WO2000078871A1 - Crosslinkable elastomer composition and molded article produced from the composition - Google Patents

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WO2000078871A1
WO2000078871A1 PCT/JP2000/003877 JP0003877W WO0078871A1 WO 2000078871 A1 WO2000078871 A1 WO 2000078871A1 JP 0003877 W JP0003877 W JP 0003877W WO 0078871 A1 WO0078871 A1 WO 0078871A1
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fine particles
silicon oxide
elastomer
composition
crosslinkable elastomer
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PCT/JP2000/003877
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English (en)
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Inventor
Hiroyuki Tanaka
Masanori Hasegawa
Tsuyoshi Noguchi
Katsuhiko Higashino
Yosuke Nishimura
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Daikin Industries, Ltd.
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K9/00Use of pretreated ingredients
    • C08K9/04Ingredients treated with organic substances
    • C08K9/06Ingredients treated with organic substances with silicon-containing compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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    • C08K9/00Use of pretreated ingredients
    • C08K9/02Ingredients treated with inorganic substances
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
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    • H01L23/293Organic, e.g. plastic
    • HELECTRICITY
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    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00

Definitions

  • the present invention relates to clean silicon oxide fine particles that can provide molded articles such as seal materials for use in semiconductor manufacturing equipment, for example, for sealing them.
  • the present invention relates to a compounded crosslinkable elastomer composition, and a molded article obtained from the composition having excellent mechanical strength and reduced amount of gaseous gas.
  • seal materials for semiconductor manufacturing equipment to which the present invention can be particularly suitably applied are also the same, and the applicant of the present invention has made the seal materials themselves highly clean.
  • Special cleaning method for seal material after molding Achieved by applying the law Japanese Patent Application No. 10-77781, Japanese Patent Application No. 10-161988).
  • this kind of seal material is made by cross-linking and molding a cross-linkable elastomer composition such as rubber to improve mechanical properties such as compression set.
  • the composition may be filled with a metal oxide filler.
  • Such fillers such as titanium oxide and silica (white carbon), are used to enhance whiteness and improve plasma resistance. In some cases, they may be combined (Japanese Patent No. 2858198, Patent No. 2783576).
  • the above-mentioned method after molding is used.
  • the elastomer composition must be cross-linked.
  • a filler obtained by conventional acid washing was used, a general peroxide crosslinking could not be performed as a crosslinking method. In other words, if peroxide cross-linking is attempted, it will not only result in impairment of the bridge and impair the formability, but also compression set, tensile strength, and modulus. Some of them have an adverse effect on the properties of molded articles.
  • a dry process such as oxygen plasma at- zing may be performed.
  • particles impurity fine particles
  • Elastomer molded parts made of Elastomer
  • Japanese Patent No. 2783576 discloses an ultrafine white carbohydrate having a pH of 9 to 12 in a 4 to 5% by weight aqueous dispersion.
  • Japanese Patent No. 2858198 discloses that silica and carbohydrate are provided for the purpose of reducing the amount of particles generated in the drive opening section.
  • the proposal is to use a combination of blacks.
  • the proposed series is a dry series with an average particle diameter of 1 to 50 ⁇ m, preferably 10 to 40 ⁇ .
  • DOPs dioctyl-free late rates
  • composition described in Patent No. 2858198 has a large average particle diameter of 1 to 50 ⁇ m, so that when it becomes a particle, a composition of 0.3 to 64 Mbit semiconductor is required. There is a problem that a pattern with a standard line width of 0.35 / m may cause a pattern defect.
  • the present invention is intended to provide a crosslinkable elastomer composition containing silicon oxide microparticles, which is excellent in mechanical strength, particularly tensile strength, and outgas. The amount (especially DOP and moisture) has been reduced.
  • An object of the present invention is to provide a composition in which the occurrence of one technic is reduced. Disclosure of the invention That is, the present invention relates to a crosslinkable elastomer composition containing a crosslinkable elastomer component and fine particles of silicon oxide, and the composition comprises The elementary fine particles have a hydroxyl group of less than 100 X 10 19 / g, more preferably 90 X 10 19 Zg or less on the surface, and have an average particle strength. 0. 5 ⁇ ⁇ hereinafter, good or was rather are you about the Oh Ru compositions with nitrous oxide Ru Ke I-containing particles in the 0. 01 ⁇ 0. 03 m.
  • the amount of hydroxyl groups present on the surface of the silicon oxide fine particles can be calculated from the amount of dehydration when heated at a high temperature by the method described below. be able to .
  • the present invention relates to a cross-linkable elastomer composition containing a bridging elastomer component and gallium oxide fine particles. Does the zinc fine particles have a dioctyl sulfate absorption of 8 / gZg or less, preferably less than Sg / g silicon oxide?
  • the present invention relates to a composition which is fine particles of oxygen silicate having an average particle diameter of 0.5 m or less, preferably 0.01 to 0.03 m.
  • the composition of the present invention comprises the above-mentioned oxidized silicon fine particles with respect to 100 parts by weight (hereinafter referred to as “part”) of a bridging elastomer component. 1 to 150 parts is preferred, and organic peroxide is added to 100 parts of the bridging elastomer component from 0.05 to 10: And 0.1 to 10 parts of the bridging aid and 1 to 150 parts of the above-mentioned silicon oxide fine particles.
  • a fluorine-based elastomer particularly a non-fluoroelastomer, is preferred.
  • the present invention further provides a molded product obtained by crosslinking and forming the crosslinkable elastomer composition described above, particularly for sealing a semiconductor manufacturing device.
  • molded products used in semiconductor manufacturing equipment such as seal materials. Best mode for carrying out the invention
  • the silicon oxide fine particles used in the present invention have a hydroxyl group on the surface of not more than 100 ⁇ 10 19 g, preferably not more than 90 ⁇ 10 19 g / g. Or less than 80 X 10 19 particles / g. If the surface of the silicon oxide fine particles has few hydroxyl groups, the adsorption of moisture and DOP in the air can be reduced, and when processed into a molded product and used as a part of a semiconductor manufacturing apparatus, an outgassing occurs. The generation of water vapor and DOP, which is a source of heat, can be reduced.
  • silica fine particles or synthetic quartz silica fine particles can be used as they are. It can be obtained by surface treatment with hydrofluoric acid or surface treatment with a silane coupling agent.
  • silica fine particles examples include dry silica, fumed silica, and wet silica, but in the present invention, Dry silica and fumed silica are preferred from the viewpoint of low generation of gaseous gas.
  • Examples of the synthetic quartz silica fine particles include fused quartz silica, synthetic quartz silica, crystalline quartz silica, and the like.
  • the shape may be amorphous or true spherical.
  • silane coupling agents include, for example, vinyl trimet oxirane, vinyl nitrite xylan, and the like.
  • the particle diameter is l / m. These are used. This is because the smaller the particle size, the better the handling of the crosslinkable composition as well as the fine particles. In the present invention, the handleability (mixing properties, etc.) of the crosslinkable elastomer composition does not decrease.
  • a particle having an average particle diameter of about 0.01 to 0.05 ⁇ for example, a pattern having a line-to-line distance (line width) of 0.2 ⁇ m is used as a semiconductor. There is no connection even when drawing on the element (a space where lines are not filled).
  • the pH of silicon oxide fine particles is not acidic or neutral (pH 3.0 or more and less than 9.0), especially acidic (pH 3.0 to 6.0), and reduces the surface hydroxyl group density. It is better to do it.
  • the varnish used in the composition described in the above-mentioned Patent No. 2783576 has a high pH of 9 or more, and has a large amount of hydroxyl groups on its surface. Is likely to be adsorbed easily, and as a result, DOP is released at a high concentration in the outgas.
  • the silicon oxide fine particles when used as parts for semiconductor manufacturing equipment where extremely clean molded products are required, contain lOppm or less of impurity metals other than silicon. It is preferable to adjust the concentration to 5 ppm or less.
  • the elastomer component is not particularly limited, but when used as a raw material for producing a seal material for a semiconductor manufacturing device, a fluorine-based elastomer is used. Preference is given to silicone and silicone-based elastomers.
  • fluorine-based elastomer for example, it is necessary to remove the most prominent one.
  • CF 9 CF-OR f
  • R f is a non-fluoroalkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or 1 to 3 carbon atoms and 1 to 3 oxygen atoms
  • R f is a perfluoroalkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a par having 3 to 12 carbon atoms and containing 1 to 3 oxygen atoms.
  • Perfluorovinyl ether represented by fluoroalkyl (poly) ether group 10 to 60 mol%, and provides a hardened part
  • the non-elastomeric fluorine-containing polymer chain segment consists of 0 to 5 mole% of the resulting monomer, and is a tetrafluoroethyl 85-: 100 mol%, formula (2):
  • Elastomeric fluoropolymer chain segments and non-elastomeric fluoropolymer chain segments A multi-segmented hydrogen polymer with an elastomeric fluoropolymer chain and a single-chain segment is a vinylidene From 45 to 85 mol% and at least one other monomer capable of co-polymerizing with this vinylidene fluoride.
  • thermoplastic elastomer containing the derived repeating units.
  • other monomers include hexafluoropropylene, tetrafluoroethylene, and chlorotrifluoroethylene.
  • silicone-based elastomers for example, silicone rubbers and fluorosilicone rubbers are preferred.
  • the elastomer composition is bridged into the desired product shape. It is.
  • the crosslinking method is generally peroxide crosslinking, but other known crosslinking methods, for example, fluorine-containing elastomers in which a ditolyl group is introduced as a crosslinking point.
  • a triazine cross-linking system using an organic tin compound to form a triazine ring for example, see Japanese Patent Publication No. 58-152041
  • an oxazole ring is formed by bisaminophenol.
  • the oxazole bridge system see, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No.
  • Imidazole crosslinking system see, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 59-109546
  • bisaminochiophenol See, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 59-109546
  • Thiazol bridges that form thiazol rings see, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. HEI 8-1 ⁇ 4789
  • radiation crosslinking electron beam irradiation, and the like.
  • a method such as cross-linking may be used.
  • crosslinking agent used for the oxazole cross-linking system, imidazole cross-linking system, and thiazole cross-linking system is, for example, a compound represented by the formula (3):
  • R 3 is —S ⁇ 0, —C ⁇ 1, Acrylene number: Alkylene group having 6 to 6 carbon atoms, perfluoroalkylene group having 1 to 10 carbon atoms, or R 1 and R 2 are one bond — NH 2 and the other — NH 2 , —OH or one SH, preferably R 1 and R 2 bi scan di ⁇ Mi Roh full et sulfonyl-based crosslinking agent that will be shown in the shift even Ru Oh one NH 2), bi scan a Mi Bruno full et Bruno Lumpur based crosslinking agent, bi scan a Mi Roh Chio off et Bruno -Based crosslinking agent, formula (4):
  • R f 3 is the number of carbon atoms: ⁇ from 10 to 10.
  • n is an integer of 1 to 10
  • a bisamide oxime-based crosslinking agent such as a bisamide oxime-based crosslinking agent.
  • bisaminophenol-based crosslinking agents such as bisaminophenol-based crosslinking agents, bisaminophenol-based crosslinking agents, or bisaminophenol-based crosslinking agents
  • the former has been used in a cross-linking system using a nitrile group as a bridge point. Since it also reacts with the Nyl group, the bridge system using these public functional groups as a bridge point can also be used as an Oxazole ring, a thiazole ring, or an imidazo ring. And forms a cross-linked product.
  • cross-linking agents include a plurality of 3-amino-4-hydroxyphenyl groups and 3-amino-4_merilecaptof.
  • R 3 is the same as the above
  • 2,2-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane (generic name: bis (aminophenol)) AF)
  • 2,2-vis (3-amino-4_mercaptophenyl) hexafluoropropane 2,2-vis (3-amino-4_mercaptophenyl) hexafluoropropane
  • tetrahydroaminobenzen bis 1,3,4-Diaminophenyl methane, bis-1,3,4-Diaminophenyl, 2,2, bis (3,4-diaminophenyl) Enyl
  • the amount of the crosslinking agent is preferably from 0.1 to 10 parts per 100 parts of the elastomer.
  • the organic peroxide may be any of known organic peroxides that generate peroxyradicals under vulcanization temperature conditions.
  • Preferred organic peroxides are di-t-butyl peroxide, di-cumyl peroxide, 2,5-dimethyl-1,2,5-diene Hexane, 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butyloxy) hexane, 1,1-bis (t-butyloxy) 1,3,5,5 — Trimethylsilyl mouth hexane, 2,5—Dimethylhexyl lanthanum t-butyl methyl peroxyside, hi, ⁇ '-vis (t-butyl propylene oxide) ⁇ -di-sopropyl benzene, 2,5-dimethyl 1-2 , 5— (T-butyl peroxy) hexine 1, benzoyl peroxynide, t-butyl peroxybenzen, t-buty
  • the content of organic peroxide is usually from 0.05 to 10 parts, preferably from 1 to 5 parts per 100 parts of a fluorine-based elastomer. If the content is less than 0.05 part, the fluorine-based elastomer will not be sufficiently cross-linked, while if it exceeds 10 parts, It deteriorates the physical properties of the crosslinked product.
  • Crosslinking aids such as multifunctional co-crosslinkers can be used in such peroxide bridges.
  • the multifunctional co-crosslinking agent to be used is a multifunctional agent used together with an organic peroxide in a peroxide bridge of a fluorine-based elastomer.
  • Performance cross-linking agents can be used, such as triaryl cyanate, trimethylamine, triphenylamine, triarylamine, etc.
  • the content of the bridging aid is usually 100 parts per 100 parts of fluorine-based elastomer. It is about 10 to 10 parts, preferably 0.5 to 5 parts.
  • Peroxide bridges can be constructed in the usual way, and there is no conventional bridge interruption.
  • the molded product of the present invention is, for example, as disclosed in the aforementioned Japanese Patent Application No. 10-777. 8 Special cleaning method described in the specification No. 1, i.e., cleaning method using ultrapure water, clean organic compound or inorganic water solution that is liquid at the cleaning temperature Cleaning by dry cleaning, dry etching cleaning, and extraction cleaning.
  • cleaning method using ultrapure water, clean organic compound or inorganic water solution that is liquid at the cleaning temperature Cleaning by dry cleaning, dry etching cleaning, and extraction cleaning.
  • the molded article of the present invention has a small amount of gaseous gas, and the DOP generation amount is 3 ppb or less, especially when heated at 200: 15 for 15 minutes. It can be less than 1 ppb.
  • the crosslinkable elastomer composition of the present invention is used as a molded product for semiconductor manufacturing equipment, particularly for sealing materials for semiconductor manufacturing equipment that requires a high degree of cleanliness. It can be suitably used for production. Sealing materials include O_ring, square ring, gasket, packing, oil seal, bearing seal, and lip seal. Rire etc. are excreted.
  • elastomer products such as diaphragms, tubes, hoses, and various types of rubber rolls. It can also be used as a coating material and a lining material.
  • the semiconductor manufacturing apparatus is not limited to an apparatus for manufacturing semiconductors in particular, but is wide and widely used for liquid crystal panels and plasma panels. This includes all manufacturing equipment used in the semiconductor field where a high degree of cleanliness is required, such as equipment for manufacturing cells.
  • the silicon oxide fine particles are heated at 150 ° C for 1 hour to remove moisture absorbed from the air. 5 g of the pretreated silicon oxide fine particles are weighed and heated at 1200 to 1500 ° C until the weight loss stops, and the weight loss is determined. .
  • 0.1 g of the fine particles of gay oxide are placed in a white gold rum, dispersed and dissolved in 5 ml of 50% hydrofluoric acid in a warm bath, and then diluted with ultrapure water.
  • This solution is quantified by atomic absorption spectrometry using an atomic absorption spectrophotometer (Z8000, manufactured by Hitachi, Ltd.).
  • the metals to be detected are Na, K, and Cu.
  • the content in the filer can be obtained by the following equation.
  • the silicon oxide microparticles in Table 1 are as follows.
  • Amorphous silica fine particles manufactured by Tokuyama Corporation manufactured by Tokuyama Corporation
  • Amorphous silica fine particles manufactured by Tokuyama Corporation manufactured by Tokuyama Corporation
  • REOLOSIL DM-10
  • Amorphous silica fine particles manufactured by Tokuyama Corporation manufactured by Tokuyama Corporation
  • Fume-dosed fine particles made by ink-jets, cartridges, chemicals and inks.
  • This elastomer assembly is press-bridged (primary bridge) at 160 ° C for 10 minutes, and then 180 ° C 4-hour open bridge (secondary bridge). Bridge) and made an O-ring (AS-568A-214).
  • the vulcanization curve at 160 ° C was determined for the composition by JSR type Kurasu Tome II (manufactured by Nichigo Shoji Co., Ltd.). Low viscosity (ML), force [] sulfur (MH), induction time (T10) and optimal vulcanization time (T90) were determined.
  • the handleability was examined by the following method. The results are shown in Table 2.
  • the evaluation was carried out by visual inspection on a continuous basis.
  • a ring (AS568A-214) is placed in a glass tube, sealed, heated at 200 ° C for 30 minutes, and the generated water is removed from the tube. It is measured by a slasher type water content measuring device (manufactured by Hiranuma Industry Co., Ltd.).
  • Example 2 instead of the dry amorphous silica used in Example 1, the surface of the dry amorphous silica fine particles was replaced with monomethyl trichlorosilane (silica). (REOLOSIL DM-10, manufactured by Tokuyama Co., Ltd., with a specific surface area of 120 m 2 Zg and an average particle diameter of 0.03 m). The combined product was used to produce a crosslinked elastomer composition as in Example 1 and then to 0-lin as in Example 1. It has formed into the shape. The characteristics of each of these compositions and molded articles were examined in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2.
  • Example 2 In place of the amorphous silica in Example 1, fumed silica fine particles (cabbot, specialty, chemicals, etc.) click made Cab- O- Sil M- 7D (crimp grayed record over de), specific surface faces the product 200 m 2 Z g, average particle size 0. 02 mu m) Blend the ho is implementation the A bridging elastomer composition was produced in the same manner as in Example 1, and further formed into an O-ring as in Example 1. The characteristics of each of these compositions and molded articles have been demonstrated in the examples. The same as in 1 was examined. Table 2 shows the results.
  • Example 1 a dry amorphous silica fine particle having many hydroxyl groups on its surface was used as a dry amorphous silica (manufactured by Tokuyama Corporation).
  • REOLOSIL QS-40 with a specific surface area of 380 m 2 / g and an average particle diameter of 0.011 ⁇ m) was used as in Example 1 to provide a bridging elastomer.
  • a single composite was manufactured and formed into a single ring in the same manner as in Example 1. The characteristics of each of these compositions and molded articles were examined in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2.
  • Example 2 In place of the dry amorphous silica in Example 1, the surface of the spherical synthetic quartz silica fine particles was treated with a vinylsilane coupling agent. also of the (Co. dragon Mori made of 1-FX bi two Le sheet run-treatment products, specific surface faces the product 29. 7 m 2 Z g, average particle size 0. 38 m) and Blend In the same manner as in Example 1, TAHOKA manufactured a bridging elastomer composition, and further, in the same manner as in Example 1, the O-ring. It was formed into. The characteristics of each of these compositions and molded articles were examined in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2.
  • Example 4 The silane coupling agent treatment in Example 4 was replaced with the silane coupling agent instead of the spherical synthetic quartz silica fine particles. such have ball-shaped quartz sheet re mosquito fine particles or Ho was Blend the (Co. Tatsumori Ltd. 1 one FX. ratio table surface product 29. 7m 2 Z g, average particle size 0. 38 m) is A bridging elastomer composition was manufactured in the same manner as in Example 4, and further formed into an O-ring in the same manner as in Example 1. . The characteristics of each of these compositions and molded articles were examined in the same manner as in Example 1. Table 2 shows the results. Table 2
  • O-rings (AS-568A-214) produced in Examples 1 to 4 and Comparative Example 1 and Example 5 and Comparative Example 2, respectively.
  • the sample was placed in a glass-made charcoal and heated in a nitrogen atmosphere at 150 ° C for 60 minutes to produce a sample.
  • Plasma illuminator used Plasma illuminator used:
  • Etching time 1 hour, 2 hours, 3 hours
  • Etching time 1 hour, 2 hours, 3 hours
  • Example 10 0.20 0.20 0.33 0.12 0.21 0.30
  • Example 20.18 0. 24 0.28 0.10 0 .18 0.24
  • Example 30 0.21 0.29 0.36 0.12 0 .23 0.29
  • Example 4 0 .21 0.29 0.36 0.12 0 .23 0.29 Comparative Example 20.23 0.32 0.40 0.12 0 .18 0.26
  • Example 50.22 0.33 0.41 0.10 0 .17 0.24
  • O-rings (AS — 568A—214) produced in Examples 1 to 4 and Comparative Example 1 and Example 5 and Comparative Example 2 respectively.
  • the plasma resistance (the number of particles generated) was examined by the following method. Table 4 shows the results.
  • oxygen-flops La was's Ma or in the conditions of 56MHz to occur the CF 4-flops La's Ma, this oxygen-flops Sample the plasma or CF plasma (O Irradiate for 3 hours under the reactive ion etching (RIE) condition. After irradiation, the sample is exposed to supersonic waves in ultrapure water at 25 ° C for 1 hour, and the released particles are taken out into the water.
  • RIE reactive ion etching
  • the number of particles (Z liters) with a particle size of 0.2 Xm or more was flowed into the fine particle measurement method (sensor part).
  • Table 4 the values converted to the number of particles per unit area (cm 2 ) of the ⁇ -ring are also shown in the Katsuko. Show. Table 4
  • composition of the bridging elastomer combined with the oxidized silicon oxide fine particles having a small surface hydroxyl group density and a small DOP adsorption amount according to the present invention is characterized by a mechanical property.

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Description

明 糸田 架橋性 エ ラ ス ト マ 一 組成物 お よ び該組成物
か ら 製造 さ れ る 成 形 品 技術分野
本発 明 は 、 半導体製造装置 に 用 い る 、 た と え ばそ れ ら の封止 に 用 い る シ ー ル材な ど成形 品 を 提供 し 得 る ク リ 一 ン な酸化 ケ ィ 素微粒子配合架橋性 エ ラ ス ト マ 一 組成物 、 お よ びそれか ら 得 ら れ る 機械的強度 に優れか つ ァ ゥ ト ガ ス 量が低減化 さ れ た 成形 品 に 関す る 。 背景技術
半導体素子 の 製造 に は極 め て 高 い ク リ ー ン さ が要求 さ れて お り 、 ク リ ー ン さ の 要請 は半導体製造工程 の管理 に 止 ま ら ず、 製造装置 自 体 は も と よ り 、 そ の 部品 に ま で及 ん で い る 。 半導体製造装置用 の部 品 は装 置 に 組み込 ん で か ら 洗浄な ど で ク リ ー ン化で き る 程度 は 限 ら れお り 、 組 み込む以前 に 高 度 に ク リ ー ン化 さ れて い る こ と が要求 さ れ る 。 半導体 の 製造 に お い て半導体製造装置用 の 部 品 を 汚染源 と す る 汚染 は種 々 の も の があ げ ら れ る が、 た と え ば部品 か ら 発 生 ま た は脱落す る パ ー テ ィ ク ル と 呼 ばれ る 微粒子 、 部品 の 材料 の 分解や変質 に よ っ て雰 囲気ガ ス 中 に 混入す る 不純物 ガ ス ( ア ウ ト ガ ス ) な ど は、 特 に 半導 体素子 の微細 なエ ッ チ ン グ処理 な ど に影響 を与 えて い る 。
本発 明 が特 に 好適 に適用 で き る 半導体製造装置用 の シ ー ル材な ど の 成形 品 も 同 様で あ り 、 本 出願 人 は シ ー ル材 自 体 の 高 ク リ ー ン 化 を 成形後 の シ ー ル材 に 特殊な洗浄方 法な ど を 施す こ と に よ り 達成 し て い る (特願平 10— 777 81号、 特願平 10— 161988号 各 明 細書) 。
と こ ろ で こ の 種 の シ ー ル材 は ゴム な ど の架橋性エ ラ ス ト マ 一 組成物 を 架橋成形 し て作製 さ れて お り 、 圧縮永久 歪みな ど の機械的特性 を 改善す る た め に 組成物 に 金属酸 化物 フ イ ラ 一 が充填 さ れ る こ と が あ る 。 こ の よ う な フ ィ ラ ー と し て 白 色度 を 高 め 、 プ ラ ズマ耐性 な ど の 改善 の た め 、 酸化チ タ ンや シ リ カ ( ホ ワ イ ト カ ー ボ ン) な ど が配 合 さ れ る こ と があ る (特許第 2858198号公報 、 特 許第 27 83576号公報) 。
金属酸化物が フ イ ラ 一 と し て配合 さ れた シ ー ル材な ど の 成形 品 を ク リ ー ン化 、 特 に 不純物 金属 を 除去す る 方法 と し て は前記 し た 成形後 の シ ー ル材 を酸 な どで洗浄 し 不 純物金属 を 抽 出 す る 方法 と 、 酸洗浄 し ク リ ー ン化 し た フ イ ラ 一 を 配合す る 方法が考 え ら れ る 。 こ の 場合 フ ィ ラ ー を 配合 し た後エ ラ ス ト マ 一組成物 を 架橋成形 し な けれ ば な ら な い 。 と こ ろ が従来 の 酸洗浄 し て得 ら れ る フ ィ ラ ー を 用 い る と 、 架橋法 と し て 一般 的 な過酸化物架橋 がで き な か っ た 。 すな わ ち 過酸化物架橋 を行な お う と す る と 架 橋 阻害 が生 じ て 成形加工性 を 損 う ばか り か 、 圧縮永久歪 み、 引 張強度 、 モ ジ ュ ラ ス と い っ た 成形 品特性 に 悪影響 を 与 え る も の が あ る 。
ま た 、 半導体 の 製造工程 に お い て酸素 プ ラ ズマ ア ツ シ ン グな ど の ド ラ イ 工程が施 さ れ る こ と が あ る 。 そ の ド ラ ィ プ ロ セ ス に お い て 、 エ ラ ス ト マ 一 製 の 成形部品 か ら パ 一 テ ィ ク ル (不純物微粒子) が発 生す る こ と が あ り 、 こ れ も 汚染源 と し て排除 し な けれ ばな ら な い 。
特 に シ リ カ を 使用 す る 場合 は圧縮永久歪みが低下す る W
3 が、 こ の 点 を 改善す る た め 、 前記特許第 2783576号公報 で は 4 〜 5 重量 % 水分散液で の p H が 9 〜 12で あ る 超微 粒子ホ ワ イ ト カ ー ボ ン を 使用 し て い る 。
ま た 前 記特許第 2858198号公 報 に は 、 前記 ド ラ イ ブ 口 セ ス で 発 生 す る パ ー テ ィ ク ル量 を 低減化 さ せ る 目 的 で 、 シ リ カ と カ ー ボ ン ブ ラ ッ ク の 併 用 を 提案 し て い る 。 こ こ で提案 さ れて い る シ リ 力 は平均粒子径 が 1 〜 50 μ m 好 ま し く は 10〜40 μ ιηの 乾 式 シ リ 力 で あ る 。
と こ ろ でそ の 後 の研究 の 結果 、 問題 と な る ア ウ ト ガ ス の 中 に ジ ォ ク チル フ 夕 レ ー ト ( D O P ) が多 く 存在 し て い る こ と が判 明 し た 。 こ の D 〇 Ρ はた と え ばプ ラ ス チ ッ ク の可塑剤 と し て多量 に 使用 さ れて お り 、 通常 の 生活環 境で も 多量 に 存在 し て い る 化合物で あ る 。
こ の 点 に 関 し 、 特許第 2783576号公報記載 の 組成物で は ア ウ ト ガ ス 中 に 高濃度で D Ο Ρ を含ん で い る と い う 問 題が あ る 。
ま た特許第 2858198号公報記載 の組成物 は平均粒子径 が 1〜 50 μ mと 大 き レゝ た め 、 パ ー テ ィ ク ル と な っ た 場合 、 64Mbitの 半導体で の 0. 3〜0. 35 / mと い う 標準線幅 の パ タ ー ン で はパ タ ー ン 欠 陥 を 引 き 起 こ す こ と が あ る と い う 問題が あ る 。
本発 明 は 、 酸化 ケ ィ 素微粒子 を 配合 し た架橋性エ ラ ス ト マ 一 組成物 で あ っ て も 、 機械的強度、 特 に 引 張強度 に 優れ、 し か も ア ウ ト ガ ス 量 (特 に D O P や水分) が低減 さ れ、 さ ら に ノ、。 一 テ ィ ク ル の 発 生 を低減 し た 組成物 を 提 供す る こ と を 目 的 と す る 。 発 明 の 開 示 す な わ ち 本発 明 は 、 架橋 性 エ ラ ス ト マ 一 成 分 と 酸化 ケ ィ 素 微 粒子 を 含 む 架 橋 性 エ ラ ス ト マ 一 組成 物 で あ っ て 、 該酸 化 ケ ィ 素 微粒子 がそ の 表 面 に 100 X 1019個 / g 以 下 、 さ ら に 好 ま し く は 90 X 1019個 Z g 以 下 の 水 酸基 を も ち 、 か つ 平 均粒子 怪 力 0. 5 μ ιη以 下 、 好 ま し く は 0. 01〜 0. 03 mで あ る 酸化 ケ ィ 素 微粒子 で あ る 組成物 に 関 す る 。
な お 、 酸化 ケ ィ 素 微粒子 の 表 面 に 存在す る 水 酸基 の 量 は 、 後述す る 方 法 に よ り 、 高 温 で 加 熱 し た と き の 脱 水 量 か ら 算 出 す る こ と が で き る 。
ま た 別 の 観 点 か ら 本 発 明 は 、 架 橋 性 エ ラ ス ト マ 一 成分 と 酸化 ゲ イ 素 微 粒子 を 含 む 架橋 性 エ ラ ス ト マ 一 組成物 で あ っ て 、 該酸化 ゲ イ 素 微粒子 の ジ ォ ク チ ル フ 夕 レ ー ト 吸 着 量 が 8 / gZ g 酸 化 ケ ィ 素 以下 、 好 ま し く は S g/ g 酸化 ケ ィ 素 以 下 で あ り 、 か つ 平 均 粒子径 が 0. 5 m以下 、 好 ま し く は 0. 01〜 0. 03 mで あ る 酸 ィヒ ケ ィ 素 微粒子 で あ る 組成 物 に 関 す る 。
本 発 明 の 組 成 物 は 、 架 橋 性 エ ラ ス ト マ 一 成 分 100重 量 部 ( 以 下 、 「 部 」 と い う ) に 対 し て 、 前 記 酸 化 ケ ィ 素 微 粒子 が 1 〜 150部 配 合 さ れ て な る も の が好 ま し く 、 ま た 架 橋性 エ ラ ス ト マ 一 成 分 100部 に 対 し て 有 機 過酸化 物 を 0. 05〜: 10部 、 架 橋助 剤 を 0. 1〜 10部 お よ び前 記 酸化 ケ ィ 素 微粒子 を 1 〜 150部含 む 態 様 を と る こ と も で き る 。
架 橋 性 エ ラ ス ト マ 一 成 分 と し て は フ ッ 素 系 エ ラ ス ト マ 一 、 特 に ノ \° — フ リレ オ 口 系 エ ラ ス ト マ 一 が好 ま し い 。
本発 明 は 、 さ ら に 前 記 の 架橋 性 エ ラ ス ト マ 一 組成 物 を 架 橋 成 形 し て 得 ら れ る 成 形 品 、 特 に 半 導体 製 造 装置 の 封 止 の た め に 用 い る シ ー ル材 な ど の 半 導体 製 造 装置 に 用 い る 成 形 品 に 関 す る 。 発 明 を 実施す る た め の 最 良 の 形態
本発 明 で使用 す る 酸化 ケ ィ 素微粒子 は ま ず、 そ の表面 に 水酸基 を 100 X 1019個 g 以 下 、 好 ま し く は 90 X 1019 個 / g 以下 、 さ ら に 好 ま し く は 80 X 1019個 / g 以下有す る も の で あ る 。 酸化 ケ ィ 素微粒子 の表面 の 水酸基が少 な い と 空気 中 の 水分お よ び D O P の 吸着 を 低減化 で き 、 成 形 品 に 加工 し 半導体製造装置 の部品 と し た 場合 、 ア ウ ト ガ ス と な る 水蒸気や D O P の 発生 を 低減化で き る 。
こ の よ う な低水酸基含量で低 D O P 吸着量 の 酸化 ケ ィ 素微粒子 と し て は 、 シ リ カ 微粒子 ま た は合成石英 シ リ カ 微粒子な ど を そ の ま ま 、 あ る い は フ ッ 化水素酸 で表面処 理す る か シ ラ ン カ ッ プ リ ン グ剤で表面処理す る こ と に よ つ て得 ら れ る 。
ま た は、 シ リ カ 微粒子 ま た は合成石英 シ リ カ 微粒子な ど を 不活性 ガ ス 気流下 に て 400 °C 以 上 の 高 温 で加 熱処 理 す る こ と に よ っ て得 ら れ る 。
シ リ カ 微粒子 と し て は、 た と え ば乾式 シ リ カ 、 フ ュ ー ム ド シ リ カ 、 湿式 シ リ カ な ど が あ げ ら れ る が 、 本発 明 に お い て は、ァ ゥ ト ガ ス の 発 生が少 な い 点カゝ ら 乾式 シ リ カ 、 フ ユ 一 ム ド シ リ カ が好 ま し い 。
合成石英 シ リ カ 微粒子 と し て は 、 た と え ば溶融石英 シ リ カ 、 合成石英 シ リ カ 、 結 晶性石英 シ リ カ な ど が あ げ ら れ る 。
形状 と し て は無定形 で も 真球状で も よ い 。
フ ツ イ匕水素酸で の処理 は、 た と え ば 0. 01 % 希 フ ッ 酸 に 3◦分 間程度浸漬後、 超純水洗浄 を 行な い 、 つ い で窒素 ガ ス な ど の有機物 を 含 ま な い 不活性 ガ ス 中 で乾燥す る こ と に よ っ て行な え ば よ い 。 ま た シ ラ ン カ ツ プ リ ン グ剤 で の表面 処 理 は常 法 で よ い 。 好 ま し い シ ラ ン カ ッ プ リ ン グ剤 と し て は 、 た と え ば ビ ニ ル 卜 リ メ ト キ シ シ ラ ン 、 ビ ニ ル ト リ エ ト キ シ シ ラ ン な ど の ビ ニ ル シ ラ ン 類 、 N— (2—ア ミ ノ エ チ ル ) 一 3—ア ミ ノ プ 口 ピ ル メ チ リレ ジ メ 卜 キ シ シ ラ ン 、 N— (2—ア ミ ノ エ チ ル ) — 3—ァ ミ ノ プ ロ ビ ル ト リ メ ト キ シ シ ラ ン な ど の ア ミ ノ シ ラ ン 類 の ほ 力 、 3—ダ リ シ ド キ シ プ ロ ピ リレ ト リ メ ト キ シ シ ラ ン 、 メ タ ク リ ロ キ シ プ ロ ピ リレ ト リ メ ト キ シ シ ラ ン 、 3 一メ ル カ プ ト プ ロ ピ ル ト リ メ ト キ シ シ ラ ン 、 ジ メ チ ル ジ ク ロ ロ シ ラ ン な ど が あ げ ら れ 、 特 に 過酸 化 物 架 橋 を 行 な う 場 合 は ビ ニ ル シ ラ ン 系 シ ラ ン カ ッ プ リ ン グ剤 で の 処 理 が補 強性 が高 く 、 パ ー テ ィ ク ル と し て 脱 落す る こ と が 少 な い 点 力 ら 好 ま し い 。
高 温加 熱処 理 は 、 400°C 以 上 、 好 ま し く は 400〜: 1500 °C , さ ら に 好 ま し く は 500〜 1200 °C の 温度 で 不活 性 ガ ス 気 流 下 に て 行 な う 。 か か る 加 熱処 理 に よ り 、 シ リ カ 微粒子 の 表 面 に 本 来 的 に 存 在 す る 水酸基 が熱 分解 さ れ て 大 幅 に 減 少 し 、 水 分 の 吸着 点 を 減 ら す こ と が で き る 。 そ の 結果 、 ァ ゥ ト ガ ス 中 の 水 分 量 を 低減 化 で き る 。 400 °C よ り 低 い 温度 で は既 に 吸着 し て い る 水分 の 除去 は 可 能 で あ る が 、 シ リ カ 微粒子表 面 の 水 酸 基 を さ ら に 熱分解す る こ と は 困 難 で あ る 。 処 理 時 間 は 30〜 240分 間 、 通 常 30〜 180分 間 で あ る 。 不活 性 ガ ス の 流 速 は特 に 限 定 さ れ な い が 、 通 常 0. :!〜 20リ ツ ト ル 分 で よ い 。 不 活 性 ガ ス と し て は 窒 素 ガ ス 、 ヘ リ ウ ム ガ ス 、 ア ル ゴ ン ガ ス な ど が あ げ ら れ る 。
本 発 明 の 酸 化 ケ ィ 素 微 粒子 の 平 均 粒 子 径 は 0. 5 μ ιη以 下 、 好 ま し く は 0. 01〜0. 4 μ πιで あ る 。 従 来 は 前 記 特 許 第 2858198号公報 に 記 載 さ れて い る よ う に 粒子 径 が l / m 以上 の も の が使用 さ れて い る 。 こ れ は粒子径 が小 さ く な れ ば微粒子 は も と よ り 、 架橋性組成物 の取扱 い 性がわ る く な る か ら で あ る 。 本発 明 で は 、 架橋性エ ラ ス ト マ 一組 成物 の取扱 い 性 (混練性な ど) が低下 し な い 。
特 に平均粒子径が 0. 01〜0. 05 μ πι程度 の も の を用 る と き は 、 た と え ば線間距離 (線幅) が 0. 2 μ mの パ タ ー ン を 半導体素子 に描画す る 場合で も 結線が生 じ な い (線間 が埋 ま ら な レゝ ) 。
酸化 ケ ィ 素微粒子の pHは酸性 な い し 中 性 ( pH3. 0以上 で 9. 0未満) 、 特 に酸性 ( pH3. 0〜6. 0) に す る こ と 力 、 表面水酸基密度 を 低減す る こ と カゝ ら 好 ま し い 。 こ の 点 、 前記特許第 2783576号公報記載 の組成物 で使用 さ れて い る シ リ 力 は p Hが 9 以上 と 高 く 、 表面 に 水酸基 を 多量 に有 し て い る た め D 〇 P を 容 易 に 吸着 し 、 そ の 結果 、 ア ウ ト ガ ス 中 に 高濃度で D O P 放出す る も の と 考 え ら れ る 。
な お 極 め て ク リ ー ン な 成形 品 が要求 さ れ る 半 導体製造 装置用 の 部品 に使用 す る 場 合 、 酸化 ゲ イ 素微粒子 は ケィ 素以外 の 不純物金属 の含有量が lOppm以下 、 好 ま し く は 5 ppm以下 に 調製す る こ と が好 ま し い 。
エ ラ ス ト マ 一 成分 と し て は特 に 限定 さ れな い が、 半導 体製造装置用 の シ ール材 の 製造原料 と し て使用 す る 場合 は フ ッ 素系 エ ラ ス ト マ 一 お よ び シ リ コ ー ン 系 エ ラ ス ト マ 一 が好 ま し い 。
フ ッ 素 系 エ ラ ス ト マ 一 と し て は 、 た と え ばつ ぎの も の が あ げ ら れ る 。
テ ト ラ フ リレオ 口 エ チ レ ン 40〜90モ ル % 、 式 (1) :
C F 9= C F - O R f ( 式 中 、 R f は 炭 素 数 1 〜 5 の ノ\°一 フ ル ォ ロ ア ル キ ル基 、 ま た は 炭 素 数 3 〜 12で か つ 酸 素 原子 を 1 〜 3 個 含 むパ 一 フ ル ォ ロ ア ル キ ル ( ポ リ ) エ ー テ ル基 ) で 表 さ れ る パ ー フ ル ォ ロ ビ ニ ル エ ー テ ル 10〜 60モ ル % 、 お よ び硬化部位 を 与 え る 単 量体 0 〜 5 モ ル % か ら な る パ ー フ ル ォ ロ 系 ェ ラ ス ト マ一。
ビ ニ リ デ ン フ ル オ ラ ィ ド 30〜90モ ル % 、 へ キ サ フ ル ォ ロ プ ロ ピ レ ン 15〜 40モ ル % 、 テ ト ラ フ ル ォ ロ エ チ レ ン 0 〜 30モ ル % カゝ ら な る ビ ニ リ デ ン フ リレ オ ラ イ ド 系 エ ラ ス ト マ エ ラ ス ト マ一性含 フ ッ 素 ポ リ マ ー 鎖 セ グ メ ン ト と 非 エ ラ ス ト マ 一 性含 フ ッ 素 ポ リ マ ー 鎖 セ グ メ ン ト を 有 す る 含 フ ッ 素 多 元 セ グ メ ン ト 化 ポ リ マ ー で あ っ て 、 エ ラ ス ト マ一 性含 フ ッ 素 ポ リ マ ー 鎖 セ グ メ ン ト が 、 テ ト ラ フ ル ォ ロ ェ チ レ ン 40〜90モ ル % 、 式 (1) :
C F 2= C F - O R f
( 式 中 、 R f は 炭 素 数 1 〜 5 の パ ー フ ル ォ ロ ア ル キ リレ基 、 ま た は 炭 素 数 3 〜 12で か つ 酸 素 原子 を 1 〜 3 個 含 むパ ー フ ル ォ ロ ア ル キ ル ( ポ リ ) エ ー テ ル基 ) で表 さ れ る パ ー フ ル ォ ロ ビ ニ ル エ ー テ ル 10〜 60モ ル % 、 お よ び硬化 部位 を 与 え る 単 量体 0 〜 5 モ リレ % か ら な り 、 非 エ ラ ス ト マ一 性含 フ ッ 素 ポ リ マ ー 鎖 セ グ メ ン ト が 、 テ ト ラ フ ル ォ ロ ェ チ レ ン 85〜: 100モ リレ % 、 式 (2) :
C F 2= C F — R f1
( 式 中 、 R は C F 3ま た は O R f 2 ( R f 2は 炭 素 数 1 〜 5 の パ ー フ ル ォ ロ ア ル キ ル基 ) ) 0 〜 : 15モ ル % 力、 ら な る ノ^ — フ ル ォ ロ 系 熱 可 塑性 エ ラ ス ト マ 一 。 エ ラ ス ト マ 一 性含 フ ッ 素 ポ リ マ ー 鎖 セ グ メ ン ト と 非 エ ラ ス ト マ 一 性含 フ ッ 素 ポ リ マ ー 鎖 セ グ メ ン ト を 有 す る 含 フ ッ 素 多 元セ グ メ ン ト ィヒ ポ リ マ ー で あ っ て 、 エ ラ ス ト マ 一 性含 フ ッ 素 ポ リ マ 一 鎖 セ グ メ ン ト が 、 ビ ニ リ デ ン フ ル ォ ラ イ ド 45〜85モ ル % と こ の ビ ニ リ デ ン フ ル オ ラ ィ ド と 共 重 合 可 能 な 少 な く と も 一種 の 他 の 単量体 と か ら そ れぞれ 誘 導 さ れ た 繰 り 返 し 単位 を 含 む 非 パ ー フ ル ォ ロ 系 熱 可 塑 性 エ ラ ス ト マ 一 。 こ こ で 他 の 単量体 と し て は 、 へ キ サ フ ル ォ ロ プ ロ ピ レ ン 、 テ ト ラ フ ル ォ ロ エ チ レ ン 、 ク ロ ロ ト リ フ ル ォ ロ エ チ レ ン 、 卜 リ フ ル ォ ロ エ チ レ ン 、 ト リ フ ル ォ ロ プ ロ ピ レ ン 、 テ ト ラ フ リレ オ 口 プ ロ ピ レ ン 、 ペ ン タ フ ル ォ ロ プ ロ ピ レ ン 、 ト リ フ ル ォ ロ ブ テ ン 、 テ ト ラ フ ル ォ ロ イ ソ ブ テ ン 、 ゾ\° — フ ル ォ ロ ( ア ル キ ル ビ ニ ル ェ 一 テ ル ) フ ツ イヒ ビ ニ ル 、 エ チ レ ン 、 プ ロ ピ レ ン 、 ァ リレ キ ル ビ ニ ル エ ー テ ル な ど が あ げ ら れ る 。
ジ ヨ ウ 素化 合物 の存在 下 に ラ ジカ ル重 合 に よ り 得 ら れ る 、 ョ ゥ 素 含 有 フ ッ 素 化 ビ ニ ル エ ー テ ル 単 位 0. 005〜 1. 5モ ル % 、 ビ ニ リ デ ン フ ル オ ラ ィ ド 単位 40〜 90モ ル % お よ び パ ー フ ル ォ ロ ( メ チ ル ビ ニ ル エ ー テ ル ) 3 〜 35モ ル % ( 場 合 に よ り 25モ ル % ま で の へ キサ フ ル ォ ロ プ ロ ピ レ ン 単位 お よ び Zま た は 40モ ル % ま で の テ ト ラ フ ル ォ ロ エ チ レ ン 単位 を 含 ん で い て も よ い ) か ら な る 耐寒性含 フ ッ 素 エ ラ ス ト マ ー ( 特 開 平 8— 15753号公 報 ) 。
テ ト ラ フ ル ォ ロ エ チ レ ン と プ ロ ピ レ ン と の 共 重 合体 ( 米 国 特許第 3, 467, 635号 明 細 書 ) な ど 。
シ リ コ ー ン 系 エ ラ ス ト マ 一 と し て は 、 た と え ば シ リ コ ー ン ゴ ム 、 フ ル ォ ロ シ リ コ ー ン ゴ ム な ど が好 ま し い 。
エ ラ ス ト マ 一 組 成物 は 所望 の 製 品 の 形 状 に 架 橋 成 形 さ れ る 。 架橋方法 は過酸化物架橋が一般的 で あ る が、 そ の 他公知 の架橋方法 、 た と え ば二 ト リ ル基 を 架橋点 と し て 導入 し た含 フ ッ 素 エ ラ ス ト マ 一 を 使用 し 、 有機 ス ズ化合 物 に よ り ト リ ア ジ ン環 を形成 さ せ る ト リ ア ジ ン架橋 系( た と え ば特 開 昭 58— 152041号公報参照) 、 同 じ く 二 ト リ ル 基 を架橋点 と し て導入 し た含 フ ッ 素エ ラ ス ト マ 一 を使用 し 、 ビ ス ア ミ ノ フ エ ノ ー ル に よ り ォキ サ ゾール環 を 形成 さ せ る ォ キサ ゾ一 ル架 橋 系 ( た と え ば、 特 開 昭 59— 109 546号公報参 照 ) 、 テ ト ラ ア ミ ン 化 合物 に よ り イ ミ ダ ゾ 一 ル環 を 形成 さ せ る イ ミ ダゾー ル架橋 系 ( た と え ば、 特 開 昭 59— 109546号公報参照) 、 ビ ス ア ミ ノ チ オ フ エ ノ ー ル に よ り チア ゾー ル環 を形成 さ せ る チア ゾー ル架橋 系( た と え ば、 特 開 平 8— 1◦ 4789号公報参照 ) な ど の 方 法が あ り 、 ま た 、 放射線架橋 、 電子線架橋 な ど の 方法で も よ い 。
ォキサ ゾー ル架橋 系 、 イ ミ ダ ゾール架橋系 、 チ ア ゾー ル架橋系 に使用 す る 架橋剤 と し て は 、 た と え ば式 ( 3 ) :
Figure imgf000012_0001
(式 中 、 R 3は — S〇 0 、 — C 〇 一 、 灰 素数 :! 〜 6 の ア ルキ レ ン 基 、 炭 素数 1 〜 10のパ ー フ ルォ ロ ア ルキ レ ン基 ま た は単結合手で あ り 、 R 1お よ び R 2は一方 が — N H 2で あ り 他方が — N H 2 、 — O H ま た は 一 S H 、 好 ま し く は R 1 お よ び R 2の い ずれ も 一 N H 2で あ る ) で 示 さ れ る ビ ス ジ ァ ミ ノ フ エ ニル系架橋剤、 ビ ス ア ミ ノ フ エ ノ ール系 架橋剤 、 ビ ス ア ミ ノ チォ フ エ ノ ー ル 系 架橋剤 、 式 (4) :
R R (4)
Figure imgf000012_0002
( 式 中 、 R 3は 前 記 と 同 じ 、 R 6は c
Figure imgf000013_0001
で 示 さ れ る ビ ス ア ミ ド ラ ゾ ン 系 架 橋剤 、式 ( 5 ) ま た は ( 6 ):
N H N H
II II
H 2N H N - C - R f 3 - C - N H N H 2 (5)
( 式 中 、 R f 3 は 炭 素 数 :! 〜 10の ゾ、。 一 フ ル ォ ロ ア ル キ レ ン 基 )
N H 2 N H 2
Figure imgf000013_0002
( 式 中 、 n は 1 〜 10の 整数 ) で 示 さ れ る ビ ス ア ミ ド キ シ ム 系 架 橋 剤 な ど 力 あ げ ら れ る 。 こ れ ら の ビ ス ア ミ ノ フ エ ノ 一 ル 系 架 橋剤 、 ビ ス ア ミ ノ チ ォ フ エ ノ ー ル 系 架橋 剤 ま た は ビ ス ジ ァ ミ ノ フ ェ ニ ル 系 架橋 剤 な ど は従来 二 ト リ ル 基 を 架 橋 点 と す る 架橋 系 に 使 用 し て い た も の で あ る が 、 力 ル ボ キ シ ル基 お よ び ア ル コ キ シ カ ル ボ ニ ル 基 と も 反 応 す る の で 、 こ れ ら の 官 能基 を 架 橋 点 と す る 架 橋 系 に も ォ キ サ ゾー ル環 、 チ ア ゾ 一 ル環 、 イ ミ ダ ゾ一 ル環 を 形 成 し 、 架橋 物 を 与 え る 。
特 に 好 ま し い 架 橋 剤 と し て は 複 数 個 の 3—ア ミ ノ ー 4一 ヒ ド 口 キ シ フ ェ ニ ル 基 、 3—ァ ミ ノ 一 4 _メ リレ カ プ ト フ エ 二 ル基 ま た は 式 (7) :
Figure imgf000013_0003
( 式 中 、 R 3 は 前 記 と 同 じ ) で 示 さ れ る 3, 4—ジ ア ミ ノ フ ェ ニ ル基 を 有 す る ィヒ 合 物 が あ げ ら れ 、 具体 的 に は 、 た と え ば 2, 2—ビス (3—ア ミ ノ _4ーヒ ド ロ キ シ フ エ ニル)へキ サ フ ルォ ロ プ ロ パ ン ( 一般名 : ビ ス ( ァ ミ ノ フ エ ノ ー ル) A F ) 、 2, 2—ビ ス (3—ァ ミ ノ 一 4_メ ル カ プ ト フ エ ニル) へキサ フ ルォ ロ プ ロ パ ン 、 テ ト ラ ア ミ ノ ベ ン ゼ ン 、 ビ ス 一 3, 4—ジ ア ミ ノ フ エ ニル メ タ ン 、 ビ ス 一 3, 4—ジ ア ミ ノ フ エ 二ルェ一 テル 、 2, 2—ビ ス (3, 4—ジ ア ミ ノ フ エ ニル) へ キサ フ ルォ ロ プ ロ パ ン な どで あ る 。
架橋剤 の配合 量 は 、 好 ま し く は エ ラ ス ト マ 一 100部 に 対 し て 0. 1〜: 10部 で あ る 。
過酸化物架橋 を 行な う 場合 、 有機過酸化物 と し て は、 加硫温度条件下で パ ー ォ キ シ ラ ジ カ ル を 発生す る 公知有 機過酸化物な ら い ずれで も よ く 、 好 ま し い 有機過酸化物 は 、 ジ 一 t一ブチ ルパ ー ォ キ サイ ド 、 ジ ク ミ ルパ 一 ォキサ ィ ド 、 2 , 5—ジ メ チル 一 2 , 5—ジ (ベ ン ゾィ ルパ 一 ォ キ シ) へ キサ ン 、 2, 5—ジ メ チル ー 2, 5—ジ (t—ブチルバ 一 ォ キ シ )へキサ ン 、 1 , 1—ビス ( t—ブチルノ\° 一 ォ キ シ)一 3, 5 , 5 — ト リ メ チル シ ク 口 へ キサ ン 、 2, 5—ジ メ チルへ キサ ン 一 2, 5—ジ ヒ ド ロ キ シ パ 一 ォ キ シ ド 、 t—ブチ ル ク ミ ルパ ー ォキ シ ド 、 ひ, α ' —ビ ス ( tーブチソレパ ー ォキ シ )一 ρ—ジィ ソ プ ロ ピ ルベ ン ゼ ン 、 2 , 5—ジ メ チル 一 2 , 5—ジ ( t—ブチ ルパー ォキ シ)へ キ シ ン 一 3、 ベ ン ゾィ ルパー ォ キ シ ド 、 t —ブチルパ ー ォキ シ ベ ンゼ ン 、 tーブチルバ 一 ォ キ シ マ レ ィ ン酸 、 t—ブチル パ ー ォ キ シ ィ ソ プ ロ ピル カ ー ボ ネ ー 卜 な どで あ る 。
有機過酸化物 の 含有 量 は 、 フ ッ 素 系 エ ラ ス ト マ 一 100 部 あ た り 、 通常 0. 05〜: 10部 、 好 ま し く は 1 〜 5 部で あ る 有機過酸化物 の含有量が 0. 05部 よ り 少な い と 、 フ ッ 素 系 エ ラ ス ト マ 一 が充分架橋 さ れず 、 一方 10部 を超 え る と 架橋 物 の 物性 を 悪化 さ せ る 。
か か る 過酸化 物 架 橋 に お い て 多官 能 性 共 架 橋 剤 な ど の 架橋 助 剤 を 用 い る こ と が で き る 。 使用 す る 多 官 能性 共 架 橋 剤 と し て は 、 フ ッ 素 系 エ ラ ス ト マ 一 の 過酸化 物 架 橋 に お い て 有機 過 酸化 物 と 共 に 用 い ら れ る 多 官 能性共 架 橋剤 が使 用 で き 、 た と え ば ト リ ァ リ ル シ ア ヌ レ ー ト 、 ト リ メ 夕 ァ リ ル イ ソ シ ァ ヌ レ ー ト 、 ト リ ァ リ ル イ ソ シ ァ ヌ レ ー ト 、 ト リ ア リ ル ホ ル マ ー ル 、 ト リ ァ リ ル ホ ス フ ェ ー ト 、 ト リ ァ リ ル ト リ メ リ テ ー ト 、 N, N' _m—フ エ 二 レ ン ビ ス マ レ イ ミ ド 、 ジ プ ロ パ ル ギ ル テ レ フ 夕 レ ー ト 、 ジ ァ リ ル フ タ レ ー ト 、テ 卜 ラ ァ リ ノレテ レ フ タ ー リレ ア ミ ド 、 ト リ ス (ジ ァ リ ル ァ ミ ン ) 一 S— ト リ ア ジ ン 、 亜 リ ン 酸 ト リ ア リ ル 、 N, N—ジ ァ リ ル ア ク リ ル ア ミ ド 、 1, 6—ジ ビ ニ ル ド デ カ フ ル ォ 口 へ キ サ ン に 代 表 さ れ る ビ ス ォ レ フ ィ ン な ど が あ げ ら れ る 。
ま た 、 ト リ ァ リ リレ イ ソ シ ァ ヌ レ ー ト の 3 つ の ァ リ ル 基 の 中 の 水 素原子 の 一 部 を よ り 耐熱性 の 高 い フ ッ 素原子 に 置 き 換 え た 含 フ ッ 素 ト リ ア リ ル イ ソ シ ァ ヌ レ ー ト な ど も 好適 に あ げ ら れ る ( 米 国 特許第 4, 320, 216号 明 細 書 、 W O98Z00407ハ。 ン フ レ ッ 卜 、 Klenovic h , S . V. ら 、 Zh. Prikl , Khim . (Leningrad) ( 1987 , 60 (3) , 656— 8 )参 照 ) 。
架 橋 助 剤 の 含 有 量 は 、 フ ッ 素 系 エ ラ ス ト マ 一 100部 当 た り 、 通常 0. :!〜 10部 、 好 ま し く は 0. 5〜 5 部 で あ る 。
そ の ほ か 、 加 工 助 剤 、 内 添 離 型 剤 な ど を 配 合 し て も よ い 。 過 酸 化 物 架 橋 は 常 法 に よ り 行 な う こ と が で き 、 従 来 の よ う な 架 橋 阻 害 は 生 じ な い 。
本 発 明 の 成 形 品 を 、 た と え ば 前 記 し た 特 願 平 10— 777 8 1号 明 細 書 記載 の 特殊 な 洗浄法 、 す な わ ち 超純水 に よ り 洗浄す る 方 法 、 洗浄温度 で液状 の ク リ ー ン な 有機 化 合物 や 無機 水 溶 液 に よ り 洗浄す る 方 法 、 乾式 エ ツ チ ン グ洗浄す る 方法 、 抽 出 洗浄す る 方 法 に し た が っ て 処 理 す る こ と に よ り 極 め て 高 度 に ク リ ー ン 化 さ れ 、 し 力、 も ァ ゥ ト ガ ス 量 が少 な く 耐 プ ラ ズマ 性 に 優 れ た 半 導体製 造装置用 の 成形 品 が得 ら れ る 。
本発 明 の 成形 品 は 、 ァ ゥ ト ガ ス 量が少な く 、 特 に 2 0 0 : で 1 5分 間加 熱 し た と き の D O P の 発 生 量 を 3 p p b以下 、 さ ら に は 1 p p b以下 に す る こ と がで き る 。
本発 明 の 架橋性 エ ラ ス ト マ 一組成物 は半導体製造装置 用 の 成形 品 、 特 に 高 度 な ク リ ー ン さ が要求 さ れ る 半導体 製造装置 の封止用 の シー ル材 の製造 に好適 に使用 でき る 。 シ一ル材 と し て は O _ リ ン グ、 角 一 リ ン グ、 ガ ス ケ ッ ト 、 パ ッ キ ン 、 オイ ル シ ー ル、 ベ ア リ ン グ シー ル 、 リ ッ プ シ 一 リレ な どが あ げ ら れ る 。
そ の ほか 、 各種 の エ ラ ス ト マ 一 製品 、 た と え ばダイ ヤ フ ラ ム 、 チ ュ ー ブ 、 ホ ー ス 、 各種 ゴム ロ ールな ど と し て も 使用 で き る 。 ま た 、 コ ー テ ィ ン グ用 材料 、 ラ イ ニ ン グ 用 材料 と し て も 使用 で き る 。
な お 、 本発 明 で い う 半導体製造装置 は、 特 に 半導体 を 製造す る た め の 装置 に 限 ら れ る も の で はな く 、 広 く 、 液 晶 パ ネ ルや プ ラ ズマ パ ネ ル を 製造す る た め の 装置な ど 、 高度な ク リ ー ン度 が要求 さ れ る 半導体分野 に お い て 用 い ら れ る 製造装置全般 を 含む も の で あ る 。
具体的 に は 、次 の よ う な 半導体製造装置が例示 さ れ る 。 ( 1 ) エ ッ チ ン グ装置
ド ラ イ エ ッ チ ン グ装置 プ ラ ズマ エ ッ チ ン グ装 置 反応性イ オ ン エ ッ チ ン グ装置 反応性イ オ ン ビ ー ム エ ッ チ ン グ装置 ス パ ッ タ エ ッ チ ン グ装置 ィ ォ ン ビー ム エ ッ チ ン グ装置 ゥ エ ツ ト エ ッ チ ン グ装置
ア ツ シ ン グ装置
( 2 ) 洗浄装置
乾式ェ ツ チ ン グ洗浄装置
U V Z 0 3洗浄装置
ィ ォ ン ビー ム 洗浄装置
レ一ザ一 ビ ー ム 洗浄装置 プ ラ ズマ洗浄装置
ガ ス エ ッ チ ン グ洗浄装置 抽 出洗浄装置
ソ ッ ク ス レ ー抽 出洗浄装置 问 Jim.高圧抽 出洗浄装置
マ ィ ク ロ ウ ェ ー ブ抽 出 洗浄装置 超臨界抽 出 洗浄装置
( 3 ) 露光装置
ス テ ツ パ一
コ 一 夕 デベ ロ ッ パ一
( 4 ) 研磨装置
C M P
( 5 ) 成膜装置
C V D
ス パ ッ 夕 リ ン グ装置
( 6 ) 拡散 · ィ オ ン注入装置 酸化拡散装置
イ オ ン注入装置
つ ぎ に 実施例 を あ げて本発 明 を 説明す る が、 本発 明 は か か る 実施例 の み に 限定 さ れ る も の で は な い 。
実施例 1
テ ト ラ フ ル ォ ロ エチ レ ン Zゾ° — フ ルォ ロ ( ァ リレキル ビ ニル エ ー テ ル) 共重合体 エ ラ ス ト マ 一 100 g に 乾式無定 形 シ リ 力 微粒子( (株) ト ク ャ マ製 の REOLOSIL QS— 10。 比表面積 140m2/ g 、 平均粒子径 0. 02 /x m) 10 g と パ 一 へ キ サ 2. 5B ( 日 本油脂工業 (株)製) l . O g と ト リ ア リ ル イ ソ シ ァ ヌ レ ー ト ( T A I C ) 3. 0 g を 混練 し て 、 本発 明 の エ ラ ス ト マ 一組成物 を 調製 し た 。 な お 、 酸化 ゲ イ 素 微粒子 の表面水酸基密度 、 D O P 吸着量お よ び不純物金 属含有 量 はつ ぎ の 方法で調べた 。 結果 を 表 1 に 示す。
(表面水酸基密度)
予備処理 と し て 、 酸化 ケ ィ 素微粒子 を 150 °C で 1 時 間 加熱 し 、 空気 中 か ら 吸湿 し た 水分 を 除 く 。 こ の 予備処理 酸化 ケ ィ 素微粒子 を 5 g 秤量 し 、 こ れ を さ ら に 1200〜 1 500 °C に て 重 量減少 が な く な る ま で 加熱 し て 、 重 量減少 量 を 調 べ る 。
こ の 重量減少量 の 結果 に基づ き 、 表面 に 存在す る 水酸 基量 (表面水酸基密度 : 個 Z g ) を つ ぎ の 式 に し た が つ て算 出す る 。 表面水酸基密度 (個 Zg)
= (重量減少量( /gZg)÷ (水の分子量 X106)) Xァボガドロ数 X 2
( D O P 吸着量)
ァ セ ト ンで希釈 し た D 〇 P 溶液 中 に酸化 ケ ィ 素微粒子 を 入れ、室温で 15分 間放置 し た の ち 60 °C で 15分 間加 熱 し て ア セ ト ン を 蒸発 さ せ 、 D O P で強制汚染 し た酸化 ゲ イ 素微粒子 を 調製す る 。 こ の D O P 強制汚染酸化 ケ ィ 素微 粒子 を ガ ラ ス チ ュ ー ブ に 入れ密封 し た の ち 200 °C で 15分 間加熱 し 、 発 生 し た ガ ス を 冷却 し た ト ラ ッ プ管 に て採取 す る 。 ト ラ ッ プ さ れた 物質 を急加熱 し て ガ ス ク ロ マ ト グ ラ フ ィ 一 ( (株)島津製作所製 の GC— 14A、 カ ラ ム : (株) 島津製作所製 の UA— 15) に よ り 分析 す る 。 得 ら れた チ ヤ ー ト の ピ ー ク 面積か ら 酸化 ゲイ 素微粒子 よ り 放 出 さ れた D O P の 量 を 算 出 す る 。
こ の 結果 に 基づき 、 つ ぎの式 に よ り 個 々 の 酸化 ケ ィ 素 微粒子が吸着可能 な D 0 P 量 (酸化 ゲ イ 素微粒子 に 強固 に 吸着 し た D O P 量) を 算 出す る 。 吸着可能な DOP量( μ g/g)
= 強制汚染させた DOP量 g/g)—放出された DOP量(; ugZg)
( 200 °C カ卩熱減量)
ア ル ミ ニ ウ ム 製容器 に酸化 ケィ 素微粒子 l . O g を入れ、 200 °C で 重 量変化 がな く な る ま で ( 通常約 2 時 間 ) 加 熱 す る 。 加熱前後 の 重量変化か ら 次式 に し た が っ て単位表 面積 当 た り の 200 °C 加熱減量率 (重量 % Z m2) を 算 出 す る 。 単位表面積の加熱減量率 (重量 m
加熱前重量(g) - 加熱後重量 (g)
比表面積(m2/g) 加熱前重量 (g)
(不純物金属含有量)
酸化 ゲイ 素微粒子 0. l g を 白 金ルツ ポ に入れ温浴 中 で 5 0 % フ ッ 酸 5 mlに 分散溶解 さ せた後 、 超純水で希釈す る 。 こ の 溶 液 を 原子 吸 光 度 計 ( (株 ) 日 立 製 作 所 製 の Z8000) に よ り 金 属 成 分 を 原子 吸 光 分 析 に て 定 量 す る 。 な お 、 検 出対 象 金 属 は 、 N a 、 K お よ び C u で あ る 。 フ イ ラ 一 中 の 含 有 量 は次 式 に よ り 求 め る 。
溶液中の濃度 (重量 ppm)
金属含有量 (重量 ppm) = X 溶液重量(g)
フィ ラーの重量(g) な お 、 併せ て 実 施 例 2 〜 4 お よ び比 較例 1 〜 2 で 使 用 し た 酸 化 ゲ イ 素 微 粒子 の 表 面 水 酸 基 密 度 、 D O P 吸 着 量 お よ び不 純 物 金 属 含 有 量 も 表 1 に 示 す 。
表 1 に お け る 酸 化 ケ ィ 素 微粒子 は つ ぎ の も の で あ る 。
REOLOSIL Q S - 10 :
(株 ) ト ク ャマ製 の 無 定 形 シ リ カ 微粒子
REOLOSIL QS— 40 :
(株 ) ト ク ャマ製 の 無 定 形 シ リ カ 微 粒子
REOLOSIL DM - 10 :
(株 ) ト ク ャマ製 の 無 定 形 シ リ カ 微 粒子
Cab - O - Sil M - 7 D :
キ ャ ボ ッ ト · ス ぺ シ ャ リレ テ ィ · ケ ミ カ リレ ズ ' イ ン ク 製 の フ ュ ー ム ド シ リ 力 微 粒子
1 - FX :
(株 )龍森製 の 合 成 石 英 シ リ カ 微 粒子
表 1
Figure imgf000021_0001
こ の エ ラ ス ト マ 一 組 成 物 を 160 °C 10分 間 プ レ ス 架 橋( 一 次 架 橋 ) し 、 つ い で 180 °C 4 時 間 オ ー ブ ン 架 橋 ( 二 次 架 橋 ) し て O — リ ン グ ( AS— 568A— 214) を 作 製 し た 。 ま た 、 組 成 物 に つ い て J S R 型 キ ュ ラ ス ト メ 一 夕 II型 ( 日 合 商 事 (株 )製 ) に よ り 、 160 °C で の 加 硫 曲 線 を 求 め 、 最 低 粘 度 ( M L ) 、 力 [] 硫 度 ( M H ) 、 誘 導 時 間 ( T 10 ) お よ び最 適 加 硫 時 間 ( T 90 ) を 求 め た 。 さ ら に 、 取 扱 い 性 を つ ぎ の 方 法 に よ り 調 べ た 。 結 果 を 表 2 に 示 す 。
( 加 ェ 性 )
架 橋 性 エ ラ ス ト マ 一 組 成 物 の 混 練 か ら 架 橋 操 作 に わ た る 取扱 い や す さ 、 た と え ば混 練 時 の ロ ー ル へ の 巻 付 き や す さ 、 切 返 し の し ゃ す さ 、 架 橋 時 の エ ラ ス ト マ 一 の 流 動 性 な ど を 目 視 で 総 合 的 に 評 価 す る 。
評価 は 目 視 に よ り つ ぎ の 基 準 で 行 な っ た 。
A : 何 ら 欠 点 が な く 、 ス ム ー ズ に 加 工 操 作 が で き る 。
B : 殆 ど 問 題 な い が 、 特 に 混 練 操 作 時 に 多 少 手 間 が か か る 。
C : 混 練 か ら 架 橋 操 作 に お い て か な り 手 間 が か か る が 、 何 と か 力 Π ェ で き る 。
D : 力 Π ェ 操 作 条 件 を か な り 厳 し く し な い と 加 工 で き な い 。
こ の O — リ ン グ に つ い て つ ぎ の 機 械 的 特 性 お よ び D 0 P ア ウ ト ガ ス 量 を 測 定 し た 。 結 果 を 表 2 に 示 す 。
( 機 械 的 特 性 )
JIS K 6301に し た 力 つ て 常 態 物 性 お よ び 圧 縮 永 久 歪 み ( 200 ° (: 、 7 0 時 間 、 25 % 圧 縮 ) を 測 定 す る 。
( D O P 放 出 ガ ス 量 )
O — リ ン グ ( AS568A— 214) を ガ ラ ス チ ュ ー ブ に 入 れ 密 封 し た の ち 200 °C で 15分 間 力!] 熱 し 、 発 生 し た ガ ス を 冷 却 し た ト ラ ッ プ管 に て 採取 す る 。 ト ラ ッ プ さ れ た 物 質 を 急 加 熱 し て ガ ス ク ロ マ ト グ ラ フ ィ ー ( (株 )島 津 製 作 所 製 の GC— 14A、 カ ラ ム : (株 ) 島 津 製 作 所 製 の UA— 15) に よ り 分 析 す る 。 得 ら れ た チ ヤ 一 ト の ピ ー ク 面 積 か ら 〇 一 リ ン グ よ り 放 出 さ れ た D O P の 量 を 算 出 す る 。
( 水 分 発 生 量 )
〇 一 リ ン グ ( AS568A— 214) を ガ ラ ス チ ュ ー ブ に 入 れ 密 封 し た の ち 200 °C で 30分 間 加 熱 し 、 発 生 し た 水 分 を 力 ー ル フ ィ ッ シ ャ ー 式 水 分 測 定 装 置 ( 平 沼 産 業 (株)製 ) に よ り 測 定 す る 。
実 施例 2
実 施 例 1 に お け る 乾 式 無 定 形 シ リ カ に 代 え て 乾 式 無 定 形 シ リ カ 微 粒子 の 表 面 を モ ノ メ チ ル ト リ ク ロ ロ シ ラ ン( シ ラ ン カ ッ プ リ ン グ剤 ) で 処 理 し た も の ( (株 ) ト ク ャ マ 製 の REOLOSIL DM— 10。 比 表 面 積 120m2Z g 、 平 均 粒子 径 0. 03 m ) を 配 合 し た ほ か は 実 施 例 1 と 同 様 に し て 架 橋 性 エ ラ ス ト マ 一 組 成 物 を 製造 し 、 さ ら に 実 施 例 1 と 同 様 に し て 0 — リ ン グ に 成 形 し た 。 こ れ ら の 組 成 物 お よ び 成 形 品 の 各 種 の 特 性 を 実 施 例 1 と 同 様 に 調 べ た 。 結 果 を 表 2 に 示 す 。
実 施例 3
実施 例 1 に お け る 無 定 形 シ リ カ に 代 え て フ ュ ー ム ド シ リ カ 微 粒子 ( キ ヤ ボ ッ ト · ス ペ シ ャ ル テ ィ · ケ ミ カ ル ズ · イ ン ク 製 の Cab— O— Sil M— 7D ( 圧 着 グ レ ー ド ) 、 比 表 面 積 200 m 2 Z g 、 平 均 粒子 径 0. 02 μ m ) を 配 合 し た ほ か は 実 施 例 1 と 同 様 に し て 架 橋 性 エ ラ ス ト マ 一 組 成 物 を 製 造 し 、 さ ら に 実 施 例 1 と 同 様 に し て O — リ ン グ に 成 形 し た 。 こ れ ら の 組 成 物 お よ び成 形 品 の 各 種 の 特 性 を 実 施 例 1 と 同 様 に 調 べ た 。 結 果 を 表 2 に 示す 。
実 施例 4
実 施 例 1 に お け る 無 定 形 シ リ カ に 代 え て フ ユ 一 ム ド シ リ カ 微 粒子 ( キ ヤ ボ ッ ト · ス ペ シ ャ ル テ ィ · ケ ミ カ ル ズ · イ ン ク 製 の Cab— O— Sil M— 7D ( 圧 着 グ レ ー ド ) 、 比 表 面 積 200m2Z g 、 平 均 粒子 径 0. 02 / m) を 窒 素 気 流 下 60 0 °C に て 2 時 間 加 熱 し た の ち 窒 素 気 流 下 で 室 温 ま で 放 冷 し た も の を 配 合 し た ほ か は実 施 例 1 と 同 様 に し て 架 橋 性 エ ラ ス ト マ 一 組 成 物 を 製 造 し 、 さ ら に 実 施例 1 と 同 様 に し て O — リ ン グ に 成 形 し た 。 こ れ ら の 組成 物 お よ び成 形 品 の 各 種 の 特 性 を 実 施例 1 と 同 様 に 調 べ た 。 結 果 を 表 2 に 示 す 。
比 較例 1
実 施例 1 に お い て 、 乾 式 無 定 形 シ リ カ と し て 表 面 に 水 酸 基 を 多 く も つ 乾 式 無 定 形 シ リ カ 微 粒子 ( (株 ) ト ク ャ マ 製 の REOLOSIL QS— 40。 比 表 面積 380m2/ g 、 平 均 粒 子 径 0. 01 μ m ) を 配 合 し た ほ か は 実 施 例 1 と 同 様 に し て 架 橋 性 エ ラ ス ト マ 一 組 成 物 を 製 造 し 、 さ ら に 実 施例 1 と 同 様 に し て 〇 一 リ ン グ に 成 形 し た 。 こ れ ら の 組成 物 お よ び成 形 品 の 各 種 の 特 性 を 実 施 例 1 と 同 様 に 調 べ た 。 結 果 を 表 2 に 示 す 。
実 施 例 5
実 施 例 1 に お け る 乾 式 無 定 形 シ リ カ に 代 え て 球 状 合 成 石英 シ リ カ 微 粒子 の 表 面 を ビ ニ ル シ ラ ン カ ッ プ リ ン グ 剤 で 処 理 し た も の ( (株 )龍 森 製 の 1— FXビ ニ ル シ ラ ン 処 理 品 、 比 表 面 積 29. 7 m 2 Z g 、 平 均 粒子 径 0. 38 m ) を 配 合 し た ほ か は 実 施 例 1 と 同 様 に し て 架 橋 性 エ ラ ス ト マ 一 組 成 物 を 製 造 し 、 さ ら に 実 施 例 1 と 同 様 に し て O — リ ン グ に 成 形 し た 。 こ れ ら の 組 成 物 お よ び成 形 品 の 各 種 の 特性 を 実 施例 1 と 同 様 に 調 べ た 。 結 果 を 表 2 に 示 す 。
比 較例 2
実施 例 4 に お け る シ ラ ン カ ッ プ リ ン グ剤処 理 球 状 合 成 石英 シ リ カ 微 粒子 に 代 え て 、 シ ラ ン カ ツ プ リ ン グ 剤 処 理 さ れ て い な い 球 状 石英 シ リ カ 微 粒子 ( (株 )龍森製 の 1一 F X。 比 表 面 積 29. 7m2Z g 、 平 均 粒子 径 0. 38 m) を 配 合 し た ほ か は実 施 例 4 と 同 様 に し て 架 橋 性 エ ラ ス ト マ 一 組 成 物 を 製 造 し 、 さ ら に 実 施 例 1 と 同 様 に し て O — リ ン グ に 成 形 し た 。 こ れ ら の 組 成 物 お よ び成 形 品 の 各 種 の 特性 を 実 施 例 1 と 同 様 に 調 べ た 。 結 果 を 表 2 に 示す 。 表 2
実施例 実施例 実施例 実施例 比較例 実施例 比較例 1 2 3 4 1 5 2 組 架橋性エラストマ一 100 100 100 100 100 100 100 成
架橋剤 3 3 3 3 3 3 3 架橋助剤 1 1 1 1 1 1 1 部
酸化ケィ素微粒子 10 10 10 10 10 10 10 加 性 A A A A A B B
M L (kg.f) 0. 31 0. 18 0. 32 0. 32 0. 45 0. 1 0. 11 加
硫 M H (kg · f ) 8 - 4 8. 2 8. 15 8. 15 8. 85 6. 25 5081 特
T10 (分間) 0. 6 0. 5 0. 5 0. 5 0. 5 0. 7 0. 7 性
T90 (分間) 1. 3 1. 4 1. 2 1. 2 1 1. 3 1. 2 常 MIOO (kg · f ) 124 107 128 128 153 101 79
-態 引張強度(kg'f) 220 212 233 233 213 182 170 物 伸び(% ) 135 148 138 138 127 125 155 性
硬度 (JIS A) 80 80 80 80 82 71 74 圧縮永久歪み 17 16 11 11 17 12 12
D O P放出量(ppb) 0. 92 0. 41 0. 00 0. 00 7. 00 0. 31 3. 95 水分発生量(ppm) 500 450 388 180 450 1000 900 実 施 例 6 ( 耐 プ ラ ズ マ 性 : 重 量 減 少 )
実 施 例 1 〜 4 お よ び 比 較例 1 な ら び に 実 施 例 5 お よ び 比 較 例 2 で そ れ ぞれ 製 造 し た O — リ ン グ ( AS— 568A— 2 14) を ガ ラ ス 製 の シ ャ ー レ に 入 れ 窒 素 雰 囲 気 に て 150 °C で 60分 間 力 B 熱 し 、 サ ン プル を 作 製 し た 。
こ の サ ン プル に つ い て 、 つ ぎ の 条 件 下 で プ ラ ズ マ 照 射 処 理 を 施 し 、 照 射 前 後 の 重 量 減 少 ( 重 量 % ) を 測 定 し て 重 量 変 化 を 調 べ た 。 結 果 を 表 3 に 示 す 。
使 用 プ ラ ズ マ 照 射 装 置 :
(株 )サ ム コ イ ン タ ー ナ シ ョ ナ ル 研究 所 製 の PX— 1000 照 射 条 件 :
酸 素 ( O 2 ) プ ラ ズ マ 照 射処
ガ ス 流 量 : 200 s c c m
R F 出 力 : 400W
圧 力 : 300ミ リ ト ー ル
エ ッ チ ン グ 時 間 : 1 時 間 2 時 間 、 3 時 間
周 波 数 : 13. 56 MHz
C F 4プ ラ ズ マ 照 射 処 理
ガ ス 流 量 : 200 s c c m
R F 出 力 : 400W
圧 力 : 300ミ リ ト ー ル
エ ッ チ ン グ 時 間 : 1 時 間 2 時 間 、 3 時 間
周 波 数 : 13. 56M H z
照 射 操 作 :
プ ラ ズ マ 照 射 装 置 の チ ヤ ン バ ー 内 の 雰 囲 気 を 安 定 さ せ る た め に 、 チ ャ ン バ 一 前 処 理 と し て 5 分 間 か け て 実 ガ ス 空 放 電 を 行 な う 。 つ い で サ ン プ ル を 入 れ た シ ャ ー レ を R F 電 極 の 中 心 部 に 配 置 し 、 上 記 の 条 件 で 照 射す る 。 重 量測 定 :
ザ一 卜 リ ウ ス (S artorius ) ' G M B H (株 )製 の 電 子 分 析 天 秤 2006 MPEを 使 用 し 、 0. O l mgま で 測 定 し 0. O l mgの 桁 を 四 捨 五 入 す る 。
サ ン プル は 1 種 類 に つ き 3 個使 用 し 、平 均 で 評価 す る 。 表 3
1減少 量% )
酸素 プラ ズマ C F 4 プラ ズマ
サ ン プル
照射時間 (時間) 照射時間 (時間)
1 2 3 1 2 3
比較例 1 0 . 25 0. 33 0. 39 0. 13 0 . 23 0. 32 実施例 1 0 . 21 0. 28 0. 33 0. 12 0 . 21 0. 30 実施例 2 0 . 18 0. 24 0. 28 0. 10 0 . 18 0. 24 実施例 3 0 . 21 0. 29 0. 36 0. 12 0 . 23 0. 29 実施例 4 0 . 21 0. 29 0. 36 0. 12 0 . 23 0. 29 比較例 2 0 . 23 0. 32 0. 40 0. 12 0 . 18 0. 26 実施例 5 0 . 22 0. 33 0. 41 0. 10 0 . 17 0. 24
実 施 例 7 ( 耐 プ ラ ズ マ 性 : パ ー テ ィ ク ル 発 生 数 )
実 施 例 1 〜 4 お よ び比 較例 1 な ら び に 実 施 例 5 お よ び 比 較例 2 でそ れぞれ製 造 し た O — リ ン グ (AS — 568A— 21 4 ) に つ い て つ ぎ の 方 法 で 耐 プ ラ ズ マ 性 ( パ ー テ ィ ク ル 発 生数 ) を 調 べ た 。 結 果 を 表 4 に 示す 。
( 耐 プ ラ ズ マ 性 試 験 : パ ー テ ィ ク ル 発 生 数 )
(株 )サ ム コ ィ ン 夕 一 ナ シ ョ ナ ル研究 所 製 の プ ラ ズ マ ド ラ イ ク リ ー ナ モ デル PX— 1000を 用 い 、 真 空 圧 50mTor r、 酸 素 ま た は C F4流 量 200c c / 分 、 電 力 400W、 周 波 数 1 3. 56MHzの 条 件 で 酸 素 プ ラ ズ マ ま た は CF4プ ラ ズ マ を 発 生 さ せ 、 こ の 酸 素 プ ラ ズ マ ま た は C F プ ラ ズ マ を 試 料 ( O 一 リ ン グ ) に 対 し て リ ア ク テ ィ ブ イ オ ン エ ッ チ ン グ ( R I E ) 条 件 で 3 時 間 照 射す る 。 照 射後 、 試 料 を 2 5 °C で 1 時 間 超 純 水 中 で 超 音 波 を か け て 遊 離 し て い る パ ー テ イ ク ル を 水 中 に 取 り 出 し 、 粒子 径 が 0 . 2 X m以 上 の パ ー テ ィ ク ル の 数 ( 個 Z リ ッ ト ル ) を 微粒 子 測 定 器 法 ( セ ン サ ー 部 に 流 入 さ せ た パ ー テ ィ ク ル を 含 む 超 純 水 に 光 を 当 て 、 液 中 パ ー テ ィ ク ル カ ウ ン 夕 一 に よ り そ の 透 過 光 や 散 乱 光 の 量 を 電 気 的 に 測 定 す る 方 法 ) に よ り 測 定 す る 。 な お 、 表 4 に お い て 、 〇 — リ ン グ の 単 位 面 積 ( c m 2 ) あ た り の パ — テ ィ ク ル 数 に 換 算 し た 値 を カ ツ コ 内 に 併 せ て 示 す 。 表 4
Figure imgf000028_0001
産 業 上 の 利 用 可 能 性
本 発 明 の 表 面 水 酸 基 密 度 が 小 さ く D O P 吸 着 量 も 少 な い 酸 化 ゲ イ 素 微 粒子 を 配 合 し た 架 橋 性 エ ラ ス ト マ 一 組 成 物 は 、 機 械 的 特 性 に 優 れ 、 ア ウ ト ガ ス 量 が 少 な く 極 め て ク リ ー ン な 半 導 体 製 造 装 置 用 の 成 形 品 材 料 と し て 好 適 な エ ラ ス ト マ 一 成 形 物 で あ る 。

Claims

言青 求 の 範 囲
1. 架橋性 エ ラ ス ト マ 一成分 と 酸化 ケ ィ 素微粒子 を含む 架橋性エ ラ ス ト マ 一組成物で あ っ て 、 該酸化 ケィ 素微 粒子 がそ の 表 面 に 100 X 1019個 Z g 以 下 の 水酸基 を も ち 、 か つ 平均粒子径が 0. 5 Ι ΠΙ以下で あ る 酸化 ケ ィ 素微 粒子で あ る 組成物 。
2. 架橋性 エ ラ ス ト マ 一 成分 と 酸化 ゲ イ 素微粒子 を 含 む 架橋性エ ラ ス ト マ 一 組成物で あ っ て 、 該酸化 ケ ィ 素微 粒子 の ジォ ク チル フ 夕 レー ト 吸着量が 8 ix g Z g 酸化 ケ ィ 素以下で あ り 、 か つ 平均粒子径が 0. 5 u m以下で あ る 酸化 ケ ィ 素微粒子で あ る 組成物。
3. 酸化 ケ ィ 素微粒子 の平均粒子径が 0. 01〜0. 05 ;u mで あ る 請求 の 範 囲第 1 項 ま た は第 2 項記載 の 架橋性エ ラ ス ト マ 一組成物 。
4. 酸化 ケ ィ 素微粒子が無定形 シ リ カ で あ る 請求 の 範 囲 第 1 項 〜 第 3 項 の い ずれか に記載 の架橋性 エ ラ ス ト マ 一 組成物。
5. 酸化 ケ ィ 素微粒子が フ ッ 化水素酸で表面処理 さ れた も の で あ る 請求 の 範 囲第 1 項〜第 3 項 の い ずれか に 記 載 の 架橋性エ ラ ス ト マ 一組成物 。
6. 酸化 ケ ィ 素微粒子が シ ラ ン カ ツ プ リ ン グ剤で表面処 理 さ れた も の で あ る 請求 の 範囲第 1 項〜 第 3 項 の い ず れか に記載 の 架橋性 エ ラ ス ト マ 一 組成物 。
7. 酸化 ケ ィ 素微粒子が不活 性 ガ ス 気流下 に て 400 °C 以 上 の 高温で加熱処 理 さ れた も の で あ る 請求 の 範 囲第 1 項 〜 第 3 項 の い ずれか に 記載 の 架橋性エ ラ ス ト マ 一 組 成物 。
8. 架 橋 性 エ ラ ス ト マ 一 成 分 100重 量 部 に 対 し て 、 前 記 酸 化 ケ ィ 素 微 粒 子 が 1 〜 150重 量 部 配 合 さ れ て な る 請 求 の 範 囲 第 1 項 〜 第 7 項 の い ず れ か に 記載 の 架橋 性 ェ ラ ス ト マ 一 組成 物 。
9. 架 橋 性 エ ラ ス ト マ 一 成 分 100重 量 部 に 対 し て 有 機 過 酸 化 物 を 0. 05〜 10重 量 部 、 架橋 助 剤 を 0. 1〜10重 量部 お よ び 前 記酸 化 ケ ィ 素 微 粒子 を 1 〜 150重 量 部含 む 請 求 の 範 囲 第 1 項 〜 第 8 項 の い ずれ か に 記 載 の 架橋 性 ェ ラ ス ト マ 一 組成 物 。
10. 架橋性 エ ラ ス ト マ 一 成 分 が フ ッ 素 系 エ ラ ス ト マ 一 で あ る 請 求 の 範 囲 第 1 項 〜 第 9 項 の い ずれ か に 記載 の 架 橋 性 エ ラ ス ト マ 一 組成 物 。
11. フ ッ 素 系 エ ラ ス ト マ 一 が パ ー フ ル ォ ロ 系 エ ラ ス 卜 マ 一 で あ る 請求 の 範 囲 第 10項 記 載 の 架 橋 性 エ ラ ス ト マ一 組成物 。
12. 請求 の 範 囲 第 1 項 〜 第 11項 の い ずれか に 記載 の 架 橋 性 エ ラ ス ト マ 一 組成物 を架 橋 成 形 し て得 ら れ る 成 形 品 。
13. 200 °C で 15分 間 力 Π熱 し た と き に 発 生 す る ジ ォ ク チ ル フ タ レ 一 ト ガ ス の 量 が 3 ppb以 下 で あ る 請 求 の 範 囲 第 1 2項 記載 の 成 形 品 。
14. 半 導体 製 造 装 置 に 用 い る 請 求 の 範 囲 第 12項 ま た は第 13項 記 載 の 成 形 品 。
15. 半 導体 製造 装 置 の 封止 の た め に 用 い る シ ー ル 材 で あ る 請 求 の 範 囲 第 14項 記 載 の 成 形 品 。
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