WO2004013106A1 - ピラゾール誘導体及びその製造方法 - Google Patents

ピラゾール誘導体及びその製造方法 Download PDF

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WO2004013106A1
WO2004013106A1 PCT/JP2003/009762 JP0309762W WO2004013106A1 WO 2004013106 A1 WO2004013106 A1 WO 2004013106A1 JP 0309762 W JP0309762 W JP 0309762W WO 2004013106 A1 WO2004013106 A1 WO 2004013106A1
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pyrazole
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Inventor
Masao Nakatani
Minoru Ito
Masahiro Miyazaki
Original Assignee
Ihara Chemical Industry Co., Ltd.
Kumiai Chemical Industry Co., Ltd.
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D231/00—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings
    • C07D231/02—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings
    • C07D231/10—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D231/14—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D231/18—One oxygen or sulfur atom
    • C07D231/20—One oxygen atom attached in position 3 or 5
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A01—AGRICULTURE; FORESTRY; ANIMAL HUSBANDRY; HUNTING; TRAPPING; FISHING
    • A01N—PRESERVATION OF BODIES OF HUMANS OR ANIMALS OR PLANTS OR PARTS THEREOF; BIOCIDES, e.g. AS DISINFECTANTS, AS PESTICIDES OR AS HERBICIDES; PEST REPELLANTS OR ATTRACTANTS; PLANT GROWTH REGULATORS
    • A01N43/00—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing heterocyclic compounds
    • A01N43/48—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing heterocyclic compounds having rings with two nitrogen atoms as the only ring hetero atoms
    • A01N43/56—1,2-Diazoles; Hydrogenated 1,2-diazoles
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D231/00—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings
    • C07D231/02—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings
    • C07D231/10—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D231/14—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D231/18—One oxygen or sulfur atom
    • C07D231/20—One oxygen atom attached in position 3 or 5
    • C07D231/22—One oxygen atom attached in position 3 or 5 with aryl radicals attached to ring nitrogen atoms

Definitions

  • the present invention relates to a pyrazol 'derivative useful as an intermediate for producing agrochemicals.
  • Japanese Unexamined Patent Publication (Kokai) No. 2002-308857 discloses a method in which a starting compound having an isoxoxazoline ′ ring is reacted with sodium hydrosulfide hydrate. Then, in the presence of carbonic acid lime and mouth ngarit, 4-bromomethinole 5-chloro-1,1 phenyl'-13-trifluoromethylol 1H-birazol is reacted with an isoxazoline derivative having a virazole ring. Production examples are described.
  • An object of the present invention is to provide a useful intermediate for producing the isoxoxazoline derivative and a method for producing the intermediate.
  • the present inventors have conducted intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result of using a specific pyrazole derivative which can be produced from readily available raw materials as a production intermediate, the isoxoxa.
  • the inventors have found that the virazole derivative can be produced more efficiently and simply, and have found that the virazole derivative is a very useful production intermediate in the production of the isosoxazoline derivative, thereby completing the present invention. That is, the present invention has solved the above problems by providing the following inventions (1) to (15).
  • R 1 represents a C 1 -C 6 alkyl group
  • R 2 represents a C 1 -C 3 haloalkyl group
  • R 3 is a hydrogen atom, one or more selected from the following substituent group ⁇
  • R 4 represents a hydrogen atom or a C 1 -C 3 haloalkyl group, provided that R 3 represents a hydrogen atom or a formyl group
  • R 4 represents a C 1 -C 3 haloalkyl group, wherein: 3 is a C 1 -C 3 alkyl group which may be substituted with one or more substituents selected from the following substituent group ⁇ .
  • R 4 represents a hydrogen atom or a C 1 -C 3 haloalkyl group.
  • (3) 3 is C 1 through C 3 alkyl group
  • R 4 is a hydrogen atom (1) pyrazole derivative or salt thereof according.
  • R 5 represents a C 1 -C 3 alkyl group, an optionally substituted phenyl group or an optionally substituted benzyl group
  • R 6 represents Represents a C1-C3 alkyl group.
  • R 1 , R 2 , R 4 and R 6 have the same meanings as described above, and L 1 is a leaving group having a higher reactivity than the halogen atom remaining after haloalkylation; 1-C3 alkylsulfonyloxy group, C1-C3 haloalkylsulfonyloxy group, optionally substituted phenylsulfonyloxy group, optionally substituted benzylsulfonyloxy group, etc. Is shown.
  • a pyrazole represented by the general formula [6] characterized by reacting a compound represented by the general formula [4] with a compound represented by the general formula [5] in the presence of a base.
  • R 1 , R 2 and R 4 have the same meaning as described above, R 7 and R 8 each represent a hydrogen atom or a C 1 -C 2 alkyl group, and X represents a halogen atom.
  • a virazole represented by the general formula [17] characterized by reacting a compound represented by the general formula [16] with a compound represented by the general formula [5] in the presence of a base. Method for producing derivative.
  • Notations such as C 1 -C 6 indicate that in this case the number of carbon atoms of the subsequent substituent is 1-6.
  • the halogen atom means a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom.
  • C 1 -C 3 alkyl group means a linear or branched alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, unless otherwise specified. Examples thereof include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group and an iso-propyl group. You can fist Motoki.
  • the C 1 -C 6 alkyl group means a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms unless otherwise specified. Examples thereof include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, and an iso-propyl group.
  • the C1-C3 haloalkyl group is the same or different and represents a straight-chain or branched-chain alkyl group having 1 to 3 carbon atoms and substituted by a halogen atom 1 to 7, unless otherwise specified.
  • the C 1 through C 4 alkylsulfonyl O alkoxy group, the alkyl group moiety is as defined above (C 1 through C 4 alkyl)
  • Single S 0 2 - shows a O- group, for example methanesulfonic Ruhoniruokishi group or ethanesulfonyl O Xyl groups and the like can be mentioned.
  • the ⁇ optionally substituted group '' is, for example, a halogen atom, a C1-C10 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group, a C1-C10 alkoxyalkyl group, a C1-C10 alkoxy group, C1-C10 alkylthio group, C1-C10 alkylsulfonyl group, acyl group, C1-C10 alkoxycarbonyl group, cyano group, carpamoyl group (the nitrogen atom of the group is the same or different; A nitro group, or an amino group (the nitrogen atom of the group may be the same or different, and may be a C1-C10 al
  • salts with metals or organic bases or salts with mineral acids or organic acids include alkali metals such as sodium or potassium or alkaline earth metals such as magnesium or calcium.
  • the organic base include triethylamine or disopropylamine. Examples thereof include hydrochloric acid, hydrobromic acid and sulfuric acid, and examples of the organic acid include acetic acid, methanesulfonic acid and p-toluenesulfonic acid.
  • a pyrazole derivative represented by the general formula [I] or a salt thereof (the compound of the present invention) are shown in Tables 1 to 11.
  • the compound of the present invention is not limited to these.
  • Pr—n n—propynole group
  • the compound of the present invention contains a hydroxyl group as a substituent, there is a compound having a keto enol tautomer, and any isomer and a mixture thereof are also included in the compound of the present invention.
  • R 1 and R 2 have the same meanings as described above;
  • R 5 represents a C 1 -C 3 alkyl group, an optionally substituted phenyl group or an optionally substituted benzyl group;
  • the compound represented by the general formula [3] can be obtained by converting the compound represented by the general formula [1] and the compound represented by the general formula [2] in a solvent or in the absence of a solvent (preferably, In an appropriate solvent), the reaction can be carried out in the presence or absence of an acid catalyst.
  • the reaction is carried out at any temperature from 150 ° C. to the reflux temperature in the reaction system, and preferably in the temperature range of 120 ° C. to 100 ° C.
  • the reaction varies depending on the compound. Ends in 5 to 72 hours.
  • the amount of the reagent used in the reaction is 1 to 3 equivalents of the compound represented by the general formula [2] with respect to 1 equivalent of the compound represented by the general formula [1].
  • the acid catalyst is 0.01 to 2 equivalents.
  • solvent examples include ethers such as dioxane, tetrahydrofuran or dimethoxyethane; dichloroethane, carbon tetrachloride, benzene or dichloroethane.
  • Halogenated hydrocarbons such as benzene, amides such as N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide or N-methyl-2-pyrrolidinone; sulfur compounds such as dimethylsulfoxide or sulfolane Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene or xylene; alcohols such as methanol, ethanol, n-propanol, 2-propanol, n-butanol or 2-methyl-2-propanol; carboxyls such as formic acid or acetic acid Acids; water; or mixtures thereof.
  • the amount of the solvent used is 0.1 to 20 liters of the solvent, preferably 0.1 to 5 liters, per mole of the compound represented by the general formula [1].
  • the acid catalyst examples include mineral acids such as hydrochloric acid, hydrobromic acid and sulfuric acid; and organic acids such as formic acid, acetic acid, methanesulfonic acid and p-toluenesulfonic acid.
  • R 1 , R 2 , R 4 and 6 have the same meanings as described above, and L 1 is a leaving group having a higher reactivity than the halogen atom remaining after haloalkylation, and a halogen atom
  • R 4 is a CHF 2 group, it represents a chlorine atom or a bromine atom
  • R 4 is a CH 2 CF 3 group
  • the compound represented by the general formula [6] can be prepared by combining the compound represented by the general formula [4] and the compound represented by the general formula [5] in a solvent or in the absence of a solvent (preferably (In an appropriate solvent), in the presence or absence of a catalyst, and in the presence of a base.
  • the reaction is carried out at any temperature from 0 ° C to the reflux temperature in the reaction system, and preferably in the temperature range of 0 ° C to 100 ° C. ⁇ 24 hours to end.
  • the amount of the reagent used in the reaction is 1 to 5 equivalents of the compound represented by the general formula [5] with respect to 1 equivalent of the compound represented by the general formula [4]. 1 to 3 equivalents, the base is 1 to 20 equivalents, preferably 1 to 10 equivalents, and the catalyst is 0.01 to 2.0 equivalents, preferably 0.01 to 0.5 equivalents. Quantity.
  • the base examples include alkali metal carbonates such as sodium carbonate or carbonated lime, alkaline metal bicarbonates such as sodium hydrogencarbonate or hydrogenated lime, and alkali metal carbonates such as sodium hydroxide or hydroxylated lime.
  • Organic bases such as 7-indene, triethylamine or pyridine can be used.
  • solvent examples include ethers such as dioxane, tetrahydrofuran or 1,2-dimethoxetane; halogenated hydrocarbons such as dichloroethane, carbon tetrachloride, chlorobenzene or dichlorobenzene; N, N-dimethylacetate Amide, N, N-dimethylformamide or N-methyl-2-pyrrolidinone Mids 4
  • ethers such as dioxane, tetrahydrofuran or 1,2-dimethoxetane
  • halogenated hydrocarbons such as dichloroethane, carbon tetrachloride, chlorobenzene or dichlorobenzene
  • -_ I sulfur compounds such as dimethyl sulfoxide or sulfolane; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene or xylene; methanol, ethanol, n -propanol, 2-propanol, n-butanol or 2-methyl- Alcohols such as 2-propanol; ketones such as acetone or methyl ethyl ketone; -tolyls such as acetonitrile; water; or mixtures thereof.
  • the solvent is used in an amount of 0.1 to 20 liters, preferably 0.1 to 5 liters, per mole of the compound represented by the general formula [4].
  • Catalysts include, for example, crown ethers such as 18-crown-16 or 15-crown-15; quaternary ammonium salts such as tetra-n-butylammonium bromide or benzyltrimethylammonium bromide. And quaternary phospho-dimethyl salts such as tetra-n-butylphospho-dimethyl bromide.
  • the compound represented by the general formula [6] is obtained by converting the compound represented by the general formula [4] into a solvent in the presence of the azo compound of [8] and triphenylphosphine in a solvent.
  • the compound can be produced by a reaction according to the method described in Synthesis, 1981, p. 128. This reaction is usually carried out at a reaction temperature of 30 to 100 ° C for 10 minutes to 24 hours. You. -9
  • the amount of the reagent used in the reaction is 1 to 1.5 equivalents of the compound represented by the general formula [7] and 1 to 1.5 equivalents of the azo compound represented by the formula [8] based on 1 equivalent of the compound represented by the general formula [4].
  • 1 to 1.5 equivalents and triphenylphosphine are preferably 1 to 1.5 equivalents, but can be arbitrarily changed according to the reaction conditions. '
  • the solvent examples include ethers such as dioxane and tetrahydrofuran; halogenated hydrocarbons such as 1,2-dichloroethane, carbon tetrachloride, chlorobenzene and dichlorobenzene; N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethinolefo Amides such as lumamide or N-methyl-2-pyrrolidinone; sulfur compounds such as dimethylsulfoxide or sulfolane; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene or xylene; nitriles such as acetonitrile; or mixtures thereof.
  • the solvent is used in an amount of 0.1 to 20 liters of the solvent, preferably 0.1 to 5 liters, per mole of the compound represented by the general formula [4].
  • Examples of the azo compound of [8] include getyl azodicarboxylate and diisopropyl azodicarboxylate.
  • R 1 , R 2 and R 4 have the same meanings as described above, R 7 and R 8 each represent a hydrogen atom or a C 1 -C 3 alkyl group, and X represents a halogen atom.
  • the compound represented by the general formula [10] is produced by reacting the compound represented by the general formula [9] with a halogenating agent in a solvent in the presence or absence of a catalyst. Can be built. In this step, the reaction may be performed under light irradiation. Further, in order to capture a by-produced acid, the reaction may be performed in the presence of a base.
  • This reaction is usually performed at a reaction temperature of 20 to 150 ° C for 10 minutes to 48 hours.
  • the amount of the reagent used in the reaction is preferably 1 to 10 equivalents of the halogenating agent per 1 equivalent of the compound represented by the general formula [9], but it may be arbitrarily changed according to the reaction conditions. Can be.
  • the catalyst is between 0.01 and 3.0 equivalents, preferably between 0.01 and 1.5 equivalents.
  • halogenating agent examples include halogens such as bromine and chlorine; N-halosuccinimides such as N-bromosuccinimide and N-mouth succinimide; pyridine salts such as pyridinium perbromide; , 1,3-dipromo-5,5-dimethylhydantoin and the like.
  • the solvent examples include halogenated hydrocarbons such as 1,2-dichloroethane, carbon tetrachloride, chlorobenzene, fluorobenzene and dichlorobenzene; benzene; carboxylic acids such as formic acid or acetic acid; water; and mixtures thereof.
  • the amount of the solvent used is a ratio of 0.1 to 20 liters, preferably 0.1 to 5 liters of the solvent to 1 mol of the compound represented by the general formula [9].
  • the catalyst include benzoyl peroxide, hydrogen peroxide, a, a-azobisisobutyl-tolyl, and a mixture thereof.
  • Examples of the base include alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide or hydroxylated hydroxide, alkali metal carbonates such as sodium carbonate or potassium carbonate, and alkalis such as sodium hydrogencarbonate or hydrogenated carbonate. Metal bicarbonate and the like. Production method 5>
  • the compound represented by the general formula [12] can be produced by reacting the compound represented by the general formula [10] with the compound represented by the formula [11] (thiourea) in a solvent. .
  • the amount of the reagent used in the reaction is desirably 1 to 1.5 equivalents of the compound represented by the formula [11] with respect to 1 equivalent of the compound represented by the general formula [10]. Can be changed arbitrarily.
  • the solvent examples include ethers such as dioxane and tetrahydrofuran; halogenated hydrocarbons such as dichloroethane, carbon tetrachloride, chlorobenzene and dichlorobenzene; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; Amides such as ⁇ -dimethylacetamide, ⁇ , ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ -dimethylformamide or ⁇ -methyl-2-pyrrolidinone; methanol, ethanol or 2-propanol Alcohols such as toluene; nitriles such as acetonitrile; ketones such as acetone or methyl ethyl ketone; water; or mixtures thereof.
  • the amount of the solvent to be used is a ratio of solvent: 0.1 to 20 liters, preferably 0.1 to 5 liters, per 1 mol of the compound represented by the general formula [10].
  • the compound represented by the general formula [13] can be produced by subjecting the compound represented by the general formula [12] to a hydrolysis reaction in a solvent in the presence or absence of a base. . This step may be carried out in the presence of a reducing agent or in an inert gas stream. The compound represented by the general formula [13] may be used for the next reaction without isolation and purification.
  • the amount of the reagent to be subjected to the reaction is preferably 1 to 10 equivalents of the base relative to 1 equivalent of the compound represented by the general formula [12], but can be arbitrarily changed depending on the reaction conditions.
  • ethers such as dioxane and tetrahydrofuran
  • halogenated hydrocarbons such as dichloroethane, tetrachloromethane, chlorobenzene or dichlorobenzene
  • aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene
  • Amides such as N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide or N-methyl-2-pyrrolidinone
  • sulfur compounds such as dimethyl sulfoxide or sulfolane
  • aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene or xylene
  • Nitriles such as acetonitrile
  • alcohols such as methanol, ethanol or 21-propanol
  • ketones such as acetone or methyl ethyl ketone
  • water and mixtures thereof.
  • the amount of the solvent used is a ratio of 0.1 to 20 liters, preferably 0.1 to 5 liters of the solvent to 1 mol of the general formula [12].
  • the base for example, an alkali metal carbonate such as sodium carbonate or carbon dioxide; an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide or calcium hydroxide; an alkali metal such as sodium hydrogen carbonate or hydrogen carbonate Metal bicarbonates; alkali metal alcoholates such as sodium ethoxide or sodium methoxide; or organic bases such as 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -17-decene.
  • reducing agent for example, hydrogenated sodium borate and the like can be mentioned.
  • Examples of the inert gas include nitrogen and argon.
  • the compound represented by the general formula [13] is produced by reacting the compound represented by the general formula [10] with a sulfide in a solvent in the presence or absence of a base. Can be. This step may be carried out in the presence of a reducing agent or in an inert gas stream. The compound represented by the general formula [13] may be used for the next reaction without isolation and purification.
  • the amount of the reagent used in the reaction is preferably 1 to 5 equivalents of a sulfide and 1 to 10 equivalents of a base with respect to 1 equivalent of the compound represented by the general formula [10]. It can be changed arbitrarily.
  • the solvent examples include ethers such as dioxane and tetrahydrofuran; halogenated hydrocarbons such as dichloroethane, carbon tetrachloride, cyclobenzene or dichlorobenzene; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; Amides such as N-dimethylacetoamide, N, N-dimethylformamide or N-methyl-2-pyrrolidinone; sulfur compounds such as dimethyl sulfoxide or sulfolane; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene or xylene; Nitriles such as acetonitrile; ethanol such as methanol or ethanol or 2-propanol Alcohols; ketones such as acetone or methyl ethyl ketone; water; or mixtures thereof.
  • the amount of the solvent used is 0.1 to 20 liter, preferably 0.1 to 5 liter of the solvent per 1 mol of the general formula [10
  • the sulfide examples include alkali metal sulfides such as sodium sulfide and sulfur sulfide, aluminum metal sulfide such as sodium hydrosulfide and hydrogen sulfide, hydrogen sulfide, ammonium sulfide, sodium thioacetate and sodium thioacetate. Potassium acetate and the like can be mentioned.
  • the base examples include alkali metal carbonates such as sodium carbonate or carbonated lime; alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide or hydroxylated lime; alkali hydride such as hydrogenated lime or sodium hydride.
  • the compound represented by the general formula [15] can be prepared by the Vilsmeier method described in Organic Synthesis (Org, Synth.), Vol. IV, page 8 ⁇ 31 (1963).
  • the compound represented by the general formula [14] and N, N-dimethylformamide are converted to phosphoryl chloride, phosgene or thionyl chloride according to Reaction force in the presence or absence of a solvent in the presence or absence of a solvent or a compound represented by the general formula [14] according to the method described in Chem. Berichte, Chem. Can be produced by a method comprising reacting a compound represented by the formula [I] with dino-open genomethyl ether in a solvent in the presence of a Lewis acid, and then hydrolyzing.
  • This reaction is usually carried out at a reaction temperature of 40 to 150 ° C for 10 minutes to 24 hours.
  • the amount of the reagent used in the reaction is determined based on the equivalent of the compound represented by the general formula [14], equivalent to phosphorinole chloride, phosgene, thionyl chloride, .N, N-dimethylformamide, Lewis acid or dihalogeno.
  • Methyl ether 1 to 1.5 equivalent is desirable, but can be arbitrarily changed according to the reaction situation.
  • Lewis acid examples include titanium tetrachloride, tin tetrachloride, zinc chloride, aluminum chloride, zinc bromide and the like.
  • diinoperogenometinol ether examples include dimethyl methyl ether.
  • the solvent examples include halogenated hydrocarbons such as dichloroethane, carbon tetrachloride, and chloroform; aliphatic hydrocarbons such as hexane or heptane; ethers such as dioxane or tetrahydrofuran; carboxylic acids such as acetic acid; Amides such as N, N-dimethylformamide; carbon disulfide; or mixtures thereof.
  • the solvent is used in an amount of 0.1 to 20 liters of the solvent, preferably 0.2 to 5 liters, per mole of the compound represented by the general formula [14].
  • the compound represented by the general formula [17] can be obtained by converting the compound represented by the general formula [16] and the compound represented by the general formula [5] in a solvent or in the absence of a solvent (preferably In a suitable solvent), in the presence or absence of a catalyst, and in the presence of a base.
  • the reaction is carried out at an arbitrary temperature from 0 to the reflux temperature in the reaction system, preferably from 0 ° C to 100 ° C. React in 5 to 24 hours.
  • the amount of the reagent used in the reaction is preferably 1 to 5 equivalents of the compound represented by the general formula [5] to 1 equivalent of the compound represented by the general formula [16]. 1 to 3 equivalents, the base is 1 to 20 equivalents, preferably 1 to 10 equivalents, and the catalyst is 0.011 to 2.0 equivalents, preferably 0.01 to 0.5 equivalents. It is.
  • This reaction is usually performed at a reaction temperature of 40 to 150 ° C for 10 minutes to 24 hours.
  • the amounts of the reagents used in the reaction were 1 to 2 equivalents of the compound represented by the general formula [18], 1 to 2 equivalents of hydrogen halide, 1-2 equivalents of formaldehyde or paraform, 1-2 equivalents of Lewis acid, and One to two equivalents of octogenomethyl ether is desirable, but can be arbitrarily changed according to the reaction situation.
  • Lewis acid examples include titanium tetrachloride, zinc chloride, aluminum chloride and zinc bromide.
  • Examples of the hydrogen halide include hydrogen chloride, hydrogen bromide, and hydrogen iodide.
  • Examples of the halogenomethyl ether include, for example, methyl methyl ether and bromomethyl methyl ether.
  • Examples of the solvent include halogenated hydrocarbons such as dichloroethane, carbon tetrachloride, and chloroform; aliphatic hydrocarbons such as hexane or heptane; ethers such as dioxane or tetrahydrofuran; carboxylic acids such as acetic acid; Carbon disulfide; or a mixture thereof.
  • the solvent is used in an amount of 0.1 to 20 liters, preferably 0.1 to 5 liters, per mole of the compound represented by the general formula [18].
  • the compound represented by the general formula [18] can be produced by converting the corresponding hydrogen atom of the compound in which R 4 is a hydrogen atom to R 4 according to Production Method 2 or 3. can do.
  • the production method of the compound of the present invention will be specifically described with reference to examples.
  • the physical properties and the like of the compound of the present invention produced in each Example or produced in accordance therewith are shown.
  • Boiling point 98-100 ° C / 6 KPa (45 mmH g)
  • 5-Difluoromethoxy-1,4-monodimethyl-3-trifluoromethyl-1H-pyrazole 1.00 g (4.35 mmol) of carbon tetrachloride solution in 1 Om 1 and 0.55 g of sodium hydrogencarbonate ( (6.5 mmol) and heated to reflux with stirring. The reaction solution was irradiated with light from the outside, and an appropriate amount of chlorine gas was introduced while confirming the production amount of the target product by gas chromatography. After completion of the reaction, gas chromatography analysis was performed to confirm that 41.7% of 4-chloromethyl-5-difluoromethoxy-1-methyl-13-trifluoromethyl-1H-pyrazole was produced.
  • Example 39 2- (5-difluoromethoxy 1-iso-propyl-13-trifluoromethyl-1H-pyrazole-4-ylmethyl) monoisothiourea hydrobromide (Compound No. 204 of the present invention)
  • R 1 , R 2 , R 4 , R 7 , R 8 and X have the same meanings as described above, and R 9 and R 1 ° are the same or different, and each represents a hydrogen atom, an alkyl group
  • the force indicating an alkyl group or a cycloalkylalkyl group, or R 9 and R 1 ° are combined to show a C3-C7 spiro ring together with these bonded carbon atoms
  • R 11 and R 12 is the same or almost different, and represents a hydrogen atom, an alkyl group or a cycloalkyl group, or R 11 and R 12 together form C 3 to C 7 together with these bonded carbon atoms.
  • R 9 , R 1 °, R 11 and: 12 represent the carbon atoms to which these are attached. It can also form a 5- to 8-membered ring with its offspring.
  • R 13 represents a C 1 to C 4 alkyl group; an optionally substituted phenyl group or an optionally substituted benzyl group;
  • L represents a halogen atom, a C 1 to C 4 alkylsulfonyl group, And a leaving group such as a phenylsulfonyl group or a benzylsulfonyl group which may be substituted.
  • the sulfide derivative represented by the general formula [23] is obtained by mixing the compound represented by the general formula [20] and the sodium hydrate sodium hydrate represented by the general formula [21] in a solvent or in the absence of a solvent.
  • a salt of mercaptan represented by the general formula [22] is produced in the reaction system by reacting in the presence of a base, and then a salt of mercaptan [22] is isolated.
  • the compound is produced by reacting the compound of the present invention with a halogen derivative represented by the general formula [10] (in some cases, under an inert gas atmosphere or by adding a reducing agent) without performing the reaction. can do.
  • the sulfoxide derivative represented by the general formula [25] can be produced by reacting the sulfide derivative represented by the general formula [23] with an oxidizing agent in a suitable solvent.
  • the sulfone derivative represented by the general formula [26] can be produced by reacting the sulfoxide derivative represented by the general formula [25] with an oxidizing agent in a suitable solvent.
  • the sulfone derivative represented by the general formula [25] can be obtained by converting the sulfoxide derivative represented by the general formula [25] into a suitable solvent in an appropriate solvent by adjusting the amount of the sulfide derivative represented by the general formula [23] and a suitable oxidizing agent. It can be produced without isolation.
  • the sulfide derivative represented by the general formula [23] is different from the compound represented by the general formula [24] in that the mercaptan derivative represented by the general formula [13], which is the compound of the present invention, is used in a solvent or in a non-solvent.
  • the reaction can be carried out in the presence (preferably in a suitable solvent) and in the presence of a base (in some cases, it can be carried out under an inert gas atmosphere or a reducing agent can be added).
  • the mercaptan derivative represented by [13] can also be produced and used in a reaction system by the method described in Production Method 5, Step 6 or Step 7.
  • a compound represented by the general formula [26] isoxoxazoline derivative described in JP-A-2002-308857
  • a carrier generally used for formulation Surfactants, dispersants or adjuvants can be blended and formulated into powders, wettable powders, emulsions, flowables, fine granules or granules, and used.
  • Carriers used in the formulation include, for example, solid carriers such as talc, bentonite, clay, kaolin, diatomaceous earth, white carbon, vermiculite, calcium carbonate, slaked lime, silica sand, ammonium sulfate, urea, etc., isopropyl alcohol, xylen, cyclone And liquid carriers such as hexane and methylnaphthalene.
  • surfactant and dispersant examples include metal alkyl benzene sulfonate, metal dinaphthyl methane disulfonic acid, alcohol sulfate, alkyl aryl sulfonate, lignin sulfonate, and polyoxyethylene glycol monoether. And polyoxyethylene anolequinole aryl ether, polyoxyethylene sorbitan monoalkylate, and the like.
  • the adjuvant include canolepoxymethylcellulose, polyethylene glycol, gum arabic and the like. -When used, dilute to an appropriate concentration and spray or apply directly.
  • the compound represented by the general formula [26] can be obtained by foliage application, soil application or surface application Can be used.
  • the blending ratio of the active ingredient is appropriately selected as necessary, but when it is used as a powder or granules, it is 0.01 to 10% (weight), preferably 0.1 to 10%.
  • the application rate of the compound represented by the general formula [26] as a herbicide varies depending on the type of the compound used, the target weed, the occurrence tendency, the environmental conditions, the dosage form used, and the like.
  • the active ingredient should be appropriately selected from the range of 1 g to 50 kg, preferably 10 g to 10 kg per hectare.
  • liquid form such as emulsions, wettable powders and floor pulls, select from the range of 0.1 to 50,000 p, preferably 10 to: 10, OOO p pm. Is good.
  • the compound represented by the general formula [26] may be mixed with an insecticide, a fungicide, another herbicide, a plant growth regulator, a fertilizer, and the like, if necessary.
  • Reference formulation example 2 Floor pull agent Disperse 20 parts of the comminuted compound represented by the general formula [26] in 69 parts of water, add 4 parts of polyoxyethylenestyrenated phenyl ether sulfate and 7 parts of ethylene glycol, and add silicone AF— 200 N (manufactured by Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd.) was added to the formulation, mixed with a high-speed stirrer for 30 minutes, and then ground with a wet grinder to obtain a floor pull agent.
  • silicone AF— 200 N manufactured by Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd.
  • Reference Test Example 1 Herbicidal effect test by paddy soil treatment
  • a 100 cm 2 plastic pot was filled with paddy field soil, and after generation, seeds of Echinacea purpurea and oak were sowed and submerged at a depth of 7 cm.
  • the wettable powder prepared according to Formulation Example 1 was diluted with water and dropped on the water surface.
  • the application rate was 250 g or 100 g of the active ingredient per hectare. After that, they are grown in a greenhouse, and 2 days after treatment, The herbicidal effect was investigated according to the criteria in Table 13. The results are shown in Table 14.
  • Reference test example 2 Herbicidal effect test by upland soil treatment
  • a pyrazole derivative represented by the general formula [I] or a salt thereof which is useful as an intermediate for producing an isoxazoline derivative having excellent herbicidal action (described in JP-A-2002-308857). Is done.
  • the isoxazoline derivative described in JP-A-2002-308857 which has an excellent herbicidal action, can be produced in a shorter step (smaller number of steps) by The compound of the present invention has high value because it can be easily produced with good process yield.

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Description

明 細 書
ピラゾール誘導体及びその製造方法 技術分野
本発明は、 農医薬製造中間体として有用なピラゾ一ル'誘導体に関するもので ある。 背景技術
除草剤として肴効なィソォキサゾリン誘導体の製造法としては、 例えば特開 2 0 0 2 - 3 0 8 8 5 7号公報に、 ィソォキサゾリン'環を有する原料化合物を 水硫化ナトリゥム水和物と反応させた後、 炭酸力リゥム及び口ンガリットの存 在下、 4ーブロモメチノレー 5—クロ口 _ 1一フエ二ル'一 3—トリフルォロメチ ルー 1 H—ビラゾ一ルを反応させる、 ビラゾール環を有するイソォキサゾリン 誘導体の製造例が記載されている。
本発明は、 前記ィソォキサゾリン誘導体の有用な製造中間体及び当該中間体 の製造方法を提供することを目的としている 発明の開示
本発明者らは、 上記課題を解決するために鋭意検討の結果、 容易に入手可能 な原料から製造可能な、 特定のピラゾール誘導体を製造中間体として使用する 事により、 前記ィソォキサ.ゾリン誘導体を、.更に効率的且つ簡便に製造するこ とができることを見出し、 当該ビラゾール誘導体が前記ィソォキサゾリン誘導 体の製造において極めて有用な製造中間体となることを'知り、 本発明を完成す るに至った。 即ち、 本発明は下記 （1) 乃至 （15) の発明を提供することにより上記課 題を解決したものである。
( 1 ) 一般式 [ I ]
Figure imgf000004_0001
{式中、 R1 は、 C 1〜C 6アルキル基を示し、 R2は、 C 1〜C3ハロアルキ ル基示し、 R3 は、 水素原子、 下記置換基群 α;から選ばれる 1個以上の置換基 で置換されていてもよい C 1〜C 3アルキル基又はホルミル基を示し、 R4は、 水素原子又は C 1〜C 3ハロアルキル基を示す （但し、 R 3 が水素原子又はホ ルミル基である場合、 R4は C 1〜C 3ハロアルキル基を示し、： 3が下記置換 基群 αから選ばれる 1個以上の置換基で置換されていてもよい C 1〜C 3アル キル基である場合、 R 4は水素原子又は C 1〜C 3ハロアルキル基を示す。 } で表されるピラゾール誘導体又はその塩。
「置換基群 α」
ハロゲン原子、 一SH基、 -SC ( = ΝΗ) ΝΗ2基
(2) R4 が C 1〜C 3ハロアルキル基である （1) 記載のピラゾール誘導体 又はその塩。
(3) 3 が C 1〜C 3アルキル基であり、 R4が水素原子である （1) 記載の ピラゾール誘導体又はその塩。
(4) R3 が置換基群 αから選ばれる 1個以上の置換基で置換されていてもよ レ、メチル基である （1) 記載のピラゾー/レ誘導体又はその塩。
(5) R3 がメチル基である （3) 記載のピラゾール誘導体又はその塩。 (6)
R1
Figure imgf000005_0001
(式中、 R1及ぴ R 2は前記と同じ意味を示し、 R5 は C 1〜C 3アルキル基、 置換されてもよいフエニル基又は置換されてもよいベンジル基を示し、 R6は C 1〜C 3アルキル基を示す。 ）
一般式 [1] で表される化合物と、 一般式 [ で表される化合物とを反応
6
させることを特徴とする、 一般式 [3] で表されるピラゾール誘導体の製造方 法。
(7)
Figure imgf000005_0002
(式中、 R1 、 R2 、 R4及ぴ R6は前記と同じ意味を示し、 L1 はハロアルキ ル化して残ったハロゲン原子より反応性の高い脱離基であり、 ハロゲン原子、 C 1〜C 3アルキルスルホニルォキシ基、 C 1〜C 3ハロアルキルスルホ二ノレ ォキシ基、 置換されていてもよいフエ-ルスルホニルォキシ基又は置換されて いてもよいべンジルスルホニルォキシ基等を示す。 )
一般式 [4] で表される化合物と、 一般式 [5] で表される化合物とを、 塩 基の存在下で反応させることを特徴とする、 一般式 [6] で表されるピラゾー [
ル誘導 4体の製造方法。
(8)
トリフエ二ノレホスフィン
Figure imgf000006_0001
[6]
(式中、 R1 、 R2、 R 及び R6 は前記と同じ意味を示す。 ）
一般式 [4] で表される化合物とトリフエニルホスフィン、 一般式 [7] で 表される化合物及ぴァゾ化合物 [8] とを反応させることを特徴とする、.一般 式 [6] で表されるピラゾール誘導体の製造方法。
(9)
Figure imgf000006_0002
(式中、 R1、 R2及ぴ R4は前記と同じ意味を示し、 R7及ぴ R8 は水素原子 又は C 1〜C 2アルキル基を示し、 Xはハロゲン原子を示す。 ）
—般式 [9] で表される化合物と、 ハロゲン化剤とを反応させることを特徴 とする、 一般式 [10] で表されるピラゾール誘導体の製造方法。
(10)
Figure imgf000007_0001
(式中、 R1 、 R2 、 R4 、 R7 、 R8及び Xは前記と同じ意味を示す。 ）
1
3
一般式 [10] で表される化合物と化合物 〔11] とを反応させることを特 徴とする、 一般式 [12] で表されるピラゾール誘導体の製造方法。
(11) 上記 （10) に記載の一般式 [12] で表される化合物を加水分解反 応させることを特徴とする、 一般式 [13] で表されるピラゾール誘導体の製 造方法。
(12) 上記 (10) に記載の一般式 [10] で表される化合物と硫化物とを 反応させることを特徴とする、 一般式 [13] で表されるピラゾール誘導体の 製造方法。
(13)
Figure imgf000007_0002
[14] (式中、 Ri及び R2は前記と同じ意味を示す。 )
一般式 [14] で表される化合物をホルミルィヒさせることを特徴とする、 一 般式 [15] で表されるピラゾール誘導体の製造方法。
(14)
Figure imgf000008_0001
(式中、 R1 、 R2 、 R4及ぴ L1 は前記と同じ意味を示す。 ）
一般式 [16] で表される化合物と、 —般式 [5] で表される化合物とを、 塩基の存在下で反応させることを特徴とする、 一般式 [17] で表されるビラ ゾール誘導体の製造方法。
Figure imgf000008_0002
(式中、 R1 、 R2 、 R4及ぴ Xは前記と同じ意味を示す。 )
一般式 [18] で表される化合物をハロメチル化させることを特徴とする、 一般式 [19] で表されるピラゾール誘導体の製造方法。
尚、 本明細書において、 用いられる用語の定義を以下に示す。
C 1〜C6等の表記は、 この場合ではこれに続く置換基の炭素数が、 1〜6 であることを示している。
ハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を示す。 C 1〜C 3アルキル基とは、 特に限定しない限り、 炭素数が 1〜3の直鎖又 は分岐鎖状のアルキル基を示し、 例えばメチル基、 ェチル基、 n—プロピル基 又は i s o—プロピル基等を拳げることができる。
C 1〜C 6アルキル基とは、 特に限定しない限り、 炭素数が 1〜6の直鎖又 は分岐鎖状のアルキル基を示し、例えばメチル基、ェチル基、 n—プロピル基、 i s o—プロピル基、 n—プチル基、 イソプチル基、 s e c一プチル基、 t e r 1:一プチノレ基、 n—ペンチノレ基、 i s o—ペンチノレ基、 ネオペンチノレ基、 n 一へキシル基、 i s o—へキシノレ基、 又は 3 , 3—ジメチルブチル基等を挙げ ることができる。
C 1〜C 3ハロアルキル基とは、 特に限定しない限り、 同一又は異なって、 ハロゲン原子 1〜 7で置換されている炭素数が 1〜 3の直鎖又は分岐鎖のアル キル基を示し、 例えばフルォロメチル基、 クロロメチル基、 ブロモメチル基、 ジフルォロメチル基、 トリフルォロメチル基、 ジク口口フルォロメチル基、 ク ロロジフルォロメチル基、 2， 2—ジフルォロェチル基、 2， 2， 2—トリフ ルォロェチル基、 ペンタフルォロェチル基、 1一フルオロー 1一メチルェチル 基又は 1一トリフルォロメチルー 2 , 2， 2—トリフルォロェチル基等を挙げ ることができる。
C 1〜C 4アルキルスルホニルォキシ基とは、 アルキル基部分が前記と同じ 意味を示す （C 1〜C 4アルキル） 一 S 0 2 — O—基を示し、 例えばメタンス ルホニルォキシ基又はエタンスルホニルォキシ基等を挙げることができる。
C 1〜 C 3ハロアルキルスルホ -ルォキシ基とは、 ハ口アルキル基部分が前 記と同じ意味を示す （C 1〜C 3ハロアルキル） 一 S 0 2 — O—基を示し、 例 えばトリフルォロメタンスルホニルォキシ基又はトリクロ口メタンスルホニル ォキシ基等を挙げることができる。 (置換されていてもよい） フヱニル基、 （置換されていてもよい） フニニル スルホニルォキシ基、 （置換されていてもよい） ベンジル基又は （置換されて いてもよい） ベンジルスルホニルォキシ基における、 「置換されていてもよい 基」 とは、 例えばハロゲン原子、 C 1〜C 10アルキル基、 C 1〜C4ハロア ルキル基、 C 1〜C 10アルコキシアルキル基、 C 1〜C 10アルコキシ基、 C 1〜C 10アルキルチオ基、 C 1〜C 10アルキルスルホニル基、ァシル基、 C 1〜C 10アルコキシカルポニル基、 シァノ基、 カルパモイル基 （該基の窒 素原子は同一又は異なって、 C 1〜C 10アルキル基で置換されていてもよい）、 ニトロ基、 又はアミノ基 （該基の窒素原子は同一又は異なって、 C 1〜C 10 アルキル基、 C 1〜C 6ァシル基、 C 1〜C 4ハロアルキルカルボニル基、 C 1~C 10アルキルスルホニル基、 又は C 1〜C 4ハロアルキルスルホニル基 で置換されていてもよい） 等で置換されていてもよいことを示す。
塩とは、 一般式 [I] を有する化合物において、 その構造中に、 水酸基、 一 SH基又は一 SC (=NH) NH2基等が存在する場合に、 一般式 [1〕 を有 する化合物と、 金属もしくは有機塩基との塩又は鉱酸もしくは有機酸との塩で ある。 ここで金属としては、 ナトリウム又はカリウム等のアルカリ金属或いは マグネシウム又はカルシウム等のアルカリ土類金属を挙げることができ、 有機 塩基としてはトリェチルァミン又はジィソプロピルァミン等を挙げることがで き、 鉱酸としては塩酸、 臭化水素酸又は硫酸等を挙げることができ、 有機酸と しては酢酸、 メタンスルホン酸又は p—トルエンスルホン酸等を挙げること力 S できる。 発明を実施するための最良の形態
次に、 一般式 [I] で表されるピラゾール誘導体又はその塩 （本発明化合物） の代表的な化合物例を表 1〜表 11に記載する。 しかしながら、 本発明化合物 はこれらに限定されるものではない。
本明細書における表中の次の表記は下記の通りそれぞれ該当する基を表す。
Me ：メチル基
E t ：ェチル基
P r— n ： n—プロピノレ基
P r - i ： i s o一プロピル基
B — n ： n—プチノレ基
B u— i ： i s o一ブチル基
B u- s ： s e c—ブチル基
B - t ： t e r t一プチノレ基
P e n— n ： n一ペンチノレ基
He x— n ： n—へキシル
尚、 本発明化合物が、 置換基として水酸基を含む場合、 ケトーエノール互変 異性体を有する化合物があるが、 何れの異性体もその混合物も本発明化合物に 含まれる。
Figure imgf000012_0001
表 2
Figure imgf000013_0001
表 3
Figure imgf000014_0001
π
π υ Π
η 0
0 0
Figure imgf000015_0001
挲
Z9.600/f00idf/X3d 90If請 00Z OAV 表 5
Figure imgf000016_0001
¾Η0¾0 ja(9H)H0 ¾0 9H S Ζ X
¾Η0 J:a(8]A[)H0 aH I Ζ I
¾H0 3(Θ )Η0 ¾0 9H 0 τ
¾0SH0 jasHO ¾0 6 9 X
¾H0¾0 jazHo ¾0 !i-na 8 9 1
¾H0 jasHO ¾0 Ζ 9 I ja¾o ¾0 9 9 Τ
¾H0¾0 ¾0 S 9 Τ
¾H0 ja¾o ¾0 ^ 9 X jasHo ¾0 ε 9 χ
¾H0¾0 jasHO εΛ0 S 9 X
¾H0 ¾0 X 9 Τ ε^0 0 9 1
¾HOsHO ¾0 6 S X H Λ 0 ¾0 8 9 1
¾0SH0 ¾0 Ζ 9 Τ
¾HOsHO jasHo sdD 9 9 1
¾H0 ja¾o ¾0 9 9 1 0SH。 ja¾o ¾0 aH ^ 1
¾HOsHO jasHD ¾0 9H ε τ
¾H0 ¾HD ΘΗ Ζ 9 1 H。 ¾E0 ΘΗ 1 S T
IO(^a)HD ¾0 aH 0 9 X
IO(;KH:)HO ¾0 ΘΗ 6 ΐ
¾H0 ¾H0 9H 8 I
¾H0 io(ia)HO ¾0 ΘΗ 1 1
¾0SH0 10(aH)H0 ¾0 ΘΜ 9 1
¾HO¾D lO(aH)HO εΛ0 ΘΗ ^ 1
¾H0 I0(9H)H0 H。 9R ^ ^ 1
¾H0 ΐΟ(θΗ)ΗΟ ¾0 ΘΙΜ ε ^ τ
IOsHO ¾0 Ζ ι
¾HOsHD 10SH0 I V ι
IOsHO ¾0 g τ ΐΟεΗΟ ¾0 π-ng 8 ε τ
¾H0¾0 Ι0¾0 ¾0 ζ ε τ 鲁卷
9挲
SI
l9Z,600/C00Zdf/X3d 90ΐεΤ0/1"00Ζ O 表 7 化合物
It1 αύ
番号
173 Me CF3 CH(Me)Br CH2CF3
174 Me CFs CH(Et)Br CHF2
175 Me CHF2 CH(Et)Br CHF2
176 Me CF3 CH(Et)Br CH2CHF2
177 Me CF3 CH(Et)Br CH2CF3
178 Me CF3
Figure imgf000018_0001
HCl塩 CHF2
17.9 Me CHF2 CH2SC(=NH)NH2 HCl塩 CHF2
180 Me CF3 CH2SG(=NH)NH2 HCl塩 GH2CHF2
181 Me CF3 CH2SC(=NH)NH2 HC CH2CF3
182 Et CF3 CH2SC(=NH)NH2 HCl塩 CHF2
183 Et CF3 CH2SC(=NH)NH2 HCl塩 CH2GHF2
184 Et CF3 CH2SC(=NH)NH2 HCl塩 CH2CF3
185 Pr-i CFs CH2SC(=NH)NH2 HCl塩 CHF2
186 Pr-i CF3 CH2SC(=NH)NH2 HCl塩 GH2GHF2
187 Pr-i CFs CH2SC(=NH)NH2 HCl塩 CH2CF3
188 Pr-n CF3 CH2SC(=NH)NH2 HCl塩 CHF2
189 Pr-n CFs CH2SC(=NH)NH2 HCl塩 CH2CHF2
190 Pr-n CFs GH2SC(=NH)NH2 HCl塩 CH2CF3
191 Bu-n CFs CH2SC(=NH)NH2 HCl塩 CHF2
192 Bu-n CF3 CH2SG(=NH)NH2 HCl塩 GH2CHF2
193 Bu-n CF3 CH2SC(=NH)NH2 HCl塩 CH2CF3
194 Bu-t CF3 GH2SC(=NH)NH2 HCl塩 CHF2
195 Bu-t CFs
Figure imgf000018_0002
HCl塩 CH2CHF2
196 Bu-t CF3 CH2SC(=NH)NH2 HCl塩 CH2CF3
197 Me CF3 CH2SC(=NH扉 2 HBr塩 CHF2
198 Me CHF2 CH2SC(=NH)NH2 HBr塩 CHF2
199 Me CFs
Figure imgf000018_0003
HBr塩 CH2CHF2
200 Me CF3 CH2SC(=NH)NH2 HBr塩 CH2CF3
201 Et CF3 CH2SC(=NH)NH2 HBr塩 CHF2
202 Et CFs CH2SC(=NH)NH2 HBr塩 CH2CHF2
203 Et CPs CH2SC(=NH)NH2 HBr塩 CH2CF3
204 Pr-i CFs CH2SC(-NH)N HBr塩 CHF2
205 Pr-i CFs
Figure imgf000018_0004
HBr塩 CH2CHF2
206 Pr-i CFs CH2SC(=NH)NH2 HBr塩 CH2CF3
207 Pr-n CF3 CH2SC(=NH)NH2 HBr塩 CHF2 表 8
Figure imgf000019_0001
表 9 化合物
R1 R2 R3 R4 番号
2 4 3 Me CF3 C¾S-Na+塩 CHF2
2 4 4 Me CHF2 CH2S-Na+塩 CHF2
2 4 5 Me CF3 CH2S-Na+塩 CH2CHF2
2 4 6 Me CFs CH2S-Na+塩 CH2CF3
2 4 7 Et CFs C¾S'Na+塩 CHF2
2 4 8 Et CF3 CH2S-Na+塩 CH2CHF2
2 4 9 Et CF3 CH2S-Na+塩 GH2CF3
2 5 0 Pr-i CFs CI¾S-Na+塩 CHF2
2 5 1 Pr-i CFs CH2S-Na+塩 CH2CHF2
2 5 2 Pr-i CFs CH2S-Na+塩 CH2CF3
2 5 3 Pr-n CFs CH2S-Na+塩 CHF2
2 5 4 Pr-n CF3 CH2S-Na+塩 CH2CHF2
2 5 5 Pr-n CFs CH2S- Na+塩 CH2CF3
2 5 6 Bu-n CFs CH2S-Na+塩 CHF2
2 5 7 Bu-n CFs C S-Na+塩 CHsCHFs
2 5 8 Bu-n CF3 C S-Na+塩 GH2CF3
2 5 9 Bu-t CF3 CH2S-Na+塩 CHF2
2 6 0 Bu-t CFs C S-Na+塩 GH2CHF2
2 6 1 Bu-t CF3 CH2S-Na+塩 CH2CF3
2 6 2 Me CFs CH2S.K+塩 CHF2
2 6 3 Me CHF2 CH2S-K+塩 C腿
2 6 4 Me CFs CH2S-K+塩 CH2CHF2
2 6 5 Me CF3 CH2S-K+塩 CH2CF3
2 6 6 Et CFs CH2S-K+塩 GHF2
2 6 7 Et CF3 CH2S-K+塩 CH2CHF2
2 6 8 Et CFs CH2S-K+塩 CH2CF3
2 6 9 Pr-i CF3 CH2S-K+塩 CHF2
2 7 0 Pr-i CFs CH2S-K+塩 CH2CHF2
2 7 1 Pr-i CFs GH2S-K+塩 CH2CF3
2 7 2 Pr-n CF3 CH2S-K+塩 GHF2
2 7 3 Pr-n CFs CH2S-K+塩 CH2CHF2
2 7 4 Pr-n CF3 CH2S-K+塩 CH2CF3
2 7 5 Bu-n CFs CH2S-K+塩 CHF2
2 7 6 Bu-n CFs CH2S-K+塩 CH2CHF2
2 7 7 Bu-n CFs CH2S-K+塩 CH2CF3 表 1 o
Figure imgf000021_0002
表 1
Figure imgf000021_0001
一般式 [I] で表される本発明化合物は、 例えば、 以下に示す製造法に従つ て製造することができるが、 これらの方法に限定されるものではない。
以下、 製造方法を製造法毎に詳説する。
<製造法 1>
Figure imgf000022_0001
(式中、 R1及ぴ R 2は前記と同じ意味を示し、 R5は C 1〜C 3アルキル基、 置換されてもよいフエニル基又は置換されてもよいベンジル基を示し、 ： は
C 1〜C 3アルキル基を示す。 )
(工程 1)
一般式 [3] で表される化合物は、 一般式 [1] で表される化合物と、 一般 式 [2] で表される化合物とを、 溶媒中又は溶媒の非存在下で （好ましくは適 当な溶媒中） 、 酸触媒の存在下又は非存在下で反応させることにより製造する ことができる。
反応温度はいずれの反応も一 50°Cから反応系における還流温度までの任意 の温度で行い、 好ましくは一 20 °C〜 100 °Cの温度範囲であり、 反応は化合 物により異なるが 0. 5時間〜 72時間で終了する。
反応に供される試剤の量は一般式 [1] で表される化合物 1当量に対して、 一般式 [2]で表される化合物は 1〜 3当量であり、酸触媒を使用する場合は、 酸触媒 0. 01〜 2当量である。
溶媒としては、 例えばジォキサン、 テトラヒドロフラン又はジメ トキシエタ ン等のエーテル類；ジクロロェタン、 四塩化炭素、 クロ口ベンゼン又はジクロ [
口ベ 4ンゼン等のハロゲン化炭化水素類； N， N—ジメチルァセトアミ ド、 N, N—ジメチルホルムアミド又は N—メチルー 2—ピロリジノン等のァミ ド類； ジメチルスルホキシド又はスルホラン等の硫黄化合物；ベンゼン、 トルエン又 はキシレン等の芳香族炭化水素類；メタノール、 エタノール、 n—プロパノー ル、 2一プロパノール、 nーブタノール又は 2—メチルー 2—プロパノ一ル等 のアルコール類；ギ酸又は酢酸等のカルボン酸類；水；或いはこれらの混合物 が挙げられる。 溶媒の使用量は一般式 [ 1 ] で表される化合物 1モルに対して 溶媒 0 . 1〜 2 0リツトルの割合であり、 好ましくは 0 . 1〜 5リツトルの割 合である。
酸触媒としては、 例えば塩酸、臭化水素酸又は硫酸等の鉱酸類；ギ酸、酢酸、 メタンスルホン酸又は p—トルエンスルホン酸等の有機酸類が挙げられる。 く製造法 2 >
Figure imgf000023_0001
[ 6 ]
(式中、 R 1、 R 2 、 R 4及ぴ： 6 は前記と同じ意味を示し、 L 1 はハロアルキ ルイ匕して残ったハロゲン原子より反応性の高い脱離基であって、 ハロゲン原子、 C 1〜C 3アルキルスルホニルォキシ基、 C 1〜C 3ハロアルキルスルホ二ノレ ォキシ基、 置換されていてもよいフエニルスルホニルォキシ基又は置換されて いてもよいべンジルスルホニルォキシ基等を示すのであり、 例えば R 4 が C H F 2基の場合は塩素原子又は臭素原子を表し、 C H 2 C F 3基の場合は塩素原子、 臭素原子、 ヨウ素原子、 ρ—トルエンスルホニルォキシ基、 トリフルォロメタ ンスルホニルォキシ基又はメタンスルホ二ルォキシ基等を示す。 ) (工程 2) '
—般式 [6] で表される化合物は、 一般式 [4] で表される化合物と、 一般 式 [5] で表される化合物とを、 溶媒中又は溶媒の非存在下で （好ましくは適 当な溶媒中） 、 触媒の存在下又は非存在下で、 塩基の存在下で反応させること により製造することができる。
反応温度はいずれの反応も 0 °Cから反応系における還流温度までの任意の温 度で行い、 好ましくは 0 °C〜 100 °cの温度範囲であり、 反応は化合物により 異なるが 0. 5時間〜 24時間で終了する。
反応に供される試剤の量は一般式 [4] で表される化合物 1当量に対して、 一般式 [5] で表される化合物で表される化合物は 1〜5当量であり、 好まし くは 1〜 3当量であり、 塩基は 1〜 20当量であり、 好ましくは 1〜 10当量 であり、 触媒は 0. 01〜 2. 0当量であり、 好ましくは 0. 01〜0. 5当 量である。
塩基としては、 例えば炭酸ナトリゥム又は炭酸力リゥム等のアルカリ金属炭 酸塩、 炭酸水素ナトリゥム又は炭酸水素力リゥム等のアル力リ金属重炭酸塩、 水酸化ナトリウム又は水酸化力リゥム等のアル力リ金属水酸化物、 水素化力リ ゥム又は水素化ナトリゥム等アルカリ金属水素化物、 ナトリゥムェトキシド又 はナトリウムメトキシド等のアルカリ金属アルコラート、 或いは 1, 8—ジァ ザビシクロ [5. 4. 0] 一 7—ゥンデセン、 トリェチルァミン又はピリジン 等の有機塩基が拳げられる。
溶媒としては、 例えばジォキサン、 テトラヒドロフラン又は 1, 2—ジメ ト キシェタン等のエーテル類；ジクロロェタン、 四塩化炭素、 クロ口ベンゼン又 はジクロ口ベンゼン等のハロゲン化炭化水素類； N, N—ジメチルァセトアミ ド、 N, N—ジメチルホルムアミド又は N—メチルー 2—ピロリジノン等のァ ミド類 4
- _ I；ジメチルスルホキシド又はスルホラン等の硫黄ィヒ合物；ベンゼン、 ト ルェン又はキシレン等の芳香族炭化水素類；メタノール、 エタノール、 n—プ ロパノール、 2—プロパノール、 n—プタノール又は 2—メチルー 2—プロパ ノール等のアルコール類；ァセトン又はメチルェチルケトン等のケトン類；ァ セトニトリル等の-トリル類；水；或いはこれらの混合物が挙げられる。 溶媒 の使用量は一般式 [4] で表される化合物 1モルに対して溶媒 0. 1〜 20リ ットルの割合であり、 好ましくは 0. 1〜 5リットルの割合である。
触媒としては、 例えば 18—クラウン一 6又は 15—クラウン一 5等のクラ ゥンエーテ/レ類；テトラ一 n—プチルアンモニゥムプロミド又はべンジルトリ メチノレアンモニゥムプロミド等の四級アンモニゥム塩；或いはテトラー n—ブ チルホスホ-ゥムプロミド等の四級ホスホ-ゥム塩が挙げられる。
く製造法 3〉
トリフエ二.ルホスフィン
Figure imgf000025_0001
[6]
(式中、 I 1 、 R2 、 R4及ぴ R6 は前記と同じ意味を示す。 ）
(工程 3)
—般式 [6]で表される化合物は、一般式 [4]で表される化合物を溶媒中、 [8] のァゾ化合物及ぴトリフエニルホスフィンの存在下、 一般式 [7] で表 される化合物とを、 シンセシス （S y n t h e s i s) ， 1981年， 1一 2 8頁に記載の方法に準じて反応させることにより製造することができる。 この反応は通常、 反応温度一 30〜 100 °Cで、 10分〜 24時間反応させ る。 - 9
反応に供される試剤の量は、一般式 [4]で表される化合物 1当量に対して、 一般式 [7] で表される化合物 1〜1. 5当量、 [8] のァゾ化合物 1〜1. 5当量、 トリフエニルホスフィン 1〜1. 5当量が望ましいが、 反応の状況に 応じて任意に変化させることができる。 '
溶媒としては、 例えばジォキサン、 テトラヒドロフラン等のエーテノレ類； 1, 2—ジクロロェタン、 四塩化炭素、 クロロベンゼン又はジクロロベンゼン等の ハロゲン化炭化水素類； N, N—ジメチルァセトアミ ド、 N, N—ジメチノレホ ルムアミ ド又は N—メチルー 2—ピロリジノン等のアミ ド類；ジメチルスルホ キシド又はスルホラン等の硫黄化合物；ベンゼン、 トルエン又はキシレン等の 芳香族炭化水素類；ァセトニトリル等の二トリル類；又はこれらの混合物等が 挙げられる。 溶媒の使用量は、 一般式 [4] で表される化合物 1モルに対して 溶媒 0. 1〜 20リツトルの割合であり、 好ましくは 0. 1〜 5リツトルの割 合である。
[8] のァゾ化合物としては、 例えばァゾジカルボン酸ジェチル又はァゾジ カルボン酸ジィソプロピル等が挙げられる。
く製造法 4 > ハロゲン化剤
工程 4
Figure imgf000026_0001
[10]
(式中、 R1、 R2及び R4 は前記と同じ意味を示し、 R7及ぴ R8 は水素原子 又は C 1〜C 3アルキル基を示.し、 Xはハ口ゲン原子を示す。 )
(工程 4) PC漏 003/009762
25 一般式 [ 1 0 ] で表される化合物は、 一般式 [ 9 ] で表される化合物と、 ハ 口ゲン化剤とを溶媒中、 触媒の存在下又は非存在下で反応させることにより製 造することができる。 本工程では光照射下で反応をおこなってもよい。 さらに 副生する酸を捕捉する為に、 塩基の存在下でおこなってもよい。
この反応は通常、 反応温度 2 0〜1 5 0 °Cで 1 0分〜 4 8時間反応させる。 反応に供される試剤の量は、一般式 [ 9 ]で表される化合物 1当量に対して、 ハロゲン化剤 1〜1 0当量が望ましいが、 反応の状況に応じて任意に変化させ ることができる。 触媒は 0 . 0 1〜3 . 0当量、 好ましくは 0 . 0 1〜1 . 5 当量である。
ハロゲン化剤としては、 例えば臭素又は塩素等のハロゲン類； N—ブロモコ ハク酸ィミド、 N—ク口口コハク酸ィミド等の N—ハロコハク酸ィミド類；過 臭化ピリジニゥム等のピリジン塩類、塩ィヒスルフリル、 1 , 3—ジプロモー 5 , 5ージメチルヒダントイン等が挙げられる。
溶媒としては、 例えば 1， 2—ジクロロェタン、 四塩化炭素、 クロ口べンゼ ン、 フルォロベンゼン又はジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類；ベン ゼン；ギ酸又は酢酸等のカルボン酸類；水；或いはこれらの混合物が挙げられ る。 溶媒の使用量は、 一般式 [ 9 ] で表される化合物 1モルに対して溶媒 0 · 1〜 2 0リツトルの割合であり、好ましくは 0 . 1〜 5リツトルの割合である。 触媒としては、 例えば過酸化ベンゾィル、 過酸ィ匕水素水、 a , a —ァゾビ スイソプチ口-トリル又はこれらの混合物等が挙げられる。
塩基としては、 例えば水酸化ナトリゥム又は水酸化力リゥム等のアル力リ金 属水酸化物、 炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、 或い は炭酸水素ナトリゥム又は炭酸水素力リゥム等のアル力リ金属重炭酸塩等が挙 げられる。 く製造法 5 >
Figure imgf000028_0001
[13]
(式中、 R1、 R2、 R4、 R7、 8及び Xは前記と同じ意味を示す。 ） (工程 5)
一般式 [12]で表される化合物は、 一般式 [10]で表される化合物を溶 媒中、 式 [11]で表される化合物 （チォ尿素） と反応させることにより製造 することができる。
反応に供される試剤の量は、 一般式 [10]で表される化合物 1当量に対し て、 式 [11]で表される化合物 1〜1· 5当量が望ましいが、 反応の状況に 応じて任意に変化させることができる。
溶媒としては、 例えばジォキサン、 テトラヒドロフラン等のエーテノレ類；ジ クロロェタン、 四塩化炭素、 クロ口ベンゼン又はジクロロベンゼン等のハロゲ ン化炭化水素類；ベンゼン、 トルエン又はキシレン等の芳香族炭化水素類； Ν， Ν—ジメチルァセトアミド、 Ν, Ν—ジメチルホルムアミド又は Ν—メチルー 2—ピロリジノン等のアミド類；メタノール、 エタノール又は 2—プロパノー ル等のアルコール類；ァセトニトリル等の二トリル類；ァセトン又はメチルェ チルケトン等のケトン類；水、 或いはこれらの混合物等が挙げられる。 溶媒の 使用量は、 一般式 [ 1 0 ] で表される化合物 1モルに対して溶媒 0 . ：!〜 2 0 リットルの割合であり、 好ましくは 0 . 1〜 5リツトルの割合である。
(工程 6 )
一般式 [ 1 3 ] で表される化合物は、 一般式 [ 1 2 ] で表される化合物を溶 媒中、 塩基の存在下又は非存在下、 加水分解反応させることにより製造するこ とができる。 本工程は、 還元剤の存在下又は不活性ガス気流下で製造してもよ い。 また一般式 [ 1 3 ] で表される化合物は、 単離精製すること無く次反応に 用いてよい。
反応に供される試剤の量は一般式 [ 1 2 ]で表される化合物 1当量に対して、 塩基 1〜1 0当量が望ましいが、 反応の状況に応じて任意に変化させることが できる。
溶媒としては、 例えばジォキサン、 テトラヒドロフラン等のエーテル類；ジ クロロェタン、 四塩ィ匕炭素、 クロ口ベンゼン又はジクロロベンゼン等のハロゲ ン化炭化水素類；ベンゼン、 トルエン又はキシレン等の芳香族炭化水素類； N, N—ジメチルァセトアミド、 N, N—ジメチルホルムアミド又は N—メチルー 2—ピロリジノン等のアミド類；ジメチルスルホキシド又はスルホラン等の硫 黄化合物；ベンゼン、 トルエン又はキシレン等の芳香族炭化水素類；ァセトニ トリル等の二トリル類； メタノール、 ェタノール又は 2一プロパノール等のァ ルコール類；ァセトン又はメチルェチルケトン等のケトン類；水；或いはこれ らの混合物等が挙げられる。 溶媒の使用量は、 一般式 [ 1 2 ] で表される 1モ ルに対して溶媒 0 . 1〜 2 0リツトルの割合であり、 好ましくは 0 . 1〜 5リ ットルの割合である。 塩基としては、 例えば炭酸ナトリゥム又は炭酸力リゥム等のアルカリ金属炭 酸塩；水酸化ナトリゥム又は水酸化力リゥム等のアルカリ金属水酸ィヒ物；炭酸 水素ナトリゥム又は炭酸水素力リゥム等のアル力リ金属重炭酸塩；ナトリウム ェトキシド又はナトリウムメトキシド等のアルカリ金属アルコラート ；或いは 1 , 8—ジァザビシクロ [ 5 . 4 . 0 ] 一 7—ゥンデセン等の有機塩基が挙げ られる。
還元剤としては、 例えば水素化ホウ秦ナトリゥム等が挙げられる。
不活性ガスとしては、 例えば窒素又はアルゴン等が挙げられる。
(工程 7 ) '
—般式 [ 1 3 ] で表される化合物は、 一般式 [ 1 0 ] で表される化合物を溶 媒中、 塩基の存在下又は非存在下、 硫化物と反応させることにより製造するこ とができる。 本工程は、 還元剤の存在下又は不活性ガス気流下で製造してもよ い。 また一般式 [ 1 3 ] で表される化合物は、 単離精製すること無く次反応に 用いてもよい。
反応に供される試剤の量は、 一般式 [ 1 0 ] で表される化合物 1当量に対し て、 硫化物 1〜 5当量、 塩基 1〜 1 0当量が望ましいが、 反応の状況に応じて 任意に変化させることができる。
溶媒としては、 例えばジォキサン、 テトラヒドロフラン等のエーテル類；ジ クロロェタン、 四塩化炭素、 クロ口ベンゼン又はジクロロベンゼン等のハロゲ ン化炭化水素類；ベンゼン、 トルェン又はキシレン等の芳香族炭化水素類； N, N—ジメチルァセトアミド、 N, N—ジメチルホルムアミド又は N—メチルー 2—ピロリジノン等のアミド類；ジメチルスルホキシド又はスルホラン等の硫 黄化合物；ベンゼン、 トルエン又はキシレン等の芳香族炭ィヒ水素類；ァセトニ トリル等の二トリル類；メタノ一ノレ、 エタノール又は 2—プロパノール等のァ ルコール類；ァセトン又はメチルェチルケトン等のケトン類；水；或いはこれ らの混合物等が挙げられる。 溶媒の使用量は、 一般式 [10] で表される 1モ ルに対して溶媒 0. 1〜20リットルの割合であり、 好ましくは 0 · 1〜 5リ ットルの割合である。
硫化物としては、 硫化ナトリゥム又は硫ィヒ力リゥム等のアルカリ金属硫化物、 水硫化ナトリゥム又は水硫化力リゥム等のアル力リ金属水硫化物、 硫化水素、 硫化アンモニゥム、 チォ酢酸ナトリウム及ぴチォ酢酸カリウム等が挙げられる。 塩基としては、 例えば炭酸ナトリゥム又は炭酸力リゥム等のアル力リ金属炭 酸塩；水酸化ナトリゥム又は水酸化力リゥム等のアルカリ金属水酸化物；水素 化力リゥム又は水素化ナトリゥム等のアル力リ金属水素化物；ナトリウムエト キシド又はナトリゥムメトキシド等のアルカリ金属アルコラート ；或いは 1, 8—ジァザビシクロ [5. 4. 0] — 7—ゥンデセン等の有機塩基が挙げられ る。
還元剤及ぴ不活性ガスとしては、 製造法 5工程 6と同様なものが挙げられる。 <製造法 6 >
Figure imgf000031_0001
(式中、 R1 及び R2 は前記と同じ意味を示す。 ）
(工程 8)
—般式 [15] で表される化合物は、 オーガニック シンセシス （Or g, Syn t h. ) ， 第 IV卷， 8·31頁 （1963) に記載のビルスマイヤー （V i 1 s me i e r ) 法に準じて、 一般式 [14] で表される化合物と N, N— ジメチルホルムアミドとを、 塩化ホスホリル、 ホスゲン又は塩化チォニルの存 在下、 溶媒中又は溶媒の非存在下で反応させる力 \ 或いはケミーシヱ ベリヒ テ （Ch em. B e r . ) ， 第 93卷， 88頁 （1960) に記載の方法に準 じて、 一般式 [14] で表される化合物とジノヽ口ゲノメチルエーテルとを、 溶 媒中、 ルイス酸存在下で反応させた後、 加水分解させる方法により製造するこ とができる。
この反応は通常、 反応温度一 40〜150°Cで 10分〜 24時間反応させる。 反応に供される試剤の量は、 一般式 [14] で表される化合物 1当量に対し て、 塩化ホスホリノレ、 ホスゲン、 塩化チォニル、 .N, N—ジメチルホルムアミ ド、 ルイス酸又ばジハロゲノメチルエーテル 1〜1. 5当量が望ましいが、 反 応の状況に応じて任意に変化させることができる。
ルイス酸としては、 例えば四塩化チタン、 四塩化スズ、 塩化亜鉛、 塩化アル ミ二ゥム又は臭化亜鉛等が挙げられる。
ジノヽロゲノメチノレエ一テルとしては例えばジク口ロメチルメチルエーテル等 が挙げられる。
溶媒としては、 例えばジクロロェタン、 四塩化炭素又はクロ口ホルム等のハ ロゲン化炭化水素類；へキサン又はヘプタン等の脂肪族炭化水素類；ジォキサ ン又はテトラヒドロフラン等のエーテル類；酢酸等のカルボン酸類； N, N— ジメチルホルムアミド等のアミド類；二硫化炭素；或いはそれらの混合物が挙 げられる。 溶媒の使用量は、 一般式 [14] で表される化合物 1モルに対して 溶媒 0. 1〜 20リツトルの割合であり、 好ましくは 0. 2〜 5リツトルの割 合である。
<製造法 7〉
Figure imgf000032_0001
(式中、 R1 、 R2 、 R4及ぴ L1 は前記と同じ意味を示す。 ） (工程 9)
一般式 [17] で表される化合物は、 一般式 [16] で表される化合物と、 一般式 [5] で表される化合物とを、 溶媒中又は溶媒の非存在下で （好ましく は適当な溶媒中） 、 触媒の存在下又は非存在下で、 塩基の存在下で反応させる ことにより製造することができる。
反応温度は 、ずれの反応も 0でから反応系における還流温度までの任意の温 度で行い、 好ましぐは 0°C〜 100°Cの温度範囲であり、 反応は化合物により 異なるが 0. 5時間〜 24時間で反応させる。
反応に供される試剤の量は一般式 [16] で表される化合物 1当量に対し て、 一般式 [5] で表される化合物で表される化合物は 1〜 5当量であり、 好 ましくは 1〜 3当量であり、 塩基は 1〜 20当量であり、 好ましくは 1〜 10 当量であり、 触媒は 0 · 01〜 2. 0当量であり、 好ましくは 0. 01〜 0. 5当量である。
溶媒、 塩基及び触媒としては、 製造法 2工程 2と同様なものが挙げられる。 く製造法 8 >
Figure imgf000033_0001
(式中、 R1 、 R2、 R4及び Xは前記と同じ意味を示す。 )
(工程 10 )
一般式 [19] で表される化合物は、 オーガニック シンセシス (O r g. S y n t h. ) ， 第 I I I卷， 557頁 （1955)又はジャーナル ォブ ジ アメリカン ケミカノレ ソサエティ ( J . Ame r . C h e m. S o c. ) ， 第 72卷， 2216頁 （1950) に記載の方法に準じて、 一般式 [1 8] で 表される化合物とハロゲン化水素及びホルムアルデヒドもしくはパラホルムと を溶媒中、 ルイス酸存在下もしくは非存在下で反応させる力、 或いはジャーナ PC蘭聽 09762
32 ル ォブ ジ アメリカン ケミカル ソサエティ （ J . Am e r . C e m. S o c. ) , 第 97巻， 6155頁 （1975) に記載の方法に準じて、 一般 式 [18] で表される化合物とハロゲノメチルエーテルとを溶媒中又は無溶媒 で、 ルイス酸存在下で反応させる方法により製造することができる。
この反応は通常、 反応温度一 40〜150°Cで、 10分〜 24時間反応させ る。
反応に供される試剤の量は、 一般式 [18] で表される化合物 1当量に対し て、 ハロゲン化水素 1〜2当量、 ホルムアルデヒドもしくはパラホルム 1〜2 当量、 ルイス酸 1〜2当量、 及び八ロゲノメチルエーテル 1〜 2当量が望まし いが、 反応の状況に応じて任意に変化させることができる。
ルイス酸としては、 例えば四塩化チタン、 塩化亜鉛、 塩化アルミニウム又は 臭化亜鉛等が挙げられる。
ハロゲン化水素としては、塩化水素、臭化水素又はヨウ化水素が挙げられる。 ハロゲノメチルエーテルとしては、 例えばク口ロメチルメチルェ一テル又は プロモメチルメチルェ一テル等が挙げられる。 溶媒としては、 例えばジクロロェタン、 四塩化炭素又はクロ口ホルム等のハ ロゲン化炭化水素類；へキサン又はヘプタン等の脂肪族炭化水素類；ジォキサ ン又はテトラヒドロフラン等のエーテル類；酢酸等のカルボン酸類；二硫化炭 素；或いはこれらの混合物が挙げられる。 溶媒の使用量は、 一般式 [18] で 表される化合物 1モルに対して溶媒 0. 1〜20リットルの割合であり、 好ま しくは 0. 1〜5リットルの割合である。
尚、 一般式 [18] で表される化合物は、 対応する、 R4 が水素原子である 化合物の当該水素原子を、 製造法 2又は 3に準じて、 R4 に変換することによ り製造することができる。 次に、 実施例をあげて本発明化合物の製造法を具体的に説明する。 また、 各実 施例で製造した又は準じて製造した本発明化合物の物性等を示す。
実施例 1
1 - t e r t一プチルー 5ージフルォロメ トキシー 3—トリフルォロメチルー 1H—ピラゾール （本発明化合物番号 021) の製造
1 - t e r t一プチルー 5—ヒドロキシー 3—トリフルォロメチルー 1 H—ピ ラゾーノレ 10. 4 g (50. 0ミリモル） の N， N—ジメチルホルムアミ ド 50 ml溶液に、 室温にて無水炭酸カリウム 7. 6 g (55. 0ミリモル） を加え た。 反応溶液を攪拌しながら、 80°Cでク口口ジフルォロメタンを反応溶液中に 過剰量導入した。 原料の消失を確認した後、 クロロジフルォロメタンの導入を停 止し、 反応溶液を室温まで冷却した。 その後反応溶液を水中に注ぎ、 ジイソプロ ピルエーテルで抽出した。 得られた有機層を水洗し、 無水硫酸マグネシゥムで乾 燥した。 溶媒を減圧下留去し、 残渣を減圧蒸留し黄色液体の 1— t e r 1:—プチ ルー 5—ジフノレオ口メ トキシー 3—トリフスレオロメチノレー 1 H—ピラゾーノレ 1 0. 8 g (収率： 83. 7 %) を得た。 — NMR値 （CDC 13/TMS δ ( p m) ) : 6. 53 (1 Η, t， J = 71. 9H z) , 6. 14 (1H, s) , 1. 63 ( 9 H, s) 実施例 2
1— t e r t—プチルー 5— (2， 2—ジフルォロエトキシ） 一 3—トリフル ォロメチルー 1 H—ピラゾール （本発明化合物番号 022) の製造
1— t e r t一プチノレ一 5—ヒドロキシー 3—トリフノレオ口メチルー 1 H—ピ ラゾーノレ 50. 0 g (240. 2ミリモノレ） のテトラヒドロフラン 100 Om 1 溶液に、 室温にてトリフエニルホスフィン 75. 6 g (288. 2ミリモル） 及 ぴ 2, 2—ジフルォロエタノール 23. 7 g (288. 8ミリモル） を加え、 攪 拌した。 さらに氷冷下反応溶液中にァゾジカルボン酸ジィソプロピル 58 · 3 g (288. 3ミリモル） を加え、 5時間攪拌した。 反応終了確認後、 反応溶液を 水中に注ぎジェチルエーテルにて抽出した。 得られた有機層を水洗し、 無水硫酸 マグネシウムで乾燥した。 溶媒を減圧下留去し、 残渣を減圧蒸留して 1一 "t e r t一プチル一 5— (2, 2—ジフルォロエトキシ） 一 3—トリフルォロメチルー 1.H—ピラゾール 38. 2 g (収率： 58. 4%) を得た。 沸点 ： 9 8— 1 0 0 °CZ6 K P a ( 4 5 m m H g )
屈折率 （nD 2 o ) : 1. 3921
— NMR値 （CDC 13/TMS δ (p pm) ) ： 6. 10 (1H， t t,
J = 3. 8， 54. 5Hz) , 5. 84 ( 1 H， s ) , 4. 25 (2H, d t ,
J = 3. 8， 1 3. OH z) , 1. 60 (9 H, s ) 実施例 3
1— ΐ e r t一プチノレ一 4一クロロメチノレー 5一 (2, 2—ジフルォロェトキ シ） 一 3—トリフルォロメチルー 1 H—ビラゾール （本発明化合物番号 141) の製造
1一 t e r t—プチルー 5_ (2, 2—ジフルォロエトキシ） 一 3—トリフル ォロメチノレ一 1 H—ピラゾール 1 3. 6 g (50. 0ミリモル） の酢酸 50ml 溶液に、 室温にてパラホルム 5. 0 g (純度 90%, 150. 0ミリモル） 及び 塩化亜鉛 20. 5 g (150. 0ミリモル） を加え、 攪拌した。 さらに氷冷下反 応溶液中に過剰量の塩化水素を導入し、 1時間攪拌した。 反応終了確認後、 反応 '溶液を水中に注ぎジェチルエーテルにて抽出した。 得られた有機層を水洗し、 無 水硫酸マグネシゥムで乾燥した。 溶媒を減圧下留去し、 ガスクロマトグラフィー 分析を行い、 1一 t e r " —プチルー 4—クロロメチルー 5— (2, 2—ジフル ォロエトキシ） 一 3—トリフルォロメチルー 1H—ピラゾールが 50. 1%生成 していることを確認した。
実施例 4
5—ヒドロキシー 1ーメチノレー 3—トリフノレオロメチノレー 1 H—ピラゾーノレ一 4一カルボアルデヒド （本発明化合物番号 281) の製造
5—ヒドロキシー 1ーメチノレー 3—トリフノレオロメチノレー 1 H—ピラゾーノレ 1 6. 6 g (100. 0ミリモノレ） の N、 N—ジメチノレホルムァノレデヒド 1 5. 4 g溶液中に、 0°Cにてォキシ塩化リン 16. 2 g (105. 0ミリモル） を加え 室温にて 1時間攪拌した。 さらに 100°Cにて 1時間攪拌した。 反応終了確認 後、 反応溶液を水中にあけ 25 %水酸化ナトリゥム溶液にて p H≥ 10とした 後、 水層を酢酸ェチルにて洗浄した。 得られた水層を飽和クェン酸溶液にて； H 4とした後、 酢酸ェチルにて抽出した。 得られた有機層を水及び食塩水で順次 洗浄した後、 無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 溶媒を減圧留去し、 残渣をシリ 力ゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、 5—ヒドロキシ一 1ーメチルー 3 一トリフルォロメチルー 1H—ピラゾールー 4一カルボアルデヒド 4. 5 g (収 率： 23. 2%) を得た。
実施例 5
5マジフルォロメ トキシー 1ーメチノレー 3—トリフルォロメチルー 1 H—ピラ ゾールー 4一力ルポアルデヒド （本努明化合物番号 026) の製造
5—ヒドロキシー 1ーメチルー 3—トリフノレオ口メチルー 1 H—ピラゾールー 4一力ルポアルデヒド 1. 7 g (8. 8ミリモル） のテトラヒドロフラン 2 Om 1溶液に、 室温にて粉末状水酸化力リウム 2. 5 g (43. 8ミリモル） 、 テト ラプチルアンモニゥムプロミド 0. 1 4 g (0. 44ミリモル） を加え攪拌し た。 さらに反応溶液中へ反応系内が飽和となるまでクロロジフルォロメタンを導 入した。 その後室温にて一夜攪拌した。 反応終了確認後、 反応溶液を水中にあけ 酢酸ェチルにて抽出した。 得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄した後、 無 水硫酸マグネシウムで乾燥した。 溶媒を減圧下留去し、 ガスクロマトグラフィー 分析を行い、 5—ジフルォロメトキシー 1ーメチルー 3—トリフルォロメチノレー 1 H-ピラゾールー 4一力ルポアルデヒドが 8. 8 %生成していることを確認し た。 実施例 6 1， 4ージメチノレー 5—ヒ ドロキシー 3—トリフノレオロメチノレー 1 H—ピラ ゾール （本発明化合物番号 0 3 6) の製造
メチルヒ ドラジン 2 0. 9 g (4 5 4. 2ミ リモル） のエタノール 5 0 0m l 溶液に、 氷冷下、 4, 4， 4一トリフルオロー 2—メチルー 3—ォキソブタン酸 ェチル 9 0. 0 g (4 54. 2ミリモル） を、 攪拌下、 1 0°Cを超えない様に滴 下した。 滴下終了後、 室温にて 3 0分攪拌した。 反応溶液中に濃塩酸 1 0 m 1を 加え、 還流下 2日間攪拌した。 反応終了確認後、 溶媒を減圧下留去した。 残渣に 水を加え、 酢酸ェチルにて抽出した。 得られた有機層を水及ぴ食塩水で順次洗浄 した後、 無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 溶媒を減圧下留去し、 残渣を n—へ キサンにて洗浄し白色結晶 （融点： 1 4 8〜 1 5 1 °C) の 1 , 4ージメチルー 5 ーヒ ドロキシー 3—トリフルォロメチルー 1 H—ピラゾール 6 1. 0 g (収率： 74. 6 %) を得た。
1 H— NMR値 (CDC 1 3 /TMS δ (p p m) ) ： 3. 7 0 (3H, d) ， 1. 9 9 (3 H, d) 融点： 148〜151°C 実施例 Ί
5ージフルォロメトキシー 1， 4一ジメチルー 3—トリフルォロメチル一 1 Η 一ピラゾ一ル （本発明化合物番号 076) の製造
1, 4一ジメチルー 5—ヒドロキシー 3—トリフルォロメチルー 1 Η—ビラ ゾーノレ 78. 6 g (436. 4ミリモノレ） の 2—プロパノーノレ 500 m 1溶液中 に、 室温にて粉末状水酸化力リウム 1 53. 1 g (2728. 6ミリモル） を加 え攪拌した。 さらに反応溶液中へ過剰量のクロロジフルォロメタンを導入しなが ら、 攪拌した。 その後反応温度が発熱により 70°Cまで一旦上昇し、 2時間後に は室温にまで戻った。 反応終了確認後、 反応溶液を水中にあけ酢酸ェチルにて抽 出した。 得られた有機層を水及ぴ食塩水で順次洗浄した後、 無水硫酸マグネシゥ ムで乾燥した。 溶媒を減圧留去し、 残渣を蒸留し無色透明液体の 5—ジフルォロ メトキシー 1， 4一ジメチルー 3—トリフルォロメチルー 1 H—ピラゾール 8 8. 9 g (収率： 88. 5%) を得た。
1 H— NMR値 （CDC 13 /TMS δ (p pm) ) ： 6. 52 (1 H, t, J = 71. 5H z) ， 3. 78 (3H, s) ， 2. 07 (3H， s )
沸点： 98〜 100 °C/ 6 KP a (45 mmH g )
屈折率 （nD 2 。） ： 1. 3921
実施例 8
4一プロモメチノレー 5一ジフノレオ口メ トキシー 1ーメチノレー 3—トリフノレオ口 メチルー 1 H—ピラゾール （本発明化合物番号 151) の製造
5ージフルォロメトキシー 1， 4一ジメチルー 3—トリフルォロメチルー 1 H ーピラゾール 1 1. 5 g (50. 0ミリモル） の四塩化炭素溶液 50m 1に、 N 一ブロモこはく酸イミド 9 · 8 g (55. 0ミリモル） 及び 、 ' ーァゾビス PC蘭聽 09762
38 イソプチロニトリル 0. 41 g (2. 5ミリモル） を加え攪拌下加熱環流した。 反応溶液に外部から光を 1時間照射した。 反応終了確認後、 反応溶液を水中にあ け、 クロ口ホルムで抽出した。 得られた有機層を水及ぴ食塩水で順次洗浄した 後、 無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 溶媒を減圧留去し、 4一プロモメチルー 5—ジフルォロメトキシー 1ーメチルー 3—トリフルォロメチルー 1H—ビラ ゾール 17. 8 g (純度： 72. 0%、 収率： 82. 7%) を得た。
1 H— NMR値 （CDC 13 ZTMS δ (p pm) ) : 6. 73 (1H， t, J = 71. 5 H z) ， 4. 39 (2H, s) ， 3. 82 (3H, d)
屈折率 （nD 2 。） ： 1. 4401
実施例 9
4一プロモメチノレー 5—ジフノレオロメ トキシー 1ーメチノレー 3—トリフノレオ口 メチルー 1 H—ピラゾール （本発明化合物番号 151) の製造
5—ジフルォロメ トキシー 1， 4ージメチノレー 3—トリフノレオロメチノレー 1H ーピラゾール 0. 50 g (2. 17ミリモル） の四塩ィ匕炭素溶液 5 m 1に、 臭素 0. 90 g (5. 64ミリモル） 及ぴ過酸化ベンゾィル微量を加え攪拌下加熱環 流した。 反応溶液に外部から光を 2時間 30分照射した。 反応終了後ガスクロマ トグラフィー分析を行い、 4ーブロモメチルー 5—ジフルォロメトキシー 1—メ チルー 3—トリフルォロメチルー 1H—ピラゾールが 80. 2%生成しているこ とを確認した。
実施例 10
2- (5—ジフルォロメ トキシー 1ーメチルー 3—トリフルォロメチル— 1 H 一ピラゾールー 4一ィルメチル） ーィソチォ尿素臭化水素酸塩 （本発明化合物番 号 197) の製造 2003/009762
39
4一プロモメチノレー 5一ジフノレオ口メトキシ一 1ーメチノレー 3—トリフノレオ口 メチルー 1H—ピラゾール 19. 1 g (純度 75. 0%、 46. 3ミリモル） の エタノール溶液 3 Om 1に、 チォ尿素 3. 5 g (46. 3ミリモル） を加え撩拌 下 1時間加熱環流した。 溶媒を減圧留去し、 酢酸ェチル、 n—へキサン混合溶媒 にて洗浄し白色結晶 （融点： 1 30〜131°C) の 2— （5—ジフルォロメトキ シー 1一メチル一3—トリフルォロメチルー 1H—ピラゾールー 4ーィルメチ ル） 一イソチォ尿素臭化水素酸塩 1 3. 8 g (収率： 77. 5%) を得た。
1 H— NMR値 （CDC 13 +DMSO - d 6/TMS δ ( m) ) : 9. 2 1 (2Η, b r ) , 9. 1 2 (2H, b r ) ， 6. 92 (1 H, t, 1 = 7 1. 2Hz) , 4. 40 (2H， s ) ， 3. 83 (3H, s)
実施例 11 ,
(5—ジフルォロメトキシ一 1ーメチルー 3—トリフルォ口メチルー 1 H—ピ ラゾールー 4一ィル） 一メタンチオール （本発明化合物番号 2 16) の製造
2- (5—ジフルォロメ トキシ一 1ーメチルー 3—トリフルォロメチルー 1 H 一ピラゾー/レー 4一ィルメチル） ーィソチォ尿素臭化水素酸塩 1. 00 g (2. 6◦ミリモル） の N， N—ジメチルホルムァミド 2 m 1溶液中に、 無水炭酸力リ ゥム 0. 43 g (3. 1 2ミリモル).及ぴ水 lmlを加え室温にて 1時間攪拌し た。 反応終了確認後、 反応溶液を水中にあけジェチルエーテルにて抽出した。 得 られた有機層を水で洗浄した後、 無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 溶媒を減圧 留去し、 （5—ジフルォロメ トキシ— 1ーメチルー 3 _トリフルォロメチルー 1 H—ピラゾールー 4一ィル） 一メタンチオール 0. 66 g (純度： 84. 9%、 収率： 82. 4%) を得た。
1 H— NMR値 (CDC 13 /TMS δ (p p m) ) ： 6. 72 ( 1 H， t, J = 71. 7Hz) , 3. 81 (3H， s) ， 3. 63 (2H, s) ， 3. 20
(1H， b r )
実施例 12
(5—ジフ /レオ口メ トキシ一 1ーメチルー 3—トリフルォロメチルー 1 H—ピ ラゾールー 4—ィル） 一メタンチオール （本発明化合物番号 216) の製造
4一プロモメチノレー 5一ジフノレオロメ トキシー 1ーメチルー 3—トリフノレオ口 メチルー 1 H—ビラゾール 1. 55 g (5. 00ミ リモル） のェタノ一ル 10m 1溶液中に、 水硫化ナトリゥム n水和物 0. 48 g (純度： 70. 0 %、 6. 0 0ミリモル） を加え室温にて 1時間攪拌した。 反応終了後ガスクロマトグラ フィー分析を行い、 (5—ジフルォロメトキシー 1ーメチルー 3—トリフルォロ メチルー 1 H—ピラゾール一4一ィル) --メタンチオールが 40. 0%生成して いることを確認した。
実施例 13 .
4一クロ口メチノレー 5一ジフノレオ口メ トキシー 1ーメチルー 3—トリフノレオ口 メチルー 1 H—ピラゾール （本発明化合物番号 123) の製造
5—ジフルォロメ トキシー 1， 4一ジメチルー 3—トリフルォロメチルー 1 H —ピラゾール 11. 5 g (50. 0ミリモル） の四塩ィ匕炭素溶液 5 Ora 1に、 塩 化スノレフリル 1 0. 1 g (75. 0ミリモル） 及ぴ Q；、 a ' —ァゾビスイソプチ ロニトリル 0. 8 g (5. 0ミリモル） を加え攪拌下加熱環流した。 反応溶液に 外部から光を 11時間照射した。 反応終了確認後、 反応溶液を水中にあけ、 クロ 口ホルムで抽出した。 得られた有機層を水及ぴ食塩水で順次洗浄した後、 無水硫 酸マグネシゥムで乾燥した。 溶媒を減圧留去し、 残渣をシリ力ゲル力ラムクロマ トグラフィ一にて精製し、 無色透明液体の4一クロロメチルー 5—ジフルォロメ 2003/009762
41 トキシー 1ーメチルー 3—トリフルォロメチル一 1 H—ピラゾール 4. 8 g (純 度： 83. 4 %、 収率： 30. 3%) を得た。
1 H— NMR値 （CDC 13 /TMS δ (p p m) ) : 6. 69 ( 1 H, t, J = 71. 5Hz) ， 4. 51 (2H, s) ， 3. 82 (3H， s)
屈折率 （nD 2 。） ： 1. 4157
実施例 14
4一クロロメチノレー 5ージフルォロメ トキシー 1ーメチルー 3—トリフルォロ メチルー 1H—ピラゾール （本発明化合物番号 123) の製造
5—ジフルォロメトキシー 1， 4一ジメチルー 3—トリフルォロメチルー 1H —ピラゾール 1. 00 g (4. 35ミリモル） の四塩化炭素溶液 1 Om 1に、 炭 酸水素ナトリウム 0. 55 g (6. 52ミリモル） を加え攪拌下加熱環流した。 反応溶液に外部から光を照射し、 さらにガスクロマトグラフィーにて目的物の生 成量を確認しながら塩素ガスを適量導入した。 反応終了後ガスクロマトダラ フィー分析を行い、 4一クロロメチルー 5—ジフルォロメ トキシー 1ーメチル一 3—トリフルォロメチルー 1 H—ピラゾールが 61. 7%生成していることを確 認した。
実施例 15
2一 (5—ジフルォロメトキシー 1ーメチルー 3—トリフルォロメチルー 1 H ーピラゾールー 4一ィルメチル） 一イソチォ尿素塩酸塩 （本発明化合物番号 17 8) の製造 .
4一クロ口メチノレー 5—ジフノレォロメ トキシ一 1ーメチノレー 3—トリフノレオ口 メチルー 1H—ピラゾール 3. 7 g (純度 83. 4%、 11. 7ミリモル） のェ タノール溶液 2 Omlに'、 チォ尿素 0. 8 g (11. 1ミリモル） を加え室温に て一夜さらに 50。Cにて 1時間加熱攪拌した。 溶媒を減圧留去し、 II一へキサン にて洗浄し白色結晶 （融点： 117〜 1 19°C) の 2— （5—ジフルォロメトキ シー 1—メチルー 3—トリフルォロメチルー 1 H—ピラゾールー 4—ィルメチ ル） —イソチォ尿素塩酸塩 3. 8 g (収率： 96. 4%) を得た。
実施例 16
1ーェチノレー 5—ヒ ドロキシー 4ーメチノレー 3—トリフノレオロメチノレー 1 H— ピラゾール （本発明化合物番号 037) の製造
ェチノレヒ ドラジン 1. 2 g (20. 0ミ リモノレ） のエタノーノレ 20m 1溶液 に、 氷冷下 4, 4， 4—トリフルオロー 2—メチルー 3—ォキソプタン酸ェチル 4. 4 g (20. 0ミリモル） を、 攪拌下、 反応系内温度が 10°Cを超えないよ うに滴下した。 滴下終了後、 室温にて 30分攪拌した。 反応溶液中に濃塩酸 lm 1を加え、 還流下 2日間攪拌した。 反応終了確認後、 溶媒を減圧下留去した。 残 渣に水を加え、 酢酸ェチルにて抽出した。 得られた有機層を水及ぴ食塩水で順次 '洗浄した後、 無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 溶媒を減圧留去し、 残渣を n— へキサンにて洗浄し白色結晶 （融点： 150〜 152°C) の 1ーェチルー 5—ヒ ドロキシー 4ーメチルー 3—トリフノレオロメチルー 1 H—ピラゾール 2. 8 g (収率： 71. 8%) を得た。
1 H— NMR値 (CDC 13 /TMS δ (p pm) ) ： 6. 78 (1 H, b r ) ， 4. 06 (2H, q) , 1. 98 (3H, d) , 1. 37 (3H， t) 実施例 17
5—ヒドロキシー 4ーメチノレ一 1一 i s o一プロピル一 3—トリフノレオロメチ ルー 1H—ピラゾール （本発明化合物番号 038) の製造
i s o—プロピルヒ ドラジン 7. 4 g (100. 0ミリモル） のエタノール 1 0 Om 1溶液に、 氷冷下 4, 4, 4一トリフルオロー 2—メチルー 3—ォキソブ タン酸ェチル 23. 3 g (純度 85. 0%、 100. 0ミリモル） を、 攪拌下、 反応系内温度が 10°Cを超えないように滴下した。 滴下終了後、 室温にて 30分 攪拌した。 反応溶液中に濃塩酸 lmlを加え、 還流下 2日間攪拌した。 反応終了 確認後、 溶媒を減圧下留去した。 残渣に水を加え、 酢酸ェチルにて抽出した。 得 られた有機層を食塩水で洗浄した後、 無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 溶媒を 減圧留去し、 残渣を n—へキサンにて洗浄し白色結晶 （融点： 150〜15 3。C) の 5—ヒ ドロキシー 4ーメチル一 1一 i s o—プロピル一 3—トリフルォ ロメチルー 1H—ピラゾール 18. 1 g (収率： 87. 0%) を得た。
1 H— NMR値 （CDC 13 TMS δ (p pm) ) : 4. 58 ( 1 H, m) , 1. 98 (3H, d) ， 1. 44 (6H, d)
実施例 18
5ージフルォロメ トキシー 4—メチノレー 1一 i s o一プロピル一 3—トリフル ォロメチルー 1H—ピラゾール （本発明化合物番号 084) の製造
5—ヒ ドロキシー 4ーメチノレー 1一 i s o—プロピノレー 3—トリフノレオロメチ ノレ一 1 H—ピラゾール 17. 1 g (82. 1ミリモル） の 2—プロパノール 10 0 m 1溶液中に、 室温にて粉末状水酸化力リウム 23. 0 g (410. 7ミリモ ル） を加え攪拌した。 さらに反応溶液中へ過剰量のクロロジフルォロメタンを導 入しながら、 攪拌した。 その後反応温度が発熱により 70°Cまで一且上昇し、 2 時間後には室温にまで戻った。 反応終了確認後、 反応溶液を水中にあけ酢酸ェチ ルにて抽出した。 得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄した後、 無水硫酸マ グネシゥムで乾燥した。 溶媒を減圧留去し、 残渣を蒸留し無色透明液体の 5—ジ フルォロメ トキシー 4ーメチノレー 1一 i s o一プロピル一 3—トリフノレオロメチ ノレ一 1 H—ピラゾール 1 5. 9 g (収率： 7 5. 0 %) を得た。
1 H— NMR値 （CDC 13 /TMS δ (p pm) ) ： 6. 5 2 (1H, t, J = 7 1. 5H z) , 4. 5 8 ( 1 H, m) ， 1. 9 8 (3H, d) ， 1. 44 (6H, d)
沸点： 84〜8 6。CZ3. 3 3 KP a (2 5mmHg)
屈折率 （nD 2 。） ： 1. 3 9 74
実施例 1 9
4ーブロモメチルー 5一ジフノレオ口メ トキシ一 1— i s o一プロピノレー 3—ト リフルォロメチルー 1 H—ピラゾール （本発明化合物番号 1 5 8) の製造
5ージフルォロメ トキシー 4—メチノレー 1一 i s o—プロピル一 3—トリフル ォロメチルー 1 H—ピラゾール 1 0. 3 g (40. 0ミリモル） の四塩化炭素溶 液 40m 1に、 N—プロモコハク酸イミ ド 7. 8 g (44、 0ミリモル） 及び 、 a' ーァゾビスイソブチロニトリル 0. 3 g (2. 0ミリモル） を加え攪拌 下加熱環流した。 反応溶液に外部から光を 1時間照射じた。 反応終了確認後、 反 応溶液を水中にあけ、 クロロホノレムで抽出した。 得られた有機層を水及び食塩水 で順次洗浄した後、 無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 溶媒を減圧留去し、 残渣 をシリカゲル力ラムクロマトグラフィーにて精製し無色透明液体の 4—プロモメ チノレー 5一ジフノレオ口メ トキシー 1一 i s o一プロピノレー 3—トリフノレオロメチ ルー 1 H—ピラゾール 5. 5 g (収率： 40. 7%) を得た。
1 H— NMR値 （CDC 1 3 /TMS δ (p m) ) ： 6. 72 ( 1 H， t， J = 7 1. 9Hz) , 4. 6 2 ( 1 H, m) , 4. 40 (2H, s) ， 1. 47
(6H， d， J = 6. 8H z)
屈折率 （nD 2 。） ： 1. 43 8 3 実施例 20
1， 4一ジメチルー 5— （2， 2, 2—トリフルォロエトキシ） ー'3—トリフ ルォロメチルー 1 H—ビラゾール （本発明化合物番号 079) の製造
1， 4一ジメチルー 5—ヒドロキシー 3—トリフノレオロメチノレー 1 H—ピラ ゾーノレ 4. 4 g (24. 4ミ リモノレ） の N, N—ジメチノレホ 7レムアミ ド 5 Om 1 溶液中に、 室温にて無水炭酸カリウム 5. 1 g (36. 6ミリモル） 及び 2 ,
2, 2—トリフルォロェチルトリフルォロメタンスルホネート 6. 3 g (26. 8ミリモル） を加え 3時間室温にて攪拌した。 反応終了確認後、 反応溶液を水中 にあけ酢酸ェチルにて抽出した。 得られた有機層を水及ぴ食塩水で順次洗浄した 後、 無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 溶媒を減圧留去し、 淡黄色液体の 1, 4 一ジメチルー 5— (2, 2, 2—トリフルォロエトキシ） 一 3—トリフノレオロメ チルー 1 H—ピラゾール 6. 1 g (収率： 95. 3%) を得た。
1 H— NMR値 （CDC 13 /TMS δ (p pm) ) ： 4. 41 (2H, q) ,
3. 74 (3Η， d) ， 2. 08 (3Η， d)
屈折率 （nD 2 。） ： 1. 3872
実施例 21
5 - (2, 2—ジフルォロェトキシ) 一 1, 4—ジメチルー 3—トリフルォロ メチルー 1H—ピラゾール (本発明化合物番号 078) の製造
1， 4ージメチノレー 5—ヒドロキシー 3—トリフルォロメチルー 1 H—ビラ ゾール 9. 0 g (50. 0ミリモル） のテトラヒドロフラン 5 Om 1溶液中に、 室温 fcてトリフエニルホスフィン 14. 4 g (55. 0ミリモル） 及ぴ 2, 2- ジフルォロエタノール 4. 5 g (55. 0ミリモル） を加え攪拌した。 さらに氷 冷下にてァゾジカルボン酸ジイソプロピル 12. 3 g (60. 0ミリモル） を加 え一夜室温にて攪拌した。 反応終了確認後、 反応溶液を水中にあけ酢酸ェチルに て抽出した。 得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄した後、 無水硫酸マグネ シゥムで乾燥した。 溶媒を減圧留去し、 残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ フィ一にて精製し、 淡黄色液体の 1， 4一ジメチルー 5— （2, 2—ジフルォロ エトキシ） 一 3—トリフルォロメチルー 1H—ピラゾール 6. 8 g (収率： 5 5. 7%) を得た。
1 H— NMR値 (CDC 1 a /TMS δ (p pm) ) ： 6. 05 ( 1 H, t t , J = 3. 8， 54, 3Hz) , 4. 27 (2H, d t , J = 3. 8, 13. 5H z) , 3. 73 (3H, s) , 2. 08 (3H, d)
屈折率 （nD 2 。） ： 1. 4070
実施例 22
5—ヒ ドロキシー 4ーメチルー 1— n—プロピノレー 3—トリフノレオロメチノレー 1 H—ビラゾール （本発明化合物番号 039)
1 H— NMR値 (CDC 1 a /TMS δ (p pm) ) ： 8. 75 ( 1 H, b r ) , 3. 94 (2H， t) ， 1. 96 (3H, d) , 1. 77 (2H, m) , 0. 88 (3H， t )
融点： 13,3〜134°C〃
実施例 23
1一 n—プチノレ一 5—ヒ ドロキシー 4—メチルー 3—トリフルォロメチノレー 1 H ーピラゾール （本発明化合物番号 040)
1 H— NMR値 （CDC 13 /TMS δ (p pm) ) ：
7. 73 (1H, b r) ， 3. 98 (2H, ΐ) ， 1. 97 (3H， d) , 1.
74 (2H， m) ， 1. 29 (2H， m) ， 0. 9 1 (3H, t) 融点： 1 3 2〜 1 3 3 °C"
実施例 2 4
1 - t e r tーブチルー 5—ヒドロキシー 4ーメチルー 3—トリフルォロメチル 一 1 H—ピラゾール （本発明化合物番号 04 3)
1 H— NMR値 （CDC 1 3 /TMS δ (p m) ) ： 5. 4 5 (1 H, b r) , 1. 9 7 (3H， d) , 1. 6 0 (9H, s )
融点： 1 5 9〜 1 6 0°C
• 実施例 2 5
5—ジフルォロメ トキシー 4ーメチルー 1ーェチルー 3—トリフルォロメチルー 1 H—ビラゾール （本発明化合物番号 0 8 0)
_ 1 H— NMR値 (CDC 1 a /TMS δ (p pm) ) ： 6. 4 9 (1 H， t , J = 7 1. 9 H z) ， 4. 1 0 (2H, q) ， 2. 0 7 ( 3 H， d) ， 1. 4 2 (3 H, t )
沸点： 8 8〜 9 l°C/3. 7 3 KP a (2 8mmH g)
屈折率 （nD 2 。'） ： 1. 3 9 7 1
実施例 2 6
1—ェチノレー 4ーメチノレー 5一 (2, 2, 2—トリフルォロエトキシ） - 3 - トリフルォロメチル一 1 H—ピラゾール （本発明化合物番号 0 8 3)
1 H— NMR値 （CDC 1 3 /TMS δ (p p m) ) : 4. 4 2 (2H， q) ， 4. 0 7 ( 2H, q) ， 2. 0 9 (3H, d) ， 1. 4 1 ( 3 H， t) 実施例 2 7
4ーメチノレー 1一 i s o—プロピル一 5— (2, 2, 2—トリフルォロェトキ シ） 一 3—トリフルォロメチル— 1 H—ピラゾール （本発明化合物番号 0 8 7') 1 H— NMR値 (CDC 1 a /TMS δ (p m) ) ： 4. 55 ( 1 H， m) ， 4. 4 1 (2H， q) , 2. 08 (3H, d) , 1. 45 (6H, d)
実施例 28
4ーメチノレー 1一 n—プロピル一 5— （2， 2， 2—トリフルォロエトキシ） 一 3—トリフルォロメチルー 1 H—ピラゾール （本発明化合物番号 090)
1 H— NMR値 (CDC 1 a /TMS δ (p p m) ) : 4. 41 (2H, q) ，
3. 9 7 (2H, t) ， 2. 09 (3H， d) ， 1. 84 (2H， m) , 0. 9 1 (3H, t)
実施例 29
1—n—プチルー 4ーメチルー 5 _ (2， 2, 2—トリフルォロエトキシ） 一 3 一トリフルォロメチルー 1 H—ピラゾール （本発明化合物番号 09 3 )
1 H— NMR値 （CDC 1 a /TMS 5 (p m) ) : 4. 41 (2H, q) ,
4. 00 (2Η, t) ， 2. 09 (3H， d) ， 1. 80 (2H, m) , 1. 3
0 (2H, m) , 0. 93 (3H, t)
実施例 30
1一 " e r t—ブチノレー 4ーメチノレー 5— （2， 2, 2—トリフルォロェトキ シ） 一 3—トリフルォロメチルー 1 H—ビラゾール （本発明化合物番号 102) 1 H— NMR値 （CDC 1 a /TMS δ (p m) ) ： 4. 43 (2H, q) , 2. 09 (3Η, d) ， 1. 59 (9H， s )
実施例 31
4ーェチル一 1ーメチルー 5—ジフルォロメ トキシー 3—トリフルォロメチルー 1 H—ビラゾール （本発明化合物番号 105)
1 H— NMR値 （CDC 1。 /TMS δ (p m) ) ： 6. 50 (1H, t， J PC漏 003/009762
49
= 71. 7H z) ， 3. 78 (3H, s) , 2. 51 (2H, q.) , 1. 15
(3H, t)
屈折率 （nD 2 。） ： 1. 4021
実施例 32
4一プロモメチルー 1ーメチノレー 5— (2, 2—ジフルォロエトキシ） 一3—ト リフルォロメチルー 1 H—ピラゾール （本発明化合物番号 153)
1 H— NMR値 （CDC 13 ZTMS 6 (p pm) ) : 6. 11 ( 1 H, t t, J = 3. 5, 54. 2Hz) , 4. 52 (2H, d t, J = 3. 5, 13. 5H z) , 4. 43 (2H， s ) , 3. 76 ( 3 H， s)
屈折率 （nD 2 。） ： 1. 4490
実施例 33
4ーブロモメチルー 1一メチル一 5— （2， 2， 2—トリフルォロエトキシ） 一 3—トリフルォロメチルー 1 H—ピラゾール （本発明化合物番号 154)
1 H— NMR値 (CDC 1 a /TMS δ (p m) ) ： 4. 68 (2H, q) ， 4. 41 (2H, s) , 3. 77 (3H, s)
屈折率 （nD 2 。） ： 1. 3872
実施例 34
4一プロモメチルー 5—ジフスレオロメ トキシー 1ーェチルー 3—トリフルォロメ チル— 1H—ピラゾール （本発明化合物番号 155)
1 H-NMRfg (CDC 13ノ TMS δ (p pm) ) ： 6. 73 ( 1 H, t, J = 71. 7H z) , 4. 40 (2H， s) , 4. 13 (2H， q) ， 1. 46
(3H, t)
実施例 35 ' 4ーブロモメチルー 1一 1: e r t—プチルー 5— (2, 2—ジフルォロェトキ シ） 一 3—トリフルォロメチルー 1 H—ビラゾール （本発明化合物番号 168) 1 H— NMR値 （CDC 13 ZTMS δ (p pm) ) : 6. 15 ( 1 H, t ΐ, J = 3. 7, 54. 1Hz) ， 4. 56 (2H, d t, J = 3. 7, 13. 4H z) , 4. 45 (2H, s) , 1. 60 ( 9 H, s) '
実施例 36
2— (5 - (2， 2—ジフルォロェトキシ) 一 1ーメチルー 3—トリフル'ォロメ チルー 1 H—ピラゾールー 4一ィルメチル） ーィソチォ尿素臭化水素酸塩 （本発 明化合物番号 199)
1 H— NMR値 （CD3 ODZTMS δ (p pm) ) ： 6. 26 ( 1 H, t t, J = 3. 4, 53. 9Hz) ， 4. 51 (2H, d t, J二 3. 2， 14. 1 H z) ， 4. 41 (2H, s) , 3. 78 (3H, s)
実施例 37
2一 (5— (2, 2, 2—トリフルォロェトキシ) 一 1ーメチルー 3—トリフノレ ォロメチルー 1H—ピラゾールー 4一ィルメチル） 一イソチォ尿素臭化水素酸塩 (本発明化合物番号 200)
融点： 128〜131°C
実施例 38
2- (5—ジフルォロメトキシー 1ーェチルー 3一トリフルォロメチルー 1H— ピラゾールー 4一ィルメチル） 一イソチォ尿素臭化水素酸塩 （本発明化合物番号 201)
融点： 139〜141°C
実施例 39 2一 (5—ジフルォロメ トキシー 1— i s o—プロピル一 3—トリフルォロメチ ルー 1H—ピラゾールー 4一ィルメチル） 一イソチォ尿素臭化水素酸塩 （本発明 化合物番号 204)
融点： 146〜148°C
実施例 40
(5—ジフルォロメ トキシー 1一 i s o—プロピル一 3—トリフルォロメチルー 1 H—ビラゾールー 4一ィル） 一メタンチオール （本発明化合物番号 223) 1 H— NMR値 （CDC 13 /TMS 5 (p pm) ) ： 6. 72 (1H, t， J = 72. 2Hz) ， 4. 60 ( 1 H, m) , 3. 62 (2H, s) , l. 46 (6H， d) 上記の化合物以外にも、 以下の表に化合物番号で示す化合物については、 物性 値や機器分析データを確認した。
表 1 2
Figure imgf000054_0001
以下に、 一般式 [ I ] で表される本発明化合物を中間体として用いた、 イソォ キサゾリン誘導体 （特開 2 0 0 2— 3 0 8 8 5 7号記载） の製造、 及ぴ当該ィソ ォキサゾリン誘導体の有する除草作用を説明する。
まず、 一般式 [ I ] で表される本発明化合物 （ピラゾール誘導体又はその塩） を用いた、 ィソォキサゾリン誘導体 （特開 2 0 0 2— 3 0 8 8 5 7号記載） の製 造について説明する。
I _
Figure imgf000055_0001
[26】
(式中、 R1、 R2、 R4、 R7、 R8及ぴ Xは前記と同じ意味を示し、 R9及ぴ R1 °は、 同一又は異なって、 水素原子、 アルキル基、 シクロアルキル基又はシク 口アルキルアルキル基を示す力、 或いは R9 と R1 ° とが一緖になって、 これらの 結合した炭素原子と共に C 3〜C 7のスピロ環を示し、 R1 1及び R1 2は、 同一 又ほ異なって、 水素原子、 アルキル基又はシクロアルキル基を示す力 \ 或いは R 1 1 と R1 2 とが一緒になつて、 これらの結合した炭素原子と共に C 3〜C 7のス ピロ環を示し、 さらに R9、 R1 °、 R1 1及び: 1 2はこれらの結合した炭素原 子と共に 5〜 8員環を形成することもできる。 R1 3 は C 1〜C4アルキル基.、 置 換されていてもよいフエニル基又は置換されていてもよいベンジル基を示し、 L はハロゲン原子、 C 1〜C4アルキルスルホニル基、 置換されていてもよいフエ ニルスルホニル基又は置換されていてもよいべンジルスルホニル基等の脱離基を 示す。 ）
以下、 上記の、 イソォキサゾリン誘導体の製造方法を、 各工程毎に説明する。 (工程 11 )
一般式 [23] で表されるスルフィド誘導体は、 一般式 [20] で表される化 合物と、 一般式 [21] で示される水硫ィヒナトリウム水和物を、 溶媒中又は溶媒 の非存在下で （好ましくは適当な溶媒中） 、 塩基の存在下反応させることにより 一般式 [22] で表されるメルカブタンの塩を反応系内で製造した後、 メルカプ タンの塩 [22] を単離することなく、 本発明化合物である一般式 [10] で表 されるハロゲン誘導体と反応させること （場合によっては不活性ガス雰囲気下で 行うか又は還元剤を添加することができる） によつて製造することができる。
(工程 12)
一般式 [25] で表されるスルホキシド誘導体は、 一般式 [23] で表される スルフィド誘導体と酸化剤を、 適当な溶媒中で反応させることにより製造するこ とができる。
(工程 13 )
一般式 [26] で表されるスルホン誘導体は、 一般式 [25] で表されるスル ホキシド誘導体と酸化剤を、 適当な溶媒中で反応させることにより製造すること ができる。
(工程 14) 一般式 [26] で表されるスルホン誘導体は、 適当な溶媒中、 一般式 [23] で表されるスルフィド誘導体と好適な酸化剤の量により、 一般式 [25] で表さ れるスルホキシド誘導体を単離することなく製造することができる。
(工程 15) .
一般式 [23] で示されるスルフィド誘導体は、 一般式 [24] で表される化 合物に対し、 本発明化合物である一般式 [13] で示されるメルカブタン誘導体 を、 溶媒中又は溶媒の非存在下で （好ましくは適当な溶媒中） 、 塩基の存在下で 反応させること （場合によっては不活性ガス雰囲気下で行うか又は還元剤を添加 することができる） により製造することができる。 本発明化.合物である一般式
[13] で示されるメルカブタン誘導体は、 製造法 5工程 6又は工程 7の記載の 方法により反応系内において製造し使用することもできる。
次に、 参考例をあげて、'一般式 [I] で表される本発明化合物を用いた、 イソ ォキサゾリン誘導体 （特開 2002— 308857号記載） の製造を具体的に説 明する。
<参考例 1>
3—（5—ジフルォロメトキシ一 1ーメチル一 3—トリフルォロメチル— 1H— ピラゾ一ルー 4ーィルメチルチオ）一 5， 5—ジメチル— 2一イソォキサゾリンの
1) 3—エタンスルホニルー 5, 5—ジメチルー 2—イソォキサゾリン 6. 7 g (35. 0ミリモル）の N, N—ジメチルホルムアミド 50ml溶液に、 水硫化 ナトリウム 5. 6 g (純度 70%、 70. 0ミリモル）を加え， 室温にて 1時間攪 拌した。 その後炭酸カリウム 4. 8 g (35. 0ミリモル） 及び 4一プロモメチ ルー 5—ジフルォロメトキシー 1ーメチルー 3—トリフルォロメチルー 1 H—ピ ラゾール 10. 8 g (35. 0ミリモル） を加え室温にて一夜攪拌した。 応終 了確認後、 反応溶液を水に注ぎ、 酢酸ェチルで抽出した。 得られた有機層を水お ょぴ食塩水で洗浄後、 無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 減圧下溶媒を留去し、 残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し白色結晶 （融点： 39〜 40°C) の 3—（5—ジフルォロメ トキシー 1ーメチルー 3—トリフルォロメチル ― 1 H—ピラゾーノレ一 4一^ ノレメチノレチォ）一 5， 5ージメチノレー 2 {ソォキサ ゾリン 7. 3 g (収率 57. 9 %)を得た。
1 H— NMR値 (CDC 1 a /TMS δ ( p m) ) ： 6. 72 (1H, t, J = 72. OH z) , 4. 19 (2H, s ) ， 3. 81 (3H, s ) ， 2. 78 (2H, s) , 1. 42 (6H, s)
2) 2 - (5—ジフルォロメ トキシ一 1ーメチルー 3—トリフルォロメチルー 1H—ピラゾールー 4一ィルメチル） 一イソチォ尿素臭化水素酸塩 1. 93 g
(5. 00ミリモル） のエタノーノレ 1 Om 1溶液中に、 水酸ィ匕ナトリウム 0. 4 8 g (1 2. 00ミリモル） 及ぴ水 10m lを加え室温にて 30分間攪拌した。 そこへ 3 _クロロー 5， 5—ジメチルー 2—イソォキサゾリン 0. 67 g (5. 00ミ リモル） を室温にて加え、 さらに還流下 12'時間攪拌した。 反応終了確認 後、 溶媒を減圧下留去した。 得られた残渣を水中にあけ、 酢酸ェチルにて抽出し た。 得られた有機層を水洗し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 減圧下溶媒を 留去し、 残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し 3—（5—ジフル ォロメ トキシー 1ーメチルー 3一トリフノレオロメチルー 1 H—ピラゾールー 4一 ィルメチルチオ）一 5, 5ージメチルー 2—ィソォキサゾリン 1. 02 g (収率 5 6. 7%)を得た。
3) 2— ( 5ージフルォロメ トキシー 1ーメチル一 3—トリフノレオロメチノレー 1H—ピラゾールー 4一^ fルメチル） 一イソチォ尿素臭化水素酸塩 1. 93 g (5. 00ミリモル） のェタノール 10ml溶液中に、 無水炭酸力リウム 0. 8 3 g (6. 00ミリモル） 及ぴ水 5 m 1を加え室温にて 30分間攪拌した。 そこ へ 3—エタンスルホニルー 5， 5—ジメチルー 2—イソォキサゾリン 0. 95 g ( 5. 00ミリモル） の N, N—ジメチルホルムアミド 5 m 1溶液及び無水炭酸 カリウム 0. 83 g (6. 00ミリモル） を室温にて加え、 さらに 50°Cにて 3 時間攪拌した。 反応終了確認後、 溶媒を減圧下留去した。 得られた残渣を水中に あけ、 酢酸ェチルにて抽出した。 得られた有機層を水洗し、 無水硫酸マグネシゥ ムで乾燥した。 減圧下溶媒を留去し、 残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ フィ一にて精製し 3—（5—ジフルォロメ トキシー 1ーメチルー 3—トリフルォロ メチルー 1 H-ピラゾールー 4一ィルメチルチオ)一 5， 5—ジメチルー 2—イソ ォキサゾリン 1. 55 g (収率 86. 1%)を得た。
<参考例 2 >
3—（5—ジフルォロメ トキシー 1ーメチルー 3—トリフルォロメチルー 1 H- ピラゾールー 4ーィルメタンスルフィニノレ）一 5， -5ージメチノレー 2一^ f ソォキサ ゾリンの製造
3—（5—ジフノレオロメ トキシー 1ーメチノレー 3—トリフルォロメチルー 1 H— ピラゾールー 4一ィルメチルチオ）一 5 , 5—ジメチノレー 2—ィソォキサゾリン 6. 2 g (17. 3ミリモル）のク口口ホルム 40ml溶液に、 氷冷下、 m—ク口 口過安息香酸 3. 4 g (純度 70%, 13. 8ミリモル） を加え 1時間攪拌し た。 その後、 さらに室温で 3時間攪拌した。 反応終了確認後、 反応溶液を水に注 ぎクロ口ホルムで抽出した。 得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、 炭 酸水素ナトリウム水溶液、 水及ぴ食塩水で順次洗浄した後、 無水硫酸マ： ムで乾燥した。 減圧下溶媒を留去し、 得られた固体を n—へキサンで洗浄し， 白 色粉末 （融点： 1 1 2〜1 1 4°C) の 3—（5—ジフルォロメトキシー 1一メチル 一 3—トリフルォロメチルー 1 H—ピラゾールー 4ーィルメタンスルフィニル）一 5, 5—ジメチル一 2—イソォキサゾリン 4. 1 § (収率6 3. 2 %)を得た。 1 H— NMR値 (CDC 1 3 /TMS δ (p p m) ) ： 6. 9 5 ( 1 H， q， J = 6 9. 5， 7 4. 4H z) ， 4. 1 6 (2 H， s ) ， 3. 8 5 (3H, s ) ， 3. 1 1 (2H, q, J = 1 7. 2H z) , 1. 5 2 (6 H, d, J = 5. 5 H z)
<参考例 3 >
3—（5—ジフルォロメ トキシー 1ーメチノレー 3一トリフルォロメチル一 1 H— ピラゾールー 4ーィルメタンスルホニル)一 5， 5ージメチルー 2—ィソォキサゾ リンの製造
3—（5—ジフルォロメ トキシー 1ーメチルー 3—トリフルォロメチルー 1 H— ピラゾ一ルー 4ーィルメチルチオ）一 5， 5—ジメチルー 2—ィソォキサゾリン 7. 3 g (2 0. 3ミリモノレ）のクロ口ホルム 5 Om 1溶液に、 氷冷下、 m—クロ 口過安息香酸 1 2. 5 g (純度 7 0%, 5 0. 8ミリモル） を加え 1時間攪拌し た。 その後、 さらに室温で一夜攪拌した。 反応終了確認後、 反応镕液を水に注ぎ クロ口ホルムで抽出した。 得られた有機層を亜硫酸水素ナトリゥム水溶液、 炭酸 水素ナトリウム水溶液、 水及ぴ食塩水で順次洗浄した後、 無水硫酸マグネシウム で乾燥した。 減圧下溶媒を留去し、 得られた固体を n—へキサンで洗浄し， 白色 粉末 (融点： 1 2 9〜 1 3 0 °C) の 3—（ 5—ジフルォロメ トキシー 1ーメチルー 3—トリフルォロメチル一 1 H—ビラゾール一 4一ィルメタンスノレホニル)一 5 , 5—ジメチル一 2—イソォキサゾリン 6. 4 g (収率 8 0. 6%)を得た。 1 H— NMR値 （CDC 1 a /TMS δ (p p m) ) : 6.83 (1H， t， J = 71. 9H z) , 4. 60 (2H, s ) , 3. 88 (3H， s) ， 3. 1 1
(2H, s) , 1. 52 (6H， s)
<参考例 4〉
3—（5—ジフルォロメ トキシー 1ーェチルー 3—トリフルォロメチルー 1H— ピラゾーノレ一 4一イノレメタンスノレホニノレ）一 5, 5—ジメチノレ一 2—ィソォキサゾ リン
融点： 98〜 100 °C
1 H— NMR値 （CDC 13 /TMS δ (p p m) ) : 6.83 (1 H, t , J 二 72. 0Hz) , 4. 60 (2H, s) ， 4. 19 (2H, q) , 3. 1 1 (2 H， s ) , 1. 51 (6H, s) , 1. 49 (3H， s )
<参考例 5〉
3— (5—ジフルォロメ トキシー 1一 i s o一プロピル一 3—トリフノレオロメチ ルー 1 H—ピラゾールー 4一ィルメタンスノレホニノレ) -5, 5—ジメチノレー 2ーィ ソォキサゾリン
屈折率 （nD 2 。） ： 1.4621
1 H— NMR値 （CDC 13 /TMS δ (ρ ρ m) ) : 6.83 (1 Η, t , J = 72. 1 Η ζ) , 4. 70 (1 Η, m) , 4. 60 (2Η, s) ， 3. 1 0 (2Η， s) ， 1. 52 (6Η, s) , 1. 49 (6Η， s)
く参考例 6〉
3— (5—ジフルォロメ トキシー 1一 n—プロピル一 3—トリフルォロメチル一 1 H—ビラゾールー 4一^ fルメタンスルホ -ル)一 5， 5—ジメチル一 2ーィソォ キサゾリン 屈折率 （nD 2 o ) ： 1. 4 6 2 9
1 H. - NMR値 (CDC 1 3 /TMS δ (p p m) ) : 6. 8 2 (1H, t, J = 7 1. 7 H z) , 4. 6 0 (2H， s ) ， 4. 0 9 (2H, t) ， 3. 1 0 (2H， s ) , 1. 9 2 (2H, m) ， 1. 5 2 (6 H, s ) ， 0. 9 4 (3 H, t)
く参考例 7 > .
3—（ 1一 i s o一プチルー 5ージフルォロメ トキシー 3—トリフルォロメチル ― 1 H-ピラゾーノレ一 4ーィルメタンスルホニノレ）一 5， 5ージメチノレー 2—ィソ ォキサゾリン
屈折率 （nD 2 。 ） ： 1. 4 6 0 1
1 H— NMR値 (CDC 1 3 /TMS δ (p pm) ) : 6. 8 1 (1 H， t , J = 7 1. 7 H z) , 4. 6 0 (2H, s ) , 3. 9 4 (2H, d) ， 3. 1 0 (2H, s ) , 2. 3 0 (1 H， m) , 1. 5 1 (6 H, m) , 0. 9 2 (6 H， d)
く参考例 8 > '
3— (5—ジフノレオ口メ トキシー 1ーメチルー 3—トリフルォロメチルー 1 H— ピラゾーノレ一 4一ィルメタンスルホニノレ)一 5ーェチノレ一 5—メチル一 2一^ {ソォ キサゾリン
融点： 7 7〜 7 8 °C
1 H— NMR値 （CDC 1 3 ZTMS δ (ρ pm) ) : 6. 8 3 (1 Η, t， J = 7 1. 9 H z) ， 4. 6 0 (2H, s ) , 3. 8 8 (3H， s) , 3. 0 9 (2H， AB q, J = l 7. 4H z , Δ ν = 4 6. 7H z) , 1. 7 8 (2H, q) , 1. 4 7 (3H, s ) ， 0. 9 8 (3H， t) <参考例 9>
3—（5—ジフルォロメ トキシー 1ーメチノレー 3—トリフルォロメチルー 1 H— ピラゾーノレ一 4ーィノレメタンスルホニル）一 5—メチル一 5ーシク口プロピル一 2 一イソォキサゾリン
融点： 96〜 98 °C
1 H— NMR値 （CDC 13 /TMS δ (p p m) ) : 6.83 ( 1 H, t, J = 71. 9Hz) , 4. 59 (2H, s) , 3. 88 (3H, s) ， 3. 13 (2H, AB q， J = 17.3H z , Δ v = 53.4 H z ) , 1. 48 (3H, s) ， 1. 14 (1H, m) , 0. 36〜0. 58 (4H, m)
<参考例 10>
7—（5 -ジフルォロメトキシー 1ーメチルー 3—トリフルォロメチルー 1 H— ピラゾ一ルー 4ーィルメタンスルホニル）一 5一ォキサ一 6—ァザスピロ [3. 4] ー6—ォクテン
融点： 149〜1 5 1°C
1 H— NMR値 （CDC 13 ZTMS δ (p pm) ) : 6.83 ( 1 Η, t, J = 71. 9Hz) , 4. 58 ( 2 H, s) ， 3. 87 (3H， s) , 3. 40 (2H, s) ， 2. 62 (2H， m) ， 2. 27 (2H， m) , 1. 9 1 (1 H, m) , 1. 67 (1H, m)
<参考例 1 1〉
3—（5—ジフルォロメトキシー 1ーメチルー 3—トリフルォロメチルー 1 H— ピラゾーノレ一 4ーィルメタンスノレホニノレ）一 2ーィソォキサゾリン
融点： 1 15〜 1 1 7°C
1 H— NMR値 （CDC 1。 /TMS δ (p p m) ) : 6.83 ( 1 H, t, J = 71. 7H z) , 4. 66 (2H， t) ， 4. 61 (2H, s ) , 3. 88
(3H， s) , 3. 37 (2H， t) '
く参考例 12 >
6—（5—ジフルォロメ トキシー 1ーメチルー 3—トリフルォロメチルー 1 H— ピラゾーノレ一 4ーィルメタンスノレホニル) 一 4ーォキサ一 5—ァザスピロ [2. 4] 一 5—ヘプテン
'融点： 125〜 126 °C
1 H— NMR値 （CDC 13 ZTMS δ (p pm) ) : 6.83 ( 1 Η, t， J = 71. 9Hz) , 4. 61 (2H， s) ， 3. 88 ( 3 H, s) , 3. 42 (2H， s) ， 1. 31 (2H, t) ， 0. 91 (2H， t)
<参考例 13 >
3— [ 1—(5—ジフルォロメ トキシー 1ーメチル一 3—トリフルォロメチルー 1 H—ピラゾーノレ一 4ーィノレ）一エタンスノレホニノレ] 一 5 , 5ージメチルー 2一^ { ソォキサゾリン
屈折率 （nD 2 。） ： 1.4657
1 H— NMR値 （CDC 13 /TMS δ (p p m) ) ： 6.92 ( 1 H, m) , 4. 83 (1 H, q) ， 3. 88 (3H, s) ， 3. 07 (2H, d) , 1. 8 3 (3H, d) ， 1. 50 (6H, d)
ぐ参考例 14 >
3—（5—ジフルォロメ トキシー 1ーメチルー 3—トリフルォロメチルー 1 H- ピラゾーノレー4一イノレーメタンスノレホニノレ）一 3 a, 4， 5， 6， 7, 7 a一へキ サヒドローべンゾ [d] イソォキサゾール
融点： 97〜 98 °C 1 H— NMR値 （CDC 13 /TMS δ (p pm) ) : 6.84 ( 1 H, t， J = 72. OHz) , 4. 69 ( 1 H, m) , 4. 61 (2H, s) ， 3. 88
(3H， s) ， 3. 48 (1H， m) , 1. 26〜 2. 17 (9H, m)
<参考例 15 >
3—（5—ジフルォロメ トキシー 1ーメチルー 3—トリフルォロメチルー 1H— ピラゾーノレ一 4一イノレメタンスノレホェノレ）一 5ーメチルー 2一^ {ソォキサゾリン 融点： 106〜107°C
1 H— NMR値 （CDC 13 /TMS δ (ρ pm) ) : 6. 83 ( 1 Η, t， J = 71. 9Hz) ， 5. 05 (1Η， m) , 4. 60 (2Η， s ) , 3. 88 (3Η, s) , 3. 44 (1Η, d d) ， 2. 96 (1Η, d d) , 1. 48 (3H, d)
<参考例 16〉
3— (5—ジフルォロメ トキシ一 1ーメチルー 3一トリフルォロメチルー 1 H— ビラゾール '一 4一イノレメタンスノレホニル'）— 5 - i s o—プロピノレー 2—^ {ソォキ サゾリン
融点： 85〜 86 °C .
1 H— NMR値 （CDC 13 /TMS δ (p pm) ) : 6.83 (1H， t , J = 71. 7Hz) , 4. 67 ( 1 H, m) , 4. 59 (2H， s) , 3. 88 (3H, s) , 3. 30 (1H， d d) ， 3. 08 (1H， d d) ， 1. 97 (1 H, m) , 0. 98 (6H, d d)
ぐ参考例 17〉
3—（5—ジフルォロメ トキシー 1ーメチルー 3—トリフルォロメチルー 1 H— ピラゾールー 4ーィルメタンスルホニル）一 4， 5, 5—トリメチノレ一 2—イソォ キサゾリン
屈折率 （nD 2 。） ： 1.4646
1 H - NMR値 （CDC 13 /TMS δ (p pm) ) : 6.84 (1H, t, J = 71. 9H z) , 4. 61 (2H, q) ， 3. 88 (3H, s) ， 3. 36 (1H, q) , 1. 44 (3H， s) ， 1. 38 (3H, s) , 1. 30 (3 H, d)
<参考例 18>
3一（5—ジフルォロメトキシー 1ーメチルー 3—トリフルォロメチルー 1H— ピラゾールー 4ーィノレメタンスルホニル)一 4ーメチルー 2ーィソォキサゾリン 屈折率 （nD 2 。） ： 1.4673
1 H— NMR値 (CDC 13 /TMS δ (p p m) ) : 6.83 ( 1 H, t , J = 71. 8H z) , 4. 71 (1 H, t) , 4. 62 (2H, q) ， 4. 25 (1H, t) ， 3. 88 (3H, s) ， 3. 81 (1H, m) , 1. 44 (3 H， d)
く参考例 19 >
3 - [1一（5—ジフルォロメトキシー 1ーメチルー 3—トリフルォロメチルー 1 H—ピラゾーノレ一 4ーィノレ）一プロパン一 1ースノレホニノレ] 一 5， 5—ジメチル- ー 2—イソォキサゾリン
屈折率 （nD 2 。） ： 1.4669
1 H— NMR値.（CDC 13 /TMS δ (p pm) ) : 6.91 (1H， t , J = 72. 9Hz) ， 4. 60 (1H, q) ， 3. 89 (3H, s) , 3. 05 (2H， d) ， 2. 30 (2H, m) , 1. 49 (6H, d) , 0. 94 (3 H, t) PC漏聽 09762
65 く参考例 2 0 >
3一 [5 - (2， 2， 2—トリフルォロエトキシ） ― 1ーメチルー 3—トリフ ノレオロメチルー 1 H—ピラゾーノレ一 4ーィノレメタンスノレホニノレ] — 5， 5ージメ チルー 2—ィソォキサゾリン .
融点： 9 3〜 9 5 °C
1 H— NMR値 （CDC 1 a /TMS δ (p p m) ) ： 4. 6 8 ( 2 H, q) , 4. 5 9 (2H, s ) ， 3. 8 4 (3 H， s ) ， 3. 1 2 (2 H, s ) , 1. 5 3 (6H, s )
く参考例 2 1 >
3— [5— (2, 2—ジフルォロエトキシ) 一 1ーメチルー 3—トリフルォロ メチルー 1 H—ピラゾールー 4一ィルメタンスルホニル」 一 5 , 5ージメチノレー 2—ィソォキサゾリン
融点： 8 9〜 9 1 °C
1 H - NMR値 （CD C 1 3 /TMS δ (p pm) ) : 6. 1 1 ( 1 H, t t , J = 3. 5, 5 4. 4H z) , 4. 5 8 (2 H, s) ， 4. 4 8 (2H, d t , J二 3. 7, 1 5. 3 H z) ， 3. 8 8 (3 H， s ) ， 3. 1 1 (2H, s ) ， 1. 5 2 (6 H， s )
く参考例 2 2〉
3— [ 1— t e r t—プチル一 5— （2， 2—ジフルォロエトキシ） 一 3—ト リフルォロメチノレー 1 H—ピラゾール一 4ーィノレメタンスルホ二ノレ] 一 5, 5一 ジメチルー 2—ィソォキサゾリン
1 H— NMR値 （CDC 1 3 /TMS δ (p p m) ) : 6. 1 4 ( 1 H, t t , J = 3. 9 , 5 4. 4H z) , 4. 6 1 (2H， s ) , 4. 5 4 (2H, d t , J = 3. 6, 13. 4Hz) ， 3. 08 (2H, s ) ， 1. 63 (9H, s) ， 1. 51 (6H, s )
<参考例 23 >
3— [5— （2， 2—ジフノレオ口エトキシ） 一 1一 i s o—プロピノレー 3—ト リフルォロメチルー 1 H—ピラゾール一 4ーィルメタンスルホニル] ― 5 , 5― ジメチルー 2ーィソォキサゾリン
融点： 8.8〜 89 °C
1 H— NMR値 （CDC 13 ZTMS 5 (p pm) ) : 6.11 (1H, t ΐ, J = 3. 4, 54. 6Hz) ， 4. 58〜 4. 65 (3H， m) , 4. 47 (2 H, d t, J = 3. 7, 13. 4Hz) ， 3. 10 (2H， s) , 1. 52 (6 H， s ) , 1. 46 (6 H, d)
ぐ参考例 24 >
3― [1ーェチノレー 5— (2, 2—ジフノレオ口エトキシ） 一 3—トリフノレオ口 メチルー 1 H—ピラゾールー 4ーィルメタンスルホニル] 一 5， 5—ジメチノレー 2—ィソォキサゾリン
屈折率 （nD 2 。） ： 1.4687
1 H— NMR値 （CDC 13 /TMS δ (p pm) ) : 6.11 (1H, t t , J = 3. 7， 54. 5Hz) ， 4. 58 (2H, s) , 4. 48 ( 2 H, d t , J = 3. 7, 13. 4Hz) , 4. 16 (2H, q) , 3. 10 (2H， s) ， 1. 52 (6H, s ) ， 1. 47 ( 3 H, t)
<参考例 25 >
3— [5 - (2, 2—ジフルォロエトキシ） 一 1一 n—プロピル一 3—トリフ ルォロメチルー 1 H—ピラゾールー 4—ィルメタンスルホニル] —5, 5—ジメ チル一 2—ィソォキサゾリン
屈折率 （n D 2 。） ： 1.4658
1 H— NMR値 （CDC 13 /TMS δ ( p m) ) : 6. 11 (1H, t t , J = 3. 7, 54. 3Hz) , 4. 59 (2H, s) , 4. 47 (2H, d t， J = 3. 7， 1 3. 5H z) , 4. 04 (2H, t) , 3. 09 (2H， t) ， 1. 90 (2H, m) , 1. 52 (6H， s) , 0. 94 ( 3 H, t)
<参考例 26〉
3— [5— (2, 2, 2—トリフルォロエトキシ） 一 1一 i s o—プロピノレー 3—トリフルォロメチルー 1 H—ピラゾールー 4ーィルメタンスルホニル] ― 5, 5—ジメチルー 2—イソォキサゾリン
融点： 109〜110°C
1 H—； NMR値 （CDC 13 /TMS δ (p p m) ) ： 4. 55〜4. 70 (5 H, m) ， 3. 1 1 (2H， s) ， 1. 52 (6H, s) , 1. 49 ( 6 Η, d)
<参考例 27>
3一 [5— (2, 2, 2—トリフルォロェトキシ) 一 l— n—プロピノレー 3— ト リ フノレオロメチノレ一 1H—ピラゾーノレ一 4ーィノレメタンスノレホニノレ] 一 5， 5 一ジメチルー 2ーィソォキサゾリン
融点： 49〜 51 °C
1 H— NMR値 （CDC 13 /TMS δ (p p m) ) : 4. 68 (2H， q) , 4. 59 (2H， s) ， 4. 04 (2H, ΐ) , 3. 1 1 (2H, s) , 1. 8 8 (2H, m) , 1. 52 (6H, s) ， 0. 94 (3H, t)
く参考例 28 > 3— [1— n—プチルー 5— (2, 2， 2—トリフルォロエトキシ） 一 3—ト リフノレオロメチルー 1H—ピラゾーノレ一 4—ィルメタンスルホ二ノレ] 一 5 , 5一 ジメチルー 2—ィソォキサゾリン
屈折率 （nD 2 。） : 1.4533
1 H— NMR値 (CDC 13 /TMS δ (p p m) ) : 4. 67 (2H, q) ， 4. 59 (2H, s) ， 4. 07 (2H, t) ， 3. 10 (2H， s) , 1. 8 4 (2H, m) , 1. 52 (6H, s) , 1. 35 (2H, m) , 0. 95 (3 H, t )
<参考例 29〉 ' .
3― [ 1ーェチルー 5一 (2, 2, 2—トリフルォロエトキシ） 一 3—トリフ ルォロメチルー 1 H—ピラゾールー 4—ィルメタンスルホニル] -5, 5—ジメ チルー 2ーィソォキサゾリン
融点： 84〜 86 °C
1 H— NMR値 （CDC 1 a /TMS δ (p p m) ) : 4. 68 (2H, q) ， 4. 59 (2H, s) , 4. 14 (2H, q) , 3. 1 1 (2H, s) , 1. 5 2 (6H, s) , 1. 47 (3H， t)
<参考例 30 >
3— [1一 ΐ e r t—ブチルー 5— （2， 2, 2—トリフノレォロェトキシ） 一 3—トリフノレオ口メチルー 1 H-ピラゾールー 4一ィルメタンスルホニル] ― 5， 5—ジメチルー 2—^ f ソォキサゾリン
融点： 91〜 92 °C
1 H— NMR値 （CDC 13 /TMS δ (ρ pm) ) : 4. 77 (2Η, q), 4. 60 (2Η, s) ， 3. 11 (2H, s) ， 1. 63 (9H, s) , 1. 5 2 (6H, s ) 続いて、 一般式 [I] で表されるピラゾール誘導体又はその塩 （本発明化合 物） を用いることにより製造しうる、 一般式 [26]で示される化合物 （特開 20 02- 308857号記載のィソォキサゾリン誘導体） の示す除草作用について 説明する。
一般式 [26]で示される化合物 （特開 2002-308857号記載のィソォ キサゾリン誘導体） を除草剤として使用するには、 それ自体で用いてもよいが、 製剤化に一般的に用いられる担体、 界面活性剤、 分散剤または補助剤等を配合し て、 粉剤、 水和剤、 乳剤、 フロアブル剤、 微粒剤または粒剤等に製剤して使用す ることもできる。
製剤化に際して用いられる担体としては、 例えばタルク、 ベントナイト、 ク レー、 カオリン、 珪藻土、 ホワイ トカーボン、 バーミキユラィ ト、 炭酸カルシゥ ム、 消石灰、 珪砂、 硫安、 尿素等の固体担体、 イソプロピルアルコール、 キシレ ン、 シクロへキサン、 メチルナフタレン等の液体担体等があげられる。
界面活性剤及び分散剤としては、 例えばアルキルべンゼンスルホン酸金属塩、 ジナフチルメタンジスルホン酸金属塩、 アルコール硫酸エステル塩、 アルキルァ リ一ルスルホン酸塩、 リグニンスルホン酸塩、 ポリオキシエチレングリコ一ノレ エーテル、 ポリオキシエチレンァノレキノレアリールエーテル、 ポリオキシエチレン ソルビタンモノアルキレート等があげられる。 補助剤としては、 例えばカノレポキ シメチルセルロース、 ポリエチレングリコール、 アラビアゴム等があげられる。 - 使用に際しては適当な濃度に希釈して散布するかまたは直接施用する。
一般式 [26]で示される化合物は茎葉散布、 土壌施用または水面施用等により 使用することができる。 有効成分の配合割合については必要に応じて適宜選ばれ るが、 粉剤または粒剤とする場合は 0. 01〜10% (重量） 、 好ましくは 0.
05〜5% (重量） の範囲から適宜選ぶのがよい。 乳剤及ぴ水和剤とする場合は
1〜 50 % (重量） 、 好ましくは 5〜 30 % (重量） の範囲から適宜選ぶのがよ い。 また、 フロアブル剤とする場合は 1〜 40 % (重量） 、 好ましくは 5〜 3
0% (重量） の範囲から適宜選ぶのがよい。
一般式 [26]で示される化合物の除草剤としての施用量は、 使用される化合物 の種類、 対象雑草、 発生傾向、 環境条件ならびに使用する剤型等によってかわる 力 粉剤及び粒剤のようにそのまま使用する場合は、 有効成分として 1ヘクター ル当り 1 g〜50 k g, 好ましくは 10 g〜l 0 k gの範囲から適宜選ぶのがよ レ、。 また、 乳剤、 水和剤及ぴフロアプル剤とする場合のように液状で使用する場 合は、 0. 1〜50, 000 p 、 好ましくは 10〜： 10， O O O p pmの範 囲から適宜選ぶのがよい。
また、 一般式 [26]で示される化合物は必要に応じて殺虫剤、 殺菌剤、 他の除 草剤、 植物生長調節剤、 肥料等と混用してもよい。
次に代表的な製剤例をあげて製剤方法を具体的に説明する。 化合物、 添加剤の 種類及ぴ配合比率は、 これのみに限定されることなく広レ、範囲で変更可能であ る。 以下の説明において 「部」 は重量部を意味する。
く参考製剤例 1〉 水和剤
一般式 [26]で示される化合物の 10部にポリオキシエチレンォクチルフエ二 ルエーテルの 0. 5部、 β一ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム 塩の 0. 5部、 珪藻土の 20部、 クレーの 69部を混合粉碎し、 水和剤を得た。 く参考製剤例 2〉 フロアプル剤 粗粉碎した一般式 [ 2 6 ]で示される化合物の 2 0部を水 6 9部に分散させ、 ポ リオキシエチレンスチレン化フエニルエーテル硫酸塩 4部、 エチレングリコール 7部を加えるとともにシリコーン A F— 1 1 8 N (旭化成工業株式会社製） を製 剤に対し 2 0 0 p p m加え、 高速攪拌機で 3 0分間混合した後、 湿式粉砕機で粉 碎しフロアプル剤を得た。
ぐ参考製剤例 3 > 乳剤
一般式 [ 2 6 ]で示される化合物の 3 0部にキシレンとイソホロンの等量混合物 6 0部、 界面活性剤ポリオキシエチレンソルビタンアルキレート、 ポリオキシェ チレンアルキノレアリ一ルポリマー及び Tルキルァリ一ルスルホネートの混合物の 1 0部を加え、 これらをよくかきまぜることによって乳剤を得た。
く参考製剤例 4〉 粒剤
一般式 [ 2 6 ]で示される化合物の 1 0部、 タルクとベントナイトを 1 ： 3の割 合の混合した増量剤の 8 0部、 ホワイトカーボンの 5部、 界面活性剤ポリオキシ マー及ぴアルキルァリールスルホネートの混合物の 5部に水 1 0部を加え、 よく 練ってペースト状としたものを直径 0 . 7 mmのふるい穴から押し出して乾燥し た後に 0 . 5〜 l mmの長さに切断し、 粒剤を得た。
次に試験例をあげて一般式 [ 2 6 ]で示される化合物の奏する効果を説明する。 ぐ参考試験例 1 > 水田土壌処理による除草効果試験
1 0 0 c m2プラスチックポットに水田土壌を充填し、 代搔後、 タイヌビエ、 コ ナギの種子を播種し、 7深 3 c mに湛水した。 翌日、 製剤例 1に準じて調製した 水和剤を水で希釈し、 水面滴下した.。 施用量は、 有効成分を、 1ヘクタール当り 2 5 0 g又は 1 0 0. 0 gとした。 その後、 温室内で育成し、 処理後 2 1日目に、 表 1 3の基準に従って除草効果を調査した。 結果を表 1 4に示す。
Figure imgf000074_0001
表 1 4
Figure imgf000074_0002
く参考試験例 2 > 畑地土壌処理による除草効果試験
8 0 c m2プラスチックポットに畑土壌を充填し、 ィヌビエ、 エノコロダサの種 子を播種して覆土した。 製剤例 1に準じて調製した水和剤を水で希釈し、 1へク タール当り有効成分が 2 5 0 g又は 1 0 0 0 gになる様に、 1ヘクタール当り 1 0 0 0 1を小型噴霧器で土壌表面に均一に散布した。 その後、 温室内で育成し、 処理 2 1日目に、 表 1 3の基準に従って、 除草効果を調査した。 結果を表 1 5 示す。 ·
表 1 5
Figure imgf000075_0001
<参考試験例 3 > 畑地茎葉処理による除草効果試験
8 0 c m2プラスチックポットに砂を充填し、 ィヌビエ、 ェノコログサの種子を '播種し、 温室内で 2遍間育成後、 製剤例 1に準じて調製した水和剤を水に希釈 し、 1ヘクタール当り有効成分が 2 5 0 g又は 1 0 0 0 gになる様に、 1へク タール当り 1 0 0 0 1を小型噴霧器で植物体の上方から全体に茎葉散布処理し た。 その後、 温室内で育成し、 処理 1 4日目に、 表 1 3の基準に従って、 除草効 果を調査した。 結果を表 1 6に示す。 TJP2003/009762
74 表 1 6
Figure imgf000076_0001
産業上の利用分野
本発明により、 優れた除草作用を有するイソォキサゾリン誘導体 （特開 200 2- 3 08 8 5 7号記載） の製造中間体として有用な、 一般式 [ I ] で表される ピラゾール誘導体又はその塩が提供される。 本発明化合物を製造中間体として利 用することによって、 優れた除草作用を有する前記特開 200 2- 3 08 8 5 7 号記載のイソォキサゾリン誘導体を、 より短い工程 （より少ない工程数） で、 全 工程収率良く、 簡便に製造することが可能となるので、 本発明化合物の価値は高 い。

Claims

請 求 の 範 囲
1. 一般式 [ I ]
Figure imgf000077_0001
{式中、 ； 1 は、 C 1~C 6アルキル基を示し、 R2は、 C 1〜C3ハロアルキル 基示し、 R3 は、 水素原子、 下記置換基群 αから選ばれる 1個以上の置換基で置 換されていてもよい C 1〜C 3アルキル基又はホルミル基を示し、 R4 は、 水素 原子又は C 1〜C 3ハロアルキル基を示す （但し、 R3 が水素原子又はホルミル 基である場合、 R4は C 1〜C 3ハロアルキル基を示し、 R 3が下記置換基群 αか ら選ばれる 1個以上の置換基で置換されていてもよい C 1〜C 3アルキル基であ る場合、 R 4は水素原子又は C 1〜C 3ハロアルキル基を示す。 }
で表されるビラゾール誘導体又はその塩。
「置換基群 α」
ハロゲン原子、 一 SH基、 一 SC (二 ΝΗ) ΝΗ2基
2. R4が C 1〜C 3ハロアルキル基である請求項 1記載のピラゾール誘導体又 はその塩。
3. R3が C 1〜C3アルキル基であり、 R4が水素原子である請求項 1記載のピ ラゾール誘導体又はその塩。
4. R3が置換基群 αから選ばれる 1個以上の置換基で置換されていてもよいメ チル基である請求項 1記載のピラゾール誘導体又はその塩。
5. R 3がメチル基である請求項 1記載のピラゾール 導体又はその塩。
6. 76
Figure imgf000078_0001
[13 [3]
(式中、 R1及び R2は前記と同じ意味を示し、 R5 は C1〜C3アルキル基、 置 換されてもよいフヱニル基又は置換されてもよいベンジル基を示し、 R6 は C1 〜C 3アルキル基を示す。 ）
一般式 [1]で表される化合物と、 一般式 [2]で表される化合物とを反応さ せることを特徴とする、 一般式 [3]で表されるピラゾール誘導体の製造方法。
Figure imgf000078_0002
(式中、 I 1、 R2 、 R4及ぴ R6は前記と同じ意味を示し、 L1 はハロアルキル 化して残ったハロゲン原子より反応性の高い脱離基であり、 ハロゲン原子、 C1 〜C 3アルキルスノレホニノレォキシ基、 C 1〜C 3ノヽロアノレキノレスルホニルォキシ 基、 置換されていてもよいフエニルスルホニルォキシ基又は置換されていてもよ いべンジルスルホ-ルォキシ基等を示す。 ）
一般式 [4]で表される化合物と、 一般式 [5]で表される化合物とを、 塩基 の存在下で反応させることを特徴とする、 一般式 [6]で表されるピラゾール誘 導体の製造方法。
8
9
Figure imgf000079_0001
(式中、 R1 、 R2 、 R4及ぴ R6 は前記と同じ意味を示す。 ）
一般式 [4] で表される化合物とトリフエ-ルホスフィン、 一般式 [7] で表 される化合物及ぴァゾ化合物 [8] とを反応させることを特徴とする、 一般式 [6] で表されるビラゾール誘導体の製造方法。
Figure imgf000079_0002
(式中、 R1 、 R2及ぴ R4 は前記と同じ意味を示し、 R7及び： 8 は水素原子又 は C 1〜C 2アルキル基を示し、 Xはハロゲン原子を示す。 ）
一般式 [9] で表される化合物と、 ハ口ゲン化剤とを反応させることを特徴と する、 一般式 [10] で表されるピラゾール誘導体の製造方法。
10
Figure imgf000080_0001
[13]
(式中、 R1 、 R2 、 R4 、 R7、 8及び； Xは前記 同じ意味を示す。 ）
1
5
一般式 [10] で表される化合物と化合物 [1 1] とを ]応させることを特徴 とする、 一般式 [12] で表されるピラゾール誘導体の製造方法。 1 1. 上記 （10) に記載の一般式 [1 2] で表される化合物を加水分解反応さ せることを特徴とする、 請求項 10に記載の一般式 [13] で表されるピラゾー ル誘導体の製造方法。
12. 上記 （10) に記載の一般式 [10] で表される化合物と硫化物とを反応 させることを特徴とする、 請求項 10に記載の一般式 [13] で表されるビラ ゾール誘導体の製造方法。
3
Figure imgf000080_0002
[14] (ー式 1中、 R1及び R2は前記と同じ意味を示す。 )
8
一般 [14] で表される化合物をホルミル化させることを特徴とする、 —般 式 [15] で表されるピラゾール誘導体の製造方法。
4.
Figure imgf000081_0001
(式中、 R1 、 R2 、 R4及び L1 は前記と同じ意味を示す。 ） 一般式 [16] で表される化合物と、 一般式 [5] で表される化合物とを、 塩 基の存在下で反応させることを特徴とする、 一般式 [17] で表されるピラゾー ル誘導体の製造方法。
1 5. ハロメチル化
Figure imgf000081_0002
(式中、 R1 、 R2 、 R4及び： は前記と同じ意味を示す。 ）
—般式 [18] で表される化合物をハロメチルイ匕させることを特徴とする. 般式 [19] で表されるピラゾール誘導体の製造方法。
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