。オ
験をしたところ、オ はみられな た。 性を表7に示す。 ０159 6
熱処理 間をそれぞれ 間、6 間と変更する以外は実施 4 同様に イ ムを製 した。
０16０ 7 8
4におけるオ ト ン酸の添 のみを変更して同様に重合を行 、チッ プを加熱処理したのち イ ムを製 した。
０161 9
合終了 ト クを変更する以外は実施 4 同様にして イ ムを得た。ポ の 度が低 ために押出の トの みを 一にすることが難し 、 での れも発生した。
０162 2
4におけるテ フタ メチ の 料をテ タ メチ 94 、イソ タ メチ 6 とする以外は実施 4 同様にしてポ ステ チップを得た。 られたポ ステ チップの ・ 65、環状3 体の 有量は ・ であ た。
０163 ポ ステ を 7 Cで減圧 、 度が3 であるポ ステ を得た。チップ あたりの け ・43 ット であ た。
０164 で乾燥 みのチップ 容積がチップ け 3 であ る回転式 処理機に仕込み、内部を水分率、酸素濃度が4 下である ガ スで満たし、内部 力を Paとした。 で 度を昇 、23 Cとな た 時点 ら2 度を保持したのちチップを取り出した。 られたチップの
・ 65、環状 量体 ・45 、 度は6 であ た。その 性 を表5、6に示す。
０165 理の わ たチップを押出 に投入し、2 Cで 、 口金 ら ト状に押 し出した。 トは、表面 度が25Cに制御された ドラム 法に よ て密着さ て冷却した。 で得られた ボ ステ トは9 Cに加熱 された によ て長手方向に3・ 3 、 てテンタ 式 によ て Cで 向に3・ 8 した。 の 了した イ ムは23 Cで 定 して 巻き取 た。 イ ム みは3 であり、 イ ムに含まれる環状 量体の 有量は ・ 65 であ た。 果を表7に示す。
０166 2
合の ト クを低 する以外は実施 4 同様にしてポ ステ チップを得た。ポ ステ チップの ・ 6 であり、環状 量体 ・ であ た。
０167 ポ ステ を 7 Cで減圧 、 度が6 であるポ ステ を得た。チップ あたりの け ・43 ット であ た。
０168 で乾燥 みのチップ 容積がチップ け 3 であ る回転式 処理機に仕込み、内部を水分率、酸素濃度が4 下である ガ スで満たし、内部 力を Paとした。 で 度を昇 、23 Cとな た 時点 ら2 度を保持したのちチップを取り出した。 られたチップの
・ 63、環状 量体 ・ 32 、 度は75 、ビス( )テ タ トの 有量は4 であ た。その 性を表5、6に示す。
０169 理の わ たチップを押出 に投入し、2 Cで 、 口金 ら ト状に押 し出した。 トは、表面 度が25Cに制御された ドラム 法に よ て密着さ て冷却した。 で得られた ボ ステ トは9 Cに加熱 された によ て長手方向に3・ 3 、 てテンタ 式 によ て Cで 向に3・ 8 した。 の 了した イ ムは23 Cで 定 して 巻き取 た。ビス( チ ン)テ タ トの 有量が少な チップを用 たので、 には イ ムの れることがあ た。 イ ム みは3 であり、 イ ムに含まれる環状 量体の 有量は ・49 であ た。オ 験をしたところ、オ はみられな た。 性を表7に 示す。
０17０ 22
4における三酸 アンチ の ・ 2 とする以外は実施 4 同様にポ ステ を重合し、さらにチップの ・ 熱処理および製 をおこ な た。アンチ ン 素量が多 ので、 イ ム製 に環状 量体が再生し、 イ ム中での 量体 が増加した。
０171 23
テ タ メチ チ ング 62 ステ
に仕込み、 5 Cで した。 で グネ ウム4 ・ 5 込んでメタノ を さ ながら ステ 応をおこな た。 応物の 度を 3 間 けて235Cまで 、 ステ 応が終了したのちオ ト ン酸を ・ 加した。さらに平均 ・ 3 である イダ を ・ 加し、 で参考 で準備した チタンナト ウム ト 物をチタン 素としてテ タ メチ に対して5 ( )となるよ に添加した。その 、 反応物を重 置に移行した。
０172 合体を3 で しながら、反応系を C ら2 Cまで に す るとともに、圧力を 3 Paまで下げた。 度、最終 までの はともに 9 とした。 定の ト クとな た時点で反応系を ガスによ て に戻し 重 応を停止し、冷水中にストランド状に 出、直ちに テイング ポ ス テ チップを得た。 られたポ ステ チップの ・ 64、環状3 体の 有量は ・ 2 であ た。
０173 ポ ステ を 7 Cで減圧 、 度が6 であるポ ステ を得た。チップ あたりの け ・43 ット であ た。
０174 で乾燥 みのチップ 容積がチップ け 3 であ る回転式 処理機に仕込み、内部を水分率、酸素濃度が4 下である ガ スで満たし、内部 力を Paとした。 で 度を昇 、23 Cとな た 時点 ら2 度を保持したのちチップを取り出した。 られたチップの
・ 64、環状 量体 ・ 36 、 度は7 であ た。その 性 を表5、6に示す。
０ 75 理の わ たチップを押出 に投入し、2 Cで 、 口金 ら ト状に押 し出した。 トは、表面 度が25Cに制御された ドラム 法に よ て密着さ て冷却した。 で得られた ボ ステ トは9 Cに加熱 された によ て長手方向に3・ 3 、 てテンタ 式 によ て Cで 向に3・ 8 した。 の 了した ィ は23 Cで 定 して 巻き取 た。 ィ ム みは3 であり、 ィ に含まれる環状 量体の 有量は ・ 5 であ た。オ 験をしたところ、オ はみられな た。 性を表7に示す。
０176 24
4 同様に溶融 合を実施し、 ティン の 件を変更してチップ 状を 変更した。 られたポ ステ の ・ 64、環状 量体の 有量は ・ 2 であ た。このポ ステ を 7 Cで減圧 、 度が6 で あるポ ステ を得た。チップ あたりの け ・ ット であ た。 ０177 で、実施 4 同様の 件で加熱処理を実施して ィ の製 行 た。
チップ さ 重が ・ であ たため、加熱処理によ て 色がみられた。
０178 25～27
合の ト クを高 する以外は実施 4 同様にしてポ ステ チップを得、実施 4 同様に加熱処理を実施したのち ィ を得た。 ０179 28
4における加熱処理機の 体積とチップ け の 率を3 ら2 。に変更する以外は実施 4 同様にして 熱処理をおこな 、 ィ を 製 した。
０18０ 29
4における加熱処理機の 体積とチップ け の 率を3 2 。に変更する以外は実施 4 同様にして 熱処理をおこな 、 ィ を 製 した。
０181 3
4における加熱処理条件を 囲気圧力 ・ 3 Pa、窒素ガス 気量をポ ステ あたり2 ット として 熱処理する以外は実施 4 同じよ に ィ を製 した。 られた ィ には若干の傷が見られた。 ０182 3
3 における ガス 量を ット とする以外は実施 3 同様にし て 熱処理し、 イ ムを製 した。
０183 32
3 における 囲気圧力を ・ Paとする以外は実施 3 同様にして 熱処理し、 イ ムを製 した。 られた イ ムには若干の傷が見られた。
０184 33
2台の押 を備えた2 積層 置を準備した。 2台の押 それぞれに実 施 4で加熱処理したチップ、および 燥のみで加熱処理をして な チップを供 給し、 出した。 したポ は積層 ックで2層に積層され、 口金 ら ト状に押し出した。このとき ドラム側に 熱処理ポ を、 ドラム に加熱処理ポ を積層した。 加熱処理 熱処理 5とした 。 られた ポ ステ トは実施 4 同じ 件で延 して 処理 した。
０185 34
4の 熱処理チップを用 た。このポ ステ チップを 7 Cで減圧 、 度が6 であるポ ステ チップを得た。ポ ステ チップ キ たりの け ・43 ット であ た。
０186 で乾燥 みのポ ステ チップ 容積がチップ け
3 である回転式 処理機に仕込み、内部を水分率、酸素濃度が4 下 である ガスで満たし、 力を大気圧とした。 で ガス 、 を昇 、23 Cとな た時点で3 熱処理した( )
０187 3 分が経過した時点で を減圧し、圧力が 3 Pa 下とな た時点で再度 ガスを に流し、 内を大気圧とした。 を減圧し始めて ら再び ガスで 満たされるまでの 5分であ た( )
０188 さらに加熱処理を3 、 ガス れ替え5分を交互に繰り返し、合計 9 5 熱処理を実施した。
０189 られたチップの ・ 65、環状 量体は ・ 32 、 度は75 であ た。その 性を表8、 9に示す。
０19０ 理の わ たチップは実施 4 同じ 件で イ ムにした。 果を表 に示 す。
０191 35
34における工程 の 間を3 、工程 の 間を 5 とし、最後は で終了することで合計2 ボ ステ を加熱処理し、実施 34 同じ 件 で イ ムを得た。 果を表8～ に示す。
０192 36
34における工程 の 間を2 間、工程 を5 とし、最後の を 75 として合計2 ボ ステ を加熱処理し、実施 34 同様にしてポ ス テ イ ムを得た。 果を表8～ に示す。
０193 37
34における工程 の 間を 間とし、合計2 5 ポ ステ を加熱処理し、実施 34 同様にしてポ ステ イ ムを得た。 果を表8～ に示す。
０194 2
熱処理を実施しな 以外は実施 4 同様にして イ ムを得た。 イ ム中の 環 3 ・ 2 、オ 5 口であ た。 ０195 3
4で重合したポ ステ チップを 7 Cで減圧 、 度が 6 であるポ ステ を得た。チップ あたりの け ・43 ット であ た。 で乾燥 みのチップ 容積がチップ 3 である 回転式 処理機に仕込み、内部 力を OOPaとした。 で 度を昇 、 2 3 Cとな た時点 ら2 度を保持したのちチップを取り出した。 られたチッ プの ・ 、環状 量体 ・ 35 、 度は75 であ た。 その 性を表8、9に示す。
０196 で処理の わ たチップを押出 に投入し、2 Cで 、 口金 ら ト 状に押し出した。このとき、チップの 度が高 ため、押出 での 熱が激 し 、 ポ の 3 Cを超えるものであ た。 トは、表面 度が 25Cに制御された ドラム 法によ て密着さ て冷却した。 で実 施 4 同様の 件で をおこな たが、 イ ムの ており、破れ が頻発した。このため、得られた イ ムは使用したポ の2 ( )の 量であ た。さらに製 に供したポ ステ チップの キ が少な たために との 着性が十分でな 、 イ ム 面には傷も散見された。 イ ム に含まれる環状 量体の 有量は ・ 75 であ た。 性を表 に示す。 ０197 4
熱処理における ガスの 力を ・ 5 Paとし、通気量をポ ステ あ たり ・ 5 ット とする以外は実施 4 同様にして イ ムを得た。 熱処理 の 了したポ ステ は着色し、 イ ムの 調も 味を帯びたものであ た。 ０198 5
熱処理の 度を 8 Cとする以外は実施 4 同様にして イ ムを得た。 量体は全 減少して な た。
０199 6
熱処理の 度を255Cとする以外は実施 4 同様にして イ ムを得た。チッ プは加熱処理装置 して 状にな て た。またチップは 色に着色し て た。チップが とな てしま たので、 イ ム製 はできな た。
０2００ 7
合の ト クを小さ する以外は実施 4 同様にしてチップを得、 実施 4 同様に加熱処理をして イ ムを製 した。し し、固有 度が低すぎた ために押出 トの幅が一定 ず、また トも 常にもろ ために するこ とはできな た。
０2０1 5
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上 利用
明に係るポ ステ 、繊維、 ィ ム、ボト などの に 有効に使用することができる。また、 明に係るポ ステ ィ は 特に テ プ 光学 ィ ム 途、食品用の 器、 合わ 、包装 電 気絶縁 ィ として有効である。

Claims

求の
径が ～5 、 度が65 99 、固有 度が ・ 7 d 下、 量体の 有量が ・4 下であることを特徴とするポ ステ 。
2 ア カ 属元素の 有量を a( )、ア カ 属元素の 有量を d( )、 ン 素の 有量を ( )としたとき、 a dおよび が を満足して る、請求 に記載のポ ステ 。
a 2 d
3 上であり、 、 SbまたはGeの 素を含む 子の 度 が である、請求 または2に記載のポ ステ 4 3 ン 物を含有し、3 ン 物の 有量が ン として ～ OO である、請求 ～3の ずれ に記載のポ ステ 。
5 チタン 素とア カ 属元素とを含み、チタン 素の 有量がチタン
として ・ 5～5 、ア カ 属元素の 有量がア カ として ～3 である、請求 ～4の ずれ に記載のポ ステ 。6 チタン 素がテトラア チタン 物またはチタンキ ト 物の形で ま れて る、請求 5に記載のポ ステ 。
7 ～6の ずれ に記載のポ ステ を用 て得られるポ ステ イ ム。
8 度が ・ d 下であり、 等 径が ～5 のポ ス テ を、減圧 および または ガス 、前記ポ ステ の 点な しその より8 C 範囲の 度で加熱することを特徴とする、ポ ステ
の 。
9 を含有するポ ステ を加熱処理するに際し、その 熱 処理 度をポ ステ の 点 ら より8 C 度の 囲に制 御するとともに、加熱処理 囲気を不 ガスの ポ ステ あ たり ット 下となるよ に制御することを特徴とする、請求 ～6の ずれ に記載のポ ステ の 。
０ 分量が ( ) 下であり、 素濃度が (
) 下である ガスの 囲気 で加熱処理を〒 とともに、加熱処理を行 際の雰囲気の 力を ・ 3～4・ Paとする、請求 9に記載のポ ステ の 。
量体の 有量が ・ ～ ・ 7 、カ ボ 5～4 トン、 度が ・ 55～ ・ 8 の 囲であり、オ トク ノ を とした ( 8 )の における 度が ・ 22～ ・ 36であること を特徴とするポ ステ 。
2 ポ ステ 位の9 上が チ ンテ タ ト 位である、請求 記載のポ ステ 。
3 ビス( )テ タ トの 有量が5 ～2 である、請求
または 2に記載のポ ステ 。
4 アンチ ン 素を3 ～ 5 、ア カ 属元素を ～8 有する、 請求 ～ 3の ずれ に記載のポ ステ 。
5 チタン 素を ・ 5～5 有する、請求 ～ 4の ずれ に記載のポ ステ 。
6 5 ～95 囲であり、 、 度が ・ 5～ ・ O ット であ る、請求 ～ 5の ずれ に記載のポ ステ 。
7 ～ 6の ずれ に記載のポ ステ 物 らなるポ ステ ィ 。
8 ～ 6の ずれ に記載のポ ステ を少な とも一方の 面に有する ポ ステ ィ 。
9 気記録 体に用 ることを特徴とする、請求 7、 7 8の ずれ に記載のポ ステ ィ 。
2０ 合わ 用に用 ることを特徴とする、請求 7、 7 8の ずれ に記載 のポ ステ ィ 。
2 学基 として ることを特徴とする 7、 7 8の ずれ に記載の ステ ィ 。
22 65 ～ 2 Paの 囲にある ガス 囲気 、固有 度が ・4～ ・ 7、
3 上であるポ ステ を 9 C～25 Cの 度で ・ 5～6 間加熱する、請求 ～ 6の ずれ に記載のポ ステ の 。
23 2 Pa～ ・ 5 Paの 囲にある ガスをポ ステ あたり ット 上流通させながら 固有 度が ・4～ ・ 7、 3 上であ るポ ステ を g C～25 Cの 度で ・ 5～6 間加熱する、請求 ～ 6 の ずれ に記載のポ ステ の 。
24 ガスの 通量がポ ステ kgあたり ット 下である ガス 囲気 、ポ ステ を 9 C～25 Cの 度で 5 ～ 間加熱処理する ( )と 5 以内に不 ガス 囲気を新し 入れ替えて 新する工程( )を含む サイク を繰り返し、工程( ) ( )の 計時間を ・ 5～6 間とする、請求 ～ 6の ずれ に記載のポ ステ の 。
25 ポ ステ を加熱するに際し加熱 用 るとともに、この の ポ ステ の け 5 上とする、請求 22～24の ずれ に記載のポ ステ の 。
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