JP3955221B2

JP3955221B2 - フィラー分散系樹脂シート、液晶セル基板および液晶表示装置

Info

Publication number: JP3955221B2
Application number: JP2002063534A
Authority: JP
Inventors: 義昌坂田; 俊志梅原
Original assignee: Nitto Denko Corp
Current assignee: Nitto Denko Corp
Priority date: 2002-03-08
Filing date: 2002-03-08
Publication date: 2007-08-08
Anticipated expiration: 2022-03-08
Also published as: JP2003260768A

Description

【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明はフィラー含有エポキシ樹脂層が２層のフィラー不含有エポキシ樹脂層に挟まれた構成のエポキシ樹脂層を少なくとも有することを特徴とするフィラー分散系樹脂シートや上記フィラー分散系樹脂シートからなる液晶セル基板や上記液晶セル基板を用いた液晶表示装置に関するものである。また本発明は上記フィラー分散系樹脂シートからなるエレクトロルミネッセンスディスプレイ用基板や太陽電池用基板および上記エレクトロルミネッセンスディスプレイ用基板を用いたエレクトロルミネッセンス表示装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示装置やエレクトロルミネッセンス表示装置の大型化に伴い、ガラス系の基板は重くて嵩高いことから、薄型軽量化などを目的にエポキシ系樹脂等からなる樹脂シートが基板として提案され開発されている。しかし前記樹脂シートは熱膨張や水分の出入りによる伸び縮みが起きるため、電極形成時やカラーフィルター形成時には位置ずれが生じることが問題になっていた。そこで粒径が１μｍ未満の無機酸化物を樹脂シートに分散して線膨張係数を抑制することが検討されてきたが、線膨張係数はせいぜい６．００Ｅ−５／℃程度であり、満足のいくレベルではなかった。
また線膨張係数を下げるために１〜１００μｍ程度の大きい粒子を樹脂シートに分散することが検討されてきたが、例えば上記粒子をエポキシ基材層に分散した場合、エポキシ基材塗工液中で上記粒子が浮遊または沈降する結果、粒子含有側と粒子不含有側に分離し、エポキシ樹脂層中で線膨張係数が大きい部位と小さい部位に分かれるので樹脂シートに反り、カールが発生し、作業性が悪く、表示装置を製造することが極めて困難であった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は線膨張係数が小さく、反りやカールのないフィラー分散系樹脂シートや上記フィラー分散系樹脂シートを用いた液晶セル基板および上記液晶セル基板を用いたことを特徴とする液晶表示装置を提供することを課題とする。また本発明は上記フィラー分散系樹脂シートをもちいたエレクトロルミネッセンスディスプレイ用基板や太陽電池用基板および上記エレクトロルミネッセンスディスプレイ用基板をもちいたエレクトロルミネッセンス表示装置を提供することを課題とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明は、フィラー含有エポキシ樹脂層が２層のフィラー不含有エポキシ樹脂層に挟まれた構成のエポキシ樹脂層を少なくとも有し、前記フィラー不含有エポキシ樹脂層はカールおよび反りの少なくとも一方を防止するための層であることを特徴とするフィラー分散系樹脂シートを提供するものである。上記フィラー分散系樹脂シートにはハードコート層やガスバリア層が積層されていることが好ましい。またフィラー含有エポキシ樹脂層の厚み（ｄ１）とフィラー分散系樹脂シートの厚み（ｄ２）の比（ｄ１／ｄ２）が０．１５以上であることが好ましく、フィラーの平均粒径は１〜１００μｍであることが好ましく、２５℃〜１６０℃における線膨張係数は５．００Ｅ−５／℃以下であることが好ましく、最外層の表面粗さ（Ｒａ）は２ｎｍ以下であることが好ましい。また本発明は上記フィラー分散系樹脂シートからなる液晶セル基板や上記液晶セル基板を用いた液晶表示装置を提供するものである。また本発明は、上記フィラー分散系樹脂シートからなるエレクトロルミネッセンスディスプレイ用基板や、上記エレクトロルミネッセンスディスプレイ用基板を用いたエレクトロルミネッセンス表示装置を提供するものである。また本発明は上記フィラー分散系樹脂シートからなる太陽電池用基板を提供するものである。
【０００５】
【発明の実施の形態】
本発明におけるフィラー分散系樹脂シートはフィラー含有エポキシ樹脂層が２層のフィラー不含有エポキシ樹脂層に挟まれた構成のエポキシ樹脂層を少なくとも有し、前記フィラー不含有エポキシ樹脂層はカールおよび反りの少なくとも一方を防止するための層であることを特徴とする。
【０００６】
本発明において、フィラー含有エポキシ樹脂層とフィラー不含有エポキシ樹脂層は線膨張係数が各々異なるが、フィラー含有エポキシ樹脂層が２層のフィラー不含有エポキシ樹脂層に挟まれた構成となることで、反りやカールを防止することが可能になる。
【０００７】
本発明において、フィラー含有エポキシ樹脂層の厚みを（ｄ１）、フィラー分散系樹脂シートの厚み、つまりシート全体の厚みを（ｄ２）とした場合、（ｄ１／ｄ２）は０．１５以上、好ましくは０．５以上、更に好ましくは０．７以上がよい。（ｄ１／ｄ２）が０．１５未満の場合は、フィラー分散系樹脂シートの線膨張係数が大きくなり、電極形成時やカラーフィルター形成時に位置ずれが生じる等の問題が生じる。
【０００８】
フィラー含有エポキシ樹脂層と２層のフィラー不含有エポキシ樹脂層からなるエポキシ樹脂層の厚みは１００〜８００μｍであることが好ましい。エポキシ樹脂層の厚みが１００μｍより小さい場合は表示装置の強度の点で問題があり、８００μｍより大きい場合は、薄型、軽量の特性がなくなり、表示品位の点で問題が生じる。
【０００９】
本発明においては表面平滑性や色相の点でエポキシ樹脂を用いることが必要であるが、エポキシ系樹脂としては、例えば、ビスフェノールＡ型やビスフェノールＦ型、ビスフェノールＳ型やそれらの水添加の如きビスフェノール型、フェノールノボラック型やクレゾールノボラック型の如きノボラック型、トリグリシジルイソシアヌレート型やヒダントイン型の如き含窒素環型、脂環式型や脂肪族型、ナフタレン型の如き芳香族型やグリシジルエーテル型、ビフェニル型の如き低吸水率タイプやジシクロ型、エステル型やエーテルエステル型、それらの変成型などが挙げられる。これらは単独で使用してもあるいは併用してもよい。上記各種エポキシ系樹脂の中でも、変色防止性などの点よりビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、トリグリシジルイソシアヌレート型を用いることが好ましい。
【００１０】
このようなエポキシ系樹脂としては、一般にエポキシ当量１００〜１０００、軟化点１２０℃以下のものが、得られる樹脂シートの柔軟性や強度等の物性などの点より好ましく用いられる。さらに塗工性やシート状への展開性等に優れるエポキシ樹脂含有液を得る点などよりは、塗工時の温度以下、特に常温において液体状態を示す二液混合型のものが好ましく用いうる。
【００１１】
またエポキシ系樹脂は、硬化剤、硬化促進剤、および必要に応じて従来から用いられている老化防止剤、変成剤、界面活性剤、染料、顔料、変色防止剤、紫外線吸収剤等の従来公知の各種添加物を適宜に配合することができる。
【００１２】
前記、硬化剤についても特に限定はなく、エポキシ系樹脂に応じた適宜な硬化剤を１種または２種以上用いることができる。ちなみにその例としては、テトラヒドロフタル酸やメチルテトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸やメチルヘキサヒドロフタル酸の如き有機酸系化合物類、エチレンジアミンやプロピレンジアミン、ジエチレントリアミンやトリエチレンテトラミン、それらのアミンアダクトやメタフェニレンジアミン、ジアミノジフェニルメタンやジアミノジフェニルスルホンの如きアミン系化合物類が挙げられる。
【００１３】
またジシアンジアミドやポリアミドの如きアミド系化合物類、ジヒドラジットの如きヒドラジド系化合物類、メチルイミダゾールや２−エチル−４−メチルイミダゾール、エチルイミダゾールやイソプロピルイミダゾール、２,４−ジメチルイミダゾールやフェニルイミダゾール、ウンデシルイミダゾールやヘプタデシルイミダゾール、２−フェニル−４−メチルイミダゾールの如きイミダゾール系化合物類も前記硬化剤の例として挙げられる。
【００１４】
さらに、メチルイミダゾリンや２−エチル−４−メチルイミダゾリン、エチルイミダゾリンやイソプロピルイミダゾリン、２，４−ジメチルイミダゾリンやフェニルイミダゾリン、ウンデシルイミダゾリンやヘプタデシルイミダゾリン、２−フェニル−４−メチルイミダゾリンの如きイミダゾリン系化合物、その他、フェノール系化合物やユリア系化合物類、ポリスルフィド系化合物類も前記硬化剤の例として挙げられる。
【００１５】
加えて、酸無水物系化合物類なども前記硬化剤の例として挙げられ、変色防止性などの点より、かかる酸無水物硬化剤が好ましく用いうる。その例としては無水フタル酸や無水マレイン酸、無水トリメリット酸や無水ピロメリット酸、無水ナジック酸や無水グルタル酸、テトラヒドロフタル酸無水物やメチルテトラヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水物やメチルヘキサヒドロフタル酸無水物、メチルナジック酸無水物やドデセニルコハク酸無水物、ジクロロコハク酸無水物やベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物やクロレンディック酸無水物などが挙げられる。
【００１６】
特に、無水フタル酸やテトラヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水物やメチルヘキサヒドロフタル酸無水物の如く無色系ないし淡黄色系で、分子量が約１４０〜約２００の酸無水物系硬化剤が好ましく用いうる。
【００１７】
前記エポキシ系樹脂と硬化剤の配合割合は、硬化剤として酸無水物系硬化剤を用いる場合、エポキシ系樹脂のエポキシ基１当量に対して酸無水物当量を０．５〜１．５当量となるように配合することが好ましく、さらに好ましくは０．７〜１．２当量がよい。酸無水物が０．５当量未満では、硬化後の色相が悪くなり、１．５当量を超えると、耐湿性が低下する傾向がみられる。なお他の硬化剤を単独で又は２種以上を併用して使用する場合にも、その使用量は前記の当量比に準じうる。
【００１８】
前記硬化促進剤としては、第三級アミン類、イミダゾール類、第四級アンモニウム塩類、有機金属塩類、リン化合物類、尿素系化合物類等が挙げられるが、特に第三級アミン類、イミダゾール類を用いることが好ましい。これらは単独であるいは併用して使用することができる。
【００１９】
前記硬化促進剤の配合量は、エポキシ系樹脂１００重量部に対して０．０５〜７．０重量部であることが好ましく、さらに好ましくは０．２〜３．０重量部がよい。硬化促進剤の配合量が０．０５重量部未満では、充分な硬化促進効果が得られず、７．０重量部を超えると硬化体が変色するおそれがある。
【００２０】
前記老化防止剤としては、フェノール系化合物、アミン系化合物、有機硫黄系化合物、ホスフィン系化合物等の従来公知のものが挙げられる。
【００２１】
前記変成剤としては、グリコール類、シリコーン類、アルコール類等従来公知のものが挙げられる。
【００２２】
前記界面活性剤は、エポキシ系樹脂シートを流延法等によりエポキシ樹脂を空気に触れながら成形する場合に、シートの表面を平滑にするために添加される。界面活性剤としてはシリコーン系、アクリル系、フッ素系等が挙げられるが、とくにシリコーン系が好ましい。
【００２３】
本発明のフィラー分散系樹脂シートにはハードコート層やガスバリア層が積層されていることが好ましい。本発明において、ガスバリア層は、耐擦傷性や耐薬品性が劣る場合があるので、最外層ではなく層間に積層することが好ましい。
【００２４】
本願発明においてハードコート層を形成する材料としては、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリビニルアルコールやエチレン・ビニルアルコール共重合体の如きポリビニルアルコール系樹脂、塩化ビニル系樹脂や塩化ビニリデン系樹脂が挙げられる。
【００２５】
また、ポリアリレート系樹脂、スルホン系樹脂、アミド系樹脂、イミド系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリエーテルイミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、スチレン系樹脂、ビニルピロリドン系樹脂、セルロース系樹脂やアクリロニトリル系樹脂なども樹脂層の形成に用いることができる。これらの樹脂の中ではウレタン系樹脂が好ましく、ウレタンアクリレートが特に好ましく用いられる。なお樹脂層の形成には、適宜な樹脂の２種以上のブレンド物なども用いることができる。
【００２６】
本発明におけるガスバリア層の材料としてはポリビニルアルコール及びその部分ケン化物、エチレン・ビニルアルコール共重合体等のビニルアルコール系ポリマーや、ポリアクリロニトリル、ポリ塩化ビニリデン等の酸素透過が小さい材料が用いられるが、高ガスバリア性の点よりビニルアルコール系ポリマーが特に好ましい。
【００２７】
上記有機ガスバリア層の厚みは２〜１０μｍが好ましく、さらに好ましくは３〜５μｍがよい。有機ガスバリア層の厚みが２μｍ未満であると十分なガスバリア機能を付与することができず、１０μｍを超えると樹脂シートの黄色度指数（ＹＩ値）が大きくなる。
【００２８】
本発明におけるガスバリア層としては無機ガスバリア層を積層させてもよい。無機ガスバリア層を形成する材料としては、珪素酸化物、マグネシウム酸化物、アルミニウム酸化物や亜鉛酸化物等の透明なガスバリア材料が知られているが、ガスバリア性や基材層への密着性等から珪素酸化物が好ましく用いられる。
【００２９】
珪素酸化物としては珪素原子数に対する酸素原子数の割合が１．５〜２．０であることが無機ガスバリア層のガスバリア性、透明性、表面平坦性、屈曲性、膜応力、コスト等の点から好ましい。珪素原子数に対する酸素原子数の割合が１．５よりも小さくなると屈曲性や透明性が悪くなる。珪素酸化物においては、珪素原子数に対する酸素原子数の割合の最大値が２．０となる。
【００３０】
また無機ガスバリア層を形成する材料としては、珪素窒化物も好ましく用いられ、珪素原子数に対する窒素原子数の割合が１．０〜４／３のものが好ましく用いられる。
【００３１】
また本発明における無機ガスバリア層の厚みは５〜２００ｎｍであることが好ましい。無機ガスバリア層の厚みが５ｎｍより薄くなると良好なガスバリア性が得られず、無機ガスバリア層の厚みが２００ｎｍより厚くなると透明性、屈曲性、膜応力、コストの点で問題がある。
【００３２】
本発明におけるフィラーはソーダガラス、無アルカリガラス、シリカ、二酸化チタン、酸化アンチモン、チタニア、アルミナ、ジルコニアや酸化タングステン等が挙げられる。これらは一種または二種以上の混合物であってもよい。フィラーの粒径は、平均粒径が１〜１００μｍであることが好ましい。より好ましくは５〜８０μｍがよく、更に好ましくは１０〜５０μｍがよい。粒子径が１μｍ未満であると分散性が悪く光透過率が小さくなり、１００μｍを超えると粒子分散系樹脂シートの表面平滑性が悪くなる。
【００３３】
本発明におけるフィラーの添加量は基材層体積に対して１０〜７０体積％であることが好ましく、さらに好ましくは２０〜６５体積％がよい。無機酸化物の添加量が基材層重量に対して１０体積％未満である場合は、粒子分散系樹脂シートの寸法変化が大きくカラーフィルター層のパターニングや電極形成が困難になる。７０体積％を超えると粒子分散系樹脂シートの光透過率と表面平滑性が悪くなる。
【００３４】
本発明における粒子分散系樹脂シートの光透過率は８０％以上であることが好ましく、さらに好ましくは８５％以上がよい。光透過率が８０％未満であると、この粒子分散系樹脂シートを用いて液晶表示装置を組み立てた時の表示が暗くなり、表示品位が低下する。光透過率の測定方法は、分光光度計を用いてλ＝５５０ｎｍの透過率を測定する。
【００３５】
本発明における粒子分散系樹脂シートの２５℃〜１６０℃における線膨張係数は５．００Ｅ−５／℃以下であることが好ましく、さらに好ましくは３．００Ｅ−５／℃以下がよい。
線膨張係数が５．００Ｅ−５／℃を超えるとカラーフィルターを積層する時、パターニングの位置ずれが発生しやすくなる。また粒子分散系樹脂シート上への電極の形成が困難になる。
線膨張係数は、ＪＩＳ規格Ｋ−７１９７に記載のＴＭＡ法により測定し、（式１）により算出することができる。前記式においてΔＩｓ（Ｔ₁）、ΔＩｓ（Ｔ₂）はサンプル測定時の温度Ｔ₁、Ｔ₂（℃）におけるＴＭＡ測定値（μｍ）のことであり、Ｌ₀は室温においてのサンプルの長さ（ｍｍ）のことである。
【式１】

【００３６】
本発明におけるフィラー分散系樹脂シートの最外層はＪＩＳＢ０６０１に記載の中心線平均粗さ（Ｒａ）が２ｎｍ以下、より好ましくは１ｎｍ以下がよい。中心線平均粗さ（Ｒａ）が２ｎｍよりも大きい場合は、配向膜の形成や電極の形成が困難になる。本発明においては耐擦傷性や耐薬品性が良好である点からハードコート層やエポキシ樹脂層が最外層にあることが好ましい。
【００３７】
本発明におけるフィラー分散系樹脂シートにおいては、フィラー含有エポキシ樹脂層が２層のフィラー不含有エポキシ樹脂層に挟まれた構成のエポキシ樹脂層を少なくとも有し、ハードコート層とガスバリア層が積層されており、フィラー含有エポキシ樹脂層の厚み（ｄ１）とフィラー分散系樹脂シートの厚み（ｄ２）の比（ｄ１／ｄ２）が０．１５以上であり、フィラーの平均粒径が１〜１００μｍであり、２５℃〜１６０℃における線膨張係数は５．００Ｅ−５／℃以下であり、且つ、最外層の表面粗さが２ｎｍ以下であるものが最も好ましい。
【００３８】
本発明のフィラー分散系樹脂シートの製造方法は、ハードコート層が形成された支持体上に、逐次塗工でフィラー不含有エポキシ樹脂塗工液を塗布後硬化し、次にフィラー含有エポキシ樹脂塗工液を塗布後硬化し、最後にフィラー不含有エポキシ樹脂塗工液を塗布後硬化することにより形成することができる。またハードコート層が形成された支持体上に、逐次塗工でフィラー不含有エポキシ樹脂塗工液を塗布後硬化し、次にフィラー含有エポキシ樹脂塗工液を塗布し、フィラーを沈降させることで見かけ上、フィラー含有エポキシ樹脂層とフィラー不含有エポキシ樹脂層を同時に形成し硬化してもよい。またハードコート層とエポキシ樹脂層の間にガスバリア層形成樹脂液を塗布後硬化させ、ガスバリア層を形成することもできる。
【００３９】
本発明のフィラー分散系樹脂シートは各種の用途に用いることができ、液晶セル基板やエレクトロルミネッセンスディスプレイ用基板や太陽電池用基板としても好ましく用いられる。
【００４０】
液晶表示装置は一般に、偏光板、液晶セル、反射板又はバックライト、及び必要に応じての光学部品等の構成部品を適宜に組み立てて駆動回路を組み込むことなどにより形成される。本発明においては、上記した樹脂シートを用いる点を除いて特に限定はなく、従来に準じて形成することができる。従って、本発明における液晶表示装置の形成に際しては、例えば視認側の偏光板の上に設ける光拡散板、アンンチグレア層、反射防止膜、保護層、保護板、あるいは液晶セルと視認側の偏光板の間に設ける補償用位相差板などの適宜な光学部品を前記樹脂シートに適宜に組み合わせることができる。
【００４１】
一般に、エレクトロルミネセンス表示装置は、透明基板上に透明電極と有機発光層と金属電極とを順に積層して発光体（有機エレクトロルミネセンス発光体）を形成している。ここで、有機発光層は、種々の有機薄膜の積層体であり、例えばトリフェニルアミン誘導体等からなる正孔注入層と、アントラセン等の蛍光性の有機固体からなる発光層との積層体や、あるいはこのような発光層とペリレン誘導体等からなる電子注入層の積層体や、またあるいはこれらの正孔注入層，発光層，および電子注入層の積層体等、種々の組み合わせをもった構成が知られている。
有機エレクトロルミネセンス装置は、透明電極と金属電極とに電圧を印加することによって、有機発光層に正孔と電子とが注入され、これら正孔と電子との再結合によって生じるエネルギーが蛍光物質を励起し、励起された蛍光物質が基底状態に戻るときに光を放射する、という原理で発光する。途中の再結合というメカニズムは、一般のダイオードと同様であり、このことからも予想できるように、電流と発光強度は印加電圧に対して整流性を伴う強い非線形性を示す。
有機エレクトロルミネセンス装置においては、有機発光層での発光を取り出すために、少なくとも一方の電極が透明でなくてはならず、通常酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）などの透明導電体で形成した透明電極を陽極として用いている。一方、電子注入を容易にして発光効率を上げるには、陰極に仕事関数の小さな物質を用いることが重要で、通常Ｍｇ−Ａｇ、Ａｌ−Ｌｉなどの金属電極を用いている。
このような構成の有機エレクトロルミネセンス装置において、有機発光層は、厚さ１０ｎｍ程度ときわめて薄い膜で形成されている。このため、有機発光層も透明電極と同様、光をほぼ完全に透過する。その結果、非発光時に透明基板の表面から入射し、透明電極と有機発光層とを透過して金属電極で反射した光が、再び透明基板の表面側へと出るため、外部から視認したとき、有機エレクトロルミネセンス装置の表示面が鏡面のように見える。
電圧の印加によって発光する有機発光層の表面側に透明電極を備えるとともに、有機発光層の裏面側に金属電極を備えてなる有機エレクトロルミネセンス発光体を含む有機ＥＬ装置において、透明電極の表面側に偏光板を設けるとともに、これら透明電極と偏光板との間に位相板を設けることができる。
位相板および偏光板は、外部から入射して金属電極で反射してきた光を偏光さる作用を有するため、その偏光作用によって金属電極の鏡面を外部から視認させないという効果がある。特に、位相板を１／４波長板で構成し、かつ偏光板と位相板との偏光方向のなす角をπ／４に調整すれば、金属電極の鏡面を完全に遮蔽することができる。
すなわち、この有機エレクトロルミネセンス装置に入射する外部光は、偏光板により直線偏光成分のみが透過する。この直線偏光は位相板により一般に楕円偏光となるが、とくに位相板が１／４波長板でしかも偏光板と位相板との偏光方向のなす角がπ／４のときには円偏光となる。
この円偏光は、透明基板、透明電極、有機薄膜を透過し、金属電極で反射して、再び有機薄膜、透明電極、透明基板を透過して、位相板に再び直線偏光となる。そして、この直線偏光は、偏光板の偏光方向と直交しているので、偏光板を透過できない。その結果、金属電極の鏡面を完全に遮蔽することができる。
【００４２】
【実施例】
以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、本発明はこれら実施例になんら限定されるものではない。
【００４３】
実施例１：（化１）の化学式で示される３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート１００部（重量部、以下同じ）、（化２）の化学式で示されるメチルヘキサヒドロフタル酸無水物１２５部、（化３）の化学式で示されるテトラ−ｎ−ブチルホスホニウムｏ，ｏ−ジエチルホスホロジチオエート１．２５部、グリセリン２．２５部及びシリコーン系界面活性剤０．０７部を攪拌混合し、更にフィラーとして平均粒径が３０μｍのガラスビーズを３４０部を配合してフィラー含有エポキシ系樹脂液を調製した。
フィラーを添加しなかった事以外は上記と同様にしてフィラー不含有エポキシ樹脂液を調整した。
【化１】

【化２】

【化３】

【００４４】
図１に例示した製造工程に従い、まず（化４）の化学式で示されるウレタンアクリレートの１７重量％のトルエン溶液を、ダイ２１よりステンレス製エンドレスベルト１に走行速度０．３ｍ／分で流延塗布し、風乾してトルエンを揮発させた後、ＵＶ硬化装置を用いて硬化し、膜厚２μｍのハードコート層１０を形成した。続いて、前記フィラー不含有エポキシ系樹脂液をダイ２２よりハードコート層の上に０．３ｍ／分で流延塗布し、加熱装置を用いて硬化させ、膜厚５０μｍのフィラー不含有エポキシ系樹脂層１１を形成した。次にフィラー含有エポキシ樹脂液をダイ２３より０．３ｍ／分で流延塗布し、加熱装置を用いて硬化させ、膜厚３００μｍのフィラー含有エポキシ系樹脂層１２を形成した。次に次にフィラー不含有エポキシ樹脂液をダイ２４より０．３ｍ／分で流延塗布し、加熱装置を用いて硬化させ、膜厚５０μｍのフィラー不含有エポキシ系樹脂層１３を形成した。
【化４】

【００４５】
次にハードコート層、フィラー不含有エポキシ系樹脂層、フィラー含有エポキシ樹脂層、フィラー不含有エポキシ系樹脂層からなる積層体をエンドレスベルトから剥離し、窒素置換により酸素濃度が０．５％の雰囲気下でガラス板上に１８０℃×１時間放置しアフターキュアを行った。
【００４６】
実施例２：フィラー含有エポキシ樹脂層の厚みを２００μｍ、フィラー不含有エポキシ樹脂層の厚みを１００μｍとした以外は実施例１と同様にしてフィラー分散系樹脂シートを作成した。
【００４７】
比較例１：実施例１と同様にしてフィラー含有エポキシ樹脂液、フィラー不含有エポキシ樹脂液を調製した。次にハードコート層により被覆されたステンレス製エンドレスベルト上にフィラー含有エポキシ樹脂液を塗布後硬化させ、続いてフィラー不含有エポキシ樹脂液を塗布後硬化させた。次にハードコート層、フィラー含有エポキシ系樹脂層、フィラー不含有エポキシ樹脂層からなる積層体をエンドレスベルトから剥離し、窒素置換により酸素濃度が０．５％の雰囲気下でガラス板上に１８０℃×１時間放置しアフターキュアを行った。この場合、フィラー含有エポキシ樹脂層の厚みは２００μｍ、フィラー不含有エポキシ樹脂層の厚みは２００μｍであった。
【００４８】
評価試験：光透過率（％）、線膨張係数（／℃）、カール・反り
光透過率は高速分光光度計（島津製作所ＭＰＳ−２０００）を用いてλ＝５５０ｎｍの透過率を測定した。
線膨張係数（／℃）はＴＭＡ／ＳＳ１５０Ｃ（セイコーインスツルメンツ社製）を用いて２５℃および１６０℃におけるＴＭＡ値（μｍ）を測定し、算出した。
カール・反りは目視により、以下の基準で判断した。
○ ：平板上に１辺１０ｃｍの正方形のサンプルを置いた時、平板とサンプル
の距離の最大値が２ｍｍ以下の場合。
× ：平板上に１辺１０ｃｍの正方形のサンプルを置いた時、平板とサンプル
の距離の最大値が２ｍｍより大きい場合。
【００４９】
前記の結果を表１に示した。
【表１】

【００５０】
実施例１〜２のフィラー分散系樹脂シートは、フィラー含有層が２層のフィラー不含有層に挟まれた構成のエポキシ樹脂層を有し、線膨張係数、寸法変化率ともに小さく、高い光透過率を示した。また反りやカールは小さく、作業性が良好なフィラー分散系樹脂シートを得ることができた。
一方、比較例１のフィラー分散系樹脂シートは、エポキシ樹脂層がフィラー含有層とフィラー不含有層の２層からなり、線膨張係数、寸法変化率ともに小さく、高い光透過率を示したが、大きな反りやカールが見られ、作業性が悪かった。
【００５１】
【発明の効果】
本発明のフィラー分散系樹脂シートは、線膨張係数が低く、しかも反りやカールが見られない。従って、本発明のフィラー分散系樹脂シートは作業性が良好であり、電極の形成や配向膜の形成やカラーフィルター層の形成が容易となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】フィラー分散系樹脂シートの製造工程の１例
【図２】本発明のフィラー分散系樹脂シート
【符号の説明】
１：ステンレス製エンドレスベルト
２：駆動ドラム
３：従動ドラム
１０：ハードコート層
１１：フィラー不含有エポキシ樹脂層
１２：フィラー含有エポキシ樹脂層
１３：フィラー不含有エポキシ樹脂層
２１：ハードコート層塗布用ダイ
２２：フィラー不含有エポキシ樹脂層塗布用ダイ
２３：フィラー含有エポキシ樹脂層塗布用ダイ
２４：フィラー不含有エポキシ樹脂層塗布用ダイ
３１：ＵＶ硬化装置
３２：乾燥機
３３：乾燥機
３４：乾燥機

Claims

フィラー含有エポキシ樹脂層が２層のフィラー不含有エポキシ樹脂層に挟まれた構成のエポキシ樹脂層を少なくとも有し、前記フィラー不含有エポキシ樹脂層はカールおよび反りの少なくとも一方を防止するための層であることを特徴とするフィラー分散系樹脂シート。
請求項１に記載のフィラー分散系樹脂シートにハードコート層が積層されていることを特徴とするフィラー分散系樹脂シート。
請求項１または２に記載のフィラー分散系樹脂シートにガスバリア層が積層されていることを特徴とするフィラー分散系樹脂シート。
フィラー含有エポキシ樹脂層の厚み（ｄ１）とフィラー分散系樹脂シートの厚み（ｄ２）の比（ｄ１／ｄ２）が０．１５以上であることを特徴とする請求項１〜３に記載のフィラー分散系樹脂シート。
フィラーの平均粒径が１〜１００μｍであることを特徴とする請求項１〜４に記載のフィラー分散系樹脂シート。
２５℃〜１６０℃における線膨張係数が５．００Ｅ−５／℃以下であることを特徴とする請求項１〜５に記載のフィラー分散系樹脂シート。
最外層の表面粗さ（Ｒａ）が２ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１〜６に記載のフィラー分散系樹脂シート。
請求項１〜７に記載のフィラー分散系樹脂シートからなる液晶セル基板。
請求項８に記載の液晶セル基板を用いることを特徴とする液晶表示装置。
請求項１〜７に記載のフィラー分散系樹脂シートからなるエレクトロルミネッセンスディスプレイ用基板。
請求項１０に記載のエレクトロルミネッセンスディスプレイ用基板を用いたことを特徴とするエレクトロルミネッセンス表示装置。
請求項１〜７に記載のフィラー分散系樹脂シートからなる太陽電池用基板。