JP2004115733A - 粒子分散系樹脂シート、画像表示装置用基板、画像表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】照明光や液晶表示装置内蔵のバックライトに起因するギラツキを防止する光拡散機能を有し、薄型かつ軽量であり、強靭で割れ難い液晶セル基板や有機ＥＬ表示装置用基板等の各種画像表示装置用の基板等を形成しうる粒子分散系樹脂シート、およびそれを用いた画像表示装置を提供する。
【解決手段】ビスフェノールＳ型骨格を有するエポキシ樹脂と光拡散剤とを含むエポキシ樹脂層を、少なくとも有することを特徴とする粒子分散系樹脂シート。エポキシ樹脂層がビスフェノールＳ型骨格を有するエポキシ樹脂と脂環式エポキシ樹脂とを含む場合は、耐熱性と強度の良好なバランスがとれており、しかも光透過率が高いので、各種画像表示装置の基板等として好ましく用いることができる。
【選択図】　図１

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶セル基板、エレクトロルミネッセンスディスプレイ用基板等に用いうる粒子分散系樹脂シート、およびそれを用いた液晶表示装置、エレクトロルミネッセンス表示装置等の各種画像表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示装置やエレクトロルミネッセンス表示装置の大型化に伴い、ガラス系の基板は重くて嵩高いことから、薄型軽量化などを目的にエポキシ系樹脂等からなる樹脂シートが基板として提案され開発されている（例えば、特許文献１参照。）。しかし、このようなエポキシ樹脂等からなる樹脂シートの強度は使用に耐えうるレベルではあるが、運搬時や液晶表示装置の組み立て時に破断する場合があり、より強度のある樹脂シートの開発が要求されてきた。
【０００３】
また、前記樹脂シートは熱膨張や水分の出入りによる伸び縮みが起きるため、電極形成時やカラーフィルター形成時には位置ずれが生じることが問題になっていた。特にカラーフィルターの形成時には、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）、およびＢＭ（ブラックマトリックス）を所定の位置に精度よく形成する必要があり、従来の樹脂シートではその精度を上げることが困難であった。カラーフィルターの形成は、まずＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）、およびＢＭ（ブラックマトリックス）のいずれか１つのパターニングを室温で約２時間かけて行った後、１５０℃で２０分間焼成を行い、次に再び室温に戻し、次の色のパターニングを室温で約２時間かけて行い、１５０℃で２０分間焼成を行う。このようにパターニングと焼成の組み合わせを４色すべてについて行う。樹脂シートにカラーフィルターを形成する場合は、焼成後室温でパターニングを行っている間に基板の寸法が変化し、パターニングの位置ずれが生じることが問題になっている。
【０００４】
さらに、液晶表示装置等の表示装置においては、透明粒子を有する光拡散シートを液晶セルの視認側に貼り付け、照明光や液晶表示装置内蔵のバックライトに起因するギラツキを防止し、視認性を向上させる方法が知られている（例えば、特許文献２参照。）。しかし、液晶表示装置の薄型化、軽量化の点から、光拡散シートを液晶セルの視認側に貼り付ける代わりに、光拡散機能を液晶セル基板に付与することが検討されている。
【０００５】
【特許文献１】
特許第３１９７７１６号公報
【特許文献２】
特開平１１−３３３８６６号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、照明光や液晶表示装置内蔵のバックライトに起因するギラツキを防止する光拡散機能を有し、薄型かつ軽量であり、強靭で割れ難い液晶セル基板やエレクトロルミネッセンス表示装置（以下、有機ＥＬ表示装置）用基板等の画像表示装置用の基板等を形成しうる粒子分散系樹脂シート、およびそれを用いた液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置等の画像表示装置を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、前記課題を解決するため鋭意検討した結果、ビスフェノールＳ型骨格を有するエポキシ樹脂を基材とし、これに該エポキシ樹脂とは屈折率が相違する光拡散剤を分散させて樹脂シートを形成することにより、前記課題を効果的に解決しうることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００８】
すなわち、本発明は、ビスフェノールＳ型骨格を有するエポキシ樹脂と、該エポキシ樹脂とは屈折率が相違する光拡散剤とを含むエポキシ樹脂層を、少なくとも有することを特徴とする粒子分散系樹脂シートを提供するものである。この光拡散剤とビスフェノールＳ型骨格を有するエポキシ樹脂の屈折率を異なるものとすることにより、当該樹脂シートに入射した光が光拡散剤により拡散されることになる。
【０００９】
前記の粒子分散系樹脂シートにおいて、前記エポキシ樹脂層は、さらに脂環式エポキシ樹脂を含むことが好ましい。
【００１０】
前記のエポキシ樹脂層において、ビスフェノールＳ型骨格を有するエポキシ樹脂の比率が３〜６０重量％であることが好ましく、光拡散剤の比率が０．１〜３０重量％であることが好ましい。
【００１１】
また、本発明の粒子分散系樹脂シートにおいては、前記光拡散剤の平均粒子径が１０ｎｍ〜１００μｍであることが好ましい。
【００１２】
前記のエポキシ樹脂層において、ビスフェノールＳ型骨格を有するエポキシ樹脂と光拡散剤との屈折率差は０．０３〜０．１０であることが好ましい。
【００１３】
本発明の粒子分散系樹脂シートは、前記のエポキシ樹脂層にさらに、ハードコート層及びガスバリア層の少なくとも一方が積層されていることが好ましい。
【００１４】
前記の粒子分散系樹脂シートは、ガラス転移温度（Ｔｇ）が１７０℃以上であることが好ましく、光透過率が８８％以上であることが好ましい。
【００１５】
また、前記の粒子分散系樹脂シートは、＃２０００のペーパーで裏面に深さ約１μｍの傷をつけた樹脂シートを表面無垢平板と２０ｍｍφの穴を設けた平板の間に挟んで水平方向に設置し、四隅を固定した後、前記樹脂シートが露出した２０ｍｍφのエリアの中心部分に正面垂直方向から１０ｍｍφの球形先端を有する支持棒で荷重を加えていった時の樹脂シートの破断強度が６０Ｎ以上であることが好ましい。
【００１６】
また、本発明は、前記の粒子分散系樹脂シートからなることを特徴とする画像表示装置用基板、太陽電池用基板、およびこれらを用いた画像表示装置を提供するものである。画像表示装置用基板としては、例えば、液晶セル基板、有機ＥＬ表示装置用基板等があげられる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
本発明の粒子分散系樹脂シートは、ビスフェノールＳ型骨格を有するエポキシ樹脂と光拡散剤とを含むエポキシ樹脂層を少なくとも有するものである。このエポキシ樹脂層には、ガスバリア層、ハードコート層が積層されていてもよい。また、ハードコート層は透明粒子を含有するものでもよい。エポキシ樹脂層、ガスバリア層およびハードコート層の積層順は特に限定されない。また、ガスバリア層やハードコート層は、複数層積層されていてもよく、エポキシ樹脂層の両面に形成されていてもよい。
【００１８】
本発明において用いるビスフェノールＳ型骨格を有するエポキシ樹脂の構造は（化１）の化学式で例示されるものが代表的なものである。またビスフェノールＳ型骨格を有するエポキシ樹脂としては、エポキシ当量２００〜４００（ｇ／ｅｑ）、融点６０〜９０℃のものを用いるのが好ましく、より好ましくはエポキシ当量２５０〜３５０（ｇ／ｅｑ）、融点７０〜８５℃のものがよい。
【００１９】
【化１】

【００２０】
本発明においてエポキシ樹脂層は、ビスフェノールＳ型骨格を有するエポキシ樹脂を含むことが必要であるが、他のエポキシ樹脂を適宜混合してエポキシ樹脂層を形成してもよい。
【００２１】
他のエポキシ系樹脂としては、例えば、ビスフェノールＡ型やビスフェノールＦ型やそれらの水添加の如きビスフェノール型、フェノールノボラック型やクレゾールノボラック型の如きノボラック型、トリグリシジルイソシアヌレート型やヒダントイン型の如き含窒素環型、脂環式型や脂肪族型、ナフタレン型の如き芳香族型やグリシジルエーテル型、ビフェニル型の如き低吸水率タイプやジシクロ型、エステル型やエーテルエステル型、それらの変成型などが挙げられる。
【００２２】
上記エポキシ樹脂の中では、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂と組み合わせて、耐熱性と強靭性の良好なバランスを有する樹脂シート得るためには、脂環式エポキシ樹脂が好ましく用いられる。
【００２３】
脂環式エポキシ樹脂としては、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、２，２−ビス（ヒドロキシルメチル）−１−ブタノールの１，２−エポキシ−４−（２−オキシラニル）シクロヘキサン付加物等を例示することができ、塗工液の流動性や硬化後の耐熱性の点で３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレートが好ましく用いられる。
【００２４】
エポキシ樹脂層中におけるビスフェノールＳ型骨格を有するエポキシ樹脂の比率は３〜６０重量％であることが好ましく、より好ましくは５〜４０重量％がよく、更に好ましくは１５〜３５重量％がよい。ビスフェノールＳ型骨格を有するエポキシ樹脂の比率が３％よりも小さい場合は、十分な強靭性を有する樹脂シートを得ることができず、運搬時や液晶表示装置の組み立て時に破断する場合がある。ビスフェノールＳ型骨格を有するエポキシ樹脂の比率が６０％よりも大きい場合は、エポキシ樹脂層を形成する場合、塗工液の粘度が高くなるため、流動性が悪くなり塗工が困難になる。また硬化後の樹脂シートの耐熱性が低下する。
【００２５】
上記エポキシ系樹脂には、硬化剤、硬化促進剤、および必要に応じて従来から用いられている老化防止剤、変成剤、界面活性剤、染料、顔料、変色防止剤、紫外線吸収剤等の従来公知の各種添加物を適宜に配合することができる。
【００２６】
前記、硬化剤についても特に限定はなく、エポキシ系樹脂に応じた適宜な硬化剤を１種または２種以上用いることができる。ちなみにその例としては、テトラヒドロフタル酸やメチルテトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸やメチルヘキサヒドロフタル酸の如き有機酸系化合物類、エチレンジアミンやプロピレンジアミン、ジエチレントリアミンやトリエチレンテトラミン、それらのアミンアダクトやメタフェニレンジアミン、ジアミノジフェニルメタンやジアミノジフェニルスルホンの如きアミン系化合物類が挙げられる。
【００２７】
またジシアンジアミドやポリアミドの如きアミド系化合物類、ジヒドラジットの如きヒドラジド系化合物類、メチルイミダゾールや２−エチル−４−メチルイミダゾール、エチルイミダゾールやイソプロピルイミダゾール、２，４−ジメチルイミダゾールやフェニルイミダゾール、ウンデシルイミダゾールやヘプタデシルイミダゾール、２−フェニル−４−メチルイミダゾールの如きイミダゾール系化合物類も前記硬化剤の例として挙げられる。
【００２８】
さらに、メチルイミダゾリンや２−エチル−４−メチルイミダゾリン、エチルイミダゾリンやイソプロピルイミダゾリン、２，４−ジメチルイミダゾリンやフェニルイミダゾリン、ウンデシルイミダゾリンやヘプタデシルイミダゾリン、２−フェニル−４−メチルイミダゾリンの如きイミダゾリン系化合物、その他、フェノール系化合物やユリア系化合物類、ポリスルフィド系化合物類も前記硬化剤の例として挙げられる。
【００２９】
加えて、酸無水物系化合物類なども前記硬化剤の例として挙げられ、変色防止性などの点より、かかる酸無水物硬化剤が好ましく用いうる。その例としては無水フタル酸や無水マレイン酸、無水トリメリット酸や無水ピロメリット酸、無水ナジック酸や無水グルタル酸、テトラヒドロフタル酸無水物やメチルテトラヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水物やメチルヘキサヒドロフタル酸無水物、メチルナジック酸無水物やドデセニルコハク酸無水物、ジクロロコハク酸無水物やベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物やクロレンディック酸無水物などが挙げられる。
【００３０】
特に、無水フタル酸やテトラヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水物やメチルヘキサヒドロフタル酸無水物の如く無色系ないし淡黄色系で、分子量が約１４０〜約２００の酸無水物系硬化剤が好ましく用いられる。
【００３１】
前記エポキシ系樹脂と硬化剤の配合割合は、硬化剤として酸無水物系硬化剤を用いる場合、エポキシ系樹脂のエポキシ基１当量に対して酸無水物当量を０．５〜１．５当量となるように配合することが好ましく、さらに好ましくは０．７〜１．２当量がよい。酸無水物が０．５当量未満では、硬化後の色相が悪くなり、１．５当量を超えると、耐湿性が低下する傾向がみられる。なお他の硬化剤を単独で又は２種以上を併用して使用する場合にも、その使用量は前記の当量比に準じうる。
【００３２】
前記硬化促進剤としては、第三級アミン類、イミダゾール類、第四級アンモニウム塩類、有機金属塩類、リン化合物類、尿素系化合物類等が挙げられるが、特にリン化合物類を用いることが好ましい。これらは単独であるいは併用して使用することができる。
【００３３】
前記硬化促進剤の配合量は、エポキシ系樹脂１００重量部に対して０．０５〜７．０重量部であることが好ましく、さらに好ましくは０．２〜３．０重量部がよい。硬化促進剤の配合量が０．０５重量部未満では、充分な硬化促進効果が得られず、７．０重量部を超えると硬化体が変色するおそれがある。
【００３４】
前記老化防止剤としては、フェノール系化合物、アミン系化合物、有機硫黄系化合物、ホスフィン系化合物等の従来公知のものが挙げられる。
【００３５】
前記変成剤としては、グリコール類、シリコーン類、アルコール類等従来公知のものが挙げられる。
【００３６】
前記界面活性剤は、エポキシ系樹脂シートを流延法等によりエポキシ樹脂を空気に触れながら硬化する場合に、シートの表面を平滑にするために添加される。界面活性剤としてはシリコーン系、アクリル系、フッ素系等が挙げられるが、とくにシリコーン系が好ましい。
【００３７】
本発明の粒子分散系樹脂シートにおいては、ビスフェノールＳ型骨格を有するエポキシ樹脂とは屈折率が相違する光拡散剤がエポキシ樹脂層に分散されている。エポキシ樹脂層全重量に対する光拡散剤の比率は０．１〜３０重量％であることが好ましく、より好ましくは０．１〜２０重量％、さらに好ましくは０．５〜１０重量％であるのがよい。ここで、光拡散剤が分散されているとは、光拡散剤がエポキシ樹脂層の一部に偏在することなく、エポキシ樹脂層の全域において存在している状態をいう。エポキシ樹脂層は光拡散剤を含有することで光拡散機能が付与される。光拡散機能は、後述する光拡散剤の種類や屈折率、比重等の特性を変えることにより、エポキシ樹脂層中の分散状態や光の反射状態などが変化するのに伴って変化する。光拡散機能が付与されることにより、照明光や液晶表示装置内蔵のバックライトに起因するギラツキを防止し視認性を向上させることができる。
【００３８】
前記の光拡散剤としては、Ｓｉ系化合物、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化錫、酸化インジウム、酸化カドミウムや酸化アンチモン等からなる無機系粒子やアクリル系樹脂やメラミン系樹脂等からなる有機系粒子、および該無機系粒子を該有機系粒子でコーティングした粒子などが挙げられる。
【００３９】
光拡散剤の粒径は、光学特性が落ちる可能性もあるが、十分な光拡散性を得るために平均粒径が１０ｎｍ〜１００μｍがよい。
【００４０】
光拡散剤とビスフェノールＳ骨格を有するエポキシ樹脂との屈折率差は０．０３〜０．１０であることが好ましい、屈折率差が０．０３よりも小さい場合や０．１０よりも大きい場合は十分な光拡散機能を付与することができなくなる。
【００４１】
前記の光拡散剤の添加量は、ビスフェノールＳ骨格を有するエポキシ樹脂１００重量部あたり１００重量部以下、好ましくは１〜５０重量部、更に好ましくは２〜３０重量部がよい。
【００４２】
エポキシ樹脂層の形成法は、特に制限されず、適宜な方式を採用することができる。例えば、所定の材料成分を配合したエポキシ樹脂塗工液を調製し、これを基材上に展開する。エポキシ樹脂塗工液の展開は、ロールコート法、スピンコート法、ワイヤバーコート法、ディップコート法、エクストルージョン法、カーテンコート法、スプレコート法などの適宜な方式にてエポキシ樹脂塗工液を基材層の上に流動展開させてシート状の展開層を形成することにより行うことができる。必要に応じて加熱処理、光照射処理ないし硬化処理することで被膜化する。なお、基材層はガスバリア層等であってもよい。
【００４３】
エポキシ樹脂層の厚さは、粒子分散系樹脂シートの使用目的などに応じ５０μｍ以上の厚さで適宜に決定することができる。一般には、剛直性ないし柔軟性や薄型軽量性等のシートとしての特性を活かす点などより１ｍｍ以下、好ましくは９００μｍ以下、特に８００μｍ以下とされる。なお光学用途などでは２００〜５００μｍの厚さが有利な場合も多い。
【００４４】
本発明におけるエポキシ樹脂層には、ハードコート層やガスバリア層が積層されていることが好ましい。ハードコート層を樹脂シートの特に外面に形成することにより、シートの耐擦傷性等を高めることができる。また画像表示装置においては、水分や酸素が液晶セル基板を透過してセル内に侵入すると、液晶の変質や気泡の形成による外観不良、透明導電膜パターンの断線などを発生させるおそれがあるが、ガスバリア層を設けることで、水分やガス透過を防止することができる。
【００４５】
本発明においてハードコート層を形成する材料としては、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリビニルアルコールやエチレン・ビニルアルコール共重合体の如きポリビニルアルコール系樹脂、塩化ビニル系樹脂や塩化ビニリデン系樹脂が挙げられる。
【００４６】
また、ポリアリレート系樹脂、スルホン系樹脂、アミド系樹脂、イミド系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリエーテルイミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、スチレン系樹脂、ビニルピロリドン系樹脂、セルロース系樹脂やアクリロニトリル系樹脂などもハードコート層の形成に用いることができる。これらの樹脂の中ではウレタン系樹脂が好ましく、ウレタンアクリレートが特に好ましく用いられる。なおハードコート層の形成には、適宜な樹脂の２種以上のブレンド物なども用いることができる。
【００４７】
ハードコート層の形成法は、特に制限されず、適宜な方式を採用することができる。例えば、ハードコート層形成樹脂溶液に透明粒子を含有させて塗工液を調製し、これをロールコート法、スピンコート法、ワイヤバーコート法、ディップコート法、エクストルージョン法、カーテンコート法、スプレコート法などの適宜な方式にて塗布後乾燥等させることにより透明粒子を含有したハードコート層を形成することができる。乾燥後、必要に応じて加熱処理、光照射処理ないし硬化処理することで被膜化する。
【００４８】
ハードコート層の厚さは、適宜に決定しうるが、一般には製造時の易剥離性や剥離の際にヒビ割れの生じることを防止する点などより、１〜１０μｍ、好ましくは８μｍ以下、特に２〜５μｍとすることが好ましい。
【００４９】
本発明におけるガスバリア層の材料としては、ポリビニルアルコール及びその部分ケン化物、エチレン・ビニルアルコール共重合体等のビニルアルコール系ポリマーや、ポリアクリロニトリル、ポリ塩化ビニリデン等の酸素透過が小さい材料が用いられるが、高ガスバリア性の点よりビニルアルコール系ポリマーが特に好ましい。
【００５０】
ガスバリア層の形成法は、特に制限されず、適宜な方式を採用することができる。また、ガスバリア層の厚みは、透明性、着色防止、ガスバリア性等の機能性、薄型化、得られるエポキシ樹脂シートのフレキシビリティーなどの点により１５μｍ以下、好ましくは１３μｍ以下、さらに好ましくは２〜１０μｍ、特に好ましくは３〜５μｍの厚さにするのがよい。ガスバリア層の厚みが２μｍ未満であると十分なガスバリア機能を付与することができず、１０μｍを超えると樹脂シートの黄色度指数（ＹＩ値）が大きくなる。
【００５１】
本発明におけるガスバリア層としては無機ガスバリア層を積層させてもよい。無機ガスバリア層を形成する材料としては、珪素酸化物、マグネシウム酸化物、アルミニウム酸化物や亜鉛酸化物等の透明なガスバリア材料が知られているが、ガスバリア性や基材層への密着性等から珪素酸化物が好ましく用いられる。
【００５２】
珪素酸化物としては珪素原子数に対する酸素原子数の割合が１．５〜２．０であることが無機ガスバリア層のガスバリア性、透明性、表面平坦性、屈曲性、膜応力、コスト等の点から好ましい。珪素原子数に対する酸素原子数の割合が１．５よりも小さくなると屈曲性や透明性が悪くなる。珪素酸化物においては、珪素原子数に対する酸素原子数の割合の最大値が２．０となる。
【００５３】
また無機ガスバリア層を形成する材料としては、珪素窒化物も好ましく用いられ、珪素原子数に対する窒素原子数の割合が１．０〜４／３のものが好ましく用いられる。
【００５４】
また本発明における無機ガスバリア層の厚みは５〜２００ｎｍであることが好ましい。無機ガスバリア層の厚みが５ｎｍより薄くなると良好なガスバリア性が得られず、無機ガスバリア層の厚みが２００ｎｍより厚くなると透明性、屈曲性、膜応力、コストの点で問題がある。
【００５５】
本発明の樹脂シートのガラス転移温度（Ｔｇ）は１７０℃以上であることが好ましく、より好ましくは１９０℃以上がよく、更に好ましくは２００℃以上がよい。樹脂シートのガラス転移温度（Ｔｇ）は１７０℃より小さい場合は、無機ガスバリア層の積層時に反りや変形するという問題が生じる。
【００５６】
本発明における樹脂シートの光透過率は８８％以上であることが好ましく、より好ましくは９０％以上がよく、更に好ましくは９１％以上がよい。光透過率が８８％未満であると、この樹脂シートを用いて液晶表示装置等の画像表示装置を組み立てた時の表示が暗くなり、表示品位が低下する。光透過率の測定方法は、高速分光光度計を用いてλ＝５５０ｎｍの透過率を測定する。
【００５７】
本発明においては、＃２０００のペーパーで裏面に深さ約１μｍの傷をつけた樹脂シートを表面無垢平板と２０ｍｍφの穴を設けた平板の間に挟んで水平方向に設置し、四隅を固定した後、正面垂直方向から樹脂シートが露出した２０ｍｍφのエリアの中心部分に１０ｍｍφのステンレス球を有する支持棒で荷重を加えていった時の樹脂シートの破断強度が６０Ｎ以上であることが好ましい。
【００５８】
ここで、破断強度の測定方法について、図４に基づいて説明する。まず約３０ｍｍ×３０ｍｍの大きさの樹脂シートを準備し、下方の表面無垢平板（１５）と上方の２０ｍｍφの穴を有する平板（１４）の間に挟んで水平方向に設置し、四隅を止め具（１３）で固定する。表面無垢平板や２０ｍｍφの穴を有する平板の厚みは特に限定されないが、５ｍｍ〜３０ｍｍ程度のものを好ましく用いることができる。測定条件については、１０ｍｍφのステンレスよりなる球（１１）を有する支持棒（１２）を、２０ｍｍφの穴の中央部に１００ｍｍ／ｍｉｎの速度で押し当てるように設定を行う。破断強度とは樹脂シートが破断した時の力のことである。
【００５９】
破断強度測定時の断面図を図５に例示する。樹脂シート（１６）が、図４に例示した装置の２０ｍｍφの穴を有する平板（１４）と表面無垢平板（１５）との間にセッティングされる。そして、そのセッティング前に、前記樹脂シート（１６）の下方面つまり前記表面無垢平板（１５）と接触する側を、＃２０００のペーパーで擦る必要がある。具体的には図６に例示のように約１５ｍｍ×１５ｍｍの範囲（１８）を＃２０００のペーパーで擦ることで、深さ約１μｍの傷をつけることができる。破断強度の測定は、傷の深さを表面粗さ計等で確認後、部位（１７）にステンレス球を押し当てて測定する。
【００６０】
本発明の粒子分散系樹脂シートは各種の用途に用いることができ、液晶セル基板やエレクトロルミネッセンスディスプレイ用基板や太陽電池用基板としても好ましく用いられる。
【００６１】
液晶表示装置は一般に、偏光板、液晶セル、反射板又はバックライト、及び必要に応じての光学部品等の構成部品を適宜に組み立てて駆動回路を組み込むことなどにより形成される。本発明においては、上記した樹脂シートを用いる点を除いて特に限定はなく、従来に準じて形成することができる。従って、本発明における液晶表示装置の形成に際しては、例えば視認側の偏光板の上に設ける光拡散板、アンンチグレア層、反射防止膜、保護層、保護板、あるいは液晶セルと視認側の偏光板の間に設ける補償用位相差板などの適宜な光学部品を前記樹脂シートに適宜に組み合わせることができる。
【００６２】
一般に、エレクトロルミネセンス表示装置は、透明基板上に透明電極と有機発光層と金属電極とを順に積層して発光体（有機エレクトロルミネセンス発光体）を形成している。ここで、有機発光層は、種々の有機薄膜の積層体であり、例えばトリフェニルアミン誘導体等からなる正孔注入層と、アントラセン等の蛍光性の有機固体からなる発光層との積層体や、あるいはこのような発光層とペリレン誘導体等からなる電子注入層の積層体や、またあるいはこれらの正孔注入層，発光層，および電子注入層の積層体等、種々の組み合わせをもった構成が知られている。
【００６３】
有機エレクトロルミネセンス装置は、透明電極と金属電極とに電圧を印加することによって、有機発光層に正孔と電子とが注入され、これら正孔と電子との再結合によって生じるエネルギーが蛍光物質を励起し、励起された蛍光物質が基底状態に戻るときに光を放射する、という原理で発光する。途中の再結合というメカニズムは、一般のダイオードと同様であり、このことからも予想できるように、電流と発光強度は印加電圧に対して整流性を伴う強い非線形性を示す。
【００６４】
有機エレクトロルミネセンス装置においては、有機発光層での発光を取り出すために、少なくとも一方の電極が透明でなくてはならず、通常酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）などの透明導電体で形成した透明電極を陽極として用いている。一方、電子注入を容易にして発光効率を上げるには、陰極に仕事関数の小さな物質を用いることが重要で、通常Ｍｇ−Ａｇ、Ａｌ−Ｌｉなどの金属電極を用いている。
【００６５】
このような構成の有機エレクトロルミネセンス装置において、有機発光層は、厚さ１０ｎｍ程度ときわめて薄い膜で形成されている。このため、有機発光層も透明電極と同様、光をほぼ完全に透過する。その結果、非発光時に透明基板の表面から入射し、透明電極と有機発光層とを透過して金属電極で反射した光が、再び透明基板の表面側へと出るため、外部から視認したとき、有機エレクトロルミネセンス装置の表示面が鏡面のように見える。
【００６６】
電圧の印加によって発光する有機発光層の表面側に透明電極を備えるとともに、有機発光層の裏面側に金属電極を備えてなる有機エレクトロルミネセンス発光体を含む有機ＥＬ装置において、透明電極の表面側に偏光板を設けるとともに、これら透明電極と偏光板との間に位相板を設けることができる。
【００６７】
位相板および偏光板は、外部から入射して金属電極で反射してきた光を偏光させる作用を有するため、その偏光作用によって金属電極の鏡面を外部から視認させないという効果がある。特に、位相板を１／４波長板で構成し、かつ偏光板と位相板との偏光方向のなす角をπ／４に調整すれば、金属電極の鏡面を完全に遮蔽することができる。
【００６８】
すなわち、この有機エレクトロルミネセンス装置に入射する外部光は、偏光板により直線偏光成分のみが透過する。この直線偏光は位相板により一般に楕円偏光となるが、とくに位相板が１／４波長板でしかも偏光板と位相板との偏光方向のなす角がπ／４のときには円偏光となる。
【００６９】
この円偏光は、透明基板、透明電極、有機薄膜を透過し、金属電極で反射して、再び有機薄膜、透明電極、透明基板を透過して、位相板で再び直線偏光となる。そして、この直線偏光は、偏光板の偏光方向と直交しているので、偏光板を透過できない。その結果、金属電極の鏡面を完全に遮蔽することができる。
【００７０】
【実施例】
以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、本発明はこれら実施例になんら限定されるものではない。本発明における粒子分散系樹脂シートは注型法や流延法等により製造することが可能であるが、実施例中では流延法による製造方法を例示した。
【００７１】
（実施例１）
（化２）の化学式で示される３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート２６．６部（重量部、以下同じ）、（化１）の化学式で示されるビスフェノールＳ型エポキシ樹脂２６．６部、（化３）の化学式で示されるメチルヘキサヒドロフタル酸無水物４５．８部、（化４）の化学式で示されるテトラ−ｎ−ブチルホスホニウムｏ，ｏ−ジエチルホスホロジチオエート１．０部を攪拌混合し、エポキシ樹脂液を調製した。このエポキシ樹脂液８４０部に、平均粒子径が１２ｎｍのシリカ粒子（日本アエロジル（株）製ＡＥＲＯＳＩＬＲ９７４）８．４部を攪拌混合し、粒子含有エポキシ樹脂液を調製した。なお、シリカ粒子は、屈折率１．４６、比重は２．２ｇ／ｃｍ^３のものを用いた。
【００７２】
【化２】

【化３】

【化４】

【００７３】
流延法の製造工程に従い、まず（化５）の化学式で示されるウレタンアクリレートの１７重量％のトルエン溶液を、ダイよりステンレス製エンドレスベルトに走行速度０．５ｍ／分で流延塗布し、風乾してトルエンを揮発させた後、ＵＶ硬化装置を用いて硬化し、膜厚２．０μｍのハードコート層を形成した。続いて、ポリビニルアルコール（重合度：１８００）の５．５重量％の水溶液をウレタンアクリレート層上に０．３ｍ／分で流延塗布し、１００℃で１０分間乾燥させ、膜厚３．７μｍのポリビニルアルコール層を形成した。続いて、前記粒子含有エポキシ樹脂液を、ダイよりハードコート層の上に０．３ｍ／分で流延塗布し、加熱装置を用いて硬化させ、膜厚４００μｍのエポキシ樹脂層を形成した。なお、形成されたエポキシ樹脂層は、屈折率１．３であった。
【００７４】
作製された樹脂シートの構成を図１に示した。１がエポキシ樹脂層、２がガスバリア層、３がハードコート層である。
【００７５】
【化５】

【００７６】
次にハードコート層、ガスバリア層、エポキシ樹脂層からなる積層体をエンドレスベルトから剥離し、窒素置換により酸素濃度が０．５％の雰囲気下でガラス板上に１８０℃×０．５時間放置しアフターキュアを行った。
【００７７】
（実施例２〜８、比較例１）
エポキシ樹脂液を調製する過程において、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、メチルヘキサヒドロフタル酸無水物、テトラ−ｎ−ブチルホスホニウムｏ，ｏ−ジエチルホスホロジチオエートの比率を表１のように変えた以外は実施例１と同様に粒子分散系樹脂シートを作製した。
【００７８】

【００７９】
（実施例９）
平均粒子径が１２ｎｍのシリカ粒子の代わりにトスパール１４５（東芝シリコーン）を用い、添加量を７．５６部とした以外は、実施例１と同様にして粒子分散系樹脂シートを作製した。なお粒子は、屈折率が１．４５のものを用いた。
【００８０】
作製された樹脂シートの構成を図２に示した。４がエポキシ樹脂層、２がガスバリア層、３がハードコート層である。
【００８１】
（実施例１０）
平均粒子径が１２ｎｍのシリカ粒子の代わりにエポスタＭ３０（日本触媒；平均粒子径３μｍのベンゾクアナミン・メラミン・ホルムアミド縮合物）を用い、添加量を７．５６部とした以外は、実施例１と同様にして粒子分散系樹脂シートを作製した。なお粒子は、屈折率が１．５２のものを用いた。
【００８２】
作製された樹脂シートの構成を図３に示した。５がエポキシ樹脂層、２がガスバリア層、３がハードコート層である。
【００８３】
実施例、比較例で得た樹脂シートを以下の方法にて評価した。その結果を表２に示した。
【００８４】
（ガラス転移温度（Ｔｇ））
レオメトリックサイエンティフィック社製Ａｒｅｓを用いて測定し、ｔａｎδのピーク値をＴｇとした。
【００８５】
（光透過率）
高速分光光度計（村上色差ＤＯＴ−３）を用いてλ＝５５０ｎｍの透過率を測定した。
【００８６】
（強　度）
島津製作所製　オートグラフを用いて、図４に例示の方法で樹脂シートが破断した時の力を測定した。表面無垢平板、２０ｍｍφの穴を有する平板の厚みはいずれも３０ｍｍであり、材質はいずれもステンレスであった。また♯２０００のペーパーで擦った後の裏面の傷の深さはランダムに５点粗さ計で測定したところいずれも１．０μｍであった。
【００８７】
（塗工性）
以下の判断基準で評価した。
○：４００ｍｍ×４００ｍｍの樹脂シートに塗工した時、４００μｍのシート厚みに対し、±１０％以内の厚みばらつきがみられる。
△：４００ｍｍ×４００ｍｍの樹脂シートに塗工した時、４００μｍのシート厚みに対し、±１０％〜±２０％の厚みばらつきがみられる。
×：４００ｍｍ×４００ｍｍの樹脂シートに塗工した時、４００μｍのシート厚みに対し、±２０％を超える厚みばらつきがみられる。
【００８８】
【表２】

【００８９】
実施例１〜６において、エポキシ樹脂層がビスフェノールＳ型エポキシ樹脂と脂環式エポキシ樹脂を含み、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂の比率が３〜６０重量％の場合は、光透過率が高く、ガラス転移温度が高く、耐熱性と強靭性のバランスが良く、液晶セル基板として用いたときの表示品位にも優れる樹脂シートを得ることができた。
【００９０】
実施例７では、エポキシ樹脂層を塗工する時、塗工液の粘度が高く、塗工が困難であった。形成された樹脂シートは、ガラス転移温度が１７７℃であり、使用に耐えうるレベルではあるが若干低い値となった。
【００９１】
実施例８は、光透過率とガラス転移温度は良好であったが、強度が３０Ｎと低く、強靭性の点でやや劣った。
【００９２】
実施例９および１０は、実施例１〜６と同様に、光透過率が高く、ガラス転移温度が高く、耐熱性と強靭性のバランスがよく、液晶セル基板として用いたときの表示品位にも優れる樹脂シートを得ることができた。
【００９３】
比較例１において、エポキシ樹脂層がビスフェノールＳ型骨格を有するエポキシ樹脂を含まない場合は、光透過率とガラス転移温度は良好であったが、強度が低く、運搬時や液晶表示装置組み立て時に樹脂シートが割れるという問題が生じた。
【００９４】
【発明の効果】
以上説明したとおり、本発明によれば、エポキシ樹脂層がビスフェノールＳ型骨格を有するエポキシ樹脂を含有しているため強度が高く、また前記樹脂層に光拡散剤が分散されているため、照明光などの外部光や液晶表示装置内蔵のバックライトに起因するギラツキを防止することのできる、薄型かつ軽量の粒子分散系樹脂シートが得られる。さらに、エポキシ樹脂層がビスフェノールＳ型エポキシ樹脂と脂環式エポキシ樹脂とを含む場合は、耐熱性と強度の良好なバランスがとれており、しかも光透過率が高いので、各種画像表示装置に好ましく用いることができる。
【００９５】
この粒子分散系樹脂シートを、液晶セル基板、有機ＥＬ表示装置用基板等の各種画像表示装置用基板として用いた場合、運搬時や表示装置組み立て時に割れることがないため、表示装置の生産効率を向上させることができる。また、ガラス系基板に比べて薄型かつ軽量であり、しかも光透過率が高く、強度に優れた基板となる。また、基板に光拡散機能が付与されることにより、光拡散シートを液晶セルの視認側に貼り付ける必要がなくなり、その結果液晶セルの薄型、軽量化が可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による粒子分散系樹脂シート例の断面模式図である。
【図２】本発明による粒子分散系樹脂シート例の断面模式図である。
【図３】本発明による粒子分散系樹脂シート例の断面模式図である。
【図４】本発明で用いる強度測定装置の斜視図である。
【図５】強度測定時の断面図である。
【図６】強度測定方法の説明図である。
【符号の説明】
１：光拡散剤が分散されたエポキシ樹脂層
２：ガスバリア層
３：ハードコート層（ウレタンアクリレート層）
４：光拡散剤が分散されたエポキシ樹脂層
５：光拡散剤が分散されたエポキシ樹脂層
１１：１０ｍｍφのステンレス球
１２：支持棒
１３：止め具
１４：２０ｍｍφの穴を有する平板
１５：表面無垢平板
１６：サンプル（樹脂シート）
１７：ステンレス球が接触する部位
１８：裏面に約１μｍの傷を有する部位

Claims (14)

1. ビスフェノールＳ型骨格を有するエポキシ樹脂と、該エポキシ樹脂とは屈折率が相違する光拡散剤とを含むエポキシ樹脂層を、少なくとも有することを特徴とする粒子分散系樹脂シート。
2. 前記エポキシ樹脂層が、さらに脂環式エポキシ樹脂を含むことを特徴とする請求項１に記載の粒子分散系樹脂シート。
3. 前記エポキシ樹脂層において、ビスフェノールＳ型骨格を有するエポキシ樹脂の比率が３〜６０重量％である請求項１または２に記載の粒子分散系樹脂シート。
4. 前記エポキシ樹脂層において、光拡散剤の比率が０．１〜３０重量％である請求項１〜３のいずれかに記載の粒子分散系樹脂シート。
5. 前記光拡散剤の平均粒子径が１０ｎｍ〜１００μｍである請求項１〜４のいずれかに記載の粒子分散系樹脂シート。
6. 前記エポキシ樹脂層において、ビスフェノールＳ型骨格を有するエポキシ樹脂と光拡散剤との屈折率差が０．０３〜０．１０である請求項１〜５のいずれかに記載の粒子分散系樹脂シート。
7. さらにハードコート層が積層されてなる請求項１〜６のいずれかに記載の粒子分散系樹脂シート。
8. さらにガスバリア層が積層されてなる請求項１〜７のいずれかに記載の粒子分散系樹脂シート。
9. ガラス転移温度（Ｔｇ）が１７０℃以上である請求項１〜８のいずれかに記載の粒子分散系樹脂シート。
10. 光透過率が８８％以上である請求項１〜９のいずれかに記載の粒子分散系樹脂シート。
11. ＃２０００のペーパーで裏面に深さ約１μｍの傷をつけた樹脂シートを表面無垢平板と２０ｍｍφの穴を設けた平板の間に挟んで水平方向に設置し、四隅を固定した後、前記樹脂シートが露出した２０ｍｍφのエリアの中心部分に正面垂直方向から１０ｍｍφの球形先端を有する支持棒で荷重を加えていった時の樹脂シートの破断強度が６０Ｎ以上である請求項１〜１０のいずれかに記載の粒子分散系樹脂シート。
12. 請求項１〜１１のいずれかに記載の粒子分散系樹脂シートからなることを特徴とする画像表示装置用基板。
13. 請求項１２に記載の画像表示装置用基板を用いたことを特徴とする画像表示装置。
14. 請求項１〜１３のいずれかに記載の粒子分散系樹脂シートからなることを特徴とする太陽電池用基板。

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