WO1998012758A1 - Dispositif a effet magnetoresistif - Google Patents

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WO1998012758A1
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Atsushi Maeda
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Sanyo Electric Co., Ltd.
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Definitions

  • the present invention relates to a magnetoresistance effect element, and particularly to an element exhibiting a so-called giant magnetoresistance effect.
  • a magnetoresistive effect element is an element that detects a change in a magnetic field using the magnetoresistance effect in which electric resistance changes due to a change in a magnetic field.
  • Such a magnetoresistive element is expected to have high detection sensitivity and to be used as a head for reproducing a magnetic recording medium such as a hard disk. .
  • the recording density of hard disks is increasing, and the magnetoresistive element is used as a head for reproducing a recording medium with higher density. To achieve this, higher sensitivity is required. In order to make a magnetoresistive element more sensitive, it is necessary to increase the MR ratio of the magnetoresistive element.
  • Coercive force differential type GMR element with a non-magnetic conductive layer sandwiched between a pair of ferromagnetic layers having a magnetic field, and one of a pair of ferromagnetic layers sandwiching the non-magnetic conductive layer A spin valve type GMR element in which ferromagnetic layers are laminated and spun, and an artificial lattice type GMR in which a ferromagnetic layer and a non-magnetic conductive layer are repeatedly laminated in a plurality of cycles. Elements are known.
  • the purpose of the present invention is to satisfy such a conventional demand, and to provide a novel magnetoresistive element capable of exhibiting a higher MR ratio than the conventional one.
  • the purpose of the present invention is to provide an element structure. Disclosure of the invention
  • the magnetoresistance effect element includes a laminated film having a laminated structure in which a nonmagnetic conductive layer is sandwiched between a pair of ferromagnetic layers, a pair of electrodes for flowing a detection current through the layered film, A ferromagnetic layer is provided between the positive electrode of the pair of electrodes and one of the ferromagnetic layers of the pair of ferromagnetic layers to provide spin-polarized electrons to the ferromagnetic layer. And a filter layer made of a magnetic material, wherein the distance of electron movement in the ferromagnetic layer is set so as to be shorter than the spin diffusion length. And then.
  • the spin diffusion length is the spin-polarized length. It means the average distance over which electrons can diffuse and move.
  • the distance of electron movement in the ferromagnetic layer to which spin-polarized electrons are given is set to be shorter than the spin diffusion length. Therefore, electrons moving in the ferromagnetic layer can move in a spin-polarized state.
  • the positive electrode refers to an electrode that gives an electron out of a pair of electrodes.
  • at least a filler layer is provided between the positive electrode and the ferromagnetic layer on the positive electrode side.
  • the negative electrode and the negative electrode are provided.
  • a filter layer is also provided between the ferromagnetic layer on the negative electrode side.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view showing the magnetoresistance effect element of one embodiment according to the present invention. It is a figure.
  • a laminated film 3 in which a first ferromagnetic layer 4, a non-magnetic conductive layer 5, and a second ferromagnetic layer 6 are laminated.
  • the first ferromagnetic layer 4 is formed of, for example, NiFe
  • the second ferromagnetic layer 6 is formed of, for example, C0, and is made of a ferromagnetic layer material having different coercive forces. It is formed from
  • the nonmagnetic conductive layer 5 is formed of, for example, Cu. Therefore, the laminated film 3 forms a coercive force difference type GMR laminated film.
  • filter layers 1 and 2 are formed so as to be in contact with the laminated film 3, respectively.
  • Filament layers 1 and 2 are formed from ferromagnetic material such as Fe. It has been done.
  • Electrodes 7 and 8 made of Au or the like are provided on the fin layers 1 and 2 respectively. The detection current flowing through the laminated film 3 is supplied from the electrodes 7 and 8. Further, the electrodes for reading the voltage between the ends of the laminated film 3 may be shared by the electrodes 7 and 8, or may be provided separately.
  • the first ferromagnetic layer 4 and the second ferromagnetic layer 6 of the multilayer film 3 are provided with the filter layers 1 on both side edges thereof. And 2 are in contact with each other.
  • an electrode or a bias layer is provided at the position of the filter layers 1 and 2.
  • FIG. 15 and FIG. 16 are diagrams showing the polarization states of the spins of the electrons in each layer in the conventional magnetoresistance effect element.
  • conductive layers 17 and 1 such as electrodes or bias layers are provided on both sides of the GMR multilayer film 3. 8 are provided. Therefore, the electrons flowing in the GMR laminated film 3 are given to the GMR laminated film 3 through the conductive layers 17 or 18.
  • FIG. 15 (b) shows the polarization state of the electron spin of each layer shown in FIG. 15 (a).
  • the spin-polarized states 14, 15, and 16 correspond to the spin-polarized states of the first ferromagnetic layer 4, the nonmagnetic conductive layer 5, and the second ferromagnetic layer 6, respectively.
  • the spin polarization states 19 and 20 correspond to the spin polarization states of conductive layers 17 and 18 respectively.
  • FIG. 15 shows a state in which the magnetization direction of the first ferromagnetic layer 4 is parallel to the magnetization direction of the second ferromagnetic layer 6. As shown in FIG. 15 (b), the electrons in the nonmagnetic conductive layer 5 and the conductive layers 17 and 18 in the GMR3 layer 3 are not spin-polarized. .
  • the electrons in the first ferromagnetic layer 4 and the second ferromagnetic layer 6 are spin-polarized. Fermi electrons in the first ferromagnetic layer 4 and the second ferromagnetic layer 6 are spin-polarized in the same direction.o
  • the conduction path of the first ferromagnetic layer 4 is F1
  • the conduction path of the nonmagnetic conductive layer 5 is C
  • the conduction path of the second ferromagnetic layer 6 is F2.
  • the resistance of the first ferromagnetic layer 4 is R 1
  • the resistance of the nonmagnetic conductive layer 5 is R c
  • the resistance of the second ferromagnetic layer 6 is R 2
  • the resistance of each conduction path is , As shown in Table 1.
  • Conduction path 3 has the lowest resistance and dominate the actual conduction
  • FIG. 16 shows the spin when the magnetization direction of the second ferromagnetic layer 6 is reversed and the magnetization directions of the first ferromagnetic layer 4 and the second ferromagnetic layer 6 are in an antiparallel state.
  • the magnetization direction of the second ferromagnetic layer 6 is antiparallel to the magnetization direction of the first ferromagnetic layer 4.
  • the first strength The polarization state of fermi electrons in the magnetic layer 4 and the spin polarization state of fermi electrons in the second ferromagnetic layer 6 are different. In such a state, as shown in Table 2, no electrons flow through the No. 3 conduction path through the three layers.
  • the conduction paths flowing through the three ferromagnetic layers are electron-conductive because the magnetization directions of one of the pair of ferromagnetic layers are antiparallel. Will not be able to contribute. Therefore, the conventional magnetoresistive element detects a change in the magnetic field by using the change in resistance.
  • FIGS. 2 and 3 show the spin-polarized state of the magnetoresistance effect element according to the embodiment of the present invention shown in FIG.
  • FIG. 2 (b) when the magnetization directions of the first ferromagnetic layer 4 and the second ferromagnetic layer 6 are parallel, the spin of the first ferromagnetic layer 4 is The polarization state 14 and the spin polarization state 16 of the second ferromagnetic layer 6 are almost the same, and the spin polarization of Fermi electrons in each layer is They are in the same direction.
  • the spin polarization states 11 and 12 of the ferromagnetic layers 1 and 2 provided on both sides of the GMR laminated film 3 are almost the same.
  • FIG. 3 shows a state in which the magnetization direction of the second ferromagnetic layer 6 is antiparallel to the magnetization direction of the first ferromagnetic layer 4.
  • the spin-polarized state 16 of the second ferromagnetic layer 6 is the same as the spin-polarized state 14 of the first ferromagnetic layer 4 and the filter.
  • the state is different from the spin polarized states 11 and 12 of the evening layers 1 and 2, respectively. Accordingly, the spin polarization of the free electrons of the second ferromagnetic layer 6 and the spin polarization of the free electrons of the filter layers 1 and 2 and the first ferromagnetic
  • the spin polarization of the Fermi electrons in layer 4 is in a different direction.
  • spin-polarized electrons are given to the other ferromagnetic layer, and thus the spin polarization of the X-ray electrons in this ferromagnetic layer is reduced.
  • the resistance is greatly increased, and a larger MR change can be obtained than before.
  • the transfer of spin-polarized electrons in the ferromagnetic layer is used, as described above, it is in contact with the filter layer.
  • the distance of electron movement in the ferromagnetic layer to which spin-polarized electrons are given is set to be shorter than the spin diffusion length.
  • the width of the ferromagnetic layer in the direction of electron movement is set to be within a predetermined range.
  • the spin diffusion length in the present invention means the spin diffusion length at the operating temperature of the magnetoresistive element. Since the spin diffusion length differs depending on the material of the ferromagnetic layer and the conditions for forming the thin film, the width of the ferromagnetic layer is determined in consideration of these conditions. Electron transfer of this ferromagnetic layer The movement distance corresponds to the width of the magnetic sensing part. When the magnetoresistive effect element of the present invention is used for a magnetoresistive head (MR head), it corresponds to the track width of the MR head.
  • MR head magnetoresistive head
  • the width of the magneto-sensitive portion is set to be shorter than the spin diffusion length in this way, when the magnetic head is used as an MR head, The width can be shortened, and the MR head suitable for reproducing high-density recording can be obtained.
  • the width of such a magnetic sensing part that is, the distance of electron movement in the ferromagnetic layer is 1 ⁇ ! It is set within the range of about 0.05 m.
  • the magnetic material constituting the ferromagnetic layer may be any magnetic material that can be used as the magnetic material of the GMR laminated film.
  • Ni Fe, F e, Co and their alloys are used as the nonmagnetic conductive layer.
  • Cu, Ag, etc. are used as the nonmagnetic conductive layer.
  • the ferromagnetic material used as the filler layer is not particularly limited as long as it is a ferromagnetic material having a single point of Curie at room temperature or higher. Not. Specifically, it includes NiFe, Fe, Co, and alloys thereof, and preferably, the filter layer contacts, that is, spins. The difference between the Fermi level of the ferromagnetic layer to which the polarized electrons are given and the Fermi level of the magnetic layer should be within ⁇ 1 eV.
  • a ferromagnetic material for the filter layer is selected. More preferably, it is selected so as to be different from the Fermi level of the ferromagnetic layer or to be in the range of 0.5 eV of soil.
  • the luma layer may be made of the same ferromagnetic material as the other ferromagnetic layer of the pair of ferromagnetic layers.
  • the filter layer plays the role of a filter that extracts one spin-polarized spin-state electron and gives it to the ferromagnetic layer.
  • the laminated film in the present invention is not particularly limited as long as it has a laminated structure in which a nonmagnetic conductive layer is sandwiched between a pair of ferromagnetic layers.
  • a pair of ferromagnetic layers may be coercive force difference type magnetoresistive films having different coercive forces, or an antiferromagnetic layer may be laminated on one of the pair of ferromagnetic layers.
  • It may be a spin valve type magnetoresistive effect film that has been used.
  • the antiferromagnetic layers laminated on one of the ferromagnetic layers are FeMn
  • NiMn NiMn, IrMn. Ni i, CoO, NiCoO, and the like.
  • the laminated film according to the present invention may be an artificial lattice type magnetoresistive effect film in which a ferromagnetic layer and a nonmagnetic conductive layer are repeatedly laminated at a plurality of periods.
  • an artificial lattice type magnetoresistive film is, for example, a laminated structure in which a Co layer as a ferromagnetic layer and a Cu layer as a nonmagnetic conductive layer are alternately and repeatedly laminated.
  • the membrane is known.
  • the filter layer is provided so as to be in contact with the lateral end of each layer of the laminated film as in the embodiment shown in FIG.
  • the ferromagnetic layer may be provided so as to be in contact with only one ferromagnetic layer of the pair of ferromagnetic layers.
  • a filler layer may be provided only on the side where carrier electrons are injected, and an arbitrary conductor layer may be provided on the opposite side.
  • the filter layer may be formed so as to be in contact with one of the ferromagnetic layers of the pair of ferromagnetic layers and to be integral with the other ferromagnetic layer. . That is, the filter layer and the other ferromagnetic layer of the pair of ferromagnetic layers may be continuously formed of the same material.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view showing a magnetoresistive element of one embodiment according to the present invention.
  • FIG. 2 is a diagram showing a spin-polarized state of each layer when the magnetization directions of a pair of ferromagnetic layers are parallel to each other in the magnetoresistance effect element of the present invention.
  • FIG. 3 is a diagram showing a spin-polarized state of each layer when the magnetization directions of a pair of ferromagnetic layers are antiparallel to each other in the magnetoresistance effect element of the present invention.
  • FIG. 4 is a sectional view showing a step of manufacturing the embodiment shown in FIG.
  • FIG. 5 is a sectional view showing a step of manufacturing the embodiment shown in FIG.
  • FIG. 6 is a sectional view showing a step of manufacturing the embodiment shown in FIG.
  • FIG. 7 is a cross-sectional view showing a magnetoresistive element of another embodiment according to the present invention.
  • FIG. 8 is a sectional view showing a magnetoresistive effect element according to still another embodiment of the present invention.
  • FIG. 9 is a sectional view showing a magnetoresistive effect element according to still another embodiment according to the present invention.
  • FIG. 10 is a sectional view showing a magnetoresistive effect element according to still another embodiment according to the present invention.
  • FIG. 11 is a cross-sectional view showing a magnetoresistive element according to still another embodiment according to the present invention.
  • FIG. 12 is a cross-sectional view showing a magnetoresistive element according to still another embodiment according to the present invention.
  • FIG. 13 is a cross-sectional view showing a step of manufacturing the magnetoresistive element of the embodiment shown in FIG.
  • FIG. 14 is a cross-sectional view showing a step of manufacturing the magnetoresistive element of the embodiment shown in FIG.
  • FIG. 15 is a diagram showing a state of spin polarization of each layer when the magnetization directions of a pair of ferromagnetic layers are parallel to each other in a conventional magnetoresistance effect element.
  • FIG. 16 is a diagram showing a state of spin polarization of each layer when the magnetization directions of a pair of ferromagnetic layers are antiparallel to each other in a conventional magnetoresistance effect element.
  • FIG. 1 is a sectional view showing a magnetoresistive element according to an embodiment of the present invention as described above.
  • 4 to 6 are cross-sectional views showing steps of manufacturing the magnetoresistive element shown in FIG. is there.
  • a C 0 layer film thickness 5 nm
  • N i 8 non-magnetic conductive N i 8 layers
  • 20 layers of Fe are sequentially formed by the ion beam snow and the free ring (IBS) method.
  • a resist film 10 is formed on the first ferromagnetic layer 4, and the photoresist film is formed as shown in FIG. 4 (c). Pattern using the law.
  • the first ferromagnetic layer is formed by an ion beam etching (IBE) method using the resist film 10 formed as a mask as a mask. 4
  • the nonmagnetic conductive layer 5 and the second ferromagnetic layer 6 are removed by etching, and finely processed into an element shape as shown in FIG. 4 (d).
  • FIG. 5 (e) after forming the resist film 21 on the entire surface, the photolithography method is used to obtain FIG. 5 (f). As shown, the resist film 21 is left only on the laminated film.
  • a Fe layer 22 (film thickness 12 nm) used as a filler layer is formed on the entire surface by the IBS method.
  • the resist film 21 on the laminated film is lifted off to form the Fe film formed on the resist film 21.
  • Layer 2 2 is removed.
  • the Fe layers formed on both sides of the laminated film become the final layer 1 and 2.
  • a resist film 23 is formed again on the entire surface, and then, as shown in FIG. 6 (j), a photolithography method is used.
  • the resist film 23 remains only at the center. Pattern as you go.
  • an Au layer 24 (100 nm) as an electrode is formed on the entire surface by the IBS method.
  • the resist film 23 is removed by lift-off, leaving Au layers on both sides, and these are applied to the electrodes 7. And 8.
  • each layer is formed such that the width of the laminated film portion, that is, the distance between the filter layers is 500 nm.
  • the typical film thickness of the first ferromagnetic layer 4 and the second ferromagnetic layer 6 is, for example, 10 to 100 A
  • a typical film thickness of the nonmagnetic conductive layer 5 is, for example, 10 to 50 A.
  • the magnetoresistance effect element of the embodiment shown in FIG. 1 can be obtained.
  • FIG. 7 is a sectional view showing a magnetoresistive element of another embodiment according to the present invention.
  • a laminated film 3 of the present embodiment is formed by repeatedly laminating a nonmagnetic conductive layer 25 such as Cu and a ferromagnetic layer 26 such as C0 at a plurality of cycles.
  • This is an artificial lattice type GMR film composed of this.
  • Other configurations are similar to those of the embodiment shown in FIG.
  • the nonmagnetic conductive layer 25 is formed with a thickness of, for example, 10 to 50 A
  • the ferromagnetic layer 26 is formed with a thickness of, for example, 10 to 100 A.
  • FIG. 8 is a sectional view showing a magnetoresistive effect element according to still another embodiment of the present invention.
  • a spin-valve GMR film is formed as the laminated film 3.
  • Ni 8 is used as the first ferromagnetic layer 27.
  • F e 2 is used as the first ferromagnetic layer 27.
  • a film is formed by laminating a layer (5 nm thick) and a Co layer (2 nm thick).
  • a Cu layer thickness 3 ⁇ m
  • the second ferromagnetic layer 29 a film composed of a Co layer (2 nm thick) and a NiFe ⁇ layer (5 nm thick) is formed.
  • the C 0 layer is provided on the side closer to the Cu layer.
  • Fe 5 On top of the first ferromagnetic layer 27 is Fe 5 as an antiferromagnetic layer 30.
  • M n 5 0 layer thickness 1 5 nm
  • an Fe layer (film thickness: 15 nm) is formed as the filler layer 1 and the fin layer 2.
  • the filter layers 1 and 2 should be in contact with one end face of the first ferromagnetic layer 27, the nonmagnetic conductive layer 28, and the second ferromagnetic layer 29. It is formed in.
  • the typical thickness of the antiferromagnetic layer 30 is, for example, 50 to 500 A
  • the typical thickness of the 27 and second ferromagnetic layers 29 is, for example, 10 to 100 A
  • the typical thickness of the nonmagnetic conductive layer 28 is, for example, 1 0 to 50 A.
  • each layer is formed such that the width of the laminated film portion, that is, the distance between the interlayers of the film is 500 nm.
  • FIG. 9 is a sectional view showing still another embodiment according to the present invention.
  • a bias layer is provided on the substrate 9, a laminated film 3 including a first ferromagnetic layer 4, a non-magnetic conductive layer 5, and a second ferromagnetic layer 6 is formed as in the embodiment shown in FIG. Yes.
  • Noxious layers 31 and 32 made of, for example, C0CrPt are formed so as to be in contact with the end faces on both sides of the laminated film 3.
  • the bias layer is provided so as to be in direct contact with the upper layer film 3 as shown in FIG.
  • a pair of filter layers 1 and 2 are formed at a predetermined distance from each other, and the electrodes 7 and Au made of Au and the like are formed on the filter layers 1 and 2 respectively.
  • Form 8 With such a configuration, electrons can be given to the first ferromagnetic layer 4 via the fin layer 1 or 2 and the spin polarization can be increased. Extreme electrons can be given to the first ferromagnetic layer 4.
  • the filler layer may be provided in contact with one of the ferromagnetic layers.
  • a filter layer only needs to be provided on the side to which electrons are given, and a filter layer is always provided on each of both ends of the ferromagnetic layer. No need.
  • FIG. 10 is a sectional view showing still another embodiment according to the present invention. Also in this embodiment, the bias layers 31 and 32 are provided.
  • a laminated structure including a first ferromagnetic layer 4, a nonmagnetic conductive layer 5, and a second ferromagnetic layer 6 is provided at the center of a substrate 9.
  • the film 3 is provided strongly, and filter layers 1 and 2 made of Fe or the like are provided so as to be in contact with both sides of the laminated film 3, respectively.
  • bias layers 31 and 32 made of C0CrPt and the like are further provided outside the filter layers 1 and 2 respectively.
  • the electrodes 7 and 8 are provided on the bias layer 31, the filter layer 1, the gap layer 32, and the file layer 2, respectively.
  • each layer is formed such that the width of the laminated film portion, that is, the distance between the filler layers is 500 nm.
  • FIG. 11 is a sectional view showing still another embodiment according to the present invention.
  • the magnetic layer 1 and the magnetic layer 2 are formed by alternately laminating the magnetic layers 1a and 1b and the magnetic layers 2a and 2b, respectively. It is formed by Other configurations are the same as those of the embodiment shown in FIG. As described above, in the present invention, the magnetic layer may be formed by forming different magnetic layers to form the filler layer.
  • each layer is formed such that the width of the laminated film portion, that is, the distance between the interlayers of the film is 500 nm.
  • FIG. 12 is a sectional view showing still another embodiment according to the present invention.
  • the first ferromagnetic layer and the filter layer are formed continuously and integrally. That is, the second ferromagnetic layer 6 and the nonmagnetic conductive layer 5 are formed in the center of the substrate 9, and the first ferromagnetic layer portion is formed on the nonmagnetic conductive layer 5.
  • a ferromagnetic layer 33 having 33a is formed. The ferromagnetic layer 33 also extends to the outside of the nonmagnetic conductive layer 5 and the second ferromagnetic layer 6 to form a filter layer 33b.
  • the filter layer portion 33 b of the ferromagnetic layer 33 is in contact with the end side surfaces on both sides of the second ferromagnetic layer 6. Therefore, the first ferromagnetic layer portion 33a of the ferromagnetic layer 33 functions as the first ferromagnetic layer, and the filter layer portion 33b is the filter of the present invention. Functions as a data layer. As described above, in the present invention, one of the pair of ferromagnetic layers may be formed continuously and integrally with the filler layer.
  • each layer is formed such that the width of the laminated film portion, that is, the distance between the interlayers of the film is 500 nm.
  • spin-polarized electrons are given to the second ferromagnetic layer 6 from the filter layer portion 33b of the ferromagnetic layer 33, and the above-described booklet is used.
  • a larger MR change can be obtained by the action mechanism of the invention.
  • FIG. 13 and FIG. 14 are cross-sectional views showing steps of manufacturing the embodiment shown in FIG. Referring to Fig. 13 (a), The resist film 34 is formed on the plate 9 on both sides of the region where the laminated film is to be formed, in the same manner as the resist film. Next, as shown in FIG. 13B, a second ferromagnetic layer 6 and a non-magnetic conductive layer 5 are formed over the entire surface above the substrate 9. Next, as shown in FIG. 13 (c), the resist film 34 is lifted off, so that the second ferromagnetic layer 6 is formed only at the center of the substrate 9. And the nonmagnetic conductive layer 5 is left. Next, as shown in FIG.
  • a ferromagnetic layer 33 is formed on the entire surface above the substrate 9, and the portion above the nonmagnetic conductive layer 5 is replaced with the first ferromagnetic layer portion 3. 3 a, and both sides of the nonmagnetic conductive layer 5 and the second ferromagnetic layer 6 are filed layer portions 33 b.
  • the second ferromagnetic layer 6 is formed from, for example, a C 0 layer
  • the nonmagnetic conductive layer 5 is formed from, for example, a Cu layer
  • the ferromagnetic layer 33 is, for example, Ni 8 .
  • the F e 20 layer is formed.
  • a resist film 34 is formed in a central portion on the ferromagnetic layer 33 so as to form a single-layered pattern.
  • an Au layer 35 is formed on the entire surface.
  • the Au layer is left only on both sides as shown in FIG. And 8.
  • the magnetoresistive element of the embodiment according to the present invention shown in FIG. 12 can be manufactured. Industrial applicability
  • the magnetoresistance effect element of the present invention can be used, for example, as an MR head suitable for high-density recording.

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Description

明 細 書
磁気抵抗効果素子
技術分野
本発明は、 磁気抵抗効果素子に関する も のであ り 、 特 に いわゆ る 巨大磁気抵抗効果を示す素子に関す る も ので あ る。
背景技術
磁気抵抗効果素子 ( M R 素子) は、 磁界の変化に よ り 電気抵抗が変化す る磁気抵抗効果を利用 し、 磁界の変化 を検出す る素子であ る。 こ の よ う な磁気抵抗効果素子は 検出感度が高い こ と 力、 ら、 ハ ー ドデ ィ ス ク な どの磁気記 録媒体の再生へ ッ ド と しての利用が期待 さ れて い る。 ハ 一 ドデ ィ ス ク に おいて は、 記録の高密度化が進め られて お り 、 磁気抵抗効果素子を よ り 高密度に記録 さ れた記録 媒体の再生へ ッ ド と して用 い る ためには、 よ り 高い感度 が要求 さ れて い る。 磁気抵抗効果素子を よ り 高感度にす る た めに は、 磁気抵抗効果素子の M R比を高 く す る必要 があ る。 こ の よ う な こ とか ら、 高い M R比を示す磁気抵 抗効果素子 と して、 強磁性層 と非磁性導電層 と を稂層 し た構造の磁気抵抗効果膜を用 いた 巨大磁気抵抗効果素子 ( G M R 素子) が検討 さ れ、 こ れ ま で種 々 の G M R の素 子構造が提案 さ れてい る。 例え ば、 互いに異な る 保磁力 を有す る 一対の強磁性層の間 に非磁性導電層 が挟 ま れた 描造を有す る保磁力差型 G M R 素子、 非磁性導電層 を挟 む一対の強磁性層の一方に反強磁性層が積層 さ れて ス ピ ン止め さ れた ス ピ ンバル ブ型 G M R 素子、 及 び強磁性層 と 非磁性導電層 と を複数の周期で繰 り 返 し積層 し た 人工 格子型 G M R素子な どが知 られてい る。
しか しなが ら、 さ ら に高い記録密度を実現す る ために は、 よ り 高い M R 比を有す る こ とが必要であ り 、 さ ら に は ト ラ ッ ク 幅を狭 く す る こ とがで き る G M R 素子の開発 が要望 さ れてい る。
本発明の 目 的は、 こ の よ う な従来か ら の要望を満 た そ う と す る も のであ り 、 従来 よ り 高い M R 比を示す こ と が で き る 新規な磁気抵抗効果素子の素子構造を提供す る こ と に あ る。 発明の開示
本発明の磁気抵抗効果素子は、 一対の強磁性層 の問 に 非磁性導電層が挟 ま れた積層構造を有す る積層膜 と 、 層膜に検出電流を流すための一対の電極 と、 一対の電極 の う ち の正極 と一対の強磁性層の う ち の一方の強磁性層 と の間 に設け られ、 強磁性層 に ス ピ ン偏極 し た電子を与 え る た めの強磁性体か らな る フ ィ ル タ 層 と を備え、 強磁 性層 中の電子の移動の距離がス ピ ン拡散長 よ り 短 く な る よ う に設定 さ れてい る こ と を特徴 と してレ、 る。
本発明に おいて、 ス ピ ン 拡散長 と は、 ス ピ ン偏極 し た 電子が拡散 し移動 し得る平均距離を意味 して い る。 本発 明 に おいて は、 ス ピ ン偏極 し た電子が与え ら れ る 強磁性 層 中の電子の移動の距離がス ピ ン拡散長 よ り 短 く な る よ う に設定 さ れてい る ので、 強磁性層中を移動す る 電子は ス ピ ン 偏極 した状態で移動 し得 る。
ま た本発明において、 正極 と は、 一対の電極の う ち の 電子を与え る 電極をい う 。 本発明において は、 正極 と 、 正極側の強磁性層 と の間に少な く と も フ ィ ル 夕層が設け られて おればよ いが、 よ り 好 ま しい実施形態にお いて は 負極 と 、 負極側の強磁性層 と の間に も フ ィ ル 夕 層 か設 け ら れ る。
以下、 本発明の磁気抵抗効果素子が、 従来の磁気抵抗 効果素子よ り も 高い M R比を示す原理について説明す る 図 1 は、 本発明 に従 う一実施例の磁気抵抗効果素子を 示す断而図であ る。 基板 9 の中央部の上に は、 第 1 の強 磁性層 4 、 非磁性導電層 5 、 及び第 2 の強磁性層 6 を積 層 し た積層膜 3 が設け られてい る。 第 1 の強磁性層 4 は 例え ば N i F e な どか ら形成 さ れ、 第 2 の強磁性層 6 は 例えば C 0 な どか ら形成さ れ、 互いに保磁力 の異な る 強 磁性層材料か ら形成さ れてい る。 非磁性導電層 5 は、 例 え ば C u な どか ら形成さ れて い る。 従 っ て、 積層膜 3 は 保磁力差型の G M R 積層膜を構成 して いる。
積層膜 3 の両側の基板上には、 フ ィ ル タ層 1 及 び 2 が それぞれ積層膜 3 と 接す る よ う に形成 さ れてい る。 フ ィ ル 夕層 1 及び 2 は、 例えば F e な どの強磁性体か ら形成 さ れて い る。 フ ィ ノレ 夕 層 1 及 び 2 の上に は、 そ れぞれ A u な どか ら な る 電極 7 及び 8 が設け られて い る 。 積層膜 3 中を流れ る検出電流は、 こ の電極 7 及び 8 か ら供給 さ れ る。 ま た、 積層膜 3 の端部間の電圧を読み取 る 電極は こ の電極 7 及び 8 を兼用 さ せて も よ い し、 別 に設けて も よ い。
図 1 に示す実施例の磁気抵抗効果素子において は、 積 層膜 3 の第 1 の強磁性層 4 及 び第 2 の強磁性層 6 の両側 の側方端部に フ ィ ル 夕 層 1 及 び 2 が接す る よ う に設 け ら れてい る 。 従来の磁気抵抗効果素子に お いて は、 こ の フ ィ ル 夕 層 1 及 び 2 の位置に、 電極 ま た はバイ ア ス層 な ど が設け ら れてい る。
図 1 5 及び図 1 6 は、 従来の磁気抵抗効果素子に お け る 各層 の電子のス ピ ン の偏極伏態を示す図であ る 。 図 1 5 ( a ) に示す よ う に、 従来の磁気抵抗効果素子に お い て は、 G M R 積層膜 3 の両側に は、 電極 ま た はバイ ア ス 層な どの導電層 1 7 及 び 1 8 が設け られて い る。 従 っ て G M R 積層膜 3 に流れ る 電子は、 導電層 1 7 ま た は 1 8 を通 り G M R 積層膜 3 に与え られ る。
図 1 5 ( b ) は、 図 1 5 ( a ) に示す各層の電子の ス ピ ン の偏極状態を示 してい る。 ス ピ ン偏極状態 1 4 、 1 5 及び 1 6 は、 そ れぞれ第 1 の強磁性層 4 、 非磁性導電 層 5 、 及 び第 2 の強磁性層 6 の ス ピ ン偏極状態に対応 し て レ、 る。 ま た ス ピ ン偏極状態 1 9 及 び 2 0 は、 そ れぞれ 導電層 1 7 及び 1 8 の ス ピ ン偏極状態に対応 して い る。 図 1 5 は、 第 1 の強磁性層 4 の磁化方向 と 、 第 2 の強 磁性層 6 の磁化方向 と が平行であ る と き の状態を示 して い る。 図 1 5 ( b ) に示す よ う に、 G M R 積層膜 3 中の 非磁性導電層 5 及び導電層 1 7 及び 1 8 にお け る 電子は ス ピ ン偏極 していな い状態にあ る。 こ れに対 し、 第 1 の 強磁性層 4 及び第 2 の強磁性層 6 にお け る 電子はス ピ ン 偏極 した状態にあ る。 ま た第 1 の強磁性層 4 及び第 2 の 強磁性層 6 の フ ェ ル ミ 電子は同一方向に ス ピ ン偏極 し て い る o
G M R 積層膜 3 を通 る電子の伝導パス は、 表 1 に示す よ う に 6 通 り 考え られる。 こ こ で、 第 1 の強磁性層 4 の 伝導パスを F 1 と し、 非磁性導電層 5 の伝導パス を C と し、 第 2 の強磁性層 6 の伝導パス を F 2 と して い る。 ま た、 第 1 の強磁性層 4 の抵抗を R 1 、 非磁性導電層 5 の 抵抗を R c 、 第 2 の強磁性層 6 の抵抗を R 2 と す る と 、 各伝導パスの抵抗は、 表 1 の よ う に表 さ れ る 。
表 1
No. 伝導パス 伝導層 抵 抗
の数
1一 A F 1 1 R 1
1 -B C 1 Rc
1一 C F 2 1 R 2
2 -Λ F 1. C 2 R 1 R c/ (R 1 1 Rc)
2 -B C. F 2 2 R c R 2/ (R c +R 2)
3 F 1, C. F 2 3 R〗 R c R 2
/ (R 1 R c +R c R 2 +R 2 R 1 ) 1 に示す伝導パスの う ち、 3 つの層 を流れ る Ν 0 .
3 の伝導パスが最 も 抵抗が低 く 、 実際の伝導を支配 して い る
図 1 6 は、 第 2 の強磁性層 6 の磁化方向が反転 し、 第 1 の強磁性層 4 と第 2 の強磁性層 6 の磁化方向が反平行 状態 と な っ た と き の ス ピ ン偏極の状態を示 してい る 。 図 1 6 ( a ) に示す よ う に、 第 2 の強磁性層 6 の磁化方向 が、 第 1 の強磁性層 4 の磁化方向に対 し反平行状態 と な つ てい る。 こ の よ う な状態に おいて は、 図 1 6 ( b ) の ス ピ ン偏極伏態 1 4 及 びス ピ ン偏極状態 1 6 に示 さ れ る よ う に、 第 1 の強磁性層 4 の フ エ ル ミ 電子の偏極状態 と 第 2 の強磁性層 6 の フ ユ ル ミ 電子のス ピ ン偏極状態 と が 異な つ てい る。 こ の よ う な状態において は、 表 2 に示す よ ό に、 3 つの層 を通 る N o . 3 の伝導パスを電子が流 れな く な る。
表 2
No. 伝導パス 伝導層 抵 抗
の数
1一 A F 1 1 R 1
1 - B C 1 R c
1 - C F 2 1 R 2
2 - Λ F 1 , C 2 R l Rc/ (R l +R c)
2 - D C. F 2 2 R c R 2 / ( R c + 2 )
3 F 1 , C. F 2 3 従 っ て、 G M R 積層膜 3 の抵抗が増大す る 。
以上の よ う に、 従来の磁気抵抗効果素子に お いて は、 一対の強磁性層の一方の磁化方向が反平行 と な る こ と に よ り 、 3 つの層を流れ る 伝導パスが電子伝導に寄与で き な く な る。 従 っ て、 従来の磁気抵抗効果素子は、 こ れに よ る 抵抗変化を用 いて磁界の変化を検出 してい る 。
図 2 及び図 3 は、 図 1 に示す本発明の実施例の磁気抵 抗効果素子にお け る ス ピ ン偏極状態を示 して い る。 図 2 ( b ) に示す よ う に、 第 1 の強磁性層 4 と 第 2 の強磁性 層 6 の磁化方向が平行であ る と き に は、 第 1 の強磁性層 4 の ス ピ ン偏極状態 1 4 と、 第 2 の強磁性層 6 の ス ピ ン 偏極状態 1 6 と がほぼ同様の偏極状態にあ り 、 各層の フ ェ ル ミ 電子のス ピ ン の偏極が同一方向であ る。 ま た G M R 積層膜 3 の両側にそれぞれ設け ら れてい る 強磁性体か ら な る フ ィ ル 夕層 1 及び 2 のそれぞれのス ピ ン 偏極状態 1 1 及 び 1 2 も ほぼ同様の偏極状態であ り 、 各層 の フ エ ル ミ 電子のス ピ ン は同一方向に偏極 してい る。 こ の よ う な状態においては、 図 1 5 に示す従来の磁気抵抗効果素 子 と 同様に、 表 3 に示す よ う な 6 通 り の伝導パスが考え ら れ、 こ れ らの中で も 3 層 を通過す る N o . 3 の伝導パ ス が最 も 抵抗が低 く 、 実際の電子の伝導を支配 して い る ,
表 3
Figure imgf000010_0001
図 3 は、 第 2 の強磁性層 6 の磁化方向が、 第 1 の強磁 性層 4 の磁化方向 と反平行に な っ た と き の状態を示 して い る。 図 3 ( b ) に示す よ う に、 第 2 の強磁性層 6 の ス ピ ン偏極状態 1 6 は、 第 1 の強磁性層 4 の ス ピ ン偏極状 態 1 4 並びに フ ィ ル 夕 層 1 及び 2 のそれぞれのス ピ ン偏 極伏態 1 1 及び 1 2 と 異な る状態 と な っ て い る 。 従 っ て 第 2 の強磁性層 6 の フ ル ミ 電子の ス ピ ン偏極 と 、 フ ィ ル 夕 層 1 及び 2 の フ ヱ ル ミ 電子のス ピ ン偏極及 び第 1 の 強磁性層 4 の フ ェ ル ミ 電子のス ピ ン偏極が異な る 方向 と な っ てレ、 る。 こ のため、 フ ィ ル タ 層 1 ま た は 2 力、 ら第 2 の強磁性層 6 に対 し電子が流れる な く な る。 こ の結果、 表 4 に示す よ う に、 第 2 の強磁性層 6 の伝導パス F 2 に 関連 し た 3 つの伝導パス N o . 1 — C 、 N o . 2 — B 、 及び N o . 3 が閉 じ、 抵抗が従来 よ り も大幅に増大す る 表 4
No. 伝導パス 伝導層 抵 抗
の数
1一 A F 1 R 1
1一 B C R c
1一 C F 2
2 - A F 1 . C R 1 R c / ( R 1 + R c )
2— 13 C , F 2
3 F 1 . C , F 2
以上の よ う に、 本発明 に従え ば、 ス ピ ン偏極 した電子 がー方の強磁性層に与え られ る ため、 こ の強磁性層 の フ X ル ミ 電子の ス ピ ン偏極が、 フ ィ ル 夕 層の ス ピ ン偏極 と 異な る 方向に な る と、 大 に抵抗が増大 し、 従来 よ り も 大 き な M R 変化を得 る こ と で き る 。 こ の よ う に、 本発明 に おいて は、 強磁性層 中のス ピ ン偏極 した電子の移動を 利用す る も のであ る ため、 上述の よ う に、 フ ィ ル 夕 層 と 接 し ス ピ ン偏極 し た電子が与え られる強磁性層 中の電子 の移動の距離は、 ス ピ ン拡散長 よ り も短 く な る よ う に設 定 さ れ る。 具体的に は、 強磁性層の電子の移動方向の幅 を所定の範囲 と な る よ う に設定す る。 本発明にお け る ス ピ ン拡散長は、 磁気抵抗効果素子の使用 温度にお け る ス ピ ン拡散長を意味す る。 ス ピ ン拡散長は強磁性層 の材質 や薄膜形成条件等に よ り 異な る の で、 こ れ らの条件を考 慮 して強磁性層の幅を決定す る。 こ の強磁性層の電子移 動の距離は、 感磁部の幅に相当す る。 ま た本発明の磁気 抵抗効果素子を磁気抵抗効果へ ッ ド ( M R へ ッ ド) に用 いた場合 に は、 M R へ ッ ドの ト ラ ッ ク 幅に相当す る。 本 発明では、 こ の よ う に感磁部の幅を ス ピ ン拡散長 よ り も 短 く な る よ う に設定す る ので、 M R ヘ ッ ド と して 用 いた 場合、 卜 ラ ッ ク 幅を短 く す る こ と ができ、 高密度記録の 再生に適 した M R へ ッ ド とす る こ と ができ る 。 こ の よ う な感磁部の幅、 すな わ ち強磁性層中 の電子の移動の距離 は、 一般に は 1 〃 π!〜 0 . 0 5 m程度の範囲内で設定 さ れ る。
本発明 において、 強磁性層 を構成す る 磁性体 と して は G M R 積層膜の磁性体 と して用 い る こ と がで き る も ので あれば よ く 、 例えば、 N i F e 、 F e 、 C o 及び こ れ ら の合金な どが用 い られ る。 ま た非磁性導電層 と して は、 C u 、 A g な どが用 レ、 られ る。
ま た本発明 に おいて、 フ ィ ル 夕 層 と して用 い られる 強 磁性体は、 室温以上に キ ュ ー リ 一 点を有す る 強磁性体で あれば、 特に限定 さ れ る も のではな い。 具体的 に は、 N i F e 、 F e 、 C o 及 び こ れ らの合金な どが挙げ られ る 好 ま し く は、 フ ィ ル タ 層が接す る 、 すなわ ち ス ピ ン偏極 した電子が与え られ る強磁性層の フ X ル ミ 準位 と、 フ ィ ル 夕 層 の フ ェ ル ミ 準位 と の差が、 ± 1 e V の範囲内 と な る よ う に フ ィ ル タ 層の強磁性体材料が選ばれて い る。 さ ら に好 ま し く は、 強磁性層の フ ヱ ル ミ 準位 と の差か、 土 0 . 5 e V の範囲內 と な る よ う に選ばれ る。 ま た、 フ ィ ル 夕 層 は、 一対の強磁性層の う ち の他方の強磁性層 と 同 一の強磁性体材料か ら構成 さ れて も よ い。
本発明 において フ ィ ル タ 層 は、 ス ピ ン偏極 した一方 の ス ピ ン状態の電子を抽出 し、 強磁性層 に与え る フ ィ ル 夕 の役割を果た してい る。
本発明 にお け る 積層膜は、 一対の強磁性層 の間 に非磁 性導電層が挟 ま れた積層構造を有す る も のであれば特に 限定 さ れる も のではない。 例えば、 一対の強磁性層が互 い に異な る保磁力 を有す る保磁力 差型磁気抵抗効果膜で あ っ て も よ い し、 一対の強磁性層の一方に反強磁性層が 積層 さ れてい る ス ピ ン バルブ型磁気抵抗効果膜であ っ て も よ い。 ス ピ ンバルブ型磁気抵抗効果膜の場合、 強磁性 層の一方に積層 さ れ る反強磁性層 と しては、 F e M n 、
N i M n 、 I r M n . N i 〇 、 C o O、 N i C o O な ど が挙げ られ る。
ま た、 本発明に お け る積層膜は、 強磁性層 と非磁性導 電層 と を複数の周期で繰 り 返 し積層す る 人工格子型磁気 抵抗効果膜であ っ て も よ い。 こ の よ う な人工格子型磁気 抵抗効果膜 と して は、 例えば強磁性層 と しての C 0 層 と 非磁性導電層 と しての C u 層を交互に繰 り 返 し積層 した 積層膜が知 られてい る。
本発 π月の磁気坻抗効果素子において は、 図 1 に示す実 施例の よ う に フ ィ ル 夕 層が積層膜の各層の側方端部 と 接 す る よ う に設け られていて も よ い し、 一対の強磁性層の 一方の強磁性層 のみ と接す る よ う に設け られて いて も よ い。 さ ら には、 キ ャ リ ア電子を注入する側にのみ フ ィ ル 夕層を設け、 反対側に は任意の導体層を設けて も よい。
さ らには、 フ ィ ル タ層が、 一対の強磁性層の一方の強 磁性層 と接 し、 かつ他方の強磁性層 と一体的にな る よ う に形成さ れていて も よ い。 すなわち、 フ ィ ルタ層 と一対 の強磁性層の他方の強磁性層が同一材料で連続 して形成 さ れていて も よい。 図面の 単な説明
図 1 は、 本発明に従う一実施例の磁気抵抗効果素子を 示す断面図であ る
図 2 は、 本発明の磁気抵抗効果素子において一対の強 磁性層の磁化方向が互いに平行であ る と きの各層のス ピ ン偏極状態を示す図であ る。
図 3 は、 本発明の磁気抵抗効果素子において一対の強 磁性層の磁化方向が互いに反平行であ る と き の各層のス ピ ン偏極状態を示す図であ る。
図 4 は、 図 1 に示す実施例を製造する工程を示す断面 図であ る。
図 5 は、 図 1 に示す実施例を製造する工程を示す断面 図であ る。
図 6 は、 図 1 に示す実施例を製造する工程を示す断面 図であ る。
図 7 は、 本発明に従 う 他の実施例の磁気抵抗効果素子 を示す断面図であ る。 図 8 は、 本発明に従う さ らに他の実施例の磁気抵抗効 果素子を示す断面図である。
図 9 は、 本発明に従う さ らに他の実施例の磁気抵抗効 果素子を示す断面図であ る。
図 1 0 は、 本発明に従う さ らに他の実施例の磁気抵抗 効果素子を示す断面図である。
図 1 1 は、 本発明に従う さ らに他の実施例の磁気抵抗 効果素子を示す断面図である。
図 1 2 は、 本発明に従う さ らに他の実施例の磁気抵抗 効果素子を示す断面図であ る。
図 1 3 は、 図 1 2 に示す実施例の磁気抵抗効果素子を 製造する工程を示す断面図である。
図 1 4 は、 図 1 2 に示す実施例の磁気抵抗効果素子を 製造する工程を示す断面図であ る。
図 1 5 は、 従来の磁気抵抗効果素子において一対の強 磁性層の磁化方向が互いに平行であ る と き の各層のス ピ ン偏極の状態を示す図であ る。
図 1 6 は、 従来の磁気抵抗効果素子において一対の強 磁性層の磁化方向が互いに反平行である と き の各層のス ピ ン偏極の状態を示す図であ る。 発明を実施する ための最良の形態
図 1 は、 上述のよ う に、 本発明に従う 一実施例の磁気 抵抗効果素子を示す断面図である。 図 4 〜図 6 は、 図 1 に示す磁気抵抗効果素子を製造する工程を示す断面図で あ る。 図 4 ( a ) を参照 して、 S i な どか ら な る 非磁性 の基板 9 の上に、 第 2 の強磁性層 6 と しての C 0 層 (膜 厚 5 n m ) 、 非磁性導電層 5 と して の C u 層 (膜厚 2 n m ) 、 及 び第 1 の強磁性層 4 と しての N i 8。 F e 20層 (膜厚 5 n m ) を順次イ オ ン ビー ム ス ノ、' ッ 夕 リ ン グ ( I B S ) 法に よ り 形成す る。
次に、 図 4 ( b ) を参照 して、 第 1 の強磁性層 4 の上 に レ ジス ト 膜 1 0 を形成 し、 図 4 ( c ) に示す よ う に フ オ ト レ ジ ス 卜 法を用 いてパ タ ー ニ ン グす る 。 次に、 パ 夕 一 二 ン グに した レ ジ ス 卜 膜 1 0 をマ ス ク と して イ オ ン ビ ー 厶エ ッ チ ン グ ( I B E ) 法に よ り 、 第 1 の強磁性層 4 非磁性導電層 5 及 び第 2 の強磁性層 6 をエ ッ チ ン グ除去 し、 図 4 ( d ) に示す よ う に素子形状に微細加工す る。 次に、 図 5 ( e ) を参照 して、 レ ジ ス 卜 膜 2 1 を全面 に形成 し た後、 フ ォ ト リ ソ グ ラ フ ィ 法を用 し、て、 図 5 ( f ) に示す よ う に、 積層膜の上にのみ レ ジ ス 卜 膜 2 1 を残す。 次に、 図 5 ( g ) に示す よ う に、 フ ィ ル 夕 層 と して用 い る F e 層 2 2 (膜厚 1 2 n m ) を I B S 法に よ り 全面に形成す る。 次に、 図 5 ( h ) に示す よ う に、 積 層膜上の レ ジ ス ト 膜 2 1 を リ フ ト オ フ す る こ と に よ り 、 こ の上に形成 さ れた F e 層 2 2 を除去す る。 積層膜の両 側に形成 さ れた F e 層 は フ ィ ノレ 夕 層 1 及び 2 と な る。
次に、 図 6 ( i ) に示す よ う に、 全面に再び レ ジ ス 卜 膜 2 3 を形成 した後、 図 6 ( j ) に示す よ う に、 フ ォ ト リ ツ グラ フ ィ 法に よ り 中央部に のみ レ ジ ス ト 膜 2 3 を残 す よ う にパ タ ーニ ン グす る。 次に、 図 6 ( k ) に示す よ う に、 全面に電極 と な る A u 層 2 4 ( 1 0 0 n m ) を I B S 法に よ り 形成す る。 次に、 図 6 ( 1 ) に示す よ う に レ ジス ト 膜 2 3 を リ フ 卜 オ フ に よ り 除去する こ と に よ り 両側に A u 層 を残 し、 こ れ ら を電極 7 及び 8 と す る。
本実施例にお いては、 積層膜部分の幅、 すなわ ち フ ィ ル タ 層間の距離を 5 0 0 n m と な る よ う に各層 を形成 し て い る。
こ の よ う な保磁力差型の G M R膜において、 第 1 の強 磁性層 4 及び第 2 の強磁性層 6 の一般的な膜厚は、 例え ば 1 0 〜 1 0 0 A であ り 、 非磁性導電層 5 の一般的な膜 厚は、 例え ば 1 0 〜 5 0 A であ る。
以上の よ う に して図 1 に示す実施例の磁気抵抗効果素 子を得 る こ と がで き る。
図 7 は、 本発明 に従 う 他の実施例の磁気抵抗効果素子 を示す断面図であ る。 図 7 を参照 して、 本実施例の積層 膜 3 は、 C u な どの非磁性導電層 2 5 と C 0 な どの強磁 性層 2 6 を複数の周期で繰 り 返 して積層す る こ と に よ り 構成 さ れる 人工格子型の G M R 膜であ る。 そ の他の構成 は、 図 1 に示す実施例 と 同様に して構成 さ れて いる。 非 磁性導電層 2 5 は、 例えば 1 0 〜 5 0 A の膜厚で形成 さ れ、 強磁性層 2 6 は、 例えば 1 0 〜 1 0 0 A の膜厚で形 成 さ れ る。 ま た非磁性導電層 2 5 と 強磁性層 2 6 の繰 り 返 し周期は、 例えば 5 〜 3 0 A の周期で繰 り 返 さ れ積層 さ れる。 図 8 は、 本発明に従 う さ ら に他の実施例の磁気抵抗効 果素子を示す断面図であ る。 本実施例では、 積層膜 3 と して、 ス ピ ン バルブ型 G M R膜が形成さ れてい る。 第 1 の強磁性層 2 7 と して は、 N i 8。 F e 2。層 (膜厚 5 n m ) と C o 層 (膜厚 2 n m ) を積層 した膜が形成さ れて い る。 非磁性導電層 2 8 と しては、 C u 層 (膜厚 3 η m ) が形成さ れて い る。 第 2 の強磁性層 2 9 と して は、 C o 履 (膜厚 2 n m ) と N i F e ^層 (膜厚 5 n m ) を攒層 した膜が形成 さ れて い る。 第 1 の強磁性層 2 7 及 び第 2 の強磁性層 2 9 において、 C 0 層 はそれぞれ C u 層 に近い側に設け られてい る。 第 1 の強磁性履 2 7 の上 に は、 反強磁性層 3 0 と し て の F e 5。 M n 50層 (膜厚 1 5 n m ) が形成 さ れてい る。 ま た フ ィ ル 夕 層 1 及び フ ィ ノレ 夕 層 2 と して、 F e 層 (膜厚 1 5 n m ) が形成 さ れて い る 。 従 っ て、 フ ィ ル タ層 1 及 び 2 は、 第 1 の強磁性層 2 7 、 非磁性導電層 2 8 及び第 2 の強磁性層 2 9 の侧方 の端面 と接す る よ う に形成 さ れてい る。 こ の よ う な ス ピ ン バルブ型の G M R膜に おいて、 反強磁性層 3 0 の一般 的な膜厚は、 例えば 5 0 〜 5 0 0 Aであ り 、 第 1 の強磁 性層 2 7 及 び第 2 の強磁性層 2 9 の一般的な膜厚は、 例 えば 1 0 〜 1 0 0 Aであ り 、 非磁性導電層 2 8 の一般的 な膜厚は、 例え ば 1 0 〜 5 0 Aであ る。
本実施例において は、 積層膜部分の幅、 すな わ ち フ ィ ル 夕 層間の距離を 5 0 0 n m と な る よ う に各層を形成 し て い る。 図 9 は、 本発明 に従 う さ ら に他の実施例を示す断面図 であ る。 本実施例に おいて は、 バイ ア ス層が設け られて い る。 基板 9 の上に は、 図 1 に示す実施例 と 同様に第 1 の強磁性層 4 、 非磁性導電層 5 及 び第 2 の強磁性層 6 か ら な る積層膜 3 が形成さ れて い る 。 こ の積層膜 3 の両側 の端面に接す る よ う に、 例えば C 0 C r P t な どか ら な る ノく ィ ァ ス層 3 1 及び 3 2 が形成 さ れてい る。 こ の よ う に稂層膜 3 に直接接す る よ う にバイ ア ス層が設け られて い る場合 に は、 図 9 に示すよ う に、 例え ば第 1 の強磁性 層 4 の上に所定の間隔を隔てて一対の フ ィ ル 夕層 1 及 び 2 を形成 し、 こ れ ら フ ィ ル タ 層 1 及び 2 の上に、 それぞ れ A u な どか ら な る 電極 7 及び 8 を形成す る。 こ の よ う な構成にす る こ と に よ り 、 フ ィ ノレ 夕層 1 ま た は 2 を介 し て第 1 の強磁性層 4 に電子を与え る こ と ができ 、 ス ピ ン 偏極 した電子を第 1 の強磁性層 4 に与え る こ と がで き る。 本発明 に おいては、 本実施例の よ う に第 1 の強磁性層 4 及 び第 2 の強磁性層 6 の双方に接す る よ う に フ ィ ル 夕 層 を設け る必要はな く 、 フ ィ ル 夕 層 はいずれか一方の強磁 性層 に接 して設け ら れればよ い。 さ ら に は、 電子を与え る 側にのみ フ ィ ル タ層が設け られておればよ く 、 必ず し も 強磁性層の両側の端部のそれぞれに フ ィ ル 夕層が設け ら れ る必要はない。
な お、 本実施例では、 強磁性層 4 中の電子の移動の距 離、 すな わち フ ィ ル タ 層 1 と フ ィ ル 夕 層 2 の間の距離を 5 0 0 n m と な る よ う に設定 して レ、 る。 図 1 0 は、 本発明に従 う さ ら に他の実施例を示す断面 図であ る。 本実施例において も バイ ア ス層 3 1 及び 3 2 が設け られてい る。 本実施例においては、 図 1 に示す実 施例 と 同様に、 基板 9 の中央部に第 1 の強磁性層 4 、 非 磁性導電層 5 及 び第 2 の強磁性層 6 か ら な る積層膜 3 力く 設け ら れてお り 、 こ の積層膜 3 の両側に接す る よ う に F e な どか らな る フ ィ ル タ層 1 及び 2 がそれぞれ設け られ てい る 。 本実施例では、 さ ら に フ ィ ル 夕 層 1 及び 2 の外 側に、 C 0 C r P t な どか ら な る バイ ア ス層 3 1 及び 3 2 がそ れぞれ設け られてい る。 電極 7 及 び 8 は、 そ れぞ れバ イ ア ス層 3 1 及び フ ィ ル 夕 層 1 とノく ィ ァ ス層 3 2 及 び フ ィ ル 夕 層 2 の上に設け られてい る。
本実施例に おいて は、 積層膜部分の幅、 すな わ ち フ ィ ル 夕 層 間の距離を 5 0 0 n m と な る よ う に各層 を形成 し てい る。
図 1 1 は、 本発明 に従 う さ ら に他の実施例を示す断面 図であ る。 本実施例において は、 フ ィ ル 夕 層 1 及 び フ ィ ル 夕 層 2 がそ れぞれ磁性体層 1 a と 1 b 及び磁性体層 2 a と 2 b を交互に積層す る こ と に よ り 形成 さ れて い る。 他の構成は、 図 1 0 に示す実施例 と 同様に して構成さ れ て い る 。 こ の よ う に、 本発明 に おいて は、 異な る磁性体 層 を稂層す る こ と に よ り フ ィ ル 夕 層 を構成 さ せて も よ レ、。
本実施例に おいては、 積層膜部分の幅、 すな わ ち フ ィ ル 夕 層間の距離を 5 0 0 n m と な る よ う に各層 を形成 し てい る 。 図 1 2 は、 本発明 に従 う さ ら に他の実施例を示す断面 図であ る 。 本実施例に おいては、 第 1 の強磁性層 と フ ィ ル 夕 層が連続 して一体的 に形成 さ れてい る 。 すなわ ち 、 基板 9 の 中央部に は、 第 2 の強磁性層 6 及び非磁性導電 曆 5 が形成 さ れてお り 、 非磁性導電層 5 の上に は、 第 1 の強磁性層部分 3 3 a を有す る 強磁性体層 3 3 が形成 さ れてい る。 強磁性体層 3 3 は非磁性導電層 5 及 び第 2 の 強磁性層 6 の外側部分に も延び、 フ ィ ル タ層部分 3 3 b を形成 している。 従 っ て、 第 2 の強磁性層 6 の両側の端 部側面に お いては、 こ の強磁性体層 3 3 の フ ィ ル タ 層部 分 3 3 b が接 してい る。 従 っ て、 強磁性体層 3 3 の第 1 の強磁性層部分 3 3 a が第 1 の強磁性層 と して機能 し、 フ ィ ル タ 層部分 3 3 b が本発明 の フ ィ ル タ 層 と して機能 す る。 こ の よ う に、 本発明においては、 一対の強磁性層 の う ち の一方が フ ィ ル 夕 層 と連続 して一体的 に形成 さ れ て いて も よ い。
本実施例においては、 積層膜部分の幅、 すなわ ち フ ィ ル 夕 層間の距離を 5 0 0 n m と な る よ う に各層 を形成 し てい る。
本実施例では、 強磁性体層 3 3 の フ ィ ル タ層部分 3 3 b か ら ス ピ ン偏極さ れた電子が第 2 の強磁性層 6 に与え られ、 上述の よ う な本発明の作用機構に よ り 大 き な M R 変化を得 る こ とがで き る。
図 1 3 及び図 1 4 は、 図 1 2 に示す実施例を製造す る 工程を示す断面図であ る。 図 1 3 ( a ) を参照 して、 基 板 9 の上の、 積層膜を形成す る 領域の両側の部分に レ ジ ス ト 膜 3 4 をパ 夕 一 ニ ン グに して形成す る。 次に、 図 1 3 ( b ) に示す よ う に、 第 2 の強磁性層 6 及び非磁性導 電層 5 を基板 9 の上方の全面に形成す る 。 次に、 図 1 3 ( c ) に示す よ う に、 レ ジス ト 膜 3 4 を リ フ ト オ フ す る こ と に よ り 、 基板 9 上の中央部にのみ第 2 の強磁性層 6 及 び非磁性導電層 5 を残す。 次に、 図 1 3 ( d ) に示す よ う に、 基板 9 の上方の全面に強磁性体層 3 3 を形成 し、 非磁性導電層 5 の上の部分を第 1 の強磁性層部分 3 3 a と し、 非磁性導電層 5 及 び第 2 の強磁性層 6 の両側部分 を フ ィ ル 夕 層部分 3 3 b と す る。 第 2 の強磁性層 6 は例 え ば C 0 層か ら形成 し、 非磁性導電層 5 は例え ば C u 層 か ら形成 し、 強磁性体層 3 3 は例えば N i 8。 F e 2 0層 力、 ら形成す る。
次に、 図 1 4 ( e ) に示す よ う に、 強磁性体層 3 3 の 上の中央部分に レ ジ ス 卜 膜 3 4 をパ夕 一 ニ ン グに して形 成す る 。 次に、 図 1 4 ( f ) に示す よ う に、 全面に A u 層 3 5 を形成す る。 次に、 レ ジ ス 卜 膜 3 4 を リ フ ト オ フ す る こ と に よ り 、 図 1 4 ( g ) に示す よ う に、 両側にの み A u 層 を残 し、 それぞれ電極 7 及び 8 とす る 。
以上の よ う に して、 図 1 2 に示す本発明に従 う 実施例 の磁気抵抗効果素子を製造す る こ と がで き る。 産業上の利用可能性
本発明に従えば、 従来 よ り も 高い M R 変化を得 る こ と がで き 、 よ り 高感度な磁気抵抗効果素子 とす る こ と がで き る 。 従 っ て、 本発明の磁気抵抗効果素子は、 例えば高 密度記録に適 した M R へ ッ ド と して用 い る こ と がで き る。

Claims

請 求 の 範 囲
1 . 一対の強磁性層 の間 に非磁性導電層が挟 ま れた積層 構造を有す る 積層膜 と 、 前記積層膜に検出電流を流すた めの一対の電極 と、 前記一対の電極の う ち の正極 と 前記 一対の強磁性層の う ち の一方の強磁性層 と の問 に設け ら れ、 前記強磁性層 に ス ピ ン偏極 した電子を与え る ための 強磁性体か ら な る フ ィ ル 夕層 と を備え、 前記強磁性層 中 の電子の移動の距離がス ピ ン拡散長 よ り 短 く な る よ う に 設定さ れて い る 磁気抵抗効果素子。
2 . 前記強磁性層中 の電子の移動の距離が 1 m 〜 0 . 0 5 m であ る請求項 1 に記載の磁気抵抗効 ¾素子。
3 . 前記 フ ィ ル 夕層の フ ル ミ 準位 と前記強磁性層の フ エ ル ミ 準位 と の差が、 ± 1 e V の範囲内 と な る よ う に前 記 フ ィ ル 夕 層 の強磁性体材料が選ばれ る 請求項 1 ま た は 2 に記載の磁気抵抗効果素子。
4 . 前記積層膜が保磁力差型磁気抵抗効果膜であ り 、 前 記一対の強磁性層が互いに異な る 保磁力 を有す る 請求项 1 に記載の磁気抵抗効果素子。
5 . 前記積層膜がス ピ ンバルブ型磁気抵抗効果膜であ り 前記一対の強磁性層 の一方に反強磁性層が ¾層 さ れて い る 請求項 1 に記黻の磁気抵抗効果素子。
6 . 前記積層膜が人工格子型磁気抵抗効果膜であ り 、 ijii 記強磁性層 と前記非磁性導電層が複数の周期で繰 り 返 し 積層 さ れて い る請求項 1 に記載の磁気抵抗効果素子。
7 . 前記 フ ィ ル 夕 層が前記積層膜の各層 と 接す る よ う に 設け ら れてい る請求項 1 に記載の磁気抵抗効果素子。
8 . 前記 フ ィ ル タ 層が、 前記一対の強磁性層の一方の強 磁性層 のみ と接す る よ う に設け ら れて い る請求項 1 に記 載の磁気抵抗効果素子。
9 . 前記 フ ィ ル 夕 層が、 前記一対の強磁性層の一方の強 磁性層 と 接 し、 かつ他方の強磁性層 と 一体的に な る よ う に形成 さ れて い る請求項 1 に記載の磁気抵抗効果素子。
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