DE10019697A1 - Verfahren zur Erzeugung und Charakterisierung von spinpolarisierten Ladungsträgersystemen und darauf beruhende Bauelemente - Google Patents
Verfahren zur Erzeugung und Charakterisierung von spinpolarisierten Ladungsträgersystemen und darauf beruhende BauelementeInfo
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Abstract
Verfahren zur Erzeugung und Charakterisierung von spinpolarisierten Ladungsträgersystemen in Festkörpern (10) durch ein inhomogenes Magnetfeld, das durch ein magnetisches Material (12) oder durch einen stromdurchflossenen Leiter erzeugt wird und auf diesem Verfahren beruhende Bauelemente. Das Verfahren erlaubt insbesondere, die elektrischen Kontakte an die Ladungsträgersysteme und die Erzeugung und Charakterisierung der Spinpolarisation räumlich oder elektrisch zu trennen. Auf diesem Verfahren beruhende Bauelemente können als Spintransistor, als Magnetfeldsensor, zur magnetischen Datenspeicherung und zur Realisierung von Schaltkreisen, die auf der Basis von Quantenlogik operieren, verwendet werden.
Description
Die Funktion der meisten elektronischen Bauelemente beruht auf Elektronen bzw. Löchern
als Ladungsträgern. Diese besitzen einen quantenmechanischen Eigendrehimpuls (Spin) von
ℏ/2. Der entsprechende quantenmechanische Operator hat zwei Eigenwerte,
ms = +1/2 und ms = -1/2, die zugehörigen Eigenzustände werden gewöhnlich als "spin
up" und "spin down" bezeichnet. Elektronische Transportprozesse hängen i. A. von dem
Spinzustand des Ladungsträgers ab. Beispiele sind die spinabhängige Streuung von La
dungsträgern untereinander oder zwischen Ladungsträgern und Störstellen. In den meisten
Materialien - ausgenommen z. B. ferromagnetische und semimagnetische Stoffe - treten die
se Spinzustände bei Zimmertemperatur jedoch nahezu gleich häufig auf. Es ergibt sich im
Mittel also kein Überschuß von Ladungsträgern einer bestimmten Spinorientierung: die
Spinpolarisation der Ladungsträger verschwindet im Mittel. Effekte, die auf der Spinpolari
sation beruhen, können in elektronischen Bauelementen aus solchen Materialien nicht aus
genutzt werden. Dies gilt insbesondere für konventionelle Halbleiter wie Si oder GaAs, die
die Grundlage der Mikroelektronik bilden. Vorrichtungen, die Ladungsträger mit einer be
vorzugten Spinorientierung verwenden, bieten jedoch neue Möglichkeiten und Vorteile.
Genannt seien hier Magnetfeldsensoren (D. J. Monsma, J. C. Lodder, Th. J. A. Popma and
B. Dieny, Phys. Rev. Lett. 74, 5260 (1995)), die z. B. in der Magnetspeichertechnik, insbe
sondere in Schreib-Lese-Köpfen von Festplatten, bereits breite Anwendung finden, weiter
hin die nichtflüchtige Speicherung von Daten in integrierten Schaltkreisen (magnetic random
access memory, MRAM) oder Schaltkreise, die auf der Basis von Quantenlogik operieren
(C. H. Bennett and D. P. DiVincenzo, Nature 404, 247 (2000)). Ein Ensemble von La
dungsträgern soll dabei als spinpolarisiert gelten, wenn in demselben ein Spinzustand häufi
ger auftritt als der andere, und nicht erst dann, wenn ausschließlich eine Spinspezies vor
handen ist.
Es ist wohl bekannt, daß sich durch Beleuchtung mit zirkular polarisiertem Licht geeignet
gewählter Photonenenergie in einem Halbleiter spinpolarisierte Ladungsträger erzeugen
lassen (D. Hägele, D. Oestreich, W. W. Rühle, N. Nestle and K. Eberl, Appl. Phys. Lett. 73,
1580 (1998)). Durch das Anlegen von geeigneten Potentialdifferenzen an einen so beleuch
teten Halbleiter lassen sich spinpolarisierte Ströme in ihn einprägen. Um aber z. B. die Vor
teile einer hohen Integrationsdichte ausnutzen zu können, ist statt der optischen Anregung
eine rein elektrische Erzeugung von spinpolarisierten Ladungsträgern wünschenswert.
Eine Möglichkeit hierzu bieten spinabhängige Streu- oder Tunnelprozesse an sehr dünnen
magnetischen Schichten. Ein bekanntes Beispiel ist der sog. riesige Magnetowiderstand
(giant magnetoresistance, GMR) zwischen zumindest zwei ferromagnetischen Schichten, die
durch eine nicht-ferromagnetische Schicht getrennt sind (M. N. Baibich, J. M. Broto, A.
Fert, F. Nguyen Van Dau, F. Petroff, P. Eitenne, G. Creuzet, A. Friederich and J. Chazelas,
Phys. Rev. Lett. 61, 2472 (1988)). Allerdings findet beim riesigen Magnetowiderstand und
ähnlichen Effekten der Ladungstransport meist weit entfernt vom thermischen Gleichge
wicht statt (sog. "heiße" Ladungsträger), was nicht mit allen Anwendungen verträglich ist.
Auch sind im allgemeinen sehr dünne Vielfachschichten aus speziellen Materialien vonnöten,
was die Integration beispielsweise in moderne mikroelektronische Bauelemente erschwert.
Eine andere bekannte Möglichkeit zur Erzeugung von spinpolarisierten Ladungsträgern ist
die Injektion von Ladungsträgern aus einer ferromagnetischen Kontaktschicht (M. Johnson,
US-Patent 5,432,373), da in Kontaktschichten aus solchen Materialien die elektronische
Zustandsdichte an der Fermikante für die zwei Spinzustände unterschiedlich ist. Bei der
Strominjektion aus der Kontaktschicht in den angrenzenden Festkörper, z. B. einen Halblei
ter, treten dann bevorzugt Ladungsträger einer Spinorientierung in letzteren über; der ein
geprägte Strom wird von spinpolarisierten Ladungsträgern getragen. Bringt man ferroma
gnetische Kontaktschichten auf Halbleiter auf, so ergeben sich jedoch an der Grenzfläche
zwischen ihnen durch Interdiffusion oder Legierungsbildung meist sog. magnetisch tote
Lagen, die die spinpolarisierte Injektion stark beeinträchtigen und bei einer Dicke von weni
gen Monolagen die Spinpolanisation vollständig zerstören. Es ist bekannt, daß sich diese
Schwierigkeiten durch den Einsatz von dünnen Trennschichten (Tunnelbarrieren) umgehen
lassen, allerdings führen solche Trennschichten meist zu hohen elektrischen Widerständen.
Eine weitere Möglichkeit stellen Kontaktschichten aus semimagnetischen Halbleitern, z. B.
BeMnZnSe oder GaMnAs, dar (R. Fiederling, M. Keim, G. Reuscher, W. Ossau,
G. Schmidt, A. Waag and L. W. Molenkamp, Nature 402, 787 (1999); Y. Ohno, D. K. Young,
B. Beschoten, F. Matsukura, H. Ohno and D. D. Awschalom, ibid., 790 (1999)).
Allen oben aufgeführten Verfahren zur Einprägung eines Stroms von spinpolarisierten La
dungsträgern in einen Festkörper ist gemein, daß die Injektion von Ladungsträgern in den
Festkörper und die Spinpolarisation der Ladungsträger durch ein und denselben Kontakt
realisiert wird. Daher ist eine räumliche und elektrische Trennung von Kontakt und spinpo
larisierender Vorrichtung unmöglich. Dies ist zum Beispiel hinsichtlich der Anwendung auf
niedrigdimensionale Ladungsträgersysteme in Halbleitern von Nachteil, da zur guten elektri
schen Kontaktierung derselben im allgemeinen spezielle Kontaktmaterialien nötig sind, die
sich aber nicht zur Spinpolarisation eignen. Ein Verfahren, das es erlaubt, spinpolarisierte
Elektronen- bzw. Löchergase (im folgenden zusammenfassend Ladungsträgersysteme ge
nannt) in einem Festkörper unabhängig von den stromeinprägenden Kontakten zu erhalten,
ist daher wünschenswert. Es wird also ein neues Verfahren gesucht, das es erlaubt, ohne die
Einwirkung von Photonen sowie unabhängig von den jeweiligen Eigenschaften der Kon
taktschichten zur Stromeinprägung und ggf. von denselben räumlich oder elektrisch ge
trennt eine Spinpolarisation der Ladungsträger in einem Festkörper zu erzielen. Darüber
hinaus wäre es wünschenswert, ein Verfahren zu haben, das nicht durch die mit Tunnelbar
rieren verbundenen Schwierigkeiten eingeschränkt ist. Schließlich wird ein Verfahren ge
sucht, das auch auf die Erzeugung einer Spinpolarisation in Halbleitern und insbesondere
auf die Erzeugung von Spinpolarisation in dimensionsreduzierten Ladungsträgersystemen in
Halbleitern, Halbleiterschichtstrukturen, oder Halbleiter-Isolator-Schichtstrukturen ange
wendet werden kann, z. B. in Quantenfilmen, Quantendrähten und in zwei- und eindimensio
nalen Elektronen- und Löchergasen.
Das erfindungsgemäße Verfahren erfüllt diese Anforderungen, indem durch eine Vorrich
tung, die von den stromeinprägenden Kontaktschichten an den jeweiligen Festkörper unab
hängig sein kann, in dem Festkörper ein inhomogenes Magnetfeld ausgebildet wird. Die
Richtung des mittleren Magnetfeldes sowie des Magnetfeldgradienten soll dabei im Wesent
lichen parallel bzw. antiparallel zur Transportrichtung der Ladungsträger (bzw. zur Strom
richtung) sein. Die Transportrichtung liege entlang der x-Richtung. Da die stromtragenden
Ladungsträger aufgrund ihres Spins stets auch ein magnetisches Moment m aufweisen,
erfahren sie im magnetischen Gradienten des inhomogenen Magnetfeldes B die Kraft
F = ∇(m.B). Die fett dargestellten Größen sind dabei Vektoren, der Nabla-Operator
entsprechend. Für Atomstrahlen bildet dieser Effekt die
Grundlage des wohl bekannten Stern-Gerlach-Experimentes (W. Gerlach und O. Stern, Z.
Physik 9, 349 (1922)). Im Fall stationärer Felder gilt F = ∇(m.B) = (m.∇)B (J. D. Jack
son, Classical Electrodynamics, 2nd edition, Wiley (1995)). Einfachheitshalber werden wir
im folgenden stets annehmen, daß nur eine kartesische Komponente des magnetischen Mo
ments von 0 verschieden ist, in diesem Fall
Dann vereinfacht sich der Aus
druck für die Kraft zu F = (m.∇)B = mxδxB. Die Komponente Fx = mxδxBx dieser Kraft
entlang der Stromrichtung bremst oder beschleunigt die Ladungsträger je nach der relativen
Orientierung zwischen deren magnetischem Moment und dem magnetischen Feldgradienten
und führt so zu Unterschieden im Strom von Ladungsträgern mit unterschiedlicher Spinori
entierung. Der inhomogene Bereich des Magnetfeldes wirkt daher spinpolarisierend auf die
Ladungsträger.
Eine bevorzugte Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens besteht aus einem Fest
körper, an dem zwei Kontaktkörper zur Stromeinprägung und mindestens eine das inhomo
gene Magnetfeld erzeugende Struktur vorgesehen sind. Dabei kann letztere eine ferroma
gnetische oder antiferromagnetische Schicht oder eine Schicht aus einem semimagnetischen
Material sein, oder durch eine normal- oder supraleitende Leiterbahn, oder durch eine Gra
dientenspule gebildet werden.
Neben der Erzeugung ist auch die Charakterisierung der Spinpolarisation eines Ladungsträ
gersystems für viele Anwendungen relevant. Zur Detektion der Spinpolarisation von La
dungsträgern können alle oben angeführten Methoden eingesetzt werden. Bekannt ist die
Möglichkeit, die Spinpolarisation der Ladungsträger in einem Halbleiter durch Messung der
zirkular polarisierten Anteile des abgestrahlten Photolumineszenzlichts zu bestimmen. Sinn
gemäß gilt auch hier, daß die notwendige optische Spektroskopie die technische Relevanz
dieser Nachweismethode drastisch beschränkt. Bekannt ist auch, daß spinabhängige Tunnel-
oder Streuprozessen in sehr dünnen Schichtsystemen zur Detektion von spinpolarisierten
Ladungsträgern in Festkörpern verwendet werden können. Schließlich ist bekannt, daß auch
elektrische Kontakte aus magnetischen Materialien auf einem Halbleiter zur Charakterisie
rung der Spinpolarisation eines Ladungsträgersystems verwendet werden können. Hier kön
nen jedoch magnetisch tote Lagen wie im Falle der Erzeugung von spinpolarisierten La
dungsträgersystemen durch Injektion aus einem magnetischen Kontakt die Empfindlichkeit
stark reduzieren. Ein zweiter Grund für die geringe Empfindlichkeit dieses Verfahrens ist
die Tatsache, daß zwar im Ferromagneten an der Fermikante bevorzugt Zustände einer Spin
orientierung besetzt sind, trotzdem die Zustandsdichte an der Fermikante für beide Spinzu
stände deutlich größer ist als diejenige im Halbleiter. Daher findet jeder Ladungsträger im
Halbleiter einen freien Zustand im Ferromagneten, die Spinselektivität des Übergangs ist
gering. Wie im Zusammenhang mit der Erzeugung von spinpolarisierten Ladungsträgersy
stemen bereits angesprochen, wird die Anwendbarkeit der genannten Meßverfahren z. B. auf
niedrigdimensionale Systeme wegen der Untrennbarkeit von elektrischem Kontakt und
Spindetektion stark eingeschränkt.
Erfindungsgemäß kann das eingangs genannte Verfahren ebenfalls dazu herangezogen wer
den, eine Spinpolarisation von Ladungsträgern zu detektieren. Dabei wird das Verfahren
nicht auf ein unpolarisiertes Ladungsträgersystem angewandt, sondern auf einen bereits
spinpolarisierten Strom. Analog zur Funktion des spinpolarisierenden Verfahrens erzeugt
eine Vorrichtung ein inhomogenes Magnetfeld in einem Festkörper, in den von dieser Vor
richtung unabhängig ein Strom von spinpolarisierten Ladungsträgern eingeprägt ist, z. B.
durch das erfindungsgemäße oben beschriebene spinpolarisierende Verfahren. Die magneti
schen Momente der jeweiligen Ladungsträger erfahren wegen des durch das inhomogene
Magnetfeld erzeugten magnetischen Gradienten wie oben beschrieben eine Kraft je nach
ihrer relativen Orientierung zum Feldgradienten. Diese Kraft kann für den entsprechend der
Spinpolarisation überwiegend anzutreffende Spinzustand entweder in die Richtung des
elektrischen Transports oder dieser entgegengesetzt wirken, den Transport also entweder
unterstützen oder behindern und somit zur Änderung des Stromes der Ladungsträger füh
ren. Dies kann zum Nachweis der Spinpolarisation herangezogen werden.
Eine bevorzugte Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens zur Charakterisierung
der Spinpolarisation von Ladungsträgersystemen besteht aus einem Festkörper, an dem
mindestens zwei Kontaktkörper zur Stromeinprägung, eine beliebige Vorrichtung zur Erzeugung
einer Spinpolarisation der Ladungsträger und mindestens eine das inhomogene
Magnetfeld erzeugende Struktur vorgesehen sind. Dabei kann die das inhomogene Ma
gnetfeld erzeugende Struktur wieder eine ferromagnetische oder antiferromagnetische
Schicht oder aus einem semimagnetischen Material sein. Die das inhomogene Magnetfeld
erzeugende Struktur kann aber auch durch eine normal- oder supraleitende Leiterbahn oder
durch eine Gradientenspule gebildet werden. Die Spinpolarisation kann dann durch Mes
sung des Widerstandes des Festkörpers zwischen den beiden Kontakten, durch Messung der
über diesen Kontakten abfallenden Spannung bei konstantem eingeprägten Strom oder
durch Messung des Stromes zwischen den Kontakten bei konstanter angelegter Spannung
bestimmt werden. Dazu kann es hilfreich sein, getrennte Kontakte zur Einprägung des
Stromes und zur Messung der über dem Festkörper abfallenden Spannung zu verwenden
(Vierpunktmethode zur Messung kleiner Widerstände).
Die erfindungsgemäßen Vorrichtungen zur Erzeugung von Spinpolarisierung und zur Cha
rakterisierung der Spinpolarisierung von Ladungsträgern in Festkörpern können auch zu
einer gemeinsamen Vorrichtung zusammengefaßt werden, die zwei Strukturen zur Erzeu
gung von inhomogenen Magnetfeldern auf einem Festkörper umfaßt.
Die Auswirkungen inhomogener Magnetfelder (Streufelder) auf den Ladungsträgertransport
insbesondere in zweidimensionalen Ladungsträgersystemen sind ausführlich untersucht
worden. Bei das zweidimensionale Ladungsträgersystem in der x-y-Ebene ausgedehnt und
ein Strom durch äußere Kontakte so eingeprägt, daß er vornehmlich in x-Richtung fließe, so
sind lokale Hall-Effekte, die auf Magnetfeldern in z-Richtung beruhen und zu Hall-
Spannungen in y-Richtung führen, wohl bekannt (z. B. M. Johnson, B. R. Bennett, M. J.
Yang, M. M. Miller and B. V. Shanabrook, Appl. Phys. Lett. 71, 974 (1997)). Ebenso be
kannt ist, daß Magnetfelder B, deren z-Komponente lokal variiert, zu sog. magnetischen
Barrieren führen, die den Stromtransport in x-Richtung beeinflussen können (z. B. A. Matu
lis, F. M. Peeters and P. Vasiopoulos, Phys. Rev. Lett. 72, 1518 (1994), V. Kubrak, F.
Rahman, B. L. Gallagher, P. C. Main, M. Henini, C. H. Marrows and M. A. Howson, Appl.
Phys. Lett. 74, 2507 (1999)). Allerdings wurde die Wirkung von Gradientenfeldern auf das
magnetische Moment der Ladungsträger nicht berücksichtigt. Eine Ausnahme bildet der von
Schmidt beschriebene Ansatz (G. Schmidt, Patent DE 197 46 138 A1), dem die Ablenkung
eines Ladungsträgers, der sich in x-Richtung bewegt und ein magnetisches Moment
hat, in einem inhomogenen Magnetfeld, genauer in dem entsprechenden Gra
dientenfeld δyB, zugrunde liegt. Die Ablenkung erfolgt dabei in y-Richtung, d. h. quer zur
mittleren Flug- bzw. Transportrichtung (der x-Richtung). Im Fall geladener Teilchen baut
sich durch die Ablenkung eine Ladungsasymmetrie und damit ein elektrisches Potential
ebenfalls quer zur mittleren Bewegungsrichtung der Teilchen auf. Dieses Potential wird
nach Schmidt zur Detektion der Spinpolarisation herangezogen. Relevant ist also die Gra
dientenkraft F = myδyB bzw. die Kraftkomponente in y-Richtung Fy = myδyBy (d. h.
By ≠ 0!). Dies ist vom Halleffekt zu unterscheiden, bei dem sich bei elektrischem Transport
in x-Richtung in einem Magnetfeld mit einer nichtverschwindenden z-Komponente (Bz ≠ 0)
ebenfalls ein Potential in y-Richtung ergibt, allerdings wegen der Lorentzkraft F = qv × B
bzw. deren Kraftkomponente Fy = -qvxBz (q sei die Ladung, v sei die Geschwindigkeit
der Ladungsträger).
Die Erfindung schlägt damit ein Verfahren vor, das sich sowohl zur Erzeugung als auch
zum Nachweis der Spinpolarisation eines Ladungsträgersystems in einem Festkörper eignet.
Das Verfahren zur Erzeugung einer Polarisation unterscheidet sich grundsätzlich von bereits
existierenden Verfahren, da es insbesondere die elektrische und ggf. räumliche Trennung der
zur Stromeinprägung dienenden Kontakte und der zur Spinpolarisation notwendigen
Struktur ermöglicht. Dadurch können auch niedrigdimensionale Ladungsträgersysteme
spinpolarisiert werden, ohne daß bereits entwickelte, wohl etablierte Kontaktierungsmetho
den an diese modifiziert werden müssen. Die Möglichkeit, im Fall der Verwendung von
normal- oder supraleitenden Leitern zur Erzeugung des inhomogenen Magnetfelds die Stär
ke desselben und damit den Grad der Spinpolarisation einfach und gut kontrollierbar variie
ren zu können, bedeutet einen weiteren Vorteil. Das gilt entsprechend für das Verfahren zur
Detektion einer Spinpolarisation. Das erfindungsgemäße Verfahren zur Detektion unter
scheidet sich von dem von Schmidt beschriebenen Verfahren grundlegend durch die Anord
nung des Gradienten des inhomogenen Magnetfelds relativ zur elektrischen Transportrich
tung (der x-Richtung). Das von Schmidt beschriebene Verfahren verwendet Gradienten
quer zur Transportrichtung, d. h. entlang der y-Richtung (transversal). Erfindungsgemäß
beruht das hier vorgeschlagene Verfahren auf einem Gradienten entlang der Ladungstäger-
Transportrichtung, d. h. entlang der x-Richtung. Diese longitudinale Anordnung des Gra
dienten und die entsprechend im Mittel entlang der elektrischen Transportrichtung wirkende
Kraft auf die magnetischen Momente der jeweiligen Ladungsträger bietet die Möglichkeit,
niedrigdimensionale, insbesondere auch eindimensionale Ladungsträgersysteme zu polarisie
ren und zu analysieren. Die Ladungsasymmetrie und das entsprechende, zur Detektion der
Polarisation herangezogene Potential quer zur Transportrichtung gemäß Schmidt kann in
eindimensionalen Ladungsträgersystemen grundsätzlich nicht aufgebaut werden. Schließlich
vereinfacht die erfindungsgemäße Möglichkeit, sowohl Spinpolarisator als auch Spinanaly
sator quasi identisch darzustellen, eine Verwendung des Verfahrens in integrierten elektro
nischen Schaltkreisen wesentlich.
Die einfachste Verwirklichung des Verfahrens ist in Abb. 1 dargestellt. Durch einen Fest
körper (10), beispielsweise einen Halbleiter wie Silizium, fließt ein elektrischer Strom I (in
x-Richtung). Über die gesamte stromtragende Breite des Festkörpers ist eine magnetische
Schicht (12), bevorzugt z. B. aus einem Ferromagneten wie Eisen, aufgebracht, deren Ma
gnetisierung M im Wesentlichen parallel zur elektrischen Transportrichtung verläuft. Die
magnetische Schicht (12) ist naturgemäß von einem Magnetfeld B umgeben - symbolisch
dargestellt durch zwei Feldlinien - das auch in den Festkörper (10) eindringt. Vor allem an
den quer zur Magnetisierungsrichtung verlaufenden Kanten der magnetischen Schicht (12)
ist das diese Schicht umgebende Magnetfeld B stark inhomogen, d. h. in diesen Bereichen
ist insbesondere der magnetische Feldgradient in x-Richtung, δxBx, besonders groß. δxBx
ist dabei im Bereich des Festkörpers (10) unter der einen Kante negativ, unter der anderen
positiv (Abb. 1). Ein Ladungsträger mit einem magnetischen Moment
parallel
zur x-Richtung, der sich entlang der elektrischen Transportrichtung unter der magnetischen
Schicht (12) hindurch bewegt, erfährt also im Bereich der einen Kante eine seiner Bewe
gung entgegen gerichtete, unter der anderen Kante eine entlang seiner Bewegung gerichtete
Kraftkomponente Fx = mxδxBx. Der Transport des besagten Ladungsträgers wird also
durch das im Festkörper (10) von der magnetischen Schicht (12) hervorgerufene inhomoge
ne Magnetfeld beeinflußt, und zwar abhängig davon, ob das magnetische Moment des La
dungsträgers m und die Richtung des magnetischen Feldgradienten entlang der elektrischen
Transportrichtung δxB parallel oder antiparallel sind. Das ist in Abb. 2 nochmals dargestellt:
die Orientierung der Magnetisierung M der magnetischen Schicht (12) auf dem Fest
körper (10) ist nun antiparallel zur Stromrichtung I, dementsprechend sind die Bereiche mit
positivem bzw. negativem magnetischen Feldgradienten δxBx im Vergleich zu Abb. 1 gera
de vertauscht.
Für Ladungsträger mit Spin ℏ/2 ergeben sich bezüglich der x-Richtung als Quantisierungs
richtung zwei möglich Einstellungen des Spins (bzw. des magnetischen Moments), nämlich
parallel bzw. antiparallel zur x-Richtung. Eine solche Quantisierungsrichtung kann z. B.
durch ein von außen angelegtes homogenes Magnetfeld B0 (Abb. 1) im Bereich der besag
ten Vorrichtung erzwungen werden, aber bevorzugt einfach durch das mittlere Magnetfeld
B der magnetischen Schicht (12) auf dem Festkörper (10) gegeben sein. Durch die so er
zeugte quantisierte Einstellung des Spins der Ladungsträger wirkt aber ein Bereich im Fest
körper (10) unter einer quer zur x-Richtung verlaufenden Kante der magnetischen Schicht
mit einheitlichem Vorzeichen von δxBx spinselektiv auf Spin 1/2-Teilchen, da der Trans
port derselben je nach der Einstellung ihres Spins entweder behindert oder unterstützt wird.
Um ein konkretes Beispiel zu geben, wird im folgenden die Auswirkung der in Abb. 1 dar
gestellten Vorrichtung auf einen Ladungsträger, dessen magnetisches Moment in die x-
Richtung zeige, diskutiert. Unter der linken Kante der magnetischen Schicht (12) ist
δxBx < 0. Daher erfährt der Ladungsträger eine verzögernde Kraft Fx = mxδxBx < 0. Um
gekehrt ist δxBx < 0 an der rechten Kante, der Ladungsträger erfährt dort eine Beschleuni
gung. In diesem Zusammenhang ist Abb. 1 eher schematisch zum Verständnis der Funktion
der erfindungsgemäßen Vorrichtung zu sehen, da für die beiden möglichen Einstellungen
des Ladungsträgerspins jeweils ein Bereich mit Feldgradient existiert, der den Transport
behindert und unterstützt - es ergibt sich also kein Nettoeffekt. Die bevorzugte Realisierung
der Vorrichtung ist beispielsweise den Abb. 8-11 zu entnehmen; es wird nur eine Kante der
magnetischen Schicht (12) bzw. nur ein Bereich mit einheitlich orientiertem δxBx als spin
selektives Element ausgenutzt.
Bevorzugte Materialien zur Darstellung der erfindungsgemäßen Vorrichtungen sind in Be
zug auf den Festkörper (10) vor allem Halbleiter wie Silizium (Si), Germanium (Ge), Koh
lenstoff (C) und deren Legierungen sowie deren Legierungen mit Übergangsmetallelementen
(bevorzugt Mangan), seltenen Erden oder ferromagnetischen Elementen (bevorzugt Eisen),
sog. III-V-Halbleitern wie z. B. Galliumarsenid (GaAs), Aluminiumarsenid (AlAs), Indiumar
senid (InAs), Indiumphosphid (InP) und deren Legierungen sowie deren Legierungen mit
Übergansmetallelementen (bevorzugt Mangan) (sog. Heusler-Legierungen), seltenen Erden
oder ferromagnetischen Elementen (bevorzugt Eisen), Galliumantimonid (GaSb), Alumini
umantimonid (AlSb), Indiumantimonid (InSb) und deren Legierungen sowie deren Legie
rungen mit Übergansmetallelementen (bevorzugt Mangan), seltenen Erden oder ferroma
gnetischen Elementen (bevorzugt Eisen), Galliumnitrid (GaN), Aluminiumnitrid (AlN), In
diumnitrid (InN) und deren Legierungen sowie deren Legierungen mit Übergansmetallele
menten (bevorzugt Mangan), seltenen Erden oder ferromagnetischen Elementen (bevorzugt
Eisen), und sog. II-V-Halbleitern wie z. B. Zinkselenid (ZnSe), Zinksulfid (ZnS), Zinktellu
rid (ZnTe), deren Legierungen, deren Legierungen mit anderen Elementen der II. und VI.
Hauptgruppe oder der II. Nebengruppe des Periodensystems der Elemente sowie deren
Legierungen mit Übergansmetallelementen (bevorzugt Mangan), seltenen Erden oder fer
romagnetischen Elementen (bevorzugt Eisen). Die Herstellung dieser Halbleitermaterialien
ist heute in der Halbleitertechnologie Stand der Technik. Niedrigdimensionale Ladungsträ
gersysteme können z. B. durch Heterostrukturen aus den vorgenannten Materialien erzeugt
werden, insbesondere durch Quantentöpfe bzw. Quantenfilme z. B. im System
GaAs/AlGaAs oder GaN/AlGaN, oder an Grenzflächen, z. B. von Silizium mit den Isolato
ren Siliziumdioxid und Siliziumnitrid (Si/SiO2 bzw. Si/Si3N4). Mit derartigen Strukturen
lassen sich auch zweidimensionale Ladungsträgersysteme realisieren, d. h. Systeme, in denen
sich die Ladungsträger nur in zwei Raumrichtungen frei bewegen können. Die Realisierung
von eindimensionalen Ladungsträgersystemen - in denen sich die Ladungsträger nur in einer
Raumrichtung frei bewegen können - kann z. B. durch geeignete Strukturierung entspre
chender Halbleiterproben mittels photolithographischer Techniken (optisch, oder mit Elek
tronen- oder Ionenstrahlen) und anschließendem naß- oder trockenchemischem Ätzen, oder
durch reaktives Ionenätzen, oder durch Ionenimplantation, oder durch das Aufbringen zu
sätzlicher Gatekontakte, oder eine Kombination dieser und ähnlicher Techniken erfolgen.
Eine weitere Möglichkeit bietet das Überwachsen von Spaltflächen (cleaved edge over
growth). Auch diese Methoden sind in der heutigen Halbleitertechnologie wohl etabliert.
Zur elektrischen Kontaktierung der Ladungsträgersysteme in besagtem Festkörper sollen
bevorzugt die für das jeweilige Material üblichen Kontaktierungsmethoden und Kontakt
materialien zur Herstellung der Kontakte verwendet werden, im Fall von niedrigdimensionalen
Elektronensystemen im Halbleitersystem GaAs/AlGaAs beispielsweise Indium oder
Mehrfachschichten aus Germanium, Gold und Nickel (ggf. auch einlegiert). Soll die erfin
dungsgemäße Vorrichtung als Detektor für spinpolarisierte Ladungsträgersysteme dienen,
können auch semimagnetische Kontakte, beispielsweise die bereits erwähnten Materialien
BexMnyZn1-x-ySe oder Ga1-xMnxAs auf GaAs bzw. auf GaAs basierenden Heterostrukturen
zur Erzeugung eines spinpolarisierten Ladungsträgersystems verwendet werden.
Die magnetische Schicht (12) (Abb. 1) soll bevorzugt aus einem ferromagnetischen Material
bestehen, wie z. B. Eisen, Nickel, Cobalt, deren Oxiden und Legierungen, u. a. mit Alumini
um, Silizium, oder seltenen Erden, sowie Ferriten. Auch ein antiferromagnetisches Material
wie z. B. Chrom oder Nickelmonoxid kann verwendet werden, genauso wie Heterostruktu
ren aus ferromagnetischen und antiferromagnetischen Schichten, die es beispielsweise erlau
ben, die Magnetisierung in den Schichten zu pinnen. Geeignet sind auch semimagnetische
Halbleiter, wie sie oben bereits exemplarisch angeführt sind.
Abb. 3 zeigt die erfindungsgemäße Vorrichtung aus Abb. 2, wobei zwischen den Festkörper
(10) und die magnetische Schicht (12) eine weitere Schicht (14) eingebracht ist. Letztere
kann beispielsweise aus einem Isolator, bevorzugt SiO2 oder Si3N4, bestehen, der den Fest
körper (10) und die magnetische Schicht (12) elektrisch trennt.
In Abb. 4 ist eine mögliche Verwirklichung des Verfahrens, wie sie prinzipiell bereits in
Abb. 2 im Schnitt dargestellt ist, nochmals gezeigt, und zwar für den Fall, daß der Festkör
per (10) ein Halbleiter (bzw. eine Halbleiterschichtstruktur oder eine Halbleiter-Isolator-
Schichtstruktur) ist und der Stromtransport in demselben in einem zweidimensionalen La
dungsträgersystem (16) erfolgt, das nur zur graphischen Veranschaulichung aus dem Fest
körper (10) herauszutreten scheint.
Abb. 5 zeigt das gleiche Prinzip, allerdings für ein eindimensionales Ladungsträgersystem
(18).
In Abb. 6 ist die Vorrichtung aus Abb. 2 dargestellt, wobei nun eine Leiterbahn (20) anstelle
der magnetischen Schicht ((12) in Abb. 2) die Struktur bildet, die das inhomogene Magnet
feld erzeugt. Die Leiterbahn (20) kann aus einem Normalleiter, z. B. Gold, Silber oder Aluminium,
oder einem Supraleiter, bevorzugt einem Supraleiter zweiter Art, z. B. Niob-haltige
Legierungen (NbTi, NbSn3 etc.) oder Hochtemperatursupraleiter wie beispielsweise Yttri
umbariumkupferoxid (YBa2Cu3O6-7), bestehen. Die Leiterbahn (20) durchfließt ein Strom
IB im Mittel quer zur x-Achse, der nach dem Amp▲reschen Gesetz von einem Magnetfeld
B umgeben ist. Durch geeignete Wahl des Querschnitts der Leiterbahn (20) lassen sich
stark inhomogene Magnetfelder an den quer zur x-Achse verlaufenden Kanten derselben
erzielen, die die erfindungsgemäß benötigten Magnetfeldgradienten in x-Richtung erzeugen.
Abb. 7 zeigt im Vergleich zu Abb. 6, daß durch Umpolen der Richtung des Stromes IB die
Gebiete mit positivem und negativem Magnetfeldgradienten vertauscht werden können.
Durch geeignete Wahl der Stromrichtung IB kann also erfindungsgemäß das Vorzeichen
des Magnetfeldgradienten im Bereich einer bestimmten, quer zur x-Achse verlaufenden
Kante der Leiterbahn (20) ausgewählt werden.
Die magnetische Schicht (12) kann, entsprechend Abb. 8, auch als elektrischer Kontakt an
den Festkörper (10) dienen, wenn sie aus entsprechenden Materialien, bevorzugt z. B. Eisen,
besteht. Das hat den Vorteil, daß die Ladungsträger des Stromes I nach dem Übergang in
den Festkörper (10) entlang des skizzierten Strompfades im Wesentlichen nur Bereiche mit
einem einheitlichen Vorzeichen des magnetischen Feldgradienten durchlaufen, im Gegensatz
zu der in Abb. 2 dargestellten Vorrichtung. Damit erfahren die Ladungsträger entsprechend
ihrer jeweiligen Spineinstellung eine Kraft entgegen bzw. entlang der elektrischen Trans
portrichtung, d. h. eine Spinspezies wird bevorzugt den Bereich unter der magnetischen
Schicht verlassen, das Ladungsträgersystem wird spinpolarisiert.
Abb. 9 zeigt eine Verwirklichung der Erfindung entsprechend Abb. 8, wobei der elektrische
Kontakt an den Festkörper (10) durch eine zusätzliche, dedizierte Kontaktschicht (22), vor
zugsweise aus einem Metall oder einer Folge von Metallschichten, realisiert ist. Wie oben
beschrieben ist das vorteilhaft, da so der elektrische Kontakt an das Ladungsträgersystem
durch z. B. richtige Wahl des Kontaktmaterials separat von den Eigenschaften der magneti
schen Kontaktschicht (12) optimal hergestellt werden kann. In der Abbildung ist zudem
noch eine Isolatorschicht (24) gezeigt, bevorzugt wieder z. B. aus SiO2 oder Si3N4, die einen
Übergang der Ladungsträger aus dem Kontakt (22) in den Festkörper (10) (bzw. das nied
rigdimensionale Ladungsträgersystem im Festkörper) in einem Bereich mit Meinem Magnetfeldgradienten
dxBx erzwingt. Anschließend erfolgt der Transport im Festkörper (10)
durch den Bereich mit großem δxBx unterhalb einer Kante der magnetischen Schicht (12),
der erfindungsgemäß die Spinpolarisation bewirkt. Im Bereich des Kontaktes (22) haben die
Ladungsträger bereits einen Magnetfeldgradienten mit entgegengesetztem Vorzeichen
durchlaufen. Wie in Zusammenhang mit Abb. 1 diskutiert, entsteht hier erfindungsgemäß
eine Spinpolarisation. Da die Streuung in dem metallischen Kontakt (22) jedoch sehr hoch
ist und deshalb die Spinpolarisation nicht über lange Wegstrecken erhalten bleibt, sind die
Ladungsträger beim Übergang in den Festkörper (10) nicht mehr polarisiert. Streuung in
magnetisch toten Lagen an den Grenzflächen zwischen dem Kontakt (22) und dem Festkör
per (10) hat denselben Effekt. Die Stromzufuhr kann jedoch in der Vorrichtung in Abb. 9
auch entsprechend Abb. 8 durch die magnetische Schicht (12) hindurch geschehen.
Abb. 10 entspricht Abb. 9, wobei eine zusätzliche Schicht (26) zwischen den elektrischen
Kontakt (22) an den Festkörper (10) und die magnetische Schicht (12) eingebracht ist, vgl.
dazu auch Abb. 3. Die zusätzliche Schicht (26) ist vorzugsweise wieder ein Isolator, der den
elektrischen Kontakt von der magnetischen Schicht trennt.
Abb. 11 zeigt die bevorzugte Verwirklichung des erfindungsgemäßen Detektors zum
Nachweis der Spinpolarisierung von Ladungsträgersystemen. Der in der Abbildung darge
stellte Aufbau des Detektors entspricht im wesentlichen der in Abb. 10 dargestellten Vor
richtung, wobei der Strom I nun aus dem Festkörper (10) in den elektrischen Kontakt (22)
fließt. Jedoch lassen sich alle in Abb. 1 bis 9 dargestellten Vorrichtungen durch einfache
Umkehr der Richtung des Ladungsträgertransportes auch als Vorrichtungen zur Detektion
der Spinpolaisation von Ladungsträgersystemen verwenden. Wegen der Spinselektivität des
elektrischen Transports im Bereich des Magnetfeldgradienten können bevorzugt Ladungs
träger einer Spinorientierung in den besagten Kontakt (22) gelangen, der elektrische Wider
stand für den Transport der zwei möglichen Spinspezies ist unterschiedlich. Dementspre
chend erlaubt eine Messung des elektrischen Widerstandes, bevorzugt z. B. zwischen dem in
Abb. 11 nicht dargestellten, strominjizierenden Kontakt an den Festkörper (10) und dem
Kontakt (22) die Bestimmung der Spinpolarisation des Ladungsträgersystems.
Die bevorzugte Realisierung einer Vorrichtung, die erfindungsgemäß ein spinpolarisiertes
Ladungsträgersystem in einem Festkörper erzeugt und die Bestimmung der Spinpolarisation
des Ladungsträgersystems erlaubt, ist in Abb. 12 wiedergegeben. Ein solcher Spintransistor
besteht - entsprechend den Ausführungen zu Abb. 11 - exemplarisch aus einem erfindungs
gemäßen Spinpolarisator nach Abb. 10 und einem Spinpolarisationsdetektor nach Abb. 11,
die auf demselben Festkörper (10) realisiert werden.
Die in Abb. 12 dargestellte Vorrichtung kann auch zur Realisierung magnetischer Speicher
mittels der erfindungsgemäßen Erzeugung und Detektion von spinpolarisierten Ladungsträ
gersystemen verwendet werden, indem die Orientierung der Magnetisierung der magneti
schen Schicht (12) z. B. des Spinpolarisationsdetektors gezielt eingestellt oder invertiert
wird. Dazu wird beispielsweise die Magnetisierungsrichtung des spinpolarisierenden Be
reichs Mp (linke Hälfte der Abb. 13) festgehalten, bevorzugt mittels einer hartmagnetischen
Schicht (12), während diejenige des spinanalysierenden Bereichs Ma (rechte Hälfte der
Abb. 13) zwischen zwei Orientierungen (Ma parallel bzw. antiparallel zu Mp) hin- und her
geschaltet werden kann. Die Orientierung von Ma kann damit zur Speicherung von Infor
mation, nämlich eines Bits ("0" oder "1", "aus" oder "an", "parallel" oder "antiparallel")
verwendet werden. Um ein gezieltes Umklappen von Ma ohne Beeinflussung von Mp zu
erlauben, besteht die magnetische Schicht des spinanalysierenden Bereichs z. B. aus einem
weichmagnetischen Material, dessen Magnetisierung insbesondere durch ein externes Ma
gnetgeld umgeklappt werden kann. Letzteres wird bevorzugt durch zwei separate, auf die
magnetische Schicht (12) des spinanalysierenden Bereichs aufgebrachte Leiterbahnen er
zeugt, einer sogenannten Bit- und einer Wordleitung, die jeweils mit den Strömen IBit und
IWord belegt werden können. Die Größe und Richtung von IBit und IWord werden so ge
wählt, daß erst die Überlagerung der Magnetfelder beider Leiterbahnen ausreicht, um Ma
umzuklappen. Somit wird eine selektive Adressierung einzelner magnetischer Schichten
auch in einem großen Array dieser Vorrichtungen in der Form integrierter magnetoelektro
nischer Schaltkreise möglich. Der elektrische Widerstand entlang der Richtung des Stromes
I hängt, wie oben dargelegt, von der relativen Orientierung von Ma und Mp ab. Damit
kann durch eine Bestimmung dieses Widerstandes die Orientierung von Ma und damit auch
die gespeicherte Information ausgelesen werden.
Abb. 14 veranschaulicht den eben beschriebenen magnetischen Speicher nochmals, wobei
nun die magnetischen Schichten von spinpolarisierendem (20) und spinanalysierendem Be
reich nicht wie in Abb. 13 aus magnetischen Materialien bestehen, sondern als normal- oder
supraleitende Leiterbahnen ausgelegt sind. Die Ströme IB1 bzw. IB2 erzeugen nun die erfin
dungsgemäß benötigten inhomogenen Magnetfelder; durch Umkehren der Stromrichtung
von IB2 relativ zu IB1 und das damit verbundene Umdrehen der Richtung des inhomogenen
Magnetfelds B im spinalaysierenden Bereich kann wieder der Widerstand der Vorrichtung
entlang der Richtung des Stromes I verändert werden.
Bei den erfindungsgemäßen Bauelementen ist einen hohe Integrationsdichte erreichbar, da
die Wirkung der Gradientenfelder im Abstand von wenigen hundert Nanometern von der
magnetischen Struktur verschwindet, die das inhomogene Magnetfeld erzeugt. Auf der an
deren Seite ist die zu Verlust von Spinpolarisation führende Streuung im Ladungsträgersy
stems besonders in zweidimensionalen Elektronensystemen so groß, daß eine einmal er
zeugte Spinpolarisation bei einem Ladungsträgertransport über weite Bereiche des Bauele
mentes (in einigen Halbleitern über eine Länge von mehreren Mikrometern) erhalten bleibt.
Die erfindungsgemäßen magnetoelektronischen Bauelemente lassen sich zu integrierten
Schaltkreisen verbinden, z. B. zur Realisierung von magnetischen Speicherbauelementen
(MRAM). Die Bauelemente lassen sich jedoch auch vorteilhaft mit konventionellen mikro
elektronischen Bauelemente wie z. B. Transistoren zu integrierten Schaltkreisen kombinie
ren. Dies ist z. B. von Vorteil für die Adressierung der Bit- bzw. Word-Leitungen in einer
Vorrichtung nach Abb. 13 oder zur Aussteuerung der Ströme IB1 und IB2 in einer Vorrich
tung nach Abb. 14 oder zur Nachverstärkung des Stromes I durch den Festkörper (10).
Die erfindungsgemäßen Bauelemente lassen sich direkt als Sensoren zur Bestimmung von
Magnetfeldern benutzen. So können z. B. über die Ummagnetisierung weichmagnetischer
Schichten (12) äußere Magnetfelder gemessen werden. Es lassen sich aber auch Magnet
feldgradienten bestimmen, indem der Magnetfeldgradient, der sonst im spinpolarisierenden
Bauelement durch die magnetische Struktur (12) erzeugt wird, ganz oder teilweise durch
den äußeren, zu messenden Magnetfeldgradienten ersetzt wird.
Zur Realisierung von elektrischen Schaltkreisen, die auf Quantenlogik basieren, werden
spinpolarisierende Ströme benötigt (z. B. B. E. Kane, Nature 393, 133 (1998)). Die erfin
dungsgemäßen Bauelemente lassen sich zur Erzeugung dieser spinpolarisierten Ströme so
wie zur Analyse der Spinpolarisation benutzen, die das Ergebnis der quantenlogischen Ope
rationen ist.
Claims (37)
1. Ein Verfahren zur Spinpolarisierung von Ladungsträgersystemen in Festkörpern durch
ein inhomogenes Magnetfeld, das durch eine Struktur hergestellt wird, die in die Nähe
des Festkörpers oder auf die Oberfläche des Festkörpers gebracht wird, dadurch ge
kennzeichnet, daß das von dieser Struktur erzeugte mittlere Magnetfeld sowie der von
dieser Struktur erzeugte Magnetfeldgradient im Wesentlichen parallel oder antiparallel
zur Stromrichtung in dem Ladungsträgersystem sind.
2. Ein Verfahren zur Analyse der Spinpolarisierung von Ladungsträgersystemen in Fest
körpern durch Messung des Einflusses eines inhomogenen Magnetfeldes auf den elek
tronischen Transport in dem Ladungsträgersystem, in dem das inhomogene Magnetfeld
durch eine Struktur hergestellt wird, die in die Nähe des Festkörpers oder auf die
Oberfläche des Festkörpers gebracht wird, dadurch gekennzeichnet, daß das von dieser
Struktur erzeugte mittlere Magnetfeld sowie der von dieser Struktur erzeugte Magnet
feldgradient im Wesentlichen parallel oder antiparallel zur Stromrichtung in dem La
dungsträgersystem sind.
3. Ein Verfahren nach Ansprüchen 1 oder 2, in dem von außen ein zusätzliches homoge
nes Magnetfeld im Wesentlichen parallel oder antiparallel zur Stromrichtung in dem
Ladungsträgersystem angelegt wird.
4. Ein Verfahren nach Ansprüchen 1 oder 2, in dem das Ladungsträgersystem aus Elek
tronen oder Löchern gebildet wird.
5. Ein elektronisches Bauelement auf der Basis der Ansprüche 1 oder 2, in dem die das
inhomogene Magnetfeld erzeugende Struktur aus einem Ferromagneten, einem Antifer
romagneten, einem semimagnetischen Halbleiter oder aus Heterostrukturen aus diesen
Materialien gebildet wird.
6. Ein elektronisches Bauelement auf der Basis der Ansprüche 1 oder 2, in dem die das
inhomogene Magnetfeld erzeugende Struktur aus einem stromdurchflossenen elektri
schen Leiter gebildet wird.
7. Ein Bauelement nach Anspruch 6, in dem der elektrische Leiter ein Supraleiter ist.
8. Ein elektronisches Bauelement auf der Basis der Ansprüche 1 oder 2, in dem der Fest
körper durch einen Halbleiter, eine Halbleiterschichtstruktur oder eine Halbleiter-
Isolator-Schichtstruktur gebildet wird.
9. Ein Bauelement nach Anspruch 8, in dem der Halbleiter oder die Halbleiterschicht
struktur aus GaAs, AlAs, InAs, ihren Legierungen oder deren Legierungen mit Über
gangsmetallelementen oder ferromagnetischen Elementen, aus GaSb, AlSb, InASb, ih
ren Legierungen oder deren Legierungen mit Übergangsmetallelementen oder ferroma
gnetischen Elementen, aus GaN, AlN, InN, ihren Legierungen oder deren Legierungen
mit Übergangsmetallelementen oder ferromagnetischen Elementen, aus ZnS, ZnSe,
ZnTe, ihren Legierungen oder deren Legierungen mit anderen Elementen der II. oder
VI. Hauptgruppe oder II. Nebengruppe des Periodensystems oder deren Legierungen
mit Übergangsmetallelementen oder ferromagnetischen Elementen, oder aus Si, Ge, C
oder ihren Legierungen oder deren Legierungen mit Übergangsmetallelementen oder
ferromagnetischen Elementen gebildet wird oder die Halbleiter-Isolator-Schichtstruktur
aus einem der vorgenannten Halbleiter und SiO2 oder Si3N4 gebildet wird.
10. Ein Bauelement nach Anspruch 8, in dem die Halbleiterschichtstruktur oder die Halb
leiter-Isolator-Schichtstruktur einen Quantenfilm oder einen Quantendraht enthält.
11. Ein Bauelement nach Anspruch 8, in dem sich in dem Halbleiter, in der Halbleiter
schichtstruktur oder in der Halbleiter-Isolator-Schichtstruktur ein zweidimensionales
oder eindimensionales Ladungsträgersystem ausbildet.
12. Ein elektronisches Bauelement auf der Basis der Ansprüche 1 oder 2, in dem durch
zwei elektrische Kontakte ein elektrischer Strom durch das Ladungsträgersystem gezogen
werden kann, so daß der Strom im Wesentlichen parallel oder antiparallel zu dem
inhomogenen Magnetfeld fließt.
13. Ein elektronisches Bauelement auf der Basis der Ansprüche 1 oder 2, in das zwischen
den Festkörper und die das inhomogene Magnetfeld erzeugende Struktur wenigstens
eine weitere Schicht eingebracht wurde.
14. Ein Bauelement nach Anspruch 13, in dem wenigstens eine der zusätzlich eingebrachten
Schichten zur elektrischen Isolation zwischen dem Festkörper und der das inhomogene
Magnetfeld erzeugenden Struktur dient.
15. Ein Bauelement nach Anspruch 13, in dem wenigstens eine der zusätzliche eingebrach
ten Schichten einen elektrischen Kontakt zum Festkörper bildet.
16. Ein Bauelement nach Anspruch 15, in dem die von dem Kontakt injizierten Ladungs
träger im Festkörper einen Magnetfeldgradienten durchlaufen, der seine Orientierung
relativ zu der Stromrichtung der Ladungsträger nicht umkehrt.
17. Ein Bauelement nach Anspruch 15, in dem der elektrische Kontakt derart lateral einge
schränkt ist, daß die von dem Kontakt injizierten Ladungsträger im Festkörper einen
maximalen Magnetfeldgradienten durchlaufen.
18. Ein Bauelement nach Anspruch 15, in dem eine der zusätzlich eingebrachten Schichten
zur elektrischen Isolation zwischen dem elektrischen Kontakt an den Festkörper und
der das inhomogene Magnetfeld erzeugenden Struktur dient.
19. Ein Bauelement nach Ansprüchen 5, 6 oder 7, in dem die Spinpolarisation des La
dungsträgersystems durch unterschiedliche Stärke oder Orientierung des von außen an
gelegten homogenen Magnetfeldes oder des von der Struktur erzeugten inhomogenen
Magnetfeldes eingestellt oder invertiert werden kann.
20. Ein Bauelement nach Ansprüchen 5 und 19, in dem die erzeugte Spinpolarisation in
vertiert wird durch Ummagnetisierung eines magnetischen Materials in der das inho
mogene Magnetfeld erzeugenden Struktur.
21. Ein Bauelement nach Anspruch 20, in dem das zur Ummagnetisierung benötigte Ma
gnetfeld durch wenigstens einen zusätzlichen stromdurchflossenen Leiter erzeugt wird.
22. Ein Bauelement nach Anspruch 21, in dem zur Ummagnetisierung zwei zusätzliche
stromdurchflossene Leiter verwendet werden, um eine selektive Adressierung der um
zumagnetisierenden Struktur innerhalb einer integrierten Schaltung zu erlauben.
23. Ein Bauelement nach Ansprüchen 6 oder 7 und Anspruch 19, in dem die erzeugte
Spinpolarisation invertiert wird durch Änderung der Richtung des Stromes durch die
das inhomogene Magnetfeld erzeugende Struktur.
24. Ein Bauelement nach Ansprüchen 5, 6 oder 7, in dem die Spinpolarisation des La
dungsträgersystems charakterisiert wird durch die Messung des Widerstandes des La
dungsträgersystems zwischen zwei Kontakten nach Anspruch 12, der zwischen diesen
Kontakten abfallenden Spannung bei vorgegebenem eingeprägten Strom durch das La
dungsträgersystem oder des Stromes bei vorgegebener, über den Kontakten angelegter
Spannung.
25. Ein Bauelement nach Anspruch 24, in dem einer der beiden Kontakte nach Anspruch
15, 16, 17 oder 18 ausgebildet ist.
26. Ein Bauelement nach Ansprüchen 24 oder 25, in dem die Spinpolarisation des La
dungsträgersystems analysiert wird durch vergleichende Messung des Widerstandes des
Ladungsträgersystems zwischen den zwei Kontakten, der zwischen den Kontakten ab
fallenden Spannung bei vorgegebenem eingeprägten Strom durch das Ladungsträgersy
stem oder des Stromes bei vorgegebener, über den Kontakten angelegter Spannung bei
unterschiedlicher Stärke oder Orientierung des von außen angelegten homogenen Ma
gnetfeldes oder des von der Struktur erzeugten inhomogenen Magnetfeldes.
27. Ein Bauelement nach Anspruch 5 und Ansprüchen 24, 25 oder 26, in dem die Orientie
rung des inhomogenen Magnetfelds durch Ummagnetisierung eines magnetischen Ma
terials in der das inhomogene Magnetfeld erzeugenden Struktur invertiert wird.
28. Ein Bauelement nach Anspruch 27, in dem das zur Ummagnetisierung benötigte Ma
gnetfeld durch wenigstens einen zusätzlichen stromdurchflossenen Leiter erzeugt wird.
29. Ein Bauelement nach Anspruch 28, in dem zur Ummagnetisierung zwei zusätzliche
stromdurchflossene Leiter verwendet werden, um eine selektive Adressierung der um
zumagnetisierenden Struktur innerhalb einer integrierten Schaltung zu erlauben.
30. Ein Bauelement nach Ansprüchen 6 oder 7 und Ansprüchen 24, 25 oder 26, in dem die
Orientierung des inhomogenen Magnetfelds invertiert wird durch Änderung der Rich
tung des Stromes durch die das inhomogene Magnetfeld erzeugende Struktur.
31. Ein elektronisches Bauelement auf der Basis der Ansprüche 1 oder 2, in dem auf einem
Festkörper zwei Strukturen inhomogene Magnetfelder erzeugen, wobei eine Struktur
zusammen mit dem Festkörper ein Bauelement entsprechend einem oder mehrerer An
sprüche aus den Ansprüchen 5 bis 23 bildet, das ein spinpolarisiertes Ladungsträgersy
stem erzeugt, und eine Struktur zusammen mit dem Festkörper ein Bauelement ent
sprechend einem oder mehrerer Ansprüche aus den Ansprüchen 5 bis 18 und 24 bis 30
bildet, das die Spinpolarisation desselben Ladungsträgersystems charakterisiert.
32. Ein steuerbares elektronisches Bauelement nach Anspruch 31, wobei der Widerstand
des Ladungsträgersystems zwischen zwei Kontakten nach Anspruch 15, 16, 17 oder
18, die zwischen diesen Kontakten abfallenden Spannung bei vorgegebenen eingepräg
ten Strom durch das Ladungsträgersystem oder der Stromes bei vorgegebener, über
den Kontakten angelegter Spannung abhängig sind von der Stärke oder Orientierung
des von außen angelegten homogenen Magnetfeldes oder der von den beiden Struktu
ren erzeugten inhomogenen Magnetfelder und nach den Ansprüchen 19 bis 23 bzw. 24
bis 30 gesteuert werden können.
33. Integrierte Schaltkreise, die durch Verknüpfung von Bauelementen gemäß der Ansprü
che 5 bis 32 gebildet werden.
34. Die Verwendung eines Bauelementes gemäß der Ansprüche 5 bis 33 zusammen mit
konventioneller Mikroelektronik in integrierten Schaltkreisen.
35. Die Verwendung eines Bauelementes gemäß der Ansprüche 5 bis 33 als Magnetfeld
sensor.
36. Die Verwendung eines Bauelementes gemäß der Ansprüche 5 bis 33 zur magnetischen
Datenspeicherung.
37. Die Verwendung eines Bauelementes gemäß der Ansprüche 5 bis 33 in Schaltkreisen,
die auf der Basis von Quantenlogik operieren.
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DE10019697A DE10019697A1 (de) | 2000-04-20 | 2000-04-20 | Verfahren zur Erzeugung und Charakterisierung von spinpolarisierten Ladungsträgersystemen und darauf beruhende Bauelemente |
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---|---|
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005013372A2 (en) * | 2003-07-30 | 2005-02-10 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Spin injection devices |
Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4326999A1 (de) * | 1993-08-11 | 1995-02-16 | Siemens Ag | Vorrichtung zum magnetfeldgesteuerten Schalten |
US5416353A (en) * | 1992-09-11 | 1995-05-16 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Netoresistance effect element |
US5432373A (en) * | 1992-12-15 | 1995-07-11 | Bell Communications Research, Inc. | Magnetic spin transistor |
DE4425331A1 (de) * | 1993-08-11 | 1996-01-25 | Siemens Ag | Vorrichtung zum magnetfeldgesteuerten Schalten und Verfahren zur Herstellung der Vorrichtung |
US5654566A (en) * | 1995-04-21 | 1997-08-05 | Johnson; Mark B. | Magnetic spin injected field effect transistor and method of operation |
WO1997041606A1 (en) * | 1996-04-26 | 1997-11-06 | Isis Innovation Limited | Spin transistor |
WO1998024163A2 (en) * | 1996-11-12 | 1998-06-04 | Chui Siu Tat | Multiple magnetic tunnel structures |
US5877511A (en) * | 1996-09-30 | 1999-03-02 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Single-electron controlling magnetoresistance element |
DE19746138A1 (de) * | 1997-10-18 | 1999-04-22 | Siemens Ag | Verfahren zum Detektieren eines Stroms spingpolarsierter Elektronen in einem Festkörper |
US5962905A (en) * | 1996-09-17 | 1999-10-05 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetoresistive element |
US5973334A (en) * | 1995-09-01 | 1999-10-26 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetic device and magnetic sensor using the same |
US6066867A (en) * | 1998-03-09 | 2000-05-23 | Nec Corporation | Current control functional device |
US6104275A (en) * | 1996-09-20 | 2000-08-15 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Magnetoresistive element |
DE10036356A1 (de) * | 1999-08-10 | 2001-03-08 | Inst Physikalische Hochtech Ev | Magnetisches Dünnschichtbauelement |
-
2000
- 2000-04-20 DE DE10019697A patent/DE10019697A1/de not_active Ceased
Patent Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5416353A (en) * | 1992-09-11 | 1995-05-16 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Netoresistance effect element |
US5432373A (en) * | 1992-12-15 | 1995-07-11 | Bell Communications Research, Inc. | Magnetic spin transistor |
DE4326999A1 (de) * | 1993-08-11 | 1995-02-16 | Siemens Ag | Vorrichtung zum magnetfeldgesteuerten Schalten |
DE4425331A1 (de) * | 1993-08-11 | 1996-01-25 | Siemens Ag | Vorrichtung zum magnetfeldgesteuerten Schalten und Verfahren zur Herstellung der Vorrichtung |
US5654566A (en) * | 1995-04-21 | 1997-08-05 | Johnson; Mark B. | Magnetic spin injected field effect transistor and method of operation |
US5973334A (en) * | 1995-09-01 | 1999-10-26 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetic device and magnetic sensor using the same |
WO1997041606A1 (en) * | 1996-04-26 | 1997-11-06 | Isis Innovation Limited | Spin transistor |
US5962905A (en) * | 1996-09-17 | 1999-10-05 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetoresistive element |
US6104275A (en) * | 1996-09-20 | 2000-08-15 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Magnetoresistive element |
US5877511A (en) * | 1996-09-30 | 1999-03-02 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Single-electron controlling magnetoresistance element |
WO1998024163A2 (en) * | 1996-11-12 | 1998-06-04 | Chui Siu Tat | Multiple magnetic tunnel structures |
DE19746138A1 (de) * | 1997-10-18 | 1999-04-22 | Siemens Ag | Verfahren zum Detektieren eines Stroms spingpolarsierter Elektronen in einem Festkörper |
US6066867A (en) * | 1998-03-09 | 2000-05-23 | Nec Corporation | Current control functional device |
DE10036356A1 (de) * | 1999-08-10 | 2001-03-08 | Inst Physikalische Hochtech Ev | Magnetisches Dünnschichtbauelement |
Non-Patent Citations (4)
Title |
---|
10284765 A * |
JOHNSON,Mark: Bipolar Spin Switch. In: Science, Vol. 260, 16. April 1993, S.320-323 * |
JP Patent Abstracts of Japan: 09214016 A * |
MOODERA,Jagadeesh S.,MATHON,George: Spin polarized tunneling in ferromagnetic junctions. In: Journal of Magnetism and Magnetic Materials 200, 1999, S.248-273 * |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005013372A2 (en) * | 2003-07-30 | 2005-02-10 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Spin injection devices |
WO2005013372A3 (en) * | 2003-07-30 | 2005-03-24 | Hewlett Packard Development Co | Spin injection devices |
US7164181B2 (en) | 2003-07-30 | 2007-01-16 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Spin injection devices |
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