WO2003099912A1 - Feuille de resine et substrat de cellule a cristaux liquides comprenant ladite feuille de resine - Google Patents

Feuille de resine et substrat de cellule a cristaux liquides comprenant ladite feuille de resine Download PDF

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WO2003099912A1
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resin
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Yuuzou Akada
Toshiyuki Umehara
Nobuyoshi Yagi
Tadaaki Harada
Yoshimasa Sakata
Hidetoshi Yoshitake
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Nitto Denko Corporation
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Definitions

  • the present invention relates to a resin sheet, particularly a resin sheet useful for a liquid crystal cell substrate, and a liquid crystal cell substrate using the same.
  • a glass-based substrate has been used as a liquid crystal cell substrate for supporting a liquid crystal to form a liquid crystal cell in terms of strength and heat resistance.
  • the liquid crystal cell substrate has been required to be reduced in weight and thickness, and a resin sheet such as an epoxy resin has been proposed as a material replacing the glass-based substrate.
  • a resin sheet such as an epoxy resin has been proposed as a material replacing the glass-based substrate.
  • Such a resin sheet such as an epoxy resin may undergo thermal expansion or shrinkage / expansion due to the influence of moisture. This causes, for example, the position of an electrode or a color filter to be formed. There was a problem that displacement occurred. Therefore, in order to avoid such a problem, a spherical inorganic oxide having an average particle diameter of about 1 nm to 100 m is dispersed in the resin sheet, and a linear expansion coefficient of 5.00 ⁇ 10 — Attempts have been made to suppress the following (see, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 200-35031).
  • the resin sheet in which the above-mentioned spherical inorganic oxide is dispersed has a reduced strength, and for example, cracks and the like occur during transportation or when forming a liquid crystal panel, and the production efficiency is reduced. There was a problem in terms. Disclosure of the invention
  • an object of the present invention is to provide a resin sheet which is not affected by heat, is excellent in strength, and is excellent in transparency.
  • various display devices such as a liquid crystal display device, a solar cell and the like are provided. It is to provide a useful resin sheet for the substrate.
  • the resin sheet of the present invention includes an epoxy resin and a glass fiber cloth, and has a haze value of 10% or less.
  • the resin sheet of the present invention by containing the above-mentioned glass fiber cloth, can not only reduce the coefficient of linear expansion but also exhibit excellent strength and also have flexibility (flexibility). It is. Due to such a low linear expansion coefficient, for example, when used for forming a liquid crystal panel as a liquid crystal cell substrate, it is possible to suppress the above-described thermal expansion, which causes the position of the electrode or the color filter to be a cause. Deviation can also be avoided. Also, since it has excellent strength and flexibility, it is possible to prevent the resin sheet from cracking due to, for example, vibration during transportation. Further, since the resin sheet of the present invention has a haze value of 10% or less, it is excellent in transparency.
  • the resin sheet when used as a liquid crystal cell substrate, an EL device substrate, or the like and various image display devices are assembled. This is useful because characters and images can be further sharpened and the display quality can be extremely improved. Further, the resin sheet of the present invention has a haze value of 10% or less, and is therefore particularly useful as, for example, a transmission type liquid crystal cell substrate.
  • the haze value can be measured based on, for example, JISK 713, specifically, a commercially available haze marker (eg, For example, it can be measured using HM-150 (trade name, manufactured by Murakami Color Co., Ltd.). Note that this measurement method is used only for specifying the haze value of the resin sheet, and does not limit the method of manufacturing the resin sheet of the present invention, the use of the resin sheet, and the like. .
  • the resin sheet of the present invention has the above-mentioned effects, it is useful as various substrates such as a liquid crystal cell substrate, an electroluminescent (EL) substrate, and a solar cell substrate.
  • FIG. 1 is a sectional view showing an example of the resin sheet of the present invention.
  • FIG. 2 is a sectional view showing another example of the resin sheet of the present invention.
  • the resin sheet of the present invention includes an epoxy resin and a glass fiber fabric, and has a haze value of 10% or less.
  • the “glass fiber fabric” include woven fabrics, non-woven fabrics, and knitted fabrics. Specifically, glass cloth woven with yarn, glass non-woven fabric, roving cloth, chopped cloth Conventionally known commercially available products such as strand mats and Sudare cloth can be used.
  • the density (weight) is preferably in the range of 1 0 ⁇ 5 00 g / m 2, more preferably 2 0 ⁇ 3 50 g / m 2 And particularly preferably 30 to 250 g / m 2 .
  • the thickness of the glass fiber filament is, for example, 3 to 15 m, preferably 5 to 13 tm, and particularly preferably 5 to 10 m.
  • the thickness of the glass fiber cloth is, for example, 10 to 500 ⁇ m. It is preferably 15 to 350 xm, particularly preferably 30 to 250 m.
  • the form of the resin sheet of the present invention is not particularly limited as long as it contains the epoxy resin and the glass fiber cloth, and includes, for example, the resin layer containing the epoxy resin and the glass fiber cloth. It is preferable that the resin layer is a single-layer body in which the glass fiber fabric is integrated. Specifically, for example, it is preferable that the resin layer is formed by curing while the epoxy resin is impregnated in the glass fiber cloth. As a more preferred embodiment, the glass fiber cloth is embedded in the resin layer containing the epoxy resin.
  • the epoxy resin layer is a layer composed of a cured product containing an epoxy resin, and contains, in addition to the epoxy resin, for example, various additives such as a curing agent described later. Is also good.
  • FIG. 1 is a sectional view showing an example of a preferred embodiment of the resin sheet of the present invention.
  • the resin sheet 10 is a single-layer body in which an epoxy resin and a glass fiber cloth are integrated, and a glass fiber cloth 2 is embedded in the epoxy resin layer 1. The two are integrated by impregnating and curing the epoxy resin inside the fibrous cloth 2.
  • dots indicate epoxy resin.
  • the epoxy resin is not particularly limited, and conventionally known epoxy resins can be used. Examples thereof include bisphenol A type, bisphenol F type, bisphenol S type, and bisphenols such as water additives thereof.
  • Type Nopolak type such as phenol nopolak type and cresol nopolak type Tridalicidyl isocyanurate type ⁇ ⁇ Nitrogen-containing ring type such as hydantoin type Aromatic type, aliphatic type and aromatic type such as naphthalene type; low water absorption type such as glycidyl ether type bibiphenyl type; dicyclo type such as dicyclopentene type; ester type; ether ester type; And the like.
  • epoxy resins from the viewpoint of discoloration prevention properties, etc., preferred are a phenol A-type epoxy resin, an alicyclic epoxy resin, a triglycidyl isocyanurate type epoxy resin, and a dicyclopentene-type epoxy resin. These epoxy resins may be used alone or in combination of two or more.
  • the bisphenol A type epoxy resin include those represented by the following formula (1). In the following formula, n is, for example, 0 to 2.
  • epoxy resins may be used alone or in combination of two or more.
  • a combination of the dicyclopentadiene-type epoxy resin and the alicyclic epoxy resin is preferable because heat resistance and toughness are exhibited in an excellent balance.
  • alicyclic epoxy resin examples include, for example, 3,4-Eho represented by the following formula (2).
  • n is an integer of 1 to 20 and R is an alkyl group.
  • an epoxy resin having a dicyclopentene skeleton can be used, and specific examples thereof include epoxy resins represented by the following formulas (4) and (5).
  • n is 1 to 3.
  • the epoxy resin represented by the formula (4) or (5) is particularly preferable. If these resins are used, the retardation in the thickness direction of the resin sheet can be controlled to a small value. When the retardation in the thickness direction is small, as described later, for example, when the resin sheet of the present invention is used for a liquid crystal display device, light leakage from an oblique direction in black display can be sufficiently suppressed, and This is because the display characteristics are further improved.
  • the epoxy resin preferably has an epoxy equivalent of 100 to 1 000 (g / eq) and a softening point of 120 ° C. or less, for example, since the flexibility and strength of the resin sheet to be formed are improved.
  • the epoxy equivalent is 150 to 500 (g / eq) and the softening point is 80 ° C or less.
  • the epoxy resin is preferably liquid at room temperature (for example, 5 to 35 ° C.).
  • the spreadability and the coatability are improved. For this reason, a two-pack type epoxy resin showing a liquid state at a temperature lower than the temperature at the time of coating, particularly at room temperature is preferable.
  • the proportion of the resin layer containing the epoxy resin is, for example, 20 to 80% by weight, preferably 25 to 75% by weight, and more preferably 30 to 70% by weight. It is.
  • the proportion of the epoxy resin in the resin layer is, for example, 30 to 100% by weight, preferably 40 to 90% by weight, and more preferably 40 to 80% by weight.
  • the content ratio of the glass fiber cloth in the resin sheet is, for example, 20 to 80% by weight, preferably 25 to 75% by weight, and more preferably 30 to 70% by weight. is there.
  • the epoxy resin layer may contain, for example, various additives as necessary.
  • the additives include a curing agent, a curing accelerator, an antioxidant, a denaturant, a surfactant, a dye, Conventionally known additives such as pigments, discoloration inhibitors, ultraviolet absorbers and the like can be mentioned. For example, any one of these additives may be added, or two or more of them may be used in combination.
  • curing agent examples include, but are not particularly limited to, organic acid compounds such as tetrahydrophthalic acid, methyltetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, and methylhexahydrophthalic acid; ethylenediamine; Examples thereof include pyrene diamine, diethylene triamine, triethylene tetramine, amine compounds thereof, amine compounds such as metaphenylene diamine, diaminodiphenylmethane, diaminodiphenylsulfone, and the like. These curing agents may be, for example, any one kind or a combination of two or more kinds.
  • amide compounds such as dicyandiamide and polyamide
  • hydrazide compounds such as dihydrazide, methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, ethylimidazole 2,4-Dimethylimidazole, 2,4-dimethylimidazole, phenylimidazole, pendecylimidazole, heptanedecylimidazole, 2-phenyl-2-imidazole, such as 4-imidazole Compounds, Methylimidazoline, 2-Ethyl-4-Methylimidazoline, Ethylimidazoline, Isopropylimidazoline, 2,4-Dimethylimidazoline, Phenylimidazoline, Pendecylimidazoline, Hepdecylimidazoline, 2-Femiruline —Imidazoline compounds such as methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimid
  • acid anhydride compounds and the like can also be used as the curing agent, and such acid anhydride compounds are preferable from the viewpoint of, for example, discoloration prevention properties.
  • Specific examples include phthalic anhydride, maleic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic dianhydride, nadic acid anhydride, dtaltaric anhydride, tetrahydrofluoric anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, hexahi
  • Examples include drophthalic anhydride, methylhexahydrofuric anhydride, methylnadic anhydride, dodecelesuccinic anhydride, dichlorosuccinic anhydride, benzophenonetetracarboxylic anhydride, and chlorendic anhydride.
  • the mixing ratio of the epoxy resin and the curing agent is not particularly limited, but when an acid anhydride-based curing agent is used as the curing agent, for example, an acid anhydride equivalent per 1 equivalent of the epoxy group of the epoxy resin is used. Is preferably blended in an amount of 0.5 to 1.5 equivalents, more preferably 0.7 to 1.2 equivalents. When the compounding amount of the acid anhydride is 0.5 equivalent or more, the hue after curing is further excellent, and when it is 1.5 equivalent or less, sufficient moisture resistance can be maintained. In the case where another curing agent is used, or in the case where one or more curing agents are used in combination, for example, they can be blended in accordance with the above-described ratio.
  • curing accelerator examples include, but are not particularly limited to, tertiary amines, imidazoles, quaternary ammonium salts, quaternary phosphonium salts, organic metal salts, phosphorus compounds, urea compounds, and the like. Of these, tertiary amines, imidazoles, and quaternary phosphonium salts are particularly preferred.
  • One of these curing accelerators may be used alone, or two or more thereof may be used in combination.
  • the mixing ratio of the curing accelerator is not particularly limited, and can be appropriately determined according to, for example, the amount and type of the epoxy resin.
  • the curing accelerator is preferably, for example, 0.05 to 7.0 parts by weight, more preferably 0.2 to 3.0 parts by weight, based on 100 parts by weight of the epoxy resin. It is in the range of parts by weight.
  • the antioxidant is not particularly limited, and for example, conventionally known compounds such as a phenolic compound, an amine compound, an organic sulfur compound and a phosphine compound can be used.
  • the modifier is not particularly limited, and for example, conventionally known modifiers such as glycols, silicones, and alcohols can be used.
  • the addition of the surfactant is not particularly limited.
  • the epoxy resin when the epoxy resin is cured while being in contact with air to form an epoxy resin sheet, it can be added to smooth the sheet surface.
  • the surfactant for example, various surfactants such as silicone-based, acrylic-based, and fluorine-based surfactants can be used, and among these, silicone-based surfactants are preferable.
  • the resin sheet of the present invention may be a single-layer body containing the epoxy resin and the glass fiber cloth, that is, a single-layer epoxy resin layer containing the glass fiber cloth inside. However, in addition to this single-layered body, a laminated body in which another sheet as described later is laminated may be used.
  • the absolute value of the difference between the refractive index of the glass fiber cloth and the refractive index of the resin layer containing the epoxy resin is preferably from 0 to 0.01. It is preferably from 0 to 0.008, particularly preferably from 0 to 0.006.
  • the absolute value is 0.01 or less, scattering at the interface between the glass fiber cloth and the resin layer is sufficiently suppressed, the haze value of the resin sheet is reduced, and the transparency is sufficiently improved. Because it can be maintained.
  • the refractive index can be determined, for example, by measuring with an Abbe refractometer under the conditions of 25 and 589 nm.
  • the resin layer containing the epoxy resin refers to, for example, a cured product of a resin sheet excluding the glass fiber cloth.
  • the resin sheet of the present invention preferably has a linear expansion coefficient at 25 ° C. to 160 ° C. of 3.00 ⁇ 10 ⁇ 5 / ° C. or less.
  • the value is equal to or less than the above value, when the resin sheet of the present invention is used as a liquid crystal cell substrate and a color filter or an electrode is formed on the surface thereof, misalignment due to thermal expansion or the like is sufficiently suppressed. This is because the formation of the color filter and the like is further facilitated.
  • the linear expansion coefficient can be calculated by, for example, obtaining a TMA measurement value of a sample by a TMA method specified in JIS K-197, and substituting this value into the following equation.
  • AISC ⁇ ) and AIs (T 2) the temperature T at the time of sample measurement (° C) and T 2 a (TMA measured value in ° C) (m) respectively, L. Indicates the length (mm) of the sample at room temperature of 23 ° C.
  • the resin sheet of the present invention has a haze value of 10% as described above.
  • the concentration is not more than 3%, preferably 3% or less, particularly preferably 0 to 2%.
  • the light transmittance of the resin sheet of the present invention is preferably 88% or more. If the value is equal to or more than the above value, for example, when used as a liquid crystal cell substrate or an EL device substrate to assemble various image display devices, characters and images are further sharpened and display quality is further improved. Further, it is more preferably 90% or more, particularly preferably 92 to 100%.
  • the light transmittance can be determined, for example, by measuring the total light transmittance at a wavelength of 550 nm using a high-speed spectrophotometer.
  • the resin sheet of the present invention preferably has an in-plane retardation of 2 nm or less.
  • the thickness is more preferably 0 to 1 nm, particularly preferably 0 to 0.8 nm.
  • the thickness direction retardation of the resin sheet of the present invention is preferably 40 nm or less.
  • the value is equal to or less than the above value, when used in an image display device as described above, light leakage from the oblique direction can be sufficiently suppressed, the contrast in the oblique direction is further improved, and excellent display quality is exhibited. Because. It is more preferably 20 nm or less, further preferably 0 to 10 nm, and particularly preferably 0 to 7 nm.
  • the thickness direction retardation is set at 40 nm or less, particularly at 20 nm or less, it is particularly preferable to use the epoxy resin represented by the formula (4) or (5).
  • the in-plane retardation (And) and the thickness direction retardation (Rth) are, for example, respectively represented by the following formulas, and in the following formulas, nx, 11 and 12 are, respectively, the resin sheets Indicates the refractive index in the X-axis, Y-axis, and Z-axis directions, respectively, wherein the X-axis direction is the axis direction indicating the maximum refractive index in the plane of the resin sheet, and the Y-axis direction is the in-plane direction.
  • the axis direction is perpendicular to the X axis
  • the Z axis direction is the thickness direction perpendicular to the X axis and the Y axis
  • d indicates the thickness of the resin sheet.
  • ⁇ n d ⁇ , n x— n y) d
  • At least one surface is preferably smooth.
  • smoothing the surface in this way for example, when used as a liquid crystal cell substrate, it becomes even easier to form an alignment film, a transparent electrode, and the like on the surface.
  • the surface has a surface roughness (R t) of, for example, 2 / m or less.
  • R t surface roughness
  • “surface roughness” refers to, for example, a long wavelength cut-off of 800 m using a stylus type surface roughness measuring instrument (for example, trade name P-11; manufactured by Tencor Corporation). It shows the difference between the maximum value and the minimum value measured under the conditions of a short wavelength cutoff of 250 im and an evaluation length of 10 mm.
  • the resin sheet of the present invention is the single-layer body
  • its thickness is not particularly limited, but is preferably, for example, in the range of 20 to 800 m.
  • the thickness is more preferably 30 to 500, and particularly preferably 50 to 300 m.
  • the resin sheet of the present invention may be a laminate including at least one of a hard coat layer and a gas barrier layer in addition to the single-layer body described above, and a laminate including both the hard coat layer and the gas barrier layer. Is preferred.
  • the hard coat layer is laminated as the outermost layer, for example, the scratch resistance and the like of the sheet can be improved.
  • image display devices such as liquid crystal display devices
  • the liquid crystal deteriorates or bubbles are formed, thereby causing poor appearance.
  • the conductive film pattern may be disconnected.
  • the gas barrier layer it is possible to prevent gas permeation of, for example, moisture or oxygen.
  • the hard coat layer and the gas barrier layer may be provided on either one of the surfaces, or may be laminated on both surfaces.
  • the lamination order is not particularly limited, but it is preferable that the epoxy resin layer, the gas barrier layer, and the hard coat layer are laminated in this order.
  • the hard coat layer is preferably laminated as the outermost layer because it is excellent in impact resistance, chemical resistance, etc., and an eighteenth coat layer is also laminated on the other surface of the epoxy resin layer. May be done.
  • An example of the resin sheet of the present invention including the hard coat layer and the gas barrier layer is shown in the cross-sectional view of FIG. In the figure, the same parts as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals.
  • the resin sheet 20 has a gas barrier layer 3 laminated on one surface of an epoxy resin layer 1 including a glass fiber cloth body 2, and is further hardened on the gas barrier layer 3. Coat layer 4 is laminated.
  • the material for forming the hard coat layer is not particularly limited.
  • urethane-based resins acrylic resins, polyester-based resins, polyvinyl alcohol-based resins such as polyvinyl alcohol and ethylene-vinyl alcohol copolymer, Examples thereof include a pinyl chloride resin and a vinylidene chloride resin.
  • polyarylate resin, sulfone resin, amide resin, imido resin, polyethersulfone resin, polyetherimide resin, polycapone resin, silicone resin, fluorine resin Polyolefin resin, styrene resin, vinylpyrrolidone resin, cellulose resin, acrylonitrile resin and the like can also be used.
  • urethane resins are preferable, and urethane acrylate is more preferable.
  • these resins may be one kind or a blended resin in which two or more kinds are mixed.
  • the thickness of the hard coat layer is not particularly limited, but is usually in the range of 0.1 to 50 m, for example, from the viewpoint of preventing peeling during production and the occurrence of cracks during peeling. Is in the range of 0.5 to 8 m, more preferably in the range of 2 to 5 m.
  • Examples of the type of the gas barrier layer include an organic gas barrier layer and an inorganic gas barrier layer.
  • the material for forming the organic gas barrier layer is not particularly limited.
  • polyvinyl alcohol and a partially saponified product thereof, and a vinyl alcohol-based material such as ethylene-biel alcohol copolymer Materials with low oxygen permeation, such as polymers, polyacrylonitrile, and polyvinylidene chloride can be used.
  • vinyl alcohol polymers are particularly preferable from the viewpoint of high gas barrier properties.
  • the thickness of the organic gas barrier layer is preferably 10 m or less, for example, in terms of transparency, prevention of coloring, functionality such as gas barrier properties, thinning, and flexibility of the obtained resin sheet. It is more preferably from 2 to 10 m, further preferably from 2 to 10 m, particularly preferably from 3 to 5 m. When the thickness is 10 m or less, a lower yellowness index (YI value) can be maintained in the resin sheet, and when the thickness is 2 m or more, a sufficient gas barrier function is maintained.
  • YI value yellowness index
  • a material for forming the inorganic gas barrier layer for example, a transparent material such as silicon oxide, magnesium oxide, aluminum oxide, and zinc oxide can be used. Silicon oxide and silicon nitride are preferred because of their excellent properties.
  • the ratio of the number of oxygen atoms to the number of silicon atoms is preferably 1.5 to 2.0. This is because such a ratio is more excellent in, for example, gas barrier properties, transparency, surface flatness, flexibility, film stress, cost, and the like of the inorganic gas barrier layer.
  • the maximum value of the ratio of the number of oxygen atoms to the number of silicon atoms is 2.0.
  • the silicon nitride preferably has, for example, a ratio of the number of nitrogen atoms (N) to the number of silicon atoms (Si) (Si: N) of 1: 1 to 3: 4.
  • the thickness of the inorganic gas barrier layer is not particularly limited, but is preferably, for example, in the range of 5 to 200 nm. When the thickness is 5 nm or more, for example, more excellent gas barrier properties can be obtained, and when the thickness is 200 nm or less, transparency, flexibility, film stress, and cost are excellent. Thus, when the resin sheet of the present invention is a laminate, its thickness varies depending on the number of laminations in each layer.
  • the layer containing the epoxy resin and the glass fiber cloth may be a single layer or two or more layers.
  • the method for producing such a resin sheet of the present invention is not particularly limited.
  • the resin sheet can be formed by solidifying the epoxy resin in the presence of the glass fiber cloth, for example, a casting method, Conventionally known methods such as a casting method, an impregnation method, and a coating method can be employed. Specifically, it can be performed as follows.
  • a glass fiber cloth is placed in a flat mold, and a liquid epoxy resin is applied on the cloth, and then the pressure is reduced. A cloth is impregnated with the epoxy resin. Then, for example, if the epoxy resin is cured by performing a heat treatment or UV irradiation, an epoxy resin layer including the glass fiber cloth body can be formed.
  • the glass fiber can be immersed in a liquid epoxy resin by an impregnation method, and the epoxy resin can be hardened in that state.
  • An epoxy resin layer containing a fibrous cloth can be formed.
  • the glass fiber cloth may be arranged on an endless belt or a substrate, and impregnated with or coated with the epoxy resin.
  • the applied epoxy resin may be subjected to a curing treatment such as a heating treatment or a light irradiation treatment as necessary.
  • a curing treatment such as a heating treatment or a light irradiation treatment as necessary.
  • the dicyclopentene The curing conditions of the epoxy resin including the gen-type epoxy resin are not particularly limited. For example, it is preferable to perform the curing treatment at 100 to 200 ° C. for 10 minutes to 5 hours.
  • the epoxy resin may be dispersed or dissolved in a solvent to prepare an epoxy resin solution, which may be used.
  • the solvent is not particularly limited.
  • methyl ethyl ketone, acetone, methyl isobutyl ketone, toluene, xylene, ethyl acetate and the like can be used.
  • the above-mentioned other resins and various additives can be appropriately added to the liquid epoxy resin or the epoxy resin solution dissolved in the solvent.
  • the resin sheet of the present invention is a laminate including a hard coat layer or the like
  • the glass fiber cloth body is formed on the hard coat layer.
  • an epoxy resin layer may be formed in the same manner as described above.
  • a curing treatment such as a heat treatment or a light irradiation treatment may be performed as necessary.
  • the hard coat layer and the epoxy resin layer containing the glass fiber cloth-like body are formed. May be bonded together.
  • the method for forming the hard coat layer is not particularly limited, and the forming material as described above may be mixed with the solvent to prepare a coating solution, applied on a substrate, and dried.
  • the coating method is not particularly limited, and examples thereof include conventionally known methods such as a roll coating method, a spin coating method, a wire bar coating method, a dip coating method, an extrusion method, a curtain coating method, and a spray coating method. Can be adopted.
  • a glass fiber cloth Shaped epoxy resin layer containing It should be done.
  • the method for forming the gas barrier layer is not particularly limited.
  • a conventionally known method can be appropriately employed.
  • the resin sheet of the present invention can be used for various uses, and for example, can be preferably used as a liquid crystal cell substrate, an EL display substrate, or a solar cell substrate. When used as various substrates in this way, for example, it may be used in the same manner as a conventionally used transparent substrate such as a glass substrate.
  • the resin sheet of the present invention can be used for a liquid crystal cell or a liquid crystal display device as a liquid crystal cell substrate, an EL display device as an EL display substrate, and a solar cell as a solar cell substrate.
  • these various substrates can be used, for example, as substitutes for glass substrates used in conventional various display devices and solar cells. Then, by using such various substrates of the present invention, for example, sufficient strength can be maintained, and a reduction in thickness and weight can be realized.
  • Such liquid crystal cells, various image display devices, solar cells, and the like are not limited except that the resin sheet of the present invention is used as a substrate. can do.
  • a liquid crystal display device generally includes a liquid crystal cell in which liquid crystal is held on a liquid crystal cell substrate having electrodes, a polarizing plate, a reflecting plate, and a backlight, and is configured to incorporate a driving circuit and the like.
  • the resin sheet of the present invention may be used as a liquid crystal cell substrate, and is not particularly limited except for this point, and may further include conventionally known various components. Therefore, in the liquid crystal display device of the present invention, the liquid crystal cell substrate of the present invention further includes, for example, a light diffusion plate, an anti-glare layer, an anti-reflection film, a protective layer, and a protective layer provided on a polarizing plate on the viewing side.
  • an electroluminescent display device has a transparent electrode (an EL display substrate), a transparent electrode, an organic light emitting layer including a light emitter (organic electroluminescent light emitter), and a metal electrode laminated in this order. It is composed of
  • the resin sheet of the present invention may be used as an EL display substrate, and is not particularly limited except for this point, and may further include conventionally known various components. .
  • the organic light emitting layer is a laminate of organic thin films including various light emitters.
  • a laminate may be, for example, a laminate of a hole injection layer containing a triphenylamine derivative or the like and a light emitting layer made of a fluorescent organic solid such as anthracene, or a light emitting layer as described above.
  • Various combinations are known, including a laminate of an electron injection layer containing a perylene derivative or the like, a laminate of a hole injection layer, a light emitting layer, and an electron injection layer as described above.
  • holes and electrons are usually injected into an organic light-emitting layer by applying a voltage to a transparent electrode and a metal electrode, and the energy generated by the recombination of these holes and electrons.
  • the mechanism of recombination on the way is similar to that of a general diode, and as can be expected from this, the current and the emission intensity show strong nonlinearity with rectification with respect to the applied voltage.
  • At least one electrode needs to be transparent in order to extract light emitted from the organic light emitting layer.
  • a transparent electrode made of a transparent conductor such as indium tin oxide (ITO) is used as the anode.
  • ITO indium tin oxide
  • metal electrodes such as Mg—Ag and A 1—Li are used. used.
  • the organic light emitting layer is formed of, for example, an extremely thin film having a thickness of about 10 nm. With such a thickness, for example, the organic light-emitting layer can almost completely transmit light similarly to the transparent electrode. As a result, the light that was incident from the surface of the transparent substrate during non-light emission, transmitted through the transparent electrode and the organic light-emitting layer, and reflected at the metal electrode returned to the surface of the transparent substrate again, and was visually recognized from the outside. At this time, the display surface of the organic electroluminescence display device looks like a mirror surface.
  • the EL device of the present invention is, for example, an organic EL device having a transparent electrode on the front side of an organic light emitting layer that emits light by voltage application and a metal electrode on the back side of the organic light emitting layer, the surface of the transparent electrode
  • a polarizing plate is provided on the side, and a phase plate is provided between the transparent electrode and the polarizing plate.
  • phase plate and the polarizing plate have a function of polarizing light incident from the outside and reflected on the metal electrode, there is an effect that the mirror surface of the metal electrode is not visually recognized from the outside by the polarizing function.
  • a 1/4 wavelength plate is used as the phase plate, and the angle between the polarization directions of the polarizing plate and the phase plate is
  • the mirror surface of the metal electrode can be completely shielded. That is, the external light incident on the organic EL device can transmit only the linearly polarized light component by the polarizing plate.
  • This linearly polarized light is generally elliptically polarized by the phase plate, but is particularly circular when the phase plate is a 1Z4 wavelength plate and the angle between the polarization directions of the polarizer and the phase plate is ⁇ / 4. .
  • This circularly polarized light passes through, for example, a transparent substrate, a transparent electrode, an organic thin film, and is reflected by a metal electrode.
  • the light again passes through the organic thin film, the transparent electrode, and the transparent substrate, and is again converted into linearly polarized light by the phase plate.
  • the linearly polarized light is orthogonal to the polarization direction of the polarizing plate and cannot pass through the polarizing plate. As a result, the mirror surface of the metal electrode can be completely shielded.
  • a glass cloth (trade name: glass cloth; manufactured by Nitto Bo) having a refractive index of 1.524 and a thickness of lOO ⁇ m is immersed in the mixed solution, and left under a reduced pressure (200 Pa) condition for 10 minutes. The mixture was impregnated inside the glass cloth. As a result, a precursor layer in which glass cross was embedded was formed.
  • a urethane acrylate represented by the following formula (8) was dissolved in toluene to prepare a 17% by weight urethane acrylate solution. Then, the urethane acrylate solution was cast-applied on a glass plate, the toluene solvent was volatilized by air-drying the applied film, and the applied film was cured by a UV curing device. Curing conditions were set to 200 mJ / cm 2 for 1 minute using a high-pressure mercury lamp. Thereby, a hard coat layer having a thickness of 2 m was formed on the glass plate.
  • a precursor layer in which the glass cloth is embedded is laminated on an eighteenth coat layer on the glass plate, and a glass plate on which a release treatment is performed on the precursor layer is further laminated.
  • the precursor layer was hardened. Curing was performed by treating at 120 ° C. for 1 hour and then at 150 ° C. for 1 hour. By the hardening treatment, an epoxy resin layer containing a force-resistant glass was formed on the hard coat layer.
  • the refractive index of the cured product containing the epoxy resin is 1.530.
  • the difference in the refractive index of the product was 0.006.
  • the refractive index of the resin layer (cured product) containing the epoxy resin, excluding the glass cloth was determined separately from the production of the resin sheet. That is, except that no glass cloth was used, the epoxy resin mixture was cured in the same manner, and the refractive index of the cured product was measured, and this was taken as the refractive index (the same applies hereinafter).
  • This comparative example is an example of a resin sheet containing no glass cloth.
  • the same epoxy resin solution as in Example 1 was cast and applied to form a precursor layer, and the precursor layer was subjected to a heat treatment to obtain the precursor layer. Was cured.
  • the curing conditions were the same as in Example 1.
  • an epoxy resin layer having a thickness of lOOim was formed on the hard coat layer.
  • the laminate of the hard coat layer and the epoxy resin layer was peeled off from the endless belt, and after-curing was performed under the same conditions as in Example 1.
  • Comparative Example 2 Comparative Example 2
  • This comparative example is an example in which a glass bead is used instead of the glass cloth.
  • the same procedure as in Example 1 was repeated except that 70 parts by weight of spherical glass beads (refractive index: 1.524) having an average particle diameter of 120 were mixed with the same epoxy resin liquid to prepare a filler-containing epoxy resin liquid.
  • Hard coat layer and eho in the same way as in Example 1.
  • a resin sheet as a laminate with the xy resin layer was manufactured.
  • a resin sheet was manufactured in the same manner as in Example 2 except that a glass cloth (trade name: glass cloth; manufactured by Nitto Boshoku Co., Ltd.) having a refraction of 1.558 and a thickness of 100 m was used as the glass cloth. Since the refractive index of the cured product containing the epoxy resin was 1.514, the difference between the refractive index of the resin lath cloth and the refractive index of the cured product was 0.044. The following evaluation test was performed on each resin sheet obtained as described above. The results are shown in Table 1 below.
  • TMA value (// m) at 25 ° C and 160 ° C was measured using TMAZS S150C (trade name, manufactured by Seiko Instruments Inc.) and calculated as described above. .
  • Each of the resin sheets was wound around an iron pole having a diameter of 35 mm, and whether or not cracking occurred was visually observed.
  • the total light transmittance at ⁇ 550 nm of each of the resin sheets was measured using a high-speed spectrophotometer (trade name: DOT-3C; manufactured by Murakami Color Research Laboratory).
  • in-plane retardation and retardation in the thickness direction were measured from the refractive index at 590 nm using K ⁇ B RA21 ADH (trade name, manufactured by Oji Scientific Instruments).
  • the haze value of each resin sheet was measured using a haze meter (trade name: HM-150; manufactured by Murakami Color Co., Ltd.). (table 1)
  • the resin sheet of Comparative Example 2 could have a low coefficient of linear expansion by containing glass beads, but on the other hand, had poor flexibility and cracks.
  • Comparative Example 1 containing no glass cloth, although no cracking occurred, the coefficient of linear expansion was extremely high.
  • the resin sheet of Example 1 had a low coefficient of linear expansion, and was excellent in flexibility and optical transparency.
  • the resin sheet of Comparative Example 3 was made of force, lath cloth and eho. The haze value was extremely high due to the large difference in the refractive index from the cured resin, and it could not be used as a transmissive liquid crystal cell substrate.
  • the resin sheet of the present invention comprises a glass fiber cloth and an epoxy resin. Since it contains a resin, for example, thermal expansion and the like are suppressed, and excellent strength is exhibited. Therefore, the patterning shift caused by thermal expansion is suppressed, and furthermore, there is no breakage during transportation or impact when assembling various display devices such as a liquid crystal display device, and the production efficiency is excellent. Further, since the resin sheet of the present invention has a haze value of 10% or less, it has excellent transparency, and is useful for, for example, a transmission type liquid crystal cell substrate. Therefore, when the resin sheet of the present invention is used as the above-mentioned various substrates, not only the weight and thickness can be reduced, but also various display devices and solar cells exhibiting excellent strength and transparency can be obtained. .

Description

明 細 書 樹脂シート、 それを用いた液晶セル基板 技術分野
本発明は、 榭脂シート、 特に液晶セル基板に有用な樹脂シート、 これ を用いた液晶セル基板に関する。 背景技術
従来、 液晶表示装置においては、 液晶を担持して液晶セルを形成する ための液晶セル基板として、 強度や耐熱性の点からガラス系基板が使用 されていた。 しかし、 近年においては、 液晶表示装置の大型化に伴い、 前記液晶セル基板の軽量化、 薄型化等が求められており、 前記ガラス系 基板に代わる材料として、 エポキシ樹脂等の樹脂シートが提案され、 実 用化されている （例えば、 特開平 6— 3 3 7 4 0 8号公報、 特開平 7 - 1 9 9 1 6 5号公報参照）。 また、 E L表示装置等においても、 同様の問 題から、 前述のような樹脂シートの適用が提案されている。
しかし、 このようなエポキシ樹脂等の樹脂シートは、 熱膨張や、 水分 の影響による収縮 ·膨張が起きる場合があり、 これが原因となって、 例 えば、 電極形成時やカラーフィルタ一形成時に、 位置ずれが生じるとい う問題があった。 そこで、 このような問題を回避すべく、 前記樹脂シ一 トに、 平均粒子径が 1 n m〜 l 0 0 m程度の球状無機酸化物が分散さ せて、 線膨張係数を 5. 00 X 10— 以下に抑制することが試みられていた (例えば、 特開 2 0 0 2— 3 5 1 3 5 3号公報参照）。 しかしながら、 前 記球状無機酸化物を分散させた樹脂シートは、 強度が低下するため、 例 えば、 運搬時や液晶パネルの形成時に、 ひび割れ等が生じ、 製造効率の 面で問題があった。 発明の開示
そこで、 本発明の目的は、 熱による影響を受けることなく、 強度に優 れ、 かつ透明性に優れる樹脂シートの提供であって、 詳しくは、 液晶表 示装置等の各種表示装置や太陽電池等の基板に有用な樹脂シートの提供 である。 前記目的を達成するために、 本発明の樹脂シートは、 エポキシ樹脂お よびガラス繊維製布状体を含み、 ヘイズ値が 1 0 %以下であることを特 徴とする。
このように本発明の樹脂シートは、 前記ガラス繊維製布状体を含有す ることによって、 線膨張係数を低くできるだけでなく、 優れた強度を示 し、 さらに柔軟性 （屈曲性） をも併せ持つのである。 このように線膨張 係数が低いことから、 例えば、 液晶セル基板として液晶パネルの形成に 使用する際に、 前述のような熱膨張を抑制でき、 これが原因となる電極 やカラ一フィル夕一の位置ずれも回避できる。 また、 強度と柔軟性とに 優れるため、 例えば、 運搬時の振動による、 樹脂シートのひび割れも防 止できる。 さらに、 本発明の樹脂シートは、 そのヘイズ値が 1 0 %以下 であることから、 透明性に優れ、 例えば、 液晶セル基板や E L装置基板 等として使用し、 各種画像表示装置を組み立てた場合に、 文字や画像が より一層鮮明となり表示品位を極めて向上することができ有用である。 また、 本発明の樹脂シートは、 ヘイズ値が 1 0 %以下であることから、 例えば、 透過型の液晶セル基板として特に有用である。
本発明において、 前記ヘイズ値は、 例えば、 J I S K 7 1 3 6に 基づいて測定することができ、 具体的には、 市販のヘイズメ一カー （例 えば、 商品名 HM— 1 5 0、 村上色彩社製） を用いて測定できる。 なお 、 この測定方法は、 前記樹脂シートのヘイズ値を特定するためのみに用 いられるものであって、 本発明の樹脂シートの製造方法、 前記樹脂シー トの使用等を何ら制限するものではない。
本発明の樹脂シートは、 前述のような効果を有することから、 液晶セ ル基板や、 エレクト口ルミネッセンス （EL) 基板、 太陽電池用基板等 の各種基板として有用である。 図面の簡単な説明
図 1は、 本発明の樹脂シートの一例を示す断面図である。
図 2は、 本発明の樹脂シートのその他の例を示す断面図である。 発明を実施するための最良の形態
前述のように、 本発明の樹脂シートは、 エポキシ樹脂およびガラス繊 維製布状体を含み、 ヘイズ値が 1 0 %以下であることを特徴とする。 本発明において、 「ガラス繊維製布状体」 としては、 例えば、 織布、 不 織布、 編物があげられ、 具体的には、 ャ一ンを製織したガラスクロス、 ガラス不織布、 ロービングクロス、 チョップドストランドマット、 スダ レクロス等の従来公知の市販品等が使用できる。
前記ガラス繊維製布状体としては、 例えば、 その密度 （重さ） が、 1 0〜5 00 g/m2の範囲であることが好ましく、 より好ましくは 2 0〜 3 50 g/m2であり、 特に好ましくは 30〜2 5 0 g/m2である。 また 、 ガラス繊維のフィラメントの太さは、 例えば、 3〜 1 5 mであり、 好ましくは 5〜 1 3 tmであり、 特に好ましくは 5〜 1 0 mである。 前記ガラス繊維製布状体の厚みは、 例えば、 1 0〜 5 00 ^mであり 、 好ましくは 1 5〜 3 5 0 x mであり、 特に好ましくは 3 0〜 2 5 0 mである。 本発明の樹脂シートは、 前記エポキシ樹脂とガラス繊維製布状体とを 含有すれば、 その形態は特に制限されないが、 例えば、 前記エポキシ樹 脂を含む樹脂層とガラス繊維製布状体を含み、 前記樹脂層とガラス繊維 製布状体とが一体化した単層体であることが好ましい。 具体的には、 例 えば、 前記エポキシ樹脂が前記ガラス繊維製布状体に含浸された状態で 硬化することによって前記樹脂層が形成されていることが好ましい。 よ り好ましい形態としては、 前記エポキシ樹脂を含む樹脂層内に前記ガラ ス繊維製布状体が埋設されている形態である。 なお、 本発明において、 前記エポキシ樹脂層とはエポキシ樹脂を含む硬化物から構成される層で あって、 エポキシ樹脂の他に、 例えば、 後述するような硬化剤等の各種 添加剤が含まれてもよい。
図 1の断面図に、 本発明の樹脂シートの好ましい形態の一例を示す。 この樹脂シート 1 0は、 エポキシ樹脂とガラス繊維製布状体とが一体化 された単層体であって、 エポキシ樹脂層 1内部にガラス繊維製布状体 2 が埋設されており、 前記ガラス繊維製布状体 2内部にエポキシ樹脂が含 浸され硬化することによって、 前記両者が一体化されている。 なお、 同 図において 「ドット」 はエポキシ樹脂を示す。 前記エポキシ榭脂としては、 特に制限されず、 従来公知のエポキシ樹 脂が使用できるが、 例えば、 ビスフエノール A型、 ビスフエノール F型 、 ビスフエノール S型およびこれらの水添加物等のビスフエノ一ル型 フエノ一ルノポラック型やクレゾールノポラック型等のノポラック型 トリダリシジルイソシァヌレ一ト型ゃヒダントイン型等の含窒素環型 脂環式型、 脂肪族型およびナフタレン型等の芳香族型； グリシジルェ一 テル型ゃビフエニル型等の低吸水率型； ジシクロペン夕ジェン型等のジ シクロ型；エステル型； エーテルエステル型； およびこれらの変成型等 があげられる。 前記エポキシ樹脂の中でも、 変色防止性等の点から、 ピ スフェノール A型エポキシ樹脂、 脂環式エポキシ樹脂、 トリグリシジル ィソシァヌレート型エポキシ樹脂、 ジシクロペン夕ジェン型エポキシ樹 脂が好ましい。 なお、 これらのエポキシ樹脂は一種類でもよいし、 二種 類以上を併用してもよい。 前記ビスフエノール A型エポキシ樹脂として は、 例えば、 下記式 （1 ) のものがあげられ、 下記式において nは、 例 えば、 0 〜 2である。
Figure imgf000006_0001
これらのエポキシ樹脂は、 単独で使用してもよいし、 二種類以上を併 用してもよい。 特に、 耐熱性と強靭性とが優れたバランスで発揮される ことから、 前記ジシクロペンタジェン型エポキシ樹脂と前記脂環式ェポ キシ榭脂との組み合わせが好ましい。
前記脂環式エポキシ樹脂の具体例としては、 例えば、 下記式 （2 ) で 表される 3， 4 -エホ。キシシクロへキシルメチル -3， 4-エホ。キシシクロへキサンカルホ'、キシレ -ト、下記式 ( 3
) があげられ、 下記式 （3 ) において、 nは 1 〜 2 0の整数であり、 R はアルキル基である。 u
CH2-0 ...(2)
Figure imgf000006_0002
Figure imgf000007_0001
また、 前記エポキシ樹脂としては、 ジシクロペン夕ジェン骨格を有す るエポキシ樹脂が使用でき、 具体的には下記式 （4 )、 下記式 （5 ) で表 されるエポキシ樹脂等があげられる。 下記式 （5 ) において、 nは 1〜 3である。
Figure imgf000007_0002
Figure imgf000007_0003
これらのエポキシ樹脂の中でも、 前記式 （4 ) または （5 ) で表され るエポキシ樹脂が特に好ましい。 これらの樹脂を用いれば、 特に樹脂シ ートの厚み方向位相差を小さい値に制御できるからである。 このように 厚み方向位相差が小さいと、 後述するように、 例えば、 本発明の樹脂シ —トを液晶表示装置に使用した際に、 黒表示における斜め方向からの光 モレが十分に抑制でき、 表示特性がより一層優れるからである。 前記エポキシ樹脂は、 例えば、 形成する樹脂シートの柔軟性や強度等 が向上することから、 エポキシ当量 1 00〜 1 000 (g/e q)、 軟化 点 1 2 0°C以下であることが好ましく、 より好ましくは、 エポキシ当量 1 5 0〜 5 0 0 (g/e q), 軟化点 8 0°C以下である。 また、 前記ェポ キシ樹脂は、 常温 （例えば、 5〜 3 5°C) で液体であることが好ましい また、 後述するように本発明の樹脂シートを形成する際に、 展開性や 塗工性に優れることから、 塗工時の温度以下、 特に常温において液体状 態を示す二液混合型のエポキシ樹脂が好ましい。 本発明の樹脂シートにおいて、 前記エポキシ樹脂を含む樹脂層の割合 は、 例えば、 2 0〜80重量％であり、 好ましくは 2 5〜7 5重量％で あり、 より好ましくは 3 0〜70重量％である。 また、 前記樹脂層にお けるエポキシ樹脂の割合は、 例えば、 3 0〜 1 0 0重量％であり、 好ま しくは 40〜 9 0重量％であり、 より好ましくは 40〜80重量％であ る。 一方、 前記樹脂シートにおける前記ガラス繊維製布状体の含有割合 は、 例えば、 20〜80重量％であり、 好ましくは 2 5〜7 5重量％で あり、 より好ましくは 3 0〜 70重量％である。
前記エポキシ樹脂層は、 例えば、 必要に応じて各種添加物を含有して もよく、 前記添加物としては、 例えば、 硬化剤、 硬化促進剤、 老化防止 剤、 変性剤、 界面活性剤、 染料、 顔料、 変色防止剤、 紫外線吸収剤等の 従来公知の添加物があげられる。 これらの添加剤は、 例えば、 いずれか 一種を添加してもよいし、 二種類以上を併用してもよい。
前記硬化剤としては、 特に制限されないが、 例えば、 テトラヒドロフ タル酸、 メチルテトラヒドロフタル酸、 へキサヒドロフタル酸、 メチル へキサヒドロフタル酸等の有機酸系化合物類、 エチレンジァミン、 プロ ピレンジァミン、 ジエチレントリアミン、 トリエチレンテトラミン、 こ れらのアミンァダクト、 メタフエ二レンジァミン、 ジアミノジフエ二ル メタン、 ジアミノジフエニルスルホン等のアミン系化合物類等が挙げら れる。 これらの硬化剤は、 例えば、 いずれか一種類でもよいし、 二種類 以上を併用してもよい。
また、 前述のような硬化剤の他に、 例えば、 ジシアンジアミド、 ポリ アミド等のアミド系化合物類、 ジヒドラジット等のヒドラジド系化合物 類、 メチルイミダゾ一ル、 2—ェチルー 4ーメチルイミダゾ一ル、 ェチ ルイミダゾール、ィソプロピルイミダゾ一ル、 2 , 4 —ジメチルイミダゾ ール、 フエ二ルイミダゾール、 ゥンデシルイミダゾ一ル、 ヘプ夕デシル イミダゾ一ル、 2—フエ二ルー 4 —メチルイミダゾール等のイミダゾー ル系化合物類、 メチルイミダゾリン、 2 —ェチル— 4ーメチルイミダゾ リン、 ェチルイミダゾリン、 イソプロピルイミダゾリン、 2 , 4—ジメ チルイミダゾリン、 フエ二ルイミダゾリン、 ゥンデシルイミダゾリン、 ヘプ夕デシルイミダゾリン、 2—フエ二ルー 4—メチルイミダゾリン等 のイミダゾリン系化合物類、 フエノール系化合物類、 ユリア系化合物類 、 ポリスルフイ ド系化合物類等もあげられる。
さらに、 酸無水物系化合物類等も前記硬化剤として使用でき、 このよ うな酸無水物系化合物類は、 例えば、 変色防止性等の点から好ましい。 具体的な例としては、 無水フタル酸、 無水マレイン酸、 無水トリメリッ ト酸、 無水ピロメリット酸、 無水ナジック酸、 無水ダルタル酸、 テトラ ヒドロフ夕ル酸無水物、 メチルテトラヒドロフタル酸無水物、 へキサヒ ドロフタル酸無水物、 メチルへキサヒドロフ夕ル酸無水物、 メチルナジ ック酸無水物、 ドデセエルコハク酸無水物、 ジクロロコハク酸無水物、 ベンゾフエノンテトラカルボン酸無水物、 クロレンディック酸無水物等 があげられる。 これらの酸無水物系化合物の中でも、 特に、 無色系また は淡黄色系であり、 分子量が約 1 4 0〜約 2 0 0のものが好ましく、 例 えば、 無水フタル酸、 テトラヒドロフタル酸無水物、 へキサヒドロフタ ル酸無水物、 メチルへキサヒドロフタル酸無水物、 メチルナジック酸無 水物等があげられる。
前記エポキシ樹脂と硬化剤との配合割合は、 特に制限されないが、 前 記硬化剤として酸無水物系硬化剤を用いる場合、 エポキシ樹脂のェポキ シ基 1当量に対して、 例えば、 酸無水物当量を 0 . 5〜 1 . 5当量とな るように配合することが好ましく、 さらに好ましくは 0 . 7〜 1 . 2当 量である。 前記酸無水物の配合量が、 0 . 5当量以上であれば、 硬化後 の色相がより一層優れ、 1 . 5当量以下であれば、 十分な耐湿性を保持 することができる。 なお、 他の硬化剤を使用する場合や、 一種類または 二種類以上の硬化剤を併用する場合も、 例えば、 前述のような割合に準 じて配合できる。
前記硬化促進剤としては、 特に制限されないが、 例えば、 第三級アミ ン類、 イミダゾール類、 第四級アンモニゥム塩類、 第四級ホスホニゥム 塩類、 有機金属塩類、 リン化合物類、 尿素系化合物類等があげられ、 こ の中でも、 特に第三級ァミン類、 イミダゾール類、 第四級ホスホニゥム 塩類が好ましい。 これらの硬化促進剤は、 例えば、 一種類でもよいし、 二種類以上を併用してもよい。
前記硬化促進剤の配合割合は、 特に制限されず、 例えば、 エポキシ樹 脂の量や種類に応じて適宜決定できる。 具体的には、 エポキシ榭脂 1 0 0重量部に対して、 硬化促進剤が、 例えば、 0 . 0 5〜 7 . 0重量部で あることが好ましく、 より好ましくは 0 . 2〜3 . 0重量部の範囲であ る。 前記硬化促進剤の配合量が、 0 . 0 5重量部以上であれば、 充分な 硬化促進効果を得ることができ、 7 . 0重量部以下であれば、 硬化後の 色相がより一層優れたものとなる。 前記老化防止剤としては、 特に制限されないが、 例えば、 フエノール 系化合物、 アミン系化合物、 有機硫黄系化合物、 ホスフィン系化合物等 の従来公知のものが使用できる。
前記変性剤としては、 特に制限されないが、 例えば、 グリコール類、 シリコーン類、 アルコール類等の従来公知のものが使用できる。
前記界面活性剤の添加は、 特に制限されないが、 例えば、 エポキシ榭 脂を空気に接触させながら硬化させてエポキシ樹脂シートを形成する際 に、 シート表面を平滑にするために添加できる。 前記界面活性剤として は、 例えば、 シリコーン系、 アクリル系、 フッ素系等の各種界面活性剤 が使用でき、 これらの中でも、 シリコーン系が好ましい。 本発明の樹脂シートは、 前記エポキシ樹脂および前記ガラス繊維製布 状体を含有する単層体、 すなわちその内部に前記ガラス繊維製布状体を 含む単層のエポキシ樹脂層であってもよいし、 この単層体に加えて、 さ らに後述するような他のシートが積層された積層体であってもよい。 本発明の樹脂シートにおいて、 前記ガラス繊維製布状体の屈折率と、 前記エポキシ樹脂を含む樹脂層の屈折率との差の絶対値は、 0〜0 . 0 1 であることが好ましく、 より好ましくは 0〜0 . 0 0 8であり、特に好ま しくは 0〜 0 . 0 0 6である。 前記絶対値が 0 . 0 1以下であれば、 前記 ガラス繊維製布状体と前記樹脂層との界面散乱を十分に抑制し、 樹脂シ —トのヘイズ値を小さくし、 透明性を十分に維持できるからである。 本 発明において前記屈折率は、 例えば、 アッベ屈折率測定機により、 2 5 、 5 8 9 n mの条件で測定することによって求めることができる。 な お、 この屈折率の関係においては、 前記エポキシ樹脂を含む樹脂層とは 、 例えば、 樹脂シートにおける、 前記ガラス繊維製布状体を除く硬化物 を示す。 本発明の樹脂シートは、 2 5°Cから 1 6 0°Cにおける線膨張係数が、 3.00X10—5/°C以下であることが好ましい。 前記値以下であれば、 本発明 の樹脂シ一トを液晶セル基板として使用し、 その表面にカラ一フィルタ 一や電極を形成する場合に、 熱膨張が原因となる位置ずれ等を十分に抑 制し、 前記カラ一フィルタ一等の形成がより一層容易になるからである 。 また、 より好ましくは 2.00XlO—5/°C以下であり、 特に好ましくは 0〜 1.5X1(T5/°Cである。
前記線膨張係数は、 サンプルについて、 例えば、 J I S K-7 1 9 7 に規定される TMA法により TMA測定値を得て、 これを下記式に代入 することによって算出できる。下記式において、 AIsC^)および AIs(T2) は、 サンプル測定時の温度 T (°C) および T2 (°C) における TMA測 定値 （ m) をそれぞれ示し、 L。は、 室温 2 3 °Cにおけるサンプルの 長さ （mm) を示す。
熱膨張係数お [1/(L0X103)] - [(AIsd^-AIsCT,)) /(T2 - T〖）] 本発明の樹脂シートは、 前述のようにヘイズ値が 1 0 %以下であれば よいが、 より好ましくは 3 %以下、 特に好ましくは 0〜2 %である。 本発明の樹脂シートは、 その光透過率が 88 %以上であることが好ま しい。 前記値以上であれば、 例えば、 液晶セル基板や EL装置基板等と して使用し、 各種画像表示装置を組み立て場合に、 文字や画像がより一 層鮮明となり表示品位がさらに優れるからである。 また、 より好ましく は 9 0 %以上であり、 特に好ましくは 92〜 1 00 %である。 前記光透 過率は、 例えば、 高速分光光度計を用いて波長 55 0 nmの全光線透過 率を測定することによって求めることができる。
本発明の樹脂シートは、 その面内位相差が 2 nm以下であることが好 ましい。 前記値以下であれば、 液晶セル基板や EL装置基板等として使 用した際に、 画像表示装置のコントラスト、 特に斜視方向におけるコン トラストが一層向上し、 優れた表示品位を示すからである。 また、 より 好ましくは 0〜 1 nm、 特に好ましくは 0〜 0. 8 nmである。
また、 本発明の樹脂シートの厚み方向位相差は、 40 nm以下である ことが好ましい。 前記値以下であれば、 前述のように画像表示装置に使 用した際に、 斜視方向からの光モレが十分に抑制でき、 斜視方向におけ るコントラストが一層向上し、 優れた表示品位を示すからである。 より 好ましくは 2 0 nm以下であり、 さらに好ましくは 0〜 1 0 nmであり 、 特に好ましくは 0〜 7 nmである。 なお、 厚み方向位相差を 4 0 nm 以下、 特に 2 0 nm以下に設定する場合、 前記式 （4) または式 （5) に表されるエポキシ樹脂を使用することが特に好ましい。
前記面内位相差 （And) および厚み方向位相差 （Rth) は、 例えば、 そ れぞれ下記式で表され、 下記式において n x、 11 ぉょび]1 2は、 それ ぞれ前記樹脂シートにおける X軸、 Y軸、 Z軸方向の屈折率をそれぞれ 示し、 前記 X軸方向とは、 前記樹脂シートの面内において最大の屈折率 を示す軸方向であり、 Y軸方向は、 前記面内において前記 X軸に対して 垂直な軸方向であり、 Z軸方向は、 前記 X軸および Y軸に垂直な厚み方 向であって、 dは、 前記樹脂シートの厚みを示す。
Δ n d = <, n x— n y ) · d
R t h = [{ (n x + n y) /2 }-n z ] · d
本発明の樹脂シ一トにおいて、 少なくとも一方の表面は、 平滑である ことが好ましい。 このように表面を平滑にすることによって、 例えば、 液晶セル基板として使用する際に、 前記表面上への配向膜や透明電極等 の形成がより一層容易となるからである。 具体的には、 前記表面の表面 粗さ （R t ) が、 例えば、 2 / m以下であることが好ましい。 本発明に おいて 「表面粗さ」 とは、 例えば、 触針式表面粗さ測定器 （例えば、 商 品名 P— 1 1 ；テンコール社製） により、 長波長カツトオフ 8 0 0 m 、 短波長カットオフ 2 5 0 i m、 評価長さ 1 0 mmの条件で測定した、 最大値と最小値との差を示す。 本発明の樹脂シートが前記単層体の場合、 その厚みは、 特に制限され ないが、 例えば、 2 0〜 8 0 0 mの範囲であることが好ましい。 前記 厚みが 2 0 m以上であれば、 十分な強度や剛性が維持でき、 また、 前 記厚みが 8 0 0 m以下であれば、 例えば、 薄型化や軽量化を十分に実 現できるからである。 前記厚みは、 より好ましくは 3 0〜 5 0 0 で あり、 特に好ましくは 5 0〜 3 0 0 mである。 本発明の樹脂シートは、 前述のような単層体に加えて、 さらにハード コート層およびガスバリャ層の少なくとも一方を含む積層体でもよく、 ハードコート層およびガスバリァ層の両方を含む積層体であることが好 ましい。 特に、 前記ハードコート層が最外層として積層されていれば、 例えば、 シートの耐擦傷性等を向上できる。 また、 液晶表示装置等の各 種画像表示装置においては、 水分や酸素が液晶セル基板を透過して液晶 セル内に侵入すると、 液晶の変質や気泡が形成し、 これによつて外観不 良や導電膜パターンの断線等が発生するおそれがある。 しかし、 前記ガ スバリア層を設けることによって、 例えば、 水分や酸素等のガス透過を 防止することができる。 また、 ハードコート層やガスバリア層は、 それ ぞれいずれか一方の面でもよいし、 両面に積層してもよい。
ハードコート層とガスバリァ層の両方を含む場合、 その積層順序は、 特に制限されないが、 エポキシ樹脂層、 ガスバリア層、 ハードコート層 の順序で積層されることが好ましい。 特に、 前記ハードコート層は、 耐 衝撃性ゃ耐薬品性等に優れることから、 最外層として積層されることが 好ましく、 前記エポキシ樹脂層の他方の表面にも八一ドコート層が積層 されてもよい。 このようにハードコート層とガスバリァ層とを含む本発 明の樹脂シートの一例を、 図 2の断面図に示す。 なお同図において図 1 と同一箇所には同一符号を付している。 同図に示すように、 この樹脂シ ート 2 0は、 ガラス繊維製布状体 2を含むエポキシ樹脂層 1の一方の表 面に、 ガスバリア層 3が積層され、 前記ガスバリア層 3にさらにハード コ一卜層 4が積層されている。
前記ハードコート層の形成材料としては、 特に制限されないが、 例え ば、 ウレタン系樹脂、 アクリル系樹脂、 ポリエステル系樹脂、 ポリビニ ルアルコールやエチレン · ビニルアルコール共重合体等のポリビニルァ ルコ一ル系樹脂、 塩化ピニル系樹脂、 塩化ビニリデン系樹脂等があげら れる。 また、 例えば、 ポリアリレート系榭脂、 スルホン系樹脂、 アミド 系樹脂、 イミ ド系樹脂、 ポリエーテルスルホン系樹脂、 ポリエーテルィ ミ ド系樹脂、 ポリ力一ポネート系樹脂、 シリコーン系樹脂、 フッ素系樹 脂、 ポリオレフイン系樹脂、 スチレン系樹脂、 ビニルピロリドン系樹脂 、 セルロース系樹脂、 アクリロニトリル系樹脂等も使用できる。 これら の中でも、 ウレタン系樹脂が好ましく、 より好ましくはウレタンァクリ レートである。 なお、 これらの樹脂は、 一種類でもよいし、 二種類以上 を混合したブレンド樹脂であってもよい。
前記ハードコート層の厚みは、 特に制限されないが、 通常、 製造時の 剥離や、 剥離の際におけるヒビ割れの発生を防止する点から、 例えば、 0 . 1〜 5 0 mの範囲であり、好ましくは 0 . 5〜 8 mの範囲であり 、 より好ましくは 2〜 5 mの範囲である。
前記ガスバリア層の種類としては、 例えば、 有機ガスバリア層と無機 ガスバリァ層があげられる。 前記有機ガスバリア層の形成材料としては 、 特に制限されないが、 例えば、 ポリビニルアルコール及びその部分ケ ン化物、 エチレン · ビエルアルコール共重合体等のビニルアルコール系 ポリマ一、 ポリアクリロニトリルやポリ塩化ビニリデン等の酸素透過が 小さい材料等が使用でき、 これらの中でも、 高ガスバリア性の点からビ ニルアルコール系ポリマーが特に好ましい。
前記有機ガスバリア層の厚みは、 例えば、 透明性、 着色防止、 ガスバ リア性等の機能性、 薄型化、 得られる樹脂シートのフレキシビリティー 等の点から、 1 0 m以下であることが好ましく、 より好ましくは 2〜 1 0 mであり、 さらに好ましくは 2〜 1 0 m、 特に好ましくは 3〜 5 mの範囲である。 前記厚みが 1 0 m以下であれば、 樹脂シートに おいて、 より一層低い黄色度指数 （Y I値） を維持でき、 2 ^m以上で あれば、 十分なガスバリア機能が維持される。
一方、 無機ガスバリア層の形成材料としては、 例えば、 珪素酸化物、 マグネシウム酸化物、 アルミニウム酸化物、 亜鉛酸化物等の透明材料が 使用でき、 この中でも、 例えば、 ガスバリア性ゃ基材層への密着性に優 れること等から、 珪素酸化物や珪素窒化物が好ましい。
前記珪素酸化物としては、 例えば、 珪素原子数に対する酸素原子数の 割合が、 1. 5〜2. 0であることが好ましい。 このような割合であれ ば、 例えば、 前記無機ガスバリア層のガスバリア性、 透明性、 表面平坦 性、 屈曲性、 膜応力、 コスト等の点において、 より一層優れるからであ る。 なお、 前記珪素酸化物においては、 珪素原子数に対する酸素原子数 の割合の最大値が 2. 0となる。
前記珪素窒化物としては、 例えば、 珪素原子数 （Si) に対する窒素原 子数 （N) の割合 （Si : N) が 1 ： 1〜 3 ： 4であることが好ましい。 前記無機ガスバリア層の厚みは、 特に制限されないが、 例えば、 5〜 2 0 0 nmの範囲であることが好ましい。 前記厚みが 5 nm以上であれ ば、 例えば、 より一層優れたガスバリア性が得られ、 前記厚みが 2 00 nm以下であれば、 透明性、 屈曲性、 膜応力、 コストの点にも優れる。 このように、 本発明の樹脂シートが積層体の場合、 その厚みは各層め 積層数によって異なるが、 例えば、 2 0〜 8 0 0 mの範囲であること が好ましく、 より好ましくは 3 0〜 5 0 0 mの範囲、 特に好ましくは 5 0〜 3 0 0 mの範囲である。 なお、 前記積層体の場合、 前記ェポキ シ樹脂とガラス繊維製布状体を含む層を一層でもよいし、 二層以上含ん でもよい。 このような本発明の樹脂シートの製造方法は、 特に制限されず、 例え ば、 前記ガラス繊維製布状体の存在下で前記エポキシ樹脂を固化するこ とによって形成でき、 例えば、 注型法、 流延法、 含浸法、 塗工法等の従 来公知の方法が採用できる。 具体的には、 以下のようにして行うことが できる。
前記注型法の場合には、 例えば、 平板金型にガラス繊維製布状体を配 置し、 液状のエポキシ樹脂を前記布状体上に塗布した後、 減圧条件とす ることによって、 前記布状体に前記エポキシ樹脂を含浸させる。 そして 、 例えば、 加熱処理や U V照射を施すことによって前記エポキシ樹脂を 硬化させれば、 前記ガラス繊維製布状体を含むエポキシ樹脂層が形成で きる。
また、 常圧条件下であっても、 含浸法により、 液状のエポキシ樹脂中 に前記ガラス繊維製布状体を浸漬し、 その状態で前記エポキシ樹脂を硬 化させることによつても、 前記ガラス繊維製布状体を含むエポキシ樹脂 層が形成できる。 また、 エンドレスベルトや基板上に前記ガラス繊維製 布状体を配置し、 これに前記エポキシ樹脂を含浸させたり、 塗工しても よい。
また、 塗工したエポキシ樹脂に対して、 必要に応じて、 例えば、 加熱 処理、 光照照射処理等の硬化処理を施してもよい。 前記ジシクロペン夕 ジェン型エポキシ樹脂を含むエポキシ樹脂の硬化条件は、 特に制限され ないが、 例えば、 1 0 0〜 2 0 0 °Cで 1 0分〜 5時間硬化処理を行うこ とが好ましい。
前記エポキシ樹脂を、 例えば、 溶媒に分散または溶解してエポキシ樹 脂液を調製し、 これを使用してもよい。 前記溶媒としては、 特に制限さ れないが、 例えば、 メチルェチルケトン、 アセトン、 メチルイソブチル ケトン、 トルエン、 キシレン、 酢酸ェチル等が使用できる。 なお、 液状 のエポキシ榭脂や、 溶媒に溶解したエポキシ榭脂液には、 前述のような 他の樹脂や各種添加剤を適宜添加できる。
また、 本発明の樹脂シートが、 ハードコート層等を含む積層体の場合 は、 例えば、 前記平板金型にハードコート層を形成してから、 前記ハー ドコート層上に前記ガラス繊維製布状体を配置し、 前述と同様にしてェ ポキシ樹脂層を形成すればよい。 前記八一ドコート層の形成においては 、 必要に応じて、 加熱処理、 光照射処理等の硬化処理を行ってもよい。 また、 ステンレス製等のエンドレスベルトゃ基材上に、 流延法ゃ塗工法 等によってハードコート層を形成してから、 前記ハードコ一卜層と前記 ガラス繊維製布状体を含むエポキシ樹脂層とを張り合わせてもよい。 前記ハードコート層の形成方法は、 特に制限されず、 前述のような形 成材料を前記溶媒に混合して塗工液を調製し、 基材上に塗布して、 これ を乾燥させればよい。 前記塗工法としては、 特に制限されず、 例えば、 ロールコート法、 スピンコート法、 ワイヤバーコート法、 ディップコー ト法、 ェクストルージョン法、 カーテンコート法、 スプレコート法等の 従来公知の方法が採用できる。
また、 ガスバリア層を含む樹脂シートの場合は、 例えば、 前述のよう にして形成したハードコート層上に、 ガスバリア層を形成してから、 さ らに前述と同様にして、 ガラス繊維製布状体を含むエポキシ樹脂層を形 成すればよい。 前記ガスバリア層の形成方法は、 特に制限されず、 例え ば、 従来公知の方法を適宜採用できる。 本発明の樹脂シートは、 各種の用途に用いることができ、 例えば、 液 晶セル基板、 E Lディスプレイ用基板、 太陽電池用基板としても好まし く用いることができる。 このように各種基板として使用する場合、 例え ば、 従来から使用されているガラス基板等の透明基板と同様にして使用 すればよい。
また、 本発明の樹脂シートは、 液晶セル基板として液晶セルや液晶表 示装置に、 E Lディスプレイ用基板として E L表示装置に、 太陽電池用 基板として太陽電池等に使用できる。 これらの各種基板は、 例えば、 従 来の各種表示装置や太陽電池において使用されているガラス基板等の代 替品として使角することができる。 そして、 このような本発明の各種基 板を使用すれば、 例えば、 十分な強度を維持し、 かつ薄型化や軽量化を 実現できるのである。 なお、 このような液晶セル、 各種画像表示装置お よび太陽電池等は、 本発明の樹脂シートを基板として使用する以外は何 ら制限されず、 基板以外の構成部材やその構造は従来と同様とすること ができる。
液晶表示装置は、 一般に、 電極を備えた液晶セル基板に液晶が保持さ れた液晶セル、 偏光板、 反射板およびバックライトを備え、 駆動回路等 を組み込んで構成されている。 本発明の液晶表示装置においては、 前記 本発明の樹脂シートを液晶セル基板として使用すればよく、 この点を除 いて特に限定はされず、 さらに従来公知の各種構成部品を備えても良い 。 従って、 本発明の液晶表示装置においては、 前記本発明の液晶セル基 板に、 さらに、 例えば、 視認側の偏光板の上に設ける光拡散板、 アンチ グレア層、 反射防止膜、 保護層、 保護板、 あるいは液晶セルと視認側の 偏光と板の間に設ける補償用位相差板等の光学部品等を組み合わせても よい。 エレクトロルミネセンス表示装置は、 一般に、 透明基板 （E Lデイス プレイ用基板） 上に、 透明電極と、 発光体 （有機エレクトロルミネセン ス発光体） を含む有機発光層と、 金属電極とが順に積層されることによ つて構成されている。 本発明の E L表示装置においては、 前記本発明の 樹脂シートを E Lディスプレイ用基板として使用すればよく、 この点を 除いて特に限定はされず、 さらに従来公知の各種構成部品を備えても良 い。
前記有機発光層は、 種々の発光体を含む有機薄膜の積層体である。 こ のような積層体としては、 例えば、 トリフエニルァミン誘導体等を含む 正孔注入層と、 アントラセン等の蛍光性有機固体からなる発光層との積 層体や、 前述のような発光層とペリレン誘導体等を含む電子注入層との 積層体、 前述のような正孔注入層と発光層と電子注入層の積層体等があ げられ、 様々な組み合わせが知られている。
有機エレクトロルミネセンス表示装置は、 通常、 透明電極と金属電極 とに電圧を印加することによって、 有機発光層に正孔と電子とが注入さ れ、 これら正孔と電子との再結合によって生じるエネルギーが蛍光物質 等の発光体を励起し、 励起された蛍光物質が基底状態に戻るときに光を 放射するという原理によって発光する。 途中の再結合というメカニズム は、 一般のダイオードと同様であり、 このことからも予想できるように 、 電流と発光強度とは、 印加電圧に対して整流性を伴う強い非線形性を 示す。
有機エレクトロルミネセンス装置においては、 有機発光層における発 光を取り出すために、 少なくとも一方の電極が透明であることが必要で あり、 通常、 酸化インジウムスズ （ I T O ) 等の透明導電体で形成され る透明電極を陽極として使用する。 一方、 電子注入を容易にして発光効 率を上げるには、 陰極に仕事関数の小さな物質を用いることが重要であ り、 通常、 M g— A g、 A 1— L i等の金属電極が使用される。
このような構成の有機エレクトロルミネセンス装置において、 前記有 機発光層は、 例えば、 厚み 1 0 n m程度の極めて薄い膜で形成されるこ とが好ましい。 このような薄さであれば、 例えば、 前記有機発光層も透 明電極と同様に、 光をほぼ完全に透過することができる。 その結果、 非 発光時に透明基板の表面から入射して、 透明電極と有機発光層とを透過 して金属電極において反射した光が、 再び透明基板の表面側へと出るた め、 外部から視認した際に、 有機エレクトロルミネセンス表示装置の表 示面が鏡面のように見えるのである。
本発明の E L装置が、 例えば、 電圧印加によって発光する有機発光層 の表面側に透明電極を備え、 かつ、 有機発光層の裏面側に金属電極を備 えた有機 E L装置の場合、 透明電極の表面側に偏光板を設けるとともに 、 前記透明電極と偏光板との間に位相板を設けることが好ましい。
前記位相板および偏光板は、 外部から入射して金属電極で反射してき た光を偏光させる作用を有するため、 その偏光作用によって金属電極の 鏡面を外部から視認させないという効果がある。 特に、 位相板として 1 / 4波長板を使用し、 かつ、 偏光板と位相板との偏光方向のなす角を、
7T / 4に調整すれば、 金属電極の鏡面を完全に遮蔽することができる。 すなわち、 この有機 E L装置に入射する外部光は、 偏光板により直線偏 光成分のみを透過できる。 この直線偏光は位相板によって一般に楕円偏 光となるが、 特に位相板が 1 Z 4波長板であり、 しかも偏光板と位相板 との偏光方向のなす角が π / 4のときには円偏光となる。 この円偏光は 、 例えば、 透明基板、 透明電極、 有機薄膜を透過し、 金属電極で反射し て、 再び有機薄膜、 透明電極、 透明基板を透過して、 位相板によって再 び直線偏光となる。 そして、 この直線偏光は、 偏光板の偏光方向と直交 しているため、 偏光板を透過できない。 その結果、 金属電極の鏡面を完 全に遮蔽することができるのである。
(実施例）
以下に、 実施例をあげて本発明を説明するが、 本発明はこれら実施例 になんら限定されるものではない。 (実施例 1)
エポキシ樹脂として、 前記式 （2) で示される 3, 4-1ホ。キシシクロへキシルメチル - 3, 4-1ホ。キシシクロへキサンカルホ'キシレ-ト （27重量部） および前記式 （1) で表され るビスフ Xノ-ル A型;]:ホ。キシ榭脂 （商品名 AER 25 0 (エポキシ等量 190) ；旭 化成社製） （73重量部）、 硬化剤として下記式 （6) で示されるメチルへキサヒト '口フタル酸無水物 （88重量部）、 硬化促進剤として下記式 （7) で示される テトラ- n-フ'チルホスホニゥム o，o -シ' Iチルホスホロシ'チォ I-ト （0.9重量部） を攪拌混合して、 エポキシ樹脂混合液を調製した。 そして、 屈折率 1.524、 厚み lOO^mの ガラスクロス （商品名ガラスクロス ； 日東紡社製） を、 前記混合液に浸 漬し、 減圧 （200P a) 条件下で 1 0分間放置することによって、 前記ガ ラスクロス内部に前記混合液を含浸させた。 これによつて、 ガラスクロ スが埋設された前駆層が形成された。
Figure imgf000022_0001
...(7)
Figure imgf000023_0001
一方、 下記式 (8) で示されるウレタンァクリレートをトルエンに溶 解し、 1 7重量％のウレタンァクリレート液を調製した。 そして、 ガラ ス板上に前記ウレタンァクリレ-ト液を流延塗布し、 この塗工膜を風乾によってト ルェン溶媒を揮発させ、 UV硬化装置によって前記塗工膜を硬化させた 。 硬化条件は、 高圧水銀ランプを使用し、 2 0 0mJ/cm2、 1分間と した。 これによつて、 前記ガラス板上に厚み 2 mのハードコート層が 形成された。
Figure imgf000023_0002
続いて、 前記ガラス板上の八一ドコート層に、 前記ガラスクロスが埋 設された前駆層を積層し、 さらに前記前駆層に離型処理されたガラス板 を積層し、 この積層体に加熱処理を施すことによって、 前記前駆層を硬 化させた。 硬化は、 1 2 0°Cで 1時間処理した後、 さらに 1 50°Cで 1 時間処理することによって行った。 前記硬化処理によって、 前記ハード コート層上に、 力'ラスク Πスを含むエポキシ樹脂層が形成された。 なお、 ェポ キシ樹脂を含む硬化物の屈折率は 1.530であるため、 力"ラスクロスと前記硬化 物の屈折率の差は 0. 006であった。 なお、 前記ガラスクロスを除く、 ェポ キシ樹脂を含む樹脂層 （硬化物） の屈折率は、 樹脂シートの製造とは別 個に行った。 すなわちガラスクロスを使用しない以外は、 同様にして前 記エポキシ樹脂混合物を硬化させ、 その硬化物の屈折率を測定し、 これ を屈折率とした （以下、 同様）。
そして、 前記両面のガラス板を剥離し、 ハ一ドコ一ト層とエポキシ樹 脂層との積層体を得た。 これをステンレス板上に配置して、 窒素置換に より酸素濃度を 0. 5 %とした 180°Cの雰囲気中で 1時間放置することによ つてアフターキュアを行った。 このようにして、 ハードコート層と力'ラス クロスを有するエポキシ樹脂層との積層体である樹脂シートが得られた。な お、 この樹脂シートの厚みは、 l l O mであった。
(実施例 2 )
前記式 ( 2 ) で示される 3, 4 -エホ。キシシクロへキシルメチル -3， 4 -エホ。キシシクロへキサンカルホ'、 キシレ-ト （78重量部）、 前記式 （5 ) に示す n = 0 . 2のエポキシ樹脂、 硬 化剤としてメチルナジック酸 （1 10重量部）、 硬化促進剤として前記式 （ 7 ) で示されるテトラ- n-プ'チルホスホニゥム o，o -シ" Iチルホスホロシ"チね-ト ( 2. 0重量部) を 攪拌混合して、 エポキシ樹脂混合液を調製した。 そして、 この混合液と 、 屈折率 1. 513、 厚み のガラスクロス （商品名ガラスクロス ； 日 東紡社製） を使用した以外は、 前記実施例 1 と同様にして、 ハードコー ト層と力'、ラスク Dスを有するエポキシ樹脂層との積層体である樹脂シートを 作製した。 なお、 前記樹脂シートの厚みは 1 1 0 mであり、 エポキシ 樹脂を含む硬化物の屈折率は 1. 514であるため、 力'ラスクロスと前記硬化物の 屈折率の差は 0. 001であった。
(比較例 1 ) この比較例は、 ガラスクロスを含まない樹脂シートの例である。 前記 実施例 1と同様のハードコート層上に、 前記実施例 1と同じエポキシ樹 脂液を流延塗布して前駆層を形成し、 これに加熱処理を施すことによつ て、 前記前駆層を硬化させた。 硬化条件は、 実施例 1と同様とした。 前 記硬化処理によって、前記ハ一ドコート層上に厚み l OO i mのエポキシ樹 脂層が形成された。 つぎに、 前記ハードコート層とエポキシ樹脂層との 積層体を前記エンドレスベルトから剥離し、 前記実施例 1と同じ条件で アフターキュアを行った。 (比較例 2 )
この比較例は、 ガラスクロスに代えてガラスビ一ズを使用した例であ る。 前記実施例 1と同じエポキシ樹脂液に、 平均粒径 1 2 0 の球状 ガラスビーズ (屈折率 1 . 524)を 7 0重量部混合してフィラー含有ェポキ シ樹脂液を調製した以外は、 前記比較例 1と同様の方法で、 ハードコー ト層とエホ。キシ樹脂層との積層体である樹脂シートを製造した。
(比較例 3 )
ガラスクロスとして、 屈折 1 . 558、 厚み 1 0 0 mのガラスクロス （商 品名ガラスクロス ； 日東紡社製） を用いたこと以外は、 前記実施例 2と 同様にして樹脂シートを製造した。 なお、 エポキシ樹脂を含む硬化物の 屈折率は 1 . 514であるため、 力'ラスクロスと前記硬化物の屈折率の差は 0. 044 であった。 以上のようにして得られた各樹脂シートについて、 以下の評価試験を 行った。 これらの結果を下記表 1に示す。
1 . 線膨張係数 商品名 TMAZS S 1 5 0 C (セイコーインスツルメンッ社製） を用 いて、 2 5 °Cおよび 1 6 0 °Cにおける TMA値 （//m) を測定し、 前述 のようにして算出した。
2. 屈曲性試験
前記各樹脂シートを、 直径 3 5mmの鉄柱に巻きつけて、 割れが生じ るか否かを目視で観察した。
3. 光透過率 (%)
前記各樹脂シートについて、 高速分光光度計 （商品名 DOT— 3 C ; 村上色彩技術研究所製） を用いて λ = 5 5 0 nmの全光線透過率を測定 した。
4. 面内位相差 （A n d) および厚み方向位相差 （Rth)
前記各樹脂シートについて、 王子計測機器社製の商品名 K〇B RA21 AD Hを用いて、 590 n mにおける屈折率から面内位相差および厚み方向 位相差を測定した。
5. 表面粗さ
各樹脂シートについて、 触針式表面粗さ測定器 （例えば、 商品名 P— 1 1 ；テンコール社製） を用いて、 長波長力ットオフ 8 0 0 M m、 短波 長カットオフ 2 50 m、 評価長さ 1 0mmの条件で表面粗さ （最大値 と最小値との差） を測定した。 なお、 表面粗さは、 エポキシ樹脂層側表 面と樹脂シートのハードコート層側表面の両方について測定し、 下記表 1においてエポキシ樹脂層側表面の表面粗さを 「Rt(E)」、 ハードコート 層側表面の表面粗さを 「Rt(H)」 で表した。
6. ヘイズ値
各樹脂シートについて、 ヘイズメーター （商品名 HM— 1 5 0 ；村上 色彩社製） を用いてヘイズ値を測定した。 (表 1)
尤透過半 Δ ηα Kill へ 1ノスマ'、値古 t a) 係数（/°C) (%) m) (nm) (%) (um) m) 実施例 1 1.8X10 90 割れない 1.5 42 8 0.7 0.7 実施例 2 1· 5X10 90 割れない 0.2 9 2.5 0.6 0.6 比較例 1 6.5X10一5 92 割れない 0.2 40 0 0.02 0.02 比較例 2 2.6X10"5 89 割れる 0.2 40 10 0.4 0.4 比較例 3 1· 5X10 89 割れない N.D N.D 83 0.6 0.6
N.D ：測定不可 前記表 1に示すように、 比較例 2の樹脂シートは、 ガラスビーズを含 有することによって線膨張係数を低くできたが、 その反面、 屈曲性に劣 り、 割れが生じた。 一方、 ガラスクロスを含まない比較例 1では、 割れ は生じないものの、 非常に線膨張係数が高くなつた。 これに対して、 実 施例 1の樹脂シートは、 線膨張係数が低く、 さらに、 屈曲性および光透 過性にも優れていた。 また、 比較例 3の榭脂シートは、 力'、ラスクロスとエホ。キシ 樹脂硬化物との屈折率差が大きいため、 ヘイズ値が極めて高く、 透過型 の液晶セル基板としては使用できなかった。 以上のことから、 本発明に よれば、 熱膨張係数が低く、 また、 輸送時の衝撃によってもひび割れ難 い、 透明性にも優れた樹脂シートが得られることがわかる。 さらに、 実 施例 2に示すように、 前記式 （5) に示すジシクロペン夕ジェン骨格を 有するエポキシ樹脂を使用することによって、 より一層小さい R t hを 示す樹脂シートを得ることができた。 産業上の利用の可能性
このように、 本発明の樹脂シートは、 ガラス繊維製布状体とエポキシ 樹脂とを含むため、 例えば、 熱膨張等が抑制され、 かつ優れた強度を示 す。 このため、 熱膨張が原因で生じるパターニングのずれが抑制され、 さらに、 運搬時や、 液晶表示装置等の各種表示装置を組み立てる際の衝 撃によっても破断することがなく、 生産効率にも優れる。 さらに、 本発 明の樹脂シートは、 ヘイズ値が 1 0 %以下であるため、 透明性に優れ、 例えば、 透過型の液晶セル基板に有用である。 したがって、 本発明の榭 脂シートを前述のような各種基板として使用すれば、 軽量化、 薄型化の みならず、 優れた強度と透明性を示す各種表示装置や太陽電池を得るこ とができる。

Claims

請 求 の 範 囲
1. エポキシ樹脂およびガラス繊維製布状体を含み、 ヘイズ値が 1 0
%以下である樹脂シ一ト。
2. 前記エポキシ樹脂を含む樹脂層と前記ガラス繊維製布状体とを含 む請求の範囲 1に記載の樹脂シート。
3. 面内位相差が、 2 nm以下である請求の範囲 1に記載の樹脂シ一 卜。
4. 厚み方向位相差が、 40 nm以下である請求の範囲 1に記載の樹 脂シート。
5. 25 °Cから 160 °Cにおける線膨張係数が、 3.00 X 1 0— 5/ °C以下である請求の範囲 1に記載の樹脂シート。
6. 光透過率が、 88 %以上である請求の範囲 1に記載の樹脂シート
7. 表面粗さ （R t) が、 2
Figure imgf000029_0001
ある請求の範囲 1に記載の樹 脂シート。
8. 前記ガラス繊維製布状体の屈折率と、 前記樹脂層の屈折率との差 の絶対値が、 0〜 0.01である請求の範囲 2に記載の樹脂シート。
9. 樹脂シートにおける前記エポキシ樹脂を含む樹脂層の割合が、 2 0〜8 0重量％の範囲である請求の範囲 2に記載の樹脂シート。
1 0. 樹脂シートにおける前記ガラス繊維製布状体の割合が、 2 0〜 8 0重量％の範囲である請求の範囲 1に記載の樹脂シート。
1 1. 前記エポキシ樹脂を含む樹脂層と前記ガラス繊維製布状体とが 一体化した単層体である請求の範囲 2に記載の樹脂シート。
1 2. 前記エポキシ樹脂が前記ガラス繊維製布状体に含浸された状態 で硬化することによって前記樹脂層が形成されている請求の範囲 2に記 載の樹脂シート。
1 3. 前記エポキシ樹脂を含む樹脂層内部に、 前記ガラス繊維製布状 体が、 埋設されている請求の範囲 2に記載の樹脂シート。
14. さらにハードコート層を含む請求の範囲 1に記載の樹脂シ一ト
1 5. さらにガスバリァ層を含む請求の範囲 1に記載の樹脂シ一ト
6. 請求の範囲 1に記載の樹脂シ一トを含む液晶セル基板。
7. 請求の範囲 1 6に記載の液晶セル基板と液晶とを含む液晶セル
1 8 . 請求の範囲 1 7に記載の液晶セルを含む液晶表示装置。
1 9 . 請求の範囲 1に記載の樹脂シートを含む画像表示装置。
2 0 . 請求の範囲 1に記載の樹脂シートを含むエレクトロルミネッセ ンス表示用基板。
2 1 . 請求の範囲 2 0に記載のエレクトロルミネッセンス表示用基板 を含むエレクトロルミネッセンス表示装置。
2 2 . 請求の範囲 1に記載の樹脂シートを含む太陽電池用基板。
2 3 . 請求の範囲 2 2に記載の太陽電池用基板を含む太陽電池。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005052037A1 (ja) * 2003-11-25 2005-06-09 Nitto Denko Corporation 樹脂シート、液晶セル基板、液晶表示装置、エレクトロルミネッセンス表示装置用基板、エレクトロルミネッセンス表示装置および太陽電池用基板
CN100457443C (zh) * 2004-05-26 2009-02-04 日产化学工业株式会社 面发光体
CN103289313A (zh) * 2012-02-27 2013-09-11 河北华强科技开发有限公司 一种改良玻璃钢材料的制备方法

Families Citing this family (41)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4233433B2 (ja) * 2003-11-06 2009-03-04 シャープ株式会社 表示装置の製造方法
JP2005153273A (ja) * 2003-11-25 2005-06-16 Nitto Denko Corp 樹脂シート、液晶セル基板、液晶表示装置、エレクトロルミネッセンス表示装置用基板、エレクトロルミネッセンス表示装置および太陽電池用基板
JP4543776B2 (ja) * 2004-06-24 2010-09-15 住友化学株式会社 位相差板と複合偏光板、それらの製造方法及び液晶表示装置
US20060255486A1 (en) * 2005-05-10 2006-11-16 Benson Olester Jr Method of manufacturing composite optical body containing inorganic fibers
US20060257679A1 (en) * 2005-05-10 2006-11-16 Benson Olester Jr Polymeric optical body containing inorganic fibers
US7903194B2 (en) * 2005-06-24 2011-03-08 3M Innovative Properties Company Optical element for lateral light spreading in back-lit displays and system using same
US7322731B2 (en) * 2005-06-24 2008-01-29 3M Innovative Properties Company Color mixing illumination light unit and system using same
US8023065B2 (en) * 2005-06-24 2011-09-20 3M Innovative Properties Company Optical element for lateral light spreading in edge-lit displays and system using same
WO2007057998A1 (ja) * 2005-11-15 2007-05-24 Nitto Denko Corporation 液晶表示装置
US20070153384A1 (en) * 2005-12-30 2007-07-05 Ouderkirk Andrew J Reinforced reflective polarizer films
US20070153162A1 (en) * 2005-12-30 2007-07-05 Wright Robin E Reinforced reflective polarizer films
US20070237938A1 (en) * 2006-03-31 2007-10-11 3M Innovative Properties Company Reinforced Optical Films
US20070236939A1 (en) * 2006-03-31 2007-10-11 3M Innovative Properties Company Structured Composite Optical Films
US7327923B2 (en) * 2006-03-31 2008-02-05 3M Innovative Properties Company Spiral multilayer fibers
US20070236938A1 (en) * 2006-03-31 2007-10-11 3M Innovative Properties Company Structured Composite Optical Films
US20090090413A1 (en) * 2006-04-18 2009-04-09 Dimitris Elias Katsoulis Cadmium Telluride-Based Photovoltaic Device And Method Of Preparing The Same
ATE448569T1 (de) * 2006-04-18 2009-11-15 Dow Corning Fotovoltaische anordnung auf kupfer-indium- diselenidbasis und herstellungsverfahren dafür
US20090084427A1 (en) * 2006-04-18 2009-04-02 Anderson Nicole R Copper Indium Diselenide-Based Photovoltaic Device And Method Of Preparing the Same
WO2007125815A1 (ja) * 2006-04-24 2007-11-08 Nitto Denko Corporation 画像表示装置用補強シート、画像表示装置およびその補強方法
US7599592B2 (en) * 2006-08-30 2009-10-06 3M Innovative Properties Company Polymer fiber polarizers with aligned fibers
US20080057277A1 (en) * 2006-08-30 2008-03-06 3M Innovative Properties Company Polymer fiber polarizers
US7773834B2 (en) 2006-08-30 2010-08-10 3M Innovative Properties Company Multilayer polarizing fibers and polarizers using same
US20080064131A1 (en) * 2006-09-12 2008-03-13 Mutual-Tek Industries Co., Ltd. Light emitting apparatus and method for the same
JP4920364B2 (ja) * 2006-10-13 2012-04-18 新日鐵化学株式会社 表示装置
JP2008268418A (ja) * 2007-04-18 2008-11-06 Toppan Printing Co Ltd 反射防止フィルム
JP4939301B2 (ja) * 2007-05-17 2012-05-23 日東電工株式会社 光導波路
EP2221335B1 (en) * 2007-11-13 2013-07-17 Nitto Boseki CO., LTD. Nonflammable transparent fiber-reinforced resin sheet and process for production of the same
JP5684502B2 (ja) * 2010-07-12 2015-03-11 ニッタ株式会社 チップ割り無端ベルト
US20130327375A1 (en) * 2011-02-23 2013-12-12 Mitsubishi Rayon Co., Ltd Solar cell module
KR101422659B1 (ko) 2011-05-12 2014-07-23 한국생산기술연구원 신규 옥세탄계 화합물, 그 제조방법, 및 이를 포함하는 디스플레이 기판용 복합시트
JP5938858B2 (ja) * 2011-07-27 2016-06-22 三菱電機株式会社 表示装置
US11264180B2 (en) * 2011-10-11 2022-03-01 Exeger Operations Ab Method for manufacturing dye-sensitized solar cells and solar cells so produced
EP2849170B1 (en) * 2012-05-09 2023-01-11 Dexerials Corporation Image display device manufacturing method
JP2014234500A (ja) * 2013-06-05 2014-12-15 日本化薬株式会社 半導体製造工程用粘着材料
KR102037284B1 (ko) * 2013-07-11 2019-10-29 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치
KR101484088B1 (ko) 2013-07-16 2015-01-21 코닝정밀소재 주식회사 유기발광소자용 광추출 기판, 그 제조방법 및 이를 포함하는 유기발광소자
CN107100008A (zh) * 2016-02-18 2017-08-29 上迈（香港）有限公司 树脂基复合薄膜材料及其制备方法、太阳电池组件
WO2017169985A1 (ja) * 2016-03-30 2017-10-05 日本ゼオン株式会社 有機系太陽電池用シール剤組成物、有機系太陽電池用シール剤、有機系太陽電池用電極および有機系太陽電池
TWI796331B (zh) * 2017-04-26 2023-03-21 美商康寧公司 用於透明複合膜之硬塗層組成物及方法以及包含該膜之可撓性顯示裝置
KR20220073968A (ko) * 2020-11-27 2022-06-03 (주)솔잎기술 플렉시블 복합체 커버 윈도우, 이의 제조방법 및 이를 이용한 디스플레이 디바이스
US11950378B2 (en) * 2021-08-13 2024-04-02 Harbor Electronics, Inc. Via bond attachment

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06238853A (ja) * 1993-02-19 1994-08-30 Toray Ind Inc 透明被膜および導電膜付き樹脂板
JPH06337408A (ja) * 1993-05-31 1994-12-06 Nitto Denko Corp 液晶表示素子用透明樹脂基板
JPH0914806A (ja) * 1995-06-30 1997-01-17 Mitsubishi Electric Corp 氷蓄熱装置とその氷生成方法
EP0769818A2 (en) * 1995-10-17 1997-04-23 Canon Kabushiki Kaisha Solar cell module having a surface side covering material with a specific nonwoven glass fiber member
JP2000159908A (ja) * 1998-11-27 2000-06-13 Showa Highpolymer Co Ltd 熱硬化性透明樹脂シートおよびその製造方法
JP2000307137A (ja) * 1999-04-19 2000-11-02 Dainippon Printing Co Ltd 太陽電池のカバーフィルム、およびそれを用いた太陽電池モジュール
US6204443B1 (en) * 1997-06-09 2001-03-20 Canon Kabushiki Kaisha Solar cell module having a specific front side covering material and a process for the production of said solar cell module
EP1116987A2 (en) * 2000-01-17 2001-07-18 Nitto Denko Corporation Organic electroluminescent device, polarizing surface light source, and liquid-crystal display
JP2002258256A (ja) * 2001-03-05 2002-09-11 Sumitomo Bakelite Co Ltd 反射型液晶表示基板

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3137601A (en) * 1960-12-27 1964-06-16 Kemlite Corp Process of making a glass fiber reinforced panel
US3202826A (en) * 1961-09-01 1965-08-24 Exxon Research Engineering Co Haze meter
US3515619A (en) * 1964-11-19 1970-06-02 Stanley R Barnette Resinous plastic sheets,shapes,panels and slabs simulating obsidian and quartz
US3789049A (en) * 1970-12-23 1974-01-29 Nitto Boseki Co Ltd Glass fiber-reinforced epoxy resin or polyester resin composition and method for manufacturing same
US4165397A (en) * 1974-09-27 1979-08-21 Minnesota Mining And Manufacturing Company Repair of glass laminates
US4116207A (en) * 1977-07-12 1978-09-26 Solarex Corporation Solar panel with mat base member
JPS5478787A (en) 1977-12-06 1979-06-23 Sumitomo Chem Co Ltd Production of transparent glass fiber reinforced resin
JPS601875A (ja) 1983-06-20 1985-01-08 Toshiba Corp 太陽電池パネル
US5730922A (en) * 1990-12-10 1998-03-24 The Dow Chemical Company Resin transfer molding process for composites
US5478682A (en) * 1993-05-27 1995-12-26 Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. Method for domain-dividing liquid crystal alignment film and liquid crystal device using domain-divided alignment film
JP3210513B2 (ja) 1993-12-28 2001-09-17 日東電工株式会社 液晶表示素子用基板
JP3132337B2 (ja) * 1995-03-24 2001-02-05 新神戸電機株式会社 液晶ディスプレイ装置
JP3679478B2 (ja) 1995-11-29 2005-08-03 三洋電機株式会社 折曲できるフィルム状の太陽電池素子
WO1999019900A2 (en) * 1997-10-14 1999-04-22 Patterning Technologies Limited Method of forming an electronic device
JP3303278B2 (ja) 1998-02-02 2002-07-15 日東電工株式会社 偏光面光源装置及び液晶表示装置
JP3386370B2 (ja) * 1998-05-26 2003-03-17 日東電工株式会社 エポキシ系光学シート及びその製造方法
JP2000147429A (ja) 1998-11-10 2000-05-26 Nitto Denko Corp 偏光面光源装置及び液晶表示装置
JP2000147488A (ja) 1998-11-10 2000-05-26 Nitto Denko Corp 偏光面光源装置及び液晶表示装置
JP3956587B2 (ja) * 1999-11-18 2007-08-08 Ｈｏｙａ株式会社 磁気ディスク用ガラス基板の洗浄方法
JP2002351353A (ja) 2000-05-31 2002-12-06 Nitto Denko Corp 粒子分散系樹脂シートおよび液晶表示装置
TWI299419B (en) * 2000-05-31 2008-08-01 Nitto Denko Corp Liquid crystal cell substrate and liquid crystal displays
JP2002313121A (ja) 2001-04-16 2002-10-25 Nitto Denko Corp タッチパネル付照明装置及び反射型液晶表示装置
JP2002333618A (ja) 2001-05-07 2002-11-22 Nitto Denko Corp 反射型液晶表示装置

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06238853A (ja) * 1993-02-19 1994-08-30 Toray Ind Inc 透明被膜および導電膜付き樹脂板
JPH06337408A (ja) * 1993-05-31 1994-12-06 Nitto Denko Corp 液晶表示素子用透明樹脂基板
JPH0914806A (ja) * 1995-06-30 1997-01-17 Mitsubishi Electric Corp 氷蓄熱装置とその氷生成方法
EP0769818A2 (en) * 1995-10-17 1997-04-23 Canon Kabushiki Kaisha Solar cell module having a surface side covering material with a specific nonwoven glass fiber member
US6204443B1 (en) * 1997-06-09 2001-03-20 Canon Kabushiki Kaisha Solar cell module having a specific front side covering material and a process for the production of said solar cell module
JP2000159908A (ja) * 1998-11-27 2000-06-13 Showa Highpolymer Co Ltd 熱硬化性透明樹脂シートおよびその製造方法
JP2000307137A (ja) * 1999-04-19 2000-11-02 Dainippon Printing Co Ltd 太陽電池のカバーフィルム、およびそれを用いた太陽電池モジュール
EP1116987A2 (en) * 2000-01-17 2001-07-18 Nitto Denko Corporation Organic electroluminescent device, polarizing surface light source, and liquid-crystal display
JP2002258256A (ja) * 2001-03-05 2002-09-11 Sumitomo Bakelite Co Ltd 反射型液晶表示基板

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005052037A1 (ja) * 2003-11-25 2005-06-09 Nitto Denko Corporation 樹脂シート、液晶セル基板、液晶表示装置、エレクトロルミネッセンス表示装置用基板、エレクトロルミネッセンス表示装置および太陽電池用基板
JP2005156840A (ja) * 2003-11-25 2005-06-16 Nitto Denko Corp 樹脂シート、液晶セル基板、液晶表示装置、エレクトロルミネッセンス表示装置用基板、エレクトロルミネッセンス表示装置および太陽電池用基板
CN100457443C (zh) * 2004-05-26 2009-02-04 日产化学工业株式会社 面发光体
CN103289313A (zh) * 2012-02-27 2013-09-11 河北华强科技开发有限公司 一种改良玻璃钢材料的制备方法
CN103289313B (zh) * 2012-02-27 2016-03-23 河北华强科技开发有限公司 一种改良玻璃钢材料的制备方法

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