JP3604617B2 - 磁気検出素子 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明はスピン偏極したセンス電流を利用してハードディスク等の磁気記録媒体に記録された磁気記録情報を高感度に読取り・再生することが可能な磁気検出効果素子に関する。
【0002】
【従来の技術】
コンピュータ等に用いられるハードディスクドライブ装置(HDD)等の磁気記録再生装置ついては、高記録密度化への要請は高まるばかりである。よって、高密度に記録された磁気記録情報を高感度に再生できる磁気検出素子への要求についても年々高くなっている。
【0003】
磁気記録媒体の記録密度が高くなるに伴って、各ビットからの漏れ磁界(信号磁界)はより小さくなり、これを感知するためにより高感度な素子を用いた再生ヘッドが案出されてきている。従来よく知られている再生ヘッド用の素子としては、磁気抵抗効果を利用する磁気抵抗効果素子(MR素子)がある。このMR素子には異方性磁気抵抗効果(AMR)を利用するAMR膜、より高感度化を図った巨大磁気抵抗効果(GMR)を利用するため積層状に形成したGMR膜等がある。
【0004】
上記GMR膜としては反強磁性層、固定磁性層、非磁性金属層及び自由磁性層の4つの層を基本積層としたスピンバルブ膜がよく用いられており、この膜構造については多くの改良提案もなされている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
上記スピンバルブ膜を含むMR素子に関する提案は、それらが本来的に有していた基本構造を前提とし、使用する磁性材料の改良、組合せに関するものや、構造の一部を多層化する等の改善に関するものが殆どである。しかしながら、より高記録密度化された磁気記録媒体からの漏れ磁界(信号磁界)は、益々弱くなる。上記のようにMR素子の材料、構造の改良を行う従来型の提案では急速に進む高密度化に対応できなくなる虞が生じている。すなわち、MR素子に要求される再生感度を保証できなくなり、磁気記録媒体に記録された磁気情報を十分に再生できなくなるという問題を生じる。
【0006】
したがって、本発明の主な目的は磁気記録媒体からの磁気的信号をより高感度に検出できる磁気検出素子を提供することである。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記目的は本発明、非磁性層に流れるスピン偏極されたセンス電流を用いて外部磁界を検出する磁気検出素子により達成することができる。
【0008】
本発明によれば、スピン偏極されたセンス電流を流す非磁性層を用いることで、磁気抵抗効果型の磁気検出素子や半導体を用いた磁気検出素子として高感度な再生素子を提供できることになる。
【0009】
前記非磁性層にスピン偏極した電流を生じされる一形態として、互いの磁化方向を平行とし且つ離間して配置された一対の強磁性体を前記非磁性層に接して配設し、強磁性体それぞれを電極としてセンス電流を供給する構成を採用することができる。
【0010】
本発明の磁気検出素子は、従来のAMR膜或いはGMR膜を用いる磁気抵抗効果を利用するMR素子の新規な構成として具現化することができる。すなわち、上記磁気検出素子の非磁性層に強磁性層を接して設け、この強磁性層を異方性磁気抵抗効果膜とすることができる。また、この強磁性層が巨大磁気抵抗効果膜内の自由磁性層を成す構成とすることができる。この場合、非磁性層は巨大磁気抵抗効果膜を構成する非磁性層とすることができる。
【0011】
本発明を磁気抵抗効果型の検出素子として構成した場合、強磁性層の磁化方向は、非磁性層内のセンス電流を形成する偏極した電子スピンの方向と平行又は反平行に設定される。そして、強磁性層の磁化方向は、検出すべき磁気記録媒体からの信号磁界(外部磁界)を受けると回転する。強磁性層の磁化方向が電子のスピンの向きと反平行のときには磁気抵抗が最大となり、強磁性層の磁化が電子のスピンの向きと平行のときには磁気抵抗が最少となる。このように変化する磁気抵抗の変化率(MRR:Magnetic Resistance Ratio)は従来のMR素子の場合よりも大きく取ることができる。よって、本発明の磁気検出素子はより高感度な磁気抵抗効果素子として提供することができる。
【0012】
さらに、本発明は、前記非磁性層に半導体材料を用いた磁気検出素子としても構成することができ、前記一対で形成された強磁性体の片方側の強磁性体の磁化方向の変化により外部磁界を検出することができる。
【0013】
【発明の実施の形態】
以下、図面を用いて本発明の磁気検出素子をより詳細に説明する。本発明の磁気検出素子は磁気抵抗変化を利用して磁気記録媒体からの信号磁界(外部磁界)を検出する磁気抵抗効果型の検出素子、或いは半導体材料を用いオン−オフのスイッチングを行って磁気検出を行う素子として構成できる。
【0014】
先ず、磁気抵抗変化を利用する磁気抵抗効果素子(MR素子)とする場合について説明する。この場合の磁気検出素子は磁気記録媒体からの信号磁界を高感度に検出するための基本構成として強磁性層と非磁性層とを備え、この強磁性層の磁化方向と非磁性層を流れるセンス電流を形成する電子のスピン偏極方向とを所定の関係に制御することで信号磁界を高感度に検出する。
【0015】
図1は本発明をMR素子に適用した場合、MR素子が有する基本構成を説明するために示した図である。図1(A)は強磁性層の磁化方向と非磁性層を流れるセンス電流の電子スピンの方向とが平行である場合について示し、図1(B)は強磁性層の磁化方向と非磁性層を流れるセンス電流の電子スピンの方向とが反平行である場合について示している。
【0016】
図1(A)に示す状態では、強磁性層1の磁化方向2は上向きである。センス電流を形成する電子5の流は下から上に向っている。このときに非磁性層3内を電子5が移動するときには上向きスピンに偏極した状態のスピン電子4Aとなるように制御されている。この制御方法については後に詳述する。よって、強磁性層1の磁化方向2とスピン電子4Aの方向とが平行となるので、強磁性層1と非磁性層3との界面での散乱は小さくなる。したがって、図1(A)に示す状態での磁気抵抗値Rは小さい値RSとなる。
【0017】
一方、図1(B)で示す状態は図1(A)とは逆の状態となる。強磁性層1の磁化方向2が上向きであり、センス電流を形成する電子5が下から上に向う点は同様であるが、非磁性層3内では電子5は下向きスピンに偏極した状態のスピン電子4Bとなっている。
【0018】
図1(B)で示す状態では、強磁性層1の磁化方向2とスピン電子4Bの方向が反平行となるので、強磁性層1と非磁性層2との界面での散乱は大きくなる。したがって、図1(B)に示す状態での磁気抵抗値Rは大きな値RLとなる。
【0019】
本発明のMR素子では、上記図1(A)の状態と図1(B)の状態を用いて、磁気記録媒体からの信号磁界を検出する。すなわち、磁気記録媒体からの信号磁界に対応して強磁性層1の磁化方向2を回転させることで上記図1(A)の状態と図1(B)の状態を出現させ、磁気抵抗変化率(MRR)を大きく取れるようにして検出感度を向上させる。
【0020】
上記磁気抵抗変化率(MRR)は、強磁性層1の磁化方向2とスピン電子4Bの方向が反平行であるときに求められた磁気抵抗値RLと、強磁性層1の磁化方向2とスピン電子4Aの方向が平行であるときに求められた磁気抵抗値RSとから算出される下記式(1)により定義できる。
【0021】
MRR=(RL−RS)/RL=1−RS/RL (1)
ここで、上記式(1)により求められる本発明のMR素子の磁気抵抗変化率MRRが従来のMR素子のものより高くなることについて説明する。図2は従来のGMR膜を用いたMR素子について、その磁気抵抗変化を説明するために示した図である。図2で示す従来のGMR膜10は、下から自由磁性層11、非磁性層12及び固定磁性層13を含んでいる。なお、実際のGMR膜10は、この他に反強磁性層、バイアス膜等を備えるが、ここでは磁気抵抗変化に影響を与える層のみが示される。
【0022】
従来のGMR膜10では非磁性層12内を流れるセンス電流に関してその電子のスピン状態を制御していないのでスピン偏極した状態ではない。すなわち、上向きと下向きのスピンを持った電子が混在し、それぞれが独立して振るまう状態となっている。
【0023】
そのために、図2で中段左に示す自由磁性層11の磁化方向と固定磁性層13の磁化方向とが反平行となる(a)においては、センス電流を形成する電子15がそのスピンの向きにより自由磁性層11との界面では小さな抵抗値RSを取り、さらに固定磁性層13との界面で大きな抵抗値RLを取る場合と、その逆に自由磁性層11との界面で大きな抵抗値RLを取り、さらに固定磁性層13との界面で小さな抵抗値RSを取る場合とが存在している。なお、図2では、図1とは異なり、GMR膜10を寝かせて示したのでスピンの向きが左右方向で示されている。
【0024】
また、図2で中段右に示す自由磁性層11の磁化方向と固定磁性層13の磁化方向とが平行となる(b)においては、センス電流を形成する電子15がそのスピンの方向により、自由磁性層11との界面で小さな抵抗値RSを取る場合は、さらに固定磁性層13との界面でも小さな抵抗値RSを取る。また、自由磁性層11との界面で大きな抵抗値RLを取る場合は、固定磁性層13との界面でも大きな抵抗値RLを取る。
【0025】
上述のように、従来GMR膜を用いたMR素子では、非磁性層内の電子スピンの状態が制御されておらず、反平行について示した(a)の場合、平行について示した(b)のどちら場合でも2種類の抵抗状態があり、これらから抵抗変化値が決定することになる。
【0026】
ところで、上記(a)で示されるのは自由磁性層11の磁化方向と固定磁性層13の磁化方向とが反平行である。これは、図2で上段に示すように磁気抵抗値Rが最大Roとなる状態である。このときのGMR膜10の磁気抵抗値Rは(a)下に示す等価な回路(c)により求めることができる。すなわち、図2で(a)で示される場合の最大磁気抵抗値RoはRo=(RL+RS)/2により求めることができる。
【0027】
また、上記(b)で示されるのは自由磁性層11の磁化方向と固定磁性層13の磁化方向とは平行であり、図2で上段に示すように磁気抵抗値Rが最少Rpとなる状態である。このときのGMR膜10の磁気抵抗値Rは(b)下に示す等価な回路(d)により求めることができる。すなわち、図2で(b)で示される場合の最少磁気抵抗値RpはRp=2RL・RS/(RL+RS)により求めることができる。
【0028】
そして、図2で示すGMR膜10を用いた従来のMR素子について、その磁気抵抗変化率(MRR)を上記式(1)と同様にして求めると下記式(2)となる。
MRR=(Ro−Rp)/Ro=1−4RL・RS/(RL+RS)2 (2)
ここで、従来のGMR膜での磁気抵抗変化率が10%程度であることから、試算として上記式(2)のMRR値に0.1を代入して、2次方程式を解くと、RS/RL=0.52となる。そして、このRS/RL=0.52を本発明のMR素子について示した、上記式(1)に代入するとMRRが48%(0.48)にもなる。よって、磁気抵抗変化率が約5倍まで高まるので、再生ヘッド用の磁気検出素子として用いれば高感度に信号磁界を検出できることが分かる。
【0029】
つぎに、図2で示した従来GMR膜を用いたMR素子に対して、本発明でもGMR膜を用いた場合のMR素子について説明する。図3は本発明でGMR膜を用いてMR素子を形成した場合について、その磁気抵抗変化を説明するために示した図である。図3で示す本発明のGMR膜20も、下から自由磁性層21、非磁性層22及び固定磁性層23を含んでいる。図3のGMR膜20では非磁性層22内を流れるセンス電流に関しては、電子のスピンを右向きに偏極させている。上記本発明のGMR膜20では、電子のスピン状態は一方向に制御された状態である。よって、従来のように(a)、(b)場合それぞれについて2種類ずつの磁気抵抗状態は存在せず、それぞれ1つの抵抗状態のみが形成される。すなわち、図3中段左に示す自由磁性層21の磁化方向と固定磁性層23の磁化方向とが反平行となる(a)においては、固定磁性層23との界面で小さな抵抗値RSを取り、自由磁性層21との界面で大きな抵抗値RLを取る場合のみとなる。また、図3で中段右に示す自由磁性層21の磁化方向と固定磁性層23の磁化方向とが平行となる(b)においては、自由磁性層21との界面で小さな抵抗値RSを取り、さらに固定磁性層23との界面でも小さな抵抗値RSを取る場合のみとなる。
【0030】
図3で示すMR素子では、反平行について示した(a)の場合、平行に示した(b)のどちら場合に関しても形成される抵抗状態は1つとなる。GMR膜20の磁気抵抗値Rは(a)下に示す等価な回路(c)により求めることができ、最大磁気抵抗値RoはRo=RL+RSで示される。また、(b)下に示す等価な回路(d)により求めることができ、最少磁気抵抗値Rp1はRp1=2RSで示される。そして、この図3で示したGMR素子の磁気抵抗変化率(MRR)を上記式(1)、(2)と同様に求めると下記式(3)となる。
MRR=(Ro−Rp1)/Ro=1−2RS/(RL+RS) (3)
ここで、前述と同様に試算として従来のGMR膜でのMRR値が0.1であるとすると、RS/RL=0.52であるから、これを上記式(3)に代入すると磁気抵抗変化率は31%となる。よって、GMR膜を用いて構成したMR素子の場合にも磁気抵抗変化率を約3倍まで高めることができるので、再生ヘッド用の高感度な磁気検出素子として採用できる。なお、図3で示した、GMR膜20に関しては、図1で示した2層膜の強磁性層1を自由磁性層21に、非磁性層3を非磁性層22に対応するように構成すればよい。
【0031】
図4は前述したように非磁性層内を流れるセンス電流をスピン偏極した状態とするために採用可能なスピンフィルタ30の概要構成を示す図である。図4で非磁性層31の上面の両端に一対の強磁性体32、33が配設されている。この強磁性体32、33は導電性を備え端子電極としても機能する。
【0032】
上記非磁性層31は、例えばAl、Cu、Cr及びこれらの合金から選択した導電性非磁性材料で形成できる。また、上記強磁性体32、33は、例えばFe、Co、Ni及びこれらの合金から選択した伝導性を有する強磁性材料により形成できる。さらに強磁性体32、33にセンス電流を供給するための電源35を接続してスピンフィルタ30の基本構成とする。
【0033】
上記スピンフィルタ30は図4に示すように、強磁性体32、33の磁化方向が互いに平行に設定されている場合に、電源35から電流を供給するとその間にある非磁性層31内を通る電子をスピン偏極した状態に制御することができる。このような構造体の構成については、例えばJohnson と SilsbeeはPhys. Rev. B37, 5326(1988)について開示されているが、その用途に関する提案はなされていない。本発明者等は、上記スピンフィルタ30の非磁性層31に強磁性層を接した構造体を形成することで本発明の一実施形態が実現きることを確認した。
【0034】
以下、さらに図面に基づき本発明の実施例を説明する。図5は、本発明の第1実施例について示す図である。本第1実施例では、MR素子40の強磁性層にAMR膜41を用いている。図5では図4で示したスピンフィルタ30に相当する部位には同一符号を付している。
【0035】
本実施例のMR素子40はスピンフィルタ30の下面にAMR膜41を接して設けた簡単な構成である。このAMR膜41は従来と同様にパーマロイ、センダスト等を用いて形成すればよい。AMR膜41の磁化方向42は非磁性層31側の電子のスピン方向と平行又は反平行状態となるよう予め設定しておく。外部から信号磁界Hsigを受けるとAMR膜41の磁化方向42が回転し、磁気抵抗変化として磁気記録を高感度に検出する。本実施例で示した、2層膜構造のMR素子の感度の向上は、上記図1及び図2を用いて説明したように従来のMR素子と比較して5倍程度の磁気抵抗変化率とすることができ、感度が著しく向上している。
【0036】
上記MR素子40は周知の薄膜形成技術、例えばスパッタリング法、レジストマスクを用いての現像処理、エッチング等を用いて製造することができる。2層膜構造の上に一対の強磁性体を形成するというシンプルな構成であり、簡易な工程で高感度なMR素子を製造することができる。
【0037】
図6は本発明の第2実施例について示す図である。本第2実施例では、MR素子50にGMR膜としてスピンバルブ膜を用いた例を示す。スピンバルブ膜は自由磁性層、非磁性層、固定磁性層及び反強磁性層を備えた積層体で構成されるが、この自由磁性層と非磁性層に関して前述したスピンフィルタ30により電子スピンを制御し、偏極させる構成を作り込んでいる。図6においても図4で示したスピンフィルタ30に相当する部位には同一符号を付している。
【0038】
本実施例のスピンバルブ型のMR素子50はスピンフィルタ30の非磁性層31上に自由磁性層51を有し、非磁性層31下には固定磁性層52及びこれをピン止めするための反強磁性層53を有した層構成となる。
【0039】
このスピンバルブ膜は従来の薄膜形成技術を用いて形成することができる。自由磁性層51の磁化方向54は非磁性層31側の電子のスピン方向と平行又は反平行状態となるよう予め設定しておく。外部から信号磁界Hsigを受けると自由磁性層51の磁化方向54が回転し、磁気抵抗変化として磁気記録を高感度に検出する。本実施例で示した、スピンバルブ膜構造を用いたMR素子の感度の向上は、上記図3を用いて説明したように従来のGMR素子と比較して3倍程度の磁気抵抗変化率とすることができ、高感度なMR素子50を提供できる。
【0040】
図7は本発明の第3実施例の磁気検出素子60について示す図である。前述した第1、第2実施例では強磁性層側の磁化方向と非磁性層内のセンス電流を形成する電子のスピン方向との関係から生じる磁気抵抗変化を外部磁界の検出に用いていた。本第3実施例では非磁性層を半導体材料により形成し、外部磁界に対してオン−オフのスイッチングを行って磁界の検出を行うFET型の磁気検出素子を示す。
【0041】
磁気検出素子60は、図4で示したスピンフィルタ30と同様な構成となる。非磁性層61の両端部に端子電極を兼ねる強磁性体62、63が配置され、強磁性体62、63の磁化方向は平行(図7で共に右向き)に設定されている。
【0042】
上記非磁性層61は半導体材料、例えばInAlAs、InGaAsで形成し、電源35から強磁性体62、63に電流を供給すると、図7に示すようにスピン偏極したセンス電流が非磁性層61内を流れる。なお、このような構造についていは、例えばS.DatraとB.DasがAppl. Phys. Lett. 56 665(1990)にスピン偏極したFETについて示すされるがその利用法については明らかにされていない。本第3実施例では、このスピン偏極したFETを用いて磁気記録媒体からの信号磁界を検出するために用いている。その検出動作を図8を用いて説明する。図8は上記磁気検出素子60を磁気記録媒体としてのハードディスク70に対向して配置した図である。図8(A)は面内方向に記録された磁化が向き合う、いわゆる吹出し位置での検出につて示し、図8(B)は磁化が逆向きとなる、いわゆる吸い込み位置での検出につて示している。
【0043】
図8(A)では、ハードディスク70からの信号磁界の方向と強磁性体62の磁化方向が平行であり、図7で示したスピン偏極したセンス電流が強磁性体62から強磁性体63に流れ、オン状態となる。逆に図8(B)では、ハードディスク70からの信号磁界の方向と強磁性体62の当初の磁化方向が反平行となり、強磁性体62の磁化方向は信号磁界の方向と平行なるように反転される。そのため、図7に示したセンス電流を流す状態を維持できなくなり、強磁性体62と強磁性体63は電気的に絶縁され、オフ状態となる。よって、本第3実施例では半導体のスイッチング作用を用いて外部磁界を検出する磁気検出素子とすることができる。
【0044】
本実施例の磁気検出素子60も、従来の半導体形成技術或いは薄膜形成技術を用いて製造できることは言うまでもない。また、上記強磁性体62及び強磁性体63についても導電性の強磁性材料、例えば、Fe、Co、Ni及びこれらから形成される合金を用いることで形成できる。強磁性体62及び強磁性体63は同一或いは異なる材料で形成してもよい。ただし、強磁性体62の磁化方向は信号磁界を受けて方向転換が可能であり、強磁性体63の磁化方向は一定に維持する必要がある。
【0045】
ここでさらに、上記実施例で示した磁気検出素子を再生ヘッドとして採用した磁気記憶装置の一例を、図9及び図10と共に説明する。図9は磁気記憶装置の要部を示す断面図であり、図10は同装置の要部を示す平面図である。この磁気記憶装置は媒体に記録された磁気情報を読取るとき、スピン偏極したセンス電流が流れるヘッドを有する情報記憶装置となる。
【0046】
図9及び図10に示すように、磁気記憶装置は大略ハウジング113からなる。ハウジング113内には、モータ114、ハブ115、複数の磁気記録媒体110、複数の記録再生ヘッド117、複数のサスペンション118、複数のアーム119及びアクチュエータユニット120が設けられている。磁気記録媒体116はモータ114により回転されるハブ115に取付けられている。記録・再生ヘッド117は、図5、図6及び図7で示したいずれかを用いる再生ヘッドと、インダクティブヘッド等の記録ヘッドとからな複合型の記録再生ヘッドである。各記録再生ヘッド117は、対応するアーム119の先端にサスペンション118を介して取付けられている。アーム119はアクチュエータユニット120により駆動される。この磁気記憶装置の基本構成自体は周知であり、その詳細な説明は本明細書では省略する。磁気記録媒体116の数は3枚には限定されず、1枚でも、2枚又は4枚以上であってもよい。ここで用いる磁気記憶媒体は磁気ディスクに限定されるものではない。
【0047】
以上本発明の好ましい実施例について詳述したが、本発明は係る特定の実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形・変更が可能である。
【0048】
なお、以上の説明に関して更に以下の付記を開示する。
【0049】
(付記1) 非磁性層に流れるスピン偏極されたセンス電流を用いて外部磁界を検出する磁気検出素子。
【0050】
(付記2) 前記非磁性層に接して配設され、互いの磁化方向を平行とし且つ離間して配置された一対の強磁性体と、該強磁性体それぞれを電極としてセンス電流を供給する電源を備えたことを特徴とする付記1記載の磁気検出素子。
【0051】
(付記3) 前記非磁性層に接して強磁性層を設け、該強磁性層の磁化方向を前記センス電流の電子スピンの方向と平行又は反平行としたこと特徴とする付記1又は2記載の磁気検出素子。
【0052】
(付記4) 前記強磁性層を異方性磁気抵抗効果膜又は巨大磁気抵抗効果膜を成す自由磁性層として構成したこと特徴とする付記3記載の磁気検出素子。
【0053】
(付記5) 前記巨大磁気抵抗効果膜はスピンバルブ膜であることを特徴とする付記4記載の磁気検出素子。
(付記6) 前記非磁性層はAl、Cu、Cr及びこれらの合金からなる群から選択された1つで形成されること特徴とする付記1から5いずれかに記載の磁気検出素子。
【0054】
(付記7) 前記非磁性層を半導体材料で形成し、前記一対で形成された強磁性体の片方側の強磁性体の磁化方向の変化により外部磁界の検出を行うことを特徴とする付記2記載の磁気検出素子。
【0055】
(付記8) 前記半導体材料は、InAlAs又はInGaAsであること特徴とする付記7記載の磁気検出素子。
【0056】
(付記9) 前記強磁性体は、Fe、Co、Ni及びこれらの合金から成る群から選択され材料の1つで形成されること特徴とする付記1から8いずれかに記載の磁気検出素子。
【0057】
(付記10) 媒体に記録された磁気情報を読取るとき、スピン偏極したセンス電流が流れる再生ヘッドを有することを特徴とする情報記憶装置。
【0058】
【発明の効果】
以上詳述したところから明らかなように、本発明によれば、スピン偏極されたセンス電流を流す非磁性層を用いることで、磁気抵抗効果型の磁気検出素子や半導体を用いた磁気検出素子として高感度な磁気検出素子を提供できる。
【0059】
磁気抵抗効果型の検出素子として構成した場合は、磁気抵抗変化率を従来のMR素子の場合よりも大きく取ることができ、高感度な磁気情報再生素子として提供することができる。また、半導体材料を用いて非磁性層を構成した場合は、強磁性体の磁化方向の変化によりオン−オフを行い高感度に外部磁界を検出する磁気検出素子として提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明をMR素子に適用した場合について、MR素子が有する基本構成を説明するために示した図である。
【図2】従来のGMR膜を用いたMR素子について、その磁気抵抗変化を説明するために示した図である。
【図3】本発明でGMR膜を用いたMR素子を形成した場合について、その磁気抵抗変化を説明するために示した図である。
【図4】スピンフィルタの概要構成を示す図である
【図5】本発明の第1実施例について示す図である。
【図6】本発明の第2実施例について示す図である。
【図7】本発明の第3実施例について示す図である。
【図8】図7に示す磁気検出素子が外部磁界を検出する様子を示す図である。
【図9】本発明の磁気検出素子を用いた磁気記憶装置の要部を示す断面図である。
【図10】図9に示した装置の要部を示す平面図である。
【符号の説明】
1 強磁性層
3 非磁性層
4A、4B スピン電子
21、51 自由磁性層(強磁性層)
22 非磁性層
30 スピンフィルタ
41 AMR膜
61 非磁性層
Claims (4)
- 金属材料からなる非磁性層と、
前記非磁性層に接して配設され、互いの磁化方向を平行とし且つ離間して配置された一対の強磁性体と、
前記強磁性体それぞれを電極としてセンス電流を供給する電源とを備え、
前記非磁性層に流れるスピン偏極されたセンス電流を用いて外部磁界を検出する磁気検出素子。 - 前記非磁性層がAl、Cu、Cr及びこれらの合金からなる群から選択された1つで形成されてなることを特徴とする請求項1記載の磁気検出素子。
- 前記非磁性層に接する強磁性層を設け、該強磁性層の磁化方向を前記センス電流の電子スピンの方向と平行又は反平行としたこと特徴とする請求項1または2記載の磁気検出素子。
- 前記強磁性層を異方性磁気抵抗効果膜又は巨大磁気抵抗効果膜を成す自由磁性層として構成したことを特徴とする請求項3記載の磁気検出素子。
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